JP2020109351A - Heating device - Google Patents
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- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 title claims abstract description 84
- 230000004308 accommodation Effects 0.000 claims description 34
- 239000007789 gas Substances 0.000 claims description 20
- 239000011261 inert gas Substances 0.000 claims description 5
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 claims description 3
- 239000002184 metal Substances 0.000 claims description 3
- 230000003749 cleanliness Effects 0.000 abstract description 8
- 230000008602 contraction Effects 0.000 abstract description 8
- 239000000463 material Substances 0.000 abstract description 5
- 230000005855 radiation Effects 0.000 abstract description 4
- 230000020169 heat generation Effects 0.000 abstract 1
- 238000004381 surface treatment Methods 0.000 description 7
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 5
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 5
- 230000000149 penetrating effect Effects 0.000 description 4
- 229910000838 Al alloy Inorganic materials 0.000 description 2
- 238000009825 accumulation Methods 0.000 description 2
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 description 2
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000007599 discharging Methods 0.000 description 2
- 238000001035 drying Methods 0.000 description 2
- 230000017525 heat dissipation Effects 0.000 description 2
- 239000004973 liquid crystal related substance Substances 0.000 description 2
- 238000013021 overheating Methods 0.000 description 2
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 2
- 239000010935 stainless steel Substances 0.000 description 2
- 229910001220 stainless steel Inorganic materials 0.000 description 2
- 229920003002 synthetic resin Polymers 0.000 description 2
- 239000000057 synthetic resin Substances 0.000 description 2
- 239000000919 ceramic Substances 0.000 description 1
- 239000000470 constituent Substances 0.000 description 1
- 239000011810 insulating material Substances 0.000 description 1
- 230000001590 oxidative effect Effects 0.000 description 1
- 238000007747 plating Methods 0.000 description 1
- 238000003756 stirring Methods 0.000 description 1
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Abstract
Description
本発明は、液晶表示パネルやプラズマ表示パネルなどの構成部材であるガラス基板や半導体リードフレームあるいはその他の金属板や合成樹脂板などの各種板状部材の熱処理に使用される加熱装置に関する。 The present invention relates to a heating device used for heat treatment of various plate members such as glass substrates, semiconductor lead frames, other metal plates and synthetic resin plates, which are constituent members of liquid crystal display panels and plasma display panels.
液晶表示パネルなどの構成部材であるガラス基板を熱処理する装置としては、従来、加熱気体循環方式のクリーンオーブンが使用されている(例えば、特許文献1参照。)。このクリーンオーブンは、ガラス基板などの被熱処理物を恒温槽内に収容し、この恒温槽内においてファンによって循環する加熱気体を用いて被加熱物の熱処理を行うものである。 As a device for heat-treating a glass substrate which is a component such as a liquid crystal display panel, a heated gas circulation type clean oven has been conventionally used (for example, refer to Patent Document 1). This clean oven accommodates an object to be heat-treated, such as a glass substrate, in a constant temperature bath, and heats the object to be heated using a heating gas circulated by a fan in the constant temperature bath.
しかしながら、加熱気体循環方式のクリーンオーブンの場合、ガラス基板などの被加熱物を多段状に収容する構造を採用しやすいので、スペース効率に優れている反面、加熱温度分布を均一化することが困難であり、加熱気体の攪拌によりクリーン度が悪化する可能性が高い。また、被加熱物が比較的軽量である場合、加熱気体の循環対流によって被加熱物が所定の位置から移動することがある。 However, in the case of a heated gas circulation type clean oven, it is easy to adopt a structure in which objects to be heated such as glass substrates are stored in multiple stages, so while it is excellent in space efficiency, it is difficult to make the heating temperature distribution uniform. Therefore, the cleanliness is likely to be deteriorated by stirring the heated gas. When the object to be heated is relatively lightweight, the object to be heated may move from a predetermined position due to circulating convection of heating gas.
このような問題を解決するため、内部に発熱体を有する放熱板の両面に遠赤外線放射セラミックスの薄層が被覆され、この放熱板の加熱によって両面から遠赤外線を放射する両面加熱式の遠赤外線パネルヒータからなる多数の棚状ヒータが、炉本体内に上下方向に一定間隔で多段配置され、これらの棚状ヒータの間に形成される各空間部分をそれぞれ乾燥室とした加熱炉が開発されている(例えば、特許文献2参照。)。 In order to solve such a problem, a thin layer of far-infrared radiating ceramics is coated on both sides of a heat dissipation plate having a heating element inside, and a double-sided heating type far infrared that radiates far infrared rays from both sides by heating the heat dissipation plate A large number of shelf heaters consisting of panel heaters are arranged in the furnace body in multiple stages at regular intervals in the vertical direction, and a heating furnace has been developed in which each space formed between these shelf heaters is a drying chamber. (See, for example, Patent Document 2).
特許文献2記載の加熱炉の場合、両面加熱式の遠赤外線パネルヒータからなる多数の棚状ヒータが配置されているため、これらの棚状ヒータの間に形成される各空間部(乾燥室)を効率的に加熱することができる点では優れている。 In the case of the heating furnace described in Patent Document 2, since a large number of shelf-like heaters composed of double-sided heating type far infrared panel heaters are arranged, each space portion (drying chamber) formed between these shelf-like heaters. Is excellent in that it can be efficiently heated.
しかしながら、この加熱炉においては、上下方向に配置された多数の棚状ヒータから発される熱は、加熱炉内を上昇して炉内の天壁寄りの領域に集まる傾向があるため、炉内上部領域の温度は、炉内下部領域の温度より高くなっており、このような炉内上部領域と炉内下部領域との間の温度差をなくすことは極めて困難である。 However, in this heating furnace, the heat generated from a large number of vertically arranged shelf-shaped heaters tends to rise in the heating furnace and collect in the region near the ceiling wall in the furnace. The temperature of the upper region is higher than the temperature of the lower region inside the furnace, and it is extremely difficult to eliminate such a temperature difference between the upper region inside the furnace and the lower region inside the furnace.
そこで、本出願人は、温度分布の均一性及びクリーン度の安定性に優れた加熱装置を提案している(例えば、特許文献3参照。)。この加熱装置は、断熱材で囲まれた空間内に距離を隔てて対向配置された複数の加熱用壁体と、加熱用壁体に設けられた発熱手段と、加熱用壁体の間に距離を隔てて配置された複数の伝熱壁体と、伝熱用壁体の間に棚状に配置された複数の熱放射部材と、上下方向に隣り合う熱放射部材の間に設けられた被加熱物の収容スペースとを備えている。 Therefore, the present applicant has proposed a heating device having excellent temperature distribution uniformity and cleanliness stability (see, for example, Patent Document 3). This heating device includes a plurality of heating wall bodies arranged facing each other at a distance in a space surrounded by a heat insulating material, a heat generating means provided on the heating wall body, and a distance between the heating wall body. A plurality of heat transfer wall bodies that are arranged apart from each other, a plurality of heat radiating members that are arranged in a shelf shape between the heat transfer wall bodies, and a cover member that is provided between the heat radiating members that are vertically adjacent to each other. It is provided with a storage space for heated objects.
特許文献3記載の加熱装置は、温度分布の均一性及びクリーン度の安定性に優れているが、収容スペース内に収容することのできる被加熱物のサイズが限定されるので、所定サイズから外れた被加熱物は収容スペースに収容困難であるのが実状である。 The heating device described in Patent Document 3 is excellent in the uniformity of temperature distribution and the stability of cleanliness, but the size of the object to be heated that can be accommodated in the accommodation space is limited, so that it deviates from the predetermined size. In reality, it is difficult to store the heated object in the storage space.
即ち、特許文献3記載の加熱装置において加熱処理可能な被加熱物のサイズ(幅、厚さ)は、複数の加熱用壁体の間に距離を隔てて配置された複数の伝熱壁体に形成された水平方向の保持溝の対向間隔及び垂直方向の溝幅よって定まるので、幅方向のサイズが前記対向間隔未満若しくはこれを超える被加熱物、及び、厚さが前記垂直方向の溝幅を超える被加熱物は収容スペース内に収容することができない。 That is, the size (width, thickness) of the object to be heated that can be heat-treated in the heating device described in Patent Document 3 is the same as that of the plurality of heat transfer wall bodies arranged with a distance between the plurality of heating wall bodies. Since it is determined by the facing interval of the formed horizontal holding grooves and the groove width in the vertical direction, the size of the object to be heated whose width direction size is less than or exceeds the facing interval, and the groove width in the vertical direction. Objects to be heated that exceed the amount cannot be stored in the storage space.
従って、加熱処理の対象である被加熱物のサイズ(幅、厚さ)が変更された場合、複数の伝熱壁体の配置間隔を変更して保持溝の対向間隔を調整したり、保持溝の垂直方向の溝幅を変更したりする必要がある。このため、被加熱物のサイズ変更に迅速に対応することが困難である。 Therefore, when the size (width, thickness) of the object to be heated is changed, the arrangement intervals of the plurality of heat transfer wall bodies are changed to adjust the facing intervals of the holding grooves, or the holding grooves are changed. It is necessary to change the vertical groove width. Therefore, it is difficult to quickly respond to the size change of the object to be heated.
そこで、本発明が解決しようとする課題は、温度分布の均一性及びクリーン度の安定性に優れ、少なくとも被加熱物の幅方向サイズの変更に容易に対応することのできる加熱装置を提供することにある。 Therefore, the problem to be solved by the present invention is to provide a heating device which is excellent in uniformity of temperature distribution and stability of cleanliness and which can easily cope with at least a change in size in the width direction of an object to be heated. It is in.
本発明の加熱装置は、距離を隔てて対向配置された複数の加熱用壁体と、前記加熱用壁体に設けられた発熱手段と、複数の前記加熱用壁体の対向領域に上下方向に距離を隔てて棚状に配置された複数の熱放射部材と、複数の前記熱放射部材の間に設けられた被加熱物の収容スペースと、前記収容スペース内に収容される被加熱物を所定姿勢に保持可能であって前記被加熱物の保持範囲を変更可能な保持手段と、を備え、前記保持手段として、前記被加熱物を載置可能な複数の支持部材と、前記支持部材の間隔を変更可能な拡縮機構と、を設け、前記支持部材は、前記収容スペース内の幅方向に離れた左右2つの領域をそれぞれ奥行き方向に水平貫通した状態で配置された左側の支持バー材及び右側の支持バー材であり、前記拡縮機構は、前記収容スペースの左側の正面、背面からそれぞれ突出した前記左側の支持バー材の正面部、背面部にそれぞれ取り付けられた左正面側の支柱、左背面側の支柱と、前記収容スペースの右側の正面、背面からそれぞれ突出した前記右側の支持バー材の正面部、背面部にそれぞれ取り付けられた右正面側の支柱、右背面側の支柱と、前記左正面側の支柱及び前記左背面側の支柱と、前記右正面側の支柱及び前記右背面側の支柱と、の間隔を拡縮させる移動機構であることを特徴とする。 The heating device of the present invention includes a plurality of heating wall bodies arranged facing each other at a distance, a heat generating means provided in the heating wall body, and a plurality of heating wall bodies facing each other in a vertical direction. A plurality of heat radiating members arranged in a shelf shape with a distance therebetween, an accommodation space for the object to be heated provided between the plurality of heat radiating members, and an object to be heated accommodated in the accommodation space are predetermined. Holding means capable of holding the object to be heated and capable of changing the holding range of the object to be heated, and as the holding means, a plurality of supporting members on which the object to be heated can be placed, and a gap between the supporting members. And a supporting member on the left side and a right side supporting bar member arranged in a state of horizontally penetrating each of two left and right regions separated in the width direction in the accommodation space in the depth direction. Support bar material, the expansion and contraction mechanism, the front portion of the left side support bar member protruding from the left front surface, the rear surface of the accommodation space, respectively, the left front side support post attached to the back portion, the left rear side Side strut, right front side of the accommodation space, front part of the right side supporting bar material protruding from the back side, respectively, right front side strut attached to the back side, right back side strut, and the left side, respectively. It is a moving mechanism that expands or contracts a space between the front-side support pillar and the left back-side support pillar, and the right front-side support pillar and the right-back-side support pillar.
このような構成とすれば、被加熱物の収容スペースは左右に加熱用壁体が配置され、上下に熱放射部材が配置された構造となり、それぞれの収容スペース内は、発熱手段の熱によって昇温した左右の加熱用壁体から放射される熱と、これらの加熱用壁体からの熱伝導により発熱する熱放射部材から上下に放射される熱とによって加熱されるため、それぞれの収容スペース内はむらなく均等に加熱され、温度分布の均一性に優れたものとなる。 With such a structure, the accommodation space of the object to be heated has a structure in which the heating walls are arranged on the left and right, and the heat radiating members are arranged on the upper and lower sides. Since it is heated by the heat radiated from the heated left and right heating walls and the heat radiated up and down from the heat radiating member that generates heat due to the heat conduction from these heating walls, the inside of each accommodation space It is evenly heated and has excellent temperature distribution uniformity.
発熱手段は加熱用壁体のみに設けられており、各収容スペースは、それぞれの左右に位置する加熱用壁体と、上下に位置する熱放射部材によって区画されているため、各収容スペース内における温度分布の均一性も優れているだけでなく、熱気の上昇に起因する上部空間における熱蓄積現象および過熱現象が発生しない。また、ファンによって加熱気体を攪拌したり、循環させたりすることもないので、クリーン度の安定性も優れており、気体 流によって被加熱物が移動することもない。 The heat generating means is provided only on the heating wall body, and each accommodation space is partitioned by the heating wall bodies located on the left and right sides and the heat radiating members located on the upper and lower sides. Not only is the uniformity of temperature distribution excellent, but the heat accumulation phenomenon and overheating phenomenon in the upper space due to the rise of hot air do not occur. Further, since the heated gas is not stirred or circulated by the fan, the cleanliness stability is excellent and the heated object does not move due to the gas flow.
また、保持手段による被加熱物の保持範囲は、被加熱物の幅に応じて変更することができるため、少なくとも被加熱物の幅方向サイズの変更に容易に対応することができる。 Further, since the holding range of the object to be heated by the holding means can be changed according to the width of the object to be heated, it is possible to easily cope with at least the change in size in the width direction of the object to be heated.
ここで、前記保持手段として、被加熱物を載置可能な複数の支持部材と、前記支持部材の間隔を変更可能な拡縮機構と、を設けることが望ましい。このような構成とすれば、被加熱物は支持部材により下支え状態で保持することが可能となるので、被加熱物の厚さが変更された場合でも容易に対応することができる。 Here, it is desirable to provide, as the holding means, a plurality of support members on which an object to be heated can be placed and an expansion/contraction mechanism capable of changing the interval between the support members. With such a configuration, the object to be heated can be held in a state of being supported by the supporting member, so that it is possible to easily cope with the case where the thickness of the object to be heated is changed.
また、本発明の加熱装置において、前記支持部材は、前記収容スペース内の幅方向に離れた左右2つの領域をそれぞれ奥行き方向に水平貫通した状態に配置された左側の支持バー材及び右側の支持バーであり、前記拡縮機構は、前記収容スペースの左側の正面、背面からそれぞれ突出した前記左側の支持バー材の正面部、背面部にそれぞれ取り付けられた左正面側の支柱、左背面側の支柱と、前記収容スペースの右側の正面、背面からそれぞれ突出した前記右側の支持バー材の正面部、背面部にそれぞれ取り付けられた右正面側の支柱、右背面側の支柱と、前記左正面側の支柱及び前記左背面側の支柱と、前記右正面側の支柱及び前記右背面側の支柱と、の間隔を拡縮させる移動機構である。このような構成とすれば、移動機構によって複数の支柱の間隔を拡縮するだけで、支持バー材の間隔を変更することが可能となるため、比較的簡素な構造でありながら、操作性及び安定性に優れた調整手段を形成することができる。 Further, in the heating device of the present invention, the support member includes a left-side support bar member and a right-side support bar that are arranged in a state of horizontally penetrating in the depth direction into two left and right regions separated in the width direction in the accommodation space. The expansion/contraction mechanism is a bar, and the expansion/contraction mechanism is a left front support column and a left rear support column that are respectively attached to the front portion and the rear portion of the left support bar member protruding from the left front surface and the rear surface of the accommodation space. And a right front side of the accommodation space, a front portion of the right side support bar member protruding from the back side, respectively, a right front side support column, a right rear side support column, and a left front side support It is a moving mechanism that expands or contracts a space between the support pillar and the left rear surface support pillar, and the right front surface support pillar and the right rear surface support pillar. With such a configuration, it is possible to change the distance between the support bar members only by expanding and contracting the distance between the plurality of columns by the moving mechanism. It is possible to form an adjusting means having excellent properties.
さらに、複数の加熱用壁体の対向領域外から前記保持手段の保持範囲を変更可能な操作機構を設けることもできる。このような構成とすれば、被加熱物の収容スペースの外側から保持手段の保持領域を変更することが可能となるため、操作性がさらに向上する。 Further, it is possible to provide an operating mechanism capable of changing the holding range of the holding means from outside the facing regions of the plurality of heating walls. With such a configuration, it is possible to change the holding area of the holding means from the outside of the accommodation space of the object to be heated, so that the operability is further improved.
一方、前記収容スペース内の気体を排出可能な排気経路と、前記収容スペース内に気体を導入可能な給気経路と、を設けることもできる。このような構成とすれば、収容スペース内の空気を不活性ガスあるいは特定ガスと置き換えることが可能となるため、不活性ガスにより被加熱物の酸化を防止したり、特定ガスとの反応を利用して被加熱物に表面処理を施したりすることができる。 On the other hand, it is also possible to provide an exhaust path capable of discharging the gas in the accommodation space and an air supply path capable of introducing the gas into the accommodation space. With such a configuration, the air in the storage space can be replaced with an inert gas or a specific gas, so that the inert gas can prevent the object to be heated from oxidizing or use the reaction with the specific gas. Then, the object to be heated can be subjected to surface treatment.
本発明により、温度分布の均一性及びクリーン度の安定性に優れ、少なくとも被加熱物の幅方向サイズの変更に迅速に対応することのできる加熱装置を提供することができる。 According to the present invention, it is possible to provide a heating device which is excellent in uniformity of temperature distribution and stability of cleanliness and which can promptly deal with at least a change in size in the width direction of an object to be heated.
以下、図1〜図6に基づいて、本発明の実施形態である加熱装置100について説明する。図1〜図6に示すように、加熱装置100は、距離を隔てて対向配置された複数の加熱用壁体10L,10Rと、加熱用壁体10L,10Rに設けられた発熱手段である複数の電気ヒータ11と、複数の加熱用壁体10L,10Rの対向領域に上下方向に距離を隔てて棚状に配置された複数の熱放射部材12と、上下方向に隣り合う熱放射部材12の間に設けられた被加熱物13の収容スペース14と、収容スペース14内に収容される被加熱物13を略水平姿勢に保持可能であって、被加熱物13の保持範囲を変更可能な保持手段30と、を備えている。
Hereinafter, the
加熱用壁体10L,10Rの上端側及び下端側はそれぞれ天板19及び底板20によって連結され、加熱用壁体10L,10Rの下面にはそれぞれ脚部材21L,21R,22L,22Rが取付けられ、これらの脚部材21L,21R,22L,22Rの下端部は基台23に固定されている。加熱用壁体10L,10Rの正面側から背面側まで水平方向に複数の貫通孔24が開設され、これらの貫通孔24内にそれぞれ電気ヒータ11が着脱可能に挿入されている。
The upper and lower ends of the
加熱装置100においては、加熱用壁体10L,10Rはステンレス鋼で形成され、天板19、底板20、脚部材21L,21R,22L,22R及び基台23は加熱用壁体10L,10Rと同材質のステンレス鋼で形成され、熱放射部材12は、表面に黒色メッキを施したアルミニウム板で形成されている。ただし、これらの材料に限定しないので、加熱用壁体10L,10R、天板19、底板20、脚部材21L,21R,22L,22R及び基台23などをアルミニウムやアルミニウム合金(あるいは輻射熱の発散を抑制するため光沢のない表面処理を施したアルミニウムやアルミニウム合金)で形成することもできる。また、熱放射部材12の表面処理についても黒色メッキに限定しないので、輻射熱の発散を抑制することのできる表面処理、例えば、光沢のない表面処理を施したものを採用することもできる。
In the
保持手段30として、被加熱物13を載置可能な支持部材である複数の支持バー材17L,17Rと、支持バー材17L,17Rの間隔を変更可能な拡縮機構40と、が設けられている。拡縮機構40は、複数の支持バー材17L,17Rを略水平姿勢に保持する複数の支柱15L,15R,16L,16Rと、支柱15L,15Rの間隔及び支柱16L,16Rの間隔を拡縮させる移動機構50と、を備えている。
As the holding means 30, a plurality of
支持バー材17L,17Rは帯板形状の部材であり、その長手方向が奥行き方向Dと平行をなし、その幅方向が垂直方向をなすような状態で配置されている。即ち、複数の支持バー材17Lはそれぞれ収容スペース14内を奥行き方向Dに水平貫通した状態で支柱15L,16Lに取り付けられ、同様に、複数の支持バー材17Rはそれぞれ収容スペース14内を奥行き方向Dに水平貫通した状態で支柱15L,16Rに取り付けられている。
The
支柱15L,16Lにおける支持バー材17Lの取付部分の直上、及び、支柱15R,16Rにおける支持バー材17Rの取付部分の直上にはそれぞれ、奥行き方向Dに開通する係止溝15Lt,16Lt,15Rt,16Rtが設けられている。また、加熱用壁体 10L,10Rの内側面(収容スペース14に臨む面)には、それぞれ係止溝15Lt,16Lt,15Rt,16Rtと同じ高さ位置に複数の係止溝10Lt,10Rtが奥行き方向Dに形成されている。
The locking grooves 15Lt, 16Lt, 15Rt, which are opened in the depth direction D, are provided directly above the mounting portions of the
移動機構50は、支柱15L,16Lの上端同士、支柱15R,16Rの上端同士をそれぞれ連接する主動スライダ51L,51Rと、主動スライダ51L,51Rに開設された雌ネジ孔51La,51Raを水平方向に貫通して螺着した状態で回転自在に配置された雄ネジ軸52と、雄ネジ軸52の片端部に取り付けられた操作ハンドル53と、を備えている。支柱15L,16Lの下端同士、支柱15R,16Rの下端同士はそれぞれ従動スライダ54L,54Rで連接され、従動スライダ54L,54Rに開設された貫通孔54La,54Raを水平方向に貫通した状態で支軸55が配置されている。支軸55は雄ネジ軸52と平行に配置され、支軸55の両端部はそれぞれ脚部材21L,21Rに係止されている。従動スライダ54L,54Rは支軸55の長手方向に沿ってスライド可能である。
The moving
操作ハンドル53を、雄ネジ軸52の軸心52c中心に正転、逆転させると、主動スライダ51L,51Rが軸心52c方向に沿って互いに離隔、接近し、これと連動して、支柱15L,15Rの間隔及び支柱16L,16Rの間隔が離隔、接近する。これに伴い、複数の支持バー材17L,17Rの間隔が離隔、接近するので、被加熱物13の保持範囲が収容スペース14の幅方向Wに拡縮する。
When the operation handle 53 is normally or reversely rotated about the
また、複数の収容スペース14の背面側にそれぞれ配置された背壁部材25に、収容スペース14内の気体を排出可能な排気経路26と、収容スペース14内に気体を導入可能な給気経路27と、が設けられている。加熱装置100においては、各背壁部材25において排気経路26の下方に給気経路27が配置されているが、これに限定しないので、上下を逆に配置することもできる。
In addition, an
加熱装置100を使用する場合、被加熱物13の横幅に合わせて、操作ハンドル53を回転させ、支柱15L,15Rの間隔及び支柱16L,16Rの間隔を調整し、被加熱物13の左右側縁がそれぞれ支持バー17L,17R上に載置可能であって、左右側縁の一部がそれぞれ係止溝15Lt,16Lt及び係止溝15Rt,16Rtの内部に収容可能な状態となるように設定する。この後、各収容スペース14内において、被加熱物13の左右側縁をそれぞれ支持バー17L,17R上に載置するとともに、左右側縁の一部をそれぞれ係止溝15Lt,16Lt及び係止溝15Rt,16Rtの内部に収容すると、被加熱物13のセッティングが完了するので、電気ヒータ11に通電を開始すれば、所定のプログラムに従って熱処理を行うことができる。
When the
被加熱物13の収容スペース14は左右に加熱用壁体10L,10Rが配置され、上下に熱放射部材12が配置され、それぞれの収容スペース14内は、電気ヒータ11の熱によって昇温した左右の加熱用壁体10L,10Rから放射される熱と、これらの加熱用壁体からの熱伝導により発熱する熱放射部材12から上下に放射される熱とによって加熱されるため、それぞれの収容スペース14内はむらなく均等に加熱され、加熱装置100全体における温度分布の均一性も良好である。
The
電気ヒータ11は加熱用壁体10L,10Rのみに設けられており、各収容スペース14は、それぞれの左右に位置する加熱用壁体10L,10Rと、上下に位置する熱放射部材12によって区画されているため、各収容スペース14内における温度分布の均一性も優れており、熱気の上昇に起因する上部空間における熱蓄積現象及び過熱現象が発生しない。また、ファンによって加熱気体を攪拌したり、循環させたりすることもないので、クリーン度の安定性も優れており、気体流によって被加熱物が移動することもない。
The
また、支持バー材17L,17Rによる被加熱物13の幅方向Wの保持範囲は、被加熱物13の横幅に応じて変更することができるため、少なくとも被加熱物13の幅方向サイズの変更に容易に対応することができる。なお、被加熱物13の厚さが過大である場合、その左右側縁を係止溝15Lt,16Lt及び係止溝15Rt,16Rt内に収容することなく、支持バー17L,17R上に載置しただけの状態で加熱処理することもできる。
Further, since the holding range of the object to be heated 13 in the width direction W by the
また、収容スペース14内に複数の支持バー材17L,17Rを配置し、これらの支持バー材17L,17Rをそれぞれ略水平姿勢に支持する複数の支柱15L,15R,16L,16Rと、支柱15L,15Rの間隔及び支柱16L,16Rの間隔を拡縮させる移動機構50を設けたことにより、操作ハンドル53を回転させるだけで、支持バー材17L,17Rの間隔を変更することできるため、構造は簡素であり、操作性及び安定性にも優れている。なお、図2に示すように、被加熱物13より横幅の広い被加熱物13aを加熱処理する場合、支柱15L,15Rの間隔及び支柱16L,16Rの間隔を大きく広げた状態とし、被加熱物13aの左右側縁部をそれぞれ加熱用壁体10L,10Rの係止溝10Lt,10Rtに収容することもできる。
Further, a plurality of
さらに、操作ハンドル53は複数の加熱用壁体10L,10Rの対向領域外に配置されているため、被加熱物13の収容スペース14の外側から保持バー材17L,17Rの保持領域を変更することが可能であり、操作性も良好である。なお、図1に示すように、加熱装置100は断熱性を有するケーシング18内に収容した状態で使用することができるが、ケーシング18なしの状態で使用することもできる。
Furthermore, since the operation handle 53 is arranged outside the facing region of the plurality of
一方、加熱装置100においては、各収容スペース14内と連通する排気経路26及び給気経路27を設けたことにより、収容スペース14内の空気を不活性ガスあるいは特定ガスと置き換えることも可能であるため、不活性ガス導入により被加熱物13の酸化を防止したり、導入された特定ガスとの反応を利用して被加熱物13に表面処理を施したりすることもできる。
On the other hand, in the
なお、前述した加熱装置100は本発明に係る加熱装置を例示するものであり、本発明は加熱装置100に限定されない。
The
本発明に係る加熱装置は、ガラス基板や半導体リードフレームあるいはその他の金属板や合成樹脂板などの各種板状部材の熱処理を行う産業分野において広く利用することができる。 INDUSTRIAL APPLICABILITY The heating device according to the present invention can be widely used in the industrial field for heat-treating various plate-shaped members such as glass substrates, semiconductor lead frames, other metal plates and synthetic resin plates.
10L,10R 加熱用壁体
10Lt,10Rt,15Lt,15Rt,16Lt,16Rt 係止溝
11 電気ヒータ
12 熱放射部材
13,13a 被加熱物
14 収容スペース
15L,15R,16L,16R 支柱
17L,17R 支持バー材
18 ケーシング
19 天板
20 底板
21L,21R,22L,22R 脚部材
23 基台
24,54La,54Ra 貫通孔
25 背壁部材
26 排気経路
27 給気経路
30 保持手段
40 拡縮機構
50 移動機構
51L,51R 主動スライダ
51La,51Ra 雌ネジ孔
52 雄ネジ軸
52c 軸心
53 操作ハンドル
54L,54R 従動スライダ
55 主軸
D 奥行き方向
W 幅方向
10L, 10R Heating wall 10Lt, 10Rt, 15Lt, 15Rt, 16Lt,
Claims (1)
前記加熱用壁体に設けられた発熱手段と、
複数の前記加熱用壁体の対向領域に上下方向に距離を隔てて棚状に配置されて前記加熱用壁体からの熱を伝導させる金属製の複数の熱伝導部材と、を備え、
前記複数の加熱用壁体と前記複数の熱伝導部材とは、被加熱物をそれぞれ収容するための複数の収容スペースを上下方向に画定し、
前記複数の収容スペースの各々の奥行方向の背部から前部に向けて不活性ガスあるいは特定ガスを供給する供給手段をさらに有し、
前記複数の収容スペースの各々の前部は、前記加熱用壁体と前記熱伝導部材とにより画定された開口部を有し、
前記供給手段は、供給されるガスの吐出口が前記背部側に設けられ、かつ、前記前部の開口部側を向いている、ことを特徴とする加熱装置。
A plurality of heating walls arranged facing each other with a distance,
Heating means provided on the heating wall,
A plurality of heat conducting members made of metal, which are arranged in a shelf shape in the up-down direction in a facing region of the plurality of heating wall bodies with a distance therebetween to conduct heat from the heating wall body,
The plurality of heating walls and the plurality of heat conduction members define a plurality of accommodation spaces for accommodating the objects to be heated in the vertical direction,
Further comprising a supply means for supplying an inert gas or a specific gas from the back part in the depth direction of each of the plurality of accommodation spaces toward the front part,
The front part of each of the plurality of accommodation spaces has an opening defined by the heating wall body and the heat conducting member,
The heating means is characterized in that the supply means is provided with a discharge port for the supplied gas on the back side and faces the opening side of the front part.
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2020071600A JP6888766B2 (en) | 2020-04-13 | 2020-04-13 | Heating device |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
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JP2020071600A JP6888766B2 (en) | 2020-04-13 | 2020-04-13 | Heating device |
Related Parent Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2018217909A Division JP2019049408A (en) | 2018-11-21 | 2018-11-21 | Heating device |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2020109351A true JP2020109351A (en) | 2020-07-16 |
JP6888766B2 JP6888766B2 (en) | 2021-06-16 |
Family
ID=71570474
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2020071600A Active JP6888766B2 (en) | 2020-04-13 | 2020-04-13 | Heating device |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP6888766B2 (en) |
Citations (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH0718323A (en) * | 1993-06-30 | 1995-01-20 | Denkoo:Kk | Heat treatment device |
JP2005055152A (en) * | 2003-08-07 | 2005-03-03 | Kyushu Nissho:Kk | Heating device |
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JP2009115425A (en) * | 2007-11-09 | 2009-05-28 | Kyushu Nissho:Kk | Heat treatment apparatus |
JP6388041B2 (en) * | 2017-01-27 | 2018-09-12 | 株式会社九州日昌 | Heating apparatus and heating method |
-
2020
- 2020-04-13 JP JP2020071600A patent/JP6888766B2/en active Active
Patent Citations (5)
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JP6388041B2 (en) * | 2017-01-27 | 2018-09-12 | 株式会社九州日昌 | Heating apparatus and heating method |
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Publication number | Publication date |
---|---|
JP6888766B2 (en) | 2021-06-16 |
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