JP2021054078A - Barrier laminate, and packaging container having the barrier laminate - Google Patents
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- 230000004888 barrier function Effects 0.000 title claims abstract description 336
- 238000004806 packaging method and process Methods 0.000 title claims description 77
- 239000010410 layer Substances 0.000 claims abstract description 440
- -1 polypropylene Polymers 0.000 claims abstract description 230
- 229920005989 resin Polymers 0.000 claims abstract description 226
- 239000011347 resin Substances 0.000 claims abstract description 226
- 239000000463 material Substances 0.000 claims abstract description 148
- 229920001155 polypropylene Polymers 0.000 claims abstract description 146
- 239000004743 Polypropylene Substances 0.000 claims abstract description 144
- 239000000565 sealant Substances 0.000 claims abstract description 59
- 239000012790 adhesive layer Substances 0.000 claims abstract description 49
- 238000002844 melting Methods 0.000 claims abstract description 40
- 230000008018 melting Effects 0.000 claims abstract description 40
- 229910052809 inorganic oxide Inorganic materials 0.000 claims abstract description 9
- 239000010408 film Substances 0.000 claims description 178
- 239000000203 mixture Substances 0.000 claims description 31
- 229920005906 polyester polyol Polymers 0.000 claims description 31
- 238000000427 thin-film deposition Methods 0.000 claims description 27
- 239000012948 isocyanate Substances 0.000 claims description 24
- 229920000219 Ethylene vinyl alcohol Polymers 0.000 claims description 21
- 125000002887 hydroxy group Chemical group [H]O* 0.000 claims description 20
- 229920002451 polyvinyl alcohol Polymers 0.000 claims description 20
- 229920002647 polyamide Polymers 0.000 claims description 19
- 239000004952 Polyamide Substances 0.000 claims description 18
- 239000004372 Polyvinyl alcohol Substances 0.000 claims description 17
- 229920000728 polyester Polymers 0.000 claims description 16
- 239000004677 Nylon Substances 0.000 claims description 12
- 239000000839 emulsion Substances 0.000 claims description 12
- 229920001778 nylon Polymers 0.000 claims description 12
- 229920000178 Acrylic resin Polymers 0.000 claims description 11
- 239000004925 Acrylic resin Substances 0.000 claims description 11
- 229920002292 Nylon 6 Polymers 0.000 claims description 11
- 239000004814 polyurethane Substances 0.000 claims description 10
- 229920002635 polyurethane Polymers 0.000 claims description 10
- 239000004715 ethylene vinyl alcohol Substances 0.000 claims description 9
- 229920002302 Nylon 6,6 Polymers 0.000 claims description 7
- 239000002345 surface coating layer Substances 0.000 claims description 7
- 239000002904 solvent Substances 0.000 claims description 6
- 229920002873 Polyethylenimine Polymers 0.000 claims description 3
- 150000004703 alkoxides Chemical class 0.000 description 104
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 102
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 102
- 229920003169 water-soluble polymer Polymers 0.000 description 87
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 66
- 238000000034 method Methods 0.000 description 62
- QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N atomic oxygen Chemical compound [O] QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 53
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 description 53
- 239000001301 oxygen Substances 0.000 description 53
- 239000007787 solid Substances 0.000 description 41
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Chemical compound O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 38
- 229910052799 carbon Inorganic materials 0.000 description 32
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 28
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 27
- OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N Carbon Chemical compound [C] OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 26
- 239000000853 adhesive Substances 0.000 description 25
- 230000001070 adhesive effect Effects 0.000 description 25
- 238000007740 vapor deposition Methods 0.000 description 25
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 23
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 description 23
- XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N Silicon Chemical compound [Si] XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 22
- 150000008064 anhydrides Chemical class 0.000 description 21
- 239000004840 adhesive resin Substances 0.000 description 19
- 229920006223 adhesive resin Polymers 0.000 description 19
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 19
- 125000001424 substituent group Chemical group 0.000 description 19
- LYCAIKOWRPUZTN-UHFFFAOYSA-N Ethylene glycol Chemical compound OCCO LYCAIKOWRPUZTN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 18
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 description 18
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 17
- VZSRBBMJRBPUNF-UHFFFAOYSA-N 2-(2,3-dihydro-1H-inden-2-ylamino)-N-[3-oxo-3-(2,4,6,7-tetrahydrotriazolo[4,5-c]pyridin-5-yl)propyl]pyrimidine-5-carboxamide Chemical compound C1C(CC2=CC=CC=C12)NC1=NC=C(C=N1)C(=O)NCCC(N1CC2=C(CC1)NN=N2)=O VZSRBBMJRBPUNF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 16
- 239000002253 acid Substances 0.000 description 16
- 150000001732 carboxylic acid derivatives Chemical class 0.000 description 16
- 238000005229 chemical vapour deposition Methods 0.000 description 16
- 230000035699 permeability Effects 0.000 description 16
- 239000010703 silicon Substances 0.000 description 16
- 238000012360 testing method Methods 0.000 description 16
- 229920000858 Cyclodextrin Polymers 0.000 description 15
- DNIAPMSPPWPWGF-UHFFFAOYSA-N Propylene glycol Chemical compound CC(O)CO DNIAPMSPPWPWGF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 15
- 150000002500 ions Chemical class 0.000 description 15
- 235000019422 polyvinyl alcohol Nutrition 0.000 description 15
- 125000004805 propylene group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([*:1])C([H])([H])[*:2] 0.000 description 15
- 125000004432 carbon atom Chemical group C* 0.000 description 14
- HFHDHCJBZVLPGP-UHFFFAOYSA-N schardinger α-dextrin Chemical compound O1C(C(C2O)O)C(CO)OC2OC(C(C2O)O)C(CO)OC2OC(C(C2O)O)C(CO)OC2OC(C(O)C2O)C(CO)OC2OC(C(C2O)O)C(CO)OC2OC2C(O)C(O)C1OC2CO HFHDHCJBZVLPGP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 14
- KFZMGEQAYNKOFK-UHFFFAOYSA-N Isopropanol Chemical compound CC(C)O KFZMGEQAYNKOFK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 13
- 239000006087 Silane Coupling Agent Substances 0.000 description 13
- RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N Titanium Chemical compound [Ti] RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 13
- 229910052814 silicon oxide Inorganic materials 0.000 description 13
- 150000005846 sugar alcohols Polymers 0.000 description 13
- 238000004833 X-ray photoelectron spectroscopy Methods 0.000 description 12
- 230000001771 impaired effect Effects 0.000 description 12
- 229920000642 polymer Polymers 0.000 description 12
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 description 11
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 11
- QQONPFPTGQHPMA-UHFFFAOYSA-N propylene Natural products CC=C QQONPFPTGQHPMA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 11
- 238000004544 sputter deposition Methods 0.000 description 11
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 11
- 125000003118 aryl group Chemical group 0.000 description 10
- 125000003277 amino group Chemical group 0.000 description 9
- 125000003178 carboxy group Chemical group [H]OC(*)=O 0.000 description 9
- 238000001816 cooling Methods 0.000 description 9
- PEDCQBHIVMGVHV-UHFFFAOYSA-N glycerol group Chemical group OCC(O)CO PEDCQBHIVMGVHV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 9
- 229920000098 polyolefin Polymers 0.000 description 9
- 238000003980 solgel method Methods 0.000 description 9
- CONKBQPVFMXDOV-QHCPKHFHSA-N 6-[(5S)-5-[[4-[2-(2,3-dihydro-1H-inden-2-ylamino)pyrimidin-5-yl]piperazin-1-yl]methyl]-2-oxo-1,3-oxazolidin-3-yl]-3H-1,3-benzoxazol-2-one Chemical compound C1C(CC2=CC=CC=C12)NC1=NC=C(C=N1)N1CCN(CC1)C[C@H]1CN(C(O1)=O)C1=CC2=C(NC(O2)=O)C=C1 CONKBQPVFMXDOV-QHCPKHFHSA-N 0.000 description 8
- XKRFYHLGVUSROY-UHFFFAOYSA-N Argon Chemical compound [Ar] XKRFYHLGVUSROY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- MYMOFIZGZYHOMD-UHFFFAOYSA-N Dioxygen Chemical compound O=O MYMOFIZGZYHOMD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- 239000003054 catalyst Substances 0.000 description 8
- 239000007822 coupling agent Substances 0.000 description 8
- 229910001882 dioxygen Inorganic materials 0.000 description 8
- 238000003475 lamination Methods 0.000 description 8
- 125000001997 phenyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(*)C([H])=C1[H] 0.000 description 8
- 229920005604 random copolymer Polymers 0.000 description 8
- 239000012495 reaction gas Substances 0.000 description 8
- 238000007789 sealing Methods 0.000 description 8
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 8
- 239000000654 additive Substances 0.000 description 7
- 125000002947 alkylene group Chemical group 0.000 description 7
- 125000001495 ethyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 7
- 238000010030 laminating Methods 0.000 description 7
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 7
- 238000005240 physical vapour deposition Methods 0.000 description 7
- HMUNWXXNJPVALC-UHFFFAOYSA-N 1-[4-[2-(2,3-dihydro-1H-inden-2-ylamino)pyrimidin-5-yl]piperazin-1-yl]-2-(2,4,6,7-tetrahydrotriazolo[4,5-c]pyridin-5-yl)ethanone Chemical compound C1C(CC2=CC=CC=C12)NC1=NC=C(C=N1)N1CCN(CC1)C(CN1CC2=C(CC1)NN=N2)=O HMUNWXXNJPVALC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- SXAMGRAIZSSWIH-UHFFFAOYSA-N 2-[3-[2-(2,3-dihydro-1H-inden-2-ylamino)pyrimidin-5-yl]-1,2,4-oxadiazol-5-yl]-1-(2,4,6,7-tetrahydrotriazolo[4,5-c]pyridin-5-yl)ethanone Chemical compound C1C(CC2=CC=CC=C12)NC1=NC=C(C=N1)C1=NOC(=N1)CC(=O)N1CC2=C(CC1)NN=N2 SXAMGRAIZSSWIH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- WZFUQSJFWNHZHM-UHFFFAOYSA-N 2-[4-[2-(2,3-dihydro-1H-inden-2-ylamino)pyrimidin-5-yl]piperazin-1-yl]-1-(2,4,6,7-tetrahydrotriazolo[4,5-c]pyridin-5-yl)ethanone Chemical compound C1C(CC2=CC=CC=C12)NC1=NC=C(C=N1)N1CCN(CC1)CC(=O)N1CC2=C(CC1)NN=N2 WZFUQSJFWNHZHM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- YJLUBHOZZTYQIP-UHFFFAOYSA-N 2-[5-[2-(2,3-dihydro-1H-inden-2-ylamino)pyrimidin-5-yl]-1,3,4-oxadiazol-2-yl]-1-(2,4,6,7-tetrahydrotriazolo[4,5-c]pyridin-5-yl)ethanone Chemical compound C1C(CC2=CC=CC=C12)NC1=NC=C(C=N1)C1=NN=C(O1)CC(=O)N1CC2=C(CC1)NN=N2 YJLUBHOZZTYQIP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N Atomic nitrogen Chemical compound N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- XEKOWRVHYACXOJ-UHFFFAOYSA-N Ethyl acetate Chemical compound CCOC(C)=O XEKOWRVHYACXOJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 229910019142 PO4 Inorganic materials 0.000 description 6
- 230000001133 acceleration Effects 0.000 description 6
- 239000002981 blocking agent Substances 0.000 description 6
- 150000001721 carbon Chemical group 0.000 description 6
- 150000001735 carboxylic acids Chemical class 0.000 description 6
- 125000004093 cyano group Chemical group *C#N 0.000 description 6
- 238000001035 drying Methods 0.000 description 6
- 125000000816 ethylene group Chemical group [H]C([H])([*:1])C([H])([H])[*:2] 0.000 description 6
- 238000001704 evaporation Methods 0.000 description 6
- 230000008020 evaporation Effects 0.000 description 6
- 229920001519 homopolymer Polymers 0.000 description 6
- 125000002496 methyl group Chemical group [H]C([H])([H])* 0.000 description 6
- 125000000449 nitro group Chemical group [O-][N+](*)=O 0.000 description 6
- 125000000951 phenoxy group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(O*)C([H])=C1[H] 0.000 description 6
- NBIIXXVUZAFLBC-UHFFFAOYSA-K phosphate Chemical compound [O-]P([O-])([O-])=O NBIIXXVUZAFLBC-UHFFFAOYSA-K 0.000 description 6
- 239000010452 phosphate Substances 0.000 description 6
- 125000005543 phthalimide group Chemical group 0.000 description 6
- 125000000391 vinyl group Chemical group [H]C([*])=C([H])[H] 0.000 description 6
- 229920002554 vinyl polymer Polymers 0.000 description 6
- 239000004698 Polyethylene Substances 0.000 description 5
- 125000000217 alkyl group Chemical group 0.000 description 5
- PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N aluminium oxide Inorganic materials [O-2].[O-2].[O-2].[Al+3].[Al+3] PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 238000004458 analytical method Methods 0.000 description 5
- 239000003963 antioxidant agent Substances 0.000 description 5
- 239000002216 antistatic agent Substances 0.000 description 5
- 238000005452 bending Methods 0.000 description 5
- 230000000740 bleeding effect Effects 0.000 description 5
- 125000003917 carbamoyl group Chemical group [H]N([H])C(*)=O 0.000 description 5
- 239000003431 cross linking reagent Substances 0.000 description 5
- 208000028659 discharge Diseases 0.000 description 5
- 238000005530 etching Methods 0.000 description 5
- 239000001307 helium Substances 0.000 description 5
- 229910052734 helium Inorganic materials 0.000 description 5
- SWQJXJOGLNCZEY-UHFFFAOYSA-N helium atom Chemical compound [He] SWQJXJOGLNCZEY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 125000004435 hydrogen atom Chemical group [H]* 0.000 description 5
- 229920000554 ionomer Polymers 0.000 description 5
- 125000001449 isopropyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])(*)C([H])([H])[H] 0.000 description 5
- 239000004611 light stabiliser Substances 0.000 description 5
- 230000007246 mechanism Effects 0.000 description 5
- 239000003960 organic solvent Substances 0.000 description 5
- 230000003647 oxidation Effects 0.000 description 5
- 238000007254 oxidation reaction Methods 0.000 description 5
- XNGIFLGASWRNHJ-UHFFFAOYSA-N phthalic acid Chemical compound OC(=O)C1=CC=CC=C1C(O)=O XNGIFLGASWRNHJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 239000000049 pigment Substances 0.000 description 5
- 238000009832 plasma treatment Methods 0.000 description 5
- 229920006267 polyester film Polymers 0.000 description 5
- 229920000573 polyethylene Polymers 0.000 description 5
- 238000007639 printing Methods 0.000 description 5
- BDERNNFJNOPAEC-UHFFFAOYSA-N propan-1-ol Chemical compound CCCO BDERNNFJNOPAEC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 238000004064 recycling Methods 0.000 description 5
- 239000012744 reinforcing agent Substances 0.000 description 5
- 238000005070 sampling Methods 0.000 description 5
- 239000000377 silicon dioxide Substances 0.000 description 5
- 239000002356 single layer Substances 0.000 description 5
- 239000012748 slip agent Substances 0.000 description 5
- 241000894007 species Species 0.000 description 5
- 230000003595 spectral effect Effects 0.000 description 5
- 238000001228 spectrum Methods 0.000 description 5
- 230000035882 stress Effects 0.000 description 5
- 238000004804 winding Methods 0.000 description 5
- 239000004711 α-olefin Substances 0.000 description 5
- PUPZLCDOIYMWBV-UHFFFAOYSA-N (+/-)-1,3-Butanediol Chemical compound CC(O)CCO PUPZLCDOIYMWBV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 125000002030 1,2-phenylene group Chemical group [H]C1=C([H])C([*:1])=C([*:2])C([H])=C1[H] 0.000 description 4
- VXNZUUAINFGPBY-UHFFFAOYSA-N 1-Butene Chemical compound CCC=C VXNZUUAINFGPBY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- WSSSPWUEQFSQQG-UHFFFAOYSA-N 4-methyl-1-pentene Chemical compound CC(C)CC=C WSSSPWUEQFSQQG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 229920001450 Alpha-Cyclodextrin Polymers 0.000 description 4
- VGGSQFUCUMXWEO-UHFFFAOYSA-N Ethene Chemical compound C=C VGGSQFUCUMXWEO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 239000005977 Ethylene Substances 0.000 description 4
- VZCYOOQTPOCHFL-OWOJBTEDSA-N Fumaric acid Chemical compound OC(=O)\C=C\C(O)=O VZCYOOQTPOCHFL-OWOJBTEDSA-N 0.000 description 4
- VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N Hydrochloric acid Chemical compound Cl VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- NBIIXXVUZAFLBC-UHFFFAOYSA-N Phosphoric acid Chemical compound OP(O)(O)=O NBIIXXVUZAFLBC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 230000000996 additive effect Effects 0.000 description 4
- 229940043377 alpha-cyclodextrin Drugs 0.000 description 4
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 description 4
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 125000003368 amide group Chemical group 0.000 description 4
- 230000003078 antioxidant effect Effects 0.000 description 4
- 229910052786 argon Inorganic materials 0.000 description 4
- 125000001246 bromo group Chemical group Br* 0.000 description 4
- 125000002915 carbonyl group Chemical group [*:2]C([*:1])=O 0.000 description 4
- 239000012461 cellulose resin Substances 0.000 description 4
- 125000001309 chloro group Chemical group Cl* 0.000 description 4
- 238000000151 deposition Methods 0.000 description 4
- 230000008021 deposition Effects 0.000 description 4
- 125000003700 epoxy group Chemical group 0.000 description 4
- 125000004185 ester group Chemical group 0.000 description 4
- 125000001301 ethoxy group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])O* 0.000 description 4
- 239000000945 filler Substances 0.000 description 4
- 125000000524 functional group Chemical group 0.000 description 4
- 125000002791 glucosyl group Chemical group C1([C@H](O)[C@@H](O)[C@H](O)[C@H](O1)CO)* 0.000 description 4
- RZXDTJIXPSCHCI-UHFFFAOYSA-N hexa-1,5-diene-2,5-diol Chemical compound OC(=C)CCC(O)=C RZXDTJIXPSCHCI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 239000001257 hydrogen Substances 0.000 description 4
- 229910052739 hydrogen Inorganic materials 0.000 description 4
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 4
- 125000000956 methoxy group Chemical group [H]C([H])([H])O* 0.000 description 4
- 125000002816 methylsulfanyl group Chemical group [H]C([H])([H])S[*] 0.000 description 4
- 238000002156 mixing Methods 0.000 description 4
- 125000001624 naphthyl group Chemical group 0.000 description 4
- SLCVBVWXLSEKPL-UHFFFAOYSA-N neopentyl glycol Chemical compound OCC(C)(C)CO SLCVBVWXLSEKPL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 239000003921 oil Substances 0.000 description 4
- 125000003356 phenylsulfanyl group Chemical group [*]SC1=C([H])C([H])=C([H])C([H])=C1[H] 0.000 description 4
- 239000002994 raw material Substances 0.000 description 4
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 4
- VZCYOOQTPOCHFL-UHFFFAOYSA-N trans-butenedioic acid Natural products OC(=O)C=CC(O)=O VZCYOOQTPOCHFL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 239000006097 ultraviolet radiation absorber Substances 0.000 description 4
- SXFJDZNJHVPHPH-UHFFFAOYSA-N 3-methylpentane-1,5-diol Chemical compound OCCC(C)CCO SXFJDZNJHVPHPH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- TUZMHNASXCXMBO-UHFFFAOYSA-N 3-methylpentane-2,2-diol Chemical class CCC(C)C(C)(O)O TUZMHNASXCXMBO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-N Acetic acid Chemical compound CC(O)=O QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000002028 Biomass Substances 0.000 description 3
- 229920000089 Cyclic olefin copolymer Polymers 0.000 description 3
- LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N Ethanol Chemical compound CCO LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N Methanol Chemical compound OC OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 229920003355 Novatec® Polymers 0.000 description 3
- BPQQTUXANYXVAA-UHFFFAOYSA-N Orthosilicate Chemical compound [O-][Si]([O-])([O-])[O-] BPQQTUXANYXVAA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- ALQSHHUCVQOPAS-UHFFFAOYSA-N Pentane-1,5-diol Chemical compound OCCCCCO ALQSHHUCVQOPAS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000004721 Polyphenylene oxide Substances 0.000 description 3
- UMHKOAYRTRADAT-UHFFFAOYSA-N [hydroxy(octoxy)phosphoryl] octyl hydrogen phosphate Chemical compound CCCCCCCCOP(O)(=O)OP(O)(=O)OCCCCCCCC UMHKOAYRTRADAT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 150000007513 acids Chemical class 0.000 description 3
- 125000003647 acryloyl group Chemical group O=C([*])C([H])=C([H])[H] 0.000 description 3
- 125000001931 aliphatic group Chemical group 0.000 description 3
- 230000008859 change Effects 0.000 description 3
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 3
- 238000005520 cutting process Methods 0.000 description 3
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 3
- 150000002009 diols Chemical class 0.000 description 3
- 238000011156 evaluation Methods 0.000 description 3
- 229940080345 gamma-cyclodextrin Drugs 0.000 description 3
- SAMYCKUDTNLASP-UHFFFAOYSA-N hexane-2,2-diol Chemical class CCCCC(C)(O)O SAMYCKUDTNLASP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 150000002484 inorganic compounds Chemical class 0.000 description 3
- 229910010272 inorganic material Inorganic materials 0.000 description 3
- IQPQWNKOIGAROB-UHFFFAOYSA-N isocyanate group Chemical group [N-]=C=O IQPQWNKOIGAROB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- RLAWWYSOJDYHDC-BZSNNMDCSA-N lisinopril Chemical compound C([C@H](N[C@@H](CCCCN)C(=O)N1[C@@H](CCC1)C(O)=O)C(O)=O)CC1=CC=CC=C1 RLAWWYSOJDYHDC-BZSNNMDCSA-N 0.000 description 3
- TWNQGVIAIRXVLR-UHFFFAOYSA-N oxo(oxoalumanyloxy)alumane Chemical compound O=[Al]O[Al]=O TWNQGVIAIRXVLR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 229920000570 polyether Polymers 0.000 description 3
- 229920000139 polyethylene terephthalate Polymers 0.000 description 3
- 239000005020 polyethylene terephthalate Substances 0.000 description 3
- 238000006116 polymerization reaction Methods 0.000 description 3
- 230000001681 protective effect Effects 0.000 description 3
- 239000011342 resin composition Substances 0.000 description 3
- 238000004381 surface treatment Methods 0.000 description 3
- 239000010409 thin film Substances 0.000 description 3
- 229910052719 titanium Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000010936 titanium Substances 0.000 description 3
- 238000012546 transfer Methods 0.000 description 3
- BPSIOYPQMFLKFR-UHFFFAOYSA-N trimethoxy-[3-(oxiran-2-ylmethoxy)propyl]silane Chemical compound CO[Si](OC)(OC)CCCOCC1CO1 BPSIOYPQMFLKFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000011364 vaporized material Substances 0.000 description 3
- WYTZZXDRDKSJID-UHFFFAOYSA-N (3-aminopropyl)triethoxysilane Chemical compound CCO[Si](OCC)(OCC)CCCN WYTZZXDRDKSJID-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- BPXVHIRIPLPOPT-UHFFFAOYSA-N 1,3,5-tris(2-hydroxyethyl)-1,3,5-triazinane-2,4,6-trione Chemical compound OCCN1C(=O)N(CCO)C(=O)N(CCO)C1=O BPXVHIRIPLPOPT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- TUNKPLGAVXZFGZ-UHFFFAOYSA-N 1,3,5-tris(2-hydroxypropyl)-1,3,5-triazinane-2,4,6-trione Chemical compound CC(O)CN1C(=O)N(CC(C)O)C(=O)N(CC(C)O)C1=O TUNKPLGAVXZFGZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- CBWJHIXSVFDERH-UHFFFAOYSA-N 1-isothiocyanato-2-nitrobenzene Chemical compound [O-][N+](=O)C1=CC=CC=C1N=C=S CBWJHIXSVFDERH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000000022 2-aminoethyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])N([H])[H] 0.000 description 2
- YLZOPXRUQYQQID-UHFFFAOYSA-N 3-(2,4,6,7-tetrahydrotriazolo[4,5-c]pyridin-5-yl)-1-[4-[2-[[3-(trifluoromethoxy)phenyl]methylamino]pyrimidin-5-yl]piperazin-1-yl]propan-1-one Chemical compound N1N=NC=2CN(CCC=21)CCC(=O)N1CCN(CC1)C=1C=NC(=NC=1)NCC1=CC(=CC=C1)OC(F)(F)F YLZOPXRUQYQQID-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- SJECZPVISLOESU-UHFFFAOYSA-N 3-trimethoxysilylpropan-1-amine Chemical compound CO[Si](OC)(OC)CCCN SJECZPVISLOESU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- FJKROLUGYXJWQN-UHFFFAOYSA-N 4-hydroxybenzoic acid Chemical compound OC(=O)C1=CC=C(O)C=C1 FJKROLUGYXJWQN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000004375 Dextrin Substances 0.000 description 2
- 229920001353 Dextrin Polymers 0.000 description 2
- 239000001116 FEMA 4028 Substances 0.000 description 2
- WQZGKKKJIJFFOK-GASJEMHNSA-N Glucose Natural products OC[C@H]1OC(O)[C@H](O)[C@@H](O)[C@@H]1O WQZGKKKJIJFFOK-GASJEMHNSA-N 0.000 description 2
- QIGBRXMKCJKVMJ-UHFFFAOYSA-N Hydroquinone Chemical compound OC1=CC=C(O)C=C1 QIGBRXMKCJKVMJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- LRHPLDYGYMQRHN-UHFFFAOYSA-N N-Butanol Chemical compound CCCCO LRHPLDYGYMQRHN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- MKYBYDHXWVHEJW-UHFFFAOYSA-N N-[1-oxo-1-(2,4,6,7-tetrahydrotriazolo[4,5-c]pyridin-5-yl)propan-2-yl]-2-[[3-(trifluoromethoxy)phenyl]methylamino]pyrimidine-5-carboxamide Chemical compound O=C(C(C)NC(=O)C=1C=NC(=NC=1)NCC1=CC(=CC=C1)OC(F)(F)F)N1CC2=C(CC1)NN=N2 MKYBYDHXWVHEJW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- NIPNSKYNPDTRPC-UHFFFAOYSA-N N-[2-oxo-2-(2,4,6,7-tetrahydrotriazolo[4,5-c]pyridin-5-yl)ethyl]-2-[[3-(trifluoromethoxy)phenyl]methylamino]pyrimidine-5-carboxamide Chemical compound O=C(CNC(=O)C=1C=NC(=NC=1)NCC1=CC(=CC=C1)OC(F)(F)F)N1CC2=C(CC1)NN=N2 NIPNSKYNPDTRPC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- AFCARXCZXQIEQB-UHFFFAOYSA-N N-[3-oxo-3-(2,4,6,7-tetrahydrotriazolo[4,5-c]pyridin-5-yl)propyl]-2-[[3-(trifluoromethoxy)phenyl]methylamino]pyrimidine-5-carboxamide Chemical compound O=C(CCNC(=O)C=1C=NC(=NC=1)NCC1=CC(=CC=C1)OC(F)(F)F)N1CC2=C(CC1)NN=N2 AFCARXCZXQIEQB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- CBENFWSGALASAD-UHFFFAOYSA-N Ozone Chemical compound [O-][O+]=O CBENFWSGALASAD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- ISWSIDIOOBJBQZ-UHFFFAOYSA-N Phenol Chemical compound OC1=CC=CC=C1 ISWSIDIOOBJBQZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000004642 Polyimide Substances 0.000 description 2
- 229920011250 Polypropylene Block Copolymer Polymers 0.000 description 2
- OFOBLEOULBTSOW-UHFFFAOYSA-N Propanedioic acid Natural products OC(=O)CC(O)=O OFOBLEOULBTSOW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- KDYFGRWQOYBRFD-UHFFFAOYSA-N Succinic acid Natural products OC(=O)CCC(O)=O KDYFGRWQOYBRFD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N Sulfuric acid Chemical compound OS(O)(=O)=O QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- BOTDANWDWHJENH-UHFFFAOYSA-N Tetraethyl orthosilicate Chemical compound CCO[Si](OCC)(OCC)OCC BOTDANWDWHJENH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- ORLQHILJRHBSAY-UHFFFAOYSA-N [1-(hydroxymethyl)cyclohexyl]methanol Chemical compound OCC1(CO)CCCCC1 ORLQHILJRHBSAY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- WNLRTRBMVRJNCN-UHFFFAOYSA-N adipic acid Chemical compound OC(=O)CCCCC(O)=O WNLRTRBMVRJNCN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 150000007824 aliphatic compounds Chemical class 0.000 description 2
- 229910000147 aluminium phosphate Inorganic materials 0.000 description 2
- 150000001491 aromatic compounds Chemical class 0.000 description 2
- 125000000732 arylene group Chemical group 0.000 description 2
- 125000004429 atom Chemical group 0.000 description 2
- QVQLCTNNEUAWMS-UHFFFAOYSA-N barium oxide Chemical compound [Ba]=O QVQLCTNNEUAWMS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229960004853 betadex Drugs 0.000 description 2
- IISBACLAFKSPIT-UHFFFAOYSA-N bisphenol A Chemical compound C=1C=C(O)C=CC=1C(C)(C)C1=CC=C(O)C=C1 IISBACLAFKSPIT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- PXKLMJQFEQBVLD-UHFFFAOYSA-N bisphenol F Chemical compound C1=CC(O)=CC=C1CC1=CC=C(O)C=C1 PXKLMJQFEQBVLD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229920001400 block copolymer Polymers 0.000 description 2
- KDYFGRWQOYBRFD-NUQCWPJISA-N butanedioic acid Chemical compound O[14C](=O)CC[14C](O)=O KDYFGRWQOYBRFD-NUQCWPJISA-N 0.000 description 2
- 150000001244 carboxylic acid anhydrides Chemical group 0.000 description 2
- 230000003197 catalytic effect Effects 0.000 description 2
- YCIMNLLNPGFGHC-UHFFFAOYSA-N catechol Chemical compound OC1=CC=CC=C1O YCIMNLLNPGFGHC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000003851 corona treatment Methods 0.000 description 2
- LNGJOYPCXLOTKL-UHFFFAOYSA-N cyclopentane-1,3-dicarboxylic acid Chemical class OC(=O)C1CCC(C(O)=O)C1 LNGJOYPCXLOTKL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 230000006866 deterioration Effects 0.000 description 2
- 235000019425 dextrin Nutrition 0.000 description 2
- 150000001991 dicarboxylic acids Chemical class 0.000 description 2
- 238000000113 differential scanning calorimetry Methods 0.000 description 2
- XXBDWLFCJWSEKW-UHFFFAOYSA-N dimethylbenzylamine Chemical compound CN(C)CC1=CC=CC=C1 XXBDWLFCJWSEKW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910001873 dinitrogen Inorganic materials 0.000 description 2
- 230000007613 environmental effect Effects 0.000 description 2
- 235000019441 ethanol Nutrition 0.000 description 2
- 229940093499 ethyl acetate Drugs 0.000 description 2
- 235000019439 ethyl acetate Nutrition 0.000 description 2
- 229920006242 ethylene acrylic acid copolymer Polymers 0.000 description 2
- 239000005038 ethylene vinyl acetate Substances 0.000 description 2
- 229920006244 ethylene-ethyl acrylate Polymers 0.000 description 2
- 229920006225 ethylene-methyl acrylate Polymers 0.000 description 2
- 229920005680 ethylene-methyl methacrylate copolymer Polymers 0.000 description 2
- 239000001530 fumaric acid Substances 0.000 description 2
- 230000009477 glass transition Effects 0.000 description 2
- 239000008103 glucose Substances 0.000 description 2
- 125000005843 halogen group Chemical group 0.000 description 2
- 125000005842 heteroatom Chemical group 0.000 description 2
- XXMIOPMDWAUFGU-UHFFFAOYSA-N hexane-1,6-diol Chemical compound OCCCCCCO XXMIOPMDWAUFGU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229920001903 high density polyethylene Polymers 0.000 description 2
- 239000004700 high-density polyethylene Substances 0.000 description 2
- 238000006460 hydrolysis reaction Methods 0.000 description 2
- ZFSLODLOARCGLH-UHFFFAOYSA-N isocyanuric acid Chemical compound OC1=NC(O)=NC(O)=N1 ZFSLODLOARCGLH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- QQVIHTHCMHWDBS-UHFFFAOYSA-N isophthalic acid Chemical compound OC(=O)C1=CC=CC(C(O)=O)=C1 QQVIHTHCMHWDBS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229920001684 low density polyethylene Polymers 0.000 description 2
- 239000004702 low-density polyethylene Substances 0.000 description 2
- VZCYOOQTPOCHFL-UPHRSURJSA-N maleic acid Chemical compound OC(=O)\C=C/C(O)=O VZCYOOQTPOCHFL-UPHRSURJSA-N 0.000 description 2
- 239000011976 maleic acid Substances 0.000 description 2
- FPYJFEHAWHCUMM-UHFFFAOYSA-N maleic anhydride Chemical compound O=C1OC(=O)C=C1 FPYJFEHAWHCUMM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229920001179 medium density polyethylene Polymers 0.000 description 2
- 239000004701 medium-density polyethylene Substances 0.000 description 2
- 239000003607 modifier Substances 0.000 description 2
- 239000000178 monomer Substances 0.000 description 2
- KYTZHLUVELPASH-UHFFFAOYSA-N naphthalene-1,2-dicarboxylic acid Chemical compound C1=CC=CC2=C(C(O)=O)C(C(=O)O)=CC=C21 KYTZHLUVELPASH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- KHARCSTZAGNHOT-UHFFFAOYSA-N naphthalene-2,3-dicarboxylic acid Chemical compound C1=CC=C2C=C(C(O)=O)C(C(=O)O)=CC2=C1 KHARCSTZAGNHOT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 description 2
- BDJRBEYXGGNYIS-UHFFFAOYSA-N nonanedioic acid Chemical compound OC(=O)CCCCCCCC(O)=O BDJRBEYXGGNYIS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000000962 organic group Chemical group 0.000 description 2
- 230000002093 peripheral effect Effects 0.000 description 2
- 229920003023 plastic Polymers 0.000 description 2
- 239000004033 plastic Substances 0.000 description 2
- 229920001200 poly(ethylene-vinyl acetate) Polymers 0.000 description 2
- 229920006122 polyamide resin Polymers 0.000 description 2
- 238000006068 polycondensation reaction Methods 0.000 description 2
- 229920001225 polyester resin Polymers 0.000 description 2
- 239000004645 polyester resin Substances 0.000 description 2
- 229920001721 polyimide Polymers 0.000 description 2
- 229920005629 polypropylene homopolymer Polymers 0.000 description 2
- 229920005630 polypropylene random copolymer Polymers 0.000 description 2
- MWWATHDPGQKSAR-UHFFFAOYSA-N propyne Chemical group CC#C MWWATHDPGQKSAR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 150000003254 radicals Chemical class 0.000 description 2
- GHMLBKRAJCXXBS-UHFFFAOYSA-N resorcinol Chemical compound OC1=CC=CC(O)=C1 GHMLBKRAJCXXBS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- CXMXRPHRNRROMY-UHFFFAOYSA-N sebacic acid Chemical compound OC(=O)CCCCCCCCC(O)=O CXMXRPHRNRROMY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- HBMJWWWQQXIZIP-UHFFFAOYSA-N silicon carbide Chemical compound [Si+]#[C-] HBMJWWWQQXIZIP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910010271 silicon carbide Inorganic materials 0.000 description 2
- 238000004528 spin coating Methods 0.000 description 2
- 125000001174 sulfone group Chemical group 0.000 description 2
- 239000000454 talc Substances 0.000 description 2
- 229910052623 talc Inorganic materials 0.000 description 2
- 125000000383 tetramethylene group Chemical group [H]C([H])([*:1])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[*:2] 0.000 description 2
- 125000003396 thiol group Chemical group [H]S* 0.000 description 2
- DVKJHBMWWAPEIU-UHFFFAOYSA-N toluene 2,4-diisocyanate Chemical compound CC1=CC=C(N=C=O)C=C1N=C=O DVKJHBMWWAPEIU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- DQZNLOXENNXVAD-UHFFFAOYSA-N trimethoxy-[2-(7-oxabicyclo[4.1.0]heptan-4-yl)ethyl]silane Chemical compound C1C(CC[Si](OC)(OC)OC)CCC2OC21 DQZNLOXENNXVAD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000013022 venting Methods 0.000 description 2
- YZOUYRAONFXZSI-SBHWVFSVSA-N (1S,3R,5R,6R,8R,10R,11R,13R,15R,16R,18R,20R,21R,23R,25R,26R,28R,30R,31S,33R,35R,36R,37S,38R,39S,40R,41S,42R,43S,44R,45S,46R,47S,48R,49S)-5,10,15,20,25,30,35-heptakis(hydroxymethyl)-37,39,40,41,42,43,44,45,46,47,48,49-dodecamethoxy-2,4,7,9,12,14,17,19,22,24,27,29,32,34-tetradecaoxaoctacyclo[31.2.2.23,6.28,11.213,16.218,21.223,26.228,31]nonatetracontane-36,38-diol Chemical compound O([C@@H]([C@H]([C@@H]1OC)OC)O[C@H]2[C@@H](O)[C@@H]([C@@H](O[C@@H]3[C@@H](CO)O[C@@H]([C@H]([C@@H]3O)OC)O[C@@H]3[C@@H](CO)O[C@@H]([C@H]([C@@H]3OC)OC)O[C@@H]3[C@@H](CO)O[C@@H]([C@H]([C@@H]3OC)OC)O[C@@H]3[C@@H](CO)O[C@@H]([C@H]([C@@H]3OC)OC)O3)O[C@@H]2CO)OC)[C@H](CO)[C@H]1O[C@@H]1[C@@H](OC)[C@H](OC)[C@H]3[C@@H](CO)O1 YZOUYRAONFXZSI-SBHWVFSVSA-N 0.000 description 1
- RTTZISZSHSCFRH-UHFFFAOYSA-N 1,3-bis(isocyanatomethyl)benzene Chemical compound O=C=NCC1=CC=CC(CN=C=O)=C1 RTTZISZSHSCFRH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PXGZQGDTEZPERC-UHFFFAOYSA-N 1,4-cyclohexanedicarboxylic acid Chemical class OC(=O)C1CCC(C(O)=O)CC1 PXGZQGDTEZPERC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OVBFMUAFNIIQAL-UHFFFAOYSA-N 1,4-diisocyanatobutane Chemical compound O=C=NCCCCN=C=O OVBFMUAFNIIQAL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OHVLMTFVQDZYHP-UHFFFAOYSA-N 1-(2,4,6,7-tetrahydrotriazolo[4,5-c]pyridin-5-yl)-2-[4-[2-[[3-(trifluoromethoxy)phenyl]methylamino]pyrimidin-5-yl]piperazin-1-yl]ethanone Chemical compound N1N=NC=2CN(CCC=21)C(CN1CCN(CC1)C=1C=NC(=NC=1)NCC1=CC(=CC=C1)OC(F)(F)F)=O OHVLMTFVQDZYHP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KZEVSDGEBAJOTK-UHFFFAOYSA-N 1-(2,4,6,7-tetrahydrotriazolo[4,5-c]pyridin-5-yl)-2-[5-[2-[[3-(trifluoromethoxy)phenyl]methylamino]pyrimidin-5-yl]-1,3,4-oxadiazol-2-yl]ethanone Chemical compound N1N=NC=2CN(CCC=21)C(CC=1OC(=NN=1)C=1C=NC(=NC=1)NCC1=CC(=CC=C1)OC(F)(F)F)=O KZEVSDGEBAJOTK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HIQAWCBKWSQMRQ-UHFFFAOYSA-N 16-methylheptadecanoic acid;2-methylprop-2-enoic acid;propan-2-ol;titanium Chemical compound [Ti].CC(C)O.CC(=C)C(O)=O.CC(=C)C(O)=O.CC(C)CCCCCCCCCCCCCCC(O)=O HIQAWCBKWSQMRQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- IEKHISJGRIEHRE-UHFFFAOYSA-N 16-methylheptadecanoic acid;propan-2-ol;titanium Chemical compound [Ti].CC(C)O.CC(C)CCCCCCCCCCCCCCC(O)=O.CC(C)CCCCCCCCCCCCCCC(O)=O.CC(C)CCCCCCCCCCCCCCC(O)=O IEKHISJGRIEHRE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LDXJRKWFNNFDSA-UHFFFAOYSA-N 2-(2,4,6,7-tetrahydrotriazolo[4,5-c]pyridin-5-yl)-1-[4-[2-[[3-(trifluoromethoxy)phenyl]methylamino]pyrimidin-5-yl]piperazin-1-yl]ethanone Chemical compound C1CN(CC2=NNN=C21)CC(=O)N3CCN(CC3)C4=CN=C(N=C4)NCC5=CC(=CC=C5)OC(F)(F)F LDXJRKWFNNFDSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CZAZXHQSSWRBHT-UHFFFAOYSA-N 2-(2-hydroxyphenyl)-3,4,5,6-tetramethylphenol Chemical compound OC1=C(C)C(C)=C(C)C(C)=C1C1=CC=CC=C1O CZAZXHQSSWRBHT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SMZOUWXMTYCWNB-UHFFFAOYSA-N 2-(2-methoxy-5-methylphenyl)ethanamine Chemical compound COC1=CC=C(C)C=C1CCN SMZOUWXMTYCWNB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JAHNSTQSQJOJLO-UHFFFAOYSA-N 2-(3-fluorophenyl)-1h-imidazole Chemical compound FC1=CC=CC(C=2NC=CN=2)=C1 JAHNSTQSQJOJLO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HZAXFHJVJLSVMW-UHFFFAOYSA-N 2-Aminoethan-1-ol Chemical compound NCCO HZAXFHJVJLSVMW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N 2-Propenoic acid Natural products OC(=O)C=C NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LCZVSXRMYJUNFX-UHFFFAOYSA-N 2-[2-(2-hydroxypropoxy)propoxy]propan-1-ol Chemical class CC(O)COC(C)COC(C)CO LCZVSXRMYJUNFX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QCYAJCGCGWQKJT-UHFFFAOYSA-N 2-[3-(2-hydroxyethyl)phenyl]ethanol Chemical compound OCCC1=CC=CC(CCO)=C1 QCYAJCGCGWQKJT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LBZZJNPUANNABV-UHFFFAOYSA-N 2-[4-(2-hydroxyethyl)phenyl]ethanol Chemical compound OCCC1=CC=C(CCO)C=C1 LBZZJNPUANNABV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JQMFQLVAJGZSQS-UHFFFAOYSA-N 2-[4-[2-(2,3-dihydro-1H-inden-2-ylamino)pyrimidin-5-yl]piperazin-1-yl]-N-(2-oxo-3H-1,3-benzoxazol-6-yl)acetamide Chemical compound C1C(CC2=CC=CC=C12)NC1=NC=C(C=N1)N1CCN(CC1)CC(=O)NC1=CC2=C(NC(O2)=O)C=C1 JQMFQLVAJGZSQS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- IHCCLXNEEPMSIO-UHFFFAOYSA-N 2-[4-[2-(2,3-dihydro-1H-inden-2-ylamino)pyrimidin-5-yl]piperidin-1-yl]-1-(2,4,6,7-tetrahydrotriazolo[4,5-c]pyridin-5-yl)ethanone Chemical compound C1C(CC2=CC=CC=C12)NC1=NC=C(C=N1)C1CCN(CC1)CC(=O)N1CC2=C(CC1)NN=N2 IHCCLXNEEPMSIO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- APLNAFMUEHKRLM-UHFFFAOYSA-N 2-[5-[2-(2,3-dihydro-1H-inden-2-ylamino)pyrimidin-5-yl]-1,3,4-oxadiazol-2-yl]-1-(3,4,6,7-tetrahydroimidazo[4,5-c]pyridin-5-yl)ethanone Chemical compound C1C(CC2=CC=CC=C12)NC1=NC=C(C=N1)C1=NN=C(O1)CC(=O)N1CC2=C(CC1)N=CN2 APLNAFMUEHKRLM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KKOHCQAVIJDYAF-UHFFFAOYSA-N 2-dodecylbenzenesulfonic acid;propan-2-ol;titanium Chemical compound [Ti].CC(C)O.CCCCCCCCCCCCC1=CC=CC=C1S(O)(=O)=O.CCCCCCCCCCCCC1=CC=CC=C1S(O)(=O)=O.CCCCCCCCCCCCC1=CC=CC=C1S(O)(=O)=O KKOHCQAVIJDYAF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LJKDOMVGKKPJBH-UHFFFAOYSA-N 2-ethylhexyl dihydrogen phosphate Chemical compound CCCCC(CC)COP(O)(O)=O LJKDOMVGKKPJBH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JMMZCWZIJXAGKW-UHFFFAOYSA-N 2-methylpent-2-ene Chemical compound CCC=C(C)C JMMZCWZIJXAGKW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SEILKFZTLVMHRR-UHFFFAOYSA-N 2-phosphonooxyethyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CC(=C)C(=O)OCCOP(O)(O)=O SEILKFZTLVMHRR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WMRCTEPOPAZMMN-UHFFFAOYSA-N 2-undecylpropanedioic acid Chemical compound CCCCCCCCCCCC(C(O)=O)C(O)=O WMRCTEPOPAZMMN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DOYKFSOCSXVQAN-UHFFFAOYSA-N 3-[diethoxy(methyl)silyl]propyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CCO[Si](C)(OCC)CCCOC(=O)C(C)=C DOYKFSOCSXVQAN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZYAASQNKCWTPKI-UHFFFAOYSA-N 3-[dimethoxy(methyl)silyl]propan-1-amine Chemical compound CO[Si](C)(OC)CCCN ZYAASQNKCWTPKI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LZMNXXQIQIHFGC-UHFFFAOYSA-N 3-[dimethoxy(methyl)silyl]propyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CO[Si](C)(OC)CCCOC(=O)C(C)=C LZMNXXQIQIHFGC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OXYZDRAJMHGSMW-UHFFFAOYSA-N 3-chloropropyl(trimethoxy)silane Chemical compound CO[Si](OC)(OC)CCCCl OXYZDRAJMHGSMW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HSSYVKMJJLDTKZ-UHFFFAOYSA-N 3-phenylphthalic acid Chemical class OC(=O)C1=CC=CC(C=2C=CC=CC=2)=C1C(O)=O HSSYVKMJJLDTKZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- URDOJQUSEUXVRP-UHFFFAOYSA-N 3-triethoxysilylpropyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CCO[Si](OCC)(OCC)CCCOC(=O)C(C)=C URDOJQUSEUXVRP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XDLMVUHYZWKMMD-UHFFFAOYSA-N 3-trimethoxysilylpropyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CO[Si](OC)(OC)CCCOC(=O)C(C)=C XDLMVUHYZWKMMD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KBQVDAIIQCXKPI-UHFFFAOYSA-N 3-trimethoxysilylpropyl prop-2-enoate Chemical compound CO[Si](OC)(OC)CCCOC(=O)C=C KBQVDAIIQCXKPI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UPMLOUAZCHDJJD-UHFFFAOYSA-N 4,4'-Diphenylmethane Diisocyanate Chemical compound C1=CC(N=C=O)=CC=C1CC1=CC=C(N=C=O)C=C1 UPMLOUAZCHDJJD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QLIQIXIBZLTPGQ-UHFFFAOYSA-N 4-(2-hydroxyethoxy)benzoic acid Chemical compound OCCOC1=CC=C(C(O)=O)C=C1 QLIQIXIBZLTPGQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229940090248 4-hydroxybenzoic acid Drugs 0.000 description 1
- WHZZVHUHNMBCLY-UHFFFAOYSA-N 4-methyloctane-3,3-diol Chemical class CCCCC(C)C(O)(O)CC WHZZVHUHNMBCLY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WTFUTSCZYYCBAY-SXBRIOAWSA-N 6-[(E)-C-[[4-[2-(2,3-dihydro-1H-inden-2-ylamino)pyrimidin-5-yl]piperazin-1-yl]methyl]-N-hydroxycarbonimidoyl]-3H-1,3-benzoxazol-2-one Chemical compound C1C(CC2=CC=CC=C12)NC1=NC=C(C=N1)N1CCN(CC1)C/C(=N/O)/C1=CC2=C(NC(O2)=O)C=C1 WTFUTSCZYYCBAY-SXBRIOAWSA-N 0.000 description 1
- DFGKGUXTPFWHIX-UHFFFAOYSA-N 6-[2-[4-[2-(2,3-dihydro-1H-inden-2-ylamino)pyrimidin-5-yl]piperazin-1-yl]acetyl]-3H-1,3-benzoxazol-2-one Chemical compound C1C(CC2=CC=CC=C12)NC1=NC=C(C=N1)N1CCN(CC1)CC(=O)C1=CC2=C(NC(O2)=O)C=C1 DFGKGUXTPFWHIX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DEXFNLNNUZKHNO-UHFFFAOYSA-N 6-[3-[4-[2-(2,3-dihydro-1H-inden-2-ylamino)pyrimidin-5-yl]piperidin-1-yl]-3-oxopropyl]-3H-1,3-benzoxazol-2-one Chemical compound C1C(CC2=CC=CC=C12)NC1=NC=C(C=N1)C1CCN(CC1)C(CCC1=CC2=C(NC(O2)=O)C=C1)=O DEXFNLNNUZKHNO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LLQHSBBZNDXTIV-UHFFFAOYSA-N 6-[5-[[4-[2-(2,3-dihydro-1H-inden-2-ylamino)pyrimidin-5-yl]piperazin-1-yl]methyl]-4,5-dihydro-1,2-oxazol-3-yl]-3H-1,3-benzoxazol-2-one Chemical compound C1C(CC2=CC=CC=C12)NC1=NC=C(C=N1)N1CCN(CC1)CC1CC(=NO1)C1=CC2=C(NC(O2)=O)C=C1 LLQHSBBZNDXTIV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CSCPPACGZOOCGX-UHFFFAOYSA-N Acetone Chemical compound CC(C)=O CSCPPACGZOOCGX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GVNWZKBFMFUVNX-UHFFFAOYSA-N Adipamide Chemical compound NC(=O)CCCCC(N)=O GVNWZKBFMFUVNX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CMCTWNKBDTVMGR-UHFFFAOYSA-K C(CCCCCCCCCCCCCCCCC)(=[O+][O-])[O-].[Al+3].C(CCCCCCCCCCCCCCCCC)(=[O+][O-])[O-].C(CCCCCCCCCCCCCCCCC)(=[O+][O-])[O-] Chemical compound C(CCCCCCCCCCCCCCCCC)(=[O+][O-])[O-].[Al+3].C(CCCCCCCCCCCCCCCCC)(=[O+][O-])[O-].C(CCCCCCCCCCCCCCCCC)(=[O+][O-])[O-] CMCTWNKBDTVMGR-UHFFFAOYSA-K 0.000 description 1
- 239000004713 Cyclic olefin copolymer Substances 0.000 description 1
- FBPFZTCFMRRESA-FSIIMWSLSA-N D-Glucitol Natural products OC[C@H](O)[C@H](O)[C@@H](O)[C@H](O)CO FBPFZTCFMRRESA-FSIIMWSLSA-N 0.000 description 1
- FBPFZTCFMRRESA-JGWLITMVSA-N D-glucitol Chemical compound OC[C@H](O)[C@@H](O)[C@H](O)[C@H](O)CO FBPFZTCFMRRESA-JGWLITMVSA-N 0.000 description 1
- FEWJPZIEWOKRBE-JCYAYHJZSA-N Dextrotartaric acid Chemical compound OC(=O)[C@H](O)[C@@H](O)C(O)=O FEWJPZIEWOKRBE-JCYAYHJZSA-N 0.000 description 1
- JYFHYPJRHGVZDY-UHFFFAOYSA-N Dibutyl phosphate Chemical compound CCCCOP(O)(=O)OCCCC JYFHYPJRHGVZDY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004593 Epoxy Substances 0.000 description 1
- 239000004386 Erythritol Substances 0.000 description 1
- UNXHWFMMPAWVPI-UHFFFAOYSA-N Erythritol Natural products OCC(O)C(O)CO UNXHWFMMPAWVPI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JOYRKODLDBILNP-UHFFFAOYSA-N Ethyl urethane Chemical compound CCOC(N)=O JOYRKODLDBILNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- IAYPIBMASNFSPL-UHFFFAOYSA-N Ethylene oxide Chemical compound C1CO1 IAYPIBMASNFSPL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PIICEJLVQHRZGT-UHFFFAOYSA-N Ethylenediamine Chemical compound NCCN PIICEJLVQHRZGT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000005057 Hexamethylene diisocyanate Substances 0.000 description 1
- 101000576320 Homo sapiens Max-binding protein MNT Proteins 0.000 description 1
- 239000005058 Isophorone diisocyanate Substances 0.000 description 1
- 229920010126 Linear Low Density Polyethylene (LLDPE) Polymers 0.000 description 1
- CERQOIWHTDAKMF-UHFFFAOYSA-M Methacrylate Chemical compound CC(=C)C([O-])=O CERQOIWHTDAKMF-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- GRYLNZFGIOXLOG-UHFFFAOYSA-N Nitric acid Chemical compound O[N+]([O-])=O GRYLNZFGIOXLOG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920003171 Poly (ethylene oxide) Polymers 0.000 description 1
- DUFKCOQISQKSAV-UHFFFAOYSA-N Polypropylene glycol (m w 1,200-3,000) Chemical class CC(O)COC(C)CO DUFKCOQISQKSAV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920006121 Polyxylylene adipamide Polymers 0.000 description 1
- BLRPTPMANUNPDV-UHFFFAOYSA-N Silane Chemical compound [SiH4] BLRPTPMANUNPDV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FEWJPZIEWOKRBE-UHFFFAOYSA-N Tartaric acid Natural products [H+].[H+].[O-]C(=O)C(O)C(O)C([O-])=O FEWJPZIEWOKRBE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GWEVSGVZZGPLCZ-UHFFFAOYSA-N Titan oxide Chemical compound O=[Ti]=O GWEVSGVZZGPLCZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XSTXAVWGXDQKEL-UHFFFAOYSA-N Trichloroethylene Chemical compound ClC=C(Cl)Cl XSTXAVWGXDQKEL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GSEJCLTVZPLZKY-UHFFFAOYSA-N Triethanolamine Chemical compound OCCN(CCO)CCO GSEJCLTVZPLZKY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZJCCRDAZUWHFQH-UHFFFAOYSA-N Trimethylolpropane Chemical compound CCC(CO)(CO)CO ZJCCRDAZUWHFQH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QCWXUUIWCKQGHC-UHFFFAOYSA-N Zirconium Chemical compound [Zr] QCWXUUIWCKQGHC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FDLQZKYLHJJBHD-UHFFFAOYSA-N [3-(aminomethyl)phenyl]methanamine Chemical compound NCC1=CC=CC(CN)=C1 FDLQZKYLHJJBHD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VYGUBTIWNBFFMQ-UHFFFAOYSA-N [N+](#[C-])N1C(=O)NC=2NC(=O)NC2C1=O Chemical group [N+](#[C-])N1C(=O)NC=2NC(=O)NC2C1=O VYGUBTIWNBFFMQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000006096 absorbing agent Substances 0.000 description 1
- JVFGXECLSQXABC-UHFFFAOYSA-N ac1l3obq Chemical compound O1C(C(C2O)O)C(COCC(C)O)OC2OC(C(C2O)O)C(COCC(C)O)OC2OC(C(C2O)O)C(COCC(C)O)OC2OC(C(C2O)O)C(COCC(C)O)OC2OC(C(C2O)O)C(COCC(C)O)OC2OC(C(O)C2O)C(COCC(O)C)OC2OC(C(C2O)O)C(COCC(C)O)OC2OC2C(O)C(O)C1OC2COCC(C)O JVFGXECLSQXABC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000007259 addition reaction Methods 0.000 description 1
- 239000001361 adipic acid Substances 0.000 description 1
- 235000011037 adipic acid Nutrition 0.000 description 1
- 230000032683 aging Effects 0.000 description 1
- 125000002723 alicyclic group Chemical group 0.000 description 1
- 150000001336 alkenes Chemical class 0.000 description 1
- 150000005215 alkyl ethers Chemical class 0.000 description 1
- HFHDHCJBZVLPGP-RWMJIURBSA-N alpha-cyclodextrin Chemical compound OC[C@H]([C@H]([C@@H]([C@H]1O)O)O[C@H]2O[C@@H]([C@@H](O[C@H]3O[C@H](CO)[C@H]([C@@H]([C@H]3O)O)O[C@H]3O[C@H](CO)[C@H]([C@@H]([C@H]3O)O)O[C@H]3O[C@H](CO)[C@H]([C@@H]([C@H]3O)O)O3)[C@H](O)[C@H]2O)CO)O[C@@H]1O[C@H]1[C@H](O)[C@@H](O)[C@@H]3O[C@@H]1CO HFHDHCJBZVLPGP-RWMJIURBSA-N 0.000 description 1
- HRQITHBNRFCEHG-UHFFFAOYSA-M aluminum;oxygen(2-);acetate Chemical compound [O-2].[Al+3].CC([O-])=O HRQITHBNRFCEHG-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- HPTYUNKZVDYXLP-UHFFFAOYSA-N aluminum;trihydroxy(trihydroxysilyloxy)silane;hydrate Chemical compound O.[Al].[Al].O[Si](O)(O)O[Si](O)(O)O HPTYUNKZVDYXLP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000001412 amines Chemical class 0.000 description 1
- WHGYBXFWUBPSRW-FOUAGVGXSA-N beta-cyclodextrin Chemical compound OC[C@H]([C@H]([C@@H]([C@H]1O)O)O[C@H]2O[C@@H]([C@@H](O[C@H]3O[C@H](CO)[C@H]([C@@H]([C@H]3O)O)O[C@H]3O[C@H](CO)[C@H]([C@@H]([C@H]3O)O)O[C@H]3O[C@H](CO)[C@H]([C@@H]([C@H]3O)O)O[C@H]3O[C@H](CO)[C@H]([C@@H]([C@H]3O)O)O3)[C@H](O)[C@H]2O)CO)O[C@@H]1O[C@H]1[C@H](O)[C@@H](O)[C@@H]3O[C@@H]1CO WHGYBXFWUBPSRW-FOUAGVGXSA-N 0.000 description 1
- 235000011175 beta-cyclodextrine Nutrition 0.000 description 1
- 229910052810 boron oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- FJTUUPVRIANHEX-UHFFFAOYSA-N butan-1-ol;phosphoric acid Chemical compound CCCCO.OP(O)(O)=O FJTUUPVRIANHEX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000004106 butoxy group Chemical group [*]OC([H])([H])C([H])([H])C(C([H])([H])[H])([H])[H] 0.000 description 1
- BRPQOXSCLDDYGP-UHFFFAOYSA-N calcium oxide Chemical compound [O-2].[Ca+2] BRPQOXSCLDDYGP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000000292 calcium oxide Substances 0.000 description 1
- ODINCKMPIJJUCX-UHFFFAOYSA-N calcium oxide Inorganic materials [Ca]=O ODINCKMPIJJUCX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MMCOUVMKNAHQOY-UHFFFAOYSA-N carbonoperoxoic acid Chemical class OOC(O)=O MMCOUVMKNAHQOY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052620 chrysotile Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000002734 clay mineral Substances 0.000 description 1
- 239000011247 coating layer Substances 0.000 description 1
- 239000002131 composite material Substances 0.000 description 1
- 125000004122 cyclic group Chemical group 0.000 description 1
- 229940097362 cyclodextrins Drugs 0.000 description 1
- MQVULIBSPNZEFI-UHFFFAOYSA-M di(propan-2-yloxy)alumanylium;2-methylprop-2-enoate Chemical compound CC(=C)C([O-])=O.CC(C)O[Al+]OC(C)C MQVULIBSPNZEFI-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- SEGLCEQVOFDUPX-UHFFFAOYSA-N di-(2-ethylhexyl)phosphoric acid Chemical compound CCCCC(CC)COP(O)(=O)OCC(CC)CCCC SEGLCEQVOFDUPX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000004386 diacrylate group Chemical group 0.000 description 1
- JKWMSGQKBLHBQQ-UHFFFAOYSA-N diboron trioxide Chemical compound O=BOB=O JKWMSGQKBLHBQQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QBCOASQOMILNBN-UHFFFAOYSA-N didodecoxy(oxo)phosphanium Chemical compound CCCCCCCCCCCCO[P+](=O)OCCCCCCCCCCCC QBCOASQOMILNBN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZBCBWPMODOFKDW-UHFFFAOYSA-N diethanolamine Chemical compound OCCNCCO ZBCBWPMODOFKDW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OTARVPUIYXHRRB-UHFFFAOYSA-N diethoxy-methyl-[3-(oxiran-2-ylmethoxy)propyl]silane Chemical compound CCO[Si](C)(OCC)CCCOCC1CO1 OTARVPUIYXHRRB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MTHSVFCYNBDYFN-UHFFFAOYSA-N diethylene glycol Chemical class OCCOCCO MTHSVFCYNBDYFN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000001938 differential scanning calorimetry curve Methods 0.000 description 1
- 125000005442 diisocyanate group Chemical group 0.000 description 1
- 238000007865 diluting Methods 0.000 description 1
- HTDKEJXHILZNPP-UHFFFAOYSA-N dioctyl hydrogen phosphate Chemical compound CCCCCCCCOP(O)(=O)OCCCCCCCC HTDKEJXHILZNPP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XPPKVPWEQAFLFU-UHFFFAOYSA-J diphosphate(4-) Chemical compound [O-]P([O-])(=O)OP([O-])([O-])=O XPPKVPWEQAFLFU-UHFFFAOYSA-J 0.000 description 1
- 235000011180 diphosphates Nutrition 0.000 description 1
- 238000007598 dipping method Methods 0.000 description 1
- XHWQYYPUYFYELO-UHFFFAOYSA-N ditridecyl phosphite Chemical compound CCCCCCCCCCCCCOP([O-])OCCCCCCCCCCCCC XHWQYYPUYFYELO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- 229920001971 elastomer Polymers 0.000 description 1
- 229920006332 epoxy adhesive Polymers 0.000 description 1
- 239000003822 epoxy resin Substances 0.000 description 1
- UNXHWFMMPAWVPI-ZXZARUISSA-N erythritol Chemical compound OC[C@H](O)[C@H](O)CO UNXHWFMMPAWVPI-ZXZARUISSA-N 0.000 description 1
- 229940009714 erythritol Drugs 0.000 description 1
- 235000019414 erythritol Nutrition 0.000 description 1
- NCXTWAVJIHJVRV-UHFFFAOYSA-N ethane-1,2-diol;16-methylheptadecanoic acid;titanium Chemical compound [Ti].OCCO.CC(C)CCCCCCCCCCCCCCC(O)=O.CC(C)CCCCCCCCCCCCCCC(O)=O NCXTWAVJIHJVRV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FWDBOZPQNFPOLF-UHFFFAOYSA-N ethenyl(triethoxy)silane Chemical compound CCO[Si](OCC)(OCC)C=C FWDBOZPQNFPOLF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NKSJNEHGWDZZQF-UHFFFAOYSA-N ethenyl(trimethoxy)silane Chemical compound CO[Si](OC)(OC)C=C NKSJNEHGWDZZQF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000005042 ethylene-ethyl acrylate Substances 0.000 description 1
- 229920005676 ethylene-propylene block copolymer Polymers 0.000 description 1
- 229920005674 ethylene-propylene random copolymer Polymers 0.000 description 1
- GDSRMADSINPKSL-HSEONFRVSA-N gamma-cyclodextrin Chemical compound OC[C@H]([C@H]([C@@H]([C@H]1O)O)O[C@H]2O[C@@H]([C@@H](O[C@H]3O[C@H](CO)[C@H]([C@@H]([C@H]3O)O)O[C@H]3O[C@H](CO)[C@H]([C@@H]([C@H]3O)O)O[C@H]3O[C@H](CO)[C@H]([C@@H]([C@H]3O)O)O[C@H]3O[C@H](CO)[C@H]([C@@H]([C@H]3O)O)O[C@H]3O[C@H](CO)[C@H]([C@@H]([C@H]3O)O)O3)[C@H](O)[C@H]2O)CO)O[C@@H]1O[C@H]1[C@H](O)[C@@H](O)[C@@H]3O[C@@H]1CO GDSRMADSINPKSL-HSEONFRVSA-N 0.000 description 1
- 238000007646 gravure printing Methods 0.000 description 1
- 229910000449 hafnium oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- WIHZLLGSGQNAGK-UHFFFAOYSA-N hafnium(4+);oxygen(2-) Chemical compound [O-2].[O-2].[Hf+4] WIHZLLGSGQNAGK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052621 halloysite Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000012775 heat-sealing material Substances 0.000 description 1
- RRAMGCGOFNQTLD-UHFFFAOYSA-N hexamethylene diisocyanate Chemical compound O=C=NCCCCCCN=C=O RRAMGCGOFNQTLD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VLKZOEOYAKHREP-UHFFFAOYSA-N hexane Substances CCCCCC VLKZOEOYAKHREP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000002483 hydrogen compounds Chemical class 0.000 description 1
- 230000007062 hydrolysis Effects 0.000 description 1
- 230000006698 induction Effects 0.000 description 1
- 239000011261 inert gas Substances 0.000 description 1
- 229910052500 inorganic mineral Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000007733 ion plating Methods 0.000 description 1
- 125000000959 isobutyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])(C([H])([H])[H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- 150000002513 isocyanates Chemical class 0.000 description 1
- NIMLQBUJDJZYEJ-UHFFFAOYSA-N isophorone diisocyanate Chemical compound CC1(C)CC(N=C=O)CC(C)(CN=C=O)C1 NIMLQBUJDJZYEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000002531 isophthalic acids Chemical class 0.000 description 1
- NLYAJNPCOHFWQQ-UHFFFAOYSA-N kaolin Chemical compound O.O.O=[Al]O[Si](=O)O[Si](=O)O[Al]=O NLYAJNPCOHFWQQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052622 kaolinite Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000007759 kiss coating Methods 0.000 description 1
- 150000002605 large molecules Chemical class 0.000 description 1
- 125000002463 lignoceryl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 239000012528 membrane Substances 0.000 description 1
- 239000012968 metallocene catalyst Substances 0.000 description 1
- LVHBHZANLOWSRM-UHFFFAOYSA-N methylenebutanedioic acid Natural products OC(=O)CC(=C)C(O)=O LVHBHZANLOWSRM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000011707 mineral Substances 0.000 description 1
- 239000012046 mixed solvent Substances 0.000 description 1
- 238000000465 moulding Methods 0.000 description 1
- KBJFYLLAMSZSOG-UHFFFAOYSA-N n-(3-trimethoxysilylpropyl)aniline Chemical compound CO[Si](OC)(OC)CCCNC1=CC=CC=C1 KBJFYLLAMSZSOG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000004108 n-butyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- 125000004123 n-propyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- NXPPAOGUKPJVDI-UHFFFAOYSA-N naphthalene-1,2-diol Chemical compound C1=CC=CC2=C(O)C(O)=CC=C21 NXPPAOGUKPJVDI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ABMFBCRYHDZLRD-UHFFFAOYSA-N naphthalene-1,4-dicarboxylic acid Chemical class C1=CC=C2C(C(=O)O)=CC=C(C(O)=O)C2=C1 ABMFBCRYHDZLRD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VAWFFNJAPKXVPH-UHFFFAOYSA-N naphthalene-1,6-dicarboxylic acid Chemical class OC(=O)C1=CC=CC2=CC(C(=O)O)=CC=C21 VAWFFNJAPKXVPH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RXOHFPCZGPKIRD-UHFFFAOYSA-N naphthalene-2,6-dicarboxylic acid Chemical class C1=C(C(O)=O)C=CC2=CC(C(=O)O)=CC=C21 RXOHFPCZGPKIRD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000005486 naphthalic acid group Chemical group 0.000 description 1
- 229910017604 nitric acid Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000007645 offset printing Methods 0.000 description 1
- JRZJOMJEPLMPRA-UHFFFAOYSA-N olefin Natural products CCCCCCCC=C JRZJOMJEPLMPRA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000001117 oleyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])/C([H])=C([H])\C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 150000007524 organic acids Chemical class 0.000 description 1
- 235000005985 organic acids Nutrition 0.000 description 1
- 125000001820 oxy group Chemical group [*:1]O[*:2] 0.000 description 1
- RVTZCBVAJQQJTK-UHFFFAOYSA-N oxygen(2-);zirconium(4+) Chemical compound [O-2].[O-2].[Zr+4] RVTZCBVAJQQJTK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WXZMFSXDPGVJKK-UHFFFAOYSA-N pentaerythritol Chemical compound OCC(CO)(CO)CO WXZMFSXDPGVJKK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000005011 phenolic resin Substances 0.000 description 1
- 235000011007 phosphoric acid Nutrition 0.000 description 1
- 150000003014 phosphoric acid esters Chemical class 0.000 description 1
- 229920002239 polyacrylonitrile Polymers 0.000 description 1
- 229920001083 polybutene Polymers 0.000 description 1
- 229920000647 polyepoxide Polymers 0.000 description 1
- 229920001223 polyethylene glycol Polymers 0.000 description 1
- 239000005056 polyisocyanate Substances 0.000 description 1
- 229920001228 polyisocyanate Polymers 0.000 description 1
- 229920005862 polyol Polymers 0.000 description 1
- 229920005672 polyolefin resin Polymers 0.000 description 1
- 150000003077 polyols Chemical class 0.000 description 1
- 150000007519 polyprotic acids Polymers 0.000 description 1
- 229920001296 polysiloxane Polymers 0.000 description 1
- 239000011118 polyvinyl acetate Substances 0.000 description 1
- 229920002689 polyvinyl acetate Polymers 0.000 description 1
- 229920000915 polyvinyl chloride Polymers 0.000 description 1
- 239000004800 polyvinyl chloride Substances 0.000 description 1
- 239000000843 powder Substances 0.000 description 1
- 238000012545 processing Methods 0.000 description 1
- 230000001737 promoting effect Effects 0.000 description 1
- JTBKFHQUYVNHSR-UHFFFAOYSA-N propan-2-yloxyalumane Chemical compound CC(C)O[AlH2] JTBKFHQUYVNHSR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000011241 protective layer Substances 0.000 description 1
- 238000007763 reverse roll coating Methods 0.000 description 1
- 238000007127 saponification reaction Methods 0.000 description 1
- 229910000077 silane Inorganic materials 0.000 description 1
- LIVNPJMFVYWSIS-UHFFFAOYSA-N silicon monoxide Chemical compound [Si-]#[O+] LIVNPJMFVYWSIS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000013464 silicone adhesive Substances 0.000 description 1
- 229920002050 silicone resin Polymers 0.000 description 1
- 150000003384 small molecules Chemical class 0.000 description 1
- 239000000600 sorbitol Substances 0.000 description 1
- 238000005507 spraying Methods 0.000 description 1
- 238000006467 substitution reaction Methods 0.000 description 1
- 239000011975 tartaric acid Substances 0.000 description 1
- 235000002906 tartaric acid Nutrition 0.000 description 1
- 150000003504 terephthalic acids Chemical class 0.000 description 1
- 150000003512 tertiary amines Chemical class 0.000 description 1
- UQMOLLPKNHFRAC-UHFFFAOYSA-N tetrabutyl silicate Chemical compound CCCCO[Si](OCCCC)(OCCCC)OCCCC UQMOLLPKNHFRAC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UWHCKJMYHZGTIT-UHFFFAOYSA-N tetraethylene glycol Chemical class OCCOCCOCCOCCO UWHCKJMYHZGTIT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LFQCEHFDDXELDD-UHFFFAOYSA-N tetramethyl orthosilicate Chemical compound CO[Si](OC)(OC)OC LFQCEHFDDXELDD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZQZCOBSUOFHDEE-UHFFFAOYSA-N tetrapropyl silicate Chemical compound CCCO[Si](OCCC)(OCCC)OCCC ZQZCOBSUOFHDEE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OGIDPMRJRNCKJF-UHFFFAOYSA-N titanium oxide Inorganic materials [Ti]=O OGIDPMRJRNCKJF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000007704 transition Effects 0.000 description 1
- ODLHGICHYURWBS-LKONHMLTSA-N trappsol cyclo Chemical compound CC(O)COC[C@H]([C@H]([C@@H]([C@H]1O)O)O[C@H]2O[C@@H]([C@@H](O[C@H]3O[C@H](COCC(C)O)[C@H]([C@@H]([C@H]3O)O)O[C@H]3O[C@H](COCC(C)O)[C@H]([C@@H]([C@H]3O)O)O[C@H]3O[C@H](COCC(C)O)[C@H]([C@@H]([C@H]3O)O)O[C@H]3O[C@H](COCC(C)O)[C@H]([C@@H]([C@H]3O)O)O3)[C@H](O)[C@H]2O)COCC(O)C)O[C@@H]1O[C@H]1[C@H](O)[C@@H](O)[C@@H]3O[C@@H]1COCC(C)O ODLHGICHYURWBS-LKONHMLTSA-N 0.000 description 1
- IMFACGCPASFAPR-UHFFFAOYSA-N tributylamine Chemical compound CCCCN(CCCC)CCCC IMFACGCPASFAPR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GQIUQDDJKHLHTB-UHFFFAOYSA-N trichloro(ethenyl)silane Chemical compound Cl[Si](Cl)(Cl)C=C GQIUQDDJKHLHTB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NBXZNTLFQLUFES-UHFFFAOYSA-N triethoxy(propyl)silane Chemical compound CCC[Si](OCC)(OCC)OCC NBXZNTLFQLUFES-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JXUKBNICSRJFAP-UHFFFAOYSA-N triethoxy-[3-(oxiran-2-ylmethoxy)propyl]silane Chemical compound CCO[Si](OCC)(OCC)CCCOCC1CO1 JXUKBNICSRJFAP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZIBGPFATKBEMQZ-UHFFFAOYSA-N triethylene glycol Chemical class OCCOCCOCCO ZIBGPFATKBEMQZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CWBIFDGMOSWLRQ-UHFFFAOYSA-N trimagnesium;hydroxy(trioxido)silane;hydrate Chemical compound O.[Mg+2].[Mg+2].[Mg+2].O[Si]([O-])([O-])[O-].O[Si]([O-])([O-])[O-] CWBIFDGMOSWLRQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000005590 trimellitic acid group Chemical group 0.000 description 1
- YUYCVXFAYWRXLS-UHFFFAOYSA-N trimethoxysilane Chemical compound CO[SiH](OC)OC YUYCVXFAYWRXLS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000004072 triols Chemical class 0.000 description 1
- 239000001226 triphosphate Substances 0.000 description 1
- 235000011178 triphosphate Nutrition 0.000 description 1
- UNXRWKVEANCORM-UHFFFAOYSA-N triphosphoric acid Chemical compound OP(O)(=O)OP(O)(=O)OP(O)(O)=O UNXRWKVEANCORM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YFTHZRPMJXBUME-UHFFFAOYSA-N tripropylamine Chemical compound CCCN(CCC)CCC YFTHZRPMJXBUME-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- AVWRKZWQTYIKIY-UHFFFAOYSA-N urea-1-carboxylic acid Chemical compound NC(=O)NC(O)=O AVWRKZWQTYIKIY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000003673 urethanes Chemical class 0.000 description 1
- 238000001771 vacuum deposition Methods 0.000 description 1
- 238000009834 vaporization Methods 0.000 description 1
- 230000008016 vaporization Effects 0.000 description 1
- 239000005050 vinyl trichlorosilane Substances 0.000 description 1
- 239000012224 working solution Substances 0.000 description 1
- 229910052726 zirconium Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910001928 zirconium oxide Inorganic materials 0.000 description 1
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- Laminated Bodies (AREA)
Abstract
Description
本発明は、バリア性積層体、該バリア性積層体を備える包装容器に関する。 The present invention relates to a barrier laminate and a packaging container including the barrier laminate.
従来、ポリエチレンテレフタレートなどのポリエステルからなるフィルム(以下、ポリエステルフィルムともいう)は、機械的特性、化学的安定性、耐熱性および透明性に優れると共に、安価であることから、包装容器の作製に使用される積層体を構成する基材や中間層として使用されている。 Conventionally, a film made of polyester such as polyethylene terephthalate (hereinafter, also referred to as polyester film) is excellent in mechanical properties, chemical stability, heat resistance and transparency, and is inexpensive, so that it is used for manufacturing packaging containers. It is used as a base material or an intermediate layer that constitutes the laminated body.
包装容器に充填する内容物によっては、包装容器には高い酸素バリア性および水蒸気バリア性などのガスバリア性が要求され、この要求を満たすべく、ポリエステルフィルム表面に、アルミナやシリカなどを含む蒸着膜を形成することが広く行われている(特許文献1)。 Depending on the contents to be filled in the packaging container, the packaging container is required to have gas barrier properties such as high oxygen barrier property and water vapor barrier property. In order to meet these requirements, a vapor-deposited film containing alumina, silica, etc. is formed on the surface of the polyester film. It is widely used to form (Patent Document 1).
ところで、近年、ポリエステルフィルムに代わる樹脂材料の探索が行われており、ポリオレフィンフィルム、特にポリプロピレンフィルムの表面に蒸着膜を形成したものを中間層として適用することが検討されている。 By the way, in recent years, a search for a resin material to replace a polyester film has been conducted, and it has been studied to apply a polyolefin film, particularly a polypropylene film having a vapor-deposited film formed on the surface, as an intermediate layer.
本発明者らは、従来のポリエステルフィルムに代えて、ポリプロピレンの延伸フィルム(以下、延伸ポリプロピレンフィルムともいう)を使用することを検討していたところ、延伸ポリプロピレンフィルムの表面に蒸着膜を形成しても、満足するガスバリア性を得ることができないという新たな課題を見出した。 The present inventors have been studying the use of a polypropylene stretched film (hereinafter, also referred to as a stretched polypropylene film) instead of the conventional polyester film, and have formed a vapor-deposited film on the surface of the stretched polypropylene film. However, we found a new problem that we could not obtain a satisfactory gas barrier property.
そして、本発明者らが検討を進めたところ、該延伸ポリプロピレンフィルムに蒸着膜を設けたバリア性積層体を使用した包装容器では、ポリエステルフィルムを使用する従来のバリア性積層体には見られない特有の現象、即ち、延伸ポリプロピレンフィルムと蒸着膜との層間で剥離が生じていることを見出し、その現象がガスバリア性を不十分なものとしているとの知見を得た。 Then, as a result of the study by the present inventors, the packaging container using the barrier-type laminate in which the vapor-deposited film is provided on the stretched polypropylene film is not found in the conventional barrier-type laminate using the polyester film. It was found that a peculiar phenomenon, that is, peeling occurred between the layers of the stretched polypropylene film and the vapor-deposited film, and it was found that the phenomenon makes the gas barrier property insufficient.
そして、本発明者らは、延伸ポリプロピレンフィルム表面に、180℃以上の融点を有する樹脂材料を含む表面樹脂層を設けることにより、当該表面樹脂層上に、形成される蒸着膜の密着性が改善されると共に、ガスバリア性も向上するとの知見を得た。 Then, the present inventors improve the adhesion of the vapor-deposited film formed on the surface resin layer by providing a surface resin layer containing a resin material having a melting point of 180 ° C. or higher on the surface of the stretched polypropylene film. At the same time, it was found that the gas barrier property is also improved.
また、本発明者らは、延伸ポリプロピレンフィルム表面に、極性基を有する樹脂材料を含むコート層を設けることによっても、当該コート層上に形成される蒸着膜の密着性が改善されると共に、ガスバリア性も向上するとの知見を得た。 Further, the present inventors also provide a coat layer containing a resin material having a polar group on the surface of the stretched polypropylene film to improve the adhesion of the vapor-deposited film formed on the coat layer and to provide a gas barrier. We obtained the finding that the sex is also improved.
本発明はかかる知見に基づいてなされたものであり、その解決しようとする課題は、蒸着膜との層間の密着性に優れる中間層を備え、極めて高いガスバリア性を有する、バリア性積層体を提供することである。 The present invention has been made based on such findings, and the problem to be solved is to provide a barrier laminate having an intermediate layer having excellent adhesion between layers with a vapor-deposited film and having extremely high gas barrier properties. It is to be.
また、本発明の解決しようとする課題は、該バリア性積層体を備える包装容器を提供することである。 Another object to be solved by the present invention is to provide a packaging container provided with the barrier laminate.
第1の態様において、本発明のバリア性積層体は、基材と、接着層と、蒸着膜と、中間層と、シーラント層とを備え、
前記中間層が、少なくとも表面樹脂層と、ポリプロプレン樹脂層とを備え、
前記表面樹脂層が、融点180℃以上の樹脂材料を含み、
前記蒸着膜が、無機酸化物から構成され、
表面樹脂層およびポリプロプレン樹脂層は延伸処理が施されていることを備えることを特徴とする。
In the first aspect, the barrier laminate of the present invention comprises a base material, an adhesive layer, a vapor-deposited film, an intermediate layer, and a sealant layer.
The intermediate layer includes at least a surface resin layer and a polypropylene resin layer.
The surface resin layer contains a resin material having a melting point of 180 ° C. or higher.
The vapor-deposited film is composed of an inorganic oxide.
The surface resin layer and the polypropylene resin layer are characterized by being stretched.
一実施形態において、ポリプロプレン樹脂層と、基材およびシーラント層とが同一の材料から構成され、同一材料が、ポリプロプレンである。 In one embodiment, the polypropylene resin layer, the base material and the sealant layer are made of the same material, and the same material is polypropylene.
一実施形態において、接着層が、ポリエステルポリオールおよびイソシアネート化合物を含む組成物の硬化物を含む接着剤層である。 In one embodiment, the adhesive layer is an adhesive layer containing a cured product of a composition containing a polyester polyol and an isocyanate compound.
一実施形態において、樹脂材料の融点が、265℃以下である。 In one embodiment, the melting point of the resin material is 265 ° C. or lower.
一実施形態において、樹脂材料の融点と、ポリプロピレン樹脂層に含まれるポリプロピレンの融点と、の差が20〜80℃である。 In one embodiment, the difference between the melting point of the resin material and the melting point of polypropylene contained in the polypropylene resin layer is 20 to 80 ° C.
一実施形態において、樹脂材料が極性基を有する。 In one embodiment, the resin material has a polar group.
一実施形態において、樹脂材料が、エチレンビニルアルコール共重合体、ポリビニルアルコール、ナイロン6、ナイロン6,6、MXDナイロンおよびアモルファスナイロンから選択される1以上の樹脂材料である。 In one embodiment, the resin material is one or more resin materials selected from ethylene vinyl alcohol copolymer, polyvinyl alcohol, nylon 6, nylon 6,6, MXD nylon and amorphous nylon.
一実施形態において、樹脂材料がポリアミドである。 In one embodiment, the resin material is polyamide.
一実施形態において、樹脂材料がエチレンビニルアルコールである。 In one embodiment, the resin material is ethylene vinyl alcohol.
一実施形態において、中間層の総厚さに対する、表面樹脂層の厚さの割合が、1%以上10%以下である。 In one embodiment, the ratio of the thickness of the surface resin layer to the total thickness of the intermediate layer is 1% or more and 10% or less.
一実施形態において、中間層が、共押フィルムである。 In one embodiment, the intermediate layer is a co-press film.
第2の態様において、本発明のバリア性積層体は、基材と、接着層と、蒸着膜と、中間層と、シーラント層とを備え、
前記中間層は、表面コート層と、ポリプロピレン樹脂層とを備え、
前記ポリプロピレン樹脂層は、延伸処理が施されており、
かつ前記表面コート層が、極性基を有する樹脂材料を含み、
前記蒸着膜が、無機酸化物から構成されることを特徴とする。
In the second aspect, the barrier laminate of the present invention comprises a base material, an adhesive layer, a vapor-deposited film, an intermediate layer, and a sealant layer.
The intermediate layer includes a surface coat layer and a polypropylene resin layer.
The polypropylene resin layer has been stretched and has been stretched.
Moreover, the surface coating layer contains a resin material having a polar group, and the surface coating layer contains a resin material.
The vapor-deposited film is characterized by being composed of an inorganic oxide.
一実施形態において、ポリプロプレン樹脂層と、基材およびシーラント層とが同一の材料から構成され、同一材料が、ポリプロプレンである。 In one embodiment, the polypropylene resin layer, the base material and the sealant layer are made of the same material, and the same material is polypropylene.
一実施形態において、接着層が、ポリエステルポリオールおよびイソシアネート化合物の組成物の硬化物を含む接着剤層である。 In one embodiment, the adhesive layer is an adhesive layer containing a cured product of a composition of polyester polyol and isocyanate compound.
一実施形態において、中間層の総厚さに対する、表面コート層の厚さの割合が、0.08%以上20%以下である。 In one embodiment, the ratio of the thickness of the surface coat layer to the total thickness of the intermediate layer is 0.08% or more and 20% or less.
一実施形態において、表面コート層の厚さが、0.02μm以上10μm以下である。 In one embodiment, the thickness of the surface coat layer is 0.02 μm or more and 10 μm or less.
一実施形態において、樹脂材料が、エチレンビニルアルコール共重合体(EVOH)、ポリビニルアルコール(PVA)、ポリエステル、ポリエチレンイミン、水酸基含有(メタ)アクリル樹脂、ナイロン6、ナイロン6,6、MXDナイロン、アモルファスナイロンおよびポリウレタンから選択される1以上の樹脂材料である。 In one embodiment, the resin material is ethylene vinyl alcohol copolymer (EVOH), polyvinyl alcohol (PVA), polyester, polyethyleneimine, hydroxyl group-containing (meth) acrylic resin, nylon 6, nylon 6,6, MXD nylon, amorphous. One or more resin materials selected from nylon and polyurethane.
一実施形態において、表面コート層は、水系エマルジョンまたは溶剤系エマルジョンを用いて形成された層である。 In one embodiment, the surface coat layer is a layer formed using a water-based emulsion or a solvent-based emulsion.
一実施形態において、本発明のバリア性積層体は、中間層と蒸着膜との間に、バリアコート層をさらに備える。 In one embodiment, the barrier laminate of the present invention further comprises a barrier coat layer between the intermediate layer and the vapor-deposited film.
一実施形態において、本発明のバリア性積層体は、包装容器用途に用いられる。 In one embodiment, the barrier laminate of the present invention is used for packaging container applications.
本発明の包装容器は、上記バリア性積層体を備えることを特徴とする。 The packaging container of the present invention is characterized by comprising the above-mentioned barrier laminate.
本発明によれば、蒸着膜との層間の密着性に優れる中間層を備え、高いラミネート強度を有する包装容器を作製することができ、極めて高いガスバリア性を有する、バリア性積層体を提供することができる。
また、本発明によれば、該バリア性積層体を備える包装容器を提供することができる。
According to the present invention, it is possible to provide a packaging container having an intermediate layer having excellent adhesion between layers with a vapor-deposited film and having high lamination strength, and to provide a barrier laminate having extremely high gas barrier property. Can be done.
Further, according to the present invention, it is possible to provide a packaging container provided with the barrier laminate.
(第1の態様におけるバリア性積層体)
本発明のバリア性積層体10は、図1に示すように、基材11と、接着層12と、蒸着膜13と、中間層14と、シーラント層15とを備え、該中間層14は、表面樹脂層16と、ポリプロプレン樹脂層17とを少なくとも備える。
一実施形態において、本発明のバリア性積層体10は、図2に示すように、接着層12と蒸着膜13との間に、バリアコート層18をさらに備える。
一実施形態において、中間層14は、図3に示すように、表面樹脂層16とポリプロプレン樹脂層17との間に、接着性樹脂層19を備える。
一実施形態において、バリア性積層体10は、図4に示すように、基材11と、接着層12と、バリアコート層18と、蒸着膜13と、中間層14と、シーラント層15とを順に備える。該中間層14は、表面樹脂層16と、ポリプロピレン樹脂層17とを少なくとも備え、接着性樹脂層19は、表面樹脂層16とポリプロピレン樹脂層17との間に設けられている。
(Barrier laminate in the first aspect)
As shown in FIG. 1, the
In one embodiment, the
In one embodiment, the
In one embodiment, as shown in FIG. 4, the
第1の態様におけるバリア性積層体において、中間層と蒸着膜と間のラミネート強度は、15mm幅において、3N以上が好ましく、4N以上がより好ましく、5.5N以上が更に好ましい。第1の態様おけるバリア性積層体のラミネート強度の上限は、20N以下であってもよい。
なお、バリア性積層体のラミネート強度の測定方法については、後述する実施例において説明する。
In the barrier laminate according to the first aspect, the lamination strength between the intermediate layer and the vapor-deposited film is preferably 3N or more, more preferably 4N or more, and further preferably 5.5N or more in a width of 15 mm. The upper limit of the laminate strength of the barrier laminate in the first aspect may be 20 N or less.
The method for measuring the laminate strength of the barrier laminate will be described in Examples described later.
従来より、基材と、中間層と、シーラント層とを異種の樹脂材料により構成した積層体が包装容器の作製に使用されているが、使用済みの包装容器を回収した後、異種の樹脂材料により構成される層ごとに分離するのが困難であるため、積極的にはリサイクルされていないという現状がある。
基材と、中間層が備えるポリプロプレン樹脂層と、シーラント層とを同一材料によって構成することにより、層ごとに分離する必要がなく、そのリサイクル適正を向上することができる。
基材およびシーラントを、中間層が備えるポリプロプレン樹脂層と同一の材料、即ち、ポリプロピレンから構成することにより、回収後の包装容器を層ごとに分離する必要がなく、そのリサイクル適性を向上することができる。
Conventionally, a laminate in which a base material, an intermediate layer, and a sealant layer are made of different kinds of resin materials has been used for manufacturing a packaging container. However, after collecting the used packaging container, different kinds of resin materials are used. Since it is difficult to separate each layer composed of plastics, the current situation is that they are not actively recycled.
By forming the base material, the polypropylene resin layer provided in the intermediate layer, and the sealant layer with the same material, it is not necessary to separate each layer, and the recycling suitability thereof can be improved.
By composing the base material and the sealant from the same material as the polyproprene resin layer provided in the intermediate layer, that is, polypropylene, it is not necessary to separate the recovered packaging container for each layer, and the recycling suitability thereof is improved. Can be done.
基材およびシーラント層をポリプロプレンにより構成した場合において、本発明のバリア性積層体に含まれる樹脂材料の総量に対するポリプロプレンの含有量は、80質量%以上であることが好ましく、85質量%以上であることがより好ましく、90質量%以上であることがさらに好ましい。これにより、本発明のバリア性積層体を用いて作製した包装容器のリサイクル適性をより向上することができる。 When the base material and the sealant layer are composed of polypropylene, the content of polypropylene with respect to the total amount of the resin material contained in the barrier laminate of the present invention is preferably 80% by mass or more, preferably 85% by mass or more. Is more preferable, and 90% by mass or more is further preferable. Thereby, the recyclability of the packaging container produced by using the barrier laminate of the present invention can be further improved.
以下、本発明のバリア性積層体が備える各層について説明する。 Hereinafter, each layer included in the barrier laminate of the present invention will be described.
(基材)
基材は、樹脂材料を含み、例えば、ポリオレフィン、ビニル樹脂、(メタ)アクリル樹脂、セルロース樹脂、ポリアミド、ポリイミド、ポリエステル、アイオノマー樹脂などが挙げられる。
本発明のバリア性積層体のリサイクル適性という観点からは、基材は、中間層が備えるポリプロプレン樹脂層と同一の材料、すなわちポリプロプレンにより構成されるものであることが好ましい。
また、基材をポリプロプレンにより構成することにより、バリア性積層体を用いて作製される包装容器の耐油性を向上することができる。
(Base material)
The base material contains a resin material, and examples thereof include polyolefins, vinyl resins, (meth) acrylic resins, cellulose resins, polyamides, polyimides, polyesters, ionomer resins, and the like.
From the viewpoint of recycling suitability of the barrier laminate of the present invention, it is preferable that the base material is made of the same material as the polypropylene resin layer provided in the intermediate layer, that is, polypropylene.
Further, by forming the base material with polypropylene, the oil resistance of the packaging container produced by using the barrier laminate can be improved.
本発明の特性を損なわない範囲において、基材は、添加剤を含むことができ、例えば、架橋剤、酸化防止剤、アンチブロッキング剤、滑(スリップ)剤、紫外線吸収剤、光安定剤、充填剤、補強剤、帯電防止剤、顔料および改質用樹脂などが挙げられる。 To the extent that the properties of the present invention are not impaired, the substrate may contain additives, such as cross-linking agents, antioxidants, anti-blocking agents, slip agents, UV absorbers, light stabilizers, fillings. Examples include agents, reinforcing agents, antistatic agents, pigments and modifying resins.
基材は、単層構造を有するものであってもよく、多層構造を有するものであってもよい。
また、基材は、延伸処理が施されたものであっても、延伸処理が施されていないものであってもよいが、バリア性積層体の耐熱性および強度という観点からは、延伸処理が施されたものであることが好ましい。
The base material may have a single-layer structure or may have a multi-layer structure.
Further, the base material may be one that has been stretched or not, but from the viewpoint of heat resistance and strength of the barrier laminate, the stretching treatment is performed. It is preferable that it has been applied.
基材の厚さは、10μm以上50μm以下であることが好ましく、20μm以上40μm以下であることがより好ましい。
基材の厚さを10μm以上とすることにより、本発明のバリア性積層体の強度および耐熱性を向上することができる。
また、基材の厚さを50μm以下とすることにより、本発明のバリア性積層体の成膜性および加工適性をより向上することができる。
The thickness of the base material is preferably 10 μm or more and 50 μm or less, and more preferably 20 μm or more and 40 μm or less.
By setting the thickness of the base material to 10 μm or more, the strength and heat resistance of the barrier laminate of the present invention can be improved.
Further, by setting the thickness of the base material to 50 μm or less, the film forming property and processability of the barrier laminate of the present invention can be further improved.
基材は、その表面に印刷層を有していてもよく、印刷層に形成される画像は、特に限定されず、文字、柄、記号およびこれらの組み合わせなどが表される。
基材への印刷層形成は、バイオマス由来のインキを用いて行うことができる。これにより、環境負荷を低減することができる。
印刷層の形成方法は、特に限定されるものではなく、グラビア印刷法、オフセット印刷法、フレキソ印刷法などの従来公知の印刷法を挙げることができる。
The base material may have a printing layer on its surface, and the image formed on the printing layer is not particularly limited, and characters, patterns, symbols, combinations thereof, and the like are represented.
The print layer can be formed on the substrate by using an ink derived from biomass. As a result, the environmental load can be reduced.
The method for forming the print layer is not particularly limited, and examples thereof include conventionally known printing methods such as a gravure printing method, an offset printing method, and a flexographic printing method.
(接着層)
本発明のバリア性積層体は、基材と蒸着膜との間に接着層を備える。
(Adhesive layer)
The barrier laminate of the present invention includes an adhesive layer between the base material and the vapor-deposited film.
接着層は、少なくとも1種の接着剤を含み、1液硬化型若しくは2液硬化型、または非硬化型のいずれも接着剤であってもよい。また、接着剤は、無溶剤型の接着剤であっても、溶剤型の接着剤であってもよいが、環境負荷の観点からは、無溶剤型の接着剤が好ましく使用できる。
無溶剤型接着剤としては、例えば、ポリエーテル系接着剤、ポリエステル系接着剤、シリコーン系接着剤、エポキシ系接着剤およびウレタン系接着剤などが挙げられ、これらのなかでも2液硬化型のウレタン系接着剤を好ましく使用することができる。
溶剤型接着剤としては、例えば、ゴム系接着剤、ビニル系接着剤、シリコーン系接着剤、エポキシ系接着剤、フェノール系接着剤およびオレフィン系接着剤などが挙げられる。
The adhesive layer contains at least one type of adhesive, and may be a one-component curable type, a two-component curable type, or a non-curable type. The adhesive may be a solvent-free adhesive or a solvent-type adhesive, but from the viewpoint of environmental load, a solvent-free adhesive can be preferably used.
Examples of the solvent-free adhesive include polyether adhesives, polyester adhesives, silicone adhesives, epoxy adhesives and urethane adhesives, and among these, two-component curable urethanes. A system adhesive can be preferably used.
Examples of the solvent-based adhesive include rubber-based adhesives, vinyl-based adhesives, silicone-based adhesives, epoxy-based adhesives, phenol-based adhesives, and olefin-based adhesives.
また、接着層は、ポリエステルポリオールとイソシアネート化合物を含む組成物の硬化物を含む接着剤層であることが好ましい。
接着層をこのような構成とすることにより、本発明のバリア性積層体の酸素バリア性および水蒸気バリア性をより一層向上することができる。
また、通常、蒸着膜を備えた積層体を包装容器に適用する際には、成形機などにより積層体に屈曲負荷がかかるため、蒸着膜に亀裂などが生じる恐れがある。ガスバリア性有機接着剤を使用することにより、本発明のバリア性積層体の耐屈曲負荷性を改善することができ、酸素バリア性および水蒸気バリア性の低下を抑制することができる。
Further, the adhesive layer is preferably an adhesive layer containing a cured product of a composition containing a polyester polyol and an isocyanate compound.
By having such a structure of the adhesive layer, the oxygen barrier property and the water vapor barrier property of the barrier laminate of the present invention can be further improved.
Further, usually, when a laminated body provided with a vapor-deposited film is applied to a packaging container, a bending load is applied to the laminated body by a molding machine or the like, so that the thin-film film may be cracked. By using the gas barrier organic adhesive, the bending load resistance of the barrier laminate of the present invention can be improved, and the deterioration of the oxygen barrier property and the water vapor barrier property can be suppressed.
ポリエステルポリオールとイソシアネート化合物を含む組成物の硬化物のガラス転移温度は、−30℃以上80℃以下であることが好ましく、0℃以上70℃以下であることがより好ましく、25℃以上70℃以下であることがさらに好ましい。これにより、バリア性積層体の酸素バリア性、水蒸気バリア性およびラミネート強度をより向上できる。
なお、本明細書において、Tgは、JIS K 7121:2012に準拠して、示差走査熱量測定(DSC)により求めた値である。
The glass transition temperature of the cured product of the composition containing the polyester polyol and the isocyanate compound is preferably −30 ° C. or higher and 80 ° C. or lower, more preferably 0 ° C. or higher and 70 ° C. or lower, and 25 ° C. or higher and 70 ° C. or lower. Is more preferable. Thereby, the oxygen barrier property, the water vapor barrier property, and the laminate strength of the barrier laminate can be further improved.
In this specification, Tg is a value obtained by differential scanning calorimetry (DSC) in accordance with JIS K 7121: 2012.
ポリエステルポリオールは、官能基として1分子中に水酸基を2個以上有する。また、イソシアネート化合物は、官能基として1分子中にイソシアネート基を2個以上有する。ポリエステルポリオールは、主骨格として、例えばポリエステル構造、またはポリエステルポリウレタン構造を有する。 The polyester polyol has two or more hydroxyl groups in one molecule as a functional group. Further, the isocyanate compound has two or more isocyanate groups in one molecule as a functional group. The polyester polyol has, for example, a polyester structure or a polyester polyurethane structure as a main skeleton.
ポリエステルポリオール、イソシアネート化合物を含む組成物(接着剤)の具体例としては、DIC株式会社から販売されている、パスリム(PASLIM)のシリーズが使用できる。 As a specific example of the composition (adhesive) containing the polyester polyol and the isocyanate compound, the PASLIM series sold by DIC Corporation can be used.
ポリエステルポリオールとイソシアネート化合物を含む組成物は、リン酸エステル、板状無機化合物、カップリング剤、シクロデキストリンおよび/またはその誘導体などをさらに含んでいてもよい。 The composition containing the polyester polyol and the isocyanate compound may further contain a phosphoric acid ester, a plate-like inorganic compound, a coupling agent, cyclodextrin and / or a derivative thereof and the like.
官能基として1分子中に水酸基を2個以上有するポリエステルポリオールとしては、例えば下記の〔第1例〕〜〔第3例〕を用いることができる。
〔第1例〕オルト配向多価カルボン酸またはその無水物と、多価アルコールとを重縮合して得られるポリエステルポリオール
〔第2例〕グリセロール骨格を有するポリエステルポリオール
〔第3例〕イソシアヌル環を有するポリエステルポリオール
以下、各ポリエステルポリオールについて説明する。
As the polyester polyol having two or more hydroxyl groups in one molecule as a functional group, for example, the following [1st example] to [3rd example] can be used.
[1st example] Polyester polyol obtained by polycondensing an ortho-oriented polyvalent carboxylic acid or its anhydride with a polyhydric alcohol [2nd example] Polyester polyol having a glycerol skeleton [3rd example] Having an isocyanul ring Polyester polyols Each polyester polyol will be described below.
第1例に係るポリエステルポリオールは、オルトフタル酸およびその無水物を少なくとも1種以上含む多価カルボン酸成分と、多価アルコール成分とを重縮合して得られる重縮合体である。
特に、オルトフタル酸およびその無水物の、多価カルボン酸全成分に対する含有率が70〜100質量%であるポリエステルポリオールが好ましい。
The polyester polyol according to the first example is a polycondensate obtained by polycondensing a polyhydric carboxylic acid component containing at least one or more of orthophthalic acid and its anhydride and a polyhydric alcohol component.
In particular, a polyester polyol in which the content of orthophthalic acid and its anhydride with respect to all the components of the polyvalent carboxylic acid is 70 to 100% by mass is preferable.
第1例に係るポリエステルポリオールは、多価カルボン酸成分としてオルトフタル酸およびその無水物を必須とするが、本実施の形態の効果を損なわない範囲において、他の多価カルボン酸成分を共重合させてもよい。
他の多価カルボン酸成分は、例えば、コハク酸、アジピン酸、アゼライン酸、セバシン酸およびドデカンジカルボン酸など脂肪族多価カルボン酸、無水マレイン酸、マレイン酸およびフマル酸などの不飽和結合含有多価カルボン酸、1,3−シクロペンタンジカルボン酸および1,4−シクロヘキサンジカルボン酸などの脂環族多価カルボン酸、テレフタル酸、イソフタル酸、ピロメリット酸、トリメリット酸、1,4−ナフタレンジカルボン酸、2,5−ナフタレンジカルボン酸、2,6−ナフタレンジカルボン酸、ナフタル酸、ビフェニルジカルボン酸、1,2−ビス(フェノキシ)エタン−p,p’−ジカルボン酸、これらジカルボン酸の無水物およびこれらジカルボン酸のエステル形成性誘導体などの芳香族多価カルボン酸、p−ヒドロキシ安息香酸、p−(2−ヒドロキシエトキシ)安息香酸およびこれらのジヒドロキシカルボン酸のエステル形成性誘導体などの多塩基酸などが挙げられる。これらの中でも、コハク酸、1,3−シクロペンタンジカルボン酸、イソフタル酸が好ましい。
なお、上記その他の多価カルボン酸を2種以上使用してもよい。
The polyester polyol according to the first example requires orthophthalic acid and its anhydride as the polyvalent carboxylic acid component, but other polyvalent carboxylic acid components are copolymerized as long as the effects of the present embodiment are not impaired. You may.
Other polyvalent carboxylic acid components include aliphatic polyvalent carboxylic acids such as succinic acid, adipic acid, azelaic acid, sebacic acid and dodecanedicarboxylic acid, and unsaturated bond-containing polyvalents such as maleic anhydride, maleic acid and fumaric acid. Alicyclic polyvalent carboxylic acids such as valent carboxylic acids, 1,3-cyclopentanedicarboxylic acids and 1,4-cyclohexanedicarboxylic acids, terephthalic acids, isophthalic acids, pyromellitic acids, trimellitic acids, 1,4-naphthalenedicarboxylic acids. Acids, 2,5-naphthalenedicarboxylic acids, 2,6-naphthalenedicarboxylic acids, naphthalic acids, biphenyldicarboxylic acids, 1,2-bis (phenoxy) ethane-p, p'-dicarboxylic acids, anhydrides of these dicarboxylic acids and Aromatic polyvalent carboxylic acids such as ester-forming derivatives of these dicarboxylic acids, p-hydroxybenzoic acid, p- (2-hydroxyethoxy) benzoic acid and polybasic acids such as ester-forming derivatives of these dihydroxycarboxylic acids and the like. Can be mentioned. Among these, succinic acid, 1,3-cyclopentanedicarboxylic acid, and isophthalic acid are preferable.
In addition, two or more kinds of the above-mentioned other polyvalent carboxylic acids may be used.
多価アルコール成分としては、脂肪族多価アルコールおよび芳香族多価アルコールが挙げられる。
脂肪族多価アルコールとしては、例えば、エチレングリコール、プロピレングリコール、ブチレングリコール、ネオペンチルグリコール、シクロヘキサンジメタノール、1,5−ペンタンジオール、3−メチル−1,5−ペンタンジオール、1,6−ヘキサンジオール、メチルペンタンジオール、ジメチルブタンジオール、ブチルエチルプロパンジオール、ジエチレングリコール、トリエチレングリコール、テトラエチレングリコール、ジプロピレングリコールおよびトリプロピレングリコール等が挙げられる。
芳香族多価アルコールとしては、例えば、ヒドロキノン、レゾルシノール、カテコール、ナフタレンジオール、ビフェノール、ビスフェノールA、ビスフェノールF、テトラメチルビフェノール、これらのエチレンオキサイド伸長物およびこれらの水添加脂肪族化合物等が挙げられる。
一実施形態において、多価アルコール成分は、エチレングリコール、プロピレングリコール、ブチレングリコール、ネオペンチルグリコール、およびシクロヘキサンジメタノールからなる群から選ばれる少なくとも1種を含む。
Examples of the polyhydric alcohol component include aliphatic polyhydric alcohols and aromatic polyhydric alcohols.
Examples of the aliphatic polyhydric alcohol include ethylene glycol, propylene glycol, butylene glycol, neopentyl glycol, cyclohexanedimethanol, 1,5-pentanediol, 3-methyl-1,5-pentanediol, and 1,6-hexane. Examples thereof include diols, methylpentanediols, dimethylbutanediols, butylethylpropanediols, diethylene glycols, triethylene glycols, tetraethylene glycols, dipropylene glycols and tripropylene glycols.
Examples of the aromatic polyhydric alcohol include hydroquinone, resorcinol, catechol, naphthalenediol, biphenol, bisphenol A, bisphenol F, tetramethylbiphenol, ethylene oxide extensions thereof, and water-added aliphatic compounds thereof.
In one embodiment, the polyhydric alcohol component comprises at least one selected from the group consisting of ethylene glycol, propylene glycol, butylene glycol, neopentyl glycol, and cyclohexanedimethanol.
第2例に係るポリエステルポリオールとして、一般式(1)で表されるグリセロール骨格を有するポリエステルポリオールを挙げることができる。
式(2)において、nは1〜5の整数を表し、Xは、置換基を有してもよい1,2−フェニレン基、1,2−ナフチレン基、2,3−ナフチレン基、2,3−アントラキノンジイル基、および2,3−アントラセンジイル基から成る群から選ばれるアリーレン基を表し、Yは炭素原子数2〜6のアルキレン基を表す)で表される基を表す。
但し、R1、R2、R3のうち少なくとも一つは、一般式(2)で表される基を表す。
In the formula (2), n represents an integer of 1 to 5, and X is a 1,2-phenylene group, a 1,2-naphthylene group, a 2,3-naphthylene group, 2, which may have a substituent. It represents an arylene group selected from the group consisting of a 3-anthraquinone diyl group and a 2,3-anthracene diyl group, and Y represents a group represented by an alkylene group having 2 to 6 carbon atoms).
However, at least one of R 1 , R 2 , and R 3 represents a group represented by the general formula (2).
一般式(1)において、R1、R2、R3の少なくとも1つは一般式(2)で表される基である必要がある。中でも、R1、R2、R3全てが一般式(2)で表される基であることが好ましい。 In the general formula (1), at least one of R 1 , R 2 , and R 3 needs to be a group represented by the general formula (2). Above all, it is preferable that all of R 1 , R 2 , and R 3 are groups represented by the general formula (2).
また、R1、R2、R3のいずれか1つが一般式(2)で表される基である化合物と、R1、R2、R3のいずれか2つが一般式(2)で表される基である化合物と、R1、R2、R3の全てが一般式(2)で表される基である化合物の、いずれか2つ以上の化合物が混合物となっていてもよい。 Also, tables in the compound R 1, R 2, one of R 3 is a group represented by the general formula (2), R 1, R 2, either R 3 2 two generally formula (2) Any two or more compounds of the compound which is the group to be used and the compound which is the group in which all of R 1 , R 2 and R 3 are represented by the general formula (2) may be a mixture.
Xは、1,2−フェニレン基、1,2−ナフチレン基、2,3−ナフチレン基、2,3−アントラキノンジイル基および2,3−アントラセンジイル基から成る群から選ばれ、置換基を有していてもよいアリーレン基を表す。
Xが置換基によって置換されている場合、1または複数の置換基で置換されていてもよく、該置換基は、X上の、遊離基とは異なる任意の炭素原子に結合している。該置換基としては、クロロ基、ブロモ基、メチル基、エチル基、i−プロピル基、ヒドロキシル基、メトキシ基、エトキシ基、フェノキシ基、メチルチオ基、フェニルチオ基、シアノ基、ニトロ基、アミノ基、フタルイミド基、カルボキシル基、カルバモイル基、N−エチルカルバモイル基、フェニル基およびナフチル基などが挙げられる。
X is selected from the group consisting of a 1,2-phenylene group, a 1,2-naphthylene group, a 2,3-naphthylene group, a 2,3-anthraquinone diyl group and a 2,3-anthracene diyl group, and has a substituent. Represents an allylene group that may be present.
When X is substituted with a substituent, it may be substituted with one or more substituents, the substituent being attached to any carbon atom on X different from the free radical. Examples of the substituent include a chloro group, a bromo group, a methyl group, an ethyl group, an i-propyl group, a hydroxyl group, a methoxy group, an ethoxy group, a phenoxy group, a methylthio group, a phenylthio group, a cyano group, a nitro group and an amino group. Examples thereof include a phthalimide group, a carboxyl group, a carbamoyl group, an N-ethylcarbamoyl group, a phenyl group and a naphthyl group.
一般式(2)において、Yは、エチレン基、プロピレン基、ブチレン基、ネオペンチレン基、1,5−ペンチレン基、3−メチル−1,5−ペンチレン基、1,6−ヘキシレン基、メチルペンチレン基およびジメチルブチレン基などの炭素原子数2〜6のアルキレン基を表す。Yは、中でも、プロピレン基およびエチレン基が好ましくエチレン基が最も好ましい。 In the general formula (2), Y is an ethylene group, a propylene group, a butylene group, a neopentylene group, a 1,5-pentylene group, a 3-methyl-1,5-pentylene group, a 1,6-hexylene group, or a methylpentylene. Represents an alkylene group having 2 to 6 carbon atoms such as a group and a dimethylbutylene group. Among Y, a propylene group and an ethylene group are preferable, and an ethylene group is most preferable.
一般式(1)で表されるグリセロール骨格を有するポリエステル樹脂化合物は、グリセロールと、カルボン酸がオルト位に置換された芳香族多価カルボン酸またはその無水物と、多価アルコール成分とを必須成分として反応させることにより合成することができる。 The polyester resin compound having a glycerol skeleton represented by the general formula (1) contains glycerol, an aromatic polyvalent carboxylic acid in which the carboxylic acid is substituted at the ortho position or an anhydride thereof, and a polyhydric alcohol component as essential components. It can be synthesized by reacting as.
カルボン酸がオルト位に置換された芳香族多価カルボン酸またはその無水物としては、オルトフタル酸またはその無水物、ナフタレン2,3−ジカルボン酸またはその無水物、ナフタレン1,2−ジカルボン酸またはその無水物、アントラキノン2,3−ジカルボン酸またはその無水物、および2,3−アントラセンカルボン酸またはその無水物などが挙げられる。
これらの化合物は、芳香環の任意の炭素原子に置換基を有していてもよい。該置換基としては、クロロ基、ブロモ基、メチル基、エチル基、i−プロピル基、ヒドロキシル基、メトキシ基、エトキシ基、フェノキシ基、メチルチオ基、フェニルチオ基、シアノ基、ニトロ基、アミノ基、フタルイミド基、カルボキシル基、カルバモイル基、N−エチルカルバモイル基、フェニル基およびナフチル基などが挙げられる。
The aromatic polyvalent carboxylic acid in which the carboxylic acid is substituted at the ortho position or its anhydride includes orthophthalic acid or its anhydride, naphthalene 2,3-dicarboxylic acid or its anhydride, naphthalene 1,2-dicarboxylic acid or its anhydride. Anhydrous, anthraquinone 2,3-dicarboxylic acid or an anhydride thereof, 2,3-anthracenecarboxylic acid or an anhydride thereof and the like can be mentioned.
These compounds may have a substituent on any carbon atom of the aromatic ring. Examples of the substituent include a chloro group, a bromo group, a methyl group, an ethyl group, an i-propyl group, a hydroxyl group, a methoxy group, an ethoxy group, a phenoxy group, a methylthio group, a phenylthio group, a cyano group, a nitro group and an amino group. Examples thereof include a phthalimide group, a carboxyl group, a carbamoyl group, an N-ethylcarbamoyl group, a phenyl group and a naphthyl group.
また、多価アルコール成分としては炭素原子数2〜6のアルキレンジオールが挙げられる。例えば、エチレングリコール、プロピレングリコール、ブチレングリコール、ネオペンチルグリコール、1,5−ペンタンジオール、3−メチル−1,5−ペンタンジオール、1,6−ヘキサンジオール、メチルペンタンジオールおよびジメチルブタンジオールなどのジオールを例示することができる。 Moreover, as a polyhydric alcohol component, an alkylene diol having 2 to 6 carbon atoms can be mentioned. For example, diols such as ethylene glycol, propylene glycol, butylene glycol, neopentyl glycol, 1,5-pentanediol, 3-methyl-1,5-pentanediol, 1,6-hexanediol, methylpentanediol and dimethylbutanediol. Can be exemplified.
第3例に係るポリエステルポリオールは、下記一般式(3)で表されるイソシアヌル環を有するポリエステルポリオールである。
一般式(4)中、n2は2〜4の整数を表し、n3は1〜5の整数を表し、Xは1,2−フェニレン基、1,2−ナフチレン基、2,3−ナフチレン基、2,3−アントラキノンジイル基および2,3−アントラセンジイル基から成る群から選ばれ、置換基を有していてもよいアリーレン基を表し、Yは炭素原子数2〜6のアルキレン基を表す)で表される基を表す。但しR1、R2、R3の少なくとも1つは一般式(4)で表される基である。 In the general formula (4), n2 represents an integer of 2 to 4, n3 represents an integer of 1 to 5, X represents a 1,2-phenylene group, a 1,2-naphthylene group, a 2,3-naphthylene group, It represents an arylene group selected from the group consisting of a 2,3-anthraquinonediyl group and a 2,3-anthracenediyl group and may have a substituent, and Y represents an alkylene group having 2 to 6 carbon atoms). Represents a group represented by. However , at least one of R 1 , R 2 , and R 3 is a group represented by the general formula (4).
一般式(3)において、−(CH2)n1−で表されるアルキレン基は、直鎖状であっても分岐状でもよい。n1は、中でも2または3が好ましく、2が最も好ましい。 In the general formula (3), the alkylene group represented by − (CH 2 ) n1- may be linear or branched. Of these, n1 is preferably 2 or 3, and most preferably 2.
一般式(4)において、n2は2〜4の整数を表し、n3は1〜5の整数を表す。
Xは1,2−フェニレン基、1,2−ナフチレン基、2,3−ナフチレン基、2,3−アントラキノンジイル基、および2,3−アントラセンジイル基から成る群から選ばれ、置換基を有していてもよいアリーレン基を表す。
In the general formula (4), n2 represents an integer of 2 to 4, and n3 represents an integer of 1 to 5.
X is selected from the group consisting of a 1,2-phenylene group, a 1,2-naphthylene group, a 2,3-naphthylene group, a 2,3-anthraquinone diyl group, and a 2,3-anthracene diyl group, and has a substituent. Represents an allylene group that may be present.
Xが置換基によって置換されている場合、1または複数の置換基で置換されていてもよく、該置換基は、X上の、遊離基とは異なる任意の炭素原子に結合している。該置換基としては、クロロ基、ブロモ基、メチル基、エチル基、i−プロピル基、ヒドロキシル基、メトキシ基、エトキシ基、フェノキシ基、メチルチオ基、フェニルチオ基、シアノ基、ニトロ基、アミノ基、フタルイミド基、カルボキシル基、カルバモイル基、N−エチルカルバモイル基、フェニル基およびナフチル基などが挙げられる。
Xの置換基は、中でもヒドロキシル基、シアノ基、ニトロ基、アミノ基、フタルイミド基、カルバモイル基、N−エチルカルバモイル基およびフェニル基が好ましくヒドロキシル基、フェノキシ基、シアノ基、ニトロ基、フタルイミド基およびフェニル基が最も好ましい。
When X is substituted with a substituent, it may be substituted with one or more substituents, the substituent being attached to any carbon atom on X different from the free radical. Examples of the substituent include a chloro group, a bromo group, a methyl group, an ethyl group, an i-propyl group, a hydroxyl group, a methoxy group, an ethoxy group, a phenoxy group, a methylthio group, a phenylthio group, a cyano group, a nitro group and an amino group. Examples thereof include a phthalimide group, a carboxyl group, a carbamoyl group, an N-ethylcarbamoyl group, a phenyl group and a naphthyl group.
The substituent of X is preferably a hydroxyl group, a cyano group, a nitro group, an amino group, a phthalimide group, a carbamoyl group, an N-ethylcarbamoyl group and a phenyl group, preferably a hydroxyl group, a phenoxy group, a cyano group, a nitro group, a phthalimide group and The phenyl group is most preferred.
一般式(4)において、Yは、エチレン基、プロピレン基、ブチレン基、ネオペンチレン基、1,5−ペンチレン基、3−メチル−1,5−ペンチレン基、1,6−ヘキシレン基、メチルペンチレン基およびジメチルブチレン基などの炭素原子数2〜6のアルキレン基を表す。Yは、中でも、プロピレン基およびエチレン基が好ましくエチレン基が最も好ましい。 In the general formula (4), Y is an ethylene group, a propylene group, a butylene group, a neopentylene group, a 1,5-pentylene group, a 3-methyl-1,5-pentylene group, a 1,6-hexylene group, or a methylpentylene. Represents an alkylene group having 2 to 6 carbon atoms such as a group and a dimethylbutylene group. Among Y, a propylene group and an ethylene group are preferable, and an ethylene group is most preferable.
一般式(3)において、R1、R2、R3の少なくとも1つは一般式(4)で表される基である。中でも、R1、R2、R3全てが一般式(4)で表される基であることが好ましい。 In the general formula (3), at least one of R 1 , R 2 , and R 3 is a group represented by the general formula (4). Above all, it is preferable that all of R 1 , R 2 , and R 3 are groups represented by the general formula (4).
また、R1、R2、R3のいずれか1つが一般式(4)で表される基である化合物と、R1、R2、R3のいずれか2つが一般式(4)で表される基である化合物と、R1、R2、R3の全てが一般式(4)で表される基である化合物の、いずれか2つ以上の化合物が混合物となっていてもよい。 Also, tables in the compound R 1, R 2, one of R 3 is a group represented by the general formula (4), R 1, R 2, either R 3 2 two generally formula (4) Any two or more compounds of the compound which is the group to be used and the compound which is the group in which all of R 1 , R 2 and R 3 are represented by the general formula (4) may be a mixture.
一般式(3)で表されるイソシアヌル環を有するポリエステルポリオールは、イソシアヌル環を有するトリオールと、カルボン酸がオルト位に置換された芳香族多価カルボン酸またはその無水物と、多価アルコール成分とを必須成分として反応させることにより合成することができる The polyester polyol having an isocyanul ring represented by the general formula (3) includes a triol having an isocyanul ring, an aromatic polyvalent carboxylic acid in which the carboxylic acid is substituted at the ortho position or an anhydride thereof, and a polyhydric alcohol component. Can be synthesized by reacting with
イソシアヌル環を有するトリオールとしては、例えば、1,3,5−トリス(2−ヒドロキシエチル)イソシアヌル酸および1,3,5−トリス(2−ヒドロキシプロピル)イソシアヌル酸などのイソシアヌル酸のアルキレンオキサイド付加物などが挙げられる。 Triols having an isocyanuric ring include, for example, alkylene oxide adducts of isocyanuric acid such as 1,3,5-tris (2-hydroxyethyl) isocyanuric acid and 1,3,5-tris (2-hydroxypropyl) isocyanuric acid. And so on.
また、カルボン酸がオルト位に置換された芳香族多価カルボン酸またはその無水物としては、オルトフタル酸またはその無水物、ナフタレン2,3−ジカルボン酸またはその無水物、ナフタレン1,2−ジカルボン酸またはその無水物、アントラキノン2,3−ジカルボン酸またはその無水物、および2,3−アントラセンカルボン酸またはその無水物などが挙げられる。これらの化合物は、芳香環の任意の炭素原子に置換基を有していてもよい。 Examples of the aromatic polyvalent carboxylic acid in which the carboxylic acid is substituted at the ortho position or its anhydride include orthophthalic acid or its anhydride, naphthalene 2,3-dicarboxylic acid or its anhydride, and naphthalene 1,2-dicarboxylic acid. Or an anhydride thereof, anthraquinone 2,3-dicarboxylic acid or an anhydride thereof, 2,3-anthracenecarboxylic acid or an anhydride thereof, and the like. These compounds may have a substituent on any carbon atom of the aromatic ring.
該置換基としては、クロロ基、ブロモ基、メチル基、エチル基、i−プロピル基、ヒドロキシル基、メトキシ基、エトキシ基、フェノキシ基、メチルチオ基、フェニルチオ基、シアノ基、ニトロ基、アミノ基、フタルイミド基、カルボキシル基、カルバモイル基、N−エチルカルバモイル基、フェニル基およびナフチル基などが挙げられる。 Examples of the substituent include a chloro group, a bromo group, a methyl group, an ethyl group, an i-propyl group, a hydroxyl group, a methoxy group, an ethoxy group, a phenoxy group, a methylthio group, a phenylthio group, a cyano group, a nitro group and an amino group. Examples thereof include a phthalimide group, a carboxyl group, a carbamoyl group, an N-ethylcarbamoyl group, a phenyl group and a naphthyl group.
また、多価アルコール成分としては炭素原子数2〜6のアルキレンジオールが挙げられる。例えば、エチレングリコール、プロピレングリコール、ブチレングリコール、ネオペンチルグリコール、1,5−ペンタンジオール、3−メチル−1,5−ペンタンジオール、1,6−ヘキサンジオール、メチルペンタンジオールおよびジメチルブタンジオールなどのジオールが挙げられる。
中でも、イソシアヌル環を有するトリオール化合物として1,3,5−トリス(2−ヒドロキシエチル)イソシアヌル酸、または1,3,5−トリス(2−ヒドロキシプロピル)イソシアヌル酸を使用し、カルボン酸がオルト位に置換された芳香族多価カルボン酸またはその無水物としてオルトフタル酸無水物を使用し、多価アルコールとしてエチレングリコールを使用したイソシアヌル環を有するポリエステルポリオール化合物が、酸素バリア性や接着性に特に優れ好ましい。
Moreover, as a polyhydric alcohol component, an alkylene diol having 2 to 6 carbon atoms can be mentioned. For example, diols such as ethylene glycol, propylene glycol, butylene glycol, neopentyl glycol, 1,5-pentanediol, 3-methyl-1,5-pentanediol, 1,6-hexanediol, methylpentanediol and dimethylbutanediol. Can be mentioned.
Among them, 1,3,5-tris (2-hydroxyethyl) isocyanuric acid or 1,3,5-tris (2-hydroxypropyl) isocyanuric acid is used as the triol compound having an isocyanul ring, and the carboxylic acid is in the ortho position. A polyester polyol compound having an isocyanul ring using an aromatic polyvalent carboxylic acid substituted with or using orthophthalic anhydride as its anhydride and ethylene glycol as the polyhydric alcohol is particularly excellent in oxygen barrier property and adhesiveness. preferable.
イソシアヌル環は高極性であり且つ3官能であり、系全体の極性を高めることができ、且つ、架橋密度を高めることができる。このような観点からイソシアヌル環を接着剤樹脂全固形分に対し5質量%以上含有することが好ましい。 The isocyanul ring is highly polar and trifunctional, and can increase the polarity of the entire system and increase the crosslink density. From this point of view, it is preferable that the isocyanul ring is contained in an amount of 5% by mass or more based on the total solid content of the adhesive resin.
イソシアネート化合物は、分子内にイソシアネート基を2個以上有する。
また、イソシアネート化合物は、芳香族であっても、脂肪族であってもよく、低分子化合物であっても、高分子化合物であってもよい。
さらに、イソシアネート化合物は、公知のイソシアネートブロック化剤を用いて公知慣用の適宜の方法より付加反応させて得られたブロック化イソシアネート化合物であってもよい。
中でも、接着性や耐レトルト性の観点から、イソシアネート基を3個以上有するポリイソシアネート化合物が好ましく、酸素バリア性および水蒸気バリア性の観点からは、芳香族であることが好ましい。
The isocyanate compound has two or more isocyanate groups in the molecule.
Further, the isocyanate compound may be an aromatic compound, an aliphatic compound, a low molecular weight compound, or a high molecular weight compound.
Further, the isocyanate compound may be a blocked isocyanate compound obtained by an addition reaction using a known isocyanate blocking agent by a known and commonly used appropriate method.
Among them, a polyisocyanate compound having three or more isocyanate groups is preferable from the viewpoint of adhesiveness and retort resistance, and an aromatic compound is preferable from the viewpoint of oxygen barrier property and water vapor barrier property.
イソシアネート化合物の具体的な化合物としては、例えば、テトラメチレンジイソシアネート、ヘキサメチレンジイソシアネート、トルエンジイソシアネート、ジフェニルメタンジイソシアネート、水素化ジフェニルメタンジイソシアネート、メタキシリレンジイソシアネート、水素化キシリレンジイソシアネート、イソホロンジイソシアネート、およびこれらのイソシアネート化合物の3量体、並びにこれらのイソシアネート化合物と、低分子活性水素化合物若しくはそのアルキレンオキシド付加物、または高分子活性水素化合物とを反応させて得られるアダクト体、ビュレット体およびアロファネート体などが挙げられる。
低分子活性水素化合物としては、例えば、エチレングリコール、プロピレングリコール、メタキシリレンアルコール、1,3−ビスヒドロキシエチルベンゼン、1,4−ビスヒドロキシエチルベンゼン、トリメチロールプロパン、グリセロール、ペンタエリスリトール、エリスリトール、ソルビトール、エチレンジアミン、モノエタノールアミン、ジエタノールアミン、トリエタノールアミンおよびメタキシリレンジアミンなどが挙げられ、分子活性水素化合物としては、各種ポリエステル樹脂、ポリエーテルポリオールおよびポリアミドの高分子活性水素化合物などが挙げられる。
Specific examples of the isocyanate compound include tetramethylene diisocyanate, hexamethylene diisocyanate, toluene diisocyanate, diphenylmethane diisocyanate, hydride diphenylmethane diisocyanate, metaxylylene diisocyanate, hydride hydride diisocyanate, isophorone diisocyanate, and these isocyanate compounds. Examples thereof include an adduct, a burette, and an allophanate obtained by reacting these isocyanate compounds with a low molecular weight active hydrogen compound or an alkylene oxide adduct thereof, or a high molecular weight active hydrogen compound.
Examples of the low molecular weight active hydrogen compound include ethylene glycol, propylene glycol, metaxylylene alcohol, 1,3-bishydroxyethylbenzene, 1,4-bishydroxyethylbenzene, trimethylolpropane, glycerol, pentaerythritol, erythritol, and sorbitol. Examples thereof include ethylenediamine, monoethanolamine, diethanolamine, triethanolamine and metaxylylene diamine, and examples of the molecularly active hydrogen compound include various polyester resins, polyether polyols and high molecular weight active hydrogen compounds of polyamide.
ポリエステルポリオールとイソシアネート化合物を含む組成物の硬化物により構成された接着剤層は、リン酸変性化合物を含むことができ、例えば下記の一般式(5)または(6)で表される化合物である。
より具体的には、リン酸、ピロリン酸、トリリン酸、メチルアシッドホスフェート、エチルアシッドホスフェート、ブチルアシッドホスフェート、ジブチルホスフェート、2−エチルヘキシルアシッドホスフェート、ビス(2-エチルヘキシル)ホスフェート、イソドデシルアシッドホスフェート、ブトキシエチルアシッドホスフェート、オレイルアシッドホスフェート、テトラコシルアシッドホスフェート、2−ヒドロキシエチルメタクリレートアシッドホスフェートおよびポリオキシエチレンアルキルエーテルリン酸などが挙げられ、これらの1種または2種以上を用いることができる。 More specifically, phosphoric acid, pyrophosphate, triphosphate, methyl acid phosphate, ethyl acid phosphate, butyl acid phosphate, dibutyl phosphate, 2-ethylhexyl acid phosphate, bis (2-ethylhexyl) phosphate, isododecyl acid phosphate, butoxy. Ethyl acid phosphate, oleyl acid phosphate, tetracosyl acid phosphate, 2-hydroxyethyl methacrylate acid phosphate, polyoxyethylene alkyl ether phosphoric acid and the like can be mentioned, and one or more of these can be used.
ポリエステルポリオールとイソシアネート化合物を含む接着剤層におけるリン酸変性化合物の含有量は、0.005質量%以上10質量%以下が好ましく、0.01質量%以上1質量%以下であることがより好ましい。
リン酸変性化合物の含有量を0.005質量%以上とすることにより、酸素バリア性および水蒸気バリア性を向上することができる。また、リン酸変性化合物の含有量を10質量%以下とすることにより、接着層の接着性を向上することができる。
The content of the phosphoric acid-modified compound in the adhesive layer containing the polyester polyol and the isocyanate compound is preferably 0.005% by mass or more and 10% by mass or less, and more preferably 0.01% by mass or more and 1% by mass or less.
By setting the content of the phosphoric acid-modified compound to 0.005% by mass or more, the oxygen barrier property and the water vapor barrier property can be improved. Further, by setting the content of the phosphoric acid-modified compound to 10% by mass or less, the adhesiveness of the adhesive layer can be improved.
ポリエステルポリオールとイソシアネート化合物を含む接着剤層は、板状無機化合物を含んでいてもよく、これにより、接着層の酸素バリア性、水蒸気バリア性、接着性を向上することができる。また、本発明のバリア性積層体の耐屈曲負荷性を向上することができる。
板状無機化合物としては、例えば、カオリナイト−蛇紋族粘土鉱物(ハロイサイト、カオリナイト、エンデライト、ディッカイト、ナクライト、アンチゴライト、クリソタイルなど)およびパイロフィライト−タルク族(パイロフィライト、タルク、ケロライなど)などが挙げられる。
The adhesive layer containing the polyester polyol and the isocyanate compound may contain a plate-like inorganic compound, whereby the oxygen barrier property, the water vapor barrier property, and the adhesiveness of the adhesive layer can be improved. In addition, the bending load resistance of the barrier laminate of the present invention can be improved.
Plate-like inorganic compounds include, for example, kaolinite-serpentinite clay minerals (halloysite, kaolinite, enderite, dicite, nacrite, antigolite, chrysotile, etc.) and pyrophyllite-talc (pyrophilite, talc, etc.). Kerorai, etc.).
カップリング剤としては、例えば、下記一般式(7)であらわされるシラン系カップリング剤、チタン系カップリング剤およびアルミニウム系カップリング剤などが挙げられる。なお、これらのカップリング剤は、単独でも、2種類以上組み合わせてもよい。
シラン系カップリング剤としては、例えば、ビニルトリクロルシラン、ビニルトリメトキシシラン、ビニルトリエトキシシラン、β−(3,4−エポキシシクロヘキシル)エチルトリメトキシシラン、γ−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、γ−グリシドキシプロピルメチルジエトキシシラン、γ−グリシドキシプロピルトリエトキシシラン、γ−メタクリロキシトリメトキシシラン、γ−メタクリロキシプロピルメチルジメトキシシラン、γ−メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン、γ−メタクリロキシプロピルメチルジエトキシシラン、γ−メタクリロキシプロピルトリエトキシシラン、N−β(アミノエチル)γ−アミノプロピルメチルジメトキシシラン、N−β(アミノエチル)γ−アミノプロピルトリメトキシシラン、N−β(アミノエチル)γ−アミノプロピルトリエトキシシラン、γ−アミノプロピルトリメトキシシラン、γ−アミノプロピルトリエトキシシラン、N−フェニル−γ−アミノプロピルトリメトキシシラン、γ−クロロプロピルトリメトキシシラン、γ−メルカプトプロピルトリメトキシシラン、3−イソシアネートプロピルトリエトキシシラン、3−アクリロキシプロピルトリメトキシシランおよび3−トリエトキシシリル−N−(1,3−ジメチル−ブチリデン)などが挙げられる。 Examples of the silane coupling agent include vinyl trichlorosilane, vinyl trimethoxysilane, vinyl triethoxysilane, β- (3,4-epoxycyclohexyl) ethyltrimethoxysilane, γ-glycidoxypropyltrimethoxysilane, and γ. -Glysidoxypropylmethyldiethoxysilane, γ-glycidoxypropyltriethoxysilane, γ-methacryloxytrimethoxysilane, γ-methacryloxypropylmethyldimethoxysilane, γ-methacryloxypropyltrimethoxysilane, γ-methacryloxy Propylmethyldiethoxysilane, γ-methacryloxypropyltriethoxysilane, N-β (aminoethyl) γ-aminopropylmethyldimethoxysilane, N-β (aminoethyl) γ-aminopropyltrimethoxysilane, N-β (amino) Ethyl) γ-aminopropyltriethoxysilane, γ-aminopropyltrimethoxysilane, γ-aminopropyltriethoxysilane, N-phenyl-γ-aminopropyltrimethoxysilane, γ-chloropropyltrimethoxysilane, γ-mercaptopropyl Examples thereof include trimethoxysilane, 3-isocyanoxide propyltriethoxysilane, 3-acryloxypropyltrimethoxysilane and 3-triethoxysilyl-N- (1,3-dimethyl-butylidene).
また、チタン系カップリング剤としては、例えば、イソプロピルトリイソステアロイルチタネート、イソプロピルトリ(N−アミノエチル−アミノエチル)チタネート、イソプロピルトリドデシルベンゼンスルホニルチタネート、イソプロピルトリス(ジオクチルパイロホスフェート)チタネート、テトラオクチルビス(ジドデシルホスファイト)チタネート、テトラオクチルビス(ジトリデシルホスファイト)チタネート、ビス(ジオクチルパイロホスフェート)オキシアセテートチタネート、ビス(ジオクチルパイロホスフェート)エチレンチタネート、イソプロピルトリオクタイノルチタネート、イソプロピルジメタクリルイソステアロイルチタネート、イソプロピルイソステアロイルジアクリルチタネート、ジイソステアロイルエチレンチタネート、イソプロピルトリ(ジオクチルホスフェート)チタネート、イソプロピルトリクミルフェニルチタネートおよびジクミルフェニルオキシアセテートチタネートなどが挙げられる。 Examples of the titanium-based coupling agent include isopropyltriisostearoyl titanate, isopropyltri (N-aminoethyl-aminoethyl) titanate, isopropyltridodecylbenzenesulfonyl titanate, isopropyltris (dioctylpyrophosphate) titanate, and tetraoctylbis. (Didodecylphosphite) titanate, tetraoctylbis (ditridecylphosphite) titanate, bis (dioctylpyrophosphate) oxyacetate titanate, bis (dioctylpyrophosphate) ethylene titanate, isopropyltrioctainoltitanate, isopropyldimethacrylisostearoyl titanate , Isostatearoyl diacrylic titanate, diisostearoyl ethylene titanate, isopropyltri (dioctyl phosphate) titanate, isopropyltricylphenyl titanate, dicumylphenyloxyacetate titanate and the like.
また、アルミニウム系カップリング剤の具体例としては、例えば、アセトアルコキシアルミニウムジイソプロピレート、ジイソプロポキシアルミニウムエチルアセトアセテート、ジイソプロポキシアルミニウムモノメタクリレート、イソプロポキシアルミニウムアルキルアセトアセテートモノ(ジオクチルホスフェート)、アルミニウム−2−エチルヘキサノエートオキサイドトリマー、アルミニウムステアレートオキサイドトリマーおよびアルキルアセトアセテートアルミニウムオキサイドトリマーなどが挙げられる。 Specific examples of the aluminum-based coupling agent include acetalkoxyaluminum diisopropyrate, diisopropoxyaluminum ethylacetate, diisopropoxyaluminum monomethacrylate, isopropoxyaluminum alkylacetate monomethacrylate, and aluminum. -2-Ethylhexanoate oxide trimmer, aluminum stearate oxide trimmer, alkylacetate acetate aluminum oxide trimmer and the like can be mentioned.
ポリエステルポリオールとイソシアネート化合物を含む組成物により構成された接着剤接着剤層は、シクロデキストリンおよび/またはその誘導体を含むことができ、これにより、接着層の接着性性を向上することができる。また、耐屈曲負荷性をより向上できる。
具体的には、例えば、シクロデキストリン、アルキル化シクロデキストリン、アセチル化シクロデキストリンおよびヒドロキシアルキル化シクロデキストリンなどのシクロデキストリンのグルコース単位の水酸基の水素原子を他の官能基で置換したものなどを用いることができる。また、分岐環状デキストリンも用いることができる。
また、シクロデキストリンおよびシクロデキストリン誘導体におけるシクロデキストリン骨格は、6個のグルコース単位からなるα−シクロデキストリン、7個のグルコース単位からなるβ−シクロデキストリン、8個のグルコース単位からなるγ−シクロデキストリンのいずれであってもよい。
これらの化合物は単独で用いても2種以上を併用してもよい。また、これらシクロデキストリンおよび/またはその誘導体を以降、デキストリン化合物と総称する場合がある。
The adhesive adhesive layer composed of the composition containing the polyester polyol and the isocyanate compound can contain cyclodextrin and / or a derivative thereof, whereby the adhesiveness of the adhesive layer can be improved. Moreover, the bending load resistance can be further improved.
Specifically, for example, a cyclodextrin such as cyclodextrin, alkylated cyclodextrin, acetylated cyclodextrin, and hydroxyalkylated cyclodextrin in which the hydrogen atom of the hydroxyl group of the glucose unit is replaced with another functional group is used. Can be done. A branched cyclic dextrin can also be used.
The cyclodextrin skeleton of cyclodextrin and cyclodextrin derivatives is α-cyclodextrin consisting of 6 glucose units, β-cyclodextrin consisting of 7 glucose units, and γ-cyclodextrin consisting of 8 glucose units. It may be either.
These compounds may be used alone or in combination of two or more. In addition, these cyclodextrins and / or derivatives thereof may be collectively referred to as dextrin compounds hereafter.
ポリエステルポリオールとイソシアネート化合物を含む接着剤層への相溶性および分散性の観点から、シクロデキストリン化合物としては、シクロデキストリン誘導体を用いることが好ましい。
置換度としては上記各種樹脂の極性の観点から、0.1個以上14個以下/グルコースの範囲であることが好ましく、0.3個以上8個以下/グルコースの範囲であることがより好ましい。
From the viewpoint of compatibility and dispersibility in the adhesive layer containing the polyester polyol and the isocyanate compound, it is preferable to use a cyclodextrin derivative as the cyclodextrin compound.
From the viewpoint of the polarity of the various resins, the degree of substitution is preferably in the range of 0.1 or more and 14 or less / glucose, and more preferably in the range of 0.3 or more and 8 or less / glucose.
アルキル化シクロデキストリンとしては、例えば、メチル−α−シクロデキストリン、メチル−β−シクロデキストリンおよびメチル−γ−シクロデキストリンなどが挙げられる。これらの化合物は単独で用いても2種以上を併用してもよい。 Examples of the alkylated cyclodextrin include methyl-α-cyclodextrin, methyl-β-cyclodextrin and methyl-γ-cyclodextrin. These compounds may be used alone or in combination of two or more.
アセチル化シクロデキストリンとしては、例えば、モノアセチル−α−シクロデキストリン、モノアセチル−β−シクロデキストリンおよびモノアセチル−γ−シクロデキストリンなどが挙げられる。これらの化合物は単独で用いても2種以上を併用してもよい。 Examples of the acetylated cyclodextrin include monoacetyl-α-cyclodextrin, monoacetyl-β-cyclodextrin and monoacetyl-γ-cyclodextrin. These compounds may be used alone or in combination of two or more.
ヒドロキシアルキル化シクロデキストリンとしては、例えば、ヒドロキシプロピル−α−シクロデキストリン、ヒドロキシプロピル−β−シクロデキストリンおよびヒドロキシプロピル−γ−シクロデキストリンなどが挙げられる。これらの化合物は単独で用いても2種以上を併用してもよい。 Examples of the hydroxyalkylated cyclodextrin include hydroxypropyl-α-cyclodextrin, hydroxypropyl-β-cyclodextrin and hydroxypropyl-γ-cyclodextrin. These compounds may be used alone or in combination of two or more.
接着層の厚さは、0.5μm以上6μm以下であることが好ましく、0.8μm以上5μm以下であることがより好ましく、1μm以上4.5μm以下であることがさらに好ましい。
接着層の厚さを0.5μm以上とすることにより、接着層の接着性を向上することができる。また、接着層が、ポリエステルポリオールとイソシアネート化合物を含む組成物の硬化物を含む接着剤層である場合には、耐屈曲負荷性を向上することができる。
接着層の厚さを6μm以下とすることにより、バリア性積層体の加工適性を向上することができる。さらに、ポリプロピレンから構成される基材およびシーラント層を備える積層体を用いて作製される包装容器のリサイクル適性を向上することができる。
The thickness of the adhesive layer is preferably 0.5 μm or more and 6 μm or less, more preferably 0.8 μm or more and 5 μm or less, and further preferably 1 μm or more and 4.5 μm or less.
By setting the thickness of the adhesive layer to 0.5 μm or more, the adhesiveness of the adhesive layer can be improved. Further, when the adhesive layer is an adhesive layer containing a cured product of a composition containing a polyester polyol and an isocyanate compound, bending load resistance can be improved.
By setting the thickness of the adhesive layer to 6 μm or less, the processability of the barrier laminate can be improved. Further, it is possible to improve the recyclability of the packaging container produced by using the laminate provided with the base material composed of polypropylene and the sealant layer.
接着層は、例えば、ダイレクトグラビアロールコート法、グラビアロールコート法、キスコート法、リバースロールコート法、フォンテン法およびトランスファーロールコート法など従来公知の方法により、蒸着膜などの上に塗布、乾燥することにより形成することができる。 The adhesive layer is applied and dried on a vapor-deposited film or the like by a conventionally known method such as a direct gravure roll coating method, a gravure roll coating method, a kiss coating method, a reverse roll coating method, a fonten method and a transfer roll coating method. Can be formed by
(蒸着膜)
本発明のバリア性積層体は、表面樹脂層上に無機酸化物から構成される蒸着膜を備える。これにより、バリア性積層体のガスバリア性、具体的には、酸素バリア性および水蒸気バリア性を向上することができる。また、本発明のバリア性積層体を用いて作製した包装容器に充填された内容物の質量減少を抑えることができる。
(Embedded film)
The barrier laminate of the present invention includes a vapor-deposited film composed of an inorganic oxide on a surface resin layer. Thereby, the gas barrier property, specifically, the oxygen barrier property and the water vapor barrier property of the barrier laminated body can be improved. In addition, it is possible to suppress a decrease in the mass of the contents filled in the packaging container produced by using the barrier laminate of the present invention.
無機酸化物としては、例えば、酸化アルミニウム(アルミナ)、酸化珪素(シリカ)、酸化マグシウム、酸化カルシウム、酸化ジルコニウム、酸化チタン、酸化ホウ素、酸化ハフニウム、酸化バリウム、酸化炭化珪素(炭素含有酸化珪素)などを挙げることができる。
上記した中でも、シリカ、酸化炭化珪素およびアルミナが好ましい。
また、蒸着膜形成後のエージング処理が必要ないため、シリカが特に好ましい。
Examples of the inorganic oxide include aluminum oxide (alumina), silicon oxide (silica), magsium oxide, calcium oxide, zirconium oxide, titanium oxide, boron oxide, hafnium oxide, barium oxide, and silicon carbide (carbon-containing silicon oxide). And so on.
Among the above, silica, silicon carbide oxide and alumina are preferable.
Further, silica is particularly preferable because it does not require an aging treatment after forming the thin-film deposition film.
また、蒸着膜の厚さは、1nm以上150nm以下であることが好ましく、5nm以上60nm以下であることがより好ましく、10nm以上40nm以下であることがさらに好ましい。
蒸着膜の厚さを1nm以上とすることにより、積層体の酸素バリア性および水蒸気バリア性をより向上することができる。
また、蒸着膜の厚さを150nm以下とすることにより、蒸着膜におけるクラックの発生を防止することができる。さらに、ポリプロピレンから構成される基材およびシーラント層を備える積層体を用いて作製される包装容器のリサイクル適性を向上することができる。
The thickness of the thin-film deposition film is preferably 1 nm or more and 150 nm or less, more preferably 5 nm or more and 60 nm or less, and further preferably 10 nm or more and 40 nm or less.
By setting the thickness of the thin-film deposition film to 1 nm or more, the oxygen barrier property and the water vapor barrier property of the laminated body can be further improved.
Further, by setting the thickness of the thin-film vapor film to 150 nm or less, it is possible to prevent the occurrence of cracks in the thin-film film. Further, it is possible to improve the recyclability of the packaging container produced by using the laminate provided with the base material composed of polypropylene and the sealant layer.
蒸着膜の形成は、従来公知の方法を用いて行うことができ、例えば、真空蒸着法、スパッタリング法およびイオンプレーティング法などの物理気相成長法(Physical Vapor Deposition法、PVD法)、並びにプラズマ化学気相成長法、熱化学気相成長法および光化学気相成長法などの化学気相成長法(Chemical Vapor Deposition法、CVD法)などを挙げることができる。 The vapor deposition film can be formed by using a conventionally known method, for example, a physical vapor deposition method (Physical Vapor Deposition method, PVD method) such as a vacuum vapor deposition method, a sputtering method and an ion plating method, and a plasma. Examples thereof include chemical vapor deposition methods (Chemical Vapor Deposition methods, CVD methods) such as chemical vapor deposition methods, thermochemical vapor deposition methods, and photochemical vapor deposition methods.
蒸着膜は、1回の蒸着工程により形成される単層であっても、複数回の蒸着工程により形成される多層であってもよい。多層である場合、各層は同一の材料であっても、異なる材料であってもよい。また、各層は、同一の方法により形成しても、異なる方法により形成してもよい。 The thin-film deposition film may be a single layer formed by one vapor deposition step or a multilayer formed by a plurality of thin-film deposition steps. When there are multiple layers, each layer may be the same material or a different material. Further, each layer may be formed by the same method or by a different method.
PVD法による蒸着膜の形成方法に使用される装置として、プラズマアシスト付きの真空成膜装置を使用することができる。
プラズマアシスト付きの真空成膜装置を使用した蒸着膜の成膜方法の一実施形態を以下に記載する。
一実施形態において、真空成膜装置は、図5および6に示すように、真空容器A、巻出し部B、成膜用ドラムC、巻取り部D、搬送ロールE、蒸発源F、反応ガス供給部G、防着箱H、蒸着材料IおよびプラズマガンJを備える。
なお、図5は、真空成膜装置のXZ平面方向の概略断面図であり、図6は、真空成膜装置のXY平面方向の概略断面図である。
図4に示すように、真空容器A内の上部に、成膜用ドラムC法に巻き取られている中間層14が、その表面樹脂層面を下向きに配置され、真空容器A内の成膜用ドラムCより下に、電気的に接地された防着箱Hが配置される。防着箱Hは底面に、蒸発源Fが配置される。蒸発源Fの上面と一定の間隔を空けて対向する位置に、成膜用ドラムCに巻き取られた中間層10の表面樹脂層面が位置するように、真空容器A内に成膜用ドラムCが配置される。
また、巻出し部Bと成膜用ドラムCとの間、および成膜用ドラムCと巻き取り部Dとの間に、搬送ロールEが配置される。
なお、真空容器は、真空ポンプと連結している(図示せず)。
蒸発源Fは、蒸着材料Iを保持するためのものであり、加熱装置を備える(図示せず)。
反応ガス供給部Gは、蒸発した蒸着材料と反応する反応ガス(酸素、窒素、ヘリウム、アルゴンおよびこれらの混合ガスなど)を供給する部位である。
蒸発源Fから加熱され、蒸発した蒸着材料Iが、中間層14の表面樹脂層上に、向けて照射され、これと同時に、プラズマガンJからも表面樹脂層に向けてプラズマが照射され、蒸着膜は形成される。
本形成方法の詳細は、特開2011−214089号公報において開示される。
As an apparatus used in the method for forming a vapor-deposited film by the PVD method, a vacuum film forming apparatus with plasma assist can be used.
An embodiment of a method for forming a vapor-deposited film using a vacuum film forming apparatus with plasma assist is described below.
In one embodiment, as shown in FIGS. 5 and 6, the vacuum film forming apparatus includes a vacuum container A, an unwinding portion B, a film forming drum C, a winding portion D, a transport roll E, an evaporation source F, and a reaction gas. A supply unit G, a protective box H, a vapor deposition material I, and a plasma gun J are provided.
5 is a schematic cross-sectional view of the vacuum film forming apparatus in the XZ plane direction, and FIG. 6 is a schematic cross-sectional view of the vacuum film forming apparatus in the XY plane direction.
As shown in FIG. 4, an
Further, the transport roll E is arranged between the unwinding portion B and the film forming drum C, and between the film forming drum C and the winding portion D.
The vacuum container is connected to the vacuum pump (not shown).
The evaporation source F is for holding the vaporized material I and includes a heating device (not shown).
The reaction gas supply unit G is a portion that supplies a reaction gas (oxygen, nitrogen, helium, argon, a mixed gas thereof, or the like) that reacts with the evaporated vaporized material.
The vaporized vaporized material I heated and evaporated from the evaporation source F is irradiated toward the surface resin layer of the
Details of this forming method are disclosed in Japanese Patent Application Laid-Open No. 2011-214089.
プラズマ化学気相成長法に使用されるプラズマ発生装置としては、高周波プラズマ、パルス波プラズマ、マイクロ波プラズマなどの発生装置を使用することができる。また2室以上の成膜室を有する装置を使用してもよい。該装置は、真空ポンプを備え、各成膜室を真空に保持できることが好ましい。
各成膜室における真空度は、1×10〜1×10−6Paであることが好ましい。
プラズマ発生装置を使用した蒸着膜の成膜方法の一実施形態を以下に記載する。
まず、中間層を成膜室へ送り出し、補助ロールを介して、所定の速度で、冷却・電極ドラム上に搬送する。
次いで、ガス供給装置から、成膜室内へ、無機酸化物を含む成膜用モノマーガス、酸素ガスおよび不活性ガスなどを含む混合ガス組成物を供給し、表面樹脂層上に、グロー放電によりプラズマを発生させ、これを照射し、表面樹脂層上に無機酸化物を含む蒸着膜を形成する。
本形成方法の詳細は、特開2012−076292号公報において開示される。
As the plasma generator used in the plasma chemical vapor deposition method, a generator such as a high frequency plasma, a pulse wave plasma, or a microwave plasma can be used. Further, an apparatus having two or more film forming chambers may be used. It is preferable that the device is provided with a vacuum pump and can hold each film forming chamber in a vacuum.
The degree of vacuum in each film forming chamber is preferably 1 × 10 to 1 × 10-6 Pa.
An embodiment of a method for forming a vapor-deposited film using a plasma generator will be described below.
First, the intermediate layer is sent out to the film forming chamber, and is conveyed onto the cooling / electrode drum at a predetermined speed via an auxiliary roll.
Next, a mixed gas composition containing a film-forming monomer gas containing an inorganic oxide, an oxygen gas, an inert gas, etc. is supplied from the gas supply device into the film-forming chamber, and plasma is generated on the surface resin layer by glow discharge. Is generated and irradiated with this to form a vapor-deposited film containing an inorganic oxide on the surface resin layer.
Details of this forming method are disclosed in Japanese Patent Application Laid-Open No. 2012-076292.
図7は、CVD法に使用されるプラズマ化学気相成長装置を示す概略的構成図である。 FIG. 7 is a schematic configuration diagram showing a plasma chemical vapor deposition apparatus used in the CVD method.
一実施形態において、プラズマ化学気相成長装置は、図7に示すように、真空容器A1内に配置された巻出し部B1から、中間層14を繰り出し、さらに、中間層14を、搬送ロールE1を介して所定の速度で冷却・電極ドラムC1周面上に搬送する。反応ガス供給にG1から酸素、窒素、ヘリウム、アルゴンおよびこれらの混合ガスを供給し、および原料ガス供給部I1から成膜用モノマーガスなどを供給し、それらからなる蒸着用混合ガス組成物を調整しながら原料供給ノズルH1を通して真空容器A1内に該蒸着用混合ガス組成物を導入し、そして、上記の冷却・電極ドラムC1周面上に搬送された、中間層14の表面樹脂層の上に、グロー放電プラズマF1によってプラズマを発生させ、これを照射して、蒸着膜を形成する。その際に、冷却・電極ドラムC1は、真空容器A1の外に配置されている電源K1から所定の電力が印加されており、冷却・電極ドラムC1の近傍には、マグネットJ1を配置してプラズマの発生を促進している。次いで、中間層14は、蒸着膜を形成した後、所定の巻き取りスピードで搬送ロールE1を介して巻取り部D1に巻き取られる。なお、図中、L1は真空ポンプを表す。
In one embodiment, as shown in FIG. 7, the plasma chemical vapor deposition apparatus unwinds the
蒸着膜の形成方法に使用される装置として、プラズマ前処理室、成膜室を備える、連続蒸着膜成膜装置を使用することができる。
該装置を使用した蒸着膜の成膜方法の一実施形態を以下に記載する。
まず、プラズマ前処理室において、プラズマ供給ノズルから、中間層が備える表面樹脂層にプラズマが照射される。次いで、成膜室において、プラズマ処理された表面樹脂層上に、蒸着膜が成膜される。
本形成方法の詳細は、国際公開WO2019/087960号パンフレットにおいて開示される。
As an apparatus used for the method for forming a vapor-deposited film, a continuous vapor-deposited film deposition apparatus including a plasma pretreatment chamber and a film-forming chamber can be used.
An embodiment of a method for forming a vapor-deposited film using the apparatus is described below.
First, in the plasma pretreatment chamber, plasma is irradiated from the plasma supply nozzle to the surface resin layer included in the intermediate layer. Next, a thin-film deposition film is formed on the plasma-treated surface resin layer in the film-forming chamber.
Details of this forming method will be disclosed in the international publication WO2019 / 0879960 pamphlet.
蒸着膜の表面は、上記表面処理が施されていることが好ましい。これにより、隣接する層との密着性を向上することができる。 The surface of the vapor-deposited film is preferably subjected to the above surface treatment. Thereby, the adhesion with the adjacent layer can be improved.
本発明のバリア性積層体において、蒸着膜は、CVD法により形成された蒸着膜が好ましく、CVD法により形成された炭素含有酸化珪素蒸着膜がより好ましい。これにより、バリア性積層体を屈曲させてもガスバリア性の低下を抑制できる。 In the barrier laminate of the present invention, the vapor-deposited film is preferably a vapor-deposited film formed by a CVD method, and more preferably a carbon-containing silicon oxide vapor-deposited film formed by a CVD method. As a result, even if the barrier laminate is bent, the decrease in gas barrier can be suppressed.
炭素含有酸化珪素蒸着膜は、珪素、酸素、および炭素を含む。炭素含有酸化珪素蒸着膜において、炭素の割合Cは、珪素、酸素、および炭素の3元素の合計100%に対して、3%以上50%以下であることが好ましく、5%以上40%以下であることがより好ましく、10%以上35%以下であることがさらに好ましい。
炭素含有酸化珪素蒸着膜において、炭素の割合Cを上記範囲とすることにより、バリア性積層体を屈曲させてもガスバリア性の低下を抑制できる。
なお、本明細書において、各元素の割合は、モル基準である。
The carbon-containing silicon oxide vapor deposition film contains silicon, oxygen, and carbon. In the carbon-containing silicon oxide vapor-deposited film, the ratio C of carbon is preferably 3% or more and 50% or less, preferably 5% or more and 40% or less, based on 100% of the total of the three elements of silicon, oxygen, and carbon. More preferably, it is more preferably 10% or more and 35% or less.
By setting the ratio C of carbon in the carbon-containing silicon oxide vapor-deposited film to the above range, it is possible to suppress a decrease in gas barrier property even if the barrier laminate is bent.
In addition, in this specification, the ratio of each element is based on a molar.
炭素含有酸化珪素蒸着膜の一実施形態において、珪素の割合Siは、珪素、酸素、および炭素の3元素の合計100%に対して、1%以上45%以下であることが好ましく、3%以上38%以下であることがより好ましく、8%以上33%以下であることがさらに好ましい。酸素の割合Oは、珪素、酸素、および炭素の3元素の合計100%に対して、10%以上70%以下であることが好ましく、20%以上65%以下であることがより好ましく、25%以上60%以下であることがさらに好ましい。
炭素含有酸化珪素蒸着膜において、珪素の割合Siおよび酸素の割合Oを上記範囲とすることにより、バリア性積層体を屈曲させてもガスバリア性の低下をより抑制できる。
In one embodiment of the carbon-containing silicon oxide vapor-deposited film, the ratio Si of silicon is preferably 1% or more and 45% or less, preferably 3% or more, based on 100% of the total of the three elements of silicon, oxygen, and carbon. It is more preferably 38% or less, and further preferably 8% or more and 33% or less. The ratio O of oxygen is preferably 10% or more and 70% or less, more preferably 20% or more and 65% or less, and 25% with respect to 100% of the total of the three elements of silicon, oxygen, and carbon. It is more preferably 60% or more.
By setting the ratio Si of silicon and the ratio O of oxygen in the carbon-containing silicon oxide vapor-deposited film within the above ranges, it is possible to further suppress a decrease in gas barrier property even if the barrier laminate is bent.
炭素含有酸化珪素蒸着膜の一実施形態において、酸素の割合Oは、炭素の割合Cよりも高いことが好ましく、珪素の割合Siは、炭素の割合Cよりも低いことが好ましい。酸素の割合Oは、珪素の割合Siよりも高いことが好ましい、即ち、各割合は、割合O、割合C、割合Siの順に低くなることが好ましい。これにより、バリア性積層体を屈曲させてもガスバリア性の低下をより抑制できる。 In one embodiment of the carbon-containing silicon oxide vapor deposition film, the oxygen ratio O is preferably higher than the carbon ratio C, and the silicon ratio Si is preferably lower than the carbon ratio C. The ratio O of oxygen is preferably higher than the ratio Si of silicon, that is, each ratio is preferably lower in the order of ratio O, ratio C, and ratio Si. As a result, even if the barrier laminate is bent, the decrease in gas barrier can be further suppressed.
炭素含有酸化珪素蒸着膜における割合C、割合Siおよび割合Oは、X線光電子分光法(XPS)により、以下の測定条件のナロースキャン分析によって測定できる。
(測定条件)
使用機器:「ESCA−3400」(Kratos製)
[1]スペクトル採取条件
入射X線:MgKα(単色化X線、hν=1253.6eV)
X線出力:150W(10kV・15mA)
X線走査面積(測定領域):約6mmφ
光電子取込角度:90度
[2]イオンスパッタ条件
イオン種:Ar+
加速電圧:0.2(kV)
エミッション電流:20(mA)
etch範囲:10mmφ
イオンスパッタ時間:30秒で実施し、スペクトルを採取
The proportion C, proportion Si and proportion O in the carbon-containing silicon oxide vapor-deposited film can be measured by narrow scan analysis under the following measurement conditions by X-ray photoelectron spectroscopy (XPS).
(Measurement condition)
Equipment used: "ESCA-3400" (manufactured by Kratos)
[1] Spectral sampling conditions Incident X-ray: MgKα (monochromatic X-ray, hν = 1253.6 eV)
X-ray output: 150W (10kV, 15mA)
X-ray scanning area (measurement area): Approximately 6 mmφ
Photoelectron uptake angle: 90 degrees [2] Ion sputtering conditions Ion species: Ar +
Acceleration voltage: 0.2 (kV)
Emission current: 20 (mA)
etching range: 10 mmφ
Ion sputtering time: Performed in 30 seconds and collected the spectrum
(中間層)
中間層は、表面樹脂層およびポリプロプレン樹脂層を少なくとも備える。また、中間層は、ポリプロプレン樹脂層と表面樹脂層との間に接着性樹脂層を備えることができる。
本発明において、中間層を構成する表面樹脂層およびポリプロプレン樹脂層(接着性樹脂層を備える場合は、表面樹脂層、ポリプロプレン樹脂層および接着性樹脂層)は、延伸処理が施されており、該延伸処理は一軸延伸であってもよく、二軸延伸であってもよい。
中間層の縦方向(MD方向)および横方向(TD方向)への延伸倍率は、2倍以上15倍以下であることが好ましく、5倍以上13倍以下であることが好ましい。
延伸倍率を2倍以上とすることにより、中間層の強度および耐熱性をより向上することができる。また、中間層への印刷適性を向上することができる。
また、中間層の破断限界という観点からは、延伸倍率は15倍以下であることが好ましい。
また、中間層が備えるポリプロプレン樹脂層にヒートシール性を持たせ、封筒貼りにより作製される包装容器(例えば、チューブなど)する場合には、延伸倍率は、2倍以上10倍以下であることが好ましく2.5倍以上7倍以下であることがより好ましい。
(Middle layer)
The intermediate layer includes at least a surface resin layer and a polypropylene resin layer. Further, the intermediate layer may be provided with an adhesive resin layer between the polypropylene resin layer and the surface resin layer.
In the present invention, the surface resin layer and the polypropylene resin layer (when the adhesive resin layer is provided, the surface resin layer, the polypropylene resin layer and the adhesive resin layer) constituting the intermediate layer are stretched. The stretching treatment may be uniaxial stretching or biaxial stretching.
The stretching ratio of the intermediate layer in the vertical direction (MD direction) and the horizontal direction (TD direction) is preferably 2 times or more and 15 times or less, and preferably 5 times or more and 13 times or less.
By setting the draw ratio to 2 times or more, the strength and heat resistance of the intermediate layer can be further improved. In addition, the printability on the intermediate layer can be improved.
Further, from the viewpoint of the breaking limit of the intermediate layer, the draw ratio is preferably 15 times or less.
Further, when the polypropylene resin layer provided in the intermediate layer has a heat-sealing property and is used as a packaging container (for example, a tube) manufactured by attaching an envelope, the draw ratio shall be 2 times or more and 10 times or less. Is more preferable, and more preferably 2.5 times or more and 7 times or less.
一実施形態において、中間層の縦方向(MD方向)における引張強度を、横方向(TD方向)における引張強度よりも大きくなるように、延伸処理を施すことが好ましい。
このような構成とすることにより、本発明のバリア性積層体により作製される包装容器に、一方向への高い引き裂き容易性を付与することができる。
中間層の縦方向(MD方向)における引張強度は、横方向(TD方向)における引張強度よりも1.05倍以上大きいことが好ましく、1.10倍以上大きいことがより好ましく、1.2倍以上大きいことがさらに好ましい。
縦方向(MD方向)における引張強度は、例えば、200MPa以上、300MPa以下とすることができる。
本明細書において、引張強度は、JIS K7127:1999に準拠して測定する。測定器としては、オリエンテック社製の引張試験機 STA−1150を用いることができる。
試験片としては、中間層を幅15mm、長さ150mmの矩形状のフィルムに切り出したものを用いることができる。試験片を保持する一対のチャックの間の、測定開始時の間隔は100mmであり、引張速度は300mm/分である。本願において、特に断らない限り、引張強度の測定時の環境は、温度23℃、相対湿度50%である。
In one embodiment, it is preferable to perform the stretching treatment so that the tensile strength of the intermediate layer in the vertical direction (MD direction) is larger than the tensile strength in the horizontal direction (TD direction).
With such a configuration, it is possible to impart high tearability in one direction to the packaging container produced by the barrier laminate of the present invention.
The tensile strength of the intermediate layer in the vertical direction (MD direction) is preferably 1.05 times or more, more preferably 1.10 times or more, and 1.2 times larger than the tensile strength in the horizontal direction (TD direction). It is more preferable that the size is larger than that.
The tensile strength in the vertical direction (MD direction) can be, for example, 200 MPa or more and 300 MPa or less.
In the present specification, the tensile strength is measured according to JIS K7127: 1999. As the measuring instrument, a tensile tester STA-1150 manufactured by Orientec Co., Ltd. can be used.
As the test piece, a piece obtained by cutting out an intermediate layer into a rectangular film having a width of 15 mm and a length of 150 mm can be used. The distance at the start of measurement between the pair of chucks holding the test piece is 100 mm, and the tensile speed is 300 mm / min. In the present application, unless otherwise specified, the environment at the time of measuring the tensile strength is a temperature of 23 ° C. and a relative humidity of 50%.
また、中間層が備える表面樹脂層は、表面処理が施されていてもよい。これにより、隣接する層との密着性を向上することができる。
表面処理の方法は特に限定されず、例えば、コロナ放電処理、オゾン処理、酸素ガスおよび/または窒素ガスなどを用いた低温プラズマ処理、グロー放電処理などの物理的処理、並びに化学薬品を用いた酸化処理などの化学的処理が挙げられる。
Further, the surface resin layer included in the intermediate layer may be surface-treated. Thereby, the adhesion with the adjacent layer can be improved.
The surface treatment method is not particularly limited, for example, corona discharge treatment, ozone treatment, low-temperature plasma treatment using oxygen gas and / or nitrogen gas, physical treatment such as glow discharge treatment, and oxidation using chemicals. Examples include chemical treatment such as treatment.
(表面樹脂層)
中間層は、ポリプロピレン樹脂層上に、180℃以上の融点を有する樹脂材料(以下、高融点樹脂材料ともいう)を含む表面保護層を備え、該表面樹脂層上には高い密着性を有する蒸着膜を形成することができ、ガスバリア性を向上することができる。
また、後述するように、該表面樹脂層を備えるバリア性積層体を使用して作製される包装容器は高いラミネート強度を有する。
(Surface resin layer)
The intermediate layer is provided with a surface protective layer containing a resin material having a melting point of 180 ° C. or higher (hereinafter, also referred to as a high melting point resin material) on a polypropylene resin layer, and thin-film deposition having high adhesion is provided on the surface resin layer. A film can be formed and the gas barrier property can be improved.
Further, as will be described later, the packaging container produced by using the barrier laminate provided with the surface resin layer has high lamination strength.
高融点樹脂材料の融点は、185℃以上であることがより好ましく、190℃以上であることがさらに、好ましく、205℃以上であることが特に好ましい。
高融点樹脂材料の融点を185℃以上とすることにより、蒸着膜の密着性をより向上することができ、ガスバリア性をより向上させることができる。また、包装容器のラミネート強度をより向上することができる。
中間層の製膜性という観点からは、高融点樹脂材料の融点は、265℃以下であることが好ましく、260℃以下であることがより好ましく、250℃以下であることがさらに好ましい。
なお、本明細書において、融点は、JIS K7121:2012(プラスチックの転移温度測定方法)に準拠して測定することができる。具体的には、示差走査熱量測定(DSC)装置を用いて、10℃/分の昇温速度でDSC曲線を測定し、融点を求めることができる。
The melting point of the high melting point resin material is more preferably 185 ° C. or higher, further preferably 190 ° C. or higher, and particularly preferably 205 ° C. or higher.
By setting the melting point of the high melting point resin material to 185 ° C. or higher, the adhesion of the vapor-deposited film can be further improved, and the gas barrier property can be further improved. In addition, the laminating strength of the packaging container can be further improved.
From the viewpoint of film forming property of the intermediate layer, the melting point of the high melting point resin material is preferably 260 ° C. or lower, more preferably 260 ° C. or lower, and further preferably 250 ° C. or lower.
In this specification, the melting point can be measured according to JIS K7121: 2012 (method for measuring the transition temperature of plastics). Specifically, a differential scanning calorimetry (DSC) device can be used to measure the DSC curve at a rate of temperature rise of 10 ° C./min to determine the melting point.
表面樹脂層に含まれる高融点樹脂材料の融点と、ポリプロピレン樹脂層に含まれるポリプロピレンの融点の差は、20〜80℃であることが好ましく、20〜60℃であることがより好ましい。
表面樹脂層に含まれる高融点樹脂材料の融点と、ポリプロピレン樹脂層に含まれるポリプロピレンの融点の差が、20℃以上であることにより、蒸着膜の密着性をより向上することができ、ガスバリア性をより向上させることができる。また、包装容器のラミネート強度をより向上することができる。
また、中間層に含まれる高融点樹脂材料の融点と、ポリプロピレン樹脂層に含まれるポリプロピレンの融点の差が、80℃以下であることにより、中間層の製膜性をより向上することができる。
The difference between the melting point of the high melting point resin material contained in the surface resin layer and the melting point of polypropylene contained in the polypropylene resin layer is preferably 20 to 80 ° C, more preferably 20 to 60 ° C.
When the difference between the melting point of the high melting point resin material contained in the surface resin layer and the melting point of polypropylene contained in the polypropylene resin layer is 20 ° C. or higher, the adhesion of the vapor-deposited film can be further improved and the gas barrier property can be improved. Can be further improved. In addition, the laminating strength of the packaging container can be further improved.
Further, when the difference between the melting point of the high melting point resin material contained in the intermediate layer and the melting point of polypropylene contained in the polypropylene resin layer is 80 ° C. or less, the film forming property of the intermediate layer can be further improved.
高融点樹脂材料は、極性基を有することが好ましい。
本発明において、極性基とは、ヘテロ原子を1個以上含む基を指し、例えば、エステル基、エポキシ基、水酸基、アミノ基、アミド基、カルボキシル基、カルボニル基、カルボン酸無水物基、スルフォン基、チオール基およびハロゲン基などが挙げられる。
これらの中でも、包装容器のガスバリア性およびラミネート強度の観点からは、水酸基、エステル基、アミノ基、アミド基、カルボキシル基およびカルボニル基が好ましく、アミド基がより好ましい。
The refractory resin material preferably has a polar group.
In the present invention, the polar group refers to a group containing one or more heteroatoms, for example, an ester group, an epoxy group, a hydroxyl group, an amino group, an amide group, a carboxyl group, a carbonyl group, a carboxylic acid anhydride group, and a sulfone group. , Thiol group and halogen group and the like.
Among these, from the viewpoint of gas barrier properties and laminate strength of the packaging container, a hydroxyl group, an ester group, an amino group, an amide group, a carboxyl group and a carbonyl group are preferable, and an amide group is more preferable.
高融点樹脂材料は、融点が180℃以上であれば特に限定されることなく使用することができ、例えば、ビニル樹脂、ポリアミド、ポリイミド、ポリエステル、(メタ)アクリル樹脂、セルロース樹脂、ポリオレフィン樹脂およびアイオノマー樹脂などが挙げられる。 The high melting point resin material can be used without particular limitation as long as the melting point is 180 ° C. or higher. For example, vinyl resin, polyamide, polyimide, polyester, (meth) acrylic resin, cellulose resin, polyolefin resin and ionomer. Examples include resin.
本発明においては、融点が180℃以上であり、極性基を有する樹脂材料が特に好ましく、エチレンビニルアルコール共重合体、ポリビニルアルコール、ポリエステル、ナイロン6、ナイロン6,6、MXDナイロン、アモルファスナイロンなどのポリアミドが好ましく、ナイロン6が特に好ましい。
このような樹脂材料を使用することにより、表面樹脂層上に形成される蒸着膜の密着性を顕著に改善することができ、そのガスバリア性を効果的に向上することができる。
In the present invention, a resin material having a melting point of 180 ° C. or higher and having a polar group is particularly preferable, such as ethylene vinyl alcohol copolymer, polyvinyl alcohol, polyester, nylon 6, nylon 6,6, MXD nylon, and amorphous nylon. Polyamide is preferable, and nylon 6 is particularly preferable.
By using such a resin material, the adhesion of the thin-film deposition film formed on the surface resin layer can be remarkably improved, and the gas barrier property thereof can be effectively improved.
一実施形態において、高融点樹脂材料は、エチレンビニルアルコール共重合体がより好ましい。高融点樹脂材料としてエチレンビニルアルコール共重合体を使用することにより、バリア性積層体を屈曲させてもガスバリア性の低下を抑制することができる。 In one embodiment, the refractory resin material is more preferably an ethylene vinyl alcohol copolymer. By using an ethylene vinyl alcohol copolymer as the refractory resin material, it is possible to suppress a decrease in gas barrier property even if the barrier laminate is bent.
一実施形態において、高融点樹脂材料は、ポリアミドが好ましい。高融点樹脂材料としてポリアミドを使用することにより、バリア性積層体を屈曲させてもガスバリア性の低下を抑制することができ、バリア性積層体を用いて包装製品を作製する際に、ヒートシール等の加熱を行ってもガスバリア性の低下を抑制することができる。高融点樹脂材料は、ナイロン6がより好ましい。 In one embodiment, the refractory resin material is preferably polyamide. By using polyamide as the refractory resin material, it is possible to suppress a decrease in gas barrier property even if the barrier laminate is bent, and when a packaged product is produced using the barrier laminate, heat sealing or the like can be achieved. It is possible to suppress the deterioration of the gas barrier property even if the heating is performed. Nylon 6 is more preferable as the refractory resin material.
表面樹脂層における高融点樹脂材料の含有量は、70質量%以上であることが好ましく、80質量%以上であることがより好ましく、90質量%以上であることがさらに好ましい。 The content of the refractory resin material in the surface resin layer is preferably 70% by mass or more, more preferably 80% by mass or more, and further preferably 90% by mass or more.
本発明の特性を損なわない範囲において、表面樹脂層は、高融点樹脂材料以外の樹脂材料を含んでいてもよい。
また、本発明の特性を損なわない範囲において、表面樹脂層は、添加剤を含むことができ、例えば、架橋剤、酸化防止剤、アンチブロッキング剤、滑(スリップ)剤、紫外線吸収剤、光安定剤、充填剤、補強剤、帯電防止剤、顔料および改質用樹脂などが挙げられる。
The surface resin layer may contain a resin material other than the refractory resin material as long as the characteristics of the present invention are not impaired.
Further, the surface resin layer may contain an additive as long as the characteristics of the present invention are not impaired, and for example, a cross-linking agent, an antioxidant, an anti-blocking agent, a slip agent, an ultraviolet absorber, and a light stabilizer. Examples include agents, fillers, reinforcing agents, antistatic agents, pigments and modifying resins.
中間層の総厚さに対する、表面樹脂層の厚さの割合は、1%以上10%以下であることが好ましく、1%以上5%以下であることがより好ましい。
中間層の総厚さに対する、表面樹脂層の厚さの割合を、1%以上とすることにより、蒸着膜の密着性をより向上することができ、ガスバリア性をより向上させることができる。また、包装容器のラミネート強度をより向上することができる。
また、中間層の総厚さに対する、表面樹脂層の厚さの割合を、10%以下とすることにより、中間層の製膜性および加工適性をより向上することができる。また、ポリプロプレンから構成される基材およびシーラント層を備える積層体を用いて作製される包装容器のリサイクル適性を向上することができる。
The ratio of the thickness of the surface resin layer to the total thickness of the intermediate layer is preferably 1% or more and 10% or less, and more preferably 1% or more and 5% or less.
By setting the ratio of the thickness of the surface resin layer to the total thickness of the intermediate layer to 1% or more, the adhesion of the thin-film deposition film can be further improved, and the gas barrier property can be further improved. In addition, the laminating strength of the packaging container can be further improved.
Further, by setting the ratio of the thickness of the surface resin layer to the total thickness of the intermediate layer to 10% or less, the film-forming property and processability of the intermediate layer can be further improved. Further, it is possible to improve the recyclability of the packaging container produced by using the laminate provided with the base material composed of polypropylene and the sealant layer.
表面樹脂層の厚さは、0.1μm以上5μm以下であることが好ましく、0.1μm以上4μm以下であることがより好ましい。
表面樹脂層の厚さを0.1μm以上とすることにより、蒸着膜の密着性をより向上することができ、ガスバリア性をより向上させることができる。また、包装容器のラミネート強度をより向上することができる。
また、表面樹脂層の厚さを5μm以下とすることにより、中間層材の製膜性および加工適性をより向上することができる。また、ポリプロプレンから構成される基材およびシーラント層を備える積層体を用いて作製される包装容器のリサイクル適性を向上することができる。
The thickness of the surface resin layer is preferably 0.1 μm or more and 5 μm or less, and more preferably 0.1 μm or more and 4 μm or less.
By setting the thickness of the surface resin layer to 0.1 μm or more, the adhesion of the thin-film deposition film can be further improved, and the gas barrier property can be further improved. In addition, the laminating strength of the packaging container can be further improved.
Further, by setting the thickness of the surface resin layer to 5 μm or less, the film-forming property and processability of the intermediate layer material can be further improved. In addition, it is possible to improve the recyclability of the packaging container produced by using the laminate provided with the base material composed of polypropylene and the sealant layer.
(ポリプロピレン樹脂層)
ポリプロピレン樹脂層は、ポリプロピレンにより構成され、単層構造を有するものであっても、多層構造を有するものであってもよい。
中間層が、ポリプロプレンにより構成される層を備えることにより、該中間層を備えるバリア性積層体を使用して作製される包装容器の耐油性を向上することが可能となる。
(Polypropylene resin layer)
The polypropylene resin layer is made of polypropylene and may have a single-layer structure or a multi-layer structure.
By providing the intermediate layer with a layer made of polypropylene, it is possible to improve the oil resistance of the packaging container produced by using the barrier laminate provided with the intermediate layer.
ポリプロピレン樹脂層に含まれるポリプロピレンは、ホモポリマー、ランダムコポリマーおよびブロックコポリマーのいずれであってもよい。
ポリプロピレンホモポリマーとは、プロピレンのみの重合体であり、ポリプロピレンランダムコポリマーとは、プロピレンとプロピレン以外の他のα−オレフィン(例えばエチレン、ブテン−1、4−メチル−1−ペンテンなど)などとのランダム共重合体であり、ポリプロピレンブロックコポリマーとは、プロピレンからなる重合体ブロックと、上記したプロピレン以外の他のα−オレフィンからなる重合体ブロックを有する共重合体である。
これらポリプロプロピレンの中でも、透明性の観点からは、ホモポリマーまたはランダムコポリマーを使用することが好ましい。包装袋の剛性や耐熱性を重視する場合には、ホモポリマーを使用し、耐衝撃性などを重視する場合にはランダムコポリマーを使用することが好ましい。
また、バイオマス由来のポリプロピレンや、メカニカルリサイクルまたはケミカルリサイクルされたポリプロピレンを使用することもできる。
The polypropylene contained in the polypropylene resin layer may be a homopolymer, a random copolymer or a block copolymer.
The polypropylene homopolymer is a polymer containing only propylene, and the polypropylene random copolymer is a polymer of propylene and other α-olefins other than propylene (for example, ethylene, butene-1, 4-methyl-1-pentene, etc.). It is a random copolymer, and the polypropylene block copolymer is a polymer having a polymer block made of propylene and a polymer block made of α-olefin other than the above-mentioned propylene.
Among these polypropylenes, it is preferable to use a homopolymer or a random copolymer from the viewpoint of transparency. It is preferable to use a homopolymer when the rigidity and heat resistance of the packaging bag are important, and to use a random copolymer when the impact resistance and the like are important.
Biomass-derived polypropylene and mechanically or chemically recycled polypropylene can also be used.
ポリプロピレン樹脂層におけるポリプロピレンの含有量は、70質量%以上であることが好ましく、80質量%以上であることがより好ましく、90質量%以上であることがさらに好ましい。 The polypropylene content in the polypropylene resin layer is preferably 70% by mass or more, more preferably 80% by mass or more, and further preferably 90% by mass or more.
本発明の特性を損なわない範囲において、ポリプロピレン樹脂層は、ポリプロピレン以外の樹脂材料を含んでいてもよく、例えば、ポリエチレンなどのポリオレフィン、(メタ)アクリル樹脂、ビニル樹脂、セルロース樹脂、ポリアミド樹脂、ポリエステルおよびアイオノマー樹脂などが挙げられる。
また、本発明の特性を損なわない範囲において、ポリプロピレン樹脂層は、添加剤を含むことができ、例えば、架橋剤、酸化防止剤、アンチブロッキング剤、滑(スリップ)剤、紫外線吸収剤、光安定剤、充填剤、補強剤、帯電防止剤、顔料および改質用樹脂などが挙げられる。
As long as the characteristics of the present invention are not impaired, the polypropylene resin layer may contain a resin material other than polypropylene, for example, polyolefin such as polyethylene, (meth) acrylic resin, vinyl resin, cellulose resin, polyamide resin, polyester. And ionomer resin and the like.
Further, the polypropylene resin layer can contain an additive as long as the characteristics of the present invention are not impaired, and for example, a cross-linking agent, an antioxidant, an anti-blocking agent, a slip agent, an ultraviolet absorber, and a light stabilizer. Examples include agents, fillers, reinforcing agents, antistatic agents, pigments and modifying resins.
ポリプロピレン樹脂層の厚さは、10μm以上50μm以下であることが好ましく、10μm以上40μm以下であることがより好ましい。
ポリプロピレン樹脂層の厚さを10μm以上とすることにより、中間層の強度および耐熱性をより向上することができる。
また、ポリプロピレン樹脂層の厚さを50μm以下とすることにより、中間層の製膜性および加工適性をより向上することができる。
The thickness of the polypropylene resin layer is preferably 10 μm or more and 50 μm or less, and more preferably 10 μm or more and 40 μm or less.
By setting the thickness of the polypropylene resin layer to 10 μm or more, the strength and heat resistance of the intermediate layer can be further improved.
Further, by setting the thickness of the polypropylene resin layer to 50 μm or less, the film-forming property and processability of the intermediate layer can be further improved.
(接着性樹脂層)
一実施形態において、中間層は、ポリプロピレン樹脂層と、表面樹脂層との間に、接着性樹脂層を備えることができ、これにより、これら層間の密着性を向上することができる。
(Adhesive resin layer)
In one embodiment, the intermediate layer can be provided with an adhesive resin layer between the polypropylene resin layer and the surface resin layer, whereby the adhesion between these layers can be improved.
接着性樹脂層は、ポリエーテル、ポリエステル、シリコーン樹脂、エポキシ樹脂、ポリウレタン、ビニル樹脂、フェノール樹脂、ポリオレフィン、およびポリオレフィンの酸変性物などの接着性樹脂を使用することにより形成することができる。
上記した中でも、また、ポリプロプレンから構成される、基材およびシーラント層を備える積層体を用いて作製される包装容器のリサイクル適性という観点からは、ポリオレフィンおよびこの酸変性物が好ましく、ポリプロピレンおよびこの酸変性物が特に好ましい。
接着性ポリプロピレンとしては、市販されるものを使用することができ、例えば、三井化学(株)製、アドマーシリーズを使用することができる。
The adhesive resin layer can be formed by using an adhesive resin such as a polyether, a polyester, a silicone resin, an epoxy resin, a polyurethane, a vinyl resin, a phenol resin, a polyolefin, and an acid-modified product of a polyolefin.
Among the above, polyolefin and its acid-modified product are preferable from the viewpoint of recycling suitability of a packaging container made of a laminate having a base material and a sealant layer composed of polyproprene, and polypropylene and this acid-modified product are preferable. Acid-modified products are particularly preferable.
As the adhesive polypropylene, commercially available polypropylene can be used, and for example, Admer series manufactured by Mitsui Chemicals, Inc. can be used.
接着性樹脂層の厚さは特に限定されるものではないが、例えば、1μm以上15μm以下とすることができる。接着性樹脂層の厚さを1μm以上とすることにより、ポリプロピレン樹脂層と、表面樹脂層との密着性をより向上することができる。接着層の厚さを15μm以下とすることにより、中間層の加工適性を向上することができる。 The thickness of the adhesive resin layer is not particularly limited, but can be, for example, 1 μm or more and 15 μm or less. By setting the thickness of the adhesive resin layer to 1 μm or more, the adhesion between the polypropylene resin layer and the surface resin layer can be further improved. By setting the thickness of the adhesive layer to 15 μm or less, the processability of the intermediate layer can be improved.
一実施形態において、中間層は、共押フィルムであり、Tダイ法またはインフレーション法などを利用して製膜し、積層フィルムとした後、延伸することにより作製することができる。
インフレーション法により製膜することにより、積層フィルムの延伸を同時に行うことができる。
In one embodiment, the intermediate layer is a co-pressed film, which can be produced by forming a film by using a T-die method, an inflation method, or the like, forming a laminated film, and then stretching the film.
By forming a film by the inflation method, the laminated film can be stretched at the same time.
(シーラント層)
一実施形態において、シーラント層は、熱によって相互に融着し得る樹脂材料を含む。
熱によって相互に融着し得る樹脂材料としては、例えば、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリブテン、メチルペンテンポリマーおよび環状オレフィンコポリマーなどのポリオレフィンが挙げられる。具体的には、低密度ポリエチレン(LDPE)、中密度ポリエチレン(MDPE)、高密度ポリエチレン(HDPE)、直鎖状(線状)低密度ポリエチレン(LLDPE)、メタロセン触媒を利用して重合したエチレン・α−オレフィン共重合体、エチレンおよびプロピレンのランダムもしくはブロック共重合体等のエチレン−プロピレン共重合体が挙げられる。
また、熱によって相互に融着し得る樹脂材料としては、例えば、エチレン−酢酸ビニル共重合体(EVA)、エチレン−アクリル酸共重合体(EAA)、エチレン・アクリル酸エチル共重合体(EEA)、エチレン−メタクリル酸共重合体(EMAA)、エチレン−メタクリル酸メチル共重合体(EMMA)、アイオノマー樹脂、ヒートシール性エチレン−ビニルアルコール樹脂、ポリオレフィンをアクリル酸、メタクリル酸、マレイン酸、無水マレイン酸、フマル酸、イタコン酸などの不飽和カルボン酸で変性した酸変性ポリオレフィン、ポリエチレンテレフタレート(PET)などのポリエステル、ポリ酢酸ビニル系樹脂、ポリ(メタ)アクリル系樹脂、ポリ塩化ビニル系樹脂なども挙げられる。
上記した樹脂材料の中でも、本発明のバリア性積層体を用いて作製した包装容器のリサイクル適性という観点からは、シーラント層は、ポリプロピレンから構成されることが好ましい。
また、シーラント層をポリプロプレンにより構成することにより、バリア性積層体を用いて作製される包装容器の耐油性を向上することができる。
(Sealant layer)
In one embodiment, the sealant layer comprises a resin material that can be fused to each other by heat.
Resin materials that can be fused to each other by heat include, for example, polyolefins such as polyethylene, polypropylene, polybutene, methylpentene polymer and cyclic olefin copolymer. Specifically, low-density polyethylene (LDPE), medium-density polyethylene (MDPE), high-density polyethylene (HDPE), linear (linear) low-density polyethylene (LLDPE), and ethylene copolymerized using a metallocene catalyst. Examples thereof include α-olefin copolymers and polyethylene-propylene copolymers such as random or block copolymers of ethylene and propylene.
Examples of resin materials that can be fused to each other by heat include ethylene-vinyl acetate copolymer (EVA), ethylene-acrylic acid copolymer (EAA), and ethylene-ethyl acrylate copolymer (EEA). , Ethylene-Methylacrylate Copolymer (EMAA), Ethylene-Methyl Methacrylate Copolymer (EMMA), Ionomer Resin, Heat Sealable Ethylene-Vinyl Alcohol Resin, Polyethylene as Acrylic Acid, Methacrylate, Maleic Acid, Maleic anhydride , Acid-modified polyolefin modified with unsaturated carboxylic acids such as fumaric acid and itaconic acid, polyesters such as polyethylene terephthalate (PET), polyvinyl acetate resins, poly (meth) acrylic resins, polyvinyl chloride resins, etc. Be done.
Among the above-mentioned resin materials, the sealant layer is preferably made of polypropylene from the viewpoint of recycling suitability of the packaging container produced by using the barrier laminate of the present invention.
Further, by forming the sealant layer with polypropylene, the oil resistance of the packaging container produced by using the barrier laminate can be improved.
シーラント層は、ヒートシール改質剤を含むことができる。これにより、そのヒートシール性を向上することができる。ヒートシール改質剤としては、ヒートシール層を構成する樹脂材料、例えば、ポリプロプレンと相溶性に優れるものであれば特に限定されるものではないが、例えば、オレフィンコポリマーなどが挙げられる。
また、本発明の特性を損なわない範囲において、シーラント層は、上記添加材を含むことができる。
The sealant layer can contain a heat seal modifier. Thereby, the heat sealability can be improved. The heat seal modifier is not particularly limited as long as it has excellent compatibility with a resin material constituting the heat seal layer, for example, polypropylene, and examples thereof include an olefin copolymer.
In addition, the sealant layer may contain the above-mentioned additive as long as the characteristics of the present invention are not impaired.
シーラント層は、単層構造を有するものであってもよく、多層構造を有するものであってもよい。
また、シーラント層は、延伸処理が施されたものであっても、延伸処理が施されていないものであってもよい。
The sealant layer may have a single-layer structure or may have a multi-layer structure.
Further, the sealant layer may be one that has been stretched or one that has not been stretched.
シーラント層の厚さは、15μm以上100μm以下であることが好ましく、20μm以上70μm以下であることがより好ましい。
シーラント層の厚さを15μm以上とすることにより、本発明のバリア性積層体を備える包装容器のラミネート強度をより向上することができる。
また、シーラント層の厚さを100μm以下とすることにより、本発明のバリア性積層体の加工適性をより向上することができる。
The thickness of the sealant layer is preferably 15 μm or more and 100 μm or less, and more preferably 20 μm or more and 70 μm or less.
By setting the thickness of the sealant layer to 15 μm or more, the laminate strength of the packaging container provided with the barrier laminate of the present invention can be further improved.
Further, by setting the thickness of the sealant layer to 100 μm or less, the processability of the barrier laminate of the present invention can be further improved.
一実施形態において、シーラント層は、上記樹脂材料から構成されるフィルムからなり、これを中間層と、上記接着層を介して積層することにより、形成することができる。
また、他の実施形態において、シーラント層は、上記樹脂材料を含むヒートシール剤を中間層上に、塗布、乾燥することにより、形成することができる。
In one embodiment, the sealant layer is made of a film made of the above resin material, and can be formed by laminating this with an intermediate layer via the above adhesive layer.
Further, in another embodiment, the sealant layer can be formed by applying and drying a heat sealant containing the above resin material on the intermediate layer.
(バリアコート層)
本発明のバリア性積層体は、接着層と蒸着膜ととの間にバリアコート層をさらに備えることができる。これにより、バリア性積層体の酸素バリア性および水蒸気バリア性を向上することができる。
(Barrier coat layer)
The barrier laminate of the present invention can further include a barrier coat layer between the adhesive layer and the vapor-deposited film. Thereby, the oxygen barrier property and the water vapor barrier property of the barrier laminated body can be improved.
一実施形態において、バリアコート層は、エチレン−ビニルアルコール共重合体(EVOH)、ポリビニルアルコール(PVA)、ポリアクリロニトリル、ナイロン6、ナイロン6,6およびポリメタキシリレンアジパミド(MXD6)などのポリアミド、ポリエステル、ポリウレタン、並びに(メタ)アクリル樹脂などのガスバリア性樹脂を含む。これらの中でも、酸素バリア性および水蒸気バリア性という観点から、ポリビニルアルコールが好ましい。
また、バリアコート層にポリビニルアルコールを含有させることにより、蒸着膜におけるクラックの発生を効果的に防止することができる。
In one embodiment, the barrier coat layer is a polyamide such as ethylene-vinyl alcohol copolymer (EVOH), polyvinyl alcohol (PVA), polyacrylonitrile, nylon 6, nylon 6,6 and polymethoxylylen adipamide (MXD6). , Polyester, polyurethane, and gas barrier resins such as (meth) acrylic resins. Among these, polyvinyl alcohol is preferable from the viewpoint of oxygen barrier property and water vapor barrier property.
Further, by incorporating polyvinyl alcohol in the barrier coat layer, it is possible to effectively prevent the occurrence of cracks in the vapor-deposited film.
バリアコート層におけるガスバリア性樹脂の含有量は、50質量%以上95質量%以下であることが好ましく、75質量%以上90質量%以下であることがより好ましい。バリアコート層におけるガスバリア性樹脂の含有量を50質量%以上とすることにより、酸素バリア性および水蒸気バリア性をより向上することができる。 The content of the gas barrier resin in the barrier coat layer is preferably 50% by mass or more and 95% by mass or less, and more preferably 75% by mass or more and 90% by mass or less. By setting the content of the gas barrier resin in the barrier coat layer to 50% by mass or more, the oxygen barrier property and the water vapor barrier property can be further improved.
バリアコート層は、本発明の特性を損なわない範囲において、上記添加剤を含むことができる。 The barrier coat layer can contain the above additives as long as the characteristics of the present invention are not impaired.
バリアコート層の厚さは、0.01μm以上10μm以下であることが好ましく、0.1μm以上5μm以下であることがより好ましい。
バリアコート層の厚さを0.01μm以上とすることにより、バリア性積層体の酸素バリア性および水蒸気バリア性をより向上することができる。バリアコート層の厚さを10μm以下とすることにより、バリア性積層体の加工適性を向上することができる。また、ポリプロプレンから構成される基材およびシーラント層を備える積層体を用いて作製される包装容器のリサイクル適性を向上することができる。
The thickness of the barrier coat layer is preferably 0.01 μm or more and 10 μm or less, and more preferably 0.1 μm or more and 5 μm or less.
By setting the thickness of the barrier coat layer to 0.01 μm or more, the oxygen barrier property and the water vapor barrier property of the barrier laminate can be further improved. By setting the thickness of the barrier coat layer to 10 μm or less, the processability of the barrier laminate can be improved. In addition, it is possible to improve the recyclability of the packaging container produced by using the laminate provided with the base material composed of polypropylene and the sealant layer.
バリアコート層は、上記ガスバリア性樹脂を水または適当な溶剤に、溶解または分散させ、塗布、乾燥することにより形成することができる。また、市販されるバリアコート剤を塗布、乾燥することによってもバリアコート層を形成することができる。 The barrier coat layer can be formed by dissolving or dispersing the gas barrier resin in water or a suitable solvent, applying the resin, and drying the resin. The barrier coat layer can also be formed by applying a commercially available barrier coat agent and drying it.
また、他の実施形態において、バリアコート層は、金属アルコキシドと水溶性高分子との混合物を、ゾルゲル法触媒、水および有機溶剤などの存在下で、ゾルゲル法によって重縮合して得られる金属アルコキシドの加水分解物または金属アルコキシドの加水分解縮合物などの樹脂組成物を少なくとも1種含むガスバリア性塗布膜である。
このようなバリアコート層を蒸着膜上に設けることにより、蒸着膜におけるクラックの発生を効果的に防止することができる。
Further, in another embodiment, the barrier coat layer is obtained by polycondensing a mixture of a metal alkoxide and a water-soluble polymer by a sol-gel method in the presence of a sol-gel method catalyst, water, an organic solvent, or the like. It is a gas barrier coating film containing at least one resin composition such as a hydrolyzate of the above or a hydrolyzed condensate of a metal alkoxide.
By providing such a barrier coat layer on the thin-film deposition film, it is possible to effectively prevent the occurrence of cracks in the thin-film deposition film.
一実施形態において、金属アルコキシドは、下記一般式で表される。
R1 nM(OR2)m
(ただし、式中、R1、R2は、それぞれ、炭素数1〜8の有機基を表し、Mは金属原子を表し、nは0以上の整数を表し、mは1以上の整数を表し、n+mはMの原子価を表す。)
In one embodiment, the metal alkoxide is represented by the following general formula.
R 1 n M (OR 2 ) m
(However, in the formula, R 1 and R 2 each represent an organic group having 1 to 8 carbon atoms, M represents a metal atom, n represents an integer of 0 or more, and m represents an integer of 1 or more. , N + m represents the valence of M.)
金属原子Mとしては、例えば、珪素、ジルコニウム、チタンおよびアルミニウムなどを使用することができる。
また、R1およびR2で表される有機基としては、例えば、メチル基、エチル基、n−プロピル基、i−プロピル基、n−ブチル基およびi−ブチル基などのアルキル基を挙げることができる。
As the metal atom M, for example, silicon, zirconium, titanium, aluminum and the like can be used.
Examples of the organic group represented by R 1 and R 2 include alkyl groups such as methyl group, ethyl group, n-propyl group, i-propyl group, n-butyl group and i-butyl group. Can be done.
上記一般式を満たす金属アルコキシドとしては、例えば、テトラメトキシシラン(Si(OCH3)4)、テトラエトキシシラン(Si(OC2H5)4)、テトラプロポキシシラン(Si(OC3H7)4)、テトラブトキシシラン(Si(OC4H9)4)などが挙げられる。 The metal alkoxide satisfying the above general formula, for example, tetramethoxysilane (Si (OCH 3) 4) , tetraethoxysilane (Si (OC 2 H 5) 4), tetra propoxy silane (Si (OC 3 H 7) 4 ), Tetrabutoxysilane (Si (OC 4 H 9 ) 4 ) and the like.
また、上記金属アルコキシドと共に、シランカップリング剤が使用されることが好ましい。
シランカップリング剤としては、既知の有機反応性基含有オルガノアルコキシシランを用いることができるが、特に、エポキシ基を有するオルガノアルコキシシランが好ましい。エポキシ基を有するオルガノアルコキシシランとしては、例えば、γ−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、γ−グリシドキシプロピルメチルジエトキシシランおよびβ−(3,4−エポキシシクロヘキシル)エチルトリメトキシシランなどが挙げられる。
Further, it is preferable to use a silane coupling agent together with the above metal alkoxide.
As the silane coupling agent, known organic reactive group-containing organoalkoxysilanes can be used, but organoalkoxysilanes having an epoxy group are particularly preferable. Examples of the organoalkoxysilane having an epoxy group include γ-glycidoxypropyltrimethoxysilane, γ-glycidoxypropylmethyldiethoxysilane, and β- (3,4-epoxycyclohexyl) ethyltrimethoxysilane. Be done.
上記のようなシランカップリング剤は、2種以上を使用してもよく、シランカップリング剤は、上記金属アルコキシドの合計量100質量部に対して、1〜20質量部程度の範囲内で使用することが好ましい。 Two or more kinds of the above-mentioned silane coupling agent may be used, and the silane coupling agent is used within the range of about 1 to 20 parts by mass with respect to 100 parts by mass of the total amount of the above metal alkoxide. It is preferable to do so.
水溶性高分子としては、ポリビニルアルコールおよびエチレン−ビニルアルコール共重合体が好ましく、酸素バリア性、水蒸気バリア性、耐水性および耐候性という観点からは、これらを併用することが好ましい。 As the water-soluble polymer, polyvinyl alcohol and ethylene-vinyl alcohol copolymer are preferable, and from the viewpoint of oxygen barrier property, water vapor barrier property, water resistance and weather resistance, it is preferable to use these in combination.
ガスバリア性塗布膜における水溶性高分子の含有量は、金属アルコキシド100質量部に対して5質量部以上500質量部以下であることが好ましい。
ガスバリア性塗布膜における水溶性高分子の含有量を、金属アルコキシド100質量部に対して5質量部以上とすることにより、バリア性積層体の酸素バリア性および水蒸気バリア性をより向上することができる。また、ガスバリア性塗布膜における水溶性高分子の含有量を、金属アルコキシド100質量部に対して500質量部以下とすることにより、ガスバリア性塗布膜の製膜性を向上することができる。
The content of the water-soluble polymer in the gas barrier coating film is preferably 5 parts by mass or more and 500 parts by mass or less with respect to 100 parts by mass of the metal alkoxide.
By setting the content of the water-soluble polymer in the gas barrier coating film to 5 parts by mass or more with respect to 100 parts by mass of the metal alkoxide, the oxygen barrier property and the water vapor barrier property of the barrier laminate can be further improved. .. Further, by setting the content of the water-soluble polymer in the gas barrier coating film to 500 parts by mass or less with respect to 100 parts by mass of the metal alkoxide, the film forming property of the gas barrier coating film can be improved.
ガスバリア性塗布膜において、水溶性高分子に対する金属アルコキシドの比(金属アルコキシド/水溶性高分子)は、質量基準において、4.5以下であることが好ましく、1.0以上4.5以下であることがより好ましく、1.7以上3.5以下であることがさらに好ましい。
水溶性高分子に対する金属アルコキシドの比を4.5以下とすることにより、バリア性積層体を屈曲させてもガスバリア性の低下を抑制できる。
水溶性高分子に対する金属アルコキシドの比を1.0以上とすることにより、バリア性積層体を用いて包装製品を作製する際に、ヒートシール等の加熱を行ってもガスバリア性の低下を抑制できる。
なお、上記比は、固形分比である。
In the gas barrier coating film, the ratio of the metal alkoxide to the water-soluble polymer (metal alkoxide / water-soluble polymer) is preferably 4.5 or less, preferably 1.0 or more and 4.5 or less, based on the mass. More preferably, it is more preferably 1.7 or more and 3.5 or less.
By setting the ratio of the metal alkoxide to the water-soluble polymer to 4.5 or less, it is possible to suppress a decrease in gas barrier property even if the barrier laminate is bent.
By setting the ratio of the metal alkoxide to the water-soluble polymer to 1.0 or more, it is possible to suppress a decrease in gas barrier property even if heating such as heat sealing is performed when a packaged product is produced using the barrier laminate. ..
The above ratio is a solid content ratio.
ガスバリア性塗布膜の表面は、X線光電子分光法(XPS)により測定される珪素原子と炭素原子の比(Si/C)が、1.60以下であることが好ましく、0.50以上1.60以下であることがより好ましく、0.90以上1.35以下であることがさらに好ましい。
珪素原子と炭素原子の比を1.60以下とすることにより、バリア性積層体を屈曲させてもガスバリア性の低下を抑制できる。
珪素原子と炭素原子の比を0.50以上とすることにより、バリア性積層体を用いて包装製品を作製する際に、ヒートシール等の加熱を行ってもガスバリア性の低下を抑制できる。
珪素原子と炭素原子の比の上記範囲は、水溶性高分子に対する金属アルコキシドの比を適宜調整することにより達成できる。
なお、本明細書において、珪素原子と炭素原子の比は、モル基準である。
On the surface of the gas barrier coating film, the ratio of silicon atoms to carbon atoms (Si / C) measured by X-ray photoelectron spectroscopy (XPS) is preferably 1.60 or less, and 0.50 or more. It is more preferably 60 or less, and further preferably 0.90 or more and 1.35 or less.
By setting the ratio of silicon atoms to carbon atoms to 1.60 or less, it is possible to suppress a decrease in gas barrier properties even if the barrier laminate is bent.
By setting the ratio of silicon atoms to carbon atoms to 0.50 or more, it is possible to suppress a decrease in gas barrier properties even when heating such as heat sealing is performed when a packaged product is produced using a barrier laminate.
The above range of the ratio of the silicon atom to the carbon atom can be achieved by appropriately adjusting the ratio of the metal alkoxide to the water-soluble polymer.
In this specification, the ratio of silicon atom to carbon atom is on a molar basis.
X線光電子分光法(XPS)による珪素原子と炭素原子の比は、以下の測定条件のナロースキャン分析によって測定できる。
(測定条件)
使用機器:「ESCA−3400」(Kratos製)
[1]スペクトル採取条件
入射X線:MgKα(単色化X線、hν=1253.6eV)
X線出力:150W(10kV・15mA)
X線走査面積(測定領域):約6mmφ
光電子取込角度:90度
[2]イオンスパッタ条件
イオン種:Ar+
加速電圧:0.2(kV)
エミッション電流:20(mA)
etch範囲:10mmφ
イオンスパッタ時間: 30秒+30秒+60秒(トータル120秒)で実施し、スペクトルを採取
The ratio of silicon atoms to carbon atoms by X-ray photoelectron spectroscopy (XPS) can be measured by narrow scan analysis under the following measurement conditions.
(Measurement condition)
Equipment used: "ESCA-3400" (manufactured by Kratos)
[1] Spectral sampling conditions Incident X-ray: MgKα (monochromatic X-ray, hν = 1253.6 eV)
X-ray output: 150W (10kV, 15mA)
X-ray scanning area (measurement area): Approximately 6 mmφ
Photoelectron uptake angle: 90 degrees [2] Ion sputtering conditions Ion species: Ar +
Acceleration voltage: 0.2 (kV)
Emission current: 20 (mA)
etching range: 10 mmφ
Ion sputtering time: 30 seconds + 30 seconds + 60 seconds (total 120 seconds), and the spectrum was collected.
ガスバリア性塗布膜の厚さは、0.01μm以上100μm以下であることが好ましく、0.1μm以上50μm以下であることがより好ましい。これにより、リサイクル性を維持しつつ、酸素バリア性および水蒸気バリア性をより向上することができる。
ガスバリア性塗布膜の厚さを0.01μm以上とすることにより、バリア性積層体の酸素バリア性および水蒸気バリア性を向上することができる。また、蒸着膜におけるクラックの発生を防止することができる。
ガスバリア性塗布膜の厚さを100μm以下とすることにより、本発明のバリア性積層体と、ポリプロピレンからなるシーラント層との積層体を用いて作製される包装容器のリサイクル適性を向上することができる。
The thickness of the gas barrier coating film is preferably 0.01 μm or more and 100 μm or less, and more preferably 0.1 μm or more and 50 μm or less. Thereby, the oxygen barrier property and the water vapor barrier property can be further improved while maintaining the recyclability.
By setting the thickness of the gas barrier coating film to 0.01 μm or more, the oxygen barrier property and the water vapor barrier property of the barrier laminate can be improved. In addition, it is possible to prevent the occurrence of cracks in the thin-film deposition film.
By setting the thickness of the gas barrier coating film to 100 μm or less, it is possible to improve the recyclability of the packaging container produced by using the laminate of the barrier laminate of the present invention and the sealant layer made of polypropylene. ..
ガスバリア性塗布膜は、上記材料を含む組成物を、グラビアロールコーターなどのロールコート、スプレーコート、スピンコート、ディッピング、刷毛、バーコード、アプリケータなどの従来公知の手段により、塗布し、その組成物をゾルゲル法により重縮合することにより形成させることができる。
ゾルゲル法触媒としては、酸またはアミン系化合物が好適である。アミン系化合物としては、水に実質的に不溶であり、且つ有機溶剤に可溶な第3級アミンが好適であり、例えば、N,N−ジメチルベンジルアミン、トリプロピルアミン、トリブチルアミン、トリペンチルアミンなどが挙げられる。これらの中でも、N,N−ジメチルべンジルアミンが好ましい。
ゾルゲル法触媒は、金属アルコキシド100質量部当り、0.01質量部以上1.0質量部以下の範囲で使用することが好ましく、0.03質量部以上0.3質量部以下の範囲で使用することがより好ましい。
ゾルゲル法触媒の使用量を金属アルコキシド100質量部当り、0.01質量部以上とすることにより、その触媒効果を向上することができる。また、ゾルゲル法触媒の使用量を金属アルコキシド100質量部当り、1.0質量部以下とすることにより、形成されるガスバリア性塗布膜の厚さを均一にすることができる。
The gas barrier coating film is prepared by applying a composition containing the above materials by a conventionally known means such as a roll coating such as a gravure roll coater, a spray coating, a spin coating, dipping, a brush, a bar code, and an applicator, and the composition thereof. The product can be formed by polycondensing the product by the sol-gel method.
As the sol-gel method catalyst, an acid or amine compound is suitable. As the amine compound, a tertiary amine which is substantially insoluble in water and soluble in an organic solvent is preferable, and for example, N, N-dimethylbenzylamine, tripropylamine, tributylamine, and trypentyl are preferable. Amine and the like can be mentioned. Among these, N, N-dimethylbenzylamine is preferable.
The sol-gel method catalyst is preferably used in the range of 0.01 parts by mass or more and 1.0 parts by mass or less, and 0.03 parts by mass or more and 0.3 parts by mass or less per 100 parts by mass of the metal alkoxide. Is more preferable.
By setting the amount of the sol-gel method catalyst to be 0.01 part by mass or more per 100 parts by mass of the metal alkoxide, the catalytic effect can be improved. Further, by setting the amount of the sol-gel method catalyst to be 1.0 part by mass or less per 100 parts by mass of the metal alkoxide, the thickness of the formed gas barrier coating film can be made uniform.
上記組成物は、さらに酸を含んでいてもよい。酸は、ゾル−ゲル法の触媒、主として金属アルコキシドやシランカップリング剤などの加水分解のための触媒として用いられる。
酸としては、例えば、硫酸、塩酸、硝酸などの鉱酸、ならびに酢酸、酒石酸などの有機酸が用いられる。酸の使用量は、金属アルコキシドおよびシランカップリング剤のアルコキシド分(例えばシリケート部分)の総モル量に対して、0.001モル以上0.05モル以下であることが好ましい。
酸の使用量を金属アルコキシドおよびシランカップリング剤のアルコキシド分(例えばシリケート部分)の総モル量に対して、0.001モル以上とすることにより、触媒効果を向上することができる。また、酸の使用量を金属アルコキシドおよびシランカップリング剤のアルコキシド分(例えばシリケート部分)の総モル量に対して、0.05モル以下とすることにより、形成されるガスバリア性塗布膜の厚さを均一にすることができる。
The composition may further contain an acid. The acid is used as a catalyst for the sol-gel process, mainly as a catalyst for hydrolysis of metal alkoxides, silane coupling agents and the like.
As the acid, for example, mineral acids such as sulfuric acid, hydrochloric acid and nitric acid, and organic acids such as acetic acid and tartaric acid are used. The amount of the acid used is preferably 0.001 mol or more and 0.05 mol or less with respect to the total molar amount of the alkoxide content (for example, the silicate portion) of the metal alkoxide and the silane coupling agent.
The catalytic effect can be improved by setting the amount of the acid to be 0.001 mol or more with respect to the total molar amount of the alkoxide content (for example, the silicate portion) of the metal alkoxide and the silane coupling agent. Further, the thickness of the gas barrier coating film formed by setting the amount of acid used to 0.05 mol or less with respect to the total molar amount of the alkoxide content (for example, the silicate portion) of the metal alkoxide and the silane coupling agent. Can be made uniform.
また、上記組成物は、金属アルコキシドの合計モル量1モルに対して、好ましくは0.1モル以上100モル以下、より好ましくは0.8モル以上2モル以下の割合の水を含んでなることが好ましい。
水の含有量を金属アルコキシドの合計モル量1モルに対して、0.1モル以上とすることにより、本発明のバリア性積層体の酸素バリア性および水蒸気バリア性を向上することができる。また、水の含有量をアルコキシドの合計モル量1モルに対して、100モル以下とすることにより、加水分解反応を速やかに行うことができる。
The composition also contains water at a ratio of preferably 0.1 mol or more and 100 mol or less, more preferably 0.8 mol or more and 2 mol or less, based on 1 mol of the total molar amount of the metal alkoxide. Is preferable.
By setting the water content to 0.1 mol or more with respect to 1 mol of the total molar amount of the metal alkoxide, the oxygen barrier property and the water vapor barrier property of the barrier laminate of the present invention can be improved. Further, by setting the water content to 100 mol or less with respect to 1 mol of the total molar amount of alkoxide, the hydrolysis reaction can be carried out rapidly.
また、上記組成物は、有機溶剤を含んでいてもよい。有機溶媒としては、例えば、メチルアルコール、エチルアルコール、n−プロピルアルコール、イソプロピルアルコール、n−ブタノールなどを用いることができる。 Moreover, the said composition may contain an organic solvent. As the organic solvent, for example, methyl alcohol, ethyl alcohol, n-propyl alcohol, isopropyl alcohol, n-butanol and the like can be used.
以下、ガスバリア性塗布膜の形成方法の一実施形態について以下に説明する。
まず、金属アルコキシド、水溶性高分子、ゾルゲル法触媒、水、有機溶媒および必要に応じてシランカップリング剤などを混合し、組成物を調製する。該組成物中では次第に重縮合反応が進行する。
次いで、蒸着膜上に、上記従来公知の方法により、該組成物を塗布、乾燥する。この乾燥により、金属アルコキシドおよび水溶性高分子(組成物が、シランカップリング剤を含む場合は、シランカップリング剤も)の重縮合反応がさらに進行し、複合ポリマーの層が形成される。
最後に、該組成物を、例えば、20〜250℃、好ましくは50〜220℃の温度で、1秒〜10分間加熱することにより、ガスバリア性塗布膜を形成することができる。
Hereinafter, an embodiment of a method for forming a gas barrier coating film will be described below.
First, a composition is prepared by mixing a metal alkoxide, a water-soluble polymer, a sol-gel method catalyst, water, an organic solvent and, if necessary, a silane coupling agent. The polycondensation reaction gradually proceeds in the composition.
Next, the composition is applied and dried on the thin-film deposition film by the above-mentioned conventionally known method. By this drying, the polycondensation reaction of the metal alkoxide and the water-soluble polymer (and the silane coupling agent if the composition contains a silane coupling agent) further proceeds to form a layer of the composite polymer.
Finally, the gas barrier coating film can be formed by heating the composition at a temperature of, for example, 20 to 250 ° C., preferably 50 to 220 ° C. for 1 second to 10 minutes.
バリアコート層は、その表面に印刷層が形成されていてもよい。印刷層の形成方法などについては上記した通りである。 A printing layer may be formed on the surface of the barrier coat layer. The method of forming the print layer and the like are as described above.
(第2の態様におけるバリア性積層体)
本発明のバリア性積層体20は、図8に示すように、基材21と、接着層22と、蒸着膜23と、中間層24と、シーラント層25とを備え、該中間層24は、コート層26と、ポリプロプレン樹脂層27とを備える。
一実施形態において、本発明のバリア性積層体20は、図9に示すように、接着層22と蒸着膜23との間に、バリアコート層28をさらに備える。
(Barrier laminate in the second aspect)
As shown in FIG. 8, the
In one embodiment, the
第2の態様におけるバリア性積層体において、中間層と蒸着膜と間のラミネート強度は、15mm幅において、3N以上が好ましく、4N以上がより好ましく、5.5N以上が更に好ましい。第2の態様におけるバリア性積層体のラミネート強度の上限は、20N以下であってもよい。
なお、バリア性積層体のラミネート強度の測定方法については、後述する実施例において説明する。
In the barrier laminate according to the second aspect, the lamination strength between the intermediate layer and the vapor-deposited film is preferably 3N or more, more preferably 4N or more, and further preferably 5.5N or more in a width of 15 mm. The upper limit of the laminate strength of the barrier laminate in the second aspect may be 20 N or less.
The method for measuring the laminate strength of the barrier laminate will be described in Examples described later.
第1の態様と同様に、基材およびシーラント基材を、中間層が備えるポリプロプレン樹脂層と同一の材料、即ち、ポリプロピレンにより構成することが好ましい。これにより、本発明のバリア性積層体を用いて作製される包装容器のリサイクル適性を向上することができる。 Similar to the first aspect, it is preferable that the base material and the sealant base material are made of the same material as the polyproprene resin layer provided in the intermediate layer, that is, polypropylene. Thereby, the recyclability of the packaging container produced by using the barrier laminate of the present invention can be improved.
基材およびシーラント層をポリプロプレンにより構成した場合において、本発明のバリア性積層体に含まれる樹脂材料の総量に対するポリプロプレンの含有量は、80質量%以上であることが好ましく、95質量%以上であることがより好ましい。これにより、本発明のバリア性積層体を用いて作製した包装容器のリサイクル適性をより向上することができる。 When the base material and the sealant layer are composed of polypropylene, the content of polypropylene with respect to the total amount of the resin material contained in the barrier laminate of the present invention is preferably 80% by mass or more, preferably 95% by mass or more. Is more preferable. Thereby, the recyclability of the packaging container produced by using the barrier laminate of the present invention can be further improved.
以下、本発明のバリア性積層体が備える中間層について説明する。なお、第2の態様におけるバリア性積層体が備える、中間層以外の層については、第1の態様におけるバリア性積層体と同様であるため、ここでは記載を省略する。 Hereinafter, the intermediate layer provided in the barrier laminate of the present invention will be described. The layers other than the intermediate layer provided by the barrier laminate in the second aspect are the same as those in the barrier laminate in the first aspect, and thus the description thereof will be omitted here.
(中間層)
中間層は、表面コート層と、ポリプロピレン樹脂層とを備える。
(Middle layer)
The intermediate layer includes a surface coat layer and a polypropylene resin layer.
(表面コート層)
中間層は、ポリプロピレン樹脂層上に、極性基を有する樹脂材料を含む表面コート層を備え、該表面コート層上には高い密着性を有する蒸着膜を形成することができ、ガスバリア性を向上することができる。
また、後述するように、表面コート層を備えるバリア性積層体を使用して作製される包装容器は高いラミネート強度を有する。
(Surface coat layer)
The intermediate layer is provided with a surface coat layer containing a resin material having a polar group on a polypropylene resin layer, and a vapor-deposited film having high adhesion can be formed on the surface coat layer to improve gas barrier properties. be able to.
Further, as will be described later, the packaging container produced by using the barrier laminate provided with the surface coating layer has high lamination strength.
表面コート層は極性基を有する樹脂材料を含み、本発明において、極性基とは、ヘテロ原子を1個以上含む基を指し、例えば、エステル基、エポキシ基、水酸基、アミノ基、アミド基、カルボキシル基、カルボニル基、カルボン酸無水物基、スルフォン基、チオール基およびハロゲン基などが挙げられる。
これらの中でも、包装容器のラミネート性の観点からは、カルボキシル基、カルボニル基、エステル基、水酸基およびアミノ基が好ましく、カルボキシル基および水酸基がより好ましい。
The surface coat layer contains a resin material having a polar group, and in the present invention, the polar group refers to a group containing one or more heteroatoms, for example, an ester group, an epoxy group, a hydroxyl group, an amino group, an amide group, and a carboxyl group. Examples thereof include a group, a carbonyl group, a carboxylic acid anhydride group, a sulfone group, a thiol group and a halogen group.
Among these, from the viewpoint of the laminate property of the packaging container, a carboxyl group, a carbonyl group, an ester group, a hydroxyl group and an amino group are preferable, and a carboxyl group and a hydroxyl group are more preferable.
極性基を有する樹脂材料としては、エチレンビニルアルコール共重合体(EVOH)、ポリビニルアルコール(PVA)、ポリエステル、ポリエチレンイミン、水酸基含有(メタ)アクリル樹脂、ナイロン6、ナイロン6,6、MXDナイロン、アモルファスナイロンなどのポリアミド、ポリウレタンなどが好ましく、ポリアミド、水酸基含有(メタ)アクリル樹脂、エチレンビニルアルコール共重合体及びポリビニルアルコールが特に好ましい。
このような樹脂材料を使用することにより、表面コート層上に形成される蒸着膜の密着性を顕著に改善することができ、そのガスバリア性を効果的に向上することができる。
Examples of the resin material having a polar group include ethylene vinyl alcohol copolymer (EVOH), polyvinyl alcohol (PVA), polyester, polyethyleneimine, hydroxyl group-containing (meth) acrylic resin, nylon 6, nylon 6,6, MXD nylon, and amorphous. Polyamides such as nylon and polyurethane are preferable, and polyamides, hydroxyl group-containing (meth) acrylic resins, ethylene vinyl alcohol copolymers and polyvinyl alcohols are particularly preferable.
By using such a resin material, the adhesion of the thin-film deposition film formed on the surface coat layer can be remarkably improved, and the gas barrier property thereof can be effectively improved.
本発明において、表面コート層は、水系エマルジョンまたは溶剤系エマルジョンを用いて形成することができる。水系エマルジョンの具体例としては、ポリアミド系のエマルジョン、ポリエチレン系のエマルジョン、ポリウレタン系エマルジョン等が挙げられ、溶剤系エマルジョンの具体例としては、ポリエステル系のエマルジョン等が挙げられる。 In the present invention, the surface coat layer can be formed by using an aqueous emulsion or a solvent-based emulsion. Specific examples of the aqueous emulsion include polyamide-based emulsions, polyethylene-based emulsions, polyurethane-based emulsions, and the like, and specific examples of solvent-based emulsions include polyester-based emulsions and the like.
表面コート層における極性基を有する樹脂材料の含有量は、70質量%以上であることが好ましく、80質量%以上であることがより好ましく、90質量%以上であることがさらに好ましい。 The content of the resin material having a polar group in the surface coat layer is preferably 70% by mass or more, more preferably 80% by mass or more, and further preferably 90% by mass or more.
本発明の特性を損なわない範囲において、表面コート層は、極性基を有する樹脂材料以外の樹脂材料を含んでいてもよい。
また、本発明の特性を損なわない範囲において、表面コート層は、添加剤を含むことができ、例えば、架橋剤、酸化防止剤、アンチブロッキング剤、滑(スリップ)剤、紫外線吸収剤、光安定剤、充填剤、補強剤、帯電防止剤、顔料および改質用樹脂などが挙げられる。
The surface coating layer may contain a resin material other than the resin material having a polar group as long as the characteristics of the present invention are not impaired.
Further, the surface coating layer can contain additives as long as the characteristics of the present invention are not impaired, and for example, a cross-linking agent, an antioxidant, an anti-blocking agent, a slip agent, an ultraviolet absorber, and a light stabilizer. Examples include agents, fillers, reinforcing agents, antistatic agents, pigments and modifying resins.
中間層の総厚さに対する、表面コート層の厚さの割合は、0.08%以上20%以下であることが好ましく、0.2%以上20%以下であることがより好ましく、1%以上20%以下であることがさらに好ましく、3%以上10%以下であることがさらにより好ましい。
中間層の総厚さに対する、表面コート層の厚さの割合を、0.08%以上とすることにより、蒸着膜の密着性をより向上することができ、ガスバリア性をより向上させることができる。また、包装容器のラミネート強度をより向上することができる。
また、中間層の総厚さに対する、表面コート層の厚さの割合を、20%以下とすることにより、中間層の加工適性をより向上することができる。また、ポリプロプレンから構成される基材およびシーラント層を備える積層体を用いて作製される包装容器のリサイクル適性を向上することができる。
The ratio of the thickness of the surface coat layer to the total thickness of the intermediate layer is preferably 0.08% or more and 20% or less, more preferably 0.2% or more and 20% or less, and 1% or more. It is more preferably 20% or less, and even more preferably 3% or more and 10% or less.
By setting the ratio of the thickness of the surface coat layer to the total thickness of the intermediate layer to 0.08% or more, the adhesion of the thin-film deposition film can be further improved, and the gas barrier property can be further improved. .. In addition, the laminating strength of the packaging container can be further improved.
Further, by setting the ratio of the thickness of the surface coat layer to the total thickness of the intermediate layer to 20% or less, the processability of the intermediate layer can be further improved. In addition, it is possible to improve the recyclability of the packaging container produced by using the laminate provided with the base material composed of polypropylene and the sealant layer.
表面コート層の厚さは、0.02μm以上10μm以下であることが好ましく、0.05μm以上10μm以下であることがより好ましく、0.1μm以上10μm以下であることがより好ましく、0.2μm以上5μm以下であることがより好ましい。
表面コート層の厚さを0.02μm以上とすることにより、蒸着膜の密着性をより向上することができ、ガスバリア性をより向上させることができる。また、包装容器のラミネート強度をより向上することができる。
また、表面コート層の厚さを10μm以下とすることにより、中間層の加工適性をより向上することができる。また、ポリプロプレンから構成される基材およびシーラント層を備える積層体を用いて作製される包装容器のリサイクル適性を向上することができる。
The thickness of the surface coat layer is preferably 0.02 μm or more and 10 μm or less, more preferably 0.05 μm or more and 10 μm or less, more preferably 0.1 μm or more and 10 μm or less, and 0.2 μm or more. It is more preferably 5 μm or less.
By setting the thickness of the surface coat layer to 0.02 μm or more, the adhesion of the thin-film deposition film can be further improved, and the gas barrier property can be further improved. In addition, the laminating strength of the packaging container can be further improved.
Further, by setting the thickness of the surface coat layer to 10 μm or less, the processability of the intermediate layer can be further improved. In addition, it is possible to improve the recyclability of the packaging container produced by using the laminate provided with the base material composed of polypropylene and the sealant layer.
(ポリプロピレン樹脂層)
ポリプロピレン樹脂層は、ポリプロピレンにより構成され、単層構造を有するものであっても、多層構造を有するものであってもよい。
中間層が、ポリプロプレンにより構成される層を備えることにより、該中間層を備えるバリア性積層体を使用して作製される包装容器の耐油性を向上することが可能となる。
(Polypropylene resin layer)
The polypropylene resin layer is made of polypropylene and may have a single-layer structure or a multi-layer structure.
By providing the intermediate layer with a layer made of polypropylene, it is possible to improve the oil resistance of the packaging container produced by using the barrier laminate provided with the intermediate layer.
ポリプロピレン樹脂層は、延伸処理が施されたフィルムであり、該延伸処理は一軸延伸であってもよい、二軸延伸であってもよい。
ポリプロピレン樹脂層の縦方向(MD方向)および横方向(TD方向)への延伸倍率は、2倍以上15倍以下であることが好ましく、5倍以上13倍以下であることが好ましい。
延伸倍率を2倍以上とすることにより、ポリプロピレン樹脂層の強度および耐熱性をより向上することができる。また、ポリプロピレン樹脂層への印刷適性を向上することができる。
また、ポリプロピレン樹脂層の破断限界という観点からは、延伸倍率は15倍以下であることが好ましい。
The polypropylene resin layer is a film that has been stretched, and the stretching treatment may be uniaxial stretching or biaxial stretching.
The draw ratio of the polypropylene resin layer in the vertical direction (MD direction) and the horizontal direction (TD direction) is preferably 2 times or more and 15 times or less, and preferably 5 times or more and 13 times or less.
By setting the draw ratio to 2 times or more, the strength and heat resistance of the polypropylene resin layer can be further improved. In addition, the printability on the polypropylene resin layer can be improved.
Further, from the viewpoint of the breaking limit of the polypropylene resin layer, the draw ratio is preferably 15 times or less.
ポリプロピレン樹脂層に含まれるポリプロピレンは、ホモポリマー、ランダムコポリマーおよびブロックコポリマーのいずれであってもよい。
ポリプロピレンホモポリマーとは、プロピレンのみの重合体であり、ポリプロピレンランダムコポリマーとは、プロピレンとプロピレン以外の他のα−オレフィン(例えばエチレン、ブテン−1、4−メチル−1−ペンテンなど)などとのランダム共重合体であり、ポリプロピレンブロックコポリマーとは、プロピレンからなる重合体ブロックと、上記したプロピレン以外の他のα−オレフィンからなる重合体ブロックを有する共重合体である。
これらポリプロプロピレンの中でも、透明性の観点からは、ホモポリマーまたはランダムコポリマーを使用することが好ましい。包装袋の剛性や耐熱性を重視する場合には、ホモポリマーを使用し、耐衝撃性などを重視する場合にはランダムコポリマーを使用することが好ましい。
また、バイオマス由来のポリプロピレンや、メカニカルリサイクルまたはケミカルリサイクルされたポリプロピレンを使用することもできる。
The polypropylene contained in the polypropylene resin layer may be a homopolymer, a random copolymer or a block copolymer.
The polypropylene homopolymer is a polymer containing only propylene, and the polypropylene random copolymer is a polymer of propylene and other α-olefins other than propylene (for example, ethylene, butene-1, 4-methyl-1-pentene, etc.). It is a random copolymer, and the polypropylene block copolymer is a polymer having a polymer block made of propylene and a polymer block made of α-olefin other than the above-mentioned propylene.
Among these polypropylenes, it is preferable to use a homopolymer or a random copolymer from the viewpoint of transparency. It is preferable to use a homopolymer when the rigidity and heat resistance of the packaging bag are important, and to use a random copolymer when the impact resistance and the like are important.
Biomass-derived polypropylene and mechanically or chemically recycled polypropylene can also be used.
ポリプロピレン樹脂層におけるポリプロピレンの含有量は、70質量%以上であることが好ましく、80質量%以上であることがより好ましく、90質量%以上であることがさらに好ましい。 The polypropylene content in the polypropylene resin layer is preferably 70% by mass or more, more preferably 80% by mass or more, and further preferably 90% by mass or more.
本発明の特性を損なわない範囲において、ポリプロピレン樹脂層は、ポリプロピレン以外の樹脂材料を含んでいても良く、例えば、ポリエチレンなどのポリオレフィン、(メタ)アクリル樹脂、ビニル樹脂、セルロース樹脂、ポリアミド樹脂、ポリエステルおよびアイオノマー樹脂などが挙げられる。
また、本発明の特性を損なわない範囲において、ポリプロピレン樹脂層は、添加剤を含むことができ、例えば、架橋剤、酸化防止剤、アンチブロッキング剤、滑(スリップ)剤、紫外線吸収剤、光安定剤、充填剤、補強剤、帯電防止剤、顔料および改質用樹脂などが挙げられる。
As long as the characteristics of the present invention are not impaired, the polypropylene resin layer may contain a resin material other than polypropylene, for example, polyolefin such as polyethylene, (meth) acrylic resin, vinyl resin, cellulose resin, polyamide resin, polyester. And ionomer resin and the like.
Further, the polypropylene resin layer can contain an additive as long as the characteristics of the present invention are not impaired, and for example, a cross-linking agent, an antioxidant, an anti-blocking agent, a slip agent, an ultraviolet absorber, and a light stabilizer. Examples include agents, fillers, reinforcing agents, antistatic agents, pigments and modifying resins.
ポリプロピレン樹脂層の厚さは、10μm以上50μm以下であることが好ましく、10μm以上40μm以下であることがより好ましい。
ポリプロピレン樹脂層の厚さを10μm以上とすることにより、中間層の強度および耐熱性をより向上することができる。
また、ポリプロピレン樹脂層の厚さを50μm以下とすることにより、中間層の製膜性および加工適性をより向上することができる。
The thickness of the polypropylene resin layer is preferably 10 μm or more and 50 μm or less, and more preferably 10 μm or more and 40 μm or less.
By setting the thickness of the polypropylene resin layer to 10 μm or more, the strength and heat resistance of the intermediate layer can be further improved.
Further, by setting the thickness of the polypropylene resin layer to 50 μm or less, the film-forming property and processability of the intermediate layer can be further improved.
また、ポリプロピレン樹脂層は、表面処理が施されていてもよい。これにより、表面コート層との密着性を向上することができる。
表面処理の方法は特に限定されず、例えば、コロナ放電処理、オゾン処理、酸素ガスおよび/または窒素ガスなどを用いた低温プラズマ処理、グロー放電処理などの物理的処理、並びに化学薬品を用いた酸化処理などの化学的処理が挙げられる。
Further, the polypropylene resin layer may be surface-treated. Thereby, the adhesion with the surface coat layer can be improved.
The surface treatment method is not particularly limited, for example, corona discharge treatment, ozone treatment, low-temperature plasma treatment using oxygen gas and / or nitrogen gas, physical treatment such as glow discharge treatment, and oxidation using chemicals. Examples include chemical treatment such as treatment.
中間層は、オフライン製造することができ、具体的には、ポリプロピレンを含む樹脂組成物を、Tダイ法またはインフレーション法などを利用して製膜し、樹脂フィルムとした後、延伸し、該樹脂フィルム上にコート形成用塗工液を塗布、乾燥することにより作製することができる。
また、中間層はインライン製造することもでき、具体的には、ポリプロピレンを含む樹脂組成物を、Tダイ法またはインフレーション法などを利用して製膜し、樹脂フィルムとした後、縦方向(MD方向)に延伸し、該樹脂フィルム上にコート形成用塗工液を塗布、乾燥した後、横方向(TD方向)に延伸することにより作製することができる。なお、横方向への延伸を先に行っても良い。
The intermediate layer can be manufactured offline. Specifically, a resin composition containing polypropylene is formed into a film by using a T-die method, an inflation method, or the like to form a resin film, and then stretched to obtain the resin. It can be produced by applying a coating liquid for coating on a film and drying it.
The intermediate layer can also be manufactured in-line. Specifically, a resin composition containing polypropylene is formed into a film by using a T-die method, an inflation method, or the like to form a resin film, and then in the vertical direction (MD). It can be produced by stretching in the direction), applying a coating liquid for coating on the resin film, drying, and then stretching in the lateral direction (TD direction). It should be noted that the stretching in the lateral direction may be performed first.
(包装容器)
本発明の包装容器は、上記バリア性積層体を備えることを特徴とする。包装容器としては、例えば、包装製品(包装袋)、蓋材およびラミネートチューブなどを挙げることができる。
(Packaging container)
The packaging container of the present invention is characterized by comprising the above-mentioned barrier laminate. Examples of the packaging container include a packaging product (packaging bag), a lid material, and a laminated tube.
包装袋として、例えば、スタンディングパウチ型、側面シール型、二方シール型、三方シール型、四方シール型、封筒貼りシール型、合掌貼りシール型(ピローシール型)、ひだ付シール型、平底シール型、角底シール型、ガゼット型などの種々の形態の包装袋が挙げられる。 As a packaging bag, for example, standing pouch type, side seal type, two-way seal type, three-way seal type, four-way seal type, envelope-attached seal type, gassho-attached seal type (pillow-seal type), fold-attached seal type, flat-bottom seal type. , Various types of packaging bags such as a square bottom seal type and a gusset type.
本発明の包装容器は、図10に示すように、2枚のバリア性積層体を貼り合わせた包装袋30である(斜線部分はヒートシールされた箇所)。
中間層の縦方向(MD方向)における引張強度を、横方向(TD方向)における引張強度よりも大きくした場合において、中間層の縦方向(MD方向)が包装袋30の横方向に、中間層の横方向(TD方向)が包装袋30の縦方向に対応するように包装袋を作製することが好ましい。このような構成とすることにより、包装容器の横方向への引き裂きが極めて容易となる。以下に例示する包装容器においても同様である。
As shown in FIG. 10, the packaging container of the present invention is a
When the tensile strength of the intermediate layer in the vertical direction (MD direction) is larger than the tensile strength in the horizontal direction (TD direction), the vertical direction (MD direction) of the intermediate layer is in the horizontal direction of the
本発明の包装容器は、図11に示すように、スタンディングパウチ40である。
図11は、スタンディングパウチの構成の一例を簡略に示す図である。図11に示すように、スタンディングパウチ40は、胴部(側面シート)41と、底部(底面シート)42とで構成されている。
スタンディングパウチ40が備える、側面シート41と底面シート42とは、少なくともその一方が本発明のバリア性積層体により構成される。
As shown in FIG. 11, the packaging container of the present invention is a standing
FIG. 11 is a diagram briefly showing an example of the configuration of the standing pouch. As shown in FIG. 11, the standing
At least one of the
一実施形態において、スタンディングパウチ40が備える胴部41は、本発明のバリア性積層体が備えるシーラント層が最内層となるように製袋することにより形成することができる。
他の実施形態において、側面シート41は、本発明のバリア性積層体を2枚準備し、これらをシーラント層が向かい合うようにして重ね合わせ、重ね合わせ合わせたバリア性積層体の両端から、シーラント層が外側となるように、V字状に折った2枚の積層体を挿入し、ヒートシールすることにより形成することができる。このような作製方法によれば、側部ガセット付きの胴部を有するスタンドパウチとすることができる。
In one embodiment, the
In another embodiment, for the
また、一実施形態において、スタンディングパウチ40が備える底面シート42は、製袋された側面シートの間に本発明のバリア性積層体を挿入し、ヒートシールすることにより形成することができる。より具体的には、バリア性積層体を、シーラント層が外側となるように、V字状に折り、製袋された側面シートの間に挿入し、ヒートシールすることにより形成することができる。
Further, in one embodiment, the
また、包装容器は、図10に示すように、易開封手段51を備えていてもよい。
易開封手段51としては、例えば、図10に示すように、引き裂きの起点となるノッチ部52や、引き裂く際の経路として、レーザー加工やカッターなどにより形成されたハーフカット線53などが挙げられる。
Further, as shown in FIG. 10, the packaging container may be provided with the easy-opening means 51.
Examples of the easy-opening means 51 include a
また、包装容器は、図11に示すように、蒸気抜き機構60を備えていてもよい。蒸気抜き機構60は、包装容器内の蒸気圧力が所定値以上となった際に、包装容器内部と外部とを連通させ、蒸気を逃がすと共に、蒸気抜き機構60以外の箇所において蒸気が抜けることを抑制するように構成されている。
蒸気抜き機構50は、側部シール部から包装容器の内側に向かって突出した蒸気抜きシール部60aと、蒸気抜きシール部60aによって、内容物収容部から隔離された非シール部60bとを備える。
非シール部60bは、包装容易の外部に連通している。電子レンジなどにより、内容物が充填され、開口部がヒートシールされた包装容器を加熱することにより、内部の圧力が高まり、蒸気シール部60aが剥離する。蒸気は、蒸気シール60a剥離箇所および非シール部60bを通り、包装容器外部へ抜ける。
Further, as shown in FIG. 11, the packaging container may be provided with the
The steam bleeding mechanism 50 includes a steam bleeding
The
ヒートシールの方法としては、例えば、バーシール、回転ロールシール、ベルトシール、インパルスシール、高周波シール、超音波シールなどの公知の方法で行うことができる。 As a heat sealing method, for example, a known method such as a bar seal, a rotary roll seal, a belt seal, an impulse seal, a high frequency seal, or an ultrasonic seal can be used.
包装容器に充填される内容物は、特に限定されるものではなく、内容物は、液体、粉体およびゲル体であってもよい。また、食品であっても、非食品であってもよい。 The contents to be filled in the packaging container are not particularly limited, and the contents may be a liquid, a powder or a gel. Moreover, it may be food or non-food.
以下、実施例により本発明をより具体的に説明するが、本発明は以下の実施例に限定されるものではない。 Hereinafter, the present invention will be described in more detail with reference to Examples, but the present invention is not limited to the following Examples.
実施例1−1
ポリアミド(宇部興産(株)製、ポリアミド6、融点:220℃)と、接着性樹脂(三井化学(株)製、アドマーQF500、無水マレイン酸変性ポリプロピレン)と、ポリプロピレン(日本ポリプロ(株)製、ノバテックFL203D、融点:160℃)とを共押出した後、逐次二軸延伸装置により、縦方向(MD方向)に5倍、横方向(TD方向)に10倍延伸して、ポリアミドからなる表面樹脂層(19.6μm)と、接着性樹脂からなる接着性樹脂層(1μm)と、ポリプロピレンからなるポリプロピレン樹脂層(0.4μm)とを備える、厚さ21μmの中間層を作製した。中間層の層厚さに対するポリアミドからなる表面樹脂層の厚さの割合は、2%であった。
Example 1-1
Polyamide (manufactured by Ube Kosan Co., Ltd., polyamide 6, melting point: 220 ° C.), adhesive resin (manufactured by Mitsui Chemicals Co., Ltd., Admer QF500, maleic anhydride-modified polypropylene), and polypropylene (manufactured by Nippon Polypro Co., Ltd., Novatec FL203D, melting point: 160 ° C.) is co-extruded and then stretched 5 times in the vertical direction (MD direction) and 10 times in the horizontal direction (TD direction) by a sequential biaxial stretching device to form a surface resin made of polypropylene. An intermediate layer having a thickness of 21 μm was prepared, comprising a layer (19.6 μm), an adhesive resin layer made of an adhesive resin (1 μm), and a polypropylene resin layer made of polypropylene (0.4 μm). The ratio of the thickness of the surface resin layer made of polyamide to the layer thickness of the intermediate layer was 2%.
上記のように作製した中間層の表面樹脂層上に、実機である、低温プラズマ化学気相成長装置を用いて、Roll to Rollにより、中間層にテンションを与えながら、厚さ12nmの炭素含有酸化珪素蒸着膜を形成した(CVD法)。なお、蒸着膜形成条件は以下の通りとした。
(形成条件)
・ヘキサメチルジシロキサン:酸素ガス:ヘリウム=1:10:10(単位:slm)
・冷却・電極ドラム供給電力:22kw
・ライン速度:100m/min
Carbon-containing oxidation with a thickness of 12 nm on the surface resin layer of the intermediate layer prepared as described above while applying tension to the intermediate layer by Roll to Roll using an actual low-temperature plasma chemical vapor deposition apparatus. A silicon vapor deposition film was formed (CVD method). The conditions for forming the vapor-deposited film were as follows.
(Formation conditions)
-Hexamethyldisiloxane: Oxygen gas: Helium = 1:10:10 (Unit: slm)
・ Cooling / electrode drum supply power: 22kW
・ Line speed: 100m / min
炭素含有酸化珪素蒸着膜において、炭素の割合C、珪素の割合Si、および酸素の割合Oは、珪素、酸素、および炭素の3元素の合計100%に対して、それぞれ、32.7%、29.8%、および37.5%であった。各元素の割合は、X線光電子分光法(XPS)により、下記の測定条件のナロースキャン分析によって測定した。
(測定条件)
使用機器:「ESCA−3400」(Kratos製)
[1]スペクトル採取条件
入射X線:MgKα(単色化X線、hν=1253.6eV)
X線出力:150W(10kV・15mA)
X線走査面積(測定領域):約6mmφ
光電子取込角度:90度
[2]イオンスパッタ条件
イオン種:Ar+
加速電圧:0.2(kV)
エミッション電流:20(mA)
etch範囲:10mmφ
イオンスパッタ時間:30秒で実施し、スペクトルを採取
In the carbon-containing silicon oxide vapor deposition film, the ratio C of carbon, the ratio Si of silicon, and the ratio O of oxygen are 32.7% and 29, respectively, with respect to 100% of the total of the three elements of silicon, oxygen, and carbon. It was 8.8% and 37.5%. The proportion of each element was measured by X-ray photoelectron spectroscopy (XPS) by narrow scan analysis under the following measurement conditions.
(Measurement condition)
Equipment used: "ESCA-3400" (manufactured by Kratos)
[1] Spectral sampling conditions Incident X-ray: MgKα (monochromatic X-ray, hν = 1253.6 eV)
X-ray output: 150W (10kV, 15mA)
X-ray scanning area (measurement area): Approximately 6 mmφ
Photoelectron uptake angle: 90 degrees [2] Ion sputtering conditions Ion species: Ar +
Acceleration voltage: 0.2 (kV)
Emission current: 20 (mA)
etching range: 10 mmφ
Ion sputtering time: Performed in 30 seconds and collected the spectrum
水385g、イソプロピルアルコール67gおよび0.5N塩酸9.1gを混合し、調製したpH2.2の溶液を得た。この溶液に、金属アルコキシドとしてテトラエトキシシラン175gと、シランカップリング剤としてグリシドキシプロピルトリメトキシシラン9.2gとを10℃となるように、冷却しながら混合し、溶液Aを得た。
水溶性高分子としてケン価度99%以上、重合度2400のポリビニルアルコール14.7g、水324gイソプロピルアルコール17gを混合し、溶液Bを得た。
溶液Aと、溶液Bとを、質量基準で、6.5:3.5となるように、混合し、バリアコート剤を得た。
385 g of water, 67 g of isopropyl alcohol and 9.1 g of 0.5N hydrochloric acid were mixed to obtain a prepared solution having a pH of 2.2. To this solution, 175 g of tetraethoxysilane as a metal alkoxide and 9.2 g of glycidoxypropyltrimethoxysilane as a silane coupling agent were mixed while cooling at 10 ° C. to obtain a solution A.
As a water-soluble polymer, 14.7 g of polyvinyl alcohol having a degree of polymerization of 99% or more and a degree of polymerization of 2400 and 17 g of 324 g of water and 17 g of isopropyl alcohol were mixed to obtain a solution B.
Solution A and Solution B were mixed so that the ratio was 6.5: 3.5 on a mass basis to obtain a barrier coating agent.
中間層上に形成した蒸着膜上に、バリアコート剤をスピンコート法によりコーティングし、80℃で60秒間オーブンにて加熱処理を施し、厚さ300nmのバリアコート層を形成した。 A barrier coating agent was coated on the vapor-deposited film formed on the intermediate layer by a spin coating method, and heat-treated in an oven at 80 ° C. for 60 seconds to form a barrier coating layer having a thickness of 300 nm.
上記のようにして形成したバリアコート層上に、ポリエステルポリオールおよびイソシアネート化合物を含む接着剤(DIC(株)製、商品名:PASLIM VM001/VM102CP(配合比1:1))により、厚さ3μmの接着層を形成すると共に、この接着層を介して、基材として、厚さ20μmの延伸ポリプロプレンフィルム(、三井化学東セロ社製、U1)を積層した。 On the barrier coat layer formed as described above, an adhesive containing a polyester polyol and an isocyanate compound (manufactured by DIC Corporation, trade name: PASLIM VM001 / VM102CP (blending ratio 1: 1)) has a thickness of 3 μm. An adhesive layer was formed, and a stretched polyproprene film (manufactured by Mitsui Chemicals Tohcello Corporation, U1) having a thickness of 20 μm was laminated as a base material through the adhesive layer.
中間層のポリプロプレン樹脂層上に、ポリウレタン接着剤(三井化学(株)製、タケラックA−969V/タケネートA−5(配合比3/1))により、厚さ1μmの接着層を形成すると共に、この接着層を介して、シーラント層として、厚さ30μmの未延伸ポリプロプレンフィルム(三井化学東セロ(株)製、CP S)を積層し、本発明のバリア性積層体を得た。
バリア性積層体におけるポリプロピレンの含有量は、92質量%であった。
A polyurethane adhesive (Mitsui Chemicals, Inc., Takelac A-969V / Takenate A-5 (blending ratio 3/1)) is used to form an adhesive layer with a thickness of 1 μm on the polyproprene resin layer of the intermediate layer. An unstretched polyproprene film (manufactured by Mitsui Chemicals Tohcello Co., Ltd., CPS) having a thickness of 30 μm was laminated as a sealant layer through this adhesive layer to obtain the barrier laminate of the present invention.
The polypropylene content in the barrier laminate was 92% by mass.
実施例1−2
シーラント層を、厚さ30μmのヒートシール性二軸延伸ポリプロプレンフィルム(東洋(株)製、P6181)に変更した以外は、実施例1−1と同様にしてバリア性積層体を作製した。
バリア性積層体におけるポリプロピレンの含有量は、9質量%であった。
Example 1-2
A barrier laminate was produced in the same manner as in Example 1-1, except that the sealant layer was changed to a heat-sealable biaxially stretched polypropylene film (manufactured by Toyo Co., Ltd., P6181) having a thickness of 30 μm.
The polypropylene content in the barrier laminate was 9% by mass.
実施例1−3
中間層のポリプロプレン樹脂層上に、ポリプロピレン系ヒートシール材(ユニチカ(株)製、アローベースDA1010N)を塗布、乾燥して、厚さ3μmのシーラント層を形成した以外は、実施例1−1と同様にして、本発明のバリア性積層体を得た。
バリア性積層体におけるポリプロピレンの含有量は、82質量%であった。
Example 1-3
Example 1-1 except that a polypropylene-based heat-sealing material (Arrow Base DA1010N manufactured by Unitika Ltd.) was applied onto the polyproprene resin layer of the intermediate layer and dried to form a sealant layer having a thickness of 3 μm. In the same manner as above, the barrier laminate of the present invention was obtained.
The polypropylene content in the barrier laminate was 82% by mass.
実施例1−4
中間層の作製に使用したポリアミドを、ポリビニルアルコール(日本酢ビ・ボパール(株)製、ボパールJC−33、融点:200℃)に変更し、表面樹脂層を形成した以外は、実施例1−1と同様にして、バリア性積層体を作製した。
Example 1-4
Example 1-Except that the polyamide used for producing the intermediate layer was changed to polyvinyl alcohol (manufactured by Japan Vam & Poval Co., Ltd., Bhopal JC-33, melting point: 200 ° C.) to form a surface resin layer. A barrier laminate was produced in the same manner as in 1.
実施例2−1
一方の面がコロナ処理された、厚さ20μmの2軸延伸ポリプロピレンフィルム(三井化学東セロ(株)製、ME−1)のコロナ処理面に、下記組成の表面コート層形成用溶液を塗布、乾燥して、厚さ0.5μmの表面コート層を形成し、中間層を作製した。
(表面コート層形成用塗工液組成)
・ポリビニルアルコール 5質量%
(日本ビ・ポバール(株)製、VC−10、重合度1000、ケン化度99.3モル%以上)
・水 90質量%
・イソプロパノール(IPA) 5質量%
Example 2-1
A 20 μm-thick biaxially stretched polypropylene film (ME-1 manufactured by Mitsui Chemicals Tocello Co., Ltd.) having one surface treated with corona is coated with a solution for forming a surface coat layer having the following composition and dried. Then, a surface coat layer having a thickness of 0.5 μm was formed to prepare an intermediate layer.
(Composition of coating liquid for forming surface coat layer)
・ Polyvinyl alcohol 5% by mass
(Manufactured by Japan Vam & Poval Co., Ltd., VC-10, degree of polymerization 1000, degree of saponification 99.3 mol% or more)
・ Water 90% by mass
・ Isopropanol (IPA) 5% by mass
実施例1−1において作製した中間層を、上記のようにして作製した中間層に変更した以外は、実施例1−1と同様にしてバリア性積層体を作製した。
バリア性積層体におけるポリプロピレンの含有量は、93質量%であった。
A barrier laminate was prepared in the same manner as in Example 1-1, except that the intermediate layer prepared in Example 1-1 was changed to the intermediate layer prepared as described above.
The polypropylene content in the barrier laminate was 93% by mass.
実施例2−2
表面コート層形成用塗工液の組成を以下のように変更した以外は、実施例2−1と同様にしてバリア性積層体を作製した。
バリア性積層体におけるポリプロピレンの含有量は、93質量%であった。
(表面コート層形成用塗工液組成)
・EVOH 75質量%
(日本シーマ(株)製、エバーソルブ#10)
・水 12.5質量%
・1−プロパノール 12.5質量%
Example 2-2
A barrier laminate was produced in the same manner as in Example 2-1 except that the composition of the coating liquid for forming the surface coat layer was changed as follows.
The polypropylene content in the barrier laminate was 93% by mass.
(Composition of coating liquid for forming surface coat layer)
・ EVOH 75% by mass
(Made by Nissan Cima Co., Ltd., Eversolve # 10)
・ Water 12.5% by mass
1-propanol 12.5% by mass
比較例1−1
上記ポリプロピレン(日本ポリプロ(株)製、ノバテックFL203D、融点:160℃)を押出した後、逐次二軸延伸装置により、縦方向(MD方向)に5倍、横方向(TD方向)に10倍延伸して、厚さ20μmのプロピレンフィルムを作製した。
実施例1−1における中間層を上記のようにして作製したポリプロプレンフィルムに変更した以外は、実施例1−1と同様にしてバリア性積層体を作製した。
Comparative Example 1-1
After extruding the above polypropylene (manufactured by Japan Polypropylene Corporation, Novatec FL203D, melting point: 160 ° C.), it is stretched 5 times in the vertical direction (MD direction) and 10 times in the horizontal direction (TD direction) by a sequential biaxial stretching device. Then, a propylene film having a thickness of 20 μm was prepared.
A barrier laminate was prepared in the same manner as in Example 1-1, except that the intermediate layer in Example 1-1 was changed to the polypropylene film prepared as described above.
<<ガスバリア性評価>>
上記実施例および比較例において得られたバリア性積層体を切り出して、試験片を得た。この試験片を用いて、酸素透過度(cc/m2・day・atm)および水蒸気透過度(g/m2・day)を、以下の方法により測定し、その結果を表1にまとめた。
<< Evaluation of gas barrier property >>
The barrier laminates obtained in the above Examples and Comparative Examples were cut out to obtain test pieces. Using this test piece, oxygen permeability (cc / m 2 · day · atm) and water vapor permeability (g / m 2 · day) were measured by the following methods, and the results are summarized in Table 1.
[酸素透過度]
酸素透過度測定装置(MOCON社製、OX−TRAN2/20)を用いて、試験片の基材側が酸素供給側になるようにセットして、JIS K 7126準拠して、23℃、相対湿度90%RH環境下における酸素透過度を測定した。
[水蒸気透過度]
水蒸気透過度測定装置(MOCON社製、PERMATRAN―w 3/33)を用いて、試験片の基材側が水蒸気供給側になるようにセットして、JIS K 7129に準拠して、40℃、相対湿度90%RH環境下における水蒸気透過度を測定した。
[Oxygen permeability]
Using an oxygen permeability measuring device (OX-TRAN2 / 20 manufactured by MOCON), set the test piece so that the base material side is the oxygen supply side, and conform to
[Water vapor permeability]
Using a water vapor permeability measuring device (MOCON, PERMATRAN-w 3/33), set the test piece so that the base material side is the water vapor supply side, and in accordance with
<<ラミネート強度試験>>
上記実施例及び比較例において得られたバリア性積層体を15mm巾の短冊状にカットしたサンプルを、引張試験機((株)オリエンテック製、テンシロン万能材料試験機)を用いて、JIS K6854−2に準拠し、ラミネート強度(N/15mm)を、剥離速度50mm/minで90°剥離(T字剥離法)を用いて測定した。
具体的には、まず、バリア性積層体を切り出して、図12に示すように、基材側71と、シーラント層側72とを長辺方向において15mm剥離させた短冊状の試験片70を準備した。その後、図13に示すように、基材側71およびシーラント層側72のうち既に剥離されている部分をそれぞれ、測定器のつかみ具73で把持した。つかみ具73をそれぞれ、基材側71とシーラント層側72とがまだ積層されている部分の面方向に対して直交する方向において互いに逆向きに、50mm/分の速度で引っ張り、安定領域(図14参照)における引張応力の平均値を測定した。引っ張りを開始する際の、つかみ具73間の間隔Sは30mmとし、引っ張りを終了する際の、つかみ具73間の間隔Sは60mmとした。図14は、つかみ具73間の間隔Sに対する引張応力の変化を示す図である。図14に示すように、間隔Sに対する引張応力の変化は、第1領域を経て、第1領域よりも変化率の小さい第2領域(安定領域)に入る。
5個の試験片70について、安定領域における引張応力の平均値を測定し、その平均値をラミネート強度とした。測定時の環境は、温度23℃、相対湿度50%とした。測定結果を表1にまとめた。
<< Laminate strength test >>
Using a tensile tester (manufactured by Orientec Co., Ltd., Tencilon universal material tester), a sample obtained by cutting the barrier laminates obtained in the above Examples and Comparative Examples into strips having a width of 15 mm was used in JIS K6854-. According to No. 2, the lamination strength (N / 15 mm) was measured using 90 ° peeling (T-shaped peeling method) at a peeling speed of 50 mm / min.
Specifically, first, a strip-shaped
For the five
参考例1−1
ポリアミド(宇部興産(株)製、ポリアミド6、融点:220℃)と、接着性樹脂(三井化学(株)製、アドマーQF500、無水マレイン酸変性ポリプロピレン)と、ポリプロピレン(日本ポリプロ(株)製、ノバテックFL203D、融点:160℃)とを共押出した後、逐次二軸延伸装置により、縦方向(MD方向)に5倍、横方向(TD方向)に10倍延伸して、ポリアミドからなる表面樹脂層(19.6μm)と、接着性樹脂からなる接着性樹脂層(1μm)と、ポリプロピレンからなるポリプロピレン樹脂層(0.4μm)とを備える、厚さ21μmの基材を作製した。基材の層厚さに対するポリアミドからなる表面樹脂層の厚さの割合は、2%であった。
Reference example 1-1
Polyamide (manufactured by Ube Kosan Co., Ltd., polyamide 6, melting point: 220 ° C.), adhesive resin (manufactured by Mitsui Chemicals Co., Ltd., Admer QF500, maleic anhydride-modified polypropylene), and polypropylene (manufactured by Nippon Polypro Co., Ltd., Novatec FL203D, melting point: 160 ° C.) is co-extruded and then stretched 5 times in the vertical direction (MD direction) and 10 times in the horizontal direction (TD direction) by a sequential biaxial stretching device to form a surface resin made of polypropylene. A 21 μm-thick substrate comprising a layer (19.6 μm), an adhesive resin layer (1 μm) made of an adhesive resin, and a polypropylene resin layer (0.4 μm) made of polypropylene was prepared. The ratio of the thickness of the surface resin layer made of polyamide to the layer thickness of the base material was 2%.
上記のように作製した基材の表面樹脂層上に、実機である、低温プラズマ化学気相成長装置を用いて、Roll to Rollにより、基材にテンションを与えながら、厚さ12nmの炭素含有酸化珪素蒸着膜を形成した(CVD法)。なお、蒸着膜形成条件は以下の通りとした。
(形成条件)
・ヘキサメチルジシロキサン:酸素ガス:ヘリウム=1:10:10(単位:slm)
・冷却・電極ドラム供給電力:22kw
・ライン速度:100m/min
Carbon-containing oxidation having a thickness of 12 nm on the surface resin layer of the base material prepared as described above while applying tension to the base material by Roll to Roll using an actual low-temperature plasma chemical vapor deposition apparatus. A silicon vapor deposition film was formed (CVD method). The conditions for forming the vapor-deposited film were as follows.
(Formation conditions)
-Hexamethyldisiloxane: Oxygen gas: Helium = 1:10:10 (Unit: slm)
・ Cooling / electrode drum supply power: 22kW
・ Line speed: 100m / min
炭素含有酸化珪素蒸着膜において、炭素の割合C、珪素の割合Si、および酸素の割合Oは、珪素、酸素、および炭素の3元素の合計100%に対して、それぞれ、32.7%、29.8%、および37.5%であった。各元素の割合は、X線光電子分光法(XPS)により、下記の測定条件のナロースキャン分析によって測定した。
(測定条件)
使用機器:「ESCA−3400」(Kratos製)
[1]スペクトル採取条件
入射X線:MgKα(単色化X線、hν=1253.6eV)
X線出力:150W(10kV・15mA)
X線走査面積(測定領域):約6mmφ
光電子取込角度:90度
[2]イオンスパッタ条件
イオン種:Ar+
加速電圧:0.2(kV)
エミッション電流:20(mA)
etch範囲:10mmφ
イオンスパッタ時間:30秒で実施し、スペクトルを採取
In the carbon-containing silicon oxide vapor deposition film, the ratio C of carbon, the ratio Si of silicon, and the ratio O of oxygen are 32.7% and 29, respectively, with respect to 100% of the total of the three elements of silicon, oxygen, and carbon. It was 8.8% and 37.5%. The proportion of each element was measured by X-ray photoelectron spectroscopy (XPS) by narrow scan analysis under the following measurement conditions.
(Measurement condition)
Equipment used: "ESCA-3400" (manufactured by Kratos)
[1] Spectral sampling conditions Incident X-ray: MgKα (monochromatic X-ray, hν = 1253.6 eV)
X-ray output: 150W (10kV, 15mA)
X-ray scanning area (measurement area): Approximately 6 mmφ
Photoelectron uptake angle: 90 degrees [2] Ion sputtering conditions Ion species: Ar +
Acceleration voltage: 0.2 (kV)
Emission current: 20 (mA)
etching range: 10 mmφ
Ion sputtering time: Performed in 30 seconds and collected the spectrum
蒸着膜上に、水溶性高分子に対する金属アルコキシドの固形分比(金属アルコキシド/水溶性高分子)が、質量基準において、5.1となるようにバリアコート層を形成した。 A barrier coat layer was formed on the vapor-deposited film so that the solid content ratio of the metal alkoxide to the water-soluble polymer (metal alkoxide / water-soluble polymer) was 5.1 on a mass basis.
バリアコート層表面に存在するSi元素とC元素の比を測定した。測定は、X線光電子分光法(XPS)により、下記の測定条件のナロースキャン分析で行った。なお、以下の参考例においても、同様にしてバリアコート層表面に存在するSi元素とC元素の比を測定した。
(測定条件)
使用機器:「ESCA−3400」(Kratos製)
[1]スペクトル採取条件
入射X線:MgKα(単色化X線、hν=1253.6eV)
X線出力:150W(10kV・15mA)
X線走査面積(測定領域):約6mmφ
光電子取込角度:90度
[2]イオンスパッタ条件
イオン種:Ar+
加速電圧:0.2(kV)
エミッション電流:20(mA)
etch範囲:10mmφ
イオンスパッタ時間:30秒+30秒+60秒(トータル120秒)で実施し、スペクトルを採取
The ratio of Si element and C element present on the surface of the barrier coat layer was measured. The measurement was performed by X-ray photoelectron spectroscopy (XPS) by narrow scan analysis under the following measurement conditions. In the following reference examples, the ratio of Si element and C element present on the surface of the barrier coat layer was measured in the same manner.
(Measurement condition)
Equipment used: "ESCA-3400" (manufactured by Kratos)
[1] Spectral sampling conditions Incident X-ray: MgKα (monochromatic X-ray, hν = 1253.6 eV)
X-ray output: 150W (10kV, 15mA)
X-ray scanning area (measurement area): Approximately 6 mmφ
Photoelectron uptake angle: 90 degrees [2] Ion sputtering conditions Ion species: Ar +
Acceleration voltage: 0.2 (kV)
Emission current: 20 (mA)
etching range: 10 mmφ
Ion sputtering time: 30 seconds + 30 seconds + 60 seconds (total 120 seconds), and the spectrum was collected.
次いで、バリアコート層上に、厚さ60μmの未延伸ポリプロピレンフィルム(東洋紡(株)製、P1128)を2液硬化型ポリウレタン系接着剤でドライラミネートしてシーラント層を形成し、バリア性積層体を得た。 Next, an unstretched polypropylene film (manufactured by Toyobo Co., Ltd., P1128) having a thickness of 60 μm was dry-laminated on the barrier coat layer with a two-component curable polyurethane adhesive to form a sealant layer, thereby forming a barrier laminate. Obtained.
参考例1−2
水溶性高分子に対する金属アルコキシドの固形分比(金属アルコキシド/水溶性高分子)が、質量基準において、4.1となるようにバリアコート層を形成したこと以外は、参考例1−1と同様して、バリア性積層体を作製した。
Reference example 1-2
Similar to Reference Example 1-1, except that the barrier coat layer was formed so that the solid content ratio of the metal alkoxide to the water-soluble polymer (metal alkoxide / water-soluble polymer) was 4.1 on a mass basis. Then, a barrier laminate was produced.
参考例1−3
水溶性高分子に対する金属アルコキシドの固形分比(金属アルコキシド/水溶性高分子)が、質量基準において、3.3となるようにバリアコート層を形成したこと以外は、参考例1−1と同様して、バリア性積層体を作製した。
Reference example 1-3
Similar to Reference Example 1-1, except that the barrier coat layer was formed so that the solid content ratio of the metal alkoxide to the water-soluble polymer (metal alkoxide / water-soluble polymer) was 3.3 on a mass basis. Then, a barrier laminate was produced.
参考例1−4
水溶性高分子に対する金属アルコキシドの固形分比(金属アルコキシド/水溶性高分子)が、質量基準において、2.7となるようにバリアコート層を形成したこと以外は、参考例1−1と同様して、バリア性積層体を作製した。
Reference example 1-4
Similar to Reference Example 1-1, except that the barrier coat layer was formed so that the solid content ratio of the metal alkoxide to the water-soluble polymer (metal alkoxide / water-soluble polymer) was 2.7 on a mass basis. Then, a barrier laminate was produced.
参考例1−5
水溶性高分子に対する金属アルコキシドの固形分比(金属アルコキシド/水溶性高分子)が、質量基準において、1.9となるようにバリアコート層を形成したこと以外は、参考例1−1と同様して、バリア性積層体を作製した。
Reference example 1-5
Similar to Reference Example 1-1, except that the barrier coat layer was formed so that the solid content ratio of the metal alkoxide to the water-soluble polymer (metal alkoxide / water-soluble polymer) was 1.9 on a mass basis. Then, a barrier laminate was produced.
参考例1−6
水溶性高分子に対する金属アルコキシドの固形分比(金属アルコキシド/水溶性高分子)が、質量基準において、1.5となるようにバリアコート層を形成したこと以外は、参考例1−1と同様して、バリア性積層体を作製した。
Reference example 1-6
Similar to Reference Example 1-1, except that the barrier coat layer was formed so that the solid content ratio of the metal alkoxide to the water-soluble polymer (metal alkoxide / water-soluble polymer) was 1.5 on a mass basis. Then, a barrier laminate was produced.
参考例2−1
蒸着膜の形成を以下のように変更した以外は、参考例1−1と同様にして、バリア性積層体を作製した。
表面樹脂層上に、実機である、酸素プラズマ前処理装置を配置した前処理区画と、成膜区画とを隔離して備える連続蒸着膜成膜装置を用いて、前処理区画において、Roll to Rollにより、基材にテンションを与えながら、下記条件下でプラズマ供給ノズルからプラズマを導入し、酸素プラズマ前処理を施し、連続搬送した成膜区画において、酸素プラズマ処理面に、下記条件で、真空蒸着法の加熱手段として反応性抵抗加熱方式を用い、厚さ12nmの酸化アルミニウム(アルミナ)蒸着膜を形成した(PVD法)。
(形成条件)
(酸素プラズマ前処理条件)
・プラズマ強度:200W・sec/m2
・プラズマ形成ガス比:酸素:アルゴン=2:1
・前処理ドラム−プラズマ供給ノズル間印加電圧:340V
(成膜条件)
・搬送速度:400m/min
・酸素ガス供給量:20000sccm
Reference example 2-1
A barrier laminate was produced in the same manner as in Reference Example 1-1, except that the formation of the thin-film deposition film was changed as follows.
In the pretreatment section, Roll to Roll using a continuous vapor deposition film deposition apparatus that separates the pretreatment section in which the oxygen plasma pretreatment device is arranged and the film formation section, which is an actual machine, on the surface resin layer. Then, while applying tension to the base material, plasma was introduced from the plasma supply nozzle under the following conditions, oxygen plasma pretreatment was performed, and vacuum deposition was performed on the oxygen plasma treatment surface on the oxygen plasma treatment surface under the following conditions. A reactive resistance heating method was used as the heating means of the method to form an aluminum oxide (alumina) vapor-deposited film having a thickness of 12 nm (PVD method).
(Formation conditions)
(Oxygen plasma pretreatment conditions)
・ Plasma intensity: 200 W ・ sec / m 2
-Plasma forming gas ratio: Oxygen: Argon = 2: 1
・ Voltage applied between pretreatment drum and plasma supply nozzle: 340V
(Film formation conditions)
・ Transport speed: 400m / min
・ Oxygen gas supply: 20000 sccm
参考例2−2
水溶性高分子に対する金属アルコキシドの固形分比(金属アルコキシド/水溶性高分子)が、質量基準において、4.1となるようにバリアコート層を形成したこと以外は、参考例2−1と同様して、バリア性積層体を作製した。
Reference example 2-2
Similar to Reference Example 2-1 except that the barrier coat layer was formed so that the solid content ratio of the metal alkoxide to the water-soluble polymer (metal alkoxide / water-soluble polymer) was 4.1 on a mass basis. Then, a barrier laminate was produced.
参考例2−3
水溶性高分子に対する金属アルコキシドの固形分比(金属アルコキシド/水溶性高分子)が、質量基準において、3.3となるようにバリアコート層を形成したこと以外は、参考例2−1と同様して、バリア性積層体を作製した。
Reference example 2-3
Similar to Reference Example 2-1 except that the barrier coat layer was formed so that the solid content ratio of the metal alkoxide to the water-soluble polymer (metal alkoxide / water-soluble polymer) was 3.3 on a mass basis. Then, a barrier laminate was produced.
参考例2−4
水溶性高分子に対する金属アルコキシドの固形分比(金属アルコキシド/水溶性高分子)が、質量基準において、2.7となるようにバリアコート層を形成したこと以外は、参考例2−1と同様して、バリア性積層体を作製した。
Reference example 2-4
Similar to Reference Example 2-1 except that the barrier coat layer was formed so that the solid content ratio of the metal alkoxide to the water-soluble polymer (metal alkoxide / water-soluble polymer) was 2.7 on a mass basis. Then, a barrier laminate was produced.
参考例2−5
水溶性高分子に対する金属アルコキシドの固形分比(金属アルコキシド/水溶性高分子)が、質量基準において、1.9となるようにバリアコート層を形成したこと以外は、参考例2−1と同様して、バリア性積層体を作製した。
Reference example 2-5
Similar to Reference Example 2-1 except that the barrier coat layer was formed so that the solid content ratio of the metal alkoxide to the water-soluble polymer (metal alkoxide / water-soluble polymer) was 1.9 on a mass basis. Then, a barrier laminate was produced.
参考例2−6
水溶性高分子に対する金属アルコキシドの固形分比(金属アルコキシド/水溶性高分子)が、質量基準において、1.5となるようにバリアコート層を形成したこと以外は、参考例2−1と同様して、バリア性積層体を作製した。
Reference example 2-6
Similar to Reference Example 2-1 except that the barrier coat layer was formed so that the solid content ratio of the metal alkoxide to the water-soluble polymer (metal alkoxide / water-soluble polymer) was 1.5 on a mass basis. Then, a barrier laminate was produced.
参考例3−1
ポリアミドを、エチレンビニルアルコール(クラレ(株)製、エバール F171B、融点:183℃)に変更し、表面樹脂層を形成した以外は、参考例1−1と同様にして、バリア性積層体を作製した。
Reference example 3-1
A barrier laminate was prepared in the same manner as in Reference Example 1-1, except that the polyamide was changed to ethylene vinyl alcohol (manufactured by Kuraray Co., Ltd., EVAL F171B, melting point: 183 ° C.) to form a surface resin layer. did.
参考例3−2
水溶性高分子に対する金属アルコキシドの固形分比(金属アルコキシド/水溶性高分子)が、質量基準において、4.1となるようにバリアコート層を形成したこと以外は、参考例3−1と同様して、バリア性積層体を作製した。
Reference example 3-2
Similar to Reference Example 3-1 except that the barrier coat layer was formed so that the solid content ratio of the metal alkoxide to the water-soluble polymer (metal alkoxide / water-soluble polymer) was 4.1 on a mass basis. Then, a barrier laminate was produced.
参考例3−3
水溶性高分子に対する金属アルコキシドの固形分比(金属アルコキシド/水溶性高分子)が、質量基準において、3.3となるようにバリアコート層を形成したこと以外は、参考例3−1と同様して、バリア性積層体を作製した。
Reference example 3-3
Similar to Reference Example 3-1 except that the barrier coat layer was formed so that the solid content ratio of the metal alkoxide to the water-soluble polymer (metal alkoxide / water-soluble polymer) was 3.3 on a mass basis. Then, a barrier laminate was produced.
参考例3−4
水溶性高分子に対する金属アルコキシドの固形分比(金属アルコキシド/水溶性高分子)が、質量基準において、2.7となるようにバリアコート層を形成したこと以外は、参考例3−1と同様して、バリア性積層体を作製した。
Reference example 3-4
Similar to Reference Example 3-1 except that the barrier coat layer was formed so that the solid content ratio of the metal alkoxide to the water-soluble polymer (metal alkoxide / water-soluble polymer) was 2.7 on a mass basis. Then, a barrier laminate was produced.
参考例3−5
水溶性高分子に対する金属アルコキシドの固形分比(金属アルコキシド/水溶性高分子)が、質量基準において、1.9となるようにバリアコート層を形成したこと以外は、参考例3−1と同様して、バリア性積層体を作製した。
Reference example 3-5
Similar to Reference Example 3-1 except that the barrier coat layer was formed so that the solid content ratio of the metal alkoxide to the water-soluble polymer (metal alkoxide / water-soluble polymer) was 1.9 on a mass basis. Then, a barrier laminate was produced.
参考例3−6
水溶性高分子に対する金属アルコキシドの固形分比(金属アルコキシド/水溶性高分子)が、質量基準において、1.5となるようにバリアコート層を形成したこと以外は、参考例3−1と同様して、バリア性積層体を作製した。
Reference example 3-6
Similar to Reference Example 3-1 except that the barrier coat layer was formed so that the solid content ratio of the metal alkoxide to the water-soluble polymer (metal alkoxide / water-soluble polymer) was 1.5 on a mass basis. Then, a barrier laminate was produced.
参考例4−1
ポリアミドを、エチレンビニルアルコール(クラレ(株)製、エバール F171B、融点:183℃)に変更し、表面樹脂層を形成した以外は、参考例2−1と同様にして、バリア性積層体を作製した。
Reference example 4-1
A barrier laminate was prepared in the same manner as in Reference Example 2-1 except that the polyamide was changed to ethylene vinyl alcohol (manufactured by Kuraray Co., Ltd., EVAL F171B, melting point: 183 ° C.) to form a surface resin layer. did.
参考例4−2
水溶性高分子に対する金属アルコキシドの固形分比(金属アルコキシド/水溶性高分子)が、質量基準において、4.1となるようにバリアコート層を形成したこと以外は、参考例4−1と同様して、バリア性積層体を作製した。
Reference example 4-2
Similar to Reference Example 4-1 except that the barrier coat layer was formed so that the solid content ratio of the metal alkoxide to the water-soluble polymer (metal alkoxide / water-soluble polymer) was 4.1 on a mass basis. Then, a barrier laminate was produced.
参考例4−3
水溶性高分子に対する金属アルコキシドの固形分比(金属アルコキシド/水溶性高分子)が、質量基準において、3.3となるようにバリアコート層を形成したこと以外は、参考例4−1と同様して、バリア性積層体を作製した。
Reference example 4-3
Similar to Reference Example 4-1 except that the barrier coat layer was formed so that the solid content ratio of the metal alkoxide to the water-soluble polymer (metal alkoxide / water-soluble polymer) was 3.3 on a mass basis. Then, a barrier laminate was produced.
参考例4−4
水溶性高分子に対する金属アルコキシドの固形分比(金属アルコキシド/水溶性高分子)が、質量基準において、2.7となるようにバリアコート層を形成したこと以外は、参考例4−1と同様して、バリア性積層体を作製した。
Reference example 4-4
Similar to Reference Example 4-1 except that the barrier coat layer was formed so that the solid content ratio of the metal alkoxide to the water-soluble polymer (metal alkoxide / water-soluble polymer) was 2.7 on a mass basis. Then, a barrier laminate was produced.
参考例4−5
水溶性高分子に対する金属アルコキシドの固形分比(金属アルコキシド/水溶性高分子)が、質量基準において、1.9となるようにバリアコート層を形成したこと以外は、参考例4−1と同様して、バリア性積層体を作製した。
Reference example 4-5
Similar to Reference Example 4-1 except that the barrier coat layer was formed so that the solid content ratio of the metal alkoxide to the water-soluble polymer (metal alkoxide / water-soluble polymer) was 1.9 on a mass basis. Then, a barrier laminate was produced.
参考例4−6
水溶性高分子に対する金属アルコキシドの固形分比(金属アルコキシド/水溶性高分子)が、質量基準において、1.5となるようにバリアコート層を形成したこと以外は、参考例4−1と同様して、バリア性積層体を作製した。
Reference example 4-6
Similar to Reference Example 4-1 except that the barrier coat layer was formed so that the solid content ratio of the metal alkoxide to the water-soluble polymer (metal alkoxide / water-soluble polymer) was 1.5 on a mass basis. Then, a barrier laminate was produced.
参考例5−1
一方の面がコロナ処理された、厚さ20μmの2軸延伸ポリプロピレンフィルム(三井化学東セロ(株)製、ME−1)のコロナ処理面に、以下のようにして調製した表面コート層形成用塗工液を塗布、乾燥して、厚さ0.5μmの表面コート層を形成し、基材を作製した。
Reference example 5-1
A coating for forming a surface coat layer prepared as follows on the corona-treated surface of a 20 μm-thick biaxially stretched polypropylene film (ME-1 manufactured by Mitsui Chemicals Tohcello Corporation) with one surface treated with corona. The working solution was applied and dried to form a surface coat layer having a thickness of 0.5 μm to prepare a base material.
水酸基含有(メタ)アクリル樹脂(数平均分子量25000、ガラス転移温度99℃、水酸基価80mgKOHL/g)を、メチルケトンと酢酸エチルとの混合溶剤(混合比1:1)を用いて、固形分濃度が10質量%となるまで希釈し、主剤を調製した。
トリレンジイソシアネートを含有する酢酸エチル溶液(固形分75質量%)を硬化剤として、主剤に添加し、表面コート層形成用塗工液を得た。なお、硬化剤の使用量は、主剤100質量部に対し、10質量部とした。
A hydroxyl group-containing (meth) acrylic resin (number average molecular weight 25,000, glass transition temperature 99 ° C., hydroxyl value 80 mgKOHL / g) is used in a mixed solvent of methyl ketone and ethyl acetate (mixing ratio 1: 1) to increase the solid content concentration. The main agent was prepared by diluting to 10% by mass.
An ethyl acetate solution (solid content 75% by mass) containing tolylene diisocyanate was added as a curing agent to the main agent to obtain a coating liquid for forming a surface coat layer. The amount of the curing agent used was 10 parts by mass with respect to 100 parts by mass of the main agent.
上記のように作製した基材の表面コート層上に、実機である、低温プラズマ化学気相成長装置を用いて、Roll to Rollにより、基材にテンションを与えながら、厚さ12nmの炭素含有酸化珪素蒸着膜を形成した(CVD法)。なお、蒸着膜形成条件は以下の通りとした。
(形成条件)
・ヘキサメチルジシロキサン:酸素ガス:ヘリウム=1:10:10(単位:slm)
・冷却・電極ドラム供給電力:22kw
・ライン速度:100m/min
Carbon-containing oxidation having a thickness of 12 nm on the surface coat layer of the base material prepared as described above while applying tension to the base material by Roll to Roll using an actual low-temperature plasma chemical vapor deposition apparatus. A silicon vapor deposition film was formed (CVD method). The conditions for forming the vapor-deposited film were as follows.
(Formation conditions)
-Hexamethyldisiloxane: Oxygen gas: Helium = 1:10:10 (Unit: slm)
・ Cooling / electrode drum supply power: 22kW
・ Line speed: 100m / min
次いで、蒸着膜上に、水溶性高分子に対する金属アルコキシドの固形分比(金属アルコキシド/水溶性高分子)が、質量基準において、5.1となるようにバリアコート層を形成した。 Next, a barrier coat layer was formed on the vapor-deposited film so that the solid content ratio of the metal alkoxide to the water-soluble polymer (metal alkoxide / water-soluble polymer) was 5.1 on a mass basis.
次いで、バリアコート層上に、厚さ60μmの未延伸ポリプロピレンフィルム(東洋紡(株)製、P1128)を2液硬化型ポリウレタン系接着剤でドライラミネートしてシーラント層を形成し、バリア性積層体を得た。 Next, an unstretched polypropylene film (manufactured by Toyobo Co., Ltd., P1128) having a thickness of 60 μm was dry-laminated on the barrier coat layer with a two-component curable polyurethane adhesive to form a sealant layer, thereby forming a barrier laminate. Obtained.
参考例5−2
水溶性高分子に対する金属アルコキシドの固形分比(金属アルコキシド/水溶性高分子)が、質量基準において、4.1となるようにバリアコート層を形成したこと以外は、参考例5−1と同様して、バリア性積層体を作製した。
Reference example 5-2
Similar to Reference Example 5-1 except that the barrier coat layer was formed so that the solid content ratio of the metal alkoxide to the water-soluble polymer (metal alkoxide / water-soluble polymer) was 4.1 on a mass basis. Then, a barrier laminate was produced.
参考例5−3
水溶性高分子に対する金属アルコキシドの固形分比(金属アルコキシド/水溶性高分子)が、質量基準において、3.3となるようにバリアコート層を形成したこと以外は、参考例5−1と同様して、バリア性積層体を作製した。
Reference example 5-3
Similar to Reference Example 5-1 except that the barrier coat layer was formed so that the solid content ratio of the metal alkoxide to the water-soluble polymer (metal alkoxide / water-soluble polymer) was 3.3 on a mass basis. Then, a barrier laminate was produced.
参考例5−4
水溶性高分子に対する金属アルコキシドの固形分比(金属アルコキシド/水溶性高分子)が、質量基準において、2.7となるようにバリアコート層を形成したこと以外は、参考例5−1と同様して、バリア性積層体を作製した。
Reference example 5-4
Similar to Reference Example 5-1 except that the barrier coat layer was formed so that the solid content ratio of the metal alkoxide to the water-soluble polymer (metal alkoxide / water-soluble polymer) was 2.7 on a mass basis. Then, a barrier laminate was produced.
参考例5−5
水溶性高分子に対する金属アルコキシドの固形分比(金属アルコキシド/水溶性高分子)が、質量基準において、1.9となるようにバリアコート層を形成したこと以外は、参考例5−1と同様して、バリア性積層体を作製した。
Reference example 5-5
Similar to Reference Example 5-1 except that the barrier coat layer was formed so that the solid content ratio of the metal alkoxide to the water-soluble polymer (metal alkoxide / water-soluble polymer) was 1.9 on a mass basis. Then, a barrier laminate was produced.
参考例5−6
水溶性高分子に対する金属アルコキシドの固形分比(金属アルコキシド/水溶性高分子)が、質量基準において、1.5となるようにバリアコート層を形成したこと以外は、参考例5−1と同様して、バリア性積層体を作製した。
Reference example 5-6
Similar to Reference Example 5-1 except that the barrier coat layer was formed so that the solid content ratio of the metal alkoxide to the water-soluble polymer (metal alkoxide / water-soluble polymer) was 1.5 on a mass basis. Then, a barrier laminate was produced.
参考例6−1
蒸着膜の形成を以下のように変更した以外は、参考例5−1と同様にして、第バリア性積層体を作製した。
表面コート層上に、実機である、プラズマガンを備える誘導加熱式真空成膜装置を用いて、Roll to Rollにより、多層基材にテンションを与えながら、厚さ20nmの酸化珪素(シリカ)蒸着膜を形成した(PVD法)。なお、蒸着膜形成条件は以下の通りとした。
(形成条件)
(プラズマ照射条件)
・ライン速度:30m/分
・真空度:1.7×10−2Pa
・出力:5.7kw
・加速電圧:151V
・Arガス流量:7.5sccm
(成膜条件)
・蒸着材料:SiO
・反応ガス:O2
・反応ガス流量:100sccm
Reference example 6-1
A first barrier laminate was produced in the same manner as in Reference Example 5-1 except that the formation of the thin-film deposition film was changed as follows.
A 20 nm-thick silicon oxide (silica) vapor-deposited film on the surface coat layer while applying tension to the multilayer base material by Roll to Roll using an induction heating type vacuum film deposition apparatus equipped with a plasma gun, which is an actual machine. Was formed (PVD method). The conditions for forming the vapor-deposited film were as follows.
(Formation conditions)
(Plasma irradiation conditions)
・ Line speed: 30 m / min ・ Vacuum degree: 1.7 × 10 -2 Pa
-Output: 5.7 kW
・ Acceleration voltage: 151V
-Ar gas flow rate: 7.5 sccm
(Film formation conditions)
・ Thin-film deposition material: SiO
・ Reaction gas: O 2
・ Reaction gas flow rate: 100 sccm
参考例6−2
水溶性高分子に対する金属アルコキシドの固形分比(金属アルコキシド/水溶性高分子)が、質量基準において、4.1となるようにバリアコート層を形成したこと以外は、参考例6−1と同様して、バリア性積層体を作製した。
Reference example 6-2
Similar to Reference Example 6-1 except that the barrier coat layer was formed so that the solid content ratio of the metal alkoxide to the water-soluble polymer (metal alkoxide / water-soluble polymer) was 4.1 on a mass basis. Then, a barrier laminate was produced.
参考例6−3
水溶性高分子に対する金属アルコキシドの固形分比(金属アルコキシド/水溶性高分子)が、質量基準において、3.3となるようにバリアコート層を形成したこと以外は、参考例6−1と同様して、バリア性積層体を作製した。
Reference example 6-3
Similar to Reference Example 6-1 except that the barrier coat layer was formed so that the solid content ratio of the metal alkoxide to the water-soluble polymer (metal alkoxide / water-soluble polymer) was 3.3 on a mass basis. Then, a barrier laminate was produced.
参考例6−4
水溶性高分子に対する金属アルコキシドの固形分比(金属アルコキシド/水溶性高分子)が、質量基準において、2.7となるようにバリアコート層を形成したこと以外は、参考例6−1と同様して、バリア性積層体を作製した。
Reference example 6-4
Similar to Reference Example 6-1 except that the barrier coat layer was formed so that the solid content ratio of the metal alkoxide to the water-soluble polymer (metal alkoxide / water-soluble polymer) was 2.7 on a mass basis. Then, a barrier laminate was produced.
参考例6−5
水溶性高分子に対する金属アルコキシドの固形分比(金属アルコキシド/水溶性高分子)が、質量基準において、1.9となるようにバリアコート層を形成したこと以外は、参考例6−1と同様して、バリア性積層体を作製した。
Reference example 6-5
Similar to Reference Example 6-1 except that the barrier coat layer was formed so that the solid content ratio of the metal alkoxide to the water-soluble polymer (metal alkoxide / water-soluble polymer) was 1.9 on a mass basis. Then, a barrier laminate was produced.
参考例6−6
水溶性高分子に対する金属アルコキシドの固形分比(金属アルコキシド/水溶性高分子)が、質量基準において、1.5となるようにバリアコート層を形成したこと以外は、参考例6−1と同様して、バリア性積層体を作製した。
Reference example 6-6
Similar to Reference Example 6-1 except that the barrier coat layer was formed so that the solid content ratio of the metal alkoxide to the water-soluble polymer (metal alkoxide / water-soluble polymer) was 1.5 on a mass basis. Then, a barrier laminate was produced.
参考例7−1
蒸着膜の形成を以下のように変更した以外は、参考例5−1と同様にして、バリア性積層体を作製した。
Reference example 7-1
A barrier laminate was produced in the same manner as in Reference Example 5-1 except that the formation of the thin-film deposition film was changed as follows.
表面コート層上に、実機である、酸素プラズマ前処理装置を配置した前処理区画と、成膜区画とを隔離して備える連続蒸着膜成膜装置を用いて、前処理区画において、Roll to Rollにより、多層基材にテンションを与えながら、下記条件下でプラズマ供給ノズルからプラズマを導入し、酸素プラズマ前処理を施し、連続搬送した成膜区画において、酸素プラズマ処理面に、下記条件で、真空蒸着法の加熱手段として反応性抵抗加熱方式を用い、厚さ12nmの酸化アルミニウム(アルミナ)蒸着膜を形成した(PVD法)。
(形成条件)
(酸素プラズマ前処理条件)
・プラズマ強度:200W・sec/m2
・プラズマ形成ガス比:酸素:アルゴン=2:1
・前処理ドラム−プラズマ供給ノズル間印加電圧:340V
(成膜条件)
・搬送速度:400m/min
・酸素ガス供給量:20000sccm
In the pretreatment section, Roll to Roll using a continuous vapor deposition film deposition apparatus that separates the pretreatment section in which the oxygen plasma pretreatment device is arranged and the film formation section, which is an actual machine, on the surface coat layer. Therefore, while applying tension to the multilayer substrate, plasma is introduced from the plasma supply nozzle under the following conditions, oxygen plasma pretreatment is performed, and in the film formation section that is continuously conveyed, a vacuum is applied to the oxygen plasma treatment surface under the following conditions. A reactive resistance heating method was used as the heating means of the vapor deposition method to form an aluminum oxide (alumina) vapor deposition film having a thickness of 12 nm (PVD method).
(Formation conditions)
(Oxygen plasma pretreatment conditions)
・ Plasma intensity: 200 W ・ sec / m 2
-Plasma forming gas ratio: Oxygen: Argon = 2: 1
・ Voltage applied between pretreatment drum and plasma supply nozzle: 340V
(Film formation conditions)
・ Transport speed: 400m / min
・ Oxygen gas supply: 20000 sccm
参考例7−2
水溶性高分子に対する金属アルコキシドの固形分比(金属アルコキシド/水溶性高分子)が、質量基準において、4.1となるようにバリアコート層を形成したこと以外は、参考例7−1と同様して、バリア性積層体を作製した。
Reference example 7-2
Similar to Reference Example 7-1, except that the barrier coat layer was formed so that the solid content ratio of the metal alkoxide to the water-soluble polymer (metal alkoxide / water-soluble polymer) was 4.1 on a mass basis. Then, a barrier laminate was produced.
参考例7−3
水溶性高分子に対する金属アルコキシドの固形分比(金属アルコキシド/水溶性高分子)が、質量基準において、3.3となるようにバリアコート層を形成したこと以外は、参考例7−1と同様して、バリア性積層体を作製した。
Reference example 7-3
Similar to Reference Example 7-1, except that the barrier coat layer was formed so that the solid content ratio of the metal alkoxide to the water-soluble polymer (metal alkoxide / water-soluble polymer) was 3.3 on a mass basis. Then, a barrier laminate was produced.
参考例7−4
水溶性高分子に対する金属アルコキシドの固形分比(金属アルコキシド/水溶性高分子)が、質量基準において、2.7となるようにバリアコート層を形成したこと以外は、参考例7−1と同様して、バリア性積層体を作製した。
Reference example 7-4
Similar to Reference Example 7-1, except that the barrier coat layer was formed so that the solid content ratio of the metal alkoxide to the water-soluble polymer (metal alkoxide / water-soluble polymer) was 2.7 on a mass basis. Then, a barrier laminate was produced.
参考例7−5
水溶性高分子に対する金属アルコキシドの固形分比(金属アルコキシド/水溶性高分子)が、質量基準において、1.9となるようにバリアコート層を形成したこと以外は、参考例7−1と同様して、バリア性積層体を作製した。
Reference example 7-5
Similar to Reference Example 7-1, except that the barrier coat layer was formed so that the solid content ratio of the metal alkoxide to the water-soluble polymer (metal alkoxide / water-soluble polymer) was 1.9 on a mass basis. Then, a barrier laminate was produced.
参考例7−6
水溶性高分子に対する金属アルコキシドの固形分比(金属アルコキシド/水溶性高分子)が、質量基準において、1.5となるようにバリアコート層を形成したこと以外は、参考例7−1と同様して、バリア性積層体を作製した。
Reference example 7-6
Similar to Reference Example 7-1, except that the barrier coat layer was formed so that the solid content ratio of the metal alkoxide to the water-soluble polymer (metal alkoxide / water-soluble polymer) was 1.5 on a mass basis. Then, a barrier laminate was produced.
<<ガスバリア性評価(ラミネート後)>>
上記参考例おいて得られたバリア性積層体を切り出して、試験片を得た。この試験片を用いて、上記と同様にして、酸素透過度(cc/m2・day・atm)および水蒸気透過度(g/m2・day)を測定した。その結果を表2〜8にまとめた。なお、表2〜8では、酸素透過度および蒸気透過度の単位を省略する。
<< Gas barrier property evaluation (after lamination) >>
The barrier laminate obtained in the above reference example was cut out to obtain a test piece. Using this test piece, oxygen permeability (cc / m 2 · day · atm) and water vapor permeability (g / m 2 · day) were measured in the same manner as described above. The results are summarized in Tables 2-8. In Tables 2 to 8, the units of oxygen permeability and vapor permeability are omitted.
<<ガスバリア性評価(ゲルボフレックス試験後)>>
上記参考例おいて得られたバリア性層体を用いて、筒状の袋を作製した。この袋を用いて、ASTM F392に準拠したゲルボフレックス試験を10回繰り返した。
その後、当該袋からバリア性積層体を切り出して、試験片を得た。この試験片を用いて、上記と同様にして、酸素透過度(cc/m2・day・atm)および水蒸気透過度(g/m2・day)を測定した。その結果を表2〜8にまとめた。なお、表2〜8では、酸素透過度および蒸気透過度の単位を省略する。
<< Gas barrier property evaluation (after Gelboflex test) >>
A tubular bag was prepared using the barrier layer obtained in the above reference example. Using this bag, the ASTM F392 compliant Gelboflex test was repeated 10 times.
Then, the barrier laminate was cut out from the bag to obtain a test piece. Using this test piece, oxygen permeability (cc / m 2 · day · atm) and water vapor permeability (g / m 2 · day) were measured in the same manner as described above. The results are summarized in Tables 2-8. In Tables 2 to 8, the units of oxygen permeability and vapor permeability are omitted.
10:バリア性積層体、11:基材、12:接着層、13:蒸着膜、14:中間層、15:シーラント層、16:表面樹脂層、17:ポリプロピレン樹脂層、18:バリアコート層、19:接着性樹脂層、20:バリア性積層体、21:基材、22:接着層、23:蒸着膜、24:中間層、25:シーラント層、26:表面コート層、27:ポリプロピレン樹脂層、28:バリアコート層、30:包装袋、40:スタンディングパウチ、41:胴部(側面シート)、42:底部(底面シート)、51:易開封手段、52:ノッチ部、53:ハーフカット線、60:蒸気抜き機構、60a:蒸気シール部、60b:非シール部、70:試験片、71:基材側、72:シーラント層側、73:つかみ具、A:真空容器、B:巻出し部、C:成膜用ドラム、D:巻取り部、E:搬送ロール、F:蒸発源、G:反応ガス供給部、H:防着箱、I:蒸着材料、J:プラズマガン、A1:真空容器、B1:巻出し部、C1:冷却・電極ドラム、D1:巻取り部、E1:搬送ロール、F1:グロー放電プラズマ、G1:反応ガス供給部、H1:原料供給ノズル、I1:原料ガス供給部、J1:マグネット、K1:電源、L1:真空ポンプ 10: Barrier laminate, 11: Base material, 12: Adhesive layer, 13: Vapor film, 14: Intermediate layer, 15: Sealant layer, 16: Surface resin layer, 17: Polypropylene resin layer, 18: Barrier coat layer, 19: Adhesive resin layer, 20: Barrier laminate, 21: Base material, 22: Adhesive layer, 23: Vapor film, 24: Intermediate layer, 25: Sealant layer, 26: Surface coat layer, 27: Polypropylene resin layer , 28: Barrier coat layer, 30: Packaging bag, 40: Standing pouch, 41: Body (side sheet), 42: Bottom (bottom sheet), 51: Easy opening means, 52: Notch, 53: Half-cut line , 60: Steam venting mechanism, 60a: Steam seal part, 60b: Non-seal part, 70: Test piece, 71: Base material side, 72: Sealant layer side, 73: Grab tool, A: Vacuum pump, B: Unwinding Part, C: film-forming drum, D: take-up part, E: transfer roll, F: evaporation source, G: reaction gas supply part, H: sealant box, I: vapor deposition material, J: plasma gun, A1: Vacuum container, B1: Unwinding part, C1: Cooling / electrode drum, D1: Winding part, E1: Conveying roll, F1: Glow discharge plasma, G1: Reaction gas supply part, H1: Raw material supply nozzle, I1: Raw material gas Supply unit, J1: magnet, K1: power supply, L1: vacuum pump
Claims (21)
前記中間層が、少なくとも表面樹脂層と、ポリプロピレン樹脂層とを備え、
前記表面樹脂層が、融点180℃以上の樹脂材料を含み、
記蒸着膜が、無機酸化物から構成され、
前記表面樹脂層およびポリプロプレン樹脂層は延伸処理が施されていることを特徴とする、バリア性積層体。 A base material, an adhesive layer, a thin-film deposition film, an intermediate layer, and a sealant layer are provided.
The intermediate layer includes at least a surface resin layer and a polypropylene resin layer.
The surface resin layer contains a resin material having a melting point of 180 ° C. or higher.
The thin-film deposition film is composed of inorganic oxides.
A barrier laminate characterized in that the surface resin layer and the polypropylene resin layer are subjected to a stretching treatment.
前記同一材料が、ポリプロプレンである、請求項1に記載のバリア性積層体。 The polypropylene resin layer, the base material, and the sealant layer are made of the same material.
The barrier laminate according to claim 1, wherein the same material is polypropylene.
前記中間層は、表面コート層と、ポリプロピレン樹脂層とを備え、
前記ポリプロピレン樹脂層は、延伸処理が施されており、
かつ前記表面コート層が、極性基を有する樹脂材料を含み、
前記蒸着膜が、無機酸化物から構成されることを特徴とする、バリア性積層体。 A base material, an adhesive layer, a thin-film deposition film, an intermediate layer, and a sealant layer are provided.
The intermediate layer includes a surface coat layer and a polypropylene resin layer.
The polypropylene resin layer has been stretched and has been stretched.
Moreover, the surface coating layer contains a resin material having a polar group, and the surface coating layer contains a resin material.
A barrier laminate, wherein the vapor-deposited film is composed of an inorganic oxide.
前記同一材料が、ポリプロプレンである、請求項12に記載のバリア性積層体。 The polypropylene resin layer, the base material, and the sealant layer are made of the same material.
The barrier laminate according to claim 12, wherein the same material is polypropylene.
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2019181013 | 2019-09-30 | ||
JP2019181013 | 2019-09-30 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2021054078A true JP2021054078A (en) | 2021-04-08 |
Family
ID=75269486
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2020163996A Pending JP2021054078A (en) | 2019-09-30 | 2020-09-29 | Barrier laminate, and packaging container having the barrier laminate |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP2021054078A (en) |
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Legal Events
Date | Code | Title | Description |
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A621 | Written request for application examination |
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|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20240903 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
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