JP2022073617A - 積層セラミックコンデンサ - Google Patents
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Abstract
【課題】小型化を可能としつつ、クラックが発生しにくい積層セラミックコンデンサを提供する。【解決手段】本発明の積層セラミックコンデンサ1は、誘電体層14と内部電極層15とが交互に積層された内層部11、及び、前記内層部11の積層方向Tの両側にそれぞれ配置された外層部12を有する積層体チップ10、並びに、前記積層体チップ10における前記積層方向Tと直交する幅方向Wの両側にそれぞれ配置されたサイドギャップ部30、を備える積層体2と、前記積層体2における前記積層方向T及び前記幅方向Wと交差する長さ方向Lの両側にそれぞれ配置された外部電極3と、を備え、前記外層部12の厚みをT1、前記サイドギャップ部30の厚みをW1としたとき、W1及びT1は20μm以下であり、かつ、0.1<|(W1-T1)|/T1<0.3である。【選択図】図3
Description
本発明は、積層セラミックコンデンサに関する。
積層セラミックコンデンサにおいて、誘電体層と内部電極層とを交互に積層し、その積層方向の上下に外層部12を配置して積層体チップを製造し、その積層体チップの両側面にサイドギャップ部を形成する、いわゆるサイドギャップ部後付け工法により製造されているものがある(特許文献1参照)。
サイドギャップ部後付け工法は、サイドギャップ部を薄くすることが比較的容易であるため、積層セラミックコンデンサの小型化に適している。
サイドギャップ部後付け工法は、サイドギャップ部を薄くすることが比較的容易であるため、積層セラミックコンデンサの小型化に適している。
しかし、サイドギャップ部が薄くなると、稜線部やコーナー部においてクラックが発生しやすくなる傾向がある。
本発明者らは鋭意検討を重ねた結果、サイドギャップ部の厚みと外層部の厚みとが所定の関係にある場合、積層セラミックコンデンサを小型化しても、クラックの低減が可能であることを見出した。
本発明は、小型化を可能としつつ、クラックが発生しにくい積層セラミックコンデンサを提供することを目的とする。
本発明者らは鋭意検討を重ねた結果、サイドギャップ部の厚みと外層部の厚みとが所定の関係にある場合、積層セラミックコンデンサを小型化しても、クラックの低減が可能であることを見出した。
本発明は、小型化を可能としつつ、クラックが発生しにくい積層セラミックコンデンサを提供することを目的とする。
上記課題を解決するために、本発明は、誘電体層と内部電極層とが交互に積層された内層部、及び、前記内層部の積層方向の両側にそれぞれ配置された外層部12を有する積層体チップ、並びに、前記積層体チップにおける前記積層方向と直交する幅方向の両側にそれぞれ配置されたサイドギャップ部、を備える積層体と、前記積層体における前記積層方向及び前記幅方向と交差する長さ方向の両側にそれぞれ配置された外部電極と、を備え、前記外層部12の厚みをT1、前記サイドギャップ部の厚みをW1としたとき、W1及びT1は20μm以下であり、かつ、0.1<|(W1-T1)|/T1<0.3である積層セラミックコンデンサを提供する。
本発明によれば、小型化を可能としつつ、クラックが発生しにくい積層セラミックコンデンサを提供することができる。
以下、本発明の実施形態にかかる積層セラミックコンデンサ1について説明する。図1は、実施形態の積層セラミックコンデンサ1の概略斜視図である。図2は、図1の積層セラミックコンデンサ1のII-II線に沿った断面図である。図3は、図1の積層セラミックコンデンサ1のIII-III線に沿った断面図である。
積層セラミックコンデンサ1は、略直方体形状で、積層体2と、積層体2の両端に設けられた一対の外部電極3とを備える。積層体2は、誘電体層14と内部電極層15とを複数組含む内層部11を含む。
以下の説明において、積層セラミックコンデンサ1の向きを表わす用語として、積層セラミックコンデンサ1において、一対の外部電極3が設けられている方向を長さ方向Lとする。誘電体層14と内部電極層15とが積層されている方向を積層方向Tとする。長さ方向L及び積層方向Tのいずれにも交差する方向を幅方向Wとする。なお、実施形態においては、幅方向は長さ方向L及び積層方向Tのいずれにも直交している。
図4は、積層体2の概略斜視図である。積層体2は、積層体チップ10と、サイドギャップ部30とを備える。図5は、積層体チップ10の概略斜視図である。
以下の説明において、図4に示す積層体2の6つの外表面のうち、積層方向Tに相対する一対の外表面を第1の主面Aaと第2の主面Abとし、幅方向Wに相対する一対の外表面を第1の側面Baと第2の側面Bbとし、長さ方向Lに相対する一対の外表面を第1の端面Caと第2の端面Cbとする。
なお、第1の主面Aaと第2の主面Abとを特に区別して説明する必要のない場合、まとめて主面Aとし、第1の側面Baと第2の側面Bbとを特に区別して説明する必要のない場合、まとめて側面Bとし、第1の端面Caと第2の端面Cbとを特に区別して説明する必要のない場合、まとめて端面Cとして説明する。
以下の説明において、図4に示す積層体2の6つの外表面のうち、積層方向Tに相対する一対の外表面を第1の主面Aaと第2の主面Abとし、幅方向Wに相対する一対の外表面を第1の側面Baと第2の側面Bbとし、長さ方向Lに相対する一対の外表面を第1の端面Caと第2の端面Cbとする。
なお、第1の主面Aaと第2の主面Abとを特に区別して説明する必要のない場合、まとめて主面Aとし、第1の側面Baと第2の側面Bbとを特に区別して説明する必要のない場合、まとめて側面Bとし、第1の端面Caと第2の端面Cbとを特に区別して説明する必要のない場合、まとめて端面Cとして説明する。
(積層体2)
積層体2の寸法は、特に限定されないが、長さ方向L寸法が0.2mm以上10mm以下、幅方向W寸法が0.1mm以上10mm以下、積層方向T寸法が0.1mm以上5mm以下であることが好ましい。
積層体2の寸法は、特に限定されないが、長さ方向L寸法が0.2mm以上10mm以下、幅方向W寸法が0.1mm以上10mm以下、積層方向T寸法が0.1mm以上5mm以下であることが好ましい。
積層体2は、少なくとも主面Aと側面Bとの間の稜線部P1が面取りされて丸みがつけられている。実施形態で面取り部分の図3に示すRは、23~28μmであり、Rは後述する外層部12の厚みT1より大きいR>T1の関係を有する。また、稜線部P1を構成する曲線には変曲点がない。
なお、積層体2の表面には、DLC(Diamond-Like-Carbon)層もしくはSiO2層が形成されている。これにより積層体2の表面である、主面A、側面B、端面Cは高硬度、表面平滑性を有している。
なお、積層体2の表面には、DLC(Diamond-Like-Carbon)層もしくはSiO2層が形成されている。これにより積層体2の表面である、主面A、側面B、端面Cは高硬度、表面平滑性を有している。
(積層体チップ10)
積層体チップ10は、図5に示すように、内層部11と、内層部11の第1の主面Aa側に配置される上部外層部12aと、内層部11の第2の主面Ab側に配置される下部外層部12bとを備える。なお、上部外層部12aと下部外層部12bとを特に区別して説明する必要のない場合、まとめて外層部12として説明する。
積層体チップ10は、図5に示すように、内層部11と、内層部11の第1の主面Aa側に配置される上部外層部12aと、内層部11の第2の主面Ab側に配置される下部外層部12bとを備える。なお、上部外層部12aと下部外層部12bとを特に区別して説明する必要のない場合、まとめて外層部12として説明する。
(内層部11)
内層部11は、積層方向Tに沿って交互に積層された誘電体層14と内部電極層15とを複数組含む。
内層部11は、積層方向Tに沿って交互に積層された誘電体層14と内部電極層15とを複数組含む。
(誘電体層14)
誘電体層14は、厚みが0.5μm以下である。誘電体層14は、セラミック材料で製造されている。セラミック材料としては、例えば、BaTiO3を主成分とする誘電体セラミックが用いられる。また、セラミック材料として、これらの主成分にMn化合物、Fe化合物、Cr化合物、Co化合物、Ni化合物等の副成分のうちの少なくとも一つを添加したものを用いてもよい。なお、積層体チップ10を構成する誘電体層14の枚数は、上部外層部12a及び下部外層部12bも含めて15枚以上700枚以下であることが好ましい。
誘電体層14は、厚みが0.5μm以下である。誘電体層14は、セラミック材料で製造されている。セラミック材料としては、例えば、BaTiO3を主成分とする誘電体セラミックが用いられる。また、セラミック材料として、これらの主成分にMn化合物、Fe化合物、Cr化合物、Co化合物、Ni化合物等の副成分のうちの少なくとも一つを添加したものを用いてもよい。なお、積層体チップ10を構成する誘電体層14の枚数は、上部外層部12a及び下部外層部12bも含めて15枚以上700枚以下であることが好ましい。
(内部電極層15)
内部電極層15は、複数の第1の内部電極層15Aと、複数の第2の内部電極層15Bとを備える。第1の内部電極層15Aと第2の内部電極層15Bとは、交互に配置されている。なお、第1の内部電極層15Aと第2の内部電極層15Bとを特に区別して説明する必要のない場合、まとめて内部電極層15として説明する。
内部電極層15は、複数の第1の内部電極層15Aと、複数の第2の内部電極層15Bとを備える。第1の内部電極層15Aと第2の内部電極層15Bとは、交互に配置されている。なお、第1の内部電極層15Aと第2の内部電極層15Bとを特に区別して説明する必要のない場合、まとめて内部電極層15として説明する。
第1の内部電極層15Aは、第2の内部電極層15Bと対向する第1の対向部152aと、第1の対向部152aから第1の端面Ca側に引き出された第1の引き出し部151aとを備える。第1の引き出し部151aの端部は、第1の端面Caに露出し、後述の第1の外部電極3Aに電気的に接続されている。
第2の内部電極層15Bは、第1の内部電極層15Aと対向する第2の対向部152bと、第2の対向部152bから第2の端面Cbに引き出された第2の引き出し部151bとを備える。第2の引き出し部151bの端部は、後述の第2の外部電極3Bに電気的に接続されている。
そして、以上の内部電極層15によれば、第1の内部電極層15Aの第1の対向部152aと、第2の内部電極層15Bの第2の対向部152bとに電荷が蓄積され、コンデンサの特性が発現する。
第2の内部電極層15Bは、第1の内部電極層15Aと対向する第2の対向部152bと、第2の対向部152bから第2の端面Cbに引き出された第2の引き出し部151bとを備える。第2の引き出し部151bの端部は、後述の第2の外部電極3Bに電気的に接続されている。
そして、以上の内部電極層15によれば、第1の内部電極層15Aの第1の対向部152aと、第2の内部電極層15Bの第2の対向部152bとに電荷が蓄積され、コンデンサの特性が発現する。
図3に示すように、積層体2の中心を通る幅方向W及び積層方向Tの断面であるWT断面において、積層方向Tにおいて上下に隣り合う2つの第1の内部電極層15Aと第2の内部電極層15Bとの幅方向Wの端部の積層方向Tにおける位置のずれdは0.5μm以内である。すなわち、積層方向Tにおいて上下に隣り合う第1の内部電極層15Aと第2の内部電極層15Bとの幅方向Wの端部は、幅方向W上において略同位置にあり、端部の位置が積層方向Tで揃っている。
内部電極層15は、例えばNi、Cu、Ag、Pd、Ag-Pd合金、Au等に代表される金属材料により形成されていることが好ましい。内部電極層15の厚みは、例えば、0.5μm以上2.0mm程度であることが好ましい。内部電極層15の枚数は、第1の内部電極層15A及び第2の内部電極層15Bを合わせて15枚以上200枚以下であることが好ましい。
(外層部12)
上部外層部12a及び下部外層部12bは、内層部11の誘電体層14と同じ、例えば、BaTiO3を主成分とする誘電体セラミック材料で製造されている。
上部外層部12a及び下部外層部12bは、内層部11の誘電体層14と同じ、例えば、BaTiO3を主成分とする誘電体セラミック材料で製造されている。
(サイドギャップ部30)
サイドギャップ部30は、積層体チップ10の第1の側面Ba側に設けられた第1のサイドギャップ部30aと、積層体チップ10の第2の側面Bb側に設けられた第2のサイドギャップ部30bと、を備える。
なお、第1のサイドギャップ部30aと第2のサイドギャップ部30bとを特に区別して説明する必要のない場合、まとめてサイドギャップ部30として説明する。
サイドギャップ部30は、積層体チップ10の第1の側面Ba側に設けられた第1のサイドギャップ部30aと、積層体チップ10の第2の側面Bb側に設けられた第2のサイドギャップ部30bと、を備える。
なお、第1のサイドギャップ部30aと第2のサイドギャップ部30bとを特に区別して説明する必要のない場合、まとめてサイドギャップ部30として説明する。
サイドギャップ部30は、積層体チップ10の両側面に露出している内部電極層15の幅方向W側の端部を、その端部に沿って覆う。サイドギャップ部30は、誘電体層14と同様の、例えば、BaTiO3を主成分とする誘電体セラミック材料で製造されているが、さらに焼結助剤として、Mg(マグネシウム)を含む。Mgは、サイドギャップ部30の焼結時に内部電極層15側に移動することで、サイドギャップ部30における内部電極層15と接する側に偏析している。また、積層体チップ10とサイドギャップ部30との間には、界面が存在している。
また、実施形態では、サイドギャップ部30は外側に位置するアウターサイドギャップ部30ouと内部電極層15側に位置するインナーサイドギャップ部30inとの2層構造である。また、アウターサイドギャップ部30ouは、外層部12よりも厚いことが好ましい。ただし、これに限定されず、サイドギャップ部30一層構造であってもよい。
実施形態のアウターサイドギャップ部30ouに含まれるSiのTiに対するモル比は、外層部12に含まれるSiのTiに対するモル比より多い。
また、インナーサイドギャップ部30inよりアウターサイドギャップ部30ouのSiの含有量が多い。
また、インナーサイドギャップ部30inよりアウターサイドギャップ部30ouのSiの含有量が多い。
このようにアウターサイドギャップ部30ouに含まれるSiのTiに対するモル比は、外層部12に含まれるSiのTiに対するモル比より多くし、またはインナーサイドギャップ部30inよりアウターサイドギャップ部30ouのSiの含有量が多くすると、外層部12の強度を向上させることができる。
ゆえに、稜線部P1やサイドギャップ部30にクラックが生じ難くなる。ゆえに、クラックからの水分の浸入を防止することができ、積層セラミックコンデンサ1の絶縁性を確保することができる。その結果、信頼性の向上した積層セラミックコンデンサ1を提供することができる。
ゆえに、稜線部P1やサイドギャップ部30にクラックが生じ難くなる。ゆえに、クラックからの水分の浸入を防止することができ、積層セラミックコンデンサ1の絶縁性を確保することができる。その結果、信頼性の向上した積層セラミックコンデンサ1を提供することができる。
また、アウターサイドギャップ部30ouとインナーサイドギャップ部30inとの間には界面が存在するので、この界面により積層セラミックコンデンサ1にかかる応力を緩和することができる。
ゆえに、このことからも、稜線部P1やサイドギャップ部30にクラックが生じ難くなり、クラックからの水分の浸入を防止することができ、積層セラミックコンデンサ1の絶縁性を確保することができる。その結果、信頼性の向上した積層セラミックコンデンサ1を提供することができる。
ゆえに、このことからも、稜線部P1やサイドギャップ部30にクラックが生じ難くなり、クラックからの水分の浸入を防止することができ、積層セラミックコンデンサ1の絶縁性を確保することができる。その結果、信頼性の向上した積層セラミックコンデンサ1を提供することができる。
実施形態においてサイドギャップ部30の厚みW1と外層部12の厚みT1は、20μm以下である。また、W1<T1であることが好ましい。
W1<T1とすることにより、サイドギャップ部30が外層部12を引っ張る力が減少するので、稜線部P1におけるクラック発生を抑制することができる。
W1<T1とすることにより、サイドギャップ部30が外層部12を引っ張る力が減少するので、稜線部P1におけるクラック発生を抑制することができる。
さらに、
0.1<|(W1-T1)|/T1<0.3 の関係を有する。
すなわち、サイドギャップ部30の厚みWが外層部12の厚みTより大きい場合は、
1.1<W1/T1<1.3
サイドギャップ部30の厚みWが外層部12の厚みTより小さい場合は、
0.7<W1/T1<0.9 となる。
0.1<|(W1-T1)|/T1<0.3 の関係を有する。
すなわち、サイドギャップ部30の厚みWが外層部12の厚みTより大きい場合は、
1.1<W1/T1<1.3
サイドギャップ部30の厚みWが外層部12の厚みTより小さい場合は、
0.7<W1/T1<0.9 となる。
また、0.8<W1/T1<1.3であることが好ましい。
図6は、|(W1-T1)|/T1を横軸とし、一面あたりのクラックの数を縦軸にしたグラフである。図6は、W1<T1の場合であるが、図示するように、0.1<|(W1-T1)|/T1<0.3の範囲において他の範囲よりクラックの数が少ないことがわかる。
なお、一面あたりのクラック数とは、第1の主面Aaと第2の主面Abと第1の側面Baと第2の側面Bbとの4面に生じているクラックを数え、それを4で割った数である。
なお、一面あたりのクラック数とは、第1の主面Aaと第2の主面Abと第1の側面Baと第2の側面Bbとの4面に生じているクラックを数え、それを4で割った数である。
また、前述のように、サイドギャップ部30と主面Aとの稜線部P1の面取り部分のRは、23~28μmであり、外層部12の厚みT1より大きいR>T1の関係を有する。また、稜線部P1を構成する曲線には変曲点がない。
R>T1であるので、緻密化しやすいアウターサイドギャップ部30ouが、外層部12から離れる。ゆえに、サイドギャップ部30が外層側を引っ張る力が弱くなる。その結果、外層部12の圧縮応力が高まって、外層部12の強度を高くすることができ、外層部12及び稜線部P1におけるクラックの発生が防止される。
R>T1であるので、緻密化しやすいアウターサイドギャップ部30ouが、外層部12から離れる。ゆえに、サイドギャップ部30が外層側を引っ張る力が弱くなる。その結果、外層部12の圧縮応力が高まって、外層部12の強度を高くすることができ、外層部12及び稜線部P1におけるクラックの発生が防止される。
外部電極3は、積層体2の第1の端面Caに設けられている。外部電極3は、端面Cだけでなく、主面A及び側面Bの端面C側の一部も覆っている。
上述のように、第1の内部電極層15Aの第1の引き出し部151aの端部は第1の端面Caに露出し、第1の外部電極3Aに電気的に接続されている。また、第2の内部電極層15Bの第2の引き出し部151bの端部は第2の端面Cbに露出し、第2の外部電極3Bに電気的に接続されている。これにより、第1の外部電極3Aと第2の外部電極3Bとの間は、複数のコンデンサ要素が電気的に並列に接続された構造となっている。
(製造工程)
図7は、積層セラミックコンデンサ1の製造方法を説明するフローチャートである。図8は、素材シート103の模式平面図である。図9は、素材シート103の積層状態を示す概略図である。図10は、マザーブロック110の模式的斜視図である。
図7は、積層セラミックコンデンサ1の製造方法を説明するフローチャートである。図8は、素材シート103の模式平面図である。図9は、素材シート103の積層状態を示す概略図である。図10は、マザーブロック110の模式的斜視図である。
(マザーブロック製作工程S1)
まず、セラミックス粉末、バインダ及び溶剤を含むセラミックスラリーが準備される。このセラミックスラリーがキャリアフィルム上においてダイコータ、グラビアコータ、マイクログラビアコータ等を用いてシート状に成形されることで積層用セラミックグリーンシート101が製作される。
まず、セラミックス粉末、バインダ及び溶剤を含むセラミックスラリーが準備される。このセラミックスラリーがキャリアフィルム上においてダイコータ、グラビアコータ、マイクログラビアコータ等を用いてシート状に成形されることで積層用セラミックグリーンシート101が製作される。
続いて、この積層用セラミックグリーンシート101に導電体ペーストが帯状のパターンを有するようにスクリーン印刷、インクジェット印刷、グラビア印刷等によって印刷されることにより、導電パターン102が形成される。
これにより、図8に示すように、誘電体層14となる積層用セラミックグリーンシート101の表面に内部電極層15となる導電パターン102が印刷された素材シート103が準備される。
続いて、図9に示すように、素材シート103が複数枚積層される。具体的には、帯状の導電パターン102が同一の方向を向き、かつ、その帯状の導電パターン102が隣り合う素材シート103間において幅方向において半ピッチずつずれた状態になるように、複数の素材シート103が積み重ねられる。さらに、複数枚積層された素材シート103の一方の側に、上部外層部12aとなる上部外層部用セラミックグリーンシート112が積み重ねられ、他方の側に下部外層部12bとなる下部外層部用セラミックグリーンシート113が積み重ねられる。
続いて、上部外層部用セラミックグリーンシート112と、積み重ねられた複数の素材シート103と、下部外層部用セラミックグリーンシート113とを熱圧着する。これにより、図10に示すマザーブロック110が形成される。
(マザーブロック切断工程S2)
次いで、マザーブロック110を、図10に示すように、積層体チップ10の寸法に対応した切断線X及び切断線Xと交差する切断線Yに沿って切断する。これにより、図5に示す複数の積層体チップ10が製造される。なお、実施形態で切断線Yは切断線Xと直交している。
次いで、マザーブロック110を、図10に示すように、積層体チップ10の寸法に対応した切断線X及び切断線Xと交差する切断線Yに沿って切断する。これにより、図5に示す複数の積層体チップ10が製造される。なお、実施形態で切断線Yは切断線Xと直交している。
(サイドギャップ部用セラミックグリーンシート貼付工程S3)
次に、積層用セラミックグリーンシート101と同様の誘電体粉末に、Mgが焼結助剤として加えられたセラミックスラリーが作製される。そして、樹脂フィルム上に、セラミックスラリーを塗布し、乾燥して、サイドギャップ部用セラミックグリーンシートが作製される。
そして、サイドギャップ部用セラミックグリーンシートを積層体チップ10の内部電極層15が露出している側部に張り付けることで、サイドギャップ部30となる層が形成される。
次に、積層用セラミックグリーンシート101と同様の誘電体粉末に、Mgが焼結助剤として加えられたセラミックスラリーが作製される。そして、樹脂フィルム上に、セラミックスラリーを塗布し、乾燥して、サイドギャップ部用セラミックグリーンシートが作製される。
そして、サイドギャップ部用セラミックグリーンシートを積層体チップ10の内部電極層15が露出している側部に張り付けることで、サイドギャップ部30となる層が形成される。
(サイドギャップ部焼成工程S4)
積層体チップ10にサイドギャップ部30となる層が形成されたものは、窒素雰囲気中、所定の条件で脱脂処理された後、窒素-水素-水蒸気混合雰囲気中、所定の温度で焼成され、焼結されて積層体2となる。
ここで、焼結時にサイドギャップ部30のMgは、内部電極層15側に移動する。これにより焼結後、サイドギャップ部30のMgは内部電極層側に偏析する。また、誘電体層14と、サイドギャップ部30とは、略同じ材料で製造されているが、サイドギャップ部30は、誘電体層14を含む積層体チップ10に張り付けたものであるので、焼結後においても、サイドギャップ部30と積層体チップ10との間には界面が存在する。
積層体チップ10にサイドギャップ部30となる層が形成されたものは、窒素雰囲気中、所定の条件で脱脂処理された後、窒素-水素-水蒸気混合雰囲気中、所定の温度で焼成され、焼結されて積層体2となる。
ここで、焼結時にサイドギャップ部30のMgは、内部電極層15側に移動する。これにより焼結後、サイドギャップ部30のMgは内部電極層側に偏析する。また、誘電体層14と、サイドギャップ部30とは、略同じ材料で製造されているが、サイドギャップ部30は、誘電体層14を含む積層体チップ10に張り付けたものであるので、焼結後においても、サイドギャップ部30と積層体チップ10との間には界面が存在する。
(バレル工程S5)
次に、バレル工程S5において、積層体2に対してバレル研磨を施す。これにより、図5に示すように、積層体2の稜線部P1にRがつけられる。
次に、バレル工程S5において、積層体2に対してバレル研磨を施す。これにより、図5に示すように、積層体2の稜線部P1にRがつけられる。
(外部電極形成工程S6)
次に、積層体2の両端部に、外部電極3が形成される。
次に、積層体2の両端部に、外部電極3が形成される。
(焼成工程S7)
そして、設定された焼成温度で、窒素雰囲気中で所定時間加熱する。これにより、外部電極3が積層体2に焼き付けられて積層セラミックコンデンサ1が製造される。
そして、設定された焼成温度で、窒素雰囲気中で所定時間加熱する。これにより、外部電極3が積層体2に焼き付けられて積層セラミックコンデンサ1が製造される。
以上、本実施形態によると、以下の効果を有する。
アウターサイドギャップ部30ouに含まれるSiのTiに対するモル比は、外層部12に含まれるSiのTiに対するモル比より多く、またはインナーサイドギャップ部30inよりアウターサイドギャップ部30ouのSiの含有量が多い。これにより、外層部12の強度を向上させることができる。
ゆえに、稜線部P1やサイドギャップ部30にクラックが生じ難くなり、クラックからの水分の浸入を防止することができ、積層セラミックコンデンサ1の絶縁性を確保することができる。その結果、信頼性の向上した積層セラミックコンデンサ1を提供することができる。
アウターサイドギャップ部30ouに含まれるSiのTiに対するモル比は、外層部12に含まれるSiのTiに対するモル比より多く、またはインナーサイドギャップ部30inよりアウターサイドギャップ部30ouのSiの含有量が多い。これにより、外層部12の強度を向上させることができる。
ゆえに、稜線部P1やサイドギャップ部30にクラックが生じ難くなり、クラックからの水分の浸入を防止することができ、積層セラミックコンデンサ1の絶縁性を確保することができる。その結果、信頼性の向上した積層セラミックコンデンサ1を提供することができる。
また、アウターサイドギャップ部30ouとインナーサイドギャップ部30inとの間には界面が存在するので、この界面により積層セラミックコンデンサ1にかかる応力を緩和することができる。
ゆえに、このことからも、稜線部P1やサイドギャップ部30にクラックが生じ難くなり、クラックからの水分の浸入を防止することができ、積層セラミックコンデンサ1の絶縁性を確保することができる。その結果、信頼性の向上した積層セラミックコンデンサ1を提供することができる。
ゆえに、このことからも、稜線部P1やサイドギャップ部30にクラックが生じ難くなり、クラックからの水分の浸入を防止することができ、積層セラミックコンデンサ1の絶縁性を確保することができる。その結果、信頼性の向上した積層セラミックコンデンサ1を提供することができる。
さらに、W1<T1とすることにより、サイドギャップ部30が外層部12を引っ張る力が減少するので、稜線部P1におけるクラック発生を抑制することができる。
また、0.1<|(W1-T1)|/T<0.3の関係を有するので、内層部体積の最大化とクラックの発生数の最小化の両立という効果を有する。
また、0.8<W1/T1<1.3とすると、積層時に十分な圧力がかかるため外層剥がれを抑制できるという効果を有する。
さらに、サイドギャップ部30と主面Aとの稜線部P1の面取り部分のRは、外層部12の厚みT1より大きい。このようにR>T1であるので、緻密化しやすいアウターサイドギャップ部30ouが、外層部12から離れる。ゆえに、サイドギャップ部30が外層側を引っ張る力が弱くなる。その結果、外層部12の圧縮応力が高まって、外層部12の強度が高くなる。
1 積層セラミックコンデンサ
2 積層体
3 外部電極
10 積層体チップ
11 内層部
12 外層部
14 誘電体層
15 内部電極層
30 サイドギャップ部
30a 第1のサイドギャップ部
30b 第2のサイドギャップ部
30in インナーサイドギャップ部
30ou アウターサイドギャップ部
2 積層体
3 外部電極
10 積層体チップ
11 内層部
12 外層部
14 誘電体層
15 内部電極層
30 サイドギャップ部
30a 第1のサイドギャップ部
30b 第2のサイドギャップ部
30in インナーサイドギャップ部
30ou アウターサイドギャップ部
Claims (6)
- 誘電体層と内部電極層とが交互に積層された内層部、及び、前記内層部の積層方向の両側にそれぞれ配置された外層部12を有する積層体チップ、並びに、
前記積層体チップにおける前記積層方向と直交する幅方向の両側にそれぞれ配置されたサイドギャップ部、を備える積層体と、
前記積層体における前記積層方向及び前記幅方向と交差する長さ方向の両側にそれぞれ配置された外部電極と、を備え、
前記外層部12の厚みをT1、前記サイドギャップ部の厚みをW1としたとき、
W1及びT1は20μm以下であり、かつ、
0.1<|(W1-T1)|/T1<0.3である、
積層セラミックコンデンサ。 - 0.8<W1/T1<1.3である、
請求項1に記載の積層セラミックコンデンサ。 - W1<T1である、
請求項1に記載の積層セラミックコンデンサ。 - 前記積層体の前記幅方向の両側の側面と、前記積層体の前記積層方向の両側の主面との稜線部の、前記積層体における、前記長さ方向の中央部での前記幅方向及び前記厚み方向を含む断面における曲率半径Rは、
R>T1である、
請求項1から請求項3のいずれか1項に記載の積層セラミックコンデンサ。 - 前記断面における前記稜線部を含む前記側面と前記主面とを繋ぐ曲線には、変曲点がない、
請求項4に記載の積層セラミックコンデンサ。 - 前記積層体の表面には、ダイヤモンドライクカーボン層もしくは二酸化シリコン層が形成されている、
請求項1から請求項5のいずれか1項に記載の積層セラミックコンデンサ。
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