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JP2013077667A - Substrate transfer apparatus - Google Patents

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Ryota Yamada
亮太 山田
An Zushi
庵 圖師
Kenji Katagiri
賢司 片桐
Masa Wakabayashi
雅 若林
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a substrate transfer apparatus which has a relatively inexpensively feasible structure and comprises a robot hand whose position is not varied even by chamber deformation caused by variation in internal air pressure.SOLUTION: The substrate transfer apparatus comprises: a vacuum chamber; and a transfer robot which is disposed in the vacuum chamber and holds an incoming substrate to transfer it to a desired position. The transfer robot is fixed to a floor on which the substrate transfer apparatus is installed. A part of the transfer robot is attached to a part of a wall of the vacuum chamber via an O-ring such that the inside of the vacuum chamber can be kept airtight and they can move relatively to each other.

Description

本発明は、例えば、有機ELデバイスや液晶ディスプレイ等の表示装置等の大型の基板を真空成膜装置に搬送するための基板搬送装置に関し、特に、真空環境下でもその搬送位置が変化することなく、安定した基板の搬送を実現するための構造に関する。   The present invention relates to a substrate transfer device for transferring a large substrate such as a display device such as an organic EL device or a liquid crystal display to a vacuum film forming apparatus, and in particular, the transfer position does not change even in a vacuum environment. The present invention relates to a structure for realizing stable substrate transfer.

例えば、有機ELデバイスを製造する方法として、一般に、真空蒸着法が広く採用されており、かかる真空蒸着法では、以下の特許文献1にも知られるように、所謂、真空に保持された蒸着チャンバ(以下、一般的に、「真空装置」と言う)内において、抵抗加熱や誘導加熱などの方法を用い、蒸発源から蒸着材料の蒸発速度を一定に保つように制御しながら、蒸着材料を加熱し物理蒸着(PVD)を行なうことが一般的である。   For example, as a method for manufacturing an organic EL device, a vacuum deposition method is generally widely used. In such a vacuum deposition method, as is also known from Patent Document 1 below, a so-called deposition chamber held in a vacuum is used. (Hereinafter, generally referred to as “vacuum device”), heating the vapor deposition material while controlling the evaporation rate of the vapor deposition material from the evaporation source using a method such as resistance heating or induction heating. It is common to perform physical vapor deposition (PVD).

なお、かかる真空装置により成膜を行う場合、大型の基板を、やはり、その内部が真空に保持されたチャンバ内に取り付けられた基板搬送装置であるロボットにより、当該真空装置に搬送される。   When film formation is performed using such a vacuum apparatus, a large substrate is also transferred to the vacuum apparatus by a robot, which is a substrate transfer apparatus mounted in a chamber whose interior is held in vacuum.

特開2010-62043号公報JP 2010-62043 A

しかしながら、上述した特許文献1にも知られるように、その内部が真空に保持されたチャンバ100内に取り付けられた基板搬送装置であるロボット110により基板を搬送した場合、添付の図5にも示すように、チャンバ内部を大気状態から真空状態にした場合、当該ロボットが固定された真空チャンバが大気圧により変形してしまい、これに伴って、ロボットのハンドの位置が変動してしまう。即ち、当該チャンバの変形は、ロボットによる基板の搬送において、搬入される位置(特に、高さh)を変位させる要因となる。なお、図6は、当該ロボットを真空チャンバに固定する構造の一例、ここでは、ネジとOリングにより機密に固定する構造を示している。   However, as is also known from Patent Document 1 described above, when a substrate is transferred by a robot 110 which is a substrate transfer device mounted in a chamber 100 whose inside is held in a vacuum, it is also shown in FIG. As described above, when the inside of the chamber is changed from the atmospheric state to the vacuum state, the vacuum chamber to which the robot is fixed is deformed by the atmospheric pressure, and accordingly, the position of the robot hand is changed. That is, the deformation of the chamber becomes a factor for displacing the position (in particular, the height h) at which the substrate is carried in the transfer of the substrate by the robot. FIG. 6 shows an example of a structure for fixing the robot to the vacuum chamber, here, a structure for fixing the robot in a secret manner with screws and an O-ring.

なお、従来、かかる問題に対しては、搬送される基板の高さにおける変位を許容可能な程度にまで抑制する手段として、例えば、チャンバの床面に多数のリブを取り付けて機械的な強度を増大し、もって、チャンバ自体の変形を抑制することが行われていたが、しかしながら、かかる手段によれば、チャンバのコストが上昇してしまうこととなる。   Conventionally, as a means for suppressing the displacement in the height of the substrate to be transferred to an acceptable level, for example, a mechanical strength is increased by attaching a large number of ribs to the floor of the chamber. However, the deformation of the chamber itself has been suppressed. However, such means increases the cost of the chamber.

そこで、本発明は、上述した従来技術における問題点に鑑みてなされたものであり、その目的は、内部の気圧の変動によるチャンバの変形によってもロボットハンドの位置(特に、高さ)が変動することのない、かつ、比較的安価に実現することが可能な構造の基板搬送装置を提供することにある。   Therefore, the present invention has been made in view of the above-described problems in the prior art, and an object of the present invention is to change the position (especially the height) of the robot hand even when the chamber is deformed due to fluctuations in the internal atmospheric pressure. It is an object of the present invention to provide a substrate transfer apparatus having a structure that can be realized at a relatively low cost.

上記の目的を達成するため、本発明によれば、まず、真空チャンバと、前記真空チャンバ内に設けられ、搬入された基板を保持して所望の位置に搬送するための搬送ロボットを備えた基板搬送装置であって、前記搬送ロボットは、当該基板搬送装置を設置する床面に固定されると共に、その一部を、前記真空チャンバを構成する壁の一部に、当該真空チャンバ内を気密に保持可能で、かつ、相互に移動可能にする手段を介して、取り付けられていること基板搬送装置が提供される。   To achieve the above object, according to the present invention, first, a substrate provided with a vacuum chamber and a transfer robot provided in the vacuum chamber for holding the transferred substrate and transferring it to a desired position. The transfer robot is fixed to a floor surface on which the substrate transfer apparatus is installed, and a part of the transfer robot is airtightly sealed inside the vacuum chamber with a part of a wall constituting the vacuum chamber. A substrate transfer device is provided that is attached via means that can be held and moved relative to each other.

また、本発明によれば、前記に記載した基板搬送装置において、前記真空チャンバ内を気密に保持しかつ相互に移動可能にする手段は、Oリングであることが好ましい。   Further, according to the present invention, in the substrate transfer apparatus described above, the means for holding the inside of the vacuum chamber in an airtight manner and making it movable relative to each other is preferably an O-ring.

更に、本発明では、前記記載した基板搬送装置において、前記Oリングは、前記搬送ロボットの駆動部の外壁面に取り付けられていること、又は、前記搬送ロボットの脚部の外壁面に取り付けられていることが好ましい。   Further, according to the present invention, in the above-described substrate transfer apparatus, the O-ring is attached to the outer wall surface of the driving unit of the transfer robot, or is attached to the outer wall surface of the leg portion of the transfer robot. Preferably it is.

以上に述べた本発明によれば、内部の気圧の変動によるチャンバの変形によってもロボットハンドの位置(特に、高さ)が変動することがなく、かつ、比較的安価に実現することが可能な基板搬送装置が提供されるという優れた効果が達成されることとなる。   According to the present invention described above, the position (particularly the height) of the robot hand does not fluctuate even when the chamber is deformed due to fluctuations in the internal atmospheric pressure, and can be realized at a relatively low cost. The excellent effect that the substrate transfer apparatus is provided is achieved.

本発明の一実施の形態になる基板搬送装置(搬送チャンバ)が採用された成膜装置である有機ELデバイス製造装置の全体構成を示す上面図である。It is a top view which shows the whole structure of the organic electroluminescent device manufacturing apparatus which is a film-forming apparatus by which the board | substrate conveyance apparatus (conveyance chamber) which becomes one embodiment of this invention was employ | adopted. 上記有機ELデバイス製造装置の搬送チャンバを、隣接すると成膜装置である処理チャンバ共にその内部構成の一例を示す透視斜視図である。It is a see-through | perspective perspective view which shows an example of the internal structure of the processing chamber which is a film-forming apparatus, if the conveyance chamber of the said organic EL device manufacturing apparatus adjoins. 本発明の一実施の形態になる搬送チャンバの内部詳細構造を示すための一部断面を含む斜視図である。It is a perspective view including the partial cross section for showing the internal detailed structure of the conveyance chamber which becomes one embodiment of this invention. 真空チャンバと搬送ロボット駆動部との間の気密持連結構造の一例を示す、上記図3における破線の丸Aで示した部分の拡大断面図である。FIG. 4 is an enlarged cross-sectional view of a portion indicated by a broken-line circle A in FIG. 3, showing an example of an airtight connection structure between a vacuum chamber and a transfer robot drive unit. 従来技術になる基板搬送装置(搬送チャンバ)の構造とその問題点を説明するための図である。It is a figure for demonstrating the structure of the board | substrate conveyance apparatus (conveyance chamber) used as a prior art, and its problem. 上記図における破線の丸Bで示した部分の拡大断面図である。It is an expanded sectional view of the part shown with circle B of a broken line in the above-mentioned figure.

以下、本発明の一実施の形態になる基板搬送装置を採用した真空装置を含んだ装置として、成膜装置、特に、有機ELデバイス用の大型の基板に有機EL材料を蒸着するための成膜装置について、添付の図を参照しながら詳細に説明する。   Hereinafter, as an apparatus including a vacuum apparatus employing a substrate transfer apparatus according to an embodiment of the present invention, a film forming apparatus, particularly a film forming for depositing an organic EL material on a large substrate for an organic EL device. The apparatus will be described in detail with reference to the accompanying drawings.

まず、添付の図1は、本発明の一実施の形態になる基板搬送装置をその一部に利用した有機ELデバイス製造装置の一例を示しており、図において、当該有機ELデバイス製造装置100は、概略、処理対象(ワーク)である基板6を搬入するロードクラスタ3、基板をそれぞれ処理する4つのクラスタ(A〜D)、隣接するクラスタの間、又は、クラスタAとロードクラスタ3との間、更には、次工程(例えば、封止工程)との間の設置された、合計、5つの受渡室4a〜4eから構成されている。   First, attached FIG. 1 shows an example of an organic EL device manufacturing apparatus that uses a substrate transport apparatus according to an embodiment of the present invention as a part thereof. In FIG. , Roughly, a load cluster 3 that carries a substrate 6 to be processed (work), four clusters (A to D) that respectively process substrates, between adjacent clusters, or between cluster A and load cluster 3 In addition, it is composed of a total of five delivery chambers 4a to 4e installed between the next process (for example, the sealing process).

なお、ロードクラスタ3は、前後に真空を維持するためにゲート弁10を有するロードロック室31と、当該ロードロック室31から基板6を受け取り、これを旋回して受渡室4aに基板6を搬入する搬送ロボット5Rとからなる。また、各ロードロック室31及び各受渡室4a〜4eは、その前後にゲート弁10を有し、当該ゲート弁10の開閉を制御することにより、内部の真空を維持しながら、ロードクラスタ3、又は、次のクラスタ等に対して、上記基板6を受け渡しする。   In addition, the load cluster 3 receives the substrate 6 from the load lock chamber 31 having the gate valve 10 and the load lock chamber 31 in order to maintain the vacuum in front and back, and turns the substrate 6 to carry the substrate 6 into the delivery chamber 4a. And a transfer robot 5R. In addition, each load lock chamber 31 and each delivery chamber 4a to 4e have a gate valve 10 in the front and rear thereof, and by controlling the opening and closing of the gate valve 10, the load cluster 3, Alternatively, the substrate 6 is delivered to the next cluster or the like.

各クラスタ(A〜D)は、内部に一台の搬送ロボット5を有する搬送チャンバ2と、搬送ロボット5から基板を受け取って所定の処理を行う(図面上では、上下に配置されている)2つの処理チャンバ1(添え字「a」〜「d」はクラスタを示し、添え字「u」、「d」は上側/下側を示す)を有する。また、搬送チャンバ2と処理チャンバ1の間には、ゲート弁10が設けられている。   Each cluster (A to D) has a transfer chamber 2 having a single transfer robot 5 inside, and receives a substrate from the transfer robot 5 to perform a predetermined process (arranged vertically in the drawing) 2. There are two processing chambers 1 (subscripts “a” to “d” indicate clusters and subscripts “u” and “d” indicate upper / lower sides). A gate valve 10 is provided between the transfer chamber 2 and the processing chamber 1.

次に、添付の図2は、上述した有機ELデバイス製造装置の一部、特に、搬送チャンバ2と共に、その内部に有機EL材料を蒸着するための成膜装置を備えた処理(成膜)チャンバ1の構成を示す。なお、ここでは、処理チャンバの構成として、真空中で発光材料を蒸着して基板6上にEL層を形成するための真空蒸着チャンバ1buが示されている。   Next, FIG. 2 attached is a processing (film formation) chamber including a part of the above-described organic EL device manufacturing apparatus, in particular, a transfer chamber 2 and a film forming apparatus for depositing an organic EL material therein. 1 is shown. Here, a vacuum deposition chamber 1bu for forming an EL layer on the substrate 6 by depositing a light emitting material in a vacuum is shown as a configuration of the processing chamber.

真空蒸着チャンバ1buは、図にも示すように、大別して、発光材料を蒸発させ基板6に蒸着させる蒸着部7と、基板6の必要な部分に蒸着させるアライメント部8と、搬送チャンバ2内の搬送ロボット5との間で基板6の受け渡たしを行い、蒸着部7へ基板6を移動させる処理受渡部9によって構成されている。   As shown in the figure, the vacuum deposition chamber 1bu is roughly divided into a deposition unit 7 for evaporating the light emitting material and depositing it on the substrate 6, an alignment unit 8 for depositing on a necessary part of the substrate 6, and a transfer chamber 2. The substrate 6 is transferred to and from the transfer robot 5, and the processing transfer unit 9 is configured to move the substrate 6 to the vapor deposition unit 7.

処理受渡部9は、搬送ロボット5の櫛歯状ハンド52と干渉することなく基板6を受渡し可能であり、かつ、基板6を固定する手段を有する櫛歯状ハンド(基板チャック)91と、前記櫛歯状ハンド52を旋回させて基板6を直立させアライメント部8に移動するハンド旋回駆動手段92を有する。なお、基板6を固定する手段としては、真空中であることを考慮して、例えば、電磁吸着やクリップ等が用いられる。   The processing delivery section 9 can deliver the substrate 6 without interfering with the comb-like hand 52 of the transfer robot 5 and has a comb-like hand (substrate chuck) 91 having means for fixing the substrate 6; A hand turning drive means 92 for turning the comb-like hand 52 to move the substrate 6 upright to the alignment unit 8 is provided. As a means for fixing the substrate 6, for example, electromagnetic adsorption or a clip is used in consideration of being in a vacuum.

また、搬送ロボット5は、以下にもその詳細を説明するが、上記搬送チャンバを構成する真空チャンバ21の内部に配置されており、即ち、真空環境下で基板の搬送を行う。   Although the details of the transfer robot 5 will be described below, the transfer robot 5 is arranged inside the vacuum chamber 21 constituting the transfer chamber, that is, transfers the substrate in a vacuum environment.

図3は、成膜装置が設置される床面Fを含め、上述した真空チャンバ21とその内部に配置された搬送ロボット5の側面断面図を示しており、この図からも明らかなように、基板の搬送ロボット5は、上述した櫛歯状ハンド52と共に、当該櫛歯状ハンドを所望の位置に自在に移動するためのアーム53、54を備えており、それらの間には、互いの自在な回転を実現するためのジョイント55等が設けられている。   FIG. 3 shows a side cross-sectional view of the above-described vacuum chamber 21 and the transfer robot 5 disposed in the vacuum chamber 21 including the floor surface F on which the film forming apparatus is installed. As is clear from this figure, The substrate transfer robot 5 includes the above-described comb-like hand 52 and arms 53 and 54 for freely moving the comb-like hand to a desired position. A joint 55 and the like are provided for realizing proper rotation.

また、アーム53、54の下方には、搬送ロボットを所定の位置に配置すると共に、当該アームに回転や伸長等の駆動力を与えるための電動モータや種々の機構等を含む、所謂、搬送ロボットの駆動部56が設けられている。そして、この外形が略円筒状の駆動部56の下面には、下方に伸びた脚部57が一体に取り付けられており、当該脚部57が床面Fに固定されることにより、搬送ロボット5の位置が決定される。   Also, below the arms 53 and 54, a so-called transfer robot including a transfer robot placed at a predetermined position and including an electric motor and various mechanisms for applying a driving force such as rotation and extension to the arm. The drive unit 56 is provided. A leg part 57 extending downward is integrally attached to the lower surface of the drive part 56 having a substantially cylindrical outer shape. The leg part 57 is fixed to the floor surface F, whereby the transfer robot 5 Is determined.

続いて、図4には、上記図3において破線の丸で示した部分の拡大断面図、即ち、真空チャンバ21と搬送ロボットの駆動部56との間を気密に保持して連結するための構造の一例を示す。即ち、この例では、上記真空チャンバ21、より具体的には、その壁の端部が外形略円筒形の駆動部56と接触する部分、即ち、駆動部56の周囲に溝を設け、その内部に、例えば、ゴム製のOリング58を挿入し、当該Oリング58により、真空チャンバ21と駆動部56との間の気密を保持しながら、これら両者が互いに移動(摺動)可能に連結されている。   Next, FIG. 4 shows an enlarged cross-sectional view of the portion indicated by a broken-line circle in FIG. 3, that is, a structure for holding and connecting the vacuum chamber 21 and the driving unit 56 of the transfer robot in an airtight manner. An example is shown. That is, in this example, the vacuum chamber 21, more specifically, a portion where the end of the wall is in contact with the drive unit 56 having a substantially cylindrical shape, that is, a groove is provided around the drive unit 56, In addition, for example, a rubber O-ring 58 is inserted, and these O-rings 58 are connected so as to be movable (slidable) with each other while maintaining airtightness between the vacuum chamber 21 and the drive unit 56. ing.

これは、従来技術に関連して既に述べたように、真空チャンバ21の内部を大気状態から真空状態にした場合、当該真空チャンバの壁面が大気圧により変形してしまうことによる。即ち、本発明では、搬送ロボット5を成膜装置が設置される床面Fに固定する(図3を参照)と共に、その内部の圧力により変形する真空チャンバ21の壁面が、当該搬送ロボット5、特に、その駆動部56の壁面との間で、Oリング58により、チャンバ内部の気圧(真空)を保ちながら、かつ、上下に自在に移動(摺動)が可能に取り付けられている(図の矢印を参照)。このことによれば、真空チャンバが大気圧により変形しても、その壁面の移動が搬送ロボット5の位置に対して、例えば、上下の位置ずれ等の悪影響を及ぼすことがなく、即ち、安定した基板の搬送を実現する良好なロボット搬送を、比較的安価に実現することが可能となる。   As described above in connection with the prior art, this is because when the inside of the vacuum chamber 21 is changed from the atmospheric state to the vacuum state, the wall surface of the vacuum chamber is deformed by the atmospheric pressure. That is, in the present invention, the transfer robot 5 is fixed to the floor F on which the film forming apparatus is installed (see FIG. 3), and the wall surface of the vacuum chamber 21 that is deformed by the pressure inside the transfer robot 5 is In particular, the O-ring 58 is attached to the wall surface of the drive unit 56 so as to be movable (slidable) freely up and down while maintaining the atmospheric pressure (vacuum) inside the chamber (in the drawing). See arrow). According to this, even if the vacuum chamber is deformed by the atmospheric pressure, the movement of the wall surface does not adversely affect the position of the transfer robot 5, for example, vertical displacement, that is, stable. It is possible to realize good robot conveyance for realizing substrate conveyance at a relatively low cost.

なお、上述した実施例では、特に、内部の気圧によりその壁面が移動する真空チャンバ21と床面Fに固定された搬送ロボット5との間を、その駆動部56において、チャンバ内の気密を保持して連結する構造について述べたが、しかしながら、本発明はこれに限定されることなく、例えば、搬送ロボット5の他の一部、例えば、脚部57の一部(特に、駆動部56の下面から下方に伸びた部分)により、上記と同様に、チャンバ内の気密を保持して連結することも可能である。更には、上記Oリング58に代えて、例えば、所謂、ラビリンス構造等を採用することにより、チャンバ内の気密を保持して連結することも可能であろう。   In the above-described embodiment, in particular, the air tightness in the chamber is maintained in the driving unit 56 between the vacuum chamber 21 whose wall surface is moved by the internal atmospheric pressure and the transfer robot 5 fixed to the floor surface F. However, the present invention is not limited to this. For example, another part of the transfer robot 5, for example, a part of the leg part 57 (particularly, the lower surface of the drive part 56). In the same manner as described above, the chambers can be connected while maintaining airtightness. Furthermore, instead of the O-ring 58, for example, a so-called labyrinth structure or the like may be used to connect the chambers while maintaining airtightness in the chambers.

5…搬送ロボット、6…基板、21…真空チャンバ、52…櫛歯状ハンド、53、54…アーム、55…ジョイント、56…駆動部、57…脚部、F…床面。   DESCRIPTION OF SYMBOLS 5 ... Transfer robot, 6 ... Board | substrate, 21 ... Vacuum chamber, 52 ... Comb-shaped hand, 53, 54 ... Arm, 55 ... Joint, 56 ... Drive part, 57 ... Leg part, F ... Floor surface.

Claims (4)

真空チャンバと、
前記真空チャンバ内に設けられ、搬入された基板を保持して所望の位置に搬送するための搬送ロボットを備えた基板搬送装置において、
前記搬送ロボットは、当該基板搬送装置を設置する床面に固定されると共に、その一部を、前記真空チャンバを構成する壁の一部に、当該真空チャンバ内を気密に保持可能で、かつ、相互に移動可能にする手段を介して、取り付けられていることを特徴とする基板搬送装置。
A vacuum chamber;
In the substrate transfer apparatus provided in the vacuum chamber and provided with a transfer robot for holding the transferred substrate and transferring it to a desired position,
The transfer robot is fixed to a floor surface on which the substrate transfer apparatus is installed, and a part of the transfer robot can be held airtight inside the vacuum chamber on a part of a wall constituting the vacuum chamber, and A substrate transfer apparatus, wherein the substrate transfer apparatus is attached through means for enabling mutual movement.
前記請求項1に記載した基板搬送装置において、前記真空チャンバ内を気密に保持しかつ相互に移動可能にする手段は、Oリングであることを特徴とする基板搬送装置。   2. The substrate transfer apparatus according to claim 1, wherein the means for holding the inside of the vacuum chamber in an airtight manner and making it movable relative to each other is an O-ring. 前記請求項2に記載した基板搬送装置において、前記Oリングは、前記搬送ロボットの駆動部の外壁面に取り付けられていることを特徴とする基板搬送装置。   3. The substrate transfer apparatus according to claim 2, wherein the O-ring is attached to an outer wall surface of a drive unit of the transfer robot. 前記請求項2に記載した基板搬送装置において、前記Oリングは、前記搬送ロボットの脚部の外壁面に取り付けられていることを特徴とする基板搬送装置。   3. The substrate transfer apparatus according to claim 2, wherein the O-ring is attached to an outer wall surface of a leg portion of the transfer robot.
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