JP2014063805A - 基板処理装置及び基板搬送方法 - Google Patents

Abstract

【課題】十分な搬送空間が確保できない場合でも、搬送時に於ける収納容器と搬送機構との接触を防止できる基板処理装置及び基板搬送方法を提供する。
【解決手段】基板２を収納する基板収納容器３を搬送する収納容器搬送機構１４と、外部及び装置内部から搬送された基板収納容器３が載置される収納容器授受部５と、基板を取出し又は挿入する際に基板収納容器が載置される収納容器載置部９，１１と、収納容器授受部と収納容器載置部との間で基板収納容器を搬送する様に収納容器搬送機構を制御する搬送制御手段と、基板収納容器を収納容器搬送機構が搬送する際に干渉しない様予め決められた位置情報が設定される設定手段とを具備し、前記搬送制御手段は基板収納容器の搬送動作時に前記設定手段から前記位置情報を取得し、該位置情報で示される位置を収納容器授受部と収納容器搬送機構との間で基板収納容器を受渡しする動作の基準位置とする。
【選択図】図２

Description

本発明は、ウェーハ等の基板に、酸化処理、拡散処理、薄膜の生成等の処理を行う基板処理装置及び基板搬送方法に関するものである。

基板を処理する処理装置として、縦型の処理炉と、所定数の被処理基板（以下ウェーハと称す）を水平姿勢で多段に保持する基板保持具であるボートと、複数枚のウェーハが収納された基板収納容器を収納容器授受部を介して処理装置内に搬入、処理装置外に搬出する収納容器搬送機構と、該収納容器搬送機構から前記ボートにウェーハを移載する基板移載機とを具備し、前記ボートにウェーハを保持した状態で前記処理炉にてウェーハを処理するバッチ式の基板処理装置がある。

前記基板収納容器は、前記収納容器搬送機構により前記収納容器授受部上から収納容器保管棚等の一時保管部等に搬入され、又前記収納容器搬送機構により前記一時保管部から前記収納容器授受部上に搬出される。

然し乍ら、近年、前記基板収納容器が大型化しているにも拘らず、基板処理装置自体の専有面積を最小限にする必要がある為、前記収納容器授受部と前記収納容器搬送機構との間に動作に必要とされていた十分な搬送空間を確保することができず、前記基板収納容器の搬入時、又は搬出時に該基板収納容器と前記収納容器搬送機構とが接触する虞れがあった。

本発明は斯かる実情に鑑み、十分な搬送空間が確保できない場合でも、搬送時に於ける収納容器と搬送機構との接触を防止できる基板処理装置及び基板搬送方法を提供するものである。

本発明は、基板を収納する基板収納容器を搬送する収納容器搬送機構と、外部及び装置内部から搬送された前記基板収納容器が載置される収納容器授受部と、基板を取出し又は挿入する際に前記基板収納容器が載置される収納容器載置部と、前記収納容器授受部と前記収納容器載置部との間で前記基板収納容器を搬送する様に前記収納容器搬送機構を制御する搬送制御手段と、前記基板収納容器を前記収納容器搬送機構が搬送する際に干渉しない様予め決められた位置情報が設定される設定手段とを具備し、前記搬送制御手段は前記基板収納容器の搬送動作時に前記設定手段から前記位置情報を取得し、該位置情報で示される位置を前記収納容器授受部と前記収納容器搬送機構との間で前記基板収納容器を受渡しする動作の基準位置とする基板処理装置に係るものである。

又本発明は、基板を収納した基板収納容器を収納容器授受部から装置内部に搬入する搬入工程と、前記装置内部で所定の処理を行った後、処理済みの基板を前記基板収納容器に移載し、該基板収納容器を前記収納容器授受部に搬出する搬出工程とを含む基板搬送方法であって、前記搬入工程及び前記搬出工程では、前記基板収納容器を搬送する際に干渉しない様予め設定された位置情報を取得し、該位置情報で示される位置を基準位置として前記基板収納容器の搬送を行う基板搬送方法に係るものである。

本発明によれば、基板を収納する基板収納容器を搬送する収納容器搬送機構と、外部及び装置内部から搬送された前記基板収納容器が載置される収納容器授受部と、基板を取出し又は挿入する際に前記基板収納容器が載置される収納容器載置部と、前記収納容器授受部と前記収納容器載置部との間で前記基板収納容器を搬送する様に前記収納容器搬送機構を制御する搬送制御手段と、前記基板収納容器を前記収納容器搬送機構が搬送する際に干渉しない様予め決められた位置情報が設定される設定手段とを具備し、前記搬送制御手段は前記基板収納容器の搬送動作時に前記設定手段から前記位置情報を取得し、該位置情報で示される位置を前記収納容器授受部と前記収納容器搬送機構との間で前記基板収納容器を受渡しする動作の基準位置とするので、前記収納容器搬送機構が前記基板収納容器を搬送するのに十分な搬送空間を確保できない場合であっても、前記基板収納容器と前記収納容器搬送機構との干渉を防止することができ、前記基板収納容器の大型化に伴う前記収納容器搬送機構の設計変更を行う必要がなくなり、コストの低減を図ることができる。

又本発明によれば、基板を収納した基板収納容器を収納容器授受部から装置内部に搬入する搬入工程と、前記装置内部で所定の処理を行った後、処理済みの基板を前記基板収納容器に移載し、該基板収納容器を前記収納容器授受部に搬出する搬出工程とを含む基板搬送方法であって、前記搬入工程及び前記搬出工程では、前記基板収納容器を搬送する際に干渉しない様予め設定された位置情報を取得し、該位置情報で示される位置を基準位置として前記基板収納容器の搬送を行うので、収納容器搬送機構が前記基板収納容器を搬送するのに十分な搬送空間を確保できない場合であっても干渉することがなく、前記基板収納容器の大型化に伴う前記収納容器搬送機構の設計変更を行う必要がなくなり、コストの低減を図ることができるという優れた効果を発揮する。

本発明の実施例に係る基板処理装置を示す斜視図である。 本発明の実施例に係る基板処理装置を示す断面図である。 本発明の実施例に係る基板処理装置の制御装置の構成を示すブロック図である。 本発明の実施例に係るカセットの搬入動作時のカセット搬送機の動作順序を示す説明図である。 本発明の実施例に係るカセットの搬入動作を説明するフローチャートである。 本発明の実施例に係るカセットの搬出動作時のカセット搬送機の動作順序を示す説明図である。 本発明の実施例に係るカセットの搬出動作を説明するフローチャートである。 本発明の実施例に係るカセットの大きさと稼働空間の関係を説明する説明図であり、（Ａ）は稼働空間が十分に確保されている場合を示し、（Ｂ）は稼働空間が十分に確保されていない状態で通常の搬送動作を行った場合を示し、（Ｃ）は稼働空間が十分に確保されていない状態で衝突回避動作を行った場合を示している。

以下、図面を参照しつつ本発明の実施例を説明する。

先ず、図１、図２に於いて、本発明の実施例に係る基板処理装置１について説明する。

尚、以下の説明では、基板処理装置として基板に拡散処理やＣＶＤ処理等を行う縦型炉を具備する縦型基板処理装置を適用した場合について述べる。

シリコン等からなるウェーハ２等の基板を収納した密閉式の基板収納容器（ＦＯＵＰ）（以下カセット３）を、外部から筐体４内へ搬入する為、及びその逆に該筐体４内から外部へ搬出する為のＩ／Ｏステージ（収納容器授受部）５が前記筐体４の前面に設けられ、前記Ｉ／Ｏステージ５上には複数の前記カセット３が載置可能となっている。又、前記筐体４内には搬入された前記カセット３を保管する為のカセット棚（一時保管部）６が設けられている。

又、前記筐体４内には、ウェーハ２の搬送エリアであり、ボート（基板保持具）７のローディング、アンローディング空間となる気密室８が設けられている。前記ボート７には、上下方向に所定のピッチで溝等の保持部が形成され、該保持部に複数のウェーハ２が水平多段に保持される様になっている。

ウェーハ２に処理を行う時の前記気密室８の内部は、ウェーハ２の自然酸化膜を防止する為にＮ2 ガス等の不活性ガスが充満される様になっている。

前記カセット３としては、現在ＦＯＵＰというタイプが主流で使用されており、前記カセット３の一側面に設けられた開口部を蓋体（図示せず）で塞ぐことで大気からウェーハ２を隔離して搬送でき、前記蓋体を取外すことで前記カセット３内へウェーハ２を入出させることができる。前記カセット３の蓋体を取外し、該カセット３内と前記気密室８とを連通させる為に、該気密室８の前面側には、カセット載置ステージ９，１１（収納容器載置部）が複数組（図示では上下に２組）設けられ、前記気密室８の前記カセット載置ステージ９，１１対峙部分にはそれぞれカセットオープナ１２，１３（開閉手段）が設けられている。該カセットオープナ１２，１３は独立して駆動可能となっており、前記カセット載置ステージ９，１１に載置された前記カセット３を個別に開閉可能となっている。

前記カセット載置ステージ９，１１、前記カセット棚６、及び前記Ｉ／Ｏステージ５間の前記カセット３の搬送は、横行可能な収納容器搬送機構であるカセット搬送機１４によって行われる。該カセット搬送機１４は昇降可能なカセットエレベータ１５と、該カセットエレベータ１５に設けられ前後方向に進退可能なカセット移載機１６とを有し、前記カセットエレベータ１５、前記カセット移載機１６とで、それぞれ水平（ＣＳ軸）方向、垂直（ＣＺ軸）方向、前後（ＣＸ軸）方向に前記カセット３を搬送できる様になっている。

前記カセット搬送機１４による前記カセット３の搬送空間１７には、前記筐体４に設けられたクリーンユニット（図示せず）によって清浄化した空気をフローさせる様にしている。

前記気密室８の内部には、前記ボート７と、ウェーハ２のノッチ（又はオリエンテーションフラット）の位置を任意の位置に合せる基板位置合せ装置１８が設けられる。前記カセット載置ステージ９，１１上の前記カセット３と前記基板位置合せ装置１８と前記ボート７との間でウェーハ２の搬送を行うウェーハ移載機１９が設けられている。又、前記気密室８の上部にはウェーハ２を処理する為の処理炉２１が設けられており、該処理炉２１の下端開口部である炉口は炉口ゲートバルブ２２によって開閉される。該炉口ゲートバルブ２２が開状態で、前記ボート７はボートエレベータ（昇降手段）２３によって前記処理炉２１へローディング、又は該処理炉２１からアンローディングされ、前記ボート７へのウェーハ２移載時には前記炉口ゲートバルブ２２が閉じられる様になっている。

又、前記基板処理装置１は、前記カセット搬送機１４、前記ウェーハ移載機１９、ボートエレベータ２３等の駆動を制御する制御装置２４を有している。以下、図３を参照して該制御装置２４について説明する。

該制御装置２４は、主にＣＰＵ等の演算制御部２５と、判定手段としての判定部２６と、処理制御手段としての処理制御部２０と、搬送制御手段としての搬送制御部２７と、メモリやＨＤＤ等からなる記憶部２８と、マウスやキーボード等の操作部２９及びモニタ等の表示部３１とから構成されている。尚、前記演算制御部２５と、前記記憶部２８と、前記操作部２９と、前記表示部３１とで各位置情報等を設定可能な設定手段が構成される。

前記判定部２６は、後述するプログラムの指示により、回避位置の位置情報として、前記筐体４に対する水平（左右）方向であるＣＳ軸（図１参照）の位置情報が定義されているかどうかを判定する機能を有している。

前記処理制御部２０は、前記処理炉２１内にローディングされたウェーハ２に対し、所定の処理がなされる様、前記処理炉２１内の温度や圧力、該処理炉２１内に導入される処理ガスの流量等を制御する機能を有している。

前記搬送制御部２７は、図示しない駆動モータを介して前記カセット搬送機１４、前記ウェーハ移載機１９、前記ボートエレベータ２３等の搬送機構の駆動を制御する機能を有しており、前記判定部２６の判定結果に基づき前記カセット搬送機１４が通常搬送動作か、後述する衝突回避動作の何れか一方により前記カセット３の搬送を行う様制御する機能を有している。

前記記憶部２８には、各種データ等が格納されるデータ格納領域３２と、各種プログラムが格納されるプログラム格納領域３３が形成されている。前記データ格納領域３２は、前記カセット３を前記筐体４内に搬入する際、又前記カセット３を前記筐体４外に搬出する際の、前記Ｉ／Ｏステージ５上の受渡し位置の情報や、予め定義された回避位置の情報や、受渡し位置に前記カセット搬送機１４を移動させる際の動作順序、受渡し位置から前記カセット搬送機１４を移動させる際の動作順序等の情報が格納されている。動作順序の情報は、通常搬送動作と衝突回避動作の２パターンが前記データ格納領域３２に格納される様になっている。

尚、回避位置の情報や、前記カセット搬送機１４を移動させる際の動作順序等は、前記Ｉ／Ｏステージ５上に載置された複数の前記カセット３に対してそれぞれ設定できる様になっている。

又、衝突回避動作は、前記カセット３を搬入、搬出する際に、前記カセット移載機１６を受渡し位置と回避位置との間で移動させ、通常時とは前記カセット３の移動経路を変更することで、前記カセット３と前記カセット搬送機１４とが接触しない様にする搬送動作である。回避位置は通常の搬送動作により前記カセット３を搬送する際に、該カセット３の搬送経路が前記カセット搬送機１４と重なる接触部３０が存在する場合に（図８（Ｂ）のハッチング部）、前記カセット３の軌跡と前記カセット搬送機１４が干渉しない様にδだけ、例えばＣＳ軸の受渡し位置から数十ｍｍ程度離れた箇所が設定される（図８（Ｃ）参照）。尚、図８（Ａ）に示される様に、前記カセット３の大きさが小さく、該カセット３の軌跡と前記カセット搬送機１４が干渉しない場合には、回避位置を定義しなくてもよい。

前記プログラム格納領域３３には、前記カセット３の搬入、搬出を行う為に必要な各種プログラムが格納されている。例えば、前記判定部２６に回避位置が定義されているかどうかを判定させる為の衝突回避動作判定プログラム３４、定義された回避位置に基づき前記搬送制御部２７に衝突回避動作を行わせる為の衝突回避プログラム３５等のプログラムが格納されている。

基板処理は以下の手順で行われる。

基板処理が開始されると、先ずＡＧＶ（Ａｕｔｏｍａｔｅｄ Ｇｕｉｄｅｄ Ｖｅｈｉｃｌｅ）やＯＨＴ（Ｏｖｅｒｈｅａｄ Ｈｏｉｓｔ Ｔｒａｎｓｐｏｒｔ）等の外部搬送装置により前記筐体４の外部から搬送された前記カセット３が、前記Ｉ／Ｏステージ５上に載置される。

該Ｉ／Ｏステージ５上に載置された前記カセット３は、前記カセット搬送機１４によって前記筐体４内に搬入された後、直接前記カセット載置ステージ９，１１上に搬送されるか、又は一旦前記カセット棚６にストックされた後に前記カセット載置ステージ９，１１上に搬送される。

この時、本実施例では、前記搬送制御部２７が、前記カセットエレベータ１５、前記カセット移載機１６の協働により前記カセット３の搬入動作を行わせる。尚、以下の説明に於いては、前記Ｉ／Ｏステージ５上に載置された複数の前記カセット３毎に、前記カセット３の大きさに対して前記搬送空間１７が十分であるかどうかにより予め回避位置の有無及び回避位置の位置情報が設定されているものとする。前記カセット搬送機１４は、回避位置の有無及び位置情報に基づき通常搬送動作、或は衝突回避動作の何れかにより前記カセット３を搬送することで、該カセット３と前記カセット搬送機１４とが接触しない様にしている。

以下、図４、図５のフローチャート及び図８を参照して、前記カセット搬送機１４のカセット搬入動作について説明する。尚、図４は前記カセット３搬入時の前記カセット搬送機１４の動作順序を、ＣＸ軸、ＣＺ軸、ＣＳ軸についての三次元座標系上で表したものである。又、図８（Ａ）〜（Ｃ）中では、前記Ｉ／Ｏステージ５と前記カセット搬送機１４とを上下に並べて示しているが、前記Ｉ／Ｏステージ５と前記カセット搬送機１４とはＣＺ軸方向に於いて同レベルに位置している。

図４中、３６は原点を示し、該原点３６はそれぞれＣＸ軸に於けるホーム位置、ＣＺ軸上に於けるＰｉｃｋ位置、ＣＳ軸に於ける受渡し位置（受渡し標準位置）となっている。又、図４中、３７はＣＸ軸に於ける受渡し位置を示し、３８はＣＺ軸に於けるＰｉｃｋ完了位置を示し、３９はＣＳ軸に於ける回避位置を示している。

ＳＴＥＰ：０１ 前記カセット３の搬入動作が開始されると、前記搬送制御部２７が前記データ格納領域３２内に格納された各種位置情報及び動作順序の情報に基づき、先ず前記カセットエレベータ１５により前記カセット移載機１６をＣＺ軸のＰｉｃｋ位置３６′迄降下させる（図４中のI ）。尚、前記Ｐｉｃｋ位置３６′に於いては、前記カセット移載機１６のカセット受載面が前記Ｉ／Ｏステージ５のカセット載置面よりも低くなっている。

ＳＴＥＰ：０２ 前記カセットエレベータ１５により前記カセット移載機１６を前記Ｐｉｃｋ位置３６′迄降下させた後、前記搬送制御部２７が前記カセット移載機１６をＣＳ軸の受渡し位置３６迄横行させる（図４中のII）。

ＳＴＥＰ：０３ 前記カセット移載機１６を前記受渡し位置３６迄横行させた後、次に前記搬送制御部２７が前記カセット移載機１６をＣＸ軸上の受渡し位置３７迄前進させる（図４中のIII ）。この時、カセット受載面はそれぞれＣＳ軸上の前記受渡し位置３６とＣＸ軸上の前記受渡し位置３７にそれぞれ移動されているので、前記カセット移載機１６のカセット受載面は、搬送対象である前記カセット３の直下に位置している。

ＳＴＥＰ：０４ 前記カセット移載機１６を前記受渡し位置３７迄前進させた後、前記搬送制御部２７が前記カセットエレベータ１５を上昇させて前記カセット移載機１６をＣＺ軸上のＰｉｃｋ完了位置３８迄移動させる（図４中のIV）。尚、該Ｐｉｃｋ完了位置３８に於いては、前記カセット移載機１６のカセット受載面が、前記Ｉ／Ｏステージ５のカセット載置面よりも高くなっており、前記カセット移載機１６を前記Ｐｉｃｋ完了位置３８迄上昇させることで、前記カセット３が前記カセット移載機１６により前記Ｉ／Ｏステージ５から持上げられる。

ＳＴＥＰ：０５ 次に、前記衝突回避動作判定プログラム３４が起動され、前記判定部２６によりＣＳ軸上に回避位置が定義されているかどうかが判定される。

ＳＴＥＰ：０６ ＳＴＥＰ：０５にて前記判定部２６に回避位置が定義されていないと判定された場合には、衝突回避動作が行われず、前記データ格納領域３２内に格納された通常搬送動作時の動作順序の情報に基づき、前記搬送制御部２７が前記カセット移載機１６をＣＸ軸のホーム位置３６′′迄後退させ、前記カセット３を前記ホーム位置３６′′迄搬送し（図４中のV 、図８（Ａ）参照）、前記カセット３の搬入動作を終了する。

ＳＴＥＰ：０７ 又、ＳＴＥＰ：０５にて前記判定部２６に回避位置が定義されていると判定された場合には、次に前記衝突回避プログラム３５が起動され、前記データ格納領域３２内に格納された回避位置情報、及び衝突回避動作時の動作順序の情報に基づき、前記搬送制御部２７が前記カセット搬送機１４に衝突回避動作を行わせる。

即ち、前記搬送制御部２７は、前記カセット移載機１６をＣＸ上のホーム位置３６′′迄後退させる（図４中のV ）のと同時に、前記カセット搬送機１４をＣＳ軸の前記受渡し位置３６からδだけ離反した回避位置３９迄横行させる（図４中のVI）。尚、衝突回避動作では、ＣＸ軸の前記ホーム位置３６′′迄の移動時間と、ＣＳ軸の前記回避位置３９迄の移動時間とが等しくなる様、前記カセット移載機１６の移動速度が制御される。前記カセット移載機１６の移動速度が制御されることで、前記カセット移載機１６の動き（図４中のV と図４中のVI）が合成され、前記カセット３が前記カセット搬送機１４と接触することなく回避位置３９′に向って斜めに搬送され、前記カセット３の搬入動作が終了する（図４中のVII 、図８（Ｃ）参照）。

前記カセット搬送機１４による搬入動作により該カセット３が前記カセット載置ステージ９，１１上に搬送されると、前記カセットオープナ１２，１３によって蓋体が取外され、前記カセット３の内部雰囲気が前記気密室８の雰囲気と連通される。

次に、前記ウェーハ移載機１９によって、前記気密室８の雰囲気と連通した状態の前記カセット３内からウェーハ２を取出す。取出されたウェーハ２は、前記基板位置合せ装置１８によって任意の位置のノッチが定まる様に位置合せが行われ、位置合せ後に前記ボート７へと搬送される。

該ボート７へとウェーハ２が移載された後、前記処理炉２１の前記炉口ゲートバルブ２２を開放し、ウェーハ２が保持された前記ボート７を前記ボートエレベータ２３により前記処理炉２１内にローディングする。

前記処理制御部２０により前記処理炉２１にてウェーハ２が所定の処理温度に加熱され、処理ガスが導入されて所定の圧力に維持されつつウェーハ２に所要の処理がなされる。処理後は上述と逆の手順で、前記ボートエレベータ２３により前記ボート７を前記処理炉２１からアンローディングし、処理済のウェーハ２を前記ボート７から前記カセット３へと回収する。

該カセット３にウェーハ２が回収された後は、前記カセット搬送機１４により前記カセット３を前記カセット載置ステージ９，１１上から前記Ｉ／Ｏステージ５へと搬送される。

この時、前記カセット３の搬入時と同様、前記搬送制御部２７が、前記カセットエレベータ１５、前記カセット移載機１６を協働させて前記カセット３の搬出動作を行わせる。前記カセット搬送機１４は、回避位置の有無及び位置情報に基づき通常搬送動作、或は衝突回避動作の何れかにより前記カセット３を搬送することで、該カセット３と前記カセット搬送機１４とが接触しない様にしている。

以下、図６、図７のフローチャート及び図８を参照して、前記カセット搬送機１４のカセット搬出動作について説明する。尚、図６中、図４中と同等のものには同符号を付している。又、図６中では、ＣＺ軸上に於ける前記原点３６はＰｌａｃｅ完了位置であり、４１はＣＺ軸に於けるＰｌａｃｅ位置となっている。

ＳＴＥＰ：１１ 前記カセット３の搬出動作が開始されると、前記搬送制御部２７が前記データ格納領域３２内に格納された各種位置情報及び動作順序の情報に基づき、先ず前記カセットエレベータ１５を昇降させ、前記カセット移載機１６をＣＺ軸のＰｌａｃｅ位置４１迄移動させる（図６中のI ）。尚、搬出動作に於ける該Ｐｌａｃｅ位置４１は搬入動作に於けるＰｉｃｋ完了位置３８と同等であり、前記カセット移載機１６のカセット受載面は、前記Ｉ／Ｏステージ５のカセット載置面よりも高くなっている。

ＳＴＥＰ：１２ 前記カセットエレベータ１５により前記カセット移載機１６が前記Ｐｌａｃｅ位置４１迄昇降されると、前記衝突回避動作判定プログラム３４が起動され、前記判定部２６によりＣＳ軸上に回避位置３９が定義されているかどうかが判定される。

ＳＴＥＰ：１３ ＳＴＥＰ：１２にて前記判定部２６に前記回避位置３９が定義されていないと判定された場合には、衝突回避動作が行われず、前記データ格納領域３２内に格納された通常搬送動作時の動作順序の情報に基づき、前記搬送制御部２７が前記カセット移載機１６をＣＳ軸の受渡し位置４２迄横行させる（図６中のII）。

ＳＴＥＰ：１４ 前記カセット搬送機１４が前記受渡し位置４２迄横行されると、次に前記搬送制御部２７が前記カセット移載機１６をＣＸ軸の受渡し位置４３迄前進させる（図６中のIII ）。

ＳＴＥＰ：１５ 又、ＳＴＥＰ：１２にて前記判定部２６に回避位置３９が定義されていると判定された場合には、前記搬送制御部２７が回避位置情報に基づき前記カセット移載機１６をＣＳ軸の前記受渡し位置４２からδだけ離反した回避位置３９′迄横行させる（図６中のIV）。

ＳＴＥＰ：１６ 前記カセット移載機１６が前記回避位置３９′迄横行されると、次に前記衝突回避プログラム３５が起動され、前記データ格納領域３２内に格納された衝突回避動作時の動作順序の情報に基づき、前記搬送制御部２７が前記カセット搬送機１４に衝突回避動作を行わせる。

即ち、前記搬送制御部２７は、前記カセット移載機１６をＣＸ軸の前記受渡し位置４３迄前進させる（図６中のIII ）のと同時に、ＣＳ軸の前記受渡し位置３６迄横行させる（図６中のV ）。尚、衝突回避動作では、ＣＸ軸の前記受渡し位置４３迄の移動時間と、ＣＳ軸の前記受渡し位置３６迄の移動時間とが等しくなる様、前記カセット移載機１６の移動速度が制御される。前記カセット移載機１６の移動速度が制御されることで、前記カセット移載機１６の動き（図６中のIII と図６中のV ）が合成され、前記カセット３が前記カセット搬送機１４と接触することなく前記受渡し位置４３に向って斜め方向に搬送される（図６中のVI、図８（Ｃ）参照）。

ＳＴＥＰ：１７ ＳＴＥＰ：１３とＳＴＥＰ：１４、及びＳＴＥＰ：１５とＳＴＥＰ：１６により、前記カセット移載機１６がＣＸ軸及びＣＳ軸の受渡し位置３７迄移動させられた後、前記搬送制御部２７が前記カセットエレベータ１５をを降下させて前記カセット移載機１６をＣＺ軸のＰｌａｃｅ完了位置３８迄降下させる（図６中のVII ）。尚、搬出動作に於ける該Ｐｌａｃｅ完了位置３８は搬入動作に於けるＰｉｃｋ位置４４と同等であり、前記カセット移載機１６のカセット受載面が、前記Ｉ／Ｏステージ５のカセット載置面よりも低くなっている。従って、ＳＴＥＰ：１３とＳＴＥＰ：１４、及びＳＴＥＰ：１５とＳＴＥＰ：１６が終了した段階で、前記カセット３が前記Ｉ／Ｏステージ５の直上に位置しており、前記カセットエレベータ１５を前記Ｐｌａｃｅ完了位置４４迄降下させることで、前記カセット３が前記Ｉ／Ｏステージ５上に載置される。

ＳＴＥＰ：１８ 最後に、前記搬送制御部２７が、前記カセット移載機１６をＣＸ軸の前記受渡し位置４４から前記ホーム位置３６迄後退させることで、前記カセット３の搬出動作が終了する（図６中のVIII）。

搬出動作により前記Ｉ／Ｏステージ５上に前記カセット３が搬送された後は、図示しない外部搬送装置により前記筐体４の外部へと前記カセット３が搬送され、基板処理が終了する。

上述の様に、本実施例では、前記カセット３を前記筐体４内に搬入する際、又前記カセット３を前記筐体４外に搬出する際に、前記カセット３の大きさに応じて予め回避位置の位置情報を定義し、定義された回避位置情報に基づいて前記カセット搬送機１４が前記カセット３の移動経路を変更する様になっているので、前記カセット３を搬送する為の十分な前記搬送空間１７を確保できない場合であっても、前記カセット搬送機１４と衝突することなく前記カセット３を搬送することができる。

従って、前記カセット３の大型化に対して前記基板処理装置１の機構を変更する必要がなくなり、コストの低減が図れると共に、前記カセット搬送機１４の前記搬送空間１７を縮小することで前記基板処理装置１自体の小型化を図ることができる。

又、回避位置の情報、前記カセット３を搬送する際の動作順序等の情報が、前記Ｉ／Ｏステージ５上に載置された複数の前記カセット３についてそれぞれ定義されているので、大きさの異なる前記カセット３であっても同時に処理することができる。

尚、本実施例では、回避位置情報を予め定義し、定義した位置情報に基づいて衝突回避動作を行うかどうかの判断を行っているが、例えば前記カセット移載機１６に前記カセット３の大きさを検出するセンサを設け、該センサの検出結果に基づいて衝突回避動作を行うかどうかを判断してもよい。

尚、本実施例の基板処理装置は、半導体製造装置だけではなくＬＣＤ装置の様なガラス基板を処理する装置であっても適用可能である。

又、本実施例に適用される基板処理装置を用いた成膜処理には、例えばＣＶＤ、ＡＬＤ、酸化膜、窒化膜を形成する処理や、金属を含む膜を形成する処理等を含み、更に露光装置、リソグラフィ装置、塗布装置、プラズマを利用した処理装置に対しても適用可能であることは言う迄もない。

（付記）
又、本発明は以下の実施の態様を含む。

（付記１）基板を収納した基板収納容器を収納容器授受部から装置内部に搬入する搬入工程と、搬入された前記基板収納容器から基板を基板保持具に移載し該基板保持具を処理炉内に装入して基板処理を行う処理工程と、基板処理後前記処理炉から前記基板保持具を装脱し、処理済みの基板を前記基板収納容器に移載し、該基板収納容器を前記収納容器授受部に搬出する搬出工程とを有し、前記搬入工程及び前記搬出工程では、搬送制御手段が前記基板収納容器を搬送する際に干渉しない様予め設定された位置情報を取得し、該位置情報で示される位置を基準位置として前記基板収納容器の搬送を行うことを特徴とする半導体装置の製造方法。

（付記２）判定手段により回避位置の位置情報が定義されているかを判定させ、前記回避位置が定義されている場合には搬送制御手段が収納容器搬送機構に基板収納容器を前記回避位置迄移動させ、該回避位置から前記基板収納容器の収納容器授受部迄前記収納容器搬送機構を斜め方向に移動させて前記基板収納容器を搬出させることを特徴とする基板収納容器の搬送プログラム。

（付記３）基板を収納する基板収納容器を搬送する収納容器搬送機構と、外部及び装置内部から搬送された前記基板収納容器が載置される収納容器授受部と、基板を取出し又は挿入する際に前記基板収納容器が載置される収納容器載置部と、前記収納容器授受部と前記収納容器載置部との間で前記基板収納容器を搬送する様に前記収納容器搬送機構を制御する搬送制御手段と、記憶部とを具備し、該記憶部には前記収納容器授受部に対し前記基板収納容器の受渡しを行う受渡し標準位置の位置情報と、前記受渡し標準位置で搬送することで干渉する場合に設定され、前記受渡し標準位置から水平方向に所定量変位した回避位置の位置情報が記憶され、前記搬送制御手段は前記回避情報の位置情報の有無に基づき前記基板収納容器の搬送経路を選択することを特徴とする基板処理装置。

１ 基板処理装置
２ ウェーハ
３ カセット
５ Ｉ／Ｏステージ
６ カセット棚
９，１１ カセット載置ステージ
１４ カセット搬送機
１５ カセットエレベータ
１６ カセット移載機
１７ 搬送空間
２４ 制御装置
２５ 演算制御部
２６ 判定部
２７ 搬送制御部
２８ 記憶部

Claims (2)

1. 基板を収納する基板収納容器を搬送する収納容器搬送機構と、外部及び装置内部から搬送された前記基板収納容器が載置される収納容器授受部と、基板を取出し又は挿入する際に前記基板収納容器が載置される収納容器載置部と、前記収納容器授受部と前記収納容器載置部との間で前記基板収納容器を搬送する様に前記収納容器搬送機構を制御する搬送制御手段と、前記基板収納容器を前記収納容器搬送機構が搬送する際に干渉しない様予め決められた位置情報が設定される設定手段とを具備し、前記搬送制御手段は前記基板収納容器の搬送動作時に前記設定手段から前記位置情報を取得し、該位置情報で示される位置を前記収納容器授受部と前記収納容器搬送機構との間で前記基板収納容器を受渡しする動作の基準位置とすることを特徴とする基板処理装置。
2. 基板を収納した基板収納容器を収納容器授受部から装置内部に搬入する搬入工程と、前記装置内部で所定の処理を行った後、処理済みの基板を前記基板収納容器に移載し、該基板収納容器を前記収納容器授受部に搬出する搬出工程とを含む基板搬送方法であって、前記搬入工程及び前記搬出工程では、前記基板収納容器を搬送する際に干渉しない様予め設定された位置情報を取得し、該位置情報で示される位置を基準位置として前記基板収納容器の搬送を行うことを特徴とする基板搬送方法。

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