JP2018063348A - 液晶表示パネルおよび液晶表示装置 - Google Patents
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Abstract
Description
本発明の実施の形態1について、図面を用いて以下に説明する。図1は、実施の形態1に係る液晶表示パネルの平面図である。図2は、図1の領域Aの拡大平面図である。
次に、実施の形態2に係る液晶表示パネルについて説明する。図6は、実施の形態2の図2相当図である。なお、実施の形態2において、実施の形態1で説明したものと同一の構成要素については同一符号を付して説明は省略する。
次に、実施の形態3に係る液晶表示パネルについて説明する。図7は、実施の形態3の図2相当図である。なお、実施の形態3において、実施の形態1,2で説明したものと同一の構成要素については同一符号を付して説明は省略する。
次に、実施の形態4に係る液晶表示パネルについて説明する。図8は、実施の形態4の図2相当図である。なお、実施の形態4において、実施の形態1〜3で説明したものと同一の構成要素については同一符号を付して説明は省略する。
次に、実施の形態5に係る液晶表示パネルについて説明する。図9は、実施の形態5の図2相当図である。なお、実施の形態5において、実施の形態1〜4で説明したものと同一の構成要素については同一符号を付して説明は省略する。
Claims (11)
- 互いに対向して配置された第1基板および第2基板と、
前記第1基板と前記第2基板との間に封止された液晶と、
を備えた液晶表示パネルであって、
前記第1基板は、
絶縁性基板と、
前記絶縁性基板上に設けられた複数のゲート配線と、
前記絶縁性基板上に、前記ゲート配線と交差するように設けられた複数のソース配線と、
前記ゲート配線と前記ソース配線との交差位置の周辺領域の各々に設けられたスイッチング素子と、
前記ゲート配線と前記ソース配線によって規定される複数のマトリックス状に画素が配置され、かつ、非矩形形成部を有する非矩形形状の表示領域と、
前記表示領域の周辺領域に配置され、かつ、複数の前記画素に共通電位を供給する共通配線と、
を備え、
前記表示領域の前記非矩形形成部において、複数の前記画素は階段状に配置され、
前記共通配線における前記表示領域の前記非矩形形成部に対応する部分は、階段状に配置された複数の前記画素に沿った形状に形成された、液晶表示パネル。 - 互いに対向して配置された第1基板および第2基板と、
前記第1基板と前記第2基板との間に封止された液晶と、
を備えた液晶表示パネルであって、
前記第1基板は、
絶縁性基板と、
前記絶縁性基板上に設けられた複数のゲート配線と、
前記絶縁性基板上に、前記ゲート配線と交差するように設けられた複数のソース配線と、
前記ゲート配線と前記ソース配線との交差位置の周辺領域の各々に設けられたスイッチング素子と、
前記ゲート配線と前記ソース配線によって規定される複数のマトリックス状に画素が配置され、かつ、非矩形形成部を有する非矩形形状の表示領域と、
前記表示領域の周辺領域に配置され、かつ、複数の前記画素に共通電位を供給する共通配線と、
を備え、
前記表示領域の前記非矩形形成部において、複数の前記画素は階段状に配置され、
前記表示領域の前記非矩形形成部の周辺領域において、階段状に配置された複数の前記画素と前記共通配線との間に、前記画素を模擬したダミー画素が複数配置された、液晶表示パネル。 - 複数の前記ダミー画素は、前記表示領域の前記非矩形形成部の周辺領域において、階段状に配置された複数の前記画素と前記共通配線との間における遮光パターンが配置されていない領域に配置された、請求項2記載の液晶表示パネル。
- 複数の前記ダミー画素のうち少なくとも一部のサイズは、前記画素のサイズよりも小さく形成された、請求項2または請求項3記載の液晶表示パネル。
- 互いに対向して配置された第1基板および第2基板と、
前記第1基板と前記第2基板との間に封止された液晶と、
を備えたFFS方式の液晶表示パネルであって、
前記第1基板は、
絶縁性基板と、
前記絶縁性基板上に設けられた複数のゲート配線と、
前記絶縁性基板上に、前記ゲート配線と交差するように設けられた複数のソース配線と、
前記ゲート配線と前記ソース配線との交差位置の周辺領域の各々に設けられたスイッチング素子と、
各前記スイッチング素子に接続された画素電極と、
各前記画素電極および前記ソース配線の上層に絶縁膜を介して設けられ、かつ、各前記画素電極と共に前記液晶を駆動する共通電極と、
各前記画素電極と、複数のスリット状に形成された各前記共通電極とを有する画素と、
前記ゲート配線と前記ソース配線によって規定される複数のマトリックス状に前記画素が配置され、かつ、非矩形形成部を有する非矩形形状の表示領域と、
前記表示領域の周辺領域に配置され、かつ、複数の前記画素に共通電位を供給する共通配線と、
を備え、
複数の前記画素は、前記表示領域の前記非矩形形成部において階段状に配置され、
前記表示領域の前記非矩形形成部において、階段状に配置された複数の前記画素と前記共通配線との間に、前記画素を模擬したダミー画素が複数配置され、
複数の前記ダミー画素のうち少なくとも一部のサイズは、前記画素のサイズよりも小さく形成され、
前記ダミー画素の前記共通電極における複数の前記スリットの幅は、前記画素の前記共通電極における複数の前記スリットの幅よりも狭い、液晶表示パネル。 - 互いに対向して配置された第1基板および第2基板と、
前記第1基板と前記第2基板との間に封止された液晶と、
を備えたFFS方式の液晶表示パネルであって、
前記第1基板は、
絶縁性基板と、
前記絶縁性基板上に設けられた複数のゲート配線と、
前記絶縁性基板上に、前記ゲート配線と交差するように設けられた複数のソース配線と、
前記ゲート配線と前記ソース配線との交差位置の周辺領域の各々に設けられたスイッチング素子と、
複数の共通電極と、
各前記共通電極および前記ソース配線の上層に絶縁膜を介して設けられ、かつ、各前記共通電極と共に前記液晶を駆動する画素電極と、
各前記共通電極と、複数のスリット状に形成された各前記画素電極とを有する画素と、
前記ゲート配線と前記ソース配線によって規定される複数のマトリックス状に前記画素が配置され、かつ、非矩形形成部を有する非矩形形状の表示領域と、
前記表示領域の周辺領域に配置され、かつ、複数の前記画素に共通電位を供給する共通配線と、
を備え、
複数の前記画素は、前記表示領域の前記非矩形形成部において階段状に配置され、
前記表示領域の前記非矩形形成部において、階段状に配置された複数の前記画素と前記共通配線との間に、前記画素を模擬したダミー画素が複数配置され、
複数の前記ダミー画素のうち少なくとも一部のサイズは、前記画素のサイズよりも小さく形成され、
前記ダミー画素の前記画素電極における複数の前記スリットの幅は、前記画素の前記画素電極における複数の前記スリットの幅よりも狭い、液晶表示パネル。 - 前記ダミー画素の前記画素電極と前記共通電極とで形成される容量は、前記画素の前記画素電極と前記共通電極とで形成される容量と同等である、請求項5記載の液晶表示パネル。
- 前記ダミー画素の前記共通電極と前記画素電極とで形成される容量は、前記画素の前記共通電極と前記画素電極とで形成される容量と同等である、請求項6記載の液晶表示パネル。
- 前記共通配線は、前記ゲート配線と重畳する領域の一部に切り欠きを有する、請求項5から請求項8のいずれか1項に記載の液晶表示パネル。
- 前記画素電極と前記ソース配線に接続されたソース電極との間の前記絶縁膜は有機平坦化膜である、請求項5から請求項9のいずれか1項に記載の液晶表示パネル。
- 光源装置と、
前記光源装置の出射面側に配置された、請求項1から請求項10のいずれか1項に記載の液晶表示パネルと、
を備えた、液晶表示装置。
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