JP2596252B2 - Method for manufacturing resin-encapsulated semiconductor device - Google Patents
Method for manufacturing resin-encapsulated semiconductor deviceInfo
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Description
【0001】[0001]
【産業上の利用分野】本発明は樹脂封止型半導体装置の
製造方法に関し、特に樹脂タブレットを金型内で溶融し
射出して樹脂封止を行なう製造方法に関する。BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a method for manufacturing a resin-sealed semiconductor device, and more particularly to a method for melting and injecting a resin tablet in a mold to perform resin sealing.
【0002】[0002]
【従来の技術】半導体装置の樹脂封止は樹脂成形機を使
用して行なう。樹脂成形機に上金型と下金型とをセット
し、両金型で形成されるキャビティ部に溶融樹脂を射出
注入する。封入樹脂はあらかじめ熱硬化性樹脂粉末を円
筒状に形成したタブレット形状のものである。下金型
は、封入樹脂を装填するポット部と、装填された封入樹
脂を上金型のカル部に押圧し射出するためのプランジャ
ーと、溶融樹脂をキャビティ部に流すランナー部とを有
する。更に、上下金型にはそれぞれ封入樹脂を加熱溶融
するためのヒーターを有する。この樹脂成形機を用い
て、半導体素子が搭載されワイヤーボンディングがなさ
れたリードフレームを上金型と下金型とで挟み、封入樹
脂の射出成形により樹脂封止型半導体装置を製造する。2. Description of the Related Art Resin sealing of a semiconductor device is performed using a resin molding machine. An upper mold and a lower mold are set in a resin molding machine, and a molten resin is injected and injected into a cavity formed by both molds. The encapsulating resin is in the form of a tablet in which thermosetting resin powder is formed in a cylindrical shape in advance. The lower mold has a pot for loading the sealing resin, a plunger for pressing the loaded sealing resin against the cull of the upper mold and injecting the same, and a runner for flowing the molten resin into the cavity. Further, each of the upper and lower molds has a heater for heating and melting the sealing resin. Using this resin molding machine, a lead frame on which a semiconductor element is mounted and wire-bonded is sandwiched between an upper mold and a lower mold, and a resin-encapsulated semiconductor device is manufactured by injection molding of a sealing resin.
【0003】次にこの製造方法を図6の工程図(a)〜
(c)を用いてもう少し詳しく説明する。樹脂成形機の
樹脂射出部において、同図(a)のようにプランジャー
6が原点位置に下降し、このプランジャー6の上面とポ
ット部5の側壁によって囲まれる空間部分に封入樹脂7
を装填し、上金型1と下金型2とを油圧により型締めす
る。次に同図(b)のようにプランジャー6が上昇して
封入樹脂7をカル部3に押圧し、溶融して押し出し射出
を進行させる。射出された封入樹脂7は、同図(c)の
ようにランナー部4を経てキャビティ部(図示せず)に
流入し、全てのキャビティ部が封入樹脂で充填される。
この後、所定の時間を経て封入樹脂の硬化が終了し、型
開きが行なわれ、成形品およびカル部およびランナー部
の封入樹脂が一体となって離型され、一連の樹脂成形が
終了する。また、必要に応じて型開き後、金型表面のク
リーニング工程が追加される。Next, this manufacturing method will be described with reference to FIGS.
This will be described in more detail using (c). In the resin injection section of the resin molding machine, the plunger 6 descends to the origin position as shown in FIG. 4A, and the sealing resin 7 is filled in a space surrounded by the upper surface of the plunger 6 and the side wall of the pot portion 5.
And the upper mold 1 and the lower mold 2 are clamped by hydraulic pressure. Next, the plunger 6 is raised to press the sealing resin 7 against the cull portion 3 as shown in FIG. The injected encapsulating resin 7 flows into the cavity (not shown) via the runner 4 as shown in FIG. 3C, and all the cavities are filled with the encapsulating resin.
Thereafter, after a predetermined period of time, the curing of the encapsulating resin is completed, the mold is opened, the molded product and the encapsulating resin in the cull portion and the runner portion are integrally released, and a series of resin molding is completed. After the mold is opened as required, a step of cleaning the mold surface is added.
【0004】上述した従来の半導体装置の樹脂封止方法
は、特開昭63−283034号公報および実開昭61
−86938号公報に開示されている。いずれにおいて
も樹脂タブレットを樹脂成形機に装填した後は、直ちに
加圧モールド工程に移行している。The above-described conventional resin sealing method for a semiconductor device is disclosed in Japanese Unexamined Patent Application Publication No.
-86938. In any case, after the resin tablet is loaded into the resin molding machine, the process immediately shifts to the pressure molding step.
【0005】[0005]
【発明が解決しようとする課題】従来の製造方法には次
のような欠点がある。まず、図7の平面図に示すよう
に、リードフレーム8に搭載する半導体素子12のボン
ディングパッド13とインナーリード14とをつなぐボ
ンディングワイヤー15は、通常、上方向から見て直線
的に張られているが、このワイヤー15が封入樹脂の流
動抵抗を受けて大きく歪曲しショート不良の発生原因に
なる。また、図8の平面図に示すように、下金型2のキ
ャビティ部9の表面のゲート部16に近いコーナー部分
は、常にランナー部4を経て新たに流入する封入樹脂が
接する部分であり、封入樹脂の低分子成分、ワックス
類、未反応の硬化剤等のレジン分が付着し易く、金型汚
れ17として現われる。この汚れは成形品である半導体
装置の樹脂表面にも凹凸として現われ、成形品外観不良
や捺印強度不足を引き起こす。The conventional manufacturing method has the following disadvantages. First, as shown in the plan view of FIG. 7, the bonding wire 15 connecting the bonding pad 13 of the semiconductor element 12 mounted on the lead frame 8 and the inner lead 14 is usually stretched linearly when viewed from above. However, the wire 15 is greatly distorted due to the flow resistance of the encapsulating resin and causes a short circuit. As shown in the plan view of FIG. 8, the corner portion near the gate portion 16 on the surface of the cavity portion 9 of the lower mold 2 is a portion where the sealing resin that newly flows in through the runner portion 4 always comes into contact. Resins such as low-molecular components of the encapsulating resin, waxes, unreacted curing agents, etc. are easily attached and appear as mold stains 17. The stains appear as irregularities on the resin surface of the semiconductor device, which is a molded product, and cause poor appearance of the molded product and insufficient marking strength.
【0006】また、この金型汚れは、次のような金型離
型時の問題点を引き起こす。一般に離型時の動作は、上
金型と下金型のどちらかが相対的に離れる方向に動き、
型開きが行なわれる。例えば、図9の断面図に示すよう
に、下金型2が下方に動くと、これと同時に上金型1の
エジェクターピン10が押し出され、硬化した樹脂は上
金型1から離型される。次に、下金型2がノックアウト
位置である下死点まで下った時、下金型2のエジェクタ
ーピン11が押し出され、封入樹脂7は下金型2から離
型される。しかしながら従来の製造方法では、エジェク
ターピン11で押し出してもエジェクターピン11が一
様に上昇しないため、一様な離型ができず不均一な離型
となり、下金型2への付着やランナー部4の樹脂折れを
引き起こす。[0006] The mold contamination causes the following problems at the time of mold release. Generally, the operation at the time of mold release is such that either the upper mold or the lower mold moves relatively away,
The mold is opened. For example, as shown in the cross-sectional view of FIG. 9, when the lower mold 2 moves downward, the ejector pins 10 of the upper mold 1 are simultaneously pushed out, and the cured resin is released from the upper mold 1. . Next, when the lower mold 2 moves down to the bottom dead center, which is a knockout position, the ejector pins 11 of the lower mold 2 are pushed out, and the encapsulating resin 7 is released from the lower mold 2. However, in the conventional manufacturing method, since the ejector pins 11 do not rise evenly even when they are pushed out by the ejector pins 11, uniform release cannot be performed, resulting in uneven release. 4 causes resin breakage.
【0007】本発明の目的は、封入樹脂の射出、離型を
容易に行なえる樹脂封止型半導体装置の製造方法を提供
することである。An object of the present invention is to provide a method of manufacturing a resin-encapsulated semiconductor device which can easily inject and release an encapsulating resin.
【0008】本発明の他の目的は、ボンディングワイヤ
ーを大きく変形させずに樹脂封止を行うことのできる樹
脂封止型半導体装置の製造方法を提供することにある。Another object of the present invention is to provide a method of manufacturing a resin-encapsulated semiconductor device which can perform resin encapsulation without significantly deforming a bonding wire.
【0009】本発明は、従来技術による上記の欠点が射
出前に樹脂タブレットを予熱しないか予熱しても予熱が
不充分であることによって生じるという新たな知見に基
づいている。すなわち、従来の方法では注入樹脂が予熱
されないか予熱が不充分であるため、注入樹脂の溶融が
不完全であり、溶融粘度が高くしかも硬化反応の進行が
不完全となる。本発明は、装填された樹脂タブレットを
射出前に所定時間予熱することによって、封入樹脂の粘
度を下げて流動性を良くすることを特徴とする。The present invention is based on the new finding that the above-mentioned disadvantages of the prior art are caused by insufficient or insufficient preheating of the resin tablet before injection. That is, in the conventional method, the injected resin is not preheated or the preheating is insufficient, so that the injection resin is incompletely melted, has a high melt viscosity, and the progress of the curing reaction is incomplete. The present invention is characterized in that the loaded resin tablet is preheated for a predetermined time before injection, thereby lowering the viscosity of the encapsulated resin and improving the fluidity.
【0010】[0010]
【課題を解決するための手段】本発明によれば、樹脂タ
ブレットをカル部に突き当て、やや押しつぶした状態で
所定時間保持し、上下金型からの熱で樹脂タブレットの
予熱を行なった後射出を行なう。押しつぶした状態を保
持することによって樹脂タブレットの円筒側面とポット
部の内壁とが密着し、樹脂タブレットと金型表面との接
触面積が最大になり、予熱が効果的に行なわれる。予熱
によって注入樹脂の粘度が下がり、ボンディングワイヤ
ーは射出樹脂の流動で変形を受けることがほとんどなく
なり、金型からの離型も容易になる。According to the present invention, a resin tablet is abutted against a cull portion, held for a predetermined time in a slightly crushed state, and is preheated by heat from upper and lower molds and then injected. Perform By holding the crushed state, the cylindrical side surface of the resin tablet and the inner wall of the pot portion are in close contact with each other, the contact area between the resin tablet and the mold surface is maximized, and preheating is effectively performed. The preheating lowers the viscosity of the injected resin, the bonding wire is hardly deformed by the flow of the injection resin, and the mold is easily released from the mold.
【0011】予熱を行なう時間は封入樹脂の種類および
量によっても異なるが、射出に要する時間と必要な樹脂
流動性によって制限され、半導体装置用として175℃
程度の成形を行なう熱硬化性樹脂は、樹脂の流動性を示
すスパイラルフロー値が50から120cm、ゲル化時
間が10から50秒の範囲にあるため、ほぼ5から20
秒の間が好ましい。特に好適なのは10秒前後である。The time for preheating varies depending on the type and amount of the sealing resin, but is limited by the time required for injection and the required fluidity of the resin.
The thermosetting resin which is molded to the extent of about 5 to 20 cm has a spiral flow value indicating the fluidity of the resin of 50 to 120 cm and a gel time of 10 to 50 seconds.
Preferably between seconds. Particularly preferred is around 10 seconds.
【0012】本発明の樹脂封止型半導体装置の製造方法
は、通常の樹脂成形機の大がかりな改造、設計変更や封
入樹脂の予備加熱装置の新たな付加は必要なく、射出動
作のシーケンスを変更することのみによって実現するこ
とができる。The method for manufacturing a resin-encapsulated semiconductor device according to the present invention does not require a major remodeling, a design change, or a new addition of a preheating device for the encapsulating resin, and changes the sequence of the injection operation. It can be realized only by doing.
【0013】[0013]
【実施例】図1を参照して本発明の第1の実施例の製造
工程を同図(a)〜(d)により説明する。本実施例に
使用する封入樹脂はエポキシ樹脂であり、樹脂タブレッ
トは直径13mm、高さ11mmであり、1セットの金
型に対して4本使用する。上下の金型の温度はあらかじ
め180℃に設定されている。1本のリードフレームに
は、4mm×15mmの大きさの半導体素子が8個搭載
されている。このリードフレームを2本金型のキャビテ
ィ部にセットし、4箇所のカル部から同時に射出を行な
う。図1はこれらのカル部のうちの1箇所とその近傍を
示している。DETAILED DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS Referring to FIG. 1, a manufacturing process of a first embodiment of the present invention will be described with reference to FIGS. The encapsulating resin used in this embodiment is an epoxy resin, the resin tablet has a diameter of 13 mm and a height of 11 mm, and four resin tablets are used for one set of dies. The temperatures of the upper and lower molds are set to 180 ° C. in advance. Eight semiconductor elements having a size of 4 mm × 15 mm are mounted on one lead frame. This lead frame is set in the cavity of two dies, and injection is performed simultaneously from four culls. FIG. 1 shows one of these culls and the vicinity thereof.
【0014】まず同図(a)で示すように、下金型2に
設けられプランジャー6が挿入されているポット部5内
にタブレット状の封入樹脂7を装填してプランジャー6
上に載せ、図示しない部分で上金型1と下金型2との油
圧による型締めを行なう。封入樹脂7が装填される時、
円筒状の外形のうち側面とポット部5の内壁との間には
クリアランスがあり、また上面もカル部空間のため間隔
があいており、下面のみがプランジャー6の上面と接触
している。従ってこの段階では下金型2からプランジャ
ー6を通して受ける熱はごく限られている。First, as shown in FIG. 1A, a tablet-shaped encapsulating resin 7 is loaded into a pot portion 5 provided in the lower mold 2 and into which a plunger 6 is inserted, and the plunger 6 is inserted.
The upper mold 1 and the lower mold 2 are placed on top of each other, and the upper mold 1 and the lower mold 2 are clamped by hydraulic pressure. When the encapsulating resin 7 is loaded,
In the cylindrical outer shape, there is a clearance between the side surface and the inner wall of the pot portion 5, and the upper surface is also spaced because of the cull space, and only the lower surface is in contact with the upper surface of the plunger 6. Therefore, at this stage, the heat received from the lower mold 2 through the plunger 6 is very limited.
【0015】同図(b)に示すように、次にプランジャ
ー6を上昇させ、封入樹脂7を上金型1のカル部3に押
し当て、ややつぶした状態でプランジャー6の上昇を止
め、そのまま所定時間保持する。封入樹脂7はつぶされ
た結果として側面がポット部5の内壁に密着し、上面も
やや広い面積でカル部3に密着する。従って上下金型か
らの熱を充分に受けて予熱される。次に同図(c)に示
すように、プランジャー6の上昇を再開し、封入樹脂7
は加圧されて溶融しランナー部4に流れ出す。次に同図
(d)に示すように、プランジャー6を更に上昇させて
封入樹脂7をキャビティ部(図示せず)に送り込み、射
出が完了する。この状態で封入樹脂7の流動は止まり、
硬化が進行する。As shown in FIG. 2B, the plunger 6 is then raised, and the sealing resin 7 is pressed against the cull 3 of the upper mold 1 to stop the plunger 6 from rising slightly. For a predetermined time. As a result of the crushing, the encapsulating resin 7 has a side surface in close contact with the inner wall of the pot portion 5 and an upper surface in close contact with the cull portion 3 with a slightly larger area. Therefore, it is preheated sufficiently by receiving heat from the upper and lower molds. Next, as shown in FIG. 3C, the plunger 6 is restarted to move upward,
Is pressurized and melted and flows out to the runner section 4. Next, as shown in FIG. 4D, the plunger 6 is further raised to feed the sealing resin 7 into the cavity (not shown), and the injection is completed. In this state, the flow of the sealing resin 7 stops,
Curing proceeds.
【0016】この後の硬化樹脂の離型および排出につい
ては、図10の断面図を参照して説明する。図10には
ポット部5の両側のキャビティ部9も示されている。ま
ず下金型2が下方に動く。これと同時に上金型1のエジ
ェクターピン10が押し出され、硬化した封入樹脂7は
上金型1から離型される。次に下金型2がノックアウト
位置である下死点まで下った時、下金型2のエジェクタ
ーピン11が押し出され、硬化した封入樹脂7はキャビ
ティ部9、ランナー部4、カル部3の各空間を充填した
部分が一体となって下金型2から離型される。そしてリ
ードフレーム8に樹脂封止された半導体素子(図示せ
ず)とともに金型から排出される。The subsequent release and discharge of the cured resin will be described with reference to the sectional view of FIG. FIG. 10 also shows the cavities 9 on both sides of the pot portion 5. First, the lower mold 2 moves downward. At the same time, the ejector pins 10 of the upper mold 1 are extruded, and the cured encapsulating resin 7 is released from the upper mold 1. Next, when the lower mold 2 moves down to the bottom dead center, which is the knockout position, the ejector pins 11 of the lower mold 2 are pushed out, and the hardened encapsulating resin 7 separates the cavity 9, the runner 4, and the cull 3 from each other. The portion that has filled the space is integrally released from the lower mold 2. Then, it is discharged from the mold together with the semiconductor element (not shown) resin-sealed in the lead frame 8.
【0017】次に、図3を参照して図1で述べた製造工
程のタイミング動作を詳細に説明する。図3は縦軸に下
金型およびプランジャーの動作ストロークを示し、横軸
に所要時間を示す。なお所要時間は型締め開始T1 から
の経過時間である。樹脂タブレット7の装填後、型締め
開始と同時に下金型2は上昇を始め、5秒時点で原点D
0 から40mm上昇して速度変換点P1に達し、7秒時
点では45mm上昇して型締めが完了する。10秒時点
(射出開始T2 )でプランジャー6は上昇を始め、原点
P0 から2mm上昇した11秒時点でカル部3への封入
樹脂7の突当て開始T3 となり、タブレット突当て位置
P6 に達し、5秒間プランジャーは停止する。すなわち
予熱が5秒間行なわれる。16秒時点で射出再開T4と
なり、プランジャーは12mmまで上昇して射出終点P
4 に達し、23秒時点で射出終了T5 となる。そのまま
の位置で封入樹脂を硬化させ、硬化が終了した127秒
時点で型開き開始T6 となり、下金型2が下降を始め、
129秒時点で5mm下って速度変換点P1 、さらに4
0mm下って134秒時点で原点D0 に戻る。さらに1
40秒時点でプランジャー6の上昇と下金型2の下降が
同時に始まり、プランジャー6は14mmまで上昇して
下金型つら位置P3 に達し、下金型2はノックアウト位
置P2 に達し、両者とも1秒間停止してエジェクターピ
ン11によるノックアウトが行なわれる。次いで142
秒時点で下金型2は上昇を始め、143秒時点で原点D
0 に戻り、プランジャー6は原点P0 から2.5mmの
高さのヘッド下げ位置P5 に下がることによってカル部
樹脂との貼り付きを断ち、その後プランジャーは再度下
金型つら位置P3 まで上昇した後、147秒時点で原点
P0 に戻り、1回の射出工程を終了する。このように、
射出開始T2 から射出終了T5 までの13秒間のうち突
当て開始T3 から射出再開T4 に至る5秒間はプランジ
ャー動作は停止し、予熱を行なっている。Next, the timing operation of the manufacturing process described with reference to FIG. 1 will be described in detail with reference to FIG. In FIG. 3, the vertical axis shows the operation stroke of the lower mold and the plunger, and the horizontal axis shows the required time. Incidentally required time is elapsed time from the clamping start T 1. After the resin tablet 7 is loaded, the lower mold 2 starts to rise at the same time as the mold clamping starts, and the origin D
It rises by 40 mm from 0 to reach the speed conversion point P 1, and rises by 45 mm at 7 seconds to complete the mold clamping. At 10 seconds (injection start T 2 ), the plunger 6 starts to rise. At 11 seconds when the plunger 6 rises 2 mm from the origin P 0 , it comes to the start T 3 of the sealing resin 7 against the cull portion 3 , and the tablet abutment position P Reach 6 and the plunger stops for 5 seconds. That is, preheating is performed for 5 seconds. Injection Resume T 4 becomes a 16 second time point, the plunger rises to 12mm injection end point P
4 reached, the completion of injection T 5 at 23 seconds. Curing the encapsulating resin in situ, next to the mold opening start T 6 127 seconds when the curing was completed, the lower die 2 the descent began,
At 129 seconds, the speed conversion point P 1 drops by 5 mm, and 4
It returns to the origin D0 at 134 seconds after moving down by 0 mm. One more
Beginning lowering of raised and the lower mold 2 of the plunger 6 at the same time at 40 seconds time, the plunger 6 reaches the lower die bitterness position P 3 rises to 14 mm, the lower mold 2 reaches the knockout position P 2 Both are stopped for one second and knockout by the ejector pin 11 is performed. Then 142
At 2 seconds, the lower mold 2 starts to rise, and at 143 seconds, the origin D
Returning to 0, the plunger 6 is the origin P Disconnect sticking the cull part resin by 0 may fall head down position P 5 of a height of 2.5mm from then plunger lower die bitterness position P 3 again After returning to the origin P 0 at 147 seconds, one injection step is completed. in this way,
5 seconds reaching the exit Resume T 4 from the start T 3 butting out of 13 seconds until the completion of injection T 5 from the start of injection T 2 are plunger operation is stopped, is performed preheating.
【0018】図2を参照して本発明の第2の実施例の製
造工程を同図(a)〜(c)により説明する。説明に当
たっての条件は第1の実施例と同様である。同図(a)
に示すように、ポット部5に装填されたタブレット状の
封入樹脂7が、プランジャー6の上昇によって上金型1
のカル部3に突当たった状態で、上金型1と下金型2と
の型締めがなされる。すなわち、型締め開始のタイミン
グでプランジャー6が上昇を開始し、型締め終了時点で
は既に封入樹脂7は予熱に入っている。次に同図(b)
に示すように、プランジャー6の上昇により封入樹脂7
は溶融し、射出が開始されランナー部4に流れ出す。次
に同図(c)に示すように、プランジャー6を更に上昇
させ、封入樹脂7をキャビティ部(図示せず)に送り込
み硬化させる。その後の封入樹脂の離型および排出は、
図10で説明したのと同様である。本実施例では、型締
めと同時にプランジャー6によるカル部3への突当てを
行なったが、型締め前に既に封入樹脂7を下金型2の上
面より上に出し、型締め後封入樹脂7の上面がカル部3
に当たるように調整を行なうようにしてもよい。次に図
4を参照して図2で述べた製造工程のタイミング動作を
説明する。なお説明に当っての数値等は図3で述べたも
のと同様である。本実施例では、型締め開始T1 と射出
開始T2 が同時であり、型締め開始と同時にプランジャ
ー6および下金型2の上昇が始まっている。それにつれ
て、突当て開始T3 と射出再開T4 のタイミングは早く
なり、型開き開始T6 までの硬化時間が長くとれること
になる。Referring to FIG. 2, a manufacturing process according to a second embodiment of the present invention will be described with reference to FIGS. The conditions for the description are the same as in the first embodiment. FIG.
As shown in FIG. 7, the tablet-shaped encapsulating resin 7 loaded in the pot portion 5 is
The upper mold 1 and the lower mold 2 are clamped in a state where they abut against the cull portion 3. That is, the plunger 6 starts to rise at the timing of the start of the mold clamping, and the sealing resin 7 has already been preheated at the end of the mold clamping. Next, FIG.
As shown in FIG.
Is melted, injection is started, and flows out to the runner section 4. Next, as shown in FIG. 3C, the plunger 6 is further raised, and the sealing resin 7 is fed into a cavity (not shown) and cured. The subsequent release and discharge of the encapsulated resin
This is the same as described with reference to FIG. In this embodiment, the plunger 6 abuts against the cull portion 3 at the same time as the mold clamping. However, before the mold clamping, the sealing resin 7 is already taken out of the upper surface of the lower mold 2, and after the mold clamping, the sealing resin 7 is the cull part 3
The adjustment may be performed so that Next, the timing operation of the manufacturing process described with reference to FIG. 2 will be described with reference to FIG. The numerical values and the like in the description are the same as those described in FIG. In this embodiment, a mold clamping start T 1 and the injection start T 2 simultaneously, the mold clamping start and rise of the plunger 6 and the lower die 2 at the same time has begun. As it, butting faster the timing of starting T 3 and the injection resumed T 4, so that the take long curing time to the mold opening start T 6.
【0019】図5のグラフを参照すると、175℃成形
における封入樹脂のホット硬度(ショアーDゴム硬度)
の、射出終了からの成形時間の経過に対する変化が、通
常の製造方法50と本発明の第1の実施例51および第
2の実施例52とについて比較して表示されている。第
1の実施例51および第2の実施例52とも、通常の製
造方法50よりもホット硬度が短い時間で立ち上がって
おり、硬化が進んでいることがわかる。このことは、本
発明によるサイクルタイムの短縮を意味し、量産性に優
れた製造方法であることがわかる。Referring to the graph of FIG. 5, the hot hardness (Shore D rubber hardness) of the sealing resin at 175 ° C. molding
The change in the molding time from the end of the injection to the elapse of the molding time is shown by comparing the normal manufacturing method 50 with the first embodiment 51 and the second embodiment 52 of the present invention. In both the first embodiment 51 and the second embodiment 52, the hot hardness rises in a shorter time than in the normal manufacturing method 50, and it can be seen that the curing is progressing. This means that the cycle time is shortened according to the present invention, and it is understood that the manufacturing method is excellent in mass productivity.
【0020】表1は、通常の方法および本発明の2つの
実施例について、100ショット(1ショットは射出1
回)のうち離型不良が発生したショット数(離型不良に
より稼働できなかった時間も付記)と、8個の半導体素
子を搭載したリードフレームを100ショット行なった
成形品のうち、ボンディングワイヤーの歪曲により不良
になった個数を示し、また別途に集計した封入歩留り
(%)を記している。また右欄には、金型のクリーニン
グ直後から次のクリーニングが必要になるまでのショッ
ト数を示す。本発明の実施例によれば、離型不良および
不良個数が大幅に減少し、封入歩留りが大きく増加し、
しかも金型汚れが減少してクリーニング頻度が少なくな
っていることがわかる。Table 1 shows that 100 shots (one shot corresponds to one shot) for the conventional method and two embodiments of the invention.
Times), the number of shots in which a mold release failure occurred (the time during which operation was not possible due to the mold release failure is also described), and of the molded product obtained by performing 100 shots on a lead frame mounting eight semiconductor elements, The number of defective units due to the distortion is shown, and the encapsulation yield (%) calculated separately is described. The right column shows the number of shots from immediately after the mold cleaning until the next cleaning is required. According to the embodiment of the present invention, mold release defects and the number of defects are significantly reduced, the encapsulation yield is greatly increased,
Moreover, it can be seen that the mold frequency is reduced and the frequency of cleaning is reduced.
【0021】[0021]
【表1】 [Table 1]
【0022】[0022]
【発明の効果】本発明により、封止樹脂の予熱が充分行
なわれるようになり、封止樹脂の流動性が良くなるとと
もに硬化反応の進行が完全となり、溶融粘度が下がって
封止半導体装置のボンディングワイヤーが受ける流動抵
抗が小さくなり変形を生じにくくなる。また、金型内面
に封入樹脂の低分子成分、ワックス類、未反応の硬化剤
等のレジン分が残存しにくく、金型汚れが減少する。更
に、離型が均一に行なわれ樹脂折れ等が防止できる。According to the present invention, the preheating of the encapsulating resin is sufficiently performed, the flowability of the encapsulating resin is improved, the progress of the curing reaction is completed, the melt viscosity is reduced, and the encapsulating semiconductor device is improved. The flow resistance received by the bonding wire is reduced and deformation is less likely to occur. Further, resin components such as low molecular components of the encapsulating resin, waxes, unreacted curing agent, and the like hardly remain on the inner surface of the mold, and mold contamination is reduced. Further, the release is performed uniformly, and the resin breakage and the like can be prevented.
【図1】本発明の第1の実施例を説明する図で、同図
(a)から(d)はそれぞれ製造工程を示す樹脂射出部
の部分断面図である。FIG. 1 is a view for explaining a first embodiment of the present invention, and FIGS. 1 (a) to 1 (d) are partial cross-sectional views of a resin injection section showing manufacturing steps.
【図2】本発明の第2の実施例を説明する図で、同図
(a)から(c)はそれぞれ製造工程を示す樹脂射出部
の部分断面図である。FIGS. 2A to 2C are views for explaining a second embodiment of the present invention, and FIGS. 2A to 2C are partial cross-sectional views of a resin injection section showing a manufacturing process.
【図3】本発明における第1の実施例の下金型とプラン
ジャーの動作のタイミングチャートである。FIG. 3 is a timing chart of the operation of the lower mold and the plunger according to the first embodiment of the present invention.
【図4】本発明における第2の実施例の下金型とプラン
ジャーの動作のタイミングチャートである。FIG. 4 is a timing chart of the operation of the lower mold and the plunger according to the second embodiment of the present invention.
【図5】本発明の2つの実施例と通常の製造方法との樹
脂硬度を比較したグラフである。FIG. 5 is a graph comparing resin hardness between two examples of the present invention and a normal manufacturing method.
【図6】従来の製造方法を説明する図で、同図(a)〜
(c)はそれぞれ製造工程を示す樹脂射出部の部分断面
図である。FIG. 6 is a view for explaining a conventional manufacturing method, and FIGS.
(C) is a partial cross-sectional view of the resin injection unit showing a manufacturing process.
【図7】従来のボンディングワイヤー曲りを示す平面図
である。FIG. 7 is a plan view showing a conventional bonding wire bend.
【図8】従来の金型汚れを示す平面図である。FIG. 8 is a plan view showing a conventional mold stain.
【図9】従来の離型不良を示す断面図である。FIG. 9 is a cross-sectional view showing a conventional mold release defect.
【図10】封入樹脂の離型を説明する金型の断面図であ
る。FIG. 10 is a cross-sectional view of a mold for explaining mold release of a sealing resin.
1 上金型 2 下金型 3 カル部 4 ランナー部 5 ポット部 6 プランジャー 7 封入樹脂 8 リードフレーム 9 キャビティ部 10,11 エジェクターピン 12 半導体素子 13 ボンディングパッド 14 インナーリード 15 ボンディングワイヤー 16 ゲート部 17 金型汚れ 50 通常の製造方法 51 第1の実施例の製造方法 52 第2の実施例の製造方法 DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 Upper mold 2 Lower mold 3 Cull part 4 Runner part 5 Pot part 6 Plunger 7 Encapsulation resin 8 Lead frame 9 Cavity part 10, 11 Ejector pin 12 Semiconductor element 13 Bonding pad 14 Inner lead 15 Bonding wire 16 Gate part 17 Mold contamination 50 Normal manufacturing method 51 Manufacturing method of the first embodiment 52 Manufacturing method of the second embodiment
Claims (6)
封止を行なう樹脂封止型半導体装置の製造方法におい
て、樹脂成形機に封入樹脂を装填後この封入樹脂をプラ
ンジャーでカル部に押し当て、所定の時間保持すること
によりこの封入樹脂の予熱を行なうことを特徴とする樹
脂封止型半導体装置の製造方法。In a method of manufacturing a resin-sealed semiconductor device in which a resin molding machine is used to seal a semiconductor device with a resin, a sealing resin is charged into the resin molding machine, and the sealing resin is filled into a cull portion by a plunger. A method for manufacturing a resin-encapsulated semiconductor device, comprising preheating the sealing resin by pressing and holding the resin for a predetermined time.
ャー上に封入樹脂を装填する工程と、前記2つの金型を
型締めする工程と、前記プランジャーを押し出し前記封
入樹脂を前記2つの金型の他方のカル部に押し当てる工
程と、前記封入樹脂を所定時間保持し予熱する工程と、
その後に前記プランジャーを更に押し出して射出を終了
させる工程と、封入樹脂を硬化させる工程と、硬化した
封入樹脂を前記2つの金型から分離する工程とを含む樹
脂封止型半導体装置の製造方法。2. A step of loading a sealing resin on a plunger mounted on one of two molds, a step of clamping the two molds, and extruding the plunger to remove the sealing resin from the mold. A step of pressing against the other cull of one mold and a step of preheating by holding the sealing resin for a predetermined time,
Thereafter, a method of manufacturing a resin-encapsulated semiconductor device including a step of further extruding the plunger to terminate injection, a step of curing the sealing resin, and a step of separating the cured sealing resin from the two molds. .
ーの押し出しを停止させる請求項2記載の樹脂封止型半
導体装置の製造方法。3. The method according to claim 2, wherein the extrusion of the plunger is stopped during the preheating step.
程とを同時に行なう請求項2記載の樹脂封止型半導体装
置の製造方法。4. The method according to claim 2, wherein the step of clamping and the step of pressing are performed simultaneously.
金型の上昇と前記プランジャーの上昇とを同時に開始す
る請求項2記載の樹脂封止型半導体装置の製造方法。5. The method for manufacturing a resin-encapsulated semiconductor device according to claim 2, wherein one of the dies is a lower die, and the raising of the lower die and the raising of the plunger are started simultaneously.
は5から20秒である請求項2記載の樹脂封止型半導体
装置の製造方法。6. The method for manufacturing a resin-encapsulated semiconductor device according to claim 2, wherein said predetermined time in said preheating step is 5 to 20 seconds.
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP3094595A JP2596252B2 (en) | 1990-05-21 | 1991-04-25 | Method for manufacturing resin-encapsulated semiconductor device |
Applications Claiming Priority (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP13093790 | 1990-05-21 | ||
JP2-130937 | 1990-05-21 | ||
JP3094595A JP2596252B2 (en) | 1990-05-21 | 1991-04-25 | Method for manufacturing resin-encapsulated semiconductor device |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH04226042A JPH04226042A (en) | 1992-08-14 |
JP2596252B2 true JP2596252B2 (en) | 1997-04-02 |
Family
ID=26435865
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP3094595A Expired - Lifetime JP2596252B2 (en) | 1990-05-21 | 1991-04-25 | Method for manufacturing resin-encapsulated semiconductor device |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP2596252B2 (en) |
-
1991
- 1991-04-25 JP JP3094595A patent/JP2596252B2/en not_active Expired - Lifetime
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JPH04226042A (en) | 1992-08-14 |
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