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JP2730481B2 - Method of manufacturing ink jet recording head - Google Patents

Method of manufacturing ink jet recording head

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JP2730481B2
JP2730481B2 JP8553094A JP8553094A JP2730481B2 JP 2730481 B2 JP2730481 B2 JP 2730481B2 JP 8553094 A JP8553094 A JP 8553094A JP 8553094 A JP8553094 A JP 8553094A JP 2730481 B2 JP2730481 B2 JP 2730481B2
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silicon wafer
jet recording
ink jet
ink
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順一 藤沢
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  • Particle Formation And Scattering Control In Inkjet Printers (AREA)

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【産業上の利用分野】本発明は、インク滴を噴射して記
録を行うインクジェット記録装置に用いられるインクジ
ェット記録ヘッドの製造方法に関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a method for manufacturing an ink jet recording head used in an ink jet recording apparatus for performing recording by ejecting ink droplets.

【0002】[0002]

【従来の技術】従来、インクジェット記録ヘッドは、個
々のオリフィスプレートとサーマルヘッド基板とを接合
して製造されている。この接合に際しては、オリフィス
プレートのインク吐出口とサーマルヘッド基板の発熱素
子とが所定の位置に配置されるように、位置合わせを行
わなければならなかった。位置合わせは、高密度記録の
点から高精度が要求されており、以下に示すような方法
が用いられていた。
2. Description of the Related Art Conventionally, ink jet recording heads have been manufactured by bonding individual orifice plates and a thermal head substrate. At the time of this joining, it was necessary to perform positioning so that the ink ejection ports of the orifice plate and the heating elements of the thermal head substrate were arranged at predetermined positions. For positioning, high precision is required in terms of high-density recording, and the following method has been used.

【0003】1.オリフィスプレート及びサーマルヘッ
ド基板の端面を突き当てで平行出しを行った後、オリフ
ィスプレート又はサーマルヘッド基板の一方を前記端面
に沿って平行に移動し、位置合わせの目印を合わせて位
置合わせを行う方法。
[0003] 1. After the orifice plate and the end face of the thermal head substrate are parallelized by abutting, one of the orifice plate and the thermal head substrate is moved in parallel along the end surface, and the alignment mark is aligned to perform alignment. .

【0004】2.位置合わせ用の穴が開けられたオリフ
ィスプレート及びサーマルヘッド基板の端面を突き当て
で平行出しを行った後、オリフィスプレートまたはサー
マルヘッド基板を前記端面に沿って平行に移動し、オリ
フィスプレートの前記穴とサーマルヘッド基板上に設け
られた目印とを合わせることにより行う方法。
[0004] 2. After aligning the orifice plate with the holes for positioning and the end face of the thermal head substrate to perform parallel alignment, the orifice plate or the thermal head substrate is moved in parallel along the end face, and the holes in the orifice plate are moved. And a mark provided on the thermal head substrate.

【0005】3.オリフィスプレートとサーマルヘッド
基板とに各々対応して設けられた凹凸部の位置決め手段
で合わせる方法。
[0005] 3. A method in which the orifice plate and the thermal head substrate are aligned by means of positioning means for the concave and convex portions provided corresponding to each.

【0006】[0006]

【発明が解決しようとする課題】位置決めに突き当てを
利用する方法では、オリフィスプレート及びサーマルヘ
ッド基板の端面を精度よく仕上げておく必要がある。ま
た、オリフィスプレート及びサーマルヘッド基板それぞ
れの突き当て作業を行った後、もう一度位置合わせを行
うという二回の操作を行うため、作業者の熟練を必要と
する。
In the method utilizing the butting for positioning, it is necessary to finish the orifice plate and the end face of the thermal head substrate with high precision. Further, since the operation of abutting the orifice plate and the thermal head substrate and then performing the alignment again is performed twice, the skill of the operator is required.

【0007】凹凸部の位置決め手段で合わせる方法で
は、凹凸部の形成作業として、メッキ、エッチングを用
いた場合、凹凸部形成作業が工程に含まれるので、アセ
ンブリ工程が増えることになる。また、ドライフィルム
のフォトレジストのパターニングにより凹凸部を形成す
る場合は、インク流路を形成する際に同時に行うことが
できるが、パターニング時の誤差が発生するので正確な
位置合わせができない。
[0007] In the method of matching by the positioning means for the concave and convex portions, when plating and etching are used as the forming operation of the concave and convex portions, the process of forming the concave and convex portions is included in the process, so that the number of assembly steps is increased. In addition, when the uneven portion is formed by patterning the photoresist of the dry film, it can be performed at the same time as forming the ink flow path, but an accurate alignment cannot be performed because an error occurs during patterning.

【0008】また、以上に述べた従来例では、インクジ
ェット記録ヘッドのアセンブリを個々のオリフィスプレ
ート及びサーマルヘッド基板の接合により行っているの
で、工数が増えるという問題点がある。
Further, in the above-mentioned conventional example, since the assembly of the ink jet recording head is performed by bonding the individual orifice plates and the thermal head substrate, there is a problem that the number of steps is increased.

【0009】[0009]

【発明の目的】そこで、本発明の目的は、工数を低減で
きるとともに、精度の良い位置合わせが容易にできるイ
ンクジェット記録ヘッドの製造方法を提供することにあ
る。
SUMMARY OF THE INVENTION It is an object of the present invention to provide a method of manufacturing an ink jet recording head which can reduce man-hours and can easily perform accurate alignment.

【0010】[0010]

【課題を解決するための手段】本発明に係るインクジェ
ット記録ヘッドの製造方法は、上記目的を達成するため
になされたものであり、インク滴を吐出するインク吐出
口が設けられたオリフィスプレートと、前記インク吐出
口から前記インク滴を吐出させる発熱素子が設けられた
サーマルヘッド基板とを備えたインクジェット記録ヘッ
ドの製造方法を改良したものである。
SUMMARY OF THE INVENTION A method of manufacturing an ink jet recording head according to the present invention has been made to achieve the above object, and comprises: an orifice plate provided with ink discharge ports for discharging ink droplets; A thermal head substrate provided with a heating element for discharging the ink droplet from the ink discharge port is provided as an improved method of manufacturing an ink jet recording head.

【0011】すなわち、前記オリフィスプレートをガラ
ス基板に複数形成すると共に、前記サーマルヘッド基板
をシリコンウェーハに複数形成し、前記ガラス基板と前
記シリコンウェーハとを接合した後、個々のインクジェ
ット記録ヘッドに分離することを特徴とするものであ
る。
That is, a plurality of the orifice plates are formed on a glass substrate, a plurality of the thermal head substrates are formed on a silicon wafer, and the glass substrate and the silicon wafer are joined and then separated into individual ink jet recording heads. It is characterized by the following.

【0012】また、前記ガラス基板及び前記シリコンウ
ェーハの相対する位置にそれぞれ位置決め用の目合わせ
マークを形成し、これらの目合わせマークを用いて前記
ガラス基板と前記シリコンウェーハとの位置決めをした
後、前記ガラス基板と前記シリコンウェーハとを接合す
るようにしてもよい。
[0012] Further, positioning marks for positioning are formed at positions of the glass substrate and the silicon wafer opposite to each other, and after positioning the glass substrate and the silicon wafer using these positioning marks, The glass substrate and the silicon wafer may be joined.

【0013】[0013]

【作用】オリフィスプレートは、ガラス基板に複数形成
される。サーマルヘッド基板は、シリコンウェーハに複
数形成される。ガラス基板とシリコンウェーハとを接合
すると、複数のインクジェット記録ヘッドが連結された
状態になる。したがって、ガラス基板とシリコンウェー
ハとが接合したものを複数に分離することにより、個々
のインクジェット記録ヘッドが得られる。
A plurality of orifice plates are formed on a glass substrate. A plurality of thermal head substrates are formed on a silicon wafer. When the glass substrate and the silicon wafer are joined, a plurality of ink jet recording heads are connected. Therefore, by separating the bonded glass substrate and silicon wafer into a plurality of pieces, individual ink jet recording heads can be obtained.

【0014】また、ガラス基板及びシリコンウェーハの
相対する位置にそれぞれ位置決め用の目合わせマークを
形成すると、これらの目合わせマークの合致がガラス基
板を通して確認される。ガラス基板は、光を透過させる
からである。
Further, when alignment marks for positioning are formed at opposing positions of the glass substrate and the silicon wafer, the alignment of these alignment marks is confirmed through the glass substrate. This is because the glass substrate transmits light.

【0015】[0015]

【実施例】本発明の第一実施例について説明する。図1
は、ガラス基板とシリコンウェーハとを接合した状態を
示す図2におけるI−I線縦断面図である。図2は、ガ
ラス基板とシリコンウェーハとを接合した状態を示す斜
視図である。図3は、図1における目合わせマークの詳
細図である。以下、図1乃至図3に基づき説明する。
DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS A first embodiment of the present invention will be described. FIG.
FIG. 3 is a vertical sectional view taken along the line II in FIG. 2 showing a state in which the glass substrate and the silicon wafer are joined. FIG. 2 is a perspective view showing a state in which the glass substrate and the silicon wafer are joined. FIG. 3 is a detailed view of the alignment mark in FIG. Hereinafter, description will be made with reference to FIGS.

【0016】インクジェット記録ヘッド10は、インク
滴を吐出するインク吐出口12が設けられたオリフィス
プレート14と、インク吐出口12からインク滴を吐出
させる発熱素子(図示せず)が設けられたサーマルヘッ
ド基板18とを備えている。なお、発熱素子は、便宜上
省略しているが、実際にはインク吐出口12ごとに別個
に形成されるものである。
The ink jet recording head 10 has an orifice plate 14 provided with ink discharge ports 12 for discharging ink drops, and a thermal head provided with a heating element (not shown) for discharging ink drops from the ink discharge ports 12. And a substrate 18. Although the heating elements are omitted for convenience, they are actually formed separately for each ink ejection port 12.

【0017】インクジェット記録ヘッド10の製造方法
は、以下の通りである。まず、オリフィスプレート14
をガラス基板20に複数形成すると共に、サーマルヘッ
ド基板18をシリコンウェーハ22に複数形成する。続
いて、ガラス基板20とシリコンウェーハ22とを接合
する。その後、個々のインクジェット記録ヘッド10に
分離する。
The method of manufacturing the ink jet recording head 10 is as follows. First, the orifice plate 14
Are formed on a glass substrate 20 and a plurality of thermal head substrates 18 are formed on a silicon wafer 22. Subsequently, the glass substrate 20 and the silicon wafer 22 are joined. After that, the ink-jet recording heads 10 are separated.

【0018】また、ガラス基板20の外周部にはオリフ
ィスプレート14形成の工程において目合わせマーク2
4が形成され、シリコンウェーハ22の外周部にはサー
マルヘッド基板18形成の工程において目合わせマーク
26が形成される。
In the step of forming the orifice plate 14, the alignment mark 2 is formed on the outer peripheral portion of the glass substrate 20.
4 are formed, and a registration mark 26 is formed on the outer peripheral portion of the silicon wafer 22 in the process of forming the thermal head substrate 18.

【0019】図4はガラス基板の平面図、図5は図4に
おけるV−V線縦断面図である。以下、図1乃至図5に
基づき説明する。
FIG. 4 is a plan view of the glass substrate, and FIG. 5 is a vertical sectional view taken along line VV in FIG. Hereinafter, description will be made with reference to FIGS.

【0020】ガラス基板20上には導電性金属30がス
パッタされ、導電性金属30上にはフォトレジスト32
がパターニングされている。このフォトレジスト32の
パターン上にNi電鋳を施しオリフィスプレート14を
形成している。目合わせマーク24は、フォトレジスト
32をパターニングする際にフォトレジスト32と同材
料によって同時に形成する。なお、導電性金属30をス
パッタする際には、目合わせマーク24が位置するガラ
ス基板20の外周部をマスキングする。
A conductive metal 30 is sputtered on the glass substrate 20, and a photoresist 32 is formed on the conductive metal 30.
Are patterned. The orifice plate 14 is formed by performing Ni electroforming on the pattern of the photoresist 32. The alignment mark 24 is formed simultaneously with the photoresist 32 using the same material when patterning the photoresist 32. When the conductive metal 30 is sputtered, the outer peripheral portion of the glass substrate 20 where the alignment mark 24 is located is masked.

【0021】ガラス基板20側の目合わせマーク24と
シリコンウェーハ22側の目合わせマーク26のそれぞ
れの形成される位置は、ガラス基板20とシリコンウェ
ーハ22を接合した場合に、オリフィスプレート14の
インク吐出口12の中心点と、サーマルヘッド基板18
の発熱素子の中心点が、インクジェット記録ヘッド10
内の全てのインク吐出口12において合致する位置に形
成される。ガラス基板20とシリコンウェーハ22の接
合は、接着剤をインク流路構成部材16上に塗布し接着
するか、インク流路構成部材16自身の接着力を利用し
て行う。
The positions where the alignment marks 24 on the glass substrate 20 and the alignment marks 26 on the silicon wafer 22 are formed are determined when the glass substrate 20 and the silicon wafer 22 are joined. The center point of the outlet 12 and the thermal head substrate 18
The central point of the heating element is
Is formed at a position corresponding to all the ink ejection ports 12 in the inside. The bonding between the glass substrate 20 and the silicon wafer 22 is performed by applying an adhesive onto the ink flow path forming member 16 and bonding, or using the adhesive force of the ink flow path forming member 16 itself.

【0022】ガラス基板20とシリコンウェーハ22を
位置合わせをし接合した後、ダイシングソー等により、
個々のインクジェット記録ヘッド10ごとにシリコンウ
ェーハ22を切断する。そして、ガラス基板20,フォ
トレジスト32等を除去してチップ化する。図6はイン
クジェット記録ヘッド10の分離後の全体斜視図であ
る。
After the glass substrate 20 and the silicon wafer 22 are aligned and bonded, a dicing saw or the like is used.
The silicon wafer 22 is cut for each ink jet recording head 10. Then, the glass substrate 20, the photoresist 32, and the like are removed to form a chip. FIG. 6 is an overall perspective view of the inkjet recording head 10 after separation.

【0023】次に、本発明の第二実施例について説明す
る。図7は、本実施例におけるオリフィスプレートを形
成したガラス基板の断面図である。本実施例において
は、まず、ガラス基板20上に導電性金属40をスパッ
タする。続いて、導電性金属40上に図示しないフォト
レジストをパターニングし、これをマスクとして導電性
金属40をエッチングすることによりオリフィスプレー
ト42の電鋳用のパターンを形成する。さらに、フォト
レジストを剥離後、この導電性金属40のパターン上に
Ni電鋳を施すことにより、オリフィスプレート42を
形成する。図示しない目合わせマークは導電性金属40
と同材料で、導電性金属40のエッチング工程時に同時
に形成される。以後は、第一実施例と同様に、このガラ
ス基板20とシリコンウェーハを目合わせマークを用い
て位置合わせをして接合した後、個々のチップに切断す
る。
Next, a second embodiment of the present invention will be described. FIG. 7 is a cross-sectional view of a glass substrate on which an orifice plate according to the present embodiment is formed. In this embodiment, first, the conductive metal 40 is sputtered on the glass substrate 20. Subsequently, a photoresist (not shown) is patterned on the conductive metal 40, and the conductive metal 40 is etched using the photoresist as a mask to form a pattern for electroforming the orifice plate 42. Further, after the photoresist is removed, the orifice plate 42 is formed by performing Ni electroforming on the pattern of the conductive metal 40. The registration mark (not shown) is a conductive metal 40
The same material as above is formed at the same time as the step of etching the conductive metal 40. Thereafter, as in the first embodiment, the glass substrate 20 and the silicon wafer are aligned and joined using alignment marks, and then cut into individual chips.

【0024】[0024]

【発明の効果】以上説明したように本発明によるインク
ジェット記録ヘッド製造方法によれば、オリフィスプレ
ートを複数形成したガラス基板と、サーマルヘッド基板
を複数形成したシリコンウェーハとを接合した後、個々
のインクジェット記録ヘッドに分離することにより、1
回のアセンブリで複数のインクジェット記録ヘッドを同
時に製造できるため、工数を低減できると共にこれによ
る低コスト化を達成できる。
As described above, according to the method of manufacturing an ink jet recording head according to the present invention, after joining a glass substrate having a plurality of orifice plates formed thereon and a silicon wafer having a plurality of thermal head substrates formed thereon, the individual ink jet recording heads are joined together. By separating the print head, 1
Since a plurality of ink jet recording heads can be manufactured simultaneously by one assembly, the number of steps can be reduced and the cost can be reduced.

【0025】また、ガラス基板及びシリコンウェーハに
それぞれ位置決め用の目合わせマークを設けることによ
り、ガラス基板を通して目合わせマークを確認できるの
で、ガラス基板とシリコンウェーハとの位置合わせを容
易にしかも正確に行うことができる。
Further, by providing alignment marks for positioning on the glass substrate and the silicon wafer, the alignment marks can be confirmed through the glass substrate, so that the alignment between the glass substrate and the silicon wafer can be performed easily and accurately. be able to.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】図2におけるI−I線縦断面図である。FIG. 1 is a vertical sectional view taken along line II in FIG.

【図2】第一実施例のガラス基板とシリコンウェーハと
を接合した状態を示す斜視図である。
FIG. 2 is a perspective view showing a state in which the glass substrate and the silicon wafer of the first embodiment are joined.

【図3】図1における目合わせマークを示す詳細図であ
る。
FIG. 3 is a detailed view showing a registration mark in FIG. 1;

【図4】第一実施例のガラス基板を示す平面図である。FIG. 4 is a plan view showing the glass substrate of the first embodiment.

【図5】図4におけるV−V線縦断面図である。FIG. 5 is a vertical sectional view taken along line VV in FIG.

【図6】分離後のインクジェット記録ヘッドを示す全体
斜視図である。
FIG. 6 is an overall perspective view showing the inkjet recording head after separation.

【図7】第二実施例のガラス基板を示す断面図である。FIG. 7 is a sectional view showing a glass substrate of a second embodiment.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

10 インクジェット記録ヘッド 12 インク吐出口 14,42 オリフィスプレート 16 インク流路構成部材 18 サーマルヘッド基板 20 ガラス基板 22 シリコンウェーハ 24 ガラス基板側の目合わせマーク 26 シリコンウェーハ側の目合わせマーク 30,40 導電性金属 32 フォトレジスト DESCRIPTION OF SYMBOLS 10 Ink jet recording head 12 Ink discharge port 14,42 Orifice plate 16 Ink flow path constituent member 18 Thermal head substrate 20 Glass substrate 22 Silicon wafer 24 Registration mark on glass substrate side 26 Registration mark on silicon wafer side 30, 40 Conductivity Metal 32 photoresist

Claims (2)

(57)【特許請求の範囲】(57) [Claims] 【請求項1】 インク滴を吐出するインク吐出口が設け
られたオリフィスプレートと、前記インク吐出口から前
記インク滴を吐出させる発熱素子が設けられたサーマル
ヘッド基板とを備えたインクジェット記録ヘッドの製造
方法において、 前記オリフィスプレートをガラス基板に複数形成すると
共に、前記サーマルヘッド基板をシリコンウェーハに複
数形成し、前記ガラス基板と前記シリコンウェーハとを
接合した後、個々のインクジェット記録ヘッドに分離す
ることを特徴とするインクジェット記録ヘッドの製造方
法。
1. An ink jet recording head comprising: an orifice plate provided with an ink ejection port for ejecting an ink droplet; and a thermal head substrate provided with a heating element for ejecting the ink droplet from the ink ejection port. In the method, a plurality of the orifice plates are formed on a glass substrate, a plurality of the thermal head substrates are formed on a silicon wafer, and the glass substrate and the silicon wafer are joined and then separated into individual inkjet recording heads. A method for manufacturing an ink jet recording head.
【請求項2】 前記ガラス基板及び前記シリコンウェー
ハの相対する位置にそれぞれ位置決め用の目合わせマー
クを形成し、これらの目合わせマークを用いて前記ガラ
ス基板と前記シリコンウェーハとの位置決めをした後、
前記ガラス基板と前記シリコンウェーハとを接合するこ
とを特徴とする請求項1記載のインクジェット記録ヘッ
ドの製造方法。
2. A positioning mark for positioning is formed at an opposing position of the glass substrate and the silicon wafer, and after positioning the glass substrate and the silicon wafer using these registration marks,
2. The method according to claim 1, wherein the glass substrate and the silicon wafer are bonded.
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