JP2020062658A - Laser processing device and laser processing method - Google Patents
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Abstract
Description
本発明は、加工対象物にレーザビームを照射して微細な穴空け加工を行うレーザ加工装置およびレーザ加工方法に関する。 The present invention relates to a laser processing apparatus and a laser processing method for irradiating a processing object with a laser beam to perform fine perforation processing.
近年のプリント配線板の技術分野では、電子回路の高密度化の要求に応じるために、コア基板上や支持板上に複数層のビルドアップ層を積層することで多層プリント配線板を形成することが提案されている。 In the technical field of printed wiring boards in recent years, in order to meet the demand for higher density of electronic circuits, a multilayer printed wiring board is formed by stacking a plurality of build-up layers on a core substrate or a support plate. Is proposed.
ビルドアップ層は通常、層間絶縁層とその上の導体層とで構成されており、多層プリント配線板では、コア基板とビルドアップ層との導体層間や、ビルドアップ層同士の導体層間を電気的に接続するため、層間絶縁層に貫通穴が形成され、その貫通穴内にメッキ等によってバイアホール導体が設けられている。 The build-up layer is usually composed of an interlayer insulating layer and a conductor layer above it.In a multilayer printed wiring board, the conductor layers between the core substrate and the build-up layer and between the build-up layers are electrically connected. Through hole is formed in the interlayer insulating layer and the via hole conductor is provided in the through hole by plating or the like.
このバイアホール導体用の貫通穴は極めて小径かつ多数であり、その形成には、近年では例えば特許文献1に記載されているようなレーザ加工装置によるレーザビームの照射が用いられるようになっている。 The through hole for the via-hole conductor has an extremely small diameter and a large number, and in recent years, for its formation, laser beam irradiation by a laser processing apparatus as described in Patent Document 1, for example, has been used. .
図3は、この種の従来のレーザ加工装置における結像光学系と走査光学系とを図の上部と下部とにそれぞれ模式的に示しており、このレーザ加工装置は、プリント配線板の層間絶縁層とされる平板状の加工対象物Wに炭酸ガスのレーザビームBを照射して微細な穴空け加工を行うものであって、炭酸ガスレーザ等の発振器からなるレーザ光源21からのレーザビームBを第1のアパーチャグリル22の開口に通してビームの断面形状を整形する。 FIG. 3 schematically shows an image forming optical system and a scanning optical system in a conventional laser processing apparatus of this kind, respectively, in the upper part and the lower part of the figure. A layer-shaped flat object W is irradiated with a laser beam B of carbon dioxide gas to perform fine perforation processing. A laser beam B from a laser light source 21 including an oscillator such as a carbon dioxide laser is used. The cross-sectional shape of the beam is shaped by passing through the opening of the first aperture grill 22.
次いでそのレーザビームBを、入力された超音波の周波数に応じた角度で入射光を互いに直交する二軸方向に偏向させる第1および第2のAODとしてのX軸およびY軸AOD(音響光学偏向器)23,24に順次に通して二次元的に偏向させて、そのレーザビームBで微小矩形領域内を走査し、その際、X軸およびY軸AOD23,24間に位置する図示しないダンパーおよび1/2波長板のうちダンパーがX軸AOD23からの0次光を遮断し、1/2波長板がX軸AOD23からのレーザビームBの偏光方向をY軸AOD24への入射に適合するように90度回転させる。 Next, X-axis and Y-axis AODs (acousto-optical deflection) as first and second AODs for deflecting the laser beam B in the biaxial directions orthogonal to each other at an angle according to the frequency of the input ultrasonic wave Device 23, 24 for two-dimensional deflection, and the laser beam B scans the inside of a minute rectangular area. At this time, a damper (not shown) located between the X-axis and Y-axis AODs 23, 24 The damper of the half-wave plate blocks the 0th-order light from the X-axis AOD 23, and the half-wave plate adapts the polarization direction of the laser beam B from the X-axis AOD 23 to the incidence on the Y-axis AOD 24. Rotate 90 degrees.
次いでその微小矩形領域内で走査するレーザビームBを、図示しないダンパーでY軸AOD24からの0次光を遮断しつつ、複数枚のレンズ25a,25bを組み合わせたレンズ光学系25で拡径した後、第2のアパーチャグリル26の開口に通してビームの断面形状を整形し、次いでそのレーザビームBを、互いに直角方向に延在する支持軸周りにモータでガルバノミラーを回動させる第1および第2のガルバノスキャナとしてのX軸およびY軸ガルバノスキャナ27,28に順次に通し、それらX軸およびY軸ガルバノスキャナ27,28のガルバノミラーでの反射で二次元に偏向させて、そのレーザビームBで走査する微小矩形領域をそれより大きい小矩形領域内で移動させることで、その小矩形領域内全体をレーザビームBで走査する。 Next, the laser beam B for scanning within the minute rectangular area is expanded by the lens optical system 25 in which a plurality of lenses 25a and 25b are combined while blocking the 0th order light from the Y-axis AOD 24 with a damper (not shown). , A second cross-sectional shape of the beam is shaped by passing through the opening of the second aperture grill 26, and then the laser beam B is rotated by a motor to rotate the galvanometer mirror about support shafts extending in the directions perpendicular to each other. The X-axis and Y-axis galvano scanners 27 and 28 are sequentially passed through the galvano-scanners 27 and 28, and the laser beam B is deflected two-dimensionally by reflection at the galvano-mirrors of the X-axis and Y-axis galvano scanners 27 and 28. By moving the minute rectangular area to be scanned in the small rectangular area larger than that, the entire small rectangular area is scanned with the laser beam B. .
次いで、その小矩形領域内全体を走査するレーザビームBをfθレンズ29に通して、加工対象物Wの表面に垂直に照射するとともにその加工対象物Wの表面の穴空け位置Hで収束させ、その一方、加工対象物Wを支持する図示しないテーブルを二次元的に移動させて、レーザビームBで走査する小矩形領域を加工対象物Wの表面の穴空け加工範囲全体で移動させる。 Then, the laser beam B for scanning the entire small rectangular area is passed through the fθ lens 29 to irradiate the surface of the processing object W perpendicularly and converge at the hole forming position H on the surface of the processing object W, On the other hand, a table (not shown) that supports the workpiece W is two-dimensionally moved to move the small rectangular area scanned by the laser beam B over the entire perforation processing range of the surface of the workpiece W.
従来のレーザ加工装置は、上記構成により加工対象物にレーザビームで微細な貫通穴を形成することで、極めて小径かつ多数の貫通穴の、加工対象物の表面の穴空け加工範囲全体に亘る微細な穴空け加工を短時間で行い、穴空け加工の高スループット化を図っている。 The conventional laser processing apparatus has a very small diameter and a large number of through holes formed in the object to be processed by the above-described configuration with a laser beam, so that the surface of the object to be processed can be finely drilled over the entire range. We perform high-precision drilling in a short time to increase the throughput of drilling.
ところで、上記従来のレーザ加工装置は、第1のアパーチャグリル22を通ったレーザビームBをX軸およびY軸AOD23,24に順次に通して二次元的に偏向させているところ、第1のアパーチャグリル22で断面形状を円形に整形したレーザビームBが、X軸AOD23を出るとその偏向方向であるX軸方向に伸び、さらにY軸AOD24を出るとその偏向方向であるY軸方向に伸びて、X軸およびY軸方向にそれぞれ広がった状態で第2のアパーチャグリル26を通り、結像光学系におけるビーム品質が低下してしまうという問題があった。 In the conventional laser processing apparatus, the laser beam B passing through the first aperture grill 22 is sequentially passed through the X-axis and Y-axis AODs 23 and 24 to be two-dimensionally deflected. When the laser beam B whose cross-sectional shape is shaped into a circular shape by the grill 22 exits the X-axis AOD 23, it extends in the X-axis direction that is its deflection direction, and when it exits the Y-axis AOD 24, it extends in the Y-axis direction that is its deflection direction. , The beam quality in the imaging optical system is deteriorated by passing through the second aperture grill 26 in a state where the beam spreads in the X-axis direction and the Y-axis direction.
また上記従来のレーザ加工装置は、X軸AOD23の位置とY軸AOD24の位置とが光路方向に距離L1だけ離れているため、レンズ光学系25で拡径した後の、レーザビームBのX軸方向偏向量が0になるX軸走査焦点の位置とレーザビームBのY軸方向偏向量が0になるY軸走査焦点の位置とが光路方向に、距離L1よりも大きい距離L2だけ離れてしまい、X軸AOD23およびY軸AOD24の偏向角が大きいと、レーザビームBが第2のアパーチャグリル26の開口内ならびにX軸およびY軸ガルバノスキャナ27,28のガルバノミラー内に収まらない場合が生じるという走査光学系の問題もあった。 Further, in the above-described conventional laser processing apparatus, since the position of the X-axis AOD 23 and the position of the Y-axis AOD 24 are separated by the distance L1 in the optical path direction, the X-axis of the laser beam B after being expanded by the lens optical system 25. The X-axis scanning focus position where the directional deflection amount is 0 and the Y-axis scanning focus position where the Y-axis direction deflection amount of the laser beam B is 0 are separated from each other in the optical path direction by a distance L2 larger than the distance L1. , If the deflection angles of the X-axis AOD 23 and the Y-axis AOD 24 are large, the laser beam B may not be contained in the opening of the second aperture grill 26 and the galvano mirrors of the X-axis and Y-axis galvano scanners 27 and 28. There was also a problem with the scanning optics.
本発明のレーザ加工装置は、加工対象物にレーザビームを照射して微細な穴空け加工を行うものであって、
レーザ光源から出射されるレーザビームの光路上に互いに直列に配置されてそのレーザビームを順次に入射され、互いに直交する二軸方向に、各々入力された超音波の周波数に応じた角度で偏向させて出射させる、第1のAODおよび第2のAODと、
第1のAODと第2のAODとの間のレーザビームの光路上に配置され、第1のAODから出射されるレーザビームの第1のAODの偏向方向の走査焦点を第2のAODの位置またはその近傍に位置させる第1のレンズ光学系と、
互いに直列に配置されるとともに、互いに直角な軸線周りにガルバノミラーが回動するように組み合わされて、第2のAODから出射されるレーザビームを順次に入射され、そのレーザビームを各々ガルバノミラーでの反射により偏向させる、第1のガルバノスキャナおよび第2のガルバノスキャナと、
第2のAODと第1のガルバノスキャナとの間のレーザビームの光路上に配置され、第2のAODから出射されるレーザビームの第1のAODの偏向方向の走査焦点および第2のAODの偏向方向の走査焦点をそれぞれ、第2のAOD側から順次に第1の共通位置と、第1のガルバノスキャナの近傍に位置する第2の共通位置とに位置させる第2のレンズ光学系と、
第1の共通位置に配置され、第2のAODから出射されるレーザビームの断面形状を整形する第1のアパーチャグリルと、
第2の共通位置に配置され、第1のアパーチャグリルを通ったレーザビームの断面形状を整形する第2のアパーチャグリルと、
第2のガルバノスキャナから出射されるレーザビームを加工対象物に垂直に入射させ、その加工対象物の位置で収束させるfθレンズと、
を具えるものである。
The laser processing apparatus of the present invention irradiates a laser beam on a processing object to perform fine perforation processing,
Laser beams emitted from a laser light source are arranged in series on the optical path of the laser beams, and the laser beams are sequentially incident, and are deflected in two axial directions orthogonal to each other at an angle according to the frequency of each input ultrasonic wave. The first AOD and the second AOD,
It is arranged on the optical path of the laser beam between the first AOD and the second AOD, and the scanning focus in the deflection direction of the first AOD of the laser beam emitted from the first AOD is set to the position of the second AOD. Or a first lens optical system located in the vicinity thereof,
The galvanomirrors are arranged in series with each other and are combined so as to rotate about axes perpendicular to each other, and the laser beams emitted from the second AOD are sequentially incident on the galvanomirrors. A first galvano-scanner and a second galvano-scanner for deflecting by reflection of
It is arranged on the optical path of the laser beam between the second AOD and the first galvano scanner, and the scanning focus in the deflection direction of the first AOD of the laser beam emitted from the second AOD and the second AOD A second lens optical system for sequentially arranging the scanning focal points in the deflection direction at a first common position and a second common position located in the vicinity of the first galvano scanner, respectively, from the second AOD side;
A first aperture grill disposed at a first common position and shaping the cross-sectional shape of the laser beam emitted from the second AOD;
A second aperture grill disposed at a second common position for shaping the cross-sectional shape of the laser beam passing through the first aperture grill;
An fθ lens that causes a laser beam emitted from the second galvano scanner to enter the object to be processed perpendicularly and converge at the position of the object to be processed;
It is equipped with.
また、本発明のレーザ加工方法は、加工対象物にレーザビームを照射して微細な穴空け加工を行う方法であって、
レーザ光源から出射されるレーザビームを、そのレーザビームの光路上に互いに直列に配置されてそのレーザビームを順次に入射される第1のAODおよび第2のAODにより、互いに直交する二軸方向に、各々入力された超音波の周波数に応じた角度で偏向させて出射させることと、
第1のAODと第2のAODとの間のレーザビームの光路上に配置された第1のレンズ光学系により、第1のAODから出射されるレーザビームの第1のAODの偏向方向の走査焦点を第2のAODの位置またはその近傍に位置させることと、
第2のAODから出射されるレーザビームの光路上に互いに直列に配置されるとともに互いに直角な軸線周りにガルバノミラーが回動するように組み合わされて、第2のAODからのレーザビームを順次に入射される第1のガルバノスキャナおよび第2のガルバノスキャナにより、そのレーザビームをガルバノミラーでの反射で偏向させて出射させることと、
第2のAODと第1のガルバノスキャナとの間のレーザビームの光路上に配置された第2のレンズ光学系により、第2のAODから出射されるレーザビームの第1のAODの偏向方向の走査焦点および第2のAODの偏向方向の走査焦点をそれぞれ、第2のAOD側から順次に第1の共通位置と、第1のガルバノスキャナの近傍に位置する第2の共通位置とに位置させることと、
第1のアパーチャグリルを第1の共通位置に配置して、第2のAODから出射されるレーザビームの断面形状を整形することと、
第2のアパーチャグリルを第2の共通位置に配置して、第1のアパーチャグリルを通ったレーザビームの断面形状を整形することと、
第2のガルバノスキャナから出射されるレーザビームをfθレンズにより、加工対象物に垂直に入射させ、その加工対象物の位置で収束させることと、
を含んでいる。
Further, the laser processing method of the present invention is a method of irradiating a laser beam to an object to be processed to perform fine perforation processing,
A laser beam emitted from a laser light source is arranged in series on the optical path of the laser beam, and the first AOD and the second AOD sequentially injecting the laser beam cause biaxial directions orthogonal to each other. , Deflecting and outputting at an angle according to the frequency of each input ultrasonic wave,
The first lens optical system disposed on the optical path of the laser beam between the first AOD and the second AOD scans the laser beam emitted from the first AOD in the deflection direction of the first AOD. Locating the focal point at or near the position of the second AOD;
The laser beams emitted from the second AOD are arranged in series on the optical path of the laser beam, and the galvanomirrors are combined so as to rotate about axes orthogonal to each other. Deflecting the laser beam by reflection by a galvanomirror by the first galvanoscanner and the second galvanoscanner which are incident, and emitting the laser beam;
By the second lens optical system arranged on the optical path of the laser beam between the second AOD and the first galvano scanner, the deflection direction of the first AOD of the laser beam emitted from the second AOD is changed. The scanning focal point and the scanning focal point in the deflection direction of the second AOD are sequentially positioned from the second AOD side to a first common position and a second common position located in the vicinity of the first galvano scanner. That
Arranging the first aperture grill at a first common position to shape the cross-sectional shape of the laser beam emitted from the second AOD;
Arranging a second aperture grill in a second common position to shape the cross-sectional shape of the laser beam through the first aperture grill;
The laser beam emitted from the second galvano scanner is made incident vertically on the object to be processed by the fθ lens and converged at the position of the object to be processed;
Is included.
本発明の実施形態によれば、レーザ光源から出射されて第1および第2のAODで二次元的に偏向されたレーザビームが、第1および第2のガルバノスキャナに入射され、それらのガルバノスキャナのガルバノミラーでさらに大きな範囲で二次元的に偏向されて出射され、そのレーザビームが、fθレンズによって加工対象物に垂直に入射されてその加工対象物の位置で収束する。これにより、加工対象物に微細な貫通穴を形成することができ、小径かつ多数の貫通穴の、加工対象物Wの表面の穴空け加工範囲全体に亘る微細な穴空け加工を短時間で行うことができる。 According to the embodiment of the present invention, the laser beam emitted from the laser light source and two-dimensionally deflected by the first and second AODs is made incident on the first and second galvano scanners, and the galvano scanners are made. The laser beam is two-dimensionally deflected and emitted in a larger range by the galvanometer mirror No. 1, and the laser beam is vertically incident on the object to be processed by the fθ lens and converges at the position of the object to be processed. Accordingly, it is possible to form minute through holes in the object to be processed, and to perform minute hole drilling over the entire hole forming range of the surface of the object to be processed W having a large number of small diameter through holes in a short time. be able to.
さらに本発明の実施形態によれば、第1および第2のAODの間に配置された第1のレンズ光学系が、第1のAODから出射されるレーザビームの、第1のAODの偏向方向の走査焦点を第2のAODの位置またはその近傍に位置させ、第2のレンズ光学系が、第2のAODから出射されるレーザビームの、第1のAODの偏向方向の走査焦点および第2のAODの偏向方向の走査焦点をそれぞれ、第2のAOD側から順次に第1の共通位置と、第1のガルバノスキャナの近傍に位置する第2の共通位置とに位置させる。これにより、第1および第2のガルバノスキャナの各々のガルバノミラーの中央からのレーザビームのずれ量が小さくなるので、ガルバノミラーを拡大しなくてもレーザビームが第1および第2のガルバノスキャナの各々のガルバノミラー内に収まることから、第1および第2のガルバノスキャナの動作速度低下を回避しつつ、第1および第2のAODの各々による最大偏向角を有効活用して穴空け加工の加工効率を高めることができる。 Further, according to the embodiment of the present invention, the first lens optical system arranged between the first and second AODs has a deflection direction of the first AOD of the laser beam emitted from the first AOD. Of the laser beam emitted from the second AOD in the deflection direction of the first AOD and the second focus of the second lens optical system. The scanning focus in the deflection direction of the AOD is sequentially positioned from the second AOD side to the first common position and the second common position located near the first galvanometer scanner. As a result, the amount of deviation of the laser beam from the center of each galvano-mirror of each of the first and second galvano-scanners is reduced, so that the laser beam of each of the first and second galvano-scanners does not need to be enlarged. Since it is accommodated in each galvano mirror, it is possible to avoid the reduction in the operating speed of the first and second galvano scanners, while effectively utilizing the maximum deflection angle of each of the first and second AODs for drilling. The efficiency can be increased.
さらに本発明の実施形態によれば、第1のアパーチャグリルを第1の共通位置に配置するとともに第2のアパーチャグリルを第2の共通位置に配置して、それぞれの共通位置でレーザビームの断面形状を整形する。これにより、第1のアパーチャグリルで断面形状を整形したレーザビームが、第1および第2のAODの各々による偏向角が大きくても第2のアパーチャグリルの開口内に収まるので、fθレンズに入射されるレーザビームの断面形状の真円度を向上させて、結像光学系におけるビーム品質を向上させ、特にfθレンズから加工対象物の表面に入射されるレーザビームの強度を維持するとともに、そのレーザビームで穴空け加工する貫通穴の真円度を高めることができる。 Further in accordance with an embodiment of the present invention, the first aperture grill is located at the first common position and the second aperture grill is located at the second common position, the laser beam cross-section at each common position. Shape the shape. As a result, the laser beam whose cross-sectional shape is shaped by the first aperture grille falls within the opening of the second aperture grille even if the deflection angles of the first and second AODs are large, so it is incident on the fθ lens. The circularity of the cross-sectional shape of the laser beam is improved to improve the beam quality in the imaging optical system, and particularly, the intensity of the laser beam incident on the surface of the object to be processed from the fθ lens is maintained and The roundness of the through hole that is drilled by the laser beam can be increased.
以下、図面を参照して本発明に係るレーザ加工装置およびレーザ加工方法の実施形態について説明する。図1は、本発明の一実施形態のレーザ加工装置の結像光学系と走査光学系とを、互いに関連付けて上部と下部とに示す説明図である。 Embodiments of a laser processing apparatus and a laser processing method according to the present invention will be described below with reference to the drawings. FIG. 1 is an explanatory diagram showing an imaging optical system and a scanning optical system of a laser processing apparatus according to an embodiment of the present invention in an upper part and a lower part in association with each other.
この実施形態のレーザ加工装置は、プリント配線板の層間絶縁層とされる平板状の加工対象物Wに炭酸ガスのレーザビームBを照射して直径数十μmの微細な穴空け加工を行うものであって、炭酸ガスレーザ等の発振器からなるレーザ光源1と、レーザ光源1から出射されるレーザビームBの光路上に互いに直列配置された第1のAOD(音響光学偏向器)としてのX軸AOD2および第2のAOD(音響光学偏向器)としてのY軸AOD5と、X軸AOD2とY軸AOD5との間のレーザビームBの光路上に配置された第1のレンズ光学系3と、第1のレンズ光学系3とY軸AOD5との間に配置された1/2波長板4と、図示しない第1のダンパーとを具えている。 The laser processing apparatus according to this embodiment irradiates a flat plate-shaped processing target W, which is an interlayer insulating layer of a printed wiring board, with a laser beam B of carbon dioxide gas to perform fine perforation processing with a diameter of several tens of μm. A laser light source 1 including an oscillator such as a carbon dioxide gas laser, and an X-axis AOD 2 as a first AOD (acousto-optic deflector) arranged in series on the optical path of a laser beam B emitted from the laser light source 1. And a Y-axis AOD5 as a second AOD (acousto-optical deflector), a first lens optical system 3 arranged on the optical path of the laser beam B between the X-axis AOD2 and the Y-axis AOD5, and a first lens optical system 3. The half-wave plate 4 disposed between the lens optical system 3 and the Y-axis AOD 5 and the first damper (not shown).
X軸AOD2は、レーザ光源1からのレーザビームBの1次光を光路方向と直交するX軸方向に、入力された超音波の周波数に応じた角度で偏向させて出射させる。また第1のレンズ光学系3は、互いに同一焦点距離の二枚のレンズ3a,3bを組み合わせて構成され、X軸AOD2からのレーザビームBの偏向方向であるX軸方向の走査焦点(偏向量0の点)を二枚のレンズ3a,3bによってY軸AOD5の位置またはその近傍に位置させて、その位置を原共通位置P0とする。そしてY軸AOD5は、X軸AOD2を出たレーザビームBの1次光を、光路方向およびX軸方向と直交するY軸方向に、入力された超音波の周波数に応じた角度で偏向させて出射させる。 The X-axis AOD 2 deflects and emits the primary light of the laser beam B from the laser light source 1 in the X-axis direction orthogonal to the optical path direction at an angle according to the frequency of the input ultrasonic wave. The first lens optical system 3 is configured by combining two lenses 3a and 3b having the same focal length with each other, and has a scanning focus (deflection amount) in the X-axis direction, which is the deflection direction of the laser beam B from the X-axis AOD2. The point 0) is positioned at or near the position of the Y-axis AOD5 by the two lenses 3a and 3b, and the position is set as the original common position P0. The Y-axis AOD5 deflects the primary light of the laser beam B emitted from the X-axis AOD2 in the Y-axis direction orthogonal to the optical path direction and the X-axis direction at an angle according to the frequency of the input ultrasonic wave. Let out.
これらX軸およびY軸AOD2,5によってこの実施形態のレーザ加工装置は、レーザビームBを二次元的に偏向させて、そのレーザビームBで微小矩形領域内を走査し、その際、上記第1のダンパーが、X軸AOD2からの0次光を遮断し、1/2波長板4が、X軸AOD2からのレーザビームBの偏光方向をY軸AOD5への入射に適合するように90度回転させる。 The laser processing apparatus of this embodiment deflects the laser beam B two-dimensionally by these X-axis and Y-axis AODs 2 and 5, and scans the minute rectangular region with the laser beam B, in which case the above-mentioned first Damper blocks the 0th-order light from the X-axis AOD2, and the half-wave plate 4 rotates the polarization direction of the laser beam B from the X-axis AOD2 by 90 degrees so as to match the incidence on the Y-axis AOD5. Let
この実施形態のレーザ加工装置はまた、Y軸AOD5から出射するレーザビームBの光路上に互いに直列に配置された第1のガルバノスキャナとしてのX軸ガルバノスキャナ10および第2のガルバノスキャナとしてのY軸ガルバノスキャナ11と、Y軸AOD5とX軸ガルバノスキャナ10との間のレーザビームBの光路上に配置された二組のレンズ光学系6,8からなる第2のレンズ光学系と、図示しない第2のダンパーとを具えている。 The laser processing apparatus of this embodiment also includes an X-axis galvano scanner 10 as a first galvano scanner and a Y as a second galvano scanner, which are arranged in series on the optical path of the laser beam B emitted from the Y-axis AOD 5. Axial galvano scanner 11, a second lens optical system including two sets of lens optical systems 6 and 8 arranged on the optical path of the laser beam B between the Y-axis AOD 5 and the X-axis galvano scanner 10, and not shown. It has a second damper.
第2のダンパーは、Y軸AOD5から出射されるレーザビームBの0次光を遮断する。また第2のレンズ光学系の二組のレンズ光学系6,8は、それぞれ二枚のレンズを組み合わせて構成され、Y軸AOD5から出射されるレーザビームBの1次光を第2のレンズ光学系全体で例えば3倍に拡径するとともに、そのレーザビームBのX軸AOD2の偏向方向であるX軸方向の走査焦点(X軸走査焦点)およびY軸AOD5の偏向方向であるY軸方向の走査焦点(Y軸走査焦点)を共に、Y軸AOD側5から順次に、二組のレンズ光学系6,8の間の第1の共通位置P1と、X軸ガルバノスキャナの手前側の近傍の第2の共通位置P2とに位置させる。そしてX軸ガルバノスキャナ10およびY軸ガルバノスキャナ11は、互いに直角な軸線周りにガルバノミラーが回動するように組み合わされて、Y軸AOD5から出射されるレーザビームBを順次に入射され、そのレーザビームBをガルバノミラーでの反射によりX軸方向およびY軸方向にそれぞれ偏向させる。 The second damper blocks the 0th order light of the laser beam B emitted from the Y-axis AOD 5. The two sets of lens optical systems 6 and 8 of the second lens optical system are each configured by combining two lenses, and the primary light of the laser beam B emitted from the Y-axis AOD 5 is transmitted to the second lens optical system. For example, the diameter of the laser beam B is expanded three times in the entire system, and the scanning focus (X-axis scanning focus) of the laser beam B in the X-axis AOD2 deflection direction and the Y-axis direction of the Y-axis AOD5 deflection direction. Both the scanning focus (Y-axis scanning focus) is sequentially arranged from the Y-axis AOD side 5 in the vicinity of the first common position P1 between the two sets of lens optical systems 6 and 8 and the front side of the X-axis galvano scanner. It is located at the second common position P2. Then, the X-axis galvano scanner 10 and the Y-axis galvano scanner 11 are combined so that the galvano mirrors rotate about axes perpendicular to each other, and the laser beam B emitted from the Y-axis AOD 5 is sequentially incident on the laser beam B. The beam B is deflected in the X-axis direction and the Y-axis direction by reflection on the galvano mirror.
これらX軸およびY軸ガルバノスキャナ10,11によってこの実施形態のレーザ加工装置は、それらX軸およびY軸ガルバノスキャナ10,11の各々のガルバノミラーでの反射でレーザビームBを二次元的に偏向させて、そのレーザビームBで走査する微小矩形領域をそれより大きい小矩形領域内で移動させることで、その小矩形領域内全体をレーザビームBで走査する。 With these X-axis and Y-axis galvano scanners 10 and 11, the laser processing apparatus of this embodiment two-dimensionally deflects the laser beam B by reflection at the galvano mirrors of each of the X-axis and Y-axis galvano scanners 10 and 11. Then, the minute rectangular area to be scanned by the laser beam B is moved within the small rectangular area larger than that, so that the entire small rectangular area is scanned with the laser beam B.
この実施形態のレーザ加工装置はさらに、Y軸AOD5とX軸ガルバノスキャナ10との間のレーザビームBの光路上で、第1の共通位置P1に配置された第1のアパーチャグリル7と、第2の共通位置P2に配置された第2のアパーチャグリル9とを具えている。 The laser processing apparatus of this embodiment further includes a first aperture grill 7 disposed at a first common position P1 on the optical path of the laser beam B between the Y-axis AOD 5 and the X-axis galvano scanner 10, And a second aperture grille 9 arranged at two common positions P2.
第1のアパーチャグリル7は開口を有し、レンズ光学系6から出射されるとともにその開口位置でY軸AOD5におけるよりもビーム径を絞られたレーザビームBをその開口内に通すことでビームの断面形状を整形する。また第2のアパーチャグリル9も開口を有し、レンズ光学系8から出射されるとともにその開口位置で拡径されているレーザビームBをその開口内に通すことでビームの断面形状を整形する。 The first aperture grill 7 has an opening, and the laser beam B emitted from the lens optical system 6 and having a beam diameter narrower than that of the Y-axis AOD 5 at the opening position is passed through the opening. Shape the cross-sectional shape. The second aperture grill 9 also has an opening, and the laser beam B emitted from the lens optical system 8 and having a diameter increased at the opening position is passed through the opening to shape the cross-sectional shape of the beam.
第1のアパーチャグリル7と第2のアパーチャグリル9とは各々、X軸AOD2の偏向量が0になるX軸方向の走査焦点とY軸AOD5の偏向量が0になるY軸方向の走査焦点との共通位置に位置しているので、X軸AOD2とY軸AOD5との偏向量が大きい場合でも、レーザビームBをそれらの開口内に収めることができる。 The first aperture grille 7 and the second aperture grille 9 are respectively a scanning focus in the X-axis direction in which the deflection amount of the X-axis AOD2 becomes 0 and a scanning focus in the Y-axis direction in which the deflection amount of the Y-axis AOD5 becomes 0. Since the laser beam B is located at a common position with, the laser beam B can be housed in these openings even when the deflection amounts of the X-axis AOD2 and the Y-axis AOD5 are large.
この実施形態のレーザ加工装置はさらに、Y軸ガルバノスキャナ11の近傍に位置するfθレンズ12と、加工対象物Wをfθレンズ12に対向する位置に配置して支持する図示しないワークテーブルとを具えている。 The laser processing apparatus of this embodiment further includes an fθ lens 12 located in the vicinity of the Y-axis galvanometer scanner 11 and a work table (not shown) that supports the workpiece W by arranging the workpiece W at a position facing the fθ lens 12. I am.
fθレンズ12は、X軸およびY軸ガルバノスキャナ10,11で偏向されて小矩形領域内全体を走査するレーザビームBを、加工対象物Wの表面に垂直に照射するとともにその加工対象物Wの表面の穴空け位置Hで収束させる。また、上記ワークテーブルは、加工対象物Wをその表面に平行な平面内で二次元的に移動させて、レーザビームBが走査する小矩形領域を加工対象物Wの表面の穴空け加工範囲全体で移動させる。 The fθ lens 12 irradiates the laser beam B, which is deflected by the X-axis and Y-axis galvano scanners 10 and 11 and scans the entire small rectangular area, perpendicularly to the surface of the object W to be processed, and at the same time, to the object W to be processed. The light is converged at the hole forming position H on the surface. In the work table, the object W is two-dimensionally moved in a plane parallel to the surface of the object W so that a small rectangular area scanned by the laser beam B is entirely formed on the surface of the object W. Move with.
ところで、従来のレーザ加工装置では、X軸AOD23とY軸AOD24との間に図示しない上述の1/2波長板を具えているので、図3の上部に示されるように、X軸AOD23とY軸AOD24との間の距離L1が大きくなっている。このため、図3の下部に示されるように、X軸AOD23とY軸AOD24との各々による最大偏向角でのX軸走査焦点とY軸走査焦点との間の、図3中に破線で示す無偏向のレーザビームの光軸(走査中心光軸)方向の距離L2が大きくなり、第2のアパーチャグリル26の開口ならびにX軸およびY軸ガルバノスキャナ27,28のガルバノミラーからのレーザビームBの一部分の外れを生じる。 By the way, in the conventional laser processing apparatus, since the above-mentioned half-wave plate (not shown) is provided between the X-axis AOD 23 and the Y-axis AOD 24, as shown in the upper part of FIG. The distance L1 from the axis AOD24 is large. Therefore, as shown in the lower part of FIG. 3, it is indicated by a broken line in FIG. 3 between the X-axis scanning focus and the Y-axis scanning focus at the maximum deflection angle by each of the X-axis AOD 23 and the Y-axis AOD 24. The distance L2 of the non-deflected laser beam in the optical axis (scanning center optical axis) direction becomes large, and the laser beam B from the galvano mirrors of the openings of the second aperture grille 26 and the X-axis and Y-axis galvano scanners 27 and 28 is increased. Partial disconnection occurs.
これに対しこの実施形態のレーザ加工装置では、図1に示されるように、X軸AOD2とY軸AOD5との間に、第1のレンズ光学系3を具えており、この第1のレンズ光学系3は、例えば互いに同一仕様の凸レンズからなる二枚のレンズ3a,3bを、それらのレンズの焦点距離Aの2倍の距離2Aを置いて組み合わせ、レンズ3aをX軸AOD2に対し光路方向後側でX軸AOD2からその焦点距離Aの位置に配置するとともに、レンズ3bをY軸AOD5に対し光路方向前側でY軸AOD5からその焦点距離Aの位置に配置して構成することができる。 On the other hand, in the laser processing apparatus of this embodiment, as shown in FIG. 1, the first lens optical system 3 is provided between the X-axis AOD2 and the Y-axis AOD5. In the system 3, for example, two lenses 3a and 3b, which are convex lenses having the same specifications as each other, are combined with a distance 2A that is twice the focal length A of those lenses, and the lens 3a is rearward with respect to the X-axis AOD2 in the optical path direction. The lens 3b may be arranged at the position of the focal length A from the X-axis AOD2 on the side, and the lens 3b may be arranged at the position of the focal length A from the Y-axis AOD5 on the front side in the optical path direction with respect to the Y-axis AOD5.
この第1のレンズ光学系3によれば、偏向されてX軸AOD2から出射されたレーザビームBは、レンズ3aで無偏向のレーザビームの光軸(走査中心光軸)に平行なビームにされてレンズ3bに向かい、次いでレンズ3bでその焦点位置にあるY軸AOD5に入射されることになり、X軸AOD2によるX軸走査焦点がY軸AOD5の位置に生じることになる。 According to the first lens optical system 3, the laser beam B deflected and emitted from the X-axis AOD 2 is made into a beam parallel to the optical axis (scanning center optical axis) of the undeflected laser beam by the lens 3a. To the lens 3b, and then is incident on the Y-axis AOD5 at the focal position of the lens 3b, so that the X-axis scanning focus by the X-axis AOD2 is generated at the position of the Y-axis AOD5.
このため、図1に示されるように、X軸AOD2とY軸AOD5との各々による最大偏向角でのX軸走査焦点とY軸走査焦点との間の、無偏向のレーザビームの光軸(走査中心光軸)方向の距離が原共通位置P0において極めて小さくなり、もしくは実質的に0(ゼロ)となって、X軸走査焦点とY軸走査焦点とが共に第1の共通位置P1および第2の共通位置P2に位置することから、X軸AOD2とY軸AOD5との各々による偏向量が大きくなってもレーザビームBの断面全体が、第1の共通位置P1において第1のアパーチャグリル7の開口内に収まるとともに第2の共通位置P2にて第2のアパーチャグリル9の開口内に収まることになる。 Therefore, as shown in FIG. 1, the optical axis of the undeflected laser beam between the X-axis scanning focus and the Y-axis scanning focus at the maximum deflection angle by each of the X-axis AOD2 and the Y-axis AOD5 ( The distance in the scanning center optical axis direction becomes extremely small at the original common position P0 or becomes substantially 0 (zero), so that the X-axis scanning focus and the Y-axis scanning focus are both the first common position P1 and the first common position P1. Since the laser beam B is located at the second common position P2, the entire cross section of the laser beam B remains at the first common position P1 even when the deflection amounts by the X-axis AOD2 and the Y-axis AOD5 increase. Of the second aperture grill 9 and the second common position P2.
従って、この実施形態のレーザ加工装置および、そのレーザ加工装置で上述の如くして穴空け加工を行うこの実施形態のレーザ加工方法によれば、極めて小径かつ多数の貫通穴の、加工対象物Wの表面の穴空け加工範囲全体に亘る微細な穴空け加工を短時間で行うことができ、しかもX軸走査焦点とY軸走査焦点とが共に、第1の共通位置P1および第2の共通位置P2に位置することから、X軸およびY軸ガルバノスキャナ10,11のガルバノミラー内にレーザビームBが収まるので、X軸AOD2とY軸AOD5との各々による最大偏向角を有効活用して穴空け加工の加工効率を高めることができ、さらに、第2のアパーチャグリル9の開口内にレーザビームBが収まるので、fθレンズ12に入射されるレーザビームBの真円度を向上させて、穴空け加工する貫通穴の真円度を高めることができる。 Therefore, according to the laser processing apparatus of this embodiment and the laser processing method of this embodiment in which the laser processing apparatus performs the boring processing as described above, the workpiece W having a very small diameter and a large number of through holes is formed. It is possible to perform minute drilling over the entire drilling range of the surface of the above in a short time, and both the X-axis scanning focus and the Y-axis scanning focus are both the first common position P1 and the second common position. Since it is located at P2, the laser beam B is contained in the galvanomirrors of the X-axis and Y-axis galvano scanners 10 and 11, so that the maximum deflection angle by each of the X-axis AOD2 and the Y-axis AOD5 is effectively used to make a hole. Since the processing efficiency of the processing can be improved and the laser beam B is contained in the opening of the second aperture grill 9, the circularity of the laser beam B incident on the fθ lens 12 can be improved. By, it is possible to increase the roundness of the through holes of the hole drilled machining.
図2は、本発明の他の一実施形態のレーザ加工装置の結像光学系と走査光学系とを、互いに関連付けて上部と下部とに示す説明図であり、この実施形態のレーザ加工装置は、図1に示される先の実施形態のレーザ加工装置とは第1のアパーチャグリル7付近の構成が異なるのみであるので、以下にはその異なる部分を主に説明する。 FIG. 2 is an explanatory view showing an imaging optical system and a scanning optical system of a laser processing apparatus according to another embodiment of the present invention in an upper portion and a lower portion in association with each other. 1 is different from the laser processing apparatus of the previous embodiment shown in FIG. 1 only in the configuration in the vicinity of the first aperture grill 7, and therefore the different portions will be mainly described below.
すなわち、この実施形態のレーザ加工装置は、第2のレンズ光学系を構成する二つのレンズ光学系6,8の間に第1のアパーチャグリル7が位置する点では先の実施形態と同一であるが、レーザビームBの光路上でY軸AOD5寄りのレンズ光学系6と第2のアパーチャグリル9寄りのレンズ光学系8との間で、先の実施形態ではレーザビームBが絞られて第1のアパーチャグリル7の開口に通されているのに対し、この実施形態ではレーザビームBがY軸AOD5におけるよりもビーム径を拡径されて第1のアパーチャグリル7の開口に通されている。 That is, the laser processing apparatus of this embodiment is the same as the previous embodiment in that the first aperture grill 7 is located between the two lens optical systems 6 and 8 that form the second lens optical system. However, on the optical path of the laser beam B, between the lens optical system 6 near the Y-axis AOD 5 and the lens optical system 8 near the second aperture grille 9, the laser beam B is narrowed down in the first embodiment and the first The laser beam B is passed through the opening of the first aperture grill 7 with a beam diameter larger than that of the Y-axis AOD 5 in this embodiment.
この実施形態のレーザ加工装置および、そのレーザ加工装置で先の実施形態の方法と同様にして穴空け加工を行うこの実施形態のレーザ加工方法によっても、極めて小径かつ多数の貫通穴の、加工対象物Wの表面の穴空け加工範囲全体に亘る微細な穴空け加工を短時間で行うことができ、しかもX軸走査焦点とY軸走査焦点とが共に、第1の共通位置P1および第2の共通位置P2に位置することから、X軸およびY軸ガルバノスキャナ10,11のガルバノミラー内にレーザビームBが収まるので、X軸AOD2とY軸AOD5との各々による最大偏向角を有効活用して穴空け加工の加工効率を高めることができ、さらに、第2のアパーチャグリル9の開口内にレーザビームBが収まるので、fθレンズ12に入射されるレーザビームBの真円度を向上させて、穴空け加工する貫通穴の真円度を高めることができる。 Also by the laser processing apparatus of this embodiment and the laser processing method of this embodiment in which the laser processing apparatus performs the drilling in the same manner as the method of the previous embodiment, the processing target of a very small diameter and a large number of through holes It is possible to perform minute drilling over the entire drilling range on the surface of the object W in a short time, and both the X-axis scanning focus and the Y-axis scanning focus are at the first common position P1 and the second common position P1. Since the laser beam B is located in the galvano mirrors of the X-axis and Y-axis galvano scanners 10 and 11 because it is located at the common position P2, the maximum deflection angle by each of the X-axis AOD2 and the Y-axis AOD5 is effectively used. Since it is possible to improve the processing efficiency of drilling, and since the laser beam B is contained within the opening of the second aperture grill 9, the laser beam B incident on the fθ lens 12 is To improve circularity, it is possible to improve the roundness of the through holes of the hole drilled machining.
本発明は、上記実施形態に限定されず、請求の範囲の記載から逸脱しない範囲で種々の変更、修正が可能である。例えば、実施形態のレーザ加工装置およびレーザ加工方法では、X軸走査焦点とY軸走査焦点とが共に位置する第2の共通位置は、X軸ガルバノスキャナ10の手前側の近傍の第2のアパーチャグリル9の位置に設定されているが、これに代えてX軸ガルバノスキャナ10またはY軸ガルバノスキャナ11の位置もしくはそれらの間の近傍の位置に設定してもよい。 The present invention is not limited to the above embodiment, and various changes and modifications can be made without departing from the scope of the claims. For example, in the laser processing apparatus and the laser processing method of the embodiment, the second common position where both the X-axis scanning focus and the Y-axis scanning focus are located is the second aperture near the front side of the X-axis galvanometer scanner 10. Although it is set to the position of the grill 9, it may be set to the position of the X-axis galvano scanner 10 or the Y-axis galvano scanner 11 or a position in the vicinity thereof in place of this.
また、上記実施形態のレーザ加工装置およびレーザ加工方法では、第2のレンズ光学系の二組のレンズ光学系6,8はそれぞれ、二枚のレンズを組み合わせて構成されているが、これ以外の構成を有していてもよい。 Further, in the laser processing apparatus and the laser processing method of the above-described embodiment, each of the two sets of lens optical systems 6 and 8 of the second lens optical system is configured by combining two lenses. You may have a structure.
1,21 レーザ光源
2,23 X軸AOD(第1のAOD)
3 第1のレンズ光学系
3a,3b レンズ
4 1/2波長板
5,24 Y軸AOD(第2のAOD)
6,8 レンズ光学系(第2のレンズ光学系)
6a,6b,8a,8b レンズ
7,22 第1のアパーチャグリル
9,26 第2のアパーチャグリル
10,27 X軸ガルバノスキャナ(第1のガルバノスキャナ)
11,28 Y軸ガルバノスキャナ(第2のガルバノスキャナ)
12,29 fθレンズ
25 レンズ光学系
25a,25b レンズ
B レーザビーム
H 穴空け位置
P0 原共通位置
P1 第1の共通位置
P2 第2の共通位置
W 加工対象物
1,21 Laser light source 2,23 X-axis AOD (first AOD)
3 First lens optical system 3a, 3b Lens 4 1/2 wavelength plate 5, 24 Y-axis AOD (second AOD)
6,8 lens optical system (second lens optical system)
6a, 6b, 8a, 8b Lens 7,22 First aperture grill 9,26 Second aperture grill 10,27 X-axis galvano scanner (first galvano scanner)
11,28 Y-axis galvano scanner (second galvano scanner)
12, 29 fθ lens 25 lens optical system 25a, 25b lens B laser beam H hole position P0 original common position P1 first common position P2 second common position W object to be processed
Claims (6)
レーザ光源から出射されるレーザビームの光路上に互いに直列に配置されてそのレーザビームを順次に入射され、互いに直交する二軸方向に、各々入力された超音波の周波数に応じた角度で偏向させて出射させる、第1のAODおよび第2のAODと、
第1のAODと第2のAODとの間のレーザビームの光路上に配置され、第1のAODから出射されるレーザビームの第1のAODの偏向方向の走査焦点を第2のAODの位置またはその近傍に位置させる第1のレンズ光学系と、
互いに直列に配置されるとともに、互いに直角な軸線周りにガルバノミラーが回動するように組み合わされて、第2のAODから出射されるレーザビームを順次に入射され、そのレーザビームを各々ガルバノミラーでの反射により偏向させる、第1のガルバノスキャナおよび第2のガルバノスキャナと、
第2のAODと第1のガルバノスキャナとの間のレーザビームの光路上に配置され、第2のAODから出射されるレーザビームの第1のAODの偏向方向の走査焦点および第2のAODの偏向方向の走査焦点をそれぞれ、第2のAOD側から順次に第1の共通位置と、第1のガルバノスキャナの近傍に位置する第2の共通位置とに位置させる第2のレンズ光学系と、
第1の共通位置に配置され、第2のAODから出射されるレーザビームの断面形状を整形する第1のアパーチャグリルと、
第2の共通位置に配置され、第1のアパーチャグリルを通ったレーザビームの断面形状を整形する第2のアパーチャグリルと、
第2のガルバノスキャナから出射されるレーザビームを加工対象物に垂直に入射させ、その加工対象物の位置で収束させるfθレンズと、
を具える。 A laser processing apparatus for irradiating a processing object with a laser beam to perform fine perforation processing,
Laser beams emitted from a laser light source are arranged in series on the optical path of the laser beams, and the laser beams are sequentially incident, and are deflected in two axial directions orthogonal to each other at an angle according to the frequency of each input ultrasonic wave. The first AOD and the second AOD,
It is arranged on the optical path of the laser beam between the first AOD and the second AOD, and the scanning focus in the deflection direction of the first AOD of the laser beam emitted from the first AOD is set to the position of the second AOD. Or a first lens optical system located in the vicinity thereof,
The galvanomirrors are arranged in series with each other and are combined so as to rotate about axes perpendicular to each other, and the laser beams emitted from the second AOD are sequentially incident on the galvanomirrors. A first galvano-scanner and a second galvano-scanner for deflecting by reflection of
It is arranged in the optical path of the laser beam between the second AOD and the first galvano scanner, and the scanning focus in the deflection direction of the first AOD of the laser beam emitted from the second AOD and the second AOD A second lens optical system for sequentially arranging the scanning focal points in the deflection direction at a first common position and a second common position located in the vicinity of the first galvano scanner, respectively, from the second AOD side;
A first aperture grill disposed at a first common position and shaping the cross-sectional shape of the laser beam emitted from the second AOD;
A second aperture grill disposed at a second common position for shaping the cross-sectional shape of the laser beam passing through the first aperture grill;
An fθ lens that causes a laser beam emitted from the second galvano scanner to enter the object to be processed perpendicularly and converge at the position of the object to be processed;
Equipped with.
レーザ光源から出射されるレーザビームを、そのレーザビームの光路上に互いに直列に配置されてそのレーザビームを順次に入射される第1のAODおよび第2のAODにより、互いに直交する二軸方向に、各々入力された超音波の周波数に応じた角度で偏向させて出射させることと、
第1のAODと第2のAODとの間のレーザビームの光路上に配置された第1のレンズ光学系により、第1のAODから出射されるレーザビームの第1のAODの偏向方向の走査焦点を第2のAODの位置またはその近傍に位置させることと、
第2のAODから出射されるレーザビームの光路上に互いに直列に配置されるとともに互いに直角な軸線周りにガルバノミラーが回動するように組み合わされて、第2のAODからのレーザビームを順次に入射される第1のガルバノスキャナおよび第2のガルバノスキャナにより、そのレーザビームをガルバノミラーでの反射で偏向させて出射させることと、
第2のAODと第1のガルバノスキャナとの間のレーザビームの光路上に配置された第2のレンズ光学系により、第2のAODから出射されるレーザビームの第1のAODの偏向方向の走査焦点および第2のAODの偏向方向の走査焦点をそれぞれ、第2のAOD側から順次に第1の共通位置と、第1のガルバノスキャナの近傍に位置する第2の共通位置とに位置させることと、
第1のアパーチャグリルを第1の共通位置に配置して、第2のAODから出射されるレーザビームの断面形状を整形することと、
第2のアパーチャグリルを第2の共通位置に配置して、第1のアパーチャグリルを通ったレーザビームの断面形状を整形することと、
第2のガルバノスキャナから出射されるレーザビームをfθレンズにより、加工対象物に垂直に入射させ、その加工対象物の位置で収束させることと、
を含んでいる。 A laser processing method for irradiating a processing object with a laser beam to perform fine perforation processing,
A laser beam emitted from a laser light source is arranged in series on the optical path of the laser beam, and the first AOD and the second AOD sequentially injecting the laser beam cause biaxial directions orthogonal to each other. , Deflecting and outputting at an angle according to the frequency of each input ultrasonic wave,
The first lens optical system disposed on the optical path of the laser beam between the first AOD and the second AOD scans the laser beam emitted from the first AOD in the deflection direction of the first AOD. Locating the focal point at or near the position of the second AOD;
The laser beams emitted from the second AOD are arranged in series on the optical path of the laser beam, and the galvanomirrors are combined so as to rotate about axes orthogonal to each other. Deflecting the laser beam by reflection by a galvanomirror by the first galvanoscanner and the second galvanoscanner which are incident, and emitting the laser beam;
By the second lens optical system arranged on the optical path of the laser beam between the second AOD and the first galvano scanner, the deflection direction of the first AOD of the laser beam emitted from the second AOD is changed. The scanning focal point and the scanning focal point in the deflection direction of the second AOD are sequentially positioned from the second AOD side to a first common position and a second common position located in the vicinity of the first galvano scanner. That
Arranging the first aperture grill at a first common position to shape the cross-sectional shape of the laser beam emitted from the second AOD;
Arranging a second aperture grill in a second common position to shape the cross-sectional shape of the laser beam through the first aperture grill;
The laser beam emitted from the second galvano scanner is made incident vertically on the object to be processed by the fθ lens and converged at the position of the object to be processed;
Is included.
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