JP2013020105A - 表示装置 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】第一の基板20と、第二の基板30と、複数の画素PIXと、複数の画素PIXの各々に形成されたシャッタ機構部32と、第一の基板20と第二の基板30との間に封入された流体Lと、第一の基板20または第二の基板30の一方の基板の流体Lとは反対側に形成された緩衝部40とを有する表示装置1であって、シャッタ機構部32は第二の基板30に形成され、且つ、可動すると共に画素PIXの光透過率を制御するシャッタ部31を有し、緩衝部40は、一方の基板の流体Lとは反対側に対向する第三の基板41と、一方の基板と第三の基板41とを貼り合せるシール部42と、一方の基板と第三の基板41とシール部42との間に形成された所定の間隙とを有する。
【選択図】図5
Description
図1は、本発明の実施の形態にかかる表示装置1の全体構成の模式図である。図2は、図1に示した表示パネル10の一部断面を示した斜視図である。図3は、図2に示したシャッタ機構部32の拡大斜視図である。図4は、図1に示した表示パネル10の表示領域ARの等価回路図である。
本発明の実施の形態にかかる表示装置1は、表示パネル10、照明装置50、制御部60を有してなる。
表示パネル10は、図1および図2に示すように、第一の基板20と、第二の基板30と、第一の基板20と第二の基板30とに挟持される後述する作動流体Lと、緩衝部40とを有してなる。
第一の基板20は、表示パネル10の背面側に設けられ、画素毎で光を透過させることが可能な基板である。この第一の基板20は、ガラス等からなる後述する光透過性基板SUB1の上面に後述する光吸収性樹脂膜BM(遮光膜)が蒸着されている。この光吸収性樹脂膜BMには、例えば、カーボンブラックあるいはチタンブラック等の光吸収性の材料が用いられる。この光吸収性樹脂膜BMは、光透過性基板SUS1の上面のほぼ全域に形成されるが、各画素PIXに対応する位置の光吸収性樹脂膜BMは除去されており、光透過部A(開口部)が形成され、この光透過部A(開口部)を介して光が透過されるようになっている。
各走査線GLは、第二の基板30の表示領域ARで図中X方向に延在し、Y方向に並設されてなる。各データ線DLは、走査線GLとの交差部では走査線GLと絶縁されて、図中Y方向に延在し、X方向に並設されてなる。これら各線GL,DLによって囲まれた各領域がそれぞれ画素PIXとなる。
走査ドライバ33は、各走査線GLに例えば図中上から下にかけて順次走査信号を供給するものである。各走査線GLは、その一端が延在され、走査ドライバ33に接続されている。
データドライバ34は、走査信号の供給タイミングに合わせて、各データ線DLに映像信号を供給するものである。
このシャッタ機構部32は、図3に示すように、シャッタ部31およびアクチュエータ部35を有してなる。
開アクチュエータ36は、シャッタ部31を開くように、すなわち照明装置50の光を通過させるように駆動させるものである。より具体的には、開アクチュエータ36は、シャッタ部31に形成された二つの開口31aが光透過部Aと向かい合う位置にシャッタ部31を移動させる。この開アクチュエータ36は、第一電極部361および第二電極部362を有してなる。
第一電位印加部361aは、支柱部361aaを有してなり電位が印加される部分である。
一対の第一可動部361bは、一端が第一電位印加部361aの支柱部361aa上部に繋がる固定端となり、他端が自由端となっている。各第一可動部361bは、自由端が第二電極部362の後述する直線部362bbに可及的に近づくように形成されている。
一対の第二電位印加部362aは、支柱部362aaを有してなり、電位が印加される部分である。
各第二可動部362bは、一端が第二電位印加部362aの支柱部362aa上部に繋がり、他端がシャッタ部31に繋がってなる。この第二可動部362bは、シャッタ部31の短手方向の端面に平行に形成された直線部362bbを有してなる。
第一電位印加部361aと、第二電位印加部362aとが所定以上の電位差となるように電位が印加されることによって、一対の第一可動部361bと、一対の第二可動部362bとが、距離の近い第一可動部361bの自由端側から貼りつくので、シャッタ部31が開アクチュエータ36側に移動される。このようにして移動されたシャッタ部31は、その開口31aが後述する光透過部Aと向かい合う位置に移動配置される。
第一電位印加部371aは、支柱部371aaを有してなり電位が印加される部分である。
一対の第一可動部371bは、一端が第一電位印加部371aの支柱部371aa上部に繋がる固定端となり、他端が自由端となっている。各第一可動部371bは、自由端が第二電極部372の後述する直線部372bbに可及的に近づくように形成されている。
一対の第二電位印加部372aは、支柱部372aaを有してなり、電位を印加される部分である。
各第二可動部372bは、一端が第二電位印加部372aの支柱部372aa上部に繋がり、他端がシャッタ部31に繋がってなる。この第二可動部372bは、シャッタ部31の短手方向の端面に平行に形成された直線部372bbを有してなる。
第一電位印加部371aと、第二電位印加部372aとが所定以上の電位差となるように電位が印加させることによって、一対の第一可動部371bと、一対の第二可動部372bとが、距離の近い第一可動部371bの自由端側から貼りつくので、シャッタ部31が閉アクチュエータ37側に移動される。このようにして移動されたシャッタ部31は、遮光部31bが後述する光透過部Aと向かい合う位置に移動配置される。
このようなシャッタ機構部32によって、シャッタ部31が移動されることによって各画素PIXを透過する光の強度が制御されるようになっている。
光透過性基板41は、例えば、ガラス等からなる光透過性の基板である。
シール部42は、例えば、ビーズ状のスペーサが混入された合成樹脂からなり、収容空間43(所定の間隙)内に作動流体Lを封止し、かつ第二の基板30と光透過性基板41とを所定の間隔を空けて保持するものである。このシール部42は、収容空間43内に作動流体Lを注入するための第二の注入口44を有してなる。この第二の注入口44は、第一の注入口71の近傍(例えば、平面的に見て同じ位置、平面的に見て少なくとも一部が重畳する位置)に配置される。
このような、緩衝部40は、表示パネル10に衝撃が与えられた場合、光透過性基板41と収容空間43内の作動流体Lとによって衝撃を表示パネル10面内に分散させるようになっている。しかも、第二の注入口44が第一の注入口71の近傍に配置されているので、第二の注入口44および第一の注入口71の両方から、第一の基板20と第二の基板30との間、及び緩衝部40の収容空間43の各々に、同時に作動流体Lを注入し易いようになっている。
制御部60は、CPU等によって実現され、表示装置1の上述した各部と電気的に接続され、表示装置1全体の動作を制御する。また、制御部60は、外部システムから入力された映像データを一時的に保持する図示しないメモリ等を有する場合もある。
また、各画素PIXは、二つの薄膜トランジスタTFTおよび二つのキャパシタCを有している。二つの薄膜トランジスタTFTのゲートは、走査線GLに電気的に接続されている。また、二つの薄膜トランジスタTFTのうち一方の薄膜トランジスタTFTのソースは、シャッタ部31を開駆動させる旨の信号を送るデータ線DLに電気的に接続される。この薄膜トランジスタTFTのドレインは、画素PIX内の一つのキャパシタCの一方の電極と、開アクチュエータ36の一方の電位印加部とに並列に電気的に接続される。このキャパシタCのもう一方の電極は接地される。
同様に、画素PIX内のもう一方の薄膜トランジスタTFTのソースは、シャッタ部31を閉駆動させる旨の信号を送るデータ線DLに電気的に接続される。この薄膜トランジスタTFTのドレインは、画素PIX内の一つのキャパシタCの一方の電極と、閉アクチュエータ37の一方の電位印加部とに並列に電気的に接続される。このキャパシタCのもう一方の電極は接地される。
まず、第二の基板30について説明する。なお、便宜上、第二の基板30の第一の基板20側の面を上面として説明する。
第二の基板30は、ガラス等からなる光透過性基板SUB2の上面に、誘電体層DE1が蒸着される。この誘電体層DE1は、例えば、SiО2、Si3N4からなる。
この誘電体層DE1の上面には、第一の導電層E1が蒸着され、複数の走査線GLがパターン形成される。各画素PIX内の走査線GLの一部は、薄膜トランジスタTFTのゲートを形成するようになっている。
誘電体層DE2の上面には、アモルファスシリコン層ASが蒸着され、薄膜トランジスタTFTのソース、ドレイン、およびチャンネル領域がパターン形成されている。
アモルファスシリコン層ASの上面には、第二の導電層E2が蒸着され、複数のデータ線DLがパターン形成される。この第2の導電層E2の一部は、薄膜トランジスタTFTのソースおよびドレイン領域への接点を形成されている。
第二の導電層E2の上面には、誘電体層DE3が蒸着されている。
この誘電体層DE3の上面には、犠牲メカニカル層SDが蒸着されている。犠牲メカニカル層SDおよび誘電体層DE3には、アクチュエータ部35が第二の導電層E2に電気的に接続されるように図示しない導通穴が形成される。
尚、上記に述べた、光透過性基板SUB2上に形成される、シャッタ機構部32を含む各種構成要素及び各種層は、本実施の携帯の一例である。よって、本願発明の光透過性基板SUB2上に形成される各種構成要素及び各種層の構成は、上記で述べた構成に限定されるものではない。
この光吸収性樹脂膜BMとからなる層の各画素PIXに対応する位置に光透過部Aが形成されている。光透過部Aは、光吸収性樹脂膜BMが除去された部分である。光透過部Aは、図6に示すように、長方形状であり、各画素PIXに並列に二つ設けられている。
このような構成の第一の基板20と第二の基板30との間、および収容空間43内に第一の注入口71およびその近傍の第二の注入口44から作動流体Lが注入される。なお、第一の注入口71および第二の注入口44は、作動流体の注入が完了されると図示しない封止材によって開口が封止される。
次に、図7を用いて本発明の実施の形態の表示装置1の変形例1について説明する。図7は、変形例1の表示装置2の表示パネル11の要部断面図および照明装置50を示した図である。
本発明の実施の形態の表示装置1では、収容空間43内に緩衝材として作動流体Lを封止するものを示したが、この変形例1の表示装置2では、収容空間43内に緩衝材を封入していない点で表示装置1と異なる。即ち、本変形例1においては、収容空間43は空気(大気)で満たされている。
なお、その他の構成は実施の形態と同様であり、実施の形態と同一構成部分には同一符号を付している。
次に、図8を用いて本発明の実施の形態の表示装置1の変形例2について説明する。図8は、変形例2の表示装置3の表示パネル12の要部断面図および照明装置50を示した図である。
本発明の実施の形態の表示装置1では、収容空間43内に緩衝材として作動流体Lを封止するものを示したが、この変形例2の表示装置3では、収容空間43内に緩衝材としてゲル材Gを封入している点で表示装置1と異なる。
なお、その他の構成は実施の形態と同様であり、実施の形態と同一構成部分には同一符号を付している。
次に、図9を用いて本発明の実施の形態の表示装置1の変形例3について説明する。図9は、変形例3の表示装置4の表示パネル13の要部断面図および照明装置50を示した図である。
本発明の実施の形態の表示装置1では、収容空間43内に緩衝材として作動流体Lを封止するものを示したが、この変形例3の表示装置4では、収容空間43内に緩衝材として反応硬化型の樹脂Rを封入している点で表示装置1と異なる。
なお、その他の構成は実施の形態と同様であり、実施の形態と同一構成部分には同一符号を付している。
この変形例3の表示装置4は、収容空間43内の反応硬化型の樹脂Rが緩衝材としての機能をなしているので、本発明の実施の形態にかかる表示装置1と同様に耐衝撃性を向上させることができる。
次に、図10を用いて本発明の実施の形態の表示装置1の変形例4について説明する。図10は、変形例4の表示装置5の表示パネル14の要部断面図および照明装置50を示した図である。
本発明の実施の形態の表示装置1では、1層の緩衝部40を有してなるものを示したが、この変形例4の表示装置5では、2層の緩衝部40、80を有してなる点で表示装置1と異なる。
なお、その他の構成は実施の形態と同様であり、実施の形態と同一構成部分には同一符号を付している。
また、この変形例4においては、緩衝材が封入されている収容空間43,83と、収容空間43,83よりも硬い光透過性基板41、81とが互い違いに配置されている。柔らかい構成要素(即ち、収容空間43,83)と、硬い構成要素(即ち、光透過性基板41、81)が連続することで、衝撃の波が分散される。このことも、変形例4の耐衝撃性をより高めることができる要因である。
なお、この変形例4の表示装置5は、各収容空間43,83に緩衝材として作動流体Lが封入されるものを例示したが、これに限らず、上述したような緩衝材L,G,Rを各収容空間43,83に封入するようにしてもよい。
また、この変形例4の表示装置5は、緩衝部40、80が2層であるものを例示したが、これに限らず、緩衝部が2層以上重ねられるようにしてもよい。
次に、図11を用いて本発明の実施の形態の表示装置1の変形例5について説明する。図11は、変形例5の表示装置6の表示パネル15の要部断面図および照明装置50を示した図である。
本発明の実施の形態の表示装置1では、第一の基板20が表示パネル10の背面側に設けられるものを例示したが、この変形例5の表示装置6は、第二の基板30が表示パネル10の背面側に設けられている点で表示装置1と異なる。
なお、その他の構成は実施の形態と同様であり、実施の形態と同一構成部分には同一符号を付している。
この変形例5の表示装置6は、表示パネル10にかかる衝撃が緩衝部90によって分散され、結果的に耐衝撃性を向上させることができる。
また、変形例5においても、変形例4で説明したように緩衝部を2層以上重ねる構成にしてもよい。
10、11、12、13、14、15 表示パネル
20 第一の基板
30 第二の基板
31 シャッタ部
31a 開口
31b 遮光部
32 シャッタ機構部
33 走査ドライバ
34 データドライバ
35 アクチュエータ部
36 開アクチュエータ
37 閉アクチュエータ
40、80、90 緩衝部
41、81、91 光透過性基板
42、82、92 シール部
43、83、93 収容空間
44 第二の注入口
50 照明装置
60 制御部
70 シール部
71 第一の注入口
361、371 第一電極部
361a、371a 第一電位印加部
361aa、371aa 支柱部
361b、371b 第一可動部
362、372 第二電極部
362a、372a 第二電位印加部
362aa、372aa 支柱部
362b、372b 第二可動部
362bb、372bb 直線部
SUB1、SUB2 光透過性基板
BM 光吸収性樹脂膜
A 光透過部
PIX 画素
AS アモルファスシリコン層
TFT 薄膜トランジスタ
E1 第一の電導層
E2 第二の導電層
C キャパシタ
DE1、DE2、DE3 誘電体層
SD 犠牲メカニカル層
SH シャッタ機構部形成層
L 作動流体
G ゲル材
R 反応硬化型の樹脂
AR 表示領域
Claims (15)
- 第一の基板と、前記第一の基板と対向する第二の基板と、複数の画素と、前記複数の画素の各々に形成されたシャッタ機構部と、前記第一の基板と前記第二の基板との間に封入された流体と、前記第一の基板または前記第二の基板の一方の基板の前記流体とは反対側に形成された緩衝部とを有する表示装置であって、
前記シャッタ機構部は前記第二の基板に形成され、且つ、可動すると共に前記画素の光透過率を制御するシャッタ部を有し、
前記緩衝部は、前記一方の基板の前記流体とは反対側に対向する第三の基板と、前記一方の基板と前記第三の基板とを貼り合せるシール部と、前記一方の基板と前記第三の基板と前記シール部との間に形成された所定の間隙とを有することを特徴とする表示装置。 - 前記所定の間隙には、前記流体と同じ材質の流体が封入されていることを特徴とする請求項1に記載の表示装置。
- 前記流体はシリコーンオイルまたはフッ素オイルであることを特徴とする請求項2に記載の表示装置。
- 前記第一の基板と前記第二の基板との間に前記作動流体を注入する第一の注入口と、前記所定の間隙に前記流体を注入する第二の注入口とを有し、
前記第一の注入口と前記第二の注入口とは、平面体に見て少なくとも一部が重畳していることを特徴とする請求項2または請求項3に記載の表示装置。 - 前記第一の注入口と前記第二の注入口とは、平面体に見た時に同じ位置に形成されていることを特徴とする請求項4に記載の表示装置。
- 前記所定の間隙には、空気が充填されていることを特徴とする請求項1に記載の表示装置。
- 前記所定の間隙には、緩衝材が封入されていることを特徴とする請求項1に記載の表示装置。
- 前記緩衝材は、ゲル材であることを特徴とする請求項7に記載の表示装置。
- 前記緩衝材は、反応硬化型の樹脂であることを特徴とする請求項7に記載の表示装置。
- 前記緩衝部は、前記第三の基板の前記一方の基板とは反対側に対向する第四の基板と、前記第三の基板と前記第四の基板との間に形成された所定の第二の間隙とを有することを特徴とする請求項1から請求項9の何れか1項に記載の表示装置。
- 前記緩衝部は、前記第三の基板の前記一方の基板とは反対側に、互いに対向する複数の第四の基板と、前記第三の基板と前記第四の基板の一つとの間、及び複数の前記第四の基板の間に形成された所定の複数の第二の間隙とを有し、
前記第四の基板と前記第二の間隙とが交互に対向配置されていることを特徴とする請求項1から請求項9の何れか1項に記載の表示装置。 - 前記第一の基板と前記第二の基板の内、前記一方の基板とは異なる他方の基板に対向配置される照明部を有し、
前記照明部は、前記他方の基板の側から前記複数の画素に光を照射することを特徴とする請求項1から請求項11の何れか1項に記載の表示装置。 - 前記第一の基板には、複数の第一の開口部を有する遮光膜が形成され、
前記複数の画素の各々は少なくとも一つの前記第一の開口部を有し、
前記シャッタ部は少なくとも一つの第二の開口部を有し、
前記複数の画素の各々は、前記第一の開口部と前記第二の開口部とを介して、前記照明部の光を透過することを特徴とする請求項12に記載の表示装置。 - 前記一方の基板は前記第一の基板であることを特徴とする請求項1から請求項13の何れか1項に記載の表示装置。
- 前記一方の基板は前記第二の基板であることを特徴とする請求項1から請求項13の何れか1項に記載の表示装置。
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