Nothing Special   »   [go: up one dir, main page]

JP2621293B2 - Printed circuit board manufacturing method - Google Patents

Printed circuit board manufacturing method

Info

Publication number
JP2621293B2
JP2621293B2 JP63028310A JP2831088A JP2621293B2 JP 2621293 B2 JP2621293 B2 JP 2621293B2 JP 63028310 A JP63028310 A JP 63028310A JP 2831088 A JP2831088 A JP 2831088A JP 2621293 B2 JP2621293 B2 JP 2621293B2
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
conductive
hole
thin film
conductive thin
substrate
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Expired - Fee Related
Application number
JP63028310A
Other languages
Japanese (ja)
Other versions
JPH01204497A (en
Inventor
邦彦 戸倉
俊夫 田村
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Sony Corp
Original Assignee
Sony Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Sony Corp filed Critical Sony Corp
Priority to JP63028310A priority Critical patent/JP2621293B2/en
Publication of JPH01204497A publication Critical patent/JPH01204497A/en
Application granted granted Critical
Publication of JP2621293B2 publication Critical patent/JP2621293B2/en
Anticipated expiration legal-status Critical
Expired - Fee Related legal-status Critical Current

Links

Landscapes

  • Production Of Multi-Layered Print Wiring Board (AREA)
  • Printing Elements For Providing Electric Connections Between Printed Circuits (AREA)

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は、特に複数の導電パターンの積層構造による
フレキシブルプリント基板を得る場合に適用して好適な
プリント基板の製法に関わる。
DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION [Industrial Application Field] The present invention relates to a method for manufacturing a printed circuit board which is particularly suitable for obtaining a flexible printed circuit board having a laminated structure of a plurality of conductive patterns.

〔発明の概要〕[Summary of the Invention]

本発明は、絶縁基体例えばフレキシブル絶縁フィルム
の両面に第1の導電薄膜及び第2の導電薄膜が被着形成
された基板を用意し、その第1の導電薄膜の所定部に透
孔を穿設し、この透孔を通じて絶縁基体に第2の導電薄
膜を残す透孔、すなわちいわゆるブラインドスルーホー
ルを穿設し、その後このブラインドスルーホール内に導
電層を被着する工程を経、また一方第1及び第2の導電
薄膜に対するパターニングを行って第1及び第2の導電
パターンを形成し、これらパターンの所定部間が、前述
したブラインドスルーホール内の導電層によって電気的
に接続されて所定の回路が形成された第1及び第2の導
電パターンを有するフレキシブルプリント基板を得るこ
とを基本手順として、例えば4層の導電パターンの積層
構造によるフレキシブルプリント基板を得る場合におい
て工程の簡略化と歩留りの向上を図ることができるよう
にする。
The present invention provides a substrate in which a first conductive thin film and a second conductive thin film are formed on both surfaces of an insulating substrate, for example, a flexible insulating film, and a through hole is formed in a predetermined portion of the first conductive thin film. Then, a through-hole for leaving a second conductive thin film in the insulating substrate through the through-hole, that is, a so-called blind through-hole is formed, and then a conductive layer is deposited in the blind through-hole. And a second conductive thin film is patterned to form first and second conductive patterns, and predetermined portions of these patterns are electrically connected to each other by the conductive layer in the blind through hole described above to form a predetermined circuit. The basic procedure is to obtain a flexible printed circuit board having first and second conductive patterns on which are formed, for example, a flexible printed circuit board having a laminated structure of four conductive patterns. To be able to improve the simplification of the process and the yield in the case of obtaining the Le PCB.

〔従来の技術〕[Conventional technology]

複数例えば4層の導電パターンが積層された構造によ
るフレキシブルプリント基板を得る従来方法としては、
第3図にその工程図を示すように、まず例えば第3図A1
に示すように絶縁基体(1)例えばフレキシブル絶縁フ
ィルムの両面にそれぞれ銅箔等が被着されてなる第1の
導電薄膜(11)と第2の導電薄膜(12)とが設けられた
基板(2)が用意される。そして一方の例えば第2の導
電薄膜(12)がフォトエッチングによって所要のパター
ンにパターン化されて第2の導電パターン(22)が形成
され、基板(2)の所定位置に貫通透孔すなわちスルー
ホール(3)が穿設される。
As a conventional method of obtaining a flexible printed circuit board having a structure in which a plurality of conductive patterns of, for example, four layers are stacked,
As shown the process diagram in Figure 3, first, for example, FIG. 3 A 1
As shown in (1), a substrate provided with a first conductive thin film (11) and a second conductive thin film (12) each having copper foil or the like adhered to both sides of a flexible insulating film, for example, 2) is prepared. Then, for example, the second conductive thin film (12) is patterned into a required pattern by photoetching to form a second conductive pattern (22), and a through-hole, that is, a through-hole is formed at a predetermined position on the substrate (2). (3) is drilled.

その後、このスルーホール(3)内を例えば無電解め
っき及び電気めっきすることによってこのスルーホール
(3)内に導電層(4)を被着形成して第2の導電パタ
ーン(22)を第1の導電パターン(21)の所定部に電気
的に連結する。一方、第3図A2に示すように同様の絶縁
基体(1)すなわちフレキシブル絶縁フィルムの両面に
第3の導電薄膜(13)と第4の導電薄膜(4)が被着さ
れた基板(2)が用意され、その第3の導電薄膜(13)
に対して例えばフォトエッチングが行われて所要のパタ
ーンを有する第3の導電パターン(23)が形成される。
一方、この基板(2)に対してもスルーホール(3)を
所定の部分に穿設し、同図B2に示すようにスルーホール
(3)内に導電層(4)を同様に例えば無電解めっき及
び電気めっきによって形成し、第3の導電パターン(2
3)を第4の導電薄膜(14)の所定部に電気的に連結す
る。
Then, a conductive layer (4) is formed in the through-hole (3) by, for example, electroless plating and electroplating in the through-hole (3) to form a second conductive pattern (22) in the first hole. Electrically connected to a predetermined portion of the conductive pattern (21). Meanwhile, the substrate in which the third conductive thin film (13) and the fourth conductive thin film on both surfaces (4) is deposited in FIG. 3 A 2 are shown as similar insulating base (1) i.e. a flexible insulating film (2 ), And the third conductive thin film (13)
Then, for example, photoetching is performed to form a third conductive pattern (23) having a required pattern.
On the other hand, bored the substrate (2) through holes (3) with respect to the predetermined portion, the conductive layer in the through-hole as shown in Fig B 2 (3) (4) likewise example No A third conductive pattern (2) formed by electrolytic plating and electroplating
3) is electrically connected to a predetermined portion of the fourth conductive thin film (14).

このようにして第3図B1及びB2に示された各基板
(2)を、第3図Cに示すように、それぞれパターン化
された第2の導電パターン(22)と第3の導電パターン
(23)を内側にして互いに対向するように、かつ両基板
(2)が互いに所定の位置関係を保持するようにして樹
脂接着剤(5)例えばプリプレグによって圧着合体し、
合体基板(6)を得る。
The thus third each substrate shown in FIG. B 1 and B 2 (2), as shown in FIG. 3 C, the second conductive patterns respectively patterned with (22) a third conductive The two substrates (2) are press-bonded with a resin adhesive (5) such as a prepreg so that the patterns (23) are opposed to each other with the pattern (23) inside, and the two substrates (2) maintain a predetermined positional relationship with each other.
A united substrate (6) is obtained.

次に、第3図Dに示すようにこの合体基板(6)の所
定部に、これを貫通するスルーホール(7)を形成し、
このスルーホール(7)内に例えば無電解めっきとさら
に電気めっきを施して導電層(8)を被着形成する。一
方、合体基板(6)の両面に臨む第1及び第4の導電薄
膜(11)及び(14)に対して例えばフォトエッチングを
行って所定のパターン化をなしそれぞれ所要のパターン
を有する第1及び第4の導電パターン(21)及び(24)
を形成する。
Next, as shown in FIG. 3D, a through hole (7) penetrating through the united substrate (6) is formed at a predetermined portion of the united substrate (6).
In the through hole (7), for example, electroless plating and further electroplating are applied to form a conductive layer (8). On the other hand, the first and fourth conductive thin films (11) and (14) facing both surfaces of the united substrate (6) are subjected to, for example, photoetching to form a predetermined pattern to form first and fourth conductive thin films (11) and (14) each having a required pattern. Fourth conductive patterns (21) and (24)
To form

このようにすれば、第1〜第4の導電パターン(21)
〜(24)が積層され、第1及び第2の導電パターン(2
1)及び(22)間が、また第3及び第4の導電パターン
(23)及び(24)間がそれぞれスルーホール(3)を通
じて、このスルーホール(3)内に形成された導電層
(4)によって電気的に所定部が相互に連結され、また
第1及び第4の導電パターン(21)及び(24)がスルー
ホール(7)を通じてこのスルーホール(7)内に形成
された導電層(8)によってその所定部が相互に電気的
に連結された4層の導電パターンが積層された構造を有
するフレキシブルプリント基板(9)を得るものであ
る。
By doing so, the first to fourth conductive patterns (21)
To (24) are stacked, and the first and second conductive patterns (2
1) and (22), and between the third and fourth conductive patterns (23) and (24) through the through hole (3), respectively, and the conductive layer (4) formed in the through hole (3). ), The predetermined portions are electrically connected to each other, and the first and fourth conductive patterns (21) and (24) are formed in the through-hole (7) through the through-hole (7). According to 8), a flexible printed board (9) having a structure in which four layers of conductive patterns whose predetermined portions are electrically connected to each other is laminated is obtained.

ところが、このような方法による場合、第3図B1とB2
とDに示したように各スルーホール(3)及び(7)に
対する導電層(4)及び(8)の3回のスルーホールめ
っきを必要とし、これがコスト高を招来する。またこれ
とともに第3図Cで示すように、2枚の基板(2)を重
ね合わせて接着剤(5)すなわちプリプレグによって加
熱圧着するに際して実際上基板(2)は極めて薄いもの
であるために、そのスルーホール(3)を通じて合体基
板(6)の両面にこの接着剤が溢出してしまうものであ
り、溢出した接着剤を除去するための作業を必要とし、
プリント基板の製造作業が煩雑であり、また不良品の発
生率が比較的多くなるなどの課題がある。
However, in such a case, FIG. 3 B 1 and B 2
As shown in FIGS. 3D and 3D, three through-hole platings of the conductive layers (4) and (8) for each of the through-holes (3) and (7) are required, which leads to an increase in cost. Also, as shown in FIG. 3C, when the two substrates (2) are overlaid and heated and pressed by an adhesive (5), that is, a prepreg, the substrate (2) is actually extremely thin. This adhesive overflows on both sides of the united substrate (6) through the through hole (3), and requires an operation for removing the overflowed adhesive.
There are problems such as a complicated printed circuit board manufacturing operation and a relatively high incidence of defective products.

また、他の方法としては、第4図にその製造工程図を
示す方法が提案されている。この場合、第4図Aに示す
ようにフレキシブル絶縁フイルムよりなる絶縁基体
(1)の両面に第2及び第3の導電薄膜(12)及び(1
3)例えば銅箔が付着され、これがそれぞれ所要のパタ
ーンに例えばフォトエッチングによってパターン化され
て第2及び第3の導電パターン(22)及び(23)を形成
する。
As another method, there has been proposed a method whose manufacturing process is shown in FIG. In this case, as shown in FIG. 4A, the second and third conductive thin films (12) and (1) are formed on both surfaces of an insulating base (1) made of a flexible insulating film.
3) For example, a copper foil is deposited, and this is patterned into a required pattern, for example, by photo-etching to form second and third conductive patterns (22) and (23).

次に第4図Bに示すように、この導電パターン(22)
及び(23)を有する基体(1)の両面に接着剤(5)例
えばプリプレグを介して同様に銅箔等よりなる第1及び
第4の導電薄膜(11)及び(14)を被着する。
Next, as shown in FIG. 4B, the conductive pattern (22)
The first and fourth conductive thin films (11) and (14), also made of copper foil or the like, are applied to both surfaces of the substrate (1) having (23) and (23) via an adhesive (5), for example, a prepreg.

次に第4図Cに示すように、第1の導電薄膜(11)側
からその所定部にこの第1の導電薄膜(11)とこれの下
の接着剤(5)のみを貫通し、これの下の第3の導電パ
ターン(23)を残し置く状態にドリル等の機械加工によ
っていわゆるブラインドスルーホール(3b)を穿設す
る。一方、同様にして第4の導電薄膜(14)側から第3
の導電パターン(23)の所定部に同様に第4の導電薄膜
(14)とこれと第3の導電パターン(23)との間に介存
する接着剤(5)とのみを貫通するブラインドスルーホ
ール(3b)を穿設する。一方、第1の導電薄膜(11)か
ら第4の導電薄膜(14)に至るスルーホール(7)を所
定部に同様に機械加工によって穿設する。
Next, as shown in FIG. 4C, only the first conductive thin film (11) and the adhesive (5) thereunder penetrate from the first conductive thin film (11) side to a predetermined portion thereof. A so-called blind through hole (3b) is formed by machining such as a drill in a state where the third conductive pattern (23) below is left. On the other hand, in the same manner, the third conductive thin film (14)
Similarly, a blind through hole penetrating only a predetermined portion of the conductive pattern (23) through only the fourth conductive thin film (14) and the adhesive (5) interposed between the fourth conductive thin film (14) and the third conductive pattern (23) Drill (3b). On the other hand, a through-hole (7) extending from the first conductive thin film (11) to the fourth conductive thin film (14) is similarly formed in a predetermined portion by machining.

その後、第4図Dに示すように各ブラインドスルーホ
ール(3b)及びスルーホール(7)内を含んで無電解め
っき及び電気めっきを施してそれぞれ導電層(4)及び
(8)を被着形成する。
Thereafter, as shown in FIG. 4D, electroless plating and electroplating are performed including the inside of each blind through-hole (3b) and through-hole (7) to form conductive layers (4) and (8), respectively. I do.

次に、第4図Eに示すように、第1及び第4の導電薄
膜(11)及び(14)に対して例えばフォトエッチングを
行ってそれぞれ所要のパターン化を行って第1の導電パ
ターン(21)と第4の導電パターン(24)を形成する。
Next, as shown in FIG. 4E, the first and fourth conductive thin films (11) and (14) are subjected to, for example, photoetching to form required patterns to form first conductive patterns (11) and (14). 21) and a fourth conductive pattern (24) are formed.

このような方法によれば、第1〜第4の導電パターン
(21)〜(24)が積層され、第1の導電パターン(21)
と第2の導電パターン(22)とが、また第3の導電パタ
ーン(23)と第4の導電パターン(24)とがそれぞれブ
ラインドスルーホール(3b)内に形成された導電層
(4)によって所定部において電気的に連結され、また
第1の導電パターン(21)と第4の導電パターン(24)
がスルーホール(7)を通じてこのスルーホール(7)
内に形成された導電層(8)によって所定部が電気的に
連結された第1〜第4の4層の導電パターン(21)〜
(24)が積層されたフレキシブルプリント基板(9)が
構成される。
According to such a method, the first to fourth conductive patterns (21) to (24) are stacked, and the first conductive pattern (21) is formed.
And a second conductive pattern (22), and a third conductive pattern (23) and a fourth conductive pattern (24) by a conductive layer (4) formed in a blind through hole (3b). A first conductive pattern (21) and a fourth conductive pattern (24) electrically connected at a predetermined portion;
Through this through hole (7)
First to fourth four-layer conductive patterns (21) to (4) in which predetermined portions are electrically connected by a conductive layer (8) formed therein.
A flexible printed board (9) on which (24) is laminated is configured.

ところが、このような方法による場合は、ブラインド
スルーホール(3b)をそれぞれ内側の第2及び第3の導
電パターン(22)及び(23)を残してドリルによって穴
開け加工をすることは、技術的に熟練を有し、また不良
品の発生率が高くなるという課題がある。
However, in the case of using such a method, it is technically necessary to form a blind through hole (3b) by a drill while leaving the second and third conductive patterns (22) and (23) inside. However, there is a problem that the skill is high and the incidence of defective products increases.

〔発明が解決しようとする課題〕[Problems to be solved by the invention]

本発明は、上述した不良品の発生率の課題、作業性の
課題を解決し、量産的に簡単な工程をとって歩留り高
く、プリント基板、特に導電パターンが2層以上に形成
された多層構造のフレキシブルプリント基板を得ること
ができるようにしたプリント基板の製法を提供する。
The present invention solves the above-mentioned problems of the incidence rate of defective products and the problem of workability, adopts a simple process in mass production, and has a high yield, and a printed circuit board, particularly a multilayer structure in which conductive patterns are formed in two or more layers. And a method of manufacturing a printed circuit board that can obtain a flexible printed circuit board.

〔課題を解決するための手段〕[Means for solving the problem]

本発明は、第1図にその工程図を示すように、まず第
1図Aに示すように絶縁基体(31)例えばフレキシブル
絶縁フイルムの両面に、第1及び第2の導電薄膜(41)
及び(42)を被着してなる基板(32)を用意する。
As shown in the process diagram of FIG. 1, first, as shown in FIG. 1A, first and second conductive thin films (41) are provided on both sides of an insulating substrate (31), for example, a flexible insulating film.
And a substrate (32) on which (42) is attached.

そして、第1図Bに示すように第1の導電薄膜(41)
にフォトエッチング等によって透孔(41h)を所定部に
穿設する。
Then, as shown in FIG. 1B, a first conductive thin film (41)
Then, a through hole (41h) is formed in a predetermined portion by photo etching or the like.

次に、第1図Cに示すように第1の導電薄膜(41)の
透孔(41h)を通じてすなわち第1の導電薄膜をマスク
(レジスト)として基板(31)に極性溶剤の第2塩化
鉄、塩化メチレン、またはN−メチルピロリドンのいず
れかを用いて透孔(31h)を穿設し、第2の導電薄膜(4
2)が残された状態ですなわちこの薄膜(42)によって
一端が閉塞されて透孔(31h)及び(41h)によるブライ
ンドスルーホール(51)を形成する。
Next, as shown in FIG. 1C, a polar solvent of a second iron chloride, such as a polar solvent, is applied to the substrate (31) through the through holes (41h) of the first conductive thin film (41), ie, using the first conductive thin film as a mask (resist). , A methylene chloride, or N-methylpyrrolidone to form a through hole (31h), and a second conductive thin film (4
In the state where 2) is left, that is, one end is closed by the thin film (42) to form a blind through hole (51) by the through holes (31h) and (41h).

第1図Dに示すようにブラインドスルーホール(51)
の特に少くとも絶縁基体(31)の透孔(31h)内に導電
層(34)を被着する。
Blind through hole (51) as shown in FIG. 1D
In particular, a conductive layer (34) is applied at least in the through hole (31h) of the insulating base (31).

次に第1図Eに示すように第1及び第2の導電薄膜
(41)及び(42)に対してそれぞれ例えばフォトエッチ
ングによって同時にもしくは別工程によってパターン化
を行って第1及び第2の導電パターン(61)及び(62)
を形成する。このような構成によれば、第1の導電パタ
ーン(61)と第2の導電パターン(62)とがブラインド
スルーホール(51)内、すなわち絶縁基体(31)の透孔
(31h)内に形成された導電層(34)によってその所定
部が電気的に接続されてなる2層構造によるフレキシブ
ルプリント基板(73)が得られる。
Next, as shown in FIG. 1E, the first and second conductive thin films (41) and (42) are patterned at the same time by, for example, photoetching or by another process, respectively, to thereby form the first and second conductive thin films. Patterns (61) and (62)
To form According to such a configuration, the first conductive pattern (61) and the second conductive pattern (62) are formed in the blind through hole (51), that is, in the through hole (31h) of the insulating base (31). A flexible printed board (73) having a two-layer structure in which predetermined portions are electrically connected by the conductive layer (34) thus obtained is obtained.

〔作用〕[Action]

上述の本発明方法によれば、絶縁基体(31)の各面に
形成された第1の導電薄膜(41)及び第2の導電薄膜
(42)の一方の第1の導電薄膜(41)に透孔(41h)を
穿設し、これをマスクとして基体(31)に透孔(31h)
の穿設を行うようにしたのでブラインドスルーホールの
形成を簡単に行うことができ、また特に本発明方法は後
述するところから明らかなように、2層を越える導電パ
ターン例えば4層導電パターンによるプリント基板を得
る場合に適用して特に作業工程の簡易化と不良品の発生
率の低下を図ることができる。
According to the above-described method of the present invention, one of the first conductive thin film (41) and the second conductive thin film (42) formed on each surface of the insulating base (31) is applied to the first conductive thin film (41). A hole (41h) is formed in the base (31) using the mask as a mask.
In this method, the blind through-holes can be easily formed, and in particular, the method of the present invention, as will be apparent from the description below, is to print a conductive pattern exceeding two layers, for example, a four-layer conductive pattern. When applied to obtain a substrate, it is possible to particularly simplify the work process and reduce the incidence of defective products.

〔実施例〕〔Example〕

まず、再び第1図を参照して本発明による2層構造の
導電パターンによるフレキシブルプリント基板を得る場
合の一例を詳細に説明する。この場合、第1図Aに示す
ように例えば厚さ25μm以上を有するもののフレキシブ
ル性に富んだ熱溶融性の樹脂、例えばポリエーテルサル
フォン(PES)の25μm厚のフイルムあるいはポリイミ
ド、ポリエーテルイミド、ポリエチレンエーテルイミド
等よりなる同様の絶縁フイルムよりなる絶縁基体(31)
を設け、その両面にそれぞれ例えば厚さ35μm、あるい
は18μmの規格によって規定された銅箔を熱圧着によっ
て被着するとか、あるいは無電解めっき及び電気めっき
による銅薄膜等による第1及び第2の導電薄膜(41)及
び(42)を被着して基板(32)を得る。
First, an example of obtaining a flexible printed circuit board with a two-layered conductive pattern according to the present invention will be described in detail with reference to FIG. 1 again. In this case, as shown in FIG. 1A, for example, a heat-fusible resin having a thickness of 25 μm or more but having high flexibility, for example, a 25 μm-thick film of polyether sulfone (PES) or a polyimide, polyetherimide, Insulating substrate made of similar insulating film made of polyethylene ether imide etc. (31)
A copper foil specified by the standard of, for example, 35 μm or 18 μm on each surface by thermocompression bonding, or a first and second conductive layer made of a copper thin film by electroless plating and electroplating. The thin films (41) and (42) are applied to obtain a substrate (32).

次に、第1図Bに示すように例えば直径が50μm〜10
0μmの透孔(41h)を第1の導電薄膜(41)に対するフ
ォトエッチングによって穿設する。
Next, as shown in FIG.
A 0 μm through hole (41h) is formed by photoetching the first conductive thin film (41).

第1図Cに示すように、第1の導電薄膜(41)をマス
クとして、その透孔(41h)を通じて露出する絶縁基体
(31)に化学的エッチング例えば第2塩化鉄、塩化メチ
レン、N−メチルピロリドンなどの極性溶剤をスプレー
して透孔(41h)に合致する透孔(31h)を穿設して第2
の導電薄膜(42)が残されて、これによって一端が閉塞
されたブラインドスルーホール(51)を形成する。
As shown in FIG. 1C, using the first conductive thin film (41) as a mask, the insulating substrate (31) exposed through the through hole (41h) is chemically etched, for example, by ferric chloride, methylene chloride, N- Spray a polar solvent such as methylpyrrolidone to form a perforated hole (31h) that matches the perforated hole (41h).
The conductive thin film (42) is left, thereby forming a blind through hole (51) whose one end is closed.

次に、第1図Dに示すようにこのブラインドスルーホ
ール(51)内に露出する透孔(31h)内にその内周面に
被着するように、あるいはこれを埋め込むように例えば
銅の無電解めっき及び電気めっきによって導電層(34)
を被着する。
Next, as shown in FIG. 1D, for example, copper is used to cover the inner peripheral surface of the through hole (31h) exposed in the blind through hole (51) or to bury the inner surface. Conductive layer by electrolytic plating and electroplating (34)
To adhere.

第1図Eに示すように基板(32)の両面に形成された
第1及び第2の導電薄膜(41)及び(42)に対してそれ
ぞれフォトエッチングによって所定のパターン化を行っ
てそれぞれ第1及び第2の配線パターンすなわち導電パ
ターン(61)及び(62)を形成する。この場合、導電層
(34)が第1の導電薄膜(41)と同一材料ないしは同一
エッチング液に対するエッチング性を有する場合には導
電層(34)及び第1の導電薄膜(41)に対するフォトエ
ッチングを同時に行うこともできるが、導電層(34)が
第1の導電薄膜(41)と異なる導電膜である場合は別工
程によって不要部分のエッチング除去を行う。また、第
1及び第2の導電薄膜(41)及び(42)に対するパター
ン化すなわちフォトエッチングは上述したように同時に
行うこともできるが、それぞれ別工程によって行うこと
もできる。
As shown in FIG. 1E, the first and second conductive thin films (41) and (42) formed on both surfaces of the substrate (32) are each subjected to a predetermined patterning by photoetching, and the first and second conductive thin films (41) and (42) are respectively subjected to the first pattern. And a second wiring pattern, that is, conductive patterns (61) and (62) are formed. In this case, when the conductive layer (34) has the same etching property with respect to the same material or the same etching liquid as the first conductive thin film (41), photo-etching is performed on the conductive layer (34) and the first conductive thin film (41). Although it can be performed at the same time, when the conductive layer (34) is a conductive film different from the first conductive thin film (41), unnecessary portions are removed by etching in a separate step. Further, the patterning, that is, the photoetching for the first and second conductive thin films (41) and (42) can be performed simultaneously as described above, but can also be performed in separate steps.

上述した例においては、第1及び第2の導電パターン
(61)及び(62)の2層構造を有するプリント基板(7
3)を得る場合について説明したが、第1〜第4の導電
パターンによる4層構造のプリント基板を得る場合に本
発明を適用することができる。この場合の一例を第2図
を参照して説明する。この場合、第2図A1及びA2による
2枚の基板(321)及び(322)を用意する。これら基板
(321)及び(322)は、それぞれ第1図Aで説明した基
板(32)と同様の構成をとり得るものであり、第2図A1
及びA2の第1図Aと対応する部分には同一符号を付して
重複説明を省略する。
In the example described above, the printed circuit board (7) having the two-layer structure of the first and second conductive patterns (61) and (62) is used.
Although the case of obtaining 3) has been described, the present invention can be applied to the case of obtaining a printed board having a four-layer structure using the first to fourth conductive patterns. An example of this case will be described with reference to FIG. In this case, to prepare two substrates according to Figure 2 A 1 and A 2 (32 1) and (32 2). These substrate (32 1) and (32 2), which can take the same structure as the substrate described in Figure 1 A, respectively (32), Figure 2 A 1
1 and 2 corresponding to FIG. 1A are denoted by the same reference numerals, and redundant description is omitted.

第2図B1及びB2にそれぞれ示すように、第1の導電薄
膜(41)に対してそれぞれ所定の位置にフォトエッチン
グによって透孔(41h)の穿設を行う。そして、この場
合にそれぞれ第2の導電薄膜(42)に対してそれぞれ所
定のパターンにフォトエッチングによって所定のパター
ン化を行ってそれぞれ基板(321)においては第2の導
電薄膜(42)によって第2の導電パターン(62)を形成
し、第2の基板(322)においては、第2の導電薄膜(4
2)によって第3の導電パターン(63)を形成する。
As shown the second in FIGS. B 1 and B 2, performs bored through holes (41h) by photo-etching respective predetermined positions with respect to the first conductive thin film (41). Then, in this case, the second conductive thin film (42) is subjected to a predetermined patterning by photo-etching into a predetermined pattern, respectively, and the second conductive thin film (42) is formed on the substrate (32 1 ) by the second conductive thin film (42). A second conductive pattern (62) is formed, and a second conductive thin film (4) is formed on the second substrate (32 2 ).
2) to form a third conductive pattern (63).

次に、第2図Cに示すように両基板(321)及び(3
22)をそれぞれその第2及び第3の導電パターン(62)
及び(63)を内側にして互いに対向するように両基板
(321)及び(322)を所定の位置関係をもって重ね合
せ、両者間に接着剤(35)例えばガラス繊維にエポキシ
接着剤を含浸させたエポキシプリプレグを介存させて熱
圧着し、これを硬化して合体基板(36)を得る。
Next, as shown in FIG. 2C, both substrates (32 1 ) and (3
2 2 ) to the second and third conductive patterns (62), respectively.
The substrates (32 1 ) and (32 2 ) are overlapped with a predetermined positional relationship so that they face each other with (63) inside, and an adhesive (35), for example, glass fiber impregnated with an epoxy adhesive between the two. Thermocompression bonding is performed with the epoxy prepreg interposed therebetween, and this is cured to obtain a united substrate (36).

第2図Dに示すように、合体基板(36)の両面に配さ
れた各基板(321)及び(322)の、各第1の導電薄膜
(41)の透孔(41h)を通じてそれぞれ臨む絶縁基体(3
1)に対してこれを溶去し得る溶剤を第1図Cで説明し
たと同様にスプレーして透孔(41h)に合致する透孔(3
1h)を穿設してそれぞれ第2及び第3の導電パターン
(62)及び(63)によって閉塞されたブラインドスルー
ホール(51)を形成する。次にまたはその前に合体基板
(36)を貫通して所定部にドリル等の機械加工によって
スルーホール(52)を穿設する。
As shown in FIG. 2D, each of the substrates (32 1 ) and (32 2 ) arranged on both sides of the united substrate (36) passes through the through hole (41h) of each first conductive thin film (41). Insulating base (3
For 1), a solvent capable of dissolving this is sprayed in the same manner as described with reference to FIG.
1h) is formed to form a blind through hole (51) closed by the second and third conductive patterns (62) and (63), respectively. Next or before that, a through hole (52) is drilled through a united substrate (36) at a predetermined portion by machining such as a drill.

次に、第2図Eに示すようにブラインドスルーホール
(51)内及びスルーホール(52)内に例えば銅の無電解
めっき及び電気めっきによって導電層(34)を被着形成
する。
Next, as shown in FIG. 2E, a conductive layer (34) is formed in the blind through hole (51) and the through hole (52) by, for example, electroless plating and electroplating of copper.

第2図Fに示すように、合体基板(36)の両基板(32
1)及び(322)の両外面の第1の導電薄膜(41)をそれ
ぞれ導電層(34)と同一工程あるいは別工程によってそ
れぞれフォトエッチング等によるパターニングを行い、
それぞれ基板(321)及び(322)における第1の導電薄
膜(41)がパターン化された第1及び第4の導電パター
ン(61)及び(64)を形成する。このようにして第1〜
第4の導電パターン(61)〜(64)が積層された構造の
プリント基板(73)が得られる。このようにして形成さ
れたプリント基板(73)は、第1の導電パターン(61)
と第2の導電パターン(62)とが、また第3の導電パタ
ーン(63)と第4の導電パターン(64)とがそれぞれブ
ラインドスルーホール(51)内に形成された導電層(3
4)によって所定のパターンに連結され、また第1の導
電パターン(61)と第4の導電パターン(64)とがスル
ーホール(52)内の導電層(34)によって所定のパター
ンに連結されて所要の回路パターンが形成される。
As shown in FIG. 2F, both substrates (32) of the united substrate (36)
The first conductive thin film (41) on both outer surfaces of 1 ) and (32 2 ) is patterned by photo-etching or the like in the same step or a different step as the conductive layer (34), respectively.
The first and fourth conductive thin films (41) on the substrates (32 1 ) and (32 2 ) form patterned first and fourth conductive patterns (61) and (64), respectively. In this way, the first to first
A printed board (73) having a structure in which the fourth conductive patterns (61) to (64) are stacked is obtained. The printed circuit board (73) formed in this way is a first conductive pattern (61).
And a second conductive pattern (62), and a third conductive pattern (63) and a fourth conductive pattern (64) formed in a blind through hole (51).
4), the first conductive pattern (61) and the fourth conductive pattern (64) are connected to the predetermined pattern by the conductive layer (34) in the through hole (52). A required circuit pattern is formed.

〔発明の効果〕〔The invention's effect〕

上述したように本発明によれば、例えば4層構造等の
多層の導電パターンの積層構造によるプリント基板を得
る場合において、その接着剤(35)が合体基板(36)外
に溢出すようなスルーホールの穿設を回避したので、こ
の溢出された接着剤を排除する作業あるいはこれによる
不良品の発生を回避できる。
As described above, according to the present invention, in the case of obtaining a printed circuit board having a laminated structure of a multilayer conductive pattern such as a four-layer structure, the through-hole in which the adhesive (35) overflows outside the united substrate (36). Since the drilling of the holes is avoided, it is possible to avoid the operation of removing the overflowed adhesive or the occurrence of defective products due to this.

また、ブラインドスルーホールの穿設は、絶縁基体
(31)の一方の導電薄膜(41)に透孔(41h)を穿設
し、この薄膜(41)をマスクとして基体(31)をその溶
剤によって除去して透孔(31h)を穿設する、つまり薄
膜(41)をエッチングすることのない、言い換えれば第
2の導電薄膜(42)をエッチングすることのない溶剤に
よって透孔(31h)の穿設を行うので、この第2の薄膜
(42)によって1端が閉塞されたブラインドスルーホー
ル(51)の穿設を簡単に量産的に行うことができるなど
工程が簡略化され、量産性にすぐれたプリント基板の製
法を提供することができる。
The blind through-hole is formed by forming a through hole (41h) in one conductive thin film (41) of the insulating base (31), and using the thin film (41) as a mask to form the base (31) with the solvent. The hole (31h) is formed by removing the hole (31h) with a solvent that does not etch the thin film (41), in other words, does not etch the second conductive thin film (42). Since the second thin film (42) is used, the blind through-hole (51), one end of which is closed, can be easily mass-produced. And a method for manufacturing a printed circuit board.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

第1図は本発明製法の一例の工程図、第2図は本発明製
法の他の例の工程図、第3図及び第4図はそれぞれ従来
製法の工程図である。 (31)は絶縁基体、(41)及び(42)は第1及び第2の
導電薄膜、(61)〜(64)は第1〜第4の導電パターン
である。
FIG. 1 is a process chart of an example of the method of the present invention, FIG. 2 is a process chart of another example of the method of the present invention, and FIGS. 3 and 4 are process diagrams of the conventional method. (31) is an insulating base, (41) and (42) are first and second conductive thin films, and (61) to (64) are first to fourth conductive patterns.

Claims (1)

(57)【特許請求の範囲】(57) [Claims] 【請求項1】絶縁基体の両主面に第1の導電薄膜と第2
の導電薄膜を有する基板の上記第1の導電薄膜の所定部
に透孔を穿設する工程と、 該第1の導電薄膜をマスクとしてその上記透孔を通じて
露出する絶縁基体に、極性溶剤の第2塩化鉄、塩化メチ
レン、またはN−メチルピロリドンのいずれかを用い
て、透孔を穿設する工程と、 上記絶縁基体の上記透孔内に上記第1及び第2の導電薄
膜を電気的に接続する導電層を被着する工程と、 上記第1及び第2の導電薄膜を選択的に除去して所要の
パターンにするパターン化工程を有することを特徴とす
るプリント基板の製法。
A first conductive thin film and a second conductive thin film are provided on both main surfaces of an insulating base.
Forming a through hole in a predetermined portion of the first conductive thin film of the substrate having the conductive thin film; and using the first conductive thin film as a mask to expose the insulating substrate exposed through the through hole to a second layer of a polar solvent. Forming a through hole using any one of iron dichloride, methylene chloride, and N-methylpyrrolidone; and electrically connecting the first and second conductive thin films in the through hole of the insulating base. A method for manufacturing a printed circuit board, comprising: a step of applying a conductive layer to be connected; and a patterning step of selectively removing the first and second conductive thin films to form a required pattern.
JP63028310A 1988-02-09 1988-02-09 Printed circuit board manufacturing method Expired - Fee Related JP2621293B2 (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP63028310A JP2621293B2 (en) 1988-02-09 1988-02-09 Printed circuit board manufacturing method

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP63028310A JP2621293B2 (en) 1988-02-09 1988-02-09 Printed circuit board manufacturing method

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JPH01204497A JPH01204497A (en) 1989-08-17
JP2621293B2 true JP2621293B2 (en) 1997-06-18

Family

ID=12245047

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP63028310A Expired - Fee Related JP2621293B2 (en) 1988-02-09 1988-02-09 Printed circuit board manufacturing method

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP2621293B2 (en)

Families Citing this family (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH0368193A (en) * 1989-08-05 1991-03-25 Nippon Mektron Ltd Both side connection part of flexible circuit board and manufacture thereof

Family Cites Families (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS61214497A (en) * 1985-03-18 1986-09-24 シャープ株式会社 Manufacture of printed wiring board

Also Published As

Publication number Publication date
JPH01204497A (en) 1989-08-17

Similar Documents

Publication Publication Date Title
KR100346400B1 (en) Multi-layer pcb and the manufacturing method the same
JP2012094662A (en) Method of manufacturing multilayer wiring board
JP4742485B2 (en) Multilayer printed wiring board and manufacturing method thereof
JPH05291744A (en) Manufacture of multilayer interconnection board and insulating board with multilayer metal layer
JPH03285398A (en) Interlayer conduction structure of multilayer circuit board and method of forming the same
JP2621293B2 (en) Printed circuit board manufacturing method
JP3871910B2 (en) Flexible printed circuit board having cable and manufacturing method thereof
JP2655447B2 (en) Multilayer printed wiring board for surface mounting and method of manufacturing the same
JP2741238B2 (en) Flexible printed wiring board and method of manufacturing the same
JP2001257476A (en) Multilayer wiring board and manufacturing method thereof
KR100294157B1 (en) Manufacturing method for interconnecting multilayer circuit board
JP4199957B2 (en) Manufacturing method of multilayer wiring board
JPH0818228A (en) Manufacture of multi-layer printed board
JPH09199855A (en) Manufacture of multilayer interconnection board
JP2547650B2 (en) Multilayer substrate with resistor inside
JPH04354180A (en) Manufacture of multilayer printed wiring board
JPS62186595A (en) Multilayer printed wiring board and manufacture of the same
JP4176283B2 (en) Manufacturing method of flexible fine multilayer circuit board
JPH0747904Y2 (en) Composite multilayer printed wiring board
JPH03289194A (en) Manufacture of multilayer circuit board
JPH05299838A (en) Manufacture of multilayer wiring board
JPH06125175A (en) Manufacture of multilayer printed wiring board
JPH08111584A (en) Manufacture of sheet laminated multilayer wiring board
JP5857632B2 (en) Circuit board, circuit board manufacturing method, and electronic apparatus
JPH03289195A (en) Manufacture of multilayer circuit board

Legal Events

Date Code Title Description
LAPS Cancellation because of no payment of annual fees