JP2020059284A - 3次元の物体を製造するための装置及び付随する方法 - Google Patents
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Abstract
Description
の容器をまとめて製造装置内に取り付け、そこで相応にプロセスチャンバーの下でラッチロックすることもできる。
配置されることも一緒に含んでいる。
合した越流容器16を嵌め込み得る比較的大きな開口部を有していることが分かる。この開口部20は、必要ないところでは、嵌め込みプレート21によって密閉される。
3次元の物体(2)のそれぞれの断面に対応する位置で、放射線により硬化可能な造形材料(3)の層を相次いで硬化することによって、前記物体(2)を製造するための装置(1)であって、
−プロセスチャンバー(5)を取り囲むハウジング(4)と、
−前記ハウジング(4)内に配置された造形容器(6)と、
−前記造形容器(6)内のキャリア装置(8)又は事前に形成された層の上に前記造形材料(3)の層を塗布するための、前記造形容器(6)の造形面の上を層敷き詰め方向に案内されるコータ要素(9)を有する塗布装置(7)と、
−前記塗布装置(7)に前記造形材料(3)を供給するためのディスペンス機構と、
−集束されたエネルギービーム、特にレーザビームによって、前記物体(2)のそれぞれの断面に対応する位置で前記造形材料(3)の層を照射するための照射装置(12)と、を備える当該装置(1)であって、
−前記造形容器(6)が、独立した交換容器として又は交換モジュールの構成要素として前記装置(1)から取り出し可能である当該製造装置において、
−物体形状に適合した様々なサイズ及び/又は断面形状の造形容器(6)が、前記装置内に嵌め込み可能であり、据付最終位置では、層敷き詰め方向「S」での前記造形容器(6)の造形面寸法が、それに対して直角な方向「L」においてよりも短いことを特徴とする製造装置。
プロセスチャンバー底(18)が、様々なサイズ及び/又は断面形状の造形容器(6)を収容するため、前記造形容器(6)のサイズ及び/又は断面形状に関して変更可能な又は様々な造形容器形状に適合した少なくとも1つの造形エリア開口部を備えていることを特徴とする付記1に記載の装置。
物体形状に適合した前記造形容器(6)が、前記ディスペンス機構のディスペンス容器(10)の開口部に対して最小限の間隔で配置されていることを特徴とする付記1又は2に記載の装置。
前記プロセスチャンバー底の、必要でない1つ又は複数の造形エリア開口部(20)が、嵌め込みプレート(21)によって密閉されていることを特徴とする付記1〜3のいずれか1つに記載の装置。
前記プロセスチャンバー(5)内での、物体形状に適合した前記造形容器(6)及び/又は前記越流容器(16)及び/又は前記ディスペンス容器(10)のポジションが、可変に選択され得ることを特徴とする付記1〜4のいずれか1つに記載の装置。
物体形状に適合した前記造形容器(6)及び前記越流容器(16)が、前記プロセスチャンバー底(18)の1つの共通の開口部(20)の下に配置されており、前記開口部(20)の一部だけを占領しており、かつ残った部分が少なくとも1つの嵌め込みプレート(21)によって覆われていることを特徴とする付記1〜5のいずれか1つに記載の装置。
ディスペンス容器(10)、物体形状に適合した造形容器(6)、及び越流容器(16)が、運転準備の整った配置で、交換可能なプロセスチャンバー底(18)、プロセスチャンバー底嵌め込み部、又はプロセスチャンバー底(18)を備えた交換モジュール内に固定的に配置されていることを特徴とする付記1〜6のいずれか1つに記載の装置。
造形容器交換により、前記コータ要素(9)の移動距離「V」が、物体形状に適合した
前記造形容器(6)に関連した必要なコーティング長さに、又は選択された容器位置関係に、自動的に適合され得ることを特徴とする付記1〜7のいずれか1項に記載の装置。
物体形状に適合した造形容器(6)の側壁が、造形すべき物体(2)のうち側壁に一番近い位置からせいぜい50mm、特に20mmの間隔で配置されていることを特徴とする付記1〜8のいずれか1つに記載の装置。
前記コータ要素(9)の幅及び/又は前記ディスペンス容器(10)の幅が、層敷き詰め方向「S」に対して直角な前記造形容器の寸法に適合していることを特徴とする付記1〜9のいずれか1つに記載の装置。
前記装置(1)内に嵌め込み可能で、物体形状に適合した前記造形容器(6)が、前記造形容器(6)内で製造すべき物体(2)の造形データに基づいて生成的造形方法によって製造されていることを特徴とする付記1〜10のいずれか1つに記載の装置。
前記造形容器(6)が、前記造形面の縮小又は拡大のために変位可能な少なくとも1つの側壁(30)を有しており、前記側壁(30)が、前記造形容器(6)の据付最終位置では、側面敷き詰め方向「S」を横切って配置されていることを特徴とする付記1〜11のいずれか1つに記載の装置。
特許請求項1の特徴を有する装置を使用した3次元の物体の製造方法であって、以下のさらなる特徴
−製造すべき物体(2)の最大寸法を決定し、かつ前記最大寸法をメモリー装置内に記憶すること、
−様々なサイズ又は形状又は容積の複数の造形容器(6)を設け、かつ前記造形容器寸法及び/又は形状及び/又は容積をメモリー内に記憶すること、
−製造すべき前記物体(2)の前記最大寸法と、前記造形容器(6)の前記サイズ及び/又は形状との比較により、ストックされた複数の前記造形容器(6)から物体形状に適合した1つの造形容器(6)を選択すること、
−物体形状に適合した選択された前記造形容器(6)を、据付最終位置では、層敷き詰め方向「S」での物体形状に適合した前記造形容器(6)の前記造形エリア寸法が、それに対して直角な方向「L」においてよりも短いように前記装置(1)内に嵌め込むこと、
を有する製造方法。
複数の前記造形容器が、交換収納庫内に用意され、かつ前記装置(1)の制御装置により、物体形状に適合した1つの造形容器(6)が選択され、かつ自動的に前記装置(1)に嵌め込まれることを特徴とする付記13に記載の方法。
2 物体
3 造形材料
4 ハウジング
5 プロセスチャンバー
6 造形容器
7 塗布装置
8 キャリア装置
9 コータ要素
10 ディスペンス容器
12 照射装置
13 レーザ
14 スキャナー機構
15 レーザビーム
16 越流容器
17 越流開口部
18 プロセスチャンバー底
20 開口部
21 嵌め込みプレート
30 側壁
V 移動距離
L 方向
S 層敷き詰め方向
Claims (14)
- 3次元の物体(2)のそれぞれの断面に対応する位置で、放射線により硬化可能な造形材料(3)の層を相次いで硬化することによって、前記物体(2)を製造するための装置(1)であって、
−キャリア装置(8)を内に備えた造形容器(6)が内部に配置されたプロセスチャンバー(5)を取り囲むハウジング(4)と、
−前記ハウジング(4)内に配置された造形容器(6)と、
−前記造形容器(6)内の前記キャリア装置(8)又は事前に形成された層の上に前記造形材料(3)の層を塗布するための、前記造形容器(6)の造形面の上を前記造形容器(6)のサイズに適合可能な距離範囲内で層敷き詰め方向に案内されるように構成されたコータ要素(9)を有する塗布装置(7)と、
−前記塗布装置(7)に前記造形材料(3)を供給するためのディスペンス機構と、
−集束されたエネルギービームによって、前記物体(2)のそれぞれの断面に対応する位置で前記造形材料(3)の層を照射するための照射装置(12)と、を備える当該装置(1)であって、
−前記造形容器(6)が、独立した交換容器として又は交換モジュールの構成要素として前記装置(1)から取り出し可能であり、
−前記装置(1)が、互いに異なる断面形状を有する複数の異なる造形容器(6)を受け入れるように構成され、前記複数の異なる造形容器(6)は前記物体(2)の形状にそれぞれ適合しており、据付最終位置では、層敷き詰め方向「S」での前記造形容器(6)の造形面寸法が、それに対して直角な方向「L」においてよりも短い、製造装置。 - 少なくとも1つの前記複数の異なる造形容器(6)を収容するためのプロセスチャンバー底(18)を備え、
前記プロセスチャンバー底(18)が、前記少なくとも1つの前記複数の異なる造形容器(6)の断面形状に関して変更可能な又は形状が適合された少なくとも1つの造形エリア開口部を備えている請求項1に記載の装置。 - 前記塗布装置(7)に前記造形材料(3)を供給するためのディスペンス機構が開口部を有するディスペンス容器(10)を有し、
前記造形容器(6)が、前記ディスペンス機構の前記ディスペンス容器(10)の前記開口部に対して最小限の間隔で配置されている請求項1又は2に記載の装置。 - プロセスチャンバー底(18)と、
1つ又は複数の嵌め込みプレート(21)を備え、
前記プロセスチャンバー底の、必要でない1つ又は複数の造形エリア開口部(20)の各々が、前記1つ又は複数の嵌め込みプレート(21)のうちの対応する1つによって密閉されている請求項1〜3のいずれか1項に記載の装置。 - 前記プロセスチャンバー(5)内での、前記造形容器(6)のポジション、及び/又は越流容器(16)のポジション、及び/又はディスペンス容器(10)のポジションが、可変に選択され得る請求項1〜4のいずれか1項に記載の装置。
- 共通の開口部(20)を備えたプロセスチャンバー底(18)を備え、
前記造形容器(6)が、前記プロセスチャンバー底(18)の前記共通の開口部(20)の下に配置されており、前記造形容器(6)が、前記共通の開口部(20)の一部だけを占領しており、かつ前記共通の開口部(20)の残った部分が少なくとも1つの嵌め込みプレート(21)によって覆われている請求項1〜5のいずれか1項に記載の装置。 - プロセスチャンバー底(18)を備え、
前記プロセスチャンバー底(18)が、内部にディスペンス容器(10)、及び造形容器(6)を運転準備の整った配置で備え、前記運転準備の整った配置とは、前記ディスペンス容器(10)、及び造形容器(6)が、交換可能な前記プロセスチャンバー底(18)に固定的に配置されるか、前記プロセスチャンバー底(18)に嵌め込み可能な嵌め込み部に固定的に配置されるか、又は前記プロセスチャンバー底(18)を備えた交換モジュール内に固定的に配置されていることである請求項1〜6のいずれか1項に記載の装置。 - 造形容器交換により、前記コータ要素(9)の移動距離「V」が、前記プロセスチャンバー(5)内に配置された前記造形容器(6)の断面形状に関連した必要なコーティング長さに自動的に適合され得る請求項1〜7のいずれか1項に記載の装置。
- 前記造形容器(6)の側壁が、造形すべき物体(2)のうち側壁に一番近い位置からせいぜい50mmの間隔で配置されている請求項1〜8のいずれか1項に記載の装置。
- 前記コータ要素(9)の幅及び/又はディスペンス容器(10)の幅が、層敷き詰め方向「S」に対して直角な前記造形容器の寸法に適合している請求項1〜9のいずれか1項に記載の装置。
- 前記造形容器(6)が、前記造形容器(6)内で製造すべき物体(2)の造形データに基づいて生成的造形方法によって製造されている請求項1〜10のいずれか1項に記載の装置。
- 前記造形容器(6)が、前記造形面の縮小又は拡大のために変位可能な少なくとも1つの側壁(30)を有しており、前記側壁(30)が、前記造形容器(6)の据付最終位置では、側面敷き詰め方向「S」を横切って配置されている請求項1〜11のいずれか1項に記載の装置。
- 請求項1の特徴を有する装置を使用した3次元の物体の製造方法であって、
−製造すべき物体(2)の最大寸法を決定し、かつ前記最大寸法をメモリー装置内に記憶し、
−異なる断面形状を有する複数の造形容器(6)を設け、
−製造すべき前記物体(2)の前記最大寸法と、前記複数の造形容器(6)のうちの1つの断面形状との比較により、前記複数の造形容器(6)から物体形状に適合した1つの造形容器(6)を選択し、
−前記選択された造形容器(6)を、据付最終位置では、層敷き詰め方向「S」での前記選択された造形容器(6)の造形エリア寸法が、それに対して直角な方向「L」においてよりも短いように前記装置(1)内に嵌め込む、
ことを含む製造方法。 - 前記複数の造形容器が、交換収納庫内に用意され、かつ前記装置(1)の制御装置により、物体形状に適合した1つの造形容器(6)が選択され、かつ自動的に前記装置(1)に嵌め込まれる請求項13に記載の方法。
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