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JP2022163867A - Wiring board, module, wiring board manufacturing method, and module manufacturing method - Google Patents

Wiring board, module, wiring board manufacturing method, and module manufacturing method Download PDF

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JP2022163867A
JP2022163867A JP2021068969A JP2021068969A JP2022163867A JP 2022163867 A JP2022163867 A JP 2022163867A JP 2021068969 A JP2021068969 A JP 2021068969A JP 2021068969 A JP2021068969 A JP 2021068969A JP 2022163867 A JP2022163867 A JP 2022163867A
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JP
Japan
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wiring
power supply
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protective layer
wiring board
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Application number
JP2021068969A
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Japanese (ja)
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昌太郎 細田
Shotaro Hosoda
啓吾 今井
Keigo Imai
誠司 武
Seiji Take
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Dai Nippon Printing Co Ltd
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Dai Nippon Printing Co Ltd
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Abstract

【課題】給電線と給電部との間の電気的な接続性を向上させることが可能な、配線基板、モジュール、配線基板の製造方法およびモジュールの製造方法を提供する。【解決手段】配線基板10は、基板11と、基板11上に配置され、複数の配線21を含むメッシュ配線層20と、メッシュ配線層20に電気的に接続された給電部40と、基板11上に配置され、メッシュ配線層20および給電部40を覆う保護層17と、を備えている。基板11は、波長400nm以上700nm以下の光線の透過率が85%以上である。保護層17の厚みT2は、0.05μm以上1.8μm以下である。保護層17の表面の鉛筆硬度は、B以上2H以下である。【選択図】図4A wiring board, a module, a wiring board manufacturing method, and a module manufacturing method capable of improving electrical connectivity between a power supply line and a power supply part are provided. A wiring board (10) includes a substrate (11), a mesh wiring layer (20) disposed on the substrate (11) and including a plurality of wirings (21), a power supply section (40) electrically connected to the mesh wiring layer (20), and the substrate (10). and a protective layer 17 arranged thereon to cover the mesh wiring layer 20 and the power supply portion 40 . The substrate 11 has a transmittance of 85% or more for light having a wavelength of 400 nm or more and 700 nm or less. The thickness T2 of the protective layer 17 is 0.05 μm or more and 1.8 μm or less. The pencil hardness of the surface of the protective layer 17 is B or more and 2H or less. [Selection drawing] Fig. 4

Description

本開示の実施の形態は、配線基板、モジュール、配線基板の製造方法およびモジュールの製造方法に関する。 The embodiments of the present disclosure relate to a wiring board, a module, a wiring board manufacturing method, and a module manufacturing method.

現在、スマートフォン、タブレット等の携帯端末機器の高機能、小型化、薄型化および軽量化が進んでいる。これら携帯端末機器は、複数の通信帯域を使用するため、通信帯域に応じた複数のアンテナが必要とされる。例えば、携帯端末機器には、電話用アンテナ、WiFi(Wireless Fidelity)用アンテナ、3G(Generation)用アンテナ、4G(Generation)用アンテナ、LTE(Long Term Evolution)用アンテナ、Bluetooth(登録商標)用アンテナ、NFC(Near Field Communication)用アンテナ等の複数のアンテナが搭載されている。しかしながら、携帯端末機器の小型化に伴い、アンテナの搭載スペースは限られており、アンテナ設計の自由度は狭まっている。また、限られたスペース内にアンテナを内蔵していることから、電波感度が必ずしも満足できるものではない。 Currently, mobile terminal devices such as smartphones and tablets are becoming more sophisticated, smaller, thinner and lighter. Since these mobile terminal devices use a plurality of communication bands, they require a plurality of antennas corresponding to the communication bands. For example, mobile terminal devices include telephone antennas, WiFi (Wireless Fidelity) antennas, 3G (Generation) antennas, 4G (Generation) antennas, LTE (Long Term Evolution) antennas, and Bluetooth (registered trademark) antennas. , an NFC (Near Field Communication) antenna, and the like. However, with the miniaturization of mobile terminal devices, the mounting space for antennas is limited, and the degree of freedom in antenna design is narrowing. Also, since the antenna is built in a limited space, the radio sensitivity is not always satisfactory.

このため、携帯端末機器の表示領域に搭載することができるフィルムアンテナが開発されている。このフィルムアンテナは、透明基材上にアンテナパターンが形成された透明アンテナにおいて、アンテナパターンが、不透明な導電体層の形成部としての導体部と非形成部としての多数の開口部とによるメッシュ状の導電体メッシュ層によって形成されている。 For this reason, film antennas have been developed that can be mounted in the display areas of portable terminal devices. This film antenna is a transparent antenna in which an antenna pattern is formed on a transparent base material, and the antenna pattern is formed in a mesh shape with a conductor portion as a formation portion of an opaque conductor layer and a large number of openings as non-formation portions. of conductive mesh layers.

特開2011-66610号公報JP 2011-66610 A 特許第5636735号明細書Patent No. 5636735 特許第5695947号明細書Patent No. 5695947

ところで、フィルムアンテナにおいては、導電体メッシュ層や、導電体メッシュ層を外部の機器に電気的に接続させるための給電部を保護するために、導電体メッシュ層および給電部を保護層で覆うことが好ましい。しかしながら、給電部を保護層で覆った場合、フィルムアンテナを外部の機器に接続させるための給電線と、給電部との間の電気的な接続が不安定になる可能性がある。 By the way, in the film antenna, in order to protect the conductive mesh layer and the feeding section for electrically connecting the conductive mesh layer to an external device, the conductive mesh layer and the feeding section are covered with a protective layer. is preferred. However, when the power supply portion is covered with a protective layer, there is a possibility that the electrical connection between the power supply portion and the power supply line for connecting the film antenna to an external device may become unstable.

本実施の形態は、給電線と給電部との間の電気的な接続性を向上させることが可能な、配線基板、モジュール、配線基板の製造方法およびモジュールの製造方法を提供することを目的の一つとする。 An object of the present embodiment is to provide a wiring board, a module, a method for manufacturing the wiring board, and a method for manufacturing the module, which can improve electrical connectivity between the power supply line and the power supply part. be one.

本開示の一実施の形態による配線基板は、基板と、前記基板上に配置され、複数の配線を含むメッシュ配線層と、前記メッシュ配線層に電気的に接続された給電部と、前記基板上に配置され、前記メッシュ配線層および前記給電部を覆う保護層と、を備え、前記基板は、波長400nm以上700nm以下の光線の透過率が85%以上であり、前記保護層の厚みは、0.05μm以上1.8μm以下であり、前記保護層の表面の鉛筆硬度は、B以上2H以下である、配線基板である。 A wiring board according to an embodiment of the present disclosure includes a board, a mesh wiring layer disposed on the board and including a plurality of wirings, a power supply section electrically connected to the mesh wiring layer, and and a protective layer that covers the mesh wiring layer and the power feeding portion, the substrate has a transmittance of 85% or more for light with a wavelength of 400 nm or more and 700 nm or less, and the protective layer has a thickness of 0 05 μm or more and 1.8 μm or less, and the surface of the protective layer has a pencil hardness of B or more and 2H or less.

本開示の一実施の形態による配線基板において、前記保護層の誘電正接は、0.005以下であってもよい。 In the wiring board according to one embodiment of the present disclosure, the protective layer may have a dielectric loss tangent of 0.005 or less.

本開示の一実施の形態による配線基板において、前記保護層は、アクリル樹脂またはポリエステル樹脂を含んでいてもよい。 In the wiring board according to one embodiment of the present disclosure, the protective layer may contain an acrylic resin or a polyester resin.

本開示の一実施の形態による配線基板において、前記保護層は、二酸化ケイ素を含んでいてもよい。 In the wiring board according to one embodiment of the present disclosure, the protective layer may contain silicon dioxide.

本開示の一実施の形態による配線基板において、前記配線基板は、電波送受信機能を有していてもよい。 In the wiring board according to one embodiment of the present disclosure, the wiring board may have a radio wave transmission/reception function.

本開示の一実施の形態によるモジュールは、本開示による配線基板と、導電粒子を含む異方性導電フィルムを介して、前記配線基板に圧着された給電線と、を備え、前記異方性導電フィルムは、前記給電部に対向するように配置され、前記給電線は、前記導電粒子が前記保護層内に入り込むことにより、前記給電部に電気的に接続されている、モジュールである。 A module according to an embodiment of the present disclosure includes a wiring board according to the present disclosure, and a power supply line crimped to the wiring board via an anisotropic conductive film containing conductive particles, wherein the anisotropic conductive The film is arranged so as to face the power supply section, and the power supply line is electrically connected to the power supply section by the conductive particles entering the protective layer.

本開示の一実施の形態による配線基板の製造方法は、基板を準備する工程と、前記基板上に、複数の配線を含むメッシュ配線層と、前記メッシュ配線層に電気的に接続された給電部とを形成する工程と、前記基板上に、前記メッシュ配線層および前記給電部を覆うように、保護層を形成する工程と、を備え、前記基板は、波長400nm以上700nm以下の光線の透過率が85%以上であり、前記保護層の厚みは、0.05μm以上1.8μm以下であり、前記保護層の表面の鉛筆硬度は、B以上2H以下である、配線基板の製造方法である。 A method of manufacturing a wiring board according to an embodiment of the present disclosure includes a step of preparing a board, a mesh wiring layer including a plurality of wirings on the board, and a power supply section electrically connected to the mesh wiring layer. and forming a protective layer on the substrate so as to cover the mesh wiring layer and the power feeding portion, wherein the substrate has a transmittance of light with a wavelength of 400 nm or more and 700 nm or less. is 85% or more, the thickness of the protective layer is 0.05 μm or more and 1.8 μm or less, and the pencil hardness of the surface of the protective layer is B or more and 2H or less.

本開示の一実施の形態によるモジュールの製造方法は、本開示による配線基板を準備する工程と、導電粒子を含む異方性導電フィルムを介して、給電線を前記配線基板に圧着させる工程と、を備え、前記異方性導電フィルムは、前記給電部に対向するように配置され、前記給電線は、前記導電粒子が前記保護層内に入り込むことにより、前記給電部に電気的に接続されている、モジュールの製造方法である。 A method for manufacturing a module according to an embodiment of the present disclosure includes steps of preparing a wiring board according to the present disclosure, crimping a feed line to the wiring board via an anisotropic conductive film containing conductive particles, wherein the anisotropic conductive film is arranged to face the power supply section, and the power supply line is electrically connected to the power supply section by the conductive particles entering the protective layer. It is a method of manufacturing a module.

本開示の実施の形態によると、給電線と給電部との間の電気的な接続性を向上できる。 According to the embodiments of the present disclosure, it is possible to improve the electrical connectivity between the feeder and the feeder.

図1は、一実施の形態による配線基板を示す平面図である。FIG. 1 is a plan view showing a wiring board according to one embodiment. 図2は、一実施の形態による配線基板を示す拡大平面図(図1のII部拡大図)である。FIG. 2 is an enlarged plan view (enlarged view of part II in FIG. 1) showing the wiring board according to the embodiment. 図3は、一実施の形態による配線基板を示す断面図(図2のIII-III線断面図)である。FIG. 3 is a cross-sectional view (cross-sectional view along line III-III in FIG. 2) showing the wiring board according to one embodiment. 図4は、一実施の形態による配線基板を示す断面図(図2のIV-IV線断面図)である。FIG. 4 is a cross-sectional view (cross-sectional view taken along line IV-IV in FIG. 2) showing the wiring board according to one embodiment. 図5は、一実施の形態による画像表示装置を示す平面図である。FIG. 5 is a plan view showing an image display device according to one embodiment. 図6は、一実施の形態による画像表示装置を示す断面図(図5のVI-VI線断面図)である。FIG. 6 is a cross-sectional view (cross-sectional view along the line VI-VI in FIG. 5) showing the image display device according to one embodiment. 図7(a)-(f)は、一実施の形態による配線基板の製造方法を示す断面図である。7A to 7F are cross-sectional views showing a method of manufacturing a wiring board according to one embodiment. 図8(a)-(c)は、一実施の形態によるモジュールの製造方法を示す断面図である。8(a)-(c) are cross-sectional views showing a module manufacturing method according to one embodiment. 図9は、一実施の形態による配線基板の変形例を示す拡大平面図である。FIG. 9 is an enlarged plan view showing a modification of the wiring board according to one embodiment.

まず、図1乃至図8により、一実施の形態について説明する。図1乃至図8は本実施の形態を示す図である。 First, an embodiment will be described with reference to FIGS. 1 to 8. FIG. 1 to 8 are diagrams showing this embodiment.

以下に示す各図は、模式的に示したものである。そのため、各部の大きさ、形状は理解を容易にするために、適宜誇張している。また、技術思想を逸脱しない範囲において適宜変更して実施することが可能である。なお、以下に示す各図において、同一部分には同一の符号を付しており、一部詳細な説明を省略する場合がある。また、本明細書中に記載する各部材の寸法等の数値および材料名は、実施の形態としての一例であり、これに限定されるものではなく、適宜選択して使用することができる。本明細書において、形状や幾何学的条件を特定する用語、例えば平行や直交、垂直等の用語については、厳密に意味するところに加え、実質的に同じ状態も含むものとする。 Each figure shown below is shown typically. Therefore, the size and shape of each part are appropriately exaggerated for easy understanding. In addition, it is possible to modify and implement as appropriate without departing from the technical idea. In addition, in each figure shown below, the same code|symbol is attached|subjected to the same part and detailed description may be partially abbreviate|omitted. In addition, numerical values such as dimensions and material names of each member described in this specification are examples as an embodiment, and are not limited to these, and can be appropriately selected and used. In this specification, terms specifying shapes and geometrical conditions, such as parallel, orthogonal, and perpendicular terms, not only have strict meanings but also include substantially the same states.

本実施の形態において、「X方向」とは、基板の1つの辺に対して平行な方向である。「Y方向」とは、X方向に垂直かつ基板の他の辺に対して平行な方向である。「Z方向」とは、X方向およびY方向の両方に垂直かつ配線基板の厚み方向に平行な方向である。また、「表面」とは、Z方向プラス側の面をいう。「裏面」とは、Z方向マイナス側の面をいう。なお、本実施の形態において、メッシュ配線層20が、電波送受信機能(アンテナとしての機能)を有するメッシュ配線層20である場合を例にとって説明するが、メッシュ配線層20は電波送受信機能(アンテナとしての機能)を有していなくても良い。 In this embodiment, the "X direction" is a direction parallel to one side of the substrate. "Y direction" is a direction perpendicular to the X direction and parallel to the other sides of the substrate. The “Z direction” is a direction perpendicular to both the X direction and the Y direction and parallel to the thickness direction of the wiring board. Moreover, the “surface” refers to a surface on the positive side in the Z direction. "Back surface" refers to the surface on the negative side in the Z direction. In the present embodiment, the case where the mesh wiring layer 20 has a radio wave transmission/reception function (function as an antenna) will be described as an example. functions).

[配線基板の構成]
図1乃至図4を参照して、本実施の形態による配線基板の構成について説明する。図1乃至図4は、本実施の形態による配線基板を示す図である。
[Configuration of Wiring Board]
The configuration of the wiring board according to the present embodiment will be described with reference to FIGS. 1 to 4. FIG. 1 to 4 are diagrams showing a wiring board according to this embodiment.

図1に示すように、本実施の形態による配線基板10は、例えば画像表示装置のディスプレイ上に配置されるものである。このような配線基板10は、透明性を有する基板11と、基板11上に配置されたメッシュ配線層20と、メッシュ配線層20に電気的に接続された給電部40と、基板11上に配置され、メッシュ配線層20および給電部40を覆う保護層17と、を備えている。 As shown in FIG. 1, the wiring board 10 according to the present embodiment is arranged, for example, on a display of an image display device. Such a wiring board 10 includes a substrate 11 having transparency, a mesh wiring layer 20 arranged on the substrate 11, a power supply portion 40 electrically connected to the mesh wiring layer 20, and a wiring board 11 arranged on the substrate 11. and a protective layer 17 that covers the mesh wiring layer 20 and the power supply section 40 .

このうち基板11は、平面視で略長方形状であり、その長手方向がY方向に平行であり、その短手方向がX方向に平行となっている。基板11は、透明性を有するとともに略平板状であり、その厚みは全体として略均一となっている。基板11の長手方向(Y方向)の長さLは、例えば2mm以上300mm以下の範囲で選択することができ、好ましくは100mm以上200mm以下の範囲で選択することができる。基板11の短手方向(X方向)の長さLは、例えば2mm以上300mm以下の範囲で選択することができ、好ましくは50mm以上100mm以下の範囲で選択することができる。なお、基板11は、その角部がそれぞれ丸みを帯びていても良い。 Among them, the substrate 11 has a substantially rectangular shape in plan view, with its longitudinal direction parallel to the Y direction and its short direction parallel to the X direction. The substrate 11 is transparent, has a substantially flat plate shape, and has a substantially uniform thickness as a whole. The length L1 of the substrate 11 in the longitudinal direction (Y direction) can be selected, for example, in the range of 2 mm or more and 300 mm or less, preferably in the range of 100 mm or more and 200 mm or less. The length L2 of the substrate 11 in the lateral direction (X direction) can be selected, for example, in the range of 2 mm or more and 300 mm or less, preferably in the range of 50 mm or more and 100 mm or less. The substrate 11 may have rounded corners.

基板11の誘電率は、特に制限はないが、2.0以上、10.0以下であっても良い。基板11の誘電率は、IEC 62562に準拠して測定することができる。具体的には、まず、基板11のうち、メッシュ配線層20が配置されていない部分を切り出して試験片を準備する。または、基板11のうち、メッシュ配線層20が配置された部分を切り出し、エッチング等によりメッシュ配線層20を除去しても良い。試験片の寸法は、幅が10mm以上20mm以下、長さが50mm以上100mm以下とする。次に、IEC 62562に準拠し、誘電率を測定する。基板11の誘電率は、ASTM D150に準拠して測定することもできる。 The dielectric constant of the substrate 11 is not particularly limited, but may be 2.0 or more and 10.0 or less. The dielectric constant of the substrate 11 can be measured according to IEC62562. Specifically, first, a test piece is prepared by cutting out a portion of the substrate 11 where the mesh wiring layer 20 is not arranged. Alternatively, a portion of the substrate 11 where the mesh wiring layer 20 is arranged may be cut out, and the mesh wiring layer 20 may be removed by etching or the like. The dimensions of the test piece are 10 mm or more and 20 mm or less in width and 50 mm or more and 100 mm or less in length. Next, the dielectric constant is measured according to IEC 62562. The dielectric constant of substrate 11 can also be measured according to ASTM D150.

基板11の材料は、可視光線領域での透明性および電気絶縁性を有する材料であればよい。本実施の形態において基板11の材料はポリエチレンテレフタレートであるが、これに限定されない。基板11の材料としては、例えば、ポリエチレンテレフタレート等のポリエステル系樹脂、ポリメチルメタクリレート等のアクリル系樹脂、ポリカーボネート系樹脂、ポリイミド系樹脂、或いは、シクロオレフィン重合体などのポリオレフィン系樹脂、トリアセチルセルロースなどのセルロース系樹脂材料等の有機絶縁性材料を用いることが好ましい。あるいは、基板11の材料としては、シクロオレフィンポリマー(例えば日本ゼオン社製ZF-16)、ポリノルボルネンポリマー(住友ベークライト社製)等の有機絶縁性材料を用いても良い。また、基板11の材料としては、用途に応じてガラス、セラミックス等を適宜選択することもできる。なお、基板11は、単一の層によって構成された例を図示したが、これに限定されず、複数の基材又は層が積層された構造であってもよい。また、基板11はフィルム状であっても、板状であってもよい。このため、基板11の厚さは特に制限はなく、用途に応じて適宜選択できるが、一例として、基板11の厚みT(Z方向の長さ、図3参照)は、例えば10μm以上200μm以下の範囲とすることができる。 The material of the substrate 11 may be any material that has transparency in the visible light region and electrical insulation. Although the material of the substrate 11 is polyethylene terephthalate in this embodiment, the material is not limited to this. Examples of materials for the substrate 11 include polyester resins such as polyethylene terephthalate, acrylic resins such as polymethyl methacrylate, polycarbonate resins, polyimide resins, polyolefin resins such as cycloolefin polymers, and triacetyl cellulose. It is preferable to use an organic insulating material such as a cellulose resin material. Alternatively, as the material of the substrate 11, an organic insulating material such as cycloolefin polymer (for example, ZF-16 manufactured by Nippon Zeon Co., Ltd.) or polynorbornene polymer (manufactured by Sumitomo Bakelite Co., Ltd.) may be used. Also, as the material of the substrate 11, glass, ceramics, or the like can be appropriately selected depending on the application. Although the substrate 11 is illustrated as being composed of a single layer, it is not limited to this, and may have a structure in which a plurality of base materials or layers are laminated. Further, the substrate 11 may be film-like or plate-like. Therefore, the thickness of the substrate 11 is not particularly limited and can be appropriately selected according to the application. can be in the range of

また、基板11の誘電正接は、0.002以下であっても良く、0.001以下であることが好ましい。なお、基板11の誘電正接の下限は特にないが、0超としても良い。基板11の誘電正接が上記範囲であることにより、とりわけメッシュ配線層20が送受信する電磁波(例えばミリ波)が高周波である場合に、電磁波の送受信に伴う利得(感度)の損失を小さくすることができる。なお、基板11の誘電正接の下限は、特に限定されない。基板11の誘電率は、特に制限はないが、2.0以上、10.0以下であっても良い。 Also, the dielectric loss tangent of the substrate 11 may be 0.002 or less, preferably 0.001 or less. Although there is no particular lower limit for the dielectric loss tangent of the substrate 11, it may be greater than zero. When the dielectric loss tangent of the substrate 11 is within the above range, especially when the electromagnetic waves (for example, millimeter waves) transmitted and received by the mesh wiring layer 20 are of high frequency, the gain (sensitivity) loss associated with the transmission and reception of the electromagnetic waves can be reduced. can. Note that the lower limit of the dielectric loss tangent of the substrate 11 is not particularly limited. The dielectric constant of the substrate 11 is not particularly limited, but may be 2.0 or more and 10.0 or less.

基板11の誘電正接は、IEC 62562に準拠して測定することができる。具体的には、まず、メッシュ配線層20が形成されてない部分の基板11を切り出して試験片を準備する。または、メッシュ配線層20が形成された基板11を切り出し、エッチング等によりメッシュ配線層20を除去しても良い。試験片の寸法は、幅10mmから20mm、長さ50mmから100mmとする。次に、IEC 62562に準拠し、誘電正接を測定する。基板11の誘電率と誘電正接は、ASTM D150に準拠して測定することもできる。 The dielectric loss tangent of the substrate 11 can be measured according to IEC62562. Specifically, first, a test piece is prepared by cutting out a portion of the substrate 11 where the mesh wiring layer 20 is not formed. Alternatively, the substrate 11 on which the mesh wiring layer 20 is formed may be cut out and the mesh wiring layer 20 may be removed by etching or the like. The dimensions of the test piece are 10 mm to 20 mm in width and 50 mm to 100 mm in length. Next, the dielectric loss tangent is measured according to IEC 62562. The dielectric constant and dielectric loss tangent of the substrate 11 can also be measured according to ASTM D150.

また、基板11は、可視光線(波長400nm以上700nm以下の光線)の透過率は85%以上であっても良く、90%以上であることが好ましい。なお、基板11の可視光線の透過率の上限は特にないが、例えば100%以下としても良い。基板11の可視光線の透過率を上記範囲とすることにより、配線基板10の透明性を高め、画像表示装置90のディスプレイ91(後述)を視認しやすくすることができる。なお、可視光線とは、波長が400nm~700nmの光線のことをいう。また、可視光線の透過率が85%以上であるとは、公知の分光光度計(例えば、日本分光株式会社製の分光器:V-670)を用いて基板11に対して吸光度の測定を行った際、400nm~700nmの全波長領域でその透過率が85%以上となることをいう。 Further, the substrate 11 may have a transmittance of 85% or more, preferably 90% or more, for visible light (light having a wavelength of 400 nm or more and 700 nm or less). There is no particular upper limit for the visible light transmittance of the substrate 11, but it may be, for example, 100% or less. By setting the visible light transmittance of the substrate 11 within the above range, the transparency of the wiring substrate 10 can be enhanced, and the display 91 (described later) of the image display device 90 can be easily viewed. Note that visible light refers to light having a wavelength of 400 nm to 700 nm. Further, when the visible light transmittance is 85% or more, the absorbance of the substrate 11 is measured using a known spectrophotometer (for example, spectrometer V-670 manufactured by JASCO Corporation). In this case, it means that the transmittance is 85% or more in the entire wavelength range from 400 nm to 700 nm.

図1において、メッシュ配線層20は、基板11上に複数(3つ)存在しており、それぞれ異なる周波数帯に対応している。すなわち、複数のメッシュ配線層20は、その長さ(Y方向の長さ)Lが互いに異なっており、それぞれ特定の周波数帯に対応した長さを有している。なお、対応する周波数帯が低周波であるほどメッシュ配線層20の長さLが長くなっている。配線基板10が例えば画像表示装置90のディスプレイ91(後述する図5参照)上に配置される場合、各メッシュ配線層20は、配線基板10が電波送受信機能を有する場合、電話用アンテナ、WiFi用アンテナ、3G用アンテナ、4G用アンテナ、5G用アンテナ、LTE用アンテナ、Bluetooth(登録商標)用アンテナ、NFC用アンテナ等のいずれかに対応していても良い。あるいは、配線基板10が電波送受信機能を有していない場合、各メッシュ配線層20は、例えばホバリング(使用者がディスプレイに直接触れなくても操作可能となる機能)、指紋認証、ヒーター、ノイズカット(シールド)等の機能を果たしても良い。また、メッシュ配線層20は、基板11の全面に存在するのではなく、基板11上の一部領域のみに存在していても良い。 In FIG. 1, a plurality (three) of mesh wiring layers 20 are present on a substrate 11 and correspond to different frequency bands. That is, the plurality of mesh wiring layers 20 have different lengths (lengths in the Y direction) La, and each have a length corresponding to a specific frequency band. The length La of the mesh wiring layer 20 is longer as the corresponding frequency band is lower. When the wiring board 10 is arranged on, for example, a display 91 (see FIG. 5 described later) of an image display device 90, each mesh wiring layer 20 can be used as an antenna for a telephone or for WiFi when the wiring board 10 has a radio wave transmitting/receiving function. Antenna, antenna for 3G, antenna for 4G, antenna for 5G, antenna for LTE, antenna for Bluetooth (registered trademark), antenna for NFC, or the like may be supported. Alternatively, if the wiring board 10 does not have a radio wave transmitting/receiving function, each mesh wiring layer 20 has functions such as hovering (a function that allows the user to operate without directly touching the display), fingerprint authentication, heater, and noise reduction. (Shield) and other functions may be achieved. Moreover, the mesh wiring layer 20 may be present only in a partial area of the substrate 11 instead of being present all over the substrate 11 .

各メッシュ配線層20は、それぞれ平面視で略長方形状である。各メッシュ配線層20は、その長手方向がY方向に平行であり、その短手方向(幅方向)がX方向に平行となっている。各メッシュ配線層20の長手方向(Y方向)の長さLは、例えば1mm以上100mm以下の範囲で選択することができ、各メッシュ配線層20の短手方向(X方向)の幅Wは、例えば1mm以上25mm以下の範囲で選択することができる。とりわけメッシュ配線層20は、ミリ波用アンテナであっても良い。メッシュ配線層20がミリ波用アンテナである場合、メッシュ配線層20の長さLは、1mm以上10mm以下、より好ましくは1.5mm以上5mm以下の範囲で選択することができる。 Each mesh wiring layer 20 has a substantially rectangular shape in plan view. Each mesh wiring layer 20 has its longitudinal direction parallel to the Y direction and its short direction (width direction) parallel to the X direction. The length L a in the longitudinal direction (Y direction) of each mesh wiring layer 20 can be selected, for example, in the range of 1 mm or more and 100 mm or less, and the width W a in the lateral direction (X direction) of each mesh wiring layer 20 can be selected, for example, in the range of 1 mm or more and 25 mm or less. In particular, the mesh wiring layer 20 may be a millimeter wave antenna. When the mesh wiring layer 20 is a millimeter wave antenna, the length L a of the mesh wiring layer 20 can be selected in the range of 1 mm or more and 10 mm or less, more preferably 1.5 mm or more and 5 mm or less.

メッシュ配線層20は、それぞれ金属線が格子形状または網目形状に形成され、X方向およびY方向に均一な繰り返しパターンを有している。すなわち図2に示すように、メッシュ配線層20は、X方向に延びる部分(第2方向配線22)とY方向に延びる部分(第1方向配線21)とから構成されるL字状の単位パターン形状20a(図2の網掛け部分)の繰り返しから構成されている。 The mesh wiring layer 20 has metal wires formed in a grid shape or mesh shape, and has a uniform repeating pattern in the X direction and the Y direction. That is, as shown in FIG. 2, the mesh wiring layer 20 is an L-shaped unit pattern composed of a portion (second direction wiring 22) extending in the X direction and a portion (first direction wiring 21) extending in the Y direction. It consists of repetitions of the shape 20a (shaded portion in FIG. 2).

図2に示すように、各メッシュ配線層20は、アンテナとしての機能をもつ複数の第1方向配線(アンテナ配線(配線))21と、複数の第1方向配線21を連結する複数の第2方向配線22とを含んでいる。具体的には、複数の第1方向配線21と複数の第2方向配線22とは、全体として一体となって、規則的な格子形状または網目形状を形成している。各第1方向配線21は、アンテナの周波数帯に対応する方向(Y方向)に延びており、各第2方向配線22は、第1方向配線21に直交する方向(X方向)に延びている。第1方向配線21は、所定の周波数帯に対応する長さL(上述したメッシュ配線層20の長さ、図1参照)を有することにより、主としてアンテナとしての機能を発揮する。一方、第2方向配線22は、これらの第1方向配線21同士を連結することにより、第1方向配線21が断線したり、第1方向配線21と給電部40とが電気的に接続しなくなったりする不具合を抑える役割を果たす。 As shown in FIG. 2 , each mesh wiring layer 20 includes a plurality of first directional wirings (antenna wirings (wirings)) 21 functioning as antennas and a plurality of second wirings connecting the plurality of first directional wirings 21 . and a directional wire 22 . Specifically, the plurality of first directional wirings 21 and the plurality of second directional wirings 22 are integrated as a whole to form a regular lattice shape or mesh shape. Each first directional wiring 21 extends in a direction (Y direction) corresponding to the frequency band of the antenna, and each second directional wiring 22 extends in a direction (X direction) orthogonal to the first directional wiring 21. . The first directional wiring 21 has a length L a corresponding to a predetermined frequency band (the length of the mesh wiring layer 20 described above, see FIG. 1), so that it mainly functions as an antenna. On the other hand, the second directional wiring 22 connects the first directional wirings 21 to each other, so that the first directional wiring 21 may be disconnected or the first directional wiring 21 and the power supply section 40 may not be electrically connected. It plays a role in suppressing troubles that occur.

各メッシュ配線層20においては、互いに隣接する第1方向配線21と、互いに隣接する第2方向配線22とに取り囲まれることにより、複数の開口部23が形成されている。また、第1方向配線21と第2方向配線22とは互いに等間隔に配置されている。すなわち複数の第1方向配線21は、互いに等間隔に配置され、そのピッチP(図2参照)は、例えば0.01mm以上1mm以下の範囲とすることができる。また、複数の第2方向配線22は、互いに等間隔に配置され、そのピッチP(図2参照)は、例えば0.01mm以上1mm以下の範囲とすることができる。このように、複数の第1方向配線21と複数の第2方向配線22とがそれぞれ等間隔に配置されていることにより、各メッシュ配線層20内で開口部23の大きさにばらつきがなくなり、メッシュ配線層20を肉眼で視認しにくくすることができる。また、第1方向配線21のピッチPは、第2方向配線22のピッチPと等しい。このため、各開口部23は、それぞれ平面視略正方形状となっており、各開口部23からは、透明性を有する基板11が露出している。このため、各開口部23の面積を広くすることにより、配線基板10全体としての透明性を高めることができる。なお、各開口部23の一辺の長さL(図2参照)は、例えば0.01mm以上1mm以下の範囲とすることができる。なお、各第1方向配線21と各第2方向配線22とは、互いに直交しているが、これに限らず、互いに鋭角または鈍角に交差していてもよい。また、開口部23の形状は、全面で同一形状同一サイズとするのが好ましいが、場所によって変えるなど全面で均一としなくても良い。 In each mesh wiring layer 20, a plurality of openings 23 are formed by being surrounded by mutually adjacent first directional wirings 21 and mutually adjacent second directional wirings 22. As shown in FIG. Also, the first directional wiring 21 and the second directional wiring 22 are arranged at regular intervals. That is, the plurality of first direction wirings 21 are arranged at regular intervals, and the pitch P 1 (see FIG. 2) can be in the range of, for example, 0.01 mm or more and 1 mm or less. Also, the plurality of second-direction wirings 22 are arranged at regular intervals, and the pitch P 2 (see FIG. 2) can be in the range of, for example, 0.01 mm or more and 1 mm or less. By arranging the plurality of first directional wirings 21 and the plurality of second directional wirings 22 at equal intervals in this way, the size of the openings 23 in each mesh wiring layer 20 is uniform. The mesh wiring layer 20 can be made difficult to visually recognize with the naked eye. Also, the pitch P1 of the first directional wirings 21 is equal to the pitch P2 of the second directional wirings 22 . Therefore, each opening 23 has a substantially square shape in plan view, and the transparent substrate 11 is exposed from each opening 23 . Therefore, by increasing the area of each opening 23, the transparency of the wiring board 10 as a whole can be improved. In addition, the length L 3 (see FIG. 2) of one side of each opening 23 can be in the range of, for example, 0.01 mm or more and 1 mm or less. The first direction wirings 21 and the second direction wirings 22 are orthogonal to each other, but are not limited to this, and may cross each other at an acute or obtuse angle. The shape of the openings 23 is preferably the same shape and size over the entire surface, but may not be uniform over the entire surface, such as by changing the shape depending on the location.

図3に示すように、各第1方向配線21は、その長手方向に垂直な断面(X方向断面)が略長方形形状又は略正方形形状となっている。この場合、第1方向配線21の断面形状は、第1方向配線21の長手方向(Y方向)に沿って略均一となっている。また、図4に示すように、各第2方向配線22の長手方向に垂直な断面(Y方向断面)の形状は、略長方形形状又は略正方形形状であり、上述した第1方向配線21の断面(X方向断面)形状と略同一である。この場合、第2方向配線22の断面形状は、第2方向配線22の長手方向(X方向)に沿って略均一となっている。第1方向配線21と第2方向配線22の断面形状は、必ずしも略長方形形状又は略正方形形状でなくても良く、例えば表面側(Z方向プラス側)が裏面側(Z方向マイナス側)よりも狭い略台形形状、あるいは、幅方向両側に位置する側面が湾曲した形状であっても良い。 As shown in FIG. 3, each first direction wiring 21 has a substantially rectangular or square cross section perpendicular to its longitudinal direction (X direction cross section). In this case, the cross-sectional shape of the first directional wiring 21 is substantially uniform along the longitudinal direction (Y direction) of the first directional wiring 21 . Further, as shown in FIG. 4, the shape of the cross section (Y direction cross section) perpendicular to the longitudinal direction of each second direction wiring 22 is substantially rectangular or substantially square. (X-direction cross section) It is substantially the same as the shape. In this case, the cross-sectional shape of the second directional wiring 22 is substantially uniform along the longitudinal direction (X direction) of the second directional wiring 22 . The cross-sectional shapes of the first direction wiring 21 and the second direction wiring 22 may not necessarily be substantially rectangular or substantially square. It may have a narrow trapezoidal shape or a shape with curved side surfaces located on both sides in the width direction.

本実施の形態において、第1方向配線21の線幅W(X方向の長さ、図3参照)および第2方向配線22の線幅W(Y方向の長さ、図4参照)は、特に限定されず、用途に応じて適宜選択できる。例えば、第1方向配線21の線幅Wは0.1μm以上5.0μm以下の範囲で選択することができ、第2方向配線22の線幅Wは、0.1μm以上5.0μm以下の範囲で選択することができる。また、第1方向配線21の高さH(Z方向の長さ、図3参照)および第2方向配線22の高さH(Z方向の長さ、図4参照)は特に限定されず、用途に応じて適宜選択することができ、例えば0.1μm以上5.0μm以下の範囲で選択することができる。 In the present embodiment, the line width W 1 (length in the X direction, see FIG. 3) of the first directional wiring 21 and the line width W 2 (length in the Y direction, see FIG. 4) of the second directional wiring 22 are , is not particularly limited, and can be appropriately selected depending on the application. For example, the line width W1 of the first direction wiring 21 can be selected in the range of 0.1 μm to 5.0 μm, and the line width W2 of the second direction wiring 22 can be selected in the range of 0.1 μm to 5.0 μm. can be selected in the range of Moreover, the height H 1 (the length in the Z direction, see FIG. 3) of the first directional wiring 21 and the height H 2 (the length in the Z direction, see FIG. 4) of the second directional wiring 22 are not particularly limited. , can be appropriately selected according to the application, for example, it can be selected in the range of 0.1 μm or more and 5.0 μm or less.

第1方向配線21および第2方向配線22の材料は、導電性を有する金属材料であればよい。本実施の形態において第1方向配線21および第2方向配線22の材料は銅であるが、これに限定されない。第1方向配線21および第2方向配線22の材料は、例えば、金、銀、銅、白金、錫、アルミニウム、鉄、ニッケルなどの金属材料(含む合金)を用いることができる。 The material of the first direction wiring 21 and the second direction wiring 22 may be a metal material having conductivity. Although the material of the first direction wiring 21 and the second direction wiring 22 is copper in the present embodiment, the material is not limited to this. As materials for the first direction wiring 21 and the second direction wiring 22, for example, metal materials (including alloys) such as gold, silver, copper, platinum, tin, aluminum, iron, and nickel can be used.

本実施の形態において、メッシュ配線層20の全体の開口率は、例えば87%以上100%未満の範囲とすることができる。メッシュ配線層20の全体の開口率をこの範囲とすることにより、配線基板10の導電性と透明性を確保することができる。なお、開口率とは、所定の領域(例えばメッシュ配線層20の一部)の単位面積に占める、開口領域(第1方向配線21、第2方向配線22等の金属部分が存在せず、基板11が露出する領域)の面積の割合(%)をいう。 In the present embodiment, the overall aperture ratio of mesh wiring layer 20 can be, for example, in the range of 87% or more and less than 100%. By setting the overall aperture ratio of the mesh wiring layer 20 within this range, the conductivity and transparency of the wiring substrate 10 can be ensured. Note that the aperture ratio is defined as a unit area of a predetermined region (for example, a part of the mesh wiring layer 20) in which there is no metal portion such as the opening region (the first direction wiring 21, the second direction wiring 22, etc.) and the substrate 11 exposed) area ratio (%).

再度図1を参照すると、給電部40は、各メッシュ配線層20にそれぞれ電気的に接続されている。この給電部40は、略長方形状の導電性の薄板状部材からなる。給電部40の長手方向はX方向に平行であり、給電部40の短手方向はY方向に平行である。また、給電部40は、基板11の長手方向端部(Y方向マイナス側端部)に配置されている。給電部40の材料は、例えば、金、銀、銅、白金、錫、アルミニウム、鉄、ニッケルなどの金属材料(含む合金)を用いることができる。この給電部40は、配線基板10が画像表示装置90(図5参照)に組み込まれた際、給電線95を介して画像表示装置90の無線通信用回路92と電気的に接続される。なお、給電部40は、基板11の表面に設けられているが、これに限らず、給電部40の一部又は全部が基板11の周縁よりも外側に位置していても良い。 Referring to FIG. 1 again, the power supply section 40 is electrically connected to each mesh wiring layer 20 . The power supply portion 40 is made of a substantially rectangular conductive thin plate-like member. The longitudinal direction of the power supply portion 40 is parallel to the X direction, and the short direction of the power supply portion 40 is parallel to the Y direction. In addition, the power supply unit 40 is arranged at the longitudinal end of the substrate 11 (Y-direction minus side end). As the material of the power supply unit 40, for example, metal materials (including alloys) such as gold, silver, copper, platinum, tin, aluminum, iron, and nickel can be used. The power supply unit 40 is electrically connected to the wireless communication circuit 92 of the image display device 90 via the power supply line 95 when the wiring board 10 is incorporated in the image display device 90 (see FIG. 5). Although the power supply section 40 is provided on the surface of the substrate 11 , the power supply section 40 is not limited to this, and part or all of the power supply section 40 may be positioned outside the peripheral edge of the substrate 11 .

図2に示すように、複数の第1方向配線21は、Y方向マイナス側においてそれぞれ給電部40に電気的に接続されている。この場合、給電部40は、メッシュ配線層20と一体に形成されている。給電部40の厚みT(図4参照)は、第1方向配線21の高さH(図3参照)および第2方向配線22の高さH(図4参照)と同一とすることができ、例えば0.1μm以上5.0μm以下の範囲で選択することができる。 As shown in FIG. 2, the plurality of first-direction wirings 21 are electrically connected to the power feeder 40 on the negative side in the Y direction. In this case, the power supply section 40 is formed integrally with the mesh wiring layer 20 . The thickness T 3 (see FIG. 4) of the feeding portion 40 should be the same as the height H 1 (see FIG. 3) of the first directional wiring 21 and the height H 2 (see FIG. 4) of the second directional wiring 22. can be selected in the range of, for example, 0.1 μm or more and 5.0 μm or less.

さらに、図3および図4に示すように、基板11の表面上には、メッシュ配線層20および給電部40を覆うように保護層17が形成されている。保護層17は、メッシュ配線層20および給電部40を保護するものであり、基板11の表面の略全域に形成されていても良い。 Furthermore, as shown in FIGS. 3 and 4 , a protective layer 17 is formed on the surface of the substrate 11 so as to cover the mesh wiring layer 20 and the power supply section 40 . The protective layer 17 protects the mesh wiring layer 20 and the power supply section 40 and may be formed over substantially the entire surface of the substrate 11 .

本実施の形態では、保護層17の厚みT(図3参照)は、0.05μm以上1.8μm以下になっている。保護層17の厚みTが0.05μm以上であることにより、保護層17の耐擦過性や耐候性を高くすることができる。また、保護層17の厚みTが1.8μm以下であることにより、後述する異方性導電フィルム(ACF)95cの導電粒子95dが保護層17内に入り込んだ際に、当該導電粒子95dが給電部40に接触しやすくすることができる。このため、給電部40と、給電線95(図5参照)との間の電気的な接続を確保することができる。なお、本明細書中、保護層17の厚みTとは、給電部40の表面から保護層17の表面までのZ方向距離をいう。 In the present embodiment, the thickness T 2 (see FIG. 3) of protective layer 17 is 0.05 μm or more and 1.8 μm or less. When the thickness T2 of the protective layer 17 is 0.05 μm or more , the abrasion resistance and weather resistance of the protective layer 17 can be enhanced. In addition, since the thickness T2 of the protective layer 17 is 1.8 μm or less, when the conductive particles 95d of the anisotropic conductive film (ACF) 95c described later enter the protective layer 17, the conductive particles 95d are It is possible to facilitate contact with the power supply unit 40 . Therefore, it is possible to ensure electrical connection between the power supply unit 40 and the power supply line 95 (see FIG. 5). In this specification, the thickness T2 of the protective layer 17 refers to the Z - direction distance from the surface of the power supply portion 40 to the surface of the protective layer 17 .

また、保護層17の表面の鉛筆硬度は、B以上2H以下である。保護層17の表面の鉛筆硬度がB以上であることにより、保護層17の耐擦過性や耐候性を高くすることができる。また、保護層17の表面の鉛筆硬度が2H以下であることにより、後述する異方性導電フィルム(ACF)95cの導電粒子95dが保護層17内に入り込みやすくすることができ、給電部40と、給電線95との間の電気的な接続性を向上できる。なお、鉛筆硬度は、JISK5600-5-4:1999で規定される鉛筆硬度試験に準拠して測定することができる。 Moreover, the pencil hardness of the surface of the protective layer 17 is B or more and 2H or less. When the pencil hardness of the surface of the protective layer 17 is B or higher, the abrasion resistance and weather resistance of the protective layer 17 can be enhanced. Further, since the pencil hardness of the surface of the protective layer 17 is 2H or less, the conductive particles 95d of the anisotropic conductive film (ACF) 95c, which will be described later, can easily enter the protective layer 17. , the electrical connectivity with the feed line 95 can be improved. The pencil hardness can be measured according to the pencil hardness test specified in JISK5600-5-4:1999.

さらに、保護層17の誘電正接は、0.005以下である。これにより、保護層17がメッシュ配線層20における電波の送受信に影響を与えてしまうことを効果的に抑制できる。このため、アンテナ性能が低下してしまうことを抑制できる。なお、保護層17の誘電正接は、基板11の誘電率を測定する方法と同様の方法により、IEC 62562またはASTM D150に準拠して測定することができる。 Furthermore, the dielectric loss tangent of the protective layer 17 is 0.005 or less. As a result, it is possible to effectively prevent the protective layer 17 from affecting transmission and reception of radio waves in the mesh wiring layer 20 . Therefore, it is possible to prevent the antenna performance from deteriorating. The dielectric loss tangent of the protective layer 17 can be measured according to IEC 62562 or ASTM D150 by a method similar to the method for measuring the dielectric constant of the substrate 11 .

保護層17の材料としては、ポリメチル(メタ)アクリレート、ポリエチル(メタ)アクリレート等のアクリル樹脂とそれらの変性樹脂と共重合体、ポリエステル樹脂、ポリビニルアルコール、ポリ酢酸ビニル、ポリビニルアセタール、ポリビニルブチラール等のポリビニル樹脂とそれらの共重合体、ポリウレタン樹脂、エポキシ樹脂、ポリアミド樹脂、塩素化ポリオレフィン等の無色透明の絶縁性樹脂を用いることができる。 Examples of materials for the protective layer 17 include acrylic resins such as polymethyl (meth)acrylate and polyethyl (meth)acrylate, modified resins and copolymers thereof, polyester resins, polyvinyl alcohol, polyvinyl acetate, polyvinyl acetal, polyvinyl butyral, and the like. Colorless and transparent insulating resins such as polyvinyl resins and their copolymers, polyurethane resins, epoxy resins, polyamide resins, and chlorinated polyolefins can be used.

保護層17は、特にアクリル樹脂またはポリエステル樹脂を含んでいることが好ましい。これにより、第1方向配線21および第2方向配線22や基板11との間の密着性をより向上させることができ、第1方向配線21および第2方向配線22の耐擦過性や耐候性を高くすることができる。更には不可視性を維持し、アンテナ性能を維持することができる。 Protective layer 17 preferably contains acrylic resin or polyester resin. As a result, the adhesion between the first directional wiring 21 and the second directional wiring 22 and the substrate 11 can be further improved, and the abrasion resistance and weather resistance of the first directional wiring 21 and the second directional wiring 22 can be improved. can be higher. Furthermore, invisibility can be maintained and antenna performance can be maintained.

さらに、保護層17は、二酸化ケイ素を含んでいることが好ましい。二酸化ケイ素は、粉末として樹脂に添加しても良い。または、蒸着法、スパッタリング法、CVD法等の手法により、樹脂を実質的に含有しない膜として形成しても良い。これにより、保護層17の表面の滑り性および保護層17の反射防止性を向上できる。 Furthermore, the protective layer 17 preferably contains silicon dioxide. Silicon dioxide may be added to the resin as a powder. Alternatively, a film substantially free of resin may be formed by a method such as vapor deposition, sputtering, or CVD. Thereby, the slip property of the surface of the protective layer 17 and the antireflection property of the protective layer 17 can be improved.

ここで、図5に示すように、本実施の形態による配線基板10は、ディスプレイ91を有する画像表示装置90に組み込まれる。配線基板10は、ディスプレイ91上に配置される。このような画像表示装置90としては、例えばスマートフォン、タブレット等の携帯端末機器を挙げることができる。配線基板10のメッシュ配線層20は、給電部40および給電線95を介して画像表示装置90の無線通信用回路92に電気的に接続される。このようにして、メッシュ配線層20を介して、所定の周波数の電波を送受信することができ、画像表示装置90を用いて通信を行うことができる。 Here, as shown in FIG. 5, the wiring board 10 according to the present embodiment is incorporated into an image display device 90 having a display 91. As shown in FIG. The wiring board 10 is arranged on the display 91 . Examples of such an image display device 90 include mobile terminal devices such as smartphones and tablets. The mesh wiring layer 20 of the wiring board 10 is electrically connected to the wireless communication circuit 92 of the image display device 90 via the power supply section 40 and the power supply line 95 . In this manner, radio waves of a predetermined frequency can be transmitted and received via the mesh wiring layer 20, and communication can be performed using the image display device 90. FIG.

給電部40と無線通信用回路92とを電気的に接続する給電線95は、例えば、フレキシブルプリント基板であってもよい。図6に示すように、給電線95は、基材95aと、基材95aに積層された金属配線部95bとを有している。このうち、基材95aは、例えばポリイミド等の樹脂材料や液晶ポリマーを含んでいてもよい。また、金属配線部95bは、例えば、銅を含んでいてもよい。この金属配線部95bは、後述する導電粒子95dを介して、給電部40と電気的に接続されている。なお、図6において、ディスプレイ91の図示は省略している。 The power supply line 95 that electrically connects the power supply unit 40 and the wireless communication circuit 92 may be, for example, a flexible printed circuit board. As shown in FIG. 6, the feeder line 95 has a base material 95a and a metal wiring portion 95b laminated on the base material 95a. Among them, the base material 95a may contain, for example, a resin material such as polyimide or a liquid crystal polymer. Moreover, the metal wiring part 95b may contain copper, for example. The metal wiring portion 95b is electrically connected to the power supply portion 40 via conductive particles 95d, which will be described later. 6, illustration of the display 91 is omitted.

このような給電線95は、異方性導電フィルム(ACF)95cを介して、配線基板10に圧着されている。異方性導電フィルム95cは、アクリル樹脂、エポキシ樹脂等の樹脂材料と、導電粒子95dとを含んでいる。また、異方性導電フィルム95cは、給電部40に対向するように配置されている。この際、異方性導電フィルム95cの導電粒子95dは、給電線95を配線基板10に圧着する際に、保護層17の表面を突き破り、保護層17内に入り込んでいる。そして、導電粒子95dの一部は、給電部40に接触している。このように、導電粒子95dが保護層17内に入り込むことにより、給電線95が給電部40に電気的に接続されている。なお、異方性導電フィルム95cの一部は、給電線95を配線基板10に圧着する際に、給電線95の周囲に溶出していてもよい。また、導電粒子95dの粒径は、例えば、7μm程度であってもよい。本実施の形態において、配線基板10と、導電粒子95dを含む異方性導電フィルム95cを介して、配線基板10に圧着された給電線95と、を備えるモジュール90Aも提供する。 Such a feeder line 95 is pressure-bonded to the wiring board 10 via an anisotropic conductive film (ACF) 95c. The anisotropic conductive film 95c contains a resin material such as acrylic resin or epoxy resin, and conductive particles 95d. Further, the anisotropic conductive film 95c is arranged so as to face the power feeding section 40. As shown in FIG. At this time, the conductive particles 95d of the anisotropic conductive film 95c break through the surface of the protective layer 17 and enter the protective layer 17 when the power supply line 95 is pressure-bonded to the wiring board 10 . A portion of the conductive particles 95 d is in contact with the power feeding section 40 . Thus, the power supply line 95 is electrically connected to the power supply section 40 by the conductive particles 95d entering the protective layer 17 . Part of the anisotropic conductive film 95c may be eluted around the power supply line 95 when the power supply line 95 is pressure-bonded to the wiring board 10 . Also, the particle size of the conductive particles 95d may be, for example, about 7 μm. This embodiment also provides a module 90A that includes a wiring board 10 and a feeder line 95 crimped to the wiring board 10 via an anisotropic conductive film 95c containing conductive particles 95d.

[配線基板の製造方法]
次に、図7(a)-(f)を参照して、本実施の形態による配線基板の製造方法について説明する。図7(a)-(f)は、本実施の形態による配線基板の製造方法を示す断面図である。
[Method for manufacturing wiring board]
Next, with reference to FIGS. 7A to 7F, a method for manufacturing a wiring board according to this embodiment will be described. 7A to 7F are cross-sectional views showing the method of manufacturing the wiring board according to this embodiment.

まず、透明性を有する基板11を準備する。 First, a transparent substrate 11 is prepared.

次に、図7(a)に示すように、基板11上に、複数の第1方向配線21を含むメッシュ配線層20と、メッシュ配線層20に電気的に接続された給電部40とを形成する。この際、まず、基板11の表面の略全域に金属箔51を積層する。本実施の形態において金属箔51の厚さは、0.1μm以上5.0μm以下であってもよい。本実施の形態において金属箔51は、銅を含んでいてもよい。 Next, as shown in FIG. 7A, a mesh wiring layer 20 including a plurality of first direction wirings 21 and a power supply section 40 electrically connected to the mesh wiring layer 20 are formed on the substrate 11. do. At this time, first, the metal foil 51 is laminated over substantially the entire surface of the substrate 11 . In the present embodiment, metal foil 51 may have a thickness of 0.1 μm or more and 5.0 μm or less. In the present embodiment, metal foil 51 may contain copper.

次に、図7(b)に示すように、金属箔51の表面の略全域に光硬化性絶縁レジスト52を供給する。この光硬化性絶縁レジスト52としては、例えばアクリル樹脂、エポキシ系樹脂等の有機樹脂を挙げることができる。 Next, as shown in FIG. 7B, a photo-curing insulating resist 52 is supplied over substantially the entire surface of the metal foil 51 . Examples of the photocurable insulating resist 52 include organic resins such as acrylic resins and epoxy resins.

続いて、図7(c)に示すように、絶縁層54をフォトリソグラフィ法により形成する。この場合、フォトリソグラフィ法により光硬化性絶縁レジスト52をパターニングし、絶縁層54(レジストパターン)を形成する。この際、第1方向配線21および第2方向配線22に対応する金属箔51が露出するように、絶縁層54を形成する。 Subsequently, as shown in FIG. 7C, an insulating layer 54 is formed by photolithography. In this case, the photocurable insulating resist 52 is patterned by photolithography to form an insulating layer 54 (resist pattern). At this time, the insulating layer 54 is formed so that the metal foil 51 corresponding to the first directional wiring 21 and the second directional wiring 22 is exposed.

次に、図7(d)に示すように、基板11の表面上の金属箔51を除去する。この際、塩化第二鉄、塩化第二銅、硫酸・塩酸等の強酸、過硫酸塩、過酸化水素またはこれらの水溶液、または以上の組合せ等を用いたウェット処理を行うことによって、基板11の表面が露出するように金属箔51をエッチングする。 Next, as shown in FIG. 7D, the metal foil 51 on the surface of the substrate 11 is removed. At this time, wet treatment is performed using ferric chloride, cupric chloride, strong acids such as sulfuric acid and hydrochloric acid, persulfate, hydrogen peroxide, aqueous solutions thereof, or a combination of the above. The metal foil 51 is etched so that the surface is exposed.

続いて、図7(e)に示すように、絶縁層54を除去する。この場合、過マンガン酸塩溶液やN-メチル-2-ピロリドン、酸またはアルカリ溶液等を用いたウェット処理や、酸素プラズマを用いたドライ処理を行うことによって、金属箔51上の絶縁層54を除去する。 Subsequently, as shown in FIG. 7E, the insulating layer 54 is removed. In this case, the insulating layer 54 on the metal foil 51 is removed by wet treatment using a permanganate solution, N-methyl-2-pyrrolidone, an acid or alkaline solution, or the like, or dry treatment using oxygen plasma. Remove.

なお、配線基板10の別の製造方法として、いわゆるリフトオフ法と呼ばれる以下の方法を用いることができる。この場合、まず、基板11の表面の略全域に光硬化性絶縁レジスト52を供給する。次に、フォトリソグラフィ法により光硬化性絶縁レジスト52をパターニングし、絶縁層54(レジストパターン)を形成する。続いて、絶縁層54の表面および絶縁層54から露出する基板11の表面の略全域に金属箔51を積層する。その後、絶縁層54を除去することで、基板11上に形成された金属箔51がパターン状に残る。 As another method for manufacturing the wiring board 10, the following method called a so-called lift-off method can be used. In this case, first, the photocurable insulating resist 52 is supplied over substantially the entire surface of the substrate 11 . Next, the photocurable insulating resist 52 is patterned by photolithography to form an insulating layer 54 (resist pattern). Subsequently, the metal foil 51 is laminated on substantially the entire surface of the insulating layer 54 and the surface of the substrate 11 exposed from the insulating layer 54 . After that, by removing the insulating layer 54, the metal foil 51 formed on the substrate 11 remains in a pattern.

このようにして、基板11上に配置されたメッシュ配線層20が得られる。この場合、メッシュ配線層20は、第1方向配線21および第2方向配線22を含む。このとき、金属箔の一部によって、給電部40が形成されても良い。あるいは、平板状の給電部40を別途準備し、この給電部40をメッシュ配線層20に電気的に接続しても良い。 Thus, the mesh wiring layer 20 arranged on the substrate 11 is obtained. In this case, the mesh wiring layer 20 includes first direction wirings 21 and second direction wirings 22 . At this time, the power supply portion 40 may be formed by part of the metal foil. Alternatively, a plate-shaped power supply portion 40 may be separately prepared and electrically connected to the mesh wiring layer 20 .

その後、図7(f)に示すように、基板11上に、メッシュ配線層20および給電部40を覆うように、保護層17を形成する。この際、保護層17の厚みTが0.05μm以上1.8μm以下となり、保護層17の表面の鉛筆硬度がB以上2H以下となるように、保護層17を形成する。保護層17を形成する方法としては、ロールコート、グラビアコート、グラビアリバースコート、マイクログラビアコート、スロットダイコート、ダイコート、ナイフコート、インクジェットコート、ディスペンサーコート、キスコート、スプレーコート、スクリーン印刷、オフセット印刷、フレキソ印刷を用いても良い。 After that, as shown in FIG. 7( f ), a protective layer 17 is formed on the substrate 11 so as to cover the mesh wiring layer 20 and the power supply section 40 . At this time, the protective layer 17 is formed so that the thickness T2 of the protective layer 17 is 0.05 μm or more and 1.8 μm or less, and the pencil hardness of the surface of the protective layer 17 is B or more and 2H or less. Methods for forming the protective layer 17 include roll coating, gravure coating, gravure reverse coating, micro gravure coating, slot die coating, die coating, knife coating, inkjet coating, dispenser coating, kiss coating, spray coating, screen printing, offset printing, and flexographic coating. Printing may be used.

このようにして、基板11と、基板11上に配置されたメッシュ配線層20と、メッシュ配線層20に電気的に接続された給電部40と、基板11上に配置され、メッシュ配線層20および給電部40を覆う保護層17と、を備える配線基板10が得られる。 In this manner, the substrate 11, the mesh wiring layer 20 arranged on the substrate 11, the power supply part 40 electrically connected to the mesh wiring layer 20, the mesh wiring layer 20 and the mesh wiring layer 20 arranged on the substrate 11 A wiring board 10 including a protective layer 17 covering the power feeding portion 40 is obtained.

[モジュールの製造方法]
次に、図8(a)-(c)を参照して、本実施の形態によるモジュールの製造方法について説明する。図8(a)-(c)は、本実施の形態によるモジュールの製造方法を示す断面図である。
[Module manufacturing method]
Next, with reference to FIGS. 8(a) to 8(c), a module manufacturing method according to the present embodiment will be described. 8(a)-(c) are cross-sectional views showing the method of manufacturing the module according to the present embodiment.

まず、図8(a)に示すように、配線基板10を準備する。この際、例えば、図7(a)-(f)に示す方法により、配線基板10を作製する。 First, as shown in FIG. 8A, a wiring substrate 10 is prepared. At this time, the wiring substrate 10 is manufactured by the method shown in FIGS. 7(a) to 7(f), for example.

次に、導電粒子95dを含む異方性導電フィルム95cを介して、給電線95を配線基板10に圧着させる。この際、まず、図8(b)に示すように、配線基板10上に異方性導電フィルム95cを配置する。このとき、異方性導電フィルム95cは、給電部40に対向するように配置される。 Next, the power supply line 95 is pressure-bonded to the wiring board 10 via the anisotropic conductive film 95c containing the conductive particles 95d. At this time, first, an anisotropic conductive film 95c is arranged on the wiring substrate 10 as shown in FIG. 8B. At this time, the anisotropic conductive film 95c is arranged so as to face the power feeding section 40 .

次いで、図8(c)に示すように、給電線95を配線基板10に圧着させる。このとき、給電線95に対して圧力および熱を加えることにより、給電線95を配線基板10に圧着させる。この際、異方性導電フィルム95cの導電粒子95dは、保護層17の表面を突き破り、保護層17内に入り込む。そして、導電粒子95dの一部が、給電部40に接触する。このように、導電粒子95dが保護層17内に入り込むことにより、給電線95が給電部40に電気的に接続される。 Next, as shown in FIG. 8(c), the power supply line 95 is pressure-bonded to the wiring board 10. Then, as shown in FIG. At this time, by applying pressure and heat to the power supply line 95 , the power supply line 95 is pressure-bonded to the wiring substrate 10 . At this time, the conductive particles 95 d of the anisotropic conductive film 95 c break through the surface of the protective layer 17 and enter the protective layer 17 . A portion of the conductive particles 95 d contacts the power feeding portion 40 . As the conductive particles 95 d enter the protective layer 17 in this way, the feed line 95 is electrically connected to the feed section 40 .

[本実施の形態の作用]
次に、このような構成からなる配線基板の作用について述べる。
[Action of the present embodiment]
Next, the operation of the wiring board having such a configuration will be described.

上述したように、配線基板10は、ディスプレイ91を有する画像表示装置90に組み込まれる(図5参照)。このようにして、メッシュ配線層20を介して、所定の周波数の電波を送受信することができ、画像表示装置90を用いて通信を行うことができる。 As described above, the wiring board 10 is incorporated into the image display device 90 having the display 91 (see FIG. 5). In this manner, radio waves of a predetermined frequency can be transmitted and received via the mesh wiring layer 20, and communication can be performed using the image display device 90. FIG.

ところで、一般に、給電部40を保護するために、給電部40が保護層17によって覆われている場合、配線基板10を画像表示装置90の無線通信用回路92に接続させるための給電線95と、給電部40との間の電気的な接続が不安定になる可能性がある。 By the way, in general, when the power supply unit 40 is covered with the protective layer 17 in order to protect the power supply unit 40, the power supply line 95 for connecting the wiring substrate 10 to the wireless communication circuit 92 of the image display device 90 and the , the electrical connection with the power supply unit 40 may become unstable.

これに対して本実施の形態によれば、保護層17の厚みTが、0.05μm以上1.8μm以下であり、保護層17の表面の鉛筆硬度が、B以上2H以下である。これにより、異方性導電フィルム95cの導電粒子95dが保護層17内に入り込むことができるとともに、導電粒子95dが保護層17内に入り込んだ際に、当該導電粒子95dが給電部40に接触しやすくすることができる。このため、給電部40と、給電線95との間の電気的な接続性を向上できる。また、保護層17の耐擦過性や耐候性を高くすることができる。 In contrast, according to the present embodiment, the thickness T2 of the protective layer 17 is 0.05 μm or more and 1.8 μm or less, and the pencil hardness of the surface of the protective layer 17 is B or more and 2H or less. This allows the conductive particles 95d of the anisotropic conductive film 95c to enter the protective layer 17, and when the conductive particles 95d enter the protective layer 17, the conductive particles 95d come into contact with the power supply section 40. can be made easier. Therefore, the electrical connectivity between the power feeding section 40 and the power feeding line 95 can be improved. In addition, the abrasion resistance and weather resistance of the protective layer 17 can be enhanced.

また、配線基板10は、基板11と、基板11上に配置され、複数の第1方向配線21を含むメッシュ配線層20とを備え、基板11が、波長400nm以上700nm以下の光線の透過率が85%以上であるので、配線基板10の透明性が確保されている。これにより、配線基板10がディスプレイ91上に配置されたとき、メッシュ配線層20の開口部23からディスプレイ91を視認することができ、ディスプレイ91の視認性が妨げられることがない。 The wiring substrate 10 includes a substrate 11 and a mesh wiring layer 20 disposed on the substrate 11 and including a plurality of first direction wirings 21. The substrate 11 has a transmittance of light having a wavelength of 400 nm or more and 700 nm or less. Since it is 85% or more, the transparency of the wiring board 10 is ensured. Accordingly, when the wiring board 10 is arranged on the display 91, the display 91 can be viewed through the opening 23 of the mesh wiring layer 20, and the visibility of the display 91 is not hindered.

また、本実施の形態によれば、保護層17の誘電正接が、0.005以下である。これにより、保護層17がメッシュ配線層20における電波の送受信に影響を与えてしまうことを効果的に抑制できる。このため、アンテナ性能が低下してしまうことを抑制できる。 Further, according to the present embodiment, the dielectric loss tangent of protective layer 17 is 0.005 or less. As a result, it is possible to effectively prevent the protective layer 17 from affecting transmission and reception of radio waves in the mesh wiring layer 20 . Therefore, it is possible to prevent the antenna performance from deteriorating.

さらに、本実施の形態によれば、保護層17が、二酸化ケイ素を含んでいる。これにより、保護層17の表面の滑り性および保護層17の反射防止性を向上できる。 Furthermore, according to the present embodiment, protective layer 17 contains silicon dioxide. Thereby, the slip property of the surface of the protective layer 17 and the antireflection property of the protective layer 17 can be improved.

(変形例)
次に、図9を参照して、本実施の形態による配線基板の変形例について説明する。図9に示す変形例は、メッシュ配線層20の構成が異なるものであり、他の構成は上述した図1乃至図8に示す実施の形態と略同一である。図9において、図1乃至図8に示す形態と同一部分には同一の符号を付して詳細な説明は省略する。
(Modification)
Next, a modification of the wiring board according to the present embodiment will be described with reference to FIG. The modification shown in FIG. 9 is different in the configuration of the mesh wiring layer 20, and other configurations are substantially the same as the embodiment shown in FIGS. 1 to 8 described above. In FIG. 9, the same parts as those shown in FIGS. 1 to 8 are denoted by the same reference numerals, and detailed description thereof will be omitted.

図9は、一変形例によるメッシュ配線層20を示す拡大平面図である。図9において、第1方向配線21と第2方向配線22とは、斜め(非直角)に交わっており、各開口部23は、平面視で菱形状に形成されている。第1方向配線21および第2方向配線22は、それぞれX方向およびY方向のいずれにも平行でないが、第1方向配線21および第2方向配線22のうちのいずれか一方がX方向またはY方向に平行であっても良い。 FIG. 9 is an enlarged plan view showing a mesh wiring layer 20 according to one modification. In FIG. 9, the first directional wiring 21 and the second directional wiring 22 intersect obliquely (non-perpendicularly), and each opening 23 is formed in a diamond shape in plan view. The first directional wiring 21 and the second directional wiring 22 are parallel to neither the X direction nor the Y direction, respectively, but either the first directional wiring 21 or the second directional wiring 22 is parallel to the X direction or the Y direction. may be parallel to

[実施例]
次に、本実施の形態における具体的実施例について説明する。
[Example]
Next, a specific example of this embodiment will be described.

(実施例1)
図6に示す構成をもつモジュールを作製した。この場合、配線基板の基板としては、厚み100μmのポリエチレンテレフタレート製基板を用いた。また、第1方向配線および第2方向配線として、線幅1μm、高さ1μmの銅配線をポリエチレンテレフタレート製基板上に形成した。さらに、保護層として、昭和電工マテリアルズ社製の転写用のハードコート(HC)剤(製品名PA-1000)を、ポリエチレンテレフタレート製基板上および銅配線上に形成した。保護層の厚みは、1.0μmであった。その後、給電線を配線基板に圧着させた。
(Example 1)
A module having the configuration shown in FIG. 6 was produced. In this case, a substrate made of polyethylene terephthalate having a thickness of 100 μm was used as the substrate of the wiring substrate. As the first direction wiring and the second direction wiring, copper wiring having a line width of 1 μm and a height of 1 μm was formed on a substrate made of polyethylene terephthalate. Furthermore, as a protective layer, a transfer hard coat (HC) agent (product name: PA-1000, manufactured by Showa Denko Materials) was formed on the polyethylene terephthalate substrate and the copper wiring. The thickness of the protective layer was 1.0 μm. After that, the power supply line was crimped to the wiring board.

(1)鉛筆硬度測定試験
次に、鉛筆硬度測定試験を行い、保護層17の表面の鉛筆硬度を測定した。この際、保護層の鉛筆硬度は、JISK5600-5-4:1999で規定される鉛筆硬度試験に準拠して測定した。
(1) Pencil hardness measurement test Next, a pencil hardness measurement test was conducted to measure the pencil hardness of the surface of the protective layer 17 . At this time, the pencil hardness of the protective layer was measured according to the pencil hardness test specified in JISK5600-5-4:1999.

(2)接続性評価
次いで、配線基板の給電部と、給電線との間の電気的な接続性を確認した。
(2) Connectivity Evaluation Next, the electrical connectivity between the power supply portion of the wiring board and the power supply line was confirmed.

(3)耐スクラッチ性試験
次いで、耐スクラッチ性試験を行った。この際、まず、100gのスチールウールを取付けた治具を準備した。次に、保護層に対してスチールウールを擦りつけて、銅配線に断線が生じていたか否かについて確認した。このとき、スチールウールを保護層に対して擦りつける際に、スチールウールの移動距離が往復で約2cm~約5cmとなるように治具を移動させた。そして、スチールウールを10往復させた。
(3) Scratch resistance test Next, a scratch resistance test was conducted. At this time, first, a jig to which 100 g of steel wool was attached was prepared. Next, steel wool was rubbed against the protective layer to confirm whether or not disconnection had occurred in the copper wiring. At this time, when the steel wool was rubbed against the protective layer, the jig was moved so that the moving distance of the steel wool was about 2 cm to about 5 cm in both directions. Then, the steel wool was reciprocated 10 times.

(実施例2)
保護層として、有機溶剤に溶解させたアクリル樹脂を、ポリエチレンテレフタレート製基板上および銅配線上に形成したこと、保護層の厚みが、0.1μmであったこと、以外は、実施例1と同様にしてモジュールを作製し、鉛筆硬度測定試験、接続性評価および耐スクラッチ性試験を行った。
(Example 2)
As the protective layer, an acrylic resin dissolved in an organic solvent was formed on the polyethylene terephthalate substrate and the copper wiring, and the thickness of the protective layer was 0.1 μm. Then, a module was prepared, and a pencil hardness measurement test, connectivity evaluation, and scratch resistance test were conducted.

(実施例3)
保護層の厚みが、1.5μmであったこと、以外は、実施例2と同様にしてモジュールを作製し、鉛筆硬度測定試験、接続性評価および耐スクラッチ性試験を行った。
(Example 3)
A module was produced in the same manner as in Example 2, except that the thickness of the protective layer was 1.5 μm, and the pencil hardness measurement test, connectivity evaluation, and scratch resistance test were performed.

(比較例1)
保護層の厚みが、4.0μmであったこと、以外は、実施例1と同様にしてモジュールを作製し、鉛筆硬度測定試験、接続性評価および耐スクラッチ性試験を行った。
(Comparative example 1)
A module was produced in the same manner as in Example 1, except that the thickness of the protective layer was 4.0 μm, and a pencil hardness measurement test, connectivity evaluation, and scratch resistance test were performed.

(比較例2)
保護層の厚みが、2.1μmであったこと、以外は、実施例2と同様にしてモジュールを作製し、鉛筆硬度測定試験、接続性評価および耐スクラッチ性試験を行った。
(Comparative example 2)
A module was produced in the same manner as in Example 2, except that the thickness of the protective layer was 2.1 μm, and the pencil hardness measurement test, connectivity evaluation, and scratch resistance test were performed.

(比較例3)
保護層の厚みが、0.03μmであったこと、以外は、実施例3と同様にしてモジュールを作製し、鉛筆硬度測定試験、接続性評価および耐スクラッチ性試験を行った。
(Comparative Example 3)
A module was produced in the same manner as in Example 3, except that the thickness of the protective layer was 0.03 μm, and a pencil hardness measurement test, connectivity evaluation, and scratch resistance test were performed.

以上の結果を表1に示す。下記表中、「○」は、結果が良好であったこと(good)を意味し、「×」は、結果が良好でなかったこと(poor)を意味する。 Table 1 shows the above results. In the table below, "○" means that the result was good (good), and "x" means that the result was not good (poor).

Figure 2022163867000002
Figure 2022163867000002

この結果、表1に示すように、比較例1および比較例2によるモジュールでは、配線基板の給電部と、給電線との間の電気的な接続性が良好ではなかった。 As a result, as shown in Table 1, the modules according to Comparative Examples 1 and 2 did not have good electrical connectivity between the power supply portion of the wiring board and the power supply line.

これに対して、実施例1乃至実施例3によるモジュールでは、配線基板の給電部と、給電線との間の電気的な接続性が良好であった。このため、本実施の形態によるモジュールでは、配線基板の給電部と、給電線との間の電気的な接続性を向上できることがわかった。 On the other hand, in the modules according to Examples 1 to 3, the electrical connectivity between the power supply portion of the wiring board and the power supply line was good. Therefore, it was found that the module according to the present embodiment can improve the electrical connectivity between the power supply portion of the wiring board and the power supply line.

また、表1に示すように、比較例3によるモジュールでは、耐スクラッチ性が良好ではなく、銅配線に一箇所以上の断線が生じていた。 Further, as shown in Table 1, the module according to Comparative Example 3 did not have good scratch resistance, and one or more disconnections occurred in the copper wiring.

これに対して、実施例1乃至実施例3によるモジュールでは、耐スクラッチ性が良好であり、銅配線に断線が生じていなかった。このため、本実施の形態によるモジュールでは、耐スクラッチ性を向上できることがわかった。 On the other hand, the modules according to Examples 1 to 3 had good scratch resistance, and no breakage occurred in the copper wiring. Therefore, it was found that the module according to this embodiment can improve the scratch resistance.

上記実施の形態および変形例に開示されている複数の構成要素を必要に応じて適宜組合せることも可能である。あるいは、上記実施の形態および変形例に示される全構成要素から幾つかの構成要素を削除してもよい。 It is also possible to appropriately combine a plurality of constituent elements disclosed in the above embodiments and modifications as necessary. Alternatively, some components may be deleted from all the components shown in the above embodiments and modifications.

10 配線基板
11 基板
17 保護層
20 メッシュ配線層
21 第1方向配線
40 給電部
95 給電線
95c 異方性導電フィルム
95d 導電粒子
90A モジュール
REFERENCE SIGNS LIST 10 Wiring board 11 Substrate 17 Protective layer 20 Mesh wiring layer 21 First direction wiring 40 Feeding part 95 Feeding line 95c Anisotropic conductive film 95d Conductive particles 90A Module

Claims (8)

配線基板であって、
基板と、
前記基板上に配置され、複数の配線を含むメッシュ配線層と、
前記メッシュ配線層に電気的に接続された給電部と、
前記基板上に配置され、前記メッシュ配線層および前記給電部を覆う保護層と、を備え、
前記基板は、波長400nm以上700nm以下の光線の透過率が85%以上であり、
前記保護層の厚みは、0.05μm以上1.8μm以下であり、
前記保護層の表面の鉛筆硬度は、B以上2H以下である、配線基板。
A wiring board,
a substrate;
a mesh wiring layer disposed on the substrate and including a plurality of wiring;
a power supply unit electrically connected to the mesh wiring layer;
a protective layer disposed on the substrate and covering the mesh wiring layer and the power feeding portion;
The substrate has a transmittance of 85% or more for light with a wavelength of 400 nm or more and 700 nm or less,
The thickness of the protective layer is 0.05 μm or more and 1.8 μm or less,
The wiring board, wherein the surface of the protective layer has a pencil hardness of B or more and 2H or less.
前記保護層の誘電正接は、0.005以下である、請求項1に記載の配線基板。 2. The wiring board according to claim 1, wherein the protective layer has a dielectric loss tangent of 0.005 or less. 前記保護層は、アクリル樹脂またはポリエステル樹脂を含む、請求項1または2に記載の配線基板。 3. The wiring board according to claim 1, wherein said protective layer contains acrylic resin or polyester resin. 前記保護層は、二酸化ケイ素を含む、請求項1乃至3のいずれか一項に記載の配線基板。 4. The wiring substrate according to claim 1, wherein said protective layer contains silicon dioxide. 電波送受信機能を有する、請求項1乃至4のいずれか一項に記載の配線基板。 5. The wiring board according to claim 1, having a radio wave transmission/reception function. 請求項1乃至5のいずれか一項に記載の配線基板と、
導電粒子を含む異方性導電フィルムを介して、前記配線基板に圧着された給電線と、を備え、
前記異方性導電フィルムは、前記給電部に対向するように配置され、
前記給電線は、前記導電粒子が前記保護層内に入り込むことにより、前記給電部に電気的に接続されている、モジュール。
A wiring board according to any one of claims 1 to 5;
a power supply line crimped to the wiring board via an anisotropic conductive film containing conductive particles;
The anisotropic conductive film is arranged to face the power supply unit,
The module, wherein the power supply line is electrically connected to the power supply section by the conductive particles entering the protective layer.
配線基板の製造方法であって、
基板を準備する工程と、
前記基板上に、複数の配線を含むメッシュ配線層と、前記メッシュ配線層に電気的に接続された給電部とを形成する工程と、
前記基板上に、前記メッシュ配線層および前記給電部を覆うように、保護層を形成する工程と、を備え、
前記基板は、波長400nm以上700nm以下の光線の透過率が85%以上であり、
前記保護層の厚みは、0.05μm以上1.8μm以下であり、
前記保護層の表面の鉛筆硬度は、B以上2H以下である、配線基板の製造方法。
A method for manufacturing a wiring board,
preparing a substrate;
forming, on the substrate, a mesh wiring layer including a plurality of wirings, and a power supply section electrically connected to the mesh wiring layer;
forming a protective layer on the substrate so as to cover the mesh wiring layer and the power supply section;
The substrate has a transmittance of 85% or more for light with a wavelength of 400 nm or more and 700 nm or less,
The thickness of the protective layer is 0.05 μm or more and 1.8 μm or less,
The method for manufacturing a wiring board, wherein the surface of the protective layer has a pencil hardness of B or more and 2H or less.
モジュールの製造方法であって、
請求項1乃至5のいずれか一項に記載の配線基板を準備する工程と、
導電粒子を含む異方性導電フィルムを介して、給電線を前記配線基板に圧着させる工程と、を備え、
前記異方性導電フィルムは、前記給電部に対向するように配置され、
前記給電線は、前記導電粒子が前記保護層内に入り込むことにより、前記給電部に電気的に接続されている、モジュールの製造方法。
A method of manufacturing a module, comprising:
A step of preparing a wiring board according to any one of claims 1 to 5;
A step of crimping a power supply line to the wiring board via an anisotropic conductive film containing conductive particles;
The anisotropic conductive film is arranged to face the power supply unit,
The method of manufacturing a module, wherein the power supply line is electrically connected to the power supply section by the conductive particles entering the protective layer.
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