JP2848783B2 - Brush cleaning equipment - Google Patents
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Landscapes
- Cleaning Or Drying Semiconductors (AREA)
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Description
【0001】[0001]
【産業上の利用分野】本発明は、半導体ウエハや液晶表
示器用ガラス基板、フォトマスク用ガラス基板、光ディ
スク用基板(以下、これらを「基板」という)を回転さ
せながら基板表面にブラシの毛を当接し、または、基板
表面からブラシの毛を若干浮かせた状態で、基板表面を
洗浄するブラシ洗浄装置に関する。BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a method for rotating a semiconductor wafer, a glass substrate for a liquid crystal display, a glass substrate for a photomask, and a substrate for an optical disk (hereinafter, referred to as a "substrate") by rotating a brush on the substrate surface. The present invention relates to a brush cleaning device that cleans a substrate surface in a state where the brush bristles slightly abut on the substrate surface.
【0002】[0002]
【従来の技術】従来のこの種のブラシ洗浄装置として
は、例えば、回転可能に支持された基板の外周縁の外側
の待機位置に、揺動アームの先端部に取り付けられたブ
ラシが待機され、揺動アームを揺動させることにより、
ブラシを待機位置と基板表面の中央部との間で移動可能
に構成されている。また、ブラシは、揺動アームの先端
部に対して回転可能(自転可能)に構成されている。2. Description of the Related Art As a conventional brush cleaning apparatus of this type, for example, a brush attached to the tip of a swing arm is standby at a standby position outside an outer peripheral edge of a rotatably supported substrate. By swinging the swing arm,
The brush is configured to be movable between a standby position and a central portion of the substrate surface. The brush is configured to be rotatable (rotatable) with respect to the tip of the swing arm.
【0003】この従来装置によれば、揺動アームを正方
向に揺動させ、待機位置に待機しているブラシを基板表
面の中央部に移動し、ブラシの毛を基板表面に当接した
状態、または、基板表面から若干浮かせた状態にし、ブ
ラシを自転させ、基板を回転させながら、揺動アームを
逆方向に揺動させてブラシを基板表面の中央部からその
外周縁方向に移動させ、基板表面全面をブラシで洗浄す
る。洗浄が終了すると、揺動アームを逆方向に揺動さ
せ、ブラシを待機位置に移動させて待機させ、次の基板
の洗浄に備える。According to this conventional device, the swing arm is swung in the forward direction, the brush waiting at the standby position is moved to the center of the substrate surface, and the brush bristles are in contact with the substrate surface. Or, in a state of being slightly lifted from the substrate surface, rotating the brush, rotating the substrate, swinging the swing arm in the opposite direction to move the brush from the center of the substrate surface to the outer peripheral edge direction, The entire surface of the substrate is cleaned with a brush. When the cleaning is completed, the swing arm is swung in the reverse direction, and the brush is moved to the standby position to be in a standby state to prepare for the next cleaning of the substrate.
【0004】[0004]
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、このよ
うな構成を有する従来例の場合には、次のような問題が
ある。従来装置では、待機位置に揺動アームの先端部に
取り付けられた1個のブラシだけが待機され、そのブラ
シを用いて基板表面の洗浄を順次行う構成であるので、
例えば、複数種類のブラシを用いて洗浄する場合には、
まず、最初の洗浄に用いるブラシ(例えばナイロンブラ
シ)を揺動アームの先端部に取付け、上述した動作でそ
のブラシによる洗浄(粗洗浄)を行い、そのブラシによ
る洗浄が終了して待機位置に移動されると、次に、その
ブラシを揺動アームの先端部から取外し、それに替え
て、別の種類のブラシ(例えばポリビニルアルコール
(PVA)ブラシ)を揺動アームの先端部に取付け、上
述した動作で、そのブラシによる洗浄(仕上げの洗浄)
を行うという手順で行う必要があり、ブラシ交換等を行
う必要があり作業者には大変な手間を強いることになる
し、処理のスループットが悪いという問題がある。However, the prior art having such a structure has the following problems. In the conventional apparatus, only one brush attached to the tip of the swing arm is in a standby position, and the surface of the substrate is sequentially cleaned using the brush.
For example, when cleaning using multiple types of brushes,
First, a brush (for example, a nylon brush) used for the first cleaning is attached to the tip of the swing arm, and the cleaning (rough cleaning) is performed by the brush by the above-described operation. Then, the brush is removed from the tip of the swing arm, and instead, another type of brush (for example, polyvinyl alcohol (PVA) brush) is attached to the tip of the swing arm, and the operation described above is performed. Then, the brush cleaning (finish cleaning)
It is necessary to carry out a procedure of performing such a procedure, and it is necessary to perform a brush replacement or the like, which requires a great deal of work for the operator, and there is a problem that the processing throughput is poor.
【0005】また、例えば、同一種類のブラシを用いて
基板表面の洗浄を行う場合であっても、従来装置では、
単一のブラシを連続的に使用するので、ブラシの毛が磨
耗するのが早くなる。ブラシの毛が磨耗すれば、ブラシ
交換を行わねばならないが、このブラシ交換作業は手間
である。従来装置では、上記したように、単一のブラシ
を連続的に使用することにより、ブラシの毛の磨耗が早
く、ブラシ交換期間が短くなり、手間を要するブラシ交
換作業を頻繁に行わなければならないという問題もあ
る。[0005] Further, for example, even when the same type of brush is used to clean the surface of a substrate, the conventional apparatus uses
Since a single brush is used continuously, the bristle of the brush is quickly worn. If the bristles of the brush are worn, the brush must be replaced, but this brush replacement operation is troublesome. In the conventional apparatus, as described above, by continuously using a single brush, the bristles of the brush are quickly worn, the brush replacement period is shortened, and the troublesome brush replacement operation must be frequently performed. There is also a problem.
【0006】本発明は、このような事情に鑑みてなされ
たものであって、複数個のブラシから所望のブラシを自
動で選択して基板表面のブラシ洗浄を行なえるブラシ洗
浄装置を提供することを目的とする。The present invention has been made in view of such circumstances, and provides a brush cleaning apparatus capable of automatically selecting a desired brush from a plurality of brushes and performing brush cleaning of a substrate surface. With the goal.
【0007】[0007]
【課題を解決するための手段】本発明は、このような目
的を達成するために、次のような構成をとる。すなわ
ち、本発明は、基板を回転させながら前記基板表面をブ
ラシで洗浄するブラシ洗浄装置において、前記基板の外
周縁の外側の待機位置に待機された複数個のブラシと、
前記待機位置に待機された複数個のブラシから任意のブ
ラシを選択して、前記待機位置と前記基板表面との間で
選択したブラシを移動させる移動手段と、を備えたもの
である。The present invention has the following configuration in order to achieve the above object. That is, the present invention provides a brush cleaning device for cleaning the surface of the substrate with a brush while rotating the substrate, wherein a plurality of brushes which are waiting at a standby position outside an outer peripheral edge of the substrate,
Moving means for selecting an arbitrary brush from the plurality of brushes waiting at the standby position and moving the selected brush between the standby position and the substrate surface.
【0008】[0008]
【作用】本発明の作用は次のとおりである。待機位置に
は(同一種類または複数種類の)複数個のブラシが待機
されている。洗浄の際には、移動手段は、待機位置に待
機された複数個のブラシから任意のブラシを選択して、
選択したブラシを基板表面に移動し、そのブラシによる
洗浄が行われる。洗浄が終了すると、そのブラシは、移
動手段により待機位置に移動され待機される。The operation of the present invention is as follows. A plurality of brushes (of the same type or a plurality of types) are waiting at the waiting position. At the time of washing, the moving means selects an arbitrary brush from a plurality of brushes waiting at the standby position,
The selected brush is moved to the substrate surface, and cleaning with the brush is performed. When the cleaning is completed, the brush is moved to the standby position by the moving means and is on standby.
【0009】複数種類のブラシを用いて洗浄する場合に
は、待機位置に複数種類のブラシを待機させておき、洗
浄順序に従って、移動手段は、各種類のブラシを順に選
択して、各ブラシによる洗浄をその順で行う。In the case of cleaning using a plurality of types of brushes, a plurality of types of brushes are made to stand by at a standby position, and the moving means sequentially selects each type of brush in accordance with the cleaning order and uses each type of brush. Washing is performed in that order.
【0010】また、同一種類のブラシを用いて洗浄する
場合には、待機位置に同一種類のブラシを複数個待機さ
せておき、移動手段は、それらブラシをローテーション
を組んで選択して洗浄に用いることにより、各ブラシの
寿命を長くすることができる。In the case of cleaning using the same type of brush, a plurality of brushes of the same type are made to stand by at a standby position, and the moving means selects the brushes in rotation and uses them for cleaning. Thereby, the life of each brush can be extended.
【0011】[0011]
【実施例】以下、図面を参照して本発明の一実施例を説
明する。図1は、本発明の第一実施例に係るブラシ洗浄
装置の概略構成を示す一部切欠側面図であり、図2は、
その平面図、図3は、要部の一部切欠側面図、図4は、
基板回転支持台の構成と回転中の基板のブラシ洗浄の状
態を示す図である。なお、図4(a)、(b)は、半導
体ウエハのような円形基板の基板回転支持台の構成と回
転中の基板のブラシ洗浄の状態を示す平面図と側面図、
図4(c)、(d)は、液晶表示器用ガラス基板のよう
な矩形基板の基板回転支持台の構成と回転中の基板のブ
ラシ洗浄の状態を示す平面図とそのA−A矢視断面図で
ある。An embodiment of the present invention will be described below with reference to the drawings. FIG. 1 is a partially cutaway side view showing a schematic configuration of a brush cleaning device according to a first embodiment of the present invention, and FIG.
FIG. 3 is a partially cutaway side view of a main part, and FIG.
It is a figure which shows the structure of the board | substrate rotation support stand, and the state of the brush cleaning of the rotating board | substrate. 4A and 4B are a plan view and a side view showing a configuration of a substrate rotation support base for a circular substrate such as a semiconductor wafer and a state of brush cleaning of a rotating substrate.
FIGS. 4C and 4D are plan views showing a configuration of a substrate rotation support base of a rectangular substrate such as a glass substrate for a liquid crystal display, and a state of brush cleaning of a rotating substrate, and a cross-sectional view taken along line AA of FIG. FIG.
【0012】本実施例装置は、回転可能に支持された基
板W(図2では、円形基板を示している)の表面をブラ
シ洗浄するための複数個のブラシ1がそれぞれブラシア
ーム2の先端部に回転可能に取り付けられ、また、ブラ
シ1のうち、所望のブラシ1を択一的に取り出して基板
Wの表面(回転中心CP)と、基板Wのの外周縁の外側
の待機位置との間で移動する移動手段とで構成されてい
る。In the apparatus of this embodiment, a plurality of brushes 1 for brush-cleaning the surface of a rotatably supported substrate W (a circular substrate is shown in FIG. 2) are provided at the tip of a brush arm 2 respectively. And rotatably mounted on the surface of the substrate W (a rotation center CP) and a standby position outside the outer peripheral edge of the substrate W. And a moving means that moves by.
【0013】基板Wは、図4に示すように、図示しない
モータで回転される回転軸101の先端部に取り付けら
れた回転台102上に、表面を上に向けて例えば、真空
吸着されて支持され、基板WはCPを中心として回転さ
れるように構成されている。また、基板Wが矩形基板の
場合、図4(c)、(d)に示すように、基板Wの表面
と同一平面を形成するための基板保護板(矩形基板Wと
同一形状の凹部が形成されている)103が回転台10
2上に付設されている。なお、図4(c)の符号104
は、矩形基板Wを基板保護板103の凹部に搬入/搬出
する際、搬送ロボットの爪を差し込むための切り欠きを
示す。As shown in FIG. 4, the substrate W is supported, for example, by vacuum suction, on a turntable 102 attached to a tip of a rotary shaft 101 rotated by a motor (not shown) with its surface facing upward. The substrate W is configured to be rotated about the CP. When the substrate W is a rectangular substrate, as shown in FIGS. 4C and 4D, a substrate protection plate for forming the same plane as the surface of the substrate W (a concave portion having the same shape as the rectangular substrate W is formed). 103) is the turntable 10
2 above. Note that reference numeral 104 in FIG.
Denotes a notch for inserting a claw of the transfer robot when the rectangular substrate W is loaded / unloaded into the concave portion of the substrate protection plate 103.
【0014】また、待機位置に待機される各ブラシ1
は、降下位置Lの高さに降下された状態で待機ポットT
Pに挿入されている。待機ポットTPには、各ブラシ1
の毛1a…部分に洗浄液を噴射するための複数個のノズ
ルSNが設けられている。また、各ブラシ1は、それぞ
れのブラシアーム2に取り付けられた電動モータ3の回
転がベルト4で伝動されること(図3参照)により、ブ
ラシアーム2の先端部で回転(自転)されるように構成
されている。各ブラシ1は待機位置に待機されていると
き、この待機ポットTP内に挿入され、自転されながら
各ノズルSNから洗浄液が噴射されて、各ブラシ1の毛
1a…部分の洗浄が行われる。なお、図中、符号HD
は、洗浄後の洗浄液を排出する排出ドレインを示す。Each of the brushes 1 waiting at the standby position
Is the standby pot T in a state of being lowered to the height of the lowering position L.
Inserted in P. Each brush 1
Are provided with a plurality of nozzles SN for injecting the cleaning liquid into the hairs 1a. Each brush 1 is rotated (rotated) at the tip end of the brush arm 2 by the rotation of the electric motor 3 attached to each brush arm 2 being transmitted by the belt 4 (see FIG. 3). Is configured. When each of the brushes 1 is waiting at the standby position, the brush 1 is inserted into the standby pot TP, and the cleaning liquid is sprayed from each of the nozzles SN while rotating, thereby cleaning the bristles 1a of the brushes 1. It should be noted that in the figure,
Indicates a discharge drain for discharging the cleaning liquid after cleaning.
【0015】また、前記各ブラシアーム2の基端部には
支持ブロック6が一体的に取り付けられるとともに、こ
の支持ブロック6の一端側に、回転軸7が一体的に連接
され、これらブラシアーム2(電動モータ3を含む)、
支持ブロック6、回転軸7により、ブラシ支持アーム5
が構成されている。A support block 6 is integrally attached to the base end of each of the brush arms 2, and a rotating shaft 7 is integrally connected to one end of the support block 6. (Including the electric motor 3),
The brush support arm 5 is supported by the support block 6 and the rotating shaft 7.
Is configured.
【0016】本実施例では、これらブラシ支持アーム5
のうちの所望のブラシ支持アーム5を選択して、後述す
る揺動支点P周りに、待機位置と基板Wの回転中心CP
との間で揺動させることにより、複数個のブラシ1のう
ちから所望のブラシ1を選択してブラシ洗浄に用いるよ
うに構成されている。このブラシ支持アーム5を択一的
に揺動させるための移動機構が本発明における移動手段
に相当する。この移動機構の構成を以下に説明する。In this embodiment, these brush support arms 5
Is selected, and the standby position and the rotation center CP of the substrate W are set around a swing fulcrum P to be described later.
And a desired brush 1 is selected from the plurality of brushes 1 and used for brush cleaning. The moving mechanism for selectively swinging the brush support arm 5 corresponds to the moving means in the present invention. The structure of the moving mechanism will be described below.
【0017】各ブラシ支持アーム5の回転軸7は、アー
ム回転支持体8に回転軸7の軸芯を中心として回転可能
に支持されている。また、各アーム回転支持体8は共通
の可動フレーム9にそれぞれガイドレール10を介して
それぞれ垂直方向に昇降可能に一直線状に並列支持され
ている。The rotation shaft 7 of each brush support arm 5 is supported by an arm rotation support 8 so as to be rotatable about the axis of the rotation shaft 7. Further, the respective arm rotation supports 8 are supported on a common movable frame 9 via guide rails 10 so as to be vertically movable in a straight line.
【0018】可動フレーム9は、不動の装置フレーム1
1に取り付けられたガイドレール12を介して水平方向
に移動可能に支持され、可動フレーム9に設けたラック
13は、正逆転可能な電動モータ14で駆動されるピニ
オン15と噛合しており、電動モータ14の正逆駆動に
よってアーム回転支持体8をその並列方向に移動するよ
うに構成されている。The movable frame 9 is a stationary device frame 1
The rack 13 provided on the movable frame 9 is supported by a movable rail 9 via a guide rail 12 attached to the motor 1 and is engaged with a pinion 15 driven by an electric motor 14 capable of rotating forward and reverse. The arm rotation support 8 is configured to move in the parallel direction by forward and reverse driving of the motor 14.
【0019】アーム回転支持体8の側部には、直列に連
結した2個のエアシリンダ16a、16bによって垂直
方向に移動される昇降枠17が設けられているととも
に、この昇降枠17に、エアシリンダ18によって垂直
方向に移動される可動ブラケット19が設けられてい
る。可動ブラケット19の上部には、所定位置の揺動支
点P周りで回転可能な支軸20aが設けられ、この支軸
20aの下部には揺動支点P周りで揺動可能に駆動アー
ム20が設けられている。A lifting frame 17 which is vertically moved by two air cylinders 16a and 16b connected in series is provided on the side of the arm rotation support 8, and the lifting frame 17 A movable bracket 19 that is moved by a cylinder 18 in a vertical direction is provided. An upper part of the movable bracket 19 is provided with a support shaft 20a rotatable around a swing fulcrum P at a predetermined position, and a lower part of the support shaft 20a is provided with a drive arm 20 which is swingable about the swing fulcrum P. Have been.
【0020】各ブラシ支持アーム5における支持ブロッ
ク6の上面には、回転軸7の軸芯上に位置して円錐上の
係合凹部21が形成されるとともに、それからブラシ1
側の離れた位置に係合ピン22が突設されている。On the upper surface of the support block 6 of each of the brush support arms 5, a conical engaging recess 21 is formed on the axis of the rotating shaft 7 so as to be conical.
An engagement pin 22 is protruded at a position away from the side.
【0021】他方、駆動アーム20の下面には、揺動支
点Pと同軸に位置して円錐状の係合突起23が突設させ
るとともに、その揺動支点Pから離れて係合ピン22に
対応する係合孔24が形成されている。そして任意に選
択されたひとつのブラシ支持アーム5が、前記可動フレ
ーム9、電動モータ14等によって、ブラシ支持アーム
5の回転軸7の軸芯が駆動アーム20の揺動支点Pの直
下に位置する所定の位置へ移動させられたとき、そのブ
ラシ支持アーム5に対して駆動アーム20を降下させる
ことで、このブラシ支持アーム5の係合凹部21と係合
ピン22とに駆動アーム20の係合突起23と係合孔2
4を夫々係合させて、駆動アーム20とブラシ支持アー
ム5とを一体的に係合保持するとともに、ブラシ支持ア
ーム5の回転軸7の軸芯が駆動アーム20の揺動支点P
から水平方向に位置ずれしないように位置決めする芯出
し係合機構が構成されている。On the other hand, on the lower surface of the drive arm 20, a conical engagement projection 23 is provided so as to be coaxial with the swing fulcrum P and protrude from the swing fulcrum P to correspond to the engagement pin 22. Engaging hole 24 is formed. Then, one brush support arm 5 arbitrarily selected is positioned by the movable frame 9, the electric motor 14, etc., such that the axis of the rotating shaft 7 of the brush support arm 5 is located immediately below the swing fulcrum P of the drive arm 20. When the drive arm 20 is moved to a predetermined position, the drive arm 20 is lowered with respect to the brush support arm 5 so that the engagement recess 21 of the brush support arm 5 and the engagement pin 22 engage the drive arm 20. Projection 23 and engagement hole 2
4 to engage the drive arm 20 and the brush support arm 5 integrally, and the axis of the rotation shaft 7 of the brush support arm 5 is
And a centering engagement mechanism for positioning so as not to be displaced in the horizontal direction.
【0022】また、駆動アーム20の支軸20aが可動
ブラケット19に設置した正逆転可能な電動モータ25
にタイミングベルト26を介して連動連結されており、
電動モータ25を正逆転することにより、前記したよう
に駆動アーム20に係合保持された任意のブラシ支持ア
ーム5を、所定位置に規定した揺動支点P周りに揺動さ
せ、このブラシ支持アーム5のブラシ1を基板Wの外周
縁の外側の待機位置と、基板Wの回転中心CPとの間で
移動させることができる。The support shaft 20a of the drive arm 20 is mounted on the movable bracket 19 and is capable of rotating forward and backward.
Are linked to each other via a timing belt 26,
By rotating the electric motor 25 in the forward and reverse directions, the arbitrary brush support arm 5 engaged and held by the drive arm 20 as described above is swung about a swing support point P defined at a predetermined position. 5 can be moved between the standby position outside the outer peripheral edge of the substrate W and the rotation center CP of the substrate W.
【0023】なお、支持ブロック6の下面には位置決め
突起27が設けられ、一方、可動フレーム9の上面には
位置決め凹部28が設けられており、各ブラシ支持アー
ム5が降下位置Lに待機しているとき、これら各位置決
め突起27と位置決め凹部28とが係合されて、一定姿
勢に位置決め保持されるように構成されている。A positioning projection 27 is provided on the lower surface of the support block 6, while a positioning recess 28 is provided on the upper surface of the movable frame 9, so that each brush support arm 5 waits at the lowered position L. In this case, the positioning projections 27 and the positioning recesses 28 are engaged with each other so as to be positioned and held in a fixed posture.
【0024】次に、本実施例装置の動作を図1ないし図
6を参照して説明する。 (1)初期状態では、図1、図2の実線で示すように、
全てのブラシ1は基板Wの外周縁の外側の待機位置に退
避されており、かつ、アーム回転支持体8も降下位置に
待機している。降下位置Lに待機している各ブラシ支持
アーム5は、位置決め突起27と位置決め凹部28との
係合により一定姿勢に位置決め保持されている。この待
機状態では、各ブラシ1は固定位置に設けられた待機ポ
ットTP内で、各電動モータ3で自転されながら洗浄液
でブラシの毛1a…が洗浄されている。Next, the operation of this embodiment will be described with reference to FIGS. (1) In the initial state, as shown by the solid lines in FIGS. 1 and 2,
All the brushes 1 are retracted to standby positions outside the outer peripheral edge of the substrate W, and the arm rotation support 8 is also standby at the lowered position. Each brush support arm 5 waiting at the lowering position L is positioned and held in a fixed posture by the engagement between the positioning projection 27 and the positioning recess 28. In this standby state, the bristles 1a of the brushes are washed with the washing liquid while being rotated by the electric motors 3 in the standby pots TP provided at the fixed positions.
【0025】(2)ブラシ洗浄に際しては、まず、所望
するブラシ1のブラシ支持アーム5が揺動支点P、すな
わち、駆動アーム20の直下位置にくるように、電動モ
ータ14により可動フレーム9を水平移動させる。(2) In cleaning the brush, first, the movable frame 9 is horizontally moved by the electric motor 14 so that the brush support arm 5 of the desired brush 1 is located at the pivot point P, that is, directly below the drive arm 20. Move.
【0026】(3)次に、図5の一部切欠側面図に示す
ように、エアシリンダ18のロッド18aを伸長させ、
可動ブラケット19を降下させ、これに伴う駆動アーム
20の降下によって、選択されたブラシ支持アーム5は
駆動アーム20に係合する。これによって、使用するブ
ラシ1が基板Wの回転中心CPに位置するようにブラシ
支持アーム5が揺動させられる時の揺動支点となる回転
軸7が、駆動アーム20の揺動支点Pと一致するように
位置決めされる。なお、選択されたブラシ1のブラシ支
持アーム5の電動モータ3は回転が停止され、そのブラ
シ1の自転が停止される。(3) Next, as shown in the partially cutaway side view of FIG. 5, the rod 18a of the air cylinder 18 is extended,
By lowering the movable bracket 19 and the lowering of the driving arm 20 accompanying the moving bracket 19, the selected brush supporting arm 5 is engaged with the driving arm 20. Accordingly, the rotation shaft 7 serving as a swing fulcrum when the brush support arm 5 is swung so that the brush 1 to be used is located at the rotation center CP of the substrate W coincides with the swing fulcrum P of the drive arm 20. Are positioned so that The rotation of the electric motor 3 of the brush support arm 5 of the selected brush 1 is stopped, and the rotation of the brush 1 is stopped.
【0027】(4)その後、図6の一部切欠側面図に示
すように、エアシリンダ16a、16bの各ロッド16
x、16yを共に伸長させ昇降枠17を上昇させる。そ
の初期においては、昇降枠17に設けた当接部31がア
ーム回転支持体8の上端突起32に下方から当接し、こ
れによって選択されたブラシ支持アーム5は駆動アーム
20と昇降枠17の当接部31とで上下にクランプ固定
される。このクランプ状態でさらに昇降枠17を上昇
し、図6に示すように、選択されたブラシ支持アーム5
のみをアーム回転支持体8と共に上限位置Hまで上昇さ
せる。(4) Thereafter, as shown in a partially cutaway side view of FIG. 6, each rod 16 of the air cylinders 16a and 16b is
Both x and 16y are extended, and the lifting frame 17 is raised. In the initial stage, the contact portion 31 provided on the lifting frame 17 abuts on the upper end projection 32 of the arm rotating support 8 from below, and the brush support arm 5 selected by this contacts the driving arm 20 with the lifting frame 17. It is clamped up and down with the contact part 31. In this clamp state, the lifting frame 17 is further raised, and as shown in FIG.
Is raised together with the arm rotation support 8 to the upper limit position H.
【0028】(5)次に、電動モータ25を正転させ、
駆動アーム21を図2における時計周りの方向に所定角
度だけ揺動させ、選択したブラシ1を回転台102上に
支持された基板Wの回転中心CPの上方まで移動させ
る。(5) Next, the electric motor 25 is rotated forward,
The drive arm 21 is swung in a clockwise direction in FIG. 2 by a predetermined angle, and the selected brush 1 is moved to above the rotation center CP of the substrate W supported on the turntable 102.
【0029】(6)次に、エアシリンダ16a、16b
の各ロッド16x、16yを共に収縮させ、ブラシ1の
毛1a…を基板Wの表面に当接させるように降下させ
る。なお、ブラシ1の毛1a…を基板Wの表面から若干
浮かせた状態でブラシ洗浄する場合には、エアシリンダ
16a、16bのうち、ロッド16x、16yの伸縮の
ストロークの大きい方のエアシリンダ(本実施例では1
6a)のロッド16xのみを収縮させ、ブラシ1を図1
に示す位置M(降下位置Lから若干高い位置)まで降下
させるようにすればよい。(6) Next, the air cylinders 16a, 16b
Are contracted together and the brushes 1a are lowered so that the bristles 1a of the brush 1 come into contact with the surface of the substrate W. When brush cleaning is performed while the bristles 1a of the brush 1 are slightly lifted from the surface of the substrate W, the air cylinder (the book cylinder) of the air cylinders 16a and 16b which has the larger stroke of the expansion and contraction of the rods 16x and 16y is used. In the embodiment, 1
6a), only the rod 16x is contracted, and the brush 1 is
May be lowered to a position M (a position slightly higher than the lowering position L).
【0030】(7)この状態で、基板Wを回転中心CP
周りで回転させるとともに、電動モータ3を駆動して、
ブラシ1を回転(自転)させる。(7) In this state, the substrate W is moved to the rotation center CP.
Rotate around and drive the electric motor 3
The brush 1 is rotated (rotated).
【0031】(8)そして、図示しないノズルから基板
Wの表面に洗浄液を供給しながら、電動モータ25を逆
転させ、図4に示すように、ブラシ1を回転中心CPか
ら基板Wの外周縁側方位置EPまで移動させ、基板Wの
表面全面のブラシ洗浄を行う。なお、矩形基板Wの洗浄
の際には、ブラシ1が外周縁側方位置EPに近づくと、
ブラシ1は矩形基板Wの短辺から一旦基板Wの側方に出
て、再び、基板Wの表面に乗り上がるように動作する
が、本実施例では、図4(c)、(d)に示すように、
基板保護板103が設けられ、基板Wの周辺と基板Wの
表面とを同一平面に形成しているので、ブラシ1が基板
Wの側方から表面に乗り上がる際に基板Wのエッジにブ
ラシ1の毛1a…が衝突することによるブラシ1の毛1
a…の磨耗が防止でき、また、ブラシ1の毛1a…が基
板Wのエッジに衝突して発生するコミ(パーティクル)
による洗浄効果の低下をも防止できる。(8) While supplying the cleaning liquid to the surface of the substrate W from a nozzle (not shown), the electric motor 25 is rotated in the reverse direction, and the brush 1 is moved from the rotation center CP to the outer peripheral side of the substrate W as shown in FIG. The substrate W is moved to the position EP, and the entire surface of the substrate W is brush-cleaned. In cleaning the rectangular substrate W, when the brush 1 approaches the outer peripheral side position EP,
The brush 1 operates so as to once come out from the short side of the rectangular substrate W to the side of the substrate W and ride on the surface of the substrate W again. In the present embodiment, the brush 1 is shown in FIGS. As shown,
Since the substrate protection plate 103 is provided and the periphery of the substrate W and the surface of the substrate W are formed on the same plane, when the brush 1 rides on the surface from the side of the substrate W, the brush 1 Of the brush 1 due to the collision of the hairs 1a of the brush 1
a can be prevented, and the hairs 1a of the brush 1 collide with the edge of the substrate W to generate particles (particles).
The cleaning effect can be prevented from lowering.
【0032】(9)ブラシ洗浄が完了すると、ブラシ1
の自転を停止し、ロッドを収縮していたエアシリンダ1
6aと16b(ブラシ1を位置Mまで降下したときはエ
アシリンダ16aのみ)のロッドを伸長させ、ブラシ支
持アーム5およびブラシ1を上限位置Hまで上昇退避さ
せ、その後、電動モータ25を逆転させてブラシ支持ア
ーム5を待機位置まで後退揺動させ、ブラシ支持アーム
5が待機位置にある状態で、エアシリンダ16a、16
bのロッド16x、16yを共に収縮させて昇降枠17
を下限まで降下させるとともに、エアシリンダ18のロ
ッド18aを収縮させ、これにより可動ブラケット19
および駆動アーム20を上昇復帰させ、駆動アーム20
とブラシ支持アーム5との係合を解除する。そして、そ
のブラシ1の自転を再開させる。これによって、ブラシ
洗浄に用いられたブラシ1は、待機ポットTP内に挿入
され、ブラシ1の毛1a…は自転されながら洗浄液で洗
浄される。また、その後、使用するブラシ1を変更する
場合には、可動フレーム9を適宜駆動して駆動アーム2
0に連接するブラシ支持アーム5を選択して上記動作を
行う。(9) When the brush cleaning is completed, the brush 1
The air cylinder 1 that stopped rotating and contracted the rod
The rods of 6a and 16b (when the brush 1 is lowered to the position M, only the air cylinder 16a) are extended, the brush support arm 5 and the brush 1 are raised and retracted to the upper limit position H, and then the electric motor 25 is reversed. The brush support arm 5 is moved back and forth to the standby position, and the air cylinders 16a and 16a are moved in the state where the brush support arm 5 is at the standby position.
The rods 16x and 16y of b are contracted together to raise and lower the frame 17
Is lowered to the lower limit, and the rod 18a of the air cylinder 18 is contracted.
And the drive arm 20 is raised and returned, and the drive arm 20
And the brush support arm 5 is disengaged. Then, the rotation of the brush 1 is restarted. Thus, the brush 1 used for brush cleaning is inserted into the standby pot TP, and the bristles 1a of the brush 1 are washed with the cleaning liquid while rotating. When the brush 1 to be used is changed thereafter, the movable frame 9 is appropriately driven to
The above operation is performed by selecting the brush support arm 5 connected to 0.
【0033】また、本実施例によれば、複数種類のブラ
シ1、例えば、ナイロンの毛1a…のブラシ1とPVA
の毛1a…のブラシ1を用いて洗浄する場合、各種類の
ブラシ1を各ブラシ支持アーム5のブラシアーム2の先
端部に予め取り付けて待機位置に待機させておき、これ
ら各種類のブラシ1を洗浄の順に選択してブラシ洗浄を
行うこと、例えば、ナイロンブラシで粗洗浄し、その
後、PVAブラシ1で仕上げ洗浄する場合であれば、ナ
イロンブラシ1が取り付けられたブラシ支持アーム5を
まず選択してそのブラシ1で粗洗浄し、その後、PVA
ブラシ1が取り付けられたブラシ支持アーム5を選択し
てそのブラシ1で仕上げ洗浄することができ、各ブラシ
1による洗浄の間に、ブラシ交換を行う必要がない。According to the present embodiment, a plurality of types of brushes 1, for example, a brush 1 made of nylon bristles 1a and PVA
In the case of cleaning using the brushes 1 of the bristles 1a, the brushes 1 of each type are previously attached to the end portions of the brush arms 2 of the brush support arms 5 to stand by at standby positions. Is performed in the order of cleaning to perform brush cleaning. For example, in the case of performing rough cleaning with a nylon brush and then finishing cleaning with the PVA brush 1, first select the brush support arm 5 to which the nylon brush 1 is attached. And then roughly cleaned with the brush 1, and then PVA
The brush supporting arm 5 to which the brush 1 is attached can be selected to perform the final cleaning with the brush 1, and there is no need to replace the brush during the cleaning with each brush 1.
【0034】また、同一種類のブラシ1(例えば、ナイ
ロン)のみを用いて洗浄する場合には、各ブラシ支持ア
ーム5のブラシアーム2の先端部に、同一種類のブラシ
1を予め取り付けて待機位置で待機させておき、これら
ブラシ1をローテーションを組んで順次ブラシ洗浄に用
いるようにすれば、各ブラシ1の毛1a…が磨耗し難く
なり、ブラシ1の寿命を長くすることができる。In the case where only the same type of brush 1 (for example, nylon) is used for cleaning, the same type of brush 1 is previously attached to the tip of the brush arm 2 of each brush support arm 5, and the standby position is set. If these brushes 1 are rotated and used sequentially for brush cleaning, the bristles 1a of each brush 1 are less likely to be worn, and the life of the brush 1 can be extended.
【0035】また、複数個のブラシ1を順にブラシ洗浄
に用いることにより、あるブラシ1を洗浄に用いてから
次にそのブラシ1を洗浄に用いるまでの時間(待機位置
に待機されている時間)が長くなるので、その間にブラ
シ1の毛1a…の洗浄を充分に行うことができ、ブラシ
1の寿命を長くすることができるとともに、ブラシ1の
毛1a…の洗浄が不十分なままブラシ洗浄に用いること
がなく、洗浄効果を低下させることがない。また、仮
に、ブラシ洗浄を連続的に行う場合であって、ブラシ1
の毛1a…の洗浄を充分に行いながら各基板Wのブラシ
洗浄を行う場合、、従来装置では、ブラシ1を待機位置
に所定時間待機させておく必要があり、そのため、ブラ
シ洗浄を連続的に行うことができず、処理のスループッ
トが低下することになるが、本実施例では、そのような
不都合も解消できる。In addition, by using a plurality of brushes 1 in order for brush cleaning, a time from when a certain brush 1 is used for cleaning to when the next brush 1 is used for cleaning (time during which the brush 1 stands by at a standby position). Can be sufficiently cleaned during this time, the life of the brush 1 can be sufficiently extended, and the brush cleaning can be performed while the bristles 1a of the brush 1 are not sufficiently cleaned. And does not lower the cleaning effect. Further, if brush cleaning is performed continuously, brush 1
When performing the brush cleaning of each substrate W while sufficiently performing the cleaning of the hairs 1a, the brush 1 needs to be kept at a standby position for a predetermined time in the conventional apparatus. This cannot be performed, and the throughput of the process is reduced. However, in this embodiment, such inconvenience can be solved.
【0036】なお、ブラシ1の毛1a…を当接させてブ
ラシ洗浄する場合のみであれば、上記Mの高さでブラシ
1の毛1a…が基板Wの表面に当接するように装置が構
成されていてもよい。なお、この変形例、および次の変
形例は、後述する第二、第三実施例装置でも同様に変形
実施することが可能である。If the brush cleaning is performed only by bringing the bristles 1a of the brush 1 into contact with each other, the apparatus is configured such that the bristles 1a of the brush 1 abut on the surface of the substrate W at the height of M. It may be. Note that this modified example and the following modified examples can be similarly modified in the second and third embodiment devices described later.
【0037】また、上述の実施例では、ブラシ1の毛1
a…を基板Wの表面に当接させる高さとブラシ1の待機
位置での高さを共に降下位置Lとし、ブラシ1を3段階
の高さで変位できるように構成されているが、ブラシ1
の毛1a…を基板Wの表面に当接させる高さとブラシ1
の待機位置での高さとを違えて、ブラシ1を4段階の高
さ(待機位置で待機する高さL、ブラシ1の毛1a…を
基板Wの表面に当接させる高さ、ブラシ1の毛1a…を
基板Wの表面から若干浮かせる高さ、ブラシ1を揺動さ
せる高さH)で変位する場合には、例えば、図7に示す
ように、エアシリンダ16a、16bに、さらに、エア
シリンダ16cを直列して連結し、各エアシリンダ16
a、16b、16cの各ロッド16x、16y、16z
の伸縮の組合わせで構成することができる。In the above embodiment, the bristle 1 of the brush 1
a and the height of the brush 1 at the standby position are both set to the descending position L, and the brush 1 can be displaced at three levels of height.
Brush 1 and the height at which the bristles 1a are brought into contact with the surface of the substrate W
Is different from the height at the standby position, the height of the brush 1 is set at four levels (the height L at which the brush 1 stands by at the standby position, the height at which the bristles 1a of the brush 1 abut on the surface of the substrate W, and the height of the brush 1). When the bristles 1a are displaced at a height slightly floating above the surface of the substrate W and at a height H) at which the brush 1 swings, for example, as shown in FIG. The cylinders 16c are connected in series, and each air cylinder 16c is connected.
rods 16x, 16y, 16z of a, 16b, 16c
Can be constituted by a combination of expansion and contraction.
【0038】次に、本発明の第二実施例装置の構成を図
8を参照して説明する。図8は、第二実施例装置の構成
を示す側面図であり、第一実施例と異なるところは次の
通りである。Next, the structure of the second embodiment of the present invention will be described with reference to FIG. FIG. 8 is a side view showing the configuration of the device of the second embodiment. The differences from the first embodiment are as follows.
【0039】すなわち、ブラシ支持アーム5における回
転軸7の下端に、駆動アーム20に芯出し係合させる連
結アーム40が備えられるとともに、駆動アーム20と
共働で回転軸7をクランプする当接部41が、昇降枠1
9に設けたエアシリンダ42によって独立的に上下駆動
されるように構成されている。その他の構成は第一実施
例と同じであり、同じ図番を付すことにより、その説明
は省略する。That is, a connecting arm 40 is provided at the lower end of the rotating shaft 7 of the brush supporting arm 5 so as to center and engage the driving arm 20, and a contact portion for clamping the rotating shaft 7 in cooperation with the driving arm 20. 41 is the lifting frame 1
9 is independently driven up and down by an air cylinder 42. The other configuration is the same as that of the first embodiment, and the description is omitted by attaching the same figure numbers.
【0040】次に、本発明の第三実施例装置の構成を図
9ないし図11を参照して説明する。図9は、第三実施
例装置の構成を示す側面図、図10は、その平面図、図
11は、要部の断面図であり、第一実施例と異なるとこ
ろは次の通りである。Next, the structure of the third embodiment of the present invention will be described with reference to FIGS. FIG. 9 is a side view showing the configuration of the third embodiment, FIG. 10 is a plan view thereof, and FIG. 11 is a cross-sectional view of a main part. The differences from the first embodiment are as follows.
【0041】すなわち、ブラシ1を支持した複数個のブ
ラシ支持アーム5がそれぞれ異なった所定位置に規定さ
れた揺動支点Q1、Q2、Q3周りに揺動自在に並んで
設けられているとともに、ブラシ支持アーム5の基端部
に連接した回転軸7を回転可能に支持したアーム回転支
持体8が、装置フレーム50にガイドレール51を介し
て昇降可能に支持され、また、これらブラシ支持アーム
5群の側部には、使用するブラシ1を選択する駆動アー
ム20が一定の揺動支点R周りに揺動可能に設けられて
いる。That is, a plurality of brush support arms 5 supporting the brush 1 are provided so as to be swingable around swing support points Q1, Q2, Q3 defined at different predetermined positions, respectively. An arm rotating support 8 rotatably supporting a rotating shaft 7 connected to the base end of the supporting arm 5 is supported on the apparatus frame 50 via a guide rail 51 so as to be movable up and down. A drive arm 20 for selecting the brush 1 to be used is provided on the side portion so as to be swingable around a fixed swing fulcrum R.
【0042】駆動アーム20の基端部に備えられた支軸
52が、直列に連結された2個のエアシリンダ16a、
16bによって昇降される昇降枠17に前記揺動支点R
周りに回転可能に支持されるとともに、この支軸52か
ら延出したアーム53と昇降枠17に設置した電動モー
タ25とがリンク機構54を介して連動連結され、モー
タ25の正逆転によって駆動アーム20がブラシ支持ア
ーム5群の上方を横断移動するように構成されている。A support shaft 52 provided at the base end of the drive arm 20 is connected to two air cylinders 16a connected in series.
The swing fulcrum R is attached to the lifting frame 17 which is raised and lowered by the
An arm 53 extending from the support shaft 52 and an electric motor 25 installed on the lifting frame 17 are linked and connected to each other via a link mechanism 54, and are driven by the motor 25 in forward and reverse directions. 20 is configured to traverse above the group of brush support arms 5.
【0043】各ブラシ支持アーム5における基端部近く
の上部にはV溝付きのローラ55が縦軸周りに回転自在
に取り付けられているとともに、駆動アーム20の下部
にはエアシリンダ56によってアーム長手方向に出退可
能に左右一対のガイドレール57が設けられ、前方へ進
出移動されたガイドレール57が前記ローラ55に係合
するように構成されている。その他の構成は第一実施例
と同じであり、同じ図番を付すことによりその説明を省
略する。A roller 55 with a V-groove is attached to the upper portion of each brush support arm 5 near the base end so as to be rotatable around the vertical axis. A pair of left and right guide rails 57 are provided so as to be able to move back and forth in the direction, and the guide rails 57 that have been moved forward are engaged with the rollers 55. The other configuration is the same as that of the first embodiment, and the description is omitted by attaching the same figure number.
【0044】この第三実施例によれば次のように動作す
る。 (1)降下位置Lで待機しているブラシ支持アーム5群
の上で駆動アーム20が揺動し、これにより使用するブ
ラシ1のブラシ支持アーム5を選択し、ガイドレール5
7を進出移動させて対象となるブラシ支持アーム5のロ
ーラ55を係合支持する。According to the third embodiment, the operation is as follows. (1) The drive arm 20 swings above the group of brush support arms 5 waiting at the lowering position L, thereby selecting the brush support arm 5 of the brush 1 to be used, and
7 is moved forward to engage and support the roller 55 of the target brush support arm 5.
【0045】(2)両エアシリンダ16a、16bを共
に伸長させて昇降枠17を上昇させ、係合選択したブラ
シ支持アーム5を上限位置Hまで移動させる。(2) Extend the air cylinders 16a and 16b together to raise the lifting frame 17, and move the brush support arm 5 selected for engagement to the upper limit position H.
【0046】(3)次に、駆動アーム20を揺動駆動し
て係合支持したブラシ支持アーム5のブラシ1を基板W
の回転中心CPの上方まで移動させる。この場合、ブラ
シ支持アーム5と駆動アーム20との揺動支点の差異が
ガイドレール57とローラ55との相対転動によって吸
収される。(3) Next, the brush 1 of the brush support arm 5 which is engaged and supported by swingingly driving the drive arm 20 is moved to the substrate W
Is moved to above the rotation center CP. In this case, the difference in the swing fulcrum between the brush support arm 5 and the drive arm 20 is absorbed by the relative rolling between the guide rail 57 and the roller 55.
【0047】(4)その後、両エアシリンダ16a、1
6b(または、一方のエアシリンダ16a)のロッドを
収縮させることにより、ブラシ支持アーム5を所定量だ
け降下させ、ブラシ1の毛1a…を基板Wの表面に当接
して(または若干浮かせて)ブラシ洗浄を行う。(4) Thereafter, both air cylinders 16a, 1
6b (or one of the air cylinders 16a) is contracted to lower the brush support arm 5 by a predetermined amount and bring the bristles 1a of the brush 1 into contact with (or slightly lift) the surface of the substrate W. Perform brush cleaning.
【0048】次に、本発明の第四実施例装置の構成を図
12ないし図15を参照して説明する。図12は、第四
実施例装置の構成を示す一部切欠側面図であり、図13
は、その平面図、図14は、揺動アームの構成を示す一
部切欠側面図、図15は、待機ポットの構成を示す断面
図である。Next, the structure of a device according to a fourth embodiment of the present invention will be described with reference to FIGS. FIG. 12 is a partially cutaway side view showing the configuration of the fourth embodiment, and FIG.
Is a plan view thereof, FIG. 14 is a partially cutaway side view showing a configuration of a swing arm, and FIG. 15 is a sectional view showing a configuration of a standby pot.
【0049】上述した第一ないし第三実施例装置は、ブ
ラシ1を各々取り付けた複数個のブラシ支持アーム5の
うち、所望のブラシ支持アーム5を選択することによ
り、複数個のブラシ1のうち、所望のブラシ1を基板W
の回転中心CPと待機位置との間で択一的に移動させる
ように構成されていたが、この第四実施例装置では、複
数個のブラシ1のみを待機位置に待機させておき、1個
の揺動アームを用いて、複数個のブラシ1のうち、所望
のブラシ1を基板Wの回転中心CPと待機位置との間で
択一的に移動させるように構成したものである。In the first to third embodiments, the desired brush support arm 5 is selected from the plurality of brush support arms 5 to which the brushes 1 are attached, so that the plurality of brushes 1 can be selected. And the desired brush 1 to the substrate W
Is configured to be selectively moved between the rotation center CP and the standby position. However, in the fourth embodiment, only the plurality of brushes 1 are kept at the standby position and Of the plurality of brushes 1 is selectively moved between the rotation center CP of the substrate W and the standby position using the swing arm.
【0050】具体的には、図4と同様の構成で回転可能
に支持された基板Wの側方の揺動支点S周りで揺動され
る1個の揺動アーム61が設けられ、この揺動アーム6
1が待機位置に設けられた待機ポットTPに待機されて
いる複数個のブラシ1のうち、所望のブラシ1を択一的
に取り出して支持し、そのブラシ1を待機位置と基板W
の回転中心CPとの間で移動させるように構成されてい
る。More specifically, one swing arm 61 is provided which is swung around a swing fulcrum S on the side of the substrate W rotatably supported in the same configuration as in FIG. Moving arm 6
1, a plurality of brushes 1 waiting in a standby pot TP provided in a standby position are selectively taken out and supported, and the brush 1 is moved to the standby position and the substrate W
Is configured to move between the rotation center CP.
【0051】本実施例では、この揺動アーム61を昇降
/揺動する等の以下の機構が本発明における移動手段に
相当する。In the present embodiment, the following mechanism for raising / lowering / oscillating the oscillating arm 61 corresponds to the moving means in the present invention.
【0052】揺動アーム61の基端部側は、軸芯が揺動
支点Sと一致するアーム支軸62の先端部に取り付けら
れている。このアーム支軸62は、基台63に回転自在
でかつ昇降自在に立設され、その基端部側においてベル
ト64を介して電動モータ65の回転が伝動されてお
り、これにより揺動アーム61を揺動支点S周りで揺動
可能にしている。The base end of the swing arm 61 is attached to the tip of an arm support shaft 62 whose axis coincides with the swing support point S. The arm support shaft 62 is erected on a base 63 so as to be rotatable and vertically movable, and the rotation of an electric motor 65 is transmitted via a belt 64 on the base end side thereof. Can swing around the swing fulcrum S.
【0053】アーム支軸62の下方には、エアシリンダ
66が設けられ、このエアシリンダ66のロッド66a
の先端部には押上部材67が一体連接されており、エア
シリンダ66のロッド66aを伸長させることにより、
アーム支軸62の下方を押し上げ、揺動アーム61が上
昇される。また、アーム支軸62には、ストッパー68
が取り付けられ、このストッパー68が支持台69に当
接することにより、アーム支軸62の降下位置が規制さ
れている。さらに、アーム支軸62は、エアシリンダ7
0のロッド70aの伸縮によって、伸長・収縮可能に構
成されている。An air cylinder 66 is provided below the arm support shaft 62, and a rod 66a of the air cylinder 66 is provided.
A push-up member 67 is integrally connected to the distal end of the air cylinder 66. By extending the rod 66a of the air cylinder 66,
The lower part of the arm support shaft 62 is pushed up, and the swing arm 61 is raised. A stopper 68 is provided on the arm support shaft 62.
The stopper 68 comes in contact with the support base 69 to restrict the lowering position of the arm support shaft 62. Further, the arm support shaft 62 is connected to the air cylinder 7.
It is configured to be able to extend and contract by the expansion and contraction of the zero rod 70a.
【0054】揺動アーム61の先端部には、ブラシチャ
ック71が設けられている。このブラシチャック71
は、揺動アーム61の先端部下方に回転自在に取り付け
られており、ベルト72を介して電動モータ73の回転
が伝導され、後述するようにブラシチャック71で支持
したブラシ1を回転(自転)させるように構成されてい
る。At the tip of the swing arm 61, a brush chuck 71 is provided. This brush chuck 71
Is rotatably mounted below the tip of the swing arm 61, the rotation of the electric motor 73 is transmitted via the belt 72, and the brush 1 supported by the brush chuck 71 is rotated (rotated) as described later. It is configured to be.
【0055】ブラシチャック71の先端部には、4個の
爪74が十字方向に開閉自在に取り付けられ、ブラシ1
の上側面に周方向に設けられた溝1bを、図14(b)
に示すように、この爪74で四方から挟持してブラシ1
を支持するように構成されている。At the tip of the brush chuck 71, four claws 74 are attached so as to be openable and closable in a cross direction.
The groove 1b provided on the upper side surface in the circumferential direction is shown in FIG.
As shown in FIG.
It is configured to support.
【0056】これら爪74は、支点75を中心として揺
動されるように構成され、また、各爪74の基端部の円
盤状の部材76は、圧縮コイルバネ77で常に上方に付
勢されている支持板78上に載置され、これにより各爪
74は常に閉方向に付勢されている。一方、部材76の
上方には、押下部材79を先端部に取り付け、ブラシチ
ャック71内を上下方向にのみ滑るベアリング80を介
して昇降自在の駆動軸81が設けられている。この駆動
軸81は、エアシリンダ82のロッド82aの伸縮によ
って昇降され、エアシリンダ82のロッド82aが伸長
され、駆動軸81が降下されることにより、各部材76
を介して支持板78が押し下げられ、各爪74が開かれ
るように構成されている。The pawls 74 are configured to swing about a fulcrum 75, and the disk-shaped member 76 at the base end of each pawl 74 is constantly urged upward by a compression coil spring 77. The pawls 74 are always urged in the closing direction. On the other hand, above the member 76, a pressing shaft 79 is attached to the tip end, and a drive shaft 81 that can move up and down via a bearing 80 that slides only in the vertical direction inside the brush chuck 71 is provided. The drive shaft 81 is moved up and down by the expansion and contraction of a rod 82a of the air cylinder 82, and the rod 82a of the air cylinder 82 is extended and the drive shaft 81 is lowered, whereby each member 76
The support plate 78 is depressed through the opening and each claw 74 is opened.
【0057】次に、待機ポットTPの構成を図2、図4
を参照して説明する。この待機ポットTPは、揺動アー
ム61のブラシチャック71の揺動軌跡に沿って複数個
の待機カップ91が設けられている。各待機カップ91
には、ブラシ1の溝1bが上方から突出されるととも
に、ブラシの毛1a…が下方から突出されるように挿抜
自在にブラシ1が収納されている。各待機カップ91
は、待機ポットTPに回転自在に取り付けられ、電動モ
ータ92の回転がベルト93、94、95を介して各待
機カップ91に伝動されるように構成されている。ま
た、待機ポットTPには、複数個の洗浄液噴射用のノズ
ルSNが設けられ、各待機カップ91に収納された待機
中の各ブラシ1が回転されながら、各ブラシ1の毛1a
…の洗浄が行えるように構成されている。なお、図15
中、符号HDは洗浄後に洗浄液を排出する排出ドレイン
を示す。Next, the structure of the standby pot TP will be described with reference to FIGS.
This will be described with reference to FIG. This standby pot TP is provided with a plurality of standby cups 91 along the swing locus of the brush chuck 71 of the swing arm 61. Each standby cup 91
The brush 1 is housed so that the groove 1b of the brush 1 projects from above and the bristles 1a of the brush project from below. Each standby cup 91
Is rotatably attached to the standby pot TP, and is configured such that the rotation of the electric motor 92 is transmitted to each standby cup 91 via belts 93, 94, and 95. Further, the standby pot TP is provided with a plurality of nozzles SN for jetting the cleaning liquid, and the bristles 1a of each brush 1 while rotating each of the standby brushes 1 stored in each standby cup 91 are rotated.
.. Can be cleaned. Note that FIG.
In the middle, the symbol HD indicates a discharge drain for discharging the cleaning liquid after cleaning.
【0058】次に、本実施例装置の動作を図12、図1
3を参照して説明する。 (1)初期状態では、図12の二点鎖線で示すように、
揺動アーム61は待機ポットTPの上方に待機してい
る。このとき、アーム支軸62のストッパー68は支持
台69に当接しているとともに、エアシリンダ70のロ
ッド70aが伸長され、アーム支軸62が伸長された状
態である。また、待機ポットTPの各待機カップ91に
は各々ブラシ1が収納されており、この待機状態では、
各ブラシ1は電動モータ92で自転されながら洗浄液で
ブラシの毛1a…が洗浄されている。Next, the operation of the apparatus of this embodiment will be described with reference to FIGS.
3 will be described. (1) In the initial state, as shown by the two-dot chain line in FIG.
The swing arm 61 is waiting above the waiting pot TP. At this time, the stopper 68 of the arm support shaft 62 is in contact with the support base 69, the rod 70a of the air cylinder 70 is extended, and the arm support shaft 62 is extended. The brush 1 is stored in each of the standby cups 91 of the standby pot TP, and in this standby state,
While the brushes 1 are rotated by the electric motor 92, the bristles 1a of the brushes are cleaned with the cleaning liquid.
【0059】(2)ブラシ洗浄に際しては、まず、電動
モータ65を駆動し、揺動アーム61のブラシチャック
71が、待機ポットTPの待機カップ91に収納された
ブラシ1のうち、所望するブラシ1の上方に位置するよ
うに、揺動アーム61を揺動させる。そして、電動モー
タ92を停止して各ブラシ1の自転を停止させ、エアシ
リンダ82のロッド82aを伸長させてブラシチャック
71の各爪74を開き、さらに、エアシリンダ70のロ
ッド70aを伸縮しアーム支軸62を収縮してブラシチ
ャック71を降下させ、次に、エアシリンダ82のロッ
ド82aを収縮させてブラシチャック71の各爪74を
閉じて所望のブラシ1をブラシチャック71で挟持し、
エアシリンダ70のロッド70aを伸長させて挟持した
ブラシ1を待機カップ91から上方に取り出す。所望の
ブラシの取り出しが終わると、電動モータ92を再び駆
動して待機ポットTPに待機している他のブラシ1の毛
1a…の洗浄が再開される。(2) In cleaning the brush, first, the electric motor 65 is driven, and the brush chuck 71 of the swing arm 61 is moved to the desired cup 1 among the brushes 1 stored in the standby cup 91 of the standby pot TP. The swing arm 61 is swung so as to be positioned above. Then, the electric motor 92 is stopped to stop the rotation of each brush 1, the rod 82 a of the air cylinder 82 is extended to open each claw 74 of the brush chuck 71, and further, the rod 70 a of the air cylinder 70 is expanded and contracted to form an arm. The support shaft 62 is contracted to lower the brush chuck 71, and then the rod 82 a of the air cylinder 82 is contracted to close the claws 74 of the brush chuck 71 and hold the desired brush 1 with the brush chuck 71,
The brush 1 held by extending the rod 70a of the air cylinder 70 is taken out from the standby cup 91 upward. When the removal of the desired brush is completed, the electric motor 92 is driven again to resume the cleaning of the bristles 1a of the other brushes 1 waiting in the standby pot TP.
【0060】(3)次に、エアシリンダ66のロッド6
6aを伸長させてアーム支軸62を上方に持ち上げ、そ
の状態で、電動モータ65を正転させて揺動アーム61
を揺動させ、取り出したブラシ1を基板Wの回転中心C
Pの上方に移動させる。(3) Next, the rod 6 of the air cylinder 66
6a, the arm support shaft 62 is lifted upward, and in this state, the electric motor 65 is rotated forward to rotate the swing arm 61.
Is swung, and the brush 1 taken out is moved to the rotation center C of the substrate W.
Move above P.
【0061】(4)次に、エアシリンダ66のロッド6
6aを収縮させ、ブラシ1を降下させる。このとき、ス
トッパー68は支持台69に当接しており、以後のブラ
シ洗浄の際、ブラシ1を所定の高さに維持しながら行な
える。なお、ストッパー68が支持台69に当接されて
いるとき、ブラシ1は、ブラシ1の毛1a…が基板Wの
表面に当接している(または、ブラシ1の毛1a…が基
板Wの表面から若干浮いた状態になる)ように、ストッ
パー68、支持台69等が調整されている。なお、ブラ
シ1の毛1a…を基板Wの表面に当接させた洗浄と、ブ
ラシ1の毛1a…を基板Wの表面から若干浮かせた状態
での洗浄とを切り替えて実施する場合には、例えば、エ
アシリンダ70に代えて、2個のエアシンリンダを直列
に連結して、アーム支軸62の伸縮を2段階に行えるよ
うに構成すればよい。また、図16に示すように、支持
台69に昇降自在の当接部200を設け、この当接部2
00をエアシンリンダ201のロッド201aの伸縮に
より昇降させることによって、ストッパー68が当接部
200に当接したときのブラシ1の高さを違えるように
構成してもよい。(4) Next, the rod 6 of the air cylinder 66
6a is contracted, and the brush 1 is lowered. At this time, the stopper 68 is in contact with the support base 69, so that the brush 1 can be maintained at a predetermined height during the subsequent brush cleaning. When the stopper 68 is in contact with the support base 69, the bristles 1a of the brush 1 are in contact with the surface of the substrate W (or the bristles 1a of the brush 1 are in contact with the surface of the substrate W). The stopper 68, the support base 69, and the like are adjusted so as to slightly float from the position. When the cleaning is performed by switching between cleaning in which the bristles 1a of the brush 1 are in contact with the surface of the substrate W and cleaning in a state where the bristles 1a of the brush 1 are slightly lifted from the surface of the substrate W, For example, instead of the air cylinder 70, two air cylinders may be connected in series so that the arm support shaft 62 can be expanded and contracted in two stages. As shown in FIG. 16, a support portion 69 is provided with a contact portion 200 which can be moved up and down.
The height of the brush 1 when the stopper 68 abuts on the abutting portion 200 may be made different by raising and lowering 00 by expansion and contraction of the rod 201a of the air cylinder 201.
【0062】(5)ブラシ1の高さが調節された状態
で、基板Wを回転中心CP周りで回転させるとともに、
電動モータ73を駆動して、ブラシ1を回転(自転)さ
せる。(5) While the height of the brush 1 is adjusted, the substrate W is rotated around the rotation center CP,
The brush 1 is rotated (rotated) by driving the electric motor 73.
【0063】(6)そして、ノズルNZから基板Wの表
面に洗浄液を供給しながら、電動モータ65を逆転さ
せ、図13に示すように、ブラシ1を回転中心CPから
基板Wの外周縁側方位置EPまで移動させ、基板Wの表
面全面のブラシ洗浄を行う。(6) Then, while supplying the cleaning liquid from the nozzle NZ to the surface of the substrate W, the electric motor 65 is rotated in reverse, and as shown in FIG. The substrate W is moved to the EP, and the entire surface of the substrate W is brush-cleaned.
【0064】(7)ブラシ洗浄が完了すると、モータ7
3の駆動を停止してブラシ1の自転を停止させ、エアシ
リンダ66のロッド66aを伸長させ、アーム支軸62
を持ち上げ、その状態で、電動モータ65を逆転させ
て、ブラシ1を取り出した待機カップ91の上方位置ま
でブラシ1を移動させるように揺動アーム61を揺動さ
せる。そして、待機ポットTPの電動モータ92を停止
させ、次に、エアシンリンダ70のロッド70aを収縮
させ、アーム支軸62を収縮させてブラシ1を降下させ
待機カップ91に収納させる。そして、エアシリンダ8
2のロッド82aを伸長させ、ブラシチャック71の各
爪74を開いてブラシ1の支持を解除し、エアシリンダ
70のロッド70aを伸長させてブラシチャック71を
上昇させ、各爪74を閉じて次の洗浄まで待機する。な
お、洗浄に用いられたブラシ1が待機カップ91に収納
されると、電動モータ92を回転させ、各ブラシ1の毛
1a…の洗浄を再開する。また、その後、使用するブラ
シ1を変更する場合には、上記動作を繰り返し行う。(7) When the brush cleaning is completed, the motor 7
3, the rotation of the brush 1 is stopped, the rod 66a of the air cylinder 66 is extended, and the arm support shaft 62 is stopped.
Is lifted, and in this state, the electric motor 65 is rotated in the reverse direction, and the swing arm 61 is swung so as to move the brush 1 to a position above the standby cup 91 from which the brush 1 is taken out. Then, the electric motor 92 of the standby pot TP is stopped, and then the rod 70 a of the air cylinder 70 is contracted, the arm support shaft 62 is contracted, and the brush 1 is lowered and stored in the standby cup 91. And the air cylinder 8
The rod 82a of the second cylinder is extended to open the claws 74 of the brush chuck 71 to release the support of the brush 1, and the rod 70a of the air cylinder 70 is extended to raise the brush chuck 71. Wait until washing. When the brushes 1 used for cleaning are stored in the standby cup 91, the electric motor 92 is rotated to restart the cleaning of the bristles 1a of each brush 1. After that, when the brush 1 to be used is changed, the above operation is repeated.
【0065】この実施例によれば、上述した第一実施例
で説明した効果に加えて、待機ポット91には、ブラシ
1のみが待機されているので、ブラシ1の交換作業にお
いて、作業者はブラシ1をアーム等から取り外すなどと
いう煩雑な作業を行う必要がなくなり、作業者の負担の
軽減を図ることもできる。According to this embodiment, in addition to the effects described in the first embodiment, only the brush 1 is on standby in the standby pot 91. There is no need to perform a complicated operation such as removing the brush 1 from an arm or the like, and the burden on the operator can be reduced.
【0066】なお、この第四実施例装置では、基板Wと
待機ポットTPの位置関係が揺動支点Sを挟んで反対側
に設けられているが、例えば、待機ポットTPを基板W
の側方に設けたり、上述した第一実施例のように、揺動
アーム61によるブラシ1の待機位置と基板Wの回転中
心CPとの間の移動の際、揺動アーム61がおおよそ9
0°回転されるような位置に設けてあってもよい。ま
た、上述した第一ないし第三実施例において、基板Wと
待機ポットTPの位置関係をこの第四実施例装置のよう
に、揺動支点P(図1、図2参照)を挟んで反対側に設
けたり、待機ポットTPを基板Wの側方に設けるように
構成してもよい。In the apparatus of the fourth embodiment, the positional relationship between the substrate W and the standby pot TP is provided on the opposite side with respect to the swing fulcrum S.
When the swing arm 61 moves between the standby position of the brush 1 and the rotation center CP of the substrate W as in the first embodiment described above, the swing arm 61
It may be provided at a position where it is rotated by 0 °. In the above-described first to third embodiments, the positional relationship between the substrate W and the standby pot TP is changed to the opposite side with respect to the swing fulcrum P (see FIGS. 1 and 2) as in the fourth embodiment. Or the standby pot TP may be provided on the side of the substrate W.
【0067】[0067]
【発明の効果】以上の説明から明らかなように、本発明
によれば、待機位置に複数個のブラシが待機され、移動
手段が、待機位置に待機されるブラシから任意のブラシ
を選択して、待機位置と基板表面との間で移動するよう
に構成したので、例えば、複数種類のブラシを用いて洗
浄する場合には、待機位置に複数種類のブラシを待機さ
せておき、洗浄順序に従って、移動手段は、各種類のブ
ラシを順に選択して、各ブラシによる洗浄を行うことが
でき、その間、作業者はブラシ交換等の煩雑な作業を行
う必要がなく、しかも、洗浄処理のスループットを向上
させることができる。As is apparent from the above description, according to the present invention, a plurality of brushes are waiting at the standby position, and the moving means selects an arbitrary brush from the brushes standby at the standby position. Since it is configured to move between the standby position and the substrate surface, for example, when cleaning using a plurality of types of brushes, a plurality of types of brushes are made to stand by at the standby position, according to the cleaning order, The moving means can sequentially select each type of brush and perform cleaning with each brush, during which time the operator does not need to perform cumbersome operations such as brush replacement, and furthermore, improves the throughput of the cleaning process. Can be done.
【0068】また、同一種類のブラシを用いて洗浄する
場合には、待機位置に同一種類のブラシを複数個待機さ
せておき、移動手段は、それらブラシをローテーション
を組んで選択して洗浄に用いることができ、各ブラシの
長寿命化が図れ、磨耗したブラシの交換期間を長くでき
る。When cleaning is performed using the same type of brush, a plurality of brushes of the same type are made to stand by at a standby position, and the moving means selects these brushes in rotation and uses them for cleaning. The service life of each brush can be extended, and the replacement period of the worn brush can be extended.
【図1】本発明の第一実施例に係るブラシ洗浄装置の概
略構成を示す一部切欠側面図である。FIG. 1 is a partially cutaway side view showing a schematic configuration of a brush cleaning device according to a first embodiment of the present invention.
【図2】第一実施例装置の平面図である。FIG. 2 is a plan view of the first embodiment device.
【図3】第一実施例装置の要部の一部切欠側面図であ
る。FIG. 3 is a partially cutaway side view of a main part of the first embodiment device.
【図4】基板回転支持台の構成と回転中の基板のブラシ
洗浄の状態を示す図である。FIG. 4 is a diagram illustrating a configuration of a substrate rotation support base and a state of brush cleaning of a rotating substrate.
【図5】第一実施例の動作を説明するための一部切欠側
面図である。FIG. 5 is a partially cutaway side view for explaining the operation of the first embodiment.
【図6】第一実施例の動作を説明するための一部切欠側
面図である。FIG. 6 is a partially cutaway side view for explaining the operation of the first embodiment.
【図7】第一実施例装置の変形例の要部の構成を示す図
である。FIG. 7 is a diagram showing a configuration of a main part of a modified example of the first embodiment device.
【図8】第二実施例装置の構成を示す側面図である。FIG. 8 is a side view showing the configuration of the second embodiment apparatus.
【図9】第三実施例装置の構成を示す側面図である。FIG. 9 is a side view showing the configuration of the third embodiment device.
【図10】第三実施例装置の平面図である。FIG. 10 is a plan view of the device of the third embodiment.
【図11】第三実施例装置の要部の断面図である。FIG. 11 is a sectional view of a main part of the third embodiment device.
【図12】第四実施例装置の構成を示す一部切欠側面図
である。FIG. 12 is a partially cutaway side view showing the configuration of the device of the fourth embodiment.
【図13】第四実施例装置の平面図である。FIG. 13 is a plan view of the device of the fourth embodiment.
【図14】第四実施例装置の揺動アームの構成を示す一
部切欠側面図である。FIG. 14 is a partially cutaway side view showing the configuration of the swing arm of the fourth embodiment.
【図15】第四実施例装置の待機ポットの構成を示す断
面図である。FIG. 15 is a cross-sectional view illustrating a configuration of a standby pot of the device of the fourth embodiment.
【図16】第四実施例装置の変形例の要部の構成を示す
図である。FIG. 16 is a diagram showing a configuration of a main part of a modification of the device of the fourth embodiment.
1 … ブラシ 3、14、25、65、73 … 電動モータ 5 … ブラシ支持アーム 16a、16b、18、42、66、70、82 …
エアシリンダ 20 … 駆動アーム 61 … 揺動アーム 71 … ブラシチャック P、Q1〜Q3、S … 揺動支点 TP … 待機ポットDESCRIPTION OF SYMBOLS 1 ... Brush 3, 14, 25, 65, 73 ... Electric motor 5 ... Brush support arm 16a, 16b, 18, 42, 66, 70, 82 ...
Air cylinder 20: Drive arm 61: Swing arm 71: Brush chuck P, Q1 to Q3, S: Swing fulcrum TP: Standby pot
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (56)参考文献 特開 昭58−182234(JP,A) 特開 昭61−39523(JP,A) 特開 平3−53524(JP,A) 実開 平6−41131(JP,U) 実開 平2−45632(JP,U) 実開 平2−47142(JP,U) (58)調査した分野(Int.Cl.6,DB名) B08B 1/00 - 11/04 H01L 21/304──────────────────────────────────────────────────続 き Continuation of the front page (56) References JP-A-58-182234 (JP, A) JP-A-61-39523 (JP, A) JP-A-3-53524 (JP, A) 41131 (JP, U) Japanese Utility Model 2-45632 (JP, U) Japanese Utility Model Application 2-47142 (JP, U) (58) Fields surveyed (Int. Cl. 6 , DB name) B08B 1/00-11 / 04 H01L 21/304
Claims (1)
ラシで洗浄するブラシ洗浄装置において、 前記基板の外周縁の外側の待機位置に待機された複数個
のブラシと、 前記待機位置に待機された複数個のブラシから任意のブ
ラシを選択して、前記待機位置と前記基板表面との間で
選択したブラシを移動させる移動手段と、 を備えたことを特徴とするブラシ洗浄装置。1. A brush cleaning apparatus for cleaning a surface of a substrate with a brush while rotating a substrate, comprising: a plurality of brushes waiting at a standby position outside an outer peripheral edge of the substrate; Moving means for selecting an arbitrary brush from a plurality of brushes and moving the selected brush between the standby position and the substrate surface.
Priority Applications (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP6176084A JP2848783B2 (en) | 1994-07-04 | 1994-07-04 | Brush cleaning equipment |
US08/495,216 US5647083A (en) | 1994-06-30 | 1995-06-28 | Apparatus for cleaning substrates and methods for attaching/detaching and cleaning brushes of such apparatus |
KR1019950017831A KR0150595B1 (en) | 1994-06-30 | 1995-06-28 | Apparatus for cleaning a substrate and method for attaching/detaching a cleaning brushes |
Applications Claiming Priority (1)
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Family Applications (1)
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