JP2020517424A - 流動床のガス分配器、それを用いた反応器及びパラキシレンを生産し低級オレフィンを併産する方法 - Google Patents
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Abstract
Description
C6H5−CH3+CH3OH→C6H4−(CH3)2+H2O(1)
nCH3OH→(CH2)n+nH2O n=2,3 (2)
従来のトルエンアルキル化方法は、反応器の上流側でトルエンとメタノールを混合し、次に混合物を反応器に供給することを含む。反応器の種類は、固定床と流動床を含む。トルエンの転化率を向上させるために、反応物を段階的に注入することは、各種の固定床と流動床のプロセスに用いられている。
前記吸気管は、前記微孔コア管のガス経路に接続され、かつ、前記流動床の外部から前記流動床内の前記微孔コア管へガスを導入し、
前記吸気環状管は、前記吸気管ガス経路に接続され、かつ、前記第1の分配器のガス流れ方向と垂直な平面に配置され、
前記微孔コア管は、前記吸気環状管上に配置され、かつ、前記吸気環状管が配置されている平面に垂直である。
前記第1の分配器は、前記反応領域の底部に配置され、前記第2の分配器は、前記第1の分配器の上に配置され、前記沈降領域が前記反応領域の上方に位置し、前記沈降領域内には前記気固分離器が設置され、前記ストリッピング領域が前記反応領域の下方に位置し、前記再生触媒輸送管が前記反応領域に接続される。
(1)トルエンを含む流れA、又はメタノール及び/又はジメチルエーテルとトルエンとを含む流れAが第1の分配器を経て、触媒を含む流動床反応器の反応領域に入る工程と、
(2)メタノール及び/又はジメチルエーテルを含む流れBが第2の分配器を経て流動床反応器の前記反応領域に入る工程と、
(3)前記反応領域において、流れA及び/又は流れB中のメタノール及び/又はジメチルエーテル、トルエンが触媒と接触し、パラキシレンと低級オレフィンを含む流れCを生成する工程と、を含む。
(4)前記流れCが沈降領域及び気固分離器に入り、流れCが分離されることにより低級オレフィン、パラキシレン、鎖状炭化水素副生成物、芳香族炭化水素副生成物、並びに未転化のトルエン、未転化のメタノール及び/又はジメチルエーテルを得る工程と、
(5)未転化のメタノール及び/又はジメチルエーテルが前記第2の分配器を介して流動床反応器に戻り、芳香族炭化水素副生成物及び未転化のトルエンが第1の分配器を介して流動床反応器に戻る工程と、
(6)カーボンが堆積することで前記触媒が反応領域において再生対象触媒となり、再生対象触媒がストリッピングされ、再生器に入って再生され、再生触媒が得られ、再生触媒が再生触媒輸送管を介して流動床反応器に入る工程と、を含む。
(1)本願に係る流動床のガス分配器は、原料反応レートの差が大きな共同供給系において、異なる原料流れを異なる領域に分配させて供給することによって、物質移動制御を達成し、更に共同供給系を調整して、最適化させ、反応収率を向上させる。
(1)メタノールとトルエンの混合物が第1のガス分配器から流動床反応器の反応領域に入る工程と、
(2)第1のガス分配器から入ったメタノールとの質量比が、1:1〜10:1となるように、メタノールが第2のガス分配器から流動床反応器の反応領域に入る工程と、
(3)反応領域において、反応物が触媒と接触し、パラキシレンと低級オレフィンを含む気相流れを生成する工程と、
(4)前記気相流れが沈降領域、気固分離器に入り、製品出口を介して後続の分離段階に入り、分離後に、エチレン;プロピレン;ブテン;パラキシレン;ジメチルエーテル;メタン、エタン、プロパン、ブタン、及びC5+鎖状炭化水素等を含む鎖状炭化水素副生成物;ベンゼン、エチルベンゼン、オルトキシレン、メタキシレン、及びC9+芳香族炭化水素等を含む芳香族炭化水素副生成物;並びに未転化のメタノール、及びトルエンを得る工程と、
(5)ジメチルエーテル及び未転化のメタノールを第2のガス分配器を介して、流動床反応器に原料として戻して再循環させ、芳香族炭化水素副生成物及び未転化のトルエンを第1のガス分配器を介して、流動床反応器に原料として戻して再循環させる工程と、
(6)カーボンが堆積することで前記触媒が反応領域において再生対象触媒となり、再生対象触媒がストリッピングされ、流動床再生器に入って再生され、再生触媒が再生触媒輸送管を介して流動床反応器に入る工程と、を含む。
図1に示される流動床反応器においてパラキシレン及び低級オレフィンを生産し、流動床反応器は、第1のガス分配器1と、第2のガス分配器2と、反応領域3と、沈降領域4と、気固分離器5と、ストリッピング領域6と、再生触媒輸送管7と、を備え、第1のガス分配器1は、反応領域3の底部に配置され、第2のガス分配器2は、反応領域3内に配置され、沈降領域4は、反応領域3の上方に位置し、沈降領域4内には気固分離器5が設置され、頂部には製品出口が設けられ、ストリッピング領域6は、反応領域3の下方に位置し、反応領域3の上部は、再生触媒輸送管7に接続される。
図1に示す流動床反応器においてパラキシレン及び低級オレフィンを生産し、流動床反応器は、第1のガス分配器1と、第2のガス分配器2と、反応領域3と、沈降領域4と、気固分離器5と、ストリッピング領域6と、再生触媒輸送管7と、を備え、第1のガス分配器1は、反応領域3の底部に配置され、第2のガス分配器2は、反応領域3に配置され、沈降領域4は、反応領域3の上方に位置し、沈降領域4内には気固分離器5が設置され、頂部には製品出口が設けられ、ストリッピング領域6は、反応領域3の下方に位置し、反応領域3の上部は、再生触媒輸送管7に接続される。
図1に示す流動床反応器においてパラキシレン及び低級オレフィンを生産し、流動床反応器は、第1のガス分配器1と、第2のガス分配器2と、反応領域3と、沈降領域4と、気固分離器5と、ストリッピング領域6と、再生触媒輸送管7と、を備え、第1のガス分配器1は、反応領域3の底部に配置され、第2のガス分配器2は、反応領域3に配置され、沈降領域4は、反応領域3の上方に位置し、沈降領域4内には気固分離器5が設置され、頂部には製品出口が設けられ、ストリッピング領域6は、反応領域3の下方に位置し、反応領域3の上部は、再生触媒輸送管7に接続される。
図2に示す流動床反応器においてパラキシレン及び低級オレフィンを生産し、流動床反応器は、第1のガス分配器1と、第2のガス分配器2と、反応領域3と、沈降領域4と、気固分離器5、ストリッピング領域6と、再生触媒輸送管7と、を備え、第1のガス分配器1は、反応領域3の底部に配置され、第2のガス分配器2は、反応領域3に配置され、沈降領域4は、反応領域3の上方に位置し、沈降領域4内には気固分離器5が設置され、頂部には製品出口が設けられ、ストリッピング領域6は、反応領域3の下方に位置し、反応領域3の底部は、再生触媒輸送管7に接続される。
1−第1のガス分配器、2−第2のガス分配器、3−反応領域、4−沈降領域、5−気固分離器、6−ストリッピング領域、7−再生触媒輸送管。
Claims (22)
- 流動床の底部に位置する第1の分配器と、第1の分配器のガス流れ方向の下流側の少なくとも1つの領域に位置する第2の分配器と、を備えることを特徴とする流動床のガス分配器。
- 前記第2の分配器は、吸気管と、微孔コア管と、吸気環状管と、を備え、
前記吸気管は、前記微孔コア管のガス経路に接続され、かつ、前記流動床の外部から前記流動床内の前記微孔コア管へガスを導入し、
前記吸気環状管は、前記吸気管のガス経路に接続され、かつ、前記第1の分配器のガス流れ方向と垂直な平面に配置され、
前記微孔コア管は、前記吸気環状管上に配置され、かつ、前記吸気環状管が配置されている平面に垂直であることを特徴とする請求項1に記載の流動床のガス分配器。 - 流れAが前記第1の分配器を経て流動床に入り、
流れBが前記第2の分配器を経て流動床に入り、前記流れAの少なくとも一部のガスと接触することを特徴とする請求項1に記載の流動床のガス分配器。 - 前記第1の分配器は、二次元ガス分配器であり、かつ、前記流動床の底部における前記第1の分配器が位置する平面にガスを分配させることを特徴とする請求項1に記載の流動床のガス分配器。
- 前記第2の分配器は、三次元ガス分配器であり、かつ、前記流動床における前記第2の分配器が位置する少なくとも一部の反応空間にガスを分配させることを特徴とする請求項1に記載の流動床のガス分配器。
- 前記第1の分配器は、樹枝状ガス分配器及び/又はブラストキャップ付ガス分配器であることを特徴とする請求項1に記載の流動床のガス分配器。
- 前記微孔コア管は、セラミック製微孔管及び/又は粉末冶金微孔管であることを特徴とする請求項2に記載の流動床のガス分配器。
- 前記微孔コア管は、側面及び端面に、穴径が0.5μm〜50μm、空隙率が25%〜50%である微孔を有し、
前記微孔コア管の管内におけるガス速度は、0.1〜10m/sであることを特徴とする請求項2に記載の流動床のガス分配器。 - 前記微孔コア管の管内におけるガス速度は、1m/s〜10m/sであることを特徴とする請求項2に記載の流動床のガス分配器。
- 前記微孔コア管は、複数あり且つ相互に平行に配列され、前記吸気環状管は、複数あり且つ同一平面において同心環状又は平面螺旋状に配列されることを特徴とする請求項2に記載の流動床のガス分配器。
- パラキシレンを生産し低級オレフィンを併産する流動床反応器に用いられることを特徴とする請求項1に記載の流動床のガス分配器。
- 請求項1〜11のいずれか1項に記載の流動床のガス分配器のうちの少なくとも1つを備えることを特徴とする流動床反応器。
- 前記流動床反応器は、反応領域、沈降領域、気固分離器、ストリッピング領域及び再生触媒輸送管を備え、
前記第1の分配器は、前記反応領域の底部に配置され、前記第2の分配器は、前記第1の分配器の上に配置され、前記沈降領域が前記反応領域の上方に位置し、前記沈降領域内には前記気固分離器が設置され、前記ストリッピング領域が前記反応領域の下方に位置し、前記再生触媒輸送管が前記反応領域に接続されることを特徴とする請求項12に記載の流動床反応器。 - 前記再生触媒輸送管は、反応領域の上部に接続されることを特徴とする請求項13に記載の流動床反応器。
- 前記再生触媒輸送管は、反応領域の底部に接続されることを特徴とする請求項13に記載の流動床反応器。
- メタノール及び/又はジメチルエーテルとトルエンとからパラキシレンを生産し低級オレフィンを併産する方法であって、
請求項1〜11のいずれか1項に記載の流動床のガス分配器のうちの少なくとも1種、及び/又は請求項12〜15のいずれか1項に記載の流動床反応器のうちの少なくとも1種を用い、前記パラキシレンを生産し低級オレフィンを併産する方法は、少なくとも、
(1)トルエンを含む流れA、又はメタノール及び/又はジメチルエーテルとトルエンとを含む流れAが第1の分配器を経て、触媒を含む流動床反応器の反応領域に入る工程と、
(2)メタノール及び/又はジメチルエーテルを含む流れBが第2の分配器を経て流動床反応器の前記反応領域に入る工程と、
(3)前記反応領域において、流れA及び/又は流れB中の、メタノール及び/又はジメチルエーテル、トルエンが触媒と接触し、パラキシレンと低級オレフィンとを含む流れCを生成する工程と、を含むことを特徴とする方法。 - 前記メタノール及び/又はジメチルエーテルとトルエンとからパラキシレンを生産し低級オレフィンを併産する方法は、さらに、
(4)前記流れCが沈降領域及び気固分離器に入り、流れCが分離されることにより低級オレフィン、パラキシレン、鎖状炭化水素副生成物、芳香族炭化水素副生成物、並びに未転化のトルエン、未転化のメタノール及び/又はジメチルエーテルを得る工程と、
(5)未転化のメタノール及び/又はジメチルエーテルが前記第2の分配器を介して流動床反応器に戻り、芳香族炭化水素副生成物及び未転化のトルエンが第1の分配器を介して流動床反応器に戻る工程と、
(6)カーボンが堆積することで前記触媒が反応領域において再生対象触媒となり、再生対象触媒がストリッピングされ、再生器に入って再生され、再生触媒が得られ、再生触媒が再生触媒輸送管を介して流動床反応器に入る工程と、
を含むことを特徴とする請求項16に記載の方法。 - 前記流れB中のメタノール及び/又はジメチルエーテルと流れA中のメタノール及び/又はジメチルエーテルとの質量比は、1:1〜10:1であることを特徴とする請求項16に記載の方法。
- 前記流れA中のメタノール及びジメチルエーテルの合計含有量は、0質量%〜30質量%であることを特徴とする請求項16に記載の方法。
- 前記流れA中のメタノール及びジメチルエーテルの合計含有量は、2質量%〜20質量%であることを特徴とする請求項16に記載の方法。
- 前記流動床反応器において、気相線速度が0.2〜2m/s、反応温度が300〜600℃であることを特徴とする請求項16に記載の方法。
- 前記再生器において、気相線速度が0.2〜2m/s、再生温度が500〜800℃であることを特徴とする請求項17に記載の方法。
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