JP2023115593A - 取付装置および、その取付構造 - Google Patents

Abstract

【課題】向きの異なる面領域のある被取付体に、より安定的に取付可能な取付装置を提供する。【解決手段】表面９０の上に複数の面領域９０Ａを有し、かつ複数の面領域９０Ａの中に、互いに向きの異なる、第１の面領域９１と、第２の面領域９２とが含まれている被取付体２に取り付けられる取付装置１であって、第１の面領域９１および第２の面領域９２の両方を覆う覆い状態を実現可能な本体１０Ａと、被取付体２に対する吸着を実現可能な複数の吸着脚８０を有する吸着アッセンブリ１２とを備え、複数の吸着脚８０には、覆い状態が実現されているとき、本体１０Ａから第１の面領域９１に向かって延び出された状態となるように配設され、第１の面領域９１に吸着可能とされる第１吸着脚８１と、本体１０Ａから第２の面領域９２に向かって延び出された状態となるように配設され、第２の面領域９２に吸着可能とされる第２吸着脚８２とが含まれている。【選択図】図２

Description

本発明は、取付装置および、その取付構造に関する。

従来、被取付体にロボット等を取り付ける装置として、この壁面に複数の吸着パッドを吸着させてロボット本体を取り付ける取付装置が知られている。例えば、特許文献１には、ガラス面に複数の吸着パッドを吸着させて、窓拭きロボットを取り付ける取付装置が開示されている。

特開２０１３－１５８９０３号公報

ここで、特許文献１に開示の技術は、取付装置を、一つの平坦な面に対して取り付けることしか想定していないものであった。

本開示は、このような点に鑑みて発明されたものであり、この発明が解決しようとする課題は、向きの異なる面領域のある被取付体に対しても、より安定的に取付可能な取付装置および、その取付構造を提供することである。

上記課題を解決するために、本発明の取付装置および、その取付構造は、次の手段をとる。

まず、第１の開示は、表面上に複数の面領域を有し、かつ複数の前記面領域の中に、互いに向きの異なる２つの面領域である、第１の面領域と、第２の面領域とが含まれている被取付体に取り付けられる取付装置であって、前記第１の面領域および前記第２の面領域の両方を一方側から覆う覆い状態を実現可能な広がりを有してなる本体と、前記被取付体に対する吸着を実現可能な複数の吸着脚を有する、少なくとも１つの吸着アッセンブリと、を備え、少なくとも１つの前記吸着アッセンブリに属する複数の前記吸着脚には、前記覆い状態が前記本体において実現されているときに前記本体から前記第１の面領域に向かって延び出された状態となるように配設されて、前記第１の面領域に吸着可能とされる第１吸着脚と、前記覆い状態が前記本体において実現されているときに前記本体から前記第２の面領域に向かって延び出された状態となるように配設されて、前記第２の面領域に吸着可能とされる第２吸着脚と、が含まれている、ものである。

第１の開示に係る取付装置によれば、吸着アッセンブリは、第１吸着脚を第１の面領域に、第２吸着脚を第２の面領域に、それぞれ吸着させることができる。ここで、第１の面領域および第２の面領域は、互いに向きが異なる面領域である。そうすると、第１の面領域または第２の面領域のうち一方の面に沿う向きに力が掛けられても、他方の面に吸着した吸着脚が抵抗することとなる。これにより、向きの異なる面領域のあるものに対しても、より安定的に取付可能な取付装置を提供することができる。

ここで、第１の開示に係る取付装置は、後述する第２の開示に係る取付装置であっても良い。この第２の開示に係る取付装置においては、複数の前記吸着アッセンブリと、前記吸着における吸着力を負圧によって発生させる装置である第１吸着力発生装置と、前記吸着における吸着力を負圧によって発生させる装置である第２吸着力発生装置と、を備え、複数の前記吸着アッセンブリには、前記第１吸着力発生装置が発生させる負圧によって、それぞれの前記吸着脚の前記吸着を実現させる第１吸着アッセンブリと、前記第２吸着力発生装置が発生させる負圧によって、それぞれの前記吸着脚の前記吸着を実現させる第２吸着アッセンブリと、が含まれている、ものである。

第２の開示に係る取付装置によれば、第１吸着アッセンブリ、または第２吸着アッセンブリの一方に不具合が生じた場合であっても、他方により取付装置を被取付体に取り付けられた状態に維持することができる。

ここで、第１の開示または第２の開示に係る取付装置は、後述する第３の開示に係る取付装置であっても良い。この第３の開示に係る取付装置においては、前記吸着アッセンブリに属する複数の前記吸着脚は、前記本体において前記覆い状態が実現されているときに複数の前記面領域の少なくとも一部を囲う環列をなすように並んで配設され、前記環列における前記吸着脚の並びにおいて、それぞれの当該吸着脚は、一定の間隔を空けた状態で並んでいる、ものである。

第３の開示に係る取付装置は、複数の吸着脚を、一定の間隔を空けた状態で被取付体に吸着させることができる。これにより、被取付体に、より安定的に取付可能な取付装置を提供することができる。

ここで、第１の開示から第３の開示のうちのいずれか一つに係る取付装置は、後述する第４の開示に係る取付装置であっても良い。この第４の開示に係る取付装置においては、複数の前記吸着アッセンブリを備え、複数の前記吸着アッセンブリに属する複数の前記吸着脚は、前記覆い状態が前記本体において実現されているときに複数の前記面領域の少なくとも一部を囲う環列をなすように並んで配設され、前記環列における前記吸着脚の並びにおいて、１つの前記吸着アッセンブリに属する複数の前記吸着脚は、これら前記吸着脚の間に他の前記吸着アッセンブリに属する前記吸着脚が位置されることによって、互いに隣り合うことがないように配設されている、ものである。

第４の開示に係る取付装置によれば、他の吸着アッセンブリに属する複数の吸着脚が、１つの吸着アッセンブリに属する複数の吸着脚の間に、位置することとなる。これにより、１つの吸着アッセンブリに不具合が生じた場合であっても、他の吸着アッセンブリにより取付装置を被取付体に取り付けた取付状態に維持することができる。

ここで、第１の開示から第４の開示のうちのいずれか一つに係る取付装置は、後述する第５の開示に係る取付装置であっても良い。この第５の開示に係る取付装置においては、前記本体に設けられて、複数の前記面領域に含まれる前記面領域の１つである処理面領域に対して処理を行う処理ユニットと、前記処理面領域に対する前記処理ユニットの相対的な角度関係を導出する傾斜計と、を備え、少なくとも１つの前記吸着アッセンブリに属する複数の前記吸着脚には、前記吸着において前記本体から前記被取付体の前記表面に向かって延び出される延び出し長さを、前記傾斜計の出力に応じて変更することが可能な前記吸着脚である主動脚が含まれている、ものである。

第５の開示に係る取付装置によれば、主動脚は、傾斜計が導出する、処理面領域に対する処理ユニットの相対的な角度関係に応じて、その延び出し長さを変更することが可能である。これにより、処理ユニットは、処理面領域に対する角度を調整することができる。

ここで、第１の開示から第５の開示のうちのいずれか一つに係る取付装置は、後述する第６の開示に係る取付装置であっても良い。この第６の開示に係る取付装置においては、少なくとも１つの前記吸着アッセンブリに属する複数の前記吸着脚には、前記本体から前記一方側に向かう方向である第１の方向に伸び出し、かつ当該第１の方向に伸縮可能とされた前記吸着脚である従動脚が含まれている、ものである。

第６の開示に係る取付装置によれば、従動脚は、覆い状態が本体において実現されているときに、従動脚が伸縮することにより、取付装置を迅速に被取付体に取り付けることができる。

ここで、第１の開示から第６の開示のうちのいずれか一つに係る取付装置は、後述する第７の開示に係る取付装置であっても良い。この第７の開示に係る取付装置においては、複数の前記面領域に含まれる前記面領域の１つである処理面領域に対して処理を行う処理ユニットと、前記処理ユニットを揺動させ、もって前記処理ユニットの前記処理面領域に対する向きを変更する揺動機構と、前記処理ユニットおよび前記揺動機構の間に介在して付勢力を発揮する付勢部と、を備え、前記付勢部は、前記付勢力を発揮することで、前記処理ユニットが揺動する方向における機械的コンプライアンスをより小さくするように構成されている、ものである。

第７の開示に係る取付装置によれば、付勢部は、付勢力を発揮することで、処理ユニットが揺動する方向における機械的コンプライアンスがより小さくなるように、処理ユニットの処理面領域に対する向きを変更させる。これにより、処理ユニットの処理面領域に対する向きを、より安定に維持することができる。

ここで、第１の開示から第７の開示のうちのいずれか一つに係る取付装置は、後述する第８の開示に係る取付装置であっても良い。この第８の開示に係る取付装置においては、前記本体に設けられて、複数の前記面領域に含まれる前記面領域の１つである処理面領域に対して処理を行う処理ユニットを備え、前記吸着アッセンブリに属する複数の前記吸着脚は、前記覆い状態が前記本体において実現されているときに複数の前記面領域の少なくとも一部を囲う環列をなすように並んで配設され、前記処理ユニットは、前記環列の内側に位置されて、当該環列に囲われる前記面領域を前記処理面領域として前記処理を行う、ものである。

第８の開示に係る取付装置によれば、処理ユニットを環列の内側に位置させることで、想定していない外力が処理ユニットに掛かりにくい状態とすることができる。

ここで、第７の開示または第８の開示に係る取付装置は、後述する第９の開示に係る取付装置であっても良い。この第９の開示に係る取付装置においては、前記処理ユニットを揺動させ、もって前記処理ユニットの前記処理面領域に対する向きを変更する揺動機構と、前記処理ユニットおよび前記揺動機構の間に介在して付勢力を発揮する付勢部と、を備え、前記付勢部は、前記処理ユニットおよび前記揺動機構のうちの一方から他方に向かって作用する押圧力を前記付勢力として発揮するものであり、前記処理ユニットおよび前記揺動機構のうち、前記押圧力が作用する他方には、当該押圧力を受け止める受け止め面が設けられ、前記受け止め面は、前記処理ユニットの揺動における揺動軸を軸とした回転面の形状を呈する、ものである。

第９の開示に係る取付装置によれば、受け止め面は、処理ユニットの揺動における揺動軸を軸とした回転面の形状を呈するため、処理ユニットの揺動に対応して付勢部による押圧力を受け止めることができる。

ここで、第７の開示から第９の開示のうちのいずれか一つに係る取付装置は、後述する第１０の開示に係る取付装置であっても良い。この第１０の開示に係る取付装置においては、前記処理ユニットに対して所定の角度関係をなし、かつ前記被取付体の前記表面に当接することで、この前記被取付体に対する前記処理ユニットの相対的な角度関係の基準となる基準ユニットを備え、前記基準ユニットは、前記表面に対して球面で接触する第１の玉および第２の玉を有し、前記第１の玉は、前記第２の玉よりも前記処理ユニットからの距離が近い位置に位置され、前記第１の玉における球面の曲率半径は、前記第２の玉における球面の曲率半径よりも小さい、ものである。

第１０の開示に係る取付装置によれば、処理ユニットは、第１の玉の方が、第２の玉よりも球面の曲率半径が小さい分、第１の玉および第２の玉が被取付体の表面に当接する基準に近づけることができる。これにより、処理ユニットは、被取付体に対する相対的な角度関係をより精度良くなすことができる。

ここで、第１１の開示は、第１の開示から第１０の開示のうちのいずれか一つに係る取付装置を、被取付体に取り付けてなる取付構造であっても良い。

第１１の開示に係る取付構造によれば、吸着アッセンブリは、第１吸着脚を第１の面領域に、第２吸着脚を第２の面領域に、それぞれ吸着することとなる。ここで、第１の面領域および第２の面領域は、互いに向きが異なる面領域である。そうすると、第１の面領域または第２の面領域のうち一方の面に沿う向きに力が掛けられても、他方の面に吸着した吸着脚が抵抗することとなる。これにより、向きの異なる面領域のあるものに対しても、より安定的な取付構造を提供することができる。

ここで、第１１の開示に係る取付構造は、後述する第１２の開示に係る取付構造であっても良い。この第１２の開示に係る取付構造においては、前記取付装置は、前記本体に設けられて、複数の前記面領域に含まれる前記面領域の１つであり、かつ単曲面を呈する前記面領域である処理面領域に対して処理を行う処理ユニットを備え、前記吸着アッセンブリは、前記処理面領域の面の中心に対し前記処理面領域におけるゼロの主曲率方向に並んで位置され、前記本体と前記処理面領域とを所定の間隔で離間させる前記吸着脚の組である平行組と、前記平行組の並びから前記処理面領域における非ゼロの主曲率方向に離れた位置にて前記吸着を実現させ、かつ、前記本体から前記被取付体の前記表面に向かって延び出される延び出し長さが変更可能とされた前記吸着脚である他吸着脚と、を有している、ものである。

ここで、ゼロの主曲率方向とは、単曲面において２つ存在する主曲率のうち、その主曲率の値がゼロとなる主曲率方向のことをいう。また、非ゼロの主曲率方向とは、単曲面において２つ存在する主曲率のうち、ゼロの主曲率方向とは異なる主曲率方向のことをいう。

第１２の開示に係る取付構造によれば、他吸着脚の延び出し長さを変更することで、処理面領域に対する処理ユニットの角度を調整することができる。

本開示は、上記の各構成をもつことにより、向きの異なる面領域のあるものに対しても、より安定的に取付可能な取付装置および、その取付構造を提供することができる。

第１の実施形態に係る取付装置１の正面図である。 図１のＩＩ－ＩＩ線断面矢視図である。 図１の取付装置１の右側面図である。 主動脚８１０の正面図である。 図４のＶ－Ｖ線断面矢視図である。 従動脚８２０の正面図である。 図６のＶＩＩ－ＶＩＩ線断面矢視図である。 第２揺動フレーム３１の正面図である。 図８のＩＸ－ＩＸ線断面矢視図である。 第１の実施形態に係る情報の流れを説明する説明図である。 第１の実施形態に係る取付装置１の使用方法を説明する説明図である。 処理面領域９３が水平面に対して１３５°をなす場合の図８の第２揺動フレーム３１の説明図である。 第１の実施形態に係る第４制御プログラム４１０により実行される一連のステップを表したフローチャートである。

＜第１の実施形態＞
本開示の第１の実施形態に係る取付構造９００は、図１および図２に示すように、取付装置１を被取付体２に取り付けてなる。ここで、取付装置１は、１つの処理ユニット３０（図２参照）および３つの吸着アッセンブリ１２を本体１０Ａに取り付けた構成を有する。また、上記取り付けは、取付装置１の本体１０Ａで被取付体２の表面９０を一方側（図２参照）から覆う覆い状態を実現させた後に、この表面９０に各吸着アッセンブリ１２を吸着させることで実現される。以下に図面を用いて本開示に係る取付構造９００の詳細を、取付装置１および被取付体２とともに説明する。

＜取付構造の構成＞
取付構造９００は、取付装置１が被取付体２に取り付けられた取付状態において、この被取付体２の表面９０の一部をなす処理面領域９３に対して、処理ユニット３０（図２参照）が処理を行うことを実現させる。ここで、処理ユニット３０が行う処理は、指向性を有するものである。また、取付構造９００は、取付状態において、処理面領域９３に対する処理ユニット３０の向きを、より安定に維持できるようにする。これにより、処理ユニット３０は、処理面領域９３に対して適当に処理を行うことができる。

＜被取付体の構成＞
被取付体２は、取付装置１を取り付け可能な大きさの単曲面を有するとともに、取付装置１を支持可能な強度を有する。本実施形態においては、被取付体２の表面９０のうち上記一方側を向いた面の全体が、上記単曲面（より詳しくは上記一方側に凸となる円筒面）を呈する。なお、被取付体２には、本実施形態では、例えば、構造物や輸送機械等が用いられる。

＜被取付体の詳細＞
ここで、被取付体２は、表面９０上に複数の面領域９０Ａを有する。これら面領域９０Ａには、上記処理面領域９３、ならびに、第１の面領域９１および第２の面領域９２が含まれている。ここで、第１の面領域９１および第２の面領域９２は、互いに向きの異なる２つの面領域９０Ａである。また、第１の面領域９１および第２の面領域９２には、それぞれ、後述する、第１吸着脚８１および第２吸着脚８２が吸着される。

本実施形態においては、複数の面領域９０Ａは、図１に示すように、被取付体２の表面９０において取付装置１の本体１０Ａが覆う略円形の領域である被覆領域９５を区画したものとして設定される。この区画は、上記被覆領域９５を、第１の面領域９１、第２の面領域９２および処理面領域９３の３つの面領域９０Ａに区画するようになされたものである。処理面領域９３は、上記一方側（図１では紙面手前側）から見たときに、被覆領域９５の幾何中心９４を中心とした円形をなす領域として設定される。第１の面領域９１および第２の面領域９２は、被覆領域９５において処理面領域９３を除いた領域を２つに区画した領域として設定される。これにより、本体１０Ａは、上記覆い状態において第１の面領域９１および第２の面領域９２の両方を上記一方側から覆うことになる。ここで、第１の面領域９１と第２の面領域９２との境界は、上記幾何中心９４を通って、上記単曲面におけるゼロの主曲率方向に延びる稜線９６によって設定される。

＜取付装置の構成＞
取付装置１は、図２に示すように、本体１０Ａを備えている。この本体１０Ａには、処理面領域９３を処理する処理ユニット３０が付設されている。この処理ユニット３０は、揺動機構７００によって揺動され、もってその処理面領域９３に対する位置および向きが変更される。

また、取付装置１は、図１に示すように、被取付体２に吸着する吸着力を発揮する３つの吸着アッセンブリ１２を備えている。これら吸着アッセンブリ１２は、負圧源８３０に接続されて、この負圧源８３０が発生させる負圧によって上記吸着力を発揮するように構成されている。また、３つの吸着アッセンブリ１２は、それぞれ、複数の吸着脚８０を有して構成されている。これら吸着脚８０は、それぞれが長尺に形成され、かつ、上記覆い状態において、本体１０Ａから上記一方側に向かう方向である第１の方向（図１では紙面手前側から紙面奥側に向かう方向）に延び出されるように配設される。本実施形態においては、負圧源８３０は、複数の吸着脚８０のうちの１本である他吸着脚８４と隣り合う位置に、この他吸着脚８４が延び出す側とは反対側（図１では紙面手前側）に突出した状態に設けられる。

＜本体の構成＞
本体１０Ａは、円板状のベースフレーム１１を有している。このベースフレーム１１には、処理ユニット３０が、各吸着脚８０が延び出される側の反対側（図２では上側）から付設される。ベースフレーム１１は、第１の面領域９１および第２の面領域９２の両方を上記一方側から覆うことが可能な広がりを有する。また、取付装置１においては、その本体１０Ａにて上記覆い状態を実現させ、同じく各吸着アッセンブリ１２を被覆領域９５に吸着させることで、上記取付状態が実現されることとなる。

＜本体の詳細＞
ここで、ベースフレーム１１の円板における周縁部には、３つの吸着アッセンブリ１２における吸着脚８０が、環列８５をなすように並んで配設されている。この環列８５における吸着脚８０の並びにおいて、それぞれの吸着脚８０は、一定の間隔を空けた状態で並んでいる。本実施形態においては、吸着脚８０は合計で８本存在するため、これら吸着脚８０は、環列８５において４５°の角度間隔を空けた状態に並ぶ。また、上記吸着脚８０の並びは、ベースフレーム１１における所定の位置にねじ止めされた複数のブッシュホルダー１１Ｅ（図３参照）に、吸着脚８０が１本ずつ挿通されることによって実現される。

また、環列８５における吸着脚８０の並びにおいて、１つの吸着アッセンブリ１２に属する複数の吸着脚８０の間には、他の吸着アッセンブリ１２に属する吸着脚８０が互いに隣り合うことがないように配設されている。

ここで、各吸着脚８０は、図２に示すように、ベースフレーム１１の円板における板面の面外方向（図２では上下方向）の両側に延び出される。これにより、各吸着脚８０は、上記覆い状態において上記第１の方向に延び出されることとなる。また、複数本の吸着脚８０は、図１および図２に示すように、ベースフレーム１１からの延び出し長さの変更が可能な吸着脚８０である主動脚８１０と、長手方向への伸縮が可能な吸着脚８０である従動脚８２０とを含んでいる。本実施形態においては、図１に示すように、８本の吸着脚８０のうちの３本が主動脚８１０であり、５本が従動脚８２０である。

主動脚８１０は、図４に示すように、ブッシュホルダー１１Ｅに対してナット１１Ａを介して取り付けられる。従動脚８２０は、図６に示すように、ブッシュホルダー１１Ｅに対してスライドフレーム１１Ｂを介して取り付けられる。本実施形態においては、ナット１１Ａおよびスライドフレーム１１Ｂは、それぞれ、ブッシュホルダー１１Ｅにねじ止めされることで、ベースフレーム１１に対して固設された状態とされる。以下にナット１１Ａおよびスライドフレーム１１Ｂを説明する。

＜ナットの構成＞
ナット１１Ａは、図５に示すように、主動脚８１０をブッシュホルダー１１Ｅに取り付ける構成である。ここで、ブッシュホルダー１１Ｅは、上記面外方向（図２では第１の方向）に延びる筒をなす。また、主動脚８１０は、ブッシュホルダー１１Ｅの筒に挿通される部分が、外周面にねじ山が刻まれたネジ軸８１１とされている。また、ナット１１Ａは、ブッシュホルダー１１Ｅに内嵌される筒をなし、この筒の内側に刻まれたねじ山を、ネジ軸８１１のねじ山と組み合わせる。これにより、ナット１１Ａは、主動脚８１０のネジ軸８１１がナット１１Ａに対して回動することに対し、この回動に対応する移動量だけ主動脚８１０を上記面外方向に移動させる。すなわち、ナット１１Ａおよびネジ軸８１１は、対をなして、主動脚８１０を上記面外方向に進退させる送りねじとして機能する。本実施形態においては、主動脚８１０のネジ軸８１１の回動は、このネジ軸８１１の先端に取り付けられた操作用ハンドル８１２により手動で行われる。

＜スライドフレームの構成＞
スライドフレーム１１Ｂは、図６および図７に示すように、従動脚８２０が有する中空のシャフト８２１における外周面８２１Ａの一部を外側からくるむ枠をなす。この枠の軸方向の両端には、図７に示すように、それぞれ、内端壁８２２と軸受け８２３との組が設けられている。これらの組は、シャフト８２１を、従動脚８２０の長手方向（図７では上下方向）にスライド可能に支持する治具として機能する。ここで、内端壁８２２は、シャフト８２１に付設される弾性材８２４の付勢力を受ける大きさの面を有している。この弾性材８２４は、シャフト８２１を、従動脚８２０が延び出される側（図７では下側）に向かって突き出すように付勢するコイルスプリング８２４Ａを有してなる。これにより、スライドフレーム１１Ｂは、図２に示すように、上記覆い状態において、本体１０Ａから上記一方側とは反対側（すなわち他方側）に向かう方向である第１の方向に、従動脚８２０を伸ばすこととなる。なお、軸受け８２３には、本実施形態では、例えば、無給油すべり軸受けが用いられている。また、スライドフレーム１１Ｂには、負圧源８３０と従吸着パッド８２７（図６参照）との間のエアーの流れを手動で遮断することが可能な切替えバルブ８２５Ａが付設されている。

＜スライドフレームの詳細＞
スライドフレーム１１Ｂには、図６に示すように、シャフト８２１を挟持するクイックシャフトクランプ８２５が付設されている。このクイックシャフトクランプ８２５は、エアーの供給を受けている間だけシャフト８２１の挟持を解放するように構成されている。これにより、従動脚８２０においては、シャフト８２１の挟持を解放した状態でこのシャフト８２１の突き出し長さを調整することで従動脚８２０を伸縮させ、然る後にシャフト８２１の挟持を行うことで従動脚８２０の長さを固定することが可能とされる。なお、クイックシャフトクランプ８２５に流れるエアーについては、後述する、解放エアー発生装置８２６（図１０参照）により制御される。

また、ベースフレーム１１の板面上には、図１に示すように、処理面領域９３に対する処理ユニット３０の相対的な角度関係を導出する傾斜計である装置傾斜計１１Ｃが備え付けられている。そうすると、ユーザーは、板面上の装置傾斜計１１Ｃの出力を確認しながら、後述する他吸着脚８４の長さを調整することが可能となる。

さらに、ベースフレーム１１の円板における周縁部には、ユーザー（図示せず）が取付装置１を持ち上げることを可能とする取手１１Ｄが固設されている。そうすると、ユーザーは、この取手１１Ｄを持って、取付装置１を被取付体２に取り付ける取付位置を調整することができる。なお、取手１１Ｄには、落下防止ワイヤー（図示せず）の一端が括られることとなり、この落下防止ワイヤーの他端には、クレーン等の構造物が固定されることとなる。

＜吸着アッセンブリの構成＞
上述した３つの吸着アッセンブリ１２は、具体的には、第１吸着アッセンブリ１２Ａと、第２吸着アッセンブリ１２Ｂと、第３吸着アッセンブリ１２Ｃとの３つである。これらは、被取付体２の表面９０に対する吸着を実現可能な複数の吸着脚８０を有する。これら吸着脚８０は、ベースフレーム１１の円板における周縁部から、該円板の板面の面外方向に延び出される。また、これら吸着脚８０は、上記取付状態において第１の面領域９１に吸着される第１吸着脚８１と、上記取付状態において第２の面領域９２に吸着される第２吸着脚８２と、上記取付状態において稜線９６上に位置される吸着脚８０（以下、「平行組８３をなす吸着脚８０」とも称する。）とに分類される。

＜吸着アッセンブリの詳細＞
ここで、第１吸着アッセンブリ１２Ａは３つの吸着脚８０を有し、第２吸着アッセンブリ１２Ｂは３つの吸着脚８０を有し、第３吸着アッセンブリ１２Ｃは２つの吸着脚８０を有している。本実施形態においては、第１吸着アッセンブリ１２Ａが有する３本の吸着脚８０は、図１に示すように、２本が平行組８３をなす吸着脚８０であり、１本が第２吸着脚８２である。また、第２吸着アッセンブリ１２Ｂが有する３本の吸着脚８０は、２本が第１吸着脚８１であり、１本が第２吸着脚８２である。また、第３吸着アッセンブリ１２Ｃが有する２本の吸着脚８０は、１本が第１吸着脚８１であり、１本が第２吸着脚８２である。そうすると、第２吸着アッセンブリ１２Ｂおよび第３吸着アッセンブリ１２Ｃは、少なくとも１つの吸着脚８０が第１の面領域９１に吸着し、この吸着脚８０とは別の吸着脚８０が第２の面領域９２に吸着することとなる。

ここで、３つの吸着アッセンブリ１２のいずれかに属する複数の吸着脚８０は、上記覆い状態が本体１０Ａにおいて実現されているときに複数の面領域９０Ａの少なくとも一部を囲う環列８５をなすように並んで配設されている。この環列８５においては、複数の吸着脚８０は、一定の間隔を空けた状態で並んでいる。そうすると、取付装置１の被取付体２に対する吸着が均等に分散され、もって取付装置１をより安定的に被取付体２に取り付けることが可能となる。

また、環列８５における吸着脚８０の並びにおいて、第１吸着アッセンブリ１２Ａに属する複数の吸着脚８０の間には、第２吸着アッセンブリ１２Ｂまたは第３吸着アッセンブリ１２Ｃのいずれかに属する吸着脚８０が互いに隣り合うことがないように配設されている。また、第２吸着アッセンブリ１２Ｂに属する複数の吸着脚８０の間には、第３吸着アッセンブリ１２Ｃに属する吸着脚８０が互いに隣り合うことがないように配設されている。すなわち、環列８５における吸着脚８０の並びにおいては、１つの吸着アッセンブリ１２に属する複数の吸着脚８０の間に、他の吸着アッセンブリ１２に属する吸着脚８０が互いに隣り合うことがないように配設されている。そうすると、それぞれの吸着アッセンブリ１２のうち、１つの吸着アッセンブリ１２に不具合が生じても、他の吸着アッセンブリ１２が取付状態を維持することとなる。

ところで、負圧源８３０は、そのエアー出力を互いに独立して制御可能な複数のエアー系統（図示省略）を有する。これらエアー系統の中には、エジェクター（図示せず）によって負圧を発生させる負圧発生装置に接続されたものが複数含まれる。これら負圧発生装置は、それぞれが相異なる吸着アッセンブリ１２に接続され、被取付体２に対する吸着脚８０の吸着力を負圧によって発生させる吸着力発生装置として機能する。本実施形態においては、負圧源８３０は、上記エアー系統を４つ備える。これら４つのエアー系統のうち３つは、上記負圧発生装置に接続される。すなわち、負圧源８３０は、上記負圧発生装置を３つ備える。この３つの負圧発生装置は、具体的には、第１吸着アッセンブリ１２Ａに接続される第１吸着力発生装置８３０Ａ、第２吸着アッセンブリ１２Ｂに接続される第２吸着力発生装置８３０Ｂ、および、第３吸着アッセンブリ１２Ｃに接続される第３吸着力発生装置８３０Ｃである（図１参照）。上記の構成は、１つの吸着アッセンブリ１２に何らかの障害が発生した場合であっても、別の吸着アッセンブリ１２がフェイルセーフとして機能し、もって取付状態を維持し続ける冗長設計である。そうすると、取付装置１は、より安全に被取付体２に取り付けることができる。

また、本実施形態においては、第１吸着力発生装置８３０Ａ、第２吸着力発生装置８３０Ｂ、および、第３吸着力発生装置８３０Ｃには、それぞれ、表示装置１１Ｆ（図１参照）が接続されている。これら表示装置１１Ｆは、接続されている負圧発生装置（すなわち第１吸着力発生装置８３０Ａ、第２吸着力発生装置８３０Ｂ、または、第３吸着力発生装置８３０Ｃのいずれか）が発生させている負圧の強さを、数値（以下、「表示値」とも称する。）の形でリアルタイム表示する。また、３つの表示装置１１Ｆは、それぞれ、本体１０Ａのベースフレーム１１に付設されている。

＜吸着脚の構成＞
第１吸着アッセンブリ１２Ａ、第２吸着アッセンブリ１２Ｂおよび第３吸着アッセンブリ１２Ｃのいずれかに属する複数の吸着脚８０には、図１に示すように、第１吸着脚８１および第２吸着脚８２が含まれている。ここで、第１吸着脚８１は、覆い状態が本体１０Ａにおいて実現されているときに本体１０Ａから第１の面領域９１に向かって延び出された状態となるように配設されて、第１の面領域９１に吸着可能な吸着脚８０である。また、第２吸着脚８２は、覆い状態が本体１０Ａにおいて実現されているときに本体１０Ａから第２の面領域９２に向かって延び出された状態となるように配設されて、第２の面領域９２に吸着可能な吸着脚８０である。そうすると、第１の面領域９１または第２の面領域９２のうち一方の面に沿う向きに力が掛けられても、図２に示すように、他方の面に吸着した吸着脚８０が抵抗することとなる。

＜第１吸着アッセンブリに属する吸着脚の詳細＞
第１吸着アッセンブリ１２Ａが有する３つの吸着脚８０は、図１に示すように、２つが組となって平行組８３を構成し、残り１つが他吸着脚８４を構成する。すなわち、第１吸着アッセンブリ１２Ａには、平行組８３をなす２つの吸着脚８０と、他吸着脚８４における１つの吸着脚８０と、が含まれている。

平行組８３をなす２つの吸着脚８０は、上記取付状態において、上述した稜線９６上に位置される。すなわち、平行組８３をなす２つの吸着脚８０は、処理面領域９３の面の幾何中心９４に対し処理面領域９３におけるゼロの主曲率方向に並んで位置される。また、平行組８３をなす２つの吸着脚８０は、本体１０Ａと、処理面領域９３と、を所定の間隔（図３参照）で離間させる。

また、他吸着脚８４は、処理面領域９３における非ゼロの主曲率方向に、平行組８３の並びから離れた位置にて吸着を実現させる。また、他吸着脚８４は、本体１０Ａから被取付体２の表面９０に向かって延び出される延び出し長さを変更することが可能とされる。これにより、ユーザー（図示せず）は、他吸着脚８４の延び出し長さを変更することで、処理面領域９３に対する処理ユニット３０の角度を調整する（図１１参照）ことができる。

ところで、第１吸着アッセンブリ１２Ａに属する３つの吸着脚８０は、吸着において本体１０Ａから被取付体２の表面９０に向かって延び出される延び出し長さが変更可能とされた主動脚８１０である。以下に主動脚８１０について、説明する。

＜主動脚の構成＞
主動脚８１０は、図４に示すように、ネジ軸８１１と、操作用ハンドル８１２と、主吸着パッド８１３と、インジケーター８１４と、を有する。ここで、ネジ軸８１１は、ナット１１Ａに対して回動可能に組み合わされる。また、操作用ハンドル８１２は、上記取付状態において上記一方側（図２参照）となる、ネジ軸８１１の端に設けられている。また、主吸着パッド８１３は、上記取付状態において上記一方側とは反対側（すなわち他方側。図２参照）となる、ネジ軸８１１の端に設けられている。また、インジケーター８１４は、ネジ軸８１１に並列するように主吸着パッド８１３に固設される。

ネジ軸８１１は、ナット１１Ａに対して回動することで、ナット１１Ａと、主吸着パッド８１３と、の間における主動脚８１０の脚の延び出し長さを変更させる。なお、このネジ軸８１１の回動は、ユーザー（図示せず）が操作用ハンドル８１２を回動させることにより実現される。

また、主吸着パッド８１３は、図２に示すように、被取付体２の面領域９０Ａに吸着することが可能とされる。このため、被取付体２に対するナット１１Ａの相対的な位置の変化は、ユーザーが操作用ハンドル８１２を回動させることにより実現される。

＜主動脚の詳細＞
ここで、ナット１１Ａは、上述したように、ベースフレーム１１に対して固設された状態とされている。したがって、ユーザーは、３つの主吸着パッド８１３が被取付体２の面領域９０Ａに吸着しているときに、これら主吸着パッド８１３の操作用ハンドル８１２（図４参照）を回動させることで、ベースフレーム１１の処理面領域９３に対する向きを調整することができる。このとき、処理ユニット３０は、ベースフレーム１１に付設されているため、このベースフレーム１１と一緒に処理面領域９３に対する向きの調整がなされる。また、インジケーター８１４は、ナット１１Ａと、主吸着パッド８１３と、の間における主動脚８１０の脚の延び出し長さをユーザーに表示するものさしである。そうすると、ユーザーは、図３に示すように、平行組８３における２つの主動脚８１０の脚の延び出し長さから、本体１０Ａと、処理面領域９３と、を離間させる所定の間隔を認識することが可能となる。なお、この所定の間隔については、図１１に示すように、後述する、２つの倣い玉３５に掛けられる、それぞれの分力の偏りに影響を与えるものである。

主吸着パッド８１３は、図５に示すように、ネジ軸８１１を回動自在に支える軸受部８１５と、軸受部８１５に対して首振り可能に設けられる真空パッド８１６と、軸受部８１５に設けられて真空パッド８１６に連通される脚継手８１７とを有する。この脚継手８１７は、第１吸着力発生装置８３０Ａから延びるエアーチューブ２７Ａ（図１参照）を真空パッド８１６に連通させるための空気圧用継手であり、該エアーチューブ２７Ａを軸受部８１５に設けられた状態にする構成でもある。また、軸受部８１５は、この軸受部８１５に設けられる各構成にネジ軸８１１の回動が伝播されることを抑制し、もってこれらの構成がねじれることを抑制する。また、真空パッド８１６は、軸受部８１５に対して首振りをすることで、第１の面領域９１および第２の面領域９２（図２参照）の、それぞれの傾斜に対応して吸着することが可能とされる。

＜第２吸着アッセンブリおよび第３吸着アッセンブリに属する吸着脚の詳細＞
第２吸着アッセンブリ１２Ｂには、図１に示すように、３つの吸着脚８０が含まれている。また、第３吸着アッセンブリ１２Ｃには、２つの吸着脚８０が含まれている。これら５つの吸着脚８０は、いずれも、長手方向への伸縮が可能な従動脚８２０（図７参照）である。これら従動脚８２０は、本体１０Ａから他方側（図２参照）に向かう方向である第１の方向（図７参照）に伸び出され、当該第１の方向に伸縮可能とされる。以下に従動脚８２０について、説明する。

＜従動脚の構成＞
従動脚８２０は、図６に示すように、シャフト８２１と、弾性材８２４と、従吸着パッド８２７と、を有する。ここで、シャフト８２１は、スライドフレーム１１Ｂに対してスライド可能とされる。また、従吸着パッド８２７は、上記取付状態において上記一方側とは反対側（すなわち他方側。図２参照）となる、シャフト８２１の端に設けられている。また、弾性材８２４は、シャフト８２１が第１の方向に伸びるように付勢力を掛ける。これにより、従動脚８２０は、シャフト８２１を第１の方向（図７参照）に伸ばすことが可能とされる。本実施形態では、弾性材８２４は、図７に示すように、シャフト８２１を軸とする２つのコイルスプリング８２４Ａと、これらのコイルスプリング８２４Ａの間で付勢力を受けるワッシャー８２４Ｂと、から構成されている。

＜従動脚の詳細＞
ここで、シャフト８２１には、その外周面８２１Ａ上に、セットカラー８２１Ｂが突設されている。このセットカラー８２１Ｂは、シャフト８２１の外周面８２１Ａにおいてスライドフレーム１１Ｂに覆われる部分に固設される。これにより、セットカラー８２１Ｂは、シャフト８２１をくるむスライドフレーム１１Ｂからシャフト８２１が抜け出ることを抑制する抜け止めとして機能する。また、セットカラー８２１Ｂは、弾性材８２４の付勢力を受ける大きさの面を、内端壁８２２の側を向いた状態に有する。この面と内端壁８２２との間には、弾性材８２４が配設されている。この弾性材８２４は、セットカラー８２１Ｂと内端壁８２２とを互いに離間させるように付勢力を発揮することで、シャフト８２１が第１の方向に伸び出ることを可能とする。

スライドフレーム１１Ｂには、図６に示すように、シャフト８２１を挟持するクイックシャフトクランプ８２５が付設されている。このクイックシャフトクランプ８２５は、エアーの供給を受けている間だけシャフト８２１の挟持を解放するように構成されている。これにより、従動脚８２０においては、シャフト８２１の挟持を解放した状態でこのシャフト８２１の突き出し長さを調整することで従動脚８２０を伸縮させ、然る後にシャフト８２１の挟持を行うことで従動脚８２０の長さを固定することが可能とされる。

ところで、シャフト８２１は、上述したクイックシャフトクランプ８２５がエアーの供給を受け、このクイックシャフトクランプ８２５による挟持が解除されている間だけ、第１の方向に伸び出るように構成されている。ここで、クイックシャフトクランプ８２５に対するエアーの供給は、解放エアー発生装置８２６（図１０参照）が開かれることによって実現される。また、クイックシャフトクランプ８２５に対するエアーの供給停止は、解放エアー発生装置８２６が閉められることによって実現される。

従吸着パッド８２７は、図７に示すように、シャフト８２１を支える固定受部８２８と、固定受部８２８に対して首振り可能な真空パッド８１６と、固定受部８２８に設けられて真空パッド８１６に連通される空気圧用継手である脚継手８１７とを有する。ここで、第２吸着アッセンブリ１２Ｂに属する従動脚８２０（図３参照）においては、脚継手８１７は、第２吸着力発生装置８３０Ｂ（図１参照）から延びるエアーチューブ２７Ｂを真空パッド８１６に連通させる。また、第３吸着アッセンブリ１２Ｃに属する従動脚８２０（図２参照）においては、脚継手８１７は、第３吸着力発生装置８３０Ｃ（図１参照）から延びるエアーチューブ２７Ｃを真空パッド８１６に連通させる。また、真空パッド８１６は、固定受部８２８に対して首振りをすることで、第１の面領域９１および第２の面領域９２（図２参照）の、それぞれの傾斜に対応して吸着することが可能とされる。さらに、真空パッド８１６と、この真空パッド８１６が位置する面領域９０Ａとの間で隙間が形成される場合には、後述する切替えバルブ８２５Ａにより負圧源８３０と従動脚８２０との間のエアーの流れを手動で遮断することが可能とされる。これにより、この従動脚８２０を除いた従動脚８２０に係る吸着アッセンブリ１２は、吸着力を発揮することができる。なお、隙間が形成される場合としては、例えば、段差のある窓枠に真空パッド８１６が位置する場合等が想定される。

＜負圧源の構成＞
負圧源８３０は、図１に示すように、被取付体２に対する吸着アッセンブリ１２の吸着の吸着力を負圧によって発生させる装置である。すなわち、負圧源８３０は、吸着アッセンブリ１２に属する各吸着脚８０の面領域９０Ａに対する吸着を実現させる。なお、負圧源８３０は、後述する第４制御部４６０により、その駆動が制御される。

＜負圧源の詳細＞
ここで、負圧源８３０は、第１吸着力発生装置８３０Ａ、第２吸着力発生装置８３０Ｂおよび第３吸着力発生装置８３０Ｃを有する。これら第１吸着力発生装置８３０Ａ、第２吸着力発生装置８３０Ｂおよび第３吸着力発生装置８３０Ｃは、それぞれ、第１吸着アッセンブリ１２Ａ、第２吸着アッセンブリ１２Ｂおよび第３吸着アッセンブリ１２Ｃに対応する。ここで、第１吸着力発生装置８３０Ａ、第２吸着力発生装置８３０Ｂおよび第３吸着力発生装置８３０Ｃは、対応する吸着アッセンブリ１２までのエアーの流れがそれぞれ独立した構成となっている。そうすると、それぞれの吸着アッセンブリ１２のうち、１つの吸着アッセンブリ１２に不具合が生じても、他の吸着アッセンブリ１２が被取付体２の表面９０上に吸着し、もって取付状態が維持されることとなる。

第１吸着力発生装置８３０Ａ、第２吸着力発生装置８３０Ｂおよび第３吸着力発生装置８３０Ｃは、それぞれ、エジェクター（図示せず）を有している。これらエジェクターは、負圧源８３０のエアー出力を流すためのエアー流入口およびエアー流出口と、対応する吸着脚８０の真空パッド８１６に連通される口（いずれも図示せず）とを有する。また、各エジェクターは、上記エアー出力がエアー流入口からエアー流出口に向けて流されたときに、上記口からエアーを吸引する。これにより、各エジェクターは、対応する吸着脚８０の真空パッド８１６が面領域９０Ａの面を包囲してパッド空間８１８を形成しているとき（図５及び図７参照）に、このパッド空間８１８を負圧状態とすることを実現させる。これにより、上記対応する吸着脚８０は、被取付体２の面領域９０Ａに吸着する（図２参照）。

本実施形態においては、上記各エジェクター（図示せず）は、負圧源８３０が有する１つの大気開放装置（図示せず）に接続されている。この大気開放装置は、各エジェクター内にエアーを導入し、もって該エジェクターにおける上記口からのエアーの吸引を停止させる用に供される。そうすると、吸着アッセンブリ１２の吸着における吸着力が低下し、大気開放装置を用いない場合に比べて、取付装置１を被取付体２（図２参照）から容易に取り外すことが可能となる。

＜解放エアー発生装置の構成＞
解放エアー発生装置８２６は、クイックシャフトクランプ８２５（図６参照）にエアーを流す装置である。本実施形態では、解放エアー発生装置８２６は、第４制御部４６０（後述）で制御する吸着電磁弁（図示せず。本実施形態では、例えば、エアーの切替え音を小さくするサイレンサ付き電磁弁）である。また、解放エアー発生装置８２６はクイックシャフトクランプ８２５に対して流路（例えば図６に示す流路８２９を参照）を介して接続されている。

＜揺動機構の構成＞
揺動機構７００は、図２に示すように、処理ユニット３０を揺動させ、もって処理ユニット３０の処理面領域９３に対する向きを変更することが可能なものである。ここで、揺動機構７００には、メインフレーム１８と、第２揺動フレーム３１と、が含まれている。以下にメインフレーム１８および第２揺動フレーム３１について説明する。

＜メインフレームの構成＞
メインフレーム１８は、図２に示すように、板状の平行フレーム１８Ａと、間隔フレーム１８Ｂと、第１揺動フレーム１８Ｄと、伸縮自在な揺動シリンダー１９とで構成される。平行フレーム１８Ａは、ベースフレーム１１の板面に沿って平行に広がる板面を有する。間隔フレーム１８Ｂは、平行フレーム１８Ａにおける板面の端縁部から該板面に対して垂直に延び出し、この延び出しの先端部分にピボットヒンジをなす第１揺動軸中心１８Ｃが取り付けられた構成とされる。第１揺動フレーム１８Ｄは、第１揺動軸中心１８Ｃに接続され、もって平行フレーム１８Ａに対する揺動が可能とされる。揺動シリンダー１９は、第１揺動フレーム１８Ｄと平行フレーム１８Ａとを、第１揺動軸中心１８Ｃから離れた位置で連結する。本実施形態においては、第１揺動フレーム１８Ｄは、Ｕ字形状に形成され、該Ｕ字形状の各端部が第１揺動軸中心１８Ｃに接続される。また、揺動シリンダー１９は、平行フレーム１８Ａから各吸着脚８０の延び出しと同じ側（図２では下側）に延び出されて、第１揺動フレーム１８ＤのＵ字形状における変曲部１８Ｅに接続される。

＜メインフレームの詳細＞
揺動シリンダー１９は、エアーの流れを受けて伸縮する。この伸縮は、変曲部１８Ｅを被取付体２に近づいたり離れたりするように移動させる。この移動は、第１揺動フレーム１８Ｄの、第１揺動軸中心１８Ｃを中心とした揺動を引き起こす。ここで、第１揺動フレーム１８Ｄには、第１揺動軸中心１８Ｃから離れた位置に、後述する第２揺動フレーム３１が付設されている。そうすると、第１揺動フレーム１８Ｄが揺動することで、第２揺動フレーム３１が被取付体２に近づいたり離れたりすることとなる。

ここで、揺動シリンダー１９は、エアーが流れることで揺動シリンダー１９の内周面（図示せず）をスライドする揺動ピストン（図示せず）を備えている。なお、揺動シリンダー１９の両端には、揺動ピストンをスライドさせるエアーについて流量を調整する揺動調整バルブ１９Ａが取り付けられている。そうすると、揺動ピストンのスライド速度が調整されることとなり、揺動ピストンの急速スライドに伴うピストンの摩耗を抑制することが可能となる。

＜第２揺動フレームの構成＞
第２揺動フレーム３１は、図９に示すように、第１揺動フレーム１８Ｄに付設される板状のピッチ送り部３１Ａと、ピッチ送り部３１Ａの板面の法線方向に延び出す間隔部３１Ｂと、間隔部３１Ｂに設定された第２揺動軸中心３１Ｃに揺動可能に取り付けられる第２揺動部３１Ｄとを有する。ここで、ピッチ送り部３１Ａと第２揺動部３１Ｄとの間には、付勢力を発揮することで、第２揺動部３１Ｄが揺動する方向における機械的コンプライアンスをより小さくするカウンター機構３１Ｅが設けられている。また、第２揺動部３１Ｄには、処理ユニット３０および基準ユニット３４が付設されている。このため、第２揺動部３１Ｄは、処理ユニット３０および基準ユニット３４と一体に揺動する。

＜第２揺動フレームの詳細＞
第１揺動フレーム１８Ｄは、図２に示すように、平行フレーム１８Ａに対し、第１揺動軸中心１８Ｃを中心とした揺動を行う。この第１揺動軸中心１８Ｃは、そのピボットヒンジの軸が、平行フレーム１８Ａの板面に平行に位置される。また、第２揺動部３１Ｄは、図９に示すように、第２揺動フレーム３１に対し、第２揺動軸中心３１Ｃを中心とした揺動を行う。ここで、第２揺動軸中心３１Ｃによる揺動の軸は、第１揺動軸中心１８Ｃによる揺動の軸に平行とされる。また、第２揺動部３１Ｄには、基準ユニット３４および処理ユニット３０が付設されている。また、基準ユニット３４には、２つの倣い玉３５が、図２で見て、第１揺動フレーム１８Ｄが延びる方向に並列するように設けられている。これら２つの倣い玉３５は、被取付体２の表面９０に対して球面で接する。これにより、第１揺動フレーム１８Ｄが被取付体２の側に揺動して基準ユニット３４の２つの倣い玉３５が押し当てられる押当状態が実現可能とされる。この押当状態においては、２つの倣い玉３５が、図１１に示すように、第１揺動フレーム１８Ｄの押圧に抗するように被取付体２の表面９０に当接する。このとき、基準ユニット３４は、２つの倣い玉３５が当接する、被取付体２の表面９０に対して垂直に立つ。

＜基準ユニットの構成＞
基準ユニット３４は、図９に示すように、処理ユニット３０に対して所定の角度関係をなし、かつ被取付体２（図２参照）の表面９０（図２参照）に当接することで、この被取付体２（図２参照）に対する処理ユニット３０の相対的な角度関係の基準３５Ｃとなる。そうすると、処理ユニット３０は処理面領域９３（図２参照）に対して所定の向きをとることとなり、指向性のある処理を行うことが可能となる。

ここで、基準ユニット３４が有する２つの倣い玉３５には、被取付体２（図２参照）の表面９０（図２参照）に対して球面で接触する第１の玉３５Ａおよび第２の玉３５Ｂが含まれている。ここで、第１の玉３５Ａは、第２の玉３５Ｂよりも処理ユニット３０の近くに位置されている。そして、第１の玉３５Ａにおける球面の曲率半径は、第２の玉３５Ｂにおける球面の曲率半径よりも小さい。そうすると、処理ユニット３０は、第１の玉３５Ａの方が、第２の玉３５Ｂよりも球面の曲率半径が小さい分、これらが被取付体２の表面に当接する基準３５Ｃに近づくこととなる。これにより、処理ユニット３０は、被取付体２に対する相対的な角度関係をより精度良くなすことができる。

＜カウンター機構の構成＞
カウンター機構３１Ｅは、筒をなすカウンターハウジング３１Ｆと、この筒の軸方向をスライドするカウンターピン３１Ｇと、この筒の軸方向においてカウンターピン３１Ｇに付勢力を掛ける２つのカウンター付勢部３１Ｉとを有する。カウンターハウジング３１Ｆは、その筒の両端がピッチ送り部３１Ａに固設されている。カウンターピン３１Ｇは、第２揺動部３１Ｄに対し、第２揺動軸中心３１Ｃによる揺動の軸と平行になるように固設されている。そうすると、カウンター付勢部３１Ｉが、第２揺動部３１Ｄが揺動する方向における機械的コンプライアンスがより小さくなるように介在して付勢力を発揮し、処理ユニット３０の処理面領域９３（図２参照）に対する向きの変更を抑える。本実施形態においては、カウンター付勢部３１Ｉの付勢力は、第１揺動フレーム１８Ｄ（図２参照）の揺動に作用する力と比べて小さい。

＜カウンター機構の詳細＞
ここで、カウンター付勢部３１Ｉは、本開示における「付勢部」に相当する。カウンター付勢部３１Ｉは、ピッチ送り部３１Ａから第２揺動部３１Ｄに向かって作用する押圧力を付勢力として発揮することが可能である。本実施形態では、カウンター付勢部３１Ｉは、カウンターピン３１Ｇの表面である受け止め面３１Ｈに、カウンタースプリング３１Ｊの端部を押し当てる構成である。ここで、受け止め面３１Ｈは、第２揺動部３１Ｄならびに処理ユニット３０および基準ユニット３４の揺動における揺動軸を軸とした回転面の形状（本実施形態では円柱形状）を呈する。そうすると、第２揺動部３１Ｄが揺動してカウンターピン３１Ｇが回動しても、カウンタースプリング３１Ｊは受け止め面３１Ｈを安定的に押圧することが可能となる。

＜処理ユニットの構成＞
処理ユニット３０は、図２に示すように、環列８５（図１参照）の内側に位置されて、この環列８５に囲われる面領域９０Ａを処理面領域９３として処理を行う。この処理は、指向性を有する。本実施形態では、上記処理は、処理ユニット３０が砥石車３３を自転させて処理面領域９３の研削加工を行う処理である。

＜コンピューターの構成＞
コンピューター１００は、図１０に示すように、第４制御プログラム４１０および第５制御プログラム（図示せず）を実行する。第４制御プログラム４１０は、コンピューター１００に、第１吸着力発生装置８３０Ａ、第２吸着力発生装置８３０Ｂ、第３吸着力発生装置８３０Ｃ、解放エアー発生装置８２６および大気開放装置（図示せず）に流れるエアーを制御する機能を実現させる。これにより、第４制御プログラム４１０は、コンピューター１００を、上述した取付状態の実現に際しての取付装置１（図１参照）の制御手段として機能させる。第５制御プログラムは、コンピューター１００に、大気開放装置に流れるエアーを制御する機能を実現させる。これにより、第５制御プログラムは、コンピューター１００を、上述した取付状態の解除に際しての取付装置１の制御手段として機能させる。本実施形態においては、コンピューター１００は、後述する第４入力部４２０、第４記憶部４３０、第４算定部４４０および第４制御部４６０を備えるもの（具体的には例えばティーチングペンダント）である。

＜コンピューターの詳細＞
ここで、コンピューター１００は、記録媒体であるストレージ（図示せず）を備えている。ストレージには、複数の制御プログラムを互いに独立して動作させる機能をコンピューター１００に実現させるプログラムであるオペレーティングシステム（図示せず）が、コンピュータ読み取り可能に記録されている。本実施形態においては、オペレーティングシステムは、ストレージにコンピュータ読み取り可能に記録されたプログラムのうち、前もって設定された所定の制御プログラムを呼び出して実行する呼び出し処理を、コンピューター１００に実行させる。また、ストレージには、第４制御プログラム４１０および第５制御プログラム（図示せず）が、コンピュータ読み取り可能に記録されている。

＜第４制御プログラムの構成＞
第４制御プログラム４１０は、第１吸着力発生装置８３０Ａ、第２吸着力発生装置８３０Ｂ、第３吸着力発生装置８３０Ｃ、解放エアー発生装置８２６および大気開放装置（図示せず）に流れるエアーを制御する。具体的には、第４制御プログラム４１０は、コンピューター１００における、第４入力部４２０、第４記憶部４３０、第４算定部４４０および第４制御部４６０を制御する。第４記憶部４３０は、第４入力部４２０への入力内容を記憶する。第４算定部４４０は、第４記憶部４３０に記憶された入力内容に基づいて計算処理を実行し、この計算処理の実行結果に基づいて決定される指令を第４制御部４６０に出力する。第４制御部４６０は、第４算定部４４０から入力される指令に基づいて、第１吸着力発生装置８３０Ａ、第２吸着力発生装置８３０Ｂ、第３吸着力発生装置８３０Ｃ、解放エアー発生装置８２６および大気開放装置の駆動を制御する。

＜第４入力部の構成＞
第４入力部４２０は、取付装置１においてコンピューター１００による制御が可能な種々の構成について、その制御に用いられる情報を入力することが可能なヒューマン・インターフェース・デバイス（本実施形態では例えばタッチパネル）である。ここで、上記種々の構成には、第１吸着力発生装置８３０Ａ、第２吸着力発生装置８３０Ｂ、第３吸着力発生装置８３０Ｃ、解放エアー発生装置８２６および大気開放装置（図示せず）が含まれる。これにより、ユーザー（図示せず）は、上記情報を第４入力部４２０に入力することで、吸着アッセンブリ１２（図１１参照）の吸着および従動脚８２０（図１１参照）の延び出しを実現することが可能となる。

＜第４記憶部の構成＞
第４記憶部４３０は、第４入力部４２０に入力される情報のすべてを、コンピュータ読み取り可能に記憶するメディア（本実施形態では例えば、メモリおよびＨＤＤ）である。

＜第４算定部の構成＞
第４算定部４４０は、上記計算処理、該計算処理の実行結果に基づく各構成への指令の決定、および該指令の第４制御部４６０への出力が可能なプロセッサー（本実施形態では例えば、ＣＰＵ）である。

＜第４制御部の構成＞
第４制御部４６０は、上記指令に基づき、少なくとも第１吸着力発生装置８３０Ａ、第２吸着力発生装置８３０Ｂ、第３吸着力発生装置８３０Ｃ、解放エアー発生装置８２６および大気開放装置（図示せず）に対応する各吸着電磁弁（図示せず。本実施形態では、例えば、エアーの切替え音を小さくするサイレンサ付き電磁弁）を開閉させるスイッチング素子である。ここで、上記各吸着電磁弁は、プログラム制御が可能なものであり、第４制御部４６０が出力するシグナルに応じて開閉を行うものである。

＜被取付体に取付装置を取り付ける手順＞
上述した第１の実施形態に係る取付装置１で、被取付体２に取り付ける取付構造９００を実現する場合、ユーザー（図示せず）は以下の流れで取り付け作業を行う。
＜第４制御プログラムの制御＞

ユーザー（図示せず）は、第１吸着力発生装置８３０Ａ、第２吸着力発生装置８３０Ｂ、第３吸着力発生装置８３０Ｃ、解放エアー発生装置８２６および大気開放装置（図示せず）の駆動をコンピューター１００に制御させる。この際、ユーザーは図１３のステップＱ１０を実行する。

ステップＱ１０において、ユーザー（図示せず）は、取付装置１および被取付体２についての事前準備を行う。

上記事前準備には、被取付体２の表面９０において、吸着脚８０が吸着する面領域９０Ａを洗浄する処理が含まれる。また、上記事前準備には、ユーザー（図示せず）がコンピューター１００を起動させる処理が含まれる。また、上記事前準備には、ユーザーが第４制御プログラム４１０を起動させる処理が含まれる。また、上記事前準備には、ユーザーが負圧源８３０の大気開放装置（図示せず）を駆動させて負圧源８３０の各エジェクター（図示せず）におけるエアーの吸引を停止させる処理が含まれる。また、上記事前準備には、ユーザーが上述した覆い状態を実現させる処理が含まれる。また、上記事前準備には、ユーザーが平行組８３における２つの主動脚８１０の脚の長さを調整する処理が含まれる。この調整は、処理ユニット３０が処理面領域９３に干渉せず、かつ、本体１０Ａと被取付体２の表面９０とが所定の間隔（図３参照）で離間された状態を実現させるように行われる。また、上記事前準備には、ユーザーが、従動脚８２０を、この従動脚８２０が被取付体２の表面９０に干渉しないように縮める処理が含まれる。また、上記事前準備には、ユーザーが、各従動脚８２０に対応する切替えバルブ８２５Ａの全てを、ユーザーが手動で開く処理が含まれる。また、上記事前準備には、ユーザーが、落下防止ワイヤー（図示せず）の一端を取手１１Ｄに、同じく他端をクレーンのフック（図示せず）に取り付ける処理が含まれる。

ステップＱ１０の事前準備に続いて、ユーザー（図示せず）は、ステップＱ２０を実行する。

ステップＱ２０において、ユーザー（図示せず）は、第４入力部４２０に第１吸着力発生装置８３０Ａを駆動させるよう入力を行う。これに対し、コンピューター１００の第４算定部４４０（以下、単に「第４算定部４４０」とも称する。）は、その処理をステップＱ３０に進める。

ステップＱ３０において、第４算定部４４０は、第１吸着力発生装置８３０Ａを駆動させる。この駆動により、３つの主動脚８１０は、真空パッド８１６が被覆領域９５に当接する当接状態となったときに、被取付体２の表面９０に対して吸着される状態となる。このとき、ユーザー（図示せず）は、第１吸着力発生装置８３０Ａの駆動を、その駆動音および第１吸着力発生装置８３０Ａに接続された表示装置１１Ｆが表示する表示値によって判断する。そして、ユーザーは、第１吸着力発生装置８３０Ａの駆動が実現されたと判断すると、ステップＱ４０を実行する。

ステップＱ４０において、ユーザー（図示せず）は、第４入力部４２０に解放エアー発生装置８２６を駆動させるように入力を行う。これに対し、第４算定部４４０は、その処理をステップＱ５０に進める。

ステップＱ５０において、第４算定部４４０は、解放エアー発生装置８２６を駆動させ、もってクイックシャフトクランプ８２５によるシャフト８２１の挟持を解放する。これに対し、各従動脚８２０は、そのシャフト８２１を上述した第１の方向に伸び出させることで伸長し、その真空パッド８１６を当接状態とする。

このとき、従吸着パッド８２７（図７参照）における真空パッド８１６（図７参照）は、図１１に示すように、第１の面領域９１および第２の面領域９２のそれぞれの傾斜に対応して、固定受部８２８（図７参照）に対して首振りする。これにより、第２吸着アッセンブリ１２Ｂにおける２つの従動脚８２０は、第１の面領域９１に当接し、第２吸着アッセンブリ１２Ｂにおける別の１つの従動脚８２０は、第２の面領域９２に当接する。また、第３吸着アッセンブリ１２Ｃにおける１つの従動脚８２０は、第１の面領域９１に当接し、第３吸着アッセンブリ１２Ｃにおける別の１つの従動脚８２０は、第２の面領域９２に当接する。なお、ユーザー（図示せず）は、各従動脚８２０が伸長してその真空パッド８１６が当接状態となったことを確認してから、ステップＱ６０を実行する。

ステップＱ６０において、ユーザー（図示せず）は、平行組８３における２つの主動脚８１０を、処理面領域９３の幾何中心９４に対し処理面領域９３におけるゼロの主曲率方向に並ぶように（すなわちゼロの主曲率上に）位置させる。続いて、ユーザーは、上記２つの主動脚８１０における真空パッド８１６を被覆領域９５の稜線９６に当接させ、もってこれら真空パッド８１６を当接状態とする。そして、ユーザーは、ステップＱ７０を実行する。

ステップＱ７０において、ユーザー（図示せず）は、他吸着脚における１つの主動脚８１０を処理面領域９３における非ゼロの主曲率方向に、平行組８３の並びから離れて（すなわち非ゼロの主曲率上に）位置させる。続いて、ユーザーは、上記１つの主動脚８１０における真空パッド８１６を第２の面領域９２に当接させる。そして、ユーザーは、ステップＱ８０を実行する。

ここで、主吸着パッド８１３において、真空パッド８１６は、第２の面領域９２の傾斜に対応して、軸受部８１５（図５参照）に対して首振りする。そうすると、他吸着脚８４における１つの主動脚８１０は、第２の面領域９２に吸着する。このため、第１の面領域９１または第２の面領域９２のうち一方の面に沿う向きに力が掛けられても、他方の面に吸着した主動脚８１０が抵抗する。これにより、向きの異なる面領域９０Ａのあるものに対しても、取付装置１をより安定的に取付可能とすることができる。

ステップＱ８０において、ユーザー（図示せず）は、水平面に対する処理面領域９３の傾斜を装置傾斜計１１Ｃとは別の携帯可能な傾斜計（図示せず）で確認する。そして、ユーザーは、ステップＱ９０を実行する。

ステップＱ９０において、ユーザー（図示せず）は、ベースフレーム１１の板面に付設されている装置傾斜計１１Ｃの出力を確認しながら、ベースフレーム１１の傾斜と、処理面領域９３の傾斜と、が合致するように、他吸着脚８４における１つの主動脚８１０の長さを調整する。そして、ユーザーは、ステップＱ１００を実行する。

ステップＱ１００において、ユーザー（図示せず）は、第４入力部４２０に第２吸着力発生装置８３０Ｂおよび第３吸着力発生装置８３０Ｃを駆動させるように入力を行う。これに対し、第４算定部４４０は、その処理をステップＱ１１０に進める。

ステップＱ１１０において、第４算定部４４０は、第２吸着力発生装置８３０Ｂおよび第３吸着力発生装置８３０Ｃを駆動させ、もって負圧源８３０に連通された各従動脚８２０の吸着を試みる。このとき、ユーザー（図示せず）は、第２吸着力発生装置８３０Ｂおよび第３吸着力発生装置８３０Ｃにそれぞれ接続された表示装置１１Ｆの表示により上記各従動脚８２０の吸着の試みが実行されたか否かを判断する。そして、ユーザーは、上記吸着の試みが実行されたと判断すると、ステップＱ１２０を実行する。

ステップＱ１２０において、ユーザー（図示せず）は、各従動脚８２０において、被覆領域９５に対する吸着不良が発生しているものがあるか否かを判断する。この判断は、第２吸着力発生装置８３０Ｂおよび第３吸着力発生装置８３０Ｃにそれぞれ接続された表示装置１１Ｆの表示値と、コンピューター１００のヒューマン・インターフェース・デバイスたる第４入力部４２０の画面表示に基づいて行われる。また、ユーザーは、被覆領域９５に対する吸着不良が発生している従動脚８２０が存在すると判断したときには、その従動脚８２０に対して、その真空パッド８１６を負圧源８３０（すなわち第２吸着力発生装置８３０Ｂまたは第３吸着力発生装置８３０Ｃ）から遮断する。この遮断は、吸着不良が発生している従動脚８２０に対応する切替えバルブ８２５Ａを、ユーザーが手動で閉じることによって行われる。そして、ユーザーは、ステップＱ１３０を実行する。

ステップＱ１３０において、ユーザー（図示せず）は、第４入力部４２０に解放エアー発生装置８２６を停止させるように入力を行う。これに対し、第４算定部４４０は、その処理をステップＱ１４０に進める。

ステップＱ１４０において、第４算定部４４０は、解放エアー発生装置８２６を停止させ、もってクイックシャフトクランプ８２５によるシャフト８２１の挟持を実現させる。これにより、５つの従動脚８２０の長さが固定される。そして、第４算定部４４０は、第４制御プログラム４１０の終了処理を実行する。

上述した取り付け作業によれば、第１吸着アッセンブリ１２Ａ、第２吸着アッセンブリ１２Ｂおよび第３吸着アッセンブリ１２Ｃの、それぞれに属する複数の吸着脚８０は、図１に示すように、一定の間隔を空けた状態で被取付体２（図１１参照）に吸着される。これにより、取付装置１は、被取付体２に、より安定的に取り付けられる。

なお、取付装置１を被取付体２（図１１参照）から取り外す場合には、ユーザー（図示せず）は、コンピューター１００を起動させて第５制御プログラム（図示せず）を実行する。ついで、ユーザーは、大気開放装置（図示せず）を駆動させる旨の入力を第４入力部４２０に行う。そうすると、パッド空間８１８が常圧となり、吸着アッセンブリ１２が被取付体２の表面９０上から取り外し可能となる。これにより、ユーザーは、取付装置１について、取手１１Ｄを持って、被取付体２から別の場所に移動させることができる。

以上により、本開示は、図１１に示すように、向きの異なる面領域９０Ａのあるものに対しても、より安定的に取付可能な取付装置１および、その取付構造９００を提供することができる。

＜吸着アッセンブリの冗長化＞
なお、１つの吸着アッセンブリ１２におけるエアー系統に何らかの障害が発生した場合であっても、このエアー系統とは独立した別の吸着アッセンブリ１２がバックアップとして機能し、もって取付状態を維持し続けることができる。

同様に、１つの吸着アッセンブリ１２に不具合が生じた場合であっても、他の吸着アッセンブリ１２に属する複数の吸着脚８０が、１つの吸着アッセンブリ１２に属する複数の吸着脚８０の間に位置されていることから、他の吸着アッセンブリ１２の吸着により、取付状態を維持することができる。

以上により、取付装置１は、図１に示すように、１つの吸着アッセンブリ１２に不具合が生じた場合であっても、取付状態を維持することができる。

＜処理ユニットの揺動＞
ここで、被取付体２に取り付けられた取付装置１は、図１１に示すように、揺動機構７００が処理ユニット３０を揺動させ、もって処理ユニット３０の処理面領域９３に対する向きを変更させている。以下に処理ユニット３０の揺動について説明する。

まず、揺動シリンダー１９にエアーを流すことで、第１揺動フレーム１８Ｄを被取付体２の側に揺動させる。そうすると、第２揺動フレーム３１が被取付体２の側に近づくこととなる。これにより、処理ユニット３０は処理面領域９３を処理可能な位置に位置される。

ここで、処理ユニット３０は、吸着脚８０がなす環列８５（図１参照）の内側に位置している。これにより、処理ユニット３０には、想定していない外力が掛かりにくい状態となる。

ここで、第２揺動フレーム３１の第２揺動部３１Ｄに付設される基準ユニット３４は、２つの倣い玉３５が当接する被取付体２の表面９０に対して垂直に立つ。また、第２揺動部３１Ｄに固設されている処理ユニット３０も、被取付体２の表面９０に対して所定の向きを向くようになる。これにより、処理ユニット３０は、処理面領域９３に対して指向性を有する処理を適当に行うことができる。

ここで、処理ユニット３０は、図９に示すように、第１の玉３５Ａの方が、第２の玉３５Ｂよりも球面の曲率半径が小さい分、これらが被取付体２の表面９０に当接する基準３５Ｃに、近づくこととなる。これにより、処理ユニット３０は、図１１に示すように、被取付体２の表面９０に対する相対的な角度関係をより精度良く設定することができる。

ここで、第２揺動フレーム３１に付設されるカウンター機構３１Ｅは、図９に示すように、第２揺動部３１Ｄが揺動する方向において、機械的コンプライアンスをより小さくするように第２揺動部３１Ｄに付勢力を発揮する。具体的には、ピッチ送り部３１Ａに固設されるカウンターハウジング３１Ｆに内蔵される、カウンター付勢部３１Ｉは、第２揺動部３１Ｄが揺動する方向における機械的コンプライアンスがより小さくなるように介在して付勢力を発揮する。そうすると、第２揺動部３１Ｄに揺動する力が掛かったときに、カウンターハウジング３１Ｆをスライドするカウンターピン３１Ｇには、カウンター付勢部３１Ｉからの付勢力が掛かる。このため、カウンターピン３１Ｇが固設する第２揺動部３１Ｄには、上記揺動する力を相殺する付勢力が掛けられることとなる。例えば、処理面領域９３が水平面に対して１３５°をなす場合の取付状態においては、図１２に示すように、第２揺動部３１Ｄには、第２揺動軸中心３１Ｃを起点として、第２揺動部３１Ｄ自身および第２揺動部３１Ｄに付設されているものの重力により揺動する揺動力を相殺する付勢力が掛けられる。そして、処理ユニット３０が、被取付体２の表面９０に対して所定の向きを向くようにされる。これにより、処理ユニット３０は、処理面領域９３に対して指向性を有する処理を適当に行うことができる。

ここで、カウンターピン３１Ｇの受け止め面３１Ｈには、カウンターハウジング３１Ｆの筒の軸方向の両側にあるカウンター付勢部３１Ｉから押圧力が掛けられる。ここで、受け止め面３１Ｈは、第２揺動部３１Ｄが揺動する揺動軸とした回転面の形状を呈している。このため、カウンターピン３１Ｇが回動しても、受け止め面３１Ｈにおいて上記押圧力を受け止める部分の面積は変化しにくいものとなる。これにより、第２揺動部３１Ｄの揺動にともなってカウンターピン３１Ｇが回動したときでも、カウンター付勢部３１Ｉは、より安定的にカウンターピン３１Ｇを押圧することができる。

以上により、取付装置１は、図１２に示すように、処理ユニット３０は、処理面領域９３に対して所定の向きをとることができる。

＜作用・効果＞
上述した取付装置１によれば、吸着アッセンブリ１２は、第１吸着脚８１を第１の面領域９１に、第２吸着脚８２を第２の面領域９２に、それぞれ吸着させることができる。ここで、第１の面領域９１および第２の面領域９２は、互いに向きが異なる面領域９０Ａである。そうすると、第１の面領域９１または第２の面領域９２のうち一方の面に沿う向きに力が掛けられても、他方の面に吸着した吸着脚８０が抵抗することとなる。これにより、向きの異なる面領域９０Ａのあるものに対しても、より安定的に取付可能な取付装置１を提供することができる。

上述した取付装置１によれば、第１吸着アッセンブリ１２Ａ、または第２吸着アッセンブリ１２Ｂの一方に不具合が生じた場合であっても、他方により取付装置１を被取付体２に取り付けられた状態に維持することができる。

上述した取付装置１によれば、複数の吸着脚８０を、一定の間隔を空けた状態で被取付体２に吸着させることができる。これにより、被取付体２に、より安定的に取付可能な取付装置１を提供することができる。

上述した取付装置１によれば、他の吸着アッセンブリ１２に属する複数の吸着脚８０が、１つの吸着アッセンブリ１２に属する複数の吸着脚８０の間に、位置することとなる。これにより、１つの吸着アッセンブリに不具合が生じた場合であっても、他の吸着アッセンブリにより取付装置１を被取付体２に取り付けた取付状態に維持することができる。

上述した取付装置１によれば、主動脚８１０は、装置傾斜計１１Ｃが導出する、処理面領域９３に対する処理ユニット３０の相対的な角度関係に応じて、その延び出し長さを変更することが可能である。これにより、処理ユニット３０は、処理面領域９３に対する角度を調整することができる。

上述した取付装置１によれば、従動脚８２０は、覆い状態が本体１０Ａにおいて実現されているときに、従動脚８２０が伸縮することにより、取付装置１を迅速に被取付体２に取り付けることができる。

上述した取付装置１によれば、カウンター付勢部３１Ｉは、付勢力を発揮することで、処理ユニット３０が揺動する方向における機械的コンプライアンスがより小さくなるように、処理ユニット３０の処理面領域９３に対する向きを変更させる。これにより、処理ユニット３０の処理面領域９３に対する向きを、より安定に維持することができる。

上述した取付装置１によれば、処理ユニット３０を環列８５の内側に位置させることで、想定していない外力が処理ユニット３０に掛かりにくい状態とすることができる。

上述した取付装置１によれば、受け止め面３１Ｈは、処理ユニット３０の揺動における揺動軸を軸とした回転面の形状を呈するため、処理ユニット３０の揺動に対応してカウンター付勢部３１Ｉによる押圧力を受け止めることができる。

上述した取付装置１によれば、処理ユニット３０は、第１の玉３５Ａが、第２の玉３５Ｂよりも球面の曲率半径が小さい分、第１の玉３５Ａおよび第２の玉３５Ｂが被取付体２の表面９０に当接する基準に近づけることができる。これにより、処理ユニット３０は、被取付体２に対する相対的な角度関係をより精度良くなすことができる。

上述した取付構造９００によれば、吸着アッセンブリ１２は、第１吸着脚８１を第１の面領域９１に、第２吸着脚８２を第２の面領域９２に、それぞれ吸着することとなる。ここで、第１の面領域９１および第２の面領域９２は、互いに向きが異なる面領域９０Ａである。そうすると、第１の面領域９１または第２の面領域９２のうち一方の面に沿う向きに力が掛けられても、他方の面に吸着した吸着脚８０が抵抗することとなる。これにより、向きの異なる面領域９０Ａのあるものに対しても、より安定的な取付構造９００を提供することができる。

上述した取付構造９００によれば、他吸着脚８４の延び出し長さを変更することで、処理面領域９３に対する処理ユニット３０の角度を調整することができる。

本開示は、上記の各構成をもつことにより、向きの異なる面領域９０Ａのあるものに対しても、より安定的に取付可能な取付装置１および、その取付構造９００を提供することができる。

＜他の実施形態＞
以上、本発明を実施するための形態について、上述した実施形態によって説明した。しかしながら、当業者であれば、本発明の目的を逸脱することなく種々の代用、手直し、変更が可能であることは明らかである。すなわち、本発明の目的を実施するための形態は、本明細書に添付した請求の範囲の精神および目的を逸脱しない全ての代用、手直し、変更を含みうるものである。例えば、本発明を実施するための形態として、以下のような各種の形態を実施することができる。

本開示に係る取付装置における吸着脚は、上述した構成のものに限定されない。すなわち、複数の吸着脚がなす環列の並びにおいて、１つの吸着アッセンブリに属する複数の吸着脚は互いに隣り合って配設されていても良い。また、複数の吸着脚がなす環列の並びにおいて、各吸着脚の間隔は、場所により異なるものであっても良い。また、複数の吸着脚は、環列をなすように並んで配設されるものである必要はなく、その配設場所は適宜に変更することができる。また、取付装置においては、例えば第３吸着アッセンブリを省略して、複数の吸着脚を第１吸着アッセンブリまたは第２吸着アッセンブリのいずれかにのみ属されるものとしても良い。また、取付装置においては、例えば第２吸着アッセンブリおよび第３吸着アッセンブリを省略して、複数の吸着脚を第１吸着アッセンブリにのみ属されるものとしても良い。この場合、第１吸着アッセンブリは、覆い状態が本体において実現されているときに第１の面領域に吸着可能とされる第１吸着脚と、同じく第２の面領域に吸着可能とされる第２吸着脚との両方を有することになる。また、取付装置においては、第１吸着アッセンブリは第１吸着脚のみを有するものとし、第２吸着アッセンブリは第２吸着脚のみを有するものとしても良い。

本開示に係る取付装置における処理ユニットは、上述した構成のものに限定されず、例えば被取付体の拭き掃除の処理を実行する処理ユニットなど、適宜に変更することができる。この場合において、処理ユニットの配設位置は、取付装置の本体に限定されず、適宜に変更することができる。また、本開示に係る取付装置は、処理ユニットを有さず、もっぱら取付具の用に供される取付装置であっても良い。

本開示に係る取付装置は、取手には、ユーザーの手が滑りにくい滑り止めが付設されても良い。係る場合、ユーザーは、手を滑らせることなく取手を持つことができる。

本開示に係る取付装置は、落下防止ワイヤーの耐力が取付装置の落下衝撃に耐え得るものであっても良い。また、吸着アッセンブリの吸着力が取付装置を支える強度を有するものであっても良い。

本開示に係る取付装置は、処理ユニットおよび基準ユニットを含む第２揺動部の重心から第２揺動軸中心までの距離が、カウンターピンから第２揺動軸中心までの距離より短くなるように設定されても良い。係る場合、そうでない場合に比べて、処理ユニットの向きをより安定的に維持することができる。

本開示に係る取付装置は、吸着力発生装置が発生させる負圧を検知する圧力計を備え、第４記憶部は吸着力発生装置が発生させる圧力の許容圧力を、あらかじめ記憶し、第４算定部は圧力計が検知する圧力が、第４記憶部が記憶する許容圧力を超えるか否か判定しても良い。そして、圧力計が検知する負圧が、第４記憶部が記憶する許容圧力を超えると判定する場合、異常を知らせる警告灯を点滅させたり、異常を知らせる警報機を鳴らしたりしても良い。係る場合、ユーザーは、吸着力発生装置の異常を検知することができる。

本開示に係る取付装置は、第２揺動部に第２揺動フレームがスライドする方向に延びる揺動軸となる第３揺動軸中心を設け、この第３揺動軸中心に補助フレームを揺動可能に取り付けても良い。そして、この補助フレームには、基準ユニットおよび処理ユニットを付設しても良い。さらに、基準ユニットには被取付体の表面に対して球面で接触する倣い玉を３つ三角形状に取り付けても良い。係る場合、基準ユニットが、被取付体の表面に対して法線方向に立つこととなり、処理の不確かさを減少させることができる。

本開示に係る取付装置は、傾斜計の代替として走査可能な距離計を備えたものであっても良い。ここで、距離計は、処理面領域における非ゼロの主曲率方向において、本体と処理面領域との間の距離を走査して測定するものである。この場合において、第４算定部は、距離計の測定結果に基づいて他吸着脚の延び出し長さを算定しても良い。また、第４制御部は、他吸着脚の延び出し長さを調整する制御モーターを備え、この制御モーターを第４算定部における他吸着脚の延び出し長さの算定結果に基づいて駆動させるものであっても良い。上述した構成によれば、取付装置は、本体と処理面領域との間隔を自動で調整することができる。

本開示に係る取付構造は、平行組に係る２つの主動脚には、それぞれ、主動脚の軸方向にスライド可能な曲率基準ユニットが付設され、曲率基準ユニットは被取付体の表面に対して球面で接触する倣い玉を有するものであっても良い。係る場合、ユーザーは、被取付体の表面上に、それぞれの曲率基準ユニットに設けられる倣い玉を転がして、平行組に係る２つの主動脚の位置を調整することができる。また、それぞれの曲率基準ユニットが有する倣い玉には、平行組に係る主動脚の並びと交差する方向に並列される２つの倣い玉が設けられても良い。係る場合、処理面領域が単曲面を呈する面領域であり、平行組に係る２つの主動脚を処理面領域におけるゼロの主曲率方向に並んで位置させる際に、それぞれの倣い玉が面領域に当接することを確認しながら、主動脚を位置させることができる。

１ 取付装置
２ 被取付体
１０Ａ 本体
１１ ベースフレーム
１１Ａ ナット
１１Ｂ スライドフレーム
１１Ｃ 装置傾斜計（傾斜計）
１１Ｄ 取手
１１Ｅ ブッシュホルダー
１１Ｆ 表示装置
１２ 吸着アッセンブリ
１２Ａ 第１吸着アッセンブリ
１２Ｂ 第２吸着アッセンブリ
１２Ｃ 第３吸着アッセンブリ
１８ メインフレーム
１８Ａ 平行フレーム
１８Ｂ 間隔フレーム
１８Ｃ 第１揺動軸中心
１８Ｄ 第１揺動フレーム
１８Ｅ 変曲部
１９ 揺動シリンダー
１９Ａ 揺動調整バルブ
２７ エアーチューブ
２７Ａ エアーチューブ
２７Ｂ エアーチューブ
２７Ｃ エアーチューブ
３０ 処理ユニット
３１ 第２揺動フレーム
３１Ａ ピッチ送り部
３１Ｂ 間隔部
３１Ｃ 第２揺動軸中心
３１Ｄ 第２揺動部
３１Ｅ カウンター機構
３１Ｆ カウンターハウジング
３１Ｇ カウンターピン
３１Ｈ 受け止め面
３１Ｉ カウンター付勢部
３１Ｊ カウンタースプリング
３３ 砥石車
３４ 基準ユニット
３５ 倣い玉
３５Ａ 第１の玉
３５Ｂ 第２の玉
３５Ｃ 基準
８０ 吸着脚
８１ 第１吸着脚
８２ 第２吸着脚
８３ 平行組
８４ 他吸着脚
８５ 環列
９０ 表面
９０Ａ 面領域
９１ 第１の面領域
９２ 第２の面領域
９３ 処理面領域
９４ 幾何中心
９５ 被覆領域
９６ 稜線
１００ コンピューター
４１０ 第４制御プログラム
４２０ 第４入力部
４３０ 第４記憶部
４４０ 第４算定部
４６０ 第４制御部
７００ 揺動機構
８１０ 主動脚
８１１ ネジ軸
８１２ 操作用ハンドル
８１３ 主吸着パッド
８１４ インジケーター
８１５ 軸受部
８１６ 真空パッド
８１７ 脚継手
８１８ パッド空間
８２０ 従動脚
８２１ シャフト
８２１Ａ 外周面
８２１Ｂ セットカラー
８２２ 内端壁
８２３ 軸受け
８２４ 弾性材
８２４Ａ コイルスプリング
８２４Ｂ ワッシャー
８２５ クイックシャフトクランプ
８２５Ａ 切替えバルブ
８２６ 解放エアー発生装置
８２７ 従吸着パッド
８２８ 固定受部
８２９ 流路
８３０ 負圧源
８３０Ａ 第１吸着力発生装置
８３０Ｂ 第２吸着力発生装置
８３０Ｃ 第３吸着力発生装置
９００ 取付構造

Claims (12)

1. 表面上に複数の面領域を有し、かつ複数の前記面領域の中に、互いに向きの異なる２つの前記面領域である、第１の面領域と、第２の面領域とが含まれている被取付体に取り付けられる取付装置であって、
   前記第１の面領域および前記第２の面領域の両方を一方側から覆う覆い状態を実現可能な広がりを有してなる本体と、
   前記被取付体に対する吸着を実現可能な複数の吸着脚を有する、少なくとも１つの吸着アッセンブリと、を備え、
   少なくとも１つの前記吸着アッセンブリに属する複数の前記吸着脚には、
   前記覆い状態が前記本体において実現されているときに前記本体から前記第１の面領域に向かって延び出された状態となるように配設されて、前記第１の面領域に吸着可能とされる第１吸着脚と、
   前記覆い状態が前記本体において実現されているときに前記本体から前記第２の面領域に向かって延び出された状態となるように配設されて、前記第２の面領域に吸着可能とされる第２吸着脚と、が含まれている、
   取付装置。
2. 請求項１に記載の取付装置であって、
   複数の前記吸着アッセンブリと、
   前記吸着における吸着力を負圧によって発生させる装置である第１吸着力発生装置と、
   前記吸着における吸着力を負圧によって発生させる装置である第２吸着力発生装置と、
   を備え、
   複数の前記吸着アッセンブリには、
   前記第１吸着力発生装置が発生させる負圧によって、それぞれの前記吸着脚の前記吸着を実現させる第１吸着アッセンブリと、
   前記第２吸着力発生装置が発生させる負圧によって、それぞれの前記吸着脚の前記吸着を実現させる第２吸着アッセンブリと、が含まれている、
   取付装置。
3. 請求項１または請求項２に記載の取付装置であって、
   前記吸着アッセンブリに属する複数の前記吸着脚は、前記覆い状態が前記本体において実現されているときに複数の前記面領域の少なくとも一部を囲う環列をなすように並んで配設され、
   前記環列における前記吸着脚の並びにおいて、それぞれの当該吸着脚は、一定の間隔を空けた状態で並んでいる、
   取付装置。
4. 請求項１から請求項３のうちのいずれか一項に記載の取付装置であって、
   複数の前記吸着アッセンブリを備え、
   複数の前記吸着アッセンブリに属する複数の前記吸着脚は、前記覆い状態が前記本体において実現されているときに複数の前記面領域の少なくとも一部を囲う環列をなすように並んで配設され、
   前記環列における前記吸着脚の並びにおいて、１つの前記吸着アッセンブリに属する複数の前記吸着脚の間に、他の前記吸着アッセンブリに属する前記吸着脚が互いに隣り合うことがないように配設されている、
   取付装置。
5. 請求項１から請求項４のうちのいずれか一項に記載の取付装置であって、
   前記本体に設けられて、複数の前記面領域に含まれる前記面領域の１つである処理面領域に対して処理を行う処理ユニットと、
   前記処理面領域に対する前記処理ユニットの相対的な角度関係を導出する傾斜計と、を備え、
   少なくとも１つの前記吸着アッセンブリに属する複数の前記吸着脚には、前記吸着において前記本体から前記被取付体の前記表面に向かって延び出される延び出し長さを、前記傾斜計の出力に応じて変更することが可能な前記吸着脚である主動脚が含まれている、
   取付装置。
6. 請求項１から請求項５のうちのいずれか一項に記載の取付装置であって、
   少なくとも１つの前記吸着アッセンブリに属する複数の前記吸着脚には、前記本体から前記一方側に向かう方向である第１の方向に伸び出し、かつ当該第１の方向に伸縮可能とされた前記吸着脚である従動脚が含まれている、
   取付装置。
7. 請求項１から請求項６のうちのいずれか一項に記載の取付装置であって、
   複数の前記面領域に含まれる前記面領域の１つである処理面領域に対して処理を行う処理ユニットと、
   前記処理ユニットを揺動させ、もって前記処理ユニットの前記処理面領域に対する向きを変更する揺動機構と、
   前記処理ユニットおよび前記揺動機構の間に介在して付勢力を発揮する付勢部と、を備え、
   前記付勢部は、前記付勢力を発揮することで、前記処理ユニットが揺動する方向における機械的コンプライアンスをより小さくするように構成されている、
   取付装置。
8. 請求項１から請求項７のうちのいずれか一項に記載の取付装置であって、
   前記本体に設けられて、複数の前記面領域に含まれる前記面領域の１つである処理面領域に対して処理を行う処理ユニットを備え、
   前記吸着アッセンブリに属する複数の前記吸着脚は、前記覆い状態が前記本体において実現されているときに複数の前記面領域の少なくとも一部を囲う環列をなすように並んで配設され、
   前記処理ユニットは、前記環列の内側に位置されて、当該環列に囲われる前記面領域を前記処理面領域として前記処理を行うものである、
   取付装置。
9. 請求項７または請求項８に記載の取付装置であって、
   前記処理ユニットを揺動させ、もって前記処理ユニットの前記処理面領域に対する向きを変更する揺動機構と、
   前記処理ユニットおよび前記揺動機構の間に介在して付勢力を発揮する付勢部と、を備え、
   前記付勢部は、前記処理ユニットおよび前記揺動機構のうちの一方から他方に向かって作用する押圧力を前記付勢力として発揮するものであり、
   前記処理ユニットおよび前記揺動機構のうち、前記押圧力が作用する他方には、当該押圧力を受け止める受け止め面が設けられ、
   前記受け止め面は、前記処理ユニットの揺動における揺動軸を軸とした回転面の形状を呈する、
   取付装置。
10. 請求項７から請求項９のうちのいずれか一項に記載の取付装置であって、
    前記処理ユニットに対して所定の角度関係をなし、かつ前記被取付体の前記表面に当接することで、前記被取付体に対する前記処理ユニットの相対的な角度関係の基準となる基準ユニットを備え、
    前記基準ユニットは、前記表面に対して球面で接触する第１の玉および第２の玉を有し、
    前記第１の玉は、前記第２の玉よりも前記処理ユニットからの距離が近い位置に位置され、
    前記第１の玉における球面の曲率半径は、前記第２の玉における球面の曲率半径よりも小さい、
    取付装置。
11. 請求項１から請求項１０のうちのいずれか一項に記載の取付装置を、前記被取付体に取り付けてなる取付構造。
12. 請求項１１に記載の取付構造であって、
    前記取付装置は、前記本体に設けられて、複数の前記面領域に含まれる前記面領域の１つであり、かつ単曲面を呈する前記面領域である処理面領域に対して処理を行う処理ユニットを備え、
    前記吸着アッセンブリは、
    前記処理面領域の面の中心に対し前記処理面領域におけるゼロの主曲率方向に並んで位置され、前記本体と前記処理面領域とを所定の間隔で離間させる前記吸着脚の組である平行組と、
    前記平行組の並びから前記処理面領域における非ゼロの主曲率方向に離れた位置にて前記吸着を実現させ、かつ、前記本体から前記被取付体の前記表面に向かって延び出される延び出し長さが変更可能とされた前記吸着脚である他吸着脚と、を有している、
    取付構造。

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