JP2652279B2 - Information recording medium - Google Patents
Information recording mediumInfo
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- JP2652279B2 JP2652279B2 JP3100412A JP10041291A JP2652279B2 JP 2652279 B2 JP2652279 B2 JP 2652279B2 JP 3100412 A JP3100412 A JP 3100412A JP 10041291 A JP10041291 A JP 10041291A JP 2652279 B2 JP2652279 B2 JP 2652279B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- substrate
- groove
- light absorbing
- absorbing layer
- dye
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Lifetime
Links
Landscapes
- Optical Record Carriers And Manufacture Thereof (AREA)
Description
【0001】[0001]
【産業上の利用分野】本発明は、レーザ光による情報の
記録及び/又は再生が可能な情報記録媒体に関するもの
である。BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to an information recording medium capable of recording and / or reproducing information by a laser beam.
【0002】[0002]
【従来の技術】近年において、レーザ光等の高エネルギ
ー密度のビームを用いる情報記録媒体が開発され、実用
化されている。この情報記録媒体は光ディスクと称さ
れ、ビデオ・ディスク、オーディオ・ディスク、さらに
は大容量静止画像ファイルおよび大容量コンピュータ用
ディスク・メモリーとして使用され得るものである。こ
れらの情報記録媒体のうちで、音楽等のオーディオ再生
用としてコンパクトディスク(CD)が広く実用化され
ている。コンパクトディスクは、製造時に基板上に形成
されたピット列からなる情報を再生するためにのみ使用
される。すなわち、コンパクトディスクは、適当なプラ
スチック材料を成形してスパイラル状にピットを形成
し、そしてその表面に反射層として金属層を形成するこ
とにより製造される。このように、コンパクトディスク
は再生専用の記録媒体である。2. Description of the Related Art In recent years, information recording media using high energy density beams such as laser beams have been developed and put into practical use. This information recording medium is called an optical disk, and can be used as a video disk, an audio disk, a large-capacity still image file, and a disk memory for a large-capacity computer. Among these information recording media, compact discs (CDs) are widely used for audio reproduction of music and the like. A compact disc is used only for reproducing information consisting of a series of pits formed on a substrate at the time of manufacture. That is, a compact disc is manufactured by molding a suitable plastic material to form pits in a spiral shape, and then forming a metal layer as a reflective layer on the surface thereof. Thus, the compact disc is a recording medium exclusively for reproduction.
【0003】コンパクトディスクの情報の読み取りは、
ディスクを回転させながらレーザビームを照射すること
により行なわれる。情報はディスク上のピットの有無に
よる反射光量の変化を検知して再生される。再生のみの
コンパクトディスクは、CD規格に基づいて、CDを
1.2〜1.4m/秒の定線速度で回転させながら読み
取る(再生する)ように作られており、信号面内径46
mmおよび信号面外径116mmの範囲内で、トラック
ピッチ1.6μmにて最大約74分の記録時間を有する
ことが要求されている。[0003] Reading information from a compact disc is as follows.
This is performed by irradiating a laser beam while rotating the disk. The information is reproduced by detecting a change in the amount of reflected light due to the presence or absence of pits on the disk. The compact disc for reproduction only is designed to read (reproduce) the CD while rotating it at a constant linear speed of 1.2 to 1.4 m / sec based on the CD standard.
mm and a signal surface outer diameter of 116 mm, it is required to have a maximum recording time of about 74 minutes at a track pitch of 1.6 μm.
【0004】また、情報の書き込み(記録)が可能なD
RAW(DirectRead After Write)型の情報記録媒体に
ついても開発され一部実用化されている。このようなD
RAW型の情報記録媒体(光ディスク)は、基本構造と
して、プラスチック、ガラス等からなる円盤状の透明基
板と、この上に設けられたBi、Sn、In、Te等の
金属または半金属からなる記録層又は色素からなる記録
層とを有する。光ディスクへの情報の記録は、例えば、
レーザビームを光ディスクに照射することにより行なわ
れ、記録層の照射部分がその光を吸収して局所的に温度
上昇する結果、ピット形成等の物理的変化あるいは相変
化等の化学的変化を生じてその光学的特性を変えること
により情報が記録される。光ディスクからの情報の読み
取り(再生)もまた、レーザビームを光ディスクに照射
することなどにより行なわれ、記録層の光学的特性の変
化に応じた反射光または透過光を検出することにより情
報が再生される。[0004] In addition, D in which writing (recording) of information is possible is performed.
A RAW (Direct Read After Write) type information recording medium has also been developed and partially put into practical use. Such a D
The RAW type information recording medium (optical disk) has a disc-shaped transparent substrate made of plastic, glass, or the like, and a recording material made of a metal or semimetal such as Bi, Sn, In, Te, etc. provided thereon. And a recording layer comprising a dye. Recording of information on an optical disc is performed, for example, by
This is performed by irradiating the laser beam onto the optical disk, and the irradiated portion of the recording layer absorbs the light and locally rises in temperature, resulting in a physical change such as pit formation or a chemical change such as a phase change. Information is recorded by changing its optical properties. Reading (reproduction) of information from the optical disk is also performed by irradiating the optical disk with a laser beam, and the information is reproduced by detecting reflected light or transmitted light corresponding to a change in the optical characteristics of the recording layer. You.
【0005】上記光ディスクへの情報の記録及び再生の
ためのレーザビームの照射は、通常ディスク表面の所定
の位置に行われる。レーザビームを案内して照射予定位
置に正確にたどる(一般にトラッキングと呼ばれる)よ
うにするため、凹溝のトラッキングガイド(プリグルー
ブ)が基板の表面に設けられることが一般的である。[0005] Irradiation of a laser beam for recording and reproducing information on the optical disk is usually performed at a predetermined position on the disk surface. In order to guide the laser beam and accurately follow the expected irradiation position (generally called tracking), a tracking guide (pre-groove) of a concave groove is generally provided on the surface of the substrate.
【0006】また、上記のような記録可能な領域の内周
側に、基板上に予めピットが形成されたROM領域が設
けられた情報記録媒体が提案されている(特開平2−4
2652号公報参照)。この情報記録媒体においては、
色素からなるレーザ光吸収層が記録可能領域にのみ設け
られ、プリピットが形成されたROM領域には色素から
なるレーザ光吸収層は設けられていない。その理由は、
プリピットが形成された領域に色素からなるレーザ光吸
収層を設けると、プレピット信号の変調度が小さくなり
ROM領域の情報を実用的に再生することができなくな
るためである。Further, there has been proposed an information recording medium in which a ROM area in which pits are previously formed on a substrate is provided on the inner peripheral side of the above-described recordable area (Japanese Patent Laid-Open No. 2-4).
2652). In this information recording medium,
The laser light absorbing layer made of a dye is provided only in the recordable area, and the laser light absorbing layer made of the dye is not provided in the ROM area where the prepits are formed. The reason is,
This is because, if a laser light absorbing layer made of a dye is provided in the area where the pre-pits are formed, the modulation degree of the pre-pit signal becomes small and information in the ROM area cannot be reproduced practically.
【0007】本発明者は、プリピット領域に色素からな
る光吸収層を設けても、プリピット領域のピット部の光
吸収層の光学的膜厚とピット間部の光吸収層の光学的膜
厚との差がλ/8(但し、λは再生用レーザ光の波長)
以下であるように光吸収層を設けることによって、高い
変調度でプリピット信号を再生できることを見出し、プ
リピット領域及びプリグルーブ領域の両方に色素を含む
光吸収層を形成した情報記録媒体について既に特許出願
している(特願平2−191257号参照)。この情報
記録媒体においては、プリグルーブ領域においても、色
素を含む光吸収層の、グルーブ底部の光学的膜厚とラン
ド部の光学的膜厚との差がλ/8(但し、λは再生用レ
ーザ光の波長)以下であり、プリグルーブの深さを浅く
しても光吸収層の表面の溝の深さを十分大きくすること
ができ、そのために記録感度が高く、レーザ光を照射し
て情報を記録した後、変調度の高い再生信号を得ること
ができる。The inventor of the present invention has proposed that the optical film thickness of the light absorbing layer in the pit portion of the pre-pit region and the optical film thickness of the light absorbing layer in the inter-pit region can be obtained even if the light absorbing layer made of a dye is provided in the pre-pit region. Is λ / 8 (where λ is the wavelength of the reproducing laser beam)
It has been found that by providing a light absorbing layer as described below, a pre-pit signal can be reproduced with a high degree of modulation, and a patent application has already been filed for an information recording medium having a light absorbing layer containing a dye in both the pre-pit region and the pre-groove region. (See Japanese Patent Application No. 2-191257). In this information recording medium, even in the pre-groove region, the difference between the optical film thickness of the groove bottom portion and the optical film thickness of the land portion of the light absorbing layer containing the dye is λ / 8 (where λ is (Wavelength of laser light) or less, and even if the depth of the pre-groove is reduced, the depth of the groove on the surface of the light absorbing layer can be made sufficiently large. After recording the information, a reproduced signal having a high modulation degree can be obtained.
【0008】プリグルーブ領域にのみ色素を含む光吸収
層を設ける場合には、光吸収層のグルーブ底部の光学的
膜厚がランド部の光学的膜厚よりも大きくなるので、グ
ルーブの深さは一般に40〜400nmの範囲になるよ
うに形成されているが、上記のようにプリグルーブ領域
とプリピット領域との両方に色素を含む光吸収層を設け
る場合には、反射率を高くするためにグルーブの深さを
15〜60nmの範囲のように小さくすることが好まし
い。When a light absorbing layer containing a dye is provided only in the pre-groove region, the optical thickness at the bottom of the groove of the light absorbing layer is larger than the optical thickness at the land, so that the depth of the groove is small. Generally, it is formed to have a range of 40 to 400 nm. However, when the light absorbing layer containing a dye is provided in both the pre-groove region and the pre-pit region as described above, the groove is formed in order to increase the reflectance. Is preferably reduced to a depth in the range of 15 to 60 nm.
【0009】ところで、上記のような情報記録媒体の基
板は一般に、基板の光学的特性、平面性、加工性、取扱
い性、経時安定性および製造コストなどの点から、ポリ
メチルメタクリレート等のアクリル樹脂;ポリ塩化ビニ
ル、塩化ビニル共重合体等の塩化ビニル系樹脂;エポキ
シ樹脂;ポリカーボネート樹脂;アモルファスポリオレ
フィン、ポリエステル等のような熱可塑性樹脂を射出成
形することによって製造される。By the way, the substrate of the information recording medium as described above is generally made of an acrylic resin such as polymethyl methacrylate in view of the optical characteristics of the substrate, flatness, workability, handleability, stability over time, and manufacturing cost. Manufactured by injection molding a polyvinyl chloride resin such as polyvinyl chloride or a vinyl chloride copolymer; an epoxy resin; a polycarbonate resin; a thermoplastic resin such as amorphous polyolefin or polyester.
【0010】即ち、情報記録媒体の基板のプリグルーブ
領域のグルーブ(溝)又はプリピット領域のピット
(穴)に対応するスパイラル状又は同心円状の凸条が形
成されたスタンパを射出成形機のキャビティ内に装着
し、基板用樹脂を射出成形することによって、スタンパ
の凸条が転写されてグルーブ又はピットが形成された基
板が製造される。That is, a stamper in which a spiral or concentric ridge corresponding to a groove (groove) in a pre-groove area or a pit (hole) in a pre-pit area of a substrate of an information recording medium is formed is placed in a cavity of an injection molding machine. Then, the substrate resin is injection-molded, whereby the substrate on which the ridges of the stamper are transferred and grooves or pits are formed is manufactured.
【0011】スタンパは、一般に、光学的に完全に平坦
な洗浄済みガラス原板にフォトレジスト層を形成し、こ
れにレーザ光を露光して情報信号を記録し、次いで現像
処理をして微細凹凸パターンを形成させる。次いで、こ
の微細凹凸パターン形成面に、真空蒸着、スパッタリン
グ、無電解メッキ等により導電性薄膜を形成させ、この
導電性薄膜にニッケル電鋳を施し、裏面研磨及び内外径
加工を行うことによって製造される。In general, a stamper is formed by forming a photoresist layer on a cleaned original glass plate that is optically completely flat, exposing it to a laser beam to record an information signal, and then performing a development process to form a fine uneven pattern. Is formed. Next, a conductive thin film is formed on the surface on which the fine uneven pattern is formed by vacuum evaporation, sputtering, electroless plating, or the like, and the conductive thin film is subjected to nickel electroforming, and is manufactured by performing back surface polishing and inner and outer diameter processing. You.
【0012】ところで、上記のようにプリグルーブ領域
において、色素を含む光吸収層の、グルーブ底部の光学
的膜厚とランド部の光学的膜厚との差を小さくすると、
グルーブ底部の光学的膜厚が小さくなり、基板のグルー
ブ底部の形状が光吸収層の表面即ち光吸収層と反射層と
の界面に反映される度合が大きくなり、その結果、基板
のグルーブ底部のノイズが情報記録媒体の情報再生性能
に及ぼす影響が大きくなり、情報記録媒体のC/Nが低
下する傾向になる。なお、従来のようにグルーブ深さを
大きくし、グルーブ底部の光学的膜厚をランド部の光学
的膜厚よりも非常に大きくした場合は、光吸収層の表面
形状への基板のグルーブ底部の形状の影響は小さいので
特に考慮されなかったのであろうが、その場合は、前記
のように反射率や再生信号の変調度が小さく、プリピッ
ト部に光吸収層を設けることもできない。By the way, as described above, in the pre-groove region, when the difference between the optical film thickness at the groove bottom and the optical film at the land of the light absorbing layer containing a dye is reduced,
The optical film thickness at the bottom of the groove becomes smaller, and the degree of reflection of the shape of the bottom of the groove on the surface of the light absorption layer, that is, the interface between the light absorption layer and the reflection layer, increases. The influence of noise on the information reproduction performance of the information recording medium increases, and the C / N of the information recording medium tends to decrease. In the case where the groove depth is increased and the optical thickness at the bottom of the groove is much larger than the optical thickness at the land as in the conventional case, when the groove at the bottom of the substrate is shaped into the surface shape of the light absorbing layer. Although the influence of the shape was small, it would not have been considered in particular, but in that case, as described above, the reflectance and the degree of modulation of the reproduced signal were small, and the light absorption layer could not be provided in the prepit portion.
【0013】[0013]
【発明が解決しようとする課題】レーザ光を照射して情
報を記録した後、変調度及び反射率が高く、更にC/N
値の高い再生信号を得ることができ、トラッキング特性
が良好な情報記録媒体を提供する。After recording information by irradiating a laser beam, the degree of modulation and the reflectance are high, and the C / N ratio is high.
A reproduction signal having a high value can be obtained, and an information recording medium having good tracking characteristics is provided.
【0014】また、プリグルーブ形成領域と共に設けら
れたプリピット形成領域にも色素を含む光吸収層が形成
されており、しかもプリピット形成領域からCD規格を
満足する再生信号を得ることができる情報記録媒体を提
供する。An information recording medium in which a light-absorbing layer containing a dye is also formed in a pre-pit formation region provided together with the pre-groove formation region, and a reproduction signal satisfying the CD standard can be obtained from the pre-pit formation region. I will provide a.
【0015】[0015]
【課題を解決するための手段】本発明は、プリグルーブ
が形成された円盤状の樹脂製基板上に、レーザ光を照射
して再生用のピットを形成することにより情報の記録が
可能な色素を含む光吸収層が設けられ、更に該光吸収層
上に金属からなる反射層が設けられてなる情報記録媒体
であって、該基板のプリグルーブのグルーブ底部の中心
線平均あらさ(Ra)が0.001μm以下であり、且
つ、グルーブ底部の光吸収層の光学的膜厚とランド部の
光吸収層の光学的膜厚との差がλ/8(但し、λは再生
用レーザ光の波長)以下であることを特徴とする情報記
録媒体。SUMMARY OF THE INVENTION The present invention provides a dye capable of recording information by irradiating a laser beam on a disk-shaped resin substrate on which a pregroove is formed to form pits for reproduction. An information recording medium provided with a light absorbing layer containing: and a reflective layer made of metal on the light absorbing layer, wherein the center line average roughness (Ra) of the groove bottom of the pre-groove of the substrate is 0.001 μm or less, and the difference between the optical film thickness of the light absorbing layer at the bottom of the groove and the optical film thickness of the light absorbing layer at the land is λ / 8 (where λ is the wavelength of the reproducing laser beam). ) An information recording medium characterized by the following.
【0016】本明細書において、中心線平均あらさ(R
a)は、あらさ曲線の中心線の方向の測定長さをLと
し、中心線をX軸とし縦倍率の方向をY軸とし、あらさ
曲線をy=f(x)で表わしたとき、下記式(1)で与
えられる[佐藤健児著、「表面工学概論」(養賢堂発
行)参照]。In this specification, the center line average roughness (R
a) represents the measurement length in the direction of the center line of the roughness curve as L, the center line as the X axis, the direction of the vertical magnification as the Y axis, and the roughness curve as y = f (x), (1) [See Kenji Sato, "Introduction to Surface Engineering" (published by Yokendo)].
【0017】[0017]
【数1】 (Equation 1)
【0018】上記本発明の情報記録媒体の好ましい態様
は以下の通りである。 (1)上記基板のグルーブ底部の中心線平均あらさ(R
a)が、0.0005μm以下であることを特徴とする
上記の情報記録媒体。Preferred embodiments of the information recording medium of the present invention are as follows. (1) The center line average roughness (R
The above-mentioned information recording medium, wherein a) is 0.0005 μm or less.
【0019】(2)上記基板が、射出成形により製造さ
れたプリグルーブが形成された樹脂製基板のプリグルー
ブ形成面を、基板を溶解し得る溶剤を含む処理液と接触
させることによって得られた基板であることを特徴とす
る上記の情報記録媒体。(2) The substrate is obtained by contacting a pre-groove forming surface of a resin substrate having a pre-groove formed by injection molding with a processing solution containing a solvent capable of dissolving the substrate. The information recording medium described above, which is a substrate.
【0020】(3)上記基板が、ガラス原板にフォトレ
ジスト層を形成し、これにレーザ光を渦巻状または円環
状に露光し、現像処理をして凸条を形成させ、105℃
以上の温度でポストベークし、次いで電鋳して製造した
スタンパを使用し、射出成形により製造した樹脂基板で
あることを特徴とする上記の情報記録媒体。(3) The substrate is formed by forming a photoresist layer on an original glass plate, exposing it to a spiral or annular laser beam, and developing it to form ridges.
The information recording medium as described above, which is a resin substrate manufactured by injection molding using a stamper manufactured by post-baking at the above temperature and then electroforming.
【0021】(4)上記プリグルーブが0.2〜1.4
μmの半値幅と、5〜70nmの深さを有することを特
徴とする上記の情報記録媒体。(4) The pre-groove is 0.2 to 1.4.
The information recording medium as described above, which has a half-value width of μm and a depth of 5 to 70 nm.
【0022】(5)上記グルーブ底部の光吸収層の光学
的膜厚とランド部の光吸収層の光学的膜厚との差がλ/
16(但し、λは再生用レーザ光の波長)以下であるこ
とを特徴とする上記の情報記録媒体。(5) The difference between the optical thickness of the light absorbing layer at the bottom of the groove and the optical thickness of the light absorbing layer at the land is λ /
16 (where λ is the wavelength of the reproducing laser beam) or less.
【0023】(6)上記基板に、更にプリピットが形成
され、プリピット形成領域にも上記光吸収層が設けら
れ、ピット部の光吸収層の光学的膜厚とピット間部の光
吸収層の光学的膜厚との差がλ/8(但し、λは再生用
レーザ光の波長)以下、好ましくはλ/16以下である
ことを特徴とする上記の情報記録媒体。(6) Pre-pits are further formed on the substrate, and the light-absorbing layer is also provided in the pre-pit formation region. The optical film thickness of the light-absorbing layer in the pit portion and the optical absorption of the light-absorbing layer in the inter-pit portion are provided. The information recording medium as described above, wherein the difference from the target film thickness is λ / 8 (where λ is the wavelength of the reproducing laser beam), preferably λ / 16 or less.
【0024】(7)上記プリピットが0.2〜1.4μ
mの半値幅と、60〜300nmの深さを有することを
特徴とする上記情報記録媒体。(7) The pre-pit has a size of 0.2 to 1.4 μm.
The information recording medium according to claim 1, wherein the information recording medium has a half width of m and a depth of 60 to 300 nm.
【0025】(8)上記プリグルーブの深さが、上記プ
リピットの深さよりも、光路長で表わしてλ/16以上
短いことを特徴とする上記情報記録媒体。(8) The information recording medium as described above, wherein the depth of the pre-groove is shorter than the depth of the pre-pit by λ / 16 or more in terms of an optical path length.
【0026】(9)上記反射層の上に、更に保護層が形
成されていることを特徴とする上記情報記録媒体。(9) The information recording medium as described above, wherein a protective layer is further formed on the reflective layer.
【0027】本発明の情報記録媒体は、プリグルーブ
(及び、任意に更にプリグルーブ)が形成された樹脂基
板上に、色素を含む光吸収層及び金属からなる反射層が
この順で設けられた基本構成を有する。In the information recording medium of the present invention, a light absorbing layer containing a dye and a reflective layer made of a metal are provided in this order on a resin substrate on which a pre-groove (and optionally a pre-groove) is formed. It has a basic configuration.
【0028】本発明における円盤状の基板の材料として
は、従来の情報記録媒体の基板として用いられている各
種の樹脂材料から任意に選択することができる。基板の
光学的特性、平面性、加工性、取扱い性、経時安定性及
び製造コストなどの点から、基板材料の例としては、ポ
リメチルメタクリレート等のアクリル樹脂;ポリ塩化ビ
ニル、塩化ビニル共重合体等の塩化ビニル系樹脂;エポ
キシ樹脂;ポリカーボネート樹脂;アモルファスポリオ
レフィン及びポリエステルを挙げることができる。好ま
しくは、ポリカーボネート、ポリオレフィン、及びポリ
メチルメタクリレートを挙げることができる。The material of the disc-shaped substrate in the present invention can be arbitrarily selected from various resin materials used as substrates of conventional information recording media. Substrate materials include acrylic resins such as polymethyl methacrylate; polyvinyl chloride, and vinyl chloride copolymer in view of the optical characteristics, flatness, workability, handleability, stability over time, and manufacturing cost of the substrate. And the like; a vinyl chloride resin such as an epoxy resin; a polycarbonate resin; an amorphous polyolefin and a polyester. Preferably, polycarbonate, polyolefin, and polymethyl methacrylate can be mentioned.
【0029】本発明においては、上記基板表面には記録
又は再生時のトラッキングを良好に行なうために、プリ
グルーブ(トラッキング用溝)が形成されている。プリ
グルーブの形状は、グルーブの深さ(添付する第1図の
d1 )が5〜70nmの範囲にあり且つグルーブの半値
幅(グルーブの深さの1/2の深さにおけるグルーブの
幅)が0.2〜1.4μmであるものが好ましく、グル
ーブの深さが15〜60nmの範囲にあり且つグルーブ
の半値幅が0.3〜0.7μmであるものが更に好まし
く、グルーブの深さが20〜50nmの範囲にあり且つ
グルーブの半値幅が0.35〜0.6μmであるものが
最も好ましい。アドレッシング、或は線速制御用にグル
ーブをウォブリングさせても良い。In the present invention, a pre-groove (tracking groove) is formed on the surface of the substrate in order to perform good tracking during recording or reproduction. The shape of the pre-groove, the depth of the groove half-value width of located and grooves in a range of 5 to 70 nm (d 1 of the first accompanying figures) (width of the groove in the half of the depth of the depth of the groove) Is preferably 0.2 to 1.4 μm, more preferably the groove depth is in the range of 15 to 60 nm and the half width of the groove is 0.3 to 0.7 μm. Is most preferably in the range of 20 to 50 nm and the half width of the groove is 0.35 to 0.6 μm. Grooves may be wobbled for addressing or linear velocity control.
【0030】上記のような基板は、精密に作られたスタ
ンパ(母型)を使用し、基板用の樹脂材料を射出成形す
ることによって製造することができる。The substrate as described above can be manufactured by using a precision stamper (mother) and injection molding a resin material for the substrate.
【0031】本発明の情報記録媒体においては、上記基
板のグルーブ底部の中心線平均あらさ(Ra)が0.0
01μm以下、好ましくは0.0005μm以下である
ことに特徴を有する。グルーブ底部の中心線平均あらさ
は、例えば、走査トンネル顕微鏡を使用してあらさ曲線
を求め、前記の式(1)に従って求めることができる。In the information recording medium of the present invention, the center line average roughness (Ra) of the groove bottom of the substrate is 0.0.
It is characterized in that it is not more than 01 μm, preferably not more than 0.0005 μm. The center line average roughness of the groove bottom can be determined, for example, by using a scanning tunneling microscope and determining an roughness curve according to the above-described equation (1).
【0032】グルーブ底部の中心線平均あらさが上記の
ような樹脂基板は、例えば、射出成形により製造された
プリグルーブが形成された樹脂製基板のプリグルーブ形
成面を、基板を溶解し得る溶剤を含む処理液と接触させ
る方法によって製造することができる。基板のグルーブ
底部が上記処理液と接触することによって、グルーブ底
部の凸部が優先的に溶解し、その結果グルーブ底部が平
滑になり中心線平均あらさが小さくなる。The resin substrate having the center line average roughness at the bottom of the groove as described above may be formed, for example, by using a solvent capable of dissolving the pregroove forming surface of the resin substrate having the pregroove formed by injection molding. It can be manufactured by a method of contacting with a processing solution containing the same. When the groove bottom of the substrate comes into contact with the treatment liquid, the convex portion of the groove bottom is preferentially dissolved, and as a result, the groove bottom becomes smooth and the center line average roughness becomes small.
【0033】この方法で使用する処理液は、基板を溶解
し得る溶剤を含むものであれば特に限定されない。しか
しながら、処理液の基板樹脂に対する溶解力が大き過ぎ
ると、基板に処理液を接触させる際に、短時間で基板の
溶解が急速に進行し、グルーブの深さが大きくなった
り、グルーブの半値幅が大きくなり相対的にランド部が
細くなったり、甚だしい場合はランド部に欠損部が生じ
たりする恐れがある。従って、グルーブ底部の中心線平
均あらさの小さい基板を、制御条件の許容範囲を広くし
容易に、且つ再現性良く安定して製造するためには、処
理液の接触温度で処理液の基板樹脂に対する溶解力が、
あまり大きくないことが好ましい。The treatment liquid used in this method is not particularly limited as long as it contains a solvent capable of dissolving the substrate. However, if the dissolving power of the processing liquid in the substrate resin is too large, when the processing liquid is brought into contact with the substrate, the dissolution of the substrate proceeds rapidly in a short time, and the depth of the groove increases, or the half-width of the groove increases. And the land portion may be relatively thin, or in a severe case, a defective portion may be formed in the land portion. Therefore, in order to easily and stably produce a substrate having a small center line average roughness at the bottom of the groove with a wide allowable range of control conditions and good reproducibility, the processing solution is exposed to the substrate resin at a contact temperature. Solvent power
Preferably not too large.
【0034】上記処理液の基板樹脂に対する溶解力の適
切な値は、処理液を基板と接触させる方法によっても変
わるので、一律に定めることはできないが、例えば、ス
ピンコート法により回転する基板の面上に処理液を供給
して基板に処理液を接触させる場合には、接触温度にお
いて、処理液の基板樹脂に対する溶解力(本明細書にお
いては、処理液中への基板樹脂の飽和溶解度で表わす)
が、0.01〜10g/mlである処理液が好ましい。The appropriate value of the dissolving power of the treatment liquid to the substrate resin cannot be determined uniformly because it varies depending on the method of bringing the treatment liquid into contact with the substrate. In the case where the processing liquid is supplied onto the substrate and the processing liquid is brought into contact with the substrate, the dissolving power of the processing liquid with respect to the substrate resin (in this specification, represented by the saturation solubility of the substrate resin in the processing liquid) )
However, a treatment liquid having a concentration of 0.01 to 10 g / ml is preferable.
【0035】上記処理液の具体的物質は、樹脂基板の材
料の種類に応じて変わるので一律に特定することはでき
ない。上記処理液は、上記のような溶解力を有する単一
の溶剤であってもよいが、上記溶解力の値から理解され
るように、上記処理液の基板樹脂に対する溶解力は比較
的小さいものであるので、上記処理液は一般に、基板樹
脂の貧溶剤と基板樹脂の良溶剤(一般に、貧溶剤よりも
少量の)との混合物であることが好ましい。このような
混合溶剤を使用する場合には、処理すべき基板のグルー
ブ底部の状態や処理条件に応じて、良溶剤と貧溶剤との
割合を変化させて最適の処理液を調製することができる
という利点もある。The specific substance of the treatment liquid varies depending on the type of the material of the resin substrate, and cannot be uniformly specified. The processing liquid may be a single solvent having the above-mentioned dissolving power, but as understood from the value of the above-mentioned dissolving power, the dissolving power of the above-mentioned processing liquid in the substrate resin is relatively small. Therefore, it is generally preferable that the treatment liquid is a mixture of a poor solvent for the substrate resin and a good solvent (generally, a smaller amount than the poor solvent) for the substrate resin. When such a mixed solvent is used, an optimum processing solution can be prepared by changing the ratio of the good solvent and the poor solvent according to the state of the groove bottom of the substrate to be processed and the processing conditions. There is also an advantage.
【0036】特定の基板用樹脂に適した上記の単一の溶
剤、良溶剤及び貧溶剤は、文献を参照して又は実験的に
当業者が容易に選定することができる。例えば、基板用
樹脂としてポリカーボネートを使用する場合は、好まし
い良溶剤としては例えば、ジクロロエタン、トリクロロ
エタン、テトラクロロエタン、トルエン、キシレン、ア
セトンなどを挙げることができ、好ましい貧溶剤として
は例えば、エタノール、メタノール、n−プロパノー
ル、シクロヘキサン、フッ素アルコール、ヘキサン、オ
クタン、エチルセロソルブ、メチルセロソルブ、エチル
エーテルなどを挙げることができる。The above-mentioned single solvent, good solvent and poor solvent suitable for a specific substrate resin can be easily selected by those skilled in the art by referring to the literature or experimentally. For example, when using polycarbonate as the resin for the substrate, as a preferable good solvent, for example, dichloroethane, trichloroethane, tetrachloroethane, toluene, xylene, acetone and the like can be mentioned, and as a preferable poor solvent, for example, ethanol, methanol, Examples thereof include n-propanol, cyclohexane, fluorine alcohol, hexane, octane, ethyl cellosolve, methyl cellosolve, and ethyl ether.
【0037】グルーブ底部の中心線平均あらさが上記の
ような樹脂基板を製造するための他の方法は、ガラス原
板にフォトレジスト層を形成し、これにレーザ光を渦巻
状または円環状に露光し、現像処理をして凸条を形成さ
せ、105℃以上の温度でポストベークし、次いで電鋳
して製造したスタンパを使用し、基板樹脂材料を射出成
形して製造する方法である。上記のスタンパは、現像処
理後のポストベークを105℃以上の温度で行なうこと
以外は、従来の方法によって製造されたスタンパであ
る。従来、上記のポストベークは80〜90℃の温度で
20分間程度行なわれていたが、ポストベークを105
℃以上の温度で行なって製造したスタンパを使用するこ
とにより、意外にも前記のようなグルーブ底部の平滑度
が良好な樹脂製基板を製造することが可能になった。上
記ポストベークは、105〜150℃の温度で、20分
間〜10時間行なうことが好ましい。Another method for manufacturing a resin substrate having a center line average roughness at the bottom of the groove as described above is to form a photoresist layer on a glass substrate and expose it to a spiral or annular laser beam. A method in which a ridge is formed by developing, post-baked at a temperature of 105 ° C. or higher, and then a substrate resin material is injection molded using a stamper manufactured by electroforming. The above stamper is a stamper manufactured by a conventional method except that post-baking after development processing is performed at a temperature of 105 ° C. or higher. Conventionally, the post-baking has been performed at a temperature of 80 to 90 ° C. for about 20 minutes.
By using a stamper manufactured at a temperature of not less than ° C., it became possible to manufacture a resin substrate having good smoothness at the groove bottom as described above. The post-baking is preferably performed at a temperature of 105 to 150 ° C. for 20 minutes to 10 hours.
【0038】このようなスタンパを使用して製造した樹
脂製基板は、そのまま本発明の情報記録媒体の基板とし
て使用してもよく、また、前記のような処理液により処
理した後本発明の情報記録媒体の基板として使用しても
よい。A resin substrate manufactured by using such a stamper may be used as it is as a substrate of the information recording medium of the present invention, or after being treated with the above-described processing liquid, the information substrate of the present invention may be used. It may be used as a substrate of a recording medium.
【0039】本発明においては、更に、上記基板表面
に、種々のアプリケーションソフト、アドレス信号など
の情報を予め記録したプリピット(ROM領域)が形成
されていてもよい。プリピットの形状は、ピットの深さ
(添付する第2図のd2 )が60〜300nmの範囲に
あり且つピットの半値幅(ピットの深さの1/2の深さ
におけるピットの幅)が0.2〜1.4μmであるもの
が好ましく、ピットの深さが70〜250nmの範囲に
あり且つピットの半値幅が0.3〜1.0μmであるも
のが更に好ましく、ピットの深さが90〜200nmの
範囲にあり且つピットの半値幅が0.4〜0.7μmで
あるものが最も好ましい。In the present invention, prepits (ROM areas) in which information such as various application software and address signals are recorded in advance may be formed on the substrate surface. The shape of the pre-pit, the depth of the pit (the width of the pits in half the depth of the depth of the pits) (Figure 2 d 2 of the appended) is in the range of 60~300nm and half-value width of the pits It is preferably 0.2 to 1.4 μm, more preferably the pit depth is in the range of 70 to 250 nm, and the pit half width is 0.3 to 1.0 μm. Most preferably, it is in the range of 90 to 200 nm and the half width of the pit is 0.4 to 0.7 μm.
【0040】また、プリピットが形成される場合、プリ
グルーブの深さは、プリピットの深さよりも光路長で表
わしてλ/16(但し、λは再生用レーザ光の波長であ
って、以下の記載において同じである)以上短いことが
好ましく、λ/14以上短いことが更に好ましく、λ/
12以上短いことが特に好ましい。その理由は、プリグ
ルーブの深さを、変調度が十分大きくなるプリピットの
深さと同じように大きくすると、プリグルーブの反射率
が低くなり過ぎるからである。When a prepit is formed, the depth of the pregroove is expressed by an optical path length λ / 16 (where λ is the wavelength of the laser beam for reproduction and is described below). Is the same or shorter), more preferably λ / 14 or more, more preferably λ / 14 or more.
It is particularly preferable that the length be 12 or more. The reason is that if the depth of the pre-groove is made as large as the depth of the pre-pit at which the degree of modulation is sufficiently large, the reflectance of the pre-groove becomes too low.
【0041】プリグルーブと共にプリピットが形成され
た基板は、プリピットを追加して形成することの他は、
プリグルーブのみが形成された基板を製造する場合と同
様にして製造することができる。The substrate on which the pre-pits are formed together with the pre-grooves is formed by adding the pre-pits.
It can be manufactured in the same manner as when manufacturing a substrate on which only a pre-groove is formed.
【0042】プリグルーブを形成した基板上に、例え
ば、アクリル系樹脂、スチレン系樹脂、ポリオレフィン
系樹脂、ポリアミド樹脂などの樹脂を含む塗布液を使用
して、光吸収層を形成するための塗布液中の溶剤から保
護するための耐溶剤層を設けてもよい。A coating solution for forming a light-absorbing layer using a coating solution containing a resin such as an acrylic resin, a styrene resin, a polyolefin resin, or a polyamide resin on the substrate on which the pregroove is formed. A solvent-resistant layer may be provided for protection from the solvent therein.
【0043】基板(または耐溶剤層)上には、色素を含
む光吸収層が設けられている。基板側からレーザ光を照
射して光吸収層に再生用のピットを形成することによ
り、光吸収層に情報を記録する。従って、基板のプリグ
ルーブが形成された領域の光吸収層は、記録層として機
能する。A light absorbing layer containing a dye is provided on the substrate (or the solvent resistant layer). By irradiating laser light from the substrate side to form pits for reproduction in the light absorbing layer, information is recorded on the light absorbing layer. Therefore, the light absorbing layer in the region of the substrate where the pre-groove is formed functions as a recording layer.
【0044】本発明に使用される色素は特に限定される
ものではなく、どのようなものでも良い。例えば、シア
ニン系色素、フタロシアニン系色素、ナフタロシアニン
系色素、ピリリウム系色素、チオピリリウム系色素、ア
ズレニウム系色素、スクワリリウム系色素、Ni,Cr
などの金属錯塩系色素、ナフトキノン系色素、アントラ
キノン系色素、インドフェノール系色素、インドアニリ
ン系色素、トリフェニルメタン系色素、トリアリルメタ
ン系色素、アミニウム系色素、ジインモニウム系色素、
ニトロソ系色素、ロイコ系色素、クロコニウム系色素、
等々の色素を挙げることができる。The dye used in the present invention is not particularly limited, and any dye may be used. For example, cyanine dyes, phthalocyanine dyes, naphthalocyanine dyes, pyrylium dyes, thiopyrylium dyes, azurenium dyes, squarylium dyes, Ni, Cr
Such as metal complex dyes, naphthoquinone dyes, anthraquinone dyes, indophenol dyes, indoaniline dyes, triphenylmethane dyes, triallylmethane dyes, aminium dyes, diimmonium dyes,
Nitroso dyes, leuco dyes, croconium dyes,
And the like.
【0045】これらの色素は、ライト・ワンス(WO)
型に限らず、リライタブル(RW)型(又は可逆型)の
ものであってもよい。These dyes are known as Light Once (WO)
Not limited to the type, it may be a rewritable (RW) type (or reversible type).
【0046】これらの色素のうちでも記録再生用レーザ
ーとして近赤外光を発振する半導体レーザーの利用が実
用化されている点から、700〜900nmの近赤外領
域の光に対する吸収率が高い色素が好ましい。Among these dyes, a dye having a high absorptance to light in the near infrared region of 700 to 900 nm is used because a semiconductor laser that emits near-infrared light is practically used as a recording / reproducing laser. Is preferred.
【0047】特に、シアニン系色素、アズレニウム系色
素及びスクワリリウム系色素が好ましく、シアニン系色
素の中でも、ナフトインドレニン系色素及びイミダゾキ
ノキサリン系色素が好ましい。In particular, a cyanine dye, an azurenium dye and a squarylium dye are preferred, and among the cyanine dyes, a naphthoindolenine dye and an imidazoquinoxaline dye are preferred.
【0048】これらの色素は単独でもあるいは二種以上
の混合物として用いてもよい。また、シアニン系色素を
用いる場合に、上記金属錯塩系色素またはアミニウム系
色素又はジインモニウム系色素をクエンチャーとして一
緒に用いることが好ましい。その場合、クエンチャーと
して金属錯塩系色素などを全色素1モルに対して0.0
01〜0.3モルの割合で含むことが好ましい。These dyes may be used alone or as a mixture of two or more. When a cyanine dye is used, the metal complex salt dye, the aminium dye, or the diimmonium dye is preferably used together as a quencher. In this case, a metal complex salt dye or the like is used as a quencher in an amount of 0.0
It is preferable to contain it in a proportion of from 01 to 0.3 mol.
【0049】本発明の情報記録媒体においては、光吸収
層のグルーブ底部の光学的膜厚とランド部の光学的膜厚
との差が、λ/8以下であることを特徴とする。また、
本発明の情報記録媒体が基板上に更にプリピットを有す
る場合には、光吸収層のピット部の光学的膜厚とピット
間部の光学的膜厚との差が、λ/8以下であることを特
徴とする。The information recording medium of the present invention is characterized in that the difference between the optical thickness at the groove bottom of the light absorbing layer and the optical thickness at the land is λ / 8 or less. Also,
When the information recording medium of the present invention further has a pre-pit on the substrate, the difference between the optical thickness of the pit portion of the light absorbing layer and the optical thickness of the portion between the pits is λ / 8 or less. It is characterized by.
【0050】本発明の情報記録媒体における光吸収層の
光学的膜厚について、添付する図面を参照して詳細に説
明する。The optical thickness of the light absorbing layer in the information recording medium of the present invention will be described in detail with reference to the attached drawings.
【0051】第1図は、本発明の情報記録媒体の一実施
例の、プリグルーブ領域における断面の一部を模式的に
示す断面図である。第2図は、本発明の情報記録媒体の
一実施例の、プリピット領域における断面の一部を模式
的に示す断面図である。第3図は、従来公知の情報記録
媒体の、プリグルーブ領域における断面の一部を模式的
に示す断面図である。FIG. 1 is a sectional view schematically showing a part of a section in a pre-groove region of an embodiment of the information recording medium of the present invention. FIG. 2 is a cross-sectional view schematically showing a part of a cross-section in a pre-pit region of one embodiment of the information recording medium of the present invention. FIG. 3 is a cross-sectional view schematically showing a part of a cross-section in a pre-groove region of a conventionally known information recording medium.
【0052】第3図において、プラスチックからなる基
板31の表面に色素からなる光吸収層32が形成され、
光吸収層32の上に金属からなる反射層33が形成され
ている。基板31には、プリグルーブ34が形成されて
いる。光吸収層32は色素をその溶剤に溶解して調製し
た光吸収層形成用溶液をスピンコート法により塗布し乾
燥することによって形成されたものである。プリグルー
ブ34のグルーブ底部36の光吸収層32の膜厚t6
は、基板31のランド部35の光吸収層32の膜厚t5
よりも大きくなっている。その結果、光吸収層32の反
射層33との接触面における溝形状の深さがグルーブ3
4の深さd3 よりも小さくなり、情報を記録するために
レーザ光を照射してプリグルーブ34に記録ピットを形
成したとき、光吸収層32の溝の上部(基板のランド部
に対応する部分)と底部との位相差が小さくなるため
に、記録ピットの変調度が小さくなるという問題があっ
た。この問題を解消するために、グルーブの深さを大き
くしている。しかし、グルーブの深さを大きくし過ぎる
とグルーブ部の反射率が低下するという問題が生じる。In FIG. 3, a light absorbing layer 32 made of a dye is formed on the surface of a substrate 31 made of plastic.
A reflection layer 33 made of metal is formed on the light absorption layer 32. A pregroove 34 is formed on the substrate 31. The light absorbing layer 32 is formed by applying a solution for forming a light absorbing layer prepared by dissolving a dye in the solvent by a spin coating method and drying the solution. The thickness t 6 of the light absorbing layer 32 at the groove bottom 36 of the pre-groove 34
Is the thickness t 5 of the light absorbing layer 32 on the land 35 of the substrate 31.
Is bigger than. As a result, the depth of the groove shape on the contact surface of the light absorption layer 32 with the reflection layer 33 is
4 is smaller than the depth d 3 , and when recording pits are formed in the pre-groove 34 by irradiating a laser beam for recording information, an upper portion of the groove of the light absorbing layer 32 (corresponding to a land portion of the substrate) is formed. There is a problem that the modulation degree of the recording pit becomes small because the phase difference between the portion and the bottom becomes small. To solve this problem, the depth of the groove is increased. However, if the depth of the groove is too large, there arises a problem that the reflectivity of the groove portion decreases.
【0053】第1図において、プラスチックからなる基
板11の表面に色素からなる光吸収層12が形成され、
光吸収層12の上に金属からなる反射層13が形成され
ている。基板11には、プリグルーブ14が形成されて
いる。光吸収層12は色素を溶剤に溶解して調製した前
記のように特定の性状を有する光吸収層形成用溶液を、
スピンコート法により塗布し乾燥することによって形成
されたものである。プリグルーブ14のグルーブ底部1
6の光吸収層12の光学的膜厚(nr ・t2 )(但し、
nr は光吸収層の屈折率であり、t2 はグルーブ底部1
6の光吸収層12の膜厚である)と、基板11のランド
部15の光吸収層12の光学的膜厚(nr ・t1 )(但
し、nr は光吸収層の屈折率であり、t1 はランド部1
5の光吸収層12の膜厚である)との差は、λ/8以下
であるように形成されている。その結果、光吸収層12
の反射層13との接触面における溝形状の深さはグルー
ブ14の深さd1 と同じか又は光学的膜厚でλ/8以下
ほど小さくなっており、光吸収層12のグルーブ部とラ
ンド部とで位相差が大きく記録ピットの変調度が大きい
ものである。更にnr ・t1 とnr ・t2 との差を上記
のようにすることにより、グルーブ14の深さd1 を小
さくすることが可能となりグルーブ部の反射率が大きく
なる。In FIG. 1, a light absorbing layer 12 made of a dye is formed on the surface of a substrate 11 made of a plastic.
A reflection layer 13 made of metal is formed on the light absorption layer 12. A pregroove 14 is formed on the substrate 11. The light absorbing layer 12 is a light absorbing layer forming solution having a specific property as described above prepared by dissolving a dye in a solvent,
It is formed by spin coating and drying. Groove bottom 1 of pregroove 14
6, the optical film thickness (n r · t 2 ) of the light absorbing layer 12 (however,
n r is the refractive index of the light absorbing layer, and t 2 is the groove bottom 1
6 is a thickness of the light absorbing layer 12), an optical film thickness of the light absorbing layer 12 of the land portion 15 of the substrate 11 (n r · t 1) ( where, n r is the refractive index of the light absorbing layer Yes, t 1 is land 1
5 is the film thickness of the light absorbing layer 12). As a result, the light absorption layer 12
The depth of the groove at the contact surface with the reflective layer 13 is the same as the depth d 1 of the groove 14 or smaller by about λ / 8 or less in optical film thickness. The phase difference between the recording pit and the recording pit is large. Further, by setting the difference between n r · t 1 and n r · t 2 as described above, the depth d 1 of the groove 14 can be reduced, and the reflectivity of the groove portion increases.
【0054】上記のnr ・t1 とnr ・t2 との差は、
λ/11以下であることが好ましく、λ/13以下であ
ることが更に好ましく、λ/16以下であることがより
一層好ましい。The difference between n r · t 1 and n r · t 2 is
It is preferably λ / 11 or less, more preferably λ / 13 or less, even more preferably λ / 16 or less.
【0055】また、ミラー部の反射率に対するグルーブ
底部の反射率の比率が、70%以上、特に80%以上、
更に特に90%以上にすることが好ましい。ミラー部の
反射率に対するグルーブ底部の反射率の比率を増大させ
るためには、グルーブ部の光路長とランド部の光路長と
の差を小さくすればよい。The ratio of the reflectance of the groove bottom to the reflectance of the mirror is 70% or more, particularly 80% or more.
More preferably, it is 90% or more. In order to increase the ratio of the reflectance of the groove bottom to the reflectance of the mirror, the difference between the optical path length of the groove and the optical path of the land may be reduced.
【0056】第2図において、プラスチックからなる基
板21の表面に色素からなる光吸収層22が形成され、
光吸収層22の上に金属からなる反射層23が形成され
ている。基板21には、プリピット24が形成されてい
る。光吸収層22は色素を溶剤に溶解して調製した前記
のように特定の性状を有する光吸収層形成用溶液を、ス
ピンコート法により塗布し乾燥することによって形成さ
れたものである。プリピット24のピット部26の光吸
収層22の光学的膜厚(nr・t4 )(但し、nr は光
吸収層の屈折率であり、t4 はピット部26の光吸収層
22の膜厚である)と、基板21のピット間部25の光
吸収層22の光学的膜厚(nr ・t3 )(但し、nr は
光吸収層の屈折率であり、t3 はピット間部25の光吸
収層22の膜厚である)との差は、λ/8以下であるよ
うに形成されている。その結果、光吸収層22の反射層
23との接触面における穴形状の深さはピット24の深
さd2 と同じか又は光学的膜厚でλ/8以下ほど小さく
なっており、光吸収層22のピット部とピット間部とで
位相差が大きくピットの変調度が大きいものである。そ
の結果、基板のピット形成領域に光吸収層が形成されて
いても、基板のピットを高い変調度で再生することが可
能となる。In FIG. 2, a light absorbing layer 22 made of a dye is formed on the surface of a substrate 21 made of a plastic.
A reflection layer 23 made of metal is formed on the light absorption layer 22. The substrate 21 has pre-pits 24 formed thereon. The light absorbing layer 22 is formed by applying a solution for forming a light absorbing layer having specific properties as described above prepared by dissolving a dye in a solvent by spin coating and drying. The optical film thickness (n r · t 4 ) of the light absorbing layer 22 in the pit 26 of the prepit 24 (where n r is the refractive index of the light absorbing layer, and t 4 is the refractive index of the light absorbing layer 22 in the pit 26). Thickness) and the optical thickness (n r · t 3 ) of the light absorbing layer 22 in the inter-pit portion 25 of the substrate 21 (where n r is the refractive index of the light absorbing layer, and t 3 is the pit). (The thickness of the light absorption layer 22 in the intervening portion 25) is not more than λ / 8. As a result, the depth of the hole at the contact surface of the light absorption layer 22 with the reflection layer 23 is the same as the depth d 2 of the pit 24 or smaller than the optical thickness by λ / 8 or less. The phase difference between the pit portion and the inter-pit portion of the layer 22 is large, and the modulation degree of the pit is large. As a result, even if the light absorption layer is formed in the pit formation region of the substrate, it becomes possible to reproduce the pits of the substrate with a high degree of modulation.
【0057】上記のnr ・t3 とnr ・t4 との差は、
λ/11以下であることが好ましく、λ/13以下であ
ることが更に好ましく、λ/16以下であることがより
一層好ましい。The difference between the above n r · t 3 and n r · t 4 is
It is preferably λ / 11 or less, more preferably λ / 13 or less, even more preferably λ / 16 or less.
【0058】本発明の情報記録媒体は、上記光吸収層の
上に更に反射層が形成されたものであるが、上記のよう
な特定された関係の光学的膜厚を有する光吸収層の作用
効果は、反射層が形成されていない情報記録媒体におい
ても同様に奏されるものである。In the information recording medium of the present invention, a reflective layer is further formed on the above-described light absorbing layer. The effect is similarly exerted in an information recording medium in which a reflective layer is not formed.
【0059】基板にプリグルーブとプリピットとの両方
が形成されている場合は、グルーブの深さd1 はピット
部の深さd2 よりも、光路長(n・d:nは基板の屈折
率で、dは深さ寸法である)で表わしてλ/16以上、
特にλ/14以上、更に特にλ/12以上小さいことが
好ましい。When both the pre-groove and the pre-pit are formed on the substrate, the depth d 1 of the groove is larger than the depth d 2 of the pit portion by the optical path length (n · d: n is the refractive index of the substrate). , Where d is a depth dimension).
In particular, it is preferably smaller than λ / 14 or more, more preferably smaller than λ / 12 or more.
【0060】上記光吸収層の、上記ランド部及び上記ピ
ット間部の膜厚は、40〜400nm、特に60〜30
0nm、更に特に80〜250nmであることが好まし
い。The light absorbing layer has a thickness of 40 to 400 nm, particularly 60 to 30 nm, between the land and the pit.
It is preferably 0 nm, more preferably 80 to 250 nm.
【0061】本発明の情報記録媒体における特定の光学
的膜厚を有する光吸収層、即ち、グルーブ底部の光吸収
層の光学的膜厚とランド部の光吸収層の光学的膜厚との
差がλ/8以下であり、ピット部の光吸収層の光学的膜
厚とピット間部の光吸収層の光学的膜厚との差がλ/8
以下である光吸収層は、下記のような方法によって形成
することができる。The difference between the optical thickness of the light absorbing layer having a specific optical thickness in the information recording medium of the present invention, ie, the optical thickness of the light absorbing layer at the bottom of the groove and the optical thickness of the light absorbing layer at the land. Is λ / 8 or less, and the difference between the optical film thickness of the light absorbing layer in the pit portion and the optical film thickness of the light absorbing layer in the pit portion is λ / 8.
The following light absorbing layer can be formed by the following method.
【0062】即ち、プリグルーブ又はプリピット及びプ
リグルーブが形成された円盤状の基板上に、色素を溶剤
に溶解して調製した色素溶液であって、該色素溶液の塗
布温度において該色素溶液から該溶剤を蒸発させること
により色素の析出が始まったときの色素懸濁溶液の体積
の、該色素溶液の元の体積に対する比率として定義され
る濃縮限界が99〜20%である色素溶液を、スピンコ
ート法により塗布して塗膜を形成した後乾燥することに
よって、上記のような光学的膜厚を有する光吸収層を形
成することができる。That is, a dye solution prepared by dissolving a dye in a solvent on a disk-shaped substrate on which pregrooves or prepits and pregrooves are formed. A dye solution having a concentration limit of 99 to 20%, defined as the ratio of the volume of the dye suspension solution to the original volume of the dye solution when the precipitation of the dye is started by evaporating the solvent, is spin-coated. The light absorbing layer having the above-mentioned optical thickness can be formed by applying a coating method and forming a coating film, followed by drying.
【0063】上記の光吸収層形成方法において使用され
る上記の色素溶液は、特定の性状を有するもの、即ち、
濃縮限界が99〜20%である色素溶液である。本明細
書において、「濃縮限界」の用語は、色素溶液の塗布温
度において該色素溶液から該溶剤を蒸発させることによ
り色素の析出が始まったときの色素懸濁溶液の体積の、
該色素溶液の元の体積に対する比率を意味するものとし
て定義される。例えば、色素を溶剤に溶解した色素溶液
を光吸収層を形成するための塗布温度に維持して溶剤を
蒸発させたとき、溶剤の蒸発に伴なってその体積が減少
し、やがて溶解していた色素が析出してくるが、色素の
析出が始まったときの色素溶液(厳密には色素懸濁溶液
である)の体積が、元の色素溶液の体積の90%である
色素溶液を、濃縮限界が90%の色素溶液という。The above-mentioned dye solution used in the above-mentioned light-absorbing layer forming method has a specific property, that is,
A dye solution having a concentration limit of 99 to 20%. As used herein, the term `` concentration limit '' refers to the volume of the dye suspension solution at the time the dye precipitation begins by evaporating the solvent from the dye solution at the dye solution application temperature,
It is defined as meaning the ratio of the dye solution to the original volume. For example, when the solvent was evaporated while the dye solution in which the dye was dissolved in the solvent was maintained at the application temperature for forming the light absorbing layer, the volume was reduced with the evaporation of the solvent, and the solvent was dissolved in time. The dye precipitates, but the volume of the dye solution (strictly speaking, a dye suspension solution) at the time when the dye precipitation starts is 90% of the volume of the original dye solution. Is referred to as a 90% dye solution.
【0064】従って、色素溶液の濃縮限界(以下、限界
濃度ということがある)は、色素と溶剤(単一溶剤又は
混合溶剤)との組合せ、溶剤を二種以上の溶剤の組合せ
としたときその種類と比率、色素溶液中の色素の濃度、
塗布温度、等々によって変化する。そのために、特定の
濃縮限界を有する色素溶液を特定の色素について一律に
定めることはできないが、上記のような条件を種々変え
て所望の濃縮限界を有する色素溶液を調製することは、
当業者が容易になし得ることである。Therefore, the concentration limit of the dye solution (hereinafter referred to as the limit)
Concentration )), the combination of the dye and the solvent (single solvent or mixed solvent), the type and ratio when the solvent is a combination of two or more solvents, the concentration of the dye in the dye solution,
It changes depending on the application temperature and the like. Therefore, a dye solution having a specific concentration limit cannot be uniformly determined for a specific dye.However, preparing a dye solution having a desired concentration limit by variously changing the above conditions is
Those skilled in the art can easily do this.
【0065】上記の光吸収層形成方法において使用する
色素溶液は、濃縮限界が99〜20%である色素溶液で
あるが、濃縮限界が99〜30%、特に95〜40%、
更に特に90〜50%である色素溶液であることが好ま
しい。色素溶液の濃縮限界が、上記範囲よりも大きいと
光吸収層の膜厚が全体的に不均一になり、また上記範囲
よりも小さいとグルーブ底部とランド部との光吸収層の
光学的膜厚の差及びピット部とピット間部との光吸収層
の光学的膜厚の差が大きくなる。The dye solution used in the above-described method for forming a light absorbing layer is a dye solution having a concentration limit of 99 to 20%, and a concentration limit of 99 to 30%, particularly 95 to 40%.
More preferably, the dye solution is 90 to 50%. If the concentration limit of the dye solution is larger than the above range, the thickness of the light absorbing layer becomes non-uniform as a whole, and if the concentration limit is smaller than the above range, the optical thickness of the light absorbing layer between the groove bottom and the land portion. And the difference in the optical film thickness of the light absorbing layer between the pit portion and the inter-pit portion becomes large.
【0066】上記色素溶液を調製するために使用する溶
剤は、色素溶液の濃縮限界を満足するものである限り、
単一の溶剤であってもよく、二種以上の溶剤の混合溶剤
であってもよい。上記溶剤が混合溶剤である場合、使用
する色素の良溶剤(好ましくは、色素溶液の塗布温度に
おいて使用する色素を2重量%以上溶解し得る溶剤)
と、使用する色素の貧溶剤(好ましくは、色素溶液の塗
布温度において使用する色素を2重量%以上溶解しない
溶剤)との混合物であることが好ましい。その際に、該
良溶剤と該貧溶剤とは相溶性であり、上記塗布温度にお
いて該貧溶剤の蒸発速度が該良溶剤の蒸発速度よりも大
きくないことが必要である。一般に該貧溶剤の混合割合
を増大させるほど濃縮限界は大きくなる。The solvent used for preparing the above-mentioned dye solution is as long as it satisfies the concentration limit of the dye solution.
It may be a single solvent or a mixed solvent of two or more solvents. When the solvent is a mixed solvent, a good solvent for the dye to be used (preferably, a solvent capable of dissolving 2% by weight or more of the dye to be used at the coating temperature of the dye solution)
And a poor solvent for the dye to be used (preferably, a solvent that does not dissolve the dye to be used at 2% by weight or more at the coating temperature of the dye solution). At this time, the good solvent and the poor solvent are compatible, and it is necessary that the evaporation rate of the poor solvent is not higher than the evaporation rate of the good solvent at the application temperature. Generally, as the mixing ratio of the poor solvent increases, the concentration limit increases.
【0067】上記の溶剤としては、ベンゼン、トルエ
ン、キシレン、エチルベンゼンなどのような芳香族炭化
水素系溶剤;ヘキサン、オクタン、ノナン、シクロヘキ
サンなどのような脂肪族炭化水素系溶剤;酢酸のような
有機酸系溶剤;酢酸エチル、酢酸ブチル、酢酸アミル、
エチレングリコールモノエチルエーテルアセテート、セ
ロソルブアセテートなどのようなエステル系溶剤;アセ
トン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、
シクロヘキサノンなどのようなケトン系溶剤;ジクロル
メタン、1,2−ジクロルエタン、クロロホルム、メチ
ルクロロホルム、トリクレン、四塩化炭素、テトラクロ
ロエチレンなどのようなハロゲン化炭化水素系溶剤;テ
トラヒドロフラン、エチルエーテル、イソプロピルエー
テル、ジオキサン、ダイグライムなどのようなエーテル
系溶剤;エタノール、n−プロパノール、イソプロパノ
ール、n−ブタノール、アミルアルコール、ジアセトン
アルコール、エチレングリコールモノメチルエーテル、
エチレングリコールモノブチルエーテル、プロピレング
リコールモノメチルエーテル、ベンジルアルコールなど
のようなアルコール系溶剤;ジメチルホルムアミドのよ
うなアミド系溶剤;2,2,3,3−テトラフロロプロ
パノールなどのようなフッ素化アルコール、フッ素置換
ケトン、フッ素置換エステル、フッ素置換アミド、フッ
素置換エーテル、フッ素置換芳香族炭化水素、フッ素置
換脂肪族炭化水素などのようなフッ素系溶剤などを挙げ
ることができる。Examples of the solvent include aromatic hydrocarbon solvents such as benzene, toluene, xylene and ethylbenzene; aliphatic hydrocarbon solvents such as hexane, octane, nonane and cyclohexane; and organic solvents such as acetic acid. Acid solvents; ethyl acetate, butyl acetate, amyl acetate,
Ester solvents such as ethylene glycol monoethyl ether acetate and cellosolve acetate; acetone, methyl ethyl ketone, methyl isobutyl ketone;
Ketone solvents such as cyclohexanone; halogenated hydrocarbon solvents such as dichloromethane, 1,2-dichloroethane, chloroform, methylchloroform, trichlene, carbon tetrachloride, tetrachloroethylene; tetrahydrofuran, ethyl ether, isopropyl ether, dioxane; Ether solvents such as diglyme; ethanol, n-propanol, isopropanol, n-butanol, amyl alcohol, diacetone alcohol, ethylene glycol monomethyl ether,
Alcohol solvents such as ethylene glycol monobutyl ether, propylene glycol monomethyl ether and benzyl alcohol; amide solvents such as dimethylformamide; fluorinated alcohols such as 2,2,3,3-tetrafluoropropanol, and fluorine substitution Examples include fluorine-based solvents such as ketone, fluorine-substituted ester, fluorine-substituted amide, fluorine-substituted ether, fluorine-substituted aromatic hydrocarbon, and fluorine-substituted aliphatic hydrocarbon.
【0068】上記の光吸収層形成において、上記色素溶
液が上記濃縮限界を満足するものである限り特に限定さ
れるものではないが、その取扱いの便宜上及びスピンコ
ート法により基板状の全体的に均一な膜厚の光吸収層を
形成させるために、上記色素溶液中の上記色素の濃度は
0.5〜15重量%、特に1〜10重量%、更に特に
1.5〜8重量%であることが好ましい。上記色素溶液
中には、さらに酸化防止剤、UV吸収剤、可塑剤、潤滑
剤など各種の添加剤を目的に応じて添加してもよい。In the formation of the light absorbing layer, the dye solution is not particularly limited as long as the dye solution satisfies the concentration limit. The concentration of the dye in the dye solution is 0.5 to 15% by weight, preferably 1 to 10% by weight, more preferably 1.5 to 8% by weight in order to form a light absorbing layer having a large thickness. Is preferred. Various additives such as an antioxidant, a UV absorber, a plasticizer, and a lubricant may be added to the dye solution according to the purpose.
【0069】結合剤を使用する場合に結合剤としては、
例えばゼラチン、ニトロセルロース、酢酸セルロース等
のセルロース誘導体、デキストラン、ロジン、ゴムなど
の天然有機高分子物質;及びポリエチレン、ポリプロピ
レン、ポリスチレン、ポリイソブチレン等の炭化水素系
樹脂、ポリ塩化ビニル、ポリ塩化ビニリデン、ポリ塩化
ビニル・ポリ酢酸ビニル共重合体等のビニル系樹脂、ポ
リアクリル酸メチル、ポリメタクリル酸メチル等のアク
リル樹脂、ポリビニルアルコール、塩素化ポリオレフィ
ン、エポキシ樹脂、ブチラール樹脂、ゴム誘導体、フェ
ノール・ホルムアルデヒド樹脂等の熱硬化性樹脂の初期
縮合物などの合成有機高分子物質を挙げることができ
る。When a binder is used, the binder may be
For example, gelatin, nitrocellulose, cellulose derivatives such as cellulose acetate, dextran, rosin, natural organic high molecular substances such as rubber; and hydrocarbon resins such as polyethylene, polypropylene, polystyrene, polyisobutylene, polyvinyl chloride, polyvinylidene chloride, Vinyl resins such as polyvinyl chloride / polyvinyl acetate copolymer, acrylic resins such as polymethyl acrylate and polymethyl methacrylate, polyvinyl alcohol, chlorinated polyolefin, epoxy resin, butyral resin, rubber derivatives, phenol / formaldehyde resin And the like. Synthetic organic polymer substances such as an initial condensate of a thermosetting resin.
【0070】上記色素溶液をスピンコート法により基板
上に塗布するに際しては、それ自体公知の装置及び方法
を使用して行なうことができる。上記色素溶液を、一般
に0〜100℃、特に5〜80℃、更に特に10〜60
℃の温度で塗布することが好ましい。基板の回転数は、
色素溶液を塗布するときは、一般に10〜1000r.p.
m.、特に100〜500r.p.m.にすることが好ましく、
色素塗膜を乾燥するときは、一般に300〜10000
r.p.m.、特に500〜7000r.p.m.、更に特に700
〜4000r.p.m.にすることが好ましい。When the above-mentioned dye solution is applied onto a substrate by a spin coating method, it can be performed using a device and a method known per se. The above-mentioned dye solution is generally used at 0 to 100 ° C, particularly at 5 to 80 ° C, more particularly at 10 to 60 ° C.
It is preferred to apply at a temperature of ° C. The rotation speed of the substrate is
When applying a dye solution, generally 10 to 1000 r.p.
m., particularly preferably 100 to 500 rpm.
When drying the dye coating, generally 300 to 10,000
rpm, especially 500-7000 rpm, more particularly 700
It is preferable to set it to 4000 rpm.
【0071】本発明の情報記録媒体の光吸収層の上には
更に反射層が設けられる。反射層の材料としてはBe、
B、C、Sc、Rb、Sr、As、Os、Tl、At、
Fr、Ra、Mg、Se、Y、Ti、Zr、Hf、V、
Nb、Ta、Cr、Mo、W、Mn、Re、Fe、C
o、Ni、Ru、Rh、Pd、Ir、Pt、Cu、A
g、Au、Zn、Cd、Al、Ga、In、Si、G
e、Te、Pb、Po、Sn、Bi、Sbなどの金属及
び半金属を挙げることができる。これらの中でもC、A
u、Zn、Cu、Pt、Al、Ni、In及びステンレ
ス鋼が特に好ましい。これらの物質は単独で用いてもよ
いし、あるいは二種以上の組合せでまたは合金として用
いてもよい。A reflective layer is further provided on the light absorbing layer of the information recording medium of the present invention. Be, as a material of the reflection layer,
B, C, Sc, Rb, Sr, As, Os, Tl, At,
Fr, Ra, Mg, Se, Y, Ti, Zr, Hf, V,
Nb, Ta, Cr, Mo, W, Mn, Re, Fe, C
o, Ni, Ru, Rh, Pd, Ir, Pt, Cu, A
g, Au, Zn, Cd, Al, Ga, In, Si, G
Metals and metalloids such as e, Te, Pb, Po, Sn, Bi, and Sb can be mentioned. Among them, C and A
u, Zn, Cu, Pt, Al, Ni, In and stainless steel are particularly preferred. These substances may be used alone or in combination of two or more kinds or as an alloy.
【0072】反射層は、たとえば上記光反射性物質を蒸
着、スパッタリングまたはイオンプレーティングするこ
とにより記録層の上に形成することができる。特に、ス
パッタリングによって反射層を成膜することが好まし
い。反射層の層厚は一般には10〜300nm、好まし
くは40〜200nmの範囲にある。The reflection layer can be formed on the recording layer by, for example, vapor deposition, sputtering or ion plating of the above-mentioned light reflective substance. In particular, it is preferable to form the reflective layer by sputtering. The thickness of the reflective layer is generally in the range of 10 to 300 nm, preferably 40 to 200 nm.
【0073】反射層として貴金属反射層を設けた場合
は、その上にAlなどの金属密着層又は有機物の密着層
を設けることができる。When a noble metal reflection layer is provided as a reflection layer, a metal adhesion layer such as Al or an organic adhesion layer can be provided thereon.
【0074】この反射層の上に、情報記録媒体全体、特
に光吸収層及び反射層を物理的及び化学的に保護する目
的で保護層を設けてもよい。また、この保護層は、基板
の光吸収層が設けられていない側にも耐傷性、耐湿性を
高めるために設けてもよい。On this reflective layer, a protective layer may be provided for the purpose of physically and chemically protecting the entire information recording medium, especially the light absorbing layer and the reflective layer. Further, this protective layer may be provided on the side of the substrate where the light absorbing layer is not provided in order to enhance the scratch resistance and moisture resistance.
【0075】保護層に用いられる材料の例としては、無
機物質としては、SiO、SiO2、Si3 N4 、Mg
F2 、SnO2 等を挙げることができる。また、有機物
質としては、熱可塑性樹脂、熱硬化性樹脂、UV硬化性
樹脂等を挙げることができ、好ましくはUV硬化性樹脂
である。Examples of the material used for the protective layer include inorganic substances such as SiO, SiO 2 , Si 3 N 4 and Mg.
F 2 and SnO 2 can be exemplified. Examples of the organic substance include a thermoplastic resin, a thermosetting resin, a UV-curable resin, and the like, and a UV-curable resin is preferable.
【0076】保護層は、例えば熱可塑性樹脂、熱硬化性
樹脂などを適当な溶剤に溶解して塗布液を調製したの
ち、この塗布液を塗布し、乾燥することによって形成す
ることができる。UV硬化性樹脂の場合には、そのまま
もしくは適当な溶剤に溶解して塗布液を調製したのちこ
の塗布液を塗布し、UV光を照射して硬化させることに
よって保護層を形成することができる。UV硬化性樹脂
としては、ウレタン(メタ)アクリレート、エポキシ
(メタ)アクリレート、ポリエステル(メタ)アクリレ
ート等の(メタ)アクリレートのオリゴマー類、(メ
タ)アクリル酸エステル等のモノマー類等と光重合開始
剤等との通常のUV硬化性樹脂を使用することができ
る。これらの塗布液中には、更に帯電防止剤、酸化防止
剤、UV吸収剤等の各種添加剤を目的に応じて添加して
もよい。保護層の材料としてUV硬化性樹脂を用いるこ
とが好ましい。The protective layer can be formed by, for example, dissolving a thermoplastic resin, a thermosetting resin, or the like in an appropriate solvent to prepare a coating solution, applying the coating solution, and drying. In the case of a UV-curable resin, a coating solution is prepared as it is or dissolved in an appropriate solvent, and then the coating solution is applied and cured by irradiation with UV light to form a protective layer. UV curable resins include oligomers of (meth) acrylates such as urethane (meth) acrylate, epoxy (meth) acrylate, and polyester (meth) acrylate, monomers such as (meth) acrylate, and a photopolymerization initiator. Ordinary UV-curable resins such as described above can be used. Various additives such as an antistatic agent, an antioxidant, and a UV absorber may be added to these coating solutions according to the purpose. It is preferable to use a UV curable resin as the material of the protective layer.
【0077】保護層の層厚は一般には0.1〜100μ
m、好ましくは0.5〜20μmの範囲にある。The thickness of the protective layer is generally 0.1 to 100 μm.
m, preferably in the range of 0.5 to 20 μm.
【0078】上記以外にも、保護層は、たとえばプラス
チックの押出加工で得られたフィルムを接着層を介して
反射層の上にラミネートすることにより形成することが
できる。あるいは真空蒸着、スパッタリング、塗布等の
方法により設けられてもよい。In addition to the above, the protective layer may be formed, for example, by bonding a film obtained by extrusion of a plastic through an adhesive layer.
It can be formed by laminating on a reflective layer. Alternatively, it may be provided by a method such as vacuum deposition, sputtering, or coating.
【0079】本発明の情報記録媒体への情報の記録は、
情報記録媒体を定線速度(好ましくは1.2〜2.8m
/秒、特に好ましくは1.2〜1.4m/秒)にて回転
させながら、基板側から該プレグルーブの底部にレーザ
ー光を照射してグルーブ上にある光吸収層に再生用のピ
ットを形成して信号を記録することにより行なう。信号
としてはCDフォーマットのEFM信号を記録すること
が本発明の効果を得る上で好ましい。一般に、記録光と
しては750〜850nmの範囲の発振波長を有する半
導体レーザービームが用いられる。本発明の情報記録媒
体では、10mW以下のレーザーパワーで記録すること
ができる。Recording of information on the information recording medium of the present invention
The information recording medium is moved at a constant linear velocity (preferably 1.2 to 2.8 m
/ Sec, particularly preferably 1.2 to 1.4 m / sec), while irradiating a laser beam from the substrate side to the bottom of the pre-groove to form a pit for reproduction in the light absorbing layer on the groove. It is performed by forming and recording signals. It is preferable to record a CD format EFM signal as the signal in order to obtain the effects of the present invention. Generally, a semiconductor laser beam having an oscillation wavelength in the range of 750 to 850 nm is used as the recording light. The information recording medium of the present invention can record with a laser power of 10 mW or less.
【0080】上記の記録後のピットは、基板及び/又は
色素がレーザ光の照射により発熱し、溶融、蒸発、昇
華、変形或るいは変質することにより、基板−色素間に
凸状、波状、凹状等の変化が起こったり、色素内で変化
が起こったり、色素−金属反射層間で変化が起こったり
するなどの形態のものである。The pits after the above-described recording are such that the substrate and / or the dye generate heat when irradiated with a laser beam, and melt, evaporate, sublime, deform or change in quality, thereby forming a convex, wavy, or This is a form in which a change such as a concave shape occurs, a change occurs in a dye, or a change occurs between a dye and a metal reflective layer.
【0081】上記記録方法により、本発明の情報記録媒
体にCDフォーマット信号などを定線速度で記録を行う
ことにより、信号の変調度、再生C/Nなどの優れた記
録再生特性を得ることができ、さらに記録時のトラッキ
ング性、特にプッシュプル法によるトラッキング性が優
れたものとなる。また本発明の光ディスクは高反射率を
有するので、記録されたCDフォーマット信号を市販の
CDプレーヤーを用いて再生することができる。更にR
OM領域が設けられた本発明の情報記録媒体の場合は、
ROM領域においてもCD規格を満足する高い変調度の
再生信号を得ることができる。By recording a CD format signal or the like at a constant linear speed on the information recording medium of the present invention by the above recording method, it is possible to obtain excellent recording / reproducing characteristics such as signal modulation and reproduction C / N. In addition, the tracking property at the time of recording, particularly the tracking property by the push-pull method is excellent. Further, since the optical disc of the present invention has a high reflectance, the recorded CD format signal can be reproduced using a commercially available CD player. Further R
In the case of the information recording medium of the present invention provided with the OM area,
Even in the ROM area, it is possible to obtain a reproduced signal having a high modulation degree satisfying the CD standard.
【0082】[0082]
【実施例】以下に、本発明の実施例及び比較例を記載す
る。ただし、これらの各例は本発明を制限するものでは
ない。EXAMPLES Examples and comparative examples of the present invention will be described below. However, these examples do not limit the present invention.
【0083】[実施例1]直径46mm〜80mmの領
域にEFM信号を記録したプリピット(ピットの半値
幅:0.6μm、ピットの深さ:130nm)が形成さ
れ、直径80nm〜118mmの領域にプリグルーブ
(トラックピッチ:1.6μm、グルーブの半値幅:
0.5μm、グルーブの深さ:60nm)が形成された
円盤状のポリカーボネート基板(外径:120mm、内
径:15mm、厚さ:1.2mm)を用意した。この基
板の、走査トンネル顕微鏡(UNISOKU社製、US
M−101)を使用して測定し、前記式(1)により求
めた、グルーブ底部の中心線平均あらさ(Ra)は、2
×10-3μmであった。Example 1 A pre-pit (half-width of pit: 0.6 μm, pit depth: 130 nm) in which an EFM signal was recorded was formed in an area having a diameter of 46 mm to 80 mm, and a pre-pit was formed in an area having a diameter of 80 nm to 118 mm. Groove (track pitch: 1.6 μm, half width of groove:
A disk-shaped polycarbonate substrate (outer diameter: 120 mm, inner diameter: 15 mm, thickness: 1.2 mm) on which 0.5 μm and groove depth: 60 nm was formed was prepared. Scanning tunneling microscope (UNISOKU, US
M-101) and the center line average roughness (Ra) of the groove bottom determined by the above equation (1) is 2
× 10 −3 μm.
【0084】この基板を23℃に維持し、その上に、
2,2,3,3−テトラフロロプロパノール95重量部
とジクロルエタン5重量部との混合処理液(23℃)を
スピンコート法により基板回転数1000r.p.m.の速度
で10秒間塗布した後、同じ回転数で30秒間乾燥する
ことによって、基板の表面を処理した。この混合処理液
の23℃での上記ポリカーボネートに対する溶解力は、
2g/mlであった。また、上記と同様にして求めた、
処理された基板のグルーブ底部の中心線平均あらさ(R
a)は、0.5×10-3μmであった。The substrate was kept at 23 ° C.
A mixed solution (23 ° C.) of 95 parts by weight of 2,2,3,3-tetrafluoropropanol and 5 parts by weight of dichloroethane is applied by a spin coating method at a substrate rotation speed of 1000 rpm for 10 seconds, and then the same rotation is performed. The surface of the substrate was treated by drying for 30 seconds. The dissolving power of the mixed solution at 23 ° C. for the polycarbonate is as follows:
It was 2 g / ml. In addition, obtained in the same manner as above,
The center line average roughness of the bottom of the groove of the processed substrate (R
a) was 0.5 × 10 −3 μm.
【0085】一方、下記構造式(A)を有する色素
(A)を、プロピレングリコールモノエチルエーテルに
溶解して、色素(A)を2.4重量%含有する色素溶液
を調製した。この色素溶液の23℃における濃縮限界は
70%であった。On the other hand, a dye (A) having the following structural formula (A) was dissolved in propylene glycol monoethyl ether to prepare a dye solution containing 2.4% by weight of the dye (A). The concentration limit of this dye solution at 23 ° C. was 70%.
【0086】[0086]
【化1】 Embedded image
【0087】この色素溶液を23℃に維持し、23℃の
上記基板上に上記色素溶液をスピンコート法により基板
回転数200r.p.m.の速度で4秒間塗布した後、回転数
700r.p.m.で30秒間乾燥して光吸収層を形成した。This dye solution was maintained at 23 ° C., and the dye solution was applied onto the substrate at 23 ° C. by a spin coating method at a substrate rotation speed of 200 rpm for 4 seconds, and then at a rotation speed of 700 rpm for 30 seconds. After drying for 2 seconds, a light absorbing layer was formed.
【0088】形成された光吸収層の上に、480W、タ
ーゲット−基板距離95mm、ガス圧2Pa、レート2
nm/秒の条件下で、AuをDCスパッタリングして膜
厚が100nmのAuからなる反射層を形成した。480 W, target-substrate distance 95 mm, gas pressure 2 Pa, rate 2
Under the condition of nm / sec, Au was subjected to DC sputtering to form a reflective layer made of Au having a thickness of 100 nm.
【0089】上記反射層上に、保護層としてUV硬化性
樹脂(商品名:3070、スリーボンド社製)をスピン
コート法により回転数1500r.p.m.の速度で塗布した
後、高圧水銀灯にて紫外線を照射して硬化させ、層厚2
μmの保護層を形成した。A UV curable resin (trade name: 3070, manufactured by Three Bond Co.) was applied as a protective layer on the reflective layer by a spin coating method at a rotation speed of 1500 rpm, and then irradiated with ultraviolet light from a high-pressure mercury lamp. And cured, layer thickness 2
A protective layer having a thickness of μm was formed.
【0090】このようにして、基板、色素記録層、反射
層及び保護層からなる情報記録媒体を製造した。Thus, an information recording medium comprising the substrate, the dye recording layer, the reflection layer and the protective layer was manufactured.
【0091】得られた情報記録媒体について、プリグル
ーブ形成領域では、グルーブ底部の光吸収層の光学的膜
厚、ランド部の光吸収層の光学的膜厚、及びC/N値
を、プリピット形成領域では、ピット部の光吸収層の光
学的膜厚、ピット間部の光吸収層の光学的膜厚、及び1
1T変調度を、下記の評価方法により測定した。評価結
果を表1に記載する。In the obtained information recording medium, in the pre-groove formation region, the optical film thickness of the light absorbing layer at the bottom of the groove, the optical film thickness of the light absorbing layer at the land, and the C / N value were determined by forming the pre-pit. In the region, the optical thickness of the light absorbing layer in the pit portion, the optical thickness of the light absorbing layer in the portion between the pits, and 1
The 1T modulation was measured by the following evaluation method. Table 1 shows the evaluation results.
【0092】[実施例2]実施例1において、基板の表
面を処理するための処理液を、2,2,3,3−テトラ
フロロプロパノール90重量部とメチルエチルケトン1
0重量部との混合処理液(23℃におけるポリカーボネ
ートに対する溶解力は、3g/ml)に変えた他は、実
施例1におけると同様にして基板の表面を処理した。処
理された基板のグルーブ底部の中心線平均あらさ(R
a)は、0.4×10-3μmであった。[Example 2] In Example 1, 90 parts by weight of 2,2,3,3-tetrafluoropropanol and methyl ethyl ketone 1 were used to treat the surface of the substrate.
The surface of the substrate was treated in the same manner as in Example 1 except that the mixed treatment solution with 0 parts by weight was used (the dissolving power for polycarbonate at 23 ° C. was 3 g / ml). The center line average roughness of the bottom of the groove of the processed substrate (R
a) was 0.4 × 10 −3 μm.
【0093】上記のようにして表面処理した基板を使用
した他は実施例1におけると同様にして、基板、色素記
録層、反射層及び保護層からなる情報記録媒体を製造し
た。An information recording medium comprising a substrate, a dye recording layer, a reflective layer, and a protective layer was manufactured in the same manner as in Example 1 except that the substrate treated as described above was used.
【0094】得られた情報記録媒体について、実施例1
に於けると同様にして評価した。評価結果を表1に示
す。Example 1 of the obtained information recording medium
The evaluation was performed in the same manner as in the above. Table 1 shows the evaluation results.
【0095】[比較例1]実施例1において、処理液に
より基板の表面処理を行なわなかった他は実施例1にお
けると同様にして、基板、色素記録層、反射層及び保護
層からなる情報記録媒体を製造した。Comparative Example 1 Information recording comprising a substrate, a dye recording layer, a reflective layer and a protective layer was performed in the same manner as in Example 1 except that the surface treatment of the substrate was not performed with the treatment liquid. The media was manufactured.
【0096】得られた情報記録媒体について、実施例1
に於けると同様にして評価した。評価結果を表1に示
す。Example 1 of the obtained information recording medium
The evaluation was performed in the same manner as in the above. Table 1 shows the evaluation results.
【0097】[比較例2]実施例1において、基板の表
面を処理するための処理液を、2,2,3,3−テトラ
フロロプロパノール70重量部とジクロルエタン30重
量部との混合処理液(23℃におけるポリカーボネート
に対する溶解力は、12g/ml)に変えた他は、実施
例1におけると同様にして基板の表面を処理した。処理
された基板のグルーブ底部の中心線平均あらさ(Ra)
は、0.2×10-3μmであった。Comparative Example 2 In Example 1, the treatment liquid for treating the surface of the substrate was prepared by mixing 70 parts by weight of 2,2,3,3-tetrafluoropropanol and 30 parts by weight of dichloroethane ( The surface of the substrate was treated in the same manner as in Example 1 except that the dissolving power for polycarbonate at 23 ° C. was changed to 12 g / ml). Center line average roughness (Ra) of groove bottom of processed substrate
Was 0.2 × 10 −3 μm.
【0098】上記のようにして表面処理した基板を使用
した他は実施例1におけると同様にして、基板、色素記
録層、反射層及び保護層からなる情報記録媒体を製造し
た。An information recording medium comprising a substrate, a dye recording layer, a reflective layer, and a protective layer was manufactured in the same manner as in Example 1 except that the substrate treated as described above was used.
【0099】得られた情報記録媒体について、実施例1
に於けると同様にして評価した。評価結果を表1に示
す。Example 1 of the obtained information recording medium
The evaluation was performed in the same manner as in the above. Table 1 shows the evaluation results.
【0100】[実施例3]フォトレジスト層(シプレー
社製、MP1350J、膜厚120nm)が設けられた
ガラス円板に、プリピット及びプリグルーブをレーザカ
ッティングし、現像処理した後、フォトレジスト層を1
20℃で1時間ポストベークし、常法によりニッケルメ
ッキしてスタンパを作製した。Example 3 A pre-pit and a pre-groove were laser-cut on a glass disk provided with a photoresist layer (manufactured by Shipley, MP1350J, film thickness: 120 nm) and developed.
Post-baking was performed at 20 ° C. for 1 hour, and nickel plating was performed by a conventional method to produce a stamper.
【0101】このようにして作製したスタンパを使用
し、ポリカーボネートを射出成形して、直径46mm〜
80mmの領域にEFM信号を記録したプリピット(ピ
ットの半値幅:0.6μm、ピットの深さ:130n
m)が形成され、直径80nm〜118mmの領域にプ
リグルーブ(トラックピッチ:1.6μm、グルーブの
半値幅:0.5μm、グルーブの深さ:60nm)が形
成された円盤状の基板(外径:120mm、内径:15
mm、厚さ:1.2mm)を製造した。この基板のグル
ーブ底部の中心線平均あらさ(Ra)は、0.7×10
-3μmであった。Using the stamper thus produced, polycarbonate was injection-molded, and the diameter was set to 46 mm.
A pre-pit (half-width of pit: 0.6 μm, depth of pit: 130 n) in which an EFM signal is recorded in an area of 80 mm
m) is formed, and a pre-groove (track pitch: 1.6 μm, half width of groove: 0.5 μm, groove depth: 60 nm) is formed in a region having a diameter of 80 nm to 118 mm (outer diameter). : 120mm, inner diameter: 15
mm, thickness: 1.2 mm). The center line average roughness (Ra) of the groove bottom of this substrate is 0.7 × 10
-3 μm.
【0102】上記の基板を使用した他は実施例1におけ
ると同様にして、基板、色素記録層、反射層及び保護層
からなる情報記録媒体を製造した。An information recording medium comprising a substrate, a dye recording layer, a reflective layer and a protective layer was manufactured in the same manner as in Example 1 except that the above substrate was used.
【0103】得られた情報記録媒体について、実施例1
に於けると同様にして評価した。評価結果を表1に示
す。Example 1 of the obtained information recording medium
The evaluation was performed in the same manner as in the above. Table 1 shows the evaluation results.
【0104】[比較例3]実施例3において、スタンパ
を製造する工程での、現像処理したフォトレジスト層の
ポストベークの条件を温度100℃、時間30分間に変
えた他は実施例3におけると同様にしてスタンパを作製
した。Comparative Example 3 Example 3 was the same as Example 3 except that the post-baking conditions of the developed photoresist layer in the process of manufacturing the stamper were changed to a temperature of 100 ° C. and a time of 30 minutes. A stamper was manufactured in the same manner.
【0105】このようにして作製したスタンパを使用し
た他は実施例3におけると同様にして、射出成形により
ポリカーボネート基板を製造した。この基板のグルーブ
底部の中心線平均あらさ(Ra)は、2×10-3μmで
あった。A polycarbonate substrate was manufactured by injection molding in the same manner as in Example 3 except that the stamper thus manufactured was used. The center line average roughness (Ra) of the groove bottom of this substrate was 2 × 10 −3 μm.
【0106】上記の基板を使用した他は実施例1におけ
ると同様にして、基板、色素記録層、反射層及び保護層
からなる情報記録媒体を製造した。An information recording medium comprising a substrate, a dye recording layer, a reflective layer and a protective layer was manufactured in the same manner as in Example 1 except that the above substrate was used.
【0107】得られた情報記録媒体について、実施例1
に於けると同様にして評価した。評価結果を表1に示
す。Example 1 for the obtained information recording medium
The evaluation was performed in the same manner as in the above. Table 1 shows the evaluation results.
【0108】[情報記録媒体の評価]上記で得られた情
報記録媒体を、ディスク評価装置(NA:0.5、レー
ザー波長:780nm) 及びEFMエンコーダ(KEN-WOO
D)を用いて、記録する際のレーザーパワー(記録パワ
ー)を6mW、定線速度:1.3m/秒にてプレグルー
ブの底部にEFM記録を行なった。[Evaluation of Information Recording Medium] The information recording medium obtained above was used as a disk evaluation device (NA: 0.5, laser wavelength: 780 nm) and an EFM encoder (KEN-WOO).
Using D), EFM recording was performed on the bottom of the pregroove at a laser power (recording power) of 6 mW and a constant linear velocity of 1.3 m / sec.
【0109】(1)グルーブ底部の光吸収層の光学的膜
厚 光吸収層の絶対膜厚を、断面部の超高分解能電子顕微鏡
(株式会社日立製作所製S900)観察によって測定
し、光吸収層の屈折率を、別に形成した色素薄膜の反射
率、透過率、及び絶対膜厚を測定した結果から求め、こ
れらの絶対膜厚と屈折率とから光学的膜厚を算出した。(1) Optical Thickness of Light Absorbing Layer at Bottom of Groove The absolute thickness of the light absorbing layer was measured by observing the cross section with an ultra-high resolution electron microscope (S900, manufactured by Hitachi, Ltd.). Was determined from the results of measuring the reflectance, transmittance, and absolute film thickness of the separately formed dye thin film, and the optical film thickness was calculated from the absolute film thickness and the refractive index.
【0110】(2)ランド部の光吸収層の光学的膜厚 上記1)の方法と同様にして求めた。(2) Optical film thickness of light absorbing layer in land portion It was obtained in the same manner as in the above 1).
【0111】(3)グルーブ領域のC/N 上記の条件で記録された情報を、再生パワー0.5m
W、定線速度1.3m/秒の条件で再生し、スペクトル
アナライザー(RBW:10kHz、VBW:100k
Hz)にてキャリヤーとノイズの出力レベルの比(C/
N)を測定した。(3) C / N of Groove Area Information recorded under the above conditions is read at a reproduction power of 0.5 m
W, reproduced under the conditions of a constant linear velocity of 1.3 m / sec, and a spectrum analyzer (RBW: 10 kHz, VBW: 100 k)
Hz) and the ratio of the carrier and noise output levels (C /
N) was measured.
【0112】(4)ピット部の光吸収層の光学的膜厚 上記1)の方法と同様にして求めた。(4) Optical film thickness of light absorbing layer in pit portion The optical film thickness was obtained in the same manner as in the above method 1).
【0113】(5)ピット間部の光吸収層の光学的膜厚 上記1)の方法と同様にして求めた。(5) Optical film thickness of light absorption layer between pits The optical film thickness was obtained in the same manner as in the above method 1).
【0114】(6)11T変調度 上記記録されたCDフォーマット信号のうち記録長11
Tの直流再生信号について、信号部分とミラー部(信号
の無い部分)の信号強度を測定し、その変調度(C)を
次式により求めた。 C=[(SH −SL )/SH ]×100 (SH:信号の最大強度、SL:信号の最小強度)(6) 11T modulation degree The recording length 11 of the recorded CD format signal
With respect to the DC reproduced signal of T, the signal strength of the signal portion and the mirror portion (the portion with no signal) was measured, and the modulation factor (C) was obtained by the following equation. C = [(SH−SL) / SH] × 100 (SH: maximum signal strength, SL: minimum signal strength)
【0115】[0115]
【表1】 [Table 1]
【0116】表1より明らかなように、実施例の情報記
録媒体は、プリグルーブ形成領域(情報記録領域)でC
/Nが大きく、プリピット形成領域(ROM領域)で変
調度が大きく優れた性能を有するものである。As is clear from Table 1, the information recording medium of the embodiment has a C-groove in the pre-groove forming area (information recording area).
/ N is large, the modulation degree is large in the pre-pit formation area (ROM area), and the performance is excellent.
【0117】これに対して、比較例の情報記録媒体は、
プリピット形成領域(ROM領域)での変調度は実施例
の情報記録媒体と同程度であるものの、プリグルーブ形
成領域でC/Nが著しく小さいものである。On the other hand, the information recording medium of the comparative example is
Although the degree of modulation in the pre-pit formation area (ROM area) is almost the same as that of the information recording medium of the embodiment, the C / N in the pre-groove formation area is extremely small.
【0118】[0118]
【発明の効果】本発明の情報記録媒体は、レーザ光の照
射によりグルーブ形成領域へ情報を記録した後、C/
N、変調度及び反射率が高く、また、プリピットが追加
して形成されたものでは、プリピット形成領域へ光吸収
層が形成されていても変調度の高い再生信号を得ること
ができるという、顕著に優れた情報記録媒体である。According to the information recording medium of the present invention, after recording information in a groove forming area by irradiating a laser beam,
In the case where N, modulation degree and reflectance are high and pre-pits are additionally formed, a reproduced signal having high modulation degree can be obtained even if a light absorption layer is formed in the pre-pit formation region. It is an excellent information recording medium.
【図1】本発明の情報記録媒体の一実施例のプリグルー
ブ領域における断面の一部を模式的に示す断面図であ
る。FIG. 1 is a cross-sectional view schematically showing a part of a cross-section in a pre-groove region of an embodiment of an information recording medium of the present invention.
【図2】本発明の情報記録媒体の一実施例のプリピット
領域における断面の一部を模式的に示す断面図である。FIG. 2 is a cross-sectional view schematically showing a part of a cross-section in a pre-pit region of one embodiment of the information recording medium of the present invention.
【図3】従来公知の情報記録媒体のプリグルーブ領域に
おける断面の一部を模式的に示す断面図である。FIG. 3 is a cross-sectional view schematically showing a part of a cross-section in a pre-groove region of a conventionally known information recording medium.
11、21、31 基板 12、22、32 光吸収層 13、23、33 反射層 14、34 プリグルーブ 24 プリピット 15、35 ランド部 25 ピット間部 16、36 グルーブ底部 26 ピット部 11, 21, 31 Substrate 12, 22, 32 Light absorbing layer 13, 23, 33 Reflective layer 14, 34 Pre-groove 24 Pre-pit 15, 35 Land 25 Inter-pit 16, 36 Groove bottom 26 Pit
Claims (1)
製基板上に、レーザ光を照射して再生用のピットを形成
することにより情報の記録が可能な色素を含む光吸収層
が設けられ、更に該光吸収層上に金属からなる反射層が
設けられてなる情報記録媒体であって、該基板のプリグ
ルーブのグルーブ底部の中心線平均あらさ(Ra)が
0.001μm以下であり、且つ、グルーブ底部の光吸
収層の光学的膜厚とランド部の光吸収層の光学的膜厚と
の差がλ/8(但し、λは再生用レーザ光の波長)以下
であることを特徴とする情報記録媒体。A light absorbing layer containing a dye capable of recording information by irradiating a laser beam to form pits for reproduction is provided on a disk-shaped resin substrate on which a pregroove is formed. An information recording medium further comprising a reflective layer made of metal provided on the light absorbing layer, wherein a center line average roughness (Ra) of a groove bottom of the pregroove of the substrate is 0.001 μm or less; and Wherein the difference between the optical thickness of the light absorbing layer at the bottom of the groove and the optical thickness of the light absorbing layer at the land is λ / 8 (where λ is the wavelength of the reproducing laser beam) or less. Information recording medium.
Priority Applications (1)
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Applications Claiming Priority (1)
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JP3100412A JP2652279B2 (en) | 1991-04-04 | 1991-04-04 | Information recording medium |
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JPH04307441A JPH04307441A (en) | 1992-10-29 |
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1991
- 1991-04-04 JP JP3100412A patent/JP2652279B2/en not_active Expired - Lifetime
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