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JP2017152092A - 蓄電デバイス用外装材、及び当該外装材を用いた蓄電デバイス - Google Patents

蓄電デバイス用外装材、及び当該外装材を用いた蓄電デバイス Download PDF

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JP2017152092A JP2016031028A JP2016031028A JP2017152092A JP 2017152092 A JP2017152092 A JP 2017152092A JP 2016031028 A JP2016031028 A JP 2016031028A JP 2016031028 A JP2016031028 A JP 2016031028A JP 2017152092 A JP2017152092 A JP 2017152092A
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Abstract

【課題】全体の厚さが十分に薄く且つ十分に高い強度を有するとともに、電解液の分解等の副反応によって蓄電デバイスの内圧が上昇してもヒートシール部のシール性を十分に確保するのに有用な外装材及びこれを用いた蓄電デバイスを提供する。【解決手段】本発明に係る蓄電デバイス用外装材は、少なくとも基材層、金属箔層、接着樹脂層及び熱融着樹脂層をこの順序で備え、金属箔層の引張試験(JIS Z2241 引張速度25mm/分、試料JIS Z2201 13B)による引張強さが300MPa以上800MPa以下であり、接着樹脂層の厚さと熱融着樹脂層の厚さの和が20μm以上80μm以下であり、熱融着樹脂層と金属箔層との間のJIS K6854−3による剥離接着強さが15N/15mm以上30N/15mm以下である。【選択図】図1

Description

本発明は蓄電デバイス用外装材、及び当該外装材を用いた蓄電デバイスに関する。
近年、パソコン、携帯電話等の携帯端末装置、ビデオカメラ、衛星、車両などに用いられる蓄電デバイスとして、超薄型化、小型化の可能な蓄電デバイスが盛んに開発されている。このような蓄電デバイスに使用される外装材として、多層フィルムからなるラミネート外装材(例えば基材層/第1接着層/金属箔層/第2接着層/熱融着樹脂層のような構成)が注目を集めている。多層フィルムからなるラミネート外装材は、従来の容器として用いられている金属製の缶とは異なり、軽量で、放熱性が高く、形状を自由に選択できる点で、金属製の缶よりも優れている。
蓄電デバイスは、例えば、多層フィルムの蓄電デバイス用外装材の一部に冷間成型によって凹部を形成し、該凹部内に正極、セパレータ、負極、電解液等を入れ、外装材の残りの部分を折り返して凹部を覆い、外装材の縁部分を熱融着して密封することで形成される。近年では、より多くの内容物を効率的に収納してエネルギー密度を高めるために、ラミネート外装材の薄膜化が求められている。しかし、ラミネート外装材を薄膜化させた場合、ラミネート外装材の強度が低下し、外力が加えられた際に蓄電デバイスが破壊されるおそれがある。
この問題を解決するため、蓄電デバイス用外装材の金属箔層にステンレス鋼箔等の強度が高い金属箔を使用し、蓄電デバイス用外装材を薄膜化した際も強度を確保する方法が報告されている。(例えば、特許文献1)
特許5080738号公報
特許文献1に記載のステンレス鋼箔を蓄電デバイス用外装材の金属箔層として使用することで、外装材の強度を向上させることができる。このため、蓄電デバイスの使用時において、例えば電解液の分解等の副反応により内部で気体が発生して内圧が上昇しても蓄電デバイスの変形を抑制できる。しかしその反面、蓄電デバイス要素を外装材で覆った状態でヒートシールによって蓄電デバイス要素を封止した場合、内部における気体発生に伴ってヒートシール部により強い圧力がかかり、ヒートシール部が開放するおそれがある。
なお、ヒートシール部の開放に至らなくても、内圧の上昇に起因してヒートシール部のシール性が不十分となると、水蒸気が内部に浸入するおそれがある。水蒸気の浸入は蓄電デバイスの劣化の原因となる。例えばリチウムイオン二次電池の場合、電解質として六ふっ化りん酸リチウムや四ふっ化ほう酸リチウムなどのリチウム塩が含まれており、これらは水と反応するとふっ酸が生じ電池の腐食や劣化の原因となる。
本発明は上記課題を鑑みてなされたものであり、全体の厚さが十分に薄く且つ十分に高い強度を有するとともに、電解液の分解等の副反応によって蓄電デバイスの内圧が上昇してもヒートシール部のシール性を十分に確保するのに有用な外装材及びこれを用いた蓄電デバイスを提供することを目的とする。
本発明に係る蓄電デバイス用外装材は、少なくとも基材層、金属箔層、接着樹脂層及び熱融着樹脂層をこの順序で備え、金属箔層の引張試験(JIS Z2241 引張速度25mm/分、試料JIS Z2201 13B)による引張強さが300MPa以上800MPa以下であり、接着樹脂層の厚さと熱融着樹脂層の厚さの和が20μm以上80μm以下であり、熱融着樹脂層と金属箔層との間のJIS K6854−3による剥離接着強さが15N/15mm以上30N/15mm以下である。引張強さが上記範囲の金属箔層を使用するとともに、接着樹脂層と熱融着樹脂層の厚さの和を上記範囲とすることで、全体の厚さを十分に薄い一方、十分に高い強度を有する外装材を得ることができる。かかる構成の外装材において、熱融着樹脂層と金属箔層との間の剥離接着強さを上記範囲とすることで十分に高いヒートシール強度を達成することができ、これにより、電解液の分解等の副反応によって蓄電デバイスの内圧が上昇してもヒートシール部のシール性を十分に確保することができる。
上記外装材において、熱融着樹脂層はポリオレフィン系樹脂からなることが好ましい。かかる構成を採用することにより、蓄電デバイスの内部に水蒸気が浸入することをより高度に抑制できる。
本発明に係る蓄電デバイスは、正極及び負極を備える蓄電デバイス要素と、正極及び負極の各々に接続された金属端子と、蓄電デバイス要素を収納している上記外装材と、熱融着樹脂層が互いに対面した状態で熱融着されることによって形成されている融着層を有するヒートシール部とを備え、金属端子の一部がヒートシール部から外部に露出している。本発明に係る上記外装材に蓄電デバイス要素を収納してなる蓄電デバイスによれば、強度が十分に高い外装材によって蓄電デバイス要素を十分に保護することができるとともに、蓄電デバイスの内圧が上昇してもヒートシール部のシール性を十分に確保することができる。また、全体の厚さが薄い外装材の使用は薄型の蓄電デバイスの製造に寄与する。
上記蓄電デバイスのヒートシール部の開放をより一層確実に抑制する観点から、融着層のJIS Z0238によるヒートシール強さは120N/15mm以上230N/15mm以下であることが好ましい。同様の観点から、ヒートシール部の幅は5mm以上20mm以下であることが好ましい。
上記蓄電デバイスにおいて、ヒートシール部の厚さはヒートシール部以外の領域の外装材の二枚分の厚さに対して40%以上80%以下であることが好ましい。かかる構成を採用することで、ヒートシール強度の向上及びシートシール部からの水蒸気浸入量の低減の両方をより一層高水準に達成できる。
上記蓄電デバイスのヒートシール部を構成する複数の辺のうち、金属端子が突出している辺以外の辺は折り曲げられていることが好ましい。かかる構成を採用することで、小さい体積においてもヒートシール部の幅を十分に確保することができる。
本発明によれば、全体の厚さが十分に薄く且つ十分に高い強度を有するとともに、電解液の分解等の副反応によって蓄電デバイスの内圧が上昇してもヒートシール部のシール性を十分に確保するのに有用な外装材及びこれを用いた蓄電デバイスが提供される。
図1は本発明の一実施形態に係る蓄電デバイス用外装材の断面図である。 図2は本発明の他の実施形態に係る蓄電デバイス用外装材の断面図である。 図3は本発明の他の実施形態に係る蓄電デバイス用外装材の断面図である。 図4(a)〜図4(d)は本発明の一実施形態に係る蓄電デバイスの作製方法を示す工程図である。
[蓄電デバイス用外装材]
以下、本発明の蓄電デバイス用外装材の実施形態について図面を参照しながら説明する。図1に示す本実施形態の外装材1は、基材層11、接着層12、金属箔層13、腐食防止処理層14、接着樹脂層15、熱融着樹脂層16がこの順に順次積層されてなる積層構造を有する。以下、外装材1を構成する各層について詳細に説明する。
(基材層)
基材層11は、蓄電デバイスを製造する際のシール工程における耐熱性を付与し、加工や流通の際に起こりうるピンホールの発生を抑制する役割を果たす。また、成型加工時の金属箔層13の破断防止や、金属箔層13と他の金属との接触を防止する絶縁性などの役割を果たす。
基材層11としては、例えば、ポリエステル樹脂、ポリアミド樹脂、ポリオレフィン樹脂等の延伸又は未延伸フィルム等が上げられる。なかでも成型性、耐熱性、耐突き指し性、絶縁性を向上させる点から、二軸延伸ポリアミドフィルムや二軸延伸ポリエステルフィルムが好ましい。
基材層11は、一枚のフィルムである単一フィルムであってもよく、二枚以上のフィルムをドライラミネート接着剤で貼り合わせた複合フィルムであってもよい。基材層11が単一フィルムの場合には、単層単一フィルムである二軸延伸ポリアミドフィルム、又は二軸延伸ポリエステルフィルム、又は多層単一フィルムであるポリアミド/ポリエステル熱可塑性エラストマー/ポリエステルの二軸延伸共押出フィルム、また複合基材フィルムの場合には、二枚のフィルムをドライラミネート接着剤で貼り合わせた多層複合フィルムである二軸延伸ポリアミドフィルム/ポリウレタン系接着剤/二軸延伸ポリエステルフィルムを使用することができる。
基材層11が複合基材フィルムの場合には、図2に示す外装材3のように基材フィルム11A(例えばポリアミドフィルム)と基材フィルム11B(例えばポリエステルフィルム)が第2接着層17を介して積層されてなる構成が挙げられる。第2接着層17は後述する接着層12と同じ接着剤から形成されることが好ましい。また第2接着層17の厚みは0.3〜3μmであることが好ましく、0.5〜2μmであることがより好ましい。第2接着層をこのような構成とすることで、複合フィルムを用いる場合の成型加工性が向上し、また成型加工時に積層されたフィルム同士が剥がれるのを防止する。
図1に示す外装材1において、接着層12を採用しなくてもよい。すなわち、金属箔層13の表面上に基材層11を直接設けてもよい。金属箔層13上に基材層11を直接設けることで、外装材の膜厚を薄くすることができるとともに、製造効率を向上させることができる。金属箔層13上に基材層11を直接設ける場合、基材層11の材料樹脂を金属箔層13上に塗布又は塗工することにより基材層11を形成できる。基材層11を金属箔層13上に直接設ける場合の材料樹脂としては、例えば、ポリエステル樹脂、ポリウレタン樹脂、ポリアミド樹脂、ポリイミド系樹脂、フッ素系樹脂、ポリ塩化ビニリデン樹脂、アクリル系樹脂等が挙げられる。これらの樹脂は、一種類を単独で使用してもよく、二種類以上を併用してもよく、またイソシアネートやメラミン、エポキシ等を硬化剤として含有してもよい。
基材層11には難燃剤、滑剤、アンチブロッキング剤、酸化防止剤、光安定剤、粘着付与剤、帯電防止材等の添加材が内部に分散、又は表面に塗布されてもよい。滑剤としては、脂肪酸アミド(例えば、オレイン酸アミド、エルカ酸アミド、ステアリン酸アミド、ベヘニン酸アミド、エチレンビスオレイン酸アミド、エチレンビスエルカ酸アミドなど)などが挙げられる。アンチブロッキング剤としては、シリカなどの各種フィラー系のアンチブロッキング剤が好ましい。添加剤は、一種類を単独で使用してもよく、二種類以上を併用してもよい。
基材層11の厚さは、耐突き刺し性、絶縁性、成型加工性などの点から、6μm以上50μm以下が好ましく、10μm以上40μm以下であることがより好ましい。基材層11の厚さが6μm以上であれば、耐ピンホール性、絶縁性が向上し、基材層11の厚さが50μm以下であれば、厚みに対する成型性が向上する。基材層11の表面に、耐擦傷性や滑り性改善などのために、凹凸形状を形成することができる。
(接着層)
接着層12は、基材層11と金属箔層13との間に形成される。接着層12は、基材層11と金属箔層13を強固に接着するのに必要な密着力を有する。また、接着層12は、成型加工時の基材層11による金属箔層13の破断を保護するために追従性を有する。
接着層12としては、ポリエステルポリオール、ポリエーテルポリオール、アクリルポリオールなどを主剤とし、二官能以上の芳香族系又は脂肪族系イソシアネートを硬化剤とした二液硬化型接着剤を使用することができる。上記接着剤は主剤のOH基に対する硬化剤のNCO基の当量比([NCO]/[OH])は、0.5〜20が好ましく、1〜10がより好ましく、2〜5が更に好ましい。当量比[NCO]/[OH]が0.5以上ならば良好な接着性が得られ、20以下ならば接着層12を程度な硬さとすることができるとともに接着層12における破断の発生を十分に抑制できる。これにより、基材層11や金属箔層13に対する接着層12の追従性をより一層十分に確保できる。
接着層12は、熱可塑性エラストマーや粘着付与剤、フィラー、顔料、染料などを含有してもよい。接着層12の厚さは、接着強度、追随性、加工性などの点から、0.5μm以上10μm以下が好ましく、1μm以上5μm以下がより好ましい。
(金属箔層)
金属箔層13は、接着層12と接着樹脂層15との間に形成される。金属箔層13は、水分が蓄電デバイス内に浸入を防止する水蒸気バリア性を有する。また、金属箔層13は、深絞り成型をするために延展性を有する。
金属箔層13の引張試験(JIS Z2241(2011) 引張速度25mm/分、試料JIS Z2201 13B)による引張強さは300MPa(N/mm)以上800MPa以下であり、450MPa以上700MPaであることが好ましい。金属箔層13の引張強さが300MPa以上であれば、蓄電デバイスとした際に十分な強度が得られる。一方、金属箔層13の引張強さが800MPa以下であれば、十分な加工性を有するため、蓄電デバイスを効率的に生産できる。かかる条件を満たす金属箔の金属種としてはとしては、マンガンを含むアルミニウム、オーステナイト系ステンレス、フェライト系ステンレス、無酸素銅、タフピッチ銅、りん脱酸銅、ニッケル、鉄ニッケル合金、黄銅、りん青銅、洋白、ベリリウム銅、チタン及びチタン合金などが挙げられる。質別は各金属の引張強さと伸び量を考慮して選択することが好ましい。
金属箔層13の厚さは、10μm以上40μm以下が好ましく、15μm以上25μm以下がより好ましい。金属箔層13の厚さが10μm以上であれば、ピンホールや破断の発生を十分に抑制でき、一方40μm以下であればコスト増やエネルギー密度低下を十分に抑制できる。
(腐食防止処理層)
腐食防止処理層14は、金属箔層13の熱融着樹脂層16側に形成される。腐食防止処理層14は、例えば、リチウムイオン蓄電デバイスの場合では、電解質と水分の反応により発生する弗酸による金属箔層13表面の腐食を防止する。また、腐食防止処理層14は、腐食防止機能に加えて、接着樹脂層15とのアンカー層として機能も有する。腐食防止処理層14は、例えば、クロム酸塩、りん酸塩、弗化物と各種熱硬化性の樹脂からなる腐食防止処理剤であるクロメート処理、希土類元素酸化物(例えば酸化セリウムなど)、りん酸塩、各種熱硬化性の樹脂からなる腐食防止処理剤であるセリアゾール処理などを使用することができる。腐食防止処理層14は、金属箔層13の耐食性を満たす被膜であれば、上記処理で形成した被膜には限定されず、例えば、りん酸塩処理、ベーマイト処理などを使用してもよい。また、腐食防止処理層14は、単層であることに限定されず、腐食防止機能をもつ被膜上にオーバーコート剤として樹脂をコーティングするなど二層以上で耐食性を有する構成を採用してもよい。
腐食防止処理層14の厚さは、腐食防止機能とアンカーとしての機能の点から、5nm以上1μm以下が好ましく、10nm以上200nm以下がより好ましい。
腐食防止処理層は、金属箔層13の基材層11側に形成されていてもよい。すなわち、図3に示す外装材4のように、金属箔層13と接着層12の間に第2腐食防止処理層18が設けられていてもよい。第2腐食防止処理層18を設けることにより、外部からの金属箔層13の腐食を防止できるだけでなく、当該層がアンカー層としても機能するため、接着層12の金属箔層13への追従性が向上する。第2腐食防止処理層18は、腐食防止処理層14で挙げた腐食防止処理剤を用いて形成することができる。
(接着樹脂層15)
接着樹脂層15は、熱融着樹脂層16と、金属箔層13とを接着する層である。接着樹脂層15の形成方法は大きく二つに分類され、熱ラミネート又はドライラミネートを採用することができる。
接着樹脂層15を押出ラミネートで形成する熱ラミネートの場合、その成分は熱可塑性樹脂が好ましく、例えば、ポリオレフィン系樹脂、エラストマー樹脂、ポリオレフィン系樹脂を酸変性させた酸変性ポリオレフィン系樹脂が挙げられる。ポリオレフィン系樹脂としては、例えば、低密度、中密度、高密度のポリエチレン;エチレン−αオレフィン共重合体、ホモ、ブロックやランダムポリプロピレン、プロピレン−αオレフィン共重合体、又はこれらの酸変性物などが挙げられる。酸変性ポリオレフィンとしては、例えばポリオレフィンが不飽和カルボン酸や、その酸無水物、及び誘導体により酸変性されたものなどが挙げられる。不飽和カルボン酸やその酸無水物、及び誘導体としては、例えば、アクリル酸、メタクリル酸、マレイン酸、フマル酸、クロトン酸、イタコン酸、及びこれらの酸無水物、モノ及びジエステル、アミド、イミドなどが挙げられる。中でもアクリル酸、メタクリル酸、マレイン酸、無水マレイン酸が好ましく、無水マレイン酸が特に好ましい。不飽和カルボン酸や、その酸無水物、及び誘導体はポリオレフィンに対し、共重合していればよく、その形式としては、ブロック共重合、ランダム共重合、グラフト共重合などが挙げられる。これら不飽和カルボン酸や、その酸無水物、及び誘導体は一種単独で用いてもよく、二種以上を併用してもよい。ポリオレフィン系樹脂及び酸変性ポリオレフィン系樹脂は電解液耐性に優れている。また、エラストマー樹脂としては、SEBS(ポリスチレン/ポリエチレン/ポリブチレン/ポリスチレン)、SBS(ポリスチレン/ポリブタジエン/ポリスチレン)、SEPS(ポリスチレン/ポリエチレン/ポリプロピレン/ポリスチレン)、SEP(ポリスチレン/ポリエチレン/ポリプロピレン)、SIS(ポリスチレン/ポリイソプレン/ポリスチレン)共重合体等が挙げられる。これらエラストマー樹脂を酸変性ポリオレフィン系樹脂に添加することにより、冷間成型時のクラックによる延伸白化耐性や、濡れ性改善による密着力や異方性低減による製膜性、熱融着強度などの特性も改善することができる。
接着樹脂層15をドライラミネートで形成する場合、接着剤が用いられ、具体的には、接着樹脂層15に適用される接着剤としては、接着層12に挙げた二液硬化型の接着剤などを使用できる。
熱ラミネートで接着樹脂層15を形成する場合、接着樹脂層15の厚さは、8μm以上30μm以下が好ましく、10μm以上20μm以下がより好ましい。接着樹脂層15の厚さが8μm以上であれば、十分な接着強度が得られやすく、30μm以下であれば、シール端面から蓄電デバイス内部に透過する水分量を低減しやすい。
ドライラミネートで接着樹脂層15を形成する場合、接着樹脂層15の厚さは、1μm以上5μm以下であることが好ましい。厚さが1μm以上であれば十分なラミネート強度を達成しやすい。一方、厚さが5μm以下であれば接着樹脂層15に割れが発生するのを十分に抑制することができる。これに加え、接着樹脂層15の厚さが1μm以上5μm以下の範囲内にあることで、熱融着樹脂層16と金属箔層13とを強固に密着させることができる。
熱融着樹脂層16と金属箔層13との間のJIS K6854−3による剥離接着強さは15N/15mm以上30N/15mm以下であり、18N/15mm以上25N/15mm以下であることが好ましい。熱融着樹脂層16と金属箔層13のJIS K6854−3による剥離接着強さが15N/15mm未満であると、ヒートシール部の強度低下の原因となり、加圧時に熱融着樹脂層16と金属箔層13の間から開放するおそれがあり、他方、30N/15mm超であると、剥離接着強さを高めるために接着樹脂層15が固く脆くなり、外力が加わった際に割れてしまうおそれがある。剥離接着強さを向上させる方法としては、熱ラミネートで接着樹脂層15を形成する場合、接着樹脂層15中の不飽和カルボン酸やその酸無水物、及び誘導体の割合を増やすなどの手段が挙げられ、ドライラミネートで接着樹脂層15を形成する場合、接着樹脂層15を構成する接着剤中の硬化剤の割合を増やすなどの手段が挙げられる。他の性能が低下しないよう適宜選択することが好ましい。
(熱融着樹脂層)
熱融着樹脂層16は、金属箔層13上に接着樹脂層15を介して形成される。二枚の外装材又は一枚の外装材を折り曲げて熱融着樹脂層16同士を向かい合わせにし、熱融着樹脂層16の融解温度以上でヒートシールすることにより、密閉することができる。熱融着樹脂層16としては、ポリオレフィン系樹脂、ポリオレフィン系樹脂を酸変性した酸変性ポリオレフィン系樹脂等が挙げられる。ポリオレフィン樹脂としては、低密度、中密度、高密度のポリエチレン、ホモ、ブロック又はランダムポリプロピレンなどが挙げられる。また、前記のものにアクリル酸やメタクリル酸などの極性分子を共重合した共重合体、架橋ポリオレフィンなどのポリマーなどが挙げられ、分散、共重合などを実施した樹脂を採用することができる。これらポリオレフィン樹脂は、一種類を単独で使用してもよく、二種類以上を併用してもよい。なかでも、水蒸気バリア性に優れる点、ヒートシールによって過度に潰れることなく電池形態を形成しやすい点から、ポリオレフィン系樹脂が好ましい。熱融着樹脂層16は、前記した各種樹脂が混合されたフィルムにより形成してもよい。また熱融着樹脂層16は、単層フィルムであってもよく、多層フィルムであってもよい。
熱融着樹脂層16は、滑剤、アンチブロッキング剤、帯電防止剤、造核剤、顔料、染料等の各種添加剤が含有されていてもよい。これらの添加剤は、一種を単独で使用してもよく、二種以上を併用してもよい。滑剤、アンチブロッキング剤、帯電防止剤、造核剤、顔料、染料等の各種添加剤は熱融着樹脂層16に含有されていてもよく、熱融着樹脂層16において金属箔層13側と反対側の表面に塗布されていてもよい。滑剤としては基材層11で挙げた、滑剤を使用することができる。滑剤を熱融着樹脂層16に含有、又は表面に塗布することにより成型性が向上する。
熱融着樹脂層16の厚さは、15μm以上60μm以下であることが好ましく、20μm以上40μm以下であることがより好ましい。厚さが15μm以上であれば十分なラミネート強度を確保しやすく、60μm以下であれば熱融着樹脂層16の端面を通じた水蒸気の浸入を十分に抑制できる。
接着樹脂層15の厚さと熱融着樹脂層16の厚さの和は20μm以上80μm以下であり、25μm以上45μm以下であることが好ましい。接着樹脂層15の厚さと熱融着樹脂層16の厚さの和が20μm以上であればヒートシール部の強度を確保しやすく、蓄電デバイス使用時に内圧の上昇によって蓄電デバイスが開放することを十分に抑制できる。一方、接着樹脂層15の厚さと熱融着樹脂層16の厚さの和が80μm以下であれば、接着樹脂層15及び熱融着樹脂層16mの端面を通じた水蒸気の浸入を十分に抑制できる。これにより、蓄電デバイスの水蒸気による劣化を抑制できる。
[外装材の製造方法]
以下、上述の外装材1の製造方法について説明する。外装材の製造方法としては、例えば、下記工程(1−1)〜(1−3)の方法が挙げられる。
(1−1)金属箔層13上の片面に、腐食防止処理層14を形成する工程。
(1−2)金属箔層13の、腐食防止処理層14が形成されていない面に、接着層12を介して基材層11をドライラミネート法で貼り合わせ、積層体(腐食防止処理層14/金属箔層13/接着層12/基材層11)を作製する工程。
(1−3)金属箔層13の、腐食防止処理層14が形成された面に、接着樹脂層15を介して熱融着樹脂層16を貼り合せ、外装材1(熱融着樹脂層16/接着樹脂層15/腐食防止処理層14/金属箔層13/接着層12/基材層11)を作製する工程。
工程(1−1)
金属箔層13の片面に、腐食防止処理剤を塗布後、焼付けを行って腐食防止処理層14を形成する。このときに片面だけでなく、両面に腐食防止処理を行い、さらに第2腐食防止処理層18を形成することもできる。腐食防止処理剤の塗工方法は特に限定されず、例えば、グラビアコート、グラビアリバースコート、ロールコート、リバースロールコート、ダイコート、バーコート、キスコート、コンマコート等が挙げられる。
工程(1−2)
金属箔層13の、腐食防止処理層14が形成されていない面(あるいは、第2腐食防止処理層18が形成された面)に、接着層12を介して基材層11をドライラミネート法で貼り合わせ、積層体(腐食防止処理層14/金属箔層13/接着層12/基材層11)を作製する。接着層12の塗工方法は特に限定されず、例えば、グラビアコート、グラビアリバースコート、ロールコート、リバースロールコート、ダイコート、バーコート、キスコート、コンマコート等が挙げられる。工程(1−2)では、硬化反応促進や結晶化の安定化のために、20℃以上100℃以下の範囲でエージング(養生)処理を行うことが好ましい。この温度が20℃未満では硬化反応が十分に促進しない傾向にあり、100℃より高い場合では基材層11が劣化してしまい、成型性が低下する傾向にある。なお、基材層11は金属箔層13上に直接塗布又は塗工により形成してもよい。塗布方法は特に限定されず、グラビアコート、リバースコート、ロールコート、バーコート等、各種方法を採用できる。塗工膜の硬化方法としては、紫外線照射による硬化や高温加熱による硬化、エージング(養生)処理による硬化等を採用できる。
工程(1−3)
接着樹脂層15の形成方法は熱ラミネートを用いるものとドライラミネートを用いるものとに大きく分類される。
熱ラミネート構成では更にドライプロセスとウェットプロセスが挙げられる。ドライプロセスの場合は、前記積層体の金属箔層13上に接着樹脂を押出ラミネートし、さらにインフレーション法又はTダイ押出法により得られる熱融着樹脂層16を形成するフィルムを積層する。その後、金属箔層13と接着樹脂層15との密着性を向上させる目的で、熱処理(エージング処理、熱ラミネーション等。)を施してもよい。また、インフレーション法又はTダイ押出法にて、接着樹脂層15と熱融着樹脂層16が積層された多層フィルムを作製し、該多層フィルムを前記積層体上に熱ラミネーションにより積層することで、接着樹脂層15を介して熱融着樹脂層16を積層してもよい。ウェットプロセスの場合は、酸変性ポリオレフィン系樹脂等の接着樹脂のディスパージョンタイプの接着樹脂液を前記積層体の金属箔層13上に塗工し、接着樹脂の融点以上の温度で溶媒を揮発させ、接着樹脂を溶融軟化させて焼き付けを行った後、熱融着樹脂層16を熱ラミネーション等の熱処理により積層する。
ドライラミネートを採用する場合は、前記積層体の金属箔層13上(腐食防止処理層14が形成された面)に接着樹脂層15を塗工し、オーブンで溶剤を乾燥させる。その後、熱融着樹脂層16をドライラミネーションで熱圧着させることで外装材1を作製する。接着樹脂層15の塗工方法は特に限定されず、例えば、グラビアコート、グラビアリバースコート、ロールコート、リバースロールコート、ダイコート、バーコート、キスコート、コンマコート等が挙げられる。工程(1−3)では、硬化反応促進や結晶の安定化のために、20℃以上100℃以下の範囲でエージング(養生)処理を行うことが好ましい。20℃未満では硬化反応が十分に促進しない傾向にあり、100℃より高いと基材層11が劣化してしまい、成型性が低下する傾向にある。
以上説明した工程(1−1)〜(1−3)により、外装材1が得られる。なお、外装材1の製造方法は、前記工程(1−1)〜(1−3)を順次実施する方法に限定されない。例えば、工程(1−3)の後に工程(1−2)を行ってもよい。
[蓄電デバイス及びその製造方法]
本実施形態に係る蓄電デバイスは、正極及び負極を備える蓄電デバイス要素と、正極及び負極の各々に接続された金属端子と、蓄電デバイス要素を収納している外装材と、熱融着樹脂層が互いに対面した状態で熱融着されることによって形成されている融着層を有するヒートシール部とを備え、金属端子の一部がヒートシール部から外部に露出している。
より具体的には、蓄電デバイス2は、図4に示すように、外装材1により蓄電デバイス要素21を収納し且つ蓄電デバイス要素21の正極及び負極に各々接続されたリード23(電極端子)とタブシーラント24からなるタブ25をヒートシール部26で挟持した構造を持つ。
以下、蓄電デバイス2の製造方法について、図4を参照しながら説明する。蓄電デバイス2の製造方法としては、例えば、下記工程(2−1)〜(2−4)を有する方法が挙げられる。
(2−1)外装材1の半分の領域に、蓄電デバイス要素21を配置するための成型加工部22を形成する工程(図4(a)及び図4(b)参照)。
(2−2)外装材1の成型加工部22に蓄電デバイス要素21を配置する。そして外装材1のもう半分の領域を、熱融着樹脂層が内面になるようにして折り返して三辺を重ね合せ、リード23とタブシーラント24からなるタブ25を挟持する1辺のみを加圧熱融着する工程(図4(b)及び図4(c)参照)。
(2−3)残りの2辺のうち1辺を残して加圧熱融着する、その後、残りの1辺から電解液を注入し、真空状態で加圧熱融着する工程(図4(c)参照)。
(2−4)タブ25を挟持する1辺以外の辺におけるヒートシール部26端部をカットし、ヒートシール部26を成型加工部22に沿って折り曲げる工程(図4(d)参照)。
工程(2−1)
外装材1の熱融着樹脂層16側が、所望の成型深さになるように金型で成型する。成型方法としては、外装材1の総厚以上のギャップを有する雌型と雄型からなる金型を用い、熱融着樹脂層16側から基材層11側に深絞り成型をすることで、所望の深絞り量を持つ外装材1が得られる。追従性が高い接着層12を有し、成型性が高い外装材1を用いればより深く成型することができるため、多くの蓄電デバイス要素21が収納可能なエネルギー密度の高い蓄電デバイス2を得ることができる。本実施形態においては、成型加工部22の成型深さが6mm以上であれば効率よく蓄電デバイス要素21を収納できエネルギー密度を高めることができる。このような観点から、当該成形深さは8mm以上であることが好ましい。なお、成形加工により金属箔層13が薄くなりすぎるのを防ぐという観点から、当該成形深さの上限は12mm程度とすることができる。
工程(2−2)
外装材1の成型加工部22に、正極、セパレータ、負極などから構成される蓄電デバイス要素21を入れ、正極と負極に接合されたタブ25を成型加工部22から外に引き出す。その後、外装材1の熱融着樹脂層16同士を重ね、外装材1のタブ25を挟持する辺をヒートシールする。対面配置されていた一対の熱融着樹脂層16が溶融することによって一体化することによって融着層(不図示)が形成される。ヒートシールは、温度、圧力及び時間の三条件で制御でき、熱融着樹脂層16の融解温度以上で確実に溶解させ、適度な圧力の条件で行われる。
ヒートシール部26の融着層のJIS Z0238によるヒートシール強さは120N/15mm以上230N/15mm以下であることが好ましく、150N/15mm以上200N/15mm以下であることがより好ましい。ヒートシール強さが120N/15mm未満の場合では、ヒートシール部が加圧された際に容易に開放するおそれがある。一方、ヒートシール強さが230N/15mm超過の場合では、蓄電デバイス内部で副反応により過度に気体が発生した際も開放せず、破裂するおそれがある。ヒートシール強さを向上させる方法としては、接着樹脂層15、熱融着樹脂層16の厚さを大きくする、熱融着樹脂層16と金属箔層13の剥離接着強さを向上させる、ヒートシール条件を調整する、等の方法が挙げられる。他の性能が低下するおそれがあるため、適宜調整することが好ましい。
ヒートシール部26の厚さは、ヒートシール部26以外の領域の外装材1の二枚分の厚さに対し40%以上80%以下であることが好ましく、50%以上70%以下であることがより好ましい。この値が40%よりも低いと過度に熱融着樹脂層16が流動し、十分なヒートシール強さが得られない傾向にあり、一方、80%を超えるとヒートシール部26の端部膜厚が厚くなり、水蒸気バリア性が低下する傾向にある。
ヒートシール部26の幅は5mm以上20mm以下であること好ましく、8mm以上15mm以下であることがより好ましい。ヒートシール部26の幅が5mm未満の場合は、加圧された際に開放してしまう可能性がある。一方、20mm超過の場合は、性能向上は見込めず、大きな体積が必要になる。
工程(2−3)
次に、タブ25を挟持する辺以外の一辺を残し、同様にヒートシールを行う。その後、残った一辺から電解質を溶解させた電解液を注入し、エージングでのデガス工程を経たのち、空気が内部に入らないように、真空状態で、最終ヒートシールを行う。
工程(2−4)
リード23を挟持する辺以外のヒートシール辺端部をカットし、端部からはみだした熱融着樹脂を除去する。その後、ヒートシール部26(リード23が突出している辺を除く)を成型加工部22側に折り返し、折返し部27を形成することで、蓄電デバイス2が得られる。
以上説明した工程(2−1)〜(2−4)により、蓄電デバイス2が得られる。ただし、蓄電デバイス2の製造方法は以上に記載される方法には限定されない。例えば、工程(2−4)を省略することもできる。
以下、実施例によって本発明の詳細を説明するが、本発明は以下の記載によっては限定されない。
[使用材料]
実施例及び比較例に使用した材料を以下に示す。
(基材層11)
基材A−1:ナイロンフィルム(厚さ15μm)
(接着層12)
接着剤B−1:二液硬化型ポリエステルウレタン接着剤。
(金属箔層13)
金属箔C−1:アルミニウム箔3003材(厚さ20μm)
金属箔C−2:ステンレス箔304材(厚さ20μm)
金属箔C−3:ステンレス箔301材(厚さ20μm)
金属箔C−4:ステンレス箔430材(厚さ20μm)
金属箔C−5:タフピッチ銅箔C1100材(厚さ20μm)
金属箔C−6:チタン箔1種材(厚さ20μm)
金属箔C−7:アルミニウム箔8079材(厚さ20μm)
(腐食防止処理層14)
処理剤D−1:酸化セリウムからなる処理層(厚さ100nm)
(接着樹脂層15)
接着樹脂E−1:無水マレイン酸変性ポリプロピレン系樹脂(厚さ20μm)
接着樹脂E−2:二液硬化型ポリエステルウレタン接着剤(ポリエステルポリオール及びポリイソシアネートからなる二液硬化型の接着剤、[NCO]/[OH]=0.5、厚さ4μm)
接着樹脂E−3:二液硬化型ポリエステルウレタン接着剤(ポリエステルポリオール及びポリイソシアネートからなる二液硬化型の接着剤、[NCO]/[OH]=1、厚さ4μm)
接着樹脂E−4:二液硬化型ポリエステルウレタン接着剤(ポリエステルポリオール及びポリイソシアネートからなる二液硬化型の接着剤、[NCO]/[OH]=5、厚さ4μm)
接着樹脂E−5:二液硬化型ポリエステルウレタン接着剤(ポリエステルポリオール及びポリイソシアネートからなる二液硬化型の接着剤、[NCO]/[OH]=10、厚さ4μm)
接着樹脂E−6:二液硬化型ポリエステルウレタン接着剤(ポリエステルポリオール及びポリイソシアネートからなる二液硬化型の接着剤、[NCO]/[OH]=20、厚さ4μm)
(熱融着樹脂層16)
熱融着樹脂F−1:ポリプロピレンフィルム(厚さ20μm)
熱融着樹脂F−2:ポリプロピレンフィルム(厚さ40μm)
熱融着樹脂F−3:ポリプロピレンフィルム(厚さ60μm)
熱融着樹脂F−4:ポリプロピレンフィルム(厚さ80μm)
熱融着樹脂F−5:無水マレイン酸変性ポリプロピレンフィルム(厚さ20μm)
(外装材の作製)
金属箔C−1〜C−7何れかの一方の面に腐食防止層D−1をダイレクトグラビア塗工にて形成した。次に、金属箔C−1〜C−7の腐食防止層E−1が形成されていない面に、それぞれ接着剤B−1を乾燥厚み3μmとなるように塗工し、基材A−1をドライラミネート法により貼り付けた。その後40℃7日間エージングを行った。次に、実施例1〜8及び比較例1〜3では、得られた積層体の腐食防止層D−1側に、押出し装置にて接着樹脂E−1を押出して接着層を形成した後、さらに熱融着樹脂F−1〜F−4何れかを貼り合わせてサンドイッチラミネーションすることで熱融着樹脂層を形成した。以上の工程を経て、各実施例及び比較例の外装材を作製した。実施例9〜22では、積層体の腐食防止層D−1側に、それぞれ接着樹脂E−2〜E−6何れかを乾燥厚み3μmとなるように塗工し、熱融着樹脂F−1又はF−5何れかをドライラミネート法により貼り付けた。その後40℃7日間エージングを行った。表1において「ヒートシール部厚さ(%)」はヒートシール部以外の領域の外装材の二枚分の厚さに対する相対値を意味する。
Figure 2017152092
[各種評価]
以下の方法に従って各種評価を行った。評価結果を表2に示す。
[金属箔の引張強さ評価]
各例で使用した金属箔を、JIS Z2201 13Bの形状に切り取りJIS Z2241による引張強さを測定した。
[剥離接着強さの評価]
各例で作製した外装材を、15mm×100mmのサイズに切り取り、熱融着樹脂層と金属箔層とのJIS K6854−3による15mm幅での剥離接着強さを測定した。剥離接着強さの評価の際に熱融着樹脂層が破断する場合は、破断した際の強度を剥離接着強さとした。
[ヒートシール強さの評価]
各例で作製した外装材を、60mm×80mmのサイズに2枚切り取り、短辺同士を合わせ、190℃、面圧0.5MPa、時間10秒、の条件で表1に示した形状に短辺をヒートシールした。作製したサンプルを15mm幅に切り取り、ヒートシール部をJIS Z0238によりヒートシール強さを測定した。
[突刺し強さの評価]
各例で作製した外装材を、JIS Z1707により突刺し強さを測定した。評価は以下の基準に従って行い、評価Cを不適とした。
「A」:突刺し強さが50N以上。
「B」:突刺し強さが30N以上、50N未満。
「C」:突刺し強さが30N未満。
[破裂強さの評価]
各例で作製した外装材を、120mm×240mmのサイズに切り取り、長辺の中間部を折り返し、三辺を190℃、面圧0.5MPa、時間10秒、の条件で表1に示した形状にヒートシールした。作製したサンプルをJIS Z0238により、加圧しヒートシール部が開放した際の圧力を測定した。評価は以下の基準に従って行い、評価Dを不適とした。
「A」:90kPa以上加圧してもヒートシール部は開放しなかった。
「B」:ヒートシール部が開放した際の圧力が70kPa以上90kPa未満。
「C」:ヒートシール部が開放した際の圧力が50kPa以上70kPa未満。
「D」:ヒートシール部が開放した際の圧力が50kPa未満。
[水蒸気浸入量の評価]
各例で作製した外装材を、240mm×70mmサイズでカットし、長辺の中間部を折り返し、長辺二辺を190℃、面圧0.5MPa、時間10秒の条件で表1に示した形状にヒートシールした。その後、残った短辺から含有水分量を20ppm以下に押さえたエチレンカーボネート(EC)、ジメチルカーボネート(DMC)、ジエチルカーボネート(DEC)を重量比で1対1対1に混合した電解液を3mg注入した後、同様に残った1辺をヒートシールし、水蒸気浸入量測定用の120mm×70mmサンプルを作製した。作製したサンプルを60℃90%の環境下に4週間保管させた後の電解液中の水分量をカールフィッシャー試験機で測定し、水分含有量を、実施例1を基準(100%)としたときの値を相対評価し、評価Dを不適とした。
「A」:実施例1と比較し水分含有量が110%以下。
「B」:実施例1と比較し水分含有量が110%超過、130%以下。
「C」:実施例1と比較し水分含有量が130%超過、150%以下。
「D」:実施例1と比較し水分含有量が150%超過。
Figure 2017152092
表2に示すように、実施例1〜22では、薄膜化しても高い強度を確保しつつ、ヒートシール部が開放せず、水蒸気浸入量を抑えることができた。一方、比較例1では、金属箔の引張強さが低く、十分な強度を得られなかった。比較例2では、接着樹脂層及び熱融着樹脂層の膜厚が大きく、水蒸気浸入量を抑えることができなかった。比較例3では、ヒートシール部の強さが得られず内圧の上昇によりヒートシールが開放した。
以上、本発明の実施形態について図面を参照して詳述したが、具体的な構成はこの実施形態に限られるものではなく、本発明の要旨を逸脱しない範囲の設計変更等も含まれる。
1,3,4…外装材、2…蓄電デバイス、11…基材層、11A,11B…基材フィルム(基材層)、12…接着層、13…金属箔層、14…腐食防止処理層、15…接着樹脂層、16…熱融着樹脂層、17…第2接着層、18…第2腐食防止処理層、21…蓄電デバイス要素、22…成型加工部、23…リード(電極端子)、24…タブシーラント、25…タブ、26…ヒートシール部、27…折返し部。

Claims (7)

  1. 少なくとも基材層、金属箔層、接着樹脂層及び熱融着樹脂層をこの順序で備えた蓄電デバイス用外装材であって、
    前記金属箔層の引張試験(JIS Z2241 引張速度25mm/分、試料JIS Z2201 13B)による引張強さが300MPa以上800MPa以下であり、
    前記接着樹脂層の厚さと前記熱融着樹脂層の厚さの和が20μm以上80μm以下であり、
    前記熱融着樹脂層と前記金属箔層との間のJIS K6854−3による剥離接着強さが15N/15mm以上30N/15mm以下である外装材。
  2. 前記熱融着樹脂層がポリオレフィン系樹脂からなる、請求項1に記載の外装材。
  3. 正極及び負極を備える蓄電デバイス要素と、
    前記正極及び前記負極の各々に接続された金属端子と、
    前記蓄電デバイス要素を収納している、請求項1又は2に記載の外装材と、
    前記熱融着樹脂層が互いに対面した状態で熱融着されることによって形成されている融着層を有するヒートシール部と、
    を備え、
    前記金属端子の一部が前記ヒートシール部から外部に露出している、蓄電デバイス。
  4. 前記融着層のJIS Z0238によるヒートシール強さが120N/15mm以上230N/15mm以下である、請求項3に記載の蓄電デバイス。
  5. 前記ヒートシール部の厚さは、前記ヒートシール部以外の領域の前記外装材の二枚分の厚さに対して40%以上80%以下である、請求項3又は4に記載の蓄電デバイス。
  6. 前記ヒートシール部の幅が5mm以上20mm以下である、請求項3〜5のいずれか一項に記載の蓄電デバイス。
  7. 前記ヒートシール部を構成する複数の辺のうち、前記金属端子が突出している辺以外の辺は折り曲げられている、請求項3〜6のいずれか一項に記載の蓄電デバイス。
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