JP2017155002A - Method for producing sulfoxide derivative - Google Patents
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Abstract
Description
本発明は、スルホキシド誘導体の製造方法に関する。 The present invention relates to a method for producing a sulfoxide derivative.
スルホキシド誘導体は農薬等の分野において、注目されている(特許文献1参照)。したがって、スルホキシド誘導体が選択的にそして高い収率で製造されることは、重要である。スルホキシド誘導体の製造方法として、スルフィド誘導体の酸化が知られている。しかし、一般的に、この方法には、過剰酸化された生成物であるスルホン誘導体が副生するという問題がある。必要とされない副生したスルホン誘導体は、目的とするスルホキシド誘導体の収率を低下させる。さらに、両方の誘導体の物理的性質が似ているために、工業生産において、酸化反応後の粗生成物から副生成物のスルホン誘導体を除去することにより、精製された目的のスルホキシド誘導体を得ることが難しい。すなわち、工業的規模で高い収率で目的物を分離精製することが難しい。したがって、スルホン誘導体への過剰酸化を回避して、スルホキシド誘導体を選択的に製造できることが、望まれていた。 Sulfoxide derivatives are attracting attention in the field of agricultural chemicals (see Patent Document 1). Therefore, it is important that the sulfoxide derivative be produced selectively and in high yield. As a method for producing a sulfoxide derivative, oxidation of a sulfide derivative is known. However, in general, this method has a problem that a sulfon derivative, which is an over-oxidized product, is produced as a by-product. By-product sulfone derivatives that are not required reduce the yield of the desired sulfoxide derivative. Furthermore, because the physical properties of both derivatives are similar, in industrial production, by removing the by-product sulfone derivative from the crude product after the oxidation reaction, a purified target sulfoxide derivative can be obtained. Is difficult. That is, it is difficult to separate and purify the target product at a high yield on an industrial scale. Therefore, it has been desired that a sulfoxide derivative can be selectively produced while avoiding excessive oxidation to the sulfone derivative.
特許文献1は、スルホキシド誘導体が、メタクロロ過安息香酸による酸化反応により製造できることを開示する(例えば、特許文献1の実施例13及び27参照)。しかし、環境的側面を考慮すると、メタクロロ過安息香酸の使用は工業生産に好ましくない。その理由は以下の通りである。反応後に、メタクロロ過安息香酸は、廃棄物になるメタクロロ安息香酸になる。結果として、メタクロロ過安息香酸の使用は、環境に対して重い負荷を与える。加えて、メタクロロ過安息香酸は高価であるから、メタクロロ過安息香酸を使用する方法は工業的に好ましくない。 Patent Document 1 discloses that a sulfoxide derivative can be produced by an oxidation reaction with metachloroperbenzoic acid (for example, see Examples 13 and 27 of Patent Document 1). However, considering environmental aspects, the use of metachloroperbenzoic acid is not preferred for industrial production. The reason is as follows. After the reaction, metachloroperbenzoic acid becomes metachlorobenzoic acid which becomes waste. As a result, the use of metachloroperbenzoic acid places a heavy burden on the environment. In addition, since metachloroperbenzoic acid is expensive, a method using metachloroperbenzoic acid is industrially unpreferable.
一方で、過酸化水素を使用する酸化は、工業的に好ましく有用な方法である。その理由は以下の通りである。過酸化水素は、反応後に無害な水となるから、環境に優しい。そしてさらに、過酸化水素は工業的に安価である。 On the other hand, oxidation using hydrogen peroxide is an industrially preferable and useful method. The reason is as follows. Hydrogen peroxide is environmentally friendly because it becomes harmless water after the reaction. Furthermore, hydrogen peroxide is industrially inexpensive.
非特許文献1は、スルフィド誘導体から光学活性なスルホキシド誘導体への不斉酸化を開示する。非特許文献1は、配位子としての従来から知られているシッフ塩基、及び安息香酸化合物を使用する方法を開示する。この方法はある程度の収率を与えることも報告されている。しかし、非特許文献1に記載の方法は収率のさらなる改善が必要である。加えて、非特許文献1には、アリールアルキルスルフィド誘導体のアリール部分の置換基の違いにより、収率およびエナンチオマー過剰率が変化することが記載されている。しかし、非特許文献1では、置換基が限定された場合の収率とエナンチオマー過剰率が開示されるだけである。言い換えれば、非特許文献1は、十分で満足できる収率等を得ることができる本発明の目的化合物の製造方法を開示しない。 Non-Patent Document 1 discloses asymmetric oxidation from a sulfide derivative to an optically active sulfoxide derivative. Non-Patent Document 1 discloses a method using a conventionally known Schiff base as a ligand and a benzoic acid compound. This method has also been reported to give some yield. However, the method described in Non-Patent Document 1 requires further improvement in yield. In addition, Non-Patent Document 1 describes that the yield and enantiomeric excess change depending on the difference in the substituent of the aryl moiety of the arylalkyl sulfide derivative. However, Non-Patent Document 1 only discloses the yield and enantiomeric excess when the substituents are limited. In other words, Non-Patent Document 1 does not disclose a method for producing a target compound of the present invention that can provide a satisfactory and satisfactory yield.
安息香酸化合物としては、収率およびエナンチオマー過剰率の観点から、4−メトキシ安息香酸アルカリ金属塩および4−(N,N−ジメチルアミノ)安息香酸アルカリ金属塩が優れていることが報告されている。さらに、配位子のシッフ塩基については、以下のように報告されている。配位子としてのシッフ塩基のアミン部分としては、収率およびエナンチオマー過剰率の観点から、tert−ロイシノールがバリノールよりも優れていた。配位子としてのシッフ塩基のサリチルアルデヒド部分としては、上記と同様の観点から、3,5−ジヨードサリチルアルデヒドおよび3,5−ジブロモサリチルアルデヒドが無置換のサリチルアルデヒドよりも優れていた(非特許文献1、表1参照)。しかし、本発明の目的化合物の製造において、これらの安息香酸化合物と配位子が工業的に有利な効果を有するかどうかは、知られていなかった。さらに、入手の困難性、工業的製造における困難性、および/またはコストの面から、配位子としてのシッフ塩基のサリチルアルデヒド部分として3,5−ジヨードサリチルアルデヒドの使用は工業的に好ましくない。 As benzoic acid compounds, it is reported that 4-methoxybenzoic acid alkali metal salts and 4- (N, N-dimethylamino) benzoic acid alkali metal salts are superior from the viewpoints of yield and enantiomeric excess. . Furthermore, the Schiff base of the ligand has been reported as follows. As the amine moiety of the Schiff base as a ligand, tert-leucinol was superior to valinol from the viewpoints of yield and enantiomeric excess. As the salicylaldehyde moiety of the Schiff base as a ligand, from the same viewpoint as described above, 3,5-diiodosalicylaldehyde and 3,5-dibromosalicylaldehyde were superior to unsubstituted salicylaldehyde (non- (See Patent Document 1 and Table 1). However, it has not been known whether or not these benzoic acid compounds and ligands have an industrially advantageous effect in the production of the target compound of the present invention. In addition, the use of 3,5-diiodosalicylaldehyde as the salicylaldehyde moiety of the Schiff base as a ligand is industrially unfavorable due to difficulty in availability, difficulty in industrial production, and / or cost. .
上記した従来技術における1以上の欠点または問題を解決することができる、スルホキシド誘導体の製造方法に対する緊急の必要性があった。 There was an urgent need for a method for producing sulfoxide derivatives that can overcome one or more of the disadvantages or problems of the prior art described above.
したがって、本発明の目的は、工業的に好ましく、経済的であり、そして環境にも優しい、スルホキシド誘導体の製造方法を提供することにある。 Accordingly, an object of the present invention is to provide a method for producing a sulfoxide derivative which is industrially preferable, economical and environmentally friendly.
本発明のより具体的な目的は、スルホキシド誘導体を選択的にそして高い収率で製造できる方法を提供することにある。この目的を達成するためには、スルホン誘導体への過剰酸化を回避した、スルフィド誘導体からスルホキシド誘導体への制御された酸化反応を提供する必要がある。 A more specific object of the present invention is to provide a method capable of producing a sulfoxide derivative selectively and in high yield. To achieve this goal, it is necessary to provide a controlled oxidation reaction from sulfide derivatives to sulfoxide derivatives that avoids over-oxidation to sulfone derivatives.
本発明のより具体的な他の目的は、安価でありかつ環境負荷を低減できる方法を提供することにある。 Another more specific object of the present invention is to provide a method that is inexpensive and can reduce the environmental load.
例えば、本発明の具体的な目的の一つは、メタクロロ過安息香酸を酸化剤として使用しないで、クリーンで優れた酸化剤として注目を集めている過酸化水素を使用して、スルホキシド誘導体を製造することである。 For example, one of the specific objects of the present invention is to produce a sulfoxide derivative using hydrogen peroxide, which is attracting attention as a clean and excellent oxidizing agent, without using metachloroperbenzoic acid as an oxidizing agent. It is to be.
さらに、酸化反応に用いられる触媒の配位子としては、安価な化合物が好ましい。例えば、配位子中のベンゼン環上の置換基としては、塩素原子は許容できるが、ヨウ素原子は高価であるから好ましくない。言い換えれば、配位子としてのシッフ塩基のサリチルアルデヒド部分として、3,5−ジヨードサリチルアルデヒドのような前述の欠点を有するサリチルアルデヒド誘導体を使用せずに、工業的に好ましいサリチルアルデヒド誘導体を使用することが望まれる。 Furthermore, an inexpensive compound is preferable as the ligand of the catalyst used in the oxidation reaction. For example, as a substituent on the benzene ring in the ligand, a chlorine atom is acceptable, but an iodine atom is not preferable because it is expensive. In other words, an industrially preferred salicylaldehyde derivative is used as the salicylaldehyde moiety of the Schiff base as a ligand without using a salicylaldehyde derivative having the above-mentioned drawbacks such as 3,5-diiodosalicylaldehyde. It is desirable to do.
上記のような状況に鑑み、本発明者は、スルホキシド誘導体の製造方法について鋭意研究した。その結果、本発明者は、意外にも、一般式(1): In view of the above situation, the present inventor has intensively studied a method for producing a sulfoxide derivative. As a result, the inventor surprisingly has the general formula (1):
(式中、R1、R2およびR3は、後述の通りである。)
で表されるスルホキシド誘導体が、一般式(2):
(In the formula, R 1 , R 2 and R 3 are as described later.)
A sulfoxide derivative represented by the general formula (2):
(式中、R1、R2およびR3は、後述の通りである。)
で表されるスルフィド誘導体を、金属化合物および配位子としての一般式(3):
(In the formula, R 1 , R 2 and R 3 are as described later.)
A sulfide derivative represented by the general formula (3) as a metal compound and a ligand:
(式中、R4、R5、R6、R71およびR72は、後述の通りである。)
で表される化合物を含む金属−配位子錯体である触媒、ならびに一般式(4):
(In the formula, R 4 , R 5 , R 6 , R 71 and R 72 are as described later.)
And a catalyst that is a metal-ligand complex containing a compound represented by formula (4):
(式中、A1、A2、A3、A4、A5、Mおよびnは、後述の通りである。)
で表される安息香酸化合物の存在下で、酸化剤と反応させることにより、製造できることを見出した。本発明者はこの知見に基づき本発明を完成するに至った。
(In the formula, A 1 , A 2 , A 3 , A 4 , A 5 , M and n are as described later.)
It discovered that it could manufacture by making it react with an oxidizing agent in presence of the benzoic acid compound represented by these. The present inventor has completed the present invention based on this finding.
すなわち、本発明は、下記〔1〕から〔21〕項に記載の発明を提供することにより上記課題を解決したものである。 That is, the present invention solves the above problems by providing the inventions described in the following items [1] to [21].
〔1〕一般式(1): [1] General formula (1):
(式中、
R1が、C1〜C10アルキル基、
C3〜C6シクロアルキルC1〜C6アルキル基、ここで当該C3〜C6シクロアルキル基部分はハロゲン原子、C1〜C4アルキル基、C1〜C4アルコキシ基またはC1〜C4ハロアルキル基によりモノ置換またはポリ置換されていてもよい、
フェニルC1〜C6アルキル基、ここで当該フェニル基部分はハロゲン原子、C1〜C4アルキル基、C1〜C4アルコキシ基、C1〜C6ハロアルキル基、シアノ基またはニトロ基によりモノ置換またはポリ置換されていてもよい、
C1〜C4アルコキシC2〜C10アルキル基、
C1〜C4ハロアルコキシC2〜C10アルキル基、
C1〜C4アルキルチオC2〜C10アルキル基、
C1〜C4アルキルスルフィニルC2〜C10アルキル基、
C1〜C4アルキルスルホニルC2〜C10アルキル基、
C1〜C4ハロアルキルチオC2〜C10アルキル基、
C1〜C4ハロアルキルスルフィニルC2〜C10アルキル基、
C1〜C4ハロアルキルスルホニルC2〜C10アルキル基、
C1〜C6ハロアルキル基、
C3〜C6シクロアルキルC1〜C6ハロアルキル基、ここで当該C3〜C6シクロアルキル基部分はハロゲン原子、C1〜C4アルキル基、C1〜C4アルコキシ基またはC1〜C6ハロアルキル基によりモノ置換またはポリ置換されていてもよい、
フェニルC1〜C6ハロアルキル基、ここで当該フェニル基部分はハロゲン原子、C1〜C4アルキル基、C1〜C4アルコキシ基、C1〜C4ハロアルキル基、シアノ基またはニトロ基によりモノ置換またはポリ置換されていてもよい、または
C1〜C4ハロアルキルチオC1〜C6ハロアルキル基であり;
R2およびR3は、それぞれ独立して、水素原子、ハロゲン原子またはC1〜C4アルキル基である。)で表されるスルホキシド誘導体の製造方法であって、一般式(2):
(Where
R 1 is a C1-C10 alkyl group,
C3-C6 cycloalkyl C1-C6 alkyl group, wherein the C3-C6 cycloalkyl group moiety is mono- or poly-substituted by halogen atom, C1-C4 alkyl group, C1-C4 alkoxy group or C1-C4 haloalkyl group. May be
A phenyl C1-C6 alkyl group, wherein the phenyl group moiety may be mono- or poly-substituted by halogen atoms, C1-C4 alkyl groups, C1-C4 alkoxy groups, C1-C6 haloalkyl groups, cyano groups or nitro groups. Good,
A C1-C4 alkoxy C2-C10 alkyl group,
A C1-C4 haloalkoxy C2-C10 alkyl group,
A C1-C4 alkylthio C2-C10 alkyl group,
A C1-C4 alkylsulfinyl C2-C10 alkyl group,
A C1-C4 alkylsulfonyl C2-C10 alkyl group,
A C1-C4 haloalkylthio C2-C10 alkyl group,
A C1-C4 haloalkylsulfinyl C2-C10 alkyl group,
A C1-C4 haloalkylsulfonyl C2-C10 alkyl group,
A C1-C6 haloalkyl group,
C3-C6 cycloalkyl C1-C6 haloalkyl group, wherein the C3-C6 cycloalkyl group moiety is mono- or poly-substituted by halogen atom, C1-C4 alkyl group, C1-C4 alkoxy group or C1-C6 haloalkyl group. May be
A phenyl C1-C6 haloalkyl group, wherein the phenyl group moiety may be mono- or poly-substituted by halogen atoms, C1-C4 alkyl groups, C1-C4 alkoxy groups, C1-C4 haloalkyl groups, cyano groups or nitro groups. Or a C1-C4 haloalkylthio C1-C6 haloalkyl group;
R 2 and R 3 are each independently a hydrogen atom, a halogen atom or a C1-C4 alkyl group. ) A sulfoxide derivative represented by the general formula (2):
(式中、R1、R2およびR3は、上記で定義した通りである。)
で表されるスルフィド誘導体を、金属化合物および配位子としての一般式(3):
(Wherein R 1 , R 2 and R 3 are as defined above.)
A sulfide derivative represented by the general formula (3) as a metal compound and a ligand:
(式中、
R4およびR5は、それぞれ独立して、水素原子、ハロゲン原子、C1〜C6アルキル基、フェニルC1〜C6アルキル基、C6〜C10アリール基、シアノ基、ニトロ基またはC1〜C6アルコキシ基であり;
R6は、C1〜C4アルキル基、シアノ基、ニトロ基、カルボキシ基、C1〜C4アルコキシカルボニル基、C1〜C4アルキルカルボニル基、ヒドロキシC1〜C4アルキル基、C1〜C4アルコキシC1〜C4アルキル基、アミノC1〜C4アルキル基、シアノC1〜C4アルキル基、ニトロC1〜C4アルキル基、カルボキシC1〜C4アルキル基またはC1〜C4アルコキシカルボニルC1〜C4アルキル基であり;
R71およびR72は、それぞれ独立して、水素原子、C1〜C6アルキル基、フェニルC1〜C6アルキル基またはC6〜C10アリール基である。但し、R71およびR72は水素原子である場合を除く。)
で表される化合物を含む金属−配位子錯体である触媒、ならびに一般式(4):
(Where
R 4 and R 5 are each independently a hydrogen atom, a halogen atom, a C1-C6 alkyl group, a phenyl C1-C6 alkyl group, a C6-C10 aryl group, a cyano group, a nitro group, or a C1-C6 alkoxy group. ;
R 6 is a C1-C4 alkyl group, a cyano group, a nitro group, a carboxy group, a C1-C4 alkoxycarbonyl group, a C1-C4 alkylcarbonyl group, a hydroxy C1-C4 alkyl group, a C1-C4 alkoxy C1-C4 alkyl group, An amino C1-C4 alkyl group, a cyano C1-C4 alkyl group, a nitro C1-C4 alkyl group, a carboxy C1-C4 alkyl group or a C1-C4 alkoxycarbonyl C1-C4 alkyl group;
R 71 and R 72 are each independently a hydrogen atom, a C1-C6 alkyl group, a phenyl C1-C6 alkyl group, or a C6-C10 aryl group. However, the case where R 71 and R 72 are hydrogen atoms is excluded. )
And a catalyst that is a metal-ligand complex containing a compound represented by formula (4):
(式中、
A1がC1〜C2アルコキシ基であり;
A2が水素原子であり;
A3が水素原子またはC1〜C2アルコキシ基であり;
A4が水素原子であり;
A5がC1〜C2アルコキシ基であり;
Mは、水素原子、アルカリ金属原子またはアルカリ土類金属原子であり;そして
nは1または2である。)
で表される安息香酸化合物の存在下で、酸化剤と反応させることを特徴とする方法。
(Where
A 1 is a C1-C2 alkoxy group;
A 2 is a hydrogen atom;
A 3 is a hydrogen atom or a C1-C2 alkoxy group;
A 4 is a hydrogen atom;
A 5 is a C1-C2 alkoxy group;
M is a hydrogen atom, an alkali metal atom or an alkaline earth metal atom; and n is 1 or 2. )
And reacting with an oxidizing agent in the presence of a benzoic acid compound represented by the formula:
〔2〕R1が、C1〜C10アルキル基、
C3〜C6シクロアルキルC1〜C6アルキル基、ここで当該C3〜C6シクロアルキル基部分はハロゲン原子またはC1〜C4アルキル基によりモノ置換またはポリ置換されていてもよい、
フェニルC1〜C6アルキル基、ここで当該フェニル基部分はハロゲン原子またはC1〜C4アルキル基によりモノ置換またはポリ置換されていてもよい、
C1〜C4アルコキシC2〜C10アルキル基、
C1〜C4ハロアルコキシC2〜C10アルキル基、
C1〜C4アルキルチオC2〜C10アルキル基、
C1〜C4アルキルスルフィニルC2〜C10アルキル基、
C1〜C4アルキルスルホニルC2〜C10アルキル基、
C1〜C4ハロアルキルチオC2〜C10アルキル基、
C1〜C4ハロアルキルスルフィニルC2〜C10アルキル基、
C1〜C4ハロアルキルスルホニルC2〜C10アルキル基、
C1〜C6ハロアルキル基、
C3〜C6シクロアルキルC1〜C6ハロアルキル基、ここで当該C3〜C6シクロアルキル基部分はハロゲン原子またはC1〜C4アルキル基によりモノ置換またはポリ置換されていてもよい、または
フェニルC1〜C6ハロアルキル基、ここで当該フェニル基部分はハロゲン原子またはC1〜C4アルキル基によりモノ置換またはポリ置換されていてもよい、である、〔1〕に記載の方法。
[2] R 1 is a C1-C10 alkyl group,
A C3-C6 cycloalkyl C1-C6 alkyl group, wherein the C3-C6 cycloalkyl group moiety may be mono- or poly-substituted with a halogen atom or a C1-C4 alkyl group,
A phenyl C1-C6 alkyl group, wherein the phenyl group moiety may be mono- or poly-substituted with a halogen atom or a C1-C4 alkyl group,
A C1-C4 alkoxy C2-C10 alkyl group,
A C1-C4 haloalkoxy C2-C10 alkyl group,
A C1-C4 alkylthio C2-C10 alkyl group,
A C1-C4 alkylsulfinyl C2-C10 alkyl group,
A C1-C4 alkylsulfonyl C2-C10 alkyl group,
A C1-C4 haloalkylthio C2-C10 alkyl group,
A C1-C4 haloalkylsulfinyl C2-C10 alkyl group,
A C1-C4 haloalkylsulfonyl C2-C10 alkyl group,
A C1-C6 haloalkyl group,
A C3-C6 cycloalkyl C1-C6 haloalkyl group, wherein the C3-C6 cycloalkyl group moiety may be mono- or polysubstituted by a halogen atom or a C1-C4 alkyl group, or a phenyl C1-C6 haloalkyl group, The method according to [1], wherein the phenyl group moiety may be mono-substituted or poly-substituted with a halogen atom or a C1-C4 alkyl group.
〔3〕R1が、C1〜C10アルキル基、
C1〜C4アルコキシC2〜C10アルキル基、
C1〜C4ハロアルコキシC2〜C10アルキル基、
C1〜C4アルキルチオC2〜C10アルキル基、
C1〜C4アルキルスルフィニルC2〜C10アルキル基、
C1〜C4アルキルスルホニルC2〜C10アルキル基、
C1〜C4ハロアルキルチオC2〜C10アルキル基、
C1〜C4ハロアルキルスルフィニルC2〜C10アルキル基、
C1〜C4ハロアルキルスルホニルC2〜C10アルキル基、または
C1〜C6ハロアルコキシ基である、〔1〕に記載の方法。
[3] R 1 is a C1-C10 alkyl group,
A C1-C4 alkoxy C2-C10 alkyl group,
A C1-C4 haloalkoxy C2-C10 alkyl group,
A C1-C4 alkylthio C2-C10 alkyl group,
A C1-C4 alkylsulfinyl C2-C10 alkyl group,
A C1-C4 alkylsulfonyl C2-C10 alkyl group,
A C1-C4 haloalkylthio C2-C10 alkyl group,
A C1-C4 haloalkylsulfinyl C2-C10 alkyl group,
The method according to [1], which is a C1-C4 haloalkylsulfonyl C2-C10 alkyl group or a C1-C6 haloalkoxy group.
〔4〕R1がC1〜C4ハロアルキルチオC2〜C10アルキル基であり;そして
R2およびR3が、それぞれ独立して、ハロゲン原子またはC1〜C4アルキル基である、〔1〕に記載の方法。
[4] The method according to [ 1 ], wherein R 1 is a C1-C4 haloalkylthio C2-C10 alkyl group; and R 2 and R 3 are each independently a halogen atom or a C1-C4 alkyl group. .
〔5〕R1が5−トリフルオロメチルチオペンチル基または6−トリフルオロメチルチオヘキシル基であり;そして
R2がフッ素原子でありかつR3が塩素原子であるか、またはR2およびR3がメチル基である、〔1〕に記載の方法。
[5] R 1 is a 5-trifluoromethylthiopentyl group or 6-trifluoromethylthiohexyl group; and R 2 is a fluorine atom and R 3 is a chlorine atom, or R 2 and R 3 are methyl The method according to [1], which is a group.
〔6〕R1が5−トリフルオロメチルチオペンチル基であり;
R2がフッ素原子であり;そして
R3が塩素原子である、〔1〕に記載の方法。
[6] R 1 is a 5-trifluoromethylthiopentyl group;
The method according to [1], wherein R 2 is a fluorine atom; and R 3 is a chlorine atom.
〔7〕R1が6−トリフルオロメチルチオヘキシル基であり;そして
R2およびR3がメチル基である、〔1〕に記載の方法。
[7] The method according to [1], wherein R 1 is a 6-trifluoromethylthiohexyl group; and R 2 and R 3 are methyl groups.
〔8〕金属化合物が鉄化合物であり;
R4が水素原子であり;
R5が水素原子またはハロゲン原子であり;
R6がヒドロキシメチル基であり;そして
R71およびR72が、それぞれ独立して、水素原子またはC1〜C6アルキル基である(但し、R71およびR72は水素原子である場合を除く)、〔1〕〜〔7〕のいずれか1項に記載の方法。
[8] The metal compound is an iron compound;
R 4 is a hydrogen atom;
R 5 is a hydrogen atom or a halogen atom;
R 6 is a hydroxymethyl group; and R 71 and R 72 are each independently a hydrogen atom or a C1-C6 alkyl group (except when R 71 and R 72 are a hydrogen atom), [1] The method according to any one of [7].
〔9〕金属化合物が鉄化合物であり;
R4が水素原子であり;
R5が水素原子、塩素原子または臭素原子であり;
R6がヒドロキシメチル基であり;そして
R71がメチル基でありかつR72がメチル基であるか、またはR71が水素原子でありかつR72がイソプロピル基である、〔1〕〜〔7〕のいずれか1項に記載の方法。
[9] The metal compound is an iron compound;
R 4 is a hydrogen atom;
R 5 is a hydrogen atom, a chlorine atom or a bromine atom;
[1] to [7] wherein R 6 is a hydroxymethyl group; and R 71 is a methyl group and R 72 is a methyl group, or R 71 is a hydrogen atom and R 72 is an isopropyl group. ] The method of any one of these.
〔10〕金属化合物が鉄化合物であり;
R4が水素原子であり;
R5が水素原子または塩素原子であり;
R6がヒドロキシメチル基であり;そして
R71がメチル基でありかつR72がメチル基であるか、またはR71が水素原子でありかつR72がイソプロピル基である、〔1〕〜〔7〕のいずれか1項に記載の方法。
[10] The metal compound is an iron compound;
R 4 is a hydrogen atom;
R 5 is a hydrogen atom or a chlorine atom;
[1] to [7] wherein R 6 is a hydroxymethyl group; and R 71 is a methyl group and R 72 is a methyl group, or R 71 is a hydrogen atom and R 72 is an isopropyl group. ] The method of any one of these.
〔11〕金属化合物が鉄化合物であり;
R4が水素原子であり;
R5が水素原子であり;
R6がヒドロキシメチル基であり;
R71がメチル基であり;そして
R72がメチル基である、〔1〕〜〔7〕のいずれか1項に記載の方法。
[11] The metal compound is an iron compound;
R 4 is a hydrogen atom;
R 5 is a hydrogen atom;
R 6 is a hydroxymethyl group;
The method according to any one of [1] to [7], wherein R71 is a methyl group; and R72 is a methyl group.
〔12〕金属化合物が鉄化合物であり;
R4が水素原子であり;
R5が塩素原子であり;
R6がヒドロキシメチル基であり;
R71がメチル基であり;そして
R72がメチル基である、〔1〕〜〔7〕のいずれか1項に記載の方法。
[12] The metal compound is an iron compound;
R 4 is a hydrogen atom;
R 5 is a chlorine atom;
R 6 is a hydroxymethyl group;
The method according to any one of [1] to [7], wherein R71 is a methyl group; and R72 is a methyl group.
〔13〕Mがアルカリ金属原子であり;そして
nが1である、〔1〕〜〔12〕のいずれか1項に記載の方法。
[13] The method according to any one of [1] to [12], wherein M is an alkali metal atom; and n is 1.
〔14〕Mがナトリウム原子であり;そして
nが1である、〔1〕〜〔12〕のいずれか1項に記載の方法。
[14] The method according to any one of [1] to [12], wherein M is a sodium atom; and n is 1.
〔15〕A1がメトキシ基であり;
A2が水素原子であり;
A3が水素原子またはメトキシ基であり;
A4が水素原子であり;
A5がメトキシ基であり;
Mがナトリウム原子であり;そして
nが1である、〔1〕〜〔12〕のいずれか1項に記載の方法。
[15] A 1 is methoxy group;
A 2 is a hydrogen atom;
A 3 is a hydrogen atom or a methoxy group;
A 4 is a hydrogen atom;
A 5 is a methoxy group;
The method according to any one of [1] to [12], wherein M is a sodium atom; and n is 1.
〔16〕A1がメトキシ基であり;
A2が水素原子であり;
A3が水素原子であり;
A4が水素原子であり;
A5がメトキシ基であり;
Mがナトリウム原子であり;そして
nが1である、〔1〕〜〔12〕のいずれか1項に記載の方法。
[16] A 1 is methoxy group;
A 2 is a hydrogen atom;
A 3 is a hydrogen atom;
A 4 is a hydrogen atom;
A 5 is a methoxy group;
The method according to any one of [1] to [12], wherein M is a sodium atom; and n is 1.
〔17〕A1がメトキシ基であり;
A2が水素原子であり;
A3がメトキシ基であり;
A4が水素原子であり;
A5がメトキシ基であり;
Mがナトリウム原子であり;そして
nが1である、〔1〕〜〔12〕のいずれか1項に記載の方法。
[17] A 1 is methoxy group;
A 2 is a hydrogen atom;
A 3 is a methoxy group;
A 4 is a hydrogen atom;
A 5 is a methoxy group;
The method according to any one of [1] to [12], wherein M is a sodium atom; and n is 1.
〔18〕反応が−10℃〜30℃で行われる、〔1〕〜〔17〕のいずれか1項に記載の方法。 [18] The method according to any one of [1] to [17], wherein the reaction is performed at −10 ° C. to 30 ° C.
〔19〕反応が−5℃〜10℃で行われる、〔1〕〜〔17〕のいずれか1項に記載の方法。 [19] The method according to any one of [1] to [17], wherein the reaction is performed at −5 ° C. to 10 ° C.
〔20〕反応収率が90〜100%である、〔1〕〜〔19〕のいずれか1項に記載の方法。 [20] The method according to any one of [1] to [19], wherein the reaction yield is 90 to 100%.
〔21〕反応収率が95〜100%である、〔1〕〜〔19〕のいずれか1項に記載の方法。 [21] The method according to any one of [1] to [19], wherein the reaction yield is 95 to 100%.
本発明により、殺ダニ剤等として有用な上記一般式(1)で表されるスルホキシド誘導体の新規で工業的に適用できる製造方法が提供される。本発明によれば、従来技術における上記した1以上の欠点または問題を解決することができる、スルホキシド誘導体の製造方法が提供される。 The present invention provides a novel and industrially applicable production method for the sulfoxide derivative represented by the general formula (1) useful as an acaricide or the like. According to the present invention, there is provided a method for producing a sulfoxide derivative, which can solve one or more of the above-mentioned disadvantages or problems in the prior art.
本発明によれば、スルホン誘導体への過剰酸化を回避して、目的とするスルホキシド誘導体を選択的に製造することができる。同時に、目的とするスルホキシド誘導体を高い収率で製造することができる。 According to the present invention, the target sulfoxide derivative can be selectively produced while avoiding excessive oxidation to the sulfone derivative. At the same time, the desired sulfoxide derivative can be produced in high yield.
さらに、酸化剤としてメタクロロ過安息香酸を使用しないで、過酸化水素を使用するから、本発明は環境負荷を低減できる。 Furthermore, since hydrogen peroxide is used without using metachloroperbenzoic acid as an oxidizing agent, the present invention can reduce the environmental burden.
加えて、本発明の方法は、配位子としてのシッフ塩基のサリチルアルデヒド部分として、3,5−ジヨードサリチルアルデヒドのような前述の欠点を有するサリチルアルデヒド誘導体を必要としない。 In addition, the method of the present invention does not require a salicylaldehyde derivative having the aforementioned disadvantages such as 3,5-diiodosalicylaldehyde as the salicylaldehyde moiety of the Schiff base as the ligand.
したがって、本発明の方法は、工業的に好ましく、経済的であり、そして環境にも優しい。 Therefore, the method of the present invention is industrially favorable, economical and environmentally friendly.
以下、本発明について詳細に説明する。 Hereinafter, the present invention will be described in detail.
本発明による方法は、以下のスキーム: The method according to the invention comprises the following scheme:
(式中、R1、R2およびR3は、上記の〔1〕に記載の通りである。)
によって示される。
(In the formula, R 1 , R 2 and R 3 are as described in [1] above.)
Indicated by.
本明細書において用いられる用語および記号について以下に説明する。 Terms and symbols used in this specification will be described below.
ハロゲン原子とは、フッ素原子、塩素原子、臭素原子またはヨウ素原子である。生成物の有用性および経済性等の観点から、ハロゲン原子の好ましい例は、フッ素原子および塩素原子である。 The halogen atom is a fluorine atom, a chlorine atom, a bromine atom or an iodine atom. From the viewpoint of the usefulness and economics of the product, preferred examples of the halogen atom are a fluorine atom and a chlorine atom.
アルカリ金属原子の例は、リチウム原子、ナトリウム原子、カリウム原子、ルビジウム原子およびセシウム原子、好ましくはリチウム原子、ナトリウム原子、カリウム原子およびセシウム原子、より好ましくはリチウム原子、ナトリウム原子およびカリウム原子を含む。 Examples of the alkali metal atom include a lithium atom, a sodium atom, a potassium atom, a rubidium atom and a cesium atom, preferably a lithium atom, a sodium atom, a potassium atom and a cesium atom, more preferably a lithium atom, a sodium atom and a potassium atom.
アルカリ土類金属原子の例は、マグネシウム原子、カルシウム原子、ストロンチウム原子およびバリウム原子、好ましくはマグネシウム原子、カルシウム原子およびバリウム原子を含む。 Examples of alkaline earth metal atoms include magnesium, calcium, strontium and barium atoms, preferably magnesium, calcium and barium atoms.
「Ca〜Cb」とは、炭素原子数がa〜b個であることを意味する。例えば、「C1〜C4アルキル基」の「C1〜C4」とは、アルキル基の炭素原子数が1〜4であることを意味する。 “Ca to Cb” means that the number of carbon atoms is a to b. For example, “C1 to C4” of “C1 to C4 alkyl group” means that the alkyl group has 1 to 4 carbon atoms.
本明細書中、「アルキル」のような一般的用語は、ブチル及びtert−ブチルのような直鎖及び分岐鎖基の両方を含むと理解される。しかしながら、「ブチル基」のような具体的な用語が使用された場合は、これは「ノルマルブチル基」、すなわち「n−ブチル基」に対して特異的である。言い換えれば、具体的な用語「ブチル基」は直鎖基の「ノルマルブチル基」を意味し、そして「tert−ブチル」のような分岐鎖異性体は、意図した場合に具体的に言及される。もう一つの例としては、「ペンチルオキシ基」は直鎖基の「ノルマルペンチルオキシ基」を意味する。さらに別の例としては、「ヘキシルオキシ基」は直鎖基の「ノルマルヘキシルオキシ基」を意味する。 In this specification, generic terms such as “alkyl” are understood to include both straight and branched chain groups such as butyl and tert-butyl. However, when specific terms such as “butyl group” are used, this is specific for “normal butyl group”, ie “n-butyl group”. In other words, the specific term “butyl group” means a linear “normal butyl group” and branched isomers such as “tert-butyl” are specifically referred to when intended. . As another example, “pentyloxy group” means a linear “normal pentyloxy group”. As yet another example, “hexyloxy group” means a linear “normal hexyloxy group”.
接頭語「n−」、「s−」および「sec−」、「i−」、「t−」及び「tert−」、[neo−]、「c−」および「cyc−」、「o−」、「m−」、および「p−」は、それらの以下の通常の意味を有する:ノルマル、セカンダリー、イソ、ターシャリー、ネオ、シクロ、オルソ、メタ、およびパラ。 The prefixes “n−”, “s−” and “sec−”, “i−”, “t−” and “tert−”, [neo−], “c−” and “cyc−”, “o−” "," M- ", and" p- "have their usual meanings: normal, secondary, iso, tertiary, neo, cyclo, ortho, meta, and para.
本明細書中、以下の略語が使用されることがある:
「Me」はメチル基を意味する;
「Et」はエチル基を意味する;
「Pr」および「n−Pr」はプロピル基(すなわち、ノルマルプロピル基)を意味する;
「i−Pr」はイソプロピル基を意味する;
「Bu」および「n−Bu」はブチル基(すなわち、ノルマルブチル基)を意味する;
「s−Bu」はsec−ブチル基を意味する;
「i−Bu」はイソブチル基を意味する;
「t−Bu」はtert−ブチル基を意味する;
「Ph」はフェニル基を意味する;
「Bn」はベンジル基を意味する。
The following abbreviations may be used throughout the specification:
“Me” means methyl group;
“Et” means ethyl group;
“Pr” and “n-Pr” mean a propyl group (ie, a normal propyl group);
“I-Pr” means an isopropyl group;
“Bu” and “n-Bu” mean a butyl group (ie, a normal butyl group);
“S-Bu” means sec-butyl group;
“I-Bu” means an isobutyl group;
“T-Bu” means a tert-butyl group;
“Ph” means phenyl group;
“Bn” means a benzyl group.
本明細書中、用語「モノ置換されていてもよい」または「モノ置換」とは、対象となる官能基上の1個の水素原子が、指定された置換基から選択される置換基により置換されていることを意味する。 In the present specification, the term “optionally monosubstituted” or “monosubstituted” means that one hydrogen atom on a target functional group is substituted with a substituent selected from the specified substituents. Means that
本明細書中、用語「ポリ置換されていてもよい」または「ポリ置換」とは、対象となる官能基上の少なくとも2個の水素原子(例えば、一つの態様においては2個〜5個の水素原子、別の態様においては2個〜3個の水素原子)が、指定された置換基から独立して選択される同一または異なる置換基により置換されていることを意味する。 As used herein, the term “optionally polysubstituted” or “polysubstituted” refers to at least two hydrogen atoms (eg, 2 to 5 in one embodiment) on the functional group of interest. Means that the hydrogen atom, in another embodiment 2 to 3 hydrogen atoms) is substituted by the same or different substituents independently selected from the specified substituents.
本明細書において用いられる官能基の定義および例について以下に説明する。 Definitions and examples of functional groups used in the present specification will be described below.
C1〜C10アルキル基とは、1〜10個の炭素原子を有する直鎖または分岐鎖のアルキル基を意味する。 A C1-C10 alkyl group means a linear or branched alkyl group having 1 to 10 carbon atoms.
C1〜C10アルキル基の例は、
メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、
ブチル基、sec−ブチル基、イソブチル基、tert−ブチル基、
ペンチル基、ヘキシル基、へプチル基、オクチル基、ノニル基、デシル基等を含むが、これらに限定されるものではない。
Examples of C1-C10 alkyl groups are:
Methyl group, ethyl group, propyl group, isopropyl group,
Butyl group, sec-butyl group, isobutyl group, tert-butyl group,
Including, but not limited to, pentyl, hexyl, heptyl, octyl, nonyl, decyl and the like.
C2〜C10アルキル基とは、2〜10個の炭素原子を有する直鎖または分岐鎖のアルキル基を意味する。 A C2-C10 alkyl group means a linear or branched alkyl group having 2 to 10 carbon atoms.
C2〜C10アルキル基の例は、上記のC1〜C10アルキル基の例のうちの適切な例を含むが、これらに限定されるものではない。 Examples of C2 to C10 alkyl groups include, but are not limited to, suitable examples of the above examples of C1 to C10 alkyl groups.
C1〜C6アルキル基とは、1〜6個の炭素原子を有する直鎖または分岐鎖のアルキル基を意味する。 A C1-C6 alkyl group means a linear or branched alkyl group having 1 to 6 carbon atoms.
C1〜C6アルキル基の例は、上記のC1〜C10アルキル基の例のうちの適切な例を含むが、これらに限定されるものではない。 Examples of C1-C6 alkyl groups include, but are not limited to, suitable examples of the above examples of C1-C10 alkyl groups.
C1〜C4アルキル基とは、1〜4個の炭素原子を有する直鎖または分岐鎖のアルキル基を意味する。 The C1-C4 alkyl group means a linear or branched alkyl group having 1 to 4 carbon atoms.
C1〜C4アルキル基の例は、上記のC1〜C10アルキル基の例のうちの適切な例である。 Examples of C1-C4 alkyl groups are suitable examples of the above examples of C1-C10 alkyl groups.
C1〜C2アルキル基とは、1〜2個の炭素原子を有する直鎖のアルキル基を意味する。 A C1-C2 alkyl group means a linear alkyl group having 1-2 carbon atoms.
C1〜C2アルキル基の例は、メチル基およびエチル基である。 Examples of C1-C2 alkyl groups are methyl and ethyl groups.
ハロアルキル基とは、同一または異なる1以上のハロゲン原子により置換された直鎖または分岐鎖のアルキル基を意味する。 The haloalkyl group means a linear or branched alkyl group substituted with one or more halogen atoms which are the same or different.
C1〜C6ハロアルキル基とは、同一または異なる1〜13個のハロゲン原子により置換されている、炭素原子数が1〜6の直鎖または分岐鎖のアルキル基を意味する(ここで、ハロゲン原子は上記の定義と同じ意味を有する。)。 The C1-C6 haloalkyl group means a linear or branched alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, which is substituted with the same or different 1 to 13 halogen atoms (wherein the halogen atom is Has the same meaning as defined above).
C1〜C6ハロアルキル基の例は、
フルオロメチル基、ジフルオロメチル基、トリフルオロメチル基、クロロジフルオロメチル基、
2−フルオロエチル基、2−クロロエチル基、2−ブロモエチル基、2,2−ジフルオロエチル基、2,2,2−トリフルオロエチル基、ペンタフルオロエチル基、
3−フルオロプロピル基、3−クロロプロピル基、3−ブロモプロピル基、2,2,3,3,3−ペンタフルオロプロピル基、2,2,2−トリフルオロ−1−トリフルオロメチルエチル基、ヘプタフルオロプロピル基、1,2,2,2−テトラフルオロ−1−トリフルオロメチルエチル基、
4−フルオロブチル基、4−クロロブチル基、4−ブロモブチル基、2,2,3,3,4,4,4−へプタフルオロブチル基、
5−フルオロペンチル基、5−クロロペンチル基、5−ブロモペンチル基、5−ヨードペンチル基、
6−フルオロヘキシル基、6−クロロヘキシル基、6−ブロモヘキシル基、6−ヨードヘキシル基等を含むが、これらに限定されるものではない。
Examples of C1-C6 haloalkyl groups are
Fluoromethyl group, difluoromethyl group, trifluoromethyl group, chlorodifluoromethyl group,
2-fluoroethyl group, 2-chloroethyl group, 2-bromoethyl group, 2,2-difluoroethyl group, 2,2,2-trifluoroethyl group, pentafluoroethyl group,
3-fluoropropyl group, 3-chloropropyl group, 3-bromopropyl group, 2,2,3,3,3-pentafluoropropyl group, 2,2,2-trifluoro-1-trifluoromethylethyl group, Heptafluoropropyl group, 1,2,2,2-tetrafluoro-1-trifluoromethylethyl group,
4-fluorobutyl group, 4-chlorobutyl group, 4-bromobutyl group, 2,2,3,3,4,4,4-heptafluorobutyl group,
5-fluoropentyl group, 5-chloropentyl group, 5-bromopentyl group, 5-iodopentyl group,
Examples include, but are not limited to, 6-fluorohexyl group, 6-chlorohexyl group, 6-bromohexyl group, 6-iodohexyl group and the like.
C1〜C4ハロアルキル基とは、同一または異なる1〜9個のハロゲン原子により置換されている、炭素原子数が1〜4の直鎖または分岐鎖のアルキル基を意味する(ここで、ハロゲン原子は上記の定義と同じ意味を有する。)。 The C1-C4 haloalkyl group means a linear or branched alkyl group having 1 to 4 carbon atoms, which is substituted with the same or different 1 to 9 halogen atoms (wherein the halogen atom is Has the same meaning as defined above).
C1〜C4ハロアルキル基の例は、上記のC1〜C6ハロアルキル基の例のうちの適切な例を含むが、これらに限定されるものではない。 Examples of C1-C4 haloalkyl groups include, but are not limited to, suitable examples of the above examples of C1-C6 haloalkyl groups.
C1〜C6アルコキシ基とは、(C1〜C6アルキル)−O−基を意味する(ここで、C1〜C6アルキル基部分は上記の定義と同じ意味を有する。)。 A C1-C6 alkoxy group means a (C1-C6 alkyl) -O- group (wherein the C1-C6 alkyl group moiety has the same meaning as defined above).
C1〜C6アルコキシ基の例は、メトキシ基、エトキシ基、プロポキシ基、イソプロポキシ基、
ブトキシ基、sec−ブトキシ基、イソブトキシ基、tert−ブトキシ基、
ペンチルオキシ基、イソペンチルオキシ基、ヘキシルオキシ基、イソヘキシルオキシ基等を含むが、これらに限定されるものではない。
Examples of C1-C6 alkoxy groups are methoxy, ethoxy, propoxy, isopropoxy,
Butoxy group, sec-butoxy group, isobutoxy group, tert-butoxy group,
Including, but not limited to, a pentyloxy group, an isopentyloxy group, a hexyloxy group, an isohexyloxy group, and the like.
C1〜C4アルコキシ基とは、(C1〜C4アルキル)−O−基を意味する(ここで、C1〜C4アルキル基は上記の定義と同じ意味を有する。)。 A C1-C4 alkoxy group means a (C1-C4 alkyl) -O- group (wherein the C1-C4 alkyl group has the same meaning as defined above).
C1〜C4アルコキシ基の例は、上記のC1〜C6アルコキシ基の例のうちの適切な例である。 Examples of C1-C4 alkoxy groups are suitable examples of the above examples of C1-C6 alkoxy groups.
C1〜C2アルコキシ基とは、(C1〜C2アルキル)−O−基を意味する(ここで、C1〜C2アルキル基は上記の定義と同じ意味を有する。)。 A C1-C2 alkoxy group means a (C1-C2 alkyl) -O- group (wherein the C1-C2 alkyl group has the same meaning as defined above).
C1〜C2アルコキシ基の例は、メトキシ基およびエトキシ基である。 Examples of C1-C2 alkoxy groups are methoxy and ethoxy groups.
C1〜C6ハロアルコキシ基とは、(C1〜C6ハロアルキル)−O−基を意味する(ここで、C1〜C6ハロアルキル基部分は上記と同じ意味を有する。)。 A C1-C6 haloalkoxy group means a (C1-C6 haloalkyl) -O- group (wherein the C1-C6 haloalkyl group moiety has the same meaning as described above).
C1〜C6ハロアルコキシ基の例は、
フルオロメトキシ基、ジフルオロメトキシ基、トリフルオロメトキシ基、クロロジフルオロメトキシ基、
2−フルオロエトキシ基、2−クロロエトキシ基、2−ブロモエトキシ基、2,2−ジフルオロエトキシ基、2,2,2−トリフルオロエトキシ基、ペンタフルオロエトキシ基、
3−フルオロプロポキシ基、3−クロロプロポキシ基、3−ブロモプロポキシ基、2,2,3,3,3−ペンタフルオロプロポキシ基、2,2,2−トリフルオロ−1−トリフルオロメチルエトキシ基、ヘプタフルオロプロポキシ基、1,2,2,2−テトラフルオロ−1−トリフルオロメチルエトキシ基、
4−フルオロブトキシ基、4−クロロブトキシ基、4−ブロモブトキシ基、2,2,3,3,4,4,4−へプタフルオロブトキシ基、
5−フルオロペンチルオキシ基、5−クロロペンチルオキシ基、5−ブロモペンチルオキシ基、5−ヨードペンチルオキシ基、
6−フルオロヘキシルオキシ基、6−クロロヘキシルオキシ基、6−ブロモヘキシルオキシ基、6−ヨードヘキシルオキシ基等を含むが、これらに限定されるものではない。
Examples of C1-C6 haloalkoxy groups are
Fluoromethoxy group, difluoromethoxy group, trifluoromethoxy group, chlorodifluoromethoxy group,
2-fluoroethoxy group, 2-chloroethoxy group, 2-bromoethoxy group, 2,2-difluoroethoxy group, 2,2,2-trifluoroethoxy group, pentafluoroethoxy group,
3-fluoropropoxy group, 3-chloropropoxy group, 3-bromopropoxy group, 2,2,3,3,3-pentafluoropropoxy group, 2,2,2-trifluoro-1-trifluoromethylethoxy group, Heptafluoropropoxy group, 1,2,2,2-tetrafluoro-1-trifluoromethylethoxy group,
4-fluorobutoxy group, 4-chlorobutoxy group, 4-bromobutoxy group, 2,2,3,3,4,4,4-heptafluorobutoxy group,
5-fluoropentyloxy group, 5-chloropentyloxy group, 5-bromopentyloxy group, 5-iodopentyloxy group,
Including, but not limited to, 6-fluorohexyloxy group, 6-chlorohexyloxy group, 6-bromohexyloxy group, 6-iodohexyloxy group and the like.
C1〜C4ハロアルコキシ基とは、(C1〜C4ハロアルキル)−O−基を意味する(ここで、C1〜C4ハロアルキル基部分は上記と同じ意味を有する。)。 A C1-C4 haloalkoxy group means a (C1-C4 haloalkyl) -O- group (wherein the C1-C4 haloalkyl group moiety has the same meaning as described above).
C1〜C4ハロアルコキシ基の例は、
フルオロメトキシ基、ジフルオロメトキシ基、トリフルオロメトキシ基、クロロジフルオロメトキシ基、
2−フルオロエトキシ基、2−クロロエトキシ基、2,2,2−トリフルオロエトキシ基、ペンタフルオロエトキシ基、
3−フルオロプロポキシ基、3−クロロプロポキシ基、2,2,3,3,3−ペンタフルオロプロポキシ基、ヘプタフルオロプロポキシ基、2,2,2−トリフルオロ−1−トリフルオロメチルエトキシ基、
4−フルオロブトキシ基、2,2,3,3,4,4,4−へプタフルオロブトキシ基等を含むが、これらに限定されるものではない。
Examples of C1-C4 haloalkoxy groups are
Fluoromethoxy group, difluoromethoxy group, trifluoromethoxy group, chlorodifluoromethoxy group,
2-fluoroethoxy group, 2-chloroethoxy group, 2,2,2-trifluoroethoxy group, pentafluoroethoxy group,
3-fluoropropoxy group, 3-chloropropoxy group, 2,2,3,3,3-pentafluoropropoxy group, heptafluoropropoxy group, 2,2,2-trifluoro-1-trifluoromethylethoxy group,
Including, but not limited to, 4-fluorobutoxy group, 2,2,3,3,4,4,4-heptafluorobutoxy group and the like.
C1〜C4アルキルチオ基とは、(C1〜C4アルキル)−S−基を意味する(ここで、C1〜C4アルキル基部分は上記と同じ意味を有する。)。 A C1-C4 alkylthio group means a (C1-C4 alkyl) -S- group (wherein the C1-C4 alkyl group moiety has the same meaning as described above).
C1〜C4アルキルチオ基の例は、メチルチオ基、エチルチオ基、プロピルチオ基、イソプロピルチオ基、ブチルチオ基、sec−ブチルチオ基、イソブチルチオ基、tert−ブチルチオ基を含む。 Examples of the C1-C4 alkylthio group include a methylthio group, an ethylthio group, a propylthio group, an isopropylthio group, a butylthio group, a sec-butylthio group, an isobutylthio group, and a tert-butylthio group.
C1〜C4ハロアルキルチオ基とは、(C1〜C4ハロアルキル)−S−基を意味する(ここで、C1〜C4ハロアルキル基部分は上記と同じ意味を有する。)。 A C1-C4 haloalkylthio group means a (C1-C4 haloalkyl) -S- group (wherein the C1-C4 haloalkyl group moiety has the same meaning as described above).
C1〜C4ハロアルキルチオ基の例は、
フルオロメチルチオ基、ジフルオロメチルチオ基、トリフルオロメチルチオ基、クロロジフルオロメチルチオ基、
2−フルオロエチルチオ基、2−クロロエチルチオ基、2,2,2−トリフルオロエチルチオ基、ペンタフルオロエチルチオ基、
3−フルオロプロピルチオ基、3−クロロプロピルチオ基、2,2,3,3,3−ペンタフルオロプロピルチオ基、ヘプタフルオロプロピルチオ基、2,2,2−トリフルオロ−1−トリフルオロメチルエチルチオ基、
4−フルオロブチルチオ基、2,2,3,3,4,4,4−へプタフルオロブチルチオ基等を含むが、これらに限定されるものではない。
Examples of C1-C4 haloalkylthio groups are:
Fluoromethylthio group, difluoromethylthio group, trifluoromethylthio group, chlorodifluoromethylthio group,
2-fluoroethylthio group, 2-chloroethylthio group, 2,2,2-trifluoroethylthio group, pentafluoroethylthio group,
3-fluoropropylthio group, 3-chloropropylthio group, 2,2,3,3,3-pentafluoropropylthio group, heptafluoropropylthio group, 2,2,2-trifluoro-1-trifluoromethyl An ethylthio group,
Including, but not limited to, 4-fluorobutylthio group, 2,2,3,3,4,4,4-heptafluorobutylthio group and the like.
C1〜C4アルキルスルフィニル基とは、(C1〜C4アルキル)−SO−基を意味する(ここで、C1〜C4アルキル基部分は上記と同じ意味を有する。)。 The C1-C4 alkylsulfinyl group means a (C1-C4 alkyl) -SO- group (wherein the C1-C4 alkyl group portion has the same meaning as described above).
C1〜C4アルキルスルフィニル基の例は、メチルスルフィニル基、エチルスルフィニル基、プロピルスルフィニル基、イソプロピルスルフィニル基、ブチルスルフィニル基、sec−ブチルスルフィニル基、イソブチルスルフィニル基、tert−ブチルスルフィニル基を含む。 Examples of the C1-C4 alkylsulfinyl group include a methylsulfinyl group, an ethylsulfinyl group, a propylsulfinyl group, an isopropylsulfinyl group, a butylsulfinyl group, a sec-butylsulfinyl group, an isobutylsulfinyl group, and a tert-butylsulfinyl group.
C1〜C4ハロアルキルスルフィニル基とは、(C1〜C4ハロアルキル)−SO−基を意味する(ここで、C1〜C4ハロアルキル基部分は上記と同じ意味を有する。)。 A C1-C4 haloalkylsulfinyl group means a (C1-C4 haloalkyl) -SO- group (wherein the C1-C4 haloalkyl group portion has the same meaning as described above).
C1〜C4ハロアルキルスルフィニル基の例は、
フルオロメチルスルフィニル基、ジフルオロメチルスルフィニル基、トリフルオロメチルスルフィニル基、クロロジフルオロメチルスルフィニル基、
2−フルオロエチルスルフィニル基、2−クロロエチルスルフィニル基、2,2,2−トリフルオロエチルスルフィニル基、ペンタフルオロエチルスルフィニル基、
3−フルオロプロピルスルフィニル基、3−クロロプロピルスルフィニル基、2,2,3,3,3−ペンタフルオロプロピルスルフィニル基、ヘプタフルオロプロピルスルフィニル基、2,2,2−トリフルオロ−1−トリフルオロメチルエチルスルフィニル基、
4−フルオロブチルスルフィニル基、2,2,3,3,4,4,4−へプタフルオロブチルスルフィニル基等を含むが、これらに限定されるものではない。
Examples of C1-C4 haloalkylsulfinyl groups are
Fluoromethylsulfinyl group, difluoromethylsulfinyl group, trifluoromethylsulfinyl group, chlorodifluoromethylsulfinyl group,
2-fluoroethylsulfinyl group, 2-chloroethylsulfinyl group, 2,2,2-trifluoroethylsulfinyl group, pentafluoroethylsulfinyl group,
3-fluoropropylsulfinyl group, 3-chloropropylsulfinyl group, 2,2,3,3,3-pentafluoropropylsulfinyl group, heptafluoropropylsulfinyl group, 2,2,2-trifluoro-1-trifluoromethyl An ethylsulfinyl group,
Including, but not limited to, 4-fluorobutylsulfinyl group, 2,2,3,3,4,4,4-heptafluorobutylsulfinyl group and the like.
C1〜C4アルキルスルホニル基とは、(C1〜C4アルキル)−SO2−基を意味する(ここで、C1〜C4アルキル基部分は上記と同じ意味を有する。)。 The C1 -C4 alkylsulfonyl group, (C1 -C4 alkyl) -SO 2 - means a group (here, C1 -C4 alkyl moiety has the same meaning as above.).
C1〜C4アルキルスルホニル基の例は、メチルスルホニル基、エチルスルホニル基、プロピルスルホニル基、イソプロピルスルホニル基、ブチルスルホニル基、sec−ブチルスルホニル基、イソブチルスルホニル基、tert−ブチルスルホニル基を含む。 Examples of the C1-C4 alkylsulfonyl group include a methylsulfonyl group, an ethylsulfonyl group, a propylsulfonyl group, an isopropylsulfonyl group, a butylsulfonyl group, a sec-butylsulfonyl group, an isobutylsulfonyl group, and a tert-butylsulfonyl group.
C1〜C4ハロアルキルスルホニル基とは、(C1〜C4ハロアルキル)−SO2−基を意味する(ここで、C1〜C4ハロアルキル基部分は上記と同じ意味を有する。)。 The C1 -C4 haloalkylsulfonyl group, (C1 -C4 haloalkyl) -SO 2 - means a group (here, C1 -C4 haloalkyl moiety has the same meaning as above.).
C1〜C4ハロアルキルスルホニル基の例は、
フルオロメチルスルホニル基、ジフルオロメチルスルホニル基、トリフルオロメチルスルホニル基、クロロジフルオロメチルスルホニル基、
2−フルオロエチルスルホニル基、2−クロロエチルスルホニル基、2,2,2−トリフルオロエチルスルホニル基、ペンタフルオロエチルスルホニル基、
3−フルオロプロピルスルホニル基、3−クロロプロピルスルホニル基、2,2,3,3,3−ペンタフルオロプロピルスルホニル基、ヘプタフルオロプロピルスルホニル基、2,2,2−トリフルオロ−1−トリフルオロメチルエチルスルホニル基、
4−フルオロブチルスルホニル基、2,2,3,3,4,4,4−へプタフルオロブチルスルホニル基等を含むが、これらに限定されるものではない。
Examples of C1-C4 haloalkylsulfonyl groups are
Fluoromethylsulfonyl group, difluoromethylsulfonyl group, trifluoromethylsulfonyl group, chlorodifluoromethylsulfonyl group,
2-fluoroethylsulfonyl group, 2-chloroethylsulfonyl group, 2,2,2-trifluoroethylsulfonyl group, pentafluoroethylsulfonyl group,
3-fluoropropylsulfonyl group, 3-chloropropylsulfonyl group, 2,2,3,3,3-pentafluoropropylsulfonyl group, heptafluoropropylsulfonyl group, 2,2,2-trifluoro-1-trifluoromethyl An ethylsulfonyl group,
Including, but not limited to, 4-fluorobutylsulfonyl group, 2,2,3,3,4,4,4-heptafluorobutylsulfonyl group and the like.
C3〜C6シクロアルキル基とは、3〜6個の炭素原子を有するシクロアルキル基を意味する。 A C3-C6 cycloalkyl group means a cycloalkyl group having 3-6 carbon atoms.
C3〜C6シクロアルキル基の例は、シクロプロピル基、シクロブチル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基等を含むが、これらに限定されるものではない。 Examples of C3-C6 cycloalkyl groups include, but are not limited to, cyclopropyl groups, cyclobutyl groups, cyclopentyl groups, cyclohexyl groups, and the like.
C3〜C6シクロアルキルC1〜C6アルキル基とは、C3〜C6シクロアルキル基により置換されたC1〜C6アルキル基を意味する(ここで、C3〜C6シクロアルキル基部分およびC1〜C6アルキル基部分は上記の定義と同じ意味を有する。)。 C3-C6 cycloalkyl C1-C6 alkyl group means a C1-C6 alkyl group substituted by a C3-C6 cycloalkyl group (wherein the C3-C6 cycloalkyl group moiety and the C1-C6 alkyl group moiety are Has the same meaning as defined above).
C3〜C6シクロアルキルC1〜C6アルキル基の例は、
シクロプロピルメチル基、2−シクロプロピルエチル基、3−シクロプロピルプロピル基、4−シクロプロピルブチル基、5−シクロプロピルペンチル基、6−シクロプロピルヘキシル基、
シクロブチルメチル基、シクロペンチルメチル基、シクロヘキシルメチル基、2−シクロヘキシルエチル基等を含むが、これらに限定されるものではない。
Examples of C3-C6 cycloalkyl C1-C6 alkyl groups are:
Cyclopropylmethyl group, 2-cyclopropylethyl group, 3-cyclopropylpropyl group, 4-cyclopropylbutyl group, 5-cyclopropylpentyl group, 6-cyclopropylhexyl group,
Including, but not limited to, cyclobutylmethyl group, cyclopentylmethyl group, cyclohexylmethyl group, 2-cyclohexylethyl group and the like.
「C3〜C6シクロアルキルC1〜C6アルキル基、ここで当該C3〜C6シクロアルキル基部分はハロゲン原子、C1〜C4アルキル基、C1〜C4アルコキシ基またはC1〜C4ハロアルキル基によりモノ置換またはポリ置換されていてもよい」の例は、
上記のC3〜C6シクロアルキルC1〜C6アルキル基の例、および
2−(2,2−ジフルオロシクロプロピル)エチル基、2−(4,4−ジフルオロシクロへキシル)エチル基、2−(4−tert−ブチルシクロへキシル)エチル基、2−(4−メトキシシクロへキシル)エチル基、2−(4−トリフルオロメチルシクロへキシル)エチル基、
3−(2,2−ジフルオロシクロプロピル)プロピル基、4−(2,2−ジフルオロシクロプロピル)ブチル基等を含むが、これらに限定されるものではない。
“C3-C6 cycloalkyl C1-C6 alkyl group, wherein the C3-C6 cycloalkyl group moiety is mono- or poly-substituted by halogen atom, C1-C4 alkyl group, C1-C4 alkoxy group or C1-C4 haloalkyl group An example of `` may be ''
Examples of the above C3-C6 cycloalkyl C1-C6 alkyl group, and 2- (2,2-difluorocyclopropyl) ethyl group, 2- (4,4-difluorocyclohexyl) ethyl group, 2- (4- tert-butylcyclohexyl) ethyl group, 2- (4-methoxycyclohexyl) ethyl group, 2- (4-trifluoromethylcyclohexyl) ethyl group,
Including, but not limited to, 3- (2,2-difluorocyclopropyl) propyl group, 4- (2,2-difluorocyclopropyl) butyl group and the like.
「C3〜C6シクロアルキルC1〜C6アルキル基、ここで当該C3〜C6シクロアルキル基部分はハロゲン原子またはC1〜C4アルキル基によりモノ置換またはポリ置換されていてもよい」の例は、上記の例のうちの適切な例を含むが、これらに限定されるものではない。 Examples of “C3-C6 cycloalkyl C1-C6 alkyl group, wherein the C3-C6 cycloalkyl group moiety may be mono-substituted or poly-substituted by a halogen atom or a C1-C4 alkyl group” are the above examples. Suitable examples are included, but are not limited to these.
フェニルC1〜C6アルキル基とは、フェニルにより置換されたC1〜C6アルキル基を意味する(ここで、C1〜C6アルキル基部分は上記の定義と同じ意味を有する。)。 The phenyl C1-C6 alkyl group means a C1-C6 alkyl group substituted by phenyl (wherein the C1-C6 alkyl group portion has the same meaning as defined above).
フェニルC1〜C6アルキル基の例は、ベンジル基、1−フェニルエチル基、2−フェニルエチル基、3−フェニルプロピル基、4−フェニルブチル基、5−フェニルペンチル基、6−フェニルヘキシル基等を含むが、これらに限定されるものではない。 Examples of phenyl C1-C6 alkyl groups include benzyl, 1-phenylethyl, 2-phenylethyl, 3-phenylpropyl, 4-phenylbutyl, 5-phenylpentyl, 6-phenylhexyl and the like. Including, but not limited to.
「フェニルC1〜C6アルキル基、ここで当該フェニル基部分はハロゲン原子、C1〜C4アルキル基、C1〜C4アルコキシ基、C1〜C6ハロアルキル基、シアノ基、ニトロ基によりモノ置換またはポリ置換されていてもよい」の例は、
上記のフェニルC1〜C6アルキル基の例、および
2−(4−フルオロフェニル)エチル基、2−(3,4,5−トリフルオロフェニル)エチル基、2−(4−メチルフェニル)エチル基、2−(4−メトキシフェニル)エチル基、2−(4−トリフルオロメチルフェニル)エチル基、2−(4−シアノフェニル)エチル基、2−(4−ニトロフェニル)エチル基、
3−(4−フルオロフェニル)プロピル基、4−(4−フルオロフェニル)ブチル基、5−(4−フルオロフェニル)ペンチル基等を含むが、これらに限定されるものではない。
“Phenyl C1-C6 alkyl group, wherein the phenyl group moiety is mono- or poly-substituted by halogen atom, C1-C4 alkyl group, C1-C4 alkoxy group, C1-C6 haloalkyl group, cyano group, nitro group An example of
Examples of the above phenyl C1-C6 alkyl group, and 2- (4-fluorophenyl) ethyl group, 2- (3,4,5-trifluorophenyl) ethyl group, 2- (4-methylphenyl) ethyl group, 2- (4-methoxyphenyl) ethyl group, 2- (4-trifluoromethylphenyl) ethyl group, 2- (4-cyanophenyl) ethyl group, 2- (4-nitrophenyl) ethyl group,
Including, but not limited to, 3- (4-fluorophenyl) propyl group, 4- (4-fluorophenyl) butyl group, 5- (4-fluorophenyl) pentyl group and the like.
「フェニルC1〜C6アルキル基、ここで当該フェニル基部分はハロゲン原子またはC1〜C4アルキル基によりモノ置換またはポリ置換されていてもよい」の例は、上記の例のうちの適切な例を含むが、これらに限定されるものではない。 Examples of “phenyl C1-C6 alkyl group, wherein the phenyl group moiety may be mono- or poly-substituted by a halogen atom or a C1-C4 alkyl group” include suitable examples of the above examples However, it is not limited to these.
C3〜C6シクロアルキルC1〜C6ハロアルキル基とは、C3〜C6シクロアルキル基により置換されたC1〜C6ハロアルキル基を意味する(ここで、C3〜C6シクロアルキル基部分およびC1〜C6ハロアルキル基部分は上記の定義と同じ意味を有する。)。 C3-C6 cycloalkyl C1-C6 haloalkyl group means a C1-C6 haloalkyl group substituted by a C3-C6 cycloalkyl group (wherein the C3-C6 cycloalkyl group moiety and the C1-C6 haloalkyl group moiety are Has the same meaning as defined above).
C3〜C6シクロアルキルC1〜C6ハロアルキル基の例は、
2−シクロプロピル−2,2−ジフルオロエチル基、3−シクロプロピル−3,3−ジフルオロプロピル基、4−シクロプロピル−4,4−ジフルオロブチル基、5−シクロプロピル−5,5−ジフルオロペンチル基、6−シクロプロピル−6,6−ジフルオロヘキシル基、
2−シクロブチル−2,2−ジフルオロエチル基、2−シクロペンチル−2,2−ジフルオロエチル基、2−シクロヘキシル−2,2−ジフルオロエチル基等を含むが、これらに限定されるものではない。
Examples of C3-C6 cycloalkyl C1-C6 haloalkyl groups are:
2-cyclopropyl-2,2-difluoroethyl group, 3-cyclopropyl-3,3-difluoropropyl group, 4-cyclopropyl-4,4-difluorobutyl group, 5-cyclopropyl-5,5-difluoropentyl Group, 6-cyclopropyl-6,6-difluorohexyl group,
Including, but not limited to, 2-cyclobutyl-2,2-difluoroethyl group, 2-cyclopentyl-2,2-difluoroethyl group, 2-cyclohexyl-2,2-difluoroethyl group and the like.
「C3〜C6シクロアルキルC1〜C6ハロアルキル基、ここで当該C3〜C6シクロアルキル基部分はハロゲン原子、C1〜C4アルキル基、C1〜C4アルコキシ基、C1〜C4ハロアルキル基によりモノ置換またはポリ置換されていてもよい」の例は、
上記のC3〜C6シクロアルキルC1〜C6ハロアルキル基の例、および
2−(2,2−ジフルオロシクロプロピル)−2,2−ジフルオロエチル基、2−(4,4−ジフルオロシクロへキシル)−2,2−ジフルオロエチル基、2−(4−tert−ブチルシクロへキシル)−2,2−ジフルオロエチル基、2−(4−メトキシシクロへキシル)−2,2−ジフルオロエチル基、2−(4−トリフルオロメチルシクロへキシル)−2,2−ジフルオロエチル基、
3−(2,2−ジフルオロシクロプロピル)−3,3−ジフルオロプロピル基、4−(2,2−ジフルオロシクロプロピル)−4,4−ジフルオロブチル基等を含むが、これらに限定されるものではない。
"C3-C6 cycloalkyl C1-C6 haloalkyl group, wherein the C3-C6 cycloalkyl group moiety is mono- or poly-substituted by halogen atom, C1-C4 alkyl group, C1-C4 alkoxy group, C1-C4 haloalkyl group An example of `` may be ''
Examples of the above C3-C6 cycloalkyl C1-C6 haloalkyl groups, and 2- (2,2-difluorocyclopropyl) -2,2-difluoroethyl groups, 2- (4,4-difluorocyclohexyl) -2 , 2-difluoroethyl group, 2- (4-tert-butylcyclohexyl) -2,2-difluoroethyl group, 2- (4-methoxycyclohexyl) -2,2-difluoroethyl group, 2- (4 -Trifluoromethylcyclohexyl) -2,2-difluoroethyl group,
Including, but not limited to, 3- (2,2-difluorocyclopropyl) -3,3-difluoropropyl group, 4- (2,2-difluorocyclopropyl) -4,4-difluorobutyl group is not.
「C3〜C6シクロアルキルC1〜C6ハロアルキル基、ここで当該C3〜C6シクロアルキル基部分はハロゲン原子またはC1〜C4アルキル基によりモノ置換またはポリ置換されていてもよい」の例は、上記の例のうちの適切な例を含むが、これらに限定されるものではない。 Examples of “C3-C6 cycloalkyl C1-C6 haloalkyl group, wherein the C3-C6 cycloalkyl group moiety may be mono- or poly-substituted by a halogen atom or a C1-C4 alkyl group” are the above examples. Suitable examples are included, but are not limited to these.
フェニルC1〜C6ハロアルキル基とは、フェニルにより置換されたC1〜C6ハロアルキル基を意味する(ここで、C1〜C6ハロアルキル基部分は上記の定義と同じ意味を有する。)。 The phenyl C1-C6 haloalkyl group means a C1-C6 haloalkyl group substituted by phenyl (wherein the C1-C6 haloalkyl group portion has the same meaning as defined above).
フェニルC1〜C6ハロアルキル基の例は、2−フェニル−2,2−ジフルオロエチル基、3−フェニル−3,3−ジフルオロプロピル基、4−フェニル−4,4−ジフルオロブチル基、5−フェニル−5,5−ジフルオロペンチル基等を含むが、これらに限定されるものではない。 Examples of phenyl C1-C6 haloalkyl groups are 2-phenyl-2,2-difluoroethyl group, 3-phenyl-3,3-difluoropropyl group, 4-phenyl-4,4-difluorobutyl group, 5-phenyl- Including, but not limited to, a 5,5-difluoropentyl group.
「フェニルC1〜C6ハロアルキル基、ここで当該フェニル基部分はハロゲン原子、C1〜C4アルキル基、C1〜C4アルコキシ基、C1〜C6ハロアルキル基、シアノ基、ニトロ基によりモノ置換またはポリ置換されていてもよい」の例は、
上記のフェニルC1〜C6ハロアルキル基の例、および
2−(4−フルオロフェニル)−2,2−ジフルオロエチル基、2−(3,4,5−トリフルオロフェニル)−2,2−ジフルオロエチル基、2−(4−メチルフェニル)−2,2−ジフルオロエチル基、2−(4−メトキシフェニル)−2,2−ジフルオロエチル基、2−(4−トリフルオロメチルフェニル)−2,2−ジフルオロエチル基、2−(4−シアノフェニル)−2,2−ジフルオロエチル基、2−(4−ニトロフェニル)−2,2−ジフルオロエチル基、
3−(4−フルオロフェニル)−3,3−ジフルオロプロピル基、4−(4−フルオロフェニル)−4,4−ジフルオロブチル基、5−(4−フルオロフェニル)−5,5−ジフルオロペンチル基等を含むが、これらに限定されるものではない。
"Phenyl C1-C6 haloalkyl group, wherein the phenyl group moiety is mono- or poly-substituted by halogen atom, C1-C4 alkyl group, C1-C4 alkoxy group, C1-C6 haloalkyl group, cyano group, nitro group An example of
Examples of the above phenyl C1-C6 haloalkyl group, and 2- (4-fluorophenyl) -2,2-difluoroethyl group, 2- (3,4,5-trifluorophenyl) -2,2-difluoroethyl group 2- (4-methylphenyl) -2,2-difluoroethyl group, 2- (4-methoxyphenyl) -2,2-difluoroethyl group, 2- (4-trifluoromethylphenyl) -2,2- Difluoroethyl group, 2- (4-cyanophenyl) -2,2-difluoroethyl group, 2- (4-nitrophenyl) -2,2-difluoroethyl group,
3- (4-fluorophenyl) -3,3-difluoropropyl group, 4- (4-fluorophenyl) -4,4-difluorobutyl group, 5- (4-fluorophenyl) -5,5-difluoropentyl group However, it is not limited to these.
「フェニルC1〜C6ハロアルキル基、ここで当該フェニル基部分はハロゲン原子またはC1〜C4アルキル基によりモノ置換またはポリ置換されていてもよい」の例は、上記の例のうちの適切な例を含むが、これらに限定されるものではない。 Examples of “phenyl C1-C6 haloalkyl groups, where the phenyl group moiety may be mono- or polysubstituted by halogen atoms or C1-C4 alkyl groups” include suitable examples of the above examples However, it is not limited to these.
C1〜C4アルコキシC2〜C10アルキル基とは、C1〜C4アルコキシ基により置換されたC2〜C10アルキル基を意味する(ここで、C1〜C4アルコキシ基およびC2〜C10アルキル基は上記と同じ意味を有する。)。 The C1-C4 alkoxy C2-C10 alkyl group means a C2-C10 alkyl group substituted by a C1-C4 alkoxy group (wherein the C1-C4 alkoxy group and the C2-C10 alkyl group have the same meaning as described above). Have).
C1〜C4アルコキシC2〜C10アルキル基の例は、5−メトキシペンチル基、6−メトキシヘキシル基等を含むが、これらに限定されるものではない。 Examples of C1-C4 alkoxy C2-C10 alkyl groups include, but are not limited to, 5-methoxypentyl group, 6-methoxyhexyl group and the like.
C1〜C4ハロアルコキシC2〜C10アルキル基とは、C1〜C4ハロアルコキシ基により置換されたC2〜C10アルキル基を意味する(ここで、C1〜C4ハロアルコキシ基およびC2〜C10アルキル基は上記と同じ意味を有する。)。 The C1-C4 haloalkoxy C2-C10 alkyl group means a C2-C10 alkyl group substituted by a C1-C4 haloalkoxy group (wherein the C1-C4 haloalkoxy group and the C2-C10 alkyl group are as described above). Have the same meaning).
C1〜C4ハロアルコキシC2〜C10アルキル基の例は、
5−ジフルオロメトキシペンチル基、5−トリフルオロメトキシペンチル基、
6−ジフルオロメトキシヘキシル基、6−トリフルオロメトキシヘキシル基等を含むが、これらに限定されるものではない。
Examples of C1-C4 haloalkoxy C2-C10 alkyl groups are:
5-difluoromethoxypentyl group, 5-trifluoromethoxypentyl group,
Including, but not limited to, 6-difluoromethoxyhexyl group, 6-trifluoromethoxyhexyl group and the like.
C1〜C4アルキルチオC2〜C10アルキル基とは、C1〜C4アルキルチオ基により置換されたC2〜C10アルキル基を意味する(ここで、C1〜C4アルキルチオ基およびC2〜C10アルキル基は上記と同じ意味を有する。)。 The C1-C4 alkylthio C2-C10 alkyl group means a C2-C10 alkyl group substituted by a C1-C4 alkylthio group (wherein the C1-C4 alkylthio group and the C2-C10 alkyl group have the same meanings as described above). Have).
C1〜C4アルキルチオC2〜C10アルキル基の例は、
2−メチルチオエチル基、3−メチルチオプロピル基、4−メチルチオブチル基、
5−メチルチオペンチル基、5−エチルチオペンチル基、5−プロピルチオペンチル基、5−ブチルチオペンチル基、
6−メチルチオヘキシル基、6−エチルチオヘキシル基、6−プロピルチオヘキシル基、6−ブチルチオヘキシル基、
7−メチルチオへプチル基、8−メチルチオオクチル基、9−メチルチオノニル基、10−メチルチオデシル基等を含むが、これらに限定されるものではない。
Examples of C1-C4 alkylthio C2-C10 alkyl groups are:
2-methylthioethyl group, 3-methylthiopropyl group, 4-methylthiobutyl group,
5-methylthiopentyl group, 5-ethylthiopentyl group, 5-propylthiopentyl group, 5-butylthiopentyl group,
6-methylthiohexyl group, 6-ethylthiohexyl group, 6-propylthiohexyl group, 6-butylthiohexyl group,
Examples include, but are not limited to, 7-methylthioheptyl group, 8-methylthiooctyl group, 9-methylthiononyl group, 10-methylthiodecyl group, and the like.
生成物の有用性および経済性等の観点から、C1〜C4アルキルチオC2〜C10アルキル基の好ましい例は、5−メチルチオペンチル基および6−メチルチオヘキシル基を含む。 From the viewpoint of the usefulness and economy of the product, preferred examples of the C1-C4 alkylthio C2-C10 alkyl group include a 5-methylthiopentyl group and a 6-methylthiohexyl group.
C1〜C4ハロアルキルチオC2〜C10アルキル基とは、C1〜C4ハロアルキルチオ基により置換されたC2〜C10アルキル基を意味する(ここで、C1〜C4ハロアルキルチオ基およびC2〜C10アルキル基は上記と同じ意味を有する。)。 The C1-C4 haloalkylthio C2-C10 alkyl group means a C2-C10 alkyl group substituted by a C1-C4 haloalkylthio group (wherein the C1-C4 haloalkylthio group and the C2-C10 alkyl group are as described above). Have the same meaning).
C1〜C4ハロアルキルチオC2〜C10アルキル基の例は、
2−トリフルオロメチルチオエチル基、3−トリフルオロメチルチオプロピル基、4−トリフルオロメチルチオブチル基、
5−ジフルオロメチルチオペンチル基、5−トリフルオロメチルチオペンチル基、5−(2,2,2−トリフルオロエチルチオ)ペンチル基、5−ペンタフルオロエチルチオペンチル基、5−(2,2,3,3,3−ペンタフルオロプロピルチオ)ペンチル基、5−(2,2,3,3,4,4,4−へプタフルオロブチルチオ)ペンチル基、
6−ジフルオロメチルチオヘキシル基、6−トリフルオロメチルチオヘキシル基、6−(2,2,2−トリフルオロエチルチオ)ヘキシル基、6−ペンタフルオロエチルチオヘキシル基、6−(2,2,3,3,3−ペンタフルオロプロピルチオ)ヘキシル基、6−(2,2,3,3,4,4,4−へプタフルオロブチルチオ)ヘキシル基、
7−トリフルオロメチルチオへプチル基、8−トリフルオロメチルチオオクチル基、9−トリフルオロメチルチオノニル基、10−トリフルオロメチルチオデシル基等を含むが、これらに限定されるものではない。
Examples of C1-C4 haloalkylthio C2-C10 alkyl groups are:
2-trifluoromethylthioethyl group, 3-trifluoromethylthiopropyl group, 4-trifluoromethylthiobutyl group,
5-difluoromethylthiopentyl group, 5-trifluoromethylthiopentyl group, 5- (2,2,2-trifluoroethylthio) pentyl group, 5-pentafluoroethylthiopentyl group, 5- (2,2,3, 3,3-pentafluoropropylthio) pentyl group, 5- (2,2,3,3,4,4,4-heptafluorobutylthio) pentyl group,
6-difluoromethylthiohexyl group, 6-trifluoromethylthiohexyl group, 6- (2,2,2-trifluoroethylthio) hexyl group, 6-pentafluoroethylthiohexyl group, 6- (2,2,3, 3,3-pentafluoropropylthio) hexyl group, 6- (2,2,3,3,4,4,4-heptafluorobutylthio) hexyl group,
Examples include, but are not limited to, 7-trifluoromethylthioheptyl group, 8-trifluoromethylthiooctyl group, 9-trifluoromethylthiononyl group, 10-trifluoromethylthiodecyl group, and the like.
生成物の有用性および経済性等の観点から、C1〜C4ハロアルキルチオC2〜C10アルキル基の好ましい例は、5−トリフルオロメチルチオペンチル基および6−トリフルオロメチルチオヘキシル基を含む。 From the viewpoint of the usefulness and economy of the product, preferred examples of the C1-C4 haloalkylthio C2-C10 alkyl group include a 5-trifluoromethylthiopentyl group and a 6-trifluoromethylthiohexyl group.
C1〜C4アルキルスルフィニルC2〜C10アルキル基とは、C1〜C4アルキルスルフィニル基により置換されたC2〜C10アルキル基を意味する(ここで、C1〜C4アルキルスルフィニル基およびC2〜C10アルキル基は上記と同じ意味を有する。)。 The C1-C4 alkylsulfinyl C2-C10 alkyl group means a C2-C10 alkyl group substituted by a C1-C4 alkylsulfinyl group (wherein the C1-C4 alkylsulfinyl group and the C2-C10 alkyl group are as described above). Have the same meaning).
C1〜C4アルキルスルフィニルC2〜C10アルキル基の例は、5−メチルスルフィニルペンチル基および6−メチルスルフィニルヘキシル基等を含むが、これらに限定されるものではない。 Examples of the C1-C4 alkylsulfinyl C2-C10 alkyl group include, but are not limited to, a 5-methylsulfinylpentyl group and a 6-methylsulfinylhexyl group.
C1〜C4アルキルスルホニルC2〜C10アルキル基とは、C1〜C4アルキルスルホニル基により置換されたC2〜C10アルキル基を意味する(ここで、C1〜C4アルキルスルホニル基およびC2〜C10アルキル基は上記と同じ意味を有する。)。 The C1-C4 alkylsulfonyl C2-C10 alkyl group means a C2-C10 alkyl group substituted by a C1-C4 alkylsulfonyl group (wherein the C1-C4 alkylsulfonyl group and the C2-C10 alkyl group are as described above). Have the same meaning).
C1〜C4アルキルスルホニルC2〜C10アルキル基の例は、5−メチルスルホニルペンチル基および6−メチルスルホニルヘキシル基等を含むが、これらに限定されるものではない。 Examples of the C1-C4 alkylsulfonyl C2-C10 alkyl group include, but are not limited to, a 5-methylsulfonylpentyl group and a 6-methylsulfonylhexyl group.
C1〜C4ハロアルキルスルフィニルC2〜C10アルキル基とは、C1〜C4ハロアルキルスルフィニル基により置換されたC2〜C10アルキル基を意味する(ここで、C1〜C4ハロアルキルスルフィニル基およびC2〜C10アルキル基は上記と同じ意味を有する。)。 The C1-C4 haloalkylsulfinyl C2-C10 alkyl group means a C2-C10 alkyl group substituted by a C1-C4 haloalkylsulfinyl group (wherein the C1-C4 haloalkylsulfinyl group and the C2-C10 alkyl group are as described above). Have the same meaning).
C1〜C4ハロアルキルスルフィニルC2〜C10アルキル基の例は、5−ジフルオロメチルスルフィニルペンチル基、5−トリフルオロメチルスルフィニルペンチル基、6−ジフルオロメチルスルフィニルヘキシル基、および
6−トリフルオロメチルスルフィニルヘキシル基等を含むが、これらに限定されるものではない。
Examples of C1-C4 haloalkylsulfinyl C2-C10 alkyl groups include 5-difluoromethylsulfinylpentyl group, 5-trifluoromethylsulfinylpentyl group, 6-difluoromethylsulfinylhexyl group, 6-trifluoromethylsulfinylhexyl group and the like. Including, but not limited to.
C1〜C4ハロアルキルスルホニルC2〜C10アルキル基とは、C1〜C4ハロアルキルスルホニル基により置換されたC2〜C10アルキル基を意味する(ここで、C1〜C4ハロアルキルスルホニル基およびC2〜C10アルキル基は上記と同じ意味を有する。)。 The C1-C4 haloalkylsulfonyl C2-C10 alkyl group means a C2-C10 alkyl group substituted by a C1-C4 haloalkylsulfonyl group (wherein the C1-C4 haloalkylsulfonyl group and the C2-C10 alkyl group are as described above). Have the same meaning).
C1〜C4ハロアルキルスルホニルC2〜C10アルキル基の例は、5−ジフルオロメチルスルホニルペンチル基、5−トリフルオロメチルスルホニルペンチル基、6−ジフルオロメチルスルホニルヘキシル基、および6−トリフルオロメチルスルホニルヘキシル基等を含むが、これらに限定されるものではない。 Examples of the C1-C4 haloalkylsulfonyl C2-C10 alkyl group include a 5-difluoromethylsulfonylpentyl group, a 5-trifluoromethylsulfonylpentyl group, a 6-difluoromethylsulfonylhexyl group, and a 6-trifluoromethylsulfonylhexyl group. Including, but not limited to.
C6〜C10アリール基とは、環を構成するすべての原子が6〜10個の炭素原子である、芳香族の環式基を意味する。 The C6-C10 aryl group means an aromatic cyclic group in which all atoms constituting the ring are 6 to 10 carbon atoms.
C6〜C10アリール基の例は、フェニル基、1−ナフチル基、および2−ナフチル基である。1−ナフチル基はナフタレン−1−イル基とも言う。2−ナフチル基はナフタレン−2−イル基とも言う。 Examples of C6-C10 aryl groups are a phenyl group, a 1-naphthyl group, and a 2-naphthyl group. The 1-naphthyl group is also referred to as a naphthalen-1-yl group. The 2-naphthyl group is also referred to as a naphthalen-2-yl group.
C1〜C4アルコキシカルボニル基とは、(C1〜C4アルキル)−O−C(=O)−基を意味する(ここで、C1〜C4アルキル基部分は上記の定義と同じ意味を有する。)。 A C1-C4 alkoxycarbonyl group means a (C1-C4 alkyl) -O-C (= O)-group (wherein the C1-C4 alkyl group portion has the same meaning as defined above).
C1〜C4アルコキシカルボニル基の例は、メトキシカルボニル基、エトキシカルボニル基、プロポキシカルボニル基、イソプロポキシカルボニル基、ブトキシカルボニル基等を含むが、これらに限定されるものではない。 Examples of the C1-C4 alkoxycarbonyl group include, but are not limited to, a methoxycarbonyl group, an ethoxycarbonyl group, a propoxycarbonyl group, an isopropoxycarbonyl group, a butoxycarbonyl group, and the like.
C1〜C4アルキルカルボニル基とは、(C1〜C4アルキル)−C(=O)−基を意味する(ここで、C1〜C4アルキル基部分は上記の定義と同じ意味を有する。)。 A C1-C4 alkylcarbonyl group means a (C1-C4 alkyl) -C (= O)-group (wherein the C1-C4 alkyl group moiety has the same meaning as defined above).
C1〜C4アルキルカルボニル基の例は、アセチル基、プロピオニル基、ブチリル基、イソブチリル基、バレリル基等を含むが、これらに限定されるものではない。 Examples of the C1-C4 alkylcarbonyl group include, but are not limited to, acetyl group, propionyl group, butyryl group, isobutyryl group, valeryl group and the like.
ヒドロキシC1〜C4アルキル基とは、ヒドロキシ基により置換されたC1〜C4アルキル基を意味する(ここで、C1〜C4アルキル基は上記と同じ意味を有する。)。 The hydroxy C1-C4 alkyl group means a C1-C4 alkyl group substituted by a hydroxy group (wherein the C1-C4 alkyl group has the same meaning as described above).
ヒドロキシC1〜C4アルキル基の例は、ヒドロキシメチル基、1−ヒドロキシエチル基、2−ヒドロキシエチル基、1−ヒドロキシプロピル基、2−ヒドロキシプロピル基、1−ヒドロキシブチル基、2−ヒドロキシブチル基、3−ヒドロキシブチル基等を含むが、これらに限定されるものではない。 Examples of hydroxy C1-C4 alkyl groups are hydroxymethyl, 1-hydroxyethyl, 2-hydroxyethyl, 1-hydroxypropyl, 2-hydroxypropyl, 1-hydroxybutyl, 2-hydroxybutyl, Including, but not limited to, a 3-hydroxybutyl group.
C1〜C4アルコキシC1〜C4アルキル基とは、C1〜C4アルコキシ基により置換されたC1〜C4アルキル基を意味する(ここで、C1〜C4アルコキシ基およびC1〜C4アルキル基は上記と同じ意味を有する。)。 The C1-C4 alkoxy C1-C4 alkyl group means a C1-C4 alkyl group substituted by a C1-C4 alkoxy group (wherein the C1-C4 alkoxy group and the C1-C4 alkyl group have the same meaning as described above). Have).
C1〜C4アルコキシC1〜C4アルキル基の例は、
メトキシメチル基、エトキシメチル基、プロポキシメチル基、イソプロポキシメチル基、
1−メトキシエチル基、2−メトキシエチル基、1−エトキシエチル基、2−エトキシエチル基、1−プロポキシエチル基、2−プロポキシエチル基、1−イソプロポキシエチル基、2−イソプロポキシエチル基、
1−メトキシプロピル基、2−メトキシプロピル基、3−メトキシプロピル基、
1−メトキシブチル基、2−メトキシブチル基、3−メトキシブチル基、4−メトキシブチル基等を含むが、これらに限定されるものではない。
Examples of C1-C4 alkoxy C1-C4 alkyl groups are:
Methoxymethyl group, ethoxymethyl group, propoxymethyl group, isopropoxymethyl group,
1-methoxyethyl group, 2-methoxyethyl group, 1-ethoxyethyl group, 2-ethoxyethyl group, 1-propoxyethyl group, 2-propoxyethyl group, 1-isopropoxyethyl group, 2-isopropoxyethyl group,
1-methoxypropyl group, 2-methoxypropyl group, 3-methoxypropyl group,
Including, but not limited to, 1-methoxybutyl group, 2-methoxybutyl group, 3-methoxybutyl group, 4-methoxybutyl group and the like.
アミノC1〜C4アルキル基とは、アミノ基により置換されたC1〜C4アルキル基を意味する(ここで、C1〜C4アルキル基は上記と同じ意味を有する。)。 An amino C1-C4 alkyl group means a C1-C4 alkyl group substituted by an amino group (wherein the C1-C4 alkyl group has the same meaning as described above).
アミノC1〜C4アルキル基の例は、アミノメチル基、1−アミノエチル基、2−アミノエチル基、1−アミノプロピル基、2−アミノプロピル基、1−アミノブチル基、2−アミノブチル基、3−アミノブチル基等を含むが、これらに限定されるものではない。 Examples of amino C1-C4 alkyl groups include aminomethyl group, 1-aminoethyl group, 2-aminoethyl group, 1-aminopropyl group, 2-aminopropyl group, 1-aminobutyl group, 2-aminobutyl group, Including, but not limited to, a 3-aminobutyl group.
シアノC1〜C4アルキル基とは、シアノ基により置換されたC1〜C4アルキル基を意味する(ここで、C1〜C4アルキル基は上記と同じ意味を有する。)。 The cyano C1-C4 alkyl group means a C1-C4 alkyl group substituted by a cyano group (wherein the C1-C4 alkyl group has the same meaning as described above).
シアノC1〜C4アルキル基の例は、シアノメチル基、1−シアノエチル基、2−シアノエチル基、1−シアノプロピル基、2−シアノプロピル基、1−シアノブチル基、2−シアノブチル基、3−シアノブチル基等を含むが、これらに限定されるものではない。 Examples of the cyano C1-C4 alkyl group include a cyanomethyl group, a 1-cyanoethyl group, a 2-cyanoethyl group, a 1-cyanopropyl group, a 2-cyanopropyl group, a 1-cyanobutyl group, a 2-cyanobutyl group, a 3-cyanobutyl group, and the like. However, it is not limited to these.
ニトロC1〜C4アルキル基とは、ニトロ基により置換されたC1〜C4アルキル基を意味する(ここで、C1〜C4アルキル基は上記と同じ意味を有する。)。 A nitro C1-C4 alkyl group means a C1-C4 alkyl group substituted by a nitro group (wherein the C1-C4 alkyl group has the same meaning as described above).
ニトロC1〜C4アルキル基の例は、ニトロメチル基、1−ニトロエチル基、2−ニトロエチル基、1−ニトロプロピル基、2−ニトロプロピル基、1−ニトロブチル基、2−ニトロブチル基、3−ニトロブチル基等を含むが、これらに限定されるものではない。 Examples of nitro C1-C4 alkyl groups are nitromethyl, 1-nitroethyl, 2-nitroethyl, 1-nitropropyl, 2-nitropropyl, 1-nitrobutyl, 2-nitrobutyl, 3-nitrobutyl, etc. However, it is not limited to these.
カルボキシC1〜C4アルキル基とは、カルボキシ基により置換されたC1〜C4アルキル基を意味する(ここで、C1〜C4アルキル基は上記と同じ意味を有する。)。 The carboxy C1-C4 alkyl group means a C1-C4 alkyl group substituted by a carboxy group (wherein the C1-C4 alkyl group has the same meaning as described above).
カルボキシC1〜C4アルキル基の例は、カルボキシメチル基、1−カルボキシエチル基、2−カルボキシエチル基、1−カルボキシプロピル基、2−カルボキシプロピル基、1−カルボキシブチル基、2−カルボキシブチル基、3−カルボキシブチル基等を含むが、これらに限定されるものではない。 Examples of the carboxy C1-C4 alkyl group include carboxymethyl group, 1-carboxyethyl group, 2-carboxyethyl group, 1-carboxypropyl group, 2-carboxypropyl group, 1-carboxybutyl group, 2-carboxybutyl group, Including, but not limited to, 3-carboxybutyl group.
C1〜C4アルコキシカルボニルC1〜C4アルキル基とは、C1〜C4アルコキシカルボニル基により置換されたC1〜C4アルキル基を意味する(ここで、C1〜C4アルコキシカルボニル基およびC1〜C4アルキル基は上記と同じ意味を有する。)。 The C1-C4 alkoxycarbonyl C1-C4 alkyl group means a C1-C4 alkyl group substituted by a C1-C4 alkoxycarbonyl group (wherein the C1-C4 alkoxycarbonyl group and the C1-C4 alkyl group are as described above). Have the same meaning).
C1〜C4アルコキシカルボニルC1〜C4アルキル基の例は、
メトキシカルボニルメチル基、エトキシカルボニルメチル基、プロポキシカルボニルメチル基、イソプロポキシカルボニルメチル基、
1−メトキシカルボニルエチル基、2−メトキシカルボニルエチル基、1−エトキシカルボニルエチル基、2−エトキシカルボニルエチル基、1−プロポキシカルボニルエチル基、2−プロポキシカルボニルエチル基、1−イソプロポキシカルボニルエチル基、2−イソプロポキシカルボニルエチル基、
1−メトキシカルボニルプロピル基、2−メトキシカルボニルプロピル基、3−メトキシカルボニルプロピル基、
1−メトキシカルボニルブチル基、2−メトキシカルボニルブチル基、3−メトキシカルボニルブチル基、4−メトキシカルボニルブチル基等を含むが、これらに限定されるものではない。
Examples of C1-C4 alkoxycarbonyl C1-C4 alkyl groups are:
Methoxycarbonylmethyl group, ethoxycarbonylmethyl group, propoxycarbonylmethyl group, isopropoxycarbonylmethyl group,
1-methoxycarbonylethyl group, 2-methoxycarbonylethyl group, 1-ethoxycarbonylethyl group, 2-ethoxycarbonylethyl group, 1-propoxycarbonylethyl group, 2-propoxycarbonylethyl group, 1-isopropoxycarbonylethyl group, 2-isopropoxycarbonylethyl group,
1-methoxycarbonylpropyl group, 2-methoxycarbonylpropyl group, 3-methoxycarbonylpropyl group,
Including, but not limited to, 1-methoxycarbonylbutyl group, 2-methoxycarbonylbutyl group, 3-methoxycarbonylbutyl group, 4-methoxycarbonylbutyl group and the like.
モノ(C1〜C4アルキル)アミノ基とは、(C1〜C4アルキル)−NH−基を意味する(ここで、C1〜C4アルキル基部分は上記の定義と同じ意味を有する。)。 A mono (C1-C4 alkyl) amino group means a (C1-C4 alkyl) -NH- group (wherein the C1-C4 alkyl group moiety has the same meaning as defined above).
モノ(C1〜C4アルキル)アミノ基の例は、メチルアミノ基、エチルアミノ基、プロピルアミノ基、イソプロピルアミノ基、ブチルアミノ基等を含むが、これらに限定されるものではない。 Examples of mono (C1-C4 alkyl) amino groups include, but are not limited to, methylamino group, ethylamino group, propylamino group, isopropylamino group, butylamino group, and the like.
ジ(C1〜C4アルキル)アミノ基とは、(C1〜C4アルキル)2N−基を意味する(ここで、C1〜C4アルキル基部分は、同一または異なって、上記の定義と同じ意味を有する。)。 The di (C1-C4 alkyl) amino group means a (C1-C4 alkyl) 2 N-group (wherein the C1-C4 alkyl group moieties are the same or different and have the same meaning as defined above). .)
ジ(C1〜C4アルキル)アミノ基の例は、ジメチルアミノ基、ジエチルアミノ基、ジプロピルアミノ基、ジブチルアミノ基、メチルエチルアミノ基等を含むが、これらに限定されるものではない。 Examples of di (C1-C4 alkyl) amino groups include, but are not limited to, dimethylamino groups, diethylamino groups, dipropylamino groups, dibutylamino groups, methylethylamino groups, and the like.
上記以外の官能基の定義と例は、上記の官能基と同様に当業者により理解されることができる。 The definitions and examples of functional groups other than those described above can be understood by those skilled in the art in the same manner as the functional groups described above.
(原料化合物:一般式(2)で表されるスルフィド誘導体)
一般式(2)で表されるスルフィド誘導体の調製は、例えば、国際公開第2013/157229号(特許文献1)に記載されているか、または同様の方法で行われ得る。
(Raw material compound: sulfide derivative represented by the general formula (2))
The preparation of the sulfide derivative represented by the general formula (2) is described in, for example, International Publication No. 2013/157229 (Patent Document 1) or can be performed in a similar manner.
生成物の有用性および経済性等の観点から、一般式(2)中、R1、R2およびR3の好ましい組み合わせは:
R1が、C1〜C10アルキル基、
C3〜C6シクロアルキルC1〜C6アルキル基、ここで当該C3〜C6シクロアルキル基部分はハロゲン原子またはC1〜C4アルキル基によりモノ置換またはポリ置換されていてもよい、
フェニルC1〜C6アルキル基、ここで当該フェニル基部分はハロゲン原子またはC1〜C4アルキル基によりモノ置換またはポリ置換されていてもよい、
C1〜C4アルコキシC2〜C10アルキル基、
C1〜C4ハロアルコキシC2〜C10アルキル基、
C1〜C4アルキルチオC2〜C10アルキル基、
C1〜C4アルキルスルフィニルC2〜C10アルキル基、
C1〜C4アルキルスルホニルC2〜C10アルキル基、
C1〜C4ハロアルキルチオC2〜C10アルキル基、
C1〜C4ハロアルキルスルフィニルC2〜C10アルキル基、
C1〜C4ハロアルキルスルホニルC2〜C10アルキル基、
C1〜C6ハロアルキル基、
C3〜C6シクロアルキルC1〜C6ハロアルキル基、ここで当該C3〜C6シクロアルキル基部分はハロゲン原子またはC1〜C4アルキル基によりモノ置換またはポリ置換されていてもよい、または
フェニルC1〜C6ハロアルキル基、ここで当該フェニル基部分はハロゲン原子またはC1〜C4アルキル基によりモノ置換またはポリ置換されていてもよい、であり;そして
R2およびR3が、それぞれ独立して、ハロゲン原子またはC1〜C4アルキル基である。
From the viewpoint of the usefulness and economics of the product, in the general formula (2), preferred combinations of R 1 , R 2 and R 3 are:
R 1 is a C1-C10 alkyl group,
A C3-C6 cycloalkyl C1-C6 alkyl group, wherein the C3-C6 cycloalkyl group moiety may be mono- or poly-substituted with a halogen atom or a C1-C4 alkyl group,
A phenyl C1-C6 alkyl group, wherein the phenyl group moiety may be mono- or poly-substituted with a halogen atom or a C1-C4 alkyl group,
A C1-C4 alkoxy C2-C10 alkyl group,
A C1-C4 haloalkoxy C2-C10 alkyl group,
A C1-C4 alkylthio C2-C10 alkyl group,
A C1-C4 alkylsulfinyl C2-C10 alkyl group,
A C1-C4 alkylsulfonyl C2-C10 alkyl group,
A C1-C4 haloalkylthio C2-C10 alkyl group,
A C1-C4 haloalkylsulfinyl C2-C10 alkyl group,
A C1-C4 haloalkylsulfonyl C2-C10 alkyl group,
A C1-C6 haloalkyl group,
A C3-C6 cycloalkyl C1-C6 haloalkyl group, wherein the C3-C6 cycloalkyl group moiety may be mono- or polysubstituted by a halogen atom or a C1-C4 alkyl group, or a phenyl C1-C6 haloalkyl group, Wherein the phenyl group moiety may be mono- or polysubstituted by a halogen atom or a C1-C4 alkyl group; and R 2 and R 3 are each independently a halogen atom or a C1-C4 alkyl group. It is a group.
上記と同様の観点から、一般式(2)中、R1、R2およびR3のより好ましい組み合わせは:
R1が、C1〜C10アルキル基、
C1〜C4アルコキシC2〜C10アルキル基、
C1〜C4ハロアルコキシC2〜C10アルキル基、
C1〜C4アルキルチオC2〜C10アルキル基、
C1〜C4アルキルスルフィニルC2〜C10アルキル基、
C1〜C4アルキルスルホニルC2〜C10アルキル基、
C1〜C4ハロアルキルチオC2〜C10アルキル基、
C1〜C4ハロアルキルスルフィニルC2〜C10アルキル基、
C1〜C4ハロアルキルスルホニルC2〜C10アルキル基、または
C1〜C6ハロアルコキシ基であり;そして
R2およびR3が、それぞれ独立して、ハロゲン原子またはC1〜C4アルキル基である。
From the same viewpoint as above, in the general formula (2), more preferred combinations of R 1 , R 2 and R 3 are:
R 1 is a C1-C10 alkyl group,
A C1-C4 alkoxy C2-C10 alkyl group,
A C1-C4 haloalkoxy C2-C10 alkyl group,
A C1-C4 alkylthio C2-C10 alkyl group,
A C1-C4 alkylsulfinyl C2-C10 alkyl group,
A C1-C4 alkylsulfonyl C2-C10 alkyl group,
A C1-C4 haloalkylthio C2-C10 alkyl group,
A C1-C4 haloalkylsulfinyl C2-C10 alkyl group,
A C1-C4 haloalkylsulfonyl C2-C10 alkyl group, or a C1-C6 haloalkoxy group; and R 2 and R 3 are each independently a halogen atom or a C1-C4 alkyl group.
上記と同様の観点から、一般式(2)中、R1、R2およびR3のさらに好ましい組み合わせは:
R1がC1〜C4ハロアルキルチオC2〜C10アルキル基であり;そして
R2およびR3が、それぞれ独立して、ハロゲン原子またはC1〜C4アルキル基である。
From the same viewpoint as above, in the general formula (2), more preferable combinations of R 1 , R 2 and R 3 are:
R 1 is a C1-C4 haloalkylthio C2-C10 alkyl group; and R 2 and R 3 are each independently a halogen atom or a C1-C4 alkyl group.
上記と同様の観点から、一般式(2)中、R1、R2およびR3のさらに好ましい組み合わせは:
R1が5−トリフルオロメチルチオペンチル基または6−トリフルオロメチルチオヘキシル基であり;そして
R2がフッ素原子でありかつR3が塩素原子であるか、またはR2およびR3がメチル基である。
From the same viewpoint as above, in the general formula (2), more preferable combinations of R 1 , R 2 and R 3 are:
R 1 is a 5-trifluoromethylthiopentyl group or 6-trifluoromethylthiohexyl group; and R 2 is a fluorine atom and R 3 is a chlorine atom, or R 2 and R 3 are methyl groups .
一つの態様において、上記と同様の観点から、一般式(2)中、R1、R2およびR3のさらに好ましい具体的な組み合わせは:
R1が5−トリフルオロメチルチオペンチル基であり;
R2がフッ素原子であり;そして
R3が塩素原子である。
In one embodiment, from the same viewpoint as described above, in Formula (2), more preferable specific combinations of R 1 , R 2 and R 3 are:
R 1 is a 5-trifluoromethylthiopentyl group;
R 2 is a fluorine atom; and R 3 is a chlorine atom.
別の態様において、上記と同様の観点から、一般式(2)中、R1、R2およびR3のさらに好ましい具体的な組み合わせは:
R1が6−トリフルオロメチルチオヘキシル基であり;そして
R2およびR3がメチル基である。
In another embodiment, from the same viewpoint as described above, in Formula (2), more preferable specific combinations of R 1 , R 2 and R 3 are:
R 1 is a 6-trifluoromethylthiohexyl group; and R 2 and R 3 are methyl groups.
上記と同様の観点から、一般式(2)中、R1、R2およびR3の特に好ましい具体的な組み合わせは:
R1が5−トリフルオロメチルチオペンチル基であり;
R2がフッ素原子であり;そして
R3が塩素原子である。
From the same viewpoint as above, in the general formula (2), particularly preferred specific combinations of R 1 , R 2 and R 3 are:
R 1 is a 5-trifluoromethylthiopentyl group;
R 2 is a fluorine atom; and R 3 is a chlorine atom.
(目的化合物:一般式(1)で表されるスルホキシド誘導体)
上記と同様の観点から、一般式(1)中、R1、R2およびR3の好ましい組み合わせ、より好ましい組み合わせ、さらに好ましい組み合わせ、および特に好ましい組み合わせは、上記した一般式(2)中のそれらと同様である。
(Target compound: sulfoxide derivative represented by the general formula (1))
From the same viewpoint as above, in general formula (1), preferred combinations, more preferred combinations, further preferred combinations, and particularly preferred combinations of R 1 , R 2 and R 3 are those in general formula (2) described above. It is the same.
(酸化剤)
本発明で使用される酸化剤は、反応が進行する限りは、いずれの酸化剤でもよい。対応する原料化合物(スルフィド誘導体)を目的化合物(スルホキシド誘導体)に酸化できる酸化剤を用いることができる。本発明で使用される酸化剤の例は、無機過酸化物(例えば、過酸化水素、尿素−過酸化水素付加体等)等を含むが、これらに限定されるものではない。安全性、反応性、選択性および経済効率等の観点から、好ましい酸化剤は過酸化水素である。酸化剤は、単独でまたは任意の割合の2種以上の組み合わせで使用してもよい。
(Oxidant)
The oxidizing agent used in the present invention may be any oxidizing agent as long as the reaction proceeds. An oxidizing agent capable of oxidizing the corresponding raw material compound (sulfide derivative) to the target compound (sulfoxide derivative) can be used. Examples of the oxidizing agent used in the present invention include, but are not limited to, inorganic peroxides (for example, hydrogen peroxide, urea-hydrogen peroxide adduct, etc.) and the like. From the viewpoint of safety, reactivity, selectivity, economic efficiency, etc., a preferred oxidizing agent is hydrogen peroxide. You may use an oxidizing agent individually or in combination of 2 or more types of arbitrary ratios.
酸化剤の形態は、反応が進行する限りは、いずれの形態でもよい。酸化剤の形態は、当業者により適切に選択されることができる。酸化剤として過酸化水素を用いるときは、過酸化水素の形態は、反応が進行する限りは、いずれの形態でもよい。危険性と経済効率を考慮して、好ましい形態の過酸化水素の例は、5〜60wt%過酸化水素水溶液、好ましくは5〜40wt%過酸化水素水溶液、より好ましくは10〜35wt%過酸化水素水溶液、さらに好ましくは25〜35wt%過酸化水素水溶液を含む。なお、本明細書中、例えば、「30%過酸化水素水溶液」は「30%過酸化水素」とも言う。 The form of the oxidizing agent may be any form as long as the reaction proceeds. The form of the oxidizing agent can be appropriately selected by those skilled in the art. When hydrogen peroxide is used as the oxidizing agent, the hydrogen peroxide may be in any form as long as the reaction proceeds. In view of danger and economic efficiency, examples of preferred forms of hydrogen peroxide are 5-60 wt% aqueous hydrogen peroxide, preferably 5-40 wt% aqueous hydrogen peroxide, more preferably 10-35 wt% hydrogen peroxide. An aqueous solution, more preferably a 25 to 35 wt% aqueous hydrogen peroxide solution. In the present specification, for example, “30% hydrogen peroxide aqueous solution” is also referred to as “30% hydrogen peroxide”.
(酸化剤の使用量)
本発明の方法における酸化剤の使用量は、反応が進行する限りは、いずれの量でもよい。
(Amount of oxidizing agent used)
The amount of the oxidizing agent used in the method of the present invention may be any amount as long as the reaction proceeds.
収率の向上および経済効率等の観点から、本発明における酸化剤の下限としては、一般式(2)で表されるスルフィド誘導体(原料化合物)1モルに対して、0.9モル以上、好ましくは1.0モル以上を例示することができる。 From the viewpoint of improvement in yield and economic efficiency, the lower limit of the oxidizing agent in the present invention is preferably 0.9 mol or more, based on 1 mol of the sulfide derivative (raw material compound) represented by the general formula (2). Can illustrate 1.0 mol or more.
安全性、副生成物の抑制および経済効率等の観点から、本発明における酸化剤の上限としては、一般式(2)で表されるスルフィド誘導体(原料化合物)1モルに対して、4.0モル以下、好ましくは3.0モル以下、より好ましくは2.5モル以下を例示することができる。 From the viewpoints of safety, suppression of by-products and economic efficiency, the upper limit of the oxidizing agent in the present invention is 4.0 with respect to 1 mol of the sulfide derivative (raw material compound) represented by the general formula (2). Examples include a mole or less, preferably 3.0 mole or less, and more preferably 2.5 mole or less.
さらに、本発明における酸化剤の使用量としては、上記の下限と上限の適宜な且つ任意の組み合わせを例示することができる。したがって、安全性、収率の向上、副生成物の抑制、および経済効率等の観点から、本発明における酸化剤の使用量としては、一般式(2)で表されるスルフィド誘導体(原料化合物)1モルに対して、0.9〜4.0モル、好ましくは1.0〜3.0モル、より好ましくは1.0〜2.5モルを例示することができる。しかしながら、本発明における酸化剤の使用量は、目的と状況に応じて、当業者により適宜調整されることができる。 Furthermore, as usage-amount of the oxidizing agent in this invention, the appropriate and arbitrary combinations of said minimum and upper limit can be illustrated. Therefore, from the viewpoints of safety, yield improvement, suppression of by-products, economic efficiency, etc., the amount of the oxidizing agent used in the present invention is the sulfide derivative (raw material compound) represented by the general formula (2). An amount of 0.9 to 4.0 mol, preferably 1.0 to 3.0 mol, and more preferably 1.0 to 2.5 mol can be exemplified with respect to 1 mol. However, the amount of the oxidizing agent used in the present invention can be appropriately adjusted by those skilled in the art according to the purpose and situation.
(触媒:金属−配位子錯体)
本発明における触媒は、金属−配位子錯体である。金属−配位子錯体は、金属化合物と配位子から調製することができる。加えて、金属−配位子錯体は、金属化合物および配位子以外の成分を含んでいてもよい。したがって、金属−配位子錯体は、金属化合物配位子を含む。
(Catalyst: Metal-ligand complex)
The catalyst in the present invention is a metal-ligand complex. The metal-ligand complex can be prepared from a metal compound and a ligand. In addition, the metal-ligand complex may contain components other than the metal compound and the ligand. Accordingly, the metal-ligand complex includes a metal compound ligand.
(金属化合物)
本発明における金属−配位子錯体に含まれる金属化合物について説明する。本発明で使用される金属化合物は、反応が進行する限りは、いずれの金属化合物でもよい。本発明で使用される金属化合物は公知の化合物であるか、または公知の化合物から公知の方法に準じて製造することができる化合物である。
(Metal compound)
The metal compound contained in the metal-ligand complex in the present invention will be described. The metal compound used in the present invention may be any metal compound as long as the reaction proceeds. The metal compound used in the present invention is a known compound or a compound that can be produced from a known compound according to a known method.
金属化合物は、金属アセチルアセトネート、金属ハロゲン化物、金属酸化物、金属アルコキシド等であるが、これらに限定されるものではない。 Examples of the metal compound include, but are not limited to, metal acetylacetonate, metal halide, metal oxide, and metal alkoxide.
金属化合物の金属は好ましくは遷移金属である。 The metal of the metal compound is preferably a transition metal.
金属化合物の例は、鉄化合物、バナジウム化合物、チタン化合物、マンガン化合物、銅化合物、モリブデン化合物、ジルコニウム化合物等を含むが、これらに限定されるものではない。 Examples of metal compounds include, but are not limited to, iron compounds, vanadium compounds, titanium compounds, manganese compounds, copper compounds, molybdenum compounds, zirconium compounds, and the like.
収率および経済効率等の観点から、金属化合物は、好ましくは鉄化合物、バナジウム化合物、より好ましくは鉄化合物である。 From the viewpoint of yield and economic efficiency, the metal compound is preferably an iron compound, a vanadium compound, and more preferably an iron compound.
鉄化合物の例は、鉄(III)アセチルアセトネート、塩化鉄(III)、臭化鉄(III)、鉄(III)メトキシド、鉄(III)エトキシド、鉄(III)プロポキシド、鉄(III)イソプロポキシド等を含むが、これらに限定されるものではない。「鉄(III)アセチルアセトネート」は、「Fe(acac)3」または「トリス(2,4−ペンタンジオナト)鉄(III)」とも言う。上記と同様の観点から、鉄化合物の好ましい例は、鉄(III)アセチルアセトネート、塩化鉄(III)を含む。鉄化合物のより好ましい例は、鉄(III)アセチルアセトネートを含む。 Examples of iron compounds are iron (III) acetylacetonate, iron (III) chloride, iron (III) bromide, iron (III) methoxide, iron (III) ethoxide, iron (III) propoxide, iron (III) Including, but not limited to, isopropoxide. “Iron (III) acetylacetonate” is also referred to as “Fe (acac) 3 ” or “tris (2,4-pentanedionato) iron (III)”. From the same viewpoint as described above, preferable examples of the iron compound include iron (III) acetylacetonate and iron (III) chloride. A more preferred example of the iron compound includes iron (III) acetylacetonate.
バナジウム化合物の例は、バナジルアセチルアセトネート、酸化バナジウム(V)、トリイソプロポキシバナジウム(V)オキシド等を含むが、これらに限定されるものではない。「バナジルアセチルアセトネート」は、「VO(acac)2」、「ビス(2,4−ペンタンジオナト)バナジウム(IV)オキシド」または「バナジウム(IV)オキシアセチルアセトネート」とも言う。「トリイソプロポキシバナジウム(V)オキシド」は、「VO(OiPr)3」または「トリイソプロポキシオキソバナジウム(V)」とも言う。上記と同様の観点から、バナジウム化合物の好ましい例は、バナジルアセチルアセトネート、酸化バナジウム(V)を含む。バナジウム化合物のより好ましい例は、バナジルアセチルアセトネートを含む。 Examples of vanadium compounds include, but are not limited to, vanadyl acetylacetonate, vanadium oxide (V), triisopropoxy vanadium (V) oxide, and the like. “Vanadylacetylacetonate” is also referred to as “VO (acac) 2 ”, “bis (2,4-pentanedionato) vanadium (IV) oxide” or “vanadium (IV) oxyacetylacetonate”. “Triisopropoxyvanadium (V) oxide” is also referred to as “VO (OiPr) 3 ” or “triisopropoxyoxovanadium (V)”. From the same viewpoint as described above, preferable examples of the vanadium compound include vanadyl acetylacetonate and vanadium oxide (V). More preferred examples of vanadium compounds include vanadyl acetylacetonate.
チタン化合物の例は、四塩化チタン、チタン(IV)メトキシド、チタン(IV)エトキシド、チタン(IV)プロポキシド、チタン(IV)イソプロポキシド、チタン(IV)tert−ブトキシド等を含むが、これらに限定されるものではない。 Examples of titanium compounds include titanium tetrachloride, titanium (IV) methoxide, titanium (IV) ethoxide, titanium (IV) propoxide, titanium (IV) isopropoxide, titanium (IV) tert-butoxide, etc. It is not limited to.
マンガン化合物の例は、マンガン(III)アセチルアセトネート、塩化マンガン(II)等を含むが、これらに限定されるものではない。「マンガン(III)アセチルアセトネート」は、「Mn(acac)3」とも言う。 Examples of manganese compounds include, but are not limited to, manganese (III) acetylacetonate, manganese (II) chloride, and the like. “Manganese (III) acetylacetonate” is also referred to as “Mn (acac) 3 ”.
銅化合物の例は、銅(II)アセチルアセトネート、塩化銅(I)、塩化銅(II)等を含むが、これらに限定されるものではない。「銅(II)アセチルアセトネート」は、「Cu(acac)2」とも言う。 Examples of copper compounds include, but are not limited to, copper (II) acetylacetonate, copper (I) chloride, copper (II) chloride, and the like. “Copper (II) acetylacetonate” is also referred to as “Cu (acac) 2 ”.
モリブデン化合物の例は、モリブデニルアセチルアセトネート等を含むが、これらに限定されるものではない。「モリブデニルアセチルアセトネート」は、「MoO2(acac)2」、「ビス(2,4−ペンタンジオナト)モリブデン(VI)ジオキシド」または「モリブデン(IV)ジオキシアセチルアセトネート」とも言う。 Examples of molybdenum compounds include, but are not limited to, molybdenyl acetylacetonate and the like. “Molybenyl acetylacetonate” is also referred to as “MoO 2 (acac) 2 ”, “bis (2,4-pentanedionato) molybdenum (VI) dioxide” or “molybdenum (IV) dioxyacetylacetonate”.
ジルコニウム化合物の例は、ジルコニウム(IV)アセチルアセトネート、四塩化ジルコニウム等を含むが、これらに限定されるものではない。「ジルコニウム(IV)アセチルアセトネート」は、「Zr(acac)4」または「テトラキス(2,4−ペンタンジオナト)ジルコニウム(IV)」とも言う。 Examples of zirconium compounds include, but are not limited to, zirconium (IV) acetylacetonate, zirconium tetrachloride, and the like. “Zirconium (IV) acetylacetonate” is also referred to as “Zr (acac) 4 ” or “tetrakis (2,4-pentanedionato) zirconium (IV)”.
本発明における金属化合物は、単独でまたは任意の割合の2種以上の組み合わせで使用してもよい。本発明における金属化合物の形態は、反応が進行する限りは、いずれの形態でもよい。本発明における金属化合物の形態は、当業者により適切に選択されることができる。 You may use the metal compound in this invention individually or in combination of 2 or more types of arbitrary ratios. The form of the metal compound in the present invention may be any form as long as the reaction proceeds. The form of the metal compound in the present invention can be appropriately selected by those skilled in the art.
(金属化合物の使用量)
本発明の方法における金属化合物の使用量は、反応が進行する限りは、いずれの量でもよい。金属化合物の使用量は、一般式(4)で表される安息香酸化合物の使用により、低減することができる。一つの態様において、収率の向上、環境負荷の低減、および経済効率等の観点から、本発明における金属化合物の使用量としては、一般式(2)で表されるスルフィド誘導体(原料化合物)1モルに対して、0.1〜20.0mol%、好ましくは0.1〜10.0mol%、より好ましくは0.3〜10.0mol%、さらに好ましくは0.4〜10.0mol%を例示することができる。さらに、別の態様において、上記と同様の観点から、本発明における金属化合物の使用量としては、一般式(2)で表されるスルフィド誘導体(原料化合物)1モルに対して、好ましくは0.3〜6.0mol%、より好ましくは0.3〜5.0mol%、さらに好ましくは0.4〜5.0mol%、さらに好ましくは0.4〜4.0mol%、さらに好ましくは0.4〜3.0mol%、特に好ましくは0.4〜2.0mol%もまた例示することができる。しかしながら、本発明における金属化合物の使用量は、目的と状況に応じて、当業者により適宜調整されることができる。
(Amount of metal compound used)
The amount of the metal compound used in the method of the present invention may be any amount as long as the reaction proceeds. The usage-amount of a metal compound can be reduced by use of the benzoic acid compound represented by General formula (4). In one embodiment, from the viewpoint of improving yield, reducing environmental burden, and economic efficiency, the amount of the metal compound used in the present invention is a sulfide derivative (raw material compound) 1 represented by the general formula (2). 0.1 to 20.0 mol%, preferably 0.1 to 10.0 mol%, more preferably 0.3 to 10.0 mol%, still more preferably 0.4 to 10.0 mol% with respect to mol can do. Furthermore, in another embodiment, from the same viewpoint as described above, the amount of the metal compound used in the present invention is preferably 0.1 with respect to 1 mol of the sulfide derivative (raw material compound) represented by the general formula (2). 3 to 6.0 mol%, more preferably 0.3 to 5.0 mol%, more preferably 0.4 to 5.0 mol%, still more preferably 0.4 to 4.0 mol%, still more preferably 0.4 to Examples also include 3.0 mol%, particularly preferably 0.4 to 2.0 mol%. However, the amount of the metal compound used in the present invention can be appropriately adjusted by those skilled in the art according to the purpose and situation.
(配位子)
本発明における金属−配位子錯体に含まれる配位子について説明する。本発明で使用される配位子は公知の化合物であるか、または公知の化合物から公知の方法に準じて製造することができる化合物である。
(Ligand)
The ligand contained in the metal-ligand complex in the present invention will be described. The ligand used in the present invention is a known compound or a compound that can be produced from a known compound according to a known method.
収率および経済効率等の観点から、好ましい配位子は、一般式(3): From the viewpoint of yield and economic efficiency, a preferred ligand is represented by the general formula (3):
(式中、R4、R5、R6、R71およびR72は、下記の通りである。)
で表される化合物である。
(In the formula, R 4 , R 5 , R 6 , R 71 and R 72 are as follows.)
It is a compound represented by these.
一般式(3)中、R4およびR5は、それぞれ独立して、水素原子、ハロゲン原子、C1〜C6アルキル基、フェニルC1〜C6アルキル基、C6〜C10アリール基、シアノ基、ニトロ基またはC1〜C6アルコキシ基である。 In general formula (3), R 4 and R 5 are each independently a hydrogen atom, a halogen atom, a C1-C6 alkyl group, a phenyl C1-C6 alkyl group, a C6-C10 aryl group, a cyano group, a nitro group, or C1-C6 alkoxy group.
収率および経済効率等の観点から、R4およびR5の好ましい例はそれぞれ独立して水素原子、ハロゲン原子またはC1〜C6アルキル基、より好ましくはそれぞれ独立して水素原子またはハロゲン原子である。 From the viewpoints of yield and economic efficiency, preferred examples of R 4 and R 5 are each independently a hydrogen atom, a halogen atom or a C1-C6 alkyl group, more preferably each independently a hydrogen atom or a halogen atom.
R4のさらに好ましい例は水素原子である。 A more preferred example of R 4 is a hydrogen atom.
R5のさらに好ましい例は水素原子または塩素原子、特に好ましくは水素原子である。 More preferred examples of R 5 are a hydrogen atom or a chlorine atom, particularly preferably a hydrogen atom.
一般式(3)中、R6は、C1〜C4アルキル基、シアノ基、ニトロ基、カルボキシ基、C1〜C4アルコキシカルボニル基、C1〜C4アルキルカルボニル基、ヒドロキシC1〜C4アルキル基、C1〜C4アルコキシC1〜C4アルキル基、アミノC1〜C4アルキル基、シアノC1〜C4アルキル基、ニトロC1〜C4アルキル基、カルボキシC1〜C4アルキル基またはC1〜C4アルコキシカルボニルC1〜C4アルキル基である。 In general formula (3), R 6 is a C1-C4 alkyl group, a cyano group, a nitro group, a carboxy group, a C1-C4 alkoxycarbonyl group, a C1-C4 alkylcarbonyl group, a hydroxy C1-C4 alkyl group, C1-C4. An alkoxy C1-C4 alkyl group, an amino C1-C4 alkyl group, a cyano C1-C4 alkyl group, a nitro C1-C4 alkyl group, a carboxy C1-C4 alkyl group, or a C1-C4 alkoxycarbonyl C1-C4 alkyl group.
収率および経済効率等の観点から、R6の好ましい例はヒドロキシC1〜C4アルキル基、より好ましくはヒドロキシメチル基である。 From the viewpoints of yield and economic efficiency, a preferred example of R 6 is a hydroxy C1-C4 alkyl group, more preferably a hydroxymethyl group.
一般式(3)中、R71およびR72は、それぞれ独立して、水素原子、C1〜C6アルキル基、フェニルC1〜C6アルキル基またはC6〜C10アリール基(但し、R71およびR72は水素原子である場合を除く。)である。 In the general formula (3), R 71 and R 72 are each independently a hydrogen atom, a C1-C6 alkyl group, a phenyl C1-C6 alkyl group or a C6-C10 aryl group (provided that R 71 and R 72 are hydrogen atoms) Except when it is an atom).
収率および経済効率等の観点から、R71およびR72の好ましい例は、それぞれ独立して、水素原子またはC1〜C6アルキル基(但し、R71およびR72は水素原子である場合を除く。)であり、
より好ましくはR71がメチル基でありかつR72がメチル基であるか、またはR71が水素原子でありかつR72がイソプロピル基であり、
特に好ましくはR71がメチル基でありかつR72がメチル基である。
From the viewpoints of yield and economic efficiency, preferred examples of R 71 and R 72 are each independently a hydrogen atom or a C1-C6 alkyl group (provided that R 71 and R 72 are hydrogen atoms). ) And
More preferably, R 71 is a methyl group and R 72 is a methyl group, or R 71 is a hydrogen atom and R 72 is an isopropyl group,
Particularly preferably, R 71 is a methyl group and R 72 is a methyl group.
一般式(3)中、R4、R5、R6、R71およびR72の好ましい具体的な組み合わせは:
R4が水素原子であり;
R5が水素原子または塩素原子であり;
R6がヒドロキシメチル基であり;
R71がメチル基であり;
R72がメチル基である。
In the general formula (3), preferred specific combinations of R 4 , R 5 , R 6 , R 71 and R 72 are:
R 4 is a hydrogen atom;
R 5 is a hydrogen atom or a chlorine atom;
R 6 is a hydroxymethyl group;
R 71 is a methyl group;
R 72 is a methyl group.
一般式(3)中、R4、R5、R6、R71およびR72の特に好ましい具体的な組み合わせは:
R4が水素原子であり;
R5が水素原子であり;
R6がヒドロキシメチル基であり;
R71がメチル基であり;
R72がメチル基である。
In the general formula (3), particularly preferred specific combinations of R 4 , R 5 , R 6 , R 71 and R 72 are:
R 4 is a hydrogen atom;
R 5 is a hydrogen atom;
R 6 is a hydroxymethyl group;
R 71 is a methyl group;
R 72 is a methyl group.
配位子の具体例は、以下の式(3−1)から(3−13)の化合物を含む。 Specific examples of the ligand include compounds of the following formulas (3-1) to (3-13).
収率および経済効率等の観点から、配位子の好ましい具体例は、式(3−1)、(3−2)、(3−3)、(3−4)、(3−8)、(3−9)、(3−10)、および(3−12)を含む。 From the viewpoints of yield and economic efficiency, preferred specific examples of the ligand include the formulas (3-1), (3-2), (3-3), (3-4), (3-8), (3-9), (3-10), and (3-12) are included.
配位子のより好ましい具体例は、式(3−1)、(3−2)、(3−3)、(3−4)、(3−9)、または(3−12)を含む。 More preferred specific examples of the ligand include the formula (3-1), (3-2), (3-3), (3-4), (3-9), or (3-12).
配位子のさらに好ましい具体例は、式(3−1)、(3−4)、(3−9)、または(3−12)である。 More preferable specific examples of the ligand are represented by formula (3-1), (3-4), (3-9), or (3-12).
配位子のさらに好ましい具体例は、式(3−4)または(3−9)である。 A more preferable specific example of the ligand is the formula (3-4) or (3-9).
配位子の特に好ましい具体例は、式(3−4)の化合物である。 A particularly preferred specific example of the ligand is a compound of the formula (3-4).
本発明における配位子は、単独でまたは任意の割合の2種以上の組み合わせで使用してもよい。本発明における配位子の形態は、反応が進行する限りは、いずれの形態でもよい。本発明における配位子化合物の形態は、当業者により適切に選択されることができる。 You may use the ligand in this invention individually or in combination of 2 or more types of arbitrary ratios. The form of the ligand in the present invention may be any form as long as the reaction proceeds. The form of the ligand compound in the present invention can be appropriately selected by those skilled in the art.
(配位子の使用量)
本発明の方法における配位子の使用量は、反応が進行する限りは、いずれの量でもよい。配位子の使用量は、一般式(4)で表される安息香酸化合物の使用により、低減することができる。一つの態様において、収率の向上、環境負荷の低減、および経済効率等の観点から、本発明における配位子の使用量としては、一般式(2)で表されるスルフィド誘導体(原料化合物)1モルに対して、0.1〜20.0mol%、好ましくは0.1〜10.0mol%、より好ましくは0.3〜10.0mol%、さらに好ましくは0.4〜10.0mol%を例示することができる。さらに、別の態様において、上記と同様の観点から、本発明における配位子の使用量としては、一般式(2)で表されるスルフィド誘導体(原料化合物)1モルに対して、好ましくは0.3〜6.0mol%、より好ましくは0.3〜5.0mol%、さらに好ましくは0.4〜5.0mol%、さらに好ましくは0.4〜4.0mol%、さらに好ましくは0.4〜3.0mol%、特に好ましくは0.4〜2.0mol%もまた例示することができる。しかしながら、本発明における配位子の使用量は、目的と状況に応じて、当業者により適宜調整されることができる。
(Ligand usage)
The amount of the ligand used in the method of the present invention may be any amount as long as the reaction proceeds. The usage-amount of a ligand can be reduced by use of the benzoic acid compound represented by General formula (4). In one embodiment, the amount of the ligand used in the present invention is a sulfide derivative represented by the general formula (2) (raw material compound) from the viewpoints of yield improvement, reduction of environmental burden, economic efficiency, and the like. 0.1 to 20.0 mol%, preferably 0.1 to 10.0 mol%, more preferably 0.3 to 10.0 mol%, and still more preferably 0.4 to 10.0 mol% with respect to 1 mol. It can be illustrated. Furthermore, in another embodiment, from the same viewpoint as described above, the amount of the ligand used in the present invention is preferably 0 with respect to 1 mol of the sulfide derivative (raw material compound) represented by the general formula (2). 0.3-6.0 mol%, more preferably 0.3-5.0 mol%, still more preferably 0.4-5.0 mol%, still more preferably 0.4-4.0 mol%, still more preferably 0.4. ˜3.0 mol%, particularly preferably 0.4 to 2.0 mol% can also be exemplified. However, the usage-amount of the ligand in this invention can be suitably adjusted by those skilled in the art according to the objective and the condition.
(安息香酸化合物)
本発明における一般式(4)で表される安息香酸化合物について説明する。本発明の反応は、一般式(4):
(Benzoic acid compound)
The benzoic acid compound represented by the general formula (4) in the present invention will be described. The reaction of the present invention has the general formula (4):
(式中、A1、A2、A3、A4、A5、Mおよびnは、下記の通りである。)
で表される安息香酸化合物の存在下で行われる。本発明で使用される一般式(4)の安息香酸化合物は公知の化合物であるか、または公知の化合物から公知の方法に準じて製造することができる化合物である。
(In the formula, A 1 , A 2 , A 3 , A 4 , A 5 , M and n are as follows.)
It is performed in the presence of a benzoic acid compound represented by: The benzoic acid compound of the general formula (4) used in the present invention is a known compound or a compound that can be produced from a known compound according to a known method.
一般式(4)中、A1、A2、A3、A4およびA5は、収率および経済効率等の観点から、好ましい例は
A1がC1〜C2アルコキシ基であり;
A2が水素原子であり;
A3が水素原子またはC1〜C2アルコキシ基であり;
A4が水素原子であり;
A5がC1〜C2アルコキシ基である。
In the general formula (4), A 1 , A 2 , A 3 , A 4 and A 5 are preferably a C 1 -C 2 alkoxy group from the viewpoint of yield, economic efficiency, and the like;
A 2 is a hydrogen atom;
A 3 is a hydrogen atom or a C1-C2 alkoxy group;
A 4 is a hydrogen atom;
A 5 is a C1~C2 alkoxy group.
A1のより好ましい例はメトキシ基である。 A more preferred example of A 1 is a methoxy group.
A3のより好ましい例は水素原子またはメトキシ基、さらに好ましくは水素原子である。 A more preferred example of A 3 is a hydrogen atom or a methoxy group, more preferably a hydrogen atom.
A5のより好ましい例はメトキシ基である。 A more preferred example of A 5 is a methoxy group.
一般式(4)中、Mは水素原子、アルカリ金属原子またはアルカリ土類金属原子である。 In general formula (4), M is a hydrogen atom, an alkali metal atom, or an alkaline earth metal atom.
収率および経済効率等の観点から、Mは好ましくはアルカリ金属原子またはアルカリ土類金属原子、より好ましくはアルカリ金属原子ある。 From the viewpoint of yield and economic efficiency, M is preferably an alkali metal atom or an alkaline earth metal atom, more preferably an alkali metal atom.
Mの具体例は、リチウム原子、ナトリウム原子、カリウム原子、セシウム原子、マグネシウム原子、カルシウム原子、およびバリウム原子を含むが、これらに限定されるものではない。 Specific examples of M include, but are not limited to, a lithium atom, a sodium atom, a potassium atom, a cesium atom, a magnesium atom, a calcium atom, and a barium atom.
収率および経済効率等の観点から、Mの好ましい具体例は、リチウム原子、ナトリウム原子、カリウム原子、セシウム原子、マグネシウム原子、およびカルシウム原子である。 From the viewpoints of yield and economic efficiency, preferred specific examples of M are a lithium atom, a sodium atom, a potassium atom, a cesium atom, a magnesium atom, and a calcium atom.
Mのより好ましい具体例は、リチウム原子、ナトリウム原子、カリウム原子、およびセシウム原子である。 More preferable specific examples of M are a lithium atom, a sodium atom, a potassium atom, and a cesium atom.
Mのさらに好ましい具体例はナトリウム原子である。 A more preferred specific example of M is a sodium atom.
一般式(4)中、nは1または2である。より詳細には、それが化学的に許容される限りは、nは1または2であればよい。例えば、Mが水素原子またはアルカリ金属原子のとき、nは1である。他の例としては、Mがアルカリ土類金属原子のとき、nは2である。 In general formula (4), n is 1 or 2. More specifically, n may be 1 or 2 as long as it is chemically acceptable. For example, n is 1 when M is a hydrogen atom or an alkali metal atom. As another example, n is 2 when M is an alkaline earth metal atom.
収率および経済効率等の観点から、一般式(4)中、A1、A2、A3、A4、A5、Mおよびnの好ましい組み合わせは:
A1がC1〜C2アルコキシ基であり;
A2が水素原子であり;
A3が水素原子またはC1〜C2アルコキシ基であり;
A4が水素原子であり;
A5がC1〜C2アルコキシ基であり;
Mがナトリウム原子であり;そして
nが1である。
From the viewpoints of yield and economic efficiency, in the general formula (4), preferred combinations of A 1 , A 2 , A 3 , A 4 , A 5 , M and n are:
A 1 is a C1-C2 alkoxy group;
A 2 is a hydrogen atom;
A 3 is a hydrogen atom or a C1-C2 alkoxy group;
A 4 is a hydrogen atom;
A 5 is a C1-C2 alkoxy group;
M is a sodium atom; and n is 1.
一般式(4)中、A1、A2、A3、A4、A5、Mおよびnのより好ましい組み合わせは:
A1がメトキシ基であり;
A2が水素原子であり;
A3が水素原子またはメトキシ基であり;
A4が水素原子であり;
A5がメトキシ基であり;
Mがナトリウム原子であり;そして
nが1である。
In the general formula (4), more preferable combinations of A 1 , A 2 , A 3 , A 4 , A 5 , M and n are:
A 1 is a methoxy group;
A 2 is a hydrogen atom;
A 3 is a hydrogen atom or a methoxy group;
A 4 is a hydrogen atom;
A 5 is a methoxy group;
M is a sodium atom; and n is 1.
一つの態様において、一般式(4)中、A1、A2、A3、A4、A5、Mおよびnのさらに好ましい具体的な組み合わせは:
A1がメトキシ基であり;
A2が水素原子であり;
A3が水素原子であり;
A4が水素原子であり;
A5がメトキシ基であり;
Mがナトリウム原子であり;そして
nが1である。
In one embodiment, in Formula (4), more preferable specific combinations of A 1 , A 2 , A 3 , A 4 , A 5 , M and n are:
A 1 is a methoxy group;
A 2 is a hydrogen atom;
A 3 is a hydrogen atom;
A 4 is a hydrogen atom;
A 5 is a methoxy group;
M is a sodium atom; and n is 1.
別の態様において、一般式(4)中、A1、A2、A3、A4、A5、Mおよびnのさらに好ましい具体的な組み合わせは:
A1がメトキシ基であり;
A2が水素原子であり;
A3がメトキシ基であり;
A4が水素原子であり;
A5がメトキシ基であり;
Mがナトリウム原子であり;そして
nが1である。
In another embodiment, in Formula (4), more preferred specific combinations of A 1 , A 2 , A 3 , A 4 , A 5 , M and n are:
A 1 is a methoxy group;
A 2 is a hydrogen atom;
A 3 is a methoxy group;
A 4 is a hydrogen atom;
A 5 is a methoxy group;
M is a sodium atom; and n is 1.
一般式(4)中、A1、A2、A3、A4、A5、Mおよびnの特に好ましい具体的な組み合わせは:
A1がメトキシ基であり;
A2が水素原子であり;
A3が水素原子であり;
A4が水素原子であり;
A5がメトキシ基であり;
Mがナトリウム原子であり;そして
nが1である。
In general formula (4), particularly preferred specific combinations of A 1 , A 2 , A 3 , A 4 , A 5 , M and n are:
A 1 is a methoxy group;
A 2 is a hydrogen atom;
A 3 is a hydrogen atom;
A 4 is a hydrogen atom;
A 5 is a methoxy group;
M is a sodium atom; and n is 1.
本発明の実施例および比較例で使用される安息香酸化合物、および関連する安息香酸化合物、並びにその他の安息香酸化合物の具体例を以下に示す; Specific examples of benzoic acid compounds used in Examples and Comparative Examples of the present invention, and related benzoic acid compounds and other benzoic acid compounds are shown below;
本発明における安息香酸化合物の好ましい具体例は、前述した式(4−1)および(4−2)の化合物を含む。 Preferred specific examples of the benzoic acid compound in the present invention include the compounds of the formulas (4-1) and (4-2) described above.
本発明における安息香酸化合物の特に好ましい具体例は、前述した式(4−1)の化合物である。 A particularly preferred specific example of the benzoic acid compound in the present invention is the compound of the formula (4-1) described above.
一般的に、一般式(2)のスルフィド誘導体(本発明の原料化合物)から一般式(1)のスルホキシド誘導体(本発明の目的化合物)を製造する酸化反応では、一般式(4)の安息香酸化合物を使用しない場合でも、反応が進行し得る。したがって、反応が進行する限りは、一般式(4)の安息香酸化合物を使用してもよく、また使用しなくてもよい。しかしながら、収率の向上等の観点から、本発明の反応では、好ましくは一般式(4)の安息香酸化合物が用いられる。加えて、触媒の量(すなわち、金属化合物の量および配位子の量)の低減等の観点からも、本発明の反応では、好ましくは一般式(4)の安息香酸化合物が用いられる。言い換えれば、本発明の反応は、好ましくは一般式(4)の安息香酸化合物の存在下で行われるのである。 In general, in an oxidation reaction for producing a sulfoxide derivative of general formula (1) (target compound of the present invention) from a sulfide derivative of general formula (2) (raw compound of the present invention), benzoic acid of general formula (4) is used. The reaction can proceed even when no compound is used. Therefore, as long as the reaction proceeds, the benzoic acid compound of the general formula (4) may or may not be used. However, from the viewpoint of improving the yield, etc., the benzoic acid compound of the general formula (4) is preferably used in the reaction of the present invention. In addition, from the viewpoint of reducing the amount of the catalyst (that is, the amount of the metal compound and the amount of the ligand), the benzoic acid compound of the general formula (4) is preferably used in the reaction of the present invention. In other words, the reaction of the present invention is preferably carried out in the presence of a benzoic acid compound of the general formula (4).
一般式(4)で表される安息香酸化合物の使用により、本発明の有利な効果が得られた。これに関連して、本発明における最も好ましいR1、R2、R3、R4、R5、R6、R71、R72、A1、A2、A3、A4、A5、Mおよびnの組み合わせは、それぞれ上述の「特に好ましい具体的な組み合わせ」の組み合わせである。 The advantageous effect of the present invention was obtained by using the benzoic acid compound represented by the general formula (4). In this connection, the most preferred R 1 , R 2 , R 3 , R 4 , R 5 , R 6 , R 71 , R 72 , A 1 , A 2 , A 3 , A 4 , A 5 , in the present invention. The combination of M and n is a combination of the above-mentioned “particularly preferable specific combinations”.
(一般式(4)で表される安息香酸化合物の使用量)
本発明の方法における一般式(4)で表される安息香酸化合物の使用量は、反応が進行する限りは、いずれの量でもよい。一つの態様において、収率および経済効率等の観点から、本発明における一般式(4)で表される安息香酸化合物の使用量としては、一般式(2)で表されるスルフィド誘導体(原料化合物)1モルに対して、0.1〜20mol%、好ましくは3〜20mol%、より好ましくは3〜15mol%、さらに好ましくは3〜10mol%、特に好ましくは3〜5mol%を例示することができる。さらに、別の態様において、上記と同様の観点から、本発明における一般式(4)で表される安息香酸化合物の使用量としては、一般式(2)で表されるスルフィド誘導体(原料化合物)1モルに対して、好ましくは1〜20mol%、より好ましくは1〜15mol%、さらに好ましくは1〜10mol%、特に好ましくは1〜5mol%もまた例示することができる。しかしながら、本発明における一般式(4)で表される安息香酸化合物の使用量は、目的と状況に応じて、当業者により適宜調整されることができる。
(Use amount of benzoic acid compound represented by formula (4))
The amount of the benzoic acid compound represented by the general formula (4) in the method of the present invention may be any amount as long as the reaction proceeds. In one embodiment, from the viewpoint of yield, economic efficiency, etc., the amount of the benzoic acid compound represented by the general formula (4) in the present invention is the sulfide derivative (raw material compound) represented by the general formula (2). ) 0.1 to 20 mol%, preferably 3 to 20 mol%, more preferably 3 to 15 mol%, still more preferably 3 to 10 mol%, and particularly preferably 3 to 5 mol% with respect to 1 mol. . Furthermore, in another aspect, from the same viewpoint as described above, the amount of the benzoic acid compound represented by the general formula (4) in the present invention is the sulfide derivative (raw material compound) represented by the general formula (2). Preferably 1-20 mol% with respect to 1 mol, More preferably, it is 1-15 mol%, More preferably, it is 1-10 mol%, Most preferably, 1-5 mol% can also be illustrated. However, the usage-amount of the benzoic acid compound represented by General formula (4) in this invention can be suitably adjusted by those skilled in the art according to the objective and the condition.
(触媒溶液の調製)
金属化合物および配位子として一般式(3)で表される化合物、並びに一般式(4)で表される安息香酸化合物を所定の溶媒中撹拌して、触媒溶液を調製することができる。本発明の触媒溶液の調製における溶媒としては、下記の「本発明の反応における溶媒」の溶媒が挙げられる。本発明の触媒溶液の調製における温度は、特に制限されないが、触媒の安定性等の観点から、0℃〜50℃、好ましくは15〜30℃(室温)の範囲を例示できる。本発明の触媒溶液の調製における時間は、特に制限されないが、触媒の安定性等の観点から、10分〜12時間、より好ましくは10分〜2時間、さらに好ましくは10分〜1時間の範囲を例示できる。その具体例は30分、1時間および2時間、好ましくは30分および1時間、さらに好ましくは30分を含む。しかしながら、反応が進行する限りは、触媒溶液を調製する方法は、当業者により適宜選択かつ調整されることができる。
(Preparation of catalyst solution)
A catalyst solution can be prepared by stirring a metal compound and a compound represented by the general formula (3) as a ligand and a benzoic acid compound represented by the general formula (4) in a predetermined solvent. Examples of the solvent in the preparation of the catalyst solution of the present invention include the following “solvent in the reaction of the present invention”. The temperature in the preparation of the catalyst solution of the present invention is not particularly limited, but can be exemplified in the range of 0 ° C. to 50 ° C., preferably 15 to 30 ° C. (room temperature) from the viewpoint of catalyst stability and the like. The time in the preparation of the catalyst solution of the present invention is not particularly limited, but from the viewpoint of catalyst stability and the like, it is in the range of 10 minutes to 12 hours, more preferably 10 minutes to 2 hours, and even more preferably 10 minutes to 1 hour. Can be illustrated. Specific examples include 30 minutes, 1 hour and 2 hours, preferably 30 minutes and 1 hour, more preferably 30 minutes. However, as long as the reaction proceeds, the method for preparing the catalyst solution can be appropriately selected and adjusted by those skilled in the art.
(スルホキシド誘導体の製造方法)
一般式(2)で表されるスルフィド誘導体および上記で調製した触媒溶液並びに酸化剤を所定の溶媒中反応させることにより、一般式(1)で表されるスルホキシド誘導体を製造することができる。しかしながら、反応が進行する限りは、本発明の方法は実施例および上記に示される触媒溶液を先に調製する方法に限定されるものではない。原料、試薬、溶媒等を加える順番は、当業者により適宜選択かつ調整されることができる。
(Method for producing sulfoxide derivative)
The sulfoxide derivative represented by the general formula (1) can be produced by reacting the sulfide derivative represented by the general formula (2), the catalyst solution prepared above and an oxidizing agent in a predetermined solvent. However, as long as the reaction proceeds, the method of the present invention is not limited to the method for preparing the catalyst solutions shown in Examples and above. The order of adding raw materials, reagents, solvents, etc. can be appropriately selected and adjusted by those skilled in the art.
(溶媒)
反応の円滑な進行等の観点から、本発明の反応は溶媒の存在下で実施することが好ましい。本発明の反応における溶媒は、反応が進行する限りは、いずれの溶媒でもよい。
(solvent)
From the viewpoint of smooth progress of the reaction, the reaction of the present invention is preferably carried out in the presence of a solvent. The solvent in the reaction of the present invention may be any solvent as long as the reaction proceeds.
本発明の反応における溶媒としては、例えば、
水、
ハロゲン化脂肪族炭化水素類(例えば、ジクロロメタン、クロロホルム、四塩化炭素、1,2−ジクロロエタン、1,3−ジクロロプロパン、1,4−ジクロロブタン、トリクロロエタン、トリクロロエチレン、テトラクロロエタン、テトラクロロエチレン、ペンタクロロエタン等、好ましくはジクロロメタン、クロロホルム、四塩化炭素、1,2−ジクロロエタン、より好ましくはジクロロメタン)
芳香族炭化水素誘導体類(例えば、ベンゼン、トルエン、キシレン、トリメチルベンゼン、クロロベンゼン、ジクロロベンゼン、トリクロロベンゼン、クロロトルエン、ベンゾトリフルオリド、4−クロロベンゾトリフルオリド、ジフルオロベンゼン、ブロモベンゼン、ニトロベンゼン等、好ましくはトルエン、キシレン、クロロベンゼン、ジクロロベンゼン、クロロトルエン)、
ニトリル類(例えば、アセトニトリル、プロピオニトリル、ブチロニトリル等、好ましくはアセトニトリル)、
カルボン酸エステル類(例えば、酢酸エチル、酢酸イソプロピル、酢酸ブチル等)、
アミド類(例えば、N,N−ジメチルホルムアミド(DMF)、N,N−ジメチルアセトアミド(DMAC)、N,N−ジエチルアセトアミド、N−メチルピロリドン(NMP)等、好ましくはN,N−ジメチルホルムアミド(DMF)、N,N−ジメチルアセトアミド(DMAC)、N−メチルピロリドン(NMP)より好ましくはN,N−ジメチルホルムアミド(DMF))、
アルキル尿素類(例えば、N,N’−ジメチルイミダゾリジノン(DMI)等)、
スルホキシド類(例えば、ジメチルスルホキシド(DMSO)等)、
スルホン類(例えば、スルホラン等)、
炭酸エステル類(例えば、エチレンカーボネート、プロピレンカーボネート等)
アルコール類(例えば、メタノール、エタノール、プロパノール、2−プロパノール、ブタノール、エチレングリコール等)、
エーテル類(例えば、テトラヒドロフラン(THF)、2−メチルテトラヒドロフラン、1,4−ジオキサン、ジエチルエーテル、ジイソプロピルエーテル、ジブチルエーテル、ジ−tert−ブチルエーテル、シクロペンチルメチルエーテル(CPME)、メチル−tert−ブチルエーテル(MTBE)、tert−アミルメチルエーテル(TAME)、1,2−ジメトキシエタン(DME)、ジグリム(diglyme)、トリグリム(triglyme)、4−メトキシベンゼン、ジフェニルエーテル等)、および
任意の割合のそれらの任意の組み合わせを含むが、これらに限定されるものではない。
As the solvent in the reaction of the present invention, for example,
water,
Halogenated aliphatic hydrocarbons (eg, dichloromethane, chloroform, carbon tetrachloride, 1,2-dichloroethane, 1,3-dichloropropane, 1,4-dichlorobutane, trichloroethane, trichloroethylene, tetrachloroethane, tetrachloroethylene, pentachloroethane, etc. , Preferably dichloromethane, chloroform, carbon tetrachloride, 1,2-dichloroethane, more preferably dichloromethane)
Aromatic hydrocarbon derivatives (for example, benzene, toluene, xylene, trimethylbenzene, chlorobenzene, dichlorobenzene, trichlorobenzene, chlorotoluene, benzotrifluoride, 4-chlorobenzotrifluoride, difluorobenzene, bromobenzene, nitrobenzene, etc. Is toluene, xylene, chlorobenzene, dichlorobenzene, chlorotoluene)
Nitriles (for example, acetonitrile, propionitrile, butyronitrile, etc., preferably acetonitrile),
Carboxylates (eg, ethyl acetate, isopropyl acetate, butyl acetate, etc.),
Amides (for example, N, N-dimethylformamide (DMF), N, N-dimethylacetamide (DMAC), N, N-diethylacetamide, N-methylpyrrolidone (NMP), etc., preferably N, N-dimethylformamide ( DMF), N, N-dimethylacetamide (DMAC), N-methylpyrrolidone (NMP), more preferably N, N-dimethylformamide (DMF)),
Alkyl ureas (for example, N, N′-dimethylimidazolidinone (DMI), etc.),
Sulfoxides (for example, dimethyl sulfoxide (DMSO), etc.),
Sulfones (for example, sulfolane),
Carbonates (eg, ethylene carbonate, propylene carbonate, etc.)
Alcohols (eg, methanol, ethanol, propanol, 2-propanol, butanol, ethylene glycol, etc.),
Ethers (for example, tetrahydrofuran (THF), 2-methyltetrahydrofuran, 1,4-dioxane, diethyl ether, diisopropyl ether, dibutyl ether, di-tert-butyl ether, cyclopentyl methyl ether (CPME), methyl-tert-butyl ether (MTBE) ), Tert-amyl methyl ether (TAME), 1,2-dimethoxyethane (DME), diglyme, triglyme, 4-methoxybenzene, diphenyl ether, etc.), and any combinations thereof However, it is not limited to these.
反応性および経済効率等の観点から、溶媒の好ましい例は、水、ハロゲン化脂肪族炭化水素類、芳香族炭化水素誘導体類、ニトリル類、カルボン酸エステル類、アミド類、および任意の割合のそれらの任意の組み合わせを含む。 From the viewpoint of reactivity and economic efficiency, preferred examples of the solvent include water, halogenated aliphatic hydrocarbons, aromatic hydrocarbon derivatives, nitriles, carboxylic acid esters, amides, and any proportion thereof. Including any combination of
溶媒のより好ましい例は、水、ハロゲン化脂肪族炭化水素類、芳香族炭化水素誘導体類、ニトリル類、アミド類、および任意の割合のそれらの任意の組み合わせを含む。 More preferred examples of solvents include water, halogenated aliphatic hydrocarbons, aromatic hydrocarbon derivatives, nitriles, amides, and any combination thereof in any proportion.
溶媒のさらに好ましい例は、水、ハロゲン化脂肪族炭化水素類、芳香族炭化水素誘導体類、および任意の割合のそれらの任意の組み合わせを含む。 Further preferred examples of solvents include water, halogenated aliphatic hydrocarbons, aromatic hydrocarbon derivatives, and any combination thereof in any proportion.
溶媒の特に好ましい例は、水、ハロゲン化脂肪族炭化水素類、および任意の割合のそれらの任意の組み合わせを含む。 Particularly preferred examples of solvents include water, halogenated aliphatic hydrocarbons, and any combination thereof in any proportion.
溶媒の好ましい具体例は、水、ジクロロメタン、クロロホルム、四塩化炭素、1,2−ジクロロエタン、トルエン、キシレン、クロロベンゼン、ジクロロベンゼン、クロロトルエン、アセトニトリル、酢酸エチル、酢酸イソプロピル、酢酸ブチル、N,N−ジメチルホルムアミド(DMF)、N,N−ジメチルアセトアミド(DMAC)、N−メチルピロリドン(NMP)、および任意の割合のそれらの任意の組み合わせを含む。 Preferred examples of the solvent include water, dichloromethane, chloroform, carbon tetrachloride, 1,2-dichloroethane, toluene, xylene, chlorobenzene, dichlorobenzene, chlorotoluene, acetonitrile, ethyl acetate, isopropyl acetate, butyl acetate, N, N- Including dimethylformamide (DMF), N, N-dimethylacetamide (DMAC), N-methylpyrrolidone (NMP), and any combination thereof in any proportion.
溶媒のより好ましい具体例は、水、ジクロロメタン、クロロホルム、四塩化炭素、1,2−ジクロロエタン、トルエン、キシレン、クロロベンゼン、ジクロロベンゼン、アセトニトリル、N,N−ジメチルホルムアミド(DMF)、および任意の割合のそれらの任意の組み合わせを含む。 More preferred specific examples of solvents are water, dichloromethane, chloroform, carbon tetrachloride, 1,2-dichloroethane, toluene, xylene, chlorobenzene, dichlorobenzene, acetonitrile, N, N-dimethylformamide (DMF), and any proportions of Including any combination thereof.
溶媒のさらに好ましい具体例は、水、ジクロロメタン、クロロホルム、四塩化炭素、1,2−ジクロロエタン、トルエン、キシレン、クロロベンゼン、ジクロロベンゼン、および任意の割合のそれらの任意の組み合わせを含む。 More preferred embodiments of the solvent include water, dichloromethane, chloroform, carbon tetrachloride, 1,2-dichloroethane, toluene, xylene, chlorobenzene, dichlorobenzene, and any combination thereof in any proportion.
溶媒の特に好ましい具体例は、水、ジクロロメタン、および任意の割合のそれらの任意の組み合わせを含む。しかしながら、本発明の反応における溶媒は当業者により適切に選択されることができる。 Particularly preferred embodiments of the solvent include water, dichloromethane, and any combination thereof in any proportion. However, the solvent in the reaction of the present invention can be appropriately selected by those skilled in the art.
溶媒の使用量は、反応が進行する限りは、いずれの量でもよい。収率の向上、副生成物の抑制、および経済効率等の観点から、一般式(2)で表されるスルフィド誘導体(原料化合物)1モルに対して、0.01〜10.0L(リットル)、好ましくは0.1〜5.0Lを例示できる。しかしながら、本発明の反応における溶媒の使用量は当業者により適切に調整されることができる。2種以上の溶媒の組み合わせを用いるときは、2種以上の溶媒の割合は、反応が進行する限りは、いずれの割合でもよい。 The amount of solvent used may be any amount as long as the reaction proceeds. From the viewpoint of improvement in yield, suppression of by-products, economic efficiency, etc., 0.01 to 10.0 L (liter) with respect to 1 mol of the sulfide derivative (raw material compound) represented by the general formula (2) Preferably, 0.1-5.0L can be illustrated. However, the amount of the solvent used in the reaction of the present invention can be appropriately adjusted by those skilled in the art. When a combination of two or more solvents is used, the ratio of the two or more solvents may be any ratio as long as the reaction proceeds.
(反応温度)
本発明の反応温度は、特に制限されない。一つの態様においては、収率の向上、副生成物の抑制、および経済効率等の観点から、
−20℃〜50℃(すなわち、マイナス20℃〜プラス50℃)、
好ましくは−10℃〜30℃(すなわち、マイナス10℃〜プラス30℃)、
より好ましくは−10℃〜20℃(すなわち、マイナス10℃〜プラス20℃)、
さらに好ましくは−5℃〜15℃(すなわち、マイナス5℃〜プラス15℃)、
特に好ましくは0℃〜10℃(すなわち、ゼロ℃〜プラス10℃)の範囲を例示できる。別の態様においては上記と同様の観点から、
−20℃〜50℃(すなわち、マイナス20℃〜プラス50℃)、
好ましくは−10℃〜40℃(すなわち、マイナス10℃〜プラス40℃)、
より好ましくは−5℃〜40℃(すなわち、マイナス5℃〜プラス40℃)、
さらに好ましくは−5℃〜30℃(すなわち、マイナス5℃〜プラス30℃)、
特に好ましくは0℃〜10℃(すなわち、ゼロ℃〜プラス10℃)の範囲もまた例示できる。
(Reaction temperature)
The reaction temperature of the present invention is not particularly limited. In one embodiment, from the viewpoint of improvement in yield, suppression of by-products, economic efficiency, etc.
−20 ° C. to 50 ° C. (ie, minus 20 ° C. to plus 50 ° C.),
Preferably, −10 ° C. to 30 ° C. (that is, minus 10 ° C. to plus 30 ° C.),
More preferably, −10 ° C. to 20 ° C. (that is, minus 10 ° C. to plus 20 ° C.),
More preferably, −5 ° C. to 15 ° C. (that is, minus 5 ° C. to plus 15 ° C.),
The range of 0 degreeC-10 degreeC (namely, zero degreeC-plus 10 degreeC) can be illustrated especially preferably. In another embodiment, from the same viewpoint as above,
−20 ° C. to 50 ° C. (ie, minus 20 ° C. to plus 50 ° C.),
Preferably, −10 ° C. to 40 ° C. (that is, minus 10 ° C. to plus 40 ° C.),
More preferably, −5 ° C. to 40 ° C. (that is, minus 5 ° C. to plus 40 ° C.),
More preferably, −5 ° C. to 30 ° C. (that is, minus 5 ° C. to plus 30 ° C.),
Particularly preferably, the range of 0 ° C. to 10 ° C. (that is, zero ° C. to plus 10 ° C.) can also be exemplified.
(反応時間)
本発明の反応時間は、特に制限されない。一つの態様においては、収率の向上、副生成物の抑制、および経済効率等の観点から、0.5時間〜120時間、好ましくは1時間〜72時間、より好ましくは1時間〜48時間、さらに好ましくは1時間〜24時間の範囲を例示できる。別の態様においては、上記と同様の観点から、6時間〜120時間、好ましくは8時間〜72時間、より好ましくは8時間〜48時間、さらに好ましくは8時間〜24時間の範囲もまた例示できる。しかしながら、本発明の反応時間は当業者により適切に調整されることができる。
(Reaction time)
The reaction time of the present invention is not particularly limited. In one embodiment, from the viewpoints of yield improvement, suppression of by-products, economic efficiency, etc., 0.5 hours to 120 hours, preferably 1 hour to 72 hours, more preferably 1 hour to 48 hours, More preferably, the range of 1 hour-24 hours can be illustrated. In another embodiment, from the same viewpoint as described above, a range of 6 hours to 120 hours, preferably 8 hours to 72 hours, more preferably 8 hours to 48 hours, and further preferably 8 hours to 24 hours can also be exemplified. . However, the reaction time of the present invention can be appropriately adjusted by those skilled in the art.
(反応収率および収率)
本明細書中、用語「反応収率」と用語「収率」は、それぞれ下記の意味を有する。
(Reaction yield and yield)
In the present specification, the terms “reaction yield” and “yield” have the following meanings, respectively.
(反応収率)
本発明では、反応混合物の有機層を下記のHPLC分析条件(A)により分析して、反応収率を求めた。本明細書では、反応収率を目的化合物のHPLC面積百分率で示す。
(Reaction yield)
In the present invention, the organic layer of the reaction mixture was analyzed under the following HPLC analysis conditions (A) to determine the reaction yield. In this specification, the reaction yield is shown as the HPLC area percentage of the target compound.
本発明における反応収率としては、好ましくは90〜100%、より好ましくは95〜100%の範囲を例示できる。 The reaction yield in the present invention is preferably 90 to 100%, more preferably 95 to 100%.
(収率)
本発明における収率は、一般式(2)で表されるスルフィド誘導体(原料化合物)のモル数に対する、得られた一般式(1)で表されるスルホキシド化合物(目的化合物)のモル数から計算することができる。すなわち、本発明における収率は、以下の式で表される:
収率(%)=(得られた目的化合物のモル数)/(原料化合物のモル数)×100
(yield)
The yield in the present invention is calculated from the number of moles of the sulfoxide compound (target compound) represented by the general formula (1) obtained with respect to the number of moles of the sulfide derivative (raw material compound) represented by the general formula (2). can do. That is, the yield in the present invention is represented by the following formula:
Yield (%) = (number of moles of target compound obtained) / (number of moles of starting compound) × 100
本発明における収率としては、好ましくは90〜100%の範囲を例示できる。 The yield in the present invention is preferably in the range of 90 to 100%.
以下、実施例により本発明をさらに詳細に説明するが、本発明は、これら実施例によって何ら限定されるものではない。 EXAMPLES Hereinafter, although an Example demonstrates this invention further in detail, this invention is not limited at all by these Examples.
本明細書中、実施例および比較例の各物性の測定には、次の機器および条件を用いた。 In the present specification, the following equipment and conditions were used for measuring physical properties of Examples and Comparative Examples.
(HPLC:高速液体クロマトグラフィー)
(HPLC分析条件(A))
ポンプ:LC−20AT(株式会社島津製作所製)
検出器:SPD−20A(株式会社島津製作所製)
カラム:CERI L−column ODS(4.6x250mm),L−C18,5μm,12nm
溶離液:
流速:1.0ml/min
検出:UV 254nm
カラム温度:40℃
(HPLC: High performance liquid chromatography)
(HPLC analysis conditions (A))
Pump: LC-20AT (manufactured by Shimadzu Corporation)
Detector: SPD-20A (manufactured by Shimadzu Corporation)
Column: CERI L-column ODS (4.6 × 250 mm), L-C18, 5 μm, 12 nm
Eluent:
Flow rate: 1.0 ml / min
Detection: UV 254nm
Column temperature: 40 ° C
上述の通り、反応収率の評価においては、上記のHPLC分析条件(A)による面積百分率が用いられた。 As described above, the area percentage based on the above HPLC analysis condition (A) was used in the evaluation of the reaction yield.
HPLC分析方法に関しては、必要に応じて、以下の文献を参照することができる。
文献(a):(社)日本化学会編、「新実験化学講座9 分析化学 II」、第86〜112頁(1977年)、発行者 飯泉新吾、丸善株式会社
文献(b):(社)日本化学会編、「実験化学講座20−1 分析化学」第5版、第130〜151頁(2007年)、発行者 村田誠四郎、丸善株式会社
Regarding the HPLC analysis method, the following documents can be referred to as necessary.
Literature (a): (Corporation) The Chemical Society of Japan, “New Experimental Chemistry Lecture 9 Analytical Chemistry II”, pp. 86-112 (1977), publisher Izumi Izumi, Maruzen Co., Ltd. Literature (b): (Company) The Chemical Society of Japan, "Experimental Chemistry Course 20-1 Analytical Chemistry" 5th edition, pages 130-151 (2007), publisher Seishiro Murata, Maruzen Co., Ltd.
(1H−NMR:1H核磁気共鳴スペクトル;分析条件(A))
機器:JEOL JMN−ECS−300またはJEOL JMN−Lambda−400(株式会社JEOL RESONANCE製)
内部基準物質:テトラメチルシラン(TMS)
( 1 H-NMR: 1 H nuclear magnetic resonance spectrum; analysis condition (A))
Equipment: JEOL JMN-ECS-300 or JEOL JMN-Lambda-400 (manufactured by JEOL RESONANCE)
Internal reference material: Tetramethylsilane (TMS)
(LC/MS:液体クロマトグラフ質量分析)
(LC/MS分析条件)
ポンプ:Waters Acquity H Class
検出器:Waters Q−Tof Premier
カラム:CERI L−column ODS(4.6×250mm),L−C18,5μm,12nm
溶離液:
流速:1.0ml/min
カラム温度:40℃
(LC / MS: liquid chromatograph mass spectrometry)
(LC / MS analysis conditions)
Pump: Waters Acquity H Class
Detector: Waters Q-Tof Premier
Column: CERI L-column ODS (4.6 × 250 mm), L-C18, 5 μm, 12 nm
Eluent:
Flow rate: 1.0 ml / min
Column temperature: 40 ° C
本発明の実施例および比較例では、触媒溶液の調製及び標題化合物の製造などにおける反応容器としては、当業者が通常使用する反応容器を用いた。例えば、外径(長さ)10mm、高さ(厚さ)5mmの十字型磁気撹拌子および恒温槽付きのマグネチックスターラーを備えた内径15mm、高さ40mmの約6mLスクリューバイアル(スクリューキャップ付きバイアル)を用いた。 In the examples and comparative examples of the present invention, reaction vessels commonly used by those skilled in the art were used as reaction vessels in preparation of the catalyst solution and production of the title compound. For example, about 6 mL screw vial (vial with screw cap) having an inner diameter of 15 mm and a height of 40 mm equipped with a magnetic stirrer with a cross-shaped magnetic stirrer having an outer diameter (length) of 10 mm and a height (thickness) of 5 mm and a thermostatic bath ) Was used.
本明細書中、室温は15℃〜30℃である。 In this specification, room temperature is 15 to 30 degreeC.
実施例1
5−トリフルオロメチルチオペンチル−[4−クロロ−2−フルオロ−5−(2,2,2−トリフルオロエチルスルフィニル)フェニル]エーテルの製造
Example 1
Preparation of 5-trifluoromethylthiopentyl- [4-chloro-2-fluoro-5- (2,2,2-trifluoroethylsulfinyl) phenyl] ether
(1)触媒溶液の調製
スクリューキャップ付きバイアルにFe(acac)3(1.8mg、0.005mmol)、式(3−4)の化合物(1.0mg、0.005mmol)、式(4−1)の化合物(2,6−ジメトキシ安息香酸ナトリウム;5.1mg、0.025mmol)、およびジクロロメタン(1mL)を加えた。混合物を室温で30分間撹拌した。
(2)標題化合物の製造
5−トリフルオロメチルチオペンチル−[4−クロロ−2−フルオロ−5−(2,2,2−トリフルオロエチルチオ)フェニル]エーテル(215.4mg、0.500mmol)をジクロロメタン(1.0mL)に溶解した。そこに上記(1)で調製した触媒溶液を加えた。混合物を0℃に冷却した。そこに30%過酸化水素(113.4mg、1.0mmol)を加えた。混合物を0℃で14時間撹拌した。反応混合物の有機層をHPLC(面積百分率)により分析した。その結果、反応混合物中の溶媒等を除く成分は以下の通りであった;
5−トリフルオロメチルチオペンチル−[4−クロロ−2−フルオロ−5−(2,2,2−トリフルオロエチルスルフィニル)フェニル]エーテル(目的化合物):98%、
5−トリフルオロメチルチオペンチル−[4−クロロ−2−フルオロ−5−(2,2,2−トリフルオロエチルチオ)フェニル]エーテル(原料化合物):0%、
5−トリフルオロメチルチオペンチル−[4−クロロ−2−フルオロ−5−(2,2,2−トリフルオロエチルスルホニル)フェニル]エーテル(過剰酸化による副生成物):0%。
(1) Preparation of catalyst solution Fe (acac) 3 (1.8 mg, 0.005 mmol), compound of formula (3-4) (1.0 mg, 0.005 mmol), formula (4-1) in a vial with a screw cap ) Compound (sodium 2,6-dimethoxybenzoate; 5.1 mg, 0.025 mmol) and dichloromethane (1 mL). The mixture was stirred at room temperature for 30 minutes.
(2) Preparation of the title compound 5-trifluoromethylthiopentyl- [4-chloro-2-fluoro-5- (2,2,2-trifluoroethylthio) phenyl] ether (215.4 mg, 0.500 mmol) Dissolved in dichloromethane (1.0 mL). The catalyst solution prepared in (1) above was added thereto. The mixture was cooled to 0 ° C. 30% hydrogen peroxide (113.4 mg, 1.0 mmol) was added thereto. The mixture was stirred at 0 ° C. for 14 hours. The organic layer of the reaction mixture was analyzed by HPLC (area percentage). As a result, components other than the solvent and the like in the reaction mixture were as follows:
5-trifluoromethylthiopentyl- [4-chloro-2-fluoro-5- (2,2,2-trifluoroethylsulfinyl) phenyl] ether (target compound): 98%
5-trifluoromethylthiopentyl- [4-chloro-2-fluoro-5- (2,2,2-trifluoroethylthio) phenyl] ether (raw compound): 0%
5-Trifluoromethylthiopentyl- [4-chloro-2-fluoro-5- (2,2,2-trifluoroethylsulfonyl) phenyl] ether (byproduct by overoxidation): 0%.
実施例2
5−トリフルオロメチルチオペンチル−[4−クロロ−2−フルオロ−5−(2,2,2−トリフルオロエチルスルフィニル)フェニル]エーテルの製造
Example 2
Preparation of 5-trifluoromethylthiopentyl- [4-chloro-2-fluoro-5- (2,2,2-trifluoroethylsulfinyl) phenyl] ether
(1)触媒溶液の調製
スクリューキャップ付きバイアルにFe(acac)3(1.8mg、0.005mmol)、式(3−4)の化合物(1.0mg、0.005mmol)、式(4−1)の化合物(2,6−ジメトキシ安息香酸ナトリウム;5.1mg、0.025mmol)、およびジクロロメタン(1mL)を加えた。混合物を室温で30分間撹拌した。
(2)標題化合物の製造
5−トリフルオロメチルチオペンチル−[4−クロロ−2−フルオロ−5−(2,2,2−トリフルオロエチルチオ)フェニル]エーテル(215.4mg、0.500mmol)をジクロロメタン(1.0mL)に溶解した。そこに上記(1)で調製した触媒溶液を加えた。混合物を0℃に冷却した。そこに30%過酸化水素(113.4mg、1.0mmol)を加えた。混合物を0℃で15時間撹拌した。反応混合物の有機層をHPLC(面積百分率)により分析した。その結果、反応混合物中の溶媒等を除く成分は以下の通りであった;
5−トリフルオロメチルチオペンチル−[4−クロロ−2−フルオロ−5−(2,2,2−トリフルオロエチルスルフィニル)フェニル]エーテル(目的化合物):98%、
5−トリフルオロメチルチオペンチル−[4−クロロ−2−フルオロ−5−(2,2,2−トリフルオロエチルチオ)フェニル]エーテル(原料化合物):0%、
5−トリフルオロメチルチオペンチル−[4−クロロ−2−フルオロ−5−(2,2,2−トリフルオロエチルスルホニル)フェニル]エーテル(過剰酸化による副生成物):0%。
反応混合物に亜硫酸水素ナトリウム水溶液を加えた後、混合物を室温で5分間撹拌した。混合物を有機層と水層に分配し、有機層を分離した。得られた有機層に炭酸水素ナトリウムを加えた後、混合物を室温で5分間撹拌した。混合物を有機層と水層に分配し、有機層を分離した。得られた有機層を無水硫酸マグネシウムで乾燥し、減圧下で濃縮し、目的化合物214.2mg(HPLC純度97.6%)を得た。
純度換算収率:94%。
(1) Preparation of catalyst solution Fe (acac) 3 (1.8 mg, 0.005 mmol), compound of formula (3-4) (1.0 mg, 0.005 mmol), formula (4-1) in a vial with a screw cap ) Compound (sodium 2,6-dimethoxybenzoate; 5.1 mg, 0.025 mmol) and dichloromethane (1 mL). The mixture was stirred at room temperature for 30 minutes.
(2) Preparation of the title compound 5-trifluoromethylthiopentyl- [4-chloro-2-fluoro-5- (2,2,2-trifluoroethylthio) phenyl] ether (215.4 mg, 0.500 mmol) Dissolved in dichloromethane (1.0 mL). The catalyst solution prepared in (1) above was added thereto. The mixture was cooled to 0 ° C. 30% hydrogen peroxide (113.4 mg, 1.0 mmol) was added thereto. The mixture was stirred at 0 ° C. for 15 hours. The organic layer of the reaction mixture was analyzed by HPLC (area percentage). As a result, components other than the solvent and the like in the reaction mixture were as follows:
5-trifluoromethylthiopentyl- [4-chloro-2-fluoro-5- (2,2,2-trifluoroethylsulfinyl) phenyl] ether (target compound): 98%
5-trifluoromethylthiopentyl- [4-chloro-2-fluoro-5- (2,2,2-trifluoroethylthio) phenyl] ether (raw compound): 0%
5-Trifluoromethylthiopentyl- [4-chloro-2-fluoro-5- (2,2,2-trifluoroethylsulfonyl) phenyl] ether (byproduct by overoxidation): 0%.
After adding aqueous sodium hydrogen sulfite solution to the reaction mixture, the mixture was stirred at room temperature for 5 minutes. The mixture was partitioned into organic and aqueous layers and the organic layer was separated. After adding sodium hydrogen carbonate to the obtained organic layer, the mixture was stirred at room temperature for 5 minutes. The mixture was partitioned into organic and aqueous layers and the organic layer was separated. The obtained organic layer was dried over anhydrous magnesium sulfate and concentrated under reduced pressure to obtain 214.2 mg (HPLC purity 97.6%) of the target compound.
Purity conversion yield: 94%.
1H−NMR(400MHz,CDCl3)δ(ppm,TMS基準):1.57−1.66(m,2H),1.74−1.93(m,4H),2.92(t,2H),3.30−3.43(m,1H),3.66−3.78(m,1H),4.13(t,2H),7.21(d,1H),7.54(d,1H) 1 H-NMR (400 MHz, CDCl 3 ) δ (ppm, TMS standard): 1.57-1.66 (m, 2H), 1.74-1.93 (m, 4H), 2.92 (t, 2H), 3.30-3.43 (m, 1H), 3.66-3.78 (m, 1H), 4.13 (t, 2H), 7.21 (d, 1H), 7.54 (D, 1H)
実施例3
5−トリフルオロメチルチオペンチル−[4−クロロ−2−フルオロ−5−(2,2,2−トリフルオロエチルスルフィニル)フェニル]エーテルの製造
Example 3
Preparation of 5-trifluoromethylthiopentyl- [4-chloro-2-fluoro-5- (2,2,2-trifluoroethylsulfinyl) phenyl] ether
(1)触媒溶液の調製
スクリューキャップ付きバイアルにFe(acac)3(5.3mg、0.015mmol)、式(3−12)の化合物(3.6mg、0.015mmol)、式(4−1)の化合物(2,6−ジメトキシ安息香酸ナトリウム;15.3mg、0.075mmol)、およびジクロロメタン(1mL)を加えた。混合物を室温で30分間撹拌した。
(2)標題化合物の製造
5−トリフルオロメチルチオペンチル−[4−クロロ−2−フルオロ−5−(2,2,2−トリフルオロエチルチオ)フェニル]エーテル(215.4mg、0.500mmol)をジクロロメタン(1.0mL)に溶解した。そこに上記(1)で調製した触媒溶液を加えた。混合物を0℃に冷却した。そこに30%過酸化水素(113.4mg、1.0mmol)を加えた。混合物を0℃で60時間撹拌した。反応混合物の有機層をHPLC(面積百分率)により分析した。その結果、反応混合物中の溶媒等を除く成分は以下の通りであった;
5−トリフルオロメチルチオペンチル−[4−クロロ−2−フルオロ−5−(2,2,2−トリフルオロエチルスルフィニル)フェニル]エーテル(目的化合物):96%、
5−トリフルオロメチルチオペンチル−[4−クロロ−2−フルオロ−5−(2,2,2−トリフルオロエチルチオ)フェニル]エーテル(原料化合物):0%、
5−トリフルオロメチルチオペンチル−[4−クロロ−2−フルオロ−5−(2,2,2−トリフルオロエチルスルホニル)フェニル]エーテル(過剰酸化による副生成物):0%。
(1) Preparation of catalyst solution Fe (acac) 3 (5.3 mg, 0.015 mmol), compound of formula (3-12) (3.6 mg, 0.015 mmol), formula (4-1) in a vial with a screw cap ) Compound (sodium 2,6-dimethoxybenzoate; 15.3 mg, 0.075 mmol), and dichloromethane (1 mL). The mixture was stirred at room temperature for 30 minutes.
(2) Preparation of the title compound 5-trifluoromethylthiopentyl- [4-chloro-2-fluoro-5- (2,2,2-trifluoroethylthio) phenyl] ether (215.4 mg, 0.500 mmol) Dissolved in dichloromethane (1.0 mL). The catalyst solution prepared in (1) above was added thereto. The mixture was cooled to 0 ° C. 30% hydrogen peroxide (113.4 mg, 1.0 mmol) was added thereto. The mixture was stirred at 0 ° C. for 60 hours. The organic layer of the reaction mixture was analyzed by HPLC (area percentage). As a result, components other than the solvent and the like in the reaction mixture were as follows:
5-trifluoromethylthiopentyl- [4-chloro-2-fluoro-5- (2,2,2-trifluoroethylsulfinyl) phenyl] ether (target compound): 96%
5-trifluoromethylthiopentyl- [4-chloro-2-fluoro-5- (2,2,2-trifluoroethylthio) phenyl] ether (raw compound): 0%
5-Trifluoromethylthiopentyl- [4-chloro-2-fluoro-5- (2,2,2-trifluoroethylsulfonyl) phenyl] ether (byproduct by overoxidation): 0%.
実施例4
5−トリフルオロメチルチオペンチル−[4−クロロ−2−フルオロ−5−(2,2,2−トリフルオロエチルスルフィニル)フェニル]エーテルの製造
Example 4
Preparation of 5-trifluoromethylthiopentyl- [4-chloro-2-fluoro-5- (2,2,2-trifluoroethylsulfinyl) phenyl] ether
(1)触媒溶液の調製
スクリューキャップ付きバイアルにFe(acac)3(1.8mg、0.005mmol)、式(3−9)の化合物(1.1mg、0.005mmol)、式(4−1)の化合物(2,6−ジメトキシ安息香酸ナトリウム;5.1mg、0.025mmol)、およびジクロロメタン(1mL)を加えた。混合物を室温で30分間撹拌した。
(2)標題化合物の製造
5−トリフルオロメチルチオペンチル−[4−クロロ−2−フルオロ−5−(2,2,2−トリフルオロエチルチオ)フェニル]エーテル(215.4mg、0.500mmol)をジクロロメタン(1.0mL)に溶解した。そこに上記(1)で調製した触媒溶液を加えた。混合物を0℃に冷却した。そこに30%過酸化水素(113.4mg、1.0mmol)を加えた。混合物を0℃で22時間撹拌した。反応混合物の有機層をHPLC(面積百分率)により分析した。その結果、反応混合物中の溶媒等を除く成分は以下の通りであった;
5−トリフルオロメチルチオペンチル−[4−クロロ−2−フルオロ−5−(2,2,2−トリフルオロエチルスルフィニル)フェニル]エーテル(目的化合物):97%、
5−トリフルオロメチルチオペンチル−[4−クロロ−2−フルオロ−5−(2,2,2−トリフルオロエチルチオ)フェニル]エーテル(原料化合物):0%、
5−トリフルオロメチルチオペンチル−[4−クロロ−2−フルオロ−5−(2,2,2−トリフルオロエチルスルホニル)フェニル]エーテル(過剰酸化による副生成物):0%。
(1) Preparation of catalyst solution Fe (acac) 3 (1.8 mg, 0.005 mmol), compound of formula (3-9) (1.1 mg, 0.005 mmol), formula (4-1) in a vial with a screw cap ) Compound (sodium 2,6-dimethoxybenzoate; 5.1 mg, 0.025 mmol) and dichloromethane (1 mL). The mixture was stirred at room temperature for 30 minutes.
(2) Preparation of the title compound 5-trifluoromethylthiopentyl- [4-chloro-2-fluoro-5- (2,2,2-trifluoroethylthio) phenyl] ether (215.4 mg, 0.500 mmol) Dissolved in dichloromethane (1.0 mL). The catalyst solution prepared in (1) above was added thereto. The mixture was cooled to 0 ° C. 30% hydrogen peroxide (113.4 mg, 1.0 mmol) was added thereto. The mixture was stirred at 0 ° C. for 22 hours. The organic layer of the reaction mixture was analyzed by HPLC (area percentage). As a result, components other than the solvent and the like in the reaction mixture were as follows:
5-trifluoromethylthiopentyl- [4-chloro-2-fluoro-5- (2,2,2-trifluoroethylsulfinyl) phenyl] ether (target compound): 97%,
5-trifluoromethylthiopentyl- [4-chloro-2-fluoro-5- (2,2,2-trifluoroethylthio) phenyl] ether (raw compound): 0%
5-Trifluoromethylthiopentyl- [4-chloro-2-fluoro-5- (2,2,2-trifluoroethylsulfonyl) phenyl] ether (byproduct by overoxidation): 0%.
実施例5
5−トリフルオロメチルチオペンチル−[4−クロロ−2−フルオロ−5−(2,2,2−トリフルオロエチルスルフィニル)フェニル]エーテルの製造
Example 5
Preparation of 5-trifluoromethylthiopentyl- [4-chloro-2-fluoro-5- (2,2,2-trifluoroethylsulfinyl) phenyl] ether
(1)触媒溶液の調製
スクリューキャップ付きバイアルに2,6−ジメトキシ安息香酸(4.6mg、0.025mmol)、水酸化ナトリウム粉末(1.0mg、0.025mmol)、およびジクロロメタン(1mL)を加えた。混合物を室温で30分間撹拌した。その溶液にFe(acac)3(1.8mg、0.005mmol)、および式(3−9)の化合物(1.1mg、0.005mmol)を加えた。混合物を室温で30分間撹拌した。
(2)標題化合物の製造
5−トリフルオロメチルチオペンチル−[4−クロロ−2−フルオロ−5−(2,2,2−トリフルオロエチルチオ)フェニル]エーテル(215.4mg、0.500mmol)をジクロロメタン(1.0mL)に溶解した。そこに上記(1)で調製した触媒溶液を加えた。混合物を0℃に冷却した。そこに30%過酸化水素(113.4mg、1.0mmol)を加えた。混合物を0℃で21時間撹拌した。反応混合物の有機層をHPLC(面積百分率)により分析した。その結果、反応混合物中の溶媒等を除く成分は以下の通りであった;
5−トリフルオロメチルチオペンチル−[4−クロロ−2−フルオロ−5−(2,2,2−トリフルオロエチルスルフィニル)フェニル]エーテル(目的化合物):96%、
5−トリフルオロメチルチオペンチル−[4−クロロ−2−フルオロ−5−(2,2,2−トリフルオロエチルチオ)フェニル]エーテル(原料化合物):0%、
5−トリフルオロメチルチオペンチル−[4−クロロ−2−フルオロ−5−(2,2,2−トリフルオロエチルスルホニル)フェニル]エーテル(過剰酸化による副生成物):0%。
(1) Preparation of catalyst solution 2,6-dimethoxybenzoic acid (4.6 mg, 0.025 mmol), sodium hydroxide powder (1.0 mg, 0.025 mmol), and dichloromethane (1 mL) were added to a vial with a screw cap. It was. The mixture was stirred at room temperature for 30 minutes. To the solution was added Fe (acac) 3 (1.8 mg, 0.005 mmol) and the compound of formula (3-9) (1.1 mg, 0.005 mmol). The mixture was stirred at room temperature for 30 minutes.
(2) Preparation of the title compound 5-trifluoromethylthiopentyl- [4-chloro-2-fluoro-5- (2,2,2-trifluoroethylthio) phenyl] ether (215.4 mg, 0.500 mmol) Dissolved in dichloromethane (1.0 mL). The catalyst solution prepared in (1) above was added thereto. The mixture was cooled to 0 ° C. 30% hydrogen peroxide (113.4 mg, 1.0 mmol) was added thereto. The mixture was stirred at 0 ° C. for 21 hours. The organic layer of the reaction mixture was analyzed by HPLC (area percentage). As a result, components other than the solvent and the like in the reaction mixture were as follows:
5-trifluoromethylthiopentyl- [4-chloro-2-fluoro-5- (2,2,2-trifluoroethylsulfinyl) phenyl] ether (target compound): 96%
5-trifluoromethylthiopentyl- [4-chloro-2-fluoro-5- (2,2,2-trifluoroethylthio) phenyl] ether (raw compound): 0%
5-Trifluoromethylthiopentyl- [4-chloro-2-fluoro-5- (2,2,2-trifluoroethylsulfonyl) phenyl] ether (byproduct by overoxidation): 0%.
実施例6
5−トリフルオロメチルチオペンチル−[4−クロロ−2−フルオロ−5−(2,2,2−トリフルオロエチルスルフィニル)フェニル]エーテルの製造
Example 6
Preparation of 5-trifluoromethylthiopentyl- [4-chloro-2-fluoro-5- (2,2,2-trifluoroethylsulfinyl) phenyl] ether
(1)触媒溶液の調製
スクリューキャップ付きバイアルにFe(acac)3(1.8mg、0.005mmol)、式(3−4)の化合物(1.0mg、0.005mmol)、式(4−1)の化合物(2,6−ジメトキシ安息香酸ナトリウム;5.1mg、0.025mmol)、およびジクロロメタン(1mL)を加えた。混合物を室温で30分間撹拌した。
(2)標題化合物の製造
5−トリフルオロメチルチオペンチル−[4−クロロ−2−フルオロ−5−(2,2,2−トリフルオロエチルチオ)フェニル]エーテル(215.4mg、0.500mmol)をジクロロメタン(1.0mL)に溶解した。そこに上記(1)で調製した触媒溶液を加えた。混合物を0℃に冷却した。そこに30%過酸化水素(113.4mg、1.0mmol)を加えた。混合物を10℃で14時間撹拌した。反応混合物の有機層をHPLC(面積百分率)により分析した。その結果、反応混合物中の溶媒等を除く成分は以下の通りであった;
5−トリフルオロメチルチオペンチル−[4−クロロ−2−フルオロ−5−(2,2,2−トリフルオロエチルスルフィニル)フェニル]エーテル(目的化合物):98%、
5−トリフルオロメチルチオペンチル−[4−クロロ−2−フルオロ−5−(2,2,2−トリフルオロエチルチオ)フェニル]エーテル(原料化合物):0%、
5−トリフルオロメチルチオペンチル−[4−クロロ−2−フルオロ−5−(2,2,2−トリフルオロエチルスルホニル)フェニル]エーテル(過剰酸化による副生成物):0%。
(1) Preparation of catalyst solution Fe (acac) 3 (1.8 mg, 0.005 mmol), compound of formula (3-4) (1.0 mg, 0.005 mmol), formula (4-1) in a vial with a screw cap ) Compound (sodium 2,6-dimethoxybenzoate; 5.1 mg, 0.025 mmol) and dichloromethane (1 mL). The mixture was stirred at room temperature for 30 minutes.
(2) Preparation of the title compound 5-trifluoromethylthiopentyl- [4-chloro-2-fluoro-5- (2,2,2-trifluoroethylthio) phenyl] ether (215.4 mg, 0.500 mmol) Dissolved in dichloromethane (1.0 mL). The catalyst solution prepared in (1) above was added thereto. The mixture was cooled to 0 ° C. 30% hydrogen peroxide (113.4 mg, 1.0 mmol) was added thereto. The mixture was stirred at 10 ° C. for 14 hours. The organic layer of the reaction mixture was analyzed by HPLC (area percentage). As a result, components other than the solvent and the like in the reaction mixture were as follows:
5-trifluoromethylthiopentyl- [4-chloro-2-fluoro-5- (2,2,2-trifluoroethylsulfinyl) phenyl] ether (target compound): 98%
5-trifluoromethylthiopentyl- [4-chloro-2-fluoro-5- (2,2,2-trifluoroethylthio) phenyl] ether (raw compound): 0%
5-Trifluoromethylthiopentyl- [4-chloro-2-fluoro-5- (2,2,2-trifluoroethylsulfonyl) phenyl] ether (byproduct by overoxidation): 0%.
実施例7
5−トリフルオロメチルチオペンチル−[4−クロロ−2−フルオロ−5−(2,2,2−トリフルオロエチルスルフィニル)フェニル]エーテルの製造
Example 7
Preparation of 5-trifluoromethylthiopentyl- [4-chloro-2-fluoro-5- (2,2,2-trifluoroethylsulfinyl) phenyl] ether
(1)触媒溶液の調製
スクリューキャップ付きバイアルにFe(acac)3(1.8mg、0.005mmol)、式(3−4)の化合物(1.0mg、0.005mmol)、式(4−1)の化合物(2,6−ジメトキシ安息香酸ナトリウム;5.1mg、0.025mmol)、およびジクロロメタン(1mL)を加えた。混合物を室温で30分間撹拌した。
(2)標題化合物の製造
5−トリフルオロメチルチオペンチル−[4−クロロ−2−フルオロ−5−(2,2,2−トリフルオロエチルチオ)フェニル]エーテル(215.4mg、0.500mmol)をジクロロメタン(1.0mL)に溶解した。そこに上記(1)で調製した触媒溶液を加えた。混合物を0℃に冷却した。そこに30%過酸化水素(113.4mg、1.0mmol)を加えた。混合物を20℃で36時間撹拌した。反応混合物の有機層をHPLC(面積百分率)により分析した。その結果、反応混合物中の溶媒等を除く成分は以下の通りであった;
5−トリフルオロメチルチオペンチル−[4−クロロ−2−フルオロ−5−(2,2,2−トリフルオロエチルスルフィニル)フェニル]エーテル(目的化合物):94%、
5−トリフルオロメチルチオペンチル−[4−クロロ−2−フルオロ−5−(2,2,2−トリフルオロエチルチオ)フェニル]エーテル(原料化合物):4%、
5−トリフルオロメチルチオペンチル−[4−クロロ−2−フルオロ−5−(2,2,2−トリフルオロエチルスルホニル)フェニル]エーテル(過剰酸化による副生成物):0%。
(3)追加の過酸化水素を用いた標題化合物の製造
上記で得られた反応混合物に、30%過酸化水素(56.7mg、0.5mmol)を加えた。混合物を20℃で15時間撹拌した。反応混合物の有機層をHPLC(面積百分率)により分析した。その結果、反応混合物中の溶媒等を除く成分は以下の通りであった;
5−トリフルオロメチルチオペンチル−[4−クロロ−2−フルオロ−5−(2,2,2−トリフルオロエチルスルフィニル)フェニル]エーテル(目的化合物):94%、
5−トリフルオロメチルチオペンチル−[4−クロロ−2−フルオロ−5−(2,2,2−トリフルオロエチルチオ)フェニル]エーテル(原料化合物):4%、
5−トリフルオロメチルチオペンチル−[4−クロロ−2−フルオロ−5−(2,2,2−トリフルオロエチルスルホニル)フェニル]エーテル(過剰酸化による副生成物):0%。
(1) Preparation of catalyst solution Fe (acac) 3 (1.8 mg, 0.005 mmol), compound of formula (3-4) (1.0 mg, 0.005 mmol), formula (4-1) in a vial with a screw cap ) Compound (sodium 2,6-dimethoxybenzoate; 5.1 mg, 0.025 mmol) and dichloromethane (1 mL). The mixture was stirred at room temperature for 30 minutes.
(2) Preparation of the title compound 5-trifluoromethylthiopentyl- [4-chloro-2-fluoro-5- (2,2,2-trifluoroethylthio) phenyl] ether (215.4 mg, 0.500 mmol) Dissolved in dichloromethane (1.0 mL). The catalyst solution prepared in (1) above was added thereto. The mixture was cooled to 0 ° C. 30% hydrogen peroxide (113.4 mg, 1.0 mmol) was added thereto. The mixture was stirred at 20 ° C. for 36 hours. The organic layer of the reaction mixture was analyzed by HPLC (area percentage). As a result, components other than the solvent and the like in the reaction mixture were as follows:
5-trifluoromethylthiopentyl- [4-chloro-2-fluoro-5- (2,2,2-trifluoroethylsulfinyl) phenyl] ether (target compound): 94%,
5-trifluoromethylthiopentyl- [4-chloro-2-fluoro-5- (2,2,2-trifluoroethylthio) phenyl] ether (raw compound): 4%,
5-Trifluoromethylthiopentyl- [4-chloro-2-fluoro-5- (2,2,2-trifluoroethylsulfonyl) phenyl] ether (byproduct by overoxidation): 0%.
(3) Preparation of title compound using additional hydrogen peroxide To the reaction mixture obtained above, 30% hydrogen peroxide (56.7 mg, 0.5 mmol) was added. The mixture was stirred at 20 ° C. for 15 hours. The organic layer of the reaction mixture was analyzed by HPLC (area percentage). As a result, components other than the solvent and the like in the reaction mixture were as follows:
5-trifluoromethylthiopentyl- [4-chloro-2-fluoro-5- (2,2,2-trifluoroethylsulfinyl) phenyl] ether (target compound): 94%,
5-trifluoromethylthiopentyl- [4-chloro-2-fluoro-5- (2,2,2-trifluoroethylthio) phenyl] ether (raw compound): 4%,
5-Trifluoromethylthiopentyl- [4-chloro-2-fluoro-5- (2,2,2-trifluoroethylsulfonyl) phenyl] ether (byproduct by overoxidation): 0%.
比較例1
5−トリフルオロメチルチオペンチル−[4−クロロ−2−フルオロ−5−(2,2,2−トリフルオロエチルスルフィニル)フェニル]エーテルの製造
Comparative Example 1
Preparation of 5-trifluoromethylthiopentyl- [4-chloro-2-fluoro-5- (2,2,2-trifluoroethylsulfinyl) phenyl] ether
(1)触媒溶液の調製
スクリューキャップ付きバイアルにFe(acac)3(1.8mg、0.005mmol)、式(3−13)の化合物(1.0mg、0.005mmol)、式(4−1)の化合物(2,6−ジメトキシ安息香酸ナトリウム;5.1mg、0.025mmol)、およびジクロロメタン(1mL)を加えた。混合物を室温で30分間撹拌した。
(2)標題化合物の製造
5−トリフルオロメチルチオペンチル−[4−クロロ−2−フルオロ−5−(2,2,2−トリフルオロエチルチオ)フェニル]エーテル(215.4mg、0.500mmol)をジクロロメタン(1.0mL)に溶解した。そこに上記(1)で調製した触媒溶液を加えた。混合物を0℃に冷却した。そこに30%過酸化水素(113.4mg、1.0mmol)を加えた。混合物を0℃で15時間撹拌した。反応混合物の有機層をHPLC(面積百分率)により分析した。その結果、反応混合物中の溶媒等を除く成分は以下の通りであった;
5−トリフルオロメチルチオペンチル−[4−クロロ−2−フルオロ−5−(2,2,2−トリフルオロエチルスルフィニル)フェニル]エーテル(目的化合物):14%、
5−トリフルオロメチルチオペンチル−[4−クロロ−2−フルオロ−5−(2,2,2−トリフルオロエチルチオ)フェニル]エーテル(原料化合物):83%、
5−トリフルオロメチルチオペンチル−[4−クロロ−2−フルオロ−5−(2,2,2−トリフルオロエチルスルホニル)フェニル]エーテル(過剰酸化による副生成物):0%。
(3)追加の触媒溶液の調製
スクリューキャップ付きバイアルにFe(acac)3(5.4mg、0.015mmol)、式(3−13)の化合物(3.0mg、0.015mmol)、式(4−1)の化合物(2,6−ジメトキシ安息香酸ナトリウム;5.1mg、0.025mmol)、およびジクロロメタン(1mL)を加えた。混合物を室温で30分間撹拌した。
(4)追加の触媒と追加の過酸化水素を用いた標題化合物の製造
上記(2)で得られた反応混合物に0℃で続けて上記(3)で調製した触媒溶液を加えた。そこに30%過酸化水素(56.7mg、0.5mmol)を加えた。混合物を0℃で8時間撹拌した。反応混合物の有機層をHPLC(面積百分率)により分析した。その結果、反応混合物中の溶媒等を除く成分は以下の通りであった;
5−トリフルオロメチルチオペンチル−[4−クロロ−2−フルオロ−5−(2,2,2−トリフルオロエチルスルフィニル)フェニル]エーテル(目的化合物):23%、
5−トリフルオロメチルチオペンチル−[4−クロロ−2−フルオロ−5−(2,2,2−トリフルオロエチルチオ)フェニル]エーテル(原料化合物):74%、
5−トリフルオロメチルチオペンチル−[4−クロロ−2−フルオロ−5−(2,2,2−トリフルオロエチルスルホニル)フェニル]エーテル(過剰酸化による副生成物):0%。
(1) Preparation of catalyst solution Fe (acac) 3 (1.8 mg, 0.005 mmol), compound of formula (3-13) (1.0 mg, 0.005 mmol), formula (4-1) in a vial with a screw cap ) Compound (sodium 2,6-dimethoxybenzoate; 5.1 mg, 0.025 mmol) and dichloromethane (1 mL). The mixture was stirred at room temperature for 30 minutes.
(2) Preparation of the title compound 5-trifluoromethylthiopentyl- [4-chloro-2-fluoro-5- (2,2,2-trifluoroethylthio) phenyl] ether (215.4 mg, 0.500 mmol) Dissolved in dichloromethane (1.0 mL). The catalyst solution prepared in (1) above was added thereto. The mixture was cooled to 0 ° C. 30% hydrogen peroxide (113.4 mg, 1.0 mmol) was added thereto. The mixture was stirred at 0 ° C. for 15 hours. The organic layer of the reaction mixture was analyzed by HPLC (area percentage). As a result, components other than the solvent and the like in the reaction mixture were as follows:
5-trifluoromethylthiopentyl- [4-chloro-2-fluoro-5- (2,2,2-trifluoroethylsulfinyl) phenyl] ether (target compound): 14%,
5-trifluoromethylthiopentyl- [4-chloro-2-fluoro-5- (2,2,2-trifluoroethylthio) phenyl] ether (raw compound): 83%,
5-Trifluoromethylthiopentyl- [4-chloro-2-fluoro-5- (2,2,2-trifluoroethylsulfonyl) phenyl] ether (byproduct by overoxidation): 0%.
(3) Preparation of additional catalyst solution Fe (acac) 3 (5.4 mg, 0.015 mmol), compound of formula (3-13) (3.0 mg, 0.015 mmol), formula (4) in a vial with a screw cap -1) (sodium 2,6-dimethoxybenzoate; 5.1 mg, 0.025 mmol) and dichloromethane (1 mL) were added. The mixture was stirred at room temperature for 30 minutes.
(4) Production of title compound using additional catalyst and additional hydrogen peroxide The catalyst solution prepared in (3) above was added to the reaction mixture obtained in (2) above at 0 ° C. 30% hydrogen peroxide (56.7 mg, 0.5 mmol) was added thereto. The mixture was stirred at 0 ° C. for 8 hours. The organic layer of the reaction mixture was analyzed by HPLC (area percentage). As a result, components other than the solvent and the like in the reaction mixture were as follows:
5-trifluoromethylthiopentyl- [4-chloro-2-fluoro-5- (2,2,2-trifluoroethylsulfinyl) phenyl] ether (target compound): 23%,
5-trifluoromethylthiopentyl- [4-chloro-2-fluoro-5- (2,2,2-trifluoroethylthio) phenyl] ether (raw compound): 74%,
5-Trifluoromethylthiopentyl- [4-chloro-2-fluoro-5- (2,2,2-trifluoroethylsulfonyl) phenyl] ether (byproduct by overoxidation): 0%.
比較例2
5−トリフルオロメチルチオペンチル−[4−クロロ−2−フルオロ−5−(2,2,2−トリフルオロエチルスルフィニル)フェニル]エーテルの製造
Comparative Example 2
Preparation of 5-trifluoromethylthiopentyl- [4-chloro-2-fluoro-5- (2,2,2-trifluoroethylsulfinyl) phenyl] ether
(1)触媒溶液の調製
スクリューキャップ付きバイアルにFe(acac)3(1.8mg、0.005mmol)、式(3−4)の化合物(1.0mg、0.005mmol)、式(4−19)の化合物(2−メトキシ安息香酸ナトリウム;4.4mg、0.025mmol)、およびジクロロメタン(1mL)を加えた。混合物を室温で30分間撹拌した。
(2)標題化合物の製造
5−トリフルオロメチルチオペンチル−[4−クロロ−2−フルオロ−5−(2,2,2−トリフルオロエチルチオ)フェニル]エーテル(215.4mg、0.500mmol)をジクロロメタン(1.0mL)に溶解した。そこに上記(1)で調製した触媒溶液を加えた。混合物を0℃に冷却した。そこに30%過酸化水素(113.4mg、1.0mmol)を加えた。混合物を0℃で14時間撹拌した。反応混合物の有機層をHPLC(面積百分率)により分析した。その結果、反応混合物中の溶媒等を除く成分は以下の通りであった;
5−トリフルオロメチルチオペンチル−[4−クロロ−2−フルオロ−5−(2,2,2−トリフルオロエチルスルフィニル)フェニル]エーテル(目的化合物):20%、
5−トリフルオロメチルチオペンチル−[4−クロロ−2−フルオロ−5−(2,2,2−トリフルオロエチルチオ)フェニル]エーテル(原料化合物):77%、
5−トリフルオロメチルチオペンチル−[4−クロロ−2−フルオロ−5−(2,2,2−トリフルオロエチルスルホニル)フェニル]エーテル(過剰酸化による副生成物):0%。
(1) Preparation of catalyst solution Fe (acac) 3 (1.8 mg, 0.005 mmol), compound of formula (3-4) (1.0 mg, 0.005 mmol), formula (4-19) in a vial with a screw cap ) (Sodium 2-methoxybenzoate; 4.4 mg, 0.025 mmol) and dichloromethane (1 mL) were added. The mixture was stirred at room temperature for 30 minutes.
(2) Preparation of the title compound 5-trifluoromethylthiopentyl- [4-chloro-2-fluoro-5- (2,2,2-trifluoroethylthio) phenyl] ether (215.4 mg, 0.500 mmol) Dissolved in dichloromethane (1.0 mL). The catalyst solution prepared in (1) above was added thereto. The mixture was cooled to 0 ° C. 30% hydrogen peroxide (113.4 mg, 1.0 mmol) was added thereto. The mixture was stirred at 0 ° C. for 14 hours. The organic layer of the reaction mixture was analyzed by HPLC (area percentage). As a result, components other than the solvent and the like in the reaction mixture were as follows:
5-trifluoromethylthiopentyl- [4-chloro-2-fluoro-5- (2,2,2-trifluoroethylsulfinyl) phenyl] ether (target compound): 20%,
5-trifluoromethylthiopentyl- [4-chloro-2-fluoro-5- (2,2,2-trifluoroethylthio) phenyl] ether (raw compound): 77%,
5-Trifluoromethylthiopentyl- [4-chloro-2-fluoro-5- (2,2,2-trifluoroethylsulfonyl) phenyl] ether (byproduct by overoxidation): 0%.
比較例3
5−トリフルオロメチルチオペンチル−[4−クロロ−2−フルオロ−5−(2,2,2−トリフルオロエチルスルフィニル)フェニル]エーテルの製造
Comparative Example 3
Preparation of 5-trifluoromethylthiopentyl- [4-chloro-2-fluoro-5- (2,2,2-trifluoroethylsulfinyl) phenyl] ether
(1)触媒溶液の調製
スクリューキャップ付きバイアルにFe(acac)3(1.8mg、0.005mmol)、式(3−4)の化合物(1.0mg、0.005mmol)、式(4−5)の化合物(4−メトキシ安息香酸ナトリウム;4.4mg、0.025mmol)、およびジクロロメタン(1mL)を加えた。混合物を室温で30分間撹拌した。
(2)標題化合物の製造
5−トリフルオロメチルチオペンチル−[4−クロロ−2−フルオロ−5−(2,2,2−トリフルオロエチルチオ)フェニル]エーテル(215.4mg、0.500mmol)をジクロロメタン(1.0mL)に溶解した。そこに上記(1)で調製した触媒溶液を加えた。混合物を0℃に冷却した。そこに30%過酸化水素(113.4mg、1.0mmol)を加えた。混合物を0℃で16時間撹拌した。反応混合物の有機層をHPLC(面積百分率)により分析した。その結果、反応混合物中の溶媒等を除く成分は以下の通りであった;
5−トリフルオロメチルチオペンチル−[4−クロロ−2−フルオロ−5−(2,2,2−トリフルオロエチルスルフィニル)フェニル]エーテル(目的化合物):19%、
5−トリフルオロメチルチオペンチル−[4−クロロ−2−フルオロ−5−(2,2,2−トリフルオロエチルチオ)フェニル]エーテル(原料化合物):80%、
5−トリフルオロメチルチオペンチル−[4−クロロ−2−フルオロ−5−(2,2,2−トリフルオロエチルスルホニル)フェニル]エーテル(過剰酸化による副生成物):0%。
(1) Preparation of catalyst solution Fe (acac) 3 (1.8 mg, 0.005 mmol), compound of formula (3-4) (1.0 mg, 0.005 mmol), formula (4-5) in a vial with a screw cap ) Compound (sodium 4-methoxybenzoate; 4.4 mg, 0.025 mmol), and dichloromethane (1 mL). The mixture was stirred at room temperature for 30 minutes.
(2) Preparation of the title compound 5-trifluoromethylthiopentyl- [4-chloro-2-fluoro-5- (2,2,2-trifluoroethylthio) phenyl] ether (215.4 mg, 0.500 mmol) Dissolved in dichloromethane (1.0 mL). The catalyst solution prepared in (1) above was added thereto. The mixture was cooled to 0 ° C. 30% hydrogen peroxide (113.4 mg, 1.0 mmol) was added thereto. The mixture was stirred at 0 ° C. for 16 hours. The organic layer of the reaction mixture was analyzed by HPLC (area percentage). As a result, components other than the solvent and the like in the reaction mixture were as follows:
5-trifluoromethylthiopentyl- [4-chloro-2-fluoro-5- (2,2,2-trifluoroethylsulfinyl) phenyl] ether (target compound): 19%,
5-trifluoromethylthiopentyl- [4-chloro-2-fluoro-5- (2,2,2-trifluoroethylthio) phenyl] ether (raw compound): 80%
5-Trifluoromethylthiopentyl- [4-chloro-2-fluoro-5- (2,2,2-trifluoroethylsulfonyl) phenyl] ether (byproduct by overoxidation): 0%.
比較例4
5−トリフルオロメチルチオペンチル−[4−クロロ−2−フルオロ−5−(2,2,2−トリフルオロエチルスルフィニル)フェニル]エーテルの製造
Comparative Example 4
Preparation of 5-trifluoromethylthiopentyl- [4-chloro-2-fluoro-5- (2,2,2-trifluoroethylsulfinyl) phenyl] ether
(1)触媒溶液の調製
スクリューキャップ付きバイアルにFe(acac)3(1.8mg、0.005mmol)、式(3−4)の化合物(1.0mg、0.005mmol)、式(4−12)の化合物(安息香酸ナトリウム;3.6mg、0.025mmol)、およびジクロロメタン(1mL)を加えた。混合物を室温で30分間撹拌した。
(2)標題化合物の製造
5−トリフルオロメチルチオペンチル−[4−クロロ−2−フルオロ−5−(2,2,2−トリフルオロエチルチオ)フェニル]エーテル(215.4mg、0.500mmol)をジクロロメタン(1.0mL)に溶解した。そこに上記(1)で調製した触媒溶液を加えた。混合物を0℃に冷却した。そこに30%過酸化水素(113.4mg、1.0mmol)を加えた。混合物を0℃で16時間撹拌した。反応混合物の有機層をHPLC(面積百分率)により分析した。その結果、反応混合物中の溶媒等を除く成分は以下の通りであった;
5−トリフルオロメチルチオペンチル−[4−クロロ−2−フルオロ−5−(2,2,2−トリフルオロエチルスルフィニル)フェニル]エーテル(目的化合物):16%、
5−トリフルオロメチルチオペンチル−[4−クロロ−2−フルオロ−5−(2,2,2−トリフルオロエチルチオ)フェニル]エーテル(原料化合物):82%、
5−トリフルオロメチルチオペンチル−[4−クロロ−2−フルオロ−5−(2,2,2−トリフルオロエチルスルホニル)フェニル]エーテル(過剰酸化による副生成物):0%。
(1) Preparation of catalyst solution Fe (acac) 3 (1.8 mg, 0.005 mmol), compound of formula (3-4) (1.0 mg, 0.005 mmol), formula (4-12) in a vial with a screw cap ) (Sodium benzoate; 3.6 mg, 0.025 mmol) and dichloromethane (1 mL) were added. The mixture was stirred at room temperature for 30 minutes.
(2) Preparation of the title compound 5-trifluoromethylthiopentyl- [4-chloro-2-fluoro-5- (2,2,2-trifluoroethylthio) phenyl] ether (215.4 mg, 0.500 mmol) Dissolved in dichloromethane (1.0 mL). The catalyst solution prepared in (1) above was added thereto. The mixture was cooled to 0 ° C. 30% hydrogen peroxide (113.4 mg, 1.0 mmol) was added thereto. The mixture was stirred at 0 ° C. for 16 hours. The organic layer of the reaction mixture was analyzed by HPLC (area percentage). As a result, components other than the solvent and the like in the reaction mixture were as follows:
5-trifluoromethylthiopentyl- [4-chloro-2-fluoro-5- (2,2,2-trifluoroethylsulfinyl) phenyl] ether (target compound): 16%
5-trifluoromethylthiopentyl- [4-chloro-2-fluoro-5- (2,2,2-trifluoroethylthio) phenyl] ether (raw compound): 82%
5-Trifluoromethylthiopentyl- [4-chloro-2-fluoro-5- (2,2,2-trifluoroethylsulfonyl) phenyl] ether (byproduct by overoxidation): 0%.
比較例5
5−トリフルオロメチルチオペンチル−[4−クロロ−2−フルオロ−5−(2,2,2−トリフルオロエチルスルフィニル)フェニル]エーテルの製造
Comparative Example 5
Preparation of 5-trifluoromethylthiopentyl- [4-chloro-2-fluoro-5- (2,2,2-trifluoroethylsulfinyl) phenyl] ether
(1)触媒溶液の調製
スクリューキャップ付きバイアルにFe(acac)3(1.8mg、0.005mmol)、式(3−4)の化合物(1.0mg、0.005mmol)、酢酸ナトリウム(2.1mg、0.025mmol)、およびジクロロメタン(1mL)を加えた。混合物を室温で30分間撹拌した。
(2)標題化合物の製造
5−トリフルオロメチルチオペンチル−[4−クロロ−2−フルオロ−5−(2,2,2−トリフルオロエチルチオ)フェニル]エーテル(215.4mg、0.500mmol)をジクロロメタン(1.0mL)に溶解した。そこに上記(1)で調製した触媒溶液を加えた。混合物を0℃に冷却した。そこに30%過酸化水素(113.4mg、1.0mmol)を加えた。混合物を0℃で16時間撹拌した。反応混合物の有機層をHPLC(面積百分率)により分析した。その結果、反応混合物中の溶媒等を除く成分は以下の通りであった;
5−トリフルオロメチルチオペンチル−[4−クロロ−2−フルオロ−5−(2,2,2−トリフルオロエチルスルフィニル)フェニル]エーテル(目的化合物):19%、
5−トリフルオロメチルチオペンチル−[4−クロロ−2−フルオロ−5−(2,2,2−トリフルオロエチルチオ)フェニル]エーテル(原料化合物):79%、
5−トリフルオロメチルチオペンチル−[4−クロロ−2−フルオロ−5−(2,2,2−トリフルオロエチルスルホニル)フェニル]エーテル(過剰酸化による副生成物):0%。
(1) Preparation of catalyst solution Fe (acac) 3 (1.8 mg, 0.005 mmol), compound of formula (3-4) (1.0 mg, 0.005 mmol), sodium acetate (2. 1 mg, 0.025 mmol), and dichloromethane (1 mL) were added. The mixture was stirred at room temperature for 30 minutes.
(2) Preparation of the title compound 5-trifluoromethylthiopentyl- [4-chloro-2-fluoro-5- (2,2,2-trifluoroethylthio) phenyl] ether (215.4 mg, 0.500 mmol) Dissolved in dichloromethane (1.0 mL). The catalyst solution prepared in (1) above was added thereto. The mixture was cooled to 0 ° C. 30% hydrogen peroxide (113.4 mg, 1.0 mmol) was added thereto. The mixture was stirred at 0 ° C. for 16 hours. The organic layer of the reaction mixture was analyzed by HPLC (area percentage). As a result, components other than the solvent and the like in the reaction mixture were as follows:
5-trifluoromethylthiopentyl- [4-chloro-2-fluoro-5- (2,2,2-trifluoroethylsulfinyl) phenyl] ether (target compound): 19%,
5-trifluoromethylthiopentyl- [4-chloro-2-fluoro-5- (2,2,2-trifluoroethylthio) phenyl] ether (raw compound): 79%,
5-Trifluoromethylthiopentyl- [4-chloro-2-fluoro-5- (2,2,2-trifluoroethylsulfonyl) phenyl] ether (byproduct by overoxidation): 0%.
比較例6
5−トリフルオロメチルチオペンチル−[4−クロロ−2−フルオロ−5−(2,2,2−トリフルオロエチルスルフィニル)フェニル]エーテルの製造
Comparative Example 6
Preparation of 5-trifluoromethylthiopentyl- [4-chloro-2-fluoro-5- (2,2,2-trifluoroethylsulfinyl) phenyl] ether
(1)触媒溶液の調製
スクリューキャップ付きバイアルにFe(acac)3(1.8mg、0.005mmol)、式(3−4)の化合物(1.0mg、0.005mmol)、およびジクロロメタン(1mL)を加えた。混合物を室温で30分間撹拌した。
(2)標題化合物の製造
5−トリフルオロメチルチオペンチル−[4−クロロ−2−フルオロ−5−(2,2,2−トリフルオロエチルチオ)フェニル]エーテル(215.4mg、0.500mmol)をジクロロメタン(1.0mL)に溶解した。そこに上記(1)で調製した触媒溶液を加えた。混合物を0℃に冷却した。そこに30%過酸化水素(113.4mg、1.0mmol)を加えた。混合物を0℃で16時間撹拌した。反応混合物の有機層をHPLC(面積百分率)により分析した。その結果、反応混合物中の溶媒等を除く成分は以下の通りであった;
5−トリフルオロメチルチオペンチル−[4−クロロ−2−フルオロ−5−(2,2,2−トリフルオロエチルスルフィニル)フェニル]エーテル(目的化合物):2%、
5−トリフルオロメチルチオペンチル−[4−クロロ−2−フルオロ−5−(2,2,2−トリフルオロエチルチオ)フェニル]エーテル(原料化合物):96%、
5−トリフルオロメチルチオペンチル−[4−クロロ−2−フルオロ−5−(2,2,2−トリフルオロエチルスルホニル)フェニル]エーテル(過剰酸化による副生成物):0%。
(1) Preparation of catalyst solution Fe (acac) 3 (1.8 mg, 0.005 mmol), compound of formula (3-4) (1.0 mg, 0.005 mmol), and dichloromethane (1 mL) in a vial with a screw cap Was added. The mixture was stirred at room temperature for 30 minutes.
(2) Preparation of the title compound 5-trifluoromethylthiopentyl- [4-chloro-2-fluoro-5- (2,2,2-trifluoroethylthio) phenyl] ether (215.4 mg, 0.500 mmol) Dissolved in dichloromethane (1.0 mL). The catalyst solution prepared in (1) above was added thereto. The mixture was cooled to 0 ° C. 30% hydrogen peroxide (113.4 mg, 1.0 mmol) was added thereto. The mixture was stirred at 0 ° C. for 16 hours. The organic layer of the reaction mixture was analyzed by HPLC (area percentage). As a result, components other than the solvent and the like in the reaction mixture were as follows:
5-trifluoromethylthiopentyl- [4-chloro-2-fluoro-5- (2,2,2-trifluoroethylsulfinyl) phenyl] ether (target compound): 2%,
5-trifluoromethylthiopentyl- [4-chloro-2-fluoro-5- (2,2,2-trifluoroethylthio) phenyl] ether (raw compound): 96%,
5-Trifluoromethylthiopentyl- [4-chloro-2-fluoro-5- (2,2,2-trifluoroethylsulfonyl) phenyl] ether (byproduct by overoxidation): 0%.
比較例7
5−トリフルオロメチルチオペンチル−[4−クロロ−2−フルオロ−5−(エチルスルフィニル)フェニル]エーテルの製造
Comparative Example 7
Preparation of 5-trifluoromethylthiopentyl- [4-chloro-2-fluoro-5- (ethylsulfinyl) phenyl] ether
(1)触媒溶液の調製
スクリューキャップ付きバイアルにFe(acac)3(1.8mg、0.005mmol)、式(3−4)の化合物(1.0mg、0.005mmol)、式(4−1)の化合物(2,6−ジメトキシ安息香酸ナトリウム;5.1mg、0.025mmol)、およびジクロロメタン(1mL)を加えた。混合物を室温で30分間撹拌した。
(2)標題化合物の製造
5−トリフルオロメチルチオペンチル−[4−クロロ−2−フルオロ−5−(エチルチオ)フェニル]エーテル(188.4mg、0.500mmol)をジクロロメタン(1.0mL)に溶解した。そこに上記(1)で調製した触媒溶液を加えた。混合物を0℃に冷却した。そこに30%過酸化水素(113.4mg、1.0mmol)を加えた。混合物を0℃で24時間撹拌した。反応混合物の有機層をHPLC(面積百分率)により分析した。その結果、反応混合物中の溶媒等を除く成分は以下の通りであった;
5−トリフルオロメチルチオペンチル−[4−クロロ−2−フルオロ−5−(エチルスルフィニル)フェニル]エーテル(目的化合物):39%、
5−トリフルオロメチルチオペンチル−[4−クロロ−2−フルオロ−5−(エチルチオ)フェニル]エーテル(原料化合物):55%、
5−トリフルオロメチルチオペンチル−[4−クロロ−2−フルオロ−5−(エチルスルホニル)フェニル]エーテル(過剰酸化による副生成物):0%。
生成物のLC/MS(目的化合物);Exact Mass:392.0295、実測値(ポジティブ):393.0370
(1) Preparation of catalyst solution Fe (acac) 3 (1.8 mg, 0.005 mmol), compound of formula (3-4) (1.0 mg, 0.005 mmol), formula (4-1) in a vial with a screw cap ) Compound (sodium 2,6-dimethoxybenzoate; 5.1 mg, 0.025 mmol) and dichloromethane (1 mL). The mixture was stirred at room temperature for 30 minutes.
(2) Preparation of title compound 5-trifluoromethylthiopentyl- [4-chloro-2-fluoro-5- (ethylthio) phenyl] ether (188.4 mg, 0.500 mmol) was dissolved in dichloromethane (1.0 mL). . The catalyst solution prepared in (1) above was added thereto. The mixture was cooled to 0 ° C. 30% hydrogen peroxide (113.4 mg, 1.0 mmol) was added thereto. The mixture was stirred at 0 ° C. for 24 hours. The organic layer of the reaction mixture was analyzed by HPLC (area percentage). As a result, components other than the solvent and the like in the reaction mixture were as follows:
5-trifluoromethylthiopentyl- [4-chloro-2-fluoro-5- (ethylsulfinyl) phenyl] ether (target compound): 39%,
5-trifluoromethylthiopentyl- [4-chloro-2-fluoro-5- (ethylthio) phenyl] ether (raw compound): 55%
5-Trifluoromethylthiopentyl- [4-chloro-2-fluoro-5- (ethylsulfonyl) phenyl] ether (byproduct by overoxidation): 0%.
LC / MS (target compound) of the product; Exact Mass: 392.0295, Found (positive): 393.0370
比較例8
メチルフェニルスルホキシドの製造
Comparative Example 8
Production of methylphenyl sulfoxide
(1)触媒溶液の調製
スクリューキャップ付きバイアルにFe(acac)3(1.8mg、0.005mmol)、式(3−4)の化合物(1.0mg、0.005mmol)、式(4−1)の化合物(2,6−ジメトキシ安息香酸ナトリウム;5.1mg、0.025mmol)、およびジクロロメタン(1mL)を加えた。混合物を室温で30分間撹拌した。
(2)標題化合物の製造
チオアニソール(62.1mg、0.500mmol)をジクロロメタン(1.0mL)に溶解した。そこに上記(1)で調製した触媒溶液を加えた。混合物を0℃に冷却した。そこに30%過酸化水素(113.4mg、1.0mmol)を加えた。混合物を0℃で20時間撹拌した。反応混合物の有機層をHPLC(面積百分率)により分析した。その結果、反応混合物中の溶媒等を除く成分は以下の通りであった;
メチルフェニルスルホキシド(目的化合物):16%、
チオアニソール(原料化合物):77%、
メチルフェニルスルホン(過剰酸化による副生成物):7%。
(1) Preparation of catalyst solution Fe (acac) 3 (1.8 mg, 0.005 mmol), compound of formula (3-4) (1.0 mg, 0.005 mmol), formula (4-1) in a vial with a screw cap ) Compound (sodium 2,6-dimethoxybenzoate; 5.1 mg, 0.025 mmol) and dichloromethane (1 mL). The mixture was stirred at room temperature for 30 minutes.
(2) Preparation of title compound Thioanisole (62.1 mg, 0.500 mmol) was dissolved in dichloromethane (1.0 mL). The catalyst solution prepared in (1) above was added thereto. The mixture was cooled to 0 ° C. 30% hydrogen peroxide (113.4 mg, 1.0 mmol) was added thereto. The mixture was stirred at 0 ° C. for 20 hours. The organic layer of the reaction mixture was analyzed by HPLC (area percentage). As a result, components other than the solvent and the like in the reaction mixture were as follows:
Methylphenyl sulfoxide (target compound): 16%,
Thioanisole (raw compound): 77%,
Methylphenylsulfone (by-product by overoxidation): 7%.
目的化合物のLC/MS;Exact Mass:140.0、実測値(ポジティブ):141.1
副生成物のLC/MS;Exact Mass:156.0、実測値(ポジティブ):157.1
LC / MS of target compound; Exact Mass: 140.0, measured value (positive): 141.1
LC / MS of by-product; Exact Mass: 156.0, Found (positive): 157.1
比較例9
5−トリフルオロメチルチオペンチル−[4−クロロ−2−フルオロ−5−(2,2,2−トリフルオロエチルスルフィニル)フェニル]エーテルの製造
Comparative Example 9
Preparation of 5-trifluoromethylthiopentyl- [4-chloro-2-fluoro-5- (2,2,2-trifluoroethylsulfinyl) phenyl] ether
(1)標題化合物の製造
5−トリフルオロメチルチオペンチル−[4−クロロ−2−フルオロ−5−(2,2,2−トリフルオロエチルチオ)フェニル]エーテル(215.4mg、0.500mmol)をアセトニトリル(1.0mL)に溶解した。そこにタングステン酸ナトリウム二水和物(8.2mg、0.025mmol)を加えた。混合物を室温で撹拌しながら、そこに30%過酸化水素(113.4mg、1.0mmol)を加えた。混合物を室温で15時間撹拌した。反応混合物の有機層をHPLC(面積百分率)により分析した。その結果、反応混合物中の溶媒等を除く成分は以下の通りであった;
5−トリフルオロメチルチオペンチル−[4−クロロ−2−フルオロ−5−(2,2,2−トリフルオロエチルスルフィニル)フェニル]エーテル(目的化合物):61%、
5−トリフルオロメチルチオペンチル−[4−クロロ−2−フルオロ−5−(2,2,2−トリフルオロエチルチオ)フェニル]エーテル(原料化合物):32%、
5−トリフルオロメチルチオペンチル−[4−クロロ−2−フルオロ−5−(2,2,2−トリフルオロエチルスルホニル)フェニル]エーテル(過剰酸化による副生成物):2%。
(2)追加の過酸化水素を用いた標題化合物の製造
上記で得られた反応混合物に、30%過酸化水素(113.4mg、1.0mmol)を加えた。混合物を室温で23時間撹拌した。反応混合物の有機層をHPLC(面積百分率)により分析した。その結果、反応混合物中の溶媒等を除く成分は以下の通りであった;
5−トリフルオロメチルチオペンチル−[4−クロロ−2−フルオロ−5−(2,2,2−トリフルオロエチルスルフィニル)フェニル]エーテル(目的化合物):79%、
5−トリフルオロメチルチオペンチル−[4−クロロ−2−フルオロ−5−(2,2,2−トリフルオロエチルチオ)フェニル]エーテル(原料化合物):0%、
5−トリフルオロメチルチオペンチル−[4−クロロ−2−フルオロ−5−(2,2,2−トリフルオロエチルスルホニル)フェニル]エーテル(過剰酸化による副生成物):12%。
(1) Preparation of title compound 5-trifluoromethylthiopentyl- [4-chloro-2-fluoro-5- (2,2,2-trifluoroethylthio) phenyl] ether (215.4 mg, 0.500 mmol) Dissolved in acetonitrile (1.0 mL). Thereto was added sodium tungstate dihydrate (8.2 mg, 0.025 mmol). While the mixture was stirred at room temperature, 30% hydrogen peroxide (113.4 mg, 1.0 mmol) was added thereto. The mixture was stirred at room temperature for 15 hours. The organic layer of the reaction mixture was analyzed by HPLC (area percentage). As a result, components other than the solvent and the like in the reaction mixture were as follows:
5-trifluoromethylthiopentyl- [4-chloro-2-fluoro-5- (2,2,2-trifluoroethylsulfinyl) phenyl] ether (target compound): 61%,
5-trifluoromethylthiopentyl- [4-chloro-2-fluoro-5- (2,2,2-trifluoroethylthio) phenyl] ether (raw compound): 32%,
5-Trifluoromethylthiopentyl- [4-chloro-2-fluoro-5- (2,2,2-trifluoroethylsulfonyl) phenyl] ether (byproduct by overoxidation): 2%.
(2) Preparation of title compound using additional hydrogen peroxide To the reaction mixture obtained above, 30% hydrogen peroxide (113.4 mg, 1.0 mmol) was added. The mixture was stirred at room temperature for 23 hours. The organic layer of the reaction mixture was analyzed by HPLC (area percentage). As a result, components other than the solvent and the like in the reaction mixture were as follows:
5-trifluoromethylthiopentyl- [4-chloro-2-fluoro-5- (2,2,2-trifluoroethylsulfinyl) phenyl] ether (target compound): 79%
5-trifluoromethylthiopentyl- [4-chloro-2-fluoro-5- (2,2,2-trifluoroethylthio) phenyl] ether (raw compound): 0%
5-Trifluoromethylthiopentyl- [4-chloro-2-fluoro-5- (2,2,2-trifluoroethylsulfonyl) phenyl] ether (by-product by overoxidation): 12%.
特許文献1に開示されるように、一般式(1)で表されるスルホキシド誘導体は優れた殺ダニ活性を有する。 As disclosed in Patent Document 1, the sulfoxide derivative represented by the general formula (1) has excellent acaricidal activity.
本発明によれば、殺ダニ剤等の農薬として有用である一般式(1)で表されるスルホキシド誘導体の工業的に好ましい新規な製造方法が提供される。
本明細書において上述したように、本発明の方法は経済的であり、環境にも優しく、高い工業的な利用価値を有する。
特に、本発明の方法では、スルホン誘導体への過剰酸化を回避して、目的とするスルホキシド誘導体を選択的に製造することができる。
したがって、本発明には除去が難しい副生成物のスルホン誘導体を除去する必要がないという利点がある。
ADVANTAGE OF THE INVENTION According to this invention, the industrially preferable novel manufacturing method of the sulfoxide derivative represented by General formula (1) useful as agricultural chemicals, such as an acaricide, is provided.
As described herein above, the method of the present invention is economical, environmentally friendly and has a high industrial utility value.
In particular, according to the method of the present invention, the target sulfoxide derivative can be selectively produced while avoiding excessive oxidation to the sulfone derivative.
Therefore, the present invention has the advantage that it is not necessary to remove the by-product sulfone derivative, which is difficult to remove.
要するに、本発明は高い産業上の利用可能性を有する。
In short, the present invention has high industrial applicability.
Claims (17)
R1が、C1〜C10アルキル基、
C3〜C6シクロアルキルC1〜C6アルキル基、ここで当該C3〜C6シクロアルキル基部分はハロゲン原子、C1〜C4アルキル基、C1〜C4アルコキシ基またはC1〜C4ハロアルキル基によりモノ置換またはポリ置換されていてもよい、
フェニルC1〜C6アルキル基、ここで当該フェニル基部分はハロゲン原子、C1〜C4アルキル基、C1〜C4アルコキシ基、C1〜C6ハロアルキル基、シアノ基またはニトロ基によりモノ置換またはポリ置換されていてもよい、
C1〜C4アルコキシC2〜C10アルキル基、
C1〜C4ハロアルコキシC2〜C10アルキル基、
C1〜C4アルキルチオC2〜C10アルキル基、
C1〜C4アルキルスルフィニルC2〜C10アルキル基、
C1〜C4アルキルスルホニルC2〜C10アルキル基、
C1〜C4ハロアルキルチオC2〜C10アルキル基、
C1〜C4ハロアルキルスルフィニルC2〜C10アルキル基、
C1〜C4ハロアルキルスルホニルC2〜C10アルキル基、
C1〜C6ハロアルキル基、
C3〜C6シクロアルキルC1〜C6ハロアルキル基、ここで当該C3〜C6シクロアルキル基部分はハロゲン原子、C1〜C4アルキル基、C1〜C4アルコキシ基またはC1〜C6ハロアルキル基によりモノ置換またはポリ置換されていてもよい、
フェニルC1〜C6ハロアルキル基、ここで当該フェニル基部分はハロゲン原子、C1〜C4アルキル基、C1〜C4アルコキシ基、C1〜C4ハロアルキル基、シアノ基またはニトロ基によりモノ置換またはポリ置換されていてもよい、または
C1〜C4ハロアルキルチオC1〜C6ハロアルキル基であり;
R2およびR3は、それぞれ独立して、水素原子、ハロゲン原子またはC1〜C4アルキル基である。)で表されるスルホキシド誘導体の製造方法であって、一般式(2):
で表されるスルフィド誘導体を、金属化合物および配位子としての一般式(3):
R4およびR5は、それぞれ独立して、水素原子、ハロゲン原子、C1〜C6アルキル基、フェニルC1〜C6アルキル基、C6〜C10アリール基、シアノ基、ニトロ基またはC1〜C6アルコキシ基であり;
R6は、C1〜C4アルキル基、シアノ基、ニトロ基、カルボキシ基、C1〜C4アルコキシカルボニル基、C1〜C4アルキルカルボニル基、ヒドロキシC1〜C4アルキル基、C1〜C4アルコキシC1〜C4アルキル基、アミノC1〜C4アルキル基、シアノC1〜C4アルキル基、ニトロC1〜C4アルキル基、カルボキシC1〜C4アルキル基またはC1〜C4アルコキシカルボニルC1〜C4アルキル基であり;
R71およびR72は、それぞれ独立して、水素原子、C1〜C6アルキル基、フェニルC1〜C6アルキル基またはC6〜C10アリール基である。但し、R71およびR72は水素原子である場合を除く。)
で表される化合物を含む金属−配位子錯体である触媒、ならびに一般式(4):
A1がC1〜C2アルコキシ基であり;
A2が水素原子であり;
A3が水素原子またはC1〜C2アルコキシ基であり;
A4が水素原子であり;
A5がC1〜C2アルコキシ基であり;
Mは、水素原子、アルカリ金属原子またはアルカリ土類金属原子であり;そして
nは1または2である。)
で表される安息香酸化合物の存在下で、酸化剤と反応させることを特徴とする方法。 General formula (1):
R 1 is a C1-C10 alkyl group,
C3-C6 cycloalkyl C1-C6 alkyl group, wherein the C3-C6 cycloalkyl group moiety is mono- or poly-substituted by halogen atom, C1-C4 alkyl group, C1-C4 alkoxy group or C1-C4 haloalkyl group. May be
A phenyl C1-C6 alkyl group, wherein the phenyl group moiety may be mono- or poly-substituted by halogen atoms, C1-C4 alkyl groups, C1-C4 alkoxy groups, C1-C6 haloalkyl groups, cyano groups or nitro groups. Good,
A C1-C4 alkoxy C2-C10 alkyl group,
A C1-C4 haloalkoxy C2-C10 alkyl group,
A C1-C4 alkylthio C2-C10 alkyl group,
A C1-C4 alkylsulfinyl C2-C10 alkyl group,
A C1-C4 alkylsulfonyl C2-C10 alkyl group,
A C1-C4 haloalkylthio C2-C10 alkyl group,
A C1-C4 haloalkylsulfinyl C2-C10 alkyl group,
A C1-C4 haloalkylsulfonyl C2-C10 alkyl group,
A C1-C6 haloalkyl group,
C3-C6 cycloalkyl C1-C6 haloalkyl group, wherein the C3-C6 cycloalkyl group moiety is mono- or poly-substituted by halogen atom, C1-C4 alkyl group, C1-C4 alkoxy group or C1-C6 haloalkyl group. May be
A phenyl C1-C6 haloalkyl group, wherein the phenyl group moiety may be mono- or poly-substituted by halogen atoms, C1-C4 alkyl groups, C1-C4 alkoxy groups, C1-C4 haloalkyl groups, cyano groups or nitro groups. Or a C1-C4 haloalkylthio C1-C6 haloalkyl group;
R 2 and R 3 are each independently a hydrogen atom, a halogen atom or a C1-C4 alkyl group. ) A sulfoxide derivative represented by the general formula (2):
A sulfide derivative represented by the general formula (3) as a metal compound and a ligand:
R 4 and R 5 are each independently a hydrogen atom, a halogen atom, a C1-C6 alkyl group, a phenyl C1-C6 alkyl group, a C6-C10 aryl group, a cyano group, a nitro group, or a C1-C6 alkoxy group. ;
R 6 is a C1-C4 alkyl group, a cyano group, a nitro group, a carboxy group, a C1-C4 alkoxycarbonyl group, a C1-C4 alkylcarbonyl group, a hydroxy C1-C4 alkyl group, a C1-C4 alkoxy C1-C4 alkyl group, An amino C1-C4 alkyl group, a cyano C1-C4 alkyl group, a nitro C1-C4 alkyl group, a carboxy C1-C4 alkyl group or a C1-C4 alkoxycarbonyl C1-C4 alkyl group;
R 71 and R 72 are each independently a hydrogen atom, a C1-C6 alkyl group, a phenyl C1-C6 alkyl group, or a C6-C10 aryl group. However, the case where R 71 and R 72 are hydrogen atoms is excluded. )
And a catalyst that is a metal-ligand complex containing a compound represented by formula (4):
A 1 is a C1-C2 alkoxy group;
A 2 is a hydrogen atom;
A 3 is a hydrogen atom or a C1-C2 alkoxy group;
A 4 is a hydrogen atom;
A 5 is a C1-C2 alkoxy group;
M is a hydrogen atom, an alkali metal atom or an alkaline earth metal atom; and n is 1 or 2. )
And reacting with an oxidizing agent in the presence of a benzoic acid compound represented by the formula:
C3〜C6シクロアルキルC1〜C6アルキル基、ここで当該C3〜C6シクロアルキル基部分はハロゲン原子またはC1〜C4アルキル基によりモノ置換またはポリ置換されていてもよい、
フェニルC1〜C6アルキル基、ここで当該フェニル基部分はハロゲン原子またはC1〜C4アルキル基によりモノ置換またはポリ置換されていてもよい、
C1〜C4アルコキシC2〜C10アルキル基、
C1〜C4ハロアルコキシC2〜C10アルキル基、
C1〜C4アルキルチオC2〜C10アルキル基、
C1〜C4アルキルスルフィニルC2〜C10アルキル基、
C1〜C4アルキルスルホニルC2〜C10アルキル基、
C1〜C4ハロアルキルチオC2〜C10アルキル基、
C1〜C4ハロアルキルスルフィニルC2〜C10アルキル基、
C1〜C4ハロアルキルスルホニルC2〜C10アルキル基、
C1〜C6ハロアルキル基、
C3〜C6シクロアルキルC1〜C6ハロアルキル基、ここで当該C3〜C6シクロアルキル基部分はハロゲン原子またはC1〜C4アルキル基によりモノ置換またはポリ置換されていてもよい、または
フェニルC1〜C6ハロアルキル基、ここで当該フェニル基部分はハロゲン原子またはC1〜C4アルキル基によりモノ置換またはポリ置換されていてもよい、である、請求項1に記載の方法。 R 1 is a C1-C10 alkyl group,
A C3-C6 cycloalkyl C1-C6 alkyl group, wherein the C3-C6 cycloalkyl group moiety may be mono- or poly-substituted with a halogen atom or a C1-C4 alkyl group,
A phenyl C1-C6 alkyl group, wherein the phenyl group moiety may be mono- or poly-substituted with a halogen atom or a C1-C4 alkyl group,
A C1-C4 alkoxy C2-C10 alkyl group,
A C1-C4 haloalkoxy C2-C10 alkyl group,
A C1-C4 alkylthio C2-C10 alkyl group,
A C1-C4 alkylsulfinyl C2-C10 alkyl group,
A C1-C4 alkylsulfonyl C2-C10 alkyl group,
A C1-C4 haloalkylthio C2-C10 alkyl group,
A C1-C4 haloalkylsulfinyl C2-C10 alkyl group,
A C1-C4 haloalkylsulfonyl C2-C10 alkyl group,
A C1-C6 haloalkyl group,
A C3-C6 cycloalkyl C1-C6 haloalkyl group, wherein the C3-C6 cycloalkyl group moiety may be mono- or polysubstituted by a halogen atom or a C1-C4 alkyl group, or a phenyl C1-C6 haloalkyl group, The method according to claim 1, wherein the phenyl group moiety may be mono-substituted or poly-substituted with a halogen atom or a C1-C4 alkyl group.
C1〜C4アルコキシC2〜C10アルキル基、
C1〜C4ハロアルコキシC2〜C10アルキル基、
C1〜C4アルキルチオC2〜C10アルキル基、
C1〜C4アルキルスルフィニルC2〜C10アルキル基、
C1〜C4アルキルスルホニルC2〜C10アルキル基、
C1〜C4ハロアルキルチオC2〜C10アルキル基、
C1〜C4ハロアルキルスルフィニルC2〜C10アルキル基、
C1〜C4ハロアルキルスルホニルC2〜C10アルキル基、または
C1〜C6ハロアルコキシ基である、請求項1に記載の方法。 R 1 is a C1-C10 alkyl group,
A C1-C4 alkoxy C2-C10 alkyl group,
A C1-C4 haloalkoxy C2-C10 alkyl group,
A C1-C4 alkylthio C2-C10 alkyl group,
A C1-C4 alkylsulfinyl C2-C10 alkyl group,
A C1-C4 alkylsulfonyl C2-C10 alkyl group,
A C1-C4 haloalkylthio C2-C10 alkyl group,
A C1-C4 haloalkylsulfinyl C2-C10 alkyl group,
The method according to claim 1, which is a C1-C4 haloalkylsulfonyl C2-C10 alkyl group or a C1-C6 haloalkoxy group.
R2およびR3が、それぞれ独立して、ハロゲン原子またはC1〜C4アルキル基である、請求項1に記載の方法。 R 1 is C1~C4 haloalkylthio C2~C10 alkyl group; and R 2 and R 3 are each independently a halogen atom or a C1~C4 alkyl group, the process according to claim 1.
R2がフッ素原子でありかつR3が塩素原子であるか、またはR2およびR3がメチル基である、請求項1に記載の方法。 R 1 is a 5-trifluoromethylthiopentyl group or 6-trifluoromethylthiohexyl group; and R 2 is a fluorine atom and R 3 is a chlorine atom, or R 2 and R 3 are methyl groups The method of claim 1.
R2がフッ素原子であり;そして
R3が塩素原子である、請求項1に記載の方法。 R 1 is a 5-trifluoromethylthiopentyl group;
The method of claim 1, wherein R 2 is a fluorine atom; and R 3 is a chlorine atom.
R2およびR3がメチル基である、請求項1に記載の方法。 The method of claim 1, wherein R 1 is a 6-trifluoromethylthiohexyl group; and R 2 and R 3 are methyl groups.
R4が水素原子であり;
R5が水素原子またはハロゲン原子であり;
R6がヒドロキシメチル基であり;そして
R71およびR72が、それぞれ独立して、水素原子またはC1〜C6アルキル基である(但し、R71およびR72は水素原子である場合を除く。)、請求項1〜7のいずれか1項に記載の方法。 The metal compound is an iron compound;
R 4 is a hydrogen atom;
R 5 is a hydrogen atom or a halogen atom;
R 6 is a hydroxymethyl group; and R 71 and R 72 are each independently a hydrogen atom or a C1-C6 alkyl group (except when R 71 and R 72 are a hydrogen atom). The method according to any one of claims 1 to 7.
R4が水素原子であり;
R5が水素原子、塩素原子または臭素原子であり;
R6がヒドロキシメチル基であり;そして
R71がメチル基でありかつR72がメチル基であるか、またはR71が水素原子でありかつR72がイソプロピル基である、請求項1〜7のいずれか1項に記載の方法。 The metal compound is an iron compound;
R 4 is a hydrogen atom;
R 5 is a hydrogen atom, a chlorine atom or a bromine atom;
R 6 is a hydroxymethyl group; and R 71 is a methyl group and R 72 is a methyl group, or R 71 is a hydrogen atom and R 72 is an isopropyl group. The method according to any one of the above.
R4が水素原子であり;
R5が水素原子または塩素原子であり;
R6がヒドロキシメチル基であり;そして
R71がメチル基でありかつR72がメチル基であるか、またはR71が水素原子でありかつR72がイソプロピル基である、請求項1〜7のいずれか1項に記載の方法。 The metal compound is an iron compound;
R 4 is a hydrogen atom;
R 5 is a hydrogen atom or a chlorine atom;
R 6 is a hydroxymethyl group; and R 71 is a methyl group and R 72 is a methyl group, or R 71 is a hydrogen atom and R 72 is an isopropyl group. The method according to any one of the above.
R4が水素原子であり;
R5が水素原子であり;
R6がヒドロキシメチル基であり;
R71がメチル基であり;そして
R72がメチル基である、請求項1〜7のいずれか1項に記載の方法。 The metal compound is an iron compound;
R 4 is a hydrogen atom;
R 5 is a hydrogen atom;
R 6 is a hydroxymethyl group;
R 71 is a methyl group; and R 72 is a methyl group, the process according to any one of claims 1 to 7.
R4が水素原子であり;
R5が塩素原子であり;
R6がヒドロキシメチル基であり;
R71がメチル基であり;そして
R72がメチル基である、請求項1〜7のいずれか1項に記載の方法。 The metal compound is an iron compound;
R 4 is a hydrogen atom;
R 5 is a chlorine atom;
R 6 is a hydroxymethyl group;
R 71 is a methyl group; and R 72 is a methyl group, the process according to any one of claims 1 to 7.
nが1である、請求項1〜12のいずれか1項に記載の方法。 13. A process according to any one of claims 1 to 12, wherein M is an alkali metal atom;
nが1である、請求項1〜12のいずれか1項に記載の方法。 13. A method according to any one of claims 1 to 12, wherein M is a sodium atom; and n is 1.
A2が水素原子であり;
A3が水素原子またはメトキシ基であり;
A4が水素原子であり;
A5がメトキシ基であり;
Mがナトリウム原子であり;そして
nが1である、請求項1〜12のいずれか1項に記載の方法。 A 1 is a methoxy group;
A 2 is a hydrogen atom;
A 3 is a hydrogen atom or a methoxy group;
A 4 is a hydrogen atom;
A 5 is a methoxy group;
13. A method according to any one of claims 1 to 12, wherein M is a sodium atom; and n is 1.
A2が水素原子であり;
A3が水素原子であり;
A4が水素原子であり;
A5がメトキシ基であり;
Mがナトリウム原子であり;そして
nが1である、請求項1〜12のいずれか1項に記載の方法。 A 1 is a methoxy group;
A 2 is a hydrogen atom;
A 3 is a hydrogen atom;
A 4 is a hydrogen atom;
A 5 is a methoxy group;
13. A method according to any one of claims 1 to 12, wherein M is a sodium atom; and n is 1.
A2が水素原子であり;
A3がメトキシ基であり;
A4が水素原子であり;
A5がメトキシ基であり;
Mがナトリウム原子であり;そして
nが1である、請求項1〜12のいずれか1項に記載の方法。
A 1 is a methoxy group;
A 2 is a hydrogen atom;
A 3 is a methoxy group;
A 4 is a hydrogen atom;
A 5 is a methoxy group;
13. A method according to any one of claims 1 to 12, wherein M is a sodium atom; and n is 1.
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CN108779067A (en) * | 2016-03-03 | 2018-11-09 | 组合化学工业株式会社 | The preparation method of sulfoxide derivant |
CN108779067B (en) * | 2016-03-03 | 2020-07-14 | 组合化学工业株式会社 | Process for producing sulfoxide derivative |
WO2021221059A1 (en) * | 2020-04-30 | 2021-11-04 | クミアイ化学工業株式会社 | Method for producing monosulfoxide derivative |
CN115461324A (en) * | 2020-04-30 | 2022-12-09 | 组合化学工业株式会社 | Process for producing monosulfoxide derivative |
CN113100250A (en) * | 2021-04-17 | 2021-07-13 | 青岛滕润翔检测评价有限公司 | Acaricidal composition containing mitochondrial oxidative phosphorylation inhibitor and application thereof |
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