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JP2643262B2 - 半導体装置の製造方法 - Google Patents

半導体装置の製造方法

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JP2643262B2 JP63070606A JP7060688A JP2643262B2 JP 2643262 B2 JP2643262 B2 JP 2643262B2 JP 63070606 A JP63070606 A JP 63070606A JP 7060688 A JP7060688 A JP 7060688A JP 2643262 B2 JP2643262 B2 JP 2643262B2
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Description

【発明の詳細な説明】 （産業上の利用分野） 本発明は、選択研磨工程を有する半導体装置の製造方
法に関するものである。
（従来の技術） 半導体装置、特に集積回路（IC）の製造工程の複雑
化、多様化に伴い、前処理として行なわれる半導体基板
自体の研磨に加え、例えば（特開昭50−99685号公報）
に述べられているように、二酸化シリコン膜（SiO2）、
窒化シリコン膜（Si3N4）あるいは酸化アルミニウム膜
（Al2O3）などの絶縁膜上に存在するシリコン膜を完全
に除去し、平坦面を形成するためにも研磨が用いられる
ようになってきた。この平坦面の形式には、シリコン膜
のみが研磨され、絶縁膜が露出することにより研磨が停
止することが必要である。そのためには、シリコン膜と
絶縁膜の研磨の速度比が非常に大きい選択研磨を用いる
ことが望ましい。
選択研磨では、シリコンが研磨液と反応して生じた反
応生成物が研磨布により除去されることにより研磨が進
行する。この研磨液は絶縁膜とは反応しないため、研磨
が進行せずシリコンと絶縁膜とでは大きな研磨速度比が
得られる。
しかし、シリコン膜が絶縁膜上、全面には存在せず、
部分的にある形状をもって存在する場合には、従来の選
択研磨では、そのシリコン膜を均一に研磨できず平坦面
を形成することはできない。その原因は、絶縁膜上に部
分的に存在するシリコン膜を研磨する場合は、シリコン
膜の角部、および側面から研磨が進行しその上面からは
あまり進行しないことにある。すなわち、絶縁膜上のシ
リコン膜の面積が小さく、その膜厚が厚い場合には、研
磨が側面から進行する効果により、シリコン膜の膜厚は
減少するが、膜厚が薄い、もしくは、膜厚は厚いが面積
が大きいといった場合には、側面から進行する研磨の寄
与は小さく、シリコン膜の膜厚は減少しないという研磨
速度のシリコン膜の膜厚および面積依存性が生じてしま
う。従って絶縁膜上に種々の大きさのシリコン膜が存在
する場合には、従来の選択研磨では、これら全部の均一
な研磨および、平坦面の形成は実現不可能である。
（発明が解決しようとする課題） 以上述べたように、絶縁膜上に部分的に存在するシリ
コン膜を従来の選択研磨で研磨する場合、単結晶シリコ
ン膜の面積、形状等に依存して研磨できたり、できなか
ったりする部分が生じ、均一な研磨は行なえず、平坦な
面を形成することは不可能である。本発明は、このよう
な欠点を除去して、絶縁膜上に部分的に存在するシリコ
ン膜をその面積、形状等によらず均一に研磨し、かつ絶
縁膜が露出することで研磨を自動的に動作させ平坦な面
を形成することを目的としている。
（課題を解決するための手段） 本発明によれば、半導体結晶基板上の第１の被膜とそ
の第１の被膜上に半導体膜が部分的に存在する状態にお
いて気相成長により全面に半導体膜を成長する工程、第
２の被膜を塗布する工程、前記部分的に存在する半導体
膜、半導体膜、第２の被膜を第１の被膜が露出しないと
ころまで平坦にエッチング除去する工程、同様に第１の
被膜が露出するまで研磨する工程を用いることによって
前記の目的を容易に達成できる。
（実施例） 次に図面に基づき本発明の半導体装置の製造方法の実
施例について説明する。
第１図（ａ）〜（ｅ）は、本発明の一実施例を説明す
るための主な製造工程における基板断面図を示す。まず
第１図（ａ）に示すように、一例として単結晶シリコン
基板１の表面に絶縁膜２を形成する。絶縁膜２は、二酸
化シリコン膜が適当である。次にレジスト３をパターニ
ングし、これをマスクとして通常のドライエッチング法
もしくは、ウェットエッチング法により、絶縁膜２をエ
ッチングし、面積の異なる開口部４を形成する。第１図
（ｂ）は、レジスト３を除去したのち、選択エピタキシ
ャル法により、開講部４をシード口として、単結晶・シ
リコン膜５を成長させた状態である。単結晶シリコン膜
の成長膜厚は、少なくとも開口部４を埋め、絶縁膜２の
高さよりも高く成長していればよい。その高さ、および
絶縁膜２上の単結晶シリコン膜５の横方向成長量は自由
である。
次に第１図（ｃ）に示すように、気相成長法により多
結晶シリコン膜6,絶縁膜２と単結晶シリコン膜５を全面
覆う程度に成長させる。このようにすると、多結晶シリ
コン膜６は、絶縁膜２と単結晶シリコン膜５の形状を反
映した凹凸のある形状なる。続いてレジスト等の平坦化
材７を回転塗布すれば、第１図（ｃ）のように表面は平
坦になる。
次に第１図（ｄ）のように、ドライエッチング法によ
り、例えばジクロルジフルオロメタン（CCl2F2）と窒素
（N2）ガスを用いてエッチングすれば平坦化材７と多結
晶シリコン膜６および単結晶シリコン膜５を絶縁膜２が
露出しない高さまで同時に、同一速度でエッチングでき
るので、第１図（ｄ）に示す第１の平坦面８が、形成で
きる。
次に、この第１の平坦面８を選択研磨する。選択研磨
では、研磨液として、有機アミンを用いているため単結
晶シリコン膜５、および多結晶シリコン膜６は同じ研磨
速度で研磨でき、絶縁膜２はこの単結晶シリコン膜５と
多結晶シリコン膜６の研磨速度よりも、非常に遅いた
め、多結晶シリコン膜６は除去でき、さらに単結晶シリ
コン膜５の研磨は絶縁膜２の高さで止まる。従って第１
図（ｅ）のように第２の平坦面９を容易に形成できる。
以上、本発明の一実施例において、絶縁膜上に部分的
に存在する半導体膜として、選択エピタキシャル成長法
により成長させた単結晶シリコン膜としたが、絶縁膜上
にある形状をもって部分的に存在すればよくその形成方
法、膜質、シード口の有無やその形状、面積は実施例に
限定されるものではない。
（発明の効果） 従来の方法では、絶縁膜上に部分的に存在する半導体
膜を選択研磨しても平坦面を形成することができなかっ
たのに対し、本発明の方法では、部分的に存在する半導
体膜と、気相成長法により成長した半導体膜からなる平
坦な面を絶縁膜上に形成した後で選択研磨することによ
り、部分的に存在する単結晶半導体の形状、大きさによ
らず大面積にわたり均一な研磨速度が得られ、かつ絶縁
膜が露出すると、研磨が停止するので高精度な平坦面が
得られる。
【図面の簡単な説明】
第１図（ａ）〜（ｅ）は本発明の一実施例を示す概略断
面図。 図中の番号は以下のものを示す。 １……単結晶シリコン基板 ２……絶縁膜 ４……開口部 ５……単結晶シリコン膜

Claims (1)

    (57)【特許請求の範囲】
  1. 【請求項１】半導体結晶基板上の第１の被膜と、その第
    １の被膜上に半導体膜が部分的に存在する状態において
    気相成長により全面に半導体膜を成長する工程、第２の
    被膜を塗布する工程、前記部分的に存在する半導体膜、
    半導体膜、第２の被膜を第１の被膜が露出しないところ
    まで平坦にエッチング除去する工程、同様に第１の被膜
    が露出するまで研磨する工程を含むことを特徴とする半
    導体装置の製造方法。
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