JP2016133339A - 質量分析データ処理装置および質量分析データ処理方法 - Google Patents
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Abstract
Description
図1は、本発明の質量分析データ処理装置を備えた質量分析装置の概略を示す構成図である。図1に示す質量分析装置1は、試料に設定した二次元範囲内の各分析領域に対して質量分析を実行する二次元質量分析を行うものである。そして、この質量分析装置1に設けられる質量分析データ処理装置は、試料に設定した二次元範囲について、ある質量範囲を持つイオンの分布情報を得るための質量データ処理方法を実施する装置である。
分析部10は、試料をイオン化し、そのイオンを質量電荷比(m/z)に応じて分離して検出する部分であり、イオン源、質量分析部、および検出部を備えている。また特に、この分析部10は、分析する試料を搭載するステージを、x、yの2軸方向に高精度で移動させる駆動部を有している。これにより、試料に対して設定した任意の二次元範囲内の各分析領域に対して質量分析を実行して質量スペクトルを収集することが可能である。
制御部11は、分析部10においてのイオン源、質量分析部、検出部、およびステージ駆動部の動作を制御する。この制御部11も、質量分析データ処理装置の一部を構成するものともなる。
データ解析部13は、質量分析データ処理装置の主要部を構成するものであり、分析部10において検出された信号を順次に取得し、これを質量電荷比(m/z)と信号の検出強度との関係を示す質量スペクトルに変換する。またデータ解析部13は、試料に設定した二次元範囲内の各分析領域の位置情報として、例えば制御部11からステージの位置座標を取得する。そして、各分析領域の位置情報と、各分析領域の質量分析によって得られた質量スペクトルとを紐付けして記憶部15に記憶させる。
記憶部15は、データ解析部13において紐付けされた、各分析領域の位置情報と質量スペクトルとを記憶する。また記憶部15は、データ解析部13での処理によって得られた各種のデータを記憶する。この記憶部15も、質量分析データ処理装置の一部を構成するものともなる。
操作部17は、分析部10において実行する質量分析に関する各種設定、およびデータ解析部13において実行する質量分析データ処理に関する各種設定を入力する部分である。質量分析に関する各種設定とは、例えば質量分析を行う二次元範囲、設定した二次元範囲の分割数、分割された1つの分析領域における分析時間などである。また質量分析データ処理に関する各種設定とは、例えば以降に説明する最小閾値および最大閾値などである。この操作部17は、例えばキーボードであったり、表示部19と一体形成されたタッチパネル式の入力部であってもよい。
表示部19は、操作部17から入力された各種設定、さらにはデータ解析部13において実行された質量分析データの解析処理結果を表示する。また、ここでの図示を省略した顕微鏡による試料の顕微画像を表示する。
図2は、実施形態の質量分析装置1のデータ解析部13によって実施される質量分析データ処理方法を示すフローチャートである。以下に、図2のフローチャートに沿って図1および必要図を参照しつつ、質量分析データ処理方法を説明する。
先ずステップS1では、質量分析が終了した後、分析領域A(x,y)の位置情報(x,y)に紐付けられた質量スペクトルS(x,y)を取得する。この質量スペクトルS(x,y)は、質量分析によって得られたオリジナルの質量スペクトル群である。これらのオリジナルの質量スペクトルS(x,y)には、一例として次のような特徴を持ったピークが現れる。
[ピークP2]質量電荷比(m/z)=50付近:一部の質量スペクトルS(1,2)、S(2,2)、S(1,3)…に現れ、その強度はピークP1より高いものもある。
[ピークP3]質量電荷比(m/z)=70付近:強度は低いが、一部の質量スペクトルS(1,1)、S(2,1)、S(1,2)…に現れる。
[ピークP4]質量電荷比(m/z)=80付近:強度は高いが、質量スペクトルS(1,3)のみに現れ、装置の電気的な要因によって超局所的に発生するスパイクノイズの可能性が高い。
先ずステップS2では、取得した全ての質量スペクトルS(x,y)を平均化した平均質量スペクトルSaveを作成する。図4には、作成した平均質量スペクトルSaveを示す。この平均質量スペクトルSaveは、オリジナルの質量スペクトル群Sにおける全ての質量スペクトルS(x,y)を平均化したものである。
次にステップS3では、取得した全ての質量スペクトルS(x,y)を比較し、各質量範囲における最大ピークを抽出し、最大ピークで構成された最大質量スペクトルSmaxを作成する。この最大質量スペクトルSmaxは、各質量範囲について抽出された最大ピークを用いて構成された1つのスペクトルであり、Maximum Pixel Spectrum手法によって作成される。尚、ここで質量範囲とは、質量電荷比(m/z)の各範囲である。図5には、作成した最大質量スペクトルSmaxを示す。
ステップS4では、最大質量スペクトルSmaxに対する平均質量スペクトルSaveの強度比を示す強度比スペクトルSave/maxを作成する。
図6に示すように、強度比スペクトルSave/maxは、最大質量スペクトルSmaxによって平均質量スペクトルSaveを除したスペクトルであって、縦軸は最大質量スペクトルSmaxの検出強度に対する平均質量スペクトルSaveの検出強度、すなわち検出強度比(Average/Maximum)である。尚、データ解析部13で作成された強度比スペクトルSave/maxは、制御部11によって表示部19に表示させる。
次いでステップS5では、強度比スペクトルSave/maxに対して設定された閾値の範囲内のピークを選択し、選択されたピークを含む質量範囲をデータ作成用の質量範囲として特定する。
その後ステップS6では、オリジナルの質量スペクトルS(x,y)において、ステップS5において特定した質量範囲R2,R3のピーク強度を抽出し、各分析領域A(x,y)の位置強度(x,y)に紐付けしたデータを作成する。ここでは、各分析領域A(x,y)の位置情報(x,y)に対して紐付けられたオリジナルの質量スペクトルS(x,y)の中から、特定した質量範囲R2,R3のピーク強度を抽出し、抽出した各ピーク強度を各分析領域A(x,y)の位置情報(x,y)に対して紐付けしたマッピングデータを作成する。マッピングデータは、特定した質量範囲R2,R3毎に、これらの分布情報を示すデータとして作成される。尚、このようなマッピングデータの作成は、質量イメージングプログラムによって実行される。
以上説明した実施形態によれば、二次元質量分析によって得られた膨大な数のオリジナルの質量スペクトルS(x,y)を処理して、先に説明した強度比スペクトルSave/maxを作成する。
Claims (5)
- 試料に設定した二次元範囲内の各分析領域の質量スペクトルを処理するデータ解析部を有する質量分析データ処理装置であって、
前記データ解析部は、
前記各分析領域の位置情報に紐付けられた複数の質量スペクトルを取得し、
取得した前記複数の質量スペクトルを平均した平均質量スペクトルを作成し、
取得した前記複数の質量スペクトルを比較して各質量範囲における最大ピークを抽出し、抽出した最大ピークで構成された最大質量スペクトルを作成し、
前記最大質量スペクトルに対する前記平均質量スペクトルの強度比スペクトルを作成し、
前記強度比スペクトルに対して設定された閾値の範囲のピークを選択して当該ピークを含む質量範囲を特定する
質量分析データ処理装置。 - 試料に設定した二次元範囲内の各分析領域の質量スペクトルを処理するための質量分析データ処理方法であって、
前記各分析領域の位置情報に紐付けられた複数の質量スペクトルを取得し、
取得した前記複数の質量スペクトルを平均した平均質量スペクトルを作成し、
取得した前記複数の質量スペクトルを比較して各質量範囲における最大ピークを抽出し、抽出した最大ピークで構成された最大質量スペクトルを作成し、
前記最大質量スペクトルに対する前記平均質量スペクトルの強度比スペクトルを作成し、
前記強度比スペクトルに対して設定された閾値の範囲のピークを選択して当該ピークを含む質量範囲を特定する
質量分析データ処理方法。 - 前記閾値として、最小閾値を設定する
請求項2記載の質量分析データ処理方法。 - 前記閾値として、最大閾値を設定する
請求項3記載の質量分析データ処理方法。 - 前記特定した質量範囲のピーク強度を前記位置情報に紐付けしたデータを作成する
請求項2〜4の何れかに記載の質量分析データ処理方法。
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