JP2015050238A - ナノインプリント用成形型 - Google Patents
ナノインプリント用成形型 Download PDFInfo
- Publication number
- JP2015050238A JP2015050238A JP2013179430A JP2013179430A JP2015050238A JP 2015050238 A JP2015050238 A JP 2015050238A JP 2013179430 A JP2013179430 A JP 2013179430A JP 2013179430 A JP2013179430 A JP 2013179430A JP 2015050238 A JP2015050238 A JP 2015050238A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- mold member
- mold
- recess
- nanoimprint
- resist film
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
- 238000000465 moulding Methods 0.000 title description 7
- 230000002093 peripheral effect Effects 0.000 claims abstract description 9
- 230000037303 wrinkles Effects 0.000 abstract description 7
- 238000000034 method Methods 0.000 description 18
- 239000000463 material Substances 0.000 description 7
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 6
- 238000003825 pressing Methods 0.000 description 5
- 238000007493 shaping process Methods 0.000 description 5
- 206010037660 Pyrexia Diseases 0.000 description 3
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 3
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 3
- 239000007769 metal material Substances 0.000 description 3
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 3
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 3
- 238000005520 cutting process Methods 0.000 description 2
- 238000005530 etching Methods 0.000 description 2
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 2
- 230000035515 penetration Effects 0.000 description 2
- 239000013078 crystal Substances 0.000 description 1
- 238000001312 dry etching Methods 0.000 description 1
- 238000000206 photolithography Methods 0.000 description 1
- 238000001039 wet etching Methods 0.000 description 1
Images
Landscapes
- Moulds For Moulding Plastics Or The Like (AREA)
- Shaping Of Tube Ends By Bending Or Straightening (AREA)
- Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
Abstract
【課題】 転写する所望の形状の精度を向上させるとともに割れや罅の発生を軽減する。
【解決手段】 ナノインプリント用成形型100は、平板状の第1型部材10と、複数の貫通孔21が設けられた第2型部材20と、第2型部材20の一方の主面に設けられており、第2型部材20の一方の外周側面から貫通孔21を介して第2型部材20の他方の外周側面まで形成された複数の溝22とを備え、第1型部材10と第2型部材20とが一体で形成されていることを特徴とする。
【選択図】 図1
【解決手段】 ナノインプリント用成形型100は、平板状の第1型部材10と、複数の貫通孔21が設けられた第2型部材20と、第2型部材20の一方の主面に設けられており、第2型部材20の一方の外周側面から貫通孔21を介して第2型部材20の他方の外周側面まで形成された複数の溝22とを備え、第1型部材10と第2型部材20とが一体で形成されていることを特徴とする。
【選択図】 図1
Description
本発明は、ナノインプリント印刷法で使用されるナノインプリント用成形型に関するものである。
従来より、圧電デバイスに用いられる圧電素子などの小さい電子部品の外形は、フォトリソグラフィ技術,ウエットエッチング技術,ドライエッチング技術を用いて形成されている。また、小型化された圧電素子は、結晶軸に対し所定の角度で切断された板状の圧電ウエハに複数個並べた状態で形成されている。しかしながら、これらの技術は、高額な装置が必要でありまた多くの製造工程を必要としていた。
そこで、所定の形状を有した成形型をレジスト膜に押し当てて、レジスト膜に成形型に設けられた所定の形状を転写させるナノインプリント印刷法が提案されている。このナノインプリント印刷法は、例えば、圧電ウエハの表裏の主面にレジスト膜を形成する工程と、凹部内壁が所定の形状を有したナノインプリント用成形型をレジスト膜に押し当てて、レジスト膜を硬化させる工程と、硬化されたレジスト膜を有する圧電ウエハをエッチング加工する工程と、圧電ウエハ上の全てのレジスト膜を剥離する工程とを含んでいる(例えば、特許文献1参照)。また、ナノインプリント印刷法で使用されるナノインプリント用成形型は、複数の凹部が設けられており、凹部内壁が所定の形状を有している。
しかしながら、ナノインプリント用成形型をレジスト膜に押し当てて、レジスト膜を硬化させる工程において、凹部が設けられたナノインプリント用成形型をレジスト膜に押し当てることにより、凹部の開口部をレジスト膜で蓋をした状態となり、凹部内に空気を閉じ込めた状態となる。そのため、凹部内は、凹部内に入り込んだレジスト膜と凹部内に閉じ込められた空気とで満たされる。また、凹部内に入り込んだレジスト膜は、凹部内壁に密着することとなる。また、凹部内に閉じ込められた空気は凹部内底面とレジスト膜との間に位置し、レジスト膜が凹部内底面壁に密着しない状態となる。したがって、レジスト膜の形状は、ナノインプリント用成形型の凹部内壁形状が転写され、凹部内底面が転写されない形状になる。よって、圧電素子は、所望の形状とならない場合があった。
また、ナノインプリント用成形型をレジスト膜に押し当てることにより凹部内に閉じ込められた空気がレジスト膜を介して圧電素子に圧力を与えることになる。よって、従来のナノインプリント用成形型は、圧電素子に割れや罅を発生させるおそれがある。
そこで、本発明は、前記問題を解決し転写する形状の精度を向上させ、割れや罅の発生を軽減するナノインプリント用成形型を提供することを課題とする。
そこで、本発明は、前記問題を解決し転写する形状の精度を向上させ、割れや罅の発生を軽減するナノインプリント用成形型を提供することを課題とする。
本発明によれば、ナノインプリント用成形型は、平板状の第1型部材と、複数の貫通孔が設けられた第2型部材と、第2型部材の一方の主面に設けられており、第2型部材の一方の外周側面から貫通孔を介して第2型部材の他方の外周側面まで形成された複数の溝とを備え、第1型部材と第2型部材とが一体で形成されていることを特徴とする。
また、ナノインプリント用成形型であって、第2型部材に設けられた溝は、貫通孔の開口部の一辺と貫通孔の開口部の一辺に相対する辺とを通るように形成されていることを特徴とする。
また、ナノインプリント用成形型であって、第2型部材に設けられた溝は、貫通孔の開口部の角を通るように形成されていることを特徴とする。
本発明によるナノインプリント用成形型は、第1型部材と第2型部材の一方の主面に設けられており第2型部材の一方の外周側面から貫通孔を経て第2型部材の他方の外周側面まで形成された複数の溝とで空気給排出孔が形成されている。また、空気給排出孔は、貫通孔の開口部の一辺と貫通孔の開口部の一辺に相対する辺との中心線上を通るように形成されていることにより、ナノインプリント用成形型に設けられた凹部内に閉じ込められた空気は空気給排出孔を通りナノインプリント用成形型の外部へ排出することとなる。つまり、複数の凹部が設けられたナノインプリント用成形型をレジスト膜に押し当てることにより、凹部内にレジスト膜が入り込み、凹部内に入っている空気をレジスト膜が蓋をした状態となる。次に、凹部内に入り込んだレジスト膜は、凹部内壁に密着するとともに凹部内に入っている空気を圧縮する。次に、圧縮された空気は、空気給排出孔を通りナノインプリント用成形型の凹部の外部へ排出される。したがって、レジスト膜は、ナノインプリント用成形型の凹部底面の内壁に密着することとなりナノインプリント用成形型の凹部内壁の形状が転写される。よって、ナノインプリント用成形型は、圧電素子に所望の形状を形成することができるため、割れや罅の発生を軽減することができる。
また、本発明によるナノインプリント用成形型は、第1型部材と第2型部材の一方の主面に設けられており第2型部材の一方の外周側面から貫通孔を経て第2型部材の他方の外周側面まで形成された複数の溝とで空気給排出孔が形成されている。また、空気給排出孔は、貫通孔の開口部の角に対して対角線上を通るように形成されていることにより、ナノインプリント用成形型をレジスト膜に押し当てても凹部内に閉じ込められた空気は空気給排出孔を通りナノインプリント用成形型の外部へ排出され、空気が圧電素子に圧力を与えることがなくなる。よって、本発明によるナノインプリント用成形型は、圧電素子に割れや罅の発生を軽減させることができる。
以下、本発明のいくつかの例示的な実施形態について、図面を参照して説明する。なお、同一要素には同一の符号を付し重複する説明を省略する。また、構成を明確にするために誇張して図示している。なお、本実施形態における主面とは、立体的に形成される型部材において、最も広い面およびそれと平行する平面のことである。
(第1の実施形態)
図1および図2に示されているように、本発明の第1の実施形態におけるナノインプリント用成形型100は、第1型部材10と第2型部材20とで構成されている。
図1および図2に示されているように、本発明の第1の実施形態におけるナノインプリント用成形型100は、第1型部材10と第2型部材20とで構成されている。
第1型部材10は、平板状の例えば金属またはガラス材などにより形成されている。なお、第1型部材10が金属材料より形成されている場合は、主に熱によるレジスト膜の硬化に適しており、第1型部材10がガラス材料より形成されている場合は、熱または光によるレジスト膜の硬化に適している。また、第1型部材10の一方の主面と第2型部材20の一方の主面とは接合されるため第1型部材10と第2型部材20は、同じ材質で形成されている。
第2型部材20は、第1型部材10と同形状の外形を有し、例えば金属またはガラス材などにより形成されている。なお、第2型部材20が金属材料より形成されている場合は、主に熱によるレジスト膜の硬化に適しており、第2型部材20がガラス材料より形成されている場合は、熱または光によるレジスト膜の硬化に適している。また、第2型部材20の一方の主面から第2型部材20の他方の主面には、複数の貫通孔21が設けられている。また、第1型部材10の一方の主面に第2型部材20の一方の主面が接合され、接合された第1型部材10の一方の主面と第2型部材20の複数の貫通孔21とで複数の凹部30が形成される。また、第1型部材10の一方の主面と接合することになる第2型部材20の一方の主面には、溝22が形成されている。また、接合された第1型部材10の一方の主面と第2型部材20の一方の主面に設けられた溝22とで空気給排出孔40が形成されている。
溝22は、第2型部材20の主面上において貫通孔21の開口部の一辺と貫通孔21の開口部の一辺に相対する辺との中心線上を通るように形成されており、隣接する凹部30間を繋ぐとともに第2型部材20の外形側面まで繋がるように形成されている。また、溝22は、直角に交わるように配置されている。また、溝22の断面形状は、溝22の底面に対し両側面が直角に交わる形状を有している。また、この溝22の形成方法は、フラットエンドミルを用い、第2型部材20の主面上において貫通孔21の開口部の一辺と貫通孔21の開口部の一辺に相対する辺との中心線上を通るように第2型部材20の主面に対し平行移動させて切削加工することにより形成する。
複数の凹部30の内部は、凹部30の底面部から凹部30の開口部に向かい拡径している。また、隣接する凹部30は、空気給排出孔40によって繋がっている。また、凹部30の内部形状が凹部30の底面部から凹部30の開口部に向かい拡径しているのは、例えば圧電素子を製造する場合に、圧電素子の主面の中央部が圧電素子の主面の端部より厚く設けられる形状を形成するためである。このような形状にすることにより、振動エネルギーを圧電素子の中心に閉じ込めることができる。この形状を圧電素子に形成するために凹部30の内部形状が凹部30の底面から凹部30の開口部に向かい拡径している。
空気給排出孔40は、接合された第1型部材10の一方の主面と第2型部材20の一方の主面に設けられた溝22とで形成されている。また、空気給排出孔40は、接合された第1型部材10の一方の主面と第2型部材20の一方の主面に設けられた溝22とで形成されているため、隣接する凹部30間を繋ぐように形成されさらに、ナノインプリント用成形型100の外部側面にも繋がっている。また、接合された第1型部材10の一方の主面と第2型部材20の一方の主面に設けられた溝22とで形成された空気給排出孔40は、凹部30の底面部の側面に形成される。
ここで、ナノインプリント用成形型100を用いたナノインプリント印刷法について説明する。ナノインプリント用成形型100を用いたナノインプリント印刷法は、まず、圧電ウエハの表裏の主面にレジスト膜を形成する工程を行う。次に、ナノインプリント用成形型100に設けられた複数の凹部30をレジスト膜に押し当てて、レジスト膜を硬化させる工程を行う。この時、凹部30の内壁形状が圧電ウエハに設けられたレジスト膜に転写される。次に、硬化されたレジスト膜を有する圧電ウエハをエッチング加工する工程を行う。次に、圧電ウエハ上の全てのレジスト膜を剥離する工程を経て圧電ウエハ上に複数の圧電素子が形成される。このようにしてナノインプリント用成形型100を用いたナノインプリント印刷法は用いられる。
このように、本発明の第1の実施形態に係るナノインプリント用成形型100をナノインプリント印刷法で用いた場合、複数の凹部30が設けられたナノインプリント用成形型100をレジスト膜に押し当てることにより、凹部30の開口部をレジスト膜で蓋をした状態となり、凹部30内に空気が入り込むこととなる。しかし、ナノインプリント用成形型100の凹部30に設けられた空気給排出孔40により凹部30内の空気は、凹部30内から空気給排出孔40を通り凹部30の外に排出されることになる。したがって、レジスト膜は、凹部30内底面部にも密着することになり、凹部30の内壁形状がレジスト膜に転写されることとなる。よって、ナノインプリント用成形型100は、圧電素子に所望の形状を精度よく形成することができる。
また、本発明の第1の実施形態に係るナノインプリント用成形型100は、ナノインプリント用成形型100の凹部30に空気給排出孔40が設けられていることにより、凹部30が設けられたナノインプリント用成形型100をレジスト膜に押し当てても、凹部30内に閉じ込められた空気は、凹部30内から凹部30の外に排出されることになる。したがって、凹部30内の空気がレジスト膜を介して圧電素子に圧力を与えることが無くなる。よって、ナノインプリント用成形型100は、圧電素子に割れや罅の発生を軽減し品質を向上させることができる。
また、本発明の第1の実施形態に係るナノインプリント用成形型100において、空気給排出孔40により、凹部30の内壁面に密着したレジスト膜を凹部30の内壁面から離形しやすくすることができる。つまり、ナノインプリント用成形型100の外部側面に位置する空気給排出孔40から凹部30内に空気を送り込み、空気の圧力で凹部30の内壁面に密着したレジスト膜を離形する。よって、凹部30の内壁面に密着したレジスト膜は、離形しやすくなり生産性を向上させることができる。
(第2の実施形態)
本発明の第2の実施形態におけるナノインプリント用成形型200について図3および図4を参照して説明する。なお、本発明の第2の実施形態におけるナノインプリント用成形型200において、第1の実施形態におけるナノインプリント用成形型100と異なる構成は空気給排出孔80の形成される位置が第2型部材60の主面上において貫通孔61の開口部の角に対して対角線上を通るように形成されていることである。その他の構成については、第1の実施形態におけるナノインプリント用成形型100と同様である。
本発明の第2の実施形態におけるナノインプリント用成形型200について図3および図4を参照して説明する。なお、本発明の第2の実施形態におけるナノインプリント用成形型200において、第1の実施形態におけるナノインプリント用成形型100と異なる構成は空気給排出孔80の形成される位置が第2型部材60の主面上において貫通孔61の開口部の角に対して対角線上を通るように形成されていることである。その他の構成については、第1の実施形態におけるナノインプリント用成形型100と同様である。
図3および図4に示されているように、本発明の第2の実施形態におけるナノインプリント用成形型200は、第1型部材50と第2型部材60とで構成されており、第1型部材50の一方の主面に第2型部材60が接合されている。また、第2型部材60には、複数の貫通孔61が設けられており、接合された第1型部材50の一方の主面と第2型部材60の貫通孔61とで凹部70が形成されている。
第2型部材60は、第1型部材50と同形状の外形を有し、例えば金属またはガラス材などにより形成されている。なお、第2型部材60が金属材料より形成されている場合は、主に熱によるレジスト膜の硬化に適しており、第2型部材60がガラス材料より形成されている場合は、熱または光によるレジスト膜の硬化に適している。また、第2型部材60の一方の主面から第2型部材60の他方の主面には、複数の貫通孔61が設けられている。また、第1型部材50の一方の主面に第2型部材60の一方の主面が接合され、接合された第1型部材50の一方の主面と第2型部材60の複数の貫通孔61とで複数の凹部70が形成されている。また、第1型部材50の一方の主面と接合することになる第2型部材60の一方の主面には、溝62が形成されている。また、接合された第1型部材50の一方の主面と第2型部材60の一方の主面に設けられた溝62とで空気給排出孔80が形成されている。
溝62は、第2型部材60の主面上において貫通孔61の開口部の角に対して対角線上を通るように形成されており、隣接する凹部70間を繋ぐとともに第2型部材60の外形側面まで繋がるように形成されている。また、溝62は、直角に交わるように配置されている。また、溝62の断面形状は、溝62の底面に対し両側面が直角に交わる形状を有している。また、この溝62の形成方法は、フラットエンドミルを用い、第2型部材60の主面上において貫通孔61の開口部の一辺と貫通孔61の開口部の角に対して対角線上を通るように第2型部材60の主面に対し平行移動させて切削加工することにより形成する。
空気給排出孔80は、接合された第1型部材50の一方の主面と第2型部材60の一方の主面に設けられた溝62とで形成されている。また、空気給排出孔80は、接合された第1型部材50の一方の主面と第2型部材60の一方の主面に設けられた溝62とで形成されているため、隣接する凹部70間を繋ぐように形成されさらに、ナノインプリント用成形型200の外部側面にも繋がっている。また、接合された第1型部材50の一方の主面と第2型部材60の一方の主面に設けられた溝62とで形成された空気給排出孔80は、凹部70の底面部の側面に形成される。
このように、本発明の第2の実施形態に係るナノインプリント用成形型200をナノインプリント印刷法で用いた場合、複数の凹部70が設けられたナノインプリント用成形型200をレジスト膜に押し当てることにより、凹部70の開口部をレジスト膜で蓋をした状態となり、凹部70内に空気が入り込むこととなる。しかし、ナノインプリント用成形型200の凹部70に設けられた空気給排出孔80により凹部70内の空気は、凹部70内から空気給排出孔80を通り凹部70の外に排出されることになる。したがって、レジスト膜は、凹部70内底面部にも密着することになり、凹部70の内壁形状がレジスト膜に転写されることとなる。よって、ナノインプリント用成形型200は、圧電素子に所望の形状を精度よく形成することができる。
また、本発明の第2の実施形態に係るナノインプリント用成形型200は、ナノインプリント用成形型200の凹部70に空気給排出孔80が設けられていることにより、凹部70が設けられたナノインプリント用成形型200をレジスト膜に押し当てても、凹部70内に閉じ込められた空気は、凹部70内から凹部70の外に排出されることになる。したがって、凹部70内の空気がレジスト膜を介して圧電素子に圧力を与えることが無くなる。よって、ナノインプリント用成形型200は、圧電素子に割れや罅の発生を軽減し品質を向上させることができる。
また、本発明の第2の実施形態に係るナノインプリント用成形型200において、空気給排出孔80により、凹部70の内壁面に密着したレジスト膜を凹部70の内壁面から離形しやすくすることができる。つまり、ナノインプリント用成形型200の外部側面に位置する空気給排出孔80から凹部70内に空気を送り込み、空気の圧力で凹部70の内壁面に密着したレジスト膜を離形する。よって、凹部70の内壁面に密着したレジスト膜は、離形しやすくなり生産性を向上させることができる。
なお、本発明はこれに限定されず、適宜変更可能である。
例えば、本発明の実施形態の変形例として、第2型部材20の一方の主面に設けられた溝22の断面形状は、半円形状であってもよい。このような形状にしても同様の効果が得られる。また、この溝22の形成方法は、ボールエンドミルを使用することにより形成することができる。
例えば、本発明の実施形態の変形例として、第2型部材20の一方の主面に設けられた溝22の断面形状は、半円形状であってもよい。このような形状にしても同様の効果が得られる。また、この溝22の形成方法は、ボールエンドミルを使用することにより形成することができる。
また、例えば、本発明の実施形態の変形例として、空気給排出孔40は、凹部30の底面部の側面に形成されており、隣接する凹部30間を繋ぐように形成されさらに、ナノインプリント用成形型100の側面にも繋がっているのであればどのような位置に形成されていてもよい。このような形状にしても同様の効果が得られる。
また、例えば、本発明の実施形態の変形例として、空気給排出孔40は、直角に交わるように配置されるのではなく、一方向に対して平行に配置されていてもよい。このような形状にしても同様の効果が得られる。
10,50 第1型部材
20,60 第2型部材
21,61 貫通孔
22,62 溝
30,70 凹部
40,80 空気給排出孔
100,200 ナノインプリント用成形型
20,60 第2型部材
21,61 貫通孔
22,62 溝
30,70 凹部
40,80 空気給排出孔
100,200 ナノインプリント用成形型
Claims (3)
- 平板状の第1型部材と、
複数の貫通孔が設けられた第2型部材と、
前記第2型部材の一方の主面に設けられており第2型部材の一方の外周側面から貫通孔を介して第2型部材の他方の外周側面まで形成された複数の溝とを備え、
前記第1型部材と前記第2型部材とが一体で形成されていることを特徴とするナノインプリント用成形型。 - 前記第2型部材に設けられた溝は前記貫通孔の開口部の一辺と前記貫通孔の開口部の一辺に相対する辺とを通るように形成されていることを特徴とする請求項1に記載のナノインプリント用成形型。
- 前記第2型部材に設けられた溝は前記貫通孔の開口部の角を通るように形成されていることを特徴とする請求項1に記載のナノインプリント用成形型。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2013179430A JP2015050238A (ja) | 2013-08-30 | 2013-08-30 | ナノインプリント用成形型 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2013179430A JP2015050238A (ja) | 2013-08-30 | 2013-08-30 | ナノインプリント用成形型 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2015050238A true JP2015050238A (ja) | 2015-03-16 |
Family
ID=52700037
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2013179430A Pending JP2015050238A (ja) | 2013-08-30 | 2013-08-30 | ナノインプリント用成形型 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP2015050238A (ja) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
EP4335605A1 (en) * | 2022-08-30 | 2024-03-13 | FUJIFILM Corporation | Method of manufacturing structure |
-
2013
- 2013-08-30 JP JP2013179430A patent/JP2015050238A/ja active Pending
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
EP4335605A1 (en) * | 2022-08-30 | 2024-03-13 | FUJIFILM Corporation | Method of manufacturing structure |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
CN104338906B (zh) | 具有纵向凹凸部的马达壳体铁芯制造模具及根据该模具制造的具有纵向凹凸部的马达壳体 | |
JP6695715B2 (ja) | 部品の成形方法 | |
CN105093470B (zh) | 悬式透镜系统及用于制造悬式透镜系统的晶圆级方法 | |
JP2005059596A (ja) | 段付き積層体の形成方法 | |
JP2014032368A5 (ja) | ||
JP2015050238A (ja) | ナノインプリント用成形型 | |
WO2016006403A1 (ja) | ラミネートフィルムの成形装置及びラミネートフィルムの成形方法 | |
JP2008216588A5 (ja) | ||
JP2012094818A5 (ja) | ||
KR101250570B1 (ko) | 렌즈 제조 방법 | |
JP2015030107A (ja) | ナノインプリント用成形型 | |
KR20140049930A (ko) | 단열벽체의 제조 방법 및 단열벽체 | |
KR20120066946A (ko) | 렌즈 및 이의 제조방법 | |
JP5662673B2 (ja) | 複合品の製造方法 | |
JP2020082509A5 (ja) | ||
JP2014088978A (ja) | 伝熱部材製造方法、伝熱部品製造方法、伝熱部材および伝熱部品 | |
JP3177101U (ja) | 成形金型 | |
CN104837611B (zh) | 生产透镜晶片的方法和设备 | |
US8623701B2 (en) | Semiconductor device, semiconductor device storage method, semiconductor device manufacturing method, and semiconductor manufacturing apparatus | |
JP7159089B2 (ja) | タイヤ成形用モールドの製造方法 | |
KR200482877Y1 (ko) | 몰드와 이에 응용되는 몰드 코어 위치 결정 구조 | |
TW201401966A (zh) | 薄型殼體之製造方法及其製品 | |
JP5969307B2 (ja) | セラミック基板の製造方法 | |
WO2017069136A1 (ja) | 立体構造体の製作方法、それに使用する金型および電気接触子 | |
KR20020039912A (ko) | 복합재료 가이드 보 제작용 외부 금형 |