JP2020125795A - 真空圧力比例制御弁 - Google Patents
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- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 claims abstract description 28
- 230000004308 accommodation Effects 0.000 claims description 10
- 230000002093 peripheral effect Effects 0.000 claims description 5
- 239000012530 fluid Substances 0.000 description 21
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 11
- 238000012360 testing method Methods 0.000 description 11
- 238000001514 detection method Methods 0.000 description 10
- 230000003014 reinforcing effect Effects 0.000 description 7
- 229910001220 stainless steel Inorganic materials 0.000 description 6
- 239000010935 stainless steel Substances 0.000 description 6
- 238000003780 insertion Methods 0.000 description 5
- 230000037431 insertion Effects 0.000 description 5
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 5
- 238000000034 method Methods 0.000 description 5
- 238000005086 pumping Methods 0.000 description 4
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 4
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 description 3
- 238000004891 communication Methods 0.000 description 2
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 2
- 239000000463 material Substances 0.000 description 2
- 239000002245 particle Substances 0.000 description 2
- 230000004043 responsiveness Effects 0.000 description 2
- 238000007796 conventional method Methods 0.000 description 1
- 238000006073 displacement reaction Methods 0.000 description 1
- 238000003466 welding Methods 0.000 description 1
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- F—MECHANICAL ENGINEERING; LIGHTING; HEATING; WEAPONS; BLASTING
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- F16K51/00—Other details not peculiar to particular types of valves or cut-off apparatus
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- F—MECHANICAL ENGINEERING; LIGHTING; HEATING; WEAPONS; BLASTING
- F04—POSITIVE - DISPLACEMENT MACHINES FOR LIQUIDS; PUMPS FOR LIQUIDS OR ELASTIC FLUIDS
- F04C—ROTARY-PISTON, OR OSCILLATING-PISTON, POSITIVE-DISPLACEMENT MACHINES FOR LIQUIDS; ROTARY-PISTON, OR OSCILLATING-PISTON, POSITIVE-DISPLACEMENT PUMPS
- F04C14/00—Control of, monitoring of, or safety arrangements for, machines, pumps or pumping installations
- F04C14/18—Control of, monitoring of, or safety arrangements for, machines, pumps or pumping installations characterised by varying the volume of the working chamber
- F04C14/185—Control of, monitoring of, or safety arrangements for, machines, pumps or pumping installations characterised by varying the volume of the working chamber by varying the useful pumping length of the cooperating members in the axial direction
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- F—MECHANICAL ENGINEERING; LIGHTING; HEATING; WEAPONS; BLASTING
- F16—ENGINEERING ELEMENTS AND UNITS; GENERAL MEASURES FOR PRODUCING AND MAINTAINING EFFECTIVE FUNCTIONING OF MACHINES OR INSTALLATIONS; THERMAL INSULATION IN GENERAL
- F16K—VALVES; TAPS; COCKS; ACTUATING-FLOATS; DEVICES FOR VENTING OR AERATING
- F16K1/00—Lift valves or globe valves, i.e. cut-off apparatus with closure members having at least a component of their opening and closing motion perpendicular to the closing faces
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- F16K1/52—Means for additional adjustment of the rate of flow
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- F—MECHANICAL ENGINEERING; LIGHTING; HEATING; WEAPONS; BLASTING
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- F16K—VALVES; TAPS; COCKS; ACTUATING-FLOATS; DEVICES FOR VENTING OR AERATING
- F16K27/00—Construction of housing; Use of materials therefor
-
- F—MECHANICAL ENGINEERING; LIGHTING; HEATING; WEAPONS; BLASTING
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- F16K—VALVES; TAPS; COCKS; ACTUATING-FLOATS; DEVICES FOR VENTING OR AERATING
- F16K27/00—Construction of housing; Use of materials therefor
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- F16K—VALVES; TAPS; COCKS; ACTUATING-FLOATS; DEVICES FOR VENTING OR AERATING
- F16K31/00—Actuating devices; Operating means; Releasing devices
- F16K31/12—Actuating devices; Operating means; Releasing devices actuated by fluid
- F16K31/126—Actuating devices; Operating means; Releasing devices actuated by fluid the fluid acting on a diaphragm, bellows, or the like
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- F04C—ROTARY-PISTON, OR OSCILLATING-PISTON, POSITIVE-DISPLACEMENT MACHINES FOR LIQUIDS; ROTARY-PISTON, OR OSCILLATING-PISTON, POSITIVE-DISPLACEMENT PUMPS
- F04C13/00—Adaptations of machines or pumps for special use, e.g. for extremely high pressures
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- F16K31/00—Actuating devices; Operating means; Releasing devices
- F16K31/12—Actuating devices; Operating means; Releasing devices actuated by fluid
- F16K31/122—Actuating devices; Operating means; Releasing devices actuated by fluid the fluid acting on a piston
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- F16K99/00—Subject matter not provided for in other groups of this subclass
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Abstract
Description
(真空圧力比例制御弁の概略構成)
図1は、本発明の第1実施形態に係る真空圧力比例制御弁1の断面図であって、弁閉状態を示す。図2は、真空圧力比例制御弁1の断面図であって、全開状態を示す。以下の説明では、第2ポート12側を「下」、上部シリンダキャップ5側を「上」として説明する。
図3は、図2のA部拡大図であって、フルストローク拡大動作を示す。図4は、図2のA部拡大図であって、フルストローク縮小動作を示す。図5は、図3の上面図である。調整部61は、当接部材63と、付勢ばね66と、ネジ部64を備える。付勢ばね66は「付勢部材」の一例である。
続いて、真空圧力比例制御弁1の動作を説明する。真空圧力比例制御弁1は、反応容器102の内部でプロセスを実行する場合、下室31Bが加圧されない。そのため、図1に示すように、ピストン32がスプリング33の付勢力により弾性シール部材22を弁座面15に密着させるように下降し、連通部14が遮断されている。
例えば、図3に示すように、先端部511の位置を上昇させる場合、真空圧力比例制御弁1は、回り止め部材68と当接部材63を離間させるように回り止め部材68が回転され、当接部材63の固定が解除される。そして、回転用治具9の一対の係止ピン93,93が当接部材63の引掛孔65,65に差し込まれ、回転用治具9を用いて当接部材63が、真空圧力比例制御弁1を上方から見て反時計回りK1に回転される。
図8及び図9を参照して、真空圧力比例制御弁1のストロークStが排気特性に与える影響を調べる排気特性試験について説明する。図8は、試験装置1000の概略構成図である。図9は、試験結果を示すグラフである。
以上説明したように、本形態の真空圧力比例制御弁1は、反応容器102と真空ポンプ101とを接続する配管103に配置され、反応容器102内の真空圧力を制御する真空圧力比例制御弁1において、ピストン室31を備えるシリンダ6と、ピストン室31に往復直線運動可能に収容されるピストン32と、弁座面15と、ピストン32の動作に応じて弁座面15に当接又は離間する弁体21と、先端部511がピストン室31の内部に配置されるようにシリンダ6に設けられ、先端部511とピストン32が当接した場合に真空圧力比例制御弁1を全開状態にするストッパ部材51と、ストッパ部材51をピストン32の移動方向に進退させ、先端部511の位置を調整する調整部61と、を有すること、を特徴とする。
続いて、本発明の第2実施形態について説明する。図10は、本発明の第2実施形態に係る真空圧力比例制御弁201の部分拡大断面図であって、弁閉状態を示す。図11は、真空圧力比例制御弁201の部分拡大断面図であって、全開状態を示す。
6 シリンダ
9 回転用治具
15 弁座面
21 弁体
31 ピストン室
32 ピストン
51,211 ストッパ部材
61 調整部
62 収容溝
63 当接部材
64 ネジ部
65 引掛孔
66 付勢ばね
68 回り止め部材
214 ネジ部
218 固定ナット
Claims (7)
- 反応容器と真空ポンプとを接続する配管に配置され、反応容器内の真空圧力を制御する真空圧力比例制御弁において、
ピストン室を備えるシリンダと、
前記ピストン室に往復直線運動可能に収容されるピストンと、
弁座と、
前記ピストンの動作に応じて前記弁座に当接又は離間する弁体と、
先端部が前記ピストン室の内部に配置されるように前記シリンダに設けられ、前記先端部と前記ピストンが当接した場合に前記真空圧力比例制御弁を全開状態にするストッパ部材と、
前記ストッパ部材を前記ピストンの移動方向に進退させ、前記先端部の位置を調整する調整部と、を有すること、
を特徴とする真空圧力比例制御弁。 - 請求項1に記載する真空圧力比例制御弁において、
前記調整部は、
前記シリンダの前記弁座と反対側に位置する面に、前記ストッパ部材の後端部と当接可能に配置される当接部材と、
前記ストッパ部材を前記当接部材に向かって付勢する付勢部材と、
前記当接部材を前記ピストンの移動方向に移動させるネジ部と、
を有すること、
を特徴とする真空圧力比例制御弁。 - 請求項2に記載する真空圧力比例制御弁において、
前記当接部材は、環状に設けられていること、
前記シリンダは、前記当接部材を収容する収容溝が環状に形成されていること、
前記ネジ部は、前記当接部材の外周面に形成された雄ねじ部と、前記収容溝の内周面に形成された雌ねじ部と、を有していること、
前記ストッパ部材は、前記収容溝の周方向に沿って均等に配置され、それぞれ前記付勢部材によって前記当接部材に向かって付勢されていること、
を特徴とする真空圧力比例制御弁。 - 請求項3に記載する真空圧力比例制御弁において、
前記当接部材は、前記ストッパ部材と当接する面と反対側に位置する面に、前記当接部材を回転させるための回転用治具を引っ掛けるための引掛孔が周方向に均等に形成されていること、
を特徴とする真空圧力比例制御弁。 - 請求項1に記載する真空圧力比例制御弁において、
前記ストッパ部材は、前記ピストンの移動方向に沿って前記シリンダに貫き通されていること、
前記調整部は、前記ストッパ部材と前記シリンダとの間に設けられたネジ部であること、
を特徴とする真空圧力比例制御弁。 - 請求項1乃至請求項5の何れか1つに記載する真空圧力比例制御弁において、
前記ピストンは、前記ストッパ部材と当接する位置の硬度が前記ストッパ部材の硬度以上であること、
を特徴とする真空圧力比例制御弁。 - 請求項1乃至請求項6の何れか1つに記載する真空圧力比例制御弁において、
前記ストッパ部材を任意の位置で固定する固定部材を有すること、
を特徴とする真空圧力比例制御弁。
Priority Applications (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2019017803A JP7036756B2 (ja) | 2019-02-04 | 2019-02-04 | 真空圧力比例制御弁 |
TW109101505A TWI760680B (zh) | 2019-02-04 | 2020-01-16 | 真空壓力比例控制閥 |
US16/747,711 US11384864B2 (en) | 2019-02-04 | 2020-01-21 | Vacuum pressure proportional control valve |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2019017803A JP7036756B2 (ja) | 2019-02-04 | 2019-02-04 | 真空圧力比例制御弁 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2020125795A true JP2020125795A (ja) | 2020-08-20 |
JP7036756B2 JP7036756B2 (ja) | 2022-03-15 |
Family
ID=71835745
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2019017803A Active JP7036756B2 (ja) | 2019-02-04 | 2019-02-04 | 真空圧力比例制御弁 |
Country Status (3)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US11384864B2 (ja) |
JP (1) | JP7036756B2 (ja) |
TW (1) | TWI760680B (ja) |
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Date | Code | Title | Description |
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A621 | Written request for application examination |
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A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20211026 |
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A131 | Notification of reasons for refusal |
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A521 | Request for written amendment filed |
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A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
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A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
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R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
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