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JP2013106836A - Gas supply system - Google Patents

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JP2013106836A
JP2013106836A JP2011254934A JP2011254934A JP2013106836A JP 2013106836 A JP2013106836 A JP 2013106836A JP 2011254934 A JP2011254934 A JP 2011254934A JP 2011254934 A JP2011254934 A JP 2011254934A JP 2013106836 A JP2013106836 A JP 2013106836A
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Japan
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gas
pipe
carrier gas
gas supply
substance
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JP2011254934A
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Japanese (ja)
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Makoto Kato
誠 加藤
Hitoshi Ueno
仁 上野
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Seiko Epson Corp
Original Assignee
Seiko Epson Corp
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Publication date
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a gas supply system which permits the concentration of an odor-causing substance to be controlled and the odor-causing substance to be stably supplied.SOLUTION: The gas supply system includes a storage section 2 storing the odor-causing substance 20, first piping 31 supplying the substance 20 released from the storage section 2 by a carrier gas carrying the substance, second piping 41 supplying a dilution gas, third piping 42 supplying a mixed gas in which the carrier gas containing the substance 20 supplied from the first piping 31 and the dilution gas supplied from the second piping 41 are mixed, a measuring instrument 6 measuring the mass of the storage section 2, a computation device 7 for computing the mass of the substance 20 released from the storage section 2 on the basis of the time-dependent change of the mass of the storage section 2, and a control device 8 controlling the flow rate of the carrier gas flowing in the first piping 31 and the flow rate of the dilution gas flowing in the second piping 41 so as to ensure that the concentration of the substance 20 in the mixed gas becomes a required concentration on the basis of the quantity of the substance 20 computed by the computation device 7.

Description

本発明は、ガス供給装置に関するものである。   The present invention relates to a gas supply device.

においを検知する嗅覚センサーが知られている。嗅覚センサーの開発においては、においの原因となる物質であるにおい分子の濃度を制御し、におい分子を嗅覚センサーに安定的に供給するガス供給装置の開発が求められている。   An olfactory sensor that detects odor is known. In the development of an olfactory sensor, development of a gas supply device that controls the concentration of odor molecules, which are substances that cause odor, and stably supplies the odor molecules to the olfactory sensor is required.

ここで、におい分子の種類は40万種類といわれている。におい分子は、複数の化学物質の組合せからなるものがほとんどで、その種類は膨大である。においの種類は化学構造や温度、濃度、混合比率などで大まかに分けられるが、大部分はヒトが官能的に分けている。同じ化学構造であっても、温度が違ったり、酸化反応や還元反応等の反応方法が違ったりすると、異なるにおい分子となる。におい分子の多くは、濃度がppmオーダー以下(例えばppbオーダー)であり、非常に低濃度である。そのため、におい分子の濃度を測定することは困難である。   Here, it is said that there are 400,000 kinds of odor molecules. Most of the odor molecules are a combination of a plurality of chemical substances, and the number of types is enormous. The types of odors are roughly divided by chemical structure, temperature, concentration, mixing ratio, etc., but most are sensuously divided by humans. Even if they have the same chemical structure, they have different odor molecules when the temperature is different or the reaction methods such as oxidation and reduction are different. Many of odor molecules have a concentration of ppm order or less (for example, ppb order) and are very low in concentration. Therefore, it is difficult to measure the concentration of odor molecules.

従来、におい分子を供給する方法としては、拡散管、ディフュージョンチューブ、パーミエーションチューブ等を用いた方法がある(例えば、特許文献1参照)。これらの方法では、拡散方程式、推算、実験的に求めた拡散係数を用いることにより、におい分子の濃度を調整している。これらの方法によれば、連続して一定濃度のにおい分子を得ることができる。   Conventionally, as a method for supplying odor molecules, there is a method using a diffusion tube, a diffusion tube, a permeation tube, or the like (for example, see Patent Document 1). In these methods, the concentration of odor molecules is adjusted by using a diffusion equation, estimation, and an experimentally obtained diffusion coefficient. According to these methods, a certain concentration of odor molecules can be obtained continuously.

一方、におい分子の濃度を検知する検知器としては、北川式検知器が知られている。北川式検知器においては、検知管に試料ガス(測定対象のにおい分子を含むガス)を通気すると、薬剤が特定のガスと反応して変色する。この変色した先端の目盛を読むことで、ガス濃度(におい分子の濃度)が分かるように構成されている。   On the other hand, a Kitagawa detector is known as a detector for detecting the concentration of odor molecules. In the Kitagawa type detector, when a sample gas (a gas containing an odor molecule to be measured) is passed through the detection tube, the drug reacts with a specific gas and changes its color. The gas concentration (concentration of odor molecules) can be understood by reading the scale at the tip of the color change.

特開2010−101685号公報JP 2010-101685 A

特許文献1に記載の方法では、使用実績の無いにおい分子がある場合、その都度実験を行い、拡散管から発せられるにおい分子の濃度を算出する必要がある。また、特許文献1に記載の方法においては、拡散管の形状が定形であるため、拡散管から発せられるにおい分子の濃度を自在に調整することは困難である。
一方、北川式検知器では、測定可能なにおい分子の種類が限られる。さらに、呈色反応によるため、干渉物質があると濃度の測定が困難な場合もある。北川式検知器においては、最低測定能(測定下限)はそれぞれ異なるが、低くてもppmオーダーであるため、ppmオーダー以下の低濃度のにおい分子の濃度を測定することはできない。
In the method described in Patent Document 1, when there is an odor molecule that has not been used, it is necessary to perform an experiment each time to calculate the concentration of the odor molecule emitted from the diffusion tube. Further, in the method described in Patent Document 1, since the shape of the diffusion tube is a fixed shape, it is difficult to freely adjust the concentration of odor molecules emitted from the diffusion tube.
On the other hand, with the Kitagawa detector, the types of odor molecules that can be measured are limited. Furthermore, due to the color reaction, it may be difficult to measure the concentration if there is an interfering substance. In the Kitagawa type detector, the minimum measurement ability (measurement lower limit) is different, but since it is at least in the ppm order, it is not possible to measure the concentration of odor molecules having a low concentration below the ppm order.

本発明はこのような事情に鑑みてなされたものであって、においの原因となる物質の濃度を制御し、においの原因となる物質を安定的に供給することが可能なガス供給装置を提供することを目的とする。   The present invention has been made in view of such circumstances, and provides a gas supply device capable of controlling the concentration of a substance causing odor and stably supplying the substance causing odor. The purpose is to do.

上記の課題を解決するため、本発明のガス供給装置は、においの原因となる物質を収容する収容部と、前記収容部から放出された前記物質をキャリアガスにのせて供給する第1配管と、希釈ガスを供給する第2配管と、前記第1配管から供給された前記物質を含む前記キャリアガスと前記第2配管から供給された前記希釈ガスとが少なくとも混合された混合ガスを供給する第3配管と、前記収容部の質量を測定する測定装置と、前記測定装置で測定された前記収容部の質量の時間変化に基づいて、前記収容部から放出された前記物質の量を演算する演算装置と、前記演算装置で演算された前記物質の量に基づいて、前記混合ガス内の前記物質の濃度が所望の濃度になるように、前記第1配管内を流れる前記キャリアガスの流量と前記第2配管内を流れる前記希釈ガスの流量との少なくとも一方の流量を制御する制御装置と、を含むことを特徴とする。   In order to solve the above problems, a gas supply device according to the present invention includes a storage unit that stores a substance that causes odor, and a first pipe that supplies the substance released from the storage unit on a carrier gas. A second pipe for supplying a dilution gas; a first gas for supplying a mixed gas in which the carrier gas containing the substance supplied from the first pipe and the dilution gas supplied from the second pipe are mixed; 3 pipes, a measuring device for measuring the mass of the accommodating portion, and an operation for calculating the amount of the substance released from the accommodating portion based on a time change of the mass of the accommodating portion measured by the measuring device And the flow rate of the carrier gas flowing in the first pipe so that the concentration of the substance in the mixed gas becomes a desired concentration based on the amount of the substance calculated by the apparatus and the arithmetic unit, and Second piping A control device for controlling at least one of the flow rate of the flow rate of the dilution gas flowing characterized in that it comprises a.

この構成によれば、収容部の質量の時間変化に基づいて演算された、収容部から放出されたにおいの原因となる物質(以下、におい分子という)の量に基づいて、収容部から放出されたにおい分子の濃度が所望の濃度となるように、キャリアガスと希釈ガスのうち少なくとも一方の流量が制御される。例えば、収容部から放出されたにおい分子の濃度を低濃度に調整する場合、キャリアガスの流量を小さくし、希釈ガスの流量を大きくする。これにより、収容部から放出されたにおい分子の濃度を低濃度に調整することができる。また、収容部から放出されたにおい分子の濃度を低濃度に維持した状態でキャリアガスの流量及び希釈ガスの流量を一定の値に制御する。これにより、低濃度のにおい分子を安定して供給することができる。よって、におい分子の濃度を制御し、におい分子を安定的に供給することができる。   According to this configuration, it is released from the storage unit based on the amount of a substance (hereinafter referred to as an odor molecule) that causes the odor released from the storage unit, which is calculated based on the time change of the mass of the storage unit. The flow rate of at least one of the carrier gas and the dilution gas is controlled so that the concentration of the odor molecule becomes a desired concentration. For example, when adjusting the concentration of the odor molecules released from the storage unit to a low concentration, the flow rate of the carrier gas is decreased and the flow rate of the dilution gas is increased. Thereby, the density | concentration of the odor molecule discharge | released from the accommodating part can be adjusted to a low density | concentration. In addition, the flow rate of the carrier gas and the flow rate of the dilution gas are controlled to be constant values while maintaining the concentration of the odor molecule released from the storage portion at a low concentration. Thereby, a low concentration odor molecule can be supplied stably. Therefore, the concentration of odor molecules can be controlled and odor molecules can be supplied stably.

前記ガス供給装置において、前記収容部は、前記物質を収容する容器と、前記容器から放出された前記物質を拡散させる拡散管と、を含むことが好ましい。   In the gas supply apparatus, it is preferable that the storage unit includes a container that stores the substance and a diffusion tube that diffuses the substance released from the container.

この構成によれば、混合ガス供給配管内を流れる混合ガス内のにおい分子の濃度を極めて小さい値に調整しやすくなる。例えば、拡散管の長さ(高さ)や内径を所定寸法にして拡散方程式を適用することにより、拡散管の出口におけるにおい分子の流量を極めて小さく(例えば略0に近い値)設定することができる。   According to this configuration, the concentration of odor molecules in the mixed gas flowing in the mixed gas supply pipe can be easily adjusted to a very small value. For example, by applying the diffusion equation with the length (height) and inner diameter of the diffusion tube as predetermined dimensions, the flow rate of odor molecules at the outlet of the diffusion tube can be set to be extremely small (for example, a value close to approximately 0). it can.

前記ガス供給装置において、前記拡散管は前記容器に取り外し可能に接続されていることが好ましい。   In the gas supply apparatus, it is preferable that the diffusion tube is detachably connected to the container.

この構成によれば、他の形状の異なる拡散管と取り替えることができる。例えば、予め拡散管の長さや内径が互いに異なる複数種類の拡散管を用意しておけば、所望の濃度のにおい分子を得るのに適した寸法を有する拡散管と適宜取り替えることができる。よって、所望の濃度のにおい分子を供給することが容易となる。   According to this configuration, it is possible to replace the diffusion tube with another shape. For example, if a plurality of types of diffusion tubes having different lengths and inner diameters are prepared in advance, the diffusion tube can be appropriately replaced with a diffusion tube having a size suitable for obtaining a desired concentration of odor molecules. Therefore, it becomes easy to supply an odor molecule having a desired concentration.

前記ガス供給装置において、前記容器は前記物質と化学反応しない材料で形成されていることが好ましい。   In the gas supply device, the container is preferably formed of a material that does not chemically react with the substance.

におい分子は、同じ化学構造であっても、酸化反応や還元反応等の反応方法が違ったりすると、異なるにおい分子となる。仮に、容器がにおい分子と化学反応する材料で形成されていると、目的とするにおい分子とは異なるにおい分子が生成されてしまう。また、容器とにおい分子が吸着しやすい材料で形成されていると、所望の濃度と異なるにおいとなってしまう。これに伴い、低濃度のにおい分子の濃度を精度良く測定できなくなる。これに対し、容器がにおい分子と吸着、化学反応しない材料で形成されていれば、目的とするにおい分子を得ることができる。よって、この構成によれば、低濃度のにおい分子を安定的に供給するとともに低濃度のにおい分子の濃度を精度良く測定することができる。   Even if the odor molecule has the same chemical structure, it becomes a different odor molecule if the reaction method such as oxidation reaction or reduction reaction is different. If the container is formed of a material that chemically reacts with odor molecules, an odor molecule different from the target odor molecule is generated. Further, if the container and the odor molecule are made of a material that is easily adsorbed, an odor different from a desired concentration is generated. As a result, it becomes impossible to accurately measure the concentration of low-concentration odor molecules. On the other hand, if the container is formed of a material that does not adsorb and chemically react with odor molecules, the target odor molecules can be obtained. Therefore, according to this configuration, it is possible to stably supply a low concentration of odor molecules and accurately measure the concentration of the low concentration odor molecules.

前記ガス供給装置において、前記物質は液体状態で前記容器に収容されており、前記拡散管は、液体状態の前記物質から揮発された気体と化学反応しない材料で形成されていることが好ましい。   In the gas supply device, it is preferable that the substance is accommodated in the container in a liquid state, and the diffusion tube is formed of a material that does not chemically react with the gas volatilized from the substance in the liquid state.

におい分子が液体状態で容器に収容される場合には、液体から揮発された気体がにおい分子を含んだ状態で拡散管から放出される。仮に、拡散管がにおい分子を含んだ気体と化学反応する材料で形成されていると、目的とするにおい分子とは異なるにおい分子が生成されてしまう。また、拡散管や容器とにおい分子が吸着しやすい材料で形成されていると、所望の濃度と異なるにおいとなってしまう。これに伴い、低濃度のにおい分子の濃度を精度良く測定できなくなる。これに対し、拡散管がにおい分子と吸着、におい分子を含んだ気体と化学反応しない材料で形成されていれば、目的とするにおい分子を得ることができる。よって、この構成によれば、低濃度のにおい分子を安定的に供給するとともに低濃度のにおい分子の濃度を精度良く測定することができる。   When the odor molecule is stored in the container in a liquid state, the gas volatilized from the liquid is discharged from the diffusion tube in a state containing the odor molecule. If the diffusion tube is formed of a material that chemically reacts with a gas containing odor molecules, an odor molecule different from the target odor molecule is generated. In addition, if the diffusion tube or the container is made of a material that easily absorbs odor molecules, the odor will be different from the desired concentration. As a result, it becomes impossible to accurately measure the concentration of low-concentration odor molecules. On the other hand, if the diffusion tube is formed of a material that does not adsorb with the odor molecule and does not chemically react with the gas containing the odor molecule, the target odor molecule can be obtained. Therefore, according to this configuration, it is possible to stably supply a low concentration of odor molecules and accurately measure the concentration of the low concentration odor molecules.

前記ガス供給装置において、前記容器の内壁面及び前記拡散管の内壁面は撥液処理されていることが好ましい。   In the gas supply apparatus, it is preferable that the inner wall surface of the container and the inner wall surface of the diffusion tube are subjected to a liquid repellent treatment.

におい分子が液体状態で容器に収容される場合には、液体から揮発された気体がにおい分子を含んだ状態で拡散管から放出される。容器の内壁面及び拡散管の内壁面が撥液処理されていないと、におい分子が容器の内壁面または拡散管の内壁面に吸着することがある。この場合、理想的な拡散状態が得られなくなり、低濃度のにおい分子の濃度を精度良く測定することが困難となる。これに対し、容器の内壁面及び拡散管の内壁面が撥液処理されていれば、におい分子が容器の内壁面または拡散管の内壁面に吸着しにくくできるため、理想的な拡散状態を得ることができる。よって、この構成によれば、低濃度のにおい分子を安定的に供給するとともに低濃度のにおい分子の濃度を精度良く測定することができる。   When the odor molecule is stored in the container in a liquid state, the gas volatilized from the liquid is discharged from the diffusion tube in a state containing the odor molecule. If the inner wall surface of the container and the inner wall surface of the diffusion tube are not liquid-repellent, odor molecules may be adsorbed on the inner wall surface of the container or the inner wall surface of the diffusion tube. In this case, an ideal diffusion state cannot be obtained, and it is difficult to accurately measure the concentration of a low concentration odor molecule. On the other hand, if the inner wall surface of the container and the inner wall surface of the diffusion tube are liquid-repellent, odor molecules can hardly be adsorbed on the inner wall surface of the container or the inner wall surface of the diffusion tube, thereby obtaining an ideal diffusion state. be able to. Therefore, according to this configuration, it is possible to stably supply a low concentration of odor molecules and accurately measure the concentration of the low concentration odor molecules.

前記ガス供給装置において、前記演算装置は、前記測定装置が第1の時刻t1に測定した前記収容部の質量をm1、前記測定装置が前記第1の時刻t1から所定時間経過後の第2の時刻t2に測定した前記収容部の質量をm2、前記物質の分子量をw、大気圧をP、前記収容部が前記物質を収容する空間の体積をV、前記物質の物質量をn、気体定数をR、前記拡散管の内部の温度をK、前記拡散管の出口における前記物質の流量をD1、前記第1配管から前記第3配管に供給される前記キャリアガスの流量及び前記第2配管から前記第3配管に供給される前記希釈ガスの流量の総流量をD2、前記第2の時刻t2における前記第3配管内を流れる前記混合ガス内の前記物質の濃度をGとしたとき、下記(1)式、(2)式、(3)式及び(4)式によって前記第3配管内を流れる前記混合ガス内の前記物質の濃度を演算することが好ましい。
PV=nRT ・・・(1)
n=(m1−m2)/w ・・・(2)
D1=V/(t2−t1) ・・・(3)
G=D1/D2 ・・・(4)
In the gas supply device, the arithmetic unit may measure the mass of the housing portion measured by the measurement device at the first time t1, and the measurement device may perform a second operation after a predetermined time has elapsed from the first time t1. The mass of the container measured at time t2 is m2, the molecular weight of the substance is w, the atmospheric pressure is P, the volume of the space in which the container contains the substance is V, the substance quantity of the substance is n, and the gas constant R, the temperature inside the diffusion tube K, the flow rate of the substance at the outlet of the diffusion tube D1, the flow rate of the carrier gas supplied from the first pipe to the third pipe and the second pipe When the total flow rate of the dilution gas supplied to the third pipe is D2, and the concentration of the substance in the mixed gas flowing through the third pipe at the second time t2 is G, the following ( 1), (2), (3) and ( ) It is preferable to calculate the concentration of the substance in the mixed gas flowing through the third inner pipe by formula.
PV = nRT (1)
n = (m1-m2) / w (2)
D1 = V / (t2-t1) (3)
G = D1 / D2 (4)

この構成によれば、収容部の質量の時間変化に基づいて、収容部から放出された低濃度のにおい分子の濃度を容易に演算することができる。また、これらの式に基づいて、拡散管の出口における低濃度のにおい分子の流量、におい分子の物質量も容易に演算することができる。   According to this configuration, the concentration of the low-concentration odor molecule released from the storage unit can be easily calculated based on the time change of the mass of the storage unit. Further, based on these equations, the flow rate of odor molecules having a low concentration at the outlet of the diffusion tube and the substance amount of odor molecules can be easily calculated.

前記ガス供給装置において、前記測定装置の最低測定能は1mg以下であることが好ましい。   In the gas supply device, it is preferable that the minimum measuring ability of the measuring device is 1 mg or less.

この構成によれば、濃度がppmオーダー以下の低濃度のにおい分子の濃度の測定を実現することができる。これと反対に、測定装置の最低測定能が1mgを超えてしまうと、質量変化を観測するのに長時間要し、濃度がppmオーダー以下の低濃度のにおい分子の濃度を測定することが困難となる。
上述したように、におい分子の質量は、測定装置で測定された収容部の質量の時間変化に基づいて演算される。ここで、「測定装置の最低測定能」は、測定装置が測定可能な最低の質量(測定下限値)である。測定時間の最低分解能は、測定装置の最低測定能に相当する質量のにおい分子が収容部から放出されるまでの時間(測定下限値が変化する時間)である。つまり、測定装置の最低測定能が小さいほど測定時間の最低分解能も小さくなる。これにより、実際に装置を使用しているときに収容部から放出されるにおい分子の濃度をリアルタイムで測定しやすくなる。
According to this configuration, it is possible to realize measurement of the concentration of odor molecules having a low concentration of the order of ppm or less. On the other hand, if the minimum measuring ability of the measuring device exceeds 1 mg, it takes a long time to observe the mass change, and it is difficult to measure the concentration of odor molecules with a low concentration of ppm order or less. It becomes.
As described above, the mass of the odor molecule is calculated based on the time change of the mass of the container measured by the measuring device. Here, the “minimum measuring ability of the measuring device” is the lowest mass (measurement lower limit value) that can be measured by the measuring device. The minimum resolution of the measurement time is the time until the odor molecule having a mass corresponding to the minimum measurement ability of the measurement device is released from the container (the time when the measurement lower limit value changes). In other words, the minimum resolution of the measurement time decreases as the minimum measurement capability of the measurement device decreases. This makes it easier to measure in real time the concentration of odor molecules released from the container when the apparatus is actually used.

前記ガス供給装置において、前記第3配管には、前記第3配管内を流れる前記混合ガスに乱流を発生させる乱流発生機構が設けられていることが好ましい。   In the gas supply device, it is preferable that a turbulent flow generation mechanism for generating turbulent flow in the mixed gas flowing in the third pipe is provided in the third pipe.

この構成によれば、キャリアガスと希釈ガスとを均一に混合することができる。よって、低濃度のにおい分子を安定的に供給することが容易となる。   According to this configuration, the carrier gas and the dilution gas can be mixed uniformly. Therefore, it becomes easy to stably supply a low concentration of odor molecules.

前記ガス供給装置において、前記第1配管に、前記第1配管から前記第3配管への前記キャリアガスの供給量を制御するキャリアガス制御弁が設けられていることが好ましい。   In the gas supply device, it is preferable that a carrier gas control valve for controlling a supply amount of the carrier gas from the first pipe to the third pipe is provided in the first pipe.

この構成によれば、所望の量のにおい分子を供給することができる。   According to this configuration, a desired amount of odor molecules can be supplied.

前記ガス供給装置において、前記第1配管に、前記キャリアガス制御弁によって前記第3配管への供給が阻止された前記キャリアガスを排気するキャリアガス排気弁が設けられていることが好ましい。   In the gas supply device, it is preferable that a carrier gas exhaust valve for exhausting the carrier gas that is prevented from being supplied to the third pipe by the carrier gas control valve is provided in the first pipe.

低濃度のにおい分子を安定して供給するに際しては、低濃度のにおい分子が供給される条件や雰囲気を一定の状態に維持することが重要である。この構成によれば、キャリアガスが第3配管に供給されないようにキャリアガスを排気することができる。これにより、低濃度のにおい分子が供給される条件や雰囲気を一定の状態に維持することができる。よって、低濃度のにおい分子を安定的に供給することができる。   In order to stably supply a low concentration of odor molecules, it is important to maintain the conditions and atmosphere under which the low concentration of odor molecules are supplied in a constant state. According to this configuration, the carrier gas can be exhausted so that the carrier gas is not supplied to the third pipe. Thereby, the conditions and atmosphere in which low concentration odor molecules are supplied can be maintained in a constant state. Therefore, a low concentration odor molecule can be supplied stably.

前記ガス供給装置において、前記第1配管には、常時一定の流量の前記キャリアガスが供給されることが好ましい。   In the gas supply apparatus, it is preferable that the carrier gas is always supplied to the first pipe at a constant flow rate.

この構成によれば、キャリアガスの供給量を常時一定にした状態でキャリアガスが第3配管に供給されないようにキャリアガスを排気することができる。これにより、低濃度のにおい分子が供給される条件や雰囲気を一定の状態に維持することができる。よって、低濃度のにおい分子を安定的に供給することができる。   According to this configuration, the carrier gas can be exhausted so that the carrier gas is not supplied to the third pipe while the supply amount of the carrier gas is always constant. Thereby, the conditions and atmosphere in which low concentration odor molecules are supplied can be maintained in a constant state. Therefore, a low concentration odor molecule can be supplied stably.

前記ガス供給装置において、互いに異なる種類の物質を収容した複数の前記収容部が設けられ、前記第1配管は、複数の前記収容部の各々に対応して複数設けられており、前記第3配管には、複数の前記収容部から放出された前記物質を含む複数の前記キャリアガスが供給されるようになっていることが好ましい。   In the gas supply device, a plurality of the accommodating portions accommodating different types of substances are provided, and a plurality of the first pipes are provided corresponding to the plurality of the accommodating portions, respectively, and the third piping It is preferable that a plurality of the carrier gases containing the substances released from the plurality of accommodating portions are supplied.

この構成によれば、複数種類のにおい分子を混合させて様々な種類のにおい分子を生成することができる。   According to this configuration, various kinds of odor molecules can be generated by mixing a plurality of kinds of odor molecules.

前記ガス供給装置において、複数の前記第1配管の各々に、前記第1配管から前記第3配管への前記キャリアガスの供給量を制御するキャリアガス制御弁が設けられていることが好ましい。   In the gas supply device, it is preferable that a carrier gas control valve for controlling the supply amount of the carrier gas from the first pipe to the third pipe is provided in each of the plurality of first pipes.

この構成によれば、複数種類のにおい分子のうち所望のにおい分子を選択して混合させ様々な種類のにおい分子を生成することができる。また、複数種類のにおい分子に対応するキャリアガスの供給量を調整すれば、それぞれのキャリアガスに含まれるにおい分子の混合比を変えて所望のにおい分子を生成することもできる。   According to this configuration, various kinds of odor molecules can be generated by selecting and mixing desired odor molecules among a plurality of kinds of odor molecules. Further, if the supply amount of the carrier gas corresponding to a plurality of types of odor molecules is adjusted, a desired odor molecule can be generated by changing the mixing ratio of the odor molecules contained in each carrier gas.

前記ガス供給装置において、複数の前記第1配管の各々に、前記キャリアガス制御弁によって前記第3配管への供給が阻止された前記キャリアガスを排気するキャリアガス排気弁が設けられていることが好ましい。   In the gas supply device, each of the plurality of first pipes is provided with a carrier gas exhaust valve that exhausts the carrier gas that is prevented from being supplied to the third pipe by the carrier gas control valve. preferable.

低濃度のにおい分子を安定して供給するに際しては、低濃度のにおい分子が供給される条件や雰囲気を一定の状態に維持することが重要である。この構成によれば、キャリアガスが第3配管に供給されないようにキャリアガスを排気することができる。これにより、低濃度のにおい分子が供給される条件や雰囲気を一定の状態に維持することができる。よって、低濃度のにおい分子を安定的に供給することができる。   In order to stably supply a low concentration of odor molecules, it is important to maintain the conditions and atmosphere under which the low concentration of odor molecules are supplied in a constant state. According to this configuration, the carrier gas can be exhausted so that the carrier gas is not supplied to the third pipe. Thereby, the conditions and atmosphere in which low concentration odor molecules are supplied can be maintained in a constant state. Therefore, a low concentration odor molecule can be supplied stably.

前記ガス供給装置において、複数の前記第1配管の各々には、常時一定の流量の前記キャリアガスが供給されることが好ましい。   In the gas supply device, it is preferable that the carrier gas at a constant flow rate is always supplied to each of the plurality of first pipes.

この構成によれば、キャリアガスの供給量を常時一定にした状態でキャリアガスが第3配管に供給されないようにキャリアガスを排気することができる。これにより、低濃度のにおい分子が供給される条件や雰囲気を一定の状態に維持することができる。よって、低濃度のにおい分子を安定的に供給することができる。   According to this configuration, the carrier gas can be exhausted so that the carrier gas is not supplied to the third pipe while the supply amount of the carrier gas is always constant. Thereby, the conditions and atmosphere in which low concentration odor molecules are supplied can be maintained in a constant state. Therefore, a low concentration odor molecule can be supplied stably.

前記ガス供給装置において、前記第3配管にダミーガスを供給する第4配管を備え、前記制御装置は、前記第3配管内を流れる前記ダミーガス、前記キャリアガス及び前記希釈ガスを含む前記混合ガスの流量が常時一定となるように、前記第4配管から前記第3配管に供給されるダミーガスの流量を制御することが好ましい。   The gas supply apparatus includes a fourth pipe for supplying a dummy gas to the third pipe, and the control device has a flow rate of the mixed gas including the dummy gas, the carrier gas, and the dilution gas flowing in the third pipe. It is preferable to control the flow rate of the dummy gas supplied from the fourth pipe to the third pipe so that is always constant.

この構成によれば、ダミーガスとキャリアガスと希釈ガスの総流量が常時一定に維持される。よって、低濃度のにおい分子を常時安定的に供給することができる。   According to this configuration, the total flow rates of the dummy gas, the carrier gas, and the dilution gas are always maintained constant. Therefore, a low concentration of odor molecules can be constantly supplied stably.

前記ガス供給装置において、前記第4配管に、前記第4配管から前記第3配管への前記ダミーガスの供給量を制御するダミーガス制御弁と、前記ダミーガス制御弁によって前記第3配管への供給が阻止された前記ダミーガスを排気するダミーガス排気弁と、が設けられていることが好ましい。   In the gas supply device, the fourth pipe is prevented from being supplied to the third pipe by a dummy gas control valve for controlling the supply amount of the dummy gas from the fourth pipe to the third pipe, and the dummy gas control valve. It is preferable that a dummy gas exhaust valve for exhausting the dummy gas is provided.

低濃度のにおい分子を安定して供給するに際しては、低濃度のにおい分子が供給される条件や雰囲気を一定の状態に維持することが重要である。この構成によれば、ダミーガスが第3配管に供給されないようにダミーガスを排気することができる。これにより、低濃度のにおい分子が供給される条件や雰囲気を一定の状態に維持することができる。よって、低濃度のにおい分子を安定的に供給することができる。   In order to stably supply a low concentration of odor molecules, it is important to maintain the conditions and atmosphere under which the low concentration of odor molecules are supplied in a constant state. According to this configuration, the dummy gas can be exhausted so that the dummy gas is not supplied to the third pipe. Thereby, the conditions and atmosphere in which low concentration odor molecules are supplied can be maintained in a constant state. Therefore, a low concentration odor molecule can be supplied stably.

前記ガス供給装置において、前記第4配管には、常時一定の流量のダミーガスが供給されることが好ましい。   In the gas supply apparatus, it is preferable that a dummy gas having a constant flow rate is always supplied to the fourth pipe.

この構成によれば、ダミーガスの供給量を常時一定にした状態でダミーガスが第3配管に供給されないようにダミーガスを排気することができる。これにより、低濃度のにおい分子が供給される条件や雰囲気を一定の状態に維持することができる。よって、低濃度のにおい分子を安定的に供給することができる。   According to this configuration, the dummy gas can be exhausted so that the dummy gas is not supplied to the third pipe while the supply amount of the dummy gas is always constant. Thereby, the conditions and atmosphere in which low concentration odor molecules are supplied can be maintained in a constant state. Therefore, a low concentration odor molecule can be supplied stably.

前記ガス供給装置において、前記キャリアガス、前記希釈ガス及び前記ダミーガスとして互いに同じガスが用いられていることが好ましい。   In the gas supply device, it is preferable that the same gas is used as the carrier gas, the dilution gas, and the dummy gas.

この構成によれば、低濃度のにおい分子が供給される条件や雰囲気を一定の状態に維持することができる。よって、低濃度のにおい分子を安定的に供給することができる。   According to this configuration, it is possible to maintain the conditions and atmosphere for supplying low concentration odor molecules in a constant state. Therefore, a low concentration odor molecule can be supplied stably.

前記ガス供給装置において、前記キャリアガス、前記希釈ガス及び前記ダミーガスとして用いられるガスは、空気または窒素であることが好ましい。   In the gas supply device, the gas used as the carrier gas, the dilution gas, and the dummy gas is preferably air or nitrogen.

この構成によれば、既知のガスを用いるため、低濃度のにおい分子が供給される条件や雰囲気を一定の状態に維持しやすくなる。よって、低濃度のにおい分子を安定的に供給することが容易となる。   According to this configuration, since a known gas is used, it is easy to maintain the conditions and atmosphere for supplying low-concentration odor molecules in a constant state. Therefore, it becomes easy to stably supply a low concentration of odor molecules.

本発明の第1実施形態に係るガス供給装置を示す模式図である。It is a schematic diagram which shows the gas supply apparatus which concerns on 1st Embodiment of this invention. 同、収容部を示す模式図である。It is a schematic diagram which shows an accommodating part equally. 同、拡散管とキャリアガス供給配管との接続状態を示す模式図である。It is a schematic diagram which shows the connection state of a diffusion pipe and carrier gas supply piping similarly. 同、ゴムリングの平面図である。FIG. 2 is a plan view of the rubber ring. 同、測定装置で測定された収容部の質量の時間変化を示すグラフである。It is a graph which shows the time change of the mass of the accommodating part measured with the measuring apparatus. 同、拡散管とキャリアガス供給配管との接続状態の変形例を示す模式図である。It is a schematic diagram which shows the modification of the connection state of a diffusion pipe and carrier gas supply piping similarly. 同、乱流発生機構の変形例を示す模式図である。It is a schematic diagram which shows the modification of a turbulent flow generation mechanism. 本発明の第2実施形態に係るガス供給装置を示す模式図である。It is a schematic diagram which shows the gas supply apparatus which concerns on 2nd Embodiment of this invention.

以下、図面を参照して、本発明の実施の形態について説明する。かかる実施の形態は、本発明の一態様を示すものであり、この発明を限定するものではなく、本発明の技術的思想の範囲内で任意に変更可能である。また、以下の図面においては、各構成をわかりやすくするために、実際の構造と各構造における縮尺や数等が異なっている。   Embodiments of the present invention will be described below with reference to the drawings. This embodiment shows one aspect of the present invention, and does not limit the present invention, and can be arbitrarily changed within the scope of the technical idea of the present invention. Moreover, in the following drawings, in order to make each structure easy to understand, an actual structure and a scale, a number, and the like in each structure are different.

(第1実施形態)
本実施形態においては、においの原因となる物質、つまりにおいを持った分子(以下、におい分子という)を嗅覚センサーに導くガスを供給するガス供給装置を例に挙げて説明する。ここで、においとは、嗅覚を刺激され人が感じる感覚をいう。においには、良いにおい(香り)、悪いにおい(臭い)のいずれもが含まれる。
(First embodiment)
In the present embodiment, a gas supply device that supplies a gas that guides a substance causing odor, that is, a molecule having odor (hereinafter referred to as odor molecule) to an olfactory sensor will be described as an example. Here, the smell means a sense that a person senses when the olfaction is stimulated. The smell includes both a good smell (fragrance) and a bad smell (odor).

図1は、本発明の第1実施形態に係るガス供給装置1を示す模式図である。
図1に示すように、本実施形態に係るガス供給装置1は、ガス供給部10と、希釈ガス供給装置4と、ダミーガス供給装置5と、演算装置7と、制御装置8と、混合ガス供給配管(第3配管)42と、乱流発生機構9と、を備えて構成されている。
FIG. 1 is a schematic view showing a gas supply device 1 according to the first embodiment of the present invention.
As shown in FIG. 1, the gas supply device 1 according to the present embodiment includes a gas supply unit 10, a dilution gas supply device 4, a dummy gas supply device 5, an arithmetic device 7, a control device 8, and a mixed gas supply. A pipe (third pipe) 42 and a turbulent flow generation mechanism 9 are provided.

ガス供給部10は、収容部2と、キャリアガス供給装置3と、測定装置6と、を備えている。   The gas supply unit 10 includes a storage unit 2, a carrier gas supply device 3, and a measurement device 6.

図2は、本実施形態に係る収容部2を示す模式図である。
図2に示すように、収容部2は、におい分子20を収容する容器21と、容器21から放出されたにおい分子20を拡散させる拡散管22と、を有する。
FIG. 2 is a schematic diagram showing the accommodating portion 2 according to the present embodiment.
As shown in FIG. 2, the storage unit 2 includes a container 21 that stores the odor molecule 20 and a diffusion tube 22 that diffuses the odor molecule 20 released from the container 21.

本実施形態においては、におい分子20は液体状態で容器21に収容されている。なお、におい分子20の収容状態は液体状態に限らず、固体状態や気体状態など種々の収容状態を採用することができる。   In the present embodiment, the odor molecule 20 is stored in the container 21 in a liquid state. The accommodation state of the odor molecule 20 is not limited to the liquid state, and various accommodation states such as a solid state and a gas state can be employed.

におい分子20としては、種々のものを用いることができ、例えばトルエン、エタノールを挙げることができる。本実施形態においては、におい分子20としてトルエンを用いる。   Various odor molecules 20 can be used, and examples thereof include toluene and ethanol. In the present embodiment, toluene is used as the odor molecule 20.

容器21は、拡散管22と接続される部分(上部)に開口21aが形成された円筒状の容器である。開口21aの内径は、10mm以上が好ましい。開口21aの内径が10mm未満であると、一般的に化学実験で用いられる器具(例えばピペット等)で液体を注入することが困難となる。なお、容器21の形状は円筒状に限らず、上部に開口21aが形成されていれば、種々の形状を採用することができる。   The container 21 is a cylindrical container in which an opening 21 a is formed in a portion (upper part) connected to the diffusion tube 22. The inner diameter of the opening 21a is preferably 10 mm or more. When the inner diameter of the opening 21a is less than 10 mm, it is difficult to inject a liquid with an instrument (for example, a pipette) generally used in a chemical experiment. The shape of the container 21 is not limited to a cylindrical shape, and various shapes can be adopted as long as the opening 21a is formed in the upper portion.

拡散管22は、本体部221と接続部222とを有する。本体部221は、容器21と接続される部分とは反対側の部分である。接続部222は、容器21と接続される部分である。拡散管22は、本体部221の上部に開口221aが形成され、接続部222の下部に開口222aが形成された管である。   The diffusion tube 22 has a main body part 221 and a connection part 222. The main body 221 is a portion on the opposite side to the portion connected to the container 21. The connection part 222 is a part connected to the container 21. The diffusion tube 22 is a tube in which an opening 221 a is formed in the upper part of the main body part 221 and an opening 222 a is formed in the lower part of the connection part 222.

拡散管22の本体部221は、長手方向において一定の内径を有する。拡散管22の本体部221の内径は、1mm〜15mm程度が好ましい。拡散管22の本体部221の長さは、10mm以上が好ましい。なお、拡散管22の本体部221の内径、長さはこれに限定されず、種々の形状を採用することができる。   The main body 221 of the diffusion tube 22 has a constant inner diameter in the longitudinal direction. The inner diameter of the main body 221 of the diffusion tube 22 is preferably about 1 mm to 15 mm. The length of the main body 221 of the diffusion tube 22 is preferably 10 mm or more. The inner diameter and length of the main body 221 of the diffusion tube 22 are not limited to this, and various shapes can be employed.

拡散管22の接続部222は、容器21から取り外し可能に接続されている。拡散管22の接続部222と容器21とは気密性よく接続されている。   The connection part 222 of the diffusion tube 22 is detachably connected to the container 21. The connection part 222 of the diffusion tube 22 and the container 21 are connected with good airtightness.

容器21と拡散管22の接続部222との接続は、取り扱い性の観点からスクリュー方式を採用している。例えば、容器21の上部の外壁面には、開口21aの周方向に沿って凸状の突起21bが形成されている。一方、拡散管22の接続部222の下部の内壁面には、開口222aの周方向に沿って凹状の溝222bが形成されている。   The connection between the container 21 and the connecting portion 222 of the diffusion tube 22 employs a screw method from the viewpoint of handling. For example, a convex projection 21b is formed on the outer wall surface of the upper portion of the container 21 along the circumferential direction of the opening 21a. On the other hand, a concave groove 222b is formed along the circumferential direction of the opening 222a on the inner wall surface below the connection portion 222 of the diffusion tube 22.

このような構成により、容器21と拡散管22の接続部222との接続は、スクリュー方式で接続される。例えば、容器21ににおい分子20の液体を注入した後、容器21に拡散管22の接続部222を押し当てて時計回りに回転させる。すると、容器21と拡散管22の接続部222とは、容器21の上部の外壁面に形成された突起21bが拡散管22の接続部222の下部の内壁面に形成された溝222bに嵌合した状態で接続される。   With such a configuration, the connection between the container 21 and the connection portion 222 of the diffusion tube 22 is connected by a screw method. For example, after injecting the liquid of the odor molecule 20 into the container 21, the connection part 222 of the diffusion tube 22 is pressed against the container 21 and rotated clockwise. Then, the connection part 222 of the container 21 and the diffusion tube 22 is fitted into the groove 222b formed on the inner wall surface of the lower part of the connection part 222 of the diffusion tube 22 with the protrusion 21b formed on the outer wall surface of the upper part of the container 21. Connected in a connected state.

なお、本実施形態においては、容器21の上部の外壁面に凸状の突起21bが形成され、拡散管22の接続部222の下部の内壁面に凹状の溝222bが形成されている例を挙げて説明したが、これに限らない。例えば、容器21の上部の外壁面に凹状の溝が形成され、拡散管22の接続部222の下部の内壁面に凸状の突起が形成されていてもよく、種々の形状を採用することができる。   In the present embodiment, an example in which a convex protrusion 21 b is formed on the outer wall surface of the upper portion of the container 21 and a concave groove 222 b is formed on the inner wall surface of the lower portion of the connection portion 222 of the diffusion tube 22 is given. However, this is not restrictive. For example, a concave groove may be formed on the upper outer wall surface of the container 21 and a convex protrusion may be formed on the lower inner wall surface of the connection portion 222 of the diffusion tube 22, and various shapes may be adopted. it can.

また、容器21と拡散管22の接続部222との接続は、スクリュー方式に限らない。別途器具を用いなくても容器21と拡散管22の接続部222との着脱が可能であれば、種々の接続方式を採用することができる。   Further, the connection between the container 21 and the connecting portion 222 of the diffusion tube 22 is not limited to the screw method. If the container 21 and the connection part 222 of the diffusion tube 22 can be attached and detached without using a separate instrument, various connection methods can be employed.

容器21は、におい分子20と化学反応しない材料で形成されている。また、容器21は、揮発性有機化合物(VOC:volatile organic compounds)に耐性を有する材料で形成されている。また、容器21は、容器自体からVOCを発生しない材料で形成されている。例えば、容器21の形成材料としては、ガラス、石英、ステンレス、テフロン(登録商標)を用いる。   The container 21 is formed of a material that does not chemically react with the odor molecule 20. The container 21 is made of a material having resistance to volatile organic compounds (VOC). The container 21 is formed of a material that does not generate VOC from the container itself. For example, glass, quartz, stainless steel, or Teflon (registered trademark) is used as a material for forming the container 21.

拡散管22は、液体状態のにおい分子20から揮発された気体と化学反応しない材料で形成されている。また、拡散管22は、容器21と同様、揮発性有機化合物(VOC:volatile organic compounds)に耐性を有する材料で形成されている。また、拡散管22は、拡散管自体からVOCを発生しない材料で形成されている。例えば、拡散管22の形成材料としては、ガラス、石英、ステンレス、テフロン(登録商標)を用いる。   The diffusion tube 22 is formed of a material that does not chemically react with the gas volatilized from the odor molecule 20 in a liquid state. The diffusion tube 22 is formed of a material having resistance to volatile organic compounds (VOC) like the container 21. The diffusion tube 22 is formed of a material that does not generate VOC from the diffusion tube itself. For example, glass, quartz, stainless steel, and Teflon (registered trademark) are used as a material for forming the diffusion tube 22.

容器21の内壁面及び拡散管の内壁面は撥液処理されている。例えば、撥液処理としては、容器21の内壁面及び拡散管の内壁面にフッ素コーティングを施す。   The inner wall surface of the container 21 and the inner wall surface of the diffusion tube are subjected to a liquid repellent treatment. For example, as the liquid repellent treatment, fluorine coating is applied to the inner wall surface of the container 21 and the inner wall surface of the diffusion tube.

図1に戻り、キャリアガス供給装置3は、キャリアガス用流量制御装置30と、キャリアガス供給配管(第1配管)31と、温度計32と、キャリアガス排気管33と、キャリアガス制御弁34と、キャリアガス排気弁35と、を備えている。キャリアガス供給装置3は、収容部2の拡散管22から放出されたにおい分子20を運ぶキャリアガスを供給する。   Returning to FIG. 1, the carrier gas supply device 3 includes a carrier gas flow control device 30, a carrier gas supply pipe (first pipe) 31, a thermometer 32, a carrier gas exhaust pipe 33, and a carrier gas control valve 34. And a carrier gas exhaust valve 35. The carrier gas supply device 3 supplies a carrier gas that carries the odor molecule 20 released from the diffusion tube 22 of the storage unit 2.

キャリアガス用流量制御装置30は、制御装置8の制御信号に基づいて、キャリアガス供給配管31内のキャリアガスの流量を制御する。本実施形態において、キャリアガス供給配管31には、常時一定の流量のキャリアガスが供給される。   The carrier gas flow control device 30 controls the flow rate of the carrier gas in the carrier gas supply pipe 31 based on the control signal of the control device 8. In the present embodiment, the carrier gas supply pipe 31 is always supplied with a carrier gas having a constant flow rate.

例えば、キャリアガス用流量制御装置30は、キャリアガスの流量を拡散管22の出口におけるにおい分子20の流量の10倍以上の流量に制御する。この場合、拡散管22の出口におけるにおい分子20の流量が0に近づく。これにより、拡散方程式で得られる結果(混合ガス供給配管42内を流れる混合ガス内のにおい分子20の濃度)の再現性を高めることができる。   For example, the carrier gas flow rate control device 30 controls the flow rate of the carrier gas to a flow rate of 10 times or more the flow rate of the odor molecule 20 at the outlet of the diffusion tube 22. In this case, the flow rate of the odor molecule 20 at the outlet of the diffusion tube 22 approaches zero. Thereby, the reproducibility of the result obtained by the diffusion equation (the concentration of the odor molecule 20 in the mixed gas flowing in the mixed gas supply pipe 42) can be enhanced.

キャリアガスとして用いるガスは、空気または窒素を用いることが好ましい。本実施形態では、キャリアガスとして窒素を用いる。なお、キャリアガスはこれに限らず、種々のガスを用いることができる。   The gas used as the carrier gas is preferably air or nitrogen. In this embodiment, nitrogen is used as the carrier gas. The carrier gas is not limited to this, and various gases can be used.

キャリアガス供給配管31は、キャリアガス用流量制御装置30により流量が調整されたキャリアガスを導く。キャリアガス供給配管31の一部は、拡散管22の出口部分と接続されている。これにより、キャリアガス供給配管31における拡散管22の出口部分と合流した後の経路では、拡散管22から放出されたにおい分子20を含んだキャリアガスが流れる。   The carrier gas supply pipe 31 guides the carrier gas whose flow rate is adjusted by the carrier gas flow control device 30. A part of the carrier gas supply pipe 31 is connected to the outlet portion of the diffusion pipe 22. As a result, the carrier gas containing the odor molecule 20 discharged from the diffusion tube 22 flows in the path after joining the outlet portion of the diffusion tube 22 in the carrier gas supply pipe 31.

図3は、拡散管22とキャリアガス供給配管31との接続状態を示す模式図である。図3は、図1に示すα部分の詳細を示す拡大図である。図3において符号d1は拡散管22の外径である。   FIG. 3 is a schematic diagram showing a connection state between the diffusion pipe 22 and the carrier gas supply pipe 31. FIG. 3 is an enlarged view showing the details of the portion α shown in FIG. In FIG. 3, the symbol d <b> 1 is the outer diameter of the diffusion tube 22.

図3に示すように、キャリアガス供給配管31の一部には拡散管22の出口部分が挿通されている。これにより、拡散管22から放出されたにおい分子20がキャリアガス供給配管31の内部に導かれる。   As shown in FIG. 3, the outlet portion of the diffusion tube 22 is inserted into a part of the carrier gas supply pipe 31. Thereby, the odor molecule 20 released from the diffusion tube 22 is guided into the carrier gas supply pipe 31.

拡散管22とキャリアガス供給配管31とは、ゴムリング23と、固定板24と、固定ネジ25とを用いて接続されている。拡散管22の出口近傍にはゴムリング23が嵌め込まれている。   The diffusion tube 22 and the carrier gas supply pipe 31 are connected using a rubber ring 23, a fixing plate 24, and a fixing screw 25. A rubber ring 23 is fitted in the vicinity of the outlet of the diffusion tube 22.

図4は、ゴムリング23の平面図である。図4において符号d2はゴムリング23の内径である。   FIG. 4 is a plan view of the rubber ring 23. In FIG. 4, the symbol d <b> 2 is the inner diameter of the rubber ring 23.

ゴムリング23の内径d2は、拡散管22の外径d1よりも小さい(d1>d2)。このため、拡散管22はゴムリング23に圧入される。これにより、拡散管22の外壁面とゴムリング23の内側部分とが隙間なく密着する。   The inner diameter d2 of the rubber ring 23 is smaller than the outer diameter d1 of the diffusion tube 22 (d1> d2). For this reason, the diffusion tube 22 is press-fitted into the rubber ring 23. Thereby, the outer wall surface of the diffusion tube 22 and the inner part of the rubber ring 23 are in close contact with each other without a gap.

図3に戻り、ゴムリング23に圧入された拡散管22とキャリアガス供給配管31とは、ゴムリング23を挟んで固定板24及び固定ネジ25により固定されている。これにより、キャリアガス供給配管31の外壁面とゴムリング23の外側部分とが隙間なく密着する。   Returning to FIG. 3, the diffusion tube 22 press-fitted into the rubber ring 23 and the carrier gas supply pipe 31 are fixed by a fixing plate 24 and a fixing screw 25 with the rubber ring 23 interposed therebetween. Thereby, the outer wall surface of the carrier gas supply pipe 31 and the outer portion of the rubber ring 23 are in close contact with each other without a gap.

このような構成により、拡散管22とキャリアガス供給配管31とは隙間なく接続される。このため、拡散管22とキャリアガス供給配管31との気密性を高めることができる。   With such a configuration, the diffusion pipe 22 and the carrier gas supply pipe 31 are connected without a gap. For this reason, the airtightness of the diffusion pipe 22 and the carrier gas supply pipe 31 can be improved.

図1に戻り、温度計32は、キャリアガス供給配管31において拡散管22の出口部分が接続された部分の近くに配置されている。温度計32は、拡散管22の出口付近(拡散管22の内部)の温度を測定する。   Returning to FIG. 1, the thermometer 32 is disposed near the portion of the carrier gas supply pipe 31 to which the outlet portion of the diffusion tube 22 is connected. The thermometer 32 measures the temperature near the outlet of the diffusion tube 22 (inside the diffusion tube 22).

なお、温度計32の配置位置は、好ましくは、キャリアガス供給配管31において拡散管22の出口部分の直上に配置するのがよく、さらに好ましくは、拡散管22の内部に配置するのがよい。これにより、拡散管22の内部の温度を精度良く測定することができる。   In addition, the arrangement position of the thermometer 32 is preferably arranged just above the outlet portion of the diffusion pipe 22 in the carrier gas supply pipe 31, and more preferably arranged inside the diffusion pipe 22. Thereby, the temperature inside the diffusion tube 22 can be accurately measured.

キャリアガス排気管33、キャリアガス制御弁34及びキャリアガス排気弁35は、キャリアガス供給配管31の下流側(後述する希釈ガス供給配管41に近い側)に接続されている。   The carrier gas exhaust pipe 33, the carrier gas control valve 34, and the carrier gas exhaust valve 35 are connected to the downstream side of the carrier gas supply pipe 31 (the side close to the dilution gas supply pipe 41 described later).

キャリアガス排気管33は、キャリアガス供給配管31から供給されるキャリアガスを排気する管である。キャリアガス制御弁34は、キャリアガス供給配管31から混合ガス供給配管(第3配管)42へのキャリアガスの供給量を制御する弁である。キャリアガス排気管33には、キャリアガス制御弁34によって混合ガス供給配管42への供給が阻止されたキャリアガスを排気するキャリアガス排気弁35が設けられている。キャリアガス排気弁35は、キャリアガス排気管33を開閉する弁である。例えば、キャリアガス制御弁34及びキャリアガス排気弁35としては、三方弁を用いる。例えば、この三方弁は、キャリアガス供給配管31の流路、キャリアガス排気管33の流路を全開もしくは全閉のいずれかの状態に制御する電磁弁(方向制御弁)である。   The carrier gas exhaust pipe 33 is a pipe that exhausts the carrier gas supplied from the carrier gas supply pipe 31. The carrier gas control valve 34 is a valve that controls the amount of carrier gas supplied from the carrier gas supply pipe 31 to the mixed gas supply pipe (third pipe) 42. The carrier gas exhaust pipe 33 is provided with a carrier gas exhaust valve 35 that exhausts the carrier gas that is prevented from being supplied to the mixed gas supply pipe 42 by the carrier gas control valve 34. The carrier gas exhaust valve 35 is a valve that opens and closes the carrier gas exhaust pipe 33. For example, a three-way valve is used as the carrier gas control valve 34 and the carrier gas exhaust valve 35. For example, the three-way valve is an electromagnetic valve (direction control valve) that controls the flow path of the carrier gas supply pipe 31 and the flow path of the carrier gas exhaust pipe 33 to either a fully open state or a fully closed state.

測定装置6は、収容部2の下側に配置されている。測定装置6は、収容部2の質量を測定する。例えば、測定装置6としては、天秤を用いる。なお、測定装置6としては、これに限らず種々のものを用いることができるが、収容部2の質量を正確に測定可能な質量計測器を用いることが好ましい。   The measuring device 6 is disposed below the housing part 2. The measuring device 6 measures the mass of the housing part 2. For example, a balance is used as the measuring device 6. The measuring device 6 is not limited to this, and various devices can be used. However, it is preferable to use a mass measuring instrument that can accurately measure the mass of the housing portion 2.

例えば、測定装置6の最低測定能は0.1mgである。ここで、「測定装置6の最低測定能」は、測定装置6が測定可能な最低の質量(測定下限値)である。なお、測定装置6の最低測定能は1mg以下であることが好ましい。これにより、濃度がppmオーダー以下の低濃度のにおい分子20の濃度の測定を実現することができる。これと反対に、測定装置6の最低測定能が1mgを超えてしまうと、濃度がppmオーダー以下の低濃度のにおい分子20の濃度を測定することが困難となる。   For example, the minimum measuring ability of the measuring device 6 is 0.1 mg. Here, the “minimum measuring ability of the measuring device 6” is the lowest mass (measurement lower limit value) that the measuring device 6 can measure. In addition, it is preferable that the minimum measuring ability of the measuring apparatus 6 is 1 mg or less. Thereby, the measurement of the density | concentration of the odor molecule 20 of a low density | concentration below a ppm order is realizable. On the other hand, if the minimum measuring ability of the measuring device 6 exceeds 1 mg, it is difficult to measure the concentration of the odor molecule 20 having a low concentration of ppm order or less.

希釈ガス供給装置4は、希釈ガス用流量制御装置40と、希釈ガス供給配管(第2配管)41と、を備えている。希釈ガス供給装置4は、収容部2の拡散管22から放出されたにおい分子20の濃度を希釈する希釈ガスを供給する。   The dilution gas supply device 4 includes a dilution gas flow control device 40 and a dilution gas supply pipe (second pipe) 41. The dilution gas supply device 4 supplies a dilution gas for diluting the concentration of the odor molecule 20 released from the diffusion tube 22 of the storage unit 2.

希釈ガス用流量制御装置40は、制御装置8の制御信号に基づいて、希釈ガス供給配管41内のキャリアガスの流量を制御する。   The dilution gas flow control device 40 controls the flow rate of the carrier gas in the dilution gas supply pipe 41 based on the control signal of the control device 8.

希釈ガスとして用いるガスは、空気または窒素を用いることが好ましい。本実施形態では、希釈ガスとしてキャリアガスと同様に窒素を用いる。なお、希釈ガスはこれに限らず、キャリアガスと同様のガスであれば種々のガスを用いることができる。   The gas used as the dilution gas is preferably air or nitrogen. In the present embodiment, nitrogen is used as the diluent gas in the same manner as the carrier gas. The dilution gas is not limited to this, and various gases can be used as long as they are the same as the carrier gas.

希釈ガス供給配管41は、希釈ガス用流量制御装置40により流量が調整された希釈ガスを導く。希釈ガス供給配管41の出口部分は、キャリアガス供給配管31の出口部分と接続されている。希釈ガス供給配管41の出口部分とキャリアガス供給配管31の出口部分とは、混合ガス供給配管42に接続されている。これにより、混合ガス供給配管42には、拡散管22から放出されたにおい分子20を含んだキャリアガスと希釈ガスとの混合ガスが流れる。   The dilution gas supply pipe 41 guides the dilution gas whose flow rate is adjusted by the dilution gas flow control device 40. The outlet portion of the dilution gas supply pipe 41 is connected to the outlet portion of the carrier gas supply pipe 31. The outlet portion of the dilution gas supply pipe 41 and the outlet portion of the carrier gas supply pipe 31 are connected to the mixed gas supply pipe 42. As a result, the mixed gas of the carrier gas containing the odor molecules 20 discharged from the diffusion tube 22 and the dilution gas flows through the mixed gas supply pipe 42.

ダミーガス供給装置5は、ダミーガス用流量制御装置50と、ダミーガス供給配管(第4配管)51と、温度計52と、ダミーガス排気管53と、ダミーガス制御弁54と、ダミーガス排気弁55と、を備えている。ダミーガス供給装置5は、ダミーガス供給装置5から供給されるダミーガス、キャリアガス供給装置3から供給されるキャリアガス及び希釈ガス供給装置4から供給される希釈ガスを含む混合ガスの流量が常時一定になるようダミーガスを供給する。   The dummy gas supply device 5 includes a dummy gas flow control device 50, a dummy gas supply pipe (fourth pipe) 51, a thermometer 52, a dummy gas exhaust pipe 53, a dummy gas control valve 54, and a dummy gas exhaust valve 55. ing. In the dummy gas supply device 5, the flow rate of the mixed gas including the dummy gas supplied from the dummy gas supply device 5, the carrier gas supplied from the carrier gas supply device 3, and the dilution gas supplied from the dilution gas supply device 4 is always constant. Supply a dummy gas.

ダミーガス用流量制御装置50は、制御装置8の制御信号に基づいて、ダミーガス供給配管51内のダミーガスの流量を制御する。本実施形態において、ダミーガス供給配管51には、常時一定の流量のダミーガスが供給される。   The dummy gas flow control device 50 controls the flow rate of the dummy gas in the dummy gas supply pipe 51 based on the control signal of the control device 8. In the present embodiment, the dummy gas supply pipe 51 is always supplied with a dummy gas having a constant flow rate.

例えば、ダミーガス用流量制御装置50は、ダミーガスの流量をキャリアガス供給配管31から供給されるキャリアガスの流量と同量の流量に制御する。言い換えると、ダミーガス用流量制御装置50は、キャリアガス供給配管31から本来供給されるべきキャリアガスの流量が所定の値に満たないときに、その不足分に相当する流量のダミーガスを供給するよう制御する。これにより、キャリアガス供給配管31から供給されるキャリアガスの流量及び希釈ガス供給配管41から供給される希釈ガスの流量の総流量が常時一定になるよう調整される。   For example, the dummy gas flow control device 50 controls the dummy gas flow rate to the same amount as the carrier gas flow rate supplied from the carrier gas supply pipe 31. In other words, the dummy gas flow control device 50 controls to supply a dummy gas having a flow rate corresponding to the shortage when the flow rate of the carrier gas to be originally supplied from the carrier gas supply pipe 31 is less than a predetermined value. To do. As a result, the flow rate of the carrier gas supplied from the carrier gas supply pipe 31 and the total flow rate of the dilution gas supplied from the dilution gas supply pipe 41 are adjusted to be always constant.

ダミーガスとして用いるガスは、空気または窒素を用いることが好ましい。本実施形態では、ダミーガスとしてキャリアガスと同様に窒素を用いる。なお、ダミーガスはこれに限らず、キャリアガスと同様であれば種々のガスを用いることができる。   The gas used as the dummy gas is preferably air or nitrogen. In the present embodiment, nitrogen is used as the dummy gas in the same manner as the carrier gas. The dummy gas is not limited to this, and various gases can be used as long as they are similar to the carrier gas.

ダミーガス供給配管51は、ダミーガス用流量制御装置50により流量が調整されたダミーガスを導く。ダミーガス供給配管51の出口部分は、混合ガス供給配管42の一部と接続されている。これにより、混合ガス供給配管42におけるダミーガス供給配管51の出口部分と合流した後の経路では、拡散管22から放出されたにおい分子20を含んだキャリアガスと希釈ガスとダミーガスとの混合ガス(ただし、キャリアガスの供給を完全に停止させた場合は希釈ガスとダミーガスとの混合ガス)が流れる。   The dummy gas supply pipe 51 guides the dummy gas whose flow rate is adjusted by the dummy gas flow control device 50. The outlet portion of the dummy gas supply pipe 51 is connected to a part of the mixed gas supply pipe 42. Thereby, in the path after joining the outlet portion of the dummy gas supply pipe 51 in the mixed gas supply pipe 42, the mixed gas of the carrier gas containing the odor molecule 20 released from the diffusion pipe 22, the dilution gas, and the dummy gas (however, When the supply of the carrier gas is completely stopped, a mixed gas of a dilution gas and a dummy gas flows.

温度計52は、ダミーガス供給配管51においてダミーガス用流量制御装置50とダミーガス制御弁54との間に配置されている。温度計52は、ダミーガス供給配管51の内部の温度を測定する。   The thermometer 52 is disposed between the dummy gas flow control device 50 and the dummy gas control valve 54 in the dummy gas supply pipe 51. The thermometer 52 measures the temperature inside the dummy gas supply pipe 51.

ダミーガス排気管53、ダミーガス制御弁54及びダミーガス供給弁55は、ダミーガス供給配管51の下流側(希釈ガス供給配管41に近い側)に接続されている。   The dummy gas exhaust pipe 53, the dummy gas control valve 54, and the dummy gas supply valve 55 are connected to the downstream side of the dummy gas supply pipe 51 (the side close to the dilution gas supply pipe 41).

ダミーガス排気管53は、ダミーガス供給配管51から供給されるダミーガスを排気する管である。ダミーガス制御弁54は、ダミーガス供給配管51から混合ガス供給配管42へのダミーガスの供給量を制御する弁である。ダミーガス排気管53には、ダミーガス制御弁54によって混合ガス供給配管42への供給が阻止されたダミーガスを排気するダミーガス排気弁55が設けられている。ダミーガス排気弁55は、ダミーガス排気管53を開閉する弁である。例えば、ダミーガス制御弁54及びダミーガス排気弁55としては、三方弁を用いる。例えば、この三方弁は、ダミーガス供給配管51の流路、ダミーガス排気管53の流路を全開もしくは全閉のいずれかの状態に制御する電磁弁(方向制御弁)である。   The dummy gas exhaust pipe 53 is a pipe for exhausting the dummy gas supplied from the dummy gas supply pipe 51. The dummy gas control valve 54 is a valve that controls the amount of dummy gas supplied from the dummy gas supply pipe 51 to the mixed gas supply pipe 42. The dummy gas exhaust pipe 53 is provided with a dummy gas exhaust valve 55 that exhausts the dummy gas that is prevented from being supplied to the mixed gas supply pipe 42 by the dummy gas control valve 54. The dummy gas exhaust valve 55 is a valve that opens and closes the dummy gas exhaust pipe 53. For example, as the dummy gas control valve 54 and the dummy gas exhaust valve 55, three-way valves are used. For example, this three-way valve is an electromagnetic valve (direction control valve) that controls the flow path of the dummy gas supply pipe 51 and the flow path of the dummy gas exhaust pipe 53 to either a fully open state or a fully closed state.

演算装置7は、測定装置6で測定された収容部2の質量の時間変化に基づいて、収容部2から放出されたにおい分子20の量を演算する。   The calculation device 7 calculates the amount of the odor molecule 20 released from the storage unit 2 based on the time change of the mass of the storage unit 2 measured by the measurement device 6.

図5は、測定装置6で測定された収容部2の質量の時間変化を示すグラフである。
図5において、横軸は測定時間、縦軸は収容部2の質量である。図5において、符号t1は第1の時刻、符号t2は第1の時刻から所定時間経過後の第2の時刻である。
FIG. 5 is a graph showing the change over time of the mass of the container 2 measured by the measuring device 6.
In FIG. 5, the horizontal axis is the measurement time, and the vertical axis is the mass of the housing part 2. In FIG. 5, reference numeral t <b> 1 is a first time, and reference numeral t <b> 2 is a second time after a predetermined time has elapsed from the first time.

図5に示すように、測定時間と収容部2の質量との関係は比例関係を有する。測定時間が経過するにつれて拡散管22からにおい分子20が徐々に放出されることにより、収容部2の質量は減少していく。   As shown in FIG. 5, the relationship between the measurement time and the mass of the container 2 has a proportional relationship. As the measurement time elapses, the odor molecules 20 are gradually released from the diffusion tube 22, thereby reducing the mass of the container 2.

演算装置7は、第1の時刻t1から第2の時刻t2の間における収容部2の質量の時間変化に基づいて、収容部2から放出されたにおい分子20の量(例えば質量)を演算する。   The calculation device 7 calculates the amount (for example, mass) of the odor molecule 20 released from the storage unit 2 based on the time change of the mass of the storage unit 2 between the first time t1 and the second time t2. .

上述したように、におい分子の質量は、測定装置6で測定された収容部2の質量の時間変化に基づいて演算される。ここで、「測定装置の最低測定能」は、測定装置が測定可能な最低の質量(測定下限値)である。測定時間の最低分解能は、測定装置の最低測定能に相当する質量のにおい分子が収容部から放出されるまでの時間(測定下限値が変化する時間)である。つまり、測定装置6の最低測定能が小さいほど測定時間の最低分解能も小さくなる。本実施形態では、測定装置6の最低測定能は0.1mgであるため、0.1mgのにおい分子20が収容部2から放出されるまでの時間が測定時間の最低分解能となる。   As described above, the mass of the odor molecule is calculated based on the time change of the mass of the container 2 measured by the measuring device 6. Here, the “minimum measuring ability of the measuring device” is the lowest mass (measurement lower limit value) that can be measured by the measuring device. The minimum resolution of the measurement time is the time until the odor molecule having a mass corresponding to the minimum measurement ability of the measurement device is released from the container (the time when the measurement lower limit value changes). That is, the minimum resolution of the measurement time is reduced as the minimum measurement capability of the measurement device 6 is reduced. In the present embodiment, since the minimum measuring ability of the measuring device 6 is 0.1 mg, the time until 0.1 mg of the odor molecule 20 is released from the container 2 is the minimum resolution of the measuring time.

演算装置7は、下記(1)式、(2)式、(3)式及び(4)式によって混合ガス供給配管42内を流れる混合ガス内のにおい分子20の濃度を演算する。   The calculation device 7 calculates the concentration of the odor molecule 20 in the mixed gas flowing in the mixed gas supply pipe 42 according to the following equations (1), (2), (3), and (4).

PV=nRT ・・・(1)
n=(m1−m2)/w ・・・(2)
D1=V/(t2−t1) ・・・(3)
G=D1/D2 ・・・(4)
PV = nRT (1)
n = (m1-m2) / w (2)
D1 = V / (t2-t1) (3)
G = D1 / D2 (4)

ここで、測定装置6が第1の時刻t1に測定した収容部2の質量をm1、測定装置6が第1の時刻t1から所定時間経過後の第2の時刻t2に測定した収容部2の質量をm2、におい分子20の分子量をw、大気圧をP、収容部2がにおい分子20を収容する空間の体積をV、におい分子の物質量をn、気体定数をR、拡散管22の内部の温度をK、拡散管22の出口におけるにおい分子20の流量をD1、キャリアガス供給配管31から混合ガス供給配管42に供給されるキャリアガスの流量及び希釈ガス供給配管41から混合ガス供給配管42に供給される希釈ガスの流量の総流量をD2、第2の時刻t2における混合ガス供給配管42内を流れる混合ガス内のにおい分子20の濃度をGとする。   Here, the mass of the container 2 measured by the measuring device 6 at the first time t1 is m1, and the mass of the container 2 measured by the measuring device 6 at the second time t2 after a predetermined time has elapsed from the first time t1. The mass is m 2, the molecular weight of the odor molecule 20 is w, the atmospheric pressure is P, the volume of the space in which the container 2 accommodates the odor molecule 20 is V, the substance amount of the odor molecule is n, the gas constant is R, the diffusion tube 22 The internal temperature is K, the flow rate of the odor molecule 20 at the outlet of the diffusion tube 22 is D1, the flow rate of the carrier gas supplied from the carrier gas supply pipe 31 to the mixed gas supply pipe 42, and the mixed gas supply pipe from the dilution gas supply pipe 41 Assume that the total flow rate of the dilution gas supplied to 42 is D2, and the concentration of the odor molecule 20 in the mixed gas flowing through the mixed gas supply pipe 42 at the second time t2 is G.

本実施形態において、におい分子20の分子量wは、トルエンの分子量を用いる。第1の時刻t1、第2の時刻t2は、図示しないタイマーにより測定された値を用いる。大気圧Pは、図示しない大気圧計により測定された値を用いる。収容部2がにおい分子20を収容する空間の体積Vは、容器21の容積(ただし、におい分子20の体積を除く)と拡散管22の容積とを足し合わせた値を用いる。におい分子20の物質量nは、トルエンの物質量を用いる。拡散管22の内部の温度Kは、温度計32により測定された値を用いる。   In the present embodiment, the molecular weight w of the odor molecule 20 is the molecular weight of toluene. Values measured by a timer (not shown) are used for the first time t1 and the second time t2. As the atmospheric pressure P, a value measured by an atmospheric pressure meter (not shown) is used. As the volume V of the space in which the storage unit 2 stores the odor molecule 20, a value obtained by adding the volume of the container 21 (excluding the volume of the odor molecule 20) and the volume of the diffusion tube 22 is used. As the substance amount n of the odor molecule 20, the substance quantity of toluene is used. The value measured by the thermometer 32 is used as the temperature K inside the diffusion tube 22.

図1に戻り、制御装置8は、キャリアガス用流量制御装置30、希釈ガス用流量制御装置40、ダミーガス用流量制御装置50、キャリアガス制御弁34、キャリアガス排気弁35、ダミーガス制御弁54、ダミーガス排気弁55、演算装置7を統括制御する。   Returning to FIG. 1, the control device 8 includes a carrier gas flow control device 30, a dilution gas flow control device 40, a dummy gas flow control device 50, a carrier gas control valve 34, a carrier gas exhaust valve 35, a dummy gas control valve 54, The dummy gas exhaust valve 55 and the arithmetic unit 7 are comprehensively controlled.

制御装置8は、演算装置7で演算されたにおい分子20の量に基づいて、収容部2から放出されたにおい分子20の濃度が所望の濃度となるように、キャリアガス供給配管31から供給されるキャリアガスと希釈ガス供給配管41から供給される希釈ガスの少なくとも一方の流量を制御する。   The control device 8 is supplied from the carrier gas supply pipe 31 so that the concentration of the odor molecule 20 released from the container 2 becomes a desired concentration based on the amount of the odor molecule 20 calculated by the calculation device 7. The flow rate of at least one of the carrier gas and the dilution gas supplied from the dilution gas supply pipe 41 is controlled.

また、制御装置8は、キャリアガス制御弁34とダミーガス制御弁54の少なくとも一方の弁の開閉動作を制御する。   The control device 8 controls the opening / closing operation of at least one of the carrier gas control valve 34 and the dummy gas control valve 54.

本実施形態において、制御装置8は以下の制御を行う。
キャリアガス供給配管31から供給されるキャリアガスと希釈ガス供給配管41から供給される希釈ガスとを混合させる場合には、キャリアガス制御弁34を開いた状態に制御しかつキャリアガス排気弁35を閉じた状態に制御する。このとき、ダミーガス制御弁54を閉じた状態に制御しかつダミーガス排気弁55を開いた状態に制御する。
一方、キャリアガス供給配管31から供給されるキャリアガスと希釈ガス供給配管41から供給される希釈ガスとを混合させない場合には、キャリアガス制御弁34を閉じた状態に制御しかつキャリアガス排気弁35を開いた状態に制御する。このとき、ダミーガス制御弁54を開いた状態に制御しかつダミーガス排気弁55を閉じた状態に制御する。
In the present embodiment, the control device 8 performs the following control.
When mixing the carrier gas supplied from the carrier gas supply pipe 31 and the dilution gas supplied from the dilution gas supply pipe 41, the carrier gas control valve 34 is controlled to be opened and the carrier gas exhaust valve 35 is controlled. Control to the closed state. At this time, the dummy gas control valve 54 is controlled to be closed and the dummy gas exhaust valve 55 is controlled to be opened.
On the other hand, when the carrier gas supplied from the carrier gas supply pipe 31 and the dilution gas supplied from the dilution gas supply pipe 41 are not mixed, the carrier gas control valve 34 is controlled to be closed and the carrier gas exhaust valve is used. 35 is controlled to be opened. At this time, the dummy gas control valve 54 is controlled to be opened and the dummy gas exhaust valve 55 is controlled to be closed.

混合ガス供給配管42には、混合ガス供給配管42内を流れる混合ガスに乱流を発生させる乱流発生機構9が設けられている。   The mixed gas supply pipe 42 is provided with a turbulent flow generation mechanism 9 that generates a turbulent flow in the mixed gas flowing in the mixed gas supply pipe 42.

乱流発生機構9は、希釈ガス供給配管41の下流側の部分を流れる流体の流れの状態を時間的、空間的に不規則に変動させる。本実施形態において、乱流発生機構9は、混合ガス供給配管42の下流側の部分を複数箇所で折り曲げることによって構成されている。乱流発生機構9は、いわゆるミキシング流路である。これにより、混合ガスは、乱流発生機構9を通過する過程で、混合ガス供給配管42の下流側の部分の内壁面で衝突を複数回繰り返してミキシングされる。ミキシングされた混合ガスは、図示しない次工程の装置(例えば嗅覚センサー)に供給される。   The turbulent flow generation mechanism 9 irregularly and temporally and spatially changes the state of the flow of the fluid flowing through the downstream portion of the dilution gas supply pipe 41. In this embodiment, the turbulent flow generation mechanism 9 is configured by bending a downstream portion of the mixed gas supply pipe 42 at a plurality of locations. The turbulent flow generation mechanism 9 is a so-called mixing channel. As a result, the mixed gas is mixed by repeatedly colliding with the inner wall surface of the downstream portion of the mixed gas supply pipe 42 in the process of passing through the turbulent flow generation mechanism 9. The mixed gas mixture is supplied to a device (for example, an olfactory sensor) in the next process (not shown).

本実施形態のガス供給装置1によれば、収容部2の質量の時間変化に基づいて演算されたにおい分子20の量に基づいて、収容部2から放出されたにおい分子20の濃度が所望の濃度となるように、キャリアガスと希釈ガスのうち少なくとも一方の流量が制御される。例えば、収容部2から放出されたにおい分子20の濃度を低濃度に調整する場合、キャリアガスの流量を小さくし、希釈ガスの流量を大きくする。これにより、収容部2から放出されたにおい分子20の濃度を低濃度に調整することができる。また、収容部2から放出されたにおい分子20の濃度を低濃度に維持した状態でキャリアガスの流量及び希釈ガスの流量を一定の値に制御する。これにより、低濃度のにおい分子を安定して供給することができる。さらに、収容部2の質量の時間変化に基づいて、収容部2から放出された低濃度のにおい分子の濃度を演算することもできる。よって、におい分子20の濃度を制御し、におい分子20を安定的に供給することができる。   According to the gas supply device 1 of the present embodiment, the concentration of the odor molecule 20 released from the container 2 is desired based on the amount of the odor molecule 20 calculated based on the time change of the mass of the container 2. The flow rate of at least one of the carrier gas and the dilution gas is controlled so as to achieve the concentration. For example, when the concentration of the odor molecule 20 released from the storage unit 2 is adjusted to a low concentration, the flow rate of the carrier gas is decreased and the flow rate of the dilution gas is increased. Thereby, the density | concentration of the odor molecule 20 discharge | released from the accommodating part 2 can be adjusted to a low density | concentration. Further, the flow rate of the carrier gas and the flow rate of the dilution gas are controlled to be constant values while maintaining the concentration of the odor molecule 20 released from the storage unit 2 at a low concentration. Thereby, a low concentration odor molecule can be supplied stably. Furthermore, the concentration of the low-concentration odor molecule released from the storage unit 2 can be calculated based on the time change of the mass of the storage unit 2. Therefore, the concentration of the odor molecule 20 can be controlled and the odor molecule 20 can be supplied stably.

また、この構成によれば、混合ガス供給配管42内を流れる混合ガス内のにおい分子20の濃度を極めて小さい値に調整しやすくなる。例えば、拡散管22の長さ(高さ)や内径を所定寸法にして拡散方程式を適用することにより、拡散管22の出口におけるにおい分子20の流量を極めて小さく(例えば略0に近い値)設定することができる。   Moreover, according to this structure, it becomes easy to adjust the density | concentration of the odor molecule 20 in the mixed gas which flows in the mixed gas supply piping 42 to a very small value. For example, by applying the diffusion equation with the length (height) and inner diameter of the diffusion tube 22 as predetermined dimensions, the flow rate of the odor molecule 20 at the outlet of the diffusion tube 22 is set to be extremely small (for example, a value close to approximately 0). can do.

また、この構成によれば、拡散管22が容器21に取り外し可能に接続されているため、他の形状の異なる拡散管と取り替えることができる。例えば、予め拡散管の長さや内径が互いに異なる複数種類の拡散管を用意しておけば、所望の濃度のにおい分子20を得るのに適した寸法を有する拡散管と適宜取り替えることができる。よって、所望の濃度のにおい分子20を供給することが容易となる。   Moreover, according to this structure, since the diffusion tube 22 is detachably connected to the container 21, it can be replaced with a diffusion tube having a different shape. For example, if a plurality of types of diffusion tubes having different diffusion tube lengths and inner diameters are prepared in advance, the diffusion tube can be appropriately replaced with a diffusion tube having a size suitable for obtaining an odor molecule 20 having a desired concentration. Therefore, it becomes easy to supply the odor molecule 20 having a desired concentration.

におい分子は、同じ化学構造であっても、酸化反応や還元反応等の反応方法が違ったりすると、異なるにおい分子となる。仮に、容器21がにおい分子20と化学反応する材料で形成されていると、目的とするにおい分子とは異なるにおい分子が生成されてしまう。また、容器21とにおい分子20が吸着しやすい材料で形成されていると、所望の濃度と異なるにおいとなってしまう。これに伴い、低濃度のにおい分子20の濃度を精度良く測定できなくなる。これに対し、容器21がにおい分子20と吸着、化学反応しない材料で形成されていれば、目的とするにおい分子を得ることができる。よって、この構成によれば、低濃度のにおい分子20を安定的に供給するとともに低濃度のにおい分子20の濃度を精度良く測定することができる。   Even if the odor molecule has the same chemical structure, it becomes a different odor molecule if the reaction method such as oxidation reaction or reduction reaction is different. If the container 21 is formed of a material that chemically reacts with the odor molecule 20, an odor molecule different from the target odor molecule is generated. In addition, if the container 21 and the odor molecule 20 are formed of a material that is easily adsorbed, an odor different from a desired concentration is generated. As a result, the concentration of the odor molecule 20 having a low concentration cannot be measured with high accuracy. On the other hand, if the container 21 is formed of a material that does not adsorb and chemically react with the odor molecule 20, the target odor molecule can be obtained. Therefore, according to this configuration, it is possible to stably supply the odor molecule 20 having a low concentration and measure the concentration of the odor molecule 20 having a low concentration with high accuracy.

におい分子20が液体状態で容器21に収容される場合には、液体から揮発された気体がにおい分子20を含んだ状態で拡散管22から放出される。仮に、拡散管22がにおい分子20を含んだ気体と化学反応する材料で形成されていると、目的とするにおい分子とは異なるにおい分子が生成されてしまう。また、拡散管22や容器21とにおい分子20が吸着しやすい材料で形成されていると、所望の濃度と異なるにおいとなってしまう。これに伴い、低濃度のにおい分子の濃度を精度良く測定できなくなる。これに対し、拡散管22がにおい分子20と吸着、におい分子20を含んだ気体と化学反応しない材料で形成されていれば、目的とするにおい分子を得ることができる。よって、この構成によれば、低濃度のにおい分子20を安定的に供給するとともに低濃度のにおい分子20の濃度を精度良く測定することができる。   When the odor molecule 20 is stored in the container 21 in a liquid state, the gas volatilized from the liquid is released from the diffusion tube 22 in a state including the odor molecule 20. If the diffusion tube 22 is formed of a material that chemically reacts with the gas containing the odor molecule 20, an odor molecule different from the target odor molecule is generated. In addition, if the diffusion tube 22 and the container 21 are formed of a material that can easily adsorb the odor molecule 20, the odor will differ from the desired concentration. As a result, it becomes impossible to accurately measure the concentration of low-concentration odor molecules. On the other hand, if the diffusion tube 22 is formed of a material that adsorbs the odor molecule 20 and does not chemically react with the gas containing the odor molecule 20, the target odor molecule can be obtained. Therefore, according to this configuration, it is possible to stably supply the odor molecule 20 having a low concentration and measure the concentration of the odor molecule 20 having a low concentration with high accuracy.

におい分子20が液体状態で容器21に収容される場合には、液体から揮発された気体がにおい分子20を含んだ状態で拡散管22から放出される。容器21の内壁面及び拡散管22の内壁面が撥液処理されていないと、におい分子20が容器21の内壁面または拡散管22の内壁面に吸着することがある。この場合、理想的な拡散状態が得られなくなり、低濃度のにおい分子20の濃度を精度良く測定することが難しくなる。これに対し、容器21の内壁面及び拡散管の内壁面が撥液処理されていれば、におい分子20が容器21の内壁面または拡散管の内壁面に吸着しにくくできるため、理想的な拡散状態を得ることができる。よって、この構成によれば、低濃度のにおい分子20を安定的に供給するとともに低濃度のにおい分子20の濃度を精度良く測定することができる。   When the odor molecule 20 is stored in the container 21 in a liquid state, the gas volatilized from the liquid is released from the diffusion tube 22 in a state including the odor molecule 20. If the inner wall surface of the container 21 and the inner wall surface of the diffusion tube 22 are not liquid-repellent, the odor molecule 20 may be adsorbed on the inner wall surface of the container 21 or the inner wall surface of the diffusion tube 22. In this case, an ideal diffusion state cannot be obtained, and it becomes difficult to accurately measure the concentration of the odor molecule 20 having a low concentration. On the other hand, if the inner wall surface of the container 21 and the inner wall surface of the diffusion tube are liquid-repellent, the odor molecule 20 can hardly be adsorbed on the inner wall surface of the container 21 or the inner wall surface of the diffusion tube. The state can be obtained. Therefore, according to this configuration, it is possible to stably supply the odor molecule 20 having a low concentration and measure the concentration of the odor molecule 20 having a low concentration with high accuracy.

また、この構成によれば、演算装置7が上記(1)式、(2)式、(3)式及び(4)式によって混合ガス供給配管42内を流れる混合ガス内のにおい分子20の濃度を演算するため、収容部2の質量の時間変化に基づいて、収容部2から放出された低濃度のにおい分子20の濃度を容易に演算することができる。また、これらの式に基づいて、拡散管22の出口における低濃度のにおい分子20の流量、におい分子20の物質量も容易に演算することができる。   Further, according to this configuration, the concentration of the odor molecule 20 in the mixed gas flowing through the mixed gas supply pipe 42 by the arithmetic unit 7 according to the above formulas (1), (2), (3), and (4). Therefore, the concentration of the low-concentration odor molecule 20 released from the storage unit 2 can be easily calculated based on the time change of the mass of the storage unit 2. Further, based on these equations, the flow rate of the low concentration odor molecule 20 at the outlet of the diffusion tube 22 and the substance amount of the odor molecule 20 can be easily calculated.

また、この構成によれば、測定装置6の最低測定能が1mg以下であるため、濃度がppmオーダー以下の低濃度のにおい分子20の濃度の測定を実現することができる。これと反対に、測定装置6の最低測定能が1mgを超えてしまうと、質量変化を観測するのに長時間要し、濃度がppmオーダー以下の低濃度のにおい分子20の濃度を測定することが困難となる。
上述したように、におい分子20の質量は、測定装置6で測定された収容部2の質量の時間変化に基づいて演算される。ここで、「測定装置の最低測定能」は、測定装置が測定可能な最低の質量(測定下限値)である。測定時間の最低分解能は、測定装置6の最低測定能に相当する質量のにおい分子20が収容部2から放出されるまでの時間(測定下限値が変化する時間)である。つまり、測定装置6の最低測定能が小さいほど測定時間の最低分解能も小さくなる。これにより、実際に装置を使用しているときに収容部2から放出されるにおい分子20の濃度をリアルタイムで測定しやすくなる。
Further, according to this configuration, since the minimum measuring ability of the measuring device 6 is 1 mg or less, it is possible to realize the measurement of the concentration of the odor molecule 20 having a low concentration of the order of ppm or less. On the contrary, if the minimum measuring ability of the measuring device 6 exceeds 1 mg, it takes a long time to observe the mass change, and the concentration of the odor molecule 20 having a low concentration of the order of ppm or less is measured. It becomes difficult.
As described above, the mass of the odor molecule 20 is calculated based on the time change of the mass of the container 2 measured by the measuring device 6. Here, the “minimum measuring ability of the measuring device” is the lowest mass (measurement lower limit value) that the measuring device can measure. The minimum resolution of the measurement time is the time until the odor molecule 20 having a mass corresponding to the minimum measurement capability of the measurement device 6 is released from the container 2 (the time when the measurement lower limit value changes). That is, the minimum resolution of the measurement time is reduced as the minimum measurement capability of the measurement device 6 is reduced. Thereby, it becomes easy to measure the concentration of the odor molecule 20 released from the container 2 in real time when the apparatus is actually used.

また、この構成によれば、乱流発生機構9を有するため、キャリアガスと希釈ガスを均一に混合することができる。よって、低濃度のにおい分子20を安定的に供給することが容易となる。   Moreover, according to this structure, since it has the turbulent flow generation mechanism 9, a carrier gas and a dilution gas can be mixed uniformly. Therefore, it becomes easy to stably supply the odor molecule 20 having a low concentration.

また、この構成によれば、所望の量のにおい分子を供給することができる。   Moreover, according to this structure, a desired amount of odor molecules can be supplied.

低濃度のにおい分子20を安定して供給するに際しては、低濃度のにおい分子20が供給される条件や雰囲気を一定の状態に維持することが重要である。この構成によれば、キャリアガスが混合ガス供給配管42に供給されないようにキャリアガスを排気することができる。これにより、濃度のにおい分子20が供給される条件や雰囲気を一定の状態に維持することができる。よって、低濃度のにおい分子20を安定的に供給することができる。   In order to stably supply the odor molecule 20 at a low concentration, it is important to maintain the conditions and atmosphere for supplying the odor molecule 20 at a low concentration in a constant state. According to this configuration, the carrier gas can be exhausted so that the carrier gas is not supplied to the mixed gas supply pipe 42. Thereby, the conditions and atmosphere in which the concentration molecules 20 are supplied can be maintained in a constant state. Therefore, the odor molecule 20 having a low concentration can be stably supplied.

この構成によれば、キャリアガスの供給量を常時一定にした状態でキャリアガスが混合ガス供給配管42に供給されないようにキャリアガスを排気することができる。これにより、低濃度のにおい分子が供給される条件や雰囲気を一定の状態に維持することができる。よって、低濃度のにおい分子を安定的に供給することができる。   According to this configuration, the carrier gas can be exhausted so that the carrier gas is not supplied to the mixed gas supply pipe 42 in a state where the supply amount of the carrier gas is always constant. Thereby, the conditions and atmosphere in which low concentration odor molecules are supplied can be maintained in a constant state. Therefore, a low concentration odor molecule can be supplied stably.

また、この構成によれば、ダミーガスとキャリアガスと希釈ガスの総流量が常時一定に維持される。よって、低濃度のにおい分子を常時安定的に供給することができる。   Further, according to this configuration, the total flow rates of the dummy gas, the carrier gas, and the dilution gas are always kept constant. Therefore, a low concentration of odor molecules can be constantly supplied stably.

低濃度のにおい分子20を安定して供給するに際しては、低濃度のにおい分子20が供給される条件や雰囲気を一定の状態に維持することが重要である。この構成によれば、ダミーガスが混合ガス供給配管42に供給されないようにダミーガスを排気することができる。これにより、濃度のにおい分子20が供給される条件や雰囲気を一定の状態に維持することができる。よって、低濃度のにおい分子20を安定的に供給することができる。   In order to stably supply the odor molecule 20 at a low concentration, it is important to maintain the conditions and atmosphere for supplying the odor molecule 20 at a low concentration in a constant state. According to this configuration, the dummy gas can be exhausted so that the dummy gas is not supplied to the mixed gas supply pipe 42. Thereby, the conditions and atmosphere in which the concentration molecules 20 are supplied can be maintained in a constant state. Therefore, the odor molecule 20 having a low concentration can be stably supplied.

また、この構成によれば、ダミーガスの供給量を常時一定にした状態でダミーガスが混合ガス供給配管42に供給されないようにダミーガスを排気することができる。これにより、濃度のにおい分子20が供給される条件や雰囲気を一定の状態に維持することができる。よって、低濃度のにおい分子20を安定的に供給することができる。   Further, according to this configuration, the dummy gas can be exhausted so that the dummy gas is not supplied to the mixed gas supply pipe 42 in a state where the supply amount of the dummy gas is always constant. Thereby, the conditions and atmosphere in which the concentration molecules 20 are supplied can be maintained in a constant state. Therefore, the odor molecule 20 having a low concentration can be stably supplied.

また、この構成によれば、低濃度のにおい分子20が供給される条件や雰囲気を一定の状態に維持することができる。よって、低濃度のにおい分子20を安定的に供給することができる。   Moreover, according to this structure, the conditions and atmosphere in which the low concentration odor molecule 20 is supplied can be maintained in a constant state. Therefore, the odor molecule 20 having a low concentration can be stably supplied.

また、この構成によれば、既知のガスを用いるため、低濃度のにおい分子20が供給される条件や雰囲気を一定の状態に維持しやすくなる。よって、低濃度のにおい分子20を安定的に供給することが容易となる。   Further, according to this configuration, since a known gas is used, it is easy to maintain the conditions and atmosphere for supplying the low-concentration odor molecule 20 in a constant state. Therefore, it becomes easy to stably supply the odor molecule 20 having a low concentration.

なお、本実施形態においては、拡散管22とキャリアガス供給配管31とが、ゴムリング23と、固定板24と、固定ネジ25とを用いて接続された例を挙げて説明したが、これに限らない。拡散管22とキャリアガス供給配管31との接続状態は、拡散管22とキャリアガス供給配管31とを隙間なく接続できる方法であれば、種々の方法を採用することができる。   In the present embodiment, the diffusion pipe 22 and the carrier gas supply pipe 31 are described using an example in which the rubber ring 23, the fixing plate 24, and the fixing screw 25 are connected. Not exclusively. As the connection state between the diffusion pipe 22 and the carrier gas supply pipe 31, various methods can be adopted as long as the diffusion pipe 22 and the carrier gas supply pipe 31 can be connected without a gap.

図6は、拡散管22とキャリアガス供給配管31との接続状態の変形例を示す模式図である。
図6に示すように、拡散管22とキャリアガス供給配管31とは、ゴム栓23Aを用いて接続されている。拡散管22の出口近傍にはゴムリング23が嵌め込まれている。
FIG. 6 is a schematic diagram showing a modification of the connection state between the diffusion pipe 22 and the carrier gas supply pipe 31.
As shown in FIG. 6, the diffusion tube 22 and the carrier gas supply pipe 31 are connected using a rubber plug 23A. A rubber ring 23 is fitted in the vicinity of the outlet of the diffusion tube 22.

ゴム栓23Aの内径は、拡散管22の外径よりも小さくなっている。このため、拡散管22はゴム栓23Aに圧入される。これにより、拡散管22の外壁面とゴム栓23Aの内側部分とが隙間なく密着する。   The inner diameter of the rubber plug 23 </ b> A is smaller than the outer diameter of the diffusion tube 22. For this reason, the diffusion tube 22 is press-fitted into the rubber plug 23A. Thereby, the outer wall surface of the diffusion tube 22 and the inner portion of the rubber plug 23A are in close contact with each other without any gap.

キャリアガス供給配管31において拡散管22が挿通される部分にはゴム栓23Aの外径よりも径の小さい開口が形成されている。ゴム栓23Aに圧入された拡散管22とキャリアガス供給配管31とは、ゴム栓23Aが前記開口に圧入された状態で固定されている。これにより、キャリアガス供給配管31の開口とゴム栓23Aの外側部分とが隙間なく密着する。   An opening having a diameter smaller than the outer diameter of the rubber plug 23 </ b> A is formed in a portion where the diffusion pipe 22 is inserted in the carrier gas supply pipe 31. The diffusion tube 22 and the carrier gas supply pipe 31 that are press-fitted into the rubber plug 23A are fixed in a state where the rubber plug 23A is press-fitted into the opening. Thereby, the opening of the carrier gas supply pipe 31 and the outer portion of the rubber plug 23A are in close contact with each other without a gap.

このような構成においても、拡散管22とキャリアガス供給配管31とは隙間なく接続される。このため、拡散管22とキャリアガス供給配管31との気密性を高めることができる。   Even in such a configuration, the diffusion pipe 22 and the carrier gas supply pipe 31 are connected without a gap. For this reason, the airtightness of the diffusion pipe 22 and the carrier gas supply pipe 31 can be improved.

また、本実施形態においては、乱流発生機構9が、混合ガス供給配管42の下流側の部分を複数箇所で折り曲げることによって構成された例を挙げて説明したが、これに限らない。乱流発生機構9は、混合ガス供給配管42の下流側の部分を流れる流体の流れの状態を時間的、空間的に不規則に変動させることができる構成であれば、種々の構成を採用することができる。   In the present embodiment, the turbulent flow generation mechanism 9 has been described with reference to an example in which the downstream portion of the mixed gas supply pipe 42 is bent at a plurality of locations. However, the present invention is not limited thereto. The turbulent flow generation mechanism 9 adopts various configurations as long as it can vary the flow state of the fluid flowing through the downstream portion of the mixed gas supply pipe 42 irregularly in time and space. be able to.

図7は、乱流発生機構の変形例を示す模式図である。
図7(a)は乱流発生機構の第1変形例を示す図であり、混合ガス供給配管90Aの下流側の部分を流体の流れ方向と直交する平面で切断した断面図である。
FIG. 7 is a schematic diagram showing a modification of the turbulent flow generation mechanism.
FIG. 7A is a diagram showing a first modification of the turbulent flow generation mechanism, and is a cross-sectional view of a downstream portion of the mixed gas supply pipe 90A cut along a plane perpendicular to the fluid flow direction.

図7(a)に示すように、第1変形例に係る乱流発生機構9Aは、混合ガス供給配管90Aの内部に格子状の網91Aが張られて構成されている。これにより、混合ガスは、乱流発生機構9Aを通過する過程で、網91Aに形成された複数の矩形状の仕切り部分に衝突して乱流となる。   As shown in FIG. 7A, the turbulent flow generation mechanism 9A according to the first modified example is configured such that a lattice-like net 91A is stretched inside a mixed gas supply pipe 90A. As a result, the mixed gas collides with a plurality of rectangular partition portions formed in the net 91A in the process of passing through the turbulent flow generation mechanism 9A and becomes turbulent.

このような構成においても、キャリアガスと希釈ガスを均一に混合することができる。よって、低濃度のにおい分子20を安定的に供給することが容易となる。   Even in such a configuration, the carrier gas and the dilution gas can be mixed uniformly. Therefore, it becomes easy to stably supply the odor molecule 20 having a low concentration.

図7(b)は乱流発生機構の第2変形例を示す図であり、混合ガス供給配管90Bの下流側の部分を流体の流れ方向と平行な平面で切断した断面図である。   FIG. 7B is a diagram showing a second modification of the turbulent flow generation mechanism, and is a cross-sectional view in which a downstream portion of the mixed gas supply pipe 90B is cut along a plane parallel to the fluid flow direction.

図7(b)に示すように、第2変形例に係る乱流発生機構9Bは、混合ガス供給配管90Bの内壁面に複数の楕円形状のフィン91Bが形成されて構成されている。複数のフィン91Bは所定の間隔を空けて配置されている。これにより、混合ガスは、乱流発生機構9Bを通過する過程で、複数のフィン91Bに衝突して乱流となる。   As shown in FIG. 7B, the turbulent flow generation mechanism 9B according to the second modification is configured by forming a plurality of elliptical fins 91B on the inner wall surface of the mixed gas supply pipe 90B. The plurality of fins 91 </ b> B are arranged at a predetermined interval. Thereby, the mixed gas collides with the plurality of fins 91B and becomes turbulent in the process of passing through the turbulent flow generation mechanism 9B.

このような構成においても、キャリアガスと希釈ガスを均一に混合することができる。よって、低濃度のにおい分子20を安定的に供給することが容易となる。   Even in such a configuration, the carrier gas and the dilution gas can be mixed uniformly. Therefore, it becomes easy to stably supply the odor molecule 20 having a low concentration.

(第2実施形態)
図8は、本発明の第2実施形態に係るガス供給装置1Aを示す模式図である。
図8に示すように、本実施形態に係るガス供給装置1Aは、複数の収容部2A(第1収容部2A1ないし第n収容部2An)を有する点、複数の収容部2Aに対応する複数のキャリアガス供給装置3A(第1キャリアガス供給装置3A1ないし第nキャリアガス供給装置3An)を有する点、複数の収容部2Aに対応する複数の測定装置6A(第1測定装置6A1ないし第n測定装置6An)を有する点、複数のキャリアガス供給配管31Aに対応する複数のキャリアガス制御弁34A(第1キャリアガス制御弁34A1ないし第nキャリアガス制御弁34An)有する点、複数のキャリアガス供給配管31Aに対応する複数のキャリアガス排気弁35A(第1キャリアガス排気弁35A1ないし第nキャリアガス排気弁35An)有する点、で上述の第1実施形態に係るガス供給装置1と異なっている。その他の点は上述の構成と同様であるので、図1と同様の要素には同一の符号を付し、詳細な説明は省略する。なお、図8においては、便宜上、収容部2Aを構成する容器、拡散管の図示を省略する。
(Second Embodiment)
FIG. 8 is a schematic view showing a gas supply apparatus 1A according to the second embodiment of the present invention.
As shown in FIG. 8, the gas supply apparatus 1A according to the present embodiment includes a plurality of accommodating portions 2A (first accommodating portion 2A1 to nth accommodating portion 2An), and a plurality of accommodating portions 2A corresponding to the plurality of accommodating portions 2A. A plurality of measurement devices 6A (first measurement devices 6A1 to nth measurement devices) corresponding to the plurality of accommodating portions 2A, including a carrier gas supply device 3A (first carrier gas supply device 3A1 to nth carrier gas supply device 3An). 6An), a plurality of carrier gas control valves 34A (first carrier gas control valve 34A1 to nth carrier gas control valve 34An) corresponding to the plurality of carrier gas supply pipes 31A, and a plurality of carrier gas supply pipes 31A. A plurality of carrier gas exhaust valves 35A (first carrier gas exhaust valve 35A1 to nth carrier gas exhaust valve 35An) corresponding to In is different from the gas supply apparatus 1 according to the first embodiment described above. Since the other points are the same as the above-described configuration, the same elements as those in FIG. In FIG. 8, for convenience sake, the illustration of the container and the diffusion tube constituting the housing portion 2A is omitted.

図8に示すように、本実施形態に係るガス供給装置1Aは、ガス供給部10Aと、希釈ガス供給装置4と、ダミーガス供給装置5と、演算装置7と、制御装置8と、混合ガス供給配管42と、乱流発生機構9と、を備えて構成されている。   As shown in FIG. 8, a gas supply device 1A according to the present embodiment includes a gas supply unit 10A, a dilution gas supply device 4, a dummy gas supply device 5, a calculation device 7, a control device 8, and a mixed gas supply. A pipe 42 and a turbulent flow generation mechanism 9 are provided.

ガス供給部10Aは、複数の収容部2Aと、複数の収容部2Aに対応する複数のキャリアガス供給装置3Aと、複数の収容部2Aに対応する複数の測定装置6Aと、を備えている。複数の収容部2Aにはそれぞれ異なる種類のにおい分子が収容されている   The gas supply unit 10A includes a plurality of storage units 2A, a plurality of carrier gas supply devices 3A corresponding to the plurality of storage units 2A, and a plurality of measurement devices 6A corresponding to the plurality of storage units 2A. Different types of odor molecules are accommodated in the plurality of accommodating portions 2A.

本実施形態においても、におい分子としては種々のものを用いることができる。例えば、複数の収容部2Aとして4つの収容部(第1収容部2A1、第2収容部2A2、第3収容部2A3及び第4収容部2A4)を用いる場合を考える。この場合、第1収容部2A1においてはにおい分子としてエタノールを用い、第2収容部2A2においてはにおい分子としてアセトアルデヒドを用い、第3収容部2A3においてはアセトンを用い、第4収容部2A4においてはにおい分子としてスルフィドを用いる。これにより、人の呼気中のアルコール検知を想定した混合ガスを得ることができる。   Also in this embodiment, various odor molecules can be used. For example, consider a case where four accommodating portions (first accommodating portion 2A1, second accommodating portion 2A2, third accommodating portion 2A3, and fourth accommodating portion 2A4) are used as the plurality of accommodating portions 2A. In this case, ethanol is used as the odor molecule in the first container 2A1, acetaldehyde is used as the odor molecule in the second container 2A2, acetone is used in the third container 2A3, and odor is used in the fourth container 2A4. Sulfide is used as the molecule. Thereby, the mixed gas which assumed alcohol detection in a person's expiration can be obtained.

なお、複数の収容部2Aとして5つ以上の収容部(第1収容部2A1、第2収容部2A2、第3収容部2A3及び第4収容部2A4、第5収容部2A5、・・・第n収容部2An)を用いてもよい。この場合、第1収容部2A1においてはにおい分子としてエタノールを用い、第2収容部2A2においてはにおい分子としてアセトアルデヒドを用い、第3収容部2A3においてはアセトンを用い、第4収容部2A4においてはにおい分子としてスルフィドを用い、第5収容部2A5ないし第n収容部2Anにおいてはにおい分子として人の呼気中のアルコール検知を想定した混合ガスを構成するにおい分子と異なるものを用いる。このような構成においても、第5収容部2A5ないし第n収容部2Anに対応する複数のキャリアガス供給装置3A(第5キャリアガス供給装置3A5ないし第nキャリアガス供給装置3An)からキャリアガスが供給されないように制御を行えば、人の呼気中のアルコール検知を想定した混合ガスを得ることができる。   In addition, five or more accommodating parts (1st accommodating part 2A1, 2nd accommodating part 2A2, 3rd accommodating part 2A3 and 4th accommodating part 2A4, 5th accommodating part 2A5, ... nth as several accommodating part 2A. A housing part 2An) may be used. In this case, ethanol is used as the odor molecule in the first container 2A1, acetaldehyde is used as the odor molecule in the second container 2A2, acetone is used in the third container 2A3, and odor is used in the fourth container 2A4. Sulfide is used as a molecule, and in the fifth container 2A5 to nth container 2An, a odor molecule different from an odor molecule constituting a mixed gas assuming alcohol detection in human breath is used. Even in such a configuration, the carrier gas is supplied from the plurality of carrier gas supply devices 3A (fifth carrier gas supply device 3A5 to nth carrier gas supply device 3An) corresponding to the fifth storage portion 2A5 to the nth storage portion 2An. If control is performed so as not to be performed, it is possible to obtain a mixed gas that is supposed to detect alcohol in a person's breath.

複数のキャリアガス供給装置3Aのそれぞれには、キャリアガス用流量制御装置30A(第1キャリアガス用流量制御装置30A1ないし第nキャリアガス用流量制御装置30An)、キャリアガス供給配管31A(第1キャリアガス供給配管31A1ないし第nキャリアガス供給配管31An)、キャリアガス排気管33A(第1キャリアガス排気管33A1ないし第nキャリアガス排気管33An)、キャリアガス制御弁34A(第1キャリアガス制御弁34A1ないし第nキャリアガス制御弁34An)、キャリアガス排気弁35A(第1キャリアガス排気弁35A1ないし第nキャリアガス排気弁35An)、が設けられている。   Each of the plurality of carrier gas supply devices 3A includes a carrier gas flow control device 30A (first carrier gas flow control device 30A1 to n-th carrier gas flow control device 30An), a carrier gas supply pipe 31A (first carrier gas). Gas supply pipe 31A1 to n-th carrier gas supply pipe 31An), carrier gas exhaust pipe 33A (first carrier gas exhaust pipe 33A1 to n-th carrier gas exhaust pipe 33An), carrier gas control valve 34A (first carrier gas control valve 34A1) Thru | or nth carrier gas control valve 34An) and carrier gas exhaust valve 35A (1st carrier gas exhaust valve 35A1 thru | or nth carrier gas exhaust valve 35An) are provided.

複数のキャリアガス用流量制御装置30Aに対応して複数のキャリアガス供給配管31Aが配置されている。複数のキャリアガス用流量制御装置30Aは、制御装置8の制御信号に基づいて、それぞれのキャリアガス供給配管31A(第1キャリアガス供給配管31A1ないし第nキャリアガス供給配管31An)内のキャリアガスの流量を制御する。   A plurality of carrier gas supply pipes 31A are arranged corresponding to the plurality of carrier gas flow control devices 30A. The plurality of carrier gas flow control devices 30A, based on the control signal of the control device 8, are used for the carrier gas in each carrier gas supply pipe 31A (the first carrier gas supply pipe 31A1 to the nth carrier gas supply pipe 31An). Control the flow rate.

例えば、制御装置8は以下の制御を行う。
複数のキャリアガス供給配管31Aから供給されるキャリアガスと希釈ガス供給配管41から供給される希釈ガスとを混合させる場合には、それぞれのキャリアガス用流量制御装置30Aから所定の流量のキャリアガスが供給されるように制御する。このとき、ダミーガス制御弁54を閉じた状態に制御しかつダミーガス排気弁55を開いた状態に制御する。
一方、複数のキャリアガス供給配管31Aのうち一部のキャリアガス供給配管(例えば第1キャリアガス供給配管31A1)から供給されるキャリアガスと希釈ガス供給配管41から供給される希釈ガスとを混合させない場合には、前記一部のキャリアガス供給配管に対応したキャリアガス用流量制御装置(例えば第1キャリアガス用流量制御装置30A1)からキャリアガスが供給されないように制御する。このとき、ダミーガス制御弁54を開いた状態に制御しかつキャリアガス排気弁55を閉じた状態に制御する。
For example, the control device 8 performs the following control.
When mixing the carrier gas supplied from the plurality of carrier gas supply pipes 31A and the dilution gas supplied from the dilution gas supply pipe 41, a carrier gas having a predetermined flow rate is supplied from each carrier gas flow control device 30A. Control to be supplied. At this time, the dummy gas control valve 54 is controlled to be closed and the dummy gas exhaust valve 55 is controlled to be opened.
On the other hand, the carrier gas supplied from a part of the plurality of carrier gas supply pipes 31A (for example, the first carrier gas supply pipe 31A1) and the dilution gas supplied from the dilution gas supply pipe 41 are not mixed. In such a case, control is performed so that the carrier gas is not supplied from the carrier gas flow control device (for example, the first carrier gas flow control device 30A1) corresponding to the part of the carrier gas supply piping. At this time, the dummy gas control valve 54 is controlled to be opened and the carrier gas exhaust valve 55 is controlled to be closed.

例えば、ダミーガス用流量制御装置50は、ダミーガスの流量を複数のキャリアガス供給配管31Aから供給されるキャリアガスの流量と同量の流量に制御する。言い換えると、ダミーガス用流量制御装置50は、複数のキャリアガス供給配管31Aから本来供給されるべきキャリアガスの流量が所定の値に満たないときに、その不足分に相当する流量のダミーガスを供給するよう制御する。ここでは、複数のキャリアガス供給配管31Aのうち一部のキャリアガス供給配管(例えば第1キャリアガス供給配管31A1)から供給されるキャリアガスと希釈ガス供給配管41から供給される希釈ガスとを混合させない場合には、第1キャリアガス供給配管31A1から本来供給されるべきキャリアガスの流量に相当する流量のダミーガスを供給するよう制御する。これにより、複数のキャリアガス供給配管31Aから供給されるキャリアガスの流量及び希釈ガス供給配管41から供給される希釈ガスの流量の総流量が常時一定になるよう調整される。   For example, the dummy gas flow control device 50 controls the flow rate of the dummy gas to the same amount as the flow rate of the carrier gas supplied from the plurality of carrier gas supply pipes 31A. In other words, the dummy gas flow control device 50 supplies a dummy gas having a flow rate corresponding to the shortage when the flow rate of the carrier gas to be originally supplied from the plurality of carrier gas supply pipes 31A is less than a predetermined value. Control as follows. Here, the carrier gas supplied from a part of the plurality of carrier gas supply pipes 31A (for example, the first carrier gas supply pipe 31A1) and the dilution gas supplied from the dilution gas supply pipe 41 are mixed. If not, control is performed so as to supply a dummy gas having a flow rate corresponding to the flow rate of the carrier gas to be originally supplied from the first carrier gas supply pipe 31A1. Thus, the total flow rate of the carrier gas supplied from the plurality of carrier gas supply pipes 31A and the flow rate of the dilution gas supplied from the dilution gas supply pipe 41 is adjusted to be always constant.

なお、制御装置8は以下の制御を行うこともできる。
複数のキャリアガス供給配管31Aから供給されるキャリアガスと希釈ガス供給配管41から供給される希釈ガスとを混合させる場合には、複数のキャリアガス制御弁34Aを開いた状態に制御しかつ複数のキャリアガス排気弁35Aを閉じた状態に制御する。このとき、ダミーガス制御弁54を閉じた状態に制御しかつダミーガス排気弁55を開いた状態に制御する。
一方、複数のキャリアガス供給配管31Aのうち一部のキャリアガス供給装置(例えば第1キャリアガス供給配管31A1)から供給されるキャリアガスと希釈ガス供給配管41から供給される希釈ガスとを混合させない場合には、前記一部のキャリアガス供給配管に対応したキャリアガス制御弁(例えば第1キャリアガス制御弁34A1)を閉じた状態に制御しかつ前記一部のキャリアガス供給配管に対応したキャリアガス排気弁(例えば第1キャリアガス排気弁35A1)を開いた状態に制御する。このとき、ダミーガス制御弁54を開いた状態に制御しかつダミーガス排気弁55を閉じた状態に制御する。
The control device 8 can also perform the following control.
When mixing the carrier gas supplied from the plurality of carrier gas supply pipes 31A and the dilution gas supplied from the dilution gas supply pipe 41, the plurality of carrier gas control valves 34A are controlled to be opened and The carrier gas exhaust valve 35A is controlled to be closed. At this time, the dummy gas control valve 54 is controlled to be closed and the dummy gas exhaust valve 55 is controlled to be opened.
On the other hand, the carrier gas supplied from some of the plurality of carrier gas supply pipes 31A (for example, the first carrier gas supply pipe 31A1) and the dilution gas supplied from the dilution gas supply pipe 41 are not mixed. In this case, the carrier gas control valve (for example, the first carrier gas control valve 34A1) corresponding to the part of the carrier gas supply piping is controlled to be closed and the carrier gas corresponding to the part of the carrier gas supply piping is used. The exhaust valve (for example, the first carrier gas exhaust valve 35A1) is controlled to be opened. At this time, the dummy gas control valve 54 is controlled to be opened and the dummy gas exhaust valve 55 is controlled to be closed.

本実施形態のガス供給装置1Aによれば、複数の収容部2Aを有し、複数の収容部2Aにはそれぞれ異なる種類のにおい分子が収容されているため、複数種類のにおい分子を混合させて様々な種類のにおい分子を生成することができる。   According to the gas supply apparatus 1A of the present embodiment, since the plurality of storage units 2A have different types of odor molecules stored therein, the plurality of types of odor molecules are mixed. Various types of odor molecules can be generated.

また、この構成によれば、複数種類のにおい分子のうち所望のにおい分子を選択して混合させ様々な種類のにおい分子を生成することができる。また、複数種類のにおい分子に対応するキャリアガスの供給量を調整すれば、それぞれのキャリアガスに含まれるにおい分子の混合比を変えて所望のにおい分子を生成することもできる。   Further, according to this configuration, various kinds of odor molecules can be generated by selecting and mixing desired odor molecules among a plurality of kinds of odor molecules. Further, if the supply amount of the carrier gas corresponding to a plurality of types of odor molecules is adjusted, a desired odor molecule can be generated by changing the mixing ratio of the odor molecules contained in each carrier gas.

低濃度のにおい分子を安定して供給するに際しては、低濃度のにおい分子が供給される条件や雰囲気を一定の状態に維持することが重要である。この構成によれば、キャリアガスが混合ガス供給配管42に供給されないようにキャリアガスを排気することができる。これにより、低濃度のにおい分子が供給される条件や雰囲気を一定の状態に維持することができる。よって、低濃度のにおい分子を安定的に供給することができる。   In order to stably supply a low concentration of odor molecules, it is important to maintain the conditions and atmosphere under which the low concentration of odor molecules are supplied in a constant state. According to this configuration, the carrier gas can be exhausted so that the carrier gas is not supplied to the mixed gas supply pipe 42. Thereby, the conditions and atmosphere in which low concentration odor molecules are supplied can be maintained in a constant state. Therefore, a low concentration odor molecule can be supplied stably.

また、この構成によれば、キャリアガスの供給量を常時一定にした状態でキャリアガスが混合ガス供給配管42に供給されないようにキャリアガスを排気することができる。これにより、低濃度のにおい分子が供給される条件や雰囲気を一定の状態に維持することができる。よって、低濃度のにおい分子を安定的に供給することができる。   Further, according to this configuration, the carrier gas can be exhausted so that the carrier gas is not supplied to the mixed gas supply pipe 42 in a state where the supply amount of the carrier gas is always constant. Thereby, the conditions and atmosphere in which low concentration odor molecules are supplied can be maintained in a constant state. Therefore, a low concentration odor molecule can be supplied stably.

また、この構成によれば、複数種類のにおい分子のうち所望のにおい分子を選択して混合させ様々な種類のにおい分子を生成することができる。また、複数種類のにおい分子に対応するキャリアガスの流量を調整すれば、それぞれのキャリアガスに含まれるにおい分子の混合比を変えて所望のにおい分子を生成することもできる。   Further, according to this configuration, various kinds of odor molecules can be generated by selecting and mixing desired odor molecules among a plurality of kinds of odor molecules. Further, by adjusting the flow rate of the carrier gas corresponding to a plurality of types of odor molecules, desired odor molecules can be generated by changing the mixing ratio of the odor molecules contained in each carrier gas.

1,1A…ガス供給装置、2,2A…収容部、6,6A…測定装置、7…演算装置、8…制御装置、9,9A,9B…乱流発生機構、20…におい分子(においの原因となる物質)、21…容器、22…拡散管、31,31A…キャリアガス供給配管(第1配管)、41…希釈ガス供給配管(第2配管)、42,90A,90B…混合ガス供給配管(第3配管)、51…ダミーガス供給配管(第4配管)、34,34A…キャリアガス制御弁、35,35A…キャリアガス排気弁、54…ダミーガス制御弁、55…ダミーガス排気弁 DESCRIPTION OF SYMBOLS 1,1A ... Gas supply device, 2, 2A ... Accommodating part, 6, 6A ... Measuring device, 7 ... Arithmetic device, 8 ... Control device, 9, 9A, 9B ... Turbulence generating mechanism, 20 ... Odor molecule (odor (Causative substance), 21 ... container, 22 ... diffusion pipe, 31, 31A ... carrier gas supply pipe (first pipe), 41 ... dilution gas supply pipe (second pipe), 42, 90A, 90B ... mixed gas supply Piping (third piping), 51 ... dummy gas supply piping (fourth piping), 34, 34A ... carrier gas control valve, 35, 35A ... carrier gas exhaust valve, 54 ... dummy gas control valve, 55 ... dummy gas exhaust valve

Claims (21)

においの原因となる物質を収容する収容部と、
前記収容部から放出された前記物質をキャリアガスにのせて供給する第1配管と、
希釈ガスを供給する第2配管と、
前記第1配管から供給された前記物質を含む前記キャリアガスと前記第2配管から供給された前記希釈ガスとが少なくとも混合された混合ガスを供給する第3配管と、
前記収容部の質量を測定する測定装置と、
前記測定装置で測定された前記収容部の質量の時間変化に基づいて、前記収容部から放出された前記物質の量を演算する演算装置と、
前記演算装置で演算された前記物質の量に基づいて、前記混合ガス内の前記物質の濃度が所望の濃度になるように、前記第1配管内を流れる前記キャリアガスの流量と前記第2配管内を流れる前記希釈ガスの流量との少なくとも一方の流量を制御する制御装置と、
を含むガス供給装置。
A storage section for storing substances that cause odors;
A first pipe for supplying the substance released from the container on a carrier gas;
A second pipe for supplying dilution gas;
A third pipe for supplying a mixed gas in which at least the carrier gas containing the substance supplied from the first pipe and the dilution gas supplied from the second pipe are mixed;
A measuring device for measuring the mass of the accommodating portion;
An arithmetic device that calculates the amount of the substance released from the container based on the time change of the mass of the container measured by the measuring device;
Based on the amount of the substance calculated by the arithmetic unit, the flow rate of the carrier gas flowing in the first pipe and the second pipe so that the concentration of the substance in the mixed gas becomes a desired concentration. A control device for controlling a flow rate of at least one of the flow rates of the dilution gas flowing in the interior;
Including gas supply device.
前記収容部は、
前記物質を収容する容器と、
前記容器から放出された前記物質を拡散させる拡散管と、を含む請求項1に記載のガス供給装置。
The accommodating portion is
A container containing the substance;
The gas supply apparatus according to claim 1, further comprising a diffusion tube that diffuses the substance released from the container.
前記拡散管は前記容器に取り外し可能に接続されている請求項2に記載のガス供給装置。   The gas supply device according to claim 2, wherein the diffusion tube is detachably connected to the container. 前記容器は前記物質と化学反応しない材料で形成されている請求項2または3に記載のガス供給装置。   The gas supply apparatus according to claim 2 or 3, wherein the container is formed of a material that does not chemically react with the substance. 前記物質は液体状態で前記容器に収容されており、
前記拡散管は、液体状態の前記物質から揮発された気体と化学反応しない材料で形成されている請求項2ないし4のいずれか一項に記載のガス供給装置。
The substance is contained in the container in a liquid state;
5. The gas supply device according to claim 2, wherein the diffusion tube is formed of a material that does not chemically react with a gas volatilized from the substance in a liquid state.
前記容器の内壁面及び前記拡散管の内壁面は撥液処理されている請求項5に記載のガス供給装置。   The gas supply device according to claim 5, wherein an inner wall surface of the container and an inner wall surface of the diffusion tube are subjected to a liquid repellent treatment. 前記演算装置は、前記測定装置が第1の時刻t1に測定した前記収容部の質量をm1、前記測定装置が前記第1の時刻t1から所定時間経過後の第2の時刻t2に測定した前記収容部の質量をm2、前記物質の分子量をw、大気圧をP、前記収容部が前記物質を収容する空間の体積をV、前記物質の物質量をn、気体定数をR、前記拡散管の内部の温度をK、前記拡散管の出口における前記物質の流量をD1、前記第1配管から前記第3配管に供給される前記キャリアガスの流量及び前記第2配管から前記第3配管に供給される前記希釈ガスの流量の総流量をD2、前記第2の時刻t2における前記第3配管内を流れる前記混合ガス内の前記物質の濃度をGとしたとき、下記(1)式、(2)式、(3)式及び(4)式によって前記第3配管内を流れる前記混合ガス内の前記物質の濃度を演算する請求項2ないし6のいずれか一項に記載のガス供給装置。
PV=nRT ・・・(1)
n=(m1−m2)/w ・・・(2)
D1=V/(t2−t1) ・・・(3)
G=D1/D2 ・・・(4)
The computing device measures the mass of the housing portion measured by the measuring device at the first time t1, and the measuring device measures the second time t2 after a predetermined time has elapsed from the first time t1. The mass of the accommodating part is m2, the molecular weight of the substance is w, the atmospheric pressure is P, the volume of the space in which the accommodating part accommodates the substance is V, the substance amount of the substance is n, the gas constant is R, the diffusion tube The temperature inside is K, the flow rate of the substance at the outlet of the diffusion tube is D1, the flow rate of the carrier gas supplied from the first pipe to the third pipe, and the second pipe is supplied to the third pipe When the total flow rate of the dilution gas is D2, and the concentration of the substance in the mixed gas flowing through the third pipe at the second time t2 is G, the following equation (1), (2 ), (3) and (4), the third pipe It claims 2 to calculate the concentration of the substance in the mixture in the gas flowing to the gas supply device according to any one of 6.
PV = nRT (1)
n = (m1-m2) / w (2)
D1 = V / (t2-t1) (3)
G = D1 / D2 (4)
前記測定装置の最低測定能は1mg以下である請求項1ないし7のいずれか一項に記載のガス供給装置。   The gas supply device according to any one of claims 1 to 7, wherein a minimum measuring ability of the measuring device is 1 mg or less. 前記第3配管には、前記第3配管内を流れる前記混合ガスに乱流を発生させる乱流発生機構が設けられている請求項1ないし8のいずれか一項に記載のガス供給装置。   The gas supply device according to any one of claims 1 to 8, wherein the third pipe is provided with a turbulent flow generation mechanism that generates a turbulent flow in the mixed gas flowing in the third pipe. 前記第1配管に、前記第1配管から前記第3配管への前記キャリアガスの供給量を制御するキャリアガス制御弁が設けられている請求項1ないし9のいずれか一項に記載のガス供給装置。   The gas supply according to any one of claims 1 to 9, wherein a carrier gas control valve for controlling a supply amount of the carrier gas from the first pipe to the third pipe is provided in the first pipe. apparatus. 前記第1配管に、前記キャリアガス制御弁によって前記第3配管への供給が阻止された前記キャリアガスを排気するキャリアガス排気弁が設けられている請求項10に記載のガス供給装置。   The gas supply device according to claim 10, wherein a carrier gas exhaust valve that exhausts the carrier gas that has been prevented from being supplied to the third pipe by the carrier gas control valve is provided in the first pipe. 前記第1配管には、常時一定の流量の前記キャリアガスが供給される請求項11に記載のガス供給装置。   The gas supply device according to claim 11, wherein the carrier gas having a constant flow rate is always supplied to the first pipe. 互いに異なる種類の物質を収容した複数の前記収容部が設けられ、前記第1配管は、複数の前記収容部の各々に対応して複数設けられており、前記第3配管には、複数の前記収容部から放出された前記物質を含む複数の前記キャリアガスが供給されるようになっている請求項1ないし9のいずれか一項に記載のガス供給装置。   A plurality of the accommodating portions that accommodate different types of substances are provided, and a plurality of the first pipes are provided corresponding to each of the plurality of the accommodating portions, and the third pipe includes a plurality of the plurality of the above-described accommodating portions. The gas supply device according to any one of claims 1 to 9, wherein a plurality of the carrier gases containing the substance released from the storage portion are supplied. 複数の前記第1配管の各々に、前記第1配管から前記第3配管への前記キャリアガスの供給量を制御するキャリアガス制御弁が設けられている請求項13に記載のガス供給装置。   The gas supply device according to claim 13, wherein a carrier gas control valve that controls a supply amount of the carrier gas from the first pipe to the third pipe is provided in each of the plurality of first pipes. 複数の前記第1配管の各々に、前記キャリアガス制御弁によって前記第3配管への供給が阻止された前記キャリアガスを排気するキャリアガス排気弁が設けられている請求項14に記載のガス供給装置。   The gas supply according to claim 14, wherein each of the plurality of first pipes is provided with a carrier gas exhaust valve that exhausts the carrier gas blocked from being supplied to the third pipe by the carrier gas control valve. apparatus. 複数の前記第1配管の各々には、常時一定の流量の前記キャリアガスが供給される請求項15に記載のガス供給装置。   The gas supply device according to claim 15, wherein the carrier gas is constantly supplied at a constant flow rate to each of the plurality of first pipes. 前記第3配管にダミーガスを供給する第4配管を備え、前記制御装置は、前記第3配管内を流れる前記ダミーガス、前記キャリアガス及び前記希釈ガスを含む前記混合ガスの流量が常時一定となるように、前記第4配管から前記第3配管に供給されるダミーガスの流量を制御する請求項1ないし16のいずれか一項に記載のガス供給装置。   A fourth pipe for supplying a dummy gas to the third pipe; and the control device is configured so that the flow rate of the mixed gas including the dummy gas, the carrier gas, and the dilution gas flowing through the third pipe is always constant. The gas supply device according to any one of claims 1 to 16, wherein the flow rate of the dummy gas supplied from the fourth pipe to the third pipe is controlled. 前記第4配管に、前記第4配管から前記第3配管への前記ダミーガスの供給量を制御するダミーガス制御弁と、前記ダミーガス制御弁によって前記第3配管への供給が阻止された前記ダミーガスを排気するダミーガス排気弁と、が設けられている請求項17に記載のガス供給装置。   A dummy gas control valve for controlling the supply amount of the dummy gas from the fourth pipe to the third pipe, and the dummy gas blocked from being supplied to the third pipe by the dummy gas control valve are exhausted to the fourth pipe. The gas supply apparatus according to claim 17, wherein a dummy gas exhaust valve is provided. 前記第4配管には、常時一定の流量のダミーガスが供給される請求項18に記載のガス供給装置。   The gas supply device according to claim 18, wherein a dummy gas having a constant flow rate is always supplied to the fourth pipe. 前記キャリアガス、前記希釈ガス及び前記ダミーガスとして互いに同じガスが用いられている請求項17ないし19のいずれか一項に記載のガス供給装置。   The gas supply device according to any one of claims 17 to 19, wherein the same gas is used as the carrier gas, the dilution gas, and the dummy gas. 前記キャリアガス、前記希釈ガス及び前記ダミーガスとして用いられるガスは、空気または窒素である請求項20に記載のガス供給装置。
The gas supply device according to claim 20, wherein the gas used as the carrier gas, the dilution gas, and the dummy gas is air or nitrogen.
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