JP2543201B2 - Photosensitive material processing equipment - Google Patents
Photosensitive material processing equipmentInfo
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- JP2543201B2 JP2543201B2 JP24388689A JP24388689A JP2543201B2 JP 2543201 B2 JP2543201 B2 JP 2543201B2 JP 24388689 A JP24388689 A JP 24388689A JP 24388689 A JP24388689 A JP 24388689A JP 2543201 B2 JP2543201 B2 JP 2543201B2
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Description
【発明の詳細な説明】 [産業上の利用分野] 本発明は、処理液が収容された第1の処理槽と第2の
処理槽内へ画像露光された感光材料を順次搬送して処理
する感光材料処理装置に関する。DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION [Industrial field of application] The present invention sequentially conveys and processes an imagewise exposed light-sensitive material into a first processing tank containing a processing liquid and a second processing tank. The present invention relates to a photosensitive material processing device.
[従来の技術] 画像が焼付けられた感光材料例えば感光性平版印刷板
は、感光材料処理装置である感光性平版印刷版処理機へ
送られて、この感光性平版印刷版処理機の現像槽部で現
像処理され、リンス部又は水洗部で水洗された後にフイ
ニツシヤー部でフイニシヤー液が塗布される。[Prior Art] A photosensitive material on which an image is printed, for example, a photosensitive lithographic printing plate is sent to a photosensitive lithographic printing plate processing machine which is a photosensitive material processing device, and a developing tank portion of this photosensitive lithographic printing plate processing machine. And then rinsed with water or rinsed with water, and then applied with a finisher solution at the finisher.
上記現像槽内には現像液が供給されており、この現像
槽内へ感光性平版印刷版は搬送され、現像液が感光材料
の表面に噴射されて現像処理される。特に実公昭60−35
072号公報に記載されているように、現像工程を少なく
とも2つの現像工程に分割し、現像時間を複数段階にし
た現像処理装置が提案されている。A developing solution is supplied into the developing tank, the photosensitive lithographic printing plate is conveyed into the developing tank, and the developing solution is sprayed onto the surface of the photosensitive material for development processing. In particular, Jitsuko Sho 60-35
As described in Japanese Patent Application Laid-Open No. 072, there is proposed a development processing apparatus in which the development process is divided into at least two development processes and the development time is set to a plurality of stages.
[発明が解決しようとする課題] しかしながら、実公昭60−35072号公報に記載されて
いる現像処理装置では、感光性平版印刷版の処理枚数が
少ない場合と、多い場合とでは現像液の現像能力に差が
生じ、処理枚数が少ないときに処理した感光性平版印刷
版と、処理枚数が多くなったときに処理した感光性平版
印刷版とでは現像処理に差が生じ現像むらとなり、現像
処理を安定して行うことが出来なかった。[Problems to be Solved by the Invention] However, in the development processing apparatus described in Japanese Utility Model Publication No. Sho 60-35072, the developing ability of the developing solution depends on whether the number of processed photosensitive lithographic printing plates is small or large. Difference occurs, and the photosensitive lithographic printing plate processed when the number of processed sheets is small and the photosensitive lithographic printing plate processed when the number of processed sheets are large, there is a difference in development processing, resulting in uneven development, and the development processing is I couldn't do it stably.
そこで、本願出願人は特願昭63−149421号で必要処理
量に対応して安定して現像処理することが出来る感光性
平版印刷板処理機を提案している。この処理機では主現
像槽(第1現像槽)と補助現像槽(第2現像槽)とを設
けて、主現像槽で感光槽を膨潤させた後に補助現像槽で
仕上げがなされて現像処理する。Therefore, the applicant of the present application has proposed in Japanese Patent Application No. 63-149421 a photosensitive lithographic printing plate processing machine capable of performing stable development processing corresponding to the required processing amount. In this processor, a main developing tank (first developing tank) and an auxiliary developing tank (second developing tank) are provided, and after the photosensitive tank is swollen in the main developing tank, finishing is performed in the auxiliary developing tank for development processing. .
ところが、上記の処理機では、第2の現像槽で使用さ
れる現像液の現像液面より第1の現像槽の現像液面の方
が高く第2の現像槽に補充された現像補充液を第1現像
槽へ安定して供給することができず、第1の現像槽と第
2の現像槽とで長期間連続して処理することが出来なか
った。However, in the above-mentioned processor, the developing solution surface of the first developing tank is higher than the developing solution surface of the developing solution used in the second developing tank, and the developing replenisher solution replenished in the second developing tank is It could not be stably supplied to the first developing tank, and continuous processing could not be performed for a long period of time in the first developing tank and the second developing tank.
本発明は上記事実を考慮し、複数の処理槽で感光材料
を処理する装置において、第1の処理槽と第2の処理槽
とで使用される現像液の活性度を維持することが出来、
長期間に亘って安定して処理することが出来る感光材料
処理装置を提供することが目的である。In consideration of the above facts, the present invention can maintain the activity of the developer used in the first processing tank and the second processing tank in the apparatus for processing the photosensitive material in the plurality of processing tanks,
It is an object of the present invention to provide a photosensitive material processing apparatus capable of stably processing for a long period of time.
[課題を解決するための手段] 上記目的を達成するため本発明では、第2の処理槽内
に設けられて第2の処理槽内の処理液の液面レベルを設
定する液面レベル設定手段と、前記第2の処理槽内へ前
記液面レベル設定手段により設定された液面以上に補充
液を補充する補充手段と、前記第2の処理槽内へ補充さ
れた補充液と同量の処理液を第2の処理槽内から第1の
処理槽内へ供給する供給手段と、を有することを特徴と
している。[Means for Solving the Problems] In order to achieve the above-mentioned object, in the present invention, a liquid level setting means that is provided in the second processing tank and sets the liquid level of the processing liquid in the second processing tank. And a replenishing means for replenishing the replenishing liquid above the liquid level set by the liquid level setting means into the second processing tank, and a replenishing solution of the same amount as the replenishing liquid replenishing into the second processing tank. Supply means for supplying the processing liquid from the inside of the second processing tank to the inside of the first processing tank.
[作用] 本発明によれば、第2の処理槽内へ補充手段によって
補充液が補充される。第2の処理槽内へ補充された補充
量と同量の処理液が第2の処理槽内から第1の処理槽内
へ供給手段によって供給される。[Operation] According to the present invention, the replenisher is replenished by the replenishing means into the second processing tank. The same amount of processing liquid as the replenishment amount replenished into the second processing tank is supplied from the second processing tank into the first processing tank by the supply means.
このように第2の処理槽内へ補充された補充液と同量
の第2の処理槽の処理液が第1の処理槽内へ供給される
ので、第1の処理槽内の処理液の活性度を維持すること
が出来、第1の処理槽内の処理液の劣化を少なくするこ
とが出来るので、長期間に亘って安定して感光材料を処
理することが出来る。Since the same amount of the processing liquid in the second processing tank as the replenishing liquid replenished in the second processing tank is supplied into the first processing tank, Since the activity can be maintained and the deterioration of the processing liquid in the first processing tank can be reduced, the photosensitive material can be stably processed for a long period of time.
[発明の効果] 上記構成の本発明によれば、第2処理槽内へ補充され
た補充液と同量の第2の処理液を第1処理槽内へ供給す
るので、第1の処理槽で使用される現像液の活性度を維
持することが出来、長期間に亘って安定して処理するこ
とが出来るという優れた効果が得られる。[Effect of the Invention] According to the present invention having the above-described configuration, the same amount of the second processing liquid as the replenishing liquid replenished in the second processing tank is supplied into the first processing tank. It is possible to maintain the activity of the developer used in step 1, and obtain an excellent effect that it can be stably processed for a long period of time.
[実施例] 第1図には本発明に係る感光材料処理装置の一例であ
る感光性平板印刷版処理機10の実施例が示されている。[Embodiment] FIG. 1 shows an embodiment of a photosensitive lithographic printing plate processor 10 which is an example of a photosensitive material processing apparatus according to the present invention.
感光性平版印刷板処理機10には、図示しない焼付装置
で画像が焼付けられた感光性平版印刷板(以下「PS版」
という)12を現像する第1現像槽14と、PS版12を補助的
に現像処理する第2現像槽16と、第1現像槽14と第2現
像槽16との間に配置されたオーバーフロー槽18と、PS版
12へ後述するフイニシヤー液152を塗布するフイニツシ
ヤー槽20とが備えられている。The photosensitive lithographic printing plate processor 10 has a photosensitive lithographic printing plate (hereinafter referred to as “PS plate”) on which an image is printed by a printing device (not shown).
The first developing tank 14 for developing 12), the second developing tank 16 for developing the PS plate 12 in an auxiliary manner, and the overflow tank arranged between the first developing tank 14 and the second developing tank 16. 18 and PS version
12 is provided with a finisher tank 20 for applying a finisher solution 152 described later.
〈第1現像槽〉 第1図に示されるように第1現像槽14へのPS版12の挿
入側には、一対の搬送ローラ22が配置されている。この
一対の搬送ローラ22間へ図示しない焼付装置によって画
像が焼付けられたPS版12が挿入され、挿入されたPS版12
を感光性平版印刷版処理機10内へ搬送方向(第1図の矢
印A方向)に沿って送り出す。<First Developing Tank> As shown in FIG. 1, a pair of conveying rollers 22 are arranged on the side where the PS plate 12 is inserted into the first developing tank 14. The PS plate 12 on which an image is printed by a printing device (not shown) is inserted between the pair of transport rollers 22 and the inserted PS plate 12 is inserted.
To the photosensitive lithographic printing plate processing machine 10 along the transport direction (the direction of arrow A in FIG. 1).
第1現像槽14は上方が開放され底部中央部が下方に向
けて突出された略逆山形状となっている。この第1現象
槽14内には現像液24が収容されている。第1現像槽14内
には底壁部に沿って同じ直径のガイドローラ26、28、3
0、32、34、36、38が配設されている。これらのガイド
ローラ26〜38はその軸の外周に弾性回転部材が複数個軸
支された串型のローラを形成しており、その軸は図示し
ない一対の側板間に掛渡され支持されている。The first developing tank 14 has a substantially inverted mountain shape in which the upper part is opened and the central part of the bottom part is projected downward. The developer 24 is contained in the first phenomenon tank 14. In the first developing tank 14, guide rollers 26, 28, 3 having the same diameter along the bottom wall.
0, 32, 34, 36, 38 are provided. These guide rollers 26 to 38 form a skewer-shaped roller in which a plurality of elastic rotating members are pivotally supported on the outer periphery of the shaft, and the shaft is supported by being supported between a pair of side plates (not shown). .
またガイドローラ26の上方にはガイドローラ26より大
径のガイドローラ40が配置され、ガイドローラ36の上方
にはガイドローラ42が配置されており、ガイドローラ38
の上方にはガイドローラ44が配置されている。これらの
ガイドローラ4、42、44はガイドローラ26〜38と同様に
図示しない一対の側板に支持されている。A guide roller 40 having a diameter larger than that of the guide roller 26 is arranged above the guide roller 26, and a guide roller 42 is arranged above the guide roller 36.
A guide roller 44 is arranged above. These guide rollers 4, 42 and 44 are supported by a pair of side plates (not shown) like the guide rollers 26 to 38.
第1現像槽14内の中央部には、ガイドローラ30とガイ
ドローラ32との間に搬送ローラ対46が配置されている。
この搬送ローラ対46は図示しない一対の側板に支持され
ており、図示しない駆動手段の駆動力が伝達されて回転
する。A conveyance roller pair 46 is disposed between the guide roller 30 and the guide roller 32 at the center of the first developing tank 14.
The transport roller pair 46 is supported by a pair of side plates (not shown), and rotates by transmitting a driving force of a driving unit (not shown).
搬送ローラ対46とガイドローラ30との間にはガイドロ
ーラ30より大径のガイドローラ48が配置されている。こ
のガイドローラ48は串型のローラでガイドローラ24〜38
と同様に一対の側板に支持されている。このガイドロー
ラ48の軸にはブラケット50を介してガイド52が取付けら
れている。このガイド52は一端がブラケット50へ固定さ
れ、他端が搬送ローラ対46へ向かって配置されている。
これによってPS版12を搬送ローラ対46間へ案内する。A guide roller 48 having a diameter larger than that of the guide roller 30 is arranged between the conveying roller pair 46 and the guide roller 30. The guide rollers 48 are skewered rollers and guide rollers 24 to 38.
It is supported by a pair of side plates similarly to. A guide 52 is attached to the shaft of the guide roller 48 via a bracket 50. One end of the guide 52 is fixed to the bracket 50, and the other end is disposed toward the pair of transport rollers 46.
Thus, the PS plate 12 is guided between the pair of transport rollers 46.
従って、搬送ローラ対22によって第1現像槽14内へ送
り出されたPS版12はガイドローラ26とガイドローラ40間
へ挿入され、ガイドローラ28、30、48に案内されて斜め
に下降し、ガイド52によって搬送ローラ対46間へ挿入さ
れる。搬送ローラ対46を通過後はガイドローラ32、34、
36、42、38に案内されて斜めに上昇し、ガイドローラ44
に案内されてオーバーフロー槽18上へ送り出される。こ
れによりPS版12は第1現像槽14の現像液中へ浸漬されて
現像される。Therefore, the PS plate 12 sent out into the first developing tank 14 by the conveying roller pair 22 is inserted between the guide roller 26 and the guide roller 40, and is guided by the guide rollers 28, 30, and 48 and descends obliquely. By 52, it is inserted between the conveying roller pair 46. After passing through the conveying roller pair 46, the guide rollers 32, 34,
It is guided diagonally by 36, 42, 38 and rises diagonally, and guide roller 44
And is sent out onto the overflow tank 18. As a result, the PS plate 12 is immersed in the developing solution in the first developing tank 14 and developed.
ガイドローラ32は軸方向に沿って複数個の吐出口が形
成されたスプレーパイプ54の外周に複数個の弾性回転部
材が軸支されて形成されている。このスプレーパイプ54
は管路56の一端と連通されている。管路56の他端は第2
現像槽16の底部を貫通して第2現像槽16内へ突出してお
り、第2現像槽16の液面高さが設定されている。管路56
の途中には供給ポンプ58(P7)が配置されており、これ
によって第2現像槽16内の現像液24がスプレーパイプ54
へ供給され、第1現像槽14内へ供給される。The guide roller 32 is formed such that a plurality of elastic rotating members are supported on the outer periphery of a spray pipe 54 having a plurality of discharge ports formed in the axial direction. This spray pipe 54
Communicates with one end of the conduit 56. The other end of the conduit 56 is the second
It penetrates the bottom of the developing tank 16 and projects into the second developing tank 16, and the liquid level of the second developing tank 16 is set. Pipeline 56
A supply pump 58 (P 7 ) is arranged in the middle of, so that the developing solution 24 in the second developing tank 16 is sprayed by the spray pipe 54.
Is supplied to the first developing tank 14.
この第2現像槽16内の現像液24を第1現像槽14内供給
することによって、第1現像槽14内の現像液24の活性度
を維持することが出来る。By supplying the developing solution 24 in the second developing tank 16 into the first developing tank 14, the activity of the developing solution 24 in the first developing tank 14 can be maintained.
またガイドローラ32の上方にはスプレーパイプ60が配
置されている。このスプレーパイプ60は軸方向に沿っ
て、搬送ローラ対46に向かって開口された複数個の吐出
口が設けられている。このスプレーパイプ60も管路56と
連通されており、第2現像槽16内の現像液24が供給ポン
プ58によってスプレーパイプ60へ供給され、第1現像槽
14内へ供給される。Further, a spray pipe 60 is disposed above the guide roller 32. The spray pipe 60 is provided with a plurality of discharge ports that are opened toward the conveying roller pair 46 along the axial direction. The spray pipe 60 is also in communication with the conduit 56, and the developer 24 in the second developing tank 16 is supplied to the spray pipe 60 by the supply pump 58, so that the first developing tank
Supplied into 14
スプレーパイプ60とガイドローラ42との間にはブラシ
62が配置されている。このブラシ62は回転軸64が図示し
ない側板に回転可能に支持されており、図示しない駆動
手段の駆動力が伝達されて回転する。Brush between spray pipe 60 and guide roller 42
62 are arranged. The brush 62 has a rotating shaft 64 rotatably supported by a side plate (not shown), and rotates by transmitting a driving force of a driving unit (not shown).
ブラシ62は回転軸64に図示しない長尺状の絨毯ブラシ
がナイロンシート(図示省略)を介して螺旋状に巻付け
られ接着されている。この絨毯ブラシはナイロン、ETE
F、PPS、PP等で成形されている。また外径は40mmΦ以下
で20〜40mmΦが好ましく、絨毯ブラシの線径は20〜70μ
に設定されている。またこの絨毯ブラシの回転数は300r
pm以下に設定されており、60〜200rpmが好ましい。In the brush 62, a long carpet brush (not shown) is spirally wound and adhered to a rotating shaft 64 via a nylon sheet (not shown). This carpet brush is nylon, ETE
Molded with F, PPS, PP, etc. In addition, the outer diameter is preferably 40 mmΦ or less and 20 to 40 mmΦ, and the wire diameter of the carpet brush is 20 to 70 μ.
Is set to The rotation speed of this carpet brush is 300r
pm or less, preferably 60-200 rpm.
またブラシ62は回転軸へ螺旋状の溝を設け、この溝内
へ図示しないネジリブラシを挿入して巻付けて形成して
も良い。この場合ネジリブラシは2本の線材に毛が固定
されたブラシで、このネジリブラシの線材を溝内へ挿入
すると、毛が溝の外側へ略均一に散らばって突出し、放
射状に立設した毛が回転軸の回りに略均一に配置され
る。このネジリブラシは上記絨毯ブラシと同じ材質で成
形されている。Alternatively, the brush 62 may be formed by providing a spiral groove on the rotating shaft, inserting a torsion brush (not shown) into this groove, and winding the same. In this case, the twist brush is a brush in which bristles are fixed to two wire rods, and when the wire rods of this twist brush are inserted into the groove, the bristles are scattered substantially uniformly outside the groove, and the bristles erected in a radial direction are rotated. Are arranged substantially uniformly around. This torsion brush is formed of the same material as the carpet brush.
第1図に示されるようにガイドローラ36とガイドロー
ラ38との間のPS版12の搬送路の下部にはブラシ62と同構
成のブラシ78が配置されている。As shown in FIG. 1, a brush 78 having the same configuration as the brush 62 is disposed below the conveying path of the PS plate 12 between the guide rollers 36.
ブラシ62のガイドローラ42側にはけられ防止板80が配
置されている。このけられ防止板80はブラシ62とガイド
ローラ36間を通過したPS版12の後端部のけられを防止し
ている。さらにブラシ78とガイドローラ38との間にはけ
られ防止板82が配置されている。このけられ防止板82は
けられ防止板80と同様にPS版12の後端部のけられを防止
している。A brush preventing plate 80 is arranged on the guide roller 42 side of the brush 62. The anti-vibration plate 80 prevents the rear end of the PS plate 12 passing between the brush 62 and the guide roller 36 from being eclipsed. Further, an anti-peeling plate 82 is arranged between the brush 78 and the guide roller 38. Like the anti-shatter plate 80, the anti-shock plate 82 prevents the rear end portion of the PS plate 12 from being scratched.
第1現像槽14の上にはオーバーフロー槽18の底部と連
通された管路84が開口している。この管路84の途中には
ポンプ86(P6)が配置されている。また第1現像槽14の
上には給水タンク88と連通された管路90が開口されてい
て、この管路90の途中には給水ポンプ92(P2)が配置さ
れている。この給水ポンプ92は後述する電導度補充コン
トローラー176に接続されている。これにより第1現像
槽14への給水の時期が制御される。A conduit 84 communicating with the bottom of the overflow tank 18 is open above the first developing tank 14. A pump 86 (P 6 ) is arranged in the middle of the pipe 84. A pipe 90 communicating with the water supply tank 88 is opened on the first developing tank 14, and a water supply pump 92 (P 2 ) is arranged in the middle of the pipe 90. The water supply pump 92 is connected to a conductivity supplement controller 176 described later. Thus, the timing of water supply to the first developing tank 14 is controlled.
また第1現像槽14の下部には管路94の一端が連通され
ている。この管路94の途中には電導度検出器96(S)、
循環ポンプ98、フイルタ100(F)が配置されており、
他端はスプレーパイプ54、60へ連通されている。したが
って、循環ポンプ98の作動によって第1現像槽14の下部
に貯留されている現像液24が管路94内を通過して電導度
検出器96、フイルタ100を通過した後に再び第1現像槽1
4内のスプレーパイプ54、60へ送られる。これにより、
現像液24の電導度が検出され、現像液24中のカスが取り
除かれ、第1現像槽14内の現像液24が撹拌される。The lower end of the first developing tank 14 communicates with one end of a conduit 94. In the middle of the pipe 94, a conductivity detector 96 (S),
A circulation pump 98 and a filter 100 (F) are arranged.
The other end communicates with the spray pipes 54 and 60. Therefore, by the operation of the circulation pump 98, the developer 24 stored in the lower portion of the first developing tank 14 passes through the inside of the conduit 94, passes through the conductivity detector 96 and the filter 100, and then again the first developing tank 1
It is sent to the spray pipes 54 and 60 in 4. This allows
The conductivity of the developing solution 24 is detected, dusts in the developing solution 24 are removed, and the developing solution 24 in the first developing tank 14 is stirred.
また電導度検出器96は後述する電導度補充コントロー
ラー176によって、管路94内を通過する現像液24の電導
度を検出して、第1現像槽14内の現像液24の電導度を検
出し、この検出結果を電導度補充コントローラー176へ
伝達する。Further, the conductivity detector 96 detects the conductivity of the developer 24 passing through the pipe 94 by the conductivity replenishment controller 176 described later, and detects the conductivity of the developer 24 in the first developing tank 14. The detection result is transmitted to the conductivity replenishment controller 176.
また第1現像槽14の上部には液面蓋102が配置されて
いる。PS版12の搬送方向への液面蓋102の移動は図示し
ないストツパで規制されているが、液面高さ方向の移動
は規制されていない。したがって第1現像槽14内の現像
液24の液量が少なくなって、現像液24の液面が低下する
とこの低下に追従して液面蓋102は下降する。これによ
り、液面蓋102は現像液24が空気中の炭酸ガスと接触す
ることにより生じる現像液24の劣化を防止している。ま
た、液面蓋102は現像液24の蒸発を防止している。A liquid surface cover 102 is disposed above the first developing tank 14. The movement of the liquid surface lid 102 in the transport direction of the PS plate 12 is regulated by a stopper (not shown), but the movement in the liquid surface height direction is not regulated. Therefore, when the liquid amount of the developer 24 in the first developing tank 14 decreases and the liquid level of the developer 24 decreases, the liquid level cover 102 descends following this decrease. As a result, the liquid surface lid 102 prevents deterioration of the developing solution 24 caused by the developing solution 24 coming into contact with carbon dioxide gas in the air. Further, the liquid surface lid 102 prevents the developer 24 from evaporating.
さらに第1現像槽14の上部にはリエントリー用の案内
カバー104が配置されている。この案内カバー104は現像
処理後に再度現像処理及びフイニツシヤー処理をするた
めに第1現像槽14を飛び越えて第2現像槽16内へPS版12
を案内挿入する。Further, a guide cover 104 for reentry is disposed above the first developing tank 14. The guide cover 104 jumps over the first developing tank 14 into the second developing tank 16 in order to perform the developing processing and the finishing processing again after the developing processing.
Insert the guide.
〈オーバーフロー槽〉 第1現像槽14のオーバーフロー槽18側の側壁上部はオ
ーバーフロー槽18側へ折り曲げられており、第1現像槽
14内の現像液24がこの側壁上部をオーバーフローして、
オーバーフロー槽18内へ回収される。<Overflow tank> The upper part of the side wall of the first developing tank 14 on the overflow tank 18 side is bent to the overflow tank 18 side, and the first developing tank 14
The developer 24 in 14 overflows the upper part of this side wall,
It is collected in the overflow tank 18.
オーバーフロー槽18と第2現像槽16との間を仕切る側
壁上部には搬送ローラ対106が配置されている。これら
の搬送ローラ対106は図示しない側板に回転可能に支持
されており、図示しない駆動手段の駆動力が伝達されて
回転する。これらの搬送ローラ対106間にはガイドロー
ラ38、44間から送り出されたPS版12が挿入される。A transport roller pair 106 is disposed on an upper portion of a side wall that partitions between the overflow tank 18 and the second developing tank 16. The transport roller pair 106 is rotatably supported by a side plate (not shown), and rotates by transmitting a driving force of a driving unit (not shown). The PS plate 12 sent out between the guide rollers 38 and 44 is inserted between the pair of transport rollers 106.
搬送ローラ対106の上側に位置する搬送ローラには小
径のローラ108が当接配置されている。このローラ108は
前記上側に位置する搬送ローラに付着している第2現像
槽16内の現像液24がオーバーフロー槽18内へ混入するの
を防止している。A small-diameter roller 108 is disposed in contact with the conveying roller located above the conveying roller pair 106. The roller 108 prevents the developing solution 24 in the second developing tank 16 attached to the upper carrying roller from entering the overflow tank 18.
さらに、搬送ローラ対106の下側に位置する搬送ロー
ラにはオーバーフロー槽18内に配置されるローラ110
と、第2現像槽16内に配置されるローラ112とが当接配
置されている。ローラ110は第1現像槽14内のPS版12に
よって持ち出されて、前記下側に位置する搬送ローラに
付着した現像液24が第2現像槽16内へ混入するのを防止
している。またローラ112は第2現像槽16内の現像液24
がオーバーフロー槽18内へ混入するのを防止ている。Further, the transport rollers located below the transport roller pair 106 include rollers 110 arranged in the overflow tank 18.
And a roller 112 arranged in the second developing tank 16 are arranged in contact with each other. The roller 110 is carried out by the PS plate 12 in the first developing tank 14 to prevent the developer 24 attached to the lower transport roller from entering the second developing tank 16. Further, the roller 112 is the developer 24 in the second developing tank 16.
Are prevented from entering the overflow tank 18.
オーバーフロー槽18内には底部を貫通した管路114の
一端が底部から所定の高さ位置まで延出されており、こ
の管路114の底部からの高さによってオーバーフロー槽1
8内の現像液24の液面高さが設定されている。この管路1
14の他端は排液槽116内へ開口している。One end of a pipe 114 penetrating the bottom extends into the overflow tank 18 from the bottom to a predetermined height position, and the height of the pipe 114 depends on the height of the pipe 114 from the bottom.
The liquid level of the developer 24 in 8 is set. This pipeline 1
The other end of 14 opens into the drainage tank 116.
〈第2現像槽〉 第2現像槽16の上部にはフイニツシヤー槽20側に搬送
ローラ対118が配置されている、これらの搬送ローラ対1
18は図示しない側板に回転可能に支持されており、図示
しない駆動手段の駆動力が伝達されて回転する。これら
の搬送ローラ対118間には搬送ローラ対106間から送り出
されたPS版12が挿入される。これによりPS版12が第2現
像槽16の上部を略水平に搬送される。<Second Developing Tank> A transport roller pair 118 is disposed above the second developing tank 16 on the finisher tank 20 side.
18 is rotatably supported by a side plate (not shown), and is rotated by transmitting the driving force of a driving means (not shown). The PS plate 12 sent out from between the transport roller pairs 106 is inserted between the transport roller pairs 118. Thus, the PS plate 12 is transported substantially horizontally above the second developing tank 16.
搬送ローラ対106の上側に位置する搬送ローラと搬送
ローラ対118と上側に位置する搬送ローラとの間のPS版1
2の搬送路の上方には前述したスプレーパイプ54と同構
成のスプレーパイプ120が配置されている。このスプレ
ーパイプ120の現像液24の吐出口は搬送ローラ対106の前
記上側に位置する搬送ローラ側へ向けて開口されてお
り、供給された現像液24を搬送用ローラ対106の前記上
側に位置する搬送ローラとPS版12の上面側との間へ吐出
する。このスプレーパイプ120は管路122の一端と連通さ
れている。管路122の他端は第2現像槽16の底部と連通
されており、途中には循環ポンプ124が配置されてい
る。第2現像槽16の下部には現像液24が貯留されてお
り、循環ポンプ124の作動によって現像液24がスプレー
パイプ120へ供給される。これにより現像液24がPS版12
の表面へ吐出され塗布される。PS plate 1 between the transport roller located above the transport roller pair 106 and the transport roller pair 118 located above the transport roller pair 1
A spray pipe 120 having the same structure as the above-mentioned spray pipe 54 is arranged above the second conveyance path. The discharge port of the developing solution 24 of the spray pipe 120 is opened toward the side of the carrying roller located above the carrying roller pair 106, and the supplied developing solution 24 is located above the carrying roller pair 106. It discharges between the carrying roller and the upper surface side of the PS plate 12. The spray pipe 120 is communicated with one end of a conduit 122. The other end of the conduit 122 communicates with the bottom of the second developing tank 16, and a circulation pump 124 is provided in the middle. The developer 24 is stored under the second developer tank 16, and the developer 24 is supplied to the spray pipe 120 by the operation of the circulation pump 124. As a result, the developer 24 becomes the PS plate 12
Is applied to the surface of the substrate.
スプレーパイプ120に対応してPS版12の搬送路の下部
にはカイドローラ126が配置されている。このガイドロ
ーラ126はガイドローラ32と同様に軸方向に沿って複数
個の吐出口が形成されたスプレーパイプ128の外周に複
数個の弾性回転部材が軸支されて形成されている。この
スプレーパイプ128は管路122と連通されており循環ポン
プ124の作動で現像液24が供給される。A guide roller 126 is disposed below the PS plate 12 transport path corresponding to the spray pipe 120. Like the guide roller 32, the guide roller 126 is formed by a plurality of elastic rotating members supported on the outer periphery of a spray pipe 128 having a plurality of discharge ports formed in the axial direction. The spray pipe 128 is connected to a pipe 122, and the developer 24 is supplied by the operation of the circulation pump 124.
スプレーパイプ128には軸方向に沿って、複数の吐出
口が搬送ローラ対118の下側に位置する搬送ローラとPS
版12の裏面側との間に向けて開口している。これにより
供給された現像液24がPS版12の裏面側へ吐出され塗布さ
れる。The spray pipe 128 has a plurality of outlets along the axial direction and a PS roller and a PS roller which are located below the transport roller pair 118.
An opening is formed between the plate 12 and the back side. Thus, the supplied developer 24 is discharged and applied to the back side of the PS plate 12.
第2現像槽16の底部には管路130の一端が連通されて
いる。管路130の他端は現像原液タンク131へ連通されて
いる。管路130の途中には現像補充液供給ポンプ132
(P1)が配置されている。この現像補充液供給ポンプ13
2は後述する処理補充コントローラー164と接続されて、
その作動が制御される。One end of a pipe line 130 communicates with the bottom of the second developing tank 16. The other end of the pipe 130 communicates with the stock solution tank 131. In the middle of the line 130, the developing replenisher supply pump 132
(P 1) is disposed. This developing replenisher supply pump 13
2 is connected to a processing supplement controller 164 described later,
Its operation is controlled.
また第2現像槽16の底部には管路134の一端が連通さ
れている。管路134の他端は給水タンク88へ連通されて
いる。管路134の途中には給水ポンプ136(P3)が配置さ
れている。この給水ポンプ136は電動度補充コントロー
ラー176及び処理補充コントローラー164へ接続されてお
り、その作動が制御される。One end of a pipe 134 is communicated with the bottom of the second developing tank 16. The other end of the pipeline 134 communicates with the water supply tank 88. A water supply pump 136 (P 3 ) is arranged in the middle of the pipeline 134. The water supply pump 136 is connected to the electric power supplement controller 176 and the process supplement controller 164, and the operation thereof is controlled.
これらの現像補充液供給ポンプ132、管路130、給水ポ
ンプ136、管路134、処理補充コントローラー164は、補
充液の供給手段を構成している。The developing replenisher supply pump 132, the pipe 130, the water supply pump 136, the pipe 134, and the processing replenishment controller 164 constitute replenisher supply means.
また第2現像槽16の底部には管路138の一端が貫通し
て第2現像槽16内へ突出している。管路138の他端は排
液槽140へ開口しており、管路138をオーバーフローした
現像液24が排出される。One end of a conduit 138 penetrates through the bottom of the second developing tank 16 and projects into the second developing tank 16. The other end of the pipe 138 is open to the drain tank 140, and the developer 24 overflowing the pipe 138 is discharged.
〈フイニツシヤー槽〉 第2現像槽16とフイニツシヤー槽20とを仕切る側壁上
には仕切板142が配設されている。この仕切板142は搬送
ローラ対118に付着した現像液24がフイニツシヤー槽20
内のフイニツシヤー液152内へ混入しないようにしてい
る。<Finisher Tank> A partition plate 142 is provided on the side wall for partitioning the second developing tank 16 and the finisher tank 20. The partition plate 142 holds the developer 24 adhered to the transport roller pair 118 in the finisher tank 20.
It is designed so that it will not be mixed into the finisher liquid 152 therein.
フイニツシヤー槽20の上部には出口側に搬送ローラ対
144が配置されている、これらの搬送ローラ対144は図示
しない側板に回転可能に支持されており、図示しない駆
動手段の駆動力が伝達されて回転する。搬送ローラ対14
4は搬送ロラ対118より若干低い位置に配置されている。
搬送ローラ対144間には搬送ローラ対118間から送り出さ
れたPS版12が挿入される。これによりPS版12が第2現像
槽16の上部を傾斜した状態で搬送される。At the upper part of the finisher tank 20, there is a pair of conveyor rollers on the outlet side.
The transport roller pair 144 on which the 144 is disposed is rotatably supported by a side plate (not shown), and rotates by transmitting a driving force of a driving unit (not shown). Conveyor roller pair 14
4 is arranged at a position slightly lower than the pair of transport rollers 118.
The PS plate 12 sent out from between the conveying roller pairs 118 is inserted between the conveying roller pairs 144. As a result, the PS plate 12 is transported with the upper part of the second developing tank 16 inclined.
搬送ローラ対118と搬送ローラ対144との間のPS版12の
搬送路の上方には前述したスプレーパイプ54と同構成の
スプレーパイプ146が配置されている。このスプレーパ
イプ146のフイニツシヤー液152の吐出口は搬送ローラ対
144の上側に位置する搬送ローラ側へ向けて開口されて
おり、供給されたフイニツシヤー液152を搬送ローラ対1
44の前記上側に位置する搬送ローラとPS版12の上面側と
の間へ吐出する。このスプレーパイプ146は管路148の一
端と連通されている。管路148の他端はフイニツシヤー
槽20の底部と連通されており、途中には循環ポンプ150
が配置されている。フイニツシヤー槽20の下部にはフイ
ニツシヤー液152が貯留されており、循環ポンプ150の作
動によってこのフイニツシヤー液152がスプレーパイプ1
46へ供給される。これによりフイニツシヤー液152がPS
版12の表面へ吐出され塗布される。A spray pipe 146 having the same configuration as the above-mentioned spray pipe 54 is arranged above the transport path of the PS plate 12 between the transport roller pair 118 and the transport roller pair 144. The discharge port of the finisher liquid 152 of the spray pipe 146 is a pair of conveying rollers.
An opening is made toward the side of the conveying roller located above 144, and the supplied finisher liquid 152 is conveyed to the conveying roller pair 1
It discharges between the conveying roller located above the 44 and the upper surface side of the PS plate 12. The spray pipe 146 is communicated with one end of the conduit 148. The other end of the pipe line 148 communicates with the bottom of the finisher tank 20, and a circulation pump 150 is provided on the way.
Is arranged. The finisher liquid 152 is stored in the lower part of the finisher tank 20, and the finisher liquid 152 is sprayed by the operation of the circulation pump 150.
Supplied to 46. As a result, the finisher solution 152 is PS
It is discharged and applied to the surface of the plate 12.
スプレーパイプ146に対応してPS版12の搬送路の下部
にはフイニツシヤー液塗布ボツクス154が配置されてい
る。このフイニツシヤー液塗布ボツクス154は断面形状
が略コ字状に形成されており、上部に向けて開口部154A
が形成されている。このフイニツシヤー液塗布ボツクス
154内にはスプレーパイプ156が配置されている。このス
プレーパイプ156はスプレーパイプ146と同様に軸方向に
沿って複数個の吐出口がフイニツシヤー液塗布ボツクス
154内の角部へ向けて形成されている。このスプレーパ
イプ156は管路148と連通されており循環ポンプ150の作
動でフイニツシヤー液152がフイニツシヤー液塗布ボツ
クス154内へ供給される。フイニツシヤー液塗布ボツク
ス154内へ供給されたフイニツシヤー液152は開口部154A
から溢れて上部を通過するPS版12の裏面側へ塗布され
る。A finishing liquid application box 154 is arranged below the PS plate 12 transport path in correspondence with the spray pipe 146. The finisher coating box 154 has a substantially U-shaped cross section, and has an opening 154A facing upward.
Are formed. This finisher liquid application box
Inside 154, a spray pipe 156 is arranged. This spray pipe 156 has a plurality of discharge ports along the axial direction similarly to the spray pipe 146.
It is formed toward the corner inside 154. The spray pipe 156 is communicated with a pipe 148, and the finishing liquid 152 is supplied into the finishing liquid application box 154 by the operation of the circulation pump 150. The finisher solution 152 supplied into the finisher solution coating box 154 has an opening 154A.
It is applied to the back surface side of the PS plate 12 that overflows from the top and passes over the top.
フイニツシヤー槽20の底部には管路158の一端が連通
されている。管路158の他端はフイニツシヤー原液タン
ク160へ連通されている。管路158の途中にはフイニツシ
ヤー補充液供給ポンプ162(P4)が配置されている。こ
のフイニツシヤー補充液供給ポンプ162は処理補充コン
トローラー164へ接続されて、その作動が制御される。One end of a conduit 158 communicates with the bottom of the finisher tank 20. The other end of the conduit 158 communicates with the raw stock solution tank 160. A conduit replenishing liquid supply pump 162 (P 4 ) is arranged in the middle of the pipeline 158. The finisher replenisher supply pump 162 is connected to the process replenishment controller 164 to control its operation.
またフイニツシヤー槽20の底部には管路166の一端が
連通されている。管路166の他端は給水タンク88へ連通
されている。管路166の途中には給水ポンプ168(P5)が
配置されている。この給水ポンプ168は電導度補充コン
トローラー176及び処理補充コントローラー164へ接続さ
れており、その作動が制御される。Further, one end of a pipe line 166 communicates with the bottom of the finisher tank 20. The other end of the pipeline 166 communicates with the water supply tank 88. A water supply pump 168 (P 5 ) is arranged in the middle of the pipe 166. The water supply pump 168 is connected to the conductivity replenishment controller 176 and the process replenishment controller 164, and its operation is controlled.
またフイニツシヤー槽20の底部には管路170一端が貫
通してフイニツシヤー槽20内へ突出している。このフイ
ニツシヤー槽20内への突出高さがフイニツシヤー槽20の
フイニツシヤー液152の液面高さを設定している。管路1
70の他端は排液槽172へ開口しており、管路170をオーバ
ーフローしたフイニツシヤー液152が排出される。Further, one end of a pipeline 170 penetrates through the bottom of the finisher tank 20 and projects into the finisher tank 20. The protrusion height into the finisher tank 20 sets the liquid level of the finisher liquid 152 in the finisher tank 20. Pipeline 1
The other end of 70 is opened to a drainage tank 172, and the finisher liquid 152 overflowing the pipe 170 is discharged.
搬送ローラ対22の挿入側には処理補充コントローラー
164へ接続される検出器174が配置されている。検出器17
4で観光性平版印刷版処理機10の挿入口におけるPS版12
の通過時間を検出し、予め設定したPS版の処理速度及び
PS版の幅寸法を併せて処理補充コントローラー164で感
光性平版印刷版処理機10へ挿入されるPS版12の面積を演
算する。Processing replenishment controller on the insertion side of transport roller pair 22
A detector 174 connected to 164 is located. Detector 17
At 4 PS plate 12 at the insertion port of lithographic printing plate processor 10
The passage time of the PS plate is detected and the preset PS processing speed and
The area of the PS plate 12 inserted into the photosensitive lithographic printing plate processing machine 10 is calculated by the processing replenishment controller 164 together with the width dimension of the PS plate.
また電動度補充コントローラー176は電動度検出器96
の検出結果に基づいて給水ポンプ92、136、168を作動さ
せて第1現像槽14、第2現像槽16、フイニツシヤー槽20
内へ水を補充する。The electric power supplement controller 176 is the electric power detector 96.
The water supply pumps 92, 136, 168 are operated based on the detection result of the first developing tank 14, the second developing tank 16, and the finisher tank 20.
Top up with water.
次に本実施例の作用について説明する。 Next, the operation of this embodiment will be described.
図示しない焼付装置で画像が焼付けられたPS版12は搬
送ローラ対22へ挿入された後に第1現像槽14のガイドロ
ーラ40とガイドローラ26との間に挿入され、第1現像槽
14内へ送り込まれる。このPS版12はガイドローラ28、3
0、48に案内され下降して、第1現像槽14の中央部へ送
られる。The PS plate 12 on which an image has been printed by a printing device (not shown) is inserted between the guide roller 40 and the guide roller 26 of the first developing tank 14 after being inserted into the transport roller pair 22, and the first developing tank
It is sent into 14. This PS version 12 is a guide roller 28, 3
It is guided by 0 and 48, descends, and is sent to the center of the first developing tank 14.
大径のガイドローラ48はPS版12の先端を所定の搬送路
からはずれることなく案内し、またガイド52はPS版12の
先端を搬送ローラ対46間へ挿入する働きをする。The large-diameter guide roller 48 guides the leading end of the PS plate 12 without deviating from a predetermined conveying path, and the guide 52 functions to insert the leading end of the PS plate 12 between the pair of conveying rollers 46.
搬送ローラ対46へ挿入され、この搬送ローラ対46から
送り出されたPS版12はガイドローラ32、34、36、42、3
8、44に案内されて上昇し第1現像槽14から送り出され
る。The PS plate 12 inserted into the transport roller pair 46 and sent out from the transport roller pair 46 includes guide rollers 32, 34, 36, 42, 3
It is guided by 8 and 44 and rises and is sent out from the first developing tank 14.
PS版12は第1現像槽14内の現像液24中で搬送ローラ対
46によって挟持搬送されるとき絞られ、かつその直後に
スプレーパイプ54、60によって現像液24が吹き付けられ
る。また、このスプレーパイプ54、60によって第1現像
槽14内の現像液24が循環される。The PS plate 12 has a pair of transport rollers in the developing solution 24 in the first developing tank 14.
The developer 24 is sprayed by the spray pipes 54 and 60 immediately after being squeezed when being nipped and conveyed by 46. The developer 24 in the first developing tank 14 is circulated by the spray pipes 54 and 60.
さらに、PS版12の両面がブラシ62、78によって擦られ
て、膨潤または溶解した不要な感光層が擦り取られるの
でPS版12がほぼ完全に現像処理される。Furthermore, both sides of the PS plate 12 are rubbed by the brushes 62 and 78, and the swollen or dissolved unnecessary photosensitive layer is rubbed off, so that the PS plate 12 is almost completely developed.
またこのブラシ62、78は小径に形成されているので、
回転軸64が現像液24中に配置される。これにより現像液
24の空気との接触が少なくなるので、現像液24の劣化が
防止されると共に第1現像槽14を小型にすることが出
来、コストを低減することが出来る。Also, since the brushes 62 and 78 are formed to have a small diameter,
A rotating shaft 64 is arranged in the developer 24. This allows the developer
Since the contact of 24 with the air is reduced, the deterioration of the developing solution 24 can be prevented, the first developing tank 14 can be downsized, and the cost can be reduced.
また、第1現像槽14内からオーバーフローしてオーバ
ーフロー槽18内へ排出された現像液24は管路114から排
出槽116へ排出される。Further, the developer 24 overflowing from the first developing tank 14 and being discharged into the overflow tank 18 is discharged from a pipe 114 to a discharging tank 116.
第1現像槽14内からオーバーフローしてオーバーフロ
ー槽18へ排出された現像液24はポンプ86によって管路84
を通過して再び第1現像槽14内へ供給されるので、現像
液24を有効に利用することができる。The developer 24 that has overflowed from the first developing tank 14 and has been discharged to the overflow tank 18 is supplied by a pump 86 to a pipe 84.
, And is supplied again into the first developing tank 14, so that the developer 24 can be effectively used.
第1現像槽14から送り出されたPS版12は搬送ローラ対
106によって挟持搬送されながら現像液24が絞り取ら
れ、搬送ローラ対118間へ向けて送り出される。搬送ロ
ーラ対118へ向けて送り出されて第2現像槽16の上部を
ガイドローラ126に案内されながら略水平方向に搬送さ
れる。The PS plate 12 sent out from the first developing tank 14 is a pair of conveying rollers.
The developer 24 is squeezed out while being nipped and conveyed by 106, and is sent out between the conveying roller pair 118. It is sent toward the pair of transport rollers 118, and is transported in a substantially horizontal direction while being guided by the guide rollers 126 in the upper portion of the second developing tank 16.
この搬送の途中でPS版12の両面へはスプレーパイプ12
0、スプレーパイプ128によって現像液24が吐出され塗布
される。これによりPS版12が完全に現像処理される。In the middle of this transportation, spray pipe 12 to both sides of PS plate 12
0, the developer 24 is discharged and applied by the spray pipe 128. Thus, the PS plate 12 is completely developed.
第1現像槽14内の現像液24はPS版12の現像処理によっ
て疲労するが、処理補充コントローラー164によって現
像原液及び水が第2現像槽16内へ補充され、この第2現
像槽16から第1現像槽14内へ現像液24が補充され、疲労
が回復する。現像液24はオーバーフロー槽18から管路11
4を通って排出槽116内へ排出される。The developing solution 24 in the first developing tank 14 is exhausted by the developing process of the PS plate 12, but the developing stock solution and water are replenished into the second developing tank 16 by the processing replenishment controller 164, and the second developing tank 16 1 The developer 24 is replenished in the developing tank 14 and fatigue is recovered. The developer 24 flows from the overflow tank 18 to the pipeline 11
It is discharged into the discharge tank 116 through 4.
また、補充によって第2現像槽16内の現像液24の液面
レベルは上昇して管路56の開口端部の上方に位置する。
この管路56の開口端部の高さによって第2現像槽16内の
処理液の液面レベルが設定されている。この状態から供
給ポンプ58(P7)が作動され、第2現像槽16内の現像液
24を第1現像槽14のスプレーパイプ54、60へ送り、第1
現像槽14内へ供給する。この供給量は第2現像槽16内へ
補充された補充量と同量に設定されている。また、第2
現像槽16で現像液24が塗布されるPS版12は第1現像槽14
で予め現像されているので、第2現像槽16の現像液24の
処理による劣化は少ない。In addition, the liquid level of the developer 24 in the second developing tank 16 rises due to the replenishment and is positioned above the open end of the pipe 56.
The height of the open end of the conduit 56 sets the liquid level of the processing liquid in the second developing tank 16. From this state, the supply pump 58 (P 7 ) is activated, and the developer in the second developing tank 16 is
24 is sent to the spray pipes 54 and 60 of the first developing tank 14,
Supply into the developing tank 14. This supply amount is set to the same amount as the replenishment amount replenished in the second developing tank 16. Also, the second
The PS plate 12 coated with the developer 24 in the developing tank 16 is the first developing tank 14
Since it has been developed in advance, the deterioration due to the treatment of the developer 24 in the second developing tank 16 is small.
したがって、第1現像槽14内へは第2現像槽16内の劣
化の極めて少ない現像液24が供給されるので、現像液24
を長期間に亘って使用することができる。Therefore, since the developing solution 24 in the second developing tank 16 with extremely little deterioration is supplied into the first developing tank 14, the developing solution 24
Can be used for a long period of time.
また現像液24の上面は液面蓋102によって覆われてい
るので現像液24が空気との接触により劣化することを防
止することができると共に現像液24の蒸発を少なくする
ことができる。これによって、PS版12を長期間安定して
処理することが可能となる。Further, since the upper surface of the developing solution 24 is covered with the liquid surface lid 102, it is possible to prevent the developing solution 24 from being deteriorated due to contact with air, and to reduce evaporation of the developing solution 24. As a result, the PS plate 12 can be stably processed for a long period of time.
次に現像液24の補充について説明する。 Next, replenishment of the developer 24 will be described.
第1現像槽14で多数枚のPS版12を現像処理した場合、
現像液24が疲労する。この現像液24の疲労度は処理され
るPS版12の面積を検出器174で検出し、処理補充コント
ローラー164で演算し、現像液24を補充することにより
現像液24の劣化を回復させることができる。When a lot of PS plates 12 are developed in the first developing tank 14,
The developer 24 becomes fatigued. The degree of fatigue of the developing solution 24 is detected by the detector 174 for the area of the PS plate 12 to be processed, and is calculated by the processing replenishment controller 164, so that the deterioration of the developing solution 24 can be recovered by replenishing the developing solution 24. it can.
すなわち検出器174によって、挿入されるPS版12の面
積を検出し、この検出結果に基づいて処理補充コントロ
ーラー164で現像補充液供給ポンプ132と給水ポンプ136
との作動時間が演算されPS版12の面積に応じた補充量だ
け現像補充液を供給すべく現像補充液供給ポンプ132、
給水ポンプ136が作動されるようになっている。次に、
第2現像槽16内に補充された補充量と同量のほぼ新液に
近い現像液24を第1現像槽14内へ供給すべく供給ポンプ
58(P7)を一定時間作動させる。That is, the area of the PS plate 12 to be inserted is detected by the detector 174, and based on the detection result, the processing replenishment controller 164 controls the development replenisher supply pump 132 and the water supply pump 136.
And the developing replenisher supply pump 132 for supplying the developing replenisher by the replenishing amount corresponding to the area of the PS plate 12 after the operation time is calculated.
The feed pump 136 is adapted to be activated. next,
A supply pump for supplying the developing solution 24, which is almost the same as the replenishing amount replenished in the second developing tank 16 and is almost new, into the first developing tank 14.
Operate 58 (P 7 ) for a certain period of time.
さらに現像液24は電導度検出器96によって電動度が検
出されており、現像液24が濃縮されて電動度が上昇し、
所定値以上になると電導度補充コントローラー176によ
り給水ポンプ92を作動させて第1現像槽14へ水を供給す
る。また第2現像槽18、フイニツシヤー槽20についても
あらかじめ水蒸発量を測定しておき、給水ポンプ92の作
動に比例して給水ポンプ136、給水ポンプ168を作動させ
る。この水補充量は10cc〜1000cc/回に設定されてい
る。Further, the electric conductivity of the developing solution 24 is detected by the electric conductivity detector 96, the developing solution 24 is concentrated, and the electric degree is increased,
When it becomes a predetermined value or more, the conductivity replenishing controller 176 operates the water supply pump 92 to supply water to the first developing tank 14. Further, the water evaporation amounts of the second developing tank 18 and the finisher tank 20 are measured in advance, and the water supply pump 136 and the water supply pump 168 are operated in proportion to the operation of the water supply pump 92. This water replenishment rate is set to 10 cc to 1000 cc / time.
あるいは、検出された電導度の値に応じて給水ポンプ
136、給水ポンプ168を作動させ、水蒸発量を補うように
してもよい。Alternatively, depending on the detected conductivity value, the water supply pump
136 and the water supply pump 168 may be operated to supplement the water evaporation amount.
またフイニツシヤー槽20には処理補充コントローラー
164によりフイニツシヤー補充液供給ポンプ162と給水ポ
ンプ168とによりフイニツシヤー補充液と水とが一定の
割合で補充されるようになっている。The refining tank 20 has a processing replenishment controller.
A finisher replenishing liquid supply pump 162 and a water supply pump 168 replenish the finisher replenishing liquid and water at a constant ratio by 164.
これにより現像液24、フイニツシヤー液152の濃縮化
が防止され、前記面積補充と共に現像液24、フイニツシ
ヤー液152の活性度が一定に保たれ、長期間に亘って安
定した現像処理が可能となる。As a result, the concentration of the developing solution 24 and the finishing solution 152 is prevented, the activities of the developing solution 24 and the finishing solution 152 are kept constant as well as the area replenishment, and stable development processing can be performed for a long period of time.
なお本実施例では感光材料として感光性平版印刷板12
を例にとって説明したがこれに限らず、他の感光材料と
して例えば水なし平版印刷版の現像装置等、感光性記録
材料の現像装置に本発明を適用することが出来る。In this embodiment, the photosensitive lithographic printing plate 12 is used as the photosensitive material.
However, the present invention can be applied to other photosensitive materials such as a developing device for a waterless planographic printing plate and a developing device for a photosensitive recording material.
第1図は本発明に係る感光性平版印刷版処理機の実施例
を示す概略構成図である。 10……感光性平版印刷版処理機、 12……感光性平版印刷版(PS版)、 14……第1現像槽、 16……第2現像槽、 18……オーバーフロー槽、 20……フイニツシヤー槽、 24……現像液、 56……管路、 58……供給ポンプ。FIG. 1 is a schematic configuration diagram showing an embodiment of a photosensitive lithographic printing plate processing machine according to the present invention. 10: Photosensitive planographic printing plate processor, 12: Photosensitive planographic printing plate (PS plate), 14 ... First developing tank, 16 ... Second developing tank, 18 ... Overflow tank, 20 ... Finisher Tank, 24 …… Developer, 56 …… Pipe, 58 …… Supply pump.
Claims (1)
処理槽内へ画像露光された感光材料を順次搬送して処理
する感光材料処理装置であって、前記第2の処理槽内に
設けられて第2の処理槽内の処理液の液面レベルを設定
する液面レベル設定手段と、前記第2の処理槽内へ前記
液面レベル設定手段により設定された液面以上に補充液
を補充する補充手段と、前記第2の処理槽内へ補充され
た補充液と同量の処理液を第2の処理槽内から第1の処
理槽内へ供給する供給手段と、を有することを特徴とす
る感光材料処理装置。1. A photosensitive material processing apparatus for sequentially transporting and processing an image-wise exposed photosensitive material into a first processing tank containing a processing liquid and a second processing tank, wherein the second processing is carried out. Liquid level setting means provided in the tank for setting the liquid level of the processing liquid in the second processing tank, and a liquid level set by the liquid level setting means in the second processing tank or more Replenishing means for replenishing the replenishing solution to the first processing vessel, and replenishing means for supplying the same amount of the processing solution as the replenishing solution replenished into the second processing vessel from the second processing vessel into the first processing vessel. A photosensitive material processing apparatus comprising:
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP24388689A JP2543201B2 (en) | 1989-09-20 | 1989-09-20 | Photosensitive material processing equipment |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
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JP24388689A JP2543201B2 (en) | 1989-09-20 | 1989-09-20 | Photosensitive material processing equipment |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH03107166A JPH03107166A (en) | 1991-05-07 |
JP2543201B2 true JP2543201B2 (en) | 1996-10-16 |
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Family Applications (1)
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JP24388689A Expired - Fee Related JP2543201B2 (en) | 1989-09-20 | 1989-09-20 | Photosensitive material processing equipment |
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Country | Link |
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JP (1) | JP2543201B2 (en) |
Families Citing this family (1)
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---|---|---|---|---|
JP2798309B2 (en) * | 1991-06-14 | 1998-09-17 | 富士写真フイルム株式会社 | Brushing structure and method of adjusting brushing of lithographic printing plate developing device without water |
-
1989
- 1989-09-20 JP JP24388689A patent/JP2543201B2/en not_active Expired - Fee Related
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JPH03107166A (en) | 1991-05-07 |
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