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JP2773663B2 - Semiconductor storage device - Google Patents

Semiconductor storage device

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Publication number
JP2773663B2
JP2773663B2 JP33826894A JP33826894A JP2773663B2 JP 2773663 B2 JP2773663 B2 JP 2773663B2 JP 33826894 A JP33826894 A JP 33826894A JP 33826894 A JP33826894 A JP 33826894A JP 2773663 B2 JP2773663 B2 JP 2773663B2
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JP
Japan
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address
precharge
data
word line
memory cell
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▲泰▼臣 田中
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Yamaha Corp
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Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【産業上の利用分野】この発明は、データが不揮発に記
憶されるマスクROM等の半導体記憶装置に関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a semiconductor memory device such as a mask ROM in which data is stored in a nonvolatile manner.

【0002】[0002]

【従来の技術】マスクROMは、データが不揮発に記憶
されるメモリセルアレイ、このメモリセルアレイのデー
タを選択する外部アドレスを取り込むアドレスバッフ
ァ、取り込まれたアドレスによりメモリセルアレイのビ
ット線選択及びワード線選択を行うデコーダ、ビット線
データを読み出すセンスアンプ等により構成される。メ
モリセルアレイは、多数配列形成されたメモリMOSト
ランジスタを、例えばデータに応じてブプレション
(D)型又はエンハンスメント(E)型に設定する事に
よりデータ記憶を行う。メモリセルアレイの形式には、
NOR型とNAND型がある。
2. Description of the Related Art A mask ROM is a memory cell array in which data is stored in a nonvolatile manner, an address buffer for receiving an external address for selecting data of the memory cell array, and a bit line selection and a word line selection of the memory cell array are performed by the captured address. And a sense amplifier that reads out bit line data. The memory cell array stores data by setting a large number of memory MOS transistors arranged in a buried (D) type or an enhanced (E) type according to data, for example. The format of the memory cell array includes
There are a NOR type and a NAND type.

【0003】マスクROMにおいて、あるビット線デー
タの読み出しを行っている間、非選択のビット線はセン
スアンプから切り離されている。このとき、非選択ビッ
ト線が放電して接地レベルまで電位低下すると、次に選
択されたときにそのビット線を所定レベルまで引き上げ
るのに時間がかかる。このビット線の充電の遅れは、マ
スクROMの高速アクセスを妨げる。マスクROMの高
速アクセスを可能とするためには、非選択のビット線を
次のアクセスに備えて所定レベルまで充電するプリチャ
ージ方式が有効である(例えば、特開平5−14428
4号参照)。
In a mask ROM, while reading out certain bit line data, unselected bit lines are disconnected from a sense amplifier. At this time, if the non-selected bit line is discharged and the potential drops to the ground level, it takes time to raise the bit line to a predetermined level when it is next selected. This delay in bit line charging prevents high speed access of the mask ROM. In order to enable high-speed access to the mask ROM, a precharge method of charging an unselected bit line to a predetermined level in preparation for the next access is effective (for example, see Japanese Patent Application Laid-Open No. HEI 5-14428).
No. 4).

【0004】ワード線選択についても、同様の問題があ
る。例えば、NAND型メモリセルの場合、選択ワード
線を0V、残りの非選択ワード線をVDDとして、データ
読み出しが行われる。ワード線は多数のメモリセルのゲ
ートにつながるため負荷が大きく、選択時にVDDからO
Vに低下するのに時間がかかる。実際はE型メモリトラ
ンジスタの場合でしきい値が0.8V程度であり、従っ
て選択ワード線がVDDから0.8Vに低下するまでが遅
れとなる。このワード線での遅れを解決するために、例
えば、ワード線の駆動電源のみを例えば3Vという低電
源とすることも提案されている。
There is a similar problem in word line selection. For example, in the case of a NAND memory cell, data reading is performed with the selected word line set to 0 V and the remaining unselected word lines set to VDD. Since the word line is connected to the gates of a large number of memory cells, the load is large.
It takes time to drop to V. Actually, the threshold value is about 0.8 V in the case of the E-type memory transistor, and therefore, there is a delay until the selected word line drops from VDD to 0.8 V. In order to solve the delay in the word line, for example, it has been proposed that only the drive power supply for the word line is set to a low power supply of 3 V, for example.

【0005】[0005]

【発明が解決しようとする課題】マスクROMの高速ア
クセスを実現するために、非選択ビット線の全てをプリ
チャージする方式は、プリチャージによって消費電流が
増大するという問題がある。また、ワード線の電位遷移
の遅れに対して、ワード線駆動電源を低くする方式は、
アクセス時間短縮にそれ程効果的でない。更にNAND
型ROMの場合にワード線電源を下げると、選択メモリ
MOSトランジスタにつながる多数の非選択メモリMO
Sトランジスタのオン抵抗が結果的に大きくなるため
に、データ読み出し性能が劣化する。
The method of precharging all the non-selected bit lines in order to realize high-speed access to the mask ROM has a problem that current consumption increases due to the precharge. Also, the method of lowering the word line drive power supply with respect to the delay of the potential transition of the word line is as follows.
Not very effective in reducing access time. Further NAND
When the word line power supply is lowered in the case of the type ROM, a large number of unselected memories MO connected to the selected memory MOS transistor are connected.
As a result, the ON resistance of the S-transistor increases, so that the data read performance deteriorates.

【0006】この発明は、改良されたワード線バイアス
方式により、高速アクセスを可能とした半導体記憶装置
を提供することを目的としている。
SUMMARY OF THE INVENTION An object of the present invention is to provide a semiconductor memory device capable of high-speed access by an improved word line bias system.

【0007】[0007]

【課題を解決するための手段】この発明は、データが不
揮発に記憶されるメモリセルアレイと、このメモリセル
アレイのデータを選択する外部アドレスを取り込むアド
レスバッファと、取り込まれたアドレスにより前記メモ
リセルアレイのビット線選択及びワード線選択を行うデ
コーダと、ビット線データを読み出すセンスアンプとを
有する半導体記憶装置において、前記アドレスバッファ
は、入力端子が共通接続されて時分割でアドレス取り込
みを行う少なくとも2系統のクロック同期式のアドレス
レジスタを有し、且つ前記アドレスバッファの2系統の
アドレスレジスタに保持された連続するタイミングのア
ドレスデータの異同を判定する判定手段と、この判定手
段の判定結果に基づいて、あるアドレスのデータ読み出
しを行っている間、次にアクセスすべきアドレスのワー
ド線のみを選択的にプリチャージするワード線プリチャ
ージ手段とを備えたことを特徴としている。
According to the present invention, there is provided a memory cell array in which data is stored in a nonvolatile manner, an address buffer for receiving an external address for selecting data of the memory cell array, and a bit of the memory cell array based on the received address. In a semiconductor memory device having a decoder for selecting a line and a word line, and a sense amplifier for reading bit line data, the address buffer has at least two clocks which are commonly connected to an input terminal and take in addresses in a time-division manner. Determining means for determining whether or not address data at consecutive timings held in two address registers of the address buffer have a synchronous address register, and an address based on the determination result of the determining means; While reading data from Next is characterized in that a word line precharge means for selectively precharging only the word line address to be accessed.

【0008】この発明において好ましくは、前記判定手
段は、前記2系統のアドレスレジスタが保持するアドレ
スデータの不一致を検出してプリチャージ・イネーブル
信号を生成する論理ゲート手段と、前記プリチャージ・
イネーブル信号により制御されて前記2系統のアドレス
レジスタが保持するアドレスデータのうち次アドレスデ
ータをスルーする転送手段とにより構成される。また前
記ワード線プリチャージ手段は、前記プリチャージ・イ
ネーブル信号により制御されて前記次アドレスデータを
デコードするプリチャージ用ロウデコーダと、そのデコ
ード出力により一つのワード線を選択してこれに所定の
バイアスを与えるプリチャージ用ロウセレクタとにより
構成される。
In the present invention, preferably, the determination means detects a mismatch between address data held by the two address registers and generates a precharge enable signal, and a logic gate means;
And transfer means for passing the next address data out of the address data held by the two address registers under the control of an enable signal. The word line precharge means includes a precharge row decoder controlled by the precharge enable signal to decode the next address data, and a word line selected by a decode output thereof to apply a predetermined bias to the selected word line. And a precharge row selector that provides

【0009】[0009]

【作用】この発明によると、多数の非選択ワード線のう
ち、次のアドレスにより選択されるワード線のみがプリ
チャージされる。この様な選択的なワード線プリチャー
ジは、アドレスバッファが2系統のクロック同期式アド
レスレジスタを持つ形式の半導体記憶装置において、こ
れらのアドレスレジスタに保持された連続するタイミン
グのアドレスデータの異同を判定することにより可能に
なる。そしてこの発明によると、特にNAND型の場合
に、全ての非選択ワード線に低電源電位を与える従来の
方式に比べて、データ読み出し特性を劣化させることな
く、高速アクセスが可能になる。
According to the present invention, of the many unselected word lines, only the word line selected by the next address is precharged. In such a selective word line precharge, in a semiconductor memory device in which an address buffer has two clock synchronous address registers, it is determined whether address data at successive timings held in these address registers are different. It becomes possible by doing. According to the present invention, especially in the case of the NAND type, high-speed access is possible without deteriorating the data read characteristics as compared with the conventional method of applying a low power supply potential to all the unselected word lines.

【0010】[0010]

【実施例】以下、図面を参照して、この発明の実施例を
説明する。図1は、この発明の一実施例にかかるクロッ
ク同期式マスクROMの全体構成を示す。マスクROM
の基本構成として、データを不揮発に記憶するメモリセ
ルアレイ1、そのデータ読み出しを行うための外部アド
レスを取り込むアドレスバッファ2、メモリセルアレイ
1のワード線選択を行うロウデコーダ3、ビット線選択
を行うカラムデコーダ4とカラムセレクタ5、メモリセ
ルアレイ1からの読み出しデータを検出するセンスアン
プ6、及び出力バッファ7を有する。この実施例ではメ
モリセルアレイ1は、NAND型とする。
Embodiments of the present invention will be described below with reference to the drawings. FIG. 1 shows an overall configuration of a clock synchronous mask ROM according to an embodiment of the present invention. Mask ROM
As a basic configuration, a memory cell array 1 for storing data in a nonvolatile manner, an address buffer 2 for taking in an external address for reading out the data, a row decoder 3 for selecting a word line of the memory cell array 1, and a column decoder for selecting a bit line 4, a column selector 5, a sense amplifier 6 for detecting data read from the memory cell array 1, and an output buffer 7. In this embodiment, the memory cell array 1 is of a NAND type.

【0011】アドレスバッファ2は、詳細は後述する
が、2系統のアドレスレジスタをもって、クロック同期
により外部アドレスA0,A1,…,A15を取り込む
クロック同期式である。なおこの実施例では、便宜的に
A0〜A8をカラムアドレス、A9〜A15をロウアド
レスとして用いる場合を説明する。このアドレスバッフ
ァ2の動作を制御するために、外部クロックCKから必
要な内部クロックCKA,CKB,A,B(これらの波
形は、図10に示す)を生成するクロック生成回路8が
設けられている。
The address buffer 2, which will be described later in detail, is of a clock synchronous type having two address registers and taking in external addresses A0, A1,..., A15 by clock synchronization. In this embodiment, a case where A0 to A8 are used as column addresses and A9 to A15 are used as row addresses will be described for convenience. In order to control the operation of the address buffer 2, there is provided a clock generation circuit 8 for generating necessary internal clocks CKA, CKB, A, B (these waveforms are shown in FIG. 10) from the external clock CK. .

【0012】この実施例においては、非選択ビット線の
中の次にアクセスされるビット線のみを選択的にプリチ
ャージするために、メモリセルアレイ1周辺には、カラ
ムデコーダ4及びカラムセレクタ5と別に、プリチャー
ジ用カラムデコーダ11とプリチャージ用カラムセレク
タ12が設けられ、このプリチャージ用カラムセレクタ
12で選択されたビット線にバイアスを与えるプリチャ
ージバイアス回路13が設けられている。同様に、非選
択ワード線の中の次に選択させるワード線のみを選択的
に所定レベルにプリチャージするために、ロウデコーダ
3と別に、プリチャージ用ロウデコーダ14とプリチャ
ージ用ロウセレクタ15とが設けられている。
In this embodiment, in order to selectively precharge only the next accessed bit line among the non-selected bit lines, the memory cell array 1 and the column decoder 4 and the column selector 5 are separately provided. , A precharge column decoder 11 and a precharge column selector 12 are provided, and a precharge bias circuit 13 for applying a bias to a bit line selected by the precharge column selector 12 is provided. Similarly, in order to selectively precharge only the next selected word line among the unselected word lines to a predetermined level, separately from the row decoder 3, a precharge row decoder 14 and a precharge row selector 15 Is provided.

【0013】また、非選択ビット線や非選択ワード線の
なかから、一本を選んでプリチャージするためには、次
にアクセスされるアドレスを知ることが必要である。そ
のため、アドレスバッファ2内の2系統のアドレスレジ
スタが保持する連続するタイミングのアドレスデータを
比較してその異同を判定し、次アドレスを出力する次ア
ドレス判定回路10が設けられている。この次アドレス
判定回路10での判定結果に基づいて、プリチャージ用
カラムデコーダ11及びプリチャージ用ロウデコーダ1
4によりそれぞれ、一本のビット線及び一本のワード線
が選択されることになる。
In order to select and precharge one of the unselected bit lines and unselected word lines, it is necessary to know the address to be accessed next. Therefore, there is provided a next address determination circuit 10 which compares address data at consecutive timings held by two systems of address registers in the address buffer 2, determines the difference, and outputs the next address. Based on the result of the determination by the next address determination circuit 10, the precharge column decoder 11 and the precharge row decoder 1
4 selects one bit line and one word line, respectively.

【0014】図2は、アドレスバッファ2の具体的な構
成を示している。図示のように各外部アドレス端子毎
に、2系統のクロック同期式アドレスレジスタ21a,
21bが入力端を共通に入力回路2に接続して設けられ
ている。これらのアドレスレジスタ21a,21bに保
持された連続するタイミングのアドレスデータから、先
行するタイミングのアドレスデータADとその次のタイ
ミングの次アドレスデータNADとをそれぞれ選択する
ために、セレクタ23,24が設けられている。また二
つのアドレスレジスタ21a,21bからは、その保持
されたアドレスデータの異同判定をおこなうために、判
定用アドレスデータADA,ADBが取り出される。な
おアドレスデータADとして通常は、互いに補のデータ
が対になって出力されるが、ここでは簡単に一つで表し
ている。
FIG. 2 shows a specific configuration of the address buffer 2. As shown in the figure, two clock synchronous address registers 21a,
An input terminal 21b is connected to the input circuit 2 in common. Selectors 23 and 24 are provided to select the address data AD of the preceding timing and the next address data NAD of the next timing from the address data of the continuous timing held in the address registers 21a and 21b, respectively. Have been. From the two address registers 21a and 21b, determination address data ADA and ADB are extracted in order to determine the difference between the held address data. Usually, complementary data is output as a pair as the address data AD, but here, they are simply represented by one.

【0015】図3は、アドレスレジスタ21a,21b
及びセレクタ23,24の部分をより具体的に示したも
のである。アドレスレジスタ21a,21bはクロック
トCMOSインバータを組み合わせたCMOSラッチ回
路であって、一方のアドレスレジスタ21aは、内部ク
ロックCKAとその反転クロック/CKAにより駆動さ
れ、他方のアドレスレジスタ21bは、内部クロックC
KA,/CKAとはそれぞれ位相が180°ずれた内部
クロックCKB,/CKBにより駆動される。従ってこ
れらのアドレスレジスタ21a,21bは、交互に外部
アドレスを取り込んで保持することになる。
FIG. 3 shows address registers 21a and 21b.
And the parts of the selectors 23 and 24 are shown more specifically. The address registers 21a and 21b are CMOS latch circuits combining clocked CMOS inverters. One address register 21a is driven by an internal clock CKA and its inverted clock / CKA, and the other address register 21b is driven by an internal clock CKA.
KA and / CKA are driven by internal clocks CKB and / CKB which are 180 ° out of phase with each other. Therefore, these address registers 21a and 21b alternately fetch and hold the external address.

【0016】セレクタ23は、二つのアドレスレジスタ
21a,21bのデータを交互に取り出すために、外部
クロックCKの1/2分周クロックである互いに逆相の
クロックA,Bにより駆動される二つのクロックト・イ
ンバータにより構成されている。このセレクタ23で
は、アドレスレジスタ21a,21bの保持データを交
互に取り出すことで、連続するタイミングのうち常に先
行するタイミングのアドレスデータADを選択すること
になる。もう一つのセレクタ24は、同様にクロック
A,Bにより駆動される二つのクロックト・インバータ
により構成されて、連続するタイミングのうち常に後行
するタイミングのアドレスデータ(次アドレスデータ)
NADを選択することになる。
The selector 23 is provided with two clocks driven by clocks A and B having phases opposite to each other, which are 1/2 frequency clocks of the external clock CK, in order to alternately extract the data of the two address registers 21a and 21b. And an inverter. The selector 23 alternately extracts the data held in the address registers 21a and 21b, so that the address data AD of the preceding timing is always selected from the consecutive timings. Another selector 24 is similarly constituted by two clocked inverters driven by clocks A and B, and the address data (next address data) of the timing that always follows after the continuous timing.
NAD will be selected.

【0017】以上のアドレスバッファ2から得られるア
ドレスデータAD(AD0,AD1,…,AD15)
は、カラムアドレスAD0〜AD8がカラムデコーダ4
に、ロウアドレスAD9〜AD15がロウデコーダ3に
それぞれ送られ、通常の動作に従ってビット線選択及び
ワード線選択がなされる。
The address data AD (AD0, AD1,..., AD15) obtained from the address buffer 2 described above.
Means that the column addresses AD0 to AD8 are
Then, the row addresses AD9 to AD15 are sent to the row decoder 3, respectively, and the bit line selection and the word line selection are performed according to the normal operation.

【0018】選択されたアドレスデータADと共に、ア
ドレスバッファ2が保持する2系統のアドレスデータそ
のままの判定用アドレスデータADA,ADBと、次ア
ドレスデータNADは、次アドレス判定回路10に送ら
れる。この次アドレス判定回路10は、連続するタイミ
ングのアドレスデータの異同判定と次アドレスデータN
ADの転送制御を行うもので、図4及び図5に示すよう
に構成される。
Along with the selected address data AD, the address data ADA and ADB for determination, which are the two systems of address data held in the address buffer 2, and the next address data NAD are sent to the next address determination circuit 10. The next address determination circuit 10 determines whether the address data at successive timings is different or not and the next address data N
It performs AD transfer control and is configured as shown in FIGS.

【0019】図4は、カラムアドレス側の判定回路部
で、カラムアドレス各ビット毎に、判定用アドレスデー
タADA,ADBの不一致検出を行う論理ゲート手段と
して、EOR列41と、それらの出力の和をとるORゲ
ート42が設けられる。これにより、連続するタイミン
グのアドレスが異なる場合にのみ“H”となるビット線
に対するプリチャージ・イネーブル信号PE(BL)を
出す。また、このプリチャージ・イネーブル信号PE
(BL)により制御されて連続するタイミングのアドレ
スが異なる場合にのみ、アドレスバッファ2から出力さ
れる次アドレスデータNADをスルーして、プリチャー
ジ用カラムデコーダ11に転送する転送回路43が設け
られている。
FIG. 4 shows an EOR column 41 and a sum of outputs of the EOR column 41 as a logic gate means for detecting a mismatch between the determination address data ADA and ADB for each bit of the column address. OR gate 42 is provided. As a result, a precharge enable signal PE (BL) for a bit line which becomes "H" only when addresses at successive timings are different is output. Also, the precharge enable signal PE
A transfer circuit 43 is provided for passing the next address data NAD output from the address buffer 2 and transferring it to the precharge column decoder 11 only when the addresses at successive timings controlled by (BL) are different. I have.

【0020】転送回路43は、次アドレスデータNAD
に所定の遅延を与える遅延回路44と、その遅延データ
をプリチャージ・イネーブル信号PE(BL)が“H”
のときのみ通すANDゲート45を有する。遅延回路4
4は、プリチャージ・イネーブル信号PE(BL)が確
定してから、次アドレスデータNADをスルーさせるた
めに設けられている。
The transfer circuit 43 transmits the next address data NAD
, And a precharge enable signal PE (BL) is set to "H"
And an AND gate 45 that passes only when. Delay circuit 4
Numeral 4 is provided to allow the next address data NAD to pass through after the precharge enable signal PE (BL) is determined.

【0021】図5は、ロウアドレス側の判定回路部で、
その基本構成は図4と同様であり、EOR列51と、そ
の出力の和をとって、ワード線のプリチャージ・イネー
ブル信号PE(WL)を発生するORゲート52、及び
このプリチャージ・イネーブル信号PE(WL)により
次アドレスデータNADをスルーする転送回路53を有
する。
FIG. 5 shows a judgment circuit on the row address side.
Its basic configuration is the same as that of FIG. 4. An EOR column 51, an OR gate 52 for summing the outputs of the EOR column 51 and generating a precharge enable signal PE (WL) for a word line, and the precharge enable signal It has a transfer circuit 53 for passing the next address data NAD by PE (WL).

【0022】次アドレス判定回路10の出力に基づい
て、次アドレスのビット線プリチャージを行うためのプ
リチャージ用カラムデコーダ11は、図6に示すよう
に、通常のカラムデコーダ4と同様のデコーダ本体61
と、そのデコード出力PS0,PS1,…をプリチャー
ジ・イネーブル信号PE(BL)が“H”のときのみ取
り出すCMOSゲート62により構成される。
As shown in FIG. 6, a precharge column decoder 11 for precharging the bit line of the next address based on the output of the next address determination circuit 10 has the same structure as that of the ordinary column decoder 4. 61
, And a CMOS gate 62 for extracting the decoded outputs PS0, PS1,... Only when the precharge enable signal PE (BL) is "H".

【0023】同様に、次アドレス判定回路10の出力に
基づいて、次アドレスのワード線プリチャージを行うた
めのプリチャージ用ロウデコーダ14は、図7に示すよ
うに、通常のロウデコーダ3と同様のデコーダ本体71
と、そのデコード出力をプリチャージ・イネーブル信号
PE(WL)が“H”のときのみ取り出すCMOSゲー
ト72により構成される。また、プリチャージ・イネー
ブル信号PE(WL)の取り込み部には遅延回路73が
設けられている。これは、ロウデコーダ3によるワード
線選択に対して、プリチャージ用ロウデコーダ14によ
るワード線プリチャージのタイミングを僅かに遅らせ
て、データ読み出し特性を確保しながら結果的にプリチ
ャージを高速化するためのもので、その具体的動作は後
述する。
Similarly, the precharge row decoder 14 for precharging the next address word line based on the output of the next address determination circuit 10 is the same as the ordinary row decoder 3 as shown in FIG. Decoder body 71
And a CMOS gate 72 which takes out the decoded output only when the precharge enable signal PE (WL) is "H". Further, a delay circuit 73 is provided in a portion for receiving the precharge enable signal PE (WL). This is to slightly delay the timing of the word line precharge by the precharge row decoder 14 with respect to the word line selection by the row decoder 3, thereby speeding up the precharge while securing the data read characteristics. The specific operation will be described later.

【0024】図8は、ビット線選択部周辺の具体的回路
構成である。カラムセレクタ5は、カラムデコーダ4の
出力に基づいてメモリセルアレイ1のビット線BLを選
択してセンスアンプ6に接続するもので、図示のように
ビット線のグループを選択するセレクトトランジスタ
と、グループ内の一本のビット線を選択するセレクトト
ランジスタにより構成される。プリチャージ用カラムセ
レクタ12の構成も同様であって、プリチャージ用カラ
ムデコーダ14の出力に基づいて、非選択ビット線のな
かの次アドレスで選択されるビット線を選ぶ。そしてこ
の次アドレスで選択されるビット線にプリチャージバイ
アス回路13によりプリチャージがされることになる。
プリチャージバイアス回路13は、センスアンプ6と同
様の構成のものとする。
FIG. 8 shows a specific circuit configuration around the bit line selection unit. The column selector 5 selects the bit line BL of the memory cell array 1 based on the output of the column decoder 4 and connects it to the sense amplifier 6, and includes a select transistor for selecting a group of bit lines as shown in FIG. And a select transistor for selecting one bit line. The configuration of the precharge column selector 12 is the same, and a bit line selected by the next address among the non-selected bit lines is selected based on the output of the precharge column decoder 14. Then, the precharge bias circuit 13 precharges the bit line selected by the next address.
The precharge bias circuit 13 has the same configuration as the sense amplifier 6.

【0025】図9は、ワード線選択部周辺の具体的回路
構成である。メモリセルアレイ1の一つのNANDセル
は、例えば図示のように8個のNMOSトランジスタM
0,M1,…,M7により構成され、これがセレクトト
ランジスタS1,S2を介してビット線BLに接続され
る。メモリMOSトランジスタM0,M1,…は、マス
クプログラムにより、D型又はE型に設定される。同様
に多数配列形成されるNAND型セルの各ゲートが共通
にワード線WLとなり、セレクトトランジスタS1,S
2のゲートも横方向に共通接続されてセレクト線SL
1,SL2となって、これらのワード線及びセレクト線
がロウデコーダ3により選択されることになる。
FIG. 9 shows a specific circuit configuration around the word line selection unit. One NAND cell of the memory cell array 1 has, for example, eight NMOS transistors M as shown in FIG.
, M7, which are connected to the bit line BL via select transistors S1, S2. The memory MOS transistors M0, M1,... Are set to D type or E type by a mask program. Similarly, the gates of a large number of NAND type cells are commonly used as word lines WL, and select transistors S1, S1
Gates 2 are also commonly connected in the horizontal direction, and the select line SL
1, SL2, and these word lines and select lines are selected by the row decoder 3.

【0026】ロウデコーダ3の出力部には、セレクト線
選択部とワード線選択部とで異なるバッファ回路91,
92が設けられている。セレクト線選択部のバッファ回
路91は、バッファ本体93に対して、これと並列に遅
延回路94とその遅延出力により出力レベルを引き下げ
るためのNMOSトランジスタ95を有する。これは、
選択されたセレクト線を、初期にはバッファ本体93に
より電位上昇させ、安定状態では例えばVDDより低い3
V程度に保つためである。ワード線選択部のバッファ回
路92は、非選択ワード線をVDDに設定するために、バ
ッファ本体のみで構成されている。
The output portion of the row decoder 3 has different buffer circuits 91 and 91 between the select line selection portion and the word line selection portion.
92 are provided. The buffer circuit 91 of the select line selection unit has a delay circuit 94 and an NMOS transistor 95 for lowering the output level by the delay output thereof in parallel with the buffer main body 93. this is,
The potential of the selected select line is raised by the buffer main body 93 in the initial stage.
This is to keep it at about V. The buffer circuit 92 of the word line selection section is composed of only a buffer body in order to set an unselected word line to VDD.

【0027】プリチャージ用ロウデコーダ14の出力に
より駆動されるプリチャージ用ロウセレクタ15は、ワ
ード線WLの電位を所定レベルまで引き下げるためのN
MOSトランジスタ96により構成されている。即ちN
AND型ROMの場合、データ読み出し時、選択ワード
線は0V、残りの非選択ワード線はVDDに設定される
が、非選択ワード線のうち、次にアクセスされるワード
線の電位を予め3V程度に下げるのが、この実施例での
ワード線プリチャージである。このプリチャージ電位
は、ワード線の一端に接続されたバッファ回路92と、
他端に接続されたプリチャージ用ロウセレクタ15のN
MOSトランジスタ96のオン抵抗による分圧により決
まり、非選択のメモリMOSトランジスタをデータ読み
出しに必要なオン状態に保つことができる範囲でできる
だけ低い値に設定すればよい。
The precharge row selector 15 driven by the output of the precharge row decoder 14 has an N level for lowering the potential of the word line WL to a predetermined level.
It is constituted by a MOS transistor 96. That is, N
In the case of an AND ROM, when reading data, the selected word line is set to 0 V and the remaining unselected word lines are set to VDD. Of the unselected word lines, the potential of the next accessed word line is set to about 3 V in advance. This is the word line precharge in this embodiment. This precharge potential is supplied to the buffer circuit 92 connected to one end of the word line,
N of the precharge row selector 15 connected to the other end
It is determined by the voltage divided by the on-resistance of the MOS transistor 96, and may be set to a value as low as possible within a range in which an unselected memory MOS transistor can be kept in an on-state required for data reading.

【0028】以上のように構成されたNAND型マスク
ROMの動作を次に説明する。図10は、基本動作のタ
イミング図である。図示のように外部アドレス,,
…が供給されると、そのアドレスデータは互いに逆相の
内部クロックCKA,CKBによって、アドレスバッフ
ァ2の2系統のアドレスレジスタ21a,21bに交互
に取り込まれる。取り込まれたアドレスデータは、セレ
クタ23により交互に選択されて、通常の動作に従って
カラムデコーダ4及びロウデコーダ3に送られて、順次
データ読み出しが行われる。
The operation of the NAND type mask ROM having the above configuration will be described below. FIG. 10 is a timing chart of the basic operation. As shown, the external address,
Are supplied to the two address registers 21a and 21b of the address buffer 2 alternately by the internal clocks CKA and CKB having phases opposite to each other. The fetched address data is alternately selected by the selector 23, sent to the column decoder 4 and the row decoder 3 according to a normal operation, and the data is sequentially read.

【0029】アドレスバッファ2には上述のように、連
続する二つのタイミングのアドレスデータが存在し、図
2で説明したように、いまアクセスしようとするアドレ
スデータADと共に、セレクタ24によって次にアクセ
スすべき次アドレスデータNADが選択されて取り出さ
れる。そして次アドレス判定回路10で、いまアクセス
しようとするアドレスと次アドレスとが異なっているこ
とが判定されると、ビット線プリチャージ・イネーブル
信号PE(BL)及びワード線プリチャージイネーブル
信号PE(WL)が出力され、また次アドレスデータN
ADがスルーされて、それぞれプリチャージ用カラムデ
コーダ11、プリチャージ用ロウデコーダ14に送られ
る。
As described above, address data at two consecutive timings exist in the address buffer 2, and as described with reference to FIG. 2, the address data AD to be accessed now is accessed by the selector 24 next. The next address data NAD to be selected is selected and taken out. When the next address determination circuit 10 determines that the address to be accessed now and the next address are different, the bit line precharge enable signal PE (BL) and the word line precharge enable signal PE (WL ) Is output, and the next address data N
The AD is passed through and sent to the precharge column decoder 11 and the precharge row decoder 14, respectively.

【0030】そして、あるビット線とワード線が選択さ
れてデータ読み出しが行われている間、非選択ビット線
のうち次アドレスのビット線のみがバイアス回路13に
よりプリチャージされ、同様に非選択ワード線のうち次
アドレスのワード線のみがプリチャージ用ロウセレクタ
15により選択されてプリチャージされる。ビット線プ
リチャージは、非選択状態で通常0Vとなるべきところ
を3V程度の電位に設定する。ワード線のプリチャージ
は、通常電源VDDレベルとなるべきところを、3Vまで
下げる。
While a certain bit line and a word line are selected and data is read, only the bit line of the next address among the non-selected bit lines is precharged by the bias circuit 13, and similarly, the non-selected word line is read. Of the lines, only the word line of the next address is selected by the precharge row selector 15 and precharged. The bit line precharge is set to a potential of about 3 V where normally the voltage should be 0 V in a non-selected state. The precharging of the word line lowers the normal power supply VDD level to 3V.

【0031】ここで、次アドレスのワード線のプリチャ
ージは、図7に示した遅延回路73により、ロウデコー
ダ3によるワード線選択より所定時間遅らせている。そ
の意味を図11により説明する。図11(a)に示すよ
うに、ロウデコーダ3が働いてタイミングt0で、選択
ワード線が立ち下がり、残りの非選択ワード線が立ち上
がるとする。もし同じタイミングt0で次アドレスのワ
ードのプリチャージを開始すると、図9の説明から明ら
かなように、次アドレスのワード線は、ロウデコーダ3
と同時にプリチャージ用ロウセレクタ15により選択さ
れる。
Here, the precharge of the word line of the next address is delayed by a predetermined time from the selection of the word line by the row decoder 3 by the delay circuit 73 shown in FIG. The meaning will be described with reference to FIG. As shown in FIG. 11A, it is assumed that the selected word line falls and the remaining unselected word lines rise at timing t0 when the row decoder 3 operates. If the precharge of the word of the next address is started at the same timing t0, as is apparent from the description of FIG.
At the same time, it is selected by the precharge row selector 15.

【0032】即ちこのとき、次アドレスのワード線はロ
ウデコーダ3による一端からの充電と同時に、ロウセレ
クタ15により他端からの放電がなされる。そのため図
11(b)に破線で示したように立ち上がりが遅くな
り、3Vになるまでに時間がかかる。これに対して遅延
回路73によりプリチャージ開始をタイミングt1まで
遅らせると、図11(b)に実線で示したように、当初
はロウデコーダ3によるVDDでの充電のみとなり、従っ
て図11(a)に示す他の非選択ワード線と同様の立上
がり特性を示す。これにより、本来VDDの非選択ワード
線電位を3Vにしているにも拘らず、高速読み出し特性
が阻害されないことになる。また最終的なプリチャージ
電位3Vになるまでの時間も短縮される。
That is, at this time, the word line of the next address is charged from one end by the row decoder 3 and discharged from the other end by the row selector 15 at the same time. Therefore, as shown by the broken line in FIG. 11B, the rise is delayed, and it takes time to reach 3V. On the other hand, if the start of the precharge is delayed to the timing t1 by the delay circuit 73, as shown by the solid line in FIG. 11B, initially, only the charging by the row decoder 3 at VDD is performed, and therefore, FIG. 5 shows the same rising characteristics as the other unselected word lines. As a result, the high-speed readout characteristics are not hindered despite the fact that the potential of the VDD non-selected word line is set to 3 V. Further, the time until the final precharge potential becomes 3 V is also reduced.

【0033】また、3Vにプリチャージされたワード線
が次に選択されるときには、これが0Vまで放電される
ことになる。このとき図9から明らかなようにプリチャ
ージ用ロウセレクタ15のトランジスタ96のオフにな
るタイミングが、遅延回路73により遅れる。従って、
ロウデコーダ3による選択ワード線の放電と同時に、遅
延回路73の時間だけ他端からの放電が続くため、ワー
ド線選択と同時にプリチャージ動作を停止する場合に比
べて、0Vになるまでの時間が短縮されることになる。
When a word line precharged to 3V is selected next, it is discharged to 0V. At this time, the timing of turning off the transistor 96 of the precharge row selector 15 is delayed by the delay circuit 73, as is apparent from FIG. Therefore,
Since the discharge from the other end continues for the time of the delay circuit 73 at the same time as the discharge of the selected word line by the row decoder 3, the time until the voltage becomes 0 V is shorter than when the precharge operation is stopped simultaneously with the word line selection. Will be shortened.

【0034】以上のようにこの実施例によると、多数の
非選択ビット線の全てをプリチャージすることなく、次
にアクセスされるべきビット線のみをプリチャージす
る。従って、全ての非選択ビット線をプリチャージする
方式に比べて、無駄な消費電力が低減されて、高速アク
セスが可能になる。またこの実施例によると、多数の非
選択ワード線のうち、次にアクセスされるべきワード線
のみをプリチャージしており、これにより高速アクセス
が可能になる。しかも全ての非選択ワード線に低電源電
位を与える従来の方式に異なり、次アドレスを除く非選
択ワード線はVDDにより駆動されるから、データ読み出
し特性を劣化させることはない。更に、非選択ワード線
のうち、次アドレスの非選択ワード線のみを3Vにバイ
アスするためのタイミングをワード線選択に対して遅ら
せて、初期には他の非選択ワード線と同様に電源VDDに
よりドライブすることで、優れた読み出し性能を確保し
ながら、高速アクセスが可能となる。
As described above, according to this embodiment, only the bit line to be accessed next is precharged without precharging all of the many unselected bit lines. Therefore, wasteful power consumption is reduced and high-speed access is enabled, as compared with the method of precharging all non-selected bit lines. Further, according to this embodiment, of the many unselected word lines, only the word line to be accessed next is precharged, thereby enabling high-speed access. Moreover, unlike the conventional method in which a low power supply potential is applied to all the unselected word lines, the unselected word lines except for the next address are driven by VDD, so that the data read characteristics do not deteriorate. Further, among the unselected word lines, the timing for biasing only the unselected word line of the next address to 3 V is delayed with respect to the word line selection, and initially the power supply VDD is used similarly to other unselected word lines. By driving, high-speed access is possible while ensuring excellent read performance.

【0035】なお実施例では、NAND型メモリセルを
持つマスクROMを説明したが、この発明はこれに限ら
れるものではなく、NOR型メモリセルを持つものにも
同様に適用できる。ビット線プリチャージについては、
NOR型メモリセルの場合もNAND型メモリセルの場
合と同様である。ワード線プリチャージについては、若
干異なる。NOR型では通常、選択ワード線にVDD、非
選択ワード線に0Vが与えられるので、ワード線プリチ
ャージについては、非選択ワード線のうち次アドレスの
ワード線に対してメモリMOSトランジスタがオンしな
い範囲で0Vより高いバイアスを与えればよい。更にこ
の発明はマスクROMの他、EPROMやEEPROM
にも同様に適用可能である。
In the embodiment, the mask ROM having the NAND type memory cells has been described. However, the present invention is not limited to this, and can be similarly applied to the type having the NOR type memory cells. For bit line precharge,
The case of the NOR type memory cell is the same as that of the NAND type memory cell. The word line precharge is slightly different. In the NOR type, VDD is usually applied to the selected word line and 0 V is applied to the unselected word line. , A bias higher than 0 V may be applied. Further, the present invention relates to a mask ROM, an EPROM and an EEPROM.
The same can be applied to.

【0036】[0036]

【発明の効果】以上述べたようにこの発明によれば、ア
ドレスバッファが2系統のクロック同期式アドレスレジ
スタを持つ形式の半導体記憶装置において、これらのア
ドレスレジスタに保持された連続するタイミングのアド
レスデータの異同を判定して、その判定結果に基づいて
多数の非選択ワード線のうち次のアドレスにより選択さ
れるワード線のみが所定レベルにプリチャージされるよ
うにすることで、読み出し性能を劣化させることなく、
高速アクセスを実現することができる。
As described above, according to the present invention, in a semiconductor memory device in which an address buffer has two systems of clock synchronous address registers, address data of consecutive timings held in these address registers are provided. And the read performance is degraded by precharging only a word line selected by the next address among a large number of unselected word lines based on the result of the judgment. Without
High-speed access can be realized.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】 この発明の一実施例によるマスクROMの構
成を示す。
FIG. 1 shows a configuration of a mask ROM according to an embodiment of the present invention.

【図2】 同実施例のアドレスバッファの具体的構成を
示す。
FIG. 2 shows a specific configuration of an address buffer according to the embodiment.

【図3】 同アドレスバッファの更に具体的構成を示
す。
FIG. 3 shows a more specific configuration of the address buffer.

【図4】 同実施例の次アドレス判定回路のなかのカラ
ムアドレス部の構成を示す。
FIG. 4 shows a configuration of a column address section in the next address determination circuit of the embodiment.

【図5】 同実施例の次アドレス判定回路のなかのロウ
アドレス部の構成を示す。
FIG. 5 shows a configuration of a row address section in the next address determination circuit of the embodiment.

【図6】 同実施例のカラムデコーダの具体的構成を示
す。
FIG. 6 shows a specific configuration of a column decoder of the embodiment.

【図7】 同実施例のロウデコーダの具体的構成を示
す。
FIG. 7 shows a specific configuration of a row decoder of the embodiment.

【図8】 同実施例のビット線選択部周辺の具体的構成
を示す。
FIG. 8 shows a specific configuration around a bit line selection unit of the embodiment.

【図9】 同実施例のワード線選択部周辺の具体的構成
を示す。
FIG. 9 shows a specific configuration around a word line selection unit of the embodiment.

【図10】 同実施例の動作タイミングを示す。FIG. 10 shows an operation timing of the embodiment.

【図11】 同実施例のワード線電位遷移の様子を示
す。
FIG. 11 shows a state of a word line potential transition in the embodiment.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1…メモリセルアレイ、2…アドレスバッファ、3…ロ
ウデコーダ、4…カラムデコーダ、5…カラムセレク
タ、6…センスアンプ、7…出力バッファ、8…クロッ
ク生成回路、10…次アドレス判定回路、11…プリチ
ャージ用カラムデコーダ、12…プリチャージ用カラム
セレクタ、13…プリチャージバイアス回路、14…プ
リチャージ用ロウデコーダ、15…プリチャージ用ロウ
セレクタ、21a,21b…アドレスレジスタ、23,
24…セレクタ。
DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 ... Memory cell array, 2 ... Address buffer, 3 ... Row decoder, 4 ... Column decoder, 5 ... Column selector, 6 ... Sense amplifier, 7 ... Output buffer, 8 ... Clock generation circuit, 10 ... Next address determination circuit, 11 ... Precharge column decoder, 12 ... Precharge column selector, 13 ... Precharge bias circuit, 14 ... Precharge row decoder, 15 ... Precharge row selector, 21a, 21b ... Address register, 23,
24 ... selector.

Claims (2)

(57)【特許請求の範囲】(57) [Claims] 【請求項1】 データが不揮発に記憶されるメモリセル
アレイと、このメモリセルアレイのデータを選択する外
部アドレスを取り込むアドレスバッファと、取り込まれ
たアドレスにより前記メモリセルアレイのビット線選択
及びワード線選択を行うデコーダと、ビット線データを
読み出すセンスアンプとを有する半導体記憶装置におい
て、 前記アドレスバッファは、入力端子が共通接続されて時
分割でアドレス取り込みを行う少なくとも2系統のクロ
ック同期式のアドレスレジスタを有し、且つ前記アドレ
スバッファの2系統のアドレスレジスタに保持された連
続するタイミングのアドレスデータの異同を判定する判
定手段と、 この判定手段の判定結果に基づいて、あるアドレスのデ
ータ読み出しを行っている間、次にアクセスすべきアド
レスのワード線のみを選択的にプリチャージするワード
線プリチャージ手段とを備えたことを特徴とする半導体
記憶装置。
1. A memory cell array in which data is stored in a nonvolatile manner, an address buffer for fetching an external address for selecting data of the memory cell array, and a bit line selection and a word line selection of the memory cell array are performed by the fetched address. In a semiconductor memory device having a decoder and a sense amplifier that reads out bit line data, the address buffer has at least two clock-synchronized address registers having input terminals connected in common and taking in addresses in a time-division manner. Determining means for determining whether or not address data at successive timings held in two address registers of the address buffer are different; and performing data reading of an address based on the determination result of the determining means. Address to be accessed next The semiconductor memory device according to claim only the word line selectively, further comprising a word line precharge unit for precharging.
【請求項2】 前記判定手段は、前記2系統のアドレス
レジスタが保持するアドレスデータの不一致を検出して
プリチャージ・イネーブル信号を生成する論理ゲート手
段と、前記プリチャージ・イネーブル信号により制御さ
れて前記2系統のアドレスレジスタが保持するアドレス
データのうち次アドレスデータをスルーする転送手段と
を有し、 前記ワード線プリチャージ手段は、前記プリチャージ・
イネーブル信号により制御されて前記次アドレスデータ
をデコードするプリチャージ用ロウデコーダと、そのデ
コード出力により一つのワード線を選択してこれに所定
のバイアスを与えるプリチャージ用ロウセレクタとを有
することを特徴とする請求項1記載の半導体記憶装置。
2. The control circuit according to claim 1, wherein said determining means detects a mismatch between address data held by said two sets of address registers and generates a precharge enable signal, and is controlled by said precharge enable signal. Transfer means for passing the next address data out of the address data held by the two systems of address registers; and the word line precharge means comprises:
A precharge row decoder controlled by an enable signal to decode the next address data; and a precharge row selector for selecting one word line based on the decoded output and applying a predetermined bias thereto. 2. The semiconductor memory device according to claim 1, wherein:
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