Nothing Special   »   [go: up one dir, main page]

JP2013250478A5 - - Google Patents

Download PDF

Info

Publication number
JP2013250478A5
JP2013250478A5 JP2012126114A JP2012126114A JP2013250478A5 JP 2013250478 A5 JP2013250478 A5 JP 2013250478A5 JP 2012126114 A JP2012126114 A JP 2012126114A JP 2012126114 A JP2012126114 A JP 2012126114A JP 2013250478 A5 JP2013250478 A5 JP 2013250478A5
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
light source
range
line
exposure apparatus
exposure
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
JP2012126114A
Other languages
English (en)
Other versions
JP2013250478A (ja
JP6093117B2 (ja
Filing date
Publication date
Application filed filed Critical
Priority claimed from JP2012126114A external-priority patent/JP6093117B2/ja
Priority to JP2012126114A priority Critical patent/JP6093117B2/ja
Priority to TW104101989A priority patent/TWI516857B/zh
Priority to TW104136941A priority patent/TWI605300B/zh
Priority to TW102117083A priority patent/TWI475316B/zh
Priority to KR1020130059063A priority patent/KR101528973B1/ko
Priority to CN201310208301.9A priority patent/CN103454851B/zh
Priority to CN201510763096.1A priority patent/CN105573046B/zh
Publication of JP2013250478A publication Critical patent/JP2013250478A/ja
Priority to KR1020140080183A priority patent/KR101999412B1/ko
Publication of JP2013250478A5 publication Critical patent/JP2013250478A5/ja
Publication of JP6093117B2 publication Critical patent/JP6093117B2/ja
Application granted granted Critical
Active legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

Description

本発明の転写方法においては、標準的なLCD用露光装置を用いることができる。この場合、例えば、開口数NAを0.06〜0.10、コヒレンスσを0.5〜1.0の範囲とすることができる。こうした露光装置は、一般に、3μm程度を解像限界としている。露光光源としては、365〜436nm(i線〜g線)を含む光源を用いることが好ましい。
JP2012126114A 2012-06-01 2012-06-01 フォトマスク、フォトマスクの製造方法及びパターンの転写方法 Active JP6093117B2 (ja)

Priority Applications (8)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2012126114A JP6093117B2 (ja) 2012-06-01 2012-06-01 フォトマスク、フォトマスクの製造方法及びパターンの転写方法
TW104101989A TWI516857B (zh) 2012-06-01 2013-05-14 A flat panel display manufacturing mask, a pattern transfer method, and a method of manufacturing a flat panel display
TW104136941A TWI605300B (zh) 2012-06-01 2013-05-14 Photomask, pattern transfer method, flat panel display manufacturing method, and blank mask
TW102117083A TWI475316B (zh) 2012-06-01 2013-05-14 A method of manufacturing a mask and a mask, and a method of transferring the pattern
KR1020130059063A KR101528973B1 (ko) 2012-06-01 2013-05-24 포토마스크, 포토마스크의 제조 방법 및 패턴 전사 방법
CN201510763096.1A CN105573046B (zh) 2012-06-01 2013-05-30 光掩模、光掩模的制造方法以及图案的转印方法
CN201310208301.9A CN103454851B (zh) 2012-06-01 2013-05-30 光掩模、光掩模的制造方法以及图案的转印方法
KR1020140080183A KR101999412B1 (ko) 2012-06-01 2014-06-27 포토마스크, 포토마스크의 제조 방법 및 패턴 전사 방법

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2012126114A JP6093117B2 (ja) 2012-06-01 2012-06-01 フォトマスク、フォトマスクの製造方法及びパターンの転写方法

Related Child Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2016196977A Division JP6322250B2 (ja) 2016-10-05 2016-10-05 フォトマスクブランク

Publications (3)

Publication Number Publication Date
JP2013250478A JP2013250478A (ja) 2013-12-12
JP2013250478A5 true JP2013250478A5 (ja) 2015-03-19
JP6093117B2 JP6093117B2 (ja) 2017-03-08

Family

ID=49737384

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2012126114A Active JP6093117B2 (ja) 2012-06-01 2012-06-01 フォトマスク、フォトマスクの製造方法及びパターンの転写方法

Country Status (4)

Country Link
JP (1) JP6093117B2 (ja)
KR (2) KR101528973B1 (ja)
CN (2) CN105573046B (ja)
TW (3) TWI475316B (ja)

Families Citing this family (14)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN103969940A (zh) * 2014-04-22 2014-08-06 京东方科技集团股份有限公司 相移掩模板和源漏掩模板
JP6581759B2 (ja) * 2014-07-17 2019-09-25 Hoya株式会社 フォトマスク、フォトマスクの製造方法、フォトマスクブランク及び表示装置の製造方法
JP6335735B2 (ja) * 2014-09-29 2018-05-30 Hoya株式会社 フォトマスク及び表示装置の製造方法
JP6767735B2 (ja) * 2015-06-30 2020-10-14 Hoya株式会社 フォトマスク、フォトマスクの設計方法、フォトマスクブランク、および表示装置の製造方法
JP6726553B2 (ja) * 2015-09-26 2020-07-22 Hoya株式会社 フォトマスクの製造方法、及び表示装置の製造方法
JP6259509B1 (ja) * 2016-12-28 2018-01-10 株式会社エスケーエレクトロニクス ハーフトーンマスク、フォトマスクブランクス及びハーフトーンマスクの製造方法
JP6774505B2 (ja) * 2016-12-28 2020-10-28 富士フイルム株式会社 パターンの製造方法、カラーフィルタの製造方法、固体撮像素子の製造方法および画像表示装置の製造方法
CN108319103B (zh) * 2017-01-16 2023-11-28 Hoya株式会社 相移掩模坯料及使用其的相移掩模的制造方法、以及显示装置的制造方法
JP7080070B2 (ja) * 2017-03-24 2022-06-03 Hoya株式会社 フォトマスク、及び表示装置の製造方法
JP2019012280A (ja) * 2018-09-19 2019-01-24 Hoya株式会社 フォトマスク、フォトマスクの製造方法、フォトマスクブランク及び表示装置の製造方法
TWI712851B (zh) * 2018-10-22 2020-12-11 日商Hoya股份有限公司 光罩、光罩之製造方法及電子元件之製造方法
JP7261709B2 (ja) * 2019-09-13 2023-04-20 Hoya株式会社 フォトマスク、フォトマスクの製造方法及び表示装置の製造方法
JP7383490B2 (ja) * 2020-01-07 2023-11-20 株式会社エスケーエレクトロニクス フォトマスク
JP6872061B2 (ja) * 2020-05-11 2021-05-19 Hoya株式会社 フォトマスク及び表示装置の製造方法

Family Cites Families (28)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH0311345A (ja) * 1989-06-08 1991-01-18 Oki Electric Ind Co Ltd ホトマスク及びこれを用いたパターン形成方法
JPH03177841A (ja) * 1989-12-06 1991-08-01 Oki Electric Ind Co Ltd ネガ型レジスト用ホトマスク
JPH05158214A (ja) * 1991-03-13 1993-06-25 Ryoden Semiconductor Syst Eng Kk 位相シフトマスクおよびその製造方法
JP2933759B2 (ja) * 1991-09-12 1999-08-16 川崎製鉄株式会社 位相シフトマスクの製造方法
JPH06123961A (ja) * 1992-10-12 1994-05-06 Hoya Corp 位相シフトマスク及び位相シフトマスクブランク並びに位相シフトマスクの製造方法
JPH0798493A (ja) * 1993-09-28 1995-04-11 Toppan Printing Co Ltd 位相シフトマスク及びその製造方法
KR19980016800A (ko) * 1996-08-29 1998-06-05 김광호 위상반전 마스크 및 그 제조방법
DE60020163T2 (de) * 1999-11-08 2005-10-20 Matsushita Electric Industrial Co., Ltd., Kadoma Fotomaske, verfahren zu ihrer herstellung
JP4314288B2 (ja) * 2001-12-26 2009-08-12 パナソニック株式会社 フォトマスク
JP3984626B2 (ja) * 2001-12-26 2007-10-03 松下電器産業株式会社 パターン形成方法
US7011910B2 (en) * 2002-04-26 2006-03-14 Hoya Corporation Halftone-type phase-shift mask blank, and halftone-type phase-shift mask
US7147975B2 (en) * 2003-02-17 2006-12-12 Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. Photomask
JP3759138B2 (ja) * 2003-02-17 2006-03-22 松下電器産業株式会社 フォトマスク
JP4314285B2 (ja) * 2003-02-17 2009-08-12 パナソニック株式会社 フォトマスク
JP2004279484A (ja) * 2003-03-12 2004-10-07 Dainippon Printing Co Ltd 位相シフトマスク
JP4009219B2 (ja) * 2003-04-10 2007-11-14 松下電器産業株式会社 フォトマスク、そのフォトマスクを用いたパターン形成方法及びマスクデータ作成方法
JP4574343B2 (ja) * 2004-12-15 2010-11-04 三星電子株式会社 位相シフトマスク及びパターン形成方法
CN100570480C (zh) * 2005-08-02 2009-12-16 联华电子股份有限公司 设计掩模的方法
JP4324220B2 (ja) * 2006-03-06 2009-09-02 パナソニック株式会社 フォトマスク、その作成方法、そのフォトマスクを用いたパターン形成方法及びマスクデータ作成方法
JP4993934B2 (ja) * 2006-03-31 2012-08-08 Hoya株式会社 パターン欠陥検査方法、フォトマスクの製造方法、及び表示デバイス用基板の製造方法
TWI331253B (en) * 2006-12-25 2010-10-01 Nanya Technology Corp Alternating phase shift mask and method of the same
TWI422961B (zh) * 2007-07-19 2014-01-11 Hoya Corp 光罩及其製造方法、圖案轉印方法、以及顯示裝置之製造方法
JP4934237B2 (ja) * 2007-09-29 2012-05-16 Hoya株式会社 グレートーンマスクの製造方法及びグレートーンマスク、並びにパターン転写方法
JP2009128558A (ja) * 2007-11-22 2009-06-11 Hoya Corp フォトマスク及びフォトマスクの製造方法、並びにパターン転写方法
JP5588633B2 (ja) 2009-06-30 2014-09-10 アルバック成膜株式会社 位相シフトマスクの製造方法、フラットパネルディスプレイの製造方法及び位相シフトマスク
TWI461833B (zh) * 2010-03-15 2014-11-21 Hoya Corp 多調式光罩、多調式光罩之製造方法及圖案轉印方法
JP2011215226A (ja) * 2010-03-31 2011-10-27 Hoya Corp 多階調フォトマスク、多階調フォトマスクの製造方法、多階調フォトマスク用ブランク及びパターン転写方法
JP5400698B2 (ja) * 2010-04-28 2014-01-29 Hoya株式会社 多階調フォトマスク、多階調フォトマスクの製造方法、パターン転写方法及び多階調フォトマスクの使用方法

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP2013250478A5 (ja)
JP2019508789A5 (ja)
JP2014191020A5 (ja)
JP2011013358A5 (ja)
TW201612166A (en) Ultraviolet absorber, composition for forming a resist under layer film, and patterning process
JP2018072870A5 (ja)
GB201207074D0 (en) Imaging method
CN302222263S (zh) 激光灯定位仪(一字)
CN302454261S (zh) 检验测量仪器机箱(6u)
CN302031816S (zh) 空气净化消毒器(钣金款)
CN302233594S (zh) 激光灯定位仪(十字)
CN302288815S (zh) 呼气酒精测试仪(酒安6000)
CN302482968S (zh) 酒精测试仪(ad3000)
CN302466333S (zh) 酒精测试仪(ad06)
CN302466331S (zh) 酒精测试仪(ad4000)
CN302415485S (zh) 眼镜(bt147)
CN302221065S (zh) 笔(styb16)
CN302588707S (zh) 一体机
CN302509964S (zh) 影像测量仪(lvs700)
CN302517201S (zh) 传感器(cayd150v-100)
CN302176245S (zh) 聘书(证书类内芯a)
CN302416653S (zh) 空气清新器
CN302360089S (zh) 气体罗茨流量计(方形计数器)
CN302332266S (zh) 测试仪
CN302363848S (zh) 放大灯(25100)