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JP2018036291A - Method for manufacturing electro-optic device, electro-optic device and electronic apparatus - Google Patents

Method for manufacturing electro-optic device, electro-optic device and electronic apparatus Download PDF

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JP2018036291A
JP2018036291A JP2016166548A JP2016166548A JP2018036291A JP 2018036291 A JP2018036291 A JP 2018036291A JP 2016166548 A JP2016166548 A JP 2016166548A JP 2016166548 A JP2016166548 A JP 2016166548A JP 2018036291 A JP2018036291 A JP 2018036291A
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electro
optical device
mother substrate
outline
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智也 石川
Tomoya Ishikawa
智也 石川
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Abstract

【課題】マザー基板を分割する際の欠けやバリ等の不具合の発生を抑制することのできる
電気光学装置の製造方法、電気光学装置、および電子機器を提供すること。
【解決手段】複合基板400を分割して電気光学装置100を製造する際、第1マザー基
板200を第2外形線LY2に沿って分割する工程では、第1マザー基板200の厚さ方
向の途中位置までレーザスクライブにより亀裂を形成する第1レーザスクライブ処理と、
第1外面200tから亀裂までダイシングソーにより第1マザー基板200を切断するダ
イシング処理を行う。第2マザー基板300を第4外形線LX4および第5外形線LY5
に沿って分割する工程では、第2マザー基板300の厚さ方向の全体にレーザスクライブ
により亀裂を形成する。
【選択図】図5
An electro-optical device manufacturing method, an electro-optical device, and an electronic apparatus capable of suppressing the occurrence of defects such as chipping and burrs when a mother substrate is divided.
When the electro-optical device 100 is manufactured by dividing a composite substrate 400, the first mother substrate 200 is divided in the thickness direction of the first mother substrate 200 in the step of dividing the first mother substrate 200 along the second outline LY2. A first laser scribing process for forming a crack by laser scribing to a position;
A dicing process is performed to cut the first mother substrate 200 with a dicing saw from the first outer surface 200t to the crack. The second mother board 300 is connected to the fourth outline LX4 and the fifth outline LY5.
In the step of dividing along the line, a crack is formed by laser scribing on the entire thickness of the second mother substrate 300.
[Selection] Figure 5

Description

本発明は、マザー基板を分割する工程を有する電気光学装置の製造方法、電気光学装置
、および電子機器に関するものである。
The present invention relates to an electro-optical device manufacturing method, an electro-optical device, and an electronic apparatus that include a step of dividing a mother substrate.

液晶装置等の電気光学装置は、枠状に設けられたシール材によって第1基板と第2基板
とが貼り合わされており、第1基板と第2基板との間においてシール材で囲まれた領域内
に電気光学層が設けられている。かかる電気光学装置を製造するにあたっては、第1基板
を得るための第1マザー基板と第2基板を得るための第2マザー基板とをシール材によっ
て貼り合わせておき、第1マザー基板および第2マザー基板を各々、スクライブヘッドに
よって形成した溝に沿ってマザー基板を割断するブレイク処理や、ダイシングソーを用い
たダイシング処理等のメカニカルな処理が利用される(特許文献1、2参照)。
In an electro-optical device such as a liquid crystal device, a first substrate and a second substrate are bonded together by a sealing material provided in a frame shape, and a region surrounded by the sealing material between the first substrate and the second substrate An electro-optic layer is provided inside. In manufacturing such an electro-optical device, a first mother substrate for obtaining a first substrate and a second mother substrate for obtaining a second substrate are bonded together with a sealing material, and the first mother substrate and the second mother substrate are bonded together. A mechanical process such as a break process for cutting the mother board along a groove formed by a scribe head or a dicing process using a dicing saw is used (see Patent Documents 1 and 2).

特開2010−181696号公報JP 2010-181696 A 特開2015−13785号公報JP 2015-13785 A

しかしながら、ブレイク処理やダイシング処理等のメカニカルな処理では、基板の欠け
やバリ等が発生することがあり、かかる不具合の発生は、端子、配線、シール材等を損傷
させる原因となる。
However, mechanical processing such as break processing and dicing processing may cause chipping or burrs of the substrate, and the occurrence of such a failure causes damage to terminals, wiring, sealing materials, and the like.

以上の問題点に鑑みて、本発明は、マザー基板を分割する際の欠けやバリ等の不具合の
発生を抑制することのできる電気光学装置の製造方法、電気光学装置、および電子機器を
提供することにある。
In view of the above problems, the present invention provides an electro-optical device manufacturing method, an electro-optical device, and an electronic apparatus that can suppress the occurrence of defects such as chipping and burrs when a mother substrate is divided. There is.

上記課題を解決するために、本発明の電気光学装置の製造方法の一態様は、枠状のシー
ル材によって第1マザー基板と第2マザー基板とが貼り合わされた複合基板を分割して電
気光学装置を製造する電気光学装置の製造方法であって、前記第1マザー基板を前記シー
ル材の外縁に沿って分割する第1分割工程と、前記第2マザー基板を前記シール材の外縁
に沿って分割する第2分割工程と、を備え、前記第1分割工程では、少なくとも、前記第
1マザー基板の前記第2マザー基板側の面である第1内面から前記第1マザー基板の前記
第2マザー基板とは反対側の面である第1外面に向かう途中位置までレーザスクライブに
より亀裂を形成する第1レーザスクライブ処理と、前記第1外面から前記亀裂までダイシ
ングソーにより前記第1マザー基板を切断するダイシング処理と、を行い、前記第2分割
工程では、前記第2マザー基板の前記第1マザー基板とは反対側の面である第2外面から
前記第2マザー基板の前記第1マザー基板側の面である第2内面までレーザスクライブに
より亀裂を形成する第2レーザスクライブ処理を行うことを特徴とする。
In order to solve the above-described problems, an aspect of the method for manufacturing an electro-optical device according to the present invention includes dividing a composite substrate in which a first mother substrate and a second mother substrate are bonded to each other by a frame-shaped sealing material. An electro-optical device manufacturing method for manufacturing a device, wherein a first dividing step of dividing the first mother substrate along an outer edge of the sealing material, and a second mother substrate along the outer edge of the sealing material. A second dividing step of dividing, wherein in the first dividing step, the second mother of the first mother substrate is at least from a first inner surface that is a surface of the first mother substrate on the second mother substrate side. A first laser scribing process for forming a crack by laser scribing to a position halfway toward the first outer surface, which is a surface opposite to the substrate; and a first dicing saw from the first outer surface to the crack. A dicing process for cutting the plate, and in the second dividing step, the first mother substrate from the second outer surface that is the surface of the second mother substrate opposite to the first mother substrate. A second laser scribing process is performed in which a crack is formed by laser scribing to the second inner surface which is a surface on the mother substrate side.

本発明では、第1マザー基板および第2マザー基板を分割するにあたって、レーザスク
ライブを利用するため、基板の欠けやバリ等が発生しにくい。従って、基板の欠けやバリ
等が原因で端子、配線、シール材等が損傷するという事態が発生しにくい。また、第2マ
ザー基板の分割にレーザスクライブを利用するにあたって、第1マザー基板の第1内面か
ら途中位置までレーザスクライブにより亀裂を形成し、第1外面から亀裂まではダイシン
グソーにより第1マザー基板を切断する。このため、第1マザー基板から分割された第1
基板にはダイシングソーによる切断面が存在し、かかる切断面は、位置や形状の精度が高
い。このため、電気光学装置を電子機器に搭載する際、ダイシングソーによる切断面を基
準に電気光学装置の位置を合わせることができる。
In the present invention, since the laser scribing is used when dividing the first mother substrate and the second mother substrate, chipping or burring of the substrate is unlikely to occur. Therefore, it is difficult for the terminal, wiring, sealing material, and the like to be damaged due to chipping or burrs of the substrate. Further, when using laser scribing for dividing the second mother substrate, a crack is formed by laser scribing from the first inner surface of the first mother substrate to an intermediate position, and the first mother substrate is formed by a dicing saw from the first outer surface to the crack. Disconnect. Therefore, the first divided from the first mother substrate
The substrate has a cut surface by a dicing saw, and the cut surface has high position and shape accuracy. For this reason, when the electro-optical device is mounted on the electronic apparatus, the position of the electro-optical device can be adjusted based on the cut surface by the dicing saw.

本発明において、前記第1分割工程では、さらに、前記第1外面に形成した溝を起点に
前記第1マザー基板を割断するブレイク処理を行う態様を採用してもよい。ブレイク処理
であれば、レーザスクライブより基板の切断を効率よく行うことができる。従って、端子
、配線、シール材等の損傷が発生しにくい個所の切断にブレイク処理を利用すれば、全て
をレーザスクライブによって切断した場合と比較して製造効率を高めることができる。
In the present invention, the first dividing step may further employ a break process in which the first mother substrate is cleaved starting from a groove formed in the first outer surface. If it is a break process, a board | substrate can be cut | disconnected efficiently from a laser scribe. Therefore, if the break process is used for cutting a portion where damage to the terminal, wiring, sealing material, etc. is unlikely to occur, the manufacturing efficiency can be improved as compared with the case where all are cut by laser scribing.

本発明において、前記第1外面に沿って延在する一つの方向を第1方向とし、前記第1
外面に沿って前記第1方向と交差する方向を第2方向としたとき、前記第1分割工程では
、前記シール材の前記第1方向の両側に位置する外縁に沿って前記第2方向に延在する第
1外形線に沿って前記ブレイク処理によって前記第1マザー基板を割断する第1工程と、
前記シール材の前記第2方向の両側に位置する外縁に沿って前記第1方向に延在する第2
外形線に沿って前記第1レーザスクライブ処理と前記ダイシング処理とによって前記第1
マザー基板を切断する第2工程と、前記シール材に対して前記第1方向の一方側で前記第
1外形線と前記シール材との間で前記シール材の前記第1方向の一方側に位置する外縁に
沿って前記第2方向に延在する第3外形線に沿って前記ブレイク処理によって前記第1マ
ザー基板を割断する第3工程と、を行い、前記第2分割工程では、前記シール材の前記第
1方向の両側に位置する外縁に沿って前記第2方向に延在する第4外形線に沿って前記第
2レーザスクライブ処理により前記第2マザー基板を切断する第4工程と、前記シール材
の前記第2方向の両側に位置する外縁に沿って前記第1方向に延在する第5外形線に沿っ
て前記第2レーザスクライブ処理により前記第2マザー基板を切断する第5工程と、を行
う態様を採用することができる。
In the present invention, one direction extending along the first outer surface is a first direction, and the first direction
When the direction intersecting the first direction along the outer surface is defined as the second direction, the first dividing step extends in the second direction along outer edges located on both sides of the sealing material in the first direction. A first step of cleaving the first mother substrate by the break process along the existing first outline;
A second extending in the first direction along outer edges located on both sides of the sealing material in the second direction;
The first laser scribing process and the dicing process are performed along the outline.
A second step of cutting the mother substrate and a position on one side in the first direction of the sealing material between the first outline and the sealing material on one side in the first direction with respect to the sealing material; And a third step of cleaving the first mother substrate by the breaking process along a third outline extending in the second direction along the outer edge, and in the second dividing step, the sealing material A fourth step of cutting the second mother substrate by the second laser scribing process along a fourth outline extending in the second direction along outer edges located on both sides of the first direction; A fifth step of cutting the second mother substrate by the second laser scribing process along a fifth outline extending in the first direction along outer edges located on both sides of the seal material in the second direction; , Can be adopted .

本発明において、前記第2工程、前記3工程、前記第4工程、前記第5工程を行った後
、前記第1工程を行う際には、前記第1外面に粘着シートを貼っておき、前記第1外形線
に沿って前記第1マザー基板を割断した後、前記シール材に対して前記第1方向の他方側
の前記第1外形線、前記第2外形線、前記第3外形線、前記第4外形線および前記第5外
形線に沿って分割された電気光学装置を前記粘着シートから剥離し、前記第1マザー基板
において前記シール材に対して前記第1方向の一方側の前記第1外形線、前記第2外形線
および前記第3外形線によって分割された分割片を前記粘着シートに残す態様を採用する
ことができる。かかる構成によれば、分割片が飛び散らないという利点がある。
In the present invention, after performing the second step, the third step, the fourth step, and the fifth step, when performing the first step, an adhesive sheet is pasted on the first outer surface, After cleaving the first mother substrate along the first outline, the first outline, the second outline, the third outline, on the other side of the first direction with respect to the sealing material, The electro-optical device divided along the fourth outline and the fifth outline is peeled from the pressure-sensitive adhesive sheet, and the first mother substrate on the one side in the first direction with respect to the sealing material. The aspect which leaves the division piece divided | segmented by the outline, the said 2nd outline, and the said 3rd outline on the said adhesive sheet is employable. According to such a configuration, there is an advantage that the divided pieces are not scattered.

本発明において、前記第1工程では、ダイシングソーによって前記溝を形成し、前記第
1分割工程では、前記第3工程の後、前記第3外形線に沿ってダイシングソーによって溝
を形成する態様を採用することができる。かかる態様によれば、第1マザー基板から分割
された第1基板の側面の全てにダイシングソーによる切断面が存在する。このため、電気
光学装置を電子機器に搭載する際、ダイシングソーによる切断面を基準に電気光学装置の
位置を合わせることができる。
In the present invention, in the first step, the groove is formed by a dicing saw, and in the first division step, the groove is formed by the dicing saw along the third outline after the third step. Can be adopted. According to this aspect, the cut surface by the dicing saw exists on all the side surfaces of the first substrate divided from the first mother substrate. For this reason, when the electro-optical device is mounted on the electronic apparatus, the position of the electro-optical device can be adjusted based on the cut surface by the dicing saw.

本発明において、前記シール材は、全周で繋がっており、前記第1分割工程および前記
第2分割工程を行う前に、前記シール材で囲まれた領域内に液状の電気光学層を設けてお
く態様を採用することができる。かかる構成の場合、電気光学材料の廃棄が少ない等の利
用がある一方、第1分割工程や第2分割工程を行う際に液状の電気光学層からシール材に
圧力が加わりやすい。しかるに本発明によれば、シール材の損傷を防止することができる
ので、第1分割工程や第2分割工程を行う際に液状の電気光学層からシール材に圧力が加
わっていても、電気光学層の漏れが発生しにくい。
In the present invention, the sealing material is connected around the entire circumference, and before performing the first dividing step and the second dividing step, a liquid electro-optical layer is provided in a region surrounded by the sealing material. It is possible to adopt a mode of placing. In the case of such a configuration, the electro-optical material is used with less disposal, and on the other hand, pressure is easily applied from the liquid electro-optical layer to the sealing material when performing the first division step and the second division step. However, according to the present invention, it is possible to prevent the sealing material from being damaged. Therefore, even if pressure is applied to the sealing material from the liquid electro-optic layer during the first dividing step or the second dividing step, the electro-optic Layer leakage is unlikely to occur.

本発明において、前記第1マザー基板には、前記シール材で囲まれた領域内に、凹曲面
または凸曲面からなるレンズ面と、前記レンズ面を覆うレンズ層とが設けられている態様
を採用することができる。かかる態様の場合、光の利用効率を向上させることができる一
方、レンズ層を形成した分、シール材付近に厚い膜が形成されるので、ダイシング処理の
際にシール材付近に欠陥が発生しやすい。しかるに本発明によれば、シール材付近の膜が
厚くても、第1分割工程や第2分割工程の際にシール材付近の膜が損傷することを抑制す
ることができるので、電気光学層の漏れが発生しにくい。
In the present invention, the first mother substrate is provided with a lens surface formed of a concave or convex curved surface and a lens layer covering the lens surface in a region surrounded by the sealing material. can do. In such an embodiment, the light utilization efficiency can be improved. On the other hand, since a thick film is formed in the vicinity of the sealing material as much as the lens layer is formed, defects are likely to occur in the vicinity of the sealing material during the dicing process. . However, according to the present invention, even if the film near the sealing material is thick, it is possible to prevent the film near the sealing material from being damaged during the first dividing step and the second dividing step. Leakage hardly occurs.

本発明を適用した電気光学装置は、第1基板と、前記第1基板と対向し、前記第1基板
から第1方向の一方側に向けて張り出した張り出し部に端子を有する第2基板と、前記第
1基板の側面である第1側面に沿って設けられ、前記第1基板と前記第2基板とを貼り合
わせる枠状のシール材と、前記第1基板と前記第2基板との間に設けられた電気光学層と
、を備え、前記第1側面のうち、前記第1方向の両側に位置する面、および前記第1方向
に対して交差する第2方向の両側に位置する面のいずれかは、前記第1基板の前記第2基
板側の面である第1内面から前記第1基板の前記第2基板とは反対側の面である第1外面
に向かう途中位置までの第1部分と、前記途中位置から前記第1外面までの第2部分と、
有し、前記第1部分を含む前記第1基板の外縁は、前記第2部分を含む前記第1基板の外
縁より平面サイズが大きいことを特徴とする。
An electro-optical device to which the present invention is applied includes a first substrate, a second substrate facing the first substrate, and having a terminal on a projecting portion that projects from the first substrate toward one side in the first direction, A frame-shaped sealing material that is provided along a first side surface that is a side surface of the first substrate, and that bonds the first substrate and the second substrate, and between the first substrate and the second substrate An electro-optic layer provided, and of the first side surface, any one of a surface located on both sides in the first direction and a surface located on both sides in the second direction intersecting the first direction The first portion from the first inner surface, which is the surface of the first substrate on the second substrate side, to the midway position toward the first outer surface, which is the surface of the first substrate on the side opposite to the second substrate. And a second portion from the midway position to the first outer surface,
The outer edge of the first substrate including the first portion has a larger planar size than the outer edge of the first substrate including the second portion.

本発明に係る電気光学装置において、前記第2基板の側面である第2側面のうち、前記
第1方向の他方側に位置する面、および前記第2方向の両側に位置する面のいずれかは、
前記第1部分と平面視で重なる態様を採用することができる。
In the electro-optical device according to the aspect of the invention, any one of a surface located on the other side of the first direction and a surface located on both sides of the second direction among the second side surfaces that are the side surfaces of the second substrate is ,
It is possible to adopt an aspect that overlaps the first portion in plan view.

本発明において、前記第1部分は、スポット状の熱的改質部分が分布し、前記第2部分
は、前記熱的改質部分が分布せず、前記第2基板の側面である第2側面のうち、前記第1
方向の両側に位置する面、および前記第2方向の両側に位置する面のいずれかには、前記
第2基板の前記第1基板側の面である第2内面から前記第2基板の前記第1基板とは反対
側の面である第2外面まで前記熱的改質部分が分布している態様を採用することができる
。レーザスクライブでは、レーザスポットが照射された部分が熱的に改質され、その応力
によって亀裂が発生する。従って、第1基板および第2基板にスポット状の熱的改質部分
が存在すれば、第1マザー基板および第2マザー基板を分割するにあたって、レーザスク
ライブを利用したことが分かる。
In the present invention, a spot-like thermally modified portion is distributed in the first portion, and a second side surface that is a side surface of the second substrate is not distributed in the second portion. Of the first
The surface located on both sides in the direction and the surface located on both sides in the second direction may include a second inner surface that is a surface on the first substrate side of the second substrate, and the second surface of the second substrate. It is possible to adopt a mode in which the thermally modified portion is distributed to the second outer surface that is the surface opposite to the one substrate. In laser scribe, a portion irradiated with a laser spot is thermally modified, and a crack is generated by the stress. Therefore, if spot-like thermally modified portions exist on the first substrate and the second substrate, it can be understood that laser scribing was used in dividing the first mother substrate and the second mother substrate.

本発明に係る電気光学装置において、前記第1側面のうち、前記第2方向の両側に位置
する面に前記第1部分および前記第2部分が存在し、前記第2側面において、前記第1方
向の両側に位置する面、および前記第2方向の両側に位置する面のいずれにも前記熱的改
質部分が分布している態様を採用することができる。
In the electro-optical device according to the aspect of the invention, the first portion and the second portion are present on surfaces of the first side surface that are located on both sides of the second direction, and the first direction is the first direction. It is possible to adopt a mode in which the thermally modified portion is distributed on both the surface located on both sides of the surface and the surface located on both sides in the second direction.

本発明に係る電気光学装置において、前記第1側面のうち、前記第1方向の両側に位置
する面は、前記第1外面から前記第1内面に向かう途中位置まで形成された第3部分と、
前記第3部分から前記第1内面まで前記第3部分より光散乱性が低い第4部分と、を備え
ている態様を採用することができる。ブレイク処理に形成された割断面は、ダイシング処
理により形成された切断面より光散乱性が低いことから、第3部分および第4部分が存在
すれば、第1外面からダイシングソーによって溝が形成されたことが分かる。
In the electro-optical device according to the aspect of the invention, of the first side surface, the surfaces located on both sides in the first direction may include a third portion formed from the first outer surface to a midway position toward the first inner surface,
The aspect provided with the 4th part with light scattering property lower than the said 3rd part from the said 3rd part to the said 1st inner surface is employable. Since the fractured surface formed by the break process has a light scattering property lower than that of the cut surface formed by the dicing process, a groove is formed from the first outer surface by the dicing saw if the third part and the fourth part exist. I understand that.

本発明を適用した電気光学装置は、各種電子機器に用いられる。かかる電子機器は、例
えば、前記電気光学装置に対して前記素子基板側から光を入射させる光源部を有している
。また、各種電子機器のうち、投射型表示装置に電気光学装置を用いる場合、投射型表示
装置には、前記電気光学装置に供給される光を出射する光源部と、前記電気光学装置によ
って変調された光を投射する投射光学系と、が設けられる。
The electro-optical device to which the present invention is applied is used in various electronic apparatuses. Such an electronic device has, for example, a light source unit that allows light to enter the electro-optical device from the element substrate side. In addition, when an electro-optical device is used for a projection display device among various electronic devices, the projection display device is modulated by a light source unit that emits light supplied to the electro-optical device and the electro-optical device. A projection optical system for projecting the light.

本発明を適用した電気光学装置を第1基板の側から見た平面図である。FIG. 3 is a plan view of the electro-optical device to which the present invention is applied as viewed from the first substrate side. 図1に示す電気光学装置のY0−Y0′断面図である。FIG. 2 is a Y0-Y0 ′ sectional view of the electro-optical device shown in FIG. 1. 図1に示す電気光学装置のY方向の両側の端部を拡大して示す説明図である。FIG. 2 is an explanatory diagram illustrating an enlarged end portion on both sides in the Y direction of the electro-optical device illustrated in FIG. 1. 図1に示す電気光学装置のX方向の両側の端部を拡大して示す説明図である。FIG. 2 is an explanatory diagram illustrating an enlarged end portion on both sides in the X direction of the electro-optical device illustrated in FIG. 1. 図1に示す電気光学装置の製造方法に用いられる複合基板の平面図である。FIG. 2 is a plan view of a composite substrate used in the method for manufacturing the electro-optical device shown in FIG. 1. 図5に示す複合基板の一部を拡大して示す平面図である。FIG. 6 is an enlarged plan view showing a part of the composite substrate shown in FIG. 5. 図5に示す複合基板の一部を拡大して示す断面図である。It is sectional drawing which expands and shows a part of composite substrate shown in FIG. 図1に示す電気光学装置の製造方法を示す工程断面図である。FIG. 6 is a process cross-sectional view illustrating a method for manufacturing the electro-optical device illustrated in FIG. 1. 図1に示す電気光学装置の製造方法を示す工程断面図である。FIG. 6 is a process cross-sectional view illustrating a method for manufacturing the electro-optical device illustrated in FIG. 1. 本発明を適用した電気光学装置を用いた投射型表示装置(電子機器)の概略構成図である。1 is a schematic configuration diagram of a projection display device (electronic device) using an electro-optical device to which the present invention is applied.

以下、本発明の実施の形態として、代表的な電気光学装置である液晶装置を説明する。
なお、以下の説明で参照する図においては、各層や各部材を図面上で認識可能な程度の大
きさとするため、各層や各部材毎に縮尺を異ならしめてある。
Hereinafter, a liquid crystal device which is a typical electro-optical device will be described as an embodiment of the present invention.
In the drawings to be referred to in the following description, the scales are different for each layer and each member so that each layer and each member have a size that can be recognized on the drawing.

(電気光学装置の構成)
図1は、本発明を適用した電気光学装置を第1基板20の側から見た平面図である、図
2は、図1に示す電気光学装置のY0−Y0′断面図である。なお、以下の説明において
、Y方向が本発明における「第1方向」であり、X方向が本発明における「第2方向」で
ある。また、Y方向の一方側(第1方向の一方側)にY2を付し、Y方向の他方側(第1
方向の他方側)にY1を付し、X方向の一方側(第2方向の一方側)にX2を付し、X方
向の他方側(第2方向の他方側)にX1を付してある。
(Configuration of electro-optical device)
FIG. 1 is a plan view of an electro-optical device to which the present invention is applied as viewed from the first substrate 20, and FIG. 2 is a cross-sectional view of the electro-optical device shown in FIG. In the following description, the Y direction is the “first direction” in the present invention, and the X direction is the “second direction” in the present invention. Moreover, Y2 is attached to one side in the Y direction (one side in the first direction), and the other side in the Y direction (first side).
Y1 is attached to the other side in the direction, X2 is attached to one side in the X direction (one side in the second direction), and X1 is attached to the other side in the X direction (the other side in the second direction). .

図1および図2に示す電気光学装置100は、液晶装置であり、第1基板20(対向基
板)と第2基板30(素子基板)とが、第1基板20の縁に沿って枠状に延在するシール
材60によって貼り合わされている。シール材60は、光硬化性樹脂、熱硬化性樹脂、嫌
気硬化性樹脂等の接着剤からなる。電気光学装置100において、第1基板20と第2基
板30との間には、シール材60に囲まれた領域内に液晶材料からなる液状の電気光学層
50が設けられており、シール材60は、第1基板20と第2基板30とを貼り合わせる
とともに、電気光学層50を封止している。シール材60はギャップ材69を含有してお
り、ギャップ材69は第1基板20と第2基板30との間隔(電気光学層50の厚さ)を
制御している。本形態では、電気光学層50を設けるにあたって、液晶滴下注入法(OD
F(One Drop Fill)法)が用いられている。かかる方法では、例えば、第
2基板30の側にシール材60を枠状に設けた後、シール材60の内側に液状の電気光学
材料を滴下し、その後、第1基板20を第2基板30と貼り合わせる。このため、シール
材60は全周で繋がっている。なお、シール材60の一部が途切れた状態で第1基板20
を第2基板30と貼り合わせ、その後、シール材60の途切れ部分から液状の電気光学材
料を真空注入してもよい。この場合、シール材60の途切れ部分を封止材によって塞ぐこ
とになる。
The electro-optical device 100 shown in FIGS. 1 and 2 is a liquid crystal device, and a first substrate 20 (counter substrate) and a second substrate 30 (element substrate) are formed in a frame shape along the edge of the first substrate 20. It is bonded by the extending sealing material 60. The sealing material 60 is made of an adhesive such as a photocurable resin, a thermosetting resin, or an anaerobic curable resin. In the electro-optical device 100, a liquid electro-optical layer 50 made of a liquid crystal material is provided in a region surrounded by the sealing material 60 between the first substrate 20 and the second substrate 30. , The first substrate 20 and the second substrate 30 are bonded together, and the electro-optic layer 50 is sealed. The sealing material 60 contains a gap material 69, and the gap material 69 controls the distance between the first substrate 20 and the second substrate 30 (the thickness of the electro-optic layer 50). In this embodiment, when the electro-optic layer 50 is provided, a liquid crystal dropping injection method (OD
F (One Drop Fill) method) is used. In such a method, for example, after the sealing material 60 is provided in a frame shape on the second substrate 30 side, a liquid electro-optic material is dropped inside the sealing material 60, and then the first substrate 20 is attached to the second substrate 30. And paste together. For this reason, the sealing material 60 is connected all around. Note that the first substrate 20 in a state where a part of the sealing material 60 is interrupted.
May be bonded to the second substrate 30, and then a liquid electro-optical material may be vacuum-injected from a discontinuous portion of the sealing material 60. In this case, the interrupted portion of the sealing material 60 is closed with the sealing material.

電気光学装置100において、第1基板20の基板本体20wおよび第2基板30の基
板本体30wは、ガラスや石英基板等の透光性基板である。また、第1基板20(基板本
体20w)および第2基板30(基板本体30w)は、いずれも1mm未満程度の厚さで
ある。また、第1基板20(基板本体20w)および第2基板30(基板本体30w)は
、平面(XY平面)において四角形であり、4辺に側面を有する。第1基板20の側面を
第1側面としたとき、第1基板20は、Y方向で対向する2つの第1側面20e、20f
と、X方向で対向する2つの第1側面20g、20hとを備えている。また、第2基板3
0の側面を第2側面としたとき、第2基板30は、Y方向で対向する2つの第2側面30
e、30fと、X方向で対向する2つの第2側面30g、30hとを備えている。電気光
学装置100の略中央には、表示領域10aが四角形の領域として設けられている。
In the electro-optical device 100, the substrate body 20w of the first substrate 20 and the substrate body 30w of the second substrate 30 are translucent substrates such as glass and quartz substrates. The first substrate 20 (substrate body 20w) and the second substrate 30 (substrate body 30w) are both about 1 mm in thickness. The first substrate 20 (substrate body 20w) and the second substrate 30 (substrate body 30w) are quadrangular on the plane (XY plane) and have side surfaces on four sides. When the side surface of the first substrate 20 is the first side surface, the first substrate 20 has two first side surfaces 20e and 20f that face each other in the Y direction.
And two first side surfaces 20g and 20h facing each other in the X direction. The second substrate 3
When the 0 side surface is the second side surface, the second substrate 30 has two second side surfaces 30 that face each other in the Y direction.
e, 30f, and two second side faces 30g, 30h facing each other in the X direction. A display area 10 a is provided as a rectangular area at the approximate center of the electro-optical device 100.

電気光学装置100において、第1基板20は第2基板30より小さく、シール材60
および第2基板30は、第1基板20においてY方向の他方側Y1に偏った位置に設けら
れている。このため、第2基板30は、第1基板20から張り出した張り出し部37を有
している。具体的には、第2基板30は、第1基板20の第1側面20eから張り出して
おり、第2基板30の第2側面30eと第1基板20の第1側面20eとの間に張り出し
部37を有している。これに対して、第1側面20fおよび第2側面30fはいずれも、
Y方向の他方側Y1でシール材60の外縁61と平面視で重なっている。第1側面20g
および第2側面30gはいずれも、X方向の他方側X1でシール材60の外縁61と平面
視で重なっている。また、第1側面20hおよび第2側面30hはいずれも、X方向の一
方側X2でシール材60の外縁61と平面視で重なっている。
In the electro-optical device 100, the first substrate 20 is smaller than the second substrate 30, and the sealing material 60
And the 2nd board | substrate 30 is provided in the position biased to the other side Y1 of the Y direction in the 1st board | substrate 20. FIG. For this reason, the second substrate 30 has a projecting portion 37 that projects from the first substrate 20. Specifically, the second substrate 30 projects from the first side surface 20 e of the first substrate 20, and a projecting portion is formed between the second side surface 30 e of the second substrate 30 and the first side surface 20 e of the first substrate 20. 37. On the other hand, both the first side surface 20f and the second side surface 30f are
It overlaps with the outer edge 61 of the sealing material 60 in plan view on the other side Y1 in the Y direction. 1st side 20g
Both the second side surface 30g and the outer edge 61 of the sealing material 60 overlap each other on the other side X1 in the X direction in plan view. Further, both the first side face 20h and the second side face 30h overlap with the outer edge 61 of the sealing material 60 in a plan view on one side X2 in the X direction.

第2基板30において、表示領域10aの外側領域では、Y方向の一方側Y2にデータ
線駆動回路35aおよび複数の端子31が形成されており、端子31は、張り出し部37
において第2側面30eに沿って配列されている。また、第2基板30には、第2側面3
0g、30hの各々に沿って走査線駆動回路35bが形成されている。端子31には、フ
レキシブル配線基板(図示せず)が接続されており、第2基板30には、フレキシブル配
線基板を介して外部制御回路から各種電位や各種信号が入力される。
In the second substrate 30, in the outer region of the display region 10a, a data line driving circuit 35a and a plurality of terminals 31 are formed on one side Y2 in the Y direction.
Are arranged along the second side surface 30e. The second substrate 30 has a second side surface 3.
A scanning line drive circuit 35b is formed along each of 0g and 30h. A flexible wiring board (not shown) is connected to the terminal 31, and various potentials and various signals are input to the second substrate 30 from the external control circuit via the flexible wiring board.

第1基板20は、第2基板30側の面である第1内面20sと、第2基板30側とは反
対側の面である第1外面20tとを有しており、第1内面20sには共通電極21が形成
されている。
The first substrate 20 has a first inner surface 20s that is a surface on the second substrate 30 side, and a first outer surface 20t that is a surface opposite to the second substrate 30 side. A common electrode 21 is formed.

第2基板30は、第1基板20側の面である第2内面30sと、第2基板30側とは反
対側の面である第2外面30tとを有しており、第2内面30sの側には、表示領域10
aに画素電極38aや、画素トランジスター(図示せず)等がマトリクス状に配列されて
いる。第2基板30の第2内面30sにおいて、表示領域10aと第1基板20の第1側
面20e、20f、20g、20hとに挟まれた領域には、画素電極38aと同時形成さ
れたダミー画素電極38bが形成されている。ダミー画素電極38bは、共通電位Vcom
が印加されており、表示領域10aの外周側端部での液晶分子の配向の乱れを防止する。
なお、画素電極38aおよびダミー画素電極38bの上層には配向膜36が形成されてい
る。
The second substrate 30 has a second inner surface 30s that is a surface on the first substrate 20 side, and a second outer surface 30t that is a surface opposite to the second substrate 30 side. On the side, the display area 10
In a, pixel electrodes 38a, pixel transistors (not shown), and the like are arranged in a matrix. In the second inner surface 30s of the second substrate 30, a dummy pixel electrode formed simultaneously with the pixel electrode 38a in a region sandwiched between the display region 10a and the first side surfaces 20e, 20f, 20g, and 20h of the first substrate 20 38b is formed. The dummy pixel electrode 38b has a common potential Vcom.
Is applied, and the disorder of the alignment of the liquid crystal molecules at the outer peripheral end of the display region 10a is prevented.
An alignment film 36 is formed on the pixel electrode 38a and the dummy pixel electrode 38b.

第1基板20において、共通電極21は、表示領域10aの略全面あるいは複数の帯状
電極として複数の画素に跨って形成されている。本形態において、共通電極21は、表示
領域10aを含む矩形領域の全面に形成されている。第1基板20の第1内面20sには
、共通電極21の下層に保護膜28および遮光層27が形成され、共通電極21の表面に
は配向膜26が積層されている。遮光層27は、表示領域10aの外周縁に沿って延在す
る額縁部分27aとして形成されており、遮光層27の内周縁によって表示領域10aが
規定されている。また、遮光層27は、隣り合う画素電極38aにより挟まれた画素間領
域に重なるブラックマトリクス部27bとしても形成されている。
In the first substrate 20, the common electrode 21 is formed across a plurality of pixels as a substantially entire surface of the display region 10 a or a plurality of strip electrodes. In this embodiment, the common electrode 21 is formed on the entire rectangular area including the display area 10a. On the first inner surface 20 s of the first substrate 20, a protective film 28 and a light shielding layer 27 are formed below the common electrode 21, and an alignment film 26 is laminated on the surface of the common electrode 21. The light shielding layer 27 is formed as a frame portion 27 a extending along the outer peripheral edge of the display area 10 a, and the display area 10 a is defined by the inner peripheral edge of the light shielding layer 27. The light shielding layer 27 is also formed as a black matrix portion 27b that overlaps an inter-pixel region sandwiched between adjacent pixel electrodes 38a.

第1基板20の第1内面20sの4つの角付近には基板間導通用電極25が形成されて
おり、第2基板30の第2内面30sには、第1基板20の基板間導通用電極25と対向
する位置に基板間導通用電極39が形成されている。本形態において、基板間導通用電極
25は、共通電極21の一部からなる。基板間導通用電極39と基板間導通用電極25と
の間には、銀等の導電粒子を含んだ基板間導通材39aが配置されており、第1基板20
の共通電極21は、基板間導通用電極39、基板間導通材39aおよび基板間導通用電極
25を介して、第2基板30側と電気的に接続されている。このため、共通電極21は、
第2基板30側から共通電位Vcomが印加されている。
Inter-substrate conduction electrodes 25 are formed near the four corners of the first inner surface 20 s of the first substrate 20, and the inter-substrate conduction electrodes of the first substrate 20 are formed on the second inner surface 30 s of the second substrate 30. A substrate-to-substrate electrode 39 is formed at a position facing 25. In this embodiment, the inter-substrate conduction electrode 25 is composed of a part of the common electrode 21. Between the inter-substrate conducting electrode 39 and the inter-substrate conducting electrode 25, an inter-substrate conducting material 39a containing conductive particles such as silver is disposed, and the first substrate 20
The common electrode 21 is electrically connected to the second substrate 30 side via the inter-substrate conducting electrode 39, the inter-substrate conducting material 39a, and the inter-substrate conducting electrode 25. Therefore, the common electrode 21 is
A common potential Vcom is applied from the second substrate 30 side.

(レンズ24の構成)
第1基板20は、複数の画素電極38aの各々に対して平面視(第1基板20のXY平
面に対して垂直な方向からみた状態)で1対1の関係をもって重なる複数のレンズ24が
形成されたレンズアレイ基板として構成されており、レンズ24は、第2基板30の開口
領域に有効に光を導く役割を果たしている。本形態では、基板本体20wに凹凸面または
凸曲面からなるレンズ面240が形成され、レンズ面240にレンズ層241が積層され
ている。本形態において、レンズ面240が凹曲面からなる。また、レンズ層241は、
基板本体20wより屈折率が大きい。このため、レンズ面240は、正のパワーを有する
レンズ24として機能する。
(Configuration of lens 24)
The first substrate 20 is formed with a plurality of lenses 24 that overlap with each of the plurality of pixel electrodes 38a in a one-to-one relationship in a plan view (as viewed from a direction perpendicular to the XY plane of the first substrate 20). The lens 24 is configured as a lens array substrate, and the lens 24 plays a role of effectively guiding light to the opening region of the second substrate 30. In this embodiment, a lens surface 240 having a concave or convex surface or a convex curved surface is formed on the substrate body 20 w, and a lens layer 241 is laminated on the lens surface 240. In this embodiment, the lens surface 240 is a concave curved surface. The lens layer 241
The refractive index is larger than that of the substrate body 20w. For this reason, the lens surface 240 functions as the lens 24 having positive power.

本形態において、電気光学装置100は透過型の液晶装置であり、画素電極38aおよ
び共通電極21は、ITO(Indium Tin Oxide)膜やIZO(Indi
um Zinc Oxide)膜等の透光性導電膜により形成されている。かかる透過型
の液晶装置(電気光学装置100)では、例えば、図2に矢印Lで示すように、第1基板
20の第1外面20tから入射した光が第2基板30から出射される間に変調されて画像
を表示する。また、電気光学装置100が反射型の液晶装置である場合、共通電極21は
、ITO膜やIZO膜等の透光性導電膜により形成され、画素電極38aは、アルミニウ
ム膜等の反射性導電膜により形成される。かかる反射型の液晶装置(電気光学装置100
)では、第1基板20の第1外面20tから入射した光が第2基板30で反射して出射さ
れる間に変調されて画像を表示する。
In this embodiment, the electro-optical device 100 is a transmissive liquid crystal device, and the pixel electrode 38a and the common electrode 21 are made of an ITO (Indium Tin Oxide) film or an IZO (Indi).
um Zinc Oxide) film or the like. In such a transmissive liquid crystal device (electro-optical device 100), for example, as indicated by an arrow L in FIG. 2, light incident from the first outer surface 20t of the first substrate 20 is emitted from the second substrate 30. Modulated to display the image. When the electro-optical device 100 is a reflective liquid crystal device, the common electrode 21 is formed of a light-transmitting conductive film such as an ITO film or an IZO film, and the pixel electrode 38a is a reflective conductive film such as an aluminum film. It is formed by. Such a reflective liquid crystal device (electro-optical device 100
), The light incident from the first outer surface 20t of the first substrate 20 is modulated while being reflected by the second substrate 30 and emitted to display an image.

電気光学装置100は、モバイルコンピューター、携帯電話機等といった電子機器のカ
ラー表示装置として用いることができ、この場合、第1基板20には、カラーフィルター
(図示せず)が形成される。また、電気光学装置100は、電子ペーパーとして用いるこ
とができる。また、電気光学装置100では、使用する電気光学層50(液晶材料)の種
類や、ノーマリホワイトモード/ノーマリブラックモードの別に応じて、偏光フィルム、
位相差フィルム、偏光板等が電気光学装置100に対して所定の向きに配置される。さら
に、電気光学装置100は、後述する投射型表示装置(液晶プロジェクター)において、
RGB用のライトバルブとして用いることができる。この場合、RGB用の各電気光学装
置100の各々には、RGB色分解用のダイクロイックミラーを介して分解された各色の
光が投射光として各々入射されることになるので、カラーフィルターは形成されない。
The electro-optical device 100 can be used as a color display device for an electronic apparatus such as a mobile computer or a mobile phone. In this case, a color filter (not shown) is formed on the first substrate 20. The electro-optical device 100 can be used as electronic paper. Further, in the electro-optical device 100, depending on the type of the electro-optical layer 50 (liquid crystal material) to be used and the normally white mode / normally black mode, a polarizing film,
A retardation film, a polarizing plate, and the like are arranged in a predetermined direction with respect to the electro-optical device 100. Further, the electro-optical device 100 is a projection display device (liquid crystal projector) described later.
It can be used as a light valve for RGB. In this case, each of the RGB electro-optical devices 100 receives light of each color separated through RGB color separation dichroic mirrors as projection light, so that no color filter is formed. .

(第1基板20の第1側面20e〜20h等の構成)
図3は、図1に示す電気光学装置100のY方向の両側の端部を拡大して示す説明図で
あり、Y0−Y0′断面に相当する。図4は、図1に示す電気光学装置100のX方向の
両側の端部を拡大して示す説明図であり、X0−X0′断面に相当する。
(Configuration of the first side surfaces 20e to 20h of the first substrate 20)
FIG. 3 is an explanatory diagram showing enlarged ends of both sides in the Y direction of the electro-optical device 100 shown in FIG. 1, and corresponds to a Y0-Y0 ′ cross section. FIG. 4 is an explanatory diagram showing enlarged ends of both sides in the X direction of the electro-optical device 100 shown in FIG. 1, and corresponds to a cross section taken along line X0-X0 ′.

図3および図4に示すように、本形態の電気光学装置100は、図5から図9を参照し
て後述する方法で製造されていることから、第1基板20の第1側面20e、20f、2
0g、20h、および第2基板30の第2側面30e、30f、30g、30hは、以下
の構成を有している。
As shown in FIGS. 3 and 4, the electro-optical device 100 according to the present embodiment is manufactured by the method described later with reference to FIGS. 5 to 9, and thus the first side surfaces 20 e and 20 f of the first substrate 20. 2
0g, 20h and the second side surfaces 30e, 30f, 30g, 30h of the second substrate 30 have the following configurations.

まず、第1基板20の第1側面20e、20f、20g、20hは、シール材60の外
縁61に沿って延在している。かかる第1側面20e、20f、20g、20hのうち、
Y方向の両側に位置する第1側面20e、20f、およびX方向の両側に位置する第1側
面20g、20hのいずれかには、第1内面20sと厚さ方向の途中位置(第1内面20
sから第1外面20tに向かう途中位置)との間にレーザスクライブによるスポット状の
熱的改質部分Mが分布する第1部分207aと、途中位置と第1外面20tとの間で熱的
改質部分Mが分布しない第2部分207bとが存在し、第1部分207aと第2部分20
7bとの間に段部207cが形成されている。本形態では、X方向の両側に位置する第1
側面20g、20hに第1部分207a、第2部分207bおよび段部207cが存在す
る。第1部分207aは、レーザスクライブによって形成された亀裂からなり、かかる亀
裂は、レーザスクライブの際に照射されたレーザスポットの熱によってスポット状の熱的
改質部分Mが形成される際の応力によって発生する。第2部分207bは、ダイシングソ
ーによる切断面であるため、熱的改質部分Mが存在しない。また、第1部分207aと第
2部分207bとの間には、ダイシングソーの厚さに起因する段部207cが形成され、
第1部分207aは、第2部分207bより電気光学層50とは反対側に突出している。
従って、第1基板20は、第1部分207aに相当する位置でのX方向のサイズが第2部
分207bに相当する位置でのX方向のサイズより大きい。すなわち、第1部分207a
を含む第1基板10の外縁は、第2部分207bを含む第1基板10の外縁より平面サイ
ズが大きい。
First, the first side surfaces 20 e, 20 f, 20 g, and 20 h of the first substrate 20 extend along the outer edge 61 of the sealing material 60. Of the first side surfaces 20e, 20f, 20g, 20h,
One of the first side surfaces 20e and 20f located on both sides in the Y direction and the first side surfaces 20g and 20h located on both sides in the X direction has an intermediate position in the thickness direction (first inner surface 20).
The first portion 207a in which the spot-like thermally modified portion M is distributed by laser scribing between the intermediate position and the first outer surface 20t, and between the intermediate position and the first outer surface 20t. There is a second portion 207b in which the mass portion M is not distributed, and the first portion 207a and the second portion 20
7b is formed with a stepped portion 207c. In this embodiment, the first located on both sides in the X direction.
A first portion 207a, a second portion 207b, and a step portion 207c exist on the side surfaces 20g and 20h. The first portion 207a is composed of a crack formed by laser scribing, and the crack is caused by stress when the spot-like thermally modified portion M is formed by the heat of the laser spot irradiated during laser scribing. Occur. Since the second portion 207b is a cut surface by a dicing saw, the thermally modified portion M does not exist. Further, a step portion 207c resulting from the thickness of the dicing saw is formed between the first portion 207a and the second portion 207b.
The first portion 207a protrudes from the second portion 207b to the side opposite to the electro-optic layer 50.
Therefore, the size of the first substrate 20 in the X direction at the position corresponding to the first portion 207a is larger than the size in the X direction at the position corresponding to the second portion 207b. That is, the first portion 207a
The outer edge of the first substrate 10 including the plane has a larger planar size than the outer edge of the first substrate 10 including the second portion 207b.

これに対して、Y方向の両側に位置する第1側面20e、20fには、第1外面20t
と厚さ方向の途中位置(第1外面20tから第1内面20sに向かう途中位置)との間で
微細な凹凸が存在する第3部分208aと、第3部分208aと第1内面20sとの間で
第3部分208aより光散乱性が低い第4部分208bとが存在し、第3部分208aと
第4部分208bとの間には段部208cが形成されている。第3部分208aは、ダイ
シングソーによる切断面であり、切断時のダイシングソーの痕が微細な凹凸として残って
いるため、光散乱性が高い。これに対して、第4部分208bは、ブレイク処理において
第1外面20tに形成した溝を起点にして第1内面20sに到達した割断面からなり、略
鏡面になっている。このため、第4部分208bは、第3部分208aより光散乱性が低
い。また、第3部分208aと第4部分208bとの間には、ダイシングソーの厚さに起
因する段部208cが形成され、第4部分208bは、第3部分208aより電気光学層
50とは反対側に突出している。従って、第1基板20は、第4部分208bに相当する
位置でのY方向のサイズが第3部分208aに相当する位置でのY方向のサイズより大き
い。すなわち、第4部分208bを含む第1基板10の外縁は、第3部分208aを含む
第1基板10の外縁より平面サイズが大きい。
On the other hand, the first side surface 20e, 20f located on both sides in the Y direction has a first outer surface 20t.
Between the third portion 208a and the third portion 208a between the first portion 20a and the first inner surface 20s, and the third portion 208a between the third portion 208a and the first inner surface 20s. There is a fourth portion 208b having a light scattering property lower than that of the third portion 208a, and a step portion 208c is formed between the third portion 208a and the fourth portion 208b. The third portion 208a is a cut surface by a dicing saw, and since the trace of the dicing saw at the time of cutting remains as fine irregularities, the light scattering property is high. On the other hand, the fourth portion 208b is formed of a split section that reaches the first inner surface 20s starting from a groove formed on the first outer surface 20t in the breaking process, and has a substantially mirror surface. For this reason, the fourth portion 208b is less light scattering than the third portion 208a. Further, a step portion 208c resulting from the thickness of the dicing saw is formed between the third portion 208a and the fourth portion 208b, and the fourth portion 208b is opposite to the electro-optic layer 50 than the third portion 208a. Protrudes to the side. Accordingly, the first substrate 20 is larger in size in the Y direction at the position corresponding to the fourth portion 208b than in the Y direction at the position corresponding to the third portion 208a. That is, the outer edge of the first substrate 10 including the fourth portion 208b has a larger planar size than the outer edge of the first substrate 10 including the third portion 208a.

第2基板30の側面である第2側面30e、30f、30g、30hのうち、Y方向の
両側に位置する第2側面30e、30f、およびX方向の両側に位置する第2側面30g
、30hのいずれかには、第2内面30sから第2外面30tまでの全体に熱的改質部分
Mが分布している。本形態では、第2側面30e、30f、30g、30hのいずれにお
いても、第2内面30sから第2外面30tまでの全体に熱的改質部分Mが分布する面3
08になっている。すなわち、第2基板30の第2側面30e、30f、30g、30h
のいずれもがレーザスクライブによる切断面である。かかる第2側面30e、30f、3
0g、30hのうち、Y方向の他方側Y1に位置する面、および第2方向Yの両側に位置
する面のいずれかは、第1基板20の第1部分207aと平面視で重なっている。本形態
では、第2基板30のX方向の両側(一方側X2および他方側X1)に位置する側面30
g、30hは、第1基板20の第1部分207aと平面視で重なっている。また、第2基
板30のY方向の他方側Y1に位置する面30fは、第1基板20の第4部分208bと
平面視で重なっている。
Of the second side surfaces 30e, 30f, 30g, and 30h, which are side surfaces of the second substrate 30, second side surfaces 30e and 30f that are located on both sides in the Y direction and second side surfaces 30g that are located on both sides in the X direction.
, 30h, the thermally modified portion M is distributed over the entire area from the second inner surface 30s to the second outer surface 30t. In this embodiment, in any of the second side surfaces 30e, 30f, 30g, and 30h, the surface 3 on which the thermal reforming portion M is distributed from the second inner surface 30s to the second outer surface 30t.
It is 08. That is, the second side surfaces 30e, 30f, 30g, 30h of the second substrate 30.
Both of these are cut surfaces by laser scribing. Such second side faces 30e, 30f, 3
Of 0g and 30h, one of the surface located on the other side Y1 in the Y direction and the surface located on both sides in the second direction Y overlaps the first portion 207a of the first substrate 20 in plan view. In this embodiment, the side surfaces 30 located on both sides (one side X2 and the other side X1) of the second substrate 30 in the X direction.
g and 30h overlap the first portion 207a of the first substrate 20 in plan view. Further, the surface 30f located on the other side Y1 of the second substrate 30 in the Y direction overlaps the fourth portion 208b of the first substrate 20 in plan view.

(複合基板400および外形線の構成)
図5は、図1に示す電気光学装置100の製造方法に用いられる複合基板400の平面
図である。複合基板400は、第1マザー基板200と第2マザー基板300で構成され
る。図6は、図5に示す複合基板400の一部を拡大して示す平面図である。図7は、図
5に示す複合基板400の一部を拡大して示す断面図であり、図1等に示すY0−Y0′
線における断面図に相当する。なお、図5では、第1マザー基板200と第2マザー基板
300を認識しやすいように各々の端部をずらして示してある。また、図6では、外形線
を認識しやすいように、外形線とシール材60とを実際より離間させて示してある。
(Composition of composite substrate 400 and outline)
FIG. 5 is a plan view of a composite substrate 400 used in the method for manufacturing the electro-optical device 100 shown in FIG. The composite substrate 400 includes a first mother substrate 200 and a second mother substrate 300. FIG. 6 is an enlarged plan view showing a part of the composite substrate 400 shown in FIG. FIG. 7 is an enlarged cross-sectional view showing a part of the composite substrate 400 shown in FIG. 5. Y0-Y0 ′ shown in FIG.
It corresponds to a cross-sectional view along the line. In FIG. 5, the end portions of the first mother substrate 200 and the second mother substrate 300 are shifted so as to be easily recognized. Further, in FIG. 6, the outline and the sealing material 60 are shown separated from each other so that the outline can be easily recognized.

図1等を参照して説明した電気光学装置100の製造工程では、図5に示すように、第
1基板20を多数取りできる第1マザー基板200と、第2基板30を多数取りできる第
2マザー基板300とを準備する。次に、第1マザー基板200において第1基板20と
して分割される複数の領域の各々に対して共通電極21等を形成する一方、第2マザー基
板300において第2基板30として分割される複数の領域の各々に対して画素電極38
a等を形成する。次に、第1マザー基板200と第2マザー基板300とをシール材60
によって貼り合せる。その際、シール材60を全周で繋がった枠状に形成し、シール材6
0で囲まれた領域に電気光学層50を設けておく。従って、第1マザー基板200におい
て第2マザー基板300と対向する面である第1内面200sが第1基板20の第1内面
20sに相当し、第1マザー基板200において第2マザー基板300とは反対側の面で
ある第1外面200tが第1基板20の第1外面20tに相当する。また、第2マザー基
板300において第1マザー基板200と対向する面である第2内面300sが第2基板
30の第2内面30sに相当し、第2マザー基板300において第1マザー基板200と
は反対側の面である第2外面300tが第2基板30の第2外面30tに相当する。
In the manufacturing process of the electro-optical device 100 described with reference to FIG. 1 and the like, as shown in FIG. 5, the first mother substrate 200 that can take a large number of first substrates 20 and the second that can take a large number of second substrates 30. A mother substrate 300 is prepared. Next, the common electrode 21 and the like are formed for each of the plurality of regions divided as the first substrate 20 in the first mother substrate 200, while the plurality of regions divided as the second substrate 30 in the second mother substrate 300. Pixel electrode 38 for each of the regions
a etc. are formed. Next, the first mother substrate 200 and the second mother substrate 300 are bonded to the sealing material 60.
Paste with. At that time, the sealing material 60 is formed in a frame shape connected all around, and the sealing material 6
An electro-optical layer 50 is provided in a region surrounded by zero. Accordingly, the first inner surface 200 s that is the surface facing the second mother substrate 300 in the first mother substrate 200 corresponds to the first inner surface 20 s of the first substrate 20, and what is the second mother substrate 300 in the first mother substrate 200? The first outer surface 200t that is the opposite surface corresponds to the first outer surface 20t of the first substrate 20. In addition, the second inner surface 300 s that is a surface facing the first mother substrate 200 in the second mother substrate 300 corresponds to the second inner surface 30 s of the second substrate 30, and what is the first mother substrate 200 in the second mother substrate 300? The second outer surface 300 t that is the opposite surface corresponds to the second outer surface 30 t of the second substrate 30.

以下、図5、図6および図7に示す外形線(第1外形線LX1、第2外形線LY2、第
3外形線LX3、第4外形線LX4、および第5外形線LY5)に沿って複合基板400
を分割し、複数の電気光学装置100に分割する。第1外形線LX1、第2外形線LY2
、第3外形線LX3、第4外形線LX4、および第5外形線LY5は、電気光学装置10
0の第1基板20および第2基板30の外形を規定する仮想線からなる分割予定線である
。ここで、複合基板400では、電気光学装置100が分割される領域がY方向およびX
方向で隣接している。従って、以下の説明では、Y方向に隣接する2つの領域(第1領域
400aおよび第2領域400b)を中心に説明する。
Hereinafter, it is combined along the outlines (first outline LX1, second outline LY2, third outline LX3, fourth outline LX4, and fifth outline LY5) shown in FIG. 5, FIG. 6, and FIG. Substrate 400
Is divided into a plurality of electro-optical devices 100. 1st outline LX1, 2nd outline LY2
, Third outline LX3, fourth outline LX4, and fifth outline LY5 represent the electro-optical device 10.
This is a planned dividing line composed of virtual lines that define the outer shapes of the first substrate 20 and the second substrate 30 of zero. Here, in the composite substrate 400, the region where the electro-optical device 100 is divided is the Y direction and the X direction.
Adjacent in direction. Therefore, in the following description, the description will focus on two regions (the first region 400a and the second region 400b) adjacent in the Y direction.

本形態において、第1外形線LX1は、第1マザー基板200に対する切断予定線であ
り、シール材60のY方向の両側に位置する外縁61に沿ってX方向に延在している。第
2外形線LY2は、第1マザー基板200に対する切断予定線であり、シール材60のX
方向の両側に位置する外縁61に沿ってY方向に延在している。第3外形線LX3は、第
1マザー基板200に対する切断予定線であり、シール材60に対してY方向の一方側Y
2で第1外形線LX1とシール材60との間でシール材60のY方向の一方側Y2に位置
する外縁61に沿ってX方向に延在している。
In the present embodiment, the first outline LX1 is a planned cutting line for the first mother substrate 200, and extends in the X direction along the outer edges 61 located on both sides of the sealing material 60 in the Y direction. The second outline LY2 is a cutting line for the first mother substrate 200, and the X of the sealing material 60
It extends in the Y direction along the outer edge 61 located on both sides of the direction. The third outline LX3 is a cutting line for the first mother substrate 200, and is one side Y in the Y direction with respect to the sealing material 60.
2 extends in the X direction along the outer edge 61 located on one side Y2 in the Y direction of the sealing material 60 between the first outline LX1 and the sealing material 60.

第4外形線LX4は、第2マザー基板300に対する切断予定線であり、シール材60
のY方向の両側に位側に位置する外縁61に沿ってX方向に延在している。第5外形線L
Y5は、第2マザー基板300に対する切断予定線であり、シール材60のX方向の両側
に位側に位置する外縁61に沿ってY方向に延在している。本形態において、第1外形線
LX1と第4外形線LX4とが平面視で重なり、第2外形線LY2と第5外形線LY5と
が平面視で重なっている。
The fourth outline LX4 is a cutting line for the second mother substrate 300, and the sealing material 60
It extends in the X direction along the outer edge 61 located on both sides in the Y direction. 5th outline L
Y <b> 5 is a planned cutting line for the second mother substrate 300, and extends in the Y direction along the outer edges 61 positioned on both sides in the X direction of the sealing material 60. In the present embodiment, the first outline LX1 and the fourth outline LX4 overlap in plan view, and the second outline LY2 and the fifth outline LY5 overlap in plan view.

(電気光学装置100の製造方法)
図8および図9は、図1に示す電気光学装置100の製造方法を示す工程断面図である
。なお、図8および図9では、図面に向かって左側にY0−Y0′断面を示し、図面に向
かって右側にX0−X0′断面を示してある。但し、図8および図9では、電気光学層5
0等の図示を省略してある。
(Method of manufacturing electro-optical device 100)
8 and 9 are process cross-sectional views illustrating a method for manufacturing the electro-optical device 100 shown in FIG. 8 and 9, the Y0-Y0 'section is shown on the left side of the drawing, and the X0-X0' section is shown on the right side of the drawing. However, in FIGS. 8 and 9, the electro-optic layer 5
Illustrations such as 0 are omitted.

本形態では、図8および図9を参照して以下に説明するように、第1マザー基板200
をシール材60の外縁61に沿って分割する第1分割工程と、第2マザー基板300をシ
ール材60の外縁61に沿って分割する第2分割工程とを行う。また、第1分割工程では
、少なくとも、第1マザー基板200の第1内面200sから第1外面200tに向かう
途中位置までレーザスクライブにより亀裂を形成する第1レーザスクライブ処理と、第1
外面200tから亀裂までダイシングソーにより第1マザー基板200を切断するダイシ
ング処理とを行う。また、第1分割工程では、さらに、第1外面200tに形成した溝を
起点に第1マザー基板200を割断するブレイク処理を行う。より具体的には、図6に示
すように、第1分割工程では、第1外形線LX1に沿ってブレイク処理によって第1マザ
ー基板200を割断する第1工程ST10と、第2外形線LY2に沿って第1レーザスク
ライブ処理とダイシング処理とによって第1マザー基板200を切断する第2工程ST2
0と、第3外形線LX3に沿ってブレイク処理によって第1マザー基板200を割断する
第3工程ST30とを行う。ここで、第1分割工程では、第1工程ST10においてダイ
シングソーによってブレイク処理用の溝を形成する。また、第3工程ST30の後、第3
外形線LX3に沿ってダイシングソーによって溝を形成する。第2分割工程では、第2マ
ザー基板300の第2外面300tから第2内面300sまでレーザスクライブにより亀
裂を形成する第2レーザスクライブ処理を行う。より具体的には、図6に示すように、第
2分割工程では、第4外形線LX4に沿って第2レーザスクライブ処理により第2マザー
基板300を切断する第4工程ST40と、第5外形線LY5に沿って第2レーザスクラ
イブ処理により第2マザー基板300を切断する第5工程ST50とを行う。
In this embodiment, as will be described below with reference to FIGS. 8 and 9, the first mother substrate 200 is used.
Are divided along the outer edge 61 of the sealing material 60 and a second dividing process of dividing the second mother substrate 300 along the outer edge 61 of the sealing material 60 is performed. In the first division step, at least a first laser scribing process for forming a crack by laser scribing from the first inner surface 200s of the first mother substrate 200 to a midway position toward the first outer surface 200t,
A dicing process is performed to cut the first mother substrate 200 with a dicing saw from the outer surface 200t to the crack. Further, in the first dividing step, a break process is performed in which the first mother substrate 200 is cleaved starting from a groove formed in the first outer surface 200t. More specifically, as shown in FIG. 6, in the first dividing step, the first step ST10 for cleaving the first mother substrate 200 by the breaking process along the first outline LX1, and the second outline LY2 2nd process ST2 which cut | disconnects the 1st mother board | substrate 200 by a 1st laser scribe process and a dicing process along
0 and the third step ST30 for cleaving the first mother substrate 200 by the break process along the third outline LX3. Here, in the first division step, a break processing groove is formed by a dicing saw in the first step ST10. In addition, after the third step ST30, the third step
A groove is formed by a dicing saw along the outline LX3. In the second dividing step, a second laser scribing process is performed to form a crack by laser scribing from the second outer surface 300t of the second mother substrate 300 to the second inner surface 300s. More specifically, as shown in FIG. 6, in the second dividing step, a fourth step ST40 for cutting the second mother substrate 300 by the second laser scribing process along the fourth outline LX4, and a fifth outline A fifth step ST50 for cutting the second mother substrate 300 by the second laser scribing process along the line LY5 is performed.

より具体的には、まず、図8に示す工程ST1において、第1マザー基板200を上向
きにし、第1マザー基板200の第2外形線LY2に沿って第1内面200sから第1外
面200tに向かう途中位置まで、パルスレーザからなるレーザスポットLsを照射する
レーザスクライブを行い、亀裂202eを形成する(第1レーザスクライブ処理)。
More specifically, first, in step ST1 shown in FIG. 8, the first mother substrate 200 faces upward, and travels from the first inner surface 200s to the first outer surface 200t along the second outer shape line LY2 of the first mother substrate 200. Laser scribing to irradiate a laser spot Ls made of a pulsed laser is performed halfway to form a crack 202e (first laser scribing process).

次に、図8に示す工程ST2において、ダイヤモンドカッターや超硬カッターを備えた
スクライブヘッド751によって、第1マザー基板200の第1外面200tに第3外形
線LX3に沿って延在するスクライブ溝203aを形成する。
Next, in step ST2 shown in FIG. 8, a scribe groove 203a extending along the third outline LX3 on the first outer surface 200t of the first mother substrate 200 by a scribe head 751 provided with a diamond cutter or a carbide cutter. Form.

次に、図8に示す工程ST3において、第2マザー基板300を上向きにして、第2マ
ザー基板300の第2外面300tに第1粘着シート701を貼り付けた後、ブレイクバ
ー752によって、第1粘着シート701を介して第2マザー基板300を押圧する。そ
の結果、第1マザー基板200に負荷が加わって応力が発生し、スクライブ溝203aを
起点に割断面203bが第1マザー基板200の第1内面200sまで到達する。従って
、第1マザー基板200が第3外形線LX3に沿って割断される(第3工程ST30)。
Next, in step ST3 shown in FIG. 8, the first mother sheet 300 is faced upward, the first adhesive sheet 701 is attached to the second outer surface 300t of the second mother board 300, and then the break bar 752 is used to The second mother substrate 300 is pressed through the adhesive sheet 701. As a result, a load is applied to the first mother substrate 200 to generate stress, and the split section 203b reaches the first inner surface 200s of the first mother substrate 200 with the scribe groove 203a as a starting point. Accordingly, the first mother substrate 200 is cleaved along the third outline LX3 (third step ST30).

次に、図8に示す工程ST4において、第1マザー基板200に対する第1外形線LX
1、第2外形線LY2および第3外形線LX3に対してダイシング処理を行う。より具体
的には、まず、図8に示す工程ST4においては、第1粘着シート701を除去した後、
第1マザー基板200を上向きにし、第1マザー基板200に対する第2外形線LY2で
のダイシング処理を行う。その際、第2外形線LY2において、ダイシングソー753を
第1マザー基板200の第1外面200tから亀裂202eまで進入させ、第1マザー基
板200にダイシング溝202cを形成する。その結果、第1マザー基板200が第2外
形線LY2に沿って切断される(第2工程ST20)。
Next, in step ST4 shown in FIG. 8, the first outline LX with respect to the first mother substrate 200.
1. Dicing processing is performed on the second outline LY2 and the third outline LX3. More specifically, first, in step ST4 shown in FIG. 8, after removing the first adhesive sheet 701,
With the first mother substrate 200 facing upward, dicing processing is performed on the first mother substrate 200 along the second outline LY2. At that time, the dicing saw 753 is caused to enter the crack 202e from the first outer surface 200t of the first mother substrate 200 along the second outline LY2, and the dicing groove 202c is formed in the first mother substrate 200. As a result, the first mother substrate 200 is cut along the second outline LY2 (second step ST20).

また、第1外形線LX1において、ダイシングソー753を第1マザー基板200の第
1外面200tから厚さ方向の途中位置まで進入させ、第1マザー基板200を厚さ方向
の途中位置までダイシング溝201cを形成する。
Further, in the first outline LX1, the dicing saw 753 is advanced from the first outer surface 200t of the first mother substrate 200 to the middle position in the thickness direction, and the first mother substrate 200 is moved to the middle position in the thickness direction to the dicing groove 201c. Form.

また、第3外形線LX3において、ダイシングソー753を第1マザー基板200の第
1外面200tから厚さ方向の途中位置まで進入させ、第1マザー基板200を厚さ方向
の途中位置までダイシング溝203cを形成する。
Further, in the third outline LX3, the dicing saw 753 is advanced from the first outer surface 200t of the first mother substrate 200 to the middle position in the thickness direction, and the first mother substrate 200 is moved to the middle position in the thickness direction to the dicing groove 203c. Form.

次に、図9に示す工程ST5において、第1マザー基板200を上向きにして、第1マ
ザー基板200の第1外面200tに第2粘着シート702を貼り付ける。次に、図9に
示す工程ST6において、第2マザー基板300を上向きにし、第2マザー基板300の
第4外形線LX4に沿って第2内面300sから第2外面300tまで、パルスレーザか
らなるレーザスポットLsを照射するレーザスクライブを行い(第2レーザスクライブ処
理)、亀裂304eを形成する。その結果、第2マザー基板300が第4外形線LX4に
沿って切断される(第4工程ST50)。また、第2マザー基板300の第5外形線LY
5に沿って第2内面300sから第2外面300tまでレーザスポットLsを照射するレ
ーザスクライブを行い(第2レーザスクライブ処理)、亀裂305eを形成する。その結
果、第2マザー基板300が第5外形線LY5に沿って切断される(第5工程ST50)
Next, in step ST <b> 5 shown in FIG. 9, the second adhesive sheet 702 is attached to the first outer surface 200 t of the first mother substrate 200 with the first mother substrate 200 facing upward. Next, in step ST6 shown in FIG. 9, the second mother substrate 300 faces upward, and the laser is a pulse laser from the second inner surface 300s to the second outer surface 300t along the fourth outer shape line LX4 of the second mother substrate 300. Laser scribing to irradiate the spot Ls is performed (second laser scribing process), and a crack 304e is formed. As a result, the second mother substrate 300 is cut along the fourth outline LX4 (fourth step ST50). In addition, the fifth outline LY of the second mother substrate 300
5, laser scribing to irradiate the laser spot Ls from the second inner surface 300 s to the second outer surface 300 t is performed (second laser scribing process), and a crack 305 e is formed. As a result, the second mother substrate 300 is cut along the fifth outline LY5 (fifth step ST50).
.

次に、図9に示す工程ST7において、第1マザー基板200を上向きにし、ブレイク
バー752によって、第2粘着シート702を介して第1マザー基板200を押圧する。
その結果、第1マザー基板200に負荷が加わって応力が発生し、ダイシング溝201c
を起点に割断面201bが第1マザー基板200の第1内面200sまで到達する。従っ
て、第1マザー基板200が第1外形線LX1に沿って割断される(第1工程ST10)
Next, in step ST <b> 7 shown in FIG. 9, the first mother substrate 200 is turned upward, and the first mother substrate 200 is pressed by the break bar 752 through the second adhesive sheet 702.
As a result, a load is applied to the first mother substrate 200 to generate stress, and the dicing groove 201c
From the starting point, the fractured surface 201b reaches the first inner surface 200s of the first mother substrate 200. Accordingly, the first mother substrate 200 is cleaved along the first outline LX1 (first step ST10).
.

その結果、第1領域400aおよび第2領域400bが各々、電気光学装置100とし
て複合基板400から分離される。従って、吸着チャック760によって、第1領域40
0aおよび第2領域400bを各々、電気光学装置100として複合基板400から剥離
し、回収する。その際、複合基板400には、第1マザー基板200の第1外面200t
に第2粘着シート702が貼り付けられているので、第1マザー基板200において第1
外形線LX1、第2外形線LY2、および第3外形線LX3によって分割された分割片2
70が粘着シート702に残る。このように構成した電気光学装置100では、第1外形
線LX1に相当する部分によって、第1基板20の第1側面20fが形成され、第2外形
線LY2に相当する部分によって、第2基板30の第1側面20g、20hが形成され、
第3外形線LX3に相当する部分によって、第1基板20の第1側面20eが形成される
。また、第4外形線LX4に相当する部分によって、第2基板30の第2側面30e、3
0fが形成され、第5外形線LY5に相当する部分によって、第2基板30の第2側面3
0g、30hが形成される。
As a result, the first region 400 a and the second region 400 b are each separated from the composite substrate 400 as the electro-optical device 100. Accordingly, the first region 40 is absorbed by the suction chuck 760.
The 0a and the second region 400b are peeled off from the composite substrate 400 as the electro-optical device 100 and collected. At this time, the composite substrate 400 includes a first outer surface 200t of the first mother substrate 200.
Since the second adhesive sheet 702 is attached to the first mother substrate 200, the first adhesive sheet 702 is attached to the first adhesive substrate 702.
Divided pieces 2 divided by the outline LX1, the second outline LY2, and the third outline LX3
70 remains on the adhesive sheet 702. In the electro-optical device 100 configured as described above, the first side surface 20f of the first substrate 20 is formed by a portion corresponding to the first outline LX1, and the second substrate 30 is formed by a portion corresponding to the second outline LY2. First side surfaces 20g and 20h are formed,
The first side surface 20e of the first substrate 20 is formed by a portion corresponding to the third outline LX3. Further, the second side surface 30e, 3e of the second substrate 30 is formed by a portion corresponding to the fourth outline LX4.
0f is formed, and the second side surface 3 of the second substrate 30 is formed by a portion corresponding to the fifth outline LY5.
0 g, 30 h are formed.

(本形態の主な効果)
以上説明したように、本形態では、第1マザー基板200および第2マザー基板300
を分割するにあたって、レーザスクライブを利用するため、基板の欠けやバリ等が発生し
にくい。従って、基板の欠けやバリ等が原因で端子、配線、シール材等が損傷するという
事態が発生しにくい。また、第1マザー基板200の分割にレーザスクライブを利用する
にあたって、第1マザー基板200の第1内面200sから途中位置までレーザスクライ
ブにより亀裂202eを形成し、第1外面200tから亀裂200eまではダイシングソ
ー753により第1マザー基板200を切断する。このため、第1マザー基板200から
分割された第1基板20にはダイシングソー753による切断面が存在し、かかる切断面
は、位置や形状の精度が高い。このため、電気光学装置100を電子機器に搭載する際、
ダイシングソー753による切断面を基準に電気光学装置100の位置を合わせることが
できる。
(Main effects of this form)
As described above, in this embodiment, the first mother substrate 200 and the second mother substrate 300 are used.
Since laser scribing is used to divide the substrate, chipping of the substrate, burrs, and the like are unlikely to occur. Therefore, it is difficult for the terminal, wiring, sealing material, and the like to be damaged due to chipping or burrs of the substrate. Further, when using laser scribing for dividing the first mother substrate 200, a crack 202e is formed by laser scribing from the first inner surface 200s of the first mother substrate 200 to an intermediate position, and dicing is performed from the first outer surface 200t to the crack 200e. The first mother substrate 200 is cut by the saw 753. For this reason, the first substrate 20 divided from the first mother substrate 200 has a cut surface by the dicing saw 753, and the cut surface has high position and shape accuracy. For this reason, when the electro-optical device 100 is mounted on an electronic device,
The position of the electro-optical device 100 can be adjusted based on the cut surface by the dicing saw 753.

また、第1マザー基板200を分割する第1分割工程では、さらに、第1外面200t
に形成したスクライブ溝203aおよびダイシング溝201aを起点に第1マザー基板2
00を割断するブレイク処理を行う。ブレイク処理であれば、レーザスクライブより基板
の切断を効率よく行うことができる。従って、端子、配線、シール材等の損傷が発生しに
くい個所の切断にはブレイク処理を利用すれば、全てをレーザスクライブによって切断し
た場合と比較して製造効率を高めることができる。
In the first dividing step of dividing the first mother substrate 200, the first outer surface 200t is further added.
The first mother substrate 2 starting from the scribe groove 203a and the dicing groove 201a formed in
Break processing to cleave 00. If it is a break process, a board | substrate can be cut | disconnected efficiently from a laser scribe. Therefore, if a break process is used to cut a portion where damage to the terminal, wiring, sealing material or the like is unlikely to occur, the manufacturing efficiency can be improved as compared with a case where all are cut by laser scribing.

また、第1マザー基板200を分割する第1分割工程では、第1外形線LX1、第2外
形線LY2および第3外形線LX3のいずれにおいてもダイシングソー753によってダ
イシング溝201c、202c、203cを形成する。このため、第1マザー基板200
から分割された第1基板10の第1側面20e、20f、20g、20hの全てにダイシ
ングソー753による切断面が存在する。このため、電気光学装置100を電子機器に搭
載する際、ダイシングソー753による切断面を基準に電気光学装置100の位置を合わ
せることができる。
In the first dividing step of dividing the first mother substrate 200, dicing grooves 201c, 202c, and 203c are formed by the dicing saw 753 in any of the first outline LX1, the second outline LY2, and the third outline LX3. To do. Therefore, the first mother board 200
A cut surface by a dicing saw 753 is present on all of the first side surfaces 20e, 20f, 20g, and 20h of the first substrate 10 divided from. For this reason, when the electro-optical device 100 is mounted on an electronic apparatus, the position of the electro-optical device 100 can be adjusted based on the cut surface of the dicing saw 753.

特に電気光学層50を設ける際にODF法を用いた場合、第1分割工程や第2分割工程
等の製造工程において液状の電気光学層50からシール材60やシール材60付近に形成
されている膜等のシール材に圧力が加わりやすい。しかるに本形態によれば、シール材の
損傷を防止することができるので、第1分割工程や第2分割工程を行う際に液状の電気光
学層50からシール材に圧力が加わっても、シール材の損傷を防止することができる。そ
れ故、シール材を介しての電気光学層50への水分の侵入や電気光学層50の漏れが発生
しにくい。また、第1基板20ではレンズ層241を形成した分、シール材60付近に厚
い膜が形成されるので、ダイシング処理の際にシール材60付近の膜に損傷が発生しやす
い。しかるに本形態によれば、ダイシング処理時にシール材60付近の膜に大きな振動が
加わらないので、シール材60付近に厚い膜が存在していても、シール材60付近の膜が
損傷することを抑制することができる。それ故、シール材を介しての電気光学層50への
水分の侵入や電気光学層50の漏れが発生しにくい。
In particular, when the ODF method is used when the electro-optic layer 50 is provided, it is formed from the liquid electro-optic layer 50 in the vicinity of the sealing material 60 or the sealing material 60 in the manufacturing process such as the first dividing process or the second dividing process. Pressure is easily applied to sealing materials such as membranes. However, according to this embodiment, since the sealing material can be prevented from being damaged, even when pressure is applied from the liquid electro-optic layer 50 to the sealing material when performing the first dividing step or the second dividing step, the sealing material. Can prevent damage. Therefore, it is difficult for moisture to enter the electro-optical layer 50 through the sealing material or the electro-optical layer 50 to leak. In addition, since the thick film is formed in the vicinity of the sealing material 60 as much as the lens layer 241 is formed on the first substrate 20, the film in the vicinity of the sealing material 60 is likely to be damaged during the dicing process. However, according to this embodiment, since a large vibration is not applied to the film near the sealing material 60 during the dicing process, even if a thick film exists near the sealing material 60, the film near the sealing material 60 is prevented from being damaged. can do. Therefore, it is difficult for moisture to enter the electro-optical layer 50 through the sealing material or the electro-optical layer 50 to leak.

また、複合基板400から電気光学装置100を回収する際、第1マザー基板200に
発生する分割片270を第2粘着シート702に残すことができる。それ故、分割片27
0が飛び散らないという利点がある。すなわち、第2工程ST20および第3工程ST3
0の後、第1マザー基板200の第1外面200tに第2粘着シート702を貼った状態
で、第1外形線LX1でのブレイク処理を行うため、第2粘着シート702によって分割
片270を保持することができる。それ故、分割片270が飛び散って端子や配線を損傷
するという事態が発生しにくい。また、第1マザー基板200に対するダイシングソー7
53によるダイシング溝201c、202c、203cの切断を同一の工程ST4で纏め
て行うことができるので、生産効率を向上することができる。
Further, when the electro-optical device 100 is collected from the composite substrate 400, the divided pieces 270 generated on the first mother substrate 200 can be left on the second adhesive sheet 702. Therefore, the segment 27
There is an advantage that 0 is not scattered. That is, the second step ST20 and the third step ST3
After 0, the split piece 270 is held by the second pressure-sensitive adhesive sheet 702 in order to perform the breaking process at the first outline LX1 in a state where the second pressure-sensitive adhesive sheet 702 is pasted on the first outer surface 200t of the first mother substrate 200. can do. Therefore, it is difficult for the split pieces 270 to scatter and damage the terminals and wiring. Further, the dicing saw 7 for the first mother substrate 200 is used.
Since the cutting of the dicing grooves 201c, 202c, 203c by 53 can be performed collectively in the same step ST4, the production efficiency can be improved.

[他の実施の形態]
上記実施の形態では、ブレイク処理によって第2基板20の第1側面20e、20fを
形成したが、レーザスクライブ処理およびダイシング処理によって第2基板20の第1側
面20e、20fを形成してもよい。この場合、第2基板20の第1側面20e、20f
には、第3面208aおよび第4面208bに代わって、第1面207aおよび第2面2
07bが形成される。また、上記実施の形態では、電気光学装置100として液晶装置を
例示したが、電気泳動表示装置や有機エレクトロルミネッセンス装置等、他の電気光学装
置に本発明を適用してもよい。
[Other embodiments]
In the above embodiment, the first side surfaces 20e and 20f of the second substrate 20 are formed by the break process, but the first side surfaces 20e and 20f of the second substrate 20 may be formed by the laser scribing process and the dicing process. In this case, the first side surfaces 20e, 20f of the second substrate 20
In place of the third surface 208a and the fourth surface 208b, the first surface 207a and the second surface 2
07b is formed. In the above embodiment, a liquid crystal device is exemplified as the electro-optical device 100. However, the present invention may be applied to other electro-optical devices such as an electrophoretic display device and an organic electroluminescence device.

[電子機器への搭載例]
図10は、本発明を適用した電気光学装置100を用いた投射型表示装置(電子機器)
の概略構成図である。なお、以下の説明では、互いに異なる波長域の光が供給される複数
の電気光学装置100が用いられているが、いずれの電気光学装置100にも、本発明を
適用した電気光学装置100が用いられている。
[Example of mounting on electronic devices]
FIG. 10 shows a projection display device (electronic apparatus) using the electro-optical device 100 to which the present invention is applied.
FIG. In the following description, a plurality of electro-optical devices 100 to which light having different wavelength ranges are supplied are used. However, the electro-optical device 100 to which the present invention is applied is used for any of the electro-optical devices 100. It has been.

図10に示す投射型表示装置110は、透過型の電気光学装置100を用いた液晶プロ
ジェクターであり、スクリーン等からなる被投射部材111に光を照射し、画像を表示す
る。投射型表示装置110は、装置光軸L0に沿って、照明装置160と、照明装置16
0から出射された光が供給される複数の電気光学装置100(液晶ライトバルブ115〜
117)と、複数の電気光学装置100から出射された光を合成して出射するクロスダイ
クロイックプリズム119(光合成光学系)と、クロスダイクロイックプリズム119に
より合成された光を投射する投射光学系118とを有している。また、投射型表示装置1
10は、ダイクロイックミラー113、114、およびリレー系120を備えている。投
射型表示装置110において、電気光学装置100およびクロスダイクロイックプリズム
119は、光学ユニット150を構成している。
A projection display device 110 shown in FIG. 10 is a liquid crystal projector using the transmissive electro-optical device 100, and irradiates light onto a projection target member 111 made of a screen or the like to display an image. The projection display device 110 includes an illumination device 160 and an illumination device 16 along the device optical axis L0.
A plurality of electro-optical devices 100 (liquid crystal light valves 115 to 115) to which light emitted from 0 is supplied
117), a cross dichroic prism 119 (light combining optical system) that combines and outputs the light emitted from the plurality of electro-optical devices 100, and a projection optical system 118 that projects the light combined by the cross dichroic prism 119. Have. In addition, the projection display device 1
10 includes dichroic mirrors 113 and 114 and a relay system 120. In the projection display device 110, the electro-optical device 100 and the cross dichroic prism 119 constitute an optical unit 150.

照明装置160では、装置光軸L0に沿って、光源部161、フライアイレンズ等のレ
ンズアレイからなる第1インテグレーターレンズ162、フライアイレンズ等のレンズア
レイからなる第2インテグレーターレンズ163、偏光変換素子164、およびコンデン
サーレンズ165が順に配置されている。光源部161は、赤色光R、緑色光Gおよび青
色光Bを含む白色光を出射する光源168と、リフレクター169とを備えている。光源
168は超高圧水銀ランプ等により構成されており、リフレクター169は、放物線状の
断面を有している。第1インテグレーターレンズ162および第2インテグレーターレン
ズ163は、光源部161から出射された光の照度分布を均一化する。偏光変換素子16
4は、光源部161から出射された光を、例えばs偏光のような特定の振動方向を有する
偏光にする。
In the illumination device 160, along the device optical axis L0, a light source unit 161, a first integrator lens 162 composed of a lens array such as a fly-eye lens, a second integrator lens 163 composed of a lens array such as a fly-eye lens, and a polarization conversion element 164 and a condenser lens 165 are arranged in this order. The light source unit 161 includes a light source 168 that emits white light including red light R, green light G, and blue light B, and a reflector 169. The light source 168 is configured by an ultra-high pressure mercury lamp or the like, and the reflector 169 has a parabolic cross section. The first integrator lens 162 and the second integrator lens 163 make the illuminance distribution of the light emitted from the light source unit 161 uniform. Polarization conversion element 16
4 changes the light emitted from the light source unit 161 into polarized light having a specific vibration direction such as s-polarized light.

ダイクロイックミラー113は、照明装置160から出射された光に含まれる赤色光R
を透過させるとともに、緑色光Gおよび青色光Bを反射する。ダイクロイックミラー11
4は、ダイクロイックミラー113で反射された緑色光Gおよび青色光Bのうち、青色光
Bを透過させるとともに緑色光Gを反射する。このように、ダイクロイックミラー113
、114は、照明装置160から出射された光を赤色光R、緑色光Gおよび青色光Bに分
離する色分離光学系を構成している。
The dichroic mirror 113 is a red light R included in the light emitted from the illumination device 160.
And green light G and blue light B are reflected. Dichroic mirror 11
4 transmits the blue light B and reflects the green light G out of the green light G and the blue light B reflected by the dichroic mirror 113. Thus, the dichroic mirror 113
, 114 constitute a color separation optical system that separates the light emitted from the illumination device 160 into red light R, green light G, and blue light B.

液晶ライトバルブ115は、ダイクロイックミラー113を透過して反射ミラー123
で反射した赤色光Rを画像信号に応じて変調する透過型の液晶装置である。液晶ライトバ
ルブ115は、λ/2位相差板115a、第1偏光板115b、電気光学装置100(赤
色用電気光学装置100R)、および第2偏光板115dを備えている。ここで、液晶ラ
イトバルブ115に入射する赤色光Rは、ダイクロイックミラー113を透過しても光の
偏光は変化しないことから、s偏光のままである。
The liquid crystal light valve 115 is transmitted through the dichroic mirror 113 and reflected by the reflection mirror 123.
This is a transmissive liquid crystal device that modulates the red light R reflected by the light according to the image signal. The liquid crystal light valve 115 includes a λ / 2 retardation plate 115a, a first polarizing plate 115b, an electro-optical device 100 (red electro-optical device 100R), and a second polarizing plate 115d. Here, the red light R incident on the liquid crystal light valve 115 remains as s-polarized light because the polarization of the light does not change even if it passes through the dichroic mirror 113.

λ/2位相差板115aは、液晶ライトバルブ115に入射したs偏光をp偏光に変換
する光学素子である。第1偏光板115bは、s偏光を遮断してp偏光を透過させる偏光
板である。電気光学装置100(赤色用電気光学装置100R)は、p偏光を画像信号に
応じた変調によってs偏光(中間調であれば円偏光又は楕円偏光)に変換する構成となっ
ている。第2偏光板115dは、p偏光を遮断してs偏光を透過させる偏光板である。従
って、液晶ライトバルブ115は、画像信号に応じて赤色光Rを変調し、変調した赤色光
Rをクロスダイクロイックプリズム119に向けて出射する。λ/2位相差板115aお
よび第1偏光板115bは、偏光を変換させない透光性のガラス板115eに接した状態
で配置されており、λ/2位相差板115aおよび第1偏光板115bが発熱によって歪
むのを回避することができる。
The λ / 2 phase difference plate 115a is an optical element that converts s-polarized light incident on the liquid crystal light valve 115 into p-polarized light. The first polarizing plate 115b is a polarizing plate that blocks s-polarized light and transmits p-polarized light. The electro-optical device 100 (red electro-optical device 100R) is configured to convert p-polarized light into s-polarized light (circularly polarized light or elliptically polarized light in the case of halftone) by modulation according to an image signal. The second polarizing plate 115d is a polarizing plate that blocks p-polarized light and transmits s-polarized light. Accordingly, the liquid crystal light valve 115 modulates the red light R according to the image signal, and emits the modulated red light R toward the cross dichroic prism 119. The λ / 2 phase difference plate 115a and the first polarizing plate 115b are arranged in contact with a light-transmitting glass plate 115e that does not convert the polarization, and the λ / 2 phase difference plate 115a and the first polarizing plate 115b are arranged. Distortion due to heat generation can be avoided.

液晶ライトバルブ116は、ダイクロイックミラー113で反射した後にダイクロイッ
クミラー114で反射した緑色光Gを画像信号に応じて変調する透過型の液晶装置である
。液晶ライトバルブ116は、液晶ライトバルブ115と同様に、第1偏光板116b、
電気光学装置100(緑色用電気光学装置100G)、および第2偏光板116dを備え
ている。液晶ライトバルブ116に入射する緑色光Gは、ダイクロイックミラー113、
114で反射されて入射するs偏光である。第1偏光板116bは、p偏光を遮断してs
偏光を透過させる偏光板である。電気光学装置100(緑色用電気光学装置100G)は
、s偏光を画像信号に応じた変調によってp偏光(中間調であれば円偏光又は楕円偏光)
に変換する構成となっている。第2偏光板116dは、s偏光を遮断してp偏光を透過さ
せる偏光板である。従って、液晶ライトバルブ116は、画像信号に応じて緑色光Gを変
調し、変調した緑色光Gをクロスダイクロイックプリズム119に向けて出射する。
The liquid crystal light valve 116 is a transmissive liquid crystal device that modulates green light G reflected by the dichroic mirror 114 after being reflected by the dichroic mirror 113 in accordance with an image signal. Similarly to the liquid crystal light valve 115, the liquid crystal light valve 116 includes a first polarizing plate 116b,
The electro-optical device 100 (green electro-optical device 100G) and the second polarizing plate 116d are provided. The green light G incident on the liquid crystal light valve 116 is emitted from the dichroic mirror 113,
The s-polarized light is reflected by 114 and incident. The first polarizing plate 116b blocks p-polarized light and s
It is a polarizing plate that transmits polarized light. The electro-optical device 100 (green electro-optical device 100G) converts the s-polarized light into p-polarized light (circularly polarized light or elliptically polarized light in the case of halftone) by modulating the image signal.
It becomes the composition to convert to. The second polarizing plate 116d is a polarizing plate that blocks s-polarized light and transmits p-polarized light. Therefore, the liquid crystal light valve 116 modulates the green light G according to the image signal, and emits the modulated green light G toward the cross dichroic prism 119.

液晶ライトバルブ117は、ダイクロイックミラー113で反射し、ダイクロイックミ
ラー114を透過した後でリレー系120を経た青色光Bを画像信号に応じて変調する透
過型の液晶装置である。液晶ライトバルブ117は、液晶ライトバルブ115、116と
同様に、λ/2位相差板117a、第1偏光板117b、電気光学装置100(青色用電
気光学装置100B)、および第2偏光板117dを備えている。液晶ライトバルブ11
7に入射する青色光Bは、ダイクロイックミラー113で反射してダイクロイックミラー
114を透過した後にリレー系120の2つの反射ミラー125a、125bで反射する
ことから、s偏光となっている。
The liquid crystal light valve 117 is a transmissive liquid crystal device that modulates the blue light B reflected by the dichroic mirror 113, transmitted through the dichroic mirror 114, and then passed through the relay system 120 in accordance with an image signal. Similarly to the liquid crystal light valves 115 and 116, the liquid crystal light valve 117 includes a λ / 2 phase difference plate 117a, a first polarizing plate 117b, an electro-optical device 100 (blue electro-optical device 100B), and a second polarizing plate 117d. I have. Liquid crystal light valve 11
7 is reflected by the dichroic mirror 113, passes through the dichroic mirror 114, and then is reflected by the two reflection mirrors 125a and 125b of the relay system 120, so that it is s-polarized light.

λ/2位相差板117aは、液晶ライトバルブ117に入射したs偏光をp偏光に変換
する光学素子である。第1偏光板117bは、s偏光を遮断してp偏光を透過させる偏光
板である。電気光学装置100(青色用電気光学装置100B)は、p偏光を画像信号に
応じた変調によってs偏光(中間調であれば円偏光又は楕円偏光)に変換する構成となっ
ている。第2偏光板117dは、p偏光を遮断してs偏光を透過させる偏光板である。従
って、液晶ライトバルブ117は、画像信号に応じて青色光Bを変調し、変調した青色光
Bをクロスダイクロイックプリズム119に向けて出射する。なお、λ/2位相差板11
7a、および第1偏光板117bは、ガラス板117eに接した状態で配置されている。
The λ / 2 phase difference plate 117a is an optical element that converts s-polarized light incident on the liquid crystal light valve 117 into p-polarized light. The first polarizing plate 117b is a polarizing plate that blocks s-polarized light and transmits p-polarized light. The electro-optical device 100 (blue electro-optical device 100B) is configured to convert p-polarized light into s-polarized light (circularly polarized light or elliptically polarized light in the case of halftone) by modulation according to an image signal. The second polarizing plate 117d is a polarizing plate that blocks p-polarized light and transmits s-polarized light. Accordingly, the liquid crystal light valve 117 modulates the blue light B according to the image signal, and emits the modulated blue light B toward the cross dichroic prism 119. The λ / 2 phase difference plate 11
7a and the first polarizing plate 117b are disposed in contact with the glass plate 117e.

リレー系120は、リレーレンズ124a、124bと反射ミラー125a、125b
とを備えている。リレーレンズ124a、124bは、青色光Bの光路が長いことによる
光損失を防止するために設けられている。リレーレンズ124aは、ダイクロイックミラ
ー114と反射ミラー125aとの間に配置されている。リレーレンズ124bは、反射
ミラー125a、125bの間に配置されている。反射ミラー125aは、ダイクロイッ
クミラー114を透過してリレーレンズ124aから出射した青色光Bをリレーレンズ1
24bに向けて反射する。反射ミラー125bは、リレーレンズ124bから出射した青
色光Bを液晶ライトバルブ117に向けて反射する。
The relay system 120 includes relay lenses 124a and 124b and reflection mirrors 125a and 125b.
And. The relay lenses 124a and 124b are provided to prevent light loss due to the long optical path of the blue light B. The relay lens 124a is disposed between the dichroic mirror 114 and the reflection mirror 125a. The relay lens 124b is disposed between the reflection mirrors 125a and 125b. The reflection mirror 125a transmits the blue light B transmitted through the dichroic mirror 114 and emitted from the relay lens 124a to the relay lens 1.
Reflected toward 24b. The reflection mirror 125b reflects the blue light B emitted from the relay lens 124b toward the liquid crystal light valve 117.

クロスダイクロイックプリズム119は、2つのダイクロイック膜119a、119b
をX字型に直交配置した色合成光学系である。ダイクロイック膜119aは青色光Bを反
射して緑色光Gを透過する膜であり、ダイクロイック膜119bは赤色光Rを反射して緑
色光Gを透過する膜である。従って、クロスダイクロイックプリズム119は、液晶ライ
トバルブ115〜117のそれぞれで変調された赤色光Rと緑色光Gと青色光Bとを合成
し、投射光学系118に向けて出射する。
The cross dichroic prism 119 includes two dichroic films 119a and 119b.
Is a color synthesizing optical system in which X is orthogonally arranged in an X shape. The dichroic film 119a is a film that reflects blue light B and transmits green light G, and the dichroic film 119b is a film that reflects red light R and transmits green light G. Accordingly, the cross dichroic prism 119 combines the red light R, the green light G, and the blue light B that are modulated by the liquid crystal light valves 115 to 117, and emits the resultant light toward the projection optical system 118.

なお、液晶ライトバルブ115、117からクロスダイクロイックプリズム119に入
射する光はs偏光であり、液晶ライトバルブ116からクロスダイクロイックプリズム1
19に入射する光はp偏光である。このようにクロスダイクロイックプリズム119に入
射する光を異なる種類の偏光としていることにより、クロスダイクロイックプリズム11
9において各液晶ライトバルブ115〜117から入射する光を合成できる。ここで、一
般に、ダイクロイック膜119a、119bはs偏光の反射特性に優れている。このため
、ダイクロイック膜119a、119bで反射される赤色光R、および青色光Bをs偏光
とし、ダイクロイック膜119a、119bを透過する緑色光Gをp偏光としている。投
射光学系118は、投影レンズ(図示略)を有しており、クロスダイクロイックプリズム
119で合成された光をスクリーン等の被投射部材111に投射する。
The light that enters the cross dichroic prism 119 from the liquid crystal light valves 115 and 117 is s-polarized light, and the cross dichroic prism 1 from the liquid crystal light valve 116.
The light incident on 19 is p-polarized light. Thus, by making the light incident on the cross dichroic prism 119 into different types of polarized light, the cross dichroic prism 11
9, the light incident from the liquid crystal light valves 115 to 117 can be synthesized. Here, in general, the dichroic films 119a and 119b are excellent in the reflection characteristics of s-polarized light. For this reason, red light R and blue light B reflected by the dichroic films 119a and 119b are s-polarized light, and green light G transmitted through the dichroic films 119a and 119b is p-polarized light. The projection optical system 118 has a projection lens (not shown), and projects the light combined by the cross dichroic prism 119 onto a projection target 111 such as a screen.

[他の投射型表示装置]
上記投射型表示装置において、光源部として、各色の光を出射するLED光源等を用い
、かかるLED光源から出射された色光を各々、別の液晶装置に供給するように構成して
もよい。
[Other projection display devices]
In the projection display device, an LED light source that emits light of each color may be used as the light source unit, and the color light emitted from the LED light source may be supplied to another liquid crystal device.

本発明を適用した電気光学装置100については、上記の電子機器の他にも、投射型の
HUD(ヘッドアップディスプレイ)や直視型のHMD(ヘッドマウントディスプレイ)
、携帯電話機、情報携帯端末(PDA:Personal Digital Assis
tants)、デジタルカメラ、液晶テレビ、カーナビゲーション装置、テレビ電話等に
用いてもよい。
Regarding the electro-optical device 100 to which the present invention is applied, in addition to the above-described electronic apparatus, a projection-type HUD (head-up display) and a direct-view type HMD (head-mounted display)
, Mobile phones, personal digital assistants (PDA: Personal Digital Assistance)
ants), digital cameras, liquid crystal televisions, car navigation devices, videophones, and the like.

10a…表示領域、20…第1基板、20e、20f、20g、20h…第1側面、20
s、200s…第1内面、20t、200t…第1外面、21…共通電極、24…レンズ
、30…第2基板、30s、300s…第2内面、30t、300t…第2外面、31…
端子、37…張り出し部、38a…画素電極、50…電気光学層、60…シール材、61
…外縁、100…電気光学装置、110…投射型表示装置、200…第1マザー基板、2
02e、304e、305e…亀裂、201b、203b…割断面、201c、202c
、203c…ダイシング溝、207a…第1部分、207b…第2部分、208a…第3
部分、208b…第4部分、240…レンズ面、241…レンズ層、270…分割片、3
00…第2マザー基板、400…複合基板、701…第1粘着シート、702…第2粘着
シート、751…スクライブヘッド、752…ブレイクバー、753…ダイシングソー、
760…吸着チャック、M…熱的改質部分、LX1…第1外形線、LY2…第2外形線、
LX3…第3外形線、LX4…第4外形線、LY5…第5外形線、ST10…第1工程、
ST20…第2工程、ST30…第3工程、ST40…第4工程、ST50…第5工程、
Ls…レーザスポット。
10a ... display region, 20 ... first substrate, 20e, 20f, 20g, 20h ... first side surface, 20
s, 200s ... first inner surface, 20t, 200t ... first outer surface, 21 ... common electrode, 24 ... lens, 30 ... second substrate, 30s, 300s ... second inner surface, 30t, 300t ... second outer surface, 31 ...
Terminals 37. Projected portions 38 a Pixel electrodes 50 Electro-optical layers 60 Sealing materials 61
... outer edge, 100 ... electro-optical device, 110 ... projection type display device, 200 ... first mother substrate, 2
02e, 304e, 305e ... crack, 201b, 203b ... split section, 201c, 202c
, 203c ... dicing groove, 207a ... first part, 207b ... second part, 208a ... third.
Portion 208b fourth portion 240 lens surface 241 lens layer 270 divided piece 3
00 ... 2nd mother substrate, 400 ... Composite substrate, 701 ... 1st adhesive sheet, 702 ... 2nd adhesive sheet, 751 ... Scribe head, 752 ... Break bar, 753 ... Dicing saw,
760 ... Adsorption chuck, M ... Thermally modified portion, LX1 ... First outline, LY2 ... Second outline,
LX3 ... third outline, LX4 ... fourth outline, LY5 ... fifth outline, ST10 ... first step,
ST20 ... 2nd process, ST30 ... 3rd process, ST40 ... 4th process, ST50 ... 5th process,
Ls: Laser spot.

Claims (15)

枠状のシール材によって第1マザー基板と第2マザー基板とが貼り合わされた複合基板
を分割して電気光学装置を製造する電気光学装置の製造方法であって、
前記第1マザー基板を前記シール材の外縁に沿って分割する第1分割工程と、
前記第2マザー基板を前記シール材の外縁に沿って分割する第2分割工程と、
を備え、
前記第1分割工程では、少なくとも、前記第1マザー基板の前記第2マザー基板側の面
である第1内面から前記第1マザー基板の前記第2マザー基板とは反対側の面である第1
外面に向かう途中位置までレーザスクライブにより亀裂を形成する第1レーザスクライブ
処理と、前記第1外面から前記亀裂までダイシングソーにより前記第1マザー基板を切断
するダイシング処理と、を行い、
前記第2分割工程では、前記第2マザー基板の前記第1マザー基板とは反対側の面であ
る第2外面から前記第2マザー基板の前記第1マザー基板側の面である第2内面までレー
ザスクライブにより亀裂を形成する第2レーザスクライブ処理を行うことを特徴とする電
気光学装置の製造方法。
An electro-optical device manufacturing method for manufacturing an electro-optical device by dividing a composite substrate in which a first mother substrate and a second mother substrate are bonded together by a frame-shaped sealing material,
A first dividing step of dividing the first mother substrate along an outer edge of the sealing material;
A second dividing step of dividing the second mother substrate along an outer edge of the sealing material;
With
In the first dividing step, a first surface that is at least a surface of the first mother substrate opposite to the second mother substrate from a first inner surface that is a surface of the first mother substrate on the second mother substrate side.
Performing a first laser scribing process for forming a crack by laser scribing to an intermediate position toward the outer surface, and a dicing process for cutting the first mother substrate by a dicing saw from the first outer surface to the crack;
In the second dividing step, from the second outer surface that is the surface of the second mother substrate opposite to the first mother substrate to the second inner surface that is the surface of the second mother substrate on the first mother substrate side. A method for manufacturing an electro-optical device, comprising performing a second laser scribing process for forming a crack by laser scribing.
請求項1に記載の電気光学装置の製造方法において、
前記第1分割工程では、さらに、前記第1外面に形成した溝を起点に前記第1マザー基
板を割断するブレイク処理を行うことを特徴とする電気光学装置の製造方法。
The method of manufacturing the electro-optical device according to claim 1,
In the first dividing step, the electro-optical device manufacturing method is further characterized by performing a breaking process for cleaving the first mother substrate starting from a groove formed in the first outer surface.
請求項2に記載の電気光学装置の製造方法において、
前記第1外面に沿って延在する一つの方向を第1方向とし、前記第1外面に沿って前記
第1方向と交差する方向を第2方向としたとき、
前記第1分割工程では、前記シール材の前記第1方向の両側に位置する外縁に沿って前
記第2方向に延在する第1外形線に沿って前記ブレイク処理によって前記第1マザー基板
を割断する第1工程と、前記シール材の前記第2方向の両側に位置する外縁に沿って前記
第1方向に延在する第2外形線に沿って前記第1レーザスクライブ処理と前記ダイシング
処理とによって前記第1マザー基板を切断する第2工程と、前記シール材に対して前記第
1方向の一方側で前記第1外形線と前記シール材との間で前記シール材の前記第1方向の
一方側に位置する外縁に沿って前記第2方向に延在する第3外形線に沿って前記ブレイク
処理によって前記第1マザー基板を割断する第3工程と、を行い、
前記第2分割工程では、前記シール材の前記第1方向の両側に位置する外縁に沿って前
記第2方向に延在する第4外形線に沿って前記第2レーザスクライブ処理により前記第2
マザー基板を切断する第4工程と、前記シール材の前記第2方向の両側に位置する外縁に
沿って前記第1方向に延在する第5外形線に沿って前記第2レーザスクライブ処理により
前記第2マザー基板を切断する第5工程と、を行うことを特徴とする電気光学装置の製造
方法。
The method of manufacturing the electro-optical device according to claim 2.
When one direction extending along the first outer surface is a first direction and the direction intersecting the first direction along the first outer surface is a second direction,
In the first dividing step, the first mother substrate is cleaved by the breaking process along a first outline extending in the second direction along outer edges located on both sides of the sealing material in the first direction. And a first laser scribing process and a dicing process along a second outline extending in the first direction along outer edges located on both sides of the sealing material in the second direction. A second step of cutting the first mother substrate and one of the sealing materials in the first direction between the first outline and the sealing material on one side of the first direction with respect to the sealing material; Performing a third step of cleaving the first mother substrate by the breaking process along a third outline extending in the second direction along the outer edge located on the side;
In the second dividing step, the second laser scribing process performs the second laser scribing process along a fourth outline extending in the second direction along outer edges located on both sides of the sealing material in the first direction.
The fourth step of cutting the mother substrate, and the second laser scribing process along the fifth outline extending in the first direction along the outer edges located on both sides of the sealing material in the second direction. And a fifth step of cutting the second mother substrate.
請求項3に記載の電気光学装置の製造方法において、
前記第2工程、前記3工程、前記第4工程、前記第5工程を行った後、前記第1工程を
行う際には、前記第1外面に粘着シートを貼っておき、前記第1外形線に沿って前記第1
マザー基板を割断した後、前記シール材に対して前記第1方向の他方側の前記第1外形線
、前記第2外形線、前記第3外形線、前記第4外形線および前記第5外形線に沿って分割
された電気光学装置を前記粘着シートから剥離し、前記第1マザー基板において前記シー
ル材に対して前記第1方向の一方側の前記第1外形線、前記第2外形線および前記第3外
形線によって分割された分割片を前記粘着シートに残すことを特徴とする電気光学装置の
製造方法。
The method of manufacturing an electro-optical device according to claim 3,
When performing the first step after performing the second step, the third step, the fourth step, and the fifth step, an adhesive sheet is pasted on the first outer surface, and the first outline Along the first
After cleaving the mother substrate, the first outline, the second outline, the third outline, the fourth outline, and the fifth outline on the other side of the first direction with respect to the sealing material The electro-optical device divided along the adhesive sheet is peeled from the pressure-sensitive adhesive sheet, and the first outline, the second outline, and the first outline on one side of the first direction with respect to the sealing material in the first mother substrate A method of manufacturing an electro-optical device, wherein the divided pieces divided by the third outline are left on the pressure-sensitive adhesive sheet.
請求項3または4に記載の電気光学装置の製造方法において、
前記第1工程では、ダイシングソーによって前記溝を形成し、
前記第1分割工程では、前記第3工程の後、前記第3外形線に沿ってダイシングソーに
よって溝を形成することを特徴とする電気光学装置の製造方法。
The method of manufacturing an electro-optical device according to claim 3 or 4,
In the first step, the groove is formed by a dicing saw,
In the first dividing step, after the third step, a groove is formed by a dicing saw along the third outer shape line.
請求項1から5までの何れか一項に記載の電気光学装置の製造方法において、
前記シール材は、全周で繋がっており、
前記第1分割工程および前記第2分割工程を行う前に、前記シール材で囲まれた領域内
に液状の電気光学層を設けておくことを特徴とする電気光学装置の製造方法。
In the manufacturing method of the electro-optical device according to any one of claims 1 to 5,
The sealing material is connected all around,
A method of manufacturing an electro-optical device, wherein a liquid electro-optical layer is provided in a region surrounded by the sealing material before performing the first dividing step and the second dividing step.
請求項1から6までの何れか一項に記載の電気光学装置の製造方法において、
前記第1マザー基板には、前記シール材で囲まれた領域内に、凹曲面または凸曲面から
なるレンズ面と、前記レンズ面を覆うレンズ層とが設けられていることを特徴とする電気
光学装置の製造方法。
In the manufacturing method of the electro-optical device according to any one of claims 1 to 6,
The first mother substrate is provided with a lens surface having a concave or convex curved surface and a lens layer covering the lens surface in a region surrounded by the sealing material. Device manufacturing method.
第1基板と、
前記第1基板と対向し、前記第1基板から第1方向の一方側に向けて張り出した張り出
し部に端子を有する第2基板と、
前記第1基板の側面である第1側面に沿って設けられ、前記第1基板と前記第2基板と
を貼り合わせる枠状のシール材と、
前記第1基板と前記第2基板との間に設けられた電気光学層と、
を備え、
前記第1側面のうち、前記第1方向の両側に位置する面、および前記第1方向に対して
交差する第2方向の両側に位置する面のいずれかは、前記第1基板の前記第2基板側の面
である第1内面から前記第1基板の前記第2基板とは反対側の面である第1外面に向かう
途中位置までの第1部分と、前記途中位置から前記第1外面までの第2部分と、有し、
前記第1部分を含む前記第1基板の外縁は、前記第2部分を含む前記第1基板の外縁よ
り平面サイズが大きいことを特徴とする電気光学装置。
A first substrate;
A second substrate having a terminal on an overhanging portion facing the first substrate and projecting from the first substrate toward one side in the first direction;
A frame-shaped sealing material which is provided along a first side surface which is a side surface of the first substrate, and which bonds the first substrate and the second substrate;
An electro-optic layer provided between the first substrate and the second substrate;
With
Of the first side surfaces, one of the surfaces located on both sides in the first direction and the surfaces located on both sides in the second direction intersecting the first direction is the second side of the first substrate. A first portion from a first inner surface that is a surface on the substrate side to a midway position toward the first outer surface that is a surface opposite to the second substrate of the first substrate, and from the midway position to the first outer surface A second part of
The electro-optical device, wherein an outer edge of the first substrate including the first portion has a larger planar size than an outer edge of the first substrate including the second portion.
請求項8に記載の電気光学装置において、
前記第2基板の側面である第2側面のうち、前記第1方向の他方側に位置する面、およ
び前記第2方向の両側に位置する面のいずれかは、前記第1部分と平面視で重なることを
特徴とする電気光学装置。
The electro-optical device according to claim 8.
Of the second side surface, which is the side surface of the second substrate, one of the surface located on the other side of the first direction and the surface located on both sides of the second direction is in plan view with the first portion. An electro-optical device that overlaps.
請求項8または9に記載の電気光学装置において、
前記第1部分は、スポット状の熱的改質部分が分布し、
前記第2部分は、前記熱的改質部分が分布せず、
前記第2基板の側面である第2側面のうち、前記第1方向の両側に位置する面、および
前記第2方向の両側に位置する面のいずれかには、前記第2基板の前記第1基板側の面で
ある第2内面から前記第2基板の前記第1基板とは反対側の面である第2外面まで前記熱
的改質部分が分布していることを特徴とする電気光学装置。
The electro-optical device according to claim 8 or 9,
In the first portion, spot-like thermal reforming portions are distributed,
In the second part, the thermal reforming part is not distributed,
Of the second side surface, which is the side surface of the second substrate, one of the surface located on both sides in the first direction and the surface located on both sides in the second direction is the first side of the second substrate. The electro-optical device is characterized in that the thermally modified portion is distributed from a second inner surface that is a surface on the substrate side to a second outer surface that is a surface on the opposite side of the second substrate from the first substrate. .
請求項10に記載の電気光学装置において、
前記第1側面のうち、前記第2方向の両側に位置する面に前記第1部分および前記第2
部分が存在し、
前記第2側面において、前記第1方向の両側に位置する面、および前記第2方向の両側
に位置する面のいずれにも前記熱的改質部分が分布していることを特徴とする電気光学装
置。
The electro-optical device according to claim 10.
Of the first side surface, the first portion and the second portion are disposed on surfaces located on both sides in the second direction.
Part exists,
In the second side surface, the thermally modified portion is distributed on both the surface located on both sides in the first direction and the surface located on both sides in the second direction. apparatus.
請求項11に記載の電気光学装置において、
前記第1側面のうち、前記第1方向の両側に位置する面は、前記第1外面から前記第1
内面に向かう途中位置まで形成された第3部分と、前記第3部分から前記第1内面まで前
記第3部分より光散乱性が低い第4部分と、を備えていることを特徴とする電気光学装置
The electro-optical device according to claim 11.
Of the first side surface, the surfaces positioned on both sides in the first direction are the first outer surface and the first side surface.
An electro-optical device comprising: a third portion formed up to a position toward the inner surface; and a fourth portion having a light scattering property lower than that of the third portion from the third portion to the first inner surface. apparatus.
請求項8から12までの何れか一項に記載の電気光学装置において、
前記シール材は、全周で繋がっており、
前記電気光学層は、液状であることを特徴とする電気光学装置。
The electro-optical device according to any one of claims 8 to 12,
The sealing material is connected all around,
The electro-optical device is characterized in that the electro-optical layer is liquid.
請求項8乃至13までの何れか一項に記載の電気光学装置において、
前記第1基板には、前記シール材で囲まれた領域内に、凹曲面または凸曲面からなるレ
ンズ面と、前記レンズ面を覆うレンズ層とが設けられていることを特徴とする電気光学装
置。
The electro-optical device according to any one of claims 8 to 13,
An electro-optical device, wherein the first substrate is provided with a lens surface having a concave or convex curved surface and a lens layer covering the lens surface in a region surrounded by the sealing material. .
請求項8乃至14までの何れか一項に記載の電気光学装置を有することを特徴とする電
子機器。
An electronic apparatus comprising the electro-optical device according to claim 8.
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Citations (13)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2001047264A (en) * 1999-08-04 2001-02-20 Seiko Epson Corp Electro-optical device, method of manufacturing the same, and electronic apparatus
JP2004087663A (en) * 2002-08-26 2004-03-18 Tokyo Seimitsu Co Ltd Dicing equipment and chip manufacturing method
JP2007160766A (en) * 2005-12-15 2007-06-28 Seiko Epson Corp Method for dividing layered substrate
JP2008100246A (en) * 2006-10-18 2008-05-01 Seiko Epson Corp Manufacturing method of electro-optical device
JP2008116696A (en) * 2006-11-06 2008-05-22 Seiko Epson Corp Manufacturing method of electro-optical device
JP2008184358A (en) * 2007-01-30 2008-08-14 Seiko Epson Corp Electro-optical device manufacturing method and electro-optical device
US20090040640A1 (en) * 2007-08-07 2009-02-12 Jinnam Kim Glass cutting method, glass for flat panel display thereof and flat panel display device using it
JP2009282107A (en) * 2008-05-20 2009-12-03 Sharp Corp Display panel and method for manufacturing the same
JP2010016361A (en) * 2008-06-02 2010-01-21 Nec Electronics Corp Method for manufacturing semiconductor chip, and semiconductor device
JP2010181696A (en) * 2009-02-06 2010-08-19 Seiko Epson Corp Method of manufacturing electrooptical apparatus
JP2011135075A (en) * 2009-12-23 2011-07-07 Xerox Corp Method for dicing semiconductor wafer, chip diced from semiconductor wafer, and array of chips diced from semiconductor wafer
JP2012203203A (en) * 2011-03-25 2012-10-22 Seiko Epson Corp Liquid crystal device and projector
JP2015013782A (en) * 2013-07-08 2015-01-22 三星ダイヤモンド工業株式会社 Break apparatus for aligned substrate

Patent Citations (13)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2001047264A (en) * 1999-08-04 2001-02-20 Seiko Epson Corp Electro-optical device, method of manufacturing the same, and electronic apparatus
JP2004087663A (en) * 2002-08-26 2004-03-18 Tokyo Seimitsu Co Ltd Dicing equipment and chip manufacturing method
JP2007160766A (en) * 2005-12-15 2007-06-28 Seiko Epson Corp Method for dividing layered substrate
JP2008100246A (en) * 2006-10-18 2008-05-01 Seiko Epson Corp Manufacturing method of electro-optical device
JP2008116696A (en) * 2006-11-06 2008-05-22 Seiko Epson Corp Manufacturing method of electro-optical device
JP2008184358A (en) * 2007-01-30 2008-08-14 Seiko Epson Corp Electro-optical device manufacturing method and electro-optical device
US20090040640A1 (en) * 2007-08-07 2009-02-12 Jinnam Kim Glass cutting method, glass for flat panel display thereof and flat panel display device using it
JP2009282107A (en) * 2008-05-20 2009-12-03 Sharp Corp Display panel and method for manufacturing the same
JP2010016361A (en) * 2008-06-02 2010-01-21 Nec Electronics Corp Method for manufacturing semiconductor chip, and semiconductor device
JP2010181696A (en) * 2009-02-06 2010-08-19 Seiko Epson Corp Method of manufacturing electrooptical apparatus
JP2011135075A (en) * 2009-12-23 2011-07-07 Xerox Corp Method for dicing semiconductor wafer, chip diced from semiconductor wafer, and array of chips diced from semiconductor wafer
JP2012203203A (en) * 2011-03-25 2012-10-22 Seiko Epson Corp Liquid crystal device and projector
JP2015013782A (en) * 2013-07-08 2015-01-22 三星ダイヤモンド工業株式会社 Break apparatus for aligned substrate

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