JP2639742B2 - Lead frame manufacturing method - Google Patents
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Description
【発明の詳細な説明】 〔発明の目的〕 (産業上の利用分野) 本発明は、リードフレームの製造方法に係り、特にリ
ード本数の多い高密度集積回路用のリードフレームの強
度の付加およびねじれの矯正に関する。Description: Object of the Invention (Industrial Application Field) The present invention relates to a method for manufacturing a lead frame, and more particularly to adding strength and twisting of a lead frame for a high-density integrated circuit having a large number of leads. Regarding the correction.
(従来の技術) 例えば通常のICは、リードフレームのダイパッドに、
半導体素子を固着し、この半導体素子のボンディングパ
ッドとリードフレームのインナーリードとを金線あるい
はアルミ線のボンディングワイヤによって結線し、更に
これらを樹脂で封止することにより製造されている。(Prior art) For example, a normal IC is mounted on a die pad of a lead frame.
It is manufactured by fixing a semiconductor element, connecting a bonding pad of the semiconductor element to an inner lead of a lead frame by a bonding wire of a gold wire or an aluminum wire, and sealing these with a resin.
ここで用いられるリードフレームは、第7図に1例を
示す如く、半導体素子を搭載するためのダイパッド22
と、先端が該ダイパッドをとり囲むように延在せしめら
れたインナーリード24と、該インナーリードとほぼ直交
する方向に延びこれらインナーリードを一体的に支持す
るタイバー27と、該ダイバーの外側に前記各インナーリ
ードに接続するように配設せしめられたアウターリード
28とダイパッド22を支持するサポートバー29とから構成
されている。25はサイドレールである。The lead frame used here is a die pad 22 for mounting a semiconductor element, as shown in an example in FIG.
An inner lead 24 having a tip extending so as to surround the die pad, a tie bar 27 extending in a direction substantially perpendicular to the inner lead and integrally supporting these inner leads, and a tie bar 27 outside the diver. Outer leads arranged to connect to each inner lead
28 and a support bar 29 for supporting the die pad 22. 25 is a side rail.
ところで、半導体装置の高密度化および高集積化に伴
い、リードピン数は増加するものの、パッケージは従来
通りかもしくは小型化の傾向にある。By the way, as the number of lead pins increases with the increase in the density and integration of a semiconductor device, the package tends to be the same as before or the size has been reduced.
同一面積内においてインナーリードの本数が増加すれ
ば、当然ながらインナーリードの幅および隣接するイン
ナーリードとの間隔は狭くなる。このため、強度の低下
によるインナーリードの変形およびその変形によるイン
ナーリード間の短絡を生じることがある。As the number of inner leads increases within the same area, the width of the inner leads and the distance between adjacent inner leads naturally decrease. For this reason, deformation of the inner leads due to a decrease in strength and short-circuiting between the inner leads due to the deformation may occur.
特に、リードフレームがスタンピングにより成型され
ている場合、板厚0.15mmに対し、0.1〜0.12mm幅の打ち
抜きを行う必要があり、スタンピングが問題なく行われ
た場合においても、内部残留応力の影響もあり、後続工
程において微小な外力を受けただけで変形、短絡を生じ
てしまうことがある。In particular, when the lead frame is formed by stamping, it is necessary to punch 0.1 to 0.12 mm width for a board thickness of 0.15 mm.Even if stamping is performed without any problem, the effect of internal residual stress is also affected. In some cases, deformation and short-circuiting may occur in a subsequent process even if only a small external force is applied.
これは、エッチングによる形状加工を行った場合に
も、同様に問題となっている。This is also a problem when the shape is processed by etching.
しかしながら、近年半導体装置は小形化の一途を辿っ
ており、薄くかつ微細になるインナーリードの変形を十
分におさえることは不可能となってきている。However, in recent years, the size of the semiconductor device has been steadily reduced, and it has become impossible to sufficiently suppress the deformation of the thin and fine inner lead.
そこで、このような内部残留応力の除去および表面硬
化を行うため、形状加工後、リードフレームを中性雰囲
気炉内で加熱し、徐冷あるいは急冷する方法が提案され
ている。Therefore, in order to remove such internal residual stress and harden the surface, a method has been proposed in which, after shape processing, the lead frame is heated in a neutral atmosphere furnace and gradually or rapidly cooled.
この加熱手段としては、第8図に示すような高圧周波
誘導加熱方式の加熱装置が用いられている。As this heating means, a high-frequency induction heating type heating device as shown in FIG. 8 is used.
この装置は、ダストコア1に巻回された加熱コイル2
によって、所定の空間を挟み、この空間内で被加熱体で
あるリードフレームを走行させるように構成されてい
る。This device includes a heating coil 2 wound around a dust core 1.
Thus, a predetermined space is interposed therebetween, and a lead frame as a body to be heated is caused to run in this space.
しかしながら、このような従来の装置では、リードフ
レームの形状寸法(幅、面積)が部分的に異ることか
ら、均一な加熱を行うことができず、かえって、熱応力
による歪を生じる等の欠点があった。また、せいぜい15
0〜200℃までしか昇温することができず、十分な表面硬
化を行うことができないという問題があった。However, in such a conventional apparatus, since the shape and dimensions (width and area) of the lead frame are partially different, uniform heating cannot be performed, and rather, a drawback such as distortion due to thermal stress occurs. was there. Also, at most 15
There has been a problem that the temperature can be raised only to 0 to 200 ° C., and sufficient surface hardening cannot be performed.
また、昇温に時間がかかり、熱効率が悪い上、ねじれ
があった場合にもそのまま硬化せしめられてしまうとい
う問題があった。Further, there is a problem that it takes a long time to raise the temperature, the thermal efficiency is poor, and even if there is a twist, it is cured as it is.
(発明が解決しようとする課題) このように、半導体装置の高集積化に伴い、リード幅
および間隔は小さくなる一方であり、十分な内部残留応
力の除去、ねじれの矯正および表面硬化を行う熱処理方
法が望まれていた。(Problems to be Solved by the Invention) As described above, as the integration of the semiconductor device increases, the lead width and the interval become smaller, and the heat treatment for sufficiently removing the internal residual stress, correcting the twist, and hardening the surface is performed. A way was desired.
本発明は、前記実情に鑑みてなされたもので、インナ
ーリード先端の位置ずれ等を防止し、信頼性の高いリー
ドフレームを提供することを目的とする。The present invention has been made in view of the above circumstances, and an object of the present invention is to provide a highly reliable lead frame by preventing displacement of the tip of an inner lead.
(課題を解決するための手段) そこで、本発明のリードフレームの製造方法では、プ
レス加工あるいはエッチング加工による形状加工後、誘
導加熱コイルの一面に強磁性体からなる加熱手段の加熱
板に対して、前記リードフレームを面接触するように押
圧プレートで押し付け、加熱を行い、急冷または徐冷す
るようにしている。(Means for Solving the Problems) Therefore, in the method for manufacturing a lead frame according to the present invention, after the shape processing by press working or etching work, the heating plate of the heating means made of a ferromagnetic material is formed on one surface of the induction heating coil. The lead frame is pressed by a pressing plate so as to make surface contact with the lead frame, heated, and rapidly or slowly cooled.
(作用) 本発明によれば、プレス加工あるいはエッチング加工
による形状加工後、加熱体を押し付けて、加熱を行うよ
うにしているため、効率良く加熱することができる。ま
た両面を固定して、全面を加圧した状態で加熱すること
ができるため、変形も少ない上、ねじれによる永久歪を
除去することができる。(Function) According to the present invention, after the shape processing by press working or etching processing, the heating element is pressed to perform heating, so that heating can be performed efficiently. In addition, since both sides can be fixed and the whole surface can be heated while being pressed, deformation is small and permanent distortion due to torsion can be removed.
また、望ましくは、押圧プレートを加熱板で構成し、
相対向するように配置された強磁性体からなる2枚の加
熱板の間に前記リードフレームをはさみ加圧しながら加
熱することにより、両面を同一の状態に加熱し、挟みこ
むようにしているため、極めて信頼性の高い永久歪みの
除去が可能になる。Preferably, the pressing plate is constituted by a heating plate,
Since the lead frame is sandwiched between two heating plates made of ferromagnetic material arranged so as to face each other and heated while being pressed, both surfaces are heated to the same state and sandwiched, so that the reliability is extremely high. High permanent distortion can be removed.
さらにまた、内部残留応力を除去し、硬度を維持する
ことができる。Furthermore, the internal residual stress can be removed and the hardness can be maintained.
(実施例) 以下、本発明の実施例について、図面を参照しつつ詳
細に説明する。(Example) Hereinafter, an example of the present invention will be described in detail with reference to the drawings.
第1図は、本発明実施例の方法に用いられる高周波加
熱装置を示す説明図である。FIG. 1 is an explanatory view showing a high-frequency heating device used in the method of the embodiment of the present invention.
この加熱装置は、テンション付加機能を有する巻きだ
し装置(図示せず)と、テンション付加機能を有する巻
きとり装置(図示せず)との間を、形状加工のなされた
リードフレームFを間欠的に搬送しつつ、リードフレー
ムの所定の領域に高周波加熱を行うようにしたもので、
高周波加熱部10と、冷却部20とから構成されている。This heating device intermittently interposes a lead frame F having a shape processed between an unwinding device (not shown) having a tension adding function and a winding device (not shown) having a tension adding function. While carrying, high frequency heating is performed on a predetermined area of the lead frame,
It is composed of a high-frequency heating unit 10 and a cooling unit 20.
高周波加熱部10は、第2図に要部拡大断面図を示すよ
うに、ダストコア1に巻回された中空の平角銅線からな
る誘導加熱コイル2の一面にCr強磁性体からなる加熱板
4を当接せしめて構成した加熱手段5と、この加熱手段
5に相対向して配設され、アクチュエータ21によってリ
ードフレームを加熱手段5の方向に押圧可能なように構
成された押圧プレート6とから構成され、この押圧プレ
ート6を加熱手段の加熱板4の方向に移動し、リードフ
レームのサイドレールを除く領域を押圧しながら、加熱
するように構成されている。As shown in FIG. 2, a high-frequency heating unit 10 includes an induction heating coil 2 made of a hollow rectangular copper wire wound around a dust core 1 and a heating plate 4 made of a Cr ferromagnetic material. And a pressing plate 6 disposed opposite to the heating unit 5 and configured to be able to press the lead frame in the direction of the heating unit 5 by the actuator 21. The pressing plate 6 is moved in the direction of the heating plate 4 of the heating means, and is heated while pressing an area other than the side rails of the lead frame.
また、冷却部は、第1の冷却プレート20aと、この第
1の冷却プレート20aに相対向して配設され、アクチュ
エータ21によってリードフレームを第1の冷却プレート
20aの方向に押圧可能なように構成された第2の冷却プ
レート20bとから構成され、第2の冷却プレート20bを第
1の冷却プレート20aの方向に移動し、リードフレーム
の加熱された領域を押圧しながら、冷却するように構成
されている。Further, the cooling unit is disposed opposite to the first cooling plate 20a and the first cooling plate 20a.
A second cooling plate 20b configured to be able to be pressed in the direction of 20a, and moving the second cooling plate 20b in the direction of the first cooling plate 20a to remove the heated area of the lead frame. It is configured to cool while pressing.
ここで7はガイドピン、8は、所望の領域のみを加熱
するためのマスクプレート、9は支持プレートである。Here, 7 is a guide pin, 8 is a mask plate for heating only a desired area, and 9 is a support plate.
次にこの加熱装置を用いたリードフレームの製造方法
について説明する。Next, a method for manufacturing a lead frame using this heating device will be described.
第3図(a)乃至第3図(e)は、本発明実施例のリ
ードフレームの製造工程を示す図である。3 (a) to 3 (e) are views showing the steps of manufacturing the lead frame according to the embodiment of the present invention.
まず、第3図(a)に示すように、スタンピング法に
より、帯状材料を加工し、ダイパッド22と対峙するイン
ナーリード24の先端を、隣接するインナーリードと連結
片Tによって僅かに接続するように成型する。First, as shown in FIG. 3 (a), a strip material is processed by a stamping method, and the tip of the inner lead 24 facing the die pad 22 is slightly connected to the adjacent inner lead by the connecting piece T. Mold.
次いで、コイニング処理を行い、インナーリード先端
部の平坦幅を確保したのち、第1図に示した高周波加熱
装置に、このリードフレームFを装着する。ここでコイ
ニング後のインナーリード先端の厚さは0.12mmとする。Next, after performing a coining process to secure the flat width of the tip of the inner lead, the lead frame F is mounted on the high-frequency heating device shown in FIG. Here, the thickness of the tip of the inner lead after coining is 0.12 mm.
そして、この装置のテンション付加機能を有する巻き
だし装置と、テンション付加機能を有する巻きとり装置
との間を、このリードフレームFを間欠的に搬送しつ
つ、アクチュエータ21によって押圧プレートを加熱板の
方向に移動するとともに高周波加熱によって加熱板を60
0℃1秒加熱し、リードフレームのサイドレールを除く
領域に、押しつけて加熱処理を行う。この後、アクチュ
エータ21によって押圧プレートの押圧を解除し、1ピッ
チリードフレームを搬送し、加熱部冷却部に移送し、冷
却部20で急冷する。このとき、高周波加熱部10では隣接
ユニットが高周波加熱が並行して実行される。第3図
(b)はこの加熱による処理領域Rを示す。Then, while the lead frame F is intermittently transported between the unwinding device having the tension adding function and the winding device having the tension adding function, the pressing plate is moved by the actuator 21 in the direction of the heating plate. To the heating plate by high frequency heating
Heating is performed at 0 ° C. for 1 second, and a heat treatment is performed by pressing against a region of the lead frame other than the side rails. Thereafter, the pressing of the pressing plate is released by the actuator 21, the one-pitch lead frame is transported, transferred to the heating section cooling section, and rapidly cooled by the cooling section 20. At this time, in the high-frequency heating unit 10, adjacent units perform high-frequency heating in parallel. FIG. 3B shows a processing region R by this heating.
こののち、第3図(c)に示すように、所定のめっき
工程、テーピング工程等を経て、連結片を打ち抜き、イ
ンナーリード先端を分離し、リードフレームが完成す
る。Thereafter, as shown in FIG. 3 (c), through a predetermined plating step, taping step, and the like, the connecting piece is punched out, and the tip of the inner lead is separated to complete the lead frame.
そして、このリードフレームのダイパッド22上に半導
体チップを載置した後、ワイヤボンディングによって半
導体チップとリードフレームとの電気的接続を行う。After the semiconductor chip is mounted on the die pad 22 of the lead frame, the semiconductor chip and the lead frame are electrically connected by wire bonding.
そして、樹脂封止工程、タイバーの切除工程、アウタ
ーリードの成形工程を経て、半導体装置が完成する。Then, a semiconductor device is completed through a resin sealing step, a tie bar cutting step, and an outer lead forming step.
このようにして形成されたリードフレームは、高周波
加熱を用いた焼き入れによって、硬化せしめられ、ま
た、形状加工による内部応力も除去され、ねじれも矯正
されて、極めて高精度となっており、インナーリード最
先端が、互いの位置関係を良好に保持することができる
ため、リード同志の短絡が防止されるのみならず、ボン
ディングワイヤとの短絡も防止され、極めて信頼性の高
いものとなる。また、リードフレームの板厚は0.15mm以
下でもよい。The lead frame thus formed is hardened by quenching using high-frequency heating, internal stress due to shape processing is removed, twist is corrected, and extremely high precision is achieved. Since the leading ends of the leads can maintain a good positional relationship with each other, not only short-circuiting between the leads but also short-circuiting with the bonding wire is prevented, resulting in extremely high reliability. Further, the thickness of the lead frame may be 0.15 mm or less.
また、絶縁性テープによる補強を行ったのち連結片を
除去するようにしているため、インナーリードは先端で
のリード幅を細くすることができる。これによりダイパ
ッドに対してインナーリードの先端を更に近接せしめ
得、ボンディングワイヤの使用量を低減し得、製造コス
トが節減される。更にまた、ボンディングワイヤを短く
することができ、短絡が防止される。In addition, since the connecting piece is removed after reinforcement with an insulating tape, the inner lead can have a reduced lead width at the tip. As a result, the tip of the inner lead can be brought closer to the die pad, the amount of bonding wire used can be reduced, and the manufacturing cost can be reduced. Furthermore, the bonding wire can be shortened, and a short circuit is prevented.
さらにまた、前記実施例では、連結片によって連結し
た状態でリードフレームを成形し、絶縁性テープ貼着
後、連結片を除去するようにしたが、連結片を残さない
状態で成形したリードフレームにも使用可能であること
はいうまでもない。Furthermore, in the above-described embodiment, the lead frame was molded in a state of being connected by the connecting piece, and after attaching the insulating tape, the connecting piece was removed, but the lead frame was molded without leaving the connecting piece. Needless to say, it can also be used.
加えて、前記実施例ではワイヤボンディング方式のリ
ードフレームについて説明したが、ダイレクトボンディ
ング方式のリードフレームについても適用可能である。In addition, in the above embodiment, the lead frame of the wire bonding type has been described, but the present invention is also applicable to a lead frame of the direct bonding type.
なお、前記実施例では、高周波加熱部10は、一方にの
み加熱手段が設置され、他方の側は押圧プレートで構成
されているが、第4図に変形例を示すように、ダストコ
ア1に巻回された誘導加熱コイル2の一面にCr強磁性体
からなる加熱板4を当接せしめて構成した加熱手段5a,5
bを、相対向して2つ配設し、これら2つの加熱手段5a,
5によってリードフレームを挟み、押圧しながら、加熱
するように構成してもよい。In the above-described embodiment, the high-frequency heating unit 10 is provided with a heating means only on one side, and is constituted by a pressing plate on the other side. However, as shown in a modified example in FIG. Heating means 5a and 5 constituted by bringing a heating plate 4 made of Cr ferromagnetic material into contact with one surface of the turned induction heating coil 2
b are disposed opposite each other, and these two heating means 5a,
The lead frame may be sandwiched by 5 and heated while being pressed.
また、第5図に示すように、ダストコア1に代えてCr
強磁性体からなる加熱板4に直接誘導加熱コイル2を巻
回し、第1および第2の加熱手段5a,5bを配設するよう
にしてもよい。In addition, as shown in FIG.
The induction heating coil 2 may be wound directly around the heating plate 4 made of a ferromagnetic material, and the first and second heating means 5a and 5b may be provided.
また、第6図(a)に示すように、2つの高周波加熱
部10a,10bをリードフレームの走行方向に並べて所定の
ピッチで配設するようにしてもよい。このときの加熱領
域を第6図(b)に示す。ここではダイパッドとインナ
ーリードのみを加熱するように構成している。In addition, as shown in FIG. 6A, two high-frequency heating units 10a and 10b may be arranged at a predetermined pitch in the running direction of the lead frame. The heating area at this time is shown in FIG. Here, only the die pad and the inner lead are heated.
なお、前記実施例では、加熱板としてCrを用いたが、
この他ニッケルなど強磁性体であれば良い。In the above embodiment, Cr was used as the heating plate.
In addition, any ferromagnetic material such as nickel may be used.
以上説明してきたように、本発明によれば、本発明の
リードフレームの製造方法では、プレス加工あるいはエ
ッチング加工による形状加工後、強磁性体からなる加熱
板を、被加熱体の所定の位置に押し付け、加熱を行うよ
うにしているため、歪の発生を抑え、ねじれなどの変形
の矯正をおこないつつ、均一に効率良く加熱を行うこと
ができるため、内部残留応力を除去し、大幅な硬度の上
昇を得ることができ、信頼性の高いリードフレームを得
ることができる。As described above, according to the present invention, in the method for manufacturing a lead frame according to the present invention, after shape processing by press working or etching processing, the heating plate made of a ferromagnetic material is placed at a predetermined position on the body to be heated. Pressing and heating are performed, so that distortion can be suppressed, distortion and other deformation can be corrected, and uniform and efficient heating can be performed. The lead can be obtained, and a highly reliable lead frame can be obtained.
第1図は本発明実施例の高周波加熱装置を示す図、第2
図は同装置の要部拡大図、第3図(a)乃至第3図
(c)は本発明実施例のリードフレームの製造工程を示
す図、第4図乃至第6図(a)はそれぞれ本発明の他の
実施例の装置の要部説明図、第6図(b)は第6図
(a)の装置での処理領域を示す図、第7図は通常のリ
ードフレームを示す図、第8図は従来例の加熱装置を示
す図である。 F……リードフレーム、1……ダスコトア、2……誘導
加熱コイル、4……加熱板、5……加熱手段、7……ガ
イドピン、8……マスクプレート、9……支持プレー
ト、10……高周波加熱部、20……冷却部、20a……第1
の冷却プレート、20b……第2の冷却プレート、21……
アクチュエータ、22……ダイパッド、24……インナーリ
ード、28……アウターリード、29……サポートバー、T
……連結片。FIG. 1 is a view showing a high-frequency heating apparatus according to an embodiment of the present invention, and FIG.
FIGS. 3 (a) to 3 (c) are views showing a manufacturing process of a lead frame according to the embodiment of the present invention, and FIGS. FIG. 6 (b) is a diagram showing a processing area in the device of FIG. 6 (a), FIG. 7 is a diagram showing a normal lead frame, FIG. 8 is a view showing a conventional heating device. F: Lead frame, 1: Dustor store, 2: Induction heating coil, 4: Heating plate, 5: Heating means, 7: Guide pin, 8: Mask plate, 9: Support plate, 10 ... ... High frequency heating section, 20 ... Cooling section, 20a ... First
Cooling plate, 20b ... second cooling plate, 21 ...
Actuator, 22 ... die pad, 24 ... inner lead, 28 ... outer lead, 29 ... support bar, T
…… Connection piece.
Claims (2)
リードフレームの形状加工を行う形状加工工程と、 誘導加熱コイルの一面に強磁性体からなる加熱板を当接
しせめて構成した加熱手段の加熱板に対して、前記リー
ドフレームの所定の領域を面接触するように押圧プレー
トで押し付け、加熱を行う高周波加熱工程と、 前記リードフレームの加熱領域を急冷または徐冷する冷
却工程とを具備したことを特徴とするリードフレームの
製造方法。1. A shaping step for shaping a lead frame by pressing or etching, and a heating plate of a heating means comprising a heating plate made of a ferromagnetic material in contact with one surface of an induction heating coil. A high-frequency heating step of pressing and heating a predetermined area of the lead frame with a pressing plate so as to make surface contact with the predetermined area, and a cooling step of rapidly or gradually cooling the heated area of the lead frame. Lead frame manufacturing method.
加熱板で構成され、前記高周波加熱工程は、相対向する
ように配置された強磁性体からなる2枚の加熱板の間に
前記リードフレームをはさみ加圧しながら加熱するよう
にしたことを特徴とする請求項1記載のリードフレーム
の製造方法。2. The pressing plate is also formed of a heating plate made of a ferromagnetic material, and the high-frequency heating step includes the step of mounting the lead frame between two heating plates made of a ferromagnetic material arranged so as to face each other. 2. The method for manufacturing a lead frame according to claim 1, wherein the scissors are heated while being pressed.
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2127098A JP2639742B2 (en) | 1990-05-17 | 1990-05-17 | Lead frame manufacturing method |
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Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
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JPH0422046A JPH0422046A (en) | 1992-01-27 |
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- 1990-05-17 JP JP2127098A patent/JP2639742B2/en not_active Expired - Fee Related
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