JP2015025953A - Optical fiber connector, manufacturing method therefor, and optical fiber cable with the same - Google Patents
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Abstract
Description
本発明は光ファイバコネクタ及びその製造方法に関し、特に、複数の光伝達用コアパターンの厚みばらつき及び、光導波路の上部クラッド層表面までの高さと、光ファイバガイド部の高さとの差が少なく、光ファイバとの結合損失のばらつきを低減できる光ファイバコネクタ及びその製造方法、並びに光ファイバコネクタに光ファイバが搭載された光ファイバケーブルに関する。さらに製造工程中の気泡の発生を抑制できる光ファイバコネクタの製造方法に関する。 The present invention relates to an optical fiber connector and a manufacturing method thereof, in particular, a thickness variation of a plurality of core patterns for light transmission, and a difference between the height to the surface of the upper clad layer of the optical waveguide and the height of the optical fiber guide portion is small The present invention relates to an optical fiber connector capable of reducing variations in coupling loss with an optical fiber, a manufacturing method thereof, and an optical fiber cable in which an optical fiber is mounted on the optical fiber connector. Furthermore, it is related with the manufacturing method of the optical fiber connector which can suppress generation | occurrence | production of the bubble in a manufacturing process.
一般的に光ファイバは、多量の情報の高速通信が可能であることから、家庭用、産業用等の情報通信に広く利用されている。また、例えば自動車には、各種電装品(例えば、カーナビゲーションシステム等)が装備されているが、それらの電装品の光通信にも採用されている。このような光ケーブルが有する光ファイバの端末同士を突き合わせて接続する光ケーブルコネクタとして、特許文献1に開示されるものがある。
また、情報容量の増大に伴い、幹線やアクセス系といった通信分野のみならず、ルータやサーバ内の情報処理にも光信号を用いる光インターコネクション技術の開発が進められている。具体的には、ルータやサーバ装置内のボード間あるいはボード内の短距離信号伝送に光を用いるために、光伝送路として、光ファイバに比べ、配線の自由度が高く、かつ高密度化が可能な光導波路が用いられている。
そして、この光導波路と光ファイバとを接合する場合、例えば、特許文献2に記載したような光ファイバコネクタが挙げられる。
しかしながら、このような、光ファイバコネクタにおいては、光ファイバ搭載溝をダイシングによる切削加工で行う必要があるため作業効率が悪く、光導波路コアは溝の切削工程とは別の工程においてフォトリソ及びエッチングで作製するため、光ファイバの位置ずれが生じることがあった。更に、上記の方法ではシリコンウエハなどの寸法安定性の良い硬い基板上に形成しないと、より大きな光ファイバの位置ずれが生じた。
また、特許文献3に記載の光導波路が形成された光導波路基板と、光ファイバがキャリアされた光コネクタをそれぞれ別のホルダに装着し、各ホルダの端面同志を固着するような光ファイバと光導波路の接続方法があるが、接続までの工程数が多く煩雑であった。
それらを解決する方法として特許文献4に記載のように光ファイバ搭載溝の側壁と光伝達用コアパターンとを同一工程で形成した光ファイバコネクタがある。
In general, optical fibers are widely used for home and industrial information communication because they can perform high-speed communication of a large amount of information. For example, automobiles are equipped with various electrical components (for example, a car navigation system), and are also used for optical communication of these electrical components. As an optical cable connector for connecting the ends of optical fibers included in such an optical cable, there is one disclosed in
In addition, with the increase in information capacity, development of optical interconnection technology using optical signals not only for communication fields such as trunk lines and access systems but also for information processing in routers and servers is underway. Specifically, since light is used for short-distance signal transmission between boards in a router or server device, the optical transmission path has a higher degree of freedom of wiring and higher density than optical fibers. Possible optical waveguides are used.
And when joining this optical waveguide and an optical fiber, an optical fiber connector as described in
However, in such an optical fiber connector, since the optical fiber mounting groove needs to be cut by dicing, the work efficiency is poor, and the optical waveguide core is formed by photolithography and etching in a process different from the groove cutting process. Due to the production, the optical fiber may be misaligned. Further, in the above-described method, if the substrate is not formed on a hard substrate having good dimensional stability such as a silicon wafer, a larger positional shift of the optical fiber occurs.
Also, an optical waveguide substrate on which an optical waveguide described in
As a method for solving them, there is an optical fiber connector in which a side wall of an optical fiber mounting groove and a core pattern for light transmission are formed in the same process as described in
しかし、特許文献4に記載のものでは、複数の光伝達用コアパターンが一つのパターンである下部クラッド層上に形成されているため、コアパターン形成用の樹脂を積層すると、各光伝達用コアパターンの樹脂の流れ(流動性)が場所によって異なるため、コアパターンの高さにばらつきが発生することが懸念される。これによって光ファイバと光導波路との結合損失のばらつきになる。また、コアパターン形成後の上部クラッド層も同様であり、基板表面から光ファイバガイド部上に設けられる上部クラッド層の高さと光導波路の上部クラッド層までの高さにばらつきが発生する懸念がある。これによって光ファイバを光ファイバ搭載溝に良好に押しつけることができなくなるため、やはり結合損失のばらつきになる。また、その光ファイバ搭載溝は、下部クラッド層表面よりも低い層であり、製造中にコアパターン形成用樹脂層や上部クラッド層形成用樹脂層を形成する際に、光ファイバ搭載溝付近に気泡が発生し、良好なパターンが形成されにくい課題もある。
また、特許文献4の記載では接着剤導入溝をコアパターンと同時に形成しているが、光ファイバを光導波路端面まで接続してしまうと、光ファイバが接着剤の流れを阻害する壁となり、良好に接着剤が流れず接続不良になることも懸念される。
本発明は、前記の課題を解決するためになされたもので、複数の光伝達用コアパターンの厚みばらつきが少なく、光導波路の上部クラッド層表面までの高さと光ファイバガイド部の高さとの差が少なく、光ファイバとの結合損失のばらつきを低減できる光ファイバコネクタ及びその製造方法、並びに、光ファイバコネクタに光ファイバが搭載された光ファイバケーブルを提供するものであり、さらに製造工程中の気泡の発生を抑制できる光ファイバコネクタの製造方法を提供するものである。
However, in the thing of
In addition, in the description of
The present invention has been made in order to solve the above-described problems, and there is little variation in the thickness of a plurality of core patterns for light transmission, and the difference between the height to the surface of the upper cladding layer of the optical waveguide and the height of the optical fiber guide portion. The present invention provides an optical fiber connector that can reduce variations in coupling loss with an optical fiber, a method for manufacturing the same, and an optical fiber cable in which the optical fiber is mounted on the optical fiber connector. The present invention provides a method for manufacturing an optical fiber connector capable of suppressing the occurrence of the above.
本発明は、以下の発明を提供するものである。
(1)基板上に、下部クラッド層、複数の光伝達用コアパターン、上部クラッド層を有する光導波路部と、光ファイバを固定するための光ファイバ搭載溝を有する光ファイバガイド部とが併設された光ファイバコネクタであって、前記光導波路部は、複数の光伝達用コアパターン間の少なくとも1箇所に下部クラッド溝が形成され、前記光ファイバガイド部は、固定される光ファイバと前記光伝達用コアパターンとが光信号を伝達可能な位置に接合するように、前記ファイバ搭載溝を配置してなる光ファイバコネクタ。
(2)前記下部クラッド溝は、複数の光伝達用コアパターン間の少なくとも1箇所に下部クラッド層を分断するよう形成する(1)に記載の光ファイバコネクタ。
(3)前記下部クラッド溝と前記光伝達用コアパターンとが略平行方向に延在する(1)又は(2)に記載の光ファイバコネクタ。
(4)前記光ファイバ搭載溝の底面と、前記下部クラッド溝の底面が同一平面である(1)〜(3)のいずれかに記載の光ファイバコネクタ。
(5)前記複数の光伝達用コアパターンの高さのばらつきが±5μm以下である(1)〜(4)のいずれかに記載の光ファイバコネクタ。
(6)前記基板表面から前記光導波路上面までの高さと前記光ファイバガイド部上面までの高さの差が10μm以下である(1)〜(5)のいずれかに記載の光ファイバコネクタ。
(7)基板上に、下部クラッド層、複数の光伝達用コアパターン、上部クラッド層を有する光導波路部と、光ファイバを固定するための光ファイバ搭載溝を有する光ファイバガイド部とが併設された光ファイバコネクタの製造方法であって、
基板上に下部クラッド層形成用樹脂層を形成し、エッチングによって、前記光ファイバガイド部における光ファイバ搭載溝を含む下部クラッド層除去部と、前記光導波路部における下部クラッド溝を形成する工程A、
前記下部クラッド層形成面側からコアパターン形成用樹脂層を形成し、エッチングによって、前記光導波路部における下部クラッド層上に光伝達用コアパターンと、前記光ファイバガイド部における下部クラッド層上に光ファイバ搭載溝の側壁を形成する工程B、及び
前記光伝達用コアパターン形成面側から上部クラッド層形成用樹脂層を形成し、エッチングによって、前記光ファイバガイド部における光ファイバ搭載溝上の上部クラッド層を除去する工程Cを有する光ファイバコネクタの製造方法。
(8)前記工程Aにおいて、前記光ファイバガイド部における光ファイバ搭載溝を含む下部クラッド層除去部と前記光導波路部における下部クラッド溝を連結させて形成する(7)に記載の光ファイバコネクタの製造方法。
(9)前記光導波路部における光伝達用コアパターンの光軸上に光路変換ミラーを形成する(7)又は(8)に記載の光ファイバコネクタの製造方法、
(10)前記下部クラッド層形成用樹脂層、前記コアパターン形成用樹脂層、前記上部クラッド層形成用樹脂層の少なくともいずれかが感光性の樹脂層である(7)〜(9)のいずれかに記載の光ファイバコネクタの製造方法。
(11)前記下部クラッド層形成用樹脂層、前記コアパターン形成用樹脂層、前記上部クラッド層形成用樹脂層の少なくともいずれかがドライフィルムである(7)〜(10)のいずれかに記載の光ファイバコネクタの製造方法。
(12)前記基板に、光伝達用コアパターンと光ファイバ搭載溝形成部とを挟持するように基板溝を形成するか、又は、光ファイバ搭載溝形成部の光導波路側の端部に基板溝を形成する、工程Dをさらに含み、前記工程Dは、前記工程B又は前記工程Cの前に行われる前記(7)〜(11)のいずれかに記載の光ファイバコネクタの製造方法。
(13)前記(7)〜(12)のいずれかに記載の光ファイバコネクタの製造方法によって得られる光ファイバコネクタ。
(14)前記(1)〜(6)及び前記(13)のいずれかに記載の光ファイバコネクタの、前記光ファイバ搭載溝に光ファイバが搭載されてなる光ファイバケーブル。
The present invention provides the following inventions.
(1) An optical waveguide portion having a lower clad layer, a plurality of light transmission core patterns and an upper clad layer, and an optical fiber guide portion having an optical fiber mounting groove for fixing the optical fiber are provided on the substrate. In the optical fiber connector, the optical waveguide portion has a lower clad groove formed at least at one position between a plurality of optical transmission core patterns, and the optical fiber guide portion includes the optical fiber to be fixed and the optical transmission portion. An optical fiber connector in which the fiber mounting groove is arranged so that the core pattern is bonded to a position where an optical signal can be transmitted.
(2) The optical fiber connector according to (1), wherein the lower clad groove is formed so as to divide the lower clad layer at least at one position between a plurality of optical transmission core patterns.
(3) The optical fiber connector according to (1) or (2), wherein the lower cladding groove and the core pattern for light transmission extend in a substantially parallel direction.
(4) The optical fiber connector according to any one of (1) to (3), wherein a bottom surface of the optical fiber mounting groove and a bottom surface of the lower cladding groove are on the same plane.
(5) The optical fiber connector according to any one of (1) to (4), wherein variation in height of the plurality of optical transmission core patterns is ± 5 μm or less.
(6) The optical fiber connector according to any one of (1) to (5), wherein a difference between a height from the substrate surface to the upper surface of the optical waveguide and a height from the upper surface of the optical fiber guide portion is 10 μm or less.
(7) An optical waveguide portion having a lower clad layer, a plurality of light transmission core patterns, an upper clad layer, and an optical fiber guide portion having an optical fiber mounting groove for fixing the optical fiber are provided on the substrate. An optical fiber connector manufacturing method comprising:
Forming a resin layer for forming a lower clad layer on a substrate, and forming, by etching, a lower clad layer removing portion including an optical fiber mounting groove in the optical fiber guide portion and a lower clad groove in the optical waveguide portion;
A resin layer for forming a core pattern is formed from the lower clad layer forming surface side, and an optical transmission core pattern on the lower clad layer in the optical waveguide portion and light on the lower clad layer in the optical fiber guide portion are etched. Forming a side wall of the fiber mounting groove; and forming an upper cladding layer forming resin layer from the light transmitting core pattern forming surface side and etching the upper cladding layer on the optical fiber mounting groove in the optical fiber guide portion The manufacturing method of the optical fiber connector which has the process C which removes.
(8) The optical fiber connector according to (7), wherein in the step A, the lower cladding layer removing portion including the optical fiber mounting groove in the optical fiber guide portion and the lower cladding groove in the optical waveguide portion are connected to each other. Production method.
(9) The method of manufacturing an optical fiber connector according to (7) or (8), wherein an optical path conversion mirror is formed on an optical axis of a core pattern for light transmission in the optical waveguide portion,
(10) Any of (7) to (9), wherein at least one of the lower clad layer forming resin layer, the core pattern forming resin layer, and the upper clad layer forming resin layer is a photosensitive resin layer. The manufacturing method of the optical fiber connector of description.
(11) At least one of the lower clad layer forming resin layer, the core pattern forming resin layer, and the upper clad layer forming resin layer is a dry film according to any one of (7) to (10). Manufacturing method of optical fiber connector.
(12) A substrate groove is formed on the substrate so as to sandwich the core pattern for light transmission and the optical fiber mounting groove forming portion, or a substrate groove at an end of the optical fiber mounting groove forming portion on the optical waveguide side The optical fiber connector manufacturing method according to any one of (7) to (11), further including step D, wherein step D is performed before step B or step C.
(13) An optical fiber connector obtained by the method for manufacturing an optical fiber connector according to any one of (7) to (12).
(14) An optical fiber cable in which an optical fiber is mounted in the optical fiber mounting groove of the optical fiber connector according to any one of (1) to (6) and (13).
本発明の光ファイバコネクタ及びその製造方法、それにより得られる光ファイバケーブルは、複数の光伝達用コアパターンの厚みばらつきを低減でき、また、光導波路の上部クラッド層表面までの高さと光ファイバガイド部の高さとの差が少なく、光ファイバとの結合損失のばらつきを低減できる。さらに、本発明の光ファイバコネクタの製造方法では製造工程中の気泡の発生を抑制できる。 The optical fiber connector of the present invention, the manufacturing method thereof, and the optical fiber cable obtained thereby can reduce variations in the thickness of a plurality of core patterns for light transmission, and the height to the surface of the upper cladding layer of the optical waveguide and the optical fiber guide There is little difference with the height of the part, and variation in coupling loss with the optical fiber can be reduced. Furthermore, in the manufacturing method of the optical fiber connector of this invention, generation | occurrence | production of the bubble in a manufacturing process can be suppressed.
本発明の光ファイバコネクタを、図1〜図6を用いて説明する。本発明の光ファイバコネクタは、基板1上に、下部クラッド層3、複数の光伝達用コアパターン7、上部クラッド層9を有する光導波路部12と、光ファイバ14を固定するための光ファイバ搭載溝11を有する光ファイバガイド部が併設された光ファイバコネクタである。そして、前記光導波路部12は、複数の光伝達用コアパターン7間のうち少なくとも一箇所、好ましくは2〜3本のコアパターンごとに一箇所の下部クラッド層3に下部クラッド溝5が形成された光ファイバコネクタである。さらに、前記光ファイバガイド部は、固定される光ファイバ14が、光導波路部12の光伝達用コアパターン7と光信号を伝達可能な位置に接合するように、前記光ファイバ搭載溝11を配置してなる構造を有する。
The optical fiber connector of the present invention will be described with reference to FIGS. An optical fiber connector according to the present invention is mounted on an optical fiber for fixing an
下部クラッド溝5を形成することによって、下部クラッド層3のパターンの反りを抑制できる溝とすることができる。前記下部クラッド溝5により、下部クラッド層3は、下部クラッド溝により、一部又は全部が分断することが好ましい。分断とは、下部クラッド溝が形成されることで下部クラッド層が存在しない部分が形成されることをいう(図3の断面図がこの状態である)。全部が分断されるとは、下部クラッド層が下部クラッド溝により複数の下部クラッド層パターンに完全に分断されることをいう。このように下部クラッド層を分断することにより、下部クラッド層3の収縮も各パターンに分断され、光ファイバコネクタの反りを抑制できる。本効果は工程中のハンドリング性も向上する利点がある。
また、コアパターン、上部クラッド層形成用樹脂層を形成した後に、エッチングで光伝達用コアパターン7や光ファイバガイドコア8、上部クラッド層9、10を形成する場合、下部クラッド溝5を形成することによって、コアパターン形成用樹脂層や上部クラッド層形成用樹脂層を形成する際に、下部クラッド溝5への樹脂の流動が起こって基板1上全体の樹脂の流動性が向上するため、複数の光伝達用コアパターン7を形成しても、光伝達用コアパターン7の厚みを揃えることが可能となり、光ファイバ14との良好な光信号の送受が可能となる。本発明では、光伝達用コアパターンのばらつきを±5μm以下に抑えることが好ましく、これが可能となる。本効果は上部クラッド層9、10を形成する際も同様であり、基板1表面から光導波路部12上面までの高さと光ファイバガイド部上面までの高さの差が10μm以下に抑制できる。これにより、光ファイバ14を光ファイバ搭載溝11に搭載する際に、例えば光導波路、光ファイバガイド部にまたがるようにガラスブロック等で抑えてもガラスブロックの傾きが小さくできるため、光ファイバ14と光伝達用コアパターン7との良好な位置合わせができる。
また、下部クラッド溝5を形成しないと、光ファイバ搭載溝を含む下部クラッド層除去部6(あらかじめ下部クラッド層を形成しない場合も除去部6と表す)は、凹部となり、コアパターン形成用樹脂層や上部クラッド層形成用樹脂層を形成する際に、気泡が発生しやすい。気泡が発生すると良好な形状の光ファイバガイドコアやその上の上部クラッド層10が形成しにくくなる。
By forming the
Further, when the core pattern and the resin layer for forming the upper clad layer are formed and then the optical
If the lower
また、本発明の光ファイバコネクタには、図1、2に示すように、光導波路部12と光ファイバガイド部との間に基板溝2を有していることが好ましく、機能的にみれば、両部分を挟持するような状態で有することが好ましく、構造的にみれば、形成された光伝達用コアパターン7と、光ファイバ搭載溝形成部(光ファイバ搭載溝を含む下部クラッド層除去部6)とを挟持するように、又は、光ファイバ搭載溝形成部(光ファイバ搭載溝を含む下部クラッド層除去部6)の光導波路側の端部に、基板溝2を有していることが好ましい。基板溝2を有することによって、光ファイバ14を、接着剤等を用いて接着する際に、接着剤が流れる溝として機能し、光ファイバ14の搭載時間が短縮できる。光ファイバ14を光導波路部12に突き当てた後でも、接着剤の液回りは良好である。
また、コアパターン、上部クラッド層形成用樹脂層を形成した後にエッチングで光伝達用コアパターン7や光ファイバガイドコア8、上部クラッド層9、10を形成する場合、基板溝2をあらかじめ形成することによって、上述したように樹脂層を形成しようとすると光ファイバ搭載溝を含む下部クラッド層除去部6に気泡が発生するが、基板溝2を通じて気泡を排出することができるため歩留まりよく樹脂層を積層でき、良好な形状の光ファイバガイド部が形成できる。
The optical fiber connector of the present invention preferably has a
In addition, when the
本発明において光ファイバガイド部は、光ファイバ搭載溝11の側面を形成する部材を有する部分を表し、この光ファイバ搭載溝11は、光伝達用コアパターン7と同一材料からなる光ファイバガイドコア8で形成されていると良く、光ファイバガイドコア8には、下部クラッド層と同一材料から形成されるダミー下部クラッド層4や、上部クラッド層10を内包して備えていてもよい。少なくとも一つの光ファイバガイドコア8に上部クラッド層10を備えると光導波路の上部クラッド層9表面の高さ(最大高さ)を合わせやすく、光ファイバ14を光ファイバ搭載溝11に搭載する際に良好に光ファイバ14を押圧する(抑える)ことができる。
なお、本発明において、光ファイバガイドコア8は、光ファイバ14を固定するためのものであって、光伝達用のコアとして機能するものではない。
また、使用する光ファイバに制限はないが、以下「光ファイバの直径」と表記した場合、光ファイバのクラッド外径もしくは光ファイバの被覆外径を表すこととする。
In the present invention, the optical fiber guide portion represents a portion having a member forming the side surface of the optical
In the present invention, the optical
Further, although there is no limitation on the optical fiber to be used, when it is expressed as “optical fiber diameter” below, it represents the cladding outer diameter of the optical fiber or the coating outer diameter of the optical fiber.
本発明の光ファイバコネクタにおいて、上述した下部クラッド溝5と光伝達用コアパターン7とは略平行方向に延在するとよい。ここでの略平行方向とは、光伝達用コアパターン7のうち光が伝搬する部位と下部クラッド溝5が交差しないことを意味しており、下部クラッド溝5が分断されていても、蛇行していても広義に略平行方向とする。光伝達用コアパターン7と下部クラッド溝5が交差しなければ、光伝達用コアパターン7の厚みはほぼ一定となるため良好に光信号が伝搬できる。
In the optical fiber connector of the present invention, the lower
本発明の光ファイバコネクタにおいて、光ファイバ搭載溝11の底面と、下部クラッド溝の底面は同一平面であるとよい。同一平面であると、基板1の反りを低減できる。
さらに、コアパターン形成用樹脂層や上部クラッド層形成用樹脂層を形成する際に、気泡の発生をより低減することができる。前記同一平面は、基板の表面とすることができる。
以下、本発明の光ファイバコネクタの各部材について詳細に説明する。
In the optical fiber connector of the present invention, the bottom surface of the optical
Furthermore, when the core pattern forming resin layer and the upper clad layer forming resin layer are formed, the generation of bubbles can be further reduced. The same plane may be the surface of the substrate.
Hereinafter, each member of the optical fiber connector of the present invention will be described in detail.
[基板]
基板の材料としては、特に制限はなく、例えば、ガラスエポキシ樹脂基板、セラミック基板、ガラス基板、シリコン基板、プラスチック基板、金属基板、樹脂層付き基板、金属層付き基板、樹脂フィルム、電気配線板等が挙げられる。樹脂フィルムとしてはポリエチレンテレフタレート、ポリブチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート等のポリエステル、ポリエチレン、ポリプロピレン等のポリオレフィン、ポリアミド、ポリカーボネート、ポリフェニレンエーテル、ポリエーテルサルファイド、ポリアリレート、液晶ポリマー、ポリスルホン、ポリエーテルスルホン、ポリエーテルエーテルケトン、ポリエーテルイミド、ポリアミドイミド、ポリイミドなどが好適である。
基板の厚みには特に制限はないが、強度の確保及び光路の短縮による光ロスの低減の観点から、基板の厚みは5μm〜1mmであることが好ましく、10〜100μmであることがより好ましい。
基板1を光信号が透過する場合には、使用する光信号を透過し得る基板1を用いれば良く、例えば使用する光信号が赤外光である場合には、赤外光を透過する樹脂基板、シリコン基板等を用いると良い。光信号を透過しない基板1の場合は、光信号が透過する部分に開口部を設けると良い。
基板1と下部クラッド層3、光ファイバガイドコア8とに接着力がない又は弱い場合には、接着層付きの基板1とするとよい。
[substrate]
The material of the substrate is not particularly limited, and examples thereof include a glass epoxy resin substrate, a ceramic substrate, a glass substrate, a silicon substrate, a plastic substrate, a metal substrate, a substrate with a resin layer, a substrate with a metal layer, a resin film, and an electric wiring board. Is mentioned. As resin films, polyesters such as polyethylene terephthalate, polybutylene terephthalate and polyethylene naphthalate, polyolefins such as polyethylene and polypropylene, polyamide, polycarbonate, polyphenylene ether, polyether sulfide, polyarylate, liquid crystal polymer, polysulfone, polyethersulfone and polyether Ether ketone, polyether imide, polyamide imide, polyimide and the like are preferable.
The thickness of the substrate is not particularly limited, but the thickness of the substrate is preferably 5 μm to 1 mm, more preferably 10 to 100 μm, from the viewpoint of securing strength and reducing optical loss due to shortening of the optical path.
When the optical signal is transmitted through the
If the
[基板溝]
光伝達用コアパターン7と、光ファイバ搭載溝形成部(光ファイバ搭載溝を含む下部クラッド層除去部6)とを挟持するように、又は光ファイバ搭載溝形成部(光ファイバ搭載溝を含む下部クラッド層除去部6)の光導波路部12側の端部に基板溝2を設けると良い。基板溝2は、基板1に直接溝が形成されたものでも、基板上に溝付き樹脂層を形成して基板1としたものであってもよい。光伝達用コアパターン7と光ファイバ搭載溝形成部(光ファイバ搭載溝を含む下部クラッド層除去部6)とを挟持するように、形成すると、光伝達用コアパターン7をエッチングによってパターン化する際に、裾に現像不足や現像残りによる裾引きが発生しても裾引きを基板溝2内にすることができるため、後の工程で光導波路端面を例えばダイシングソー等を用いて平坦化処理しなくても良好に光ファイバ14と光導波路とを接合することができる。
直接溝を形成する方法としては、例えばプレスや射出成形を用いて基板1を変形させて基板溝2を形成する方法や、ダイシングやレーザーアブレーションを用いて、基板1に基板溝2を設ける方法などが挙げられる。
基板上に溝付き樹脂層を形成して基板1とする方法としては、例えば、感光性の樹脂層を基板上に形成し、フォトリソグラフィー加工によって基板溝2の樹脂を除去して形成することによってできる。一括加工で、切削くず等の異物の発生が少ないという観点からフォトリソグラフィー加工による基板溝2の形成が好ましい。
基板溝2は光導波路部12及び光ファイバ搭載溝11形成後にも、光導波路の端部を挟持するか、光ファイバ搭載溝11の光導波路部12側の端部に形成され、基板溝2が露わになっていると良い。ここでの端部とは、一般には、光導波路部12の端面から基板溝2の凹みのはじまりまでの距離が0μmのことを指すが、本発明では光ファイバ搭載溝11の光導波路部12端面から0〜200μm以内の端部及び端部近傍を広義に端部とする。また、基板溝2の幅(光軸方向の幅)は、光ファイバ14の先端がたわみ、光導波路と良好に接続できないことがない範囲であればよく、5〜300μmが好ましい。より好ましくは25〜200μmであり、さらに好ましくは50〜150μmである。上記を換言すると、基板溝2は光導波路から5〜500μm以内に形成されているとよい。光導波路部12側の端部に基板溝2を形成することによって、光導波路部12と光ファイバ14を接着する際に、効率よく接着剤を充填することができる。
また、基板溝2の深さは、基板1の厚み・強度、接着剤の液回り性で適宜選択すればよく、5〜50μmが好ましく、5〜30μmであることがより好ましく、5〜25μmであることがさらに好ましい。
[Substrate groove]
The optical
As a method of directly forming the groove, for example, a method of forming the
As a method for forming a resin layer with a groove on the substrate to form the
Even after the
The depth of the
[下部クラッド層・上部クラッド層]
以下、本発明で使用される下部クラッド層3、ダミー下部クラッド層4及び上部クラッド層9,10について説明する。下部クラッド層3、ダミー下部クラッド層4及び上部クラッド層9,10としては、クラッド層形成用樹脂又はクラッド層形成用樹脂フィルムを用いることができる。
[Lower cladding layer / Upper cladding layer]
Hereinafter, the lower
本発明で用いるクラッド層形成用樹脂としては、光伝達用コアパターン7より低屈折率で、光又は熱により硬化する樹脂組成物であれば特に限定されず、熱硬化性樹脂組成物や感光性樹脂組成物を好適に使用することができる。クラッド層形成用樹脂に用いる樹脂組成物は、下部クラッド層3、ダミー下部クラッド層4及び上部クラッド層9,10において、該樹脂組成物に含有する成分が同一であっても異なっていてもよく、該樹脂組成物の屈折率が同一であっても異なっていてもよい。
The resin for forming the clad layer used in the present invention is not particularly limited as long as it is a resin composition that has a lower refractive index than that of the light transmitting
ダミー下部クラッド層4は、屈折率等の制限はないが、下部クラッド層3と同時に形成すると位置精度の観点から好ましいため、下部クラッド層3と同様の樹脂組成物であるとよい。また、ダミー下部クラッド層4を配置しなくてもよいが、配置すると、下部クラッド層3(光導波路部)との下部クラッド層のパターン面積を同一又は近づけることができ、コアパターン形成用樹脂や上部クラッド層形成用樹脂の平坦性をより確保しやすいため、設けることが好ましい。
The dummy lower clad
本発明においては、クラッド層の形成方法は特に限定されず、例えば、クラッド層形成用樹脂の塗布又はクラッド層形成用樹脂層(ドライフィルム)のラミネートにより形成すれば良い。
塗布による場合には、その方法は限定されず、クラッド層形成用樹脂組成物を常法により塗布すれば良い。
また、ラミネートに用いるクラッド層形成用樹脂層(ドライフィルム)は、例えば、クラッド層形成用樹脂組成物を溶媒に溶解して、支持フィルムに塗布し、溶媒を除去することにより容易に製造することができる。
In the present invention, the method for forming the clad layer is not particularly limited. For example, the clad layer may be formed by applying a clad layer forming resin or laminating a clad layer forming resin layer (dry film).
In the case of application, the method is not limited, and the clad layer forming resin composition may be applied by a conventional method.
The clad layer-forming resin layer (dry film) used for laminating can be easily manufactured by, for example, dissolving the clad layer-forming resin composition in a solvent, applying it to a support film, and removing the solvent. Can do.
下部クラッド層3、ダミー下部クラッド層4及び上部クラッド層9,10の厚さに関しては、特に限定するものではないが、乾燥後の厚さで、5〜500μmの範囲が好ましい。5μm以上であると、光の閉じ込めに必要なクラッド厚さが確保でき、500μm以下であると、膜厚を均一に制御することが容易である。以上の観点から、下部クラッド層3及び上部クラッド層9,10の厚さは、さらに10〜200μmの範囲であることがより好ましい。また、下部クラッド層3は、光ファイバの中心と光伝達用コアパターン中心合わせのため、硬化後のフィルム厚みが、{(光ファイバの半径)−(下部クラッド層3上に形成された光伝達用コアパターン厚み)/2}の厚みのフィルムを用いることが更に好ましい。接着剤等で光ファイバ14を固定する際に、光ファイバ搭載溝11と光ファイバ14との間に間隙ができる場合には上記の値に間隙分の厚みを足した厚みのフィルムを用いるとさらによい。
具体例に、光ファイバの直径80μm、光ファイバのコア径50μmの光ファイバを用いたときの好ましい下部クラッド層3の厚みを示す。まず、光導波路のコア径は、光ファイバから光伝達用コアパターンへ光信号が伝搬してくる場合、光ファイバのコア径に外接する正方形が光損失なく伝搬できる。この場合、光導波路のコアは50μm×50μm(コア高さ;50μm)となる。上記の式に当てはめると最適な下部クラッド層3の厚みは15μm(=40-50/2)となる。また、上記と同一の光ファイバを用いて、光ファイバから光伝達用コアパターンへ光信号が伝搬してくる場合、光ファイバのコア径に内接する正方形が光損失なく伝搬できる。この場合、光導波路のコアは36μm×36μm(コア高さ;36μm)となる。上記の式に当てはめると最適な下部クラッド層3の厚みは22μm(=40-36/2)となる。なお、光ファイバ搭載溝11と光ファイバ14との間に間隙ができる場合には上記の値に間隙分の厚みを足した厚みのフィルムを用いるとさらによい。
また、光導波路において、光伝達用コアパターン7を埋め込むための上部クラッド層9,10の厚みは、コアパターン7の厚さ以上にすることが好ましいが、光ファイバ14を搭載する際に、ガラスブロック等で光ファイバ14を抑える場合には、基板1表面から上部クラッド層上面までの高さが光ファイバ14の直径以下になるように適宜調整すれば良い。あらかじめ光ファイバ搭載溝11上に蓋を形成して孔状にし、該孔に光ファイバを差し込む場合には、光ファイバ14の直径以上であるとよい。
The thicknesses of the
A specific example shows a preferable thickness of the
In the optical waveguide, the thickness of the upper cladding layers 9 and 10 for embedding the light
[下部クラッド溝]
下部クラッド溝5は、光伝達用コアパターン7間の下部クラッド層に設けられた溝であり、複数配列した光伝達用コアパターン7の少なくとも一組の光伝達用コアパターン7間(即ち1箇所)に設けられていれば良く、より好ましくは2〜3本の光伝達用コアパターンに付き1つのコアパターン間に設けられていると良く(上記と同様)、さらに好ましくは全ての光伝達用コアパターン7間に設けられていると良い。下部クラッド溝5の幅は、5μm〜光伝達用コアパターン7間の距離以下であるとよく、30μm〜光伝達用コアパターン7間の距離以下であるとよりよく、50μm〜光伝達用コアパターン7間の距離以下であるとさらによい。
下部クラッド溝5の深さは、特に限定はないが、10〜100μmであるとよく、15〜100μmであるとよりよく、後述する下部クラッド層3と同一厚みであるとさらによい。
[Lower cladding groove]
The
The depth of the
[光伝達用コアパターン]
本発明においては、下部クラッド層3及び基板1上に形成する、光伝達用コアパターン7、光ファイバガイドコア8の形成方法は、コアパターン形成用樹脂の塗布又はコアパターン形成用樹脂層(ドライフィルム)のラミネートにより樹脂層を形成し、エッチングによりコアパターンを形成すれば良い。
本発明においては、コアパターン形成用樹脂層を形成した後、同時にエッチングして光伝達用コアパターン7と光ファイバガイドコア8を同時に形成することにより、効率よく光ファイバコネクタを製造することができる。
[Core pattern for light transmission]
In the present invention, the light
In the present invention, an optical fiber connector can be efficiently manufactured by forming the core pattern forming resin layer and then simultaneously etching to form the optical
コアパターン形成用樹脂、特に光伝達用コアパターン7に用いるコアパターン形成用樹脂は、クラッド層3より高屈折率であるように設計され、活性光線によりコアパターンを形成し得る樹脂組成物を用いることができる。
The core pattern forming resin, in particular, the core pattern forming resin used for the light transmitting
コアパターン形成用樹脂層(フィルム)の厚さについては特に限定されず、乾燥後のコアパターン形成用樹脂層の厚さが、通常は10〜200μmとなるように調整される。下部クラッド層3上に形成される光伝達用コアパターン7の厚さが10μm以上であると、光導波路形成後の受発光素子又は光ファイバとの結合において位置合わせトレランスが拡大できるという利点があり、100μm以下であると、光導波路形成後の受発光素子又は光ファイバとの結合において、結合効率が向上するという利点がある。以上の観点から、下部クラッド層3上に形成される光伝達用コアパターン7の厚さは、さらに30〜90μmの範囲であることが好ましく、該厚みを得るために適宜フィルム厚みを調整すれば良い。
また、光伝達用コアパターンの硬化後の厚みは、光ファイバから光伝達用コアパターンへ光を伝達する場合は、光ファイバのコア径以上になれば光の損失が少なく、光伝達用コアパターンから光ファイバへ光を伝達する場合は、光伝達用コアパターンの厚さと幅からなる矩形が、光損失に悪影響のない範囲で光ファイバのコア径の内側になるように調整すると更に良い。
複数の光伝達用コアパターン7のうち、最も厚みの厚い光伝達用コアパターン7と最も厚みの薄い光伝達用コアパターン7の差は、本発明の光ファイバコネクタであると低減できる。その差は光伝搬及び光ファイバとの結合損失が良好である範囲であるとよく、好ましくは0〜10μm(ばらつき±5μm)、より好ましくは0〜5μm(ばらつき±2.5μm)、さらに好ましくは0〜3μm(ばらつき±1.5μm)である。
The thickness of the core pattern forming resin layer (film) is not particularly limited, and the thickness of the dried core pattern forming resin layer is usually adjusted to be 10 to 200 μm. When the thickness of the
In addition, when the thickness of the light transmission core pattern after curing is from the optical fiber to the light transmission core pattern, the loss of light is less if the light transmission core pattern exceeds the core diameter of the optical fiber. In the case of transmitting light from the optical fiber to the optical fiber, it is better to adjust so that the rectangle composed of the thickness and width of the core pattern for light transmission is inside the core diameter of the optical fiber within a range that does not adversely affect the optical loss.
Among the plurality of light
また、クラッド層形成用樹脂層(ドライフィルム)及びコアパターン形成用樹脂層(ドライフィルム)は、支持フィルム上に形成すると良い。支持フィルムの種類としては、柔軟性及び強靭性のある支持フィルムとして、例えば、ポリエチレンテレフタレート、ポリブチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート等のポリエステル、ポリエチレン、ポリプロピレン等のポリオレフィン、ポリアミド、ポリカーボネート、ポリフェニレンエーテル、ポリエーテルサルファイド、ポリアリレート、液晶ポリマー、ポリスルホン、ポリエーテルスルホン、ポリエーテルエーテルケトン、ポリエーテルイミド、ポリアミドイミド、ポリイミドなどが好適に挙げられる。支持フィルムの厚さは、5〜200μmであることが好ましい。5μm以上であると、支持フィルムとしての強度が得やすいという利点があり、200μm以下であると、パターン形成時のマスクとのギャップが小さくなり、より微細なパターンが形成できるという利点がある。以上の観点から、支持フィルムの厚さは10〜100μmの範囲であることがより好ましく、15〜50μmであることが特に好ましい。 The resin layer for forming a cladding layer (dry film) and the resin layer for forming a core pattern (dry film) are preferably formed on a support film. Examples of the support film include flexible and tough support films such as polyethylene terephthalate, polybutylene terephthalate, polyethylene naphthalate and other polyesters, polyethylene, polypropylene and other polyolefins, polyamides, polycarbonates, polyphenylene ethers and polyethers. Preferred examples include sulfide, polyarylate, liquid crystal polymer, polysulfone, polyethersulfone, polyetheretherketone, polyetherimide, polyamideimide, and polyimide. The thickness of the support film is preferably 5 to 200 μm. When it is 5 μm or more, there is an advantage that the strength as a support film is easily obtained, and when it is 200 μm or less, there is an advantage that a gap with the mask at the time of pattern formation becomes small and a finer pattern can be formed. From the above viewpoint, the thickness of the support film is more preferably in the range of 10 to 100 μm, and particularly preferably 15 to 50 μm.
[光ファイバ搭載溝、光ファイバガイド部、光ファイバガイドコア]
本発明において、光ファイバ14を光ファイバ搭載溝11に固定する方法としては、特に限定されないが、例えば、ガラスブロックでファイバを抑えて光ファイバ搭載溝11に押し込み、光伝達用コアパターン7の中心と光ファイバ14の中心を位置合わせして、接着剤等により固定すれば良い。
この際、基板1との平行方向の位置合わせは光ファイバガイドコア8により行い、基板1との垂直方向の位置合わせは基板1により行うことができる。
[Optical fiber mounting groove, optical fiber guide, optical fiber guide core]
In the present invention, the method for fixing the
At this time, alignment in the direction parallel to the
光ファイバガイド部の基板1表面から光導波路部12の上部クラッド層9の上面までの距離が、光ファイバ14の直径以下だと、ガラスブロックで光ファイバを抑えて光ファイバ搭載溝11に押し込むなどの作業がしやすい。
また、光ファイバガイド部の光ファイバガイドコア8の高さ(厚さ)が、光ファイバ14の半径以上であると光ファイバ14の位置ずれがしにくい。
光ファイバガイドコア8間の光ファイバ搭載溝11の幅としては、光ファイバの直径以上の幅であればよく、光ファイバの実装性及びトレランスの観点から、光ファイバの直径より0.1〜10μm広い幅であると更に良い。光ファイバガイドコア8の高さは光ファイバの半径以上の高さであれば良く、且つ光ファイバの直径以下であれば良い。光ファイバガイド部(上部クラッド層10を含む)高さは、光ファイバの半径より5μm以上高く、直径より3μm以上低いと光ファイバ14をガラスブロック等で抑える場合の実装性が良いため更に好ましい。
あらかじめ光ファイバ搭載溝11上に蓋がされて孔状になっており、該孔に光ファイバを挿入して実装する場合の光ファイバガイド部(上部クラッド層10を含む)高さは、光ファイバの直径以上であれば良い。光ファイバの直径より5μm以上高く、直径+15μm以下であると光ファイバと光導波路の位置ずれを抑制できるため好ましい。
本発明の光ファイバコネクタは、基板1表面から光導波路部12の上部クラッド層9までの高さ(最大高さ)と、基板1表面から光ファイバガイド部の上部クラッド層10までの高さ(最大高さ)の差が低減できる。その差は光ファイバを良好に抑え、又は蓋を良好に設置でき、光ファイバ14と光導波路部12との結合損失が良好である範囲であるとよく、好ましくは0〜10μm、より好ましくは0〜5μm、さらに好ましくは0〜3μmである。
If the distance from the
Further, when the height (thickness) of the optical
The width of the optical
The height of the optical fiber guide portion (including the upper clad layer 10) when the optical
The optical fiber connector of the present invention has a height (maximum height) from the surface of the
[光ファイバ]
本発明においては、具体的には、光ファイバの直径が200μm以下であればコアパターン形成用樹脂層(フィルム)の膜厚が制御しやすいという観点から好ましく、125μm径や80μm径の光ファイバを用いることが更に好ましい。
[Optical fiber]
In the present invention, specifically, if the diameter of the optical fiber is 200 μm or less, it is preferable from the viewpoint that the film thickness of the resin layer (film) for forming the core pattern is easy to control, and an optical fiber having a diameter of 125 μm or 80 μm is used. More preferably, it is used.
[光路変換ミラー]
光伝達用コアパターン7の光軸上には光路変換ミラー13を設けても良い。光路変換ミラー13は、光伝達用コアパターン7を伝搬した光を、基板1に対して略垂直方向に光路変換可能な機構であれば特に限定はなく、光路を好ましくは45〜135°、より好ましくは75〜105°、さらに好ましくは87〜93°に光路変換すると良い。また、光路変換される方向は、下部クラッド層3側でも上部クラッド層9側でも良い。下部クラッド層3側に光路変換されて、基板1を透過する場合には、基板1に透過する光の波長に対して透明性を有しているか、光が透過する箇所が透明又は開口であることが好ましい。
光路変換ミラー13は、光伝達用コアパターン7の光軸上に略45°の傾斜面を形成した空気反射ミラーや、傾斜面に反射金属層を形成した金属反射ミラーであっても良い。
[Optical path conversion mirror]
An optical
The optical
光路変換ミラー13の形成方法としては、特に限定はなく、レーザーアブレーションや、ダイシングソー等の切削加工を用いて光路変換ミラー13用の傾斜面を形成する方法等が好適に挙げられる。光伝達用コアパターン7の光軸上に同一工程で光路変換ミラー13を形成すると、効率的に複数の光路変換ミラー13を形成でき、さらにそれらの位置の相関が得られやすいため好ましい。
また、本発明では、樹脂と空気との屈折率差を利用した空気反射ミラーがよいが、反射面に反射金属層をもうけた金属反射ミラーでもよい。反射金属層の形成方法としては、特に限定はないが、蒸着、スパッタ、めっき等が挙げられる。反射金属層の種類としてはAu、Ag、Cu、Al、Cu、Ni、Ti等の各種金属、及びそれらの合金等が好適に用いられる。
以下、本発明の光ファイバコネクタの製造方法について詳細に説明する。
A method for forming the optical
In the present invention, an air reflecting mirror using a difference in refractive index between resin and air is preferable, but a metal reflecting mirror having a reflecting metal layer on the reflecting surface may be used. The method for forming the reflective metal layer is not particularly limited, and examples thereof include vapor deposition, sputtering, and plating. As the type of the reflective metal layer, various metals such as Au, Ag, Cu, Al, Cu, Ni, Ti, and alloys thereof are preferably used.
Hereinafter, the manufacturing method of the optical fiber connector of this invention is demonstrated in detail.
(工程A)
本発明の光ファイバコネクタの製造方法では、工程Aとして基板1上に下部クラッド層形成用樹脂層を形成し、エッチングによって、光ファイバガイド部における、光ファイバ搭載溝を含む下部クラッド層除去部6と、光導波路部における下部クラッド溝5とを形成する。これらを同時に形成することによって位置精度のよい下部クラッド層除去部6及び下部クラッド溝5を形成できる。このとき下部クラッド層除去部6及び下部クラッド溝5は接続していると後のコアパターン形成用樹脂層、上部クラッド層形成用樹脂層を形成する際に樹脂の流れ性が向上し、樹脂層の平坦性が得られやすく、気泡の発生も抑えられる。
(Process A)
In the method for manufacturing an optical fiber connector of the present invention, a lower clad layer forming resin layer is formed on the
(工程B)
本発明の光ファイバコネクタの製造方法では、工程Bとして下部クラッド層3形成面側からコアパターン形成用樹脂層を形成し、エッチングによって、下部クラッド層3上に光伝達用コアパターン7を形成すると共に、光ファイバガイドコア8を形成する。光ファイバガイドコア8は、光ファイバ搭載溝11の側壁となる。本発明ではこれらを同時に形成することができる。これにより、光ファイバ搭載溝11と、光伝達用コアパターン7との高い位置精度を確保でき、光ファイバ14を光ファイバ搭載溝11に搭載すると、良好に光導波路部12と光ファイバ14とを位置合わせできる。
(Process B)
In the method for manufacturing an optical fiber connector of the present invention, as step B, a core pattern forming resin layer is formed from the lower
(工程C)
本発明の光ファイバコネクタの製造方法では、工程Cとして光伝達用コアパターン7形成面側から上部クラッド層形成用樹脂層を形成し、エッチングによって、光ファイバガイド部における前記光ファイバ搭載溝上の上部クラッド層を除去する。
(Process C)
In the method for manufacturing an optical fiber connector of the present invention, as step C, a resin layer for forming an upper clad layer is formed from the light transmitting
(工程D)
本発明の光ファイバコネクタの製造方法では、工程Dとして基板1に光伝達用コアパターン7と、光ファイバ搭載溝11形成部とを挟持するように基板溝2を形成する、又は光ファイバ搭載溝11形成部の光導波路部側の端部に基板溝2を形成することが好ましい。
なお、工程Dはコアパターン形成用樹脂層、上部クラッド層形成用樹脂層を形成する際の気泡の発生を抑制する観点から、工程B又は工程Cの前に行われる。
(Process D)
In the optical fiber connector manufacturing method of the present invention, as step D, the
In addition, the process D is performed before the process B or the process C from a viewpoint of suppressing generation | occurrence | production of the bubble at the time of forming the resin layer for core pattern formation, and the resin layer for upper clad layer formation.
[エッチング]
本発明ではコアパターン形成用樹脂層又はクラッド層形成用樹脂層をエッチングしてパターン化する。エッチングの方法としては、RIE(Reactive Ion Etching)などのドライエッチングや、溶剤やアルカリ溶液を用いて樹脂を溶解や膨潤除去するウェットエッチングが挙げられる。ドライエッチング及びウェットエッチングする前に、コアパターン形成用樹脂層又はクラッド層形成用樹脂層上にエッチングされない又はされにくいエッチングレジストパターンを形成してエッチングレジストパターンがない部分のコアパターン形成用樹脂層又はクラッド層形成用樹脂層を除去し、その後にエッチングレジストパターンを除去する方法を用いてもよい。ウェットエッチングする場合には、コアパターン形成用樹脂層又はクラッド層形成用樹脂層が、溶液やアルカリ溶液によってエッチング可能な樹脂を用いるとよい。
別のウェットエッチングの方法として、コアパターン形成用樹脂層又は上部クラッド層形成用樹脂層を感光性の樹脂層とし、活性光線で光硬化し、ウェットエッチングする方法がある。この方法を用いると、樹脂層上にエッチングレジストパターンを形成する工程、エッチングレジストパターンを除去する工程が不要であるためよい。
ウェットエッチングであると深さの異なるパターン(光伝達用コアパターンと光ファイバガイドコア等)を容易に形成できるため好ましい。
[etching]
In the present invention, the core pattern forming resin layer or the cladding layer forming resin layer is etched and patterned. Examples of the etching method include dry etching such as RIE (Reactive Ion Etching), and wet etching in which a resin is dissolved or swelled and removed using a solvent or an alkaline solution. Before performing dry etching and wet etching, an etching resist pattern that is not or hardly etched is formed on the core pattern forming resin layer or the clad layer forming resin layer, and the core pattern forming resin layer or the portion without the etching resist pattern is formed. A method of removing the clad layer forming resin layer and then removing the etching resist pattern may be used. When wet etching is performed, a resin that can be etched with a solution or an alkaline solution may be used for the core pattern forming resin layer or the clad layer forming resin layer.
As another wet etching method, there is a method in which the core pattern forming resin layer or the upper clad layer forming resin layer is a photosensitive resin layer, photocured with actinic rays, and wet etched. If this method is used, a step of forming an etching resist pattern on the resin layer and a step of removing the etching resist pattern are unnecessary.
Wet etching is preferable because patterns with different depths (such as a light transmission core pattern and an optical fiber guide core) can be easily formed.
以下、本発明を実施例によりさらに詳細に説明するが、本発明を限定するものではない。
実施例1
<クラッド層形成用樹脂フィルムの作製>
[(A)(メタ)アクリルポリマー(ベースポリマー)の作製]
撹拌機、冷却管、ガス導入管、滴下ろうと、及び温度計を備えたフラスコに、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート46質量部及び乳酸メチル23質量部を秤量し、窒素ガスを導入しながら撹拌を行った。液温を65℃に上昇させ、メチルメタクリレート47質量部、ブチルアクリレート33質量部、2−ヒドロキシエチルメタクリレート16質量部、メタクリル酸14質量部、2,2´−アゾビス(2,4−ジメチルバレロニトリル)3質量部、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート46質量部、及び乳酸メチル23質量部の混合物を3時間かけて滴下後、65℃で3時間撹拌し、さらに95℃で1時間撹拌を続けて、(A)(メタ)アクリルポリマーの溶液(固形分45質量%)を得た。
EXAMPLES Hereinafter, although an Example demonstrates this invention further in detail, this invention is not limited.
Example 1
<Preparation of a resin film for forming a cladding layer>
[Production of (A) (meth) acrylic polymer (base polymer)]
46 parts by mass of propylene glycol monomethyl ether acetate and 23 parts by mass of methyl lactate were weighed in a flask equipped with a stirrer, a cooling pipe, a gas introduction pipe, a dropping funnel, and a thermometer, and stirred while introducing nitrogen gas. . The liquid temperature was raised to 65 ° C., 47 parts by mass of methyl methacrylate, 33 parts by mass of butyl acrylate, 16 parts by mass of 2-hydroxyethyl methacrylate, 14 parts by mass of methacrylic acid, 2,2′-azobis (2,4-dimethylvaleronitrile ) A mixture of 3 parts by mass, 46 parts by mass of propylene glycol monomethyl ether acetate and 23 parts by mass of methyl lactate was added dropwise over 3 hours, followed by stirring at 65 ° C. for 3 hours, and further stirring at 95 ° C. for 1 hour. A) A (meth) acrylic polymer solution (solid content: 45% by mass) was obtained.
[重量平均分子量の測定]
(A)(メタ)アクリルポリマーの重量平均分子量(標準ポリスチレン換算)をGPC(東ソー(株)製「SD−8022」、「DP−8020」、及び「RI−8020」)を用いて測定した結果、3.9×104であった。なお、カラムは日立化成(株)製「Gelpack GL−A150−S」及び「Gelpack GL−A160−S」を使用した。
[酸価の測定]
(A)(メタ)アクリルポリマーの酸価を測定した結果、79mgKOH/gであった。なお、酸価は(A)(メタ)アクリルポリマー溶液を中和するのに要した0.1mol/L水酸化カリウム水溶液量から算出した。このとき、指示薬として添加したフェノールフタレインが無色からピンク色に変色した点を中和点とした。
[Measurement of weight average molecular weight]
(A) The result of having measured the weight average molecular weight (standard polystyrene conversion) of (meth) acrylic polymer using GPC ("SD-8022", "DP-8020", and "RI-8020" by Tosoh Corp.). It was 3.9 × 10 4 . As the column, “Gelpack GL-A150-S” and “Gelpack GL-A160-S” manufactured by Hitachi Chemical Co., Ltd. were used.
[Measurement of acid value]
As a result of measuring the acid value of (A) (meth) acrylic polymer, it was 79 mgKOH / g. The acid value was calculated from the amount of 0.1 mol / L potassium hydroxide aqueous solution required to neutralize the (A) (meth) acrylic polymer solution. At this time, the point at which the phenolphthalein added as an indicator changed color from colorless to pink was defined as the neutralization point.
[クラッド層形成用樹脂ワニスの調合]
ベースポリマーとして、前記(A)(メタ)アクリルポリマー溶液(固形分45質量%)84質量部(固形分38質量部)、(B)光硬化成分として、ポリエステル骨格を有するウレタン(メタ)アクリレート(新中村化学工業(株)製「U−200AX」)33質量部、及びポリプロピレングリコール骨格を有するウレタン(メタ)アクリレート(新中村化学工業(株)製「UA−4200」)15質量部、(C)熱硬化成分として、ヘキサメチレンジイソシアネートのイソシアヌレート型三量体をメチルエチルケトンオキシムで保護した多官能ブロックイソシアネート溶液(固形分75質量%)(住化バイエルウレタン(株)製「スミジュールBL3175」)20質量部(固形分15質量部)、(D)光重合開始剤として、1−[4−(2−ヒドロキシエトキシ)フェニル]−2−ヒドロキシ−2−メチル−1−プロパン−1−オン(チバ・ジャパン(株)製「イルガキュア2959」)1質量部、ビス(2,4,6−トリメチルベンゾイル)フェニルホスフィンオキシド(チバ・ジャパン(株)製「イルガキュア819」)1質量部、及び希釈用有機溶剤としてプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート23質量部を攪拌しながら混合した。孔径2μmのポリフロンフィルタ(アドバンテック東洋(株)製「PF020」)を用いて加圧濾過後、減圧脱泡し、クラッド層形成用樹脂ワニスを得た。
[Preparation of resin varnish for forming clad layer]
As a base polymer, 84 parts by mass (solid content 38 parts by mass) of the (A) (meth) acrylic polymer solution (solid content 45% by mass), (B) urethane (meth) acrylate having a polyester skeleton as a photocuring component ( Shin-Nakamura Chemical Co., Ltd. “U-200AX”) 33 parts by mass, and urethane (meth) acrylate having a polypropylene glycol skeleton (Shin-Nakamura Chemical Co., Ltd. “UA-4200”) 15 parts by mass, (C ) As a thermosetting component, a polyfunctional block isocyanate solution (solid content 75% by mass) obtained by protecting isocyanurate type trimer of hexamethylene diisocyanate with methyl ethyl ketone oxime (“Sumijour BL3175” manufactured by Sumika Bayer Urethane Co., Ltd.) 20 1 part by mass (
[クラッド層形成用樹脂フィルムの作製]
上記で得られたクラッド層形成用樹脂ワニスを、支持フィルムであるPETフィルム(東洋紡績(株)製「コスモシャインA4100」、厚み50μm)の非処理面上に、塗工機(マルチコーターTM−MC、(株)ヒラノテクシード製)を用いて塗布し、100℃で20分乾燥後、保護フィルムとして表面離型処理PETフィルム(帝人デュポンフィルム(株)製「ピューレックスA31」、厚み25μm)を貼付け、クラッド層形成用樹脂フィルムを得た。
このとき、クラッド層形成用樹脂ワニスより形成される樹脂層の厚みは、塗工機のギャップを調節することで任意に調整可能であり、乾燥後の膜厚については後述する。
[Preparation of resin film for forming clad layer]
The resin varnish for forming a clad layer obtained above is coated on a non-treated surface of a PET film (“Cosmo Shine A4100” manufactured by Toyobo Co., Ltd., thickness 50 μm) as a support film. MC, manufactured by Hirano Tech Seed Co., Ltd., dried at 100 ° C. for 20 minutes, and then a surface release treated PET film (“Purex A31” manufactured by Teijin DuPont Films Co., Ltd., thickness 25 μm) is pasted as a protective film. A resin film for forming a cladding layer was obtained.
At this time, the thickness of the resin layer formed from the clad layer forming resin varnish can be arbitrarily adjusted by adjusting the gap of the coating machine, and the thickness after drying will be described later.
<コアパターン形成用樹脂フィルムの作製>
(A)ベースポリマーとして、フェノキシ樹脂(商品名:フェノトートYP−70、東都化成(株)製)26質量部、(B)光重合性化合物として、9,9−ビス[4−(2−アクリロイルオキシエトキシ)フェニル]フルオレン(商品名:A−BPEF、新中村化学工業(株)製)36質量部、及びビスフェノールA型エポキシアクリレート(商品名:EA−1020、新中村化学工業(株)製)36質量部、(C)光重合開始剤として、ビス(2,4,6−トリメチルベンゾイル)フェニルフォスフィンオキサイド(商品名:イルガキュア819、チバ・スペシャリティ・ケミカルズ社製)1質量部、及び1−[4−(2−ヒドロキシエトキシ)フェニル]−2−ヒドロキシ−2−メチル−1−プロパン−1−オン(商品名:イルガキュア2959、チバ・スペシャリティ・ケミカルズ社製)1質量部、有機溶剤としてプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート40質量部を用いたこと以外は上述のクラッド層形成用樹脂ワニスの調合と同様の方法及び条件でコアパターン形成用樹脂ワニスを調合した。その後、上記と同様の方法及び条件で加圧濾過さらに減圧脱泡した。
上記で得られたコアパターン形成用樹脂ワニスを、支持フィルムであるPETフィルム(商品名:コスモシャインA1517、東洋紡績(株)製、厚さ:16μm)の非処理面上に、上記製造例と同様な方法で塗布乾燥し、次いで保護フィルムとして離型PETフィルム(商品名:ピューレックスA31、帝人デュポンフィルム(株)、厚さ:25μm)を離型面が樹脂側になるように貼り付け、コアパターン形成用樹脂フィルムを得た。
このとき、コアパターン形成用樹脂ワニスより形成される樹脂層の厚みは、塗工機のギャップを調節することで任意に調整可能であり、乾燥後の膜厚については後述する。
<Preparation of resin film for core pattern formation>
(A) As a base polymer, 26 parts by mass of a phenoxy resin (trade name: Phenotote YP-70, manufactured by Toto Kasei Co., Ltd.), and (B) 9,9-bis [4- (2- Acrylyloxyethoxy) phenyl] fluorene (trade name: A-BPEF, Shin-Nakamura Chemical Co., Ltd.) 36 parts by mass, and bisphenol A type epoxy acrylate (trade name: EA-1020, Shin-Nakamura Chemical Co., Ltd.) 36 parts by mass, (C) 1 part by mass of bis (2,4,6-trimethylbenzoyl) phenylphosphine oxide (trade name: Irgacure 819, manufactured by Ciba Specialty Chemicals) -[4- (2-hydroxyethoxy) phenyl] -2-hydroxy-2-methyl-1-propan-1-one (trade name: Irgacu 2959, manufactured by Ciba Specialty Chemicals Co., Ltd.), and the core pattern was prepared in the same manner and under the same conditions as in the above-mentioned preparation of the resin varnish for forming a clad layer, except that 40 parts by mass of propylene glycol monomethyl ether acetate was used as the organic solvent. A forming resin varnish was prepared. Thereafter, pressure filtration and degassing under reduced pressure were performed in the same manner and conditions as described above.
On the non-treated surface of the PET film (trade name: Cosmo Shine A1517, manufactured by Toyobo Co., Ltd., thickness: 16 μm) as a support film, the core pattern-forming resin varnish obtained above is After applying and drying in the same manner, a release PET film (trade name: PUREX A31, Teijin DuPont Films Co., Ltd., thickness: 25 μm) is attached as a protective film so that the release surface is on the resin side. A resin film for forming a core pattern was obtained.
At this time, the thickness of the resin layer formed from the resin varnish for core pattern formation can be arbitrarily adjusted by adjusting the gap of the coating machine, and the thickness after drying will be described later.
[基板1の作製]
上記で得られた15μm厚みのクラッド層形成用樹脂層(フィルム)の保護フィルムを剥離して、100mm×100mmのポリイミドフィルム(ポリイミド;ユーピレックスRN(宇部日東化成(株)製)、厚み;25μm)上に配置した。その後、真空加圧式ラミネータ((株)名機製作所製、MVLP−500)を用い、500Pa以下に真空引きした後、圧力0.4MPa、温度80℃、加圧時間30秒の条件にて加熱圧着して、ラミネートした。
次いで100μmの遮光部を有するネガ型フォトマスクを介し、紫外線露光機(株式会社オーク製作所製、EXM−1172)にて支持フィルム側から紫外線(波長365nm)を250mJ/cm2照射した。その後、支持フィルムを剥離し、現像液(1質量%炭酸カリウム水溶液)を用いて、クラッド層形成用樹脂層をエッチングした。続いて、水洗浄し、170℃で1時間加熱乾燥及び硬化し、100μm幅、厚み15μmの基板溝2付きの基板1を作製した。
[Production of Substrate 1]
The protective film of the 15 μm-thick clad layer-forming resin layer (film) obtained above was peeled off, and a 100 mm × 100 mm polyimide film (polyimide; Upilex RN (manufactured by Ube Nitto Kasei Co., Ltd.), thickness: 25 μm) Placed on top. Then, after vacuuming to 500 Pa or less using a vacuum pressurization type laminator (MVLP-500, manufactured by Meiki Seisakusho Co., Ltd.), thermocompression bonding is performed under conditions of a pressure of 0.4 MPa, a temperature of 80 ° C., and a pressurization time of 30 seconds. And laminated.
Next, ultraviolet light (wavelength 365 nm) was irradiated from the support film side with 250 mJ / cm 2 through a negative photomask having a light-shielding part of 100 μm with an ultraviolet exposure machine (EXM-1172, manufactured by Oak Manufacturing Co., Ltd.). Thereafter, the support film was peeled off, and the resin layer for forming the clad layer was etched using a developing solution (1 mass% potassium carbonate aqueous solution). Subsequently, the
[光ファイバコネクタの作製]
上記で得られた37.5μm厚のクラッド層形成用樹脂フィルムの保護フィルムを剥離して、基板溝2形成面側から上記の真空ラミネータを用いて上記と同様の条件で、積層した。110μm×10mm×12箇所(250μmピッチ)の開口部(下部クラッド層)と110μm×30mm×10mm×13箇所(250μmピッチ)の開口部(ダミー下部クラッド層4)を100μm離してそれぞれが半ピッチ(125μm)ずらしたネガ型フォトマスクを100μm離した部分が基板溝2と重なるように位置合わせし、紫外線露光機(株式会社オーク製作所製、EXM−1172)にて支持フィルム側から紫外線(波長365nm)を250mJ/cm2照射した。その後、支持フィルムを剥離し、現像液(1質量%炭酸カリウム水溶液)を用いて、下部クラッド層形成用樹脂をエッチングした。続いて、水洗浄し、170℃で1時間加熱乾燥及び硬化し、下部クラッド層3とダミー下部クラッド層4を形成した。なお、表記したパターン以外の部分はパターン密度を揃えるために、110μm幅のダミーパターンを250μmピッチで形成した。
[Fabrication of optical fiber connector]
The protective film of the 37.5 μm-thick clad layer forming resin film obtained above was peeled off and laminated under the same conditions as described above using the vacuum laminator from the
[コアパターンの作製]
次に、保護フィルムを剥離した71μm厚の上記コアパターン形成用樹脂フィルムを上記の下部クラッド層3形成面側に配置し、その上から厚み1mmのSUS304をあてがい、さらに、基板1側にも厚み1mmのSUS304をあてがい、上記の真空ラミネータを用いて上記と同様の条件で、積層した。次いで上記の真空加圧式ラミネータ(株式会社名機製作所製、MVLP−500)を用い、500Pa以下に真空引きした後、圧力0.4MPa、温度70℃、加圧時間30秒の条件にて加熱圧着した。その後、光伝達用コアパターン幅50μm(ピッチ;250μm、12本)、光ファイバガイドコア8幅121μm(ピッチ;250μm、13本)の開口部を有するネガ型フォトマスクを介し、それぞれの光伝達用コアパターン7がそれぞれの下部クラッド層3上に、光ファイバガイドコア8が、ダミー下部クラッド層4を埋設するように位置合わせをし、上記紫外線露光機にて紫外線(波長365nm)を700mJ/cm2照射し、次いで80℃で5分間露光後加熱を行った。その後、支持フィルムであるPETフィルムを剥離し、現像液(プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート/N,N−ジメチルアセトアミド=8/2、質量比)を用いて、コアパターンをエッチングした。続いて、洗浄液(イソプロパノール)を用いて洗浄し、100℃で10分間加熱乾燥し、光伝達用コアパターン7及び光ファイバガイドコア8を形成した。なお、光ファイバガイドコア8における各パターンの大きさは、光ファイバを光ファイバ搭載溝11に固定した際に、光ファイバ14が光伝達用コアパターン7に光信号を送受可能な位置に接合するように設計されている。
光伝達用コアパターン7の断面形状は50μm×50μmで、光ファイバガイドコアの高さは87.4μm、幅は121μmであった(光ファイバガイドコア間は129μm)。
なお、表記したパターン以外の部分はパターン密度を揃えるために、50μm幅のダミーパターンを250μmピッチで形成した。
[Production of core pattern]
Next, the 71 μm-thick core pattern forming resin film from which the protective film has been peeled is placed on the lower
The cross-sectional shape of the optical
In addition, in order to make the pattern density uniform in portions other than the described pattern, dummy patterns having a width of 50 μm were formed at a pitch of 250 μm.
次いで、保護フィルムを剥離した92μm厚のクラッド層形成用樹脂層(フィルム)を配置し、その上から厚み1mmのSUS304をあてがい、さらに、基板1側にも厚み1mmのSUS304をあてがい、上記の真空ラミネータを用いて上記と同様の条件で、ラミネートした。さらに、下部クラッド層3形成の際に使用したネガ型フォトマスクのうち光導波路部を全て開口部にしたネガ型フォトマスクを使用して紫外線(波長365nm)を150J/cm2照射後、支持フィルムを剥離し、現像液(1質量%炭酸カリウム水溶液)を用いて、光ファイバ搭載溝11部分の上部クラッド層形成用樹脂層(フィルム)をエッチングで除去した。続いて、水洗浄し、170℃で1時間加熱乾燥及び硬化し、250μmピッチ、ファイバ径125μm、12チャンネル用の光ファイバコネクタを作製した。
得られた光ファイバコネクタにおいて、基板1表面から光導波路上面までの距離は、最大で122μm、光ファイバガイド部の基板1表面から上部クラッド層10までの高さは最大で123μmであった。12本の光伝達用コアパターンの厚みの最大値は51μmで、最小値は49.2μmであり、ばらつきは±0.9μmであった。本製造方法で10個の光ファイバコネクタを作製したところ、コアパターン形成時も、上部クラッド層形成時も光ファイバ搭載溝11に気泡が発生することは一度もなかった。
Next, a 92 μm-thick clad layer-forming resin layer (film) from which the protective film has been peeled off is placed, SUS304 with a thickness of 1 mm is applied from the top, and SUS304 with a thickness of 1 mm is further applied to the
In the obtained optical fiber connector, the distance from the
[光路変換ミラーの形成]
得られた光導波路部12の上部クラッド層9側からダイシングソー(DAC552、株式会社ディスコ製)を用いて45°の光路変換ミラー13を形成した。
さらに、矩形のブレードを備えた上記ダイシングソーを用いて基板1を3mm×20.1mmに加工した。
以上のようにして得られた光ファイバコネクタの光ファイバ搭載溝11に、250μmピッチ、12チャンネルの光ファイバ14(コア径;50μm、クラッド径;125μm)をガラスブロックで抑えて光ファイバ搭載溝11に押し込んだところ、光導波路部12の光伝達用コアパターン7の光伝達面に接合し、光ファイバ14から光信号を伝達することが可能であり、かつ、光ファイバ14が位置ずれすることもなかった。光損失のばらつきも±0.2dBであった。
光ファイバ14固定用の接着剤として上記で得たコアパターン形成用樹脂ワニスを光ファイバ搭載溝11に滴下したところ、基板溝2をつたって良好に全ての光ファイバ搭載溝11に回り込んだ。
[Formation of optical path conversion mirror]
A 45 ° optical
Further, the
In the optical
When the core pattern forming resin varnish obtained above as an adhesive for fixing the
比較例1
実施例1において、基板溝2を形成せずに直接ポリイミド上に下部クラッド層3を形成し、下部クラッド層3のパターン化に用いたネガ型フォトマスクを、上部クラッド層9,10のパターン化で用いたネガ型フォトマスクに変更し、下部クラッド溝5を形成しなかった以外は同様の方法で光ファイバコネクタを作製した。
得られた光ファイバコネクタにおいて、基板1表面から光導波路上面までの距離は、最大で134μm、光ファイバガイド部の基板1表面から上部クラッド層10までの高さは最大で126μmであった。12本の光伝達用コアパターンの厚みの最大値は58.0μmで、最小値は46.0μmであり、ばらつきは±6.0μmであった。中心部の光伝達用コアパターンが厚い傾向であった。さらに、本製造方法で10個の光ファイバコネクタを作製したところ、コアパターン形成時に光ファイバ搭載溝11に気泡が発生したものが9個、上部クラッド層形成時に気泡が発生したものが8個あった。
以上のようにして得られた光ファイバコネクタの光ファイバ搭載溝11に、250μmピッチ、12チャンネルの光ファイバ14(コア径;50μm、クラッド径;125μm)をガラスブロックで抑えて光ファイバ搭載溝8に押し込んだところ、光導波路部12の光伝達用コアパターン7の光伝達面に接合し、光ファイバ14から光信号を伝達することが可能であり、かつ、光ファイバ14が位置ずれすることもなかったが、光損失のばらつきは±0.6dBであった。
Comparative Example 1
In Example 1, the
In the obtained optical fiber connector, the distance from the
In the optical
さらに光ファイバ14固定用の接着剤として上記で得たコアパターン形成用樹脂ワニスを光ファイバ搭載溝11に滴下したところ、全ての光ファイバ搭載溝11に回り込むのに時間がかかり、光ファイバ14と光導波路の間に気泡が残存した。
Further, when the core pattern forming resin varnish obtained above as an adhesive for fixing the
以上詳細に説明したように、本発明の光ファイバコネクタは、複数の光伝達用コアパターンの厚みばらつきが低減でき、光導波路の上部クラッド層表面までの高さと光ファイバガイド部の高さとの差が少なく、光ファイバとの結合損失のばらつきを低減できる。
このため、光ファイバ用の光電気変換基板等として有用である。
As described above in detail, the optical fiber connector of the present invention can reduce the thickness variation of a plurality of core patterns for light transmission, and the difference between the height to the surface of the upper cladding layer of the optical waveguide and the height of the optical fiber guide portion. Therefore, variation in coupling loss with the optical fiber can be reduced.
Therefore, it is useful as a photoelectric conversion substrate for optical fibers.
1.基板
2.基板溝
3.下部クラッド層
4.ダミー下部クラッド層
5.下部クラッド溝
6.光ファイバ搭載溝を含む下部クラッド層除去部
7.光伝達用コアパターン
8.光ファイバガイドコア
9.上部クラッド層(光導波路部)
10.上部クラッド層(光ファイバガイド部)
11.光ファイバ搭載溝
12.光導波路部
13.光路変換ミラー
14.光ファイバ
1.
10. Upper cladding layer (optical fiber guide)
11. 10. Optical fiber mounting groove
Claims (14)
基板上に下部クラッド層形成用樹脂層を形成し、エッチングによって、前記光ファイバガイド部における光ファイバ搭載溝を含む下部クラッド層除去部と、前記光導波路部に下部クラッド溝を形成する工程A、
前記下部クラッド層形成面側からコアパターン形成用樹脂層を形成し、エッチングによって、前記光導波路部における下部クラッド層上に光伝達用コアパターンと、前記光ファイバガイド部における下部クラッド層上に光ファイバ搭載溝の側壁を形成する工程B、及び、
前記光伝達用コアパターン形成面側から上部クラッド層形成用樹脂層を形成し、エッチングによって、前記光ファイバガイド部における光ファイバ搭載溝上の上部クラッド層を除去する工程Cを有する光ファイバコネクタの製造方法。 An optical fiber in which an optical waveguide portion having a lower clad layer, a plurality of light transmission core patterns, an upper clad layer, and an optical fiber guide portion having an optical fiber mounting groove for fixing the optical fiber is provided on a substrate. A method for manufacturing a connector, comprising:
Forming a resin layer for forming a lower clad layer on the substrate, and forming, by etching, a lower clad layer removing portion including an optical fiber mounting groove in the optical fiber guide portion, and forming a lower clad groove in the optical waveguide portion;
A resin layer for forming a core pattern is formed from the lower clad layer forming surface side, and an optical transmission core pattern on the lower clad layer in the optical waveguide portion and light on the lower clad layer in the optical fiber guide portion are etched. Forming a side wall of the fiber mounting groove; and
Manufacturing of an optical fiber connector comprising a step C of forming a resin layer for forming an upper clad layer from the light transmission core pattern forming surface side and removing the upper clad layer on the optical fiber mounting groove in the optical fiber guide portion by etching. Method.
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JP2013155522A JP2015025953A (en) | 2013-07-26 | 2013-07-26 | Optical fiber connector, manufacturing method therefor, and optical fiber cable with the same |
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JP2016188886A (en) * | 2015-03-30 | 2016-11-04 | ルネサスエレクトロニクス株式会社 | Semiconductor device and method for manufacturing the same |
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2013
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