JP2023023668A - Film, film with release film, diaphragm, laminate, molded product and acoustic transducer - Google Patents
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Abstract
Description
本発明は、音響部材などの成形品を得るために使用されるフィルム、及び離型フィルム付きフィルム、並びに、これらから得られる振動板、積層体、成形品及び音響変換器に関する。 TECHNICAL FIELD The present invention relates to films used to obtain molded articles such as acoustic members, films with release films, and diaphragms, laminates, molded articles, and acoustic transducers obtained from these films.
例えば、スマートフォン、PDA、ノートブックコンピューター、DVD、液晶テレビ、デジタルカメラ、携帯音楽機器等の小型電子機器の普及により、これら電子機器に使用される小型のスピーカー(通常、マイクロスピーカーと呼ばれる)や小型のレシーバ、さらにはマイクロホン、イヤホン等の小型の電気音響変換器の需要が高まっている。これら電気音響変換器に使用される振動板には、ポリエーテルイミド(PEI)樹脂、ポリエーテルエーテルケトン(PEEK)樹脂等が広く使用されている。 For example, with the spread of small electronic devices such as smartphones, PDAs, notebook computers, DVDs, liquid crystal televisions, digital cameras, and portable music devices, small speakers (usually called micro speakers) and small speakers used in these electronic devices Demand for small electroacoustic transducers such as receivers, microphones and earphones is increasing. Polyetherimide (PEI) resin, polyetheretherketone (PEEK) resin and the like are widely used for diaphragms used in these electroacoustic transducers.
また、近年、シリコーン樹脂が上記した振動板に使用されることも検討されている。例えば、特許文献1には、離型シートと、未硬化液状シリコーン組成物から成る第1層と、主として熱可塑性ポリウレタンを含む第2層とを順に積層して成る振動板用シート、及びこの振動板用シートを用いた振動板の製造方法が開示されている。特許文献1においては、振動板用シートが金型内にセットされて賦形成形された後、成形物から離型シートを剥離することで振動板が製造されている。特許文献1に記載の振動板用シートは、未硬化液状シリコーン組成物を使用するため、成形時の賦形性を高くすることができ、また、金型への追従性も高くすることができる。
Further, in recent years, the use of silicone resin for the above-described diaphragm has also been considered. For example,
上記の通り、特許文献1において、振動板用シートは、未硬化液状シリコーン組成物から成る第1層に離型フィルムを積層したまま金型にセットして賦形成形される。そのため、成形後に離型フィルムを剥がす必要があるが、成形時の加熱及び加圧により、離型フィルムが第1層から剥がれにくくなることが多く作業効率が悪くなり、量産化する際に問題となる。
As described above, in
したがって、振動板用シートは、離型フィルムを剥がしたうえで、金型などの型にセットすることが望ましい。しかし、離型フィルムがないと、未硬化液状シリコーン組成物から成る第1層が、金型に貼り付いて、金型から容易に成形品を取り出せないなどの不具合が生じる。さらに、特許文献1の振動板用シートは、離型フィルムがないと、賦形前の形状保持性も低くなる。
一方、金型からの離型性を考慮して、シート表面の金型と接する面に硬化層を設けたとしても、賦形成形前に離型フィルムを剥がす際に、該硬化層とシート間での剥離が生じる虞という問題がある。
Therefore, it is desirable that the diaphragm sheet is set in a mold such as a mold after peeling off the release film. However, without the release film, the first layer of the uncured liquid silicone composition sticks to the mold, causing problems such as difficulty in removing the molded product from the mold. Furthermore, the diaphragm sheet of
On the other hand, even if a hardening layer is provided on the surface of the sheet surface that is in contact with the mold in consideration of releasability from the mold, when the release film is peeled off before shaping, the hardening layer and the sheet However, there is a problem that peeling may occur.
そこで、本発明は、成形前の形状保持性、及び成形時の賦形性及び型への追従性を高くしつつ、成形前に離型フィルムを剥がす際に多層フィルムの層間剥離を防止することができるフィルムを提供することを課題とする。 Therefore, the present invention is to prevent delamination of a multilayer film when peeling off a release film before molding, while improving shape retention before molding, shapeability during molding, and conformability to a mold. An object of the present invention is to provide a film capable of
本発明者らは、鋭意検討した結果、硬化性のシリコーン層(A)とシリコーン層(B)を有するフィルムにおいて、シリコーン層(A)とシリコーン層(B)の層間の少なくとも一つの面の算術平均高さ(Sa)を特定の範囲、または、層間剥離強度を特定の範囲とし、20℃、10Hzでの貯蔵弾性率E’を特定の範囲とすることによって、上記課題を解決できることを見出し、以下の本発明を完成させた。 As a result of intensive studies, the present inventors found that, in a film having a curable silicone layer (A) and a silicone layer (B), the arithmetic of at least one surface between the silicone layer (A) and the silicone layer (B) The above problem can be solved by setting the average height (Sa) to a specific range, or the delamination strength to a specific range, and the storage elastic modulus E' at 20 ° C. and 10 Hz to a specific range, The following invention has been completed.
すなわち本発明は、以下の[1]~[18]を提供する。
[1]硬化性のシリコーン層(A)の少なくとも片面に、他のシリコーン層(B)を備え、下記(a)の粘弾性特性を有し、該シリコーン層(A)とシリコーン層(B)の層間の少なくとも一つの面の算術平均高さ(Sa)が500~4000nmであるフィルム。
(a)測定温度20℃、周波数10Hzでの貯蔵弾性率E’が0.1MPa~500MPa。
[2]硬化性のシリコーン層(A)の少なくとも片面に、他のシリコーン層(B)を備え、下記(a)の粘弾性特性を有し、該シリコーン層(A)とシリコーン層(B)との層間剥離強度が0.5N/5cm以上であるフィルム。
(a)測定温度20℃、周波数10Hzでの貯蔵弾性率E’が0.1MPa~500MPa。
[3]ゲル分率が90%以下である、請求項1または2に記載のフィルム。
[4]前記シリコーン層(B)のゲル分率が80%以上である、上記[1]~[3]のいずれか1項に記載のフィルム。
[5]前記シリコーン層(B)が下記(b)の粘弾性特性を有する、上記[1]~[4]のいずれか1項に記載のフィルム。
(b)測定温度20℃、周波数10Hzでの貯蔵弾性率E’(1Hz)が0.1MPa~500MPa。
[6]熱硬化性を有する、上記[1]~[5]のいずれか1項に記載のフィルム。
[7]架橋構造を有する、上記[1]~[6]のいずれか1項に記載のフィルム。
[8]前記シリコーン層(A)の両面に前記シリコーン層(B)を備える、上記[1]~[7]のいずれか1項に記載のフィルム。
[9]硬化後の状態で、下記(c)~(e)の粘弾性特性を有する上記[1]~[8]のいずれか1項に記載のフィルム。
(c)測定温度20℃、周波数10Hzでの貯蔵弾性率E’20が0.1MPa以上500MPa以下。
(d)測定温度100℃、周波数10Hzでの貯蔵弾性率E’100が0.1MPa以上500MPa以下。
(e)前記貯蔵弾性率E’20に対する、前記貯蔵弾性率E’100の比(E’100/E’20)が0.4以上1.0以下。
[10]振動板用フィルムである、上記[1]~[9]のいずれかに記載のフィルム。
[11]上記[1]~[10]のいずれか1項に記載のフィルムと、前記フィルムの少なくとも片面に設けられた離型フィルムとを備える、離型フィルム付フィルム。
[12]上記[1]~[10]のいずれか1項に記載のフィルムを硬化してなる振動板。
[13]上記[1]~[10]のいずれかに記載のフィルムを型に配置させて、熱成形させてなる積層体。
[14]上記[13]に記載の積層体において、型から剥がされてなる、成形品。
[15]上記[14]に記載の成形品からなる振動板。
[16]上記[12]又は[15]に記載の振動板を備えた音響変換器。
[17]シリコーン層(B)の少なくとも片面の算術平均高さ(Sa)が500~4000nmであり、該片面に対して硬化性のシリコーン層(A)を積層することで得られる、下記(a)の粘弾性特性を有する、フィルムの製造方法。
(a)測定温度20℃、周波数10Hzでの貯蔵弾性率E’が0.1MPa~500MPa。
[18]シリコーン層(B)の両面の算術平均高さ(Sa)が500~4000nmであり、該両面に対して硬化性のシリコーン層(A)をそれぞれ積層することで得られる、下記(a)の粘弾性特性を有する、フィルムの製造方法。
(a)測定温度20℃、周波数10Hzでの貯蔵弾性率E’が0.1MPa~500MPa。
That is, the present invention provides the following [1] to [18].
[1] Another silicone layer (B) is provided on at least one surface of the curable silicone layer (A), and has the following viscoelastic properties of (a), the silicone layer (A) and the silicone layer (B) A film having an arithmetic mean height (Sa) of 500 to 4000 nm on at least one plane between the layers.
(a) Storage elastic modulus E′ at a measurement temperature of 20° C. and a frequency of 10 Hz is 0.1 MPa to 500 MPa.
[2] Another silicone layer (B) is provided on at least one side of the curable silicone layer (A), and has the following viscoelastic properties of (a), the silicone layer (A) and the silicone layer (B) A film having an interlayer peel strength of 0.5 N/5 cm or more.
(a) Storage elastic modulus E′ at a measurement temperature of 20° C. and a frequency of 10 Hz is 0.1 MPa to 500 MPa.
[3] The film according to [1] or [2], which has a gel fraction of 90% or less.
[4] The film according to any one of [1] to [3] above, wherein the silicone layer (B) has a gel fraction of 80% or more.
[5] The film according to any one of [1] to [4] above, wherein the silicone layer (B) has the following viscoelastic properties of (b).
(b) Storage modulus E' (1 Hz) at a measurement temperature of 20°C and a frequency of 10 Hz is 0.1 MPa to 500 MPa.
[6] The film according to any one of [1] to [5] above, which has thermosetting properties.
[7] The film according to any one of [1] to [6] above, which has a crosslinked structure.
[8] The film according to any one of [1] to [7] above, comprising the silicone layer (B) on both sides of the silicone layer (A).
[9] The film according to any one of [1] to [8] above, which has the following viscoelastic properties (c) to (e) after curing.
(c) Storage elastic modulus E′20 at a measurement temperature of 20° C. and a frequency of 10 Hz is 0.1 MPa or more and 500 MPa or less.
(d) Storage modulus E′100 at a measurement temperature of 100° C. and a frequency of 10 Hz is 0.1 MPa or more and 500 MPa or less.
(e) The ratio of the storage modulus E'100 to the storage modulus E'20 ( E'100 / E'20 ) is 0.4 or more and 1.0 or less.
[10] The film according to any one of [1] to [9], which is a diaphragm film.
[11] A film with a release film, comprising the film according to any one of [1] to [10] above and a release film provided on at least one side of the film.
[12] A diaphragm obtained by curing the film according to any one of [1] to [10] above.
[13] A laminate obtained by placing the film according to any one of [1] to [10] above in a mold and thermoforming the film.
[14] A molded article obtained by peeling the laminate from the mold of the laminate described in [13] above.
[15] A diaphragm comprising the molded article according to [14] above.
[16] An acoustic transducer comprising the diaphragm according to [12] or [15] above.
[17] The following (a ), a method for producing a film having viscoelastic properties of
(a) Storage elastic modulus E′ at a measurement temperature of 20° C. and a frequency of 10 Hz is 0.1 MPa to 500 MPa.
[18] The arithmetic mean height (Sa) of both surfaces of the silicone layer (B) is 500 to 4000 nm. ), a method for producing a film having viscoelastic properties of
(a) Storage elastic modulus E′ at a measurement temperature of 20° C. and a frequency of 10 Hz is 0.1 MPa to 500 MPa.
本発明によれば、成形前の形状保持性、及び成形時の賦形性及び型への追従性を高くしつつ、成形前に離型フィルムを剥がす際に多層フィルムの層間剥離を防止することができるフィルムを提供することができる。 According to the present invention, it is possible to prevent delamination of the multilayer film when peeling off the release film before molding, while improving the shape retention before molding, the shapeability during molding, and the conformability to the mold. It is possible to provide a film that can be
以下、本発明の実施形態について説明するが、本発明はその要旨を超えない限り、以下に説明する実施形態に限定されるものではない。
なお、フィルムとシートとの境界は定かではないため、本発明において、フィルムはシートを包含するものとする。
Embodiments of the present invention will be described below, but the present invention is not limited to the embodiments described below as long as the gist of the present invention is not exceeded.
In addition, since the boundary between a film and a sheet is not clear, in the present invention, the film includes the sheet.
[フィルム]
本発明のフィルム(以下、本フィルムともいう)の一態様は、硬化性のシリコーン層(A)の少なくとも片面に、シリコーン層(B)を備え、測定温度20℃、周波数10Hzでの貯蔵弾性率E’が0.1MPa~500MPaの粘弾性特性を有し、該シリコーン層(A)とシリコーン層(B)の層間の少なくとも一つの面の算術平均高さ(Sa)が500~4000nmである。算術平均高さ(Sa)が、500nm以上であると、シリコーン層(A)とシリコーン層(B)の層間剥離を防止することができる。一方、4000nm以下であるとフィルム外観が損なわれることがない。以上の観点から、層間の少なくとも一つの面の算術平均高さは、600~3500nmの範囲であることが好ましく、700~3000nmの範囲であることがさらに好ましく、800~2500nmの範囲であることが特に好ましい。
なお、ここで、シリコーン層(A)とシリコーン層(B)の層間の少なくとも一つの面とは、シリコーン層(A)のシリコーン層(B)と相対する側の面またはシリコーン層(B)のシリコーン層(A)と相対する側の面のことをいう。
本発明のフィルムは、同種のシリコーン層が積層されてなり、かつ上述のように、算術平均高さ(Sa)が上記範囲であることにより、シリコーン層(A)とシリコーン層(B)の層間密着性が極めて良好となる。
本発明においては、シリコーン層(A)とシリコーン層(B)の層間の少なくとも一つの面が、上記範囲内にあればよいが、シリコーン層(A)は硬化性でありその面の形状も変化しやすいため、シリコーン層(B)の面が上記範囲にあることが好ましい。
[the film]
One aspect of the film of the present invention (hereinafter also referred to as the present film) is provided with a silicone layer (B) on at least one side of a curable silicone layer (A), and a storage modulus at a measurement temperature of 20 ° C. and a frequency of 10 Hz. E′ has viscoelastic properties of 0.1 MPa to 500 MPa, and the arithmetic mean height (Sa) of at least one plane between the silicone layer (A) and the silicone layer (B) is 500 to 4000 nm. When the arithmetic mean height (Sa) is 500 nm or more, delamination between the silicone layer (A) and the silicone layer (B) can be prevented. On the other hand, when it is 4000 nm or less, the appearance of the film is not impaired. From the above viewpoints, the arithmetic mean height of at least one plane between the layers is preferably in the range of 600 to 3500 nm, more preferably in the range of 700 to 3000 nm, and more preferably in the range of 800 to 2500 nm. Especially preferred.
Here, at least one surface between the silicone layer (A) and the silicone layer (B) refers to the surface of the silicone layer (A) facing the silicone layer (B) or the surface of the silicone layer (B). It refers to the side facing the silicone layer (A).
The film of the present invention is formed by laminating the same type of silicone layers, and as described above, the arithmetic mean height (Sa) is within the above range, so that the interlayer thickness between the silicone layer (A) and the silicone layer (B) is Adhesion becomes extremely good.
In the present invention, it is sufficient that at least one surface between the silicone layer (A) and the silicone layer (B) is within the above range, but the silicone layer (A) is curable and the shape of the surface can be changed. It is preferable that the surface of the silicone layer (B) is within the above range.
本フィルムは、シリコーン層(A)の両面にシリコーン層(B)を有していてもよく、シリコーン層(A)が中間層となり、2つのシリコーン層(B)が表裏層を形成してもよい。この場合には、少なくとも一方の層間において、いずれかの面の算術平均高さ(Sa)が上記範囲であればよいが、両方の層間において、いずれかの面の算術平均高さ(Sa)が上記範囲であることが好ましい。
硬化性のシリコーン層(A)は、1層からなってもよいし、2層以上からなってもよいが、1層からなることが好ましい。したがって、本フィルムは、最表層/中間層/最裏層の3層構造を有してもよく、また、最表層/中間層/中間層/最裏層などの最表裏層の間に2層以上の中間層を有する4層以上の構造を有してもよい。
また、本フィルムは、上記算術平均高さ(Sa)の効果を阻害しないことを条件に、シリコーン層(A)とシリコーン層(B)の間に、これら層間の接着性を向上させるための接着層などの他の層が設けられてもよい。また、上述の4層構成の場合には、中間層と中間層の間(シリコーン層(A)とシリコーン層(A)の間)にも接着層などの他の層が設けられてもよい。
The film may have a silicone layer (B) on both sides of the silicone layer (A). good. In this case, the arithmetic mean height (Sa) of any plane between at least one layer may be within the above range, but between both layers, the arithmetic mean height (Sa) of any plane The above range is preferred.
The curable silicone layer (A) may consist of one layer or two or more layers, but preferably consists of one layer. Therefore, the present film may have a three-layer structure of outermost layer/intermediate layer/backermost layer, or two layers between outermost and innermost layers such as outermost layer/intermediate layer/intermediate layer/backmost layer. It may have a structure of four or more layers having the above intermediate layers.
In addition, on the condition that the effect of the above arithmetic mean height (Sa) is not impaired, the present film has an adhesive layer between the silicone layer (A) and the silicone layer (B) for improving the adhesion between these layers. Other layers, such as layers, may be provided. In the case of the four-layer structure described above, another layer such as an adhesive layer may be provided between intermediate layers (between silicone layers (A) and silicone layers (A)).
上記した、シリコーン層(A)とシリコーン層(B)の層間の算術平均高さ(Sa)が500~4000nmである面について、二乗平均平方根高さ(Sq)は500~5000nmであることが好ましい。二乗平均平方根高さ(Sq)が、500nm以上であると、シリコーン層(A)とシリコーン層(B)の層間剥離をより防止することができる。一方、5000nm以下であるとフィルム外観が損なわれることがない。以上の観点から、層間の少なくとも一つの面の算術平均高さは、600~4500nmの範囲であることがより好ましく、800~4000nmの範囲であることがさらに好ましく、1000~3500nmの範囲であることが特に好ましい。 The root mean square height (Sq) is preferably 500 to 5000 nm for the surface having an interlayer arithmetic mean height (Sa) of 500 to 4000 nm between the silicone layer (A) and the silicone layer (B). . When the root-mean-square height (Sq) is 500 nm or more, delamination between the silicone layer (A) and the silicone layer (B) can be further prevented. On the other hand, when it is 5000 nm or less, the appearance of the film is not impaired. From the above viewpoints, the arithmetic mean height of at least one plane between the layers is more preferably in the range of 600 to 4500 nm, more preferably in the range of 800 to 4000 nm, even more preferably in the range of 1000 to 3500 nm. is particularly preferred.
本発明のシリコーン層(A)は、硬化性のシリコーン層であり、本フィルムは成形前においては一定の柔軟性が確保されるとともに、賦形成形時に十分に硬化されるので、賦形性が良好となり、かつ型への追従性も良好となる。
さらに、本フィルムは、比較的硬いシリコーン層(B)を備え、好適には、測定温度20℃、周波数10Hzでの貯蔵弾性率E’が0.1MPa~500MPaの粘弾性特性を有することから、柔軟なシリコーン層が適切に保持され、本フィルムに離型フィルムなどを積層しなくても、成形前の形状保持性が良好となり、ハンドリング性が良好となる。
特にシリコーン層(A)を中間層として、両表面に、比較的硬い最表裏層(シリコーン層(B))が設けられる態様は、さらに好適であり、本フィルムは、離型フィルムを積層しなくても容易に型にセットして賦形成形することができ、賦形成形後に離型フィルムを剥がす工程を省略することができる。
The silicone layer (A) of the present invention is a curable silicone layer, and the film maintains a certain degree of flexibility before molding, and is sufficiently cured during shaping, so that it has good shaping properties. In addition, the conformability to the mold is also improved.
Furthermore, the present film comprises a relatively hard silicone layer (B), and preferably has viscoelastic properties with a storage elastic modulus E′ of 0.1 MPa to 500 MPa at a measurement temperature of 20° C. and a frequency of 10 Hz. The flexible silicone layer is properly retained, and even without laminating a release film or the like on the film, the shape retainability before molding is improved, and the handleability is improved.
In particular, an aspect in which a silicone layer (A) is used as an intermediate layer and a relatively hard outermost and back layer (silicone layer (B)) is provided on both surfaces is more preferable, and the present film does not laminate a release film. It can be easily set in a mold and shaped, and the step of peeling off the release film after the shaping can be omitted.
本発明の他のシリコーン層(B)は、硬化性のシリコーン層(A)の片側にあるシリコーン層である。シリコーン層(B)は硬化性、若しくは、硬化されたシリコーン層である。上述したように、シリコーン層(A)は硬化性でありシリコーン層(B)よりも面形状が変化しやすいため、シリコーン層(B)の算術平均高さ(Sa)が500~4000nmであることが好ましい。 Another silicone layer (B) of the present invention is a silicone layer on one side of the curable silicone layer (A). The silicone layer (B) is a curable or cured silicone layer. As described above, the silicone layer (A) is curable and its surface shape is more easily changed than the silicone layer (B). is preferred.
また、本フィルムの最表面の算術平均高さ(Sa)は、500~4000nmであることが好ましい。本フィルムの最表面の算術平均高さ(Sa)が、500nm以上であると、本フィルムを金型に挟んでプレス成形をした後に、本フィルムを金型から取り出す際に、本フィルムが金型に貼りつかず取り出すことがしやすくなる。一方、4000nm以下であるとフィルム外観が損なわれることがない。以上の観点から、本フィルムの最表面のシリコーン層(B)の算術平均高さは、600~3500nmの範囲であることが好ましく、700~3000nmの範囲であることがさらに好ましく、800~2500nmの範囲であることが特に好ましい。 Further, the arithmetic average height (Sa) of the outermost surface of the film is preferably 500 to 4000 nm. When the arithmetic average height (Sa) of the outermost surface of the film is 500 nm or more, the film is removed from the mold after press molding with the film sandwiched between molds. It becomes easy to take out without sticking to. On the other hand, when it is 4000 nm or less, the appearance of the film is not impaired. From the above viewpoints, the arithmetic mean height of the silicone layer (B) on the outermost surface of the present film is preferably in the range of 600 to 3500 nm, more preferably in the range of 700 to 3000 nm, and more preferably in the range of 800 to 2500 nm. A range is particularly preferred.
(ゲル分率)
本フィルムは、ゲル分率が90%以下であるのが好ましい。本フィルムのゲル分率が90%以下であると、成形前のフィルムを柔軟にすることが容易になり、また、成形時に十分に硬化するので、賦形性や型への追従性が十分となり、成型性が向上する。
賦形性及び成型性の観点から、本フィルムのゲル分率は、80%以下が好ましく、75%以下がより好ましく、70%以下がさらに好ましい。シリコーン層(A)のゲル分率は、特に限定されず、0%以上であればよいが、例えば10%以上であってもよいし、20%以上であってもよい。
(Gel fraction)
The film preferably has a gel fraction of 90% or less. When the gel fraction of the present film is 90% or less, it becomes easy to make the film flexible before molding, and the film is sufficiently hardened during molding, so that shapeability and conformability to molds are sufficient. , the moldability is improved.
From the viewpoint of formability and moldability, the gel fraction of the present film is preferably 80% or less, more preferably 75% or less, and even more preferably 70% or less. The gel fraction of the silicone layer (A) is not particularly limited, and may be 0% or more, but may be, for example, 10% or more, or may be 20% or more.
本フィルムにおいて、シリコーン層(B)のゲル分率は80%以上であるのが好ましい。シリコーン層(B)のゲル分率が80%以上であると、フィルム硬化前においてもシリコーン層(B)を比較的硬くでき、成形前の形状保持性をより向上させることができ、かつ型への貼り付きも防止しやすくなる。
以上の観点から、シリコーン層(B)のゲル分率は、85%以上であることがより好ましく、90%以上であることがさらに好ましい。シリコーン層(B)のゲル分率は、上限に関して特に限定されず、100%以下であればよいが、一般的には100%より低く、例えば、99%以下であってもよい。
なお、シリコーン層(A)を中間層とし、シリコーン層(B)を最表裏層(すなわち、最表層及び最裏層)とする3層のフィルムの場合、最表裏層のゲル分率は、互いに同じであってもよいし、異なっていてもよい。
In this film, the gel fraction of the silicone layer (B) is preferably 80% or more. When the gel fraction of the silicone layer (B) is 80% or more, the silicone layer (B) can be relatively hard even before the film is cured, and the shape retention property before molding can be further improved. sticking can be easily prevented.
From the above viewpoints, the gel fraction of the silicone layer (B) is more preferably 85% or more, more preferably 90% or more. The upper limit of the gel fraction of the silicone layer (B) is not particularly limited, and may be 100% or less, but generally lower than 100%, for example, 99% or less.
In the case of a three-layer film in which the silicone layer (A) is the intermediate layer and the silicone layer (B) is the outermost layer and the innermost layer (that is, the outermost layer and the innermost layer), the gel fractions of the outermost and innermost layers are different from each other. They may be the same or different.
なお、ゲル分率は、以下の要領で測定できる。
1)本フィルム全体、フィルムのシリコーン層(A)、シリコーン層(B)からサンプルを約100mg採取して、そのサンプル質量(a)を測定する。
2)採取したサンプルをクロロホルムに23℃の条件で24時間浸漬する。
3)クロロホルム中の固形分を取り出し、50℃で7時間真空乾燥する。
4)乾燥後の固形分の質量(b)を測定する。
5)質量(a)、(b)を用いて、以下の式(i)に基づいてゲル分率を算出する。
In addition, the gel fraction can be measured in the following manner.
1) About 100 mg of a sample is collected from the entire film, the silicone layer (A) and the silicone layer (B) of the film, and the mass (a) of the sample is measured.
2) The collected sample is immersed in chloroform at 23° C. for 24 hours.
3) Remove the solid content in chloroform and vacuum dry at 50°C for 7 hours.
4) Measure the mass (b) of the solid content after drying.
5) Using the masses (a) and (b), calculate the gel fraction based on the following formula (i).
上記測定方法から明らかなように、ゲル分率は、フィルムに含まれる架橋成分のみならず、充填材などの架橋成分以外の不溶解分もゲル分として含めて算出される。
ただし、硬化前の本フィルムの中間層については、硬化前の本フィルム全体及び最表裏層のゲル分率と、層厚みの比から計算することで求めるものとする。
As is clear from the above measurement method, the gel fraction is calculated by including not only the crosslinked component contained in the film but also the insoluble content other than the crosslinked component such as the filler.
However, the intermediate layer of the film before curing is obtained by calculating from the ratio of the gel fraction of the entire film before curing and the outermost layer and the thickness of the layer.
(粘弾性特性)
本フィルムは、下記(a)の粘弾性特性を有する。
(a)測定温度20℃、周波数10Hzでの貯蔵弾性率E’が0.1MPa~500MPa。
貯蔵弾性率E’が0.1MPa以上であると、本フィルムは、その全体で一定の硬さを有することで離形フィルムからの剥離が容易になり、剥離時の破れ発生の懸念が小さくなる。また、離型フィルムがなくても成形前の形状保持性を高くしやすくなり、かつ、成形後の型への貼り付きも防止しやすくなる。また、本フィルムは、上記貯蔵弾性率E’を500MPa以下とすることで、一定の柔軟性を確保でき、成形時の型への追従性や賦形性を良好にできる。これら観点から、本フィルムの貯蔵弾性率E’は、0.5MPa以上であることがより好ましく、0.8MPa以上であることがさらに好ましく、1MPa以上であることがよりさらに好ましい。また300MPa以下であることがより好ましく、200MPa以下であることがさらに好ましく、100MPa以下であることがさらに好ましく、50MPa以下であるのが特に好ましい。
(Viscoelastic properties)
This film has the following viscoelastic properties of (a).
(a) Storage elastic modulus E′ at a measurement temperature of 20° C. and a frequency of 10 Hz is 0.1 MPa to 500 MPa.
When the storage elastic modulus E′ is 0.1 MPa or more, the present film has a constant hardness as a whole, so that it can be easily peeled off from the release film, and there is less concern about breakage during peeling. . In addition, even without a release film, it becomes easy to improve the shape retention property before molding, and it becomes easy to prevent sticking to the mold after molding. Further, by setting the storage elastic modulus E′ of the present film to 500 MPa or less, the film can ensure a certain degree of flexibility, and can improve mold followability and formability during molding. From these points of view, the storage elastic modulus E′ of the present film is more preferably 0.5 MPa or more, even more preferably 0.8 MPa or more, and even more preferably 1 MPa or more. Further, it is more preferably 300 MPa or less, further preferably 200 MPa or less, further preferably 100 MPa or less, and particularly preferably 50 MPa or less.
また、本フィルムにおけるシリコーン層(B)は、下記(b)の粘弾性特性を有することが好ましい。
(b)測定温度20℃、周波数10Hzでの貯蔵弾性率E’が0.1MPa~500MPa。
シリコーン層(B)の貯蔵弾性率E’が0.1MPa以上であると、離型フィルムがなくても形状保持性を高くしやすくなる。また、貯蔵弾性率E’を500MPa以下とすることで、一定の柔軟性を確保でき、成形時の型への追従性や賦形性を良好にできる。これら観点から、本フィルムの貯蔵弾性率E’は、0.5MPa以上であることがより好ましく、0.8MPa以上であることがさらに好ましく、1MPa以上であることがよりさらに好ましい。また300MPa以下であることがより好ましく、200MPa以下であることがさらに好ましく、100MPa以下であることがさらに好ましく、50MPa以下であるのが特に好ましい。
In addition, the silicone layer (B) in the present film preferably has the following viscoelasticity (b).
(b) Storage elastic modulus E′ at a measurement temperature of 20° C. and a frequency of 10 Hz is 0.1 MPa to 500 MPa.
When the storage elastic modulus E' of the silicone layer (B) is 0.1 MPa or more, it becomes easy to improve the shape retention even without a release film. In addition, by setting the storage elastic modulus E′ to 500 MPa or less, a certain degree of flexibility can be secured, and good conformability to molds and shapeability during molding can be achieved. From these points of view, the storage elastic modulus E′ of the present film is more preferably 0.5 MPa or more, even more preferably 0.8 MPa or more, and even more preferably 1 MPa or more. Further, it is more preferably 300 MPa or less, further preferably 200 MPa or less, further preferably 100 MPa or less, and particularly preferably 50 MPa or less.
また、本フィルムは、硬化後の状態で、下記(c)~(e)の粘弾性特性を有することが好ましい。
(c)測定温度20℃、周波数10Hzでの貯蔵弾性率E’20が0.1MPa以上500MPa以下。
(d)測定温度100℃、周波数10Hzでの貯蔵弾性率E’100が0.1MPa以上500MPa以下。
(e)前記貯蔵弾性率E’20に対する、前記貯蔵弾性率E’100の比(E’100/E’20)が0.4以上1.0以下。
In addition, the film preferably has the following viscoelastic properties (c) to (e) after curing.
(c) Storage elastic modulus E′20 at a measurement temperature of 20° C. and a frequency of 10 Hz is 0.1 MPa or more and 500 MPa or less.
(d) Storage modulus E′100 at a measurement temperature of 100° C. and a frequency of 10 Hz is 0.1 MPa or more and 500 MPa or less.
(e) The ratio of the storage modulus E'100 to the storage modulus E'20 ( E'100 / E'20 ) is 0.4 or more and 1.0 or less.
本フィルムは、上記(c)の粘弾性特性を有することで、振動フィルムなどの音響部材に使用するときに、音質及び再生性などの音響特性が優れる傾向となる。音響特性及び硬化後のハンドリング性の観点から、硬化後の20℃での貯蔵弾性率E’20は、1MPa以上がより好ましく、2MPa以上がさらに好ましく、4MPa以上がよりさらに好ましく、また、400MPa以下がより好ましく、300MPa以下がさらに好ましく、200MPa以下がよりさらに好ましく、100MPa以下が特に好ましく、50MPa以下が最も好ましい。 Since the present film has the viscoelastic properties of (c) above, it tends to have excellent acoustic properties such as sound quality and reproducibility when used as an acoustic member such as a vibration film. From the viewpoint of acoustic properties and handling properties after curing, the storage elastic modulus E'20 at 20°C after curing is more preferably 1 MPa or more, more preferably 2 MPa or more, even more preferably 4 MPa or more, and 400 MPa or less. is more preferably 300 MPa or less, even more preferably 200 MPa or less, particularly preferably 100 MPa or less, and most preferably 50 MPa or less.
本フィルムは、上記(d)の粘弾性特性を有することで、耐熱性が良好となり、高温環境下でも、優れた音響特性が得られることが期待される。
貯蔵弾性率E’100は、1MPa以上がより好ましく、1.5MPa以上がさらに好ましく、2.5MPa以上がよりさらに好ましく、また、400MPa以下がより好ましく、300MPa以下がさらに好ましく、200MPa以下がよりさらに好ましく、100MPa以下が特に好ましく、50MPa以下が最も好ましい。
By having the viscoelastic properties of (d), the present film is expected to have good heat resistance and to obtain excellent acoustic properties even in a high-temperature environment.
The storage modulus E'100 is more preferably 1 MPa or more, more preferably 1.5 MPa or more, still more preferably 2.5 MPa or more, more preferably 400 MPa or less, still more preferably 300 MPa or less, and even more preferably 200 MPa or less. 100 MPa or less is particularly preferred, and 50 MPa or less is most preferred.
また、本フィルムは、上記(e)の粘弾性特性を有することで、温度変化に伴う弾性率変化が小さくなり、耐熱性が良好となる傾向にある。また、加熱した際の弾性率変化が小さいため、高温環境下における音質が低下しにくくなり、低温域から高温域まで音の再生性を優れたものにしやすくなる。
上記比(E’100/E’20)は、0.5以上であることがより好ましく、0.6以上であることがさらに好ましく、0.65以上であることがよりさらに好ましい。、また、0.99以下であることがより好ましく、0.97以下がさらに好ましく、0.95以下であることがよりさらに好ましく、0.93以下であることが特に好ましい。
In addition, since the present film has the above viscoelastic property (e), the change in elastic modulus due to temperature change is small, and the heat resistance tends to be good. In addition, since the change in elastic modulus when heated is small, the sound quality is less likely to deteriorate in a high-temperature environment, making it easier to achieve excellent sound reproduction from low temperature ranges to high temperature ranges.
The ratio (E' 100 /E' 20 ) is more preferably 0.5 or more, still more preferably 0.6 or more, and even more preferably 0.65 or more. Also, it is more preferably 0.99 or less, still more preferably 0.97 or less, even more preferably 0.95 or less, and particularly preferably 0.93 or less.
(耐剥離性)
本発明のフィルムのもう一つの態様は、硬化性のシリコーン層(A)の少なくとも片面に、シリコーン層(B)を備え、測定温度20℃、周波数10Hzでの貯蔵弾性率E’が0.1MPa~500MPaの粘弾性特性を有し、該シリコーン層(A)とシリコーン層(B)の層間剥離強度が0.5N/5cm以上である。
本フィルムは、シリコーン層(A)とシリコーン層(B)の層間の面同士が特定の凹凸構造を有するため、層間での耐剥離性も良好となるものである。具体的には、シリコーン層(A)とシリコーン層(B)の層間剥離強度が0.5N/5cm以上であることが好ましく、1N/5cm以上であることがより好ましく、2N/5cm以上であることがさらに好ましい。層間剥離強度が0.5N/5cm以上であると、シリコーン層(A)とシリコーン層(B)の層間剥離が生じず、取り扱い性が向上する。特に、成形前に離型フィルムを剥がす際に多層フィルムの層間剥離を防ぐことができる。なお、上限値については、制限はない。剥離しようとする際に層間剥離ではなく凝集破壊を生じても構わない。
また、層間剥離強度は実施例に記載の方法により測定することができる。
(Peeling resistance)
Another embodiment of the film of the present invention comprises a silicone layer (B) on at least one side of the curable silicone layer (A), and has a storage modulus E′ of 0.1 MPa at a measurement temperature of 20° C. and a frequency of 10 Hz. It has viscoelastic properties of up to 500 MPa, and the delamination strength between the silicone layer (A) and the silicone layer (B) is 0.5 N/5 cm or more.
In the present film, since the surfaces between the silicone layer (A) and the silicone layer (B) have a specific concave-convex structure, the separation resistance between the layers is also good. Specifically, the delamination strength between the silicone layer (A) and the silicone layer (B) is preferably 0.5 N/5 cm or more, more preferably 1 N/5 cm or more, and 2 N/5 cm or more. is more preferred. When the delamination strength is 0.5 N/5 cm or more, delamination between the silicone layer (A) and the silicone layer (B) does not occur, improving handleability. In particular, delamination of the multilayer film can be prevented when the release film is peeled off before molding. Note that there is no limit to the upper limit. Cohesive failure may occur instead of delamination when trying to peel.
Also, the delamination strength can be measured by the method described in Examples.
本フィルムは、硬化性のシリコーン層(A)を有することにより硬化性を有する。本フィルムは、光硬化性、湿気硬化性、熱硬化性のいずれでもよいが、熱硬化性を有することが好ましい。本フィルムは、熱硬化性を有することで、加熱しながら賦形成形する際に硬化させることができるので、賦形性がより一層良好となる。なお、本フィルムは、熱硬化性を有すると、加熱されることでそのゲル分率が上昇するものである。また、本フィルムは、少なくとも中間層が熱硬化性を有すればよいが、最表裏層も適宜熱硬化性を有してもよい。 This film has curability by having a curable silicone layer (A). The film may be photo-curing, moisture-curing, or thermosetting, but thermosetting is preferred. Since the present film has thermosetting properties, it can be cured when it is shaped while being heated, so that the shapeability is further improved. In addition, when this film has a thermosetting property, its gel fraction is increased by being heated. In the present film, at least the intermediate layer should have thermosetting properties, but the outermost and back layers may also have thermosetting properties as appropriate.
本フィルムにおいては、シリコーン層(B)が架橋構造を有することが好ましい。シリコーン層(B)が、架橋構造を有することで、硬化前(すなわち、成形前)における形状保持性が向上しやすくなる。また、本フィルムは、シリコーン層(B)が最表裏層を構成することが好ましく、したがって、最表裏層が架橋構造を有することが好ましい。最表裏層が架橋構造を有することで、硬化前において、フィルムの柔軟性を大きく損なうことなく形状保持性を向上させやすくなる。また、最表裏層が架橋構造を有することで、最表裏層のゲル分率を上記した所望の範囲内に調整しやすくなる。 In this film, the silicone layer (B) preferably has a crosslinked structure. Having a crosslinked structure in the silicone layer (B) facilitates improvement in shape retention before curing (that is, before molding). In the present film, the silicone layer (B) preferably constitutes the outermost and backing layers, and therefore the outermost and backing layers preferably have a crosslinked structure. By having the crosslinked structure in the outermost and back layers, it becomes easy to improve the shape retainability of the film without significantly impairing the flexibility of the film before curing. Moreover, since the outermost and back layers have a crosslinked structure, it becomes easier to adjust the gel fraction of the outermost and back layers within the desired range described above.
本フィルムの厚みは、特に限定されないが、5μm以上500μm以下が好ましく、15μm以上400μm以下がより好ましく、30μm以上300μm以下がさらに好ましい。フィルムの厚みがかかる範囲であれば、音響部材、特に振動板に適した厚みの成形品を製造できる。 The thickness of the present film is not particularly limited, but is preferably 5 μm or more and 500 μm or less, more preferably 15 μm or more and 400 μm or less, and even more preferably 30 μm or more and 300 μm or less. If the thickness of the film is within such a range, it is possible to manufacture a molded article having a thickness suitable for acoustic members, particularly diaphragms.
本フィルムが3層以上の多層フィルムの場合に、中間層の厚みは、特に限定されないが、3μm以上300μm以下であることが好ましく、5μm以上200μm以下であることがより好ましく、20μm以上150μm以下であることがさらに好ましい。中間層の厚みを上記下限値以上とすることで、本フィルム中に一定の厚み以上で柔軟性が高い未硬化の部分が設けられることになるので、賦形性が高くなり、成形時の型への追従性も向上しやすくなる。また、上記上限値以下とすることで、柔軟性が高い部分が必要以上に厚くなることを防止して、成形前の形状保持性を向上させやすくなる。なお、中間層の厚みとは、中間層が2層以上あるときはその合計厚みである。 When the present film is a multilayer film having three or more layers, the thickness of the intermediate layer is not particularly limited, but is preferably 3 μm or more and 300 μm or less, more preferably 5 μm or more and 200 μm or less, and 20 μm or more and 150 μm or less. It is even more preferable to have By setting the thickness of the intermediate layer to the above lower limit or more, an uncured portion having a certain thickness or more and high flexibility is provided in the film. It becomes easy to improve followability to. In addition, by making the thickness equal to or less than the above upper limit, it is possible to prevent the portion having high flexibility from becoming thicker than necessary, thereby making it easier to improve the shape retainability before molding. The thickness of the intermediate layer is the total thickness when there are two or more intermediate layers.
また、中間層の厚みのフィルム全体の厚みに対する比(中間層/フィルム全体)は、4/10以上であることが好ましく、5/10以上がより好ましく、6/10以上がさらに好ましい。厚みの比(中間層/フィルム全体)を上記下限値以上とすることで、フィルム中に一定以上の割合で柔軟性が高い部分が設けられることになるので、賦形性及び成形時の型への追従性を向上させやすくなる。また、上記厚みの比(中間層/フィルム全体)は、9.8/10以下が好ましい。厚みの比(中間層/フィルム全体)を上記上限値以下とすることで、最表裏層を一定以上の厚みとしやすくなる。 Also, the ratio of the thickness of the intermediate layer to the thickness of the entire film (intermediate layer/entire film) is preferably 4/10 or more, more preferably 5/10 or more, and even more preferably 6/10 or more. By setting the thickness ratio (intermediate layer/entire film) to the above lower limit or more, a portion with high flexibility is provided in the film at a certain rate or more. It becomes easier to improve the followability of The thickness ratio (intermediate layer/whole film) is preferably 9.8/10 or less. By setting the thickness ratio (intermediate layer/entire film) to the above upper limit value or less, it becomes easier to make the thickness of the outermost layer and back layer greater than or equal to a certain value.
最表裏層それぞれの厚みは、特に限定されないが、1μm以上150μm以下であることが好ましく、1μm以上60μm以下であることがより好ましく、1μm以上30μm以下であることがさらに好ましい。最表裏層それぞれの厚みを上記下限値以上とすることで、成形前の形状保持性を良好にでき、かつ型への貼り付きも防止しやすくなる。また、上記上限値以下とすることで、一定の硬さ以上の部分が必要以上に厚くなることを防止して、賦形性及び成形時の型への追従性を向上させやすくなる。 The thickness of each of the outermost and back layers is not particularly limited, but is preferably 1 μm or more and 150 μm or less, more preferably 1 μm or more and 60 μm or less, and even more preferably 1 μm or more and 30 μm or less. By making the thickness of each of the outermost and backing layers equal to or greater than the above lower limit, the shape retention property before molding can be improved, and sticking to the mold can be easily prevented. Further, by making the thickness equal to or less than the above upper limit, it is possible to prevent the portion having a certain hardness or more from becoming thicker than necessary, and it becomes easy to improve the shapeability and the conformability to the mold at the time of molding.
最表裏層それぞれの厚みは、上記中間層の厚みより小さいとよく、最表裏層それぞれの厚みの中間層の厚みに対する比(各最表裏層/中間層)は、好ましくは1/50以上1未満である。最表裏層それぞれの厚みを中間層の厚みより小さくすると、フィルム中の柔軟性の高い部分が一定の厚み割合で含まれることになるので、賦形性及び成形時の型への追従性を向上させやすくなる。また、比(各最表裏層/中間層)を上記下限値以上とすると、成形前の形状保持性を向上させることができる。
これら観点から、比(各最表裏層/中間層)は、より好ましくは1/50以上3/5以下、さらに好ましくは1/5以上2/5以下である。
The thickness of each of the outermost and back layers is preferably smaller than the thickness of the intermediate layer, and the ratio of the thickness of each outermost and back layer to the thickness of the intermediate layer (each outermost and back layer/intermediate layer) is preferably 1/50 or more and less than 1. is. If the thickness of each of the top and bottom layers is smaller than the thickness of the intermediate layer, the highly flexible portion of the film will be included at a certain thickness ratio, improving shapeability and followability to the mold during molding. make it easier to Further, when the ratio (outermost and back layer/intermediate layer) is set to the above lower limit or more, the shape retainability before molding can be improved.
From these points of view, the ratio (outermost and back layers/intermediate layer) is more preferably 1/50 or more and 3/5 or less, further preferably 1/5 or more and 2/5 or less.
本フィルムの中間層及び最表裏層は、シリコーン層であり、シリコーン樹脂により構成される。また、シリコーン樹脂には、本発明の効果を阻害しない範囲で、他の樹脂を併用することもできる。他の樹脂としては、好ましくは硬化性樹脂であり、より好ましくは熱硬化性樹脂である。中でも、好ましい具体例としては、エポキシ樹脂、ウレタン樹脂、アクリル樹脂、フェノール樹脂、不飽和ポリエステル樹脂、ポリイミド樹脂、メラミン樹脂などが挙げられる。本フィルムの各層において、シリコーン樹脂に対して、これら樹脂を1種以上併用してもよい。 The intermediate layer and the outermost and back layers of this film are silicone layers and are made of silicone resin. Moreover, other resins can be used in combination with the silicone resin as long as the effects of the present invention are not impaired. The other resin is preferably a curable resin, more preferably a thermosetting resin. Among them, preferred specific examples include epoxy resin, urethane resin, acrylic resin, phenol resin, unsaturated polyester resin, polyimide resin, and melamine resin. One or more of these resins may be used in combination with the silicone resin in each layer of the film.
本フィルムは、シリコーンフィルムで構成されるため、耐熱性、機械強度などが良好となり、上記した粘弾性特性(a)~(e)も充足しやすくなる。また、層間剥離強度も上記した所望の範囲内に調整しやすくなる。 Since the present film is composed of a silicone film, it has good heat resistance and mechanical strength, and easily satisfies the viscoelastic properties (a) to (e) described above. In addition, it becomes easier to adjust the delamination strength within the above-described desired range.
(オルガノポリシロキサン)
シリコーン層(A)および(B)に使用されるシリコーン樹脂としては、オルガノポリシロキサンが挙げられる。
オルガノポリシロキサンは、例えば、以下の式(ii)で表される構造を有する。
RnSiO(4-n)/2 ・・・(ii)
ここで、Rは同一又は異なっていてもよい、置換又は非置換の一価炭化水素基、好ましくは炭素原子数1~12、より好ましくは炭素原子数1~8の一価炭化水素基、nは1.95~2.05の正の数である。
(organopolysiloxane)
Silicone resins used in silicone layers (A) and (B) include organopolysiloxanes.
Organopolysiloxane has, for example, a structure represented by the following formula (ii).
RnSiO (4-n)/2 (ii)
Here, R may be the same or different, a substituted or unsubstituted monovalent hydrocarbon group, preferably a monovalent hydrocarbon group having 1 to 12 carbon atoms, more preferably a monovalent hydrocarbon group having 1 to 8 carbon atoms, n is a positive number between 1.95 and 2.05.
Rは、例えばメチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、ヘキシル基、及びドデシル基等のアルキル基、シクロヘキシル基等のシクロアルキル基、ビニル基、アリル基、ブテニル基、及びヘキセニル基等のアルケニル基、フェニル基、及びトリル基等のアリル基、β-フェニルプロピル基等のアラルキル基、並びにこれらの基の炭素原子に結合した水素原子の一部又は全部をハロゲン原子又はシアノ基等で置換したクロロメチル基、トリフルオロプロピル基、及びシアノエチル基等が挙げられる。 R is, for example, an alkyl group such as a methyl group, an ethyl group, a propyl group, a butyl group, a hexyl group and a dodecyl group; a cycloalkyl group such as a cyclohexyl group; an alkenyl group such as a vinyl group, an allyl group, a butenyl group and a hexenyl group; aryl groups such as phenyl group and tolyl group, aralkyl groups such as β-phenylpropyl group, and some or all of the hydrogen atoms bonded to the carbon atoms of these groups are substituted with halogen atoms, cyano groups, etc. chloromethyl group, trifluoropropyl group, cyanoethyl group and the like.
オルガノポリシロキサンは、分子鎖末端がトリメチルシリル基、ジメチルビニル基、ジメチルヒドロキシシリル基、トリビニルシリル基等で封鎖されていることも好ましい。また、オルガノポリシロキサンは、分子中に少なくとも2個のアルケニル基を有することが好ましい。具体的には、Rのうち0.001モル%以上、5モル%以下、好ましくは0.005モル%以上、3モル%以下、より好ましくは0.01モル%以上、1モル%以下、特に0.02モル%以上、0.5モル%以下のアルケニル基を有することが好ましく、特にビニル基を有することが最適である。オルガノポリシロキサンは、基本的には直鎖状のジオルガノポリシロキサンであるが、一部分岐していてもよい。また、分子構造の異なる2種、又はそれ以上の混合物でもよい。 It is also preferred that the organopolysiloxane has a molecular chain end blocked with a trimethylsilyl group, a dimethylvinyl group, a dimethylhydroxysilyl group, a trivinylsilyl group, or the like. Also, the organopolysiloxane preferably has at least two alkenyl groups in the molecule. Specifically, in R, 0.001 mol% or more and 5 mol% or less, preferably 0.005 mol% or more and 3 mol% or less, more preferably 0.01 mol% or more and 1 mol% or less, especially It preferably contains 0.02 mol % or more and 0.5 mol % or less of alkenyl groups, and most preferably contains vinyl groups. Organopolysiloxane is basically linear diorganopolysiloxane, but may be partially branched. A mixture of two or more different molecular structures may also be used.
最表裏層(シリコーン層(B))においてオルガノポリシロキサンは、架橋剤などによって架橋されているとよく、好ましくは有機過酸化物によって架橋される。したがって、最表裏層それぞれは、オルガノポリシロキサンと有機過酸化物などの架橋剤とを備える樹脂組成物を硬化した硬化物であることが好ましい。この際、最表裏層は、ゲル分率が上記した所望の範囲内となるように硬化させるとよい。したがって、最表裏層に配合される有機過酸化物は、殆ど分解されており、有機過酸化物は、最表裏層それぞれに含有されないか、もしくは含有されていても少量である。 The organopolysiloxane in the outermost and back layers (silicone layer (B)) is preferably crosslinked with a crosslinking agent or the like, preferably with an organic peroxide. Therefore, each of the top and bottom layers is preferably a cured product obtained by curing a resin composition comprising an organopolysiloxane and a cross-linking agent such as an organic peroxide. At this time, the top and bottom layers are preferably cured so that the gel fraction is within the above desired range. Therefore, most of the organic peroxide blended in the top and bottom layers is decomposed, and the organic peroxide is not contained in each of the top and bottom layers, or is contained in a small amount.
一方で、中間層(シリコーン層(A))において、オルガノポリシロキサンは、未架橋状態であるか、架橋されても部分的に架橋された状態であるとよい。したがって、中間層は、オルガノポリシロキサンと有機過酸化物などの架橋剤とを備える樹脂組成物からなることが好ましいが、この際、中間層は、ゲル分率が上記した所望の範囲内となるように、未硬化であるか硬化していても半硬化の状態であるとよい。したがって、中間層に配合される有機過酸化物は、殆ど分解せずに有機過酸化物の状態のまま中間層に含有されているとよい。 On the other hand, in the intermediate layer (silicone layer (A)), the organopolysiloxane is preferably in an uncrosslinked state or in a partially crosslinked state even if crosslinked. Therefore, the intermediate layer is preferably made of a resin composition comprising an organopolysiloxane and a cross-linking agent such as an organic peroxide. In this case, the intermediate layer has a gel fraction within the above desired range. , it may be uncured, or even if it is cured, it may be in a semi-cured state. Therefore, it is preferable that the organic peroxide blended in the intermediate layer is contained in the intermediate layer in the form of organic peroxide without being decomposed.
有機過酸化物としては、例えばジ-t-ブチルパーオキサイド、2,5-ジメチル-2,5-ジ(t-ブチルパーオキシ)ヘキサン、2,5-ジメチル-2,5-ビス(t-ブチルパーオキシ)ヘキサン等のアルキル過酸化物、2,4-ジクミルパーオキサイド等のアラルキル過酸化物等の有機過酸化物が挙げられるが、架橋速度や安全性の観点から、アルキル過酸化物、特に、2,5-ジメチル-2,5-ジ(t-ブチルパーオキシ)ヘキサンが好ましい。 Examples of organic peroxides include di-t-butyl peroxide, 2,5-dimethyl-2,5-di(t-butylperoxy)hexane, 2,5-dimethyl-2,5-bis(t- butylperoxy)hexane and other alkyl peroxides, and 2,4-dicumyl peroxide and other aralkyl peroxides. 2,5-dimethyl-2,5-di(t-butylperoxy)hexane is particularly preferred.
シリコーン層(A)およびシリコーン層(B)それぞれを形成する樹脂組成物における有機過酸化物の配合量は、樹脂組成物全量基準で、0.01質量%以上10質量%以下が好ましく、0.03質量%以上5質量%以下がより好ましく、0.05質量%以上4質量%以下が更に好ましく、0.1質量%以上3質量%以下が特に好ましく、0.3質量%以上2質量%以下がとりわけ好ましい。有機過酸化物の配合量がかかる範囲であれば、十分な硬化速度を有する組成物が安全に得られる傾向となる。なお、樹脂組成物に配合される有機過酸化物は、上記の通り、最表裏層においては、殆ど分解しており殆ど含有されないが、中間層においては上記した配合量の範囲で有機過酸化物が含有されるとよい。 The blending amount of the organic peroxide in the resin composition forming each of the silicone layer (A) and the silicone layer (B) is preferably 0.01% by mass or more and 10% by mass or less, based on the total amount of the resin composition. 03% by mass or more and 5% by mass or less is more preferable, 0.05% by mass or more and 4% by mass or less is even more preferable, 0.1% by mass or more and 3% by mass or less is particularly preferable, and 0.3% by mass or more and 2% by mass or less is particularly preferred. If the blending amount of the organic peroxide is within such a range, there is a tendency to safely obtain a composition having a sufficient curing speed. As described above, the organic peroxide blended in the resin composition is almost decomposed and hardly contained in the outermost and back layers. should be contained.
樹脂組成物は、オルガノポリシロキサンを含むミラブル型であることが好ましい。ミラブル型の樹脂組成物は、未硬化状態において、室温(25℃)で自己流動性がない非液状(例えば、固体状又はペースト状)ではあるが、後述する混練機によって均一に混合できる。本フィルムにおいて、ミラブル型の樹脂組成物を使用することで、後述するように、樹脂組成物を中間層、又は最表裏層に加工する際の生産性が良好となる。 The resin composition is preferably of a millable type containing organopolysiloxane. The millable resin composition in an uncured state is non-liquid (for example, solid or pasty) without self-fluidity at room temperature (25° C.), but can be uniformly mixed with a kneader to be described later. By using a millable type resin composition in the present film, as will be described later, productivity is improved when the resin composition is processed into the intermediate layer or the top and bottom layers.
また、上記では、中間層、最表裏層それぞれにおいて使用する樹脂組成物は、上記の通り、樹脂としてシリコーン樹脂(オルガノポリシロキサン)以外の樹脂を併用してもよく、その場合にも、最表裏層は、例えば、樹脂と架橋剤を含有する樹脂組成物を、ゲル分率が所望の範囲内となるように硬化してなる層であるとよい。また、中間層は、同様に樹脂と架橋剤を含有する樹脂組成物から形成されるとよいが、この際、樹脂組成物は、ゲル分率が上記した所定の範囲内となるように、未硬化、又は硬化していても半硬化の状態とするとよい。 In addition, in the above, the resin composition used in each of the intermediate layer and the outermost and back layers may be used in combination with a resin other than a silicone resin (organopolysiloxane) as described above. The layer may be, for example, a layer obtained by curing a resin composition containing a resin and a cross-linking agent so that the gel fraction is within a desired range. Similarly, the intermediate layer may be formed from a resin composition containing a resin and a cross-linking agent. It may be cured, or even if it is cured, it should be in a semi-cured state.
本発明のシリコーン層(A)およびシリコーン層(B)は、それぞれシリカ系充填材などの充填材を含有してもよい。本フィルムは、各層に充填材を含有させることで、フィルムの貯蔵弾性率や、耐剥離性等の機械物性を適切な範囲としやすくなる。また、充填材を使用することで、樹脂組成物の粘度や硬度を調整しやすく、樹脂組成物の流動性や二次加工性のバランスも最適化しやすくなる。さらに、音響部材の設計や音響特性に合わせて硬度を適宜調整しやすくなるといった利点がある。
なお、充填材は、ゲル分率の測定においてはゲル分の一部を構成し、各層のゲル分率は、充填材を含有することで高くなる。充填材を含有することで、ゲル分率が高くなっても、架橋することでゲル分率が高くなる場合と同様に、各層の硬度を高めることができる。
The silicone layer (A) and silicone layer (B) of the present invention may each contain a filler such as a silica-based filler. By containing a filler in each layer of the film, the storage modulus of the film and mechanical properties such as peeling resistance can be easily controlled within appropriate ranges. Moreover, by using a filler, it becomes easy to adjust the viscosity and hardness of the resin composition, and it becomes easy to optimize the balance between the fluidity and the secondary workability of the resin composition. Furthermore, there is an advantage that the hardness can be easily adjusted according to the design and acoustic characteristics of the acoustic member.
In addition, the filler constitutes a part of the gel content in the measurement of the gel fraction, and the gel fraction of each layer is increased by containing the filler. By containing a filler, even if the gel fraction is increased, the hardness of each layer can be increased in the same manner as when the gel fraction is increased by cross-linking.
シリカ系充填材としては、例えば煙霧質シリカ、又は沈降性シリカ等が挙げられ、シランカップリング剤で表面処理されたシリカ系充填材でもよい。
各層における充填材の含有量は、各層を構成する樹脂組成物全量基準で、例えば10質量%以上50質量%以下、好ましくは15質量%以上40質量%以下、より好ましくは20質量%以上35質量%以下である。また、充填材の平均粒子径は、例えば0.01μm以上、20μm以下、好ましくは0.1μm以上、10μm以下、より好ましくは0.5μm以上、5μm以下である。充填材の平均粒子径は、レーザー光回折法等による粒度分布測定装置を用い、メジアン径(D50)として測定することができる。
Silica-based fillers include, for example, fumed silica and precipitated silica, and may be silica-based fillers surface-treated with a silane coupling agent.
The content of the filler in each layer is, for example, 10% by mass or more and 50% by mass or less, preferably 15% by mass or more and 40% by mass or less, more preferably 20% by mass or more and 35% by mass, based on the total amount of the resin composition constituting each layer. % or less. The average particle size of the filler is, for example, 0.01 μm or more and 20 μm or less, preferably 0.1 μm or more and 10 μm or less, more preferably 0.5 μm or more and 5 μm or less. The average particle size of the filler can be measured as a median size (D50) using a particle size distribution measuring device such as a laser beam diffraction method.
本発明では、各層を形成するための樹脂組成物は、本発明の効果を損なわない範囲で、熱安定剤、酸化防止剤、紫外線吸収剤、光安定剤、抗菌・防かび剤、帯電防止剤、滑剤、顔料、染料、難燃剤、耐衝撃性改良剤等の各種添加剤を含んでいてもよい。 In the present invention, the resin composition for forming each layer contains a heat stabilizer, an antioxidant, an ultraviolet absorber, a light stabilizer, an antibacterial/antifungal agent, and an antistatic agent, as long as the effects of the present invention are not impaired. , lubricants, pigments, dyes, flame retardants, and impact modifiers.
本フィルムにおいて、最表層及び最裏層を形成するためのシリコーン樹脂組成物は、互いに同じ組成を有していてもよいが、異なる組成を有してもよい。同様に、中間層を形成するためのシリコーン樹脂組成物は、最表層や最裏層を形成するための樹脂組成物と同じ組成を有してもよいが、異なる組成を有してもよい。なお、ここでいうシリコーン樹脂組成物の組成とは、樹脂組成物が硬化される前の組成を意味する。 In this film, the silicone resin compositions for forming the outermost layer and the innermost layer may have the same composition, or may have different compositions. Similarly, the silicone resin composition for forming the intermediate layer may have the same composition as the resin composition for forming the outermost layer or the innermost layer, or may have a different composition. The composition of the silicone resin composition here means the composition before the resin composition is cured.
本発明において、オルガノポリシロキサンは市販品も使用可能である。また、オルガノポリシロキサンに加え、シリカ系充填材などの添加剤を含有する混合物の市販品を使用してもよい。具体的には、信越化学工業株式会社製の商品名「KE-597-U」、「KE-594-U」なども使用できる。 In the present invention, a commercially available organopolysiloxane can also be used. Moreover, in addition to the organopolysiloxane, a commercially available mixture containing an additive such as a silica-based filler may also be used. Specifically, trade names such as “KE-597-U” and “KE-594-U” manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd. can also be used.
[離型フィルム付きフィルム]
上記した本フィルムは、離型フィルムが付けられて、離型フィルム付きフィルムとして使用されてもよい。離型フィルム付きフィルムは、上記した本フィルムと、本フィルムの少なくとも片面に設けられた離型フィルムとを備える。
また、離型フィルム付きフィルムにおいては、本フィルムの両面に離型フィルムが設けられることが好ましい。なお、離型フィルムは、本フィルムの最表層、最裏層、又はこれら両方の上に積層されることになる。
[Film with release film]
The present film described above may be attached with a release film and used as a film with a release film. A film with a release film includes the main film described above and a release film provided on at least one side of the main film.
Moreover, in the film with a release film, it is preferable that release films are provided on both sides of the film. The release film is laminated on the outermost layer, the innermost layer, or both of the film.
離型フィルムとしては、樹脂フィルムであってもよいし、樹脂フィルムの少なくとも片面が離型処理された離型層を有するフィルムであってもよい。離型フィルムは、離型層を有する場合には、離型層が本フィルムの最表裏層に接触するように本フィルムに積層されるとよい。
樹脂フィルムに使用される樹脂としては、ポリプロピレンなどのポリオレフィン系樹脂、アクリル系樹脂、ポリスチレン系樹脂、ポリアセタール系樹脂、ポリアミド系樹脂、ポリエステル系樹脂、ポリカーボネート系樹脂、ABS樹脂、ポリエーテルエーテルケトン系樹脂などが例示できる。これらの中では、ポリエステル系樹脂が好ましく、中でもポリエチレンテレフタレート系樹脂が好ましい。
離型フィルムの厚さは、特に制限はないが、好ましく5μm以上100μm以下、より好ましくは7μm以上80μm以下、さらに好ましくは10μm以上50μm以下である。
The release film may be a resin film or a film having a release layer obtained by subjecting at least one surface of the resin film to release treatment. When the release film has a release layer, it is preferably laminated on the film so that the release layer is in contact with the outermost and back layers of the film.
Resins used for resin films include polyolefin resins such as polypropylene, acrylic resins, polystyrene resins, polyacetal resins, polyamide resins, polyester resins, polycarbonate resins, ABS resins, and polyether ether ketone resins. etc. can be exemplified. Among these, polyester-based resins are preferable, and polyethylene terephthalate-based resins are particularly preferable.
The thickness of the release film is not particularly limited, but is preferably from 5 μm to 100 μm, more preferably from 7 μm to 80 μm, and even more preferably from 10 μm to 50 μm.
本フィルムは、離型フィルムが付けられることで、離型フィルムによって保護される。したがって、輸送するときなどに本フィルムに傷が付いたりすることを防止する。なお、離型フィルムは、後述する通り、本フィルムを製造する際に最表裏層に積層される離型フィルムをそのまま使用してもよいし、製造された本フィルムに対して別途積層してもよい。
また本フィルムは、後述する通りに例えば賦形成形などにより成形されるが、離型フィルムは成形時には本フィルムから剥がされたうえで、金型などの型にセットされるとよい。本フィルムは、離型フィルムが無くても、上記のとおり所定の最表裏層を有することで、硬化前においても形状保持性が良好である。また、本フィルムは上述のように、離型フィルムが剥がされる際に、シリコーン層(A)とシリコーン層(B)の層間で剥離することが防止される。
後述のように、凹凸を有する離型フィルムとすることで、離形フィルム上にシリコーン層を積層したときに、離型フィルムの凹凸をシリコーン層に転写することができる。
The film is protected by the release film by attaching the release film. Therefore, the film is prevented from being damaged during transportation. As for the release film, as described later, the release film laminated on the outermost and back layers when producing the film may be used as it is, or may be laminated separately on the produced film. good.
As described later, the film is formed by, for example, forming molding, and the release film is preferably peeled off from the film at the time of molding and then set in a mold such as a mold. Even without a release film, the present film has a predetermined outermost and back layer as described above, so that the shape retainability is good even before curing. In addition, as described above, the present film prevents separation between the silicone layer (A) and the silicone layer (B) when the release film is peeled off.
As described below, by using a release film having unevenness, when a silicone layer is laminated on the release film, the unevenness of the release film can be transferred to the silicone layer.
[本フィルムの製造方法]
本フィルムの製造方法について、以下に説明するが、本フィルムの製造法は、以下に述べるものに限らない。
本フィルムの製造方法の一態様は、シリコーン層(B)の少なくとも片面の算術平均高さ(Sa)が500~4000nmであり、該片面に対して硬化性のシリコーン層(A)を積層することで得られる、測定温度20℃、周波数10Hzでの貯蔵弾性率E’が0.1MPa~500MPaの粘弾性特性を有する、フィルムの製造方法である。
また他の本フィルムの製造方法の一態様は、シリコーン層(B)の両面の算術平均高さ(Sa)が500~4000nmであり、該両面に対して硬化性のシリコーン層(A)をそれぞれ積層することで得られる、測定温度20℃、周波数10Hzでの貯蔵弾性率E’が0.1MPa~500MPaの粘弾性特性を有する、フィルムの製造方法である。
本フィルムは、一般的な成形法により成形することができ、例えば、ラミネート成形、共押し等の押出成形、コーティング、又はこれらを組み合わせて成形することができる。これらの中では、最表裏層と、中間層との多層化の容易性も考慮し、ラミネート成形を利用することが好ましい。
また、凹凸を形成する方法としては、算術平均高さ(Sa)が500~4000nmの特定の範囲となるように凹凸を形成したシリコーン層(B)を作製しておき、これにシリコーン層(A)を積層する方法が挙げられる。さらに、算術平均高さ(Sa)が特定の範囲となるように凹凸を形成したシリコーン層(A)を作製しておき、これにシリコーン層(B)を積層して、シリコーン層(A)の凹凸をシリコーン層(B)に転写して凹凸を形成する方法などが挙げられる。
凹凸の形成方法は、特に限定されず、エンボス加工等により凹凸を形成してもよいし、凹凸を有する離型フィルム上にシリコーン層を形成して離型フィルムの凹凸をシリコーン層に転写してもよい。
以下、ラミネート成形を利用するフィルムの製造方法の一例を具体的に説明する。なお、以下では、最表層/中間層/最裏層の3層構造を有するフィルムにおいて、離型フィルムの凹凸をシリコーン層(B)(最表裏層)に転写させることで凹凸を形成したシリコーン層(B)を作製しておき、これにシリコーン層(A)を積層する方法を説明するが、以下の方法に限定されない。
[Manufacturing method of this film]
A method for producing the present film will be described below, but the method for producing the present film is not limited to the method described below.
One aspect of the production method of the present film is that at least one side of the silicone layer (B) has an arithmetic mean height (Sa) of 500 to 4000 nm, and a curable silicone layer (A) is laminated on the one side. and having a storage modulus E′ of 0.1 MPa to 500 MPa at a measurement temperature of 20° C. and a frequency of 10 Hz.
In another aspect of the production method of the present film, the arithmetic mean height (Sa) of both surfaces of the silicone layer (B) is 500 to 4000 nm, and the curable silicone layer (A) is formed on both surfaces. This is a method for producing a film having viscoelastic characteristics with a storage elastic modulus E′ of 0.1 MPa to 500 MPa at a measurement temperature of 20° C. and a frequency of 10 Hz obtained by lamination.
The present film can be molded by a general molding method, for example, lamination molding, extrusion molding such as co-extrusion, coating, or a combination thereof. Among these, it is preferable to use lamination molding in consideration of the easiness of multi-layering of the outermost layer and the intermediate layer.
Further, as a method for forming unevenness, a silicone layer (B) having unevenness formed so that the arithmetic mean height (Sa) is in a specific range of 500 to 4000 nm is prepared in advance, and the silicone layer (A ) is laminated. Furthermore, a silicone layer (A) having irregularities formed so that the arithmetic mean height (Sa) is within a specific range is prepared, and the silicone layer (B) is laminated thereon to form the silicone layer (A). Examples include a method of transferring unevenness to the silicone layer (B) to form unevenness.
The method of forming unevenness is not particularly limited, and unevenness may be formed by embossing or the like, or by forming a silicone layer on a release film having unevenness and transferring the unevenness of the release film to the silicone layer. good too.
An example of a film manufacturing method using lamination molding will be specifically described below. In the following, in a film having a three-layer structure of outermost layer/intermediate layer/backer layer, the unevenness of the release film is transferred to the silicone layer (B) (outermost back layer) to form unevenness on the silicone layer. A method of preparing (B) and laminating the silicone layer (A) on it will be described, but the method is not limited to the following method.
ラミネート成形を利用する場合には、まず、最表層、最裏層を用意し、これら最表層、最裏層の間に中間層をラミネートすることで得るとよい。
より具体的に説明すると、まず、最表層及び最裏層を得るための樹脂組成物(最表層又は最裏層用樹脂組成物)、及び中間層を得るための樹脂組成物(中間層用樹脂組成物)を用意するとよい。
When lamination molding is used, it is preferable to first prepare an outermost layer and an innermost layer, and then laminate an intermediate layer between the outermost layer and the innermost layer.
More specifically, first, a resin composition for obtaining the outermost layer and the outermost layer (resin composition for the outermost layer or the innermost layer), and a resin composition for obtaining the intermediate layer (resin for intermediate layer composition) should be prepared.
各樹脂組成物は、特に限定されないが、例えば樹脂組成物を構成する材料を混練することで得ることができる。混練に使用する混練機としては、単軸又は二軸押出機などの押出機、2本ローラーや3本ローラー等のカレンダーロール、ロールミル、プラストミル、バンバリーミキサー、ニーダー、プラネタリーミキサー等の公知の混練機を用いることができる。
混練温度は、樹脂の種類や混合比率、添加剤の有無や種類に応じて適宜調整されるが、架橋(硬化)を抑制しつつ樹脂の粘度を適度に下げて混練しやすくするため、20℃以上150℃以下であることが好ましく、30℃以上140℃以下であることがより好ましく、40℃以上130℃以下であることが更に好ましく、50℃以上120℃以下であることが特に好ましく、60℃以上110℃以下であることがとりわけ好ましい。
混練時間は、樹脂組成物を構成する材料が均一に混合される程度であればよく、例えば、数分~数時間、好ましくは5分~1時間である。
Each resin composition is not particularly limited, but can be obtained, for example, by kneading materials constituting the resin composition. Kneaders used for kneading include extruders such as single-screw or twin-screw extruders, calender rolls such as two-roller and three-roller rolls, roll mills, plastmills, Banbury mixers, kneaders, planetary mixers, and other known kneaders. machine can be used.
The kneading temperature is appropriately adjusted according to the type and mixing ratio of the resin and the presence and type of additives. It is preferably 150° C. or higher, more preferably 30° C. or higher and 140° C. or lower, even more preferably 40° C. or higher and 130° C. or lower, particularly preferably 50° C. or higher and 120° C. or lower. ° C. or more and 110° C. or less is particularly preferable.
The kneading time may be such that the materials constituting the resin composition are uniformly mixed, and is, for example, several minutes to several hours, preferably 5 minutes to 1 hour.
以上の通りに用意した最表層又は最裏層用の樹脂組成物は、一般的な方法で離型フィルムの上に積層して積層体を得て、その後、積層体を加熱などして、樹脂組成物を硬化させるとよい。これにより、離型フィルムの上に最表層又は最裏層が積層されてなる積層体(以下、「積層フィルム」ともいう)が得られる。積層フィルムにおいて、最表層又は最裏層は、硬化されることで架橋構造が形成され、ゲル分率が上記の通り80%以上となることが好ましい。
なお、離型フィルムが離型処理面を有する場合、最表裏層用の樹脂組成物は、離型フィルムの離型処理面に積層されるとよい。
また、本製造方法では、上記の通り、離型フィルムに最表裏層用の樹脂組成物を積層して硬化させることで、得られる最表裏層の表面は、離型フィルムの表面形状に応じた形状となる。そのため、離型フィルムの表面にあらかじめ凹凸形状を形成しておくことで、最表裏層(シリコーン層(B))の表面に凹凸が賦形される。
The resin composition for the outermost layer or the innermost layer prepared as described above is laminated on a release film by a general method to obtain a laminate, and then the laminate is heated to obtain a resin. The composition may be cured. As a result, a laminate (hereinafter also referred to as "laminated film") is obtained in which the outermost layer or the innermost layer is laminated on the release film. In the laminated film, it is preferable that the outermost layer or the innermost layer is cured to form a cross-linked structure and have a gel fraction of 80% or more as described above.
When the release film has a release-treated surface, the resin composition for the outermost and back layers is preferably laminated on the release-treated surface of the release film.
Further, in the present production method, as described above, the resin composition for the outermost and back layers is laminated on the release film and cured, so that the surface of the outermost and back layer obtained has a shape corresponding to the surface shape of the release film. shape. Therefore, by forming an uneven shape in advance on the surface of the release film, the surface of the outermost and back layer (silicone layer (B)) is formed with unevenness.
次に、ラミネート成形により、上記積層フィルムの間に、中間層用樹脂組成物から形成される中間層を積層して本フィルムを得るとよい。具体的には、中間層用樹脂組成物を未硬化又は半硬化の状態で、例えば一対のロール間において、二方向から繰り出された積層フィルムの間に投入する。ここで、中間層用樹脂組成物は、例えば、押出機などを使用してTダイなどから押し出すことで、積層フィルム間に投入するとよい。また、各積層フィルムは、最表層及び最裏層が内側となり、これらが互いに対向するように繰り出されるとよい。
そして、必要に応じてロールの間隙にて厚みを調整し、積層フィルムの間に、未硬化又は半硬化状態の中間層が形成された積層体が得られる。該積層体は、離型フィルム/最表層/中間層/最裏層/積層フィルムの積層構造を有するとよく、上記した離型フィルム付きフィルムとなる。
Next, it is preferable to obtain the present film by laminating an intermediate layer formed from the intermediate layer resin composition between the laminated films by lamination molding. Specifically, the intermediate layer resin composition in an uncured or semi-cured state is put, for example, between a pair of rolls and between the laminated films fed out from two directions. Here, the intermediate layer resin composition may be introduced between the laminated films by, for example, extruding from a T-die using an extruder or the like. In addition, each laminated film is preferably fed out so that the outermost layer and the innermost layer face each other and face each other.
Then, the thickness is adjusted by the gap between the rolls as necessary, and a laminate is obtained in which an uncured or semi-cured intermediate layer is formed between the laminated films. The laminate preferably has a laminate structure of release film/outermost layer/intermediate layer/outermost layer/laminate film, and is the film with a release film described above.
シリコーン層(A)およびシリコーン層(B)を得るための各樹脂組成物は、例えば樹脂組成物を構成する材料を混練することで得ることができる。混練に使用する混練機としては、単軸又は二軸押出機などの押出機、2本ローラーや3本ローラー等のカレンダーロール、ロールミル、プラストミル、バンバリーミキサー、ニーダー、プラネタリーミキサー等の公知の混練機を用いることができる。
混練温度は、樹脂の種類や混合比率、添加剤の有無や種類に応じて適宜調整されるが、架橋(硬化)を抑制しつつ樹脂の粘度を適度に下げて混練しやすくするため、20℃以上150℃以下であることが好ましく、30℃以上140℃以下であることがより好ましく、40℃以上130℃以下であることが更に好ましく、50℃以上120℃以下であることが特に好ましく、60℃以上110℃以下であることがとりわけ好ましい。
混練時間は、樹脂組成物を構成する材料が均一に混合される程度であればよく、例えば、数分~数時間、好ましくは5分~1時間である。
Each resin composition for obtaining the silicone layer (A) and the silicone layer (B) can be obtained, for example, by kneading materials constituting the resin composition. Kneaders used for kneading include extruders such as single-screw or twin-screw extruders, calender rolls such as two-roller and three-roller rolls, roll mills, plastmills, Banbury mixers, kneaders, planetary mixers, and other known kneaders. machine can be used.
The kneading temperature is appropriately adjusted according to the type and mixing ratio of the resin and the presence and type of additives. It is preferably 150° C. or higher, more preferably 30° C. or higher and 140° C. or lower, even more preferably 40° C. or higher and 130° C. or lower, particularly preferably 50° C. or higher and 120° C. or lower. ° C. or more and 110° C. or less is particularly preferable.
The kneading time may be such that the materials constituting the resin composition are uniformly mixed, and is, for example, several minutes to several hours, preferably 5 minutes to 1 hour.
[成形品]
本フィルムは、金型などの型により成形し、かつ硬化されることで成形品に成形することができ、典型的には型により賦形成形して各種の成形品に成形するとよい。硬化は、本フィルムの特性に応じて行うとよく、加熱、光照射、湿気付与又はこれらの組み合わせで行うとよいが、加熱により行うことが好ましい。成形品は、音響部材であることが好ましく、中でも振動板を構成することがより好ましい。
本フィルムから成形品を得る場合には、少なくとも以下の工程1及び工程2を行うことが好ましい。
工程1:本フィルムを加熱して型により成形し、かつ本フィルムを硬化させる工程
工程2:成形かつ硬化された本フィルム(すなわち、成形品)を型から剥がす工程
[Molding]
The present film can be formed into a molded article by molding with a mold such as a mold and curing, and typically, it is preferably formed into various molded articles by forming with a mold. Curing may be carried out according to the properties of the present film, and may be carried out by heating, light irradiation, moisturizing, or a combination thereof, preferably by heating. The molded article is preferably an acoustic member, and more preferably constitutes a diaphragm.
When obtaining a molded article from this film, it is preferable to perform at least the following
Step 1: Heating the film to shape it with a mold and curing the film Step 2: Peeling the molded and cured film (i.e., molded product) from the mold
以下、各工程についてより詳細に説明する。
(工程1)
工程1では、本フィルムを加熱して型により成形し、かつ本フィルムを硬化して成形品を成形する。成形品は、型により賦形成形されるとよく、それにより、所望の形状に成形される。工程1における成形は、特に限定されず、真空成形、圧空成形、プレス成形等のいずれかの成形方法により行うとよいが、これらの中では、成形がより簡便な点からプレス成形が好ましい。
Each step will be described in more detail below.
(Step 1)
In
型としては、成形方法に応じた型を用意すればよいが、型には、製造される成形品の形状に応じた凹凸等を設けるとよい。型としては、典型的には金属製の型(金型)を使用するが、樹脂製の型でもよい。例えば後述のとおり成形品(音響部材)がドーム形状又はコーン形状の少なくともいずれかを有するならば、型にはドーム形状又はコーン形状に対応した凹凸を設けるとよい。また、成形品(音響部材)が表面にタンジェンシャルエッジを有する場合には、型にはタンジェンシャルエッジに応じた凹凸を設けるとよい。 As for the mold, a mold suitable for the molding method may be prepared, and the mold may be provided with unevenness or the like according to the shape of the molded article to be manufactured. As the mold, a metal mold (mold) is typically used, but a resin mold may also be used. For example, if the molded product (acoustic member) has at least one of a dome shape and a cone shape as will be described later, the mold should be provided with projections and recesses corresponding to the dome shape or the cone shape. If the molded product (acoustic member) has a tangential edge on its surface, the mold should be provided with unevenness corresponding to the tangential edge.
本フィルムは、上記の通り、離型フィルムが付けられることがあるが、本フィルムは、上記の通り離型フィルムが剥がされたうえで、型にセットされるとよい。 As described above, the present film may be attached with a release film, and the present film may be set in the mold after the release film is peeled off as described above.
工程1では、加熱した本フィルムを型によって賦形すればよく、例えば、型上に配置した本フィルムを加熱しつつ型により賦形してもよいし、予め加熱した本フィルムを型上に配置し、その後型により賦形してもよいし、これらを組み合わせてもよい。また、本フィルムは、いかなる方法で加熱してもよく、例えば、型上に配置したフィルムを加熱する場合には、型を加熱しその伝熱で加熱してもよいし、他の方法で加熱してもよい。
In
賦形又は硬化時の加熱温度は180℃以上260℃以下であることが好ましく、190℃以上250℃以下であることがより好ましく、200℃以上240℃以下であることが更に好ましい。賦形又は硬化時の温度がかかる範囲であれば、本フィルムが熱で溶融変形しない範囲で十分な速度で硬化が可能となる傾向がある。 The heating temperature during shaping or curing is preferably 180° C. or higher and 260° C. or lower, more preferably 190° C. or higher and 250° C. or lower, even more preferably 200° C. or higher and 240° C. or lower. If the temperature at the time of shaping or curing is within the range, there is a tendency that the film can be cured at a sufficient speed within the range where the film is not melt-deformed by heat.
賦形時間は、1秒以上5分以下であることが好ましく、5秒以上4分以下であることがより好ましく、10秒以上3分以下であることが更に好ましく、20秒以上2分以下であることが特に好ましい。賦形時の熱処理時間がかかる範囲であれば、生産性を維持したまま十分に硬化させやすい傾向となる。
なお、本フィルムは、好ましくは賦形しながら硬化されるが、特に限定されず賦形後に硬化されてもよい。なお、賦形時間とは、本フィルムが型内で賦形ないし硬化されている時間をいい、賦形開始前および賦形終了後の型移動時間や、積層体を離型する際の時間は含まないものとする。
The shaping time is preferably 1 second to 5 minutes, more preferably 5 seconds to 4 minutes, even more preferably 10 seconds to 3 minutes, and 20 seconds to 2 minutes. It is particularly preferred to have If the heat treatment time during shaping is in the range, it tends to be sufficiently hardened while maintaining productivity.
The film is preferably cured while being shaped, but is not particularly limited and may be cured after being shaped. The shaping time refers to the time during which the film is shaped or cured in the mold. shall not be included.
(工程2)
工程2では、工程1で成形かつ硬化された本フィルムを型から剥がし、成形品を得る。本発明では、シリコーン層(A)のゲル分率が一定値未満であるため、賦形性が高く、かつ型へのフィルムの追従性が高い。そのため、成形品は、高い成形精度で製造することができる。
さらに、本フィルムは、シリコーン層(B)が設けられることで、形状保持性が高く、離型フィルムがなくてもハンドリング性が良好であり、離型フィルムがない状態でも、フィルムの形状を維持したまま金型に容易にセットすることができる。そして、離型フィルムが積層されないことで、成形品から離型フィルムを剥がす工程が省略できるので、量産化もしやすくなる。
また、本フィルムは、シリコーン層(A)とシリコーン層(B)との層間の少なくとも一つの面の算術平均高さ(Sa)が500~4000nmであることから、シリコーン層(A)とシリコーン層(B)の密着性が高く、上記工程1および工程2において、層間での剥離が生じない。
(Step 2)
In
Furthermore, since the silicone layer (B) is provided, the film has high shape retention, good handleability even without a release film, and maintains the shape of the film even without a release film. It can be easily set in the mold while it is still in place. In addition, since the release film is not laminated, the step of peeling off the release film from the molded product can be omitted, which facilitates mass production.
In addition, in the present film, the arithmetic mean height (Sa) of at least one surface between the silicone layer (A) and the silicone layer (B) is 500 to 4000 nm. The adhesiveness of (B) is high, and peeling between layers does not occur in the
本発明において、上記フィルムから得られる成形品のゲル分率は、80%以上であればよい。ゲル分率が80%以上であると、音響部材に適した貯蔵弾性率と、機械強度とを有する成形品を得やすくなる。成形品のゲル分率は、85%以上であることがより好ましく、90%以上であることがさらに好ましい。また、成形品のゲル分率は、上限に関して特に限定されず、100%以下であればよいが、一般的には100%より低く、例えば、99%以下であってもよい。なお、成形品のゲル分率とは、成形品全体のゲル分率であり、成形品の厚み方向に平行する方向に切断することでサンプリングして測定するとよい。ゲル分率の測定方法の詳細は上記の通りである。 In the present invention, the gel fraction of the molded article obtained from the above film should be 80% or more. When the gel fraction is 80% or more, it becomes easier to obtain a molded article having a storage elastic modulus suitable for an acoustic member and mechanical strength. The gel fraction of the molded article is more preferably 85% or more, and even more preferably 90% or more. The gel fraction of the molded product is not particularly limited as long as it is 100% or less, but generally lower than 100%, for example, 99% or less. The gel fraction of the molded product is the gel fraction of the entire molded product, and may be measured by sampling by cutting the molded product in a direction parallel to the thickness direction. The details of the method for measuring the gel fraction are as described above.
[フィルムの用途]
本発明のフィルムは、上記の通り音響部材に使用されることが好ましく、中でも、振動板に好適に使用することができる。本発明の音響部材は、本フィルムを硬化してなるものであり、具体的には上記した成形品よりなるとよい。振動板は、スピーカー振動板であることがより好ましく、特に携帯電話等のマイクロスピーカー振動板として好適に使用できる。
[Use of film]
The film of the present invention is preferably used for acoustic members as described above, and is particularly suitable for diaphragms. The acoustic member of the present invention is obtained by curing the present film, and specifically, it is preferable to consist of the above-described molded article. The diaphragm is more preferably a speaker diaphragm, and can be particularly suitably used as a microspeaker diaphragm for mobile phones and the like.
本フィルムは、適宜成形されることで振動板などの各種の音響部材となるものである。
音響部材は、例えば、少なくとも一部がドーム形状やコーン形状などを有するとよい。また、音響部材は、表面にタンジェンシャルエッジを有してもよい。ドーム形状またはコーン形状を有し、あるいは、タンジェンシャルエッジを有する場合には、音響部材は、好ましくは振動板、より好ましくはスピーカー振動板に使用される。
This film can be used as various acoustic members such as diaphragms by being appropriately molded.
For example, at least a portion of the acoustic member may have a dome shape, a cone shape, or the like. Also, the acoustic member may have a tangential edge on its surface. Having a dome shape or cone shape, or having a tangential edge, the acoustic member is preferably used for a diaphragm, more preferably for a speaker diaphragm.
(振動板)
振動板についてより詳細に説明すると、振動板の形状は特に制限されず、任意であり、円形状、楕円形状、オーバル形状等が選択できる。また、振動板は、一般的に、電気信号などに応じて振動するボディと、ボディの周囲を囲むエッジとを有する。振動板のボディは、通常、エッジにより支持される。振動板の形状は、上記のとおりドーム状、コーン状でもよいし、これらを組み合わせた形状でもよいし、振動板に使用されるその他の形状でもよい。
(diaphragm)
To explain the diaphragm in more detail, the shape of the diaphragm is not particularly limited and can be selected from a circular shape, an elliptical shape, an oval shape, and the like. Also, the diaphragm generally has a body that vibrates in response to an electrical signal or the like, and an edge that surrounds the body. The diaphragm body is usually supported by the edges. The shape of the diaphragm may be, as described above, a dome shape, a cone shape, a combination of these shapes, or any other shape used for the diaphragm.
本フィルムは、振動板の少なくとも一部を形成すればよく、例えば、振動板のボディ又はエッジが本フィルムにより形成され、振動板のエッジ又はボディが別の部材により形成してもよい。もちろん、ボディ及びエッジの両方が、本フィルムにより一体的に形成されてもよく、振動板全体が、本フィルムにより形成されてもよい。 The film may form at least a part of the diaphragm. For example, the body or edge of the diaphragm may be formed by the film, and the edge or body of the diaphragm may be formed by another member. Of course, both the body and the edge may be integrally formed by this film, or the entire diaphragm may be formed by this film.
図1は、本発明の一実施形態に係る振動板1の構造を示す図であり、平面視で円形の振動板1を、円の中心線を通る面で切断した断面図である。振動板1はマイクロスピーカー用振動板である。図1に示すように、振動板1は、ドーム部(ボディ)1aを中心に、ボイスコイル2に取り付ける凹嵌部1b、周縁部(エッジ)1c、および、その外周にフレーム等に貼り付ける外部貼付け部1dを有する。
FIG. 1 is a diagram showing the structure of a
図2は、本発明の他の実施形態に振動板11の構造を示す図であり、平面視で円形の振動板11を、円の中心線を通る面で切断した断面図である。振動板11はマイクロスピーカー用振動板である。図2に示すように、振動板11は、ドーム形状に加工されたドーム部(ボディ)11aを中心に、ボイスコイル2に取り付ける凹嵌部11b、コーン形状に加工されたコーン部11j、および、周縁部(エッジ)11cを有する。振動板11に例示するように、振動板は、一部がドーム形状に加工され、且つ、該一部を除く他の一部がコーン形状に加工されていてもよい。なお、振動板11は、それぞれ周縁部11cを直接フレーム等に取り付けてもよく、他の部材を介してフレーム等に取り付けてもよい。
FIG. 2 is a diagram showing the structure of the
振動板の表面には、上記のとおり、タンジェンシャルエッジを付与してもよい。タンジェンシャルエッジは、例えば、横断面形状がV字状の溝などにより構成されるとよい。図3には、本発明の他の実施形態に係る振動板21の平面図を示す。振動板21は、円形のドーム部(ボディ)21aの外周縁部に、複数のタンジェンシャルエッジ21eが付与されたタンジェンシャルエッジ部21gと、タンジェンシャルエッジ部21gの外周に配置された複数のタンジェンシャルエッジ21fが付与されたタンジェンシャルエッジ部21hを有する。なお、図3では、径方向に沿って2つのタンジェンシャルエッジ部が設けられる例を示すが、タンジェンシャルエッジ部は径方向に沿って1つのみであってもよいし、3つ以上設けられてもよい。
The surface of the diaphragm may be provided with a tangential edge as described above. The tangential edge may be configured by, for example, a groove having a V-shaped cross section. FIG. 3 shows a plan view of a
なお、振動板は、上記の通りスピーカー振動板、中でもマイクロスピーカー振動板であることが好ましい。マイクロスピーカー振動板として好適に使用する観点から、振動板の大きさは、最大径が25mm以下、好ましくは20mm以下であり、また最大径が5mm以上のものが好適に用いられる。なお、最大径とは振動板の形状が円形状の場合には直径、楕円形状やオーバル形状の場合には長径を採用するものとする。 The diaphragm is preferably a speaker diaphragm, especially a microspeaker diaphragm, as described above. From the viewpoint of suitable use as a microspeaker diaphragm, the maximum diameter of the diaphragm is 25 mm or less, preferably 20 mm or less, and the maximum diameter is preferably 5 mm or more. The maximum diameter is the diameter when the shape of the diaphragm is circular, and the major axis when it is elliptical or oval.
振動板は、本フィルム単体により成形されてもよいし、本フィルムと他の部材との複合材により成形されてもよい。例えば、上記のとおりエッジまたはボディのいずれかを他の部材により形成してもよい。 The diaphragm may be formed of the present film alone, or may be formed of a composite material of the present film and other members. For example, either the edges or the body may be formed from other members as described above.
さらに、振動板の二次加工適性や防塵性あるいは、音響特性の調整や意匠性向上等のために、振動板の表面にさらに帯電防止剤をコーティングしたり、金属を蒸着したり、スパッタリングしたり、着色(黒色や白色など)したりするなどの処理を適宜行ってもよい。さらに、アルミニウムなどの金属との積層、あるいは、不織布との複合化などを適宜行ってもよい。 Furthermore, in order to make the diaphragm suitable for secondary processing, dustproof, adjust the acoustic characteristics, and improve the design, the surface of the diaphragm is coated with an antistatic agent, metal is vapor-deposited, or sputtered. , coloring (black, white, etc.) may be performed as appropriate. Furthermore, lamination with a metal such as aluminum, or combination with a non-woven fabric, or the like may be carried out as appropriate.
(音響変換器)
本発明の音響変換器は、上記した音響部材、好ましくは振動板を備える音響変換器である。音響変換器としては、典型的には電気音響変換器であり、スピーカー、レシーバ、マイクロホン、イヤホン等が挙げられる。音響変換器は、これらの中では、スピーカーであることが好ましく、携帯電話等のマイクロスピーカーが好適である。
(acoustic transducer)
The acoustic transducer of the present invention is an acoustic transducer comprising the above-described acoustic member, preferably a diaphragm. Acoustic transducers are typically electroacoustic transducers and include speakers, receivers, microphones, earphones, and the like. Among these, the acoustic transducer is preferably a speaker, preferably a microspeaker such as a mobile phone.
以下、本発明を実施例により詳細に説明するが、本発明はこれにより限定されるものではない。 EXAMPLES The present invention will be described in detail below with reference to Examples, but the present invention is not limited to these.
[評価及び測定方法]
本実施例では、以下のとおりに各種物性の測定及びフィルムの評価を行った。
[Evaluation and measurement method]
In this example, various physical properties were measured and films were evaluated as follows.
(1)ゲル分率の測定
明細書記載の方法に従って、硬化前の本フィルム全体、硬化前の本フィルムの最表裏層のゲル分率、及び硬化後の本フィルム全体のゲル分率を測定した。本フィルム全体のゲル分率を測定する際には、サンプリングをフィルムの厚み方向に平行する方向に切断することで行った。また、硬化前の本フィルムの中間層については、硬化前の本フィルム全体及び最表裏層のゲル分率と、層厚みの比から計算することで求めた。
(1) Measurement of gel fraction According to the method described in the specification, the gel fraction of the entire film before curing, the gel fraction of the top and bottom layers of the film before curing, and the gel fraction of the entire film after curing were measured. . When measuring the gel fraction of the entire film, sampling was performed by cutting in a direction parallel to the thickness direction of the film. In addition, the intermediate layer of the film before curing was obtained by calculation from the ratio of the gel fractions of the entire film before curing and the top and bottom layers, and the layer thickness.
(2)貯蔵弾性率E’
各実施例、比較例で得られた硬化前及び硬化後の本フィルムから4mm×8cmの試験片を切り出し、測定試料として得た。その測定試料を用いて、JIS K7244-4:1999に準拠して、粘弾性スペクトロメーター「DVA-200(アイティー計測制御株式会社製)」を用い、測定モードを引張で、周波数10Hz、歪み0.1%、温度範囲-100~300℃、加熱速度3℃/minで昇温させ、硬化前のフィルムについては20℃の貯蔵弾性率を測定した。また、硬化後のフィルムについては20℃及び100℃における貯蔵弾性率を測定した。なお、測定はTDについて行った。
(2) Storage modulus E'
Test pieces of 4 mm×8 cm were cut out from the films before and after curing obtained in each of Examples and Comparative Examples, and obtained as measurement samples. Using the measurement sample, in compliance with JIS K7244-4: 1999, using a viscoelastic spectrometer "DVA-200 (manufactured by IT Instrument Control Co., Ltd.)", the measurement mode is tensile, the frequency is 10 Hz, and the strain is 0. .1%, the temperature range was -100 to 300°C, the temperature was raised at a heating rate of 3°C/min, and the storage modulus of the film before curing was measured at 20°C. In addition, the storage elastic modulus at 20°C and 100°C was measured for the cured film. In addition, the measurement was performed about TD.
(3)表面粗さ(算術平均高さ:Sa、二乗平均平方根高さ:Sq)
各実施例、比較例で用いられたシリコーン層(B)の算術平均高さ(Sa)、二乗平均平方根高さ(Sq)は、3次元白色干渉型顕微鏡、「Contour2.0」(ブルカージャパン社製)を用いて、接眼レンズ倍率1.0倍、対物レンズ倍率20倍、計測エリア縦235μm×横313μmの条件で測定を行い、ガウシアン関数でスムージング処理を実施した後に表面の算術平均高さ、二乗平均平方根高さを測定して求めた。観察モードは「Waveモード」で計測した。
(3) Surface roughness (arithmetic mean height: Sa, root mean square height: Sq)
The arithmetic mean height (Sa) and the root mean square height (Sq) of the silicone layer (B) used in each example and comparative example were measured by a three-dimensional white interference microscope, "Contour 2.0" (Bruker Japan). (manufacturer), measurement was performed under the conditions of an eyepiece magnification of 1.0 times, an objective lens magnification of 20 times, and a measurement area of 235 μm (length) × 313 μm (width), and smoothing was performed using a Gaussian function. It was obtained by measuring the root mean square height. Observation mode was "Wave mode".
(4)形状保持性
各実施例、比較例で得られた硬化前の本フィルムについて形状保持性を評価した。離型フィルムから本フィルムを剥がして各種評価や測定に用いる際に、形状が保持されているため容易に操作できたものを評価「〇」、形状が保持できず操作の過程で撓んでフィルム自身が絡まったり切れたりしたものを評価「×」とした。
(4) Shape retainability The shape retainability of the films before curing obtained in each of Examples and Comparative Examples was evaluated. When this film was peeled off from the release film and used for various evaluations and measurements, it was evaluated as "○" when it was easy to operate because the shape was retained. The evaluation "X" was given when the wire was entangled or cut.
(5)破れの有無
各実施例、比較例で本フィルムを作製する際、最表裏層に離型フィルムを積層した状態で評価した。得られた硬化前の本フィルムから最表裏層の離型フィルムを手で剥がす工程において、破れの有無を評価した。フィルムが破れることなく離型フィルムを剥がせたものを評価「〇」、離型フィルムにとられてフィルムの一部に破れがあったものを評価「×」とした。
なお、破れの有無以外の各種評価及び測定の際には離型フィルムを剥がした状態の本フィルムを用いた。
(5) Presence or Absence of Tear When producing the film in each of Examples and Comparative Examples, evaluation was performed in a state in which a release film was laminated on the outermost and back layers. The presence or absence of tearing was evaluated in the step of manually peeling off the release film of the outermost and back layers from the obtained uncured film. When the release film could be peeled off without tearing the film, it was evaluated as "O", and when the release film was removed and part of the film was torn, it was evaluated as "X".
For various evaluations and measurements other than the presence or absence of tearing, the film from which the release film was removed was used.
(6)耐剥離性(層間剥離強度)
各実施例、比較例で得られた硬化前の本フィルムから5cm×10cmの試験片を切り出し、測定試料として得た。その測定試料におけるシリコーン層(A)とシリコーン層(B)の間の層間剥離強度を、万能試験機(島津製作所製)を用いて測定した。チャック間25mm、23℃の環境下で200mm/minの180°剥離試験で測定した。
(6) Delamination resistance (interlayer delamination strength)
A test piece of 5 cm×10 cm was cut out from the uncured film obtained in each of Examples and Comparative Examples, and obtained as a measurement sample. The delamination strength between the silicone layer (A) and the silicone layer (B) in the measurement sample was measured using a universal tester (manufactured by Shimadzu Corporation). It was measured by a 180° peeling test at 200 mm/min under an environment of 25 mm between chucks and 23°C.
(7)成形性・賦形性
各実施例及び比較例で得られた本フィルムから7cm×10cmほどの試験片を切り出し、評価試料とした。予め240℃に加熱した、タンジェンシャルエッジがついたドーム形状の振動板用の金型に評価試料を挟み込んで0.6MPaの圧力でプレスし、加圧した状態で30秒保持してから試料を金型から取り出した。
成形性・賦形性が良好である場合には「〇」、良好でない場合には「×」とする。
(8)金型への貼り付き性
上記の成形性・賦形性の評価と同様に各実施例及び比較例で得られた本フィルムから7cm×10cmほどの試験片を切り出し、評価試料とした。予め240℃に加熱した振動板用の金型に評価試料を挟み込んで0.6MPaの圧力でプレスし、加圧した状態で30秒保持してから試料を金型から取り出した。
(7) Formability/Formability A test piece of about 7 cm×10 cm was cut out from the film obtained in each of Examples and Comparative Examples and used as an evaluation sample. The evaluation sample is sandwiched between a dome-shaped diaphragm mold with a tangential edge and preheated to 240° C. and pressed at a pressure of 0.6 MPa. Removed from the mold.
If the moldability and shapeability are good, it is evaluated as "O", and if it is not good, it is evaluated as "X".
(8) Adhesion to a mold A test piece of about 7 cm x 10 cm was cut out from the film obtained in each example and comparative example in the same manner as in the evaluation of moldability and shapeability described above, and used as an evaluation sample. . The sample to be evaluated was sandwiched between a mold for diaphragm preheated to 240° C. and pressed at a pressure of 0.6 MPa.
実施例1
最表裏層用である、算術平均高さ(Sa)が1600nmの一対のPETフィルムの間に厚さ20μmのシリコーンゴム(TSE2571-5U)をラミネートし、硬化させた積層フィルムを準備し、片側のPETフィルムを剥離し硬化済みシリコーンを露出させた。この時シリコーンにはPETフィルムの算術平均高さが転写され、シリコーンの算術平均高さ(Sa)は1600nmとなった。
Example 1
A 20 μm thick silicone rubber (TSE2571-5U) is laminated between a pair of PET films with an arithmetic mean height (Sa) of 1600 nm for the front and back layers, and cured to prepare a laminated film. The PET film was peeled off to expose the cured silicone. At this time, the arithmetic mean height of the PET film was transferred to the silicone, and the arithmetic mean height (Sa) of the silicone was 1600 nm.
オルガノポリシロキサンとシリカを含む混合物(商品名「KE-597-U」、信越化学工業株式会社製)100質量部と、有機過酸化物(商品名「C-8B」、信越化学工業株式会社製、2,5-ジメチル-2,5-ジ(t-ブチルパーオキシ)ヘキサン、有機過酸化物を約40質量%含有)1質量部を、プラネタリーミキサーを用いて、温度90℃で10分間混練して、ミラブル型の樹脂組成物(1)を得た。
上記で得られた2枚の積層フィルムを、硬化済みシリコーン露出面が内側になるように、径100mmの2本のカレンダーロールに沿って供給し、カレンダーロール間で積層フィルムの間に、樹脂組成物(1)を投入して、室温25℃、ロール温度90℃でロールにバンクを形成させ、中間層の厚みが100μmとなるように、離型フィルム/最表層/中間層/最裏層/離型フィルムからなる離型フィルム付きフィルムを得た。得られた離型フィルム付きフィルムから2枚の離型フィルムを剥がして、本フィルムを得た。本フィルムの最表裏層及び中間層のゲル分率、本フィルムの20℃での貯蔵弾性率、及び中間層(シリコーン層(A))と最表裏層(シリコーン層(B))の層間剥離強度を測定した。測定結果を表1に示す。
A mixture containing organopolysiloxane and silica (trade name “KE-597-U”, manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.) 100 parts by mass, and an organic peroxide (trade name “C-8B”, manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd. , 2,5-dimethyl-2,5-di(t-butylperoxy)hexane, containing about 40% by mass of an organic peroxide), using a planetary mixer, at a temperature of 90 ° C. for 10 minutes. After kneading, a millable type resin composition (1) was obtained.
The two laminated films obtained above were supplied along two calender rolls with a diameter of 100 mm so that the exposed surface of the cured silicone was on the inside, and between the calender rolls and between the laminated films, the resin composition Product (1) is put in, and a bank is formed on the roll at room temperature 25 ° C. and roll temperature 90 ° C., so that the thickness of the intermediate layer is 100 μm, release film / outermost layer / intermediate layer / outermost layer / A film with a release film made of the release film was obtained. Two release films were peeled off from the obtained film with a release film to obtain the present film. The gel fraction of the outermost and backing layers and the intermediate layer of the film, the storage elastic modulus of the present film at 20°C, and the interlayer peel strength of the intermediate layer (silicone layer (A)) and the outermost and backing layer (silicone layer (B)) was measured. Table 1 shows the measurement results.
賦形成形により成形品を製造することを想定して、上記で得られた本フィルムを220℃で2分間加熱しながら圧力0.2MPaで2枚の平板よりプレス成形する簡易的な方法で硬化させた。得られた硬化後の本フィルムについて、ゲル分率(フィルム全体)、貯蔵弾性率を測定した。 Assuming that a molded product will be produced by molding, the film obtained above is cured by a simple method of press molding from two flat plates at a pressure of 0.2 MPa while heating at 220 ° C. for 2 minutes. let me The gel fraction (whole film) and storage elastic modulus of the obtained cured film were measured.
実施例2及び比較例1
最表裏層用に、実施例2では算術平均高さ(Sa)が2200nmのPETフィルム、比較例1では表面が平滑なPETフィルムを用いたこと以外は実施例1と同じ方法でフィルムを作製した。
本フィルムの最表裏層及び中間層のゲル分率、本フィルムの20℃での貯蔵弾性率、及び中間層(シリコーン層(A))と最表裏層(シリコーン層(B))の層間剥離強度を測定した。測定結果を表1に示す。
Example 2 and Comparative Example 1
Films were produced in the same manner as in Example 1 except that a PET film having an arithmetic mean height (Sa) of 2200 nm was used for the outermost and back layers in Example 2, and a PET film with a smooth surface was used in Comparative Example 1. .
The gel fraction of the outermost and backing layers and the intermediate layer of the film, the storage elastic modulus of the present film at 20°C, and the interlayer peel strength of the intermediate layer (silicone layer (A)) and the outermost and backing layer (silicone layer (B)) was measured. Table 1 shows the measurement results.
賦形成形により成形品を製造することを想定して、上記で得られた本フィルムを220℃で2分間加熱しながら圧力0.2MPaで2枚の平板よりプレス成形する簡易的な方法で硬化させた。得られた硬化後の本フィルムについて、ゲル分率(フィルム全体)、貯蔵弾性率、及び層間剥離強度を測定した。 Assuming that a molded product will be produced by molding, the film obtained above is cured by a simple method of press molding from two flat plates at a pressure of 0.2 MPa while heating at 220 ° C. for 2 minutes. let me The gel fraction (whole film), storage elastic modulus, and delamination strength of the cured film were measured.
以上の実施例の本フィルムは、シリコーン層(A)とシリコーン層(B)との剥離強度が高く、耐剥離性が良好であることがわかる。一方、層間に凹凸を有さない比較例1のフィルムは、剥離強度が低く、耐剥離性が低いことがわかる。
実際に、比較例1で得られた離型フィルム付きフィルムについて、離型フィルムを剥がした際に、シリコーン層(A)とシリコーン層(B)の層間で剥離が生じた。
また上記方法により、金型への貼り付き性の評価を行ったところ、実施例1,2の本フィルムは、金型から評価試料を取り出す際に、比較例1のものよりも容易に金型に貼りつかずに取り出すことができた。
It can be seen that the present films of the above examples have high peel strength between the silicone layer (A) and the silicone layer (B) and have good peel resistance. On the other hand, it can be seen that the film of Comparative Example 1, which does not have unevenness between layers, has low peel strength and low peel resistance.
As for the film with a release film obtained in Comparative Example 1, when the release film was actually peeled off, separation occurred between the silicone layer (A) and the silicone layer (B).
In addition, when the sticking property to the mold was evaluated by the above method, the films of Examples 1 and 2 were easier to mold than the film of Comparative Example 1 when the evaluation sample was removed from the mold. I was able to take it out without sticking to it.
Claims (18)
下記(a)の粘弾性特性を有し、
該シリコーン層(A)とシリコーン層(B)の層間の少なくとも一つの面の算術平均高さ(Sa)が500~4000nmであるフィルム。
(a)測定温度20℃、周波数10Hzでの貯蔵弾性率E’が0.1MPa~500MPa。 At least one side of the curable silicone layer (A) is provided with another silicone layer (B),
Having the following viscoelastic properties of (a),
A film in which at least one surface between the silicone layer (A) and the silicone layer (B) has an arithmetic mean height (Sa) of 500 to 4000 nm.
(a) Storage elastic modulus E′ at a measurement temperature of 20° C. and a frequency of 10 Hz is 0.1 MPa to 500 MPa.
下記(a)の粘弾性特性を有し、
該シリコーン層(A)とシリコーン層(B)との層間剥離強度が0.5N/5cm以上であるフィルム。
(a)測定温度20℃、周波数10Hzでの貯蔵弾性率E’が0.1MPa~500MPa。 At least one side of the curable silicone layer (A) is provided with another silicone layer (B),
Having the following viscoelastic properties of (a),
A film in which the delamination strength between the silicone layer (A) and the silicone layer (B) is 0.5 N/5 cm or more.
(a) Storage elastic modulus E′ at a measurement temperature of 20° C. and a frequency of 10 Hz is 0.1 MPa to 500 MPa.
(b)測定温度20℃、周波数10Hzでの貯蔵弾性率E’が0.1MPa~500MPa。 The film according to any one of claims 1 to 4, wherein the silicone layer (B) has the following viscoelastic properties (b).
(b) Storage elastic modulus E′ at a measurement temperature of 20° C. and a frequency of 10 Hz is 0.1 MPa to 500 MPa.
(c)測定温度20℃、周波数10Hzでの貯蔵弾性率E’20が0.1MPa以上500MPa以下。
(d)測定温度100℃、周波数10Hzでの貯蔵弾性率E’100が0.1MPa以上500MPa以下。
(e)前記貯蔵弾性率E’20に対する、前記貯蔵弾性率E’100の比(E’100/E’20)が0.4以上1.0以下。 The film according to any one of claims 1 to 8, which has the following viscoelastic properties (c) to (e) after curing.
(c) Storage elastic modulus E′20 at a measurement temperature of 20° C. and a frequency of 10 Hz is 0.1 MPa or more and 500 MPa or less.
(d) Storage modulus E′100 at a measurement temperature of 100° C. and a frequency of 10 Hz is 0.1 MPa or more and 500 MPa or less.
(e) The ratio of the storage modulus E'100 to the storage modulus E'20 ( E'100 / E'20 ) is 0.4 or more and 1.0 or less.
(a)測定温度20℃、周波数10Hzでの貯蔵弾性率E’が0.1MPa~500MPa。 At least one side of the silicone layer (B) has an arithmetic mean height (Sa) of 500 to 4000 nm, and the following viscosity (a) obtained by laminating a curable silicone layer (A) on the one side: A method for producing a film having elastic properties.
(a) Storage elastic modulus E′ at a measurement temperature of 20° C. and a frequency of 10 Hz is 0.1 MPa to 500 MPa.
(a)測定温度20℃、周波数10Hzでの貯蔵弾性率E’が0.1MPa~500MPa。
The following viscosity (a) obtained by laminating a curable silicone layer (A) on both surfaces of the silicone layer (B) having an arithmetic mean height (Sa) of 500 to 4000 nm. A method for producing a film having elastic properties.
(a) Storage elastic modulus E′ at a measurement temperature of 20° C. and a frequency of 10 Hz is 0.1 MPa to 500 MPa.
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