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JP2792087B2 - Semiconductor memory device - Google Patents

Semiconductor memory device

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JP2792087B2
JP2792087B2 JP8592289A JP8592289A JP2792087B2 JP 2792087 B2 JP2792087 B2 JP 2792087B2 JP 8592289 A JP8592289 A JP 8592289A JP 8592289 A JP8592289 A JP 8592289A JP 2792087 B2 JP2792087 B2 JP 2792087B2
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bit line
power supply
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type transistor
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明 丸山
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Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は不揮発性半導体メモリーの中で特に電気的に
書き込み、消去可能なリードオンリーメモリー、即ちE2
PROMのビットライン回路に関する。
DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION The present invention relates to a nonvolatile semiconductor memory, in particular, a read-only memory that can be electrically written and erased, that is, E 2
It relates to a bit line circuit of a PROM.

〔従来の技術〕[Conventional technology]

電気的にデータの書き込み・消去可能なリードオンリ
ーメモリーはE2PROMとして良く知られている。データの
書き込み、消去はメモリーセルの薄い酸化膜にFowler−
Nordheimトンネル電流を発生させ、メモリーセル中に電
荷を注入、放出させることで、メモリーセルを“オン”
状態、“オフ”状態にすることが一般的である。
A read-only memory capable of electrically writing and erasing data is well known as an E 2 PROM. Data writing and erasing are performed on the thin oxide film of the memory cell by Fowler-
The memory cell is turned on by generating a Nordheim tunnel current and injecting and discharging charge into the memory cell
It is common to set the state to an "off" state.

このトンネル電流はデータの書き込み、消去時に発生
するだけでなく、リード時においても僅かではあるが発
生し、長時間のリード動作を考えた場合はメモリーセル
の電荷量を変化させ、誤ったデータの書き込み、消去を
引きおこす。そのため、これを防ぐためトンネル電流の
発生を抑える様にリード時のビットライン電位を一般的
には低く設定することが行なわれている。
This tunnel current occurs not only at the time of writing and erasing data, but also slightly at the time of reading.When a long-term reading operation is considered, the charge amount of the memory cell is changed, and erroneous data may be read. Causes writing and erasing. Therefore, in order to prevent this, the bit line potential at the time of reading is generally set low so as to suppress the generation of tunnel current.

従来のビットライン回路の一例を第7図に示す。1は
メモリーセルトランジスタ、2はセレクタートランジス
タ、3はビットライン電位を制御するためのNchトラン
ジスタ、7、8はNchトランジスタ、5は電源電圧供給
回路でPchトランジスタ4より成っている。6はインバ
ータである。
FIG. 7 shows an example of a conventional bit line circuit. 1 is a memory cell transistor, 2 is a selector transistor, 3 is an Nch transistor for controlling a bit line potential, 7 and 8 are Nch transistors, and 5 is a power supply voltage supply circuit comprising a Pch transistor 4. 6 is an inverter.

ビットライン電位V3の制御は第8図に示す様に、トラ
ンジスタ7、8により電位V2を電源電圧VDDに対してVDD
より低い電位にし、さらにトランジスタ3により、その
しきい値電位分電位V2より低い電位にすることで成され
ている。一般的にはVDD=5Vの時、ビットライン電位V3
は1.5V〜2.0V位の電位に設定される。
Control of the bit line potential V 3 is as shown in FIG. 8, V DD potential V 2 to the power supply voltage V DD by transistor 7 and 8
The lower potential, yet the transistors 3, made by a lower potential than the threshold potential partial potential V 2. Generally, when V DD = 5V, the bit line potential V 3
Is set to a potential of about 1.5 V to 2.0 V.

リード動作はセレクターがHレベルでセレクタートラ
ンジスタ2がオン状態で、ワードラインが選択状態でメ
モリーセルトランジスタ1が選択されている場合、メモ
リーセルトランジスタ1が“オン”状態のときは電位V1
はGNDレベルに引っぱられるためインバータ6の出力は
Hレベルが出力され、一方、メモリーセルトランジスタ
1が“オフ”状態のときは電位V1はVDDレベルに昇がり
インバータ6の出力はLレベルが出力されることで行わ
れる。
In the read operation, when the selector is at the H level and the selector transistor 2 is on, the word line is selected and the memory cell transistor 1 is selected, and when the memory cell transistor 1 is "on", the potential V 1
The output of the inverter 6 for pulling the GND level is H level is outputted, whereas, the potential V 1 was when the memory cell transistor 1 is "off" state is output at the L level of the temperature Ghali inverter 6 to V DD level This is done by being output.

〔発明が解決しようとする課題〕[Problems to be solved by the invention]

従来のビットライン回路では誤ったデータの書き込
み、消去を防ぐためにビットライン電位V3を低く設定し
ているために、電源電圧VDDが低い領域ではビットライ
ン電位V3が低くなりすぎ、ビットラインの充電速度が遅
くなりリード動作のスピードに遅れが生じた。また、ビ
ットライン電位V3が0V近傍になる電源電圧でリード動作
が不能となるが、その電源電圧値がビットライン電位V3
を低く設定していることで高い電圧値にシフトされるた
め、低電源電圧動作をさせることが難しかった。また、
電源電位VDDの増加と伴にビットライン電位V3も増加す
るため、V3も増加するため、V3が誤ったデータの書き込
み、消去を防ぐための上限電圧を越える危険があった。
Writing incorrect data in the conventional bit line circuit, in order is set lower bit line potential V 3 in order to prevent erasure, too low bit line potential V 3 at the power supply voltage V DD is low region, the bit line , The charging speed was slow, and the speed of the read operation was delayed. Although the bit line potential V 3 becomes impossible read operation in the power supply voltage becomes close to 0V, the power supply voltage value is the bit line potential V 3
Is set to a low value, the voltage is shifted to a high voltage value, so that it is difficult to perform a low power supply voltage operation. Also,
To increase the power supply potential V DD bit line potential V 3 to increase and accompanied also, since the V 3 increases, there is a risk of exceeding the upper limit voltage for preventing writing of data to the V 3 wrong, the erasure.

そこで本発明はこの様な課題を解決すべく、低電源電
圧でもリード動作のスピードを抑え、また低電源電圧動
作も可能とし、さらにビットライン電位が誤ったデータ
の書き込み、消去を防ぐための上限電圧より低い電位に
確実に保たれることを可能とする、ビットライン回路を
提供することを目的とする。
In order to solve such a problem, the present invention suppresses the speed of read operation even at a low power supply voltage, enables low power supply voltage operation, and furthermore, an upper limit for preventing writing or erasing of data in which the bit line potential is incorrect. An object of the present invention is to provide a bit line circuit that can be reliably maintained at a potential lower than a voltage.

〔課題を解決するための手段〕[Means for solving the problem]

本発明の半導体メモリー装置は、電気的に書き込み及
び消去が可能なメモリーセルトランジスタと、前記メモ
リーセルトランジスタに接続されたビット線と、前記ビ
ット線に電位を与える電源供給回路と、前記電源供給回
路と前記ビット線との間に接続されて前記ビット線の電
位を制御するNチャンネルエンハンスメント型トランジ
スタとを有する半導体メモリー装置において、ソースを
電源電位に接続し、ドレインを前記Nチャンネルエンハ
ンスメント型トランジスタのゲートに接続し、ゲートを
所定の固定電位に接続したNチャンネルデプリーション
型トランジスタと、一方の端子が前記Nチャンネルエン
ハンスメント型トランジスタのゲートと前記Nチャンネ
ルデプリーション型トランジスタのドレインとの接続点
に接続され、他方の端子が接地電位に接続され、さらに
前記Nチャンネルデプリーション型トランジスタの電流
供給能力よりも電流供給能力が小さく設定されてなる負
荷を備えたことを特徴とする。また前記Nチャンネルデ
プリーション型トランジスタのゲート端子が接続される
固定電位は接地電位であることを特徴とする。さらに前
記負荷はNチャンネルエンハンスメント型トランジスタ
であることを特徴とする。
A semiconductor memory device according to the present invention includes a memory cell transistor that can be electrically written and erased, a bit line connected to the memory cell transistor, a power supply circuit for applying a potential to the bit line, and the power supply circuit. And a N-channel enhancement transistor connected between the bit line and the bit line for controlling the potential of the bit line, wherein a source is connected to a power supply potential, and a drain is a gate of the N-channel enhancement transistor. And an N-channel depletion type transistor having a gate connected to a predetermined fixed potential, and one terminal connected to a connection point between the gate of the N-channel enhancement type transistor and the drain of the N-channel depletion type transistor. Connected and the other Children are connected to the ground potential, further the N-channel depletion-type transistor current supply capability than the current supply capacity of which comprising the set formed by the load decreases. The fixed potential to which the gate terminal of the N-channel depletion type transistor is connected is a ground potential. Further, the load is an N-channel enhancement type transistor.

〔作 用〕(Operation)

本発明の上記の構成によれば、Nchデプリーション型
トランジスタにより、低電源電圧領域ではNchデプリー
ション型トランジスタのドレイン電位にほぼ等しい電位
をビットライン電位を制御するNchエンハンスメント型
トランジスタのゲートに供給するため、ビットライン電
位の低下を抑えることができる。一方、高電源電圧領域
ではNchデプリーション型トランジスタがオフ状態とな
り、ドレイン電位よりも低い一定電位をビットライン電
位を制御するNchエンハンスメント型トランジスタのゲ
ートに供給するため、ビットライン電位を抑えることが
できる。
According to the above configuration of the present invention, the Nch depletion transistor supplies a potential substantially equal to the drain potential of the Nch depletion transistor to the gate of the Nch enhancement transistor that controls the bit line potential in the low power supply voltage region. A decrease in bit line potential can be suppressed. On the other hand, in the high power supply voltage region, the Nch depletion type transistor is turned off, and a constant potential lower than the drain potential is supplied to the gate of the Nch enhancement type transistor that controls the bit line potential, so that the bit line potential can be suppressed.

〔実 施 例〕〔Example〕

第1図は本発明の第1の実施例である。ここで従来例
第7図と同一記号は同一のものである。9はNchデプリ
ーション型トランジスタであり、そのドレインは電源電
位に、ゲートは接地電位に接続されている。10は接地電
位に接続された負荷回路であり、Nchトランジスタ11よ
り成り、その電流供給能力はトランジスタ9より十分小
さくなる様に設定されている。
FIG. 1 shows a first embodiment of the present invention. Here, the same symbols as those in FIG. 7 of the related art are the same. Reference numeral 9 denotes an Nch depletion type transistor whose drain is connected to the power supply potential and whose gate is connected to the ground potential. Reference numeral 10 denotes a load circuit connected to the ground potential, which is composed of an Nch transistor 11, and whose current supply capability is set to be sufficiently smaller than that of the transistor 9.

ビットライン電位V3の制御について第2図により説明
する。まず電位V2に着目すると、電源電圧VDDが低い場
合はNchデプリーション型トランジスタ9により電位V2
にはVDDにほぼ等しい電位が供給される。さらに電源電
圧VDDが高くなると、電位V2も同時に高くなっていく
が、トランジスタ9のデプリーションしきい値電位と、
ゲート電位とで決まる電位VDEPでトランジスタ9はオフ
状態となるため、電位V2はVDEPのまま一定電位に保たれ
る。ビットライン電位V3は何れの場合もトランジスタ3
により、そのしきい値電位分、電位V2より低い電位とな
る。電位V2は第2図中の破線で示す従来例の電位V2′よ
りも低電源電圧側で高い電位となるため、ビットライン
電位V3も同様に破線で示す従来例の電位V3′よりも高い
電位となる。したがって、低電源電圧領域ではビットラ
イン電位V3の低下が抑えられるため、ビットライン電位
の充電速度が遅くならずリード動作のスピードの遅れが
抑えられる。また、ビットライン電位V3が0V近傍になる
電源電圧値VCがより低い電圧値側(VC<VC′)へシフト
されるため、低電源電圧動作化を図ることが可能とな
る。一方、トランジスタ9は高電源電圧領域ではトラン
ジスタ3のゲートに電源電圧VDDよりも低い一定電位V
DEPを供給するため、ビットライン電位V3も一定電位と
なり、その電位を誤ったデータの書き込み、消去を防ぐ
上限電圧より低くなる様に設定すれば、VDDが上っても
確実に誤ったデータの書き込み、消去を防ぐことができ
る。
Illustrated by Figure 2 for the control of the bit line potential V 3. First, focusing on the potential V 2 , when the power supply voltage V DD is low, the potential V 2 is set by the Nch depletion type transistor 9.
Is supplied with a potential substantially equal to V DD . When the power supply voltage V DD further increases, the potential V 2 also increases at the same time, but the depletion threshold potential of the transistor 9 and
Since the transistor 9 is turned off at the potential V DEP determined by the gate potential, the potential V 2 is kept at a constant potential at V DEP . In any case, the bit line potential V 3 is the transistor 3
Accordingly, the threshold potential amount, a potential lower than the potential V 2. Potential V 2 is the potential V 2 of the conventional example shown by a broken line in FIG. 2 'to become a high potential with a low power supply voltage side of the bit line potential V 3 is similarly conventional potential V 3 of shown by the broken line' Higher potential. Therefore, in the low supply voltage region for a reduction in the bit line potential V 3 is suppressed, a delay charge rate is not slow in read operation speed of the bit line potential is suppressed. Further, since the power supply voltage value V C of the bit line potential V 3 becomes close to 0V is shifted to a lower voltage value side (V C <V C '), it is possible to achieve low power supply voltage operation. On the other hand, in the high power supply voltage region, the transistor 9 has a constant potential V lower than the power supply voltage V DD applied to the gate of the transistor 3.
For supplying DEP, also the bit line potential V 3 becomes constant potential, the writing of erroneous data that potential is set so as to be lower than the upper limit voltage to prevent erasure, the wrong ensured even up the V DD Data writing and erasing can be prevented.

第3図は本発明の第2の実施例である。第1の実施例
と比べると、Nchトランジスタ13、14が追加され、その
分割電位V4がNchデプリーション型トランジスタ9のゲ
ートに印加されている。また、負荷回路10は抵抗12より
成り、その電流供給能力はトランジスタ9より十分小さ
くなる様に設定されている。
FIG. 3 shows a second embodiment of the present invention. Compared with the first embodiment, it is added Nch transistors 13 and 14, the divided voltage V 4 is applied to the gate of the Nch depletion mode transistor 9. The load circuit 10 includes a resistor 12, and its current supply capability is set to be sufficiently smaller than that of the transistor 9.

第1の実施例と同様に第4図に示す様に、電源電圧V
DDが低い場合はNchデプリーション型トランジスタ9に
より電位V2はVDDにほぼ等しい電位となる。さらにVDD
高くなると電位V2は▲V DEP▼のまま一定電位を保
つ。この場合トランジスタ9のゲート電位V4がトランジ
スタ13、14で決まる正の電位となるため、電位▲V
DEP▼の設定は第1の実施例に比べて高い電位に設定し
易くなる。この場合も第1の実施例と同様に、低電源電
圧領域では第4図中の破線で示す従来例の電位V3′より
もビットライン電位V3を十分に高い電位にすることがで
きるし、V3が0V近傍になる電源電圧値VCをより低い電圧
値側(VC<VC′)へシフトすることができる。また、高
電源電圧領域でも確実にV3を誤ったデータの書き込み、
消去を防ぐ上限電圧より低い電位に保つことができる。
Similarly to the first embodiment, as shown in FIG.
When DD is low, the potential V 2 becomes substantially equal to V DD by the Nch depletion type transistor 9. Further V DD is high potential V 2 keeps the constant potential ▲ V 'DEP ▼ remain. Since the gate potential V 4 in this case the transistor 9 becomes the positive potential determined by transistors 13 and 14, the potential ▲ V '
The setting of DEP ▼ makes it easier to set a higher potential than in the first embodiment. Also in this case, as in the first embodiment, to a low power supply voltage region can be sufficiently high potential prior art example of a bit line potential V 3 than the potential V 3 'indicated by a broken line in FIG. 4 may V 3 is shifted to the power supply voltage V C lower voltage value side which is near 0V (V C <V C ' ). Further, the data reliably wrong V 3 at the high supply voltage region write,
The potential can be kept lower than the upper limit voltage for preventing erasing.

第5図は本発明の第3の実施例である。第1の実施例
と比べるとNchトランジスタ15が追加された回路となっ
ている。
FIG. 5 shows a third embodiment of the present invention. Compared with the first embodiment, the circuit has an Nch transistor 15 added.

第1の実施例と同様に第6図に示す様に電源電圧VDD
が低い場合はNchデプリーション型トランジスタ9によ
り電位V2はVDDにほぼ等しい電位となる。VDDが高くなる
と電位V2は一期間VDEPのまま一定電位を保つが、さらに
VDDが高くなるとトランジスタ15がオンとなるため、ト
ランジスタ15と10とで決まる電位で増加を続ける。した
がって第6図に示す様に従来例(破線で示す)と比べる
と、高電源電圧領域での特性はそのままに保ちつつ、低
電源電圧領域でのビットライン電位V3を十分に高い電位
にすることができるし、V3が0V近傍になる電源電圧値VC
をより低い電圧値側(VC<VC′)へシフトすることもで
きる。
Similarly to the first embodiment the power supply voltage V DD as shown in Figure 6
Is low, the potential V 2 becomes substantially equal to V DD by the Nch depletion type transistor 9. When V DD rises, the potential V 2 remains constant at V DEP for one period.
When V DD rises, the transistor 15 is turned on, so that the potential continues to increase at a potential determined by the transistors 15 and 10. Thus compared with the conventional example as shown in Figure 6 (shown in dashed lines), the characteristics of a high supply voltage region while keeping intact, to a sufficiently high potential bit line potential V 3 in low supply voltage region And the power supply voltage V C at which V 3 becomes close to 0 V
Can be shifted to a lower voltage value side (V C <V C ′).

以上、本実施例ではNchデプリーション型トランジス
タのドレイン電位を電源電位と同一として説明したが、
必らずしも同一でなくともビットライン電位がその分増
減する点を考慮すれば本実施例と同様の効果が得られ
る。
As described above, in this embodiment, the drain potential of the Nch depletion type transistor has been described as being equal to the power supply potential.
Even if they are not necessarily the same, the same effect as that of the present embodiment can be obtained by considering that the bit line potential increases and decreases accordingly.

〔発明の効果〕〔The invention's effect〕

以上述べた様に本発明によれば、低電源電圧領域での
ビットライン電位の低下を抑えることができるため、低
電源電圧でのリード動作のスピードの遅れを抑えること
が可能となり、また、動作電源電圧の低電圧化を図るこ
とが可能となった。
As described above, according to the present invention, a decrease in bit line potential in a low power supply voltage region can be suppressed, so that a delay in read operation speed at a low power supply voltage can be suppressed. The power supply voltage can be reduced.

また、高い電源電圧でもビットライン電圧を一定電位
に保つことができるため、誤ったデータの書き込み、消
去を確実に防ぐことが可能となった。さらに、この一定
のビットライン電位がNchデプリーション型トランジス
タのしきい値電位設定によって決定されるため、プロセ
ス上のバラツキの影響、電源電圧の変動に対しての影響
も小さく、非常に安定した電位でビットライン電位を保
つことのできる利点も有する。
Further, since the bit line voltage can be maintained at a constant potential even at a high power supply voltage, it has been possible to reliably prevent writing and erasing of erroneous data. Furthermore, since this constant bit line potential is determined by setting the threshold potential of the Nch depletion type transistor, the influence of process variations and the influence of power supply voltage fluctuations are small, and a very stable potential is obtained. There is also an advantage that the bit line potential can be maintained.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

第1図は本発明の第1の実施例を示す回路図。第2図は
本発明の第1の実施例での電位を示す特性図。第3図は
本発明の第2の実施例を示す回路図。第4図は本発明の
第2の実施例での電位を示す特性図。第5図は本発明の
第3の実施例を示す回路図。第6図は本発明の第3の実
施例での電位を示す特性図。第7図は従来のビットライ
ン回路を示す回路図。第8図は従来のビットライン回路
での電位を示す特性図。 1……メモリーセルトランジスタ 2……セレクタートランジスタ 3……Nchエンハンスメント型トランジスタ 5……電源電圧供給回路 9……Nchデプリーション型トランジスタ 10……負荷回路
FIG. 1 is a circuit diagram showing a first embodiment of the present invention. FIG. 2 is a characteristic diagram showing a potential in the first embodiment of the present invention. FIG. 3 is a circuit diagram showing a second embodiment of the present invention. FIG. 4 is a characteristic diagram showing a potential in the second embodiment of the present invention. FIG. 5 is a circuit diagram showing a third embodiment of the present invention. FIG. 6 is a characteristic diagram showing a potential in the third embodiment of the present invention. FIG. 7 is a circuit diagram showing a conventional bit line circuit. FIG. 8 is a characteristic diagram showing a potential in a conventional bit line circuit. DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 ... Memory cell transistor 2 ... Selector transistor 3 ... Nch enhancement type transistor 5 ... Power supply voltage supply circuit 9 ... Nch depletion type transistor 10 ... Load circuit

Claims (3)

(57)【特許請求の範囲】(57) [Claims] 【請求項1】電気的に書き込み及び消去が可能なメモリ
ーセルトランジスタと、 前記メモリーセルトランジスタに接続されたビット線
と、 前記ビット線に電位を与える電源供給回路と、 前記電源供給回路と前記ビット線との間に接続されて前
記ビット線の電位を制御するNチャンネルエンハンスメ
ント型トランジスタとを有する半導体メモリー装置にお
いて、 ソースを電源電位に接続し、ドレインを前記Nチャンネ
ルエンハンスメント型トランジスタのゲートに接続し、
ゲートを所定の固定電位に接続したNチャンネルデプリ
ーション型トランジスタと、 一方の端子が前記Nチャンネルエンハンスメント型トラ
ンジスタのゲートと前記Nチャンネルデプリーション型
トランジスタのドレインとの接続点に接続され、他方の
端子が接地電位に接続され、さらに前記Nチャンネルデ
プリーション型トランジスタの電流供給能力よりも電流
供給能力が小さく設定されてなる負荷を備えたことを特
徴とする半導体メモリー装置。
An electrical writable and erasable memory cell transistor, a bit line connected to the memory cell transistor, a power supply circuit for applying a potential to the bit line, the power supply circuit and the bit. A source connected to a power supply potential, and a drain connected to a gate of the N-channel enhancement type transistor. ,
An N-channel depletion type transistor having a gate connected to a predetermined fixed potential; one terminal connected to a connection point between a gate of the N-channel enhancement type transistor and a drain of the N-channel depletion type transistor; Is connected to the ground potential, and further provided with a load having a current supply capability set to be smaller than the current supply capability of the N-channel depletion type transistor.
【請求項2】前記Nチャンネルデプリーション型トラン
ジスタのゲート端子が接続される固定電位は接地電位で
あることを特徴とする請求項1記載の半導体メモリー装
置。
2. The semiconductor memory device according to claim 1, wherein the fixed potential to which the gate terminal of said N-channel depletion type transistor is connected is a ground potential.
【請求項3】前記負荷はNチャンネルエンハンスメント
型トランジスタであることを特徴とする請求項1記載の
半導体メモリー装置。
3. The semiconductor memory device according to claim 1, wherein said load is an N-channel enhancement type transistor.
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