JP2012089313A - Light-extracting sheet, organic electroluminescent device, and method for manufacturing the same - Google Patents
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Abstract
Description
本発明は、光取り出しシート、有機電界発光装置及び有機電界発光装置の製造方法に関する。 The present invention relates to a light extraction sheet, an organic electroluminescent device, and a method for manufacturing the organic electroluminescent device.
有機電界発光装置は、自発光型の表示装置であり、ディスプレイや照明の用途に期待されている。例えば、有機電界発光ディスプレイは、従来のCRTやLCDと比較して視認性が高く、視野角依存性がない等の表示性能上の利点を有している。また、ディスプレイを軽量化、薄層化できる利点もある。その一方、有機電界発光照明は、軽量化、薄層化が可能であるとの利点に加え、フレキシブルな基板を用いることでこれまで実現できなかった形状の照明を実現できる可能性を有している。 The organic electroluminescent device is a self-luminous display device and is expected to be used for displays and illumination. For example, an organic electroluminescent display has advantages in display performance such as higher visibility than conventional CRTs and LCDs and no viewing angle dependency. There is also an advantage that the display can be reduced in weight and thickness. On the other hand, in addition to the advantages that organic electroluminescence lighting can be reduced in weight and thickness, it has the potential to realize illumination in a shape that could not be realized by using a flexible substrate. Yes.
このような有機電界発光装置において、光取り出し効率を向上させるため、種々の検討が試みられている。
例えば特許文献1には、樹脂中に平均粒子径が1桁以上異なる少なくとも2種の微粒子を分散させた拡散層が光取り出し面側の透明電極に隣接して設けられている有機エレクトロルミネッセンス素子が提案されている。
しかし、この提案では、基板に直接拡散層を塗布により形成すると基板の汚染(コンタミ)等の問題が発生し、乾燥工程が必要となり有機電界発光層の積層プロセスとのタクトタイム差の影響が発生し、プロセス上好ましくない。
また、特許文献2では、低屈折率層を基板側に配置し、光取り出し効率を上げることが提案されている。しかし、この提案のように、屈折率段差が大きいと全反射が発生することに変わりはなく、有機電界発光層からの光取り出しが非効率なものとなる。
前記特許文献1及び2では、バリア層が設けられていないため、微粒子層などからのガス、水分の発生を抑えることができないという課題がある。
また、特許文献3では、粒子状の光拡散剤を含む粒子分散系樹脂シートが提案されており、前記樹脂シートのいずれか一方の表面側に、光拡散剤が偏在されており、ガスバリア層を含むことが記載されている。
しかし、この提案では、樹脂シートの各層の屈折率が適正化されておらず、各層間の屈折率段差が生じ、光取り出し効率の向上が不十分である。もともと、この提案では、有機電界発光装置における前記基板と透明基板との間、即ち、有機電界発光装置の基板の内側(内部)に、樹脂シートを配置することを予定していないものである。
In such an organic electroluminescent device, various studies have been attempted in order to improve the light extraction efficiency.
For example, Patent Document 1 discloses an organic electroluminescence element in which a diffusion layer in which at least two kinds of fine particles having an average particle diameter different by one digit or more are dispersed in a resin is provided adjacent to a transparent electrode on the light extraction surface side. Proposed.
However, in this proposal, if the diffusion layer is formed directly on the substrate, problems such as contamination (contamination) of the substrate occur, and a drying process is required, which affects the tact time difference from the organic electroluminescent layer lamination process. However, it is not preferable in the process.
Patent Document 2 proposes that a low refractive index layer is disposed on the substrate side to increase the light extraction efficiency. However, as in this proposal, if the refractive index difference is large, total reflection is still generated, and light extraction from the organic electroluminescent layer becomes inefficient.
In the said patent documents 1 and 2, since the barrier layer is not provided, there exists a subject that generation | occurrence | production of the gas from the fine particle layer etc. and a water | moisture content cannot be suppressed.
Further, Patent Document 3 proposes a particle-dispersed resin sheet containing a particulate light diffusing agent, the light diffusing agent is unevenly distributed on one surface side of the resin sheet, and a gas barrier layer is provided. It is described that it contains.
However, in this proposal, the refractive index of each layer of the resin sheet is not optimized, and a refractive index step between the respective layers is generated, so that the light extraction efficiency is not sufficiently improved. Originally, this proposal does not intend to arrange a resin sheet between the substrate and the transparent substrate in the organic electroluminescent device, that is, inside (inside) the substrate of the organic electroluminescent device.
したがって、接着層、基材、微粒子層、及びバリア層を少なくともこの順に有し、各層間の屈折率段差を軽減させて光取り出し効率を高めることができる光取り出しシート、有機電界発光装置及び有機電界発光装置を簡易なプロセスで効率よく製造できる有機電界発光装置の製造方法の速やかな提供が望まれているのが現状である。 Accordingly, a light extraction sheet, an organic electroluminescence device, and an organic electric field that have an adhesive layer, a base material, a fine particle layer, and a barrier layer in this order, and can reduce the refractive index step between the respective layers to increase the light extraction efficiency. At present, it is desired to provide a method for manufacturing an organic electroluminescent device that can efficiently manufacture the light emitting device with a simple process.
本発明は、従来における前記諸問題を解決し、以下の目的を達成することを課題とする。即ち、本発明は、接着層、基材、微粒子層、及びバリア層を少なくともこの順に有し、各層間の屈折率段差を軽減させて光取り出し効率を高めることができる光取り出しシート、並びに該光取り出しシートを用いた有機電界発光装置及び有機電界発光装置を簡易なプロセスで効率よく製造できる有機電界発光装置の製造方法を提供することを目的とする。 An object of the present invention is to solve the above-described problems and achieve the following objects. That is, the present invention includes a light extraction sheet that has at least an adhesive layer, a base material, a fine particle layer, and a barrier layer in this order, and that can reduce the refractive index step between the layers and increase the light extraction efficiency, and the light. It is an object of the present invention to provide an organic electroluminescent device using a take-out sheet and an organic electroluminescent device manufacturing method capable of efficiently manufacturing the organic electroluminescent device by a simple process.
前記課題を解決するための手段としては、以下の通りである。即ち、
<1> 接着層、基材、微粒子層、及びバリア層を少なくともこの順に有してなり、
前記接着層から前記バリア層に向かって各層の屈折率が同等乃至増加し、かつ隣接する層間の最大屈折率差が0.2以下であることを特徴とする光取り出しシートである。
<2> 基板と、該基板上に、陽極と、陰極と、該陽極と前記陰極の間に有機電界発光層とを備えた有機電界発光装置における前記基板の有機電界発光層側の面に光取り出しシートの接着層が接するように配置される前記<1>に記載の光取り出しシートである。
<3> バリア層が、有機材料からなる有機層と、無機材料からなる無機層とを積層した多層構造を有する前記<1>から<2>のいずれかに記載の光取り出しシートである。
<4> バリア層の屈折率が1.7以上である前記<1>から<3>のいずれかに記載の光取り出しシートである。
<5> 微粒子層のバリア層側の表面が平坦であるか、又は微粒子層とバリア層の間に平坦化層を有する前記<1>から<4>のいずれかに記載の光取り出しシートである。
<6> 平坦化層が、平均粒径が100nm以下であり、かつ屈折率が1.8以上の微粒子を含有する前記<5>に記載の光取り出しシートである。
<7> 接着層、基材、微粒子層、平坦化層、及びバリア層をこの順に有し、前記接着層から前記バリア層に向かって各層の屈折率が同等乃至増加し、かつ隣接する層間の最大屈折率差が0.2以下である前記<5>から<6>のいずれかに記載の光取り出しシートである。
<8> 基材が、ポリエチレンテレフタレート(PET)フィルム、ポリエチレンナフタレート(PEN)フィルム、及びポリエーテルサルフォン(PES)フィルムのいずれかである前記<1>から<7>のいずれかに記載の光取り出しシートである。
<9> 基板と、該基板上に、陽極と、陰極と、該陽極と前記陰極の間に有機電界発光層とを備えた有機電界発光装置であって、
前記陽極及び陰極の少なくともいずれかが透明電極であり、
前記基板と前記透明電極の間に、前記<1>から<8>のいずれかに記載の光取り出しシートを有することを特徴とする有機電界発光装置である。
<10> 基板、接着層、基材、微粒子層、バリア層、及び有機電界発光層をこの順に有し、前記基板から前記有機電界発光層に向かって各層の屈折率が同等乃至増加し、かつ隣接する層間の最大屈折率差が0.2以下である前記<9>に記載の有機電界発光装置である。
<11> 基板上に、陽極と、陰極と、該陽極と前記陰極の間に有機電界発光層とを備えた有機電界発光装置の製造方法であって、
前記基板の有機電界発光層側の面に、前記<1>から<8>のいずれかに記載の光取り出しシートにおける接着層を貼り付けることを特徴とする有機電界発光装置の製造方法である。
Means for solving the problems are as follows. That is,
<1> It has at least an adhesive layer, a substrate, a fine particle layer, and a barrier layer in this order,
The light extraction sheet, wherein the refractive index of each layer is equal to or increases from the adhesive layer toward the barrier layer, and the maximum refractive index difference between adjacent layers is 0.2 or less.
<2> Light is applied to the surface of the substrate on the organic electroluminescent layer side in the organic electroluminescent device including the substrate, an anode, a cathode, and an organic electroluminescent layer between the anode and the cathode on the substrate. It is a light extraction sheet | seat as described in said <1> arrange | positioned so that the contact bonding layer of an extraction sheet | seat may contact | connect.
<3> The light extraction sheet according to any one of <1> to <2>, wherein the barrier layer has a multilayer structure in which an organic layer made of an organic material and an inorganic layer made of an inorganic material are laminated.
<4> The light extraction sheet according to any one of <1> to <3>, wherein the barrier layer has a refractive index of 1.7 or more.
<5> The light extraction sheet according to any one of <1> to <4>, wherein the surface of the fine particle layer on the barrier layer side is flat or has a flattening layer between the fine particle layer and the barrier layer. .
<6> The light extraction sheet according to <5>, wherein the planarization layer contains fine particles having an average particle diameter of 100 nm or less and a refractive index of 1.8 or more.
<7> An adhesive layer, a base material, a fine particle layer, a planarization layer, and a barrier layer are provided in this order, and the refractive index of each layer is equal to or increases from the adhesive layer toward the barrier layer. The light extraction sheet according to any one of <5> to <6>, wherein the maximum refractive index difference is 0.2 or less.
<8> The material according to any one of <1> to <7>, wherein the base material is any one of a polyethylene terephthalate (PET) film, a polyethylene naphthalate (PEN) film, and a polyethersulfone (PES) film. It is a light extraction sheet.
<9> An organic electroluminescent device comprising a substrate, an anode, a cathode, and an organic electroluminescent layer between the anode and the cathode on the substrate,
At least one of the anode and the cathode is a transparent electrode,
An organic electroluminescence device comprising the light extraction sheet according to any one of <1> to <8> between the substrate and the transparent electrode.
<10> A substrate, an adhesive layer, a base material, a fine particle layer, a barrier layer, and an organic electroluminescent layer are provided in this order, and the refractive index of each layer is equal to or increased from the substrate toward the organic electroluminescent layer, and The organic electroluminescence device according to <9>, wherein the maximum refractive index difference between adjacent layers is 0.2 or less.
<11> A method for producing an organic electroluminescent device comprising an anode, a cathode, and an organic electroluminescent layer between the anode and the cathode on a substrate,
A method for producing an organic electroluminescent device, wherein the adhesive layer of the light extraction sheet according to any one of <1> to <8> is attached to a surface of the substrate on the organic electroluminescent layer side.
本発明によると、従来における問題を解決することができ、接着層、基材、微粒子層、及びバリア層を少なくともこの順に有し、各層間の屈折率段差を軽減させて光取り出し効率を高めることができる光取り出しシート、並びに該光取り出しシートを用いた有機電界発光装置及び有機電界発光装置を簡易なプロセスで効率よく製造できる有機電界発光装置の製造方法を提供することができる。 According to the present invention, the conventional problems can be solved, and at least the adhesive layer, the base material, the fine particle layer, and the barrier layer are provided in this order, and the refractive index step between the respective layers is reduced to increase the light extraction efficiency. It is possible to provide a light extraction sheet that can be manufactured, an organic electroluminescence device using the light extraction sheet, and an organic electroluminescence device manufacturing method that can efficiently manufacture the organic electroluminescence device by a simple process.
(光取り出しシート)
本発明の光取り出しシートは、接着層、基材、微粒子層、及びバリア層を少なくともこの順に有してなり、更に必要に応じてその他の層を有してなる。
前記光取り出しシートは、後述するように、前記微粒子層のバリア層側の表面が平坦であるか、又は微粒子層とバリア層の間に平坦化層を有することが好ましい。
(Light extraction sheet)
The light extraction sheet of the present invention has at least an adhesive layer, a substrate, a fine particle layer, and a barrier layer in this order, and further has other layers as necessary.
As will be described later, the light extraction sheet preferably has a flat surface on the barrier layer side of the fine particle layer or a flattened layer between the fine particle layer and the barrier layer.
前記光取り出しシートは、有機電界発光装置の内部に配置されることが好ましく、基板と、該基板上に、陽極と、陰極と、該陽極と前記陰極の間に有機電界発光層とを備えた有機電界発光装置における前記基板の有機電界発光層側の面に光取り出しシートの接着層が接するように配置されることがより好ましい。 The light extraction sheet is preferably disposed inside an organic electroluminescent device, and includes a substrate, an anode, a cathode, and an organic electroluminescent layer between the anode and the cathode on the substrate. More preferably, the organic electroluminescent device is disposed such that the adhesive layer of the light extraction sheet is in contact with the surface of the substrate on the organic electroluminescent layer side.
本発明において、前記光取り出しシートを構成する接着層、基材、微粒子層、及びバリア層をこの順に有し、好ましくは微粒子層とバリア層の間に平坦化層を有し、前記接着層から前記バリア層に向かって各層の屈折率が同等乃至増加し、かつ隣接する層間の最大屈折率差が0.2以下であり、0.18以下であることが好ましい。
前記最大屈折率差が、0.2を超えると、層間でのフレネル反射が強くなり、光取り出し効率が低下することがある。
ここで、前記接着層、前記基材、前記微粒子層、及び前記バリア層の屈折率は、例えばエリプソメーターなどにより測定することができる。
In the present invention, the light extraction sheet has an adhesive layer, a base material, a fine particle layer, and a barrier layer in this order, and preferably has a planarization layer between the fine particle layer and the barrier layer. It is preferable that the refractive indexes of the respective layers increase or decrease toward the barrier layer, and the maximum refractive index difference between adjacent layers is 0.2 or less and preferably 0.18 or less.
When the maximum refractive index difference exceeds 0.2, Fresnel reflection between layers becomes strong, and light extraction efficiency may decrease.
Here, the refractive indexes of the adhesive layer, the substrate, the fine particle layer, and the barrier layer can be measured by, for example, an ellipsometer.
<バリア層>
本発明による光取り出しシートにおいて、外部及び前記光取り出しシートのバリア層、基材の間にある微粒子層等内部からの酸素、水分の透過を防止することを目的として、バリア層を有している。
前記バリア層としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択すればよく、有機材料からなる有機層単独、又は無機材料からなる無機層単独であってもよいが、有機材料からなる有機層と、無機材料からなる無機層とを積層した多層構造であってもよい。
前記無機材料としては、例えばSiNx、SiON、SiO2、Al2O3、TiO2などが挙げられる。
前記有機材料としては、例えばシリコーン系ポリマー、エポキシ系ポリマー、アクリル系ポリマー、ウレタン系ポリマーなどが挙げられる。
<Barrier layer>
The light extraction sheet according to the present invention has a barrier layer for the purpose of preventing permeation of oxygen and moisture from the outside and the inside of the barrier layer of the light extraction sheet and the fine particle layer between the substrates. .
There is no restriction | limiting in particular as said barrier layer, What is necessary is just to select suitably according to the objective, The organic layer consisting of an organic material alone, or the inorganic layer consisting of an inorganic material may be single, but the organic layer consisting of an organic material And a multilayer structure in which an inorganic layer made of an inorganic material is laminated.
Examples of the inorganic materials, for example SiNx, SiON, SiO 2, Al 2 O 3, etc. TiO 2 and the like.
Examples of the organic material include a silicone polymer, an epoxy polymer, an acrylic polymer, and a urethane polymer.
前記バリア層の形成方法としては、特に制限はなく、材料に応じて適宜選択することができ、例えば、塗布法、CVD法、真空蒸着法、スパッタ法などが挙げられる。
前記バリア層の屈折率(多層構造の場合は、平均屈折率)は、1.7以上であることが好ましく、1.8〜2.2であることがより好ましい。前記バリア層の屈折率が、1.7未満であると、透明電極とバリア層の界面で、有機電界発光層からの光の全反射が多くなり、光取り出し効率が低下することがある。
前記バリア層の屈折率は、前記微粒子層(又は前記平坦化層)の屈折率と同等乃至高いことが好ましく、有機電界発光層の屈折率と同等乃至低いことが好ましい。
ここで、バリア層と隣接する透明電極との屈折率との関係を見ていないのは、透明電極は、非常に薄い(光の波長以下、染み出し効果)ので殆ど通過する光線には、殆ど寄与していないものと推定される。また、透明電極の屈折率は高く、バインダーの屈折率を「2.1」程度まで高くする必要があるが、簡易な方法で高屈折率化することは現実的ではないため、除外(無視)している。
したがって、前記バリア層の屈折率は、透明電極並みの高屈折率であることがより好ましい。
前記バリア層の光学的性質は、光線透過率が80%以上であることが好ましく、85%以上がより好ましく、90%以上が更に好ましい。
前記バリア層の平均厚み(多層構造の場合は、合計平均厚み)は、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができるが、0.1μm〜10μmであることが好ましく、0.1μm〜5μmがより好ましく、0.2μm〜3μmが更に好ましい。前記バリア層の厚みが、0.1μm未満であると、大気中の酸素及び水分の透過を防ぐ封止機能が不充分であることがあり、10μmを超えると、光線透過率が低下し、透明性を損なうこと、また、無機材料を単層で用いる場合、応力差により割れ、隣接層との剥離等、バリア性が損なわれる可能性がある。
There is no restriction | limiting in particular as a formation method of the said barrier layer, According to material, it can select suitably, For example, the apply | coating method, CVD method, a vacuum evaporation method, a sputtering method etc. are mentioned.
The refractive index of the barrier layer (average refractive index in the case of a multilayer structure) is preferably 1.7 or more, and more preferably 1.8 to 2.2. When the refractive index of the barrier layer is less than 1.7, the total reflection of light from the organic electroluminescent layer increases at the interface between the transparent electrode and the barrier layer, and the light extraction efficiency may decrease.
The refractive index of the barrier layer is preferably equal to or higher than the refractive index of the fine particle layer (or the planarizing layer), and preferably equal to or lower than the refractive index of the organic electroluminescent layer.
Here, the relationship between the refractive index of the barrier layer and the adjacent transparent electrode is not observed because the transparent electrode is very thin (below the wavelength of light, exuding effect), Presumed not to contribute. In addition, the refractive index of the transparent electrode is high, and it is necessary to increase the refractive index of the binder to about “2.1”. However, since it is not realistic to increase the refractive index by a simple method, it is excluded (ignored). is doing.
Therefore, the refractive index of the barrier layer is more preferably as high as that of the transparent electrode.
As for the optical properties of the barrier layer, the light transmittance is preferably 80% or more, more preferably 85% or more, and still more preferably 90% or more.
The average thickness of the barrier layer (in the case of a multilayer structure, the total average thickness) is not particularly limited and may be appropriately selected depending on the intended purpose, but is preferably 0.1 μm to 10 μm, preferably 0.1 μm ˜5 μm is more preferable, and 0.2 μm to 3 μm is still more preferable. When the thickness of the barrier layer is less than 0.1 μm, the sealing function for preventing the permeation of oxygen and moisture in the atmosphere may be insufficient. When the thickness exceeds 10 μm, the light transmittance decreases and the transparent layer becomes transparent. When the inorganic material is used as a single layer, there is a possibility that the barrier properties such as cracking due to stress difference and peeling from the adjacent layer may be impaired.
<微粒子層>
前記微粒子層は、ポリマーと、微粒子とを少なくとも含有し、高屈折率微粒子、更に必要に応じてその他の成分を含有してなる。
<Fine particle layer>
The fine particle layer contains at least a polymer and fine particles, high refractive index fine particles, and further contains other components as required.
<<微粒子>>
前記微粒子としては、屈折率が微粒子層のポリマーの屈折率と異なり、光を散乱可能なものであれば特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、有機微粒子であっても、無機微粒子であってもよく、2種以上の微粒子を含有することが好ましい。以下、散乱用微粒子と称することもある。
<< Fine particle >>
The fine particles are not particularly limited as long as the refractive index is different from the refractive index of the polymer of the fine particle layer, and can scatter light, and can be appropriately selected according to the purpose. It may be inorganic fine particles, and preferably contains two or more fine particles. Hereinafter, it may be referred to as scattering fine particles.
前記有機微粒子としては、例えばポリメチルメタクリレートビーズ、アクリル−スチレン共重合体ビーズ、メラミンビーズ、ポリカーボネートビーズ、ポリスチレンビーズ、架橋ポリスチレンビーズ、ポリ塩化ビニルビーズ、ベンゾグアナミン−メラミンホルムアルデヒドビーズ、などが挙げられる。
前記無機微粒子としては、例えばZrO2、TiO2、Al2O3、In2O3、ZnO、SnO2、Sb2O3、などが挙げられる。これらの中でも、TiO2、ZrO2、ZnO、SnO2が特に好ましい。
Examples of the organic fine particles include polymethyl methacrylate beads, acrylic-styrene copolymer beads, melamine beads, polycarbonate beads, polystyrene beads, crosslinked polystyrene beads, polyvinyl chloride beads, benzoguanamine-melamine formaldehyde beads, and the like.
Examples of the inorganic fine particles include ZrO 2, TiO 2, Al 2 O 3, In 2 O 3, ZnO, SnO 2, Sb 2 O 3, and the like. Among these, TiO 2 , ZrO 2 , ZnO, and SnO 2 are particularly preferable.
前記微粒子の屈折率は、前記微粒子層のポリマーの屈折率と異なるものであれば特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができるが、1.55〜2.6が好ましく、1.58〜2.1がより好ましい。
前記微粒子の屈折率は、例えば自動屈折率測定器(KPR−2000、株式会社島津製作所製)を用い、屈折液の屈折率を測定してから、精密分光計(GMR−1DA、株式会社島津製作所製)で、シュリブスキー法により測定することができる。
The refractive index of the fine particles is not particularly limited as long as it is different from the refractive index of the polymer of the fine particle layer, and can be appropriately selected according to the purpose, but is preferably 1.55 to 2.6. 58-2.1 is more preferable.
The refractive index of the fine particles is determined by measuring the refractive index of the refractive liquid using, for example, an automatic refractive index measuring device (KPR-2000, manufactured by Shimadzu Corporation), and then a precision spectrometer (GMR-1DA, Shimadzu Corporation). ) And can be measured by the Shribsky method.
前記微粒子の平均粒径は、0.5μm〜10μmであることが好ましく、0.5μm〜6μmであることがより好ましい。前記微粒子の平均粒径が、10μmを超えると、光の殆どが前方散乱になり、散乱用微粒子による光の角度を変換する能力が低下してしまうことがある。一方、前記微粒子の平均粒径が、0.5μm未満であると、可視光の波長より小さくなり、ミー散乱がレーリー散乱の領域に変化し、微粒子の散乱効率の波長依存性が大きくなり、発光素子の色度が大きく変わってしまったり、光取り出し効率が低下することが予想される。
前記微粒子の平均粒径は、例えば日機装株式会社製ナノトラックUPA−EX150等の動的光散乱法を利用した装置や、電子顕微鏡写真の画像処理により測定することができる。
The average particle diameter of the fine particles is preferably 0.5 μm to 10 μm, and more preferably 0.5 μm to 6 μm. When the average particle diameter of the fine particles exceeds 10 μm, most of the light is forward scattered, and the ability to convert the angle of light by the fine particles for scattering may be reduced. On the other hand, if the average particle size of the fine particles is less than 0.5 μm, the wavelength becomes smaller than the wavelength of visible light, Mie scattering changes to the Rayleigh scattering region, the wavelength dependency of the scattering efficiency of the fine particles increases, and light emission It is expected that the chromaticity of the element will change greatly and the light extraction efficiency will decrease.
The average particle diameter of the fine particles can be measured, for example, by an apparatus using a dynamic light scattering method such as Nanotrack UPA-EX150 manufactured by Nikkiso Co., Ltd., or by image processing of an electron micrograph.
前記微粒子層における微粒子の体積充填率は、30%〜80%であることが好ましく、40%〜70%であることがより好ましい。前記体積充填率が、30%未満であると、微粒子層に入射してきた光が微粒子に散乱される確率が小さく、微粒子層の光角度を変換する能力が小さいので、微粒子層の厚みを充分に厚くしないと光取出し効率が低下することがある。また、前記微粒子層の厚みを厚くすることはコストの増加に繋がり、前記微粒子層の厚みのバラツキが大きくなり、発光面内の散乱効果にバラツキが生じるおそれがある。一方、前記体積充填率が、80%を超えると、前記微粒子層の表面が大きく荒れ、内部にも空洞が生じることで、前記微粒子層の物理的強度が低下することがある。
前記微粒子層における微粒子の体積充填率は、例えば重量測定法により測定することができる。まず、粒子比重測定装置(MARK3、株式会社ユニオン・エンジニアリング製)で粒子の比重を測定して、電子天秤(FZ−3000i、エー・アンド・デイ社製)で微粒子の重量を測定する。次に、作製した微粒子層の一部を切り取って、走査型電子顕微鏡(S−3400N、日立ハイテク株式会社製)で微粒子層の厚みを測定し、微粒子層における微粒子の体積充填率を求めることができる。
The volume filling rate of the fine particles in the fine particle layer is preferably 30% to 80%, and more preferably 40% to 70%. If the volume filling factor is less than 30%, the probability that light incident on the fine particle layer is scattered by the fine particles is small, and the ability to convert the light angle of the fine particle layer is small. If it is not thickened, the light extraction efficiency may decrease. Further, increasing the thickness of the fine particle layer leads to an increase in cost, resulting in a large variation in the thickness of the fine particle layer, which may cause a variation in the scattering effect in the light emitting surface. On the other hand, when the volume filling rate exceeds 80%, the surface of the fine particle layer is greatly roughened, and cavities are generated inside, whereby the physical strength of the fine particle layer may be lowered.
The volume filling rate of the fine particles in the fine particle layer can be measured, for example, by a gravimetric method. First, the specific gravity of particles is measured with a particle specific gravity measuring device (MARK3, manufactured by Union Engineering Co., Ltd.), and the weight of fine particles is measured with an electronic balance (FZ-3000i, manufactured by A & D). Next, a part of the produced fine particle layer is cut off, and the thickness of the fine particle layer is measured with a scanning electron microscope (S-3400N, manufactured by Hitachi High-Tech Co., Ltd.) to obtain the volume filling rate of the fine particles in the fine particle layer. it can.
−高屈折率微粒子−
前記高屈折率微粒子としては、屈折率が2.0以上であることが好ましく、更には2.4〜3.0であることが好ましい。;一次粒子の平均粒径が0.5nm〜100nmであることが好ましく、更には1nm〜80nm、特には1nm〜50nmであることが好ましい。
前記高屈折率微粒子の屈折率が2.0以上であれば、層の屈折率を効果的に高めることができ、前記屈折率が3.0以下であれば粒子が着色するなどの不都合がないので好ましい。また高屈折率微粒子の一次粒子の平均粒径が100nm以下であれば、形成される微粒子層のヘイズ値が高くなって層の透明性を損なうなどの不都合が生じないので好ましく、0.5nm以上であれば高い屈折率が保持されるので好ましい。
前記高屈折率微粒子の粒子径は、透過型電子顕微鏡(TEM)写真による平均一次粒子径で表す。平均一次粒子径はそれぞれの微粒子の最大径の平均値で表し、長軸径と短軸径を有する場合、各微粒子の長軸径の平均値を平均一次粒子径とする。
-High refractive index fine particles-
The high refractive index fine particles preferably have a refractive index of 2.0 or more, and more preferably 2.4 to 3.0. The average particle diameter of the primary particles is preferably 0.5 nm to 100 nm, more preferably 1 nm to 80 nm, and particularly preferably 1 nm to 50 nm.
If the refractive index of the high refractive index fine particles is 2.0 or more, the refractive index of the layer can be effectively increased, and if the refractive index is 3.0 or less, there is no inconvenience such as coloring of the particles. Therefore, it is preferable. Further, if the average particle diameter of the primary particles of the high refractive index fine particles is 100 nm or less, it is preferable because the haze value of the formed fine particle layer is increased and the transparency of the layer is not impaired. It is preferable because a high refractive index is maintained.
The particle diameter of the high refractive index fine particles is represented by an average primary particle diameter according to a transmission electron microscope (TEM) photograph. The average primary particle diameter is expressed as an average value of the maximum diameters of the respective fine particles. When the major axis diameter and the minor axis diameter are included, the average value of the major axis diameters of the respective fine particles is defined as the average primary particle diameter.
前記高屈折率微粒子としては、例えばTi、Zr、Ta、In、Nd、Sn、Sb、Zn,La、W、Ce、Nb、V、Sm、Y等の酸化物又は複合酸化物、硫化物を主成分とする粒子が挙げられる。ここで、主成分とは、粒子を構成する成分の中で最も含有量(質量%)が多い成分を意味する。本発明でより好ましい高屈折率微粒子はTi、Zr、Ta、In、Snから選ばれる少なくとも1種の金属元素を含む酸化物もしくは複合酸化物を主成分とする粒子である。 Examples of the high refractive index fine particles include oxides such as Ti, Zr, Ta, In, Nd, Sn, Sb, Zn, La, W, Ce, Nb, V, Sm, and Y, complex oxides, and sulfides. The particle | grains which have a main component are mentioned. Here, the main component means a component having the largest content (mass%) among the components constituting the particles. More preferable high refractive index fine particles in the present invention are particles mainly composed of an oxide or composite oxide containing at least one metal element selected from Ti, Zr, Ta, In, and Sn.
前記高屈折率微粒子には、粒子の中に種々の元素が含有されていても構わない(以下このような元素を含有元素ということがある)。
前記含有元素としては、例えば、Li、Si、Al、B、Ba、Co、Fe、Hg、Ag、Pt、Au、Cr、Bi、P、Sなどが挙げられる。酸化錫、酸化インジウムにおいては粒子の導電性を高めるために、Sb、Nb、P、B、In、V、ハロゲンなどの含有元素を含有させることが好ましく、特に、酸化アンチモンを5質量%〜20質量%含有させたものが最も好ましい。
The high refractive index fine particles may contain various elements in the particles (hereinafter, such elements may be referred to as containing elements).
Examples of the contained element include Li, Si, Al, B, Ba, Co, Fe, Hg, Ag, Pt, Au, Cr, Bi, P, and S. In the case of tin oxide and indium oxide, it is preferable to contain an element such as Sb, Nb, P, B, In, V, or halogen in order to increase the conductivity of the particles, and in particular, antimony oxide is contained in an amount of 5% by mass to 20%. Most preferred is a composition containing 1% by mass.
前記高屈折率微粒子は、含有元素としてCo、Zr、及びAlから選ばれる少なくとも1つの元素を含有する二酸化チタンを主成分とする無機微粒子(以下、「特定の酸化物」と称することもある)が挙げられる。これらの中でも、Coが特に好ましい。
Co、Al、及びZrの総含有量は、Tiに対し0.05質量%〜30質量%であることが好ましく、0.1質量%〜10質量%であることがより好ましく、0.2質量%〜7質量%であることが更に好ましく、0.3質量%〜5質量%であることが特に好ましく、0.5質量%〜3質量%であることが最も好ましい。
前記含有元素Co、Al、Zrは、二酸化チタンを主成分とする高屈折率微粒子の内部又は表面に存在する。二酸化チタンを主成分とする高屈折率微粒子の内部に存在することがより好ましく、内部と表面の両方に存在することが更に好ましい。これらの含有元素のうち金属元素は、酸化物として存在してもよい。
The high refractive index fine particles are inorganic fine particles mainly composed of titanium dioxide containing at least one element selected from Co, Zr, and Al as contained elements (hereinafter also referred to as “specific oxide”). Is mentioned. Among these, Co is particularly preferable.
The total content of Co, Al, and Zr is preferably 0.05% by mass to 30% by mass with respect to Ti, more preferably 0.1% by mass to 10% by mass, and 0.2% by mass. % To 7% by mass is more preferable, 0.3% to 5% by mass is particularly preferable, and 0.5% to 3% by mass is most preferable.
The contained elements Co, Al and Zr are present inside or on the surface of the high refractive index fine particles mainly composed of titanium dioxide. It is more preferable that it exists in the high refractive index fine particle mainly composed of titanium dioxide, and it is more preferable that it exists in both the inside and the surface. Among these contained elements, the metal element may exist as an oxide.
他の好ましい高屈折率微粒子としては、チタン元素と、酸化物が屈折率1.95以上となる金属元素から選ばれる少なくとも1種の金属元素(以下、「Met」とも略称する)との複合酸化物の粒子で、かつ該複合酸化物はCoイオン、Zrイオン及びAlイオンから選ばれる金属イオンの少なくとも1種がドープされてなる無機微粒子(「特定の複酸化物」と称することもある)が挙げられる。ここで、前記酸化物の屈折率が1.95以上となる金属元素としては、Ta、Zr、In、Nd、Sb、Sn、Biなどが挙げられる。これらの中でも、Ta、Zr、Sn、Biが特に好ましい。
前記特定の複合酸化物にドープされる金属イオンの含有量は、複合酸化物を構成する全金属[Ti+Met]量に対して、25質量%を超えない範囲で含有することが屈折率維持の観点から好ましく、0.05質量%〜10質量%がより好ましく、0.1質量%〜5質量%が更に好ましく、0.3質量%〜3質量%が特に好ましい。
As another preferable high refractive index fine particle, composite oxidation of titanium element and at least one metal element (hereinafter also abbreviated as “Met”) selected from metal elements whose oxide has a refractive index of 1.95 or more. In addition, the composite oxide includes inorganic fine particles doped with at least one metal ion selected from Co ions, Zr ions, and Al ions (sometimes referred to as “specific multi-oxide”). Can be mentioned. Here, examples of the metal element whose refractive index of the oxide is 1.95 or more include Ta, Zr, In, Nd, Sb, Sn, Bi, and the like. Among these, Ta, Zr, Sn, and Bi are particularly preferable.
From the viewpoint of maintaining the refractive index, the content of the metal ions doped in the specific composite oxide is within a range not exceeding 25 mass% with respect to the total amount of metal [Ti + Met] constituting the composite oxide. To 0.05 mass% to 10 mass%, more preferably 0.1 mass% to 5 mass%, and particularly preferably 0.3 mass% to 3 mass%.
ドープされた金属イオンは、金属イオンとして、又は金属原子のいずれの形態で存在してもよく、前記複合酸化物の表面から内部まで適宜に存在することができる。複合酸化物の表面と内部との両方に存在することが好ましい。 The doped metal ion may exist as a metal ion or in any form of a metal atom, and may appropriately exist from the surface to the inside of the composite oxide. It is preferable to exist both on the surface and inside of the composite oxide.
前記高屈折率微粒子は、結晶構造を有することが好ましい。前記結晶構造は、ルチル、ルチル/アナターゼの混晶、アナターゼが主成分であることが好ましく、特にルチル構造が主成分であることが好ましい。このことにより、前記特定の酸化物又は特定の複酸化物の高屈折率微粒子は、屈折率が1.9〜2.8を有することになり、好ましい。前記屈折率は、2.1〜2.8がより好ましく、2.2〜2.8が更に好ましい。 The high refractive index fine particles preferably have a crystal structure. The crystal structure is preferably composed mainly of rutile, a mixed crystal of rutile / anatase, and anatase, particularly preferably a rutile structure. Accordingly, the high refractive index fine particles of the specific oxide or specific double oxide have a refractive index of 1.9 to 2.8, which is preferable. The refractive index is more preferably 2.1 to 2.8, still more preferably 2.2 to 2.8.
上記した特定の金属元素又は金属イオンをドープする方法は、従来公知の方法を用いることができる。例えば、特開平5−330825号公報、特開平11−263620号公報、特表平11−512336号公報、ヨーロッパ公開特許第0335773号公報等に記載の方法;イオン注入法[例えば、権田俊一、石川順三、上条栄治編「イオンビーム応用技術」(株)シ−エムシー、1989年刊行、青木康、「表面科学」18巻(5)、262頁、1998、安保正一等、「表面科学」20巻(2)、60頁、1999等記載]等に従って製造できる。 A conventionally well-known method can be used for the method of doping the above-mentioned specific metal element or metal ion. For example, the methods described in JP-A-5-330825, JP-A-11-263620, JP-A-11-512336, European Patent No. 0335773, etc .; ion implantation method [for example, Shunichi Gonda, Ishikawa Junzo, Eiji Kamijo, “Ion Beam Application Technology” CMC Co., Ltd., published in 1989, Yasushi Aoki, “Surface Science” 18 (5), 262, 1998, Shoichi Anbo, “Surface Science” 20 (2), p. 60, 1999, etc.] and the like.
前記高屈折率微粒子は、表面処理してもよい。前記表面処理とは、無機化合物及び/又は有機化合物を用いて該粒子表面の改質を実施するもので、これにより高屈折率微粒子表面の濡れ性が調整され有機溶媒中での微粒子化、微粒子層用組成物中での分散性や分散安定性が向上する。粒子表面に物理化学的に吸着させる無機化合物としては、例えば、ケイ素を含有する無機化合物(SiO2等)、アルミニウムを含有する無機化合物[Al2O3、Al(OH)3等]、コバルトを含有する無機化合物(CoO2、Co2O3,Co3O4等)、ジルコニウムを含有する無機化合物[ZrO2、Zr(OH)4等]、鉄を含有する無機化合物(Fe2O3等)、などが挙げられる。 The high refractive index fine particles may be surface treated. The surface treatment is a modification of the surface of the particles using an inorganic compound and / or an organic compound, whereby the wettability of the surface of the high refractive index fine particles is adjusted, and the fine particles are formed in an organic solvent. Dispersibility and dispersion stability in the layer composition are improved. Examples of inorganic compounds adsorbed physicochemically on the particle surface include silicon-containing inorganic compounds (such as SiO 2 ), aluminum-containing inorganic compounds [Al 2 O 3 , Al (OH) 3, etc.], and cobalt. Inorganic compounds containing (CoO 2 , Co 2 O 3 , Co 3 O 4 etc.), inorganic compounds containing zirconium [ZrO 2 , Zr (OH) 4 etc.], inorganic compounds containing iron (Fe 2 O 3 etc.) ), Etc.
前記表面処理に用いる有機化合物としては、従来公知の金属酸化物や無機顔料等の無機フィラー類の表面改質剤を用いることができる。例えば、「顔料分散安定化と表面処理技術・評価」第一章(技術情報協会、2001年刊行)等に記載されている。 As the organic compound used for the surface treatment, conventionally known surface modifiers of inorganic fillers such as metal oxides and inorganic pigments can be used. For example, it is described in “Pigment Dispersion Stabilization and Surface Treatment Technology / Evaluation”, Chapter 1 (Technical Information Association, published in 2001).
具体的には、高屈折率微粒子表面と親和性を有する極性基を有する有機化合物、カップリング化合物が挙げられる。前記高屈折率微粒子表面と親和性を有する極性基としては、例えばカルボキシ基、ホスホノ基、ヒドロキシ基、メルカプト基、環状酸無水物基、アミノ基等が挙げられ、これらを分子中に少なくとも1種を含有する化合物が好ましい。例えば、長鎖脂肪族カルボン酸(例えばステアリン酸、ラウリン酸、オレイン酸、リノール酸、リノレイン酸等)、ポリオール化合物{例えばペンタエリスリトールトリアクリレート、ジペンタエリスリトールペンタアクリレート、ECH(エピクロルヒドリン)変性グリセロールトリアクリレート等}、ホスホノ基含有化合物{例えばEO(エチレンオキシド)変性リン酸トリアクリレート等}、アルカノールアミン{エチレンジアミンEO付加体(5モル)等}が挙げられる。 Specifically, an organic compound having a polar group having an affinity for the surface of the high refractive index fine particles and a coupling compound can be mentioned. Examples of the polar group having an affinity for the surface of the high refractive index fine particles include a carboxy group, a phosphono group, a hydroxy group, a mercapto group, a cyclic acid anhydride group, an amino group, and the like. Compounds containing are preferred. For example, long chain aliphatic carboxylic acids (eg, stearic acid, lauric acid, oleic acid, linoleic acid, linolenic acid, etc.), polyol compounds (eg, pentaerythritol triacrylate, dipentaerythritol pentaacrylate, ECH (epichlorohydrin) modified glycerol triacrylate Etc.], phosphono group-containing compounds {for example, EO (ethylene oxide) -modified phosphate triacrylate, etc.}, alkanolamines {ethylenediamine EO adducts (5 mol), etc.}.
前記カップリング化合物としては、従来公知の有機金属化合物が挙げられ、シランカップリング剤、チタネートカップリング剤、アルミネートカップリング剤等が含まれる。シランカップリング剤が最も好ましい。具体的には、例えば特開2002−9908号公報、特開2001−310423号公報の段落番号〔0011〕〜〔0015〕に記載の化合物等が挙げられる。これらの表面処理に用いる化合物は、2種類以上を併用することもできる。 As said coupling compound, a conventionally well-known organometallic compound is mentioned, A silane coupling agent, a titanate coupling agent, an aluminate coupling agent etc. are contained. Silane coupling agents are most preferred. Specific examples include compounds described in paragraph numbers [0011] to [0015] of JP-A Nos. 2002-9908 and 2001-310423. Two or more kinds of compounds used for these surface treatments can be used in combination.
前記高屈折率微粒子は、これをコアとして他の無機化合物からなるシェルを形成したコア/シェル構造の微粒子であることも好ましい。前記シェルとしては、Al、Si、及びZrから選ばれる少なくとも1種の元素からなる酸化物が好ましい。具体的には、例えば特開2001−166104号公報記載の内容が挙げられる。このことにより、二酸化チタンが有する光触媒活性を抑えることができ、微粒子層自身並びに微粒子層と接する上/下の両層のそれぞれの耐候性を著しく改良することができる。 The high refractive index fine particles are also preferably fine particles having a core / shell structure in which a shell made of another inorganic compound is formed using the high refractive index fine particles as a core. The shell is preferably an oxide composed of at least one element selected from Al, Si, and Zr. Specifically, for example, the contents described in JP-A-2001-166104 can be mentioned. As a result, the photocatalytic activity of titanium dioxide can be suppressed, and the weather resistance of the fine particle layer itself and the upper / lower layers in contact with the fine particle layer can be remarkably improved.
前記高屈折率微粒子の形状は、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができるが、例えば、米粒状、球形状、立方体状、紡錘形状又は不定形状が好ましい。前記高屈折率微粒子は単独で用いてもよいが、2種類以上を併用して用いることもできる。
前記高屈折率微粒子の含有量は、特に制限はなく、目的に応じて適宜選定することができるが、ポリマーの屈折率を1.55〜1.95とすることができる範囲であることが好ましい。
The shape of the high refractive index fine particles is not particularly limited and may be appropriately selected depending on the intended purpose. For example, a rice granular shape, a spherical shape, a cubic shape, a spindle shape or an indefinite shape is preferable. The high refractive index fine particles may be used alone or in combination of two or more.
The content of the high refractive index fine particles is not particularly limited and can be appropriately selected according to the purpose, but is preferably in a range in which the refractive index of the polymer can be 1.55 to 1.95. .
<<ポリマー>>
前記ポリマーとしては、(A)有機バインダー、並びに(B)加水分解性官能基を含有する有機金属化合物及びこの有機金属化合物の部分縮合物、の少なくともいずれかであることが好ましい。
<< Polymer >>
The polymer is preferably at least one of (A) an organic binder, (B) an organometallic compound containing a hydrolyzable functional group, and a partial condensate of this organometallic compound.
−(A)有機バインダー−
前記(A)の有機バインダーとしては、(1)従来公知の熱可塑性樹脂、
(2)従来公知の反応性硬化性樹脂と硬化剤との組み合わせ、又は
(3)バインダー前駆体(後述する硬化性の多官能モノマーや多官能オリゴマーなど)と重合開始剤との組み合わせ、から形成されるバインダーが挙げられる。
-(A) Organic binder-
As the organic binder (A), (1) a conventionally known thermoplastic resin,
(2) A combination of a conventionally known reactive curable resin and a curing agent, or (3) a combination of a binder precursor (such as a curable polyfunctional monomer or polyfunctional oligomer described below) and a polymerization initiator. Binders to be used.
前記(1)、(2)又は(3)の有機バインダーと、前記微粒子と、前記高屈折微粒子とを含有する微粒子層用組成物が調製されることが好ましい。この微粒子層用組成物は、支持体上に塗布され、塗膜が形成された後、バインダー成分に応じた方法で硬化されて微粒子層が形成される。硬化方法は、バインダー成分の種類に応じて適宜選択され、例えば加熱及び光照射の少なくともいずれかの手段により、硬化性化合物(例えば、多官能モノマーや多官能オリゴマーなど)の架橋反応又は重合反応を生起させる方法が挙げられる。なかでも、前記(3)の組み合わせを用いて光照射することにより硬化性化合物を架橋反応又は重合反応させて硬化したバインダーを形成する方法が好ましい。 It is preferable that a fine particle layer composition containing the organic binder (1), (2) or (3), the fine particles, and the highly refractive fine particles is prepared. This fine particle layer composition is coated on a support to form a coating film, and then cured by a method according to the binder component to form a fine particle layer. The curing method is appropriately selected depending on the type of the binder component. For example, a crosslinking reaction or a polymerization reaction of a curable compound (for example, a polyfunctional monomer or a polyfunctional oligomer) is performed by at least one of heating and light irradiation. The method to make it occur is mentioned. Especially, the method of forming the binder which hardened | cured the crosslinking reaction or the polymerization reaction of the curable compound by irradiating light using the combination of said (3) is preferable.
更に、微粒子層用組成物を塗布と同時又は塗布後に、微粒子の分散液に含有される分散剤を架橋反応又は重合反応させることが好ましい。 Furthermore, it is preferable that the dispersing agent contained in the fine particle dispersion is subjected to a crosslinking reaction or a polymerization reaction simultaneously with or after the fine particle layer composition is applied.
このようにして作製した硬化膜中のバインダーは、例えば、前記分散剤とバインダーの前駆体である硬化性の多官能モノマーや多官能オリゴマーとが、架橋又は重合反応し、バインダーに分散剤のアニオン性基が取りこまれた形となる。更に、硬化膜中のバインダーは、アニオン性基が高屈折率微粒子の分散状態を維持する機能を有するので、架橋又は重合構造がバインダーに皮膜形成能を付与して、高屈折率微粒子を含有する硬化膜中の物理強度、耐薬品性、耐候性を改良することができる。 The binder in the cured film produced in this way is, for example, a curable polyfunctional monomer or polyfunctional oligomer, which is a precursor of the dispersant, and the precursor of the binder undergoes a crosslinking or polymerization reaction, and the binder has an anion of the dispersant. It becomes a form in which a sex group is incorporated. Furthermore, since the binder in the cured film has a function of maintaining the dispersion state of the high refractive index fine particles, the crosslinked or polymerized structure imparts a film forming ability to the binder and contains the high refractive index fine particles. The physical strength, chemical resistance, and weather resistance in the cured film can be improved.
{熱可塑性樹脂(A−1)}
前記(1)の熱可塑性樹脂としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、ポリスチレン樹脂、ポリエステル樹脂、セルロース樹脂、ポリエーテル樹脂、塩化ビニル樹脂、酢酸ビニル樹脂、塩ビ−酸ビ共重合体樹脂、ポリアクリル樹脂、ポリメタアクリル樹脂、ポリオレフィン樹脂、ウレタン樹脂、シリコーン樹脂、イミド樹脂、などが挙げられる。
{Thermoplastic resin (A-1)}
There is no restriction | limiting in particular as a thermoplastic resin of said (1), According to the objective, it can select suitably, For example, a polystyrene resin, a polyester resin, a cellulose resin, a polyether resin, a vinyl chloride resin, a vinyl acetate resin, Examples thereof include a vinyl chloride-vinyl copolymer resin, a polyacrylic resin, a polymethacrylic resin, a polyolefin resin, a urethane resin, a silicone resin, and an imide resin.
{反応性硬化性樹脂と硬化剤との組み合わせ(A−2)}
前記(2)の反応性硬化性樹脂としては、熱硬化型樹脂及び/又は電離放射線硬化型樹脂を使用することが好ましい。
前記熱硬化型樹脂としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えばフェノール樹脂、尿素樹脂、ジアリルフタレート樹脂、メラミン樹脂、グアナミン樹脂、不飽和ポリエステル樹脂、ポリウレタン樹脂、エポキシ樹脂、アミノアルキッド樹脂、メラミン−尿素共縮合樹脂、珪素樹脂、ポリシロキサン樹脂などが挙げられる。
前記電離放射線硬化型樹脂には、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、ラジカル重合性不飽和基{(メタ)アクリロイルオキシ基、ビニルオキシ基、スチリル基、ビニル基等}及び/又はカチオン重合性基(エポキシ基、チオエポキシ基、ビニルオキシ基、オキセタニル基等)の官能基を有する樹脂で、例えば、比較的低分子量のポリエステル樹脂、ポリエーテル樹脂、(メタ)アクリル樹脂、エポキシ樹脂、ウレタン樹脂、アルキッド樹脂、スピロアセタール樹脂、ポリブタジエン樹脂、ポリチオールポリエン樹脂などが挙げられる。
{Combination of reactive curable resin and curing agent (A-2)}
As the reactive curable resin (2), it is preferable to use a thermosetting resin and / or an ionizing radiation curable resin.
There is no restriction | limiting in particular as said thermosetting resin, According to the objective, it can select suitably, For example, a phenol resin, urea resin, diallyl phthalate resin, melamine resin, guanamine resin, unsaturated polyester resin, polyurethane resin, epoxy Resins, amino alkyd resins, melamine-urea cocondensation resins, silicon resins, polysiloxane resins and the like can be mentioned.
The ionizing radiation curable resin is not particularly limited and may be appropriately selected depending on the intended purpose. For example, a radical polymerizable unsaturated group {(meth) acryloyloxy group, vinyloxy group, styryl group, vinyl group, etc. } And / or a resin having a functional group such as a cationic polymerizable group (epoxy group, thioepoxy group, vinyloxy group, oxetanyl group, etc.), for example, a relatively low molecular weight polyester resin, polyether resin, (meth) acrylic resin, Examples thereof include epoxy resins, urethane resins, alkyd resins, spiroacetal resins, polybutadiene resins, and polythiol polyene resins.
これらの反応性硬化性樹脂に必要に応じて、架橋剤(エポキシ化合物、ポリイソシアネート化合物、ポリオール化合物、ポリアミン化合物、メラミン化合物等)、重合開始剤(アゾビス化合物、有機過酸化化合物、有機ハロゲン化合物、オニウム塩化合物、ケトン化合物等のUV光開始剤等)等の硬化剤、重合促進剤(有機金属化合物、酸化合物、塩基性化合物等)等の従来公知の化合物を加えて使用する。具体的には、例えば、山下普三、金子東助「架橋剤ハンドブック」(大成社、1981年刊行)記載の化合物が挙げられる。 As necessary for these reactive curable resins, a crosslinking agent (epoxy compound, polyisocyanate compound, polyol compound, polyamine compound, melamine compound, etc.), polymerization initiator (azobis compound, organic peroxide compound, organic halogen compound, Conventionally known compounds such as curing agents such as onium salt compounds and UV photoinitiators such as ketone compounds) and polymerization accelerators (organic metal compounds, acid compounds, basic compounds, etc.) are used. Specific examples include compounds described by Fuzo Yamashita and Tosuke Kaneko “Crosslinking Agent Handbook” (Taiseisha, published in 1981).
{バインダー前駆体と重合開始剤との組み合わせ(A−3)}
以下、硬化したバインダーの好ましい形成方法である前記(3)の組み合わせを用いて、光照射により硬化性化合物を架橋又は重合反応させて硬化したバインダーを形成する方法について、主に説明する。
{Combination of binder precursor and polymerization initiator (A-3)}
Hereinafter, a method for forming a cured binder by crosslinking or polymerizing a curable compound by light irradiation using the combination of (3), which is a preferable method for forming a cured binder, will be mainly described.
前記バインダーの前駆体である光硬化性の多官能モノマーや多官能オリゴマーの官能基としては、ラジカル重合性官能基、及びカチオン重合性官能基のいずれでもよい。 The functional group of the photocurable polyfunctional monomer or polyfunctional oligomer which is the precursor of the binder may be any of a radical polymerizable functional group and a cationic polymerizable functional group.
前記ラジカル重合性官能基としては、例えば(メタ)アクリロイル基、ビニルオキシ基、スチリル基、アリル基等のエチレン性不飽和基などが挙げられる。これらの中でも、(メタ)アクリロイル基が特に好ましく、分子内に2個以上のラジカル重合性基を含有する多官能モノマーを含有することが特に好ましい。 Examples of the radical polymerizable functional group include ethylenically unsaturated groups such as a (meth) acryloyl group, a vinyloxy group, a styryl group, and an allyl group. Among these, a (meth) acryloyl group is particularly preferable, and a polyfunctional monomer containing two or more radically polymerizable groups in the molecule is particularly preferable.
前記ラジカル重合性多官能モノマーとしては、末端エチレン性不飽和結合を少なくとも2個有する化合物から選ばれることが好ましい。好ましくは、分子中に2〜6個の末端エチレン性不飽和結合を有する化合物である。このような化合物群はポリマー材料分野において広く知られるものであり、本発明においては、これらを特に限定なく用いることができる。これらは、例えば、モノマー、プレポリマー(即ち2量体、3量体及びオリゴマー)又はそれらの混合物、及びそれらの共重合体などの化学的形態をもつことができる。 The radical polymerizable polyfunctional monomer is preferably selected from compounds having at least two terminal ethylenically unsaturated bonds. Preferably, it is a compound having 2 to 6 terminal ethylenically unsaturated bonds in the molecule. Such a compound group is widely known in the polymer material field, and these can be used without particular limitation in the present invention. These can have chemical forms such as monomers, prepolymers (ie, dimers, trimers and oligomers) or mixtures thereof, and copolymers thereof.
前記ラジカル重合性モノマーとしては、例えば不飽和カルボン酸(例えば、アクリル酸、メタクリル酸、イタコン酸、クロトン酸、イソクロトン酸、マレイン酸等)や、そのエステル類、アミド類などが挙げられる。これらの中でも、不飽和カルボン酸と脂肪族多価アルコール化合物とのエステル、不飽和カルボン酸と脂肪族多価アミン化合物とのアミド類が特に好ましい。 Examples of the radical polymerizable monomer include unsaturated carboxylic acids (for example, acrylic acid, methacrylic acid, itaconic acid, crotonic acid, isocrotonic acid, maleic acid, etc.), esters thereof, amides, and the like. Among these, an ester of an unsaturated carboxylic acid and an aliphatic polyhydric alcohol compound, and an amide of an unsaturated carboxylic acid and an aliphatic polyamine compound are particularly preferable.
また、ヒドロキシル基、アミノ基、メルカプト基等の求核性置換基を有する不飽和カルボン酸エステル類やアミド類と、単官能もしくは多官能イソシアネート類、エポキシ類との付加反応物、多官能のカルボン酸との脱水縮合反応物等も好適に使用される。また、イソシアナート基やエポキシ基等の親電子性置換基を有する不飽和カルボン酸エステル又はアミド類と単官能もしくは多官能のアルコール類、アミン類及びチオール類との反応物も好適である。更に別の例として、前記の不飽和カルボン酸の代わりに、不飽和ホスホン酸、スチレン等に置き換えた化合物群を使用することも可能である。 Also, addition reaction products of unsaturated carboxylic acid esters and amides having a nucleophilic substituent such as hydroxyl group, amino group and mercapto group with monofunctional or polyfunctional isocyanates and epoxies, polyfunctional carboxylic acids. A dehydration condensation reaction product with an acid or the like is also preferably used. A reaction product of an unsaturated carboxylic acid ester or amide having an electrophilic substituent such as an isocyanate group or an epoxy group with a monofunctional or polyfunctional alcohol, amine or thiol is also suitable. As yet another example, a compound group in which an unsaturated phosphonic acid, styrene, or the like is substituted for the unsaturated carboxylic acid may be used.
脂肪族多価アルコール化合物としては、例えばアルカンジオール、アルカントリオール、シクロヘキサンジオール、シクロヘキサントリオール、イノシットール、シクロヘキサンジメタノール、ペンタエリスリトール、ソルビトール、ジペンタエリスリトール、トリペンタエリスリトール、グリセリン、ジグリセリン等が挙げられる。これら脂肪族多価アルコール化合物と、不飽和カルボン酸との重合性エステル化合物(モノエステル又はポリエステル)としては、例えば、特開2001−139663号公報の段落番号〔0026〕〜〔0027〕に記載の化合物が挙げられる。 Examples of the aliphatic polyhydric alcohol compound include alkanediol, alkanetriol, cyclohexanediol, cyclohexanetriol, inositol, cyclohexanedimethanol, pentaerythritol, sorbitol, dipentaerythritol, tripentaerythritol, glycerin, diglycerin and the like. Examples of polymerizable ester compounds (monoesters or polyesters) of these aliphatic polyhydric alcohol compounds and unsaturated carboxylic acids include those described in paragraph numbers [0026] to [0027] of JP-A No. 2001-139663. Compounds.
その他の重合性エステルとしては、例えば、ビニルメタクリレート、アリルメタクリレート、アリルアクリレート、特公昭46−27926号公報、特公昭51−47334号公報、特開昭57−196231号公報等に記載の脂肪族アルコール系エステル類や、特開平2−226149号公報等に記載の芳香族系骨格を有するもの、特開平1−165613号公報に記載のアミノ基を有するもの等も好適に用いられる。 Examples of other polymerizable esters include, for example, vinyl alcohol, allyl methacrylate, allyl acrylate, aliphatic alcohols described in JP-B-46-27926, JP-B-51-47334, JP-A-57-196231, and the like. Those having an ester group, those having an aromatic skeleton described in JP-A-2-226149 and those having an amino group described in JP-A-1-165613 are also preferably used.
更に脂肪族多価アミン化合物と不飽和カルボン酸とから形成される重合性アミドの具体例としては、メチレンビス(メタ)アクリルアミド、1,6−ヘキサメチレンビス(メタ)アクリルアミド、ジエチレントリアミントリス(メタ)アクリルアミド、キシリレンビス(メタ)アクリルアミド、特公昭54−21726号公報記載のシクロヘキシレン構造を有するもの等を挙げることができる。 Specific examples of polymerizable amides formed from aliphatic polyvalent amine compounds and unsaturated carboxylic acids include methylene bis (meth) acrylamide, 1,6-hexamethylene bis (meth) acrylamide, and diethylenetriamine tris (meth) acrylamide. And xylylene bis (meth) acrylamide, and those having a cyclohexylene structure described in JP-B No. 54-21726.
更にまた、1分子中に2個以上の重合性ビニル基を含有するビニルウレタン化合物(特公昭48−41708号公報等)、ウレタンアクリレート類(特公平2−16765号公報等)、エチレンオキサイド系骨格を有するウレタン化合物(特公昭62−39418号公報等)、ポリエステルアクリレート類(特公昭52−30490号公報等)、更に、日本接着協会誌20巻7号 300〜308頁(1984年)に記載の光硬化性モノマー及びオリゴマーも使用することができる。これらラジカル重合性の多官能モノマーは、2種類以上を併用してもよい。 Furthermore, vinylurethane compounds containing two or more polymerizable vinyl groups in one molecule (Japanese Patent Publication No. 48-41708, etc.), urethane acrylates (Japanese Patent Publication No. 2-16765, etc.), ethylene oxide skeleton A urethane compound having a diol (Japanese Examined Patent Publication No. Sho 62-39418), polyester acrylates (Japanese Examined Patent Publication No. Sho 52-30490, etc.), and further described in Journal of Japan Adhesion Association Vol. 20, No. 7, 300-308 (1984) Photocurable monomers and oligomers can also be used. Two or more kinds of these radical polymerizable polyfunctional monomers may be used in combination.
次に、前記微粒子層のバインダーの形成に用いることができるカチオン重合性基含有の化合物(以下、「カチオン重合性化合物」又は「カチオン重合性有機化合物」とも称する)について説明する。 Next, a cation polymerizable group-containing compound (hereinafter also referred to as “cation polymerizable compound” or “cation polymerizable organic compound”) that can be used for forming the binder of the fine particle layer will be described.
前記カチオン重合性化合物は、活性エネルギー線感受性カチオン重合開始剤の存在下に活性エネルギー線を照射したときに重合反応及び/又は架橋反応を生ずる化合物のいずれもが使用でき、代表例としては、エポキシ化合物、環状チオエーテル化合物、環状エーテル化合物、スピロオルソエステル化合物、ビニル炭化水素化合物、ビニルエーテル化合物などを挙げることができる。前記カチオン重合性有機化合物のうちの1種を用いても2種以上を用いてもよい。 As the cationic polymerizable compound, any compound that undergoes a polymerization reaction and / or a crosslinking reaction when irradiated with an active energy ray in the presence of an active energy ray-sensitive cationic polymerization initiator can be used. Examples thereof include a compound, a cyclic thioether compound, a cyclic ether compound, a spiro orthoester compound, a vinyl hydrocarbon compound, and a vinyl ether compound. One or more of the cationically polymerizable organic compounds may be used.
前記カチオン重合性基含有化合物としては、1分子中のカチオン重合性基の数は2〜10個が好ましく、2〜5個がより好ましい。前記化合物の重量平均分子量は3,000以下が好ましく、200〜2,000がより好ましく、400〜1,500が更に好ましい。前記重量平均分子量が、前記下限値以上であれば、皮膜形成過程での揮発が問題となるなどの不都合が生じることがなく、前記上限値以下であれば、微粒子層用組成物との相溶性が悪くなるなどの問題を生じないので好ましい。 As the cation polymerizable group-containing compound, the number of cation polymerizable groups in one molecule is preferably 2 to 10, and more preferably 2 to 5. The weight average molecular weight of the compound is preferably 3,000 or less, more preferably 200 to 2,000, and still more preferably 400 to 1,500. If the weight average molecular weight is equal to or higher than the lower limit, there is no inconvenience such as a problem of volatilization during the film formation process. If the weight average molecular weight is equal to or lower than the upper limit, the compatibility with the composition for the fine particle layer is not caused. Is preferable because it does not cause problems such as deterioration.
前記エポキシ化合物としては、例えば脂肪族エポキシ化合物、芳香族エポキシ化合物が挙げられる。 Examples of the epoxy compound include aliphatic epoxy compounds and aromatic epoxy compounds.
前記脂肪族エポキシ化合物としては、例えば、脂肪族多価アルコール又はそのアルキレンオキサイド付加物のポリグリシジルエーテル、脂肪族長鎖多塩基酸のポリグリシジルエステル、グリシジルアクリレートやグリシジルメタクリレートのホモポリマー、コポリマーなどを挙げることができる。更に、前記のエポキシ化合物以外にも、例えば、脂肪族高級アルコールのモノグリシジルエーテル、高級脂肪酸のグリシジルエステル、エポキシ化大豆油、エポキシステアリン酸ブチル、エポキシステアリン酸オクチル、エポキシ化アマニ油、エポキシ化ポリブタジエンなどを挙げることができる。また、脂環式エポキシ化合物としては、少なくとも1個の脂環族環を有する多価アルコールのポリグリシジルエーテル、又は不飽和脂環族環(例えば、シクロヘキセン、シクロペンテン、ジシクロオクテン、トリシクロデセン等)含有化合物を過酸化水素、過酸等の適当な酸化剤でエポキシ化して得られるシクロヘキセンオキサイド又はシクロペンテンオキサイド含有化合物などを挙げることができる。 Examples of the aliphatic epoxy compounds include polyglycidyl ethers of aliphatic polyhydric alcohols or alkylene oxide adducts thereof, polyglycidyl esters of aliphatic long-chain polybasic acids, homopolymers and copolymers of glycidyl acrylate and glycidyl methacrylate, and the like. be able to. In addition to the above epoxy compounds, for example, monoglycidyl ethers of higher aliphatic alcohols, glycidyl esters of higher fatty acids, epoxidized soybean oil, butyl epoxy stearate, octyl epoxy stearate, epoxidized linseed oil, epoxidized polybutadiene And so on. Examples of the alicyclic epoxy compound include polyglycidyl ethers of polyhydric alcohols having at least one alicyclic ring, or unsaturated alicyclic rings (for example, cyclohexene, cyclopentene, dicyclooctene, tricyclodecene, etc. ) Cyclohexene oxide or cyclopentene oxide-containing compound obtained by epoxidizing the containing compound with a suitable oxidizing agent such as hydrogen peroxide or peracid.
前記芳香族エポキシ化合物としては、例えば少なくとも1個の芳香核を有する1価もしくは多価のフェノール、又はそのアルキレンオキサイド付加体のモノもしくはポリグリシジルエーテルを挙げることができる。これらのエポキシ化合物として、例えば、特開平11−242101号公報中の段落番号〔0084〕〜〔0086〕に記載の化合物、特開平10−158385号公報中の段落番号〔0044〕〜〔0046〕に記載の化合物等が挙げられる。 Examples of the aromatic epoxy compound include mono- or polyglycidyl ethers of monovalent or polyvalent phenols having at least one aromatic nucleus, or alkylene oxide adducts thereof. Examples of these epoxy compounds include compounds described in paragraphs [0084] to [0086] of JP-A-11-242101, and paragraphs [0044] to [0046] of JP-A-10-158385. And the compounds described.
これらのエポキシ化合物のうち、速硬化性を考慮すると、芳香族エポキシド及び脂環式エポキシドが好ましく、脂環式エポキシドが更に好ましい。前記エポキシ化合物の1種を単独で使用してもよいが、2種以上を適宜組み合わせて使用してもよい。 Of these epoxy compounds, aromatic epoxides and alicyclic epoxides are preferable, and alicyclic epoxides are more preferable in view of fast curability. One of the epoxy compounds may be used alone, or two or more may be used in appropriate combination.
環状チオエーテル化合物としては、前記エポキシ化合物のエポキシ環の代わりに、チオエポキシ環を有する化合物が挙げられる。 Examples of the cyclic thioether compound include compounds having a thioepoxy ring instead of the epoxy ring of the epoxy compound.
環状エーテル化合物としてのオキセタニル基を含有する化合物としては、具体的には、例えば特開2000−239309号公報の段落番号〔0024〕〜〔0025〕に記載の化合物等が挙げられる。これらの化合物は、エポキシ基含有化合物と併用することが好ましい。 Specific examples of the compound containing an oxetanyl group as the cyclic ether compound include compounds described in paragraphs [0024] to [0025] of JP-A No. 2000-239309. These compounds are preferably used in combination with an epoxy group-containing compound.
スピロオルソエステル化合物としては、例えば特表2000−506908号公報等に記載の化合物を挙げることができる。 Examples of the spiro orthoester compound include compounds described in JP 2000-506908 A.
ビニル炭化水素化合物としては、例えばスチレン化合物、ビニル基置換脂環炭化水素化合物(ビニルシクロヘキサン、ビニルビシクロヘプテン等)、前記ラジカル重合性モノマーで記載の化合物、プロペニル化合物{"J.Polymer Science:Part A:Polymer Chemistry",32巻2895頁(1994年)記載等}、アルコキシアレン化合物{"J.Polymer Science:Part A:Polymer Chemistry",33巻2493頁(1995年)記載等}、ビニル化合物{"J.Polymer Science:Part A:Polymer Chemistry",34巻1015頁(1996年)、特開2002−29162号公報等記載}、イソプロペニル化合物{"J.Polymer Science:Part A:Polymer Chemistry",34巻2051頁(1996年)記載等}などが挙げられる。これらは2種以上を適宜組み合わせて使用してもよい。 Examples of vinyl hydrocarbon compounds include styrene compounds, vinyl group-substituted alicyclic hydrocarbon compounds (vinyl cyclohexane, vinyl bicycloheptene, etc.), compounds described in the above radical polymerizable monomers, propenyl compounds {"J. Polymer Science: Part". A: Polymer Chemistry ", vol. 32, page 2895 (1994), etc.}, alkoxy allene compounds {" J. Polymer Science: Part A: Polymer Chemistry ", vol. 33, page 2493 (1995), etc.}, vinyl compounds { "J. Polymer Science: Part A: Polymer Chemistry", 34, 1015 (1996), JP-A-2002-29162, etc.}, isopropenyl compound {"J. Polymer Science: Part A: Polymer Chemistry ", Vol. 34, page 2051 (1996), etc.}. You may use these in combination of 2 or more types as appropriate.
また、前記多官能性化合物は、前記のラジカル重合性基及びカチオン重合性基から選ばれる少なくとも各1種を少なくとも分子内に含有する化合物を用いることが好ましい。例えば、特開平8−277320号公報中の段落番号〔0031〕〜〔0052〕に記載の化合物、特開2000−191737号公報中の段落番号〔0015〕に記載の化合物等が挙げられる。本発明に供される化合物は、これらに限定されるものではない。 The polyfunctional compound is preferably a compound containing at least one of each selected from the radical polymerizable group and the cationic polymerizable group in the molecule. Examples thereof include compounds described in paragraph numbers [0031] to [0052] in JP-A-8-277320, compounds described in paragraph number [0015] in JP-A 2000-191737, and the like. The compounds used in the present invention are not limited to these.
以上述べたラジカル重合性化合物とカチオン重合性化合物とを、ラジカル重合性化合物:カチオン重合性化合物の質量比率で、90:10〜20:80の割合で含有していることが好ましく、80:20〜30:70の割合で含有していることがより好ましい。 The radical polymerizable compound and the cationic polymerizable compound described above are preferably contained in a mass ratio of radical polymerizable compound: cation polymerizable compound in a ratio of 90:10 to 20:80, and 80:20 It is more preferable to contain in the ratio of -30: 70.
次に、前記(3)の組み合わせにおいて、バインダー前駆体と組み合わせて用いられる重合開始剤について詳述する。 Next, the polymerization initiator used in combination with the binder precursor in the combination (3) will be described in detail.
前記重合開始剤としては、熱重合開始剤、光重合開始剤などが挙げられる。
前記重合開始剤は、光及び/又は熱照射により、ラジカルもしくは酸を発生する化合物であることが好ましい。前記光重合開始剤は、極大吸収波長が400nm以下であることが好ましい。このように吸収波長を紫外線領域にすることにより、取り扱いを白灯下で実施することができる。また、近赤外線領域に極大吸収波長を持つ化合物を用いることもできる。
Examples of the polymerization initiator include a thermal polymerization initiator and a photopolymerization initiator.
The polymerization initiator is preferably a compound that generates radicals or acids upon irradiation with light and / or heat. The photopolymerization initiator preferably has a maximum absorption wavelength of 400 nm or less. Thus, the handling can be performed under a white light by setting the absorption wavelength to the ultraviolet region. A compound having a maximum absorption wavelength in the near infrared region can also be used.
前記ラジカルを発生する化合物は、光及び/又は熱照射によりラジカルを発生し、重合性の不飽和基を有する化合物の重合を、開始、促進させる化合物を指す。公知の重合開始剤や結合解離エネルギーの小さな結合を有する化合物などを、適宜、選択して用いることができる。また、ラジカルを発生する化合物は、単独で又は2種以上を併用して用いることができる。 The compound that generates radicals refers to a compound that generates radicals by irradiation with light and / or heat, and initiates and accelerates polymerization of a compound having a polymerizable unsaturated group. A known polymerization initiator or a compound having a bond with a small bond dissociation energy can be appropriately selected and used. Moreover, the compound which generate | occur | produces a radical can be used individually or in combination of 2 or more types.
前記ラジカルを発生する化合物としては、例えば、従来公知の有機過酸化化合物、アゾ系重合開始剤等の熱ラジカル重合開始剤、有機過酸化化合物(特開2001−139663号公報等)、アミン化合物(特公昭44−20189号公報記載)、メタロセン化合物(特開平5−83588号公報、特開平1−304453号公報等記載)、ヘキサアリールビイミダゾール化合物(米国特許第3,479,185号明細書等記載)、ジスルホン化合物(特開平5−239015号公報、特開昭61−166544号公報等)、有機ハロゲン化化合物、カルボニル化合物、有機ホウ酸化合物等の光ラジカル重合開始剤が挙げられる。 Examples of the compound that generates radicals include conventionally known organic peroxide compounds, thermal radical polymerization initiators such as azo polymerization initiators, organic peroxide compounds (JP-A No. 2001-139663, etc.), amine compounds ( JP-B-44-20189), metallocene compounds (described in JP-A-5-83588, JP-A-1-304453, etc.), hexaarylbiimidazole compounds (US Pat. No. 3,479,185, etc.) And a radical photopolymerization initiator such as an organic halogenated compound, a carbonyl compound, and an organic boric acid compound, etc., and disulfone compounds (JP-A-5-239015, JP-A-61-166544, etc.).
前記有機ハロゲン化化合物としては、具体的には、若林等の"Bull.Chem.Soc Japan",42巻2924頁(1969年)、米国特許第3,905,815号明細書、特開平5−27830号公報、M.P.Hutt,"J.Heterocyclic Chemistry",1巻(3号)、(1970年)」等に記載の化合物が挙げられ、特に、トリハロメチル基が置換したオキサゾール化合物:s−トリアジン化合物が挙げられる。より好適には、少なくとも一つのモノ、ジ又はトリハロゲン置換メチル基がs−トリアジン環に結合したs−トリアジン誘導体が挙げられる。 Specific examples of the organic halogenated compounds include Wakabayashi et al., “Bull. Chem. Soc Japan”, 42, 2924 (1969), US Pat. No. 3,905,815, 27830, M.M. P. Hutt, “J. Heterocyclic Chemistry”, Vol. 1 (No. 3), (1970) ”and the like, and in particular, an oxazole compound substituted with a trihalomethyl group: an s-triazine compound. More preferable examples include s-triazine derivatives in which at least one mono, di, or trihalogen-substituted methyl group is bonded to the s-triazine ring.
前記カルボニル化合物としては、例えば、「最新 UV硬化技術」60ページ〜62ページ[株式会社技術情報協会刊、1991年]、特開平8−134404号公報の段落番号〔0015〕〜〔0016〕、特開平11−217518号公報の段落番号〔0029〕〜〔0031〕に記載の化合物などが挙げられる。また、アセトフェノン系、ヒドロキシアセトフェノン系、ベンゾフェノン系、チオキサン系、ベンゾインエチルエーテル、ベンゾインイソブチルエーテル等のベンゾイン化合物、p−ジメチルアミノ安息香酸エチル、p−ジエチルアミノ安息香酸エチル等の安息香酸エステル誘導体、ベンジルジメチルケタール、アシルフォスフィンオキサイドなどが挙げられる。 Examples of the carbonyl compound include, for example, “Latest UV Curing Technology”, pages 60 to 62 [published by Technical Information Association, 1991], paragraphs [0015] to [0016] of JP-A-8-134404, Examples include the compounds described in paragraph numbers [0029] to [0031] of Kaihei 11-217518. Also, benzoin compounds such as acetophenone, hydroxyacetophenone, benzophenone, thioxan, benzoin ethyl ether, benzoin isobutyl ether, benzoic acid ester derivatives such as ethyl p-dimethylaminobenzoate, ethyl p-diethylaminobenzoate, benzyldimethyl Examples include ketal and acylphosphine oxide.
前記有機ホウ酸塩化合物としては、例えば、特許第2764769号、特開2002−116539号等の各公報、及び、Kunz,Martin,"Rad.Tech'98.Proceeding April 19〜22,1998,Chicago"等に記載される有機ホウ酸塩記載される化合物が挙げられる。例えば、前記特開2002−116539号公報の段落番号〔0022〕〜〔0027〕に記載の化合物が挙げられる。またその他の有機ホウ素化合物としては、特開平6−348011号公報、特開平7−128785号公報、特開平7−140589号公報、特開平7−306527号公報、特開平7−292014号公報等の有機ホウ素遷移金属配位錯体等が具体例として挙げられる。 Examples of the organic borate compound include, for example, Japanese Patent Nos. 2764769 and 2002-116539, and Kunz, Martin, “Rad. Tech'98. Proceeding April 19-22, 1998, Chicago”. And the organic borates described in the above. For example, the compounds described in paragraphs [0022] to [0027] of JP-A-2002-116539 can be mentioned. Examples of other organic boron compounds include JP-A-6-348011, JP-A-7-128785, JP-A-7-140589, JP-A-7-306527, and JP-A-7-292014. Specific examples include organoboron transition metal coordination complexes.
これらのラジカル発生化合物は、1種のみを添加しても、2種以上を併用してもよい。添加量としては、ラジカル重合性モノマー全量に対し、0.1質量%〜30質量%であることが好ましく、0.5質量%〜25質量%であることがより好ましく、1質量%〜20質量%であることが更に好ましい。前記添加量の範囲において、微粒子層用組成物の経時安定性が問題なく高い重合性となる。 These radical generating compounds may be added alone or in combination of two or more. As addition amount, it is preferable that it is 0.1 mass%-30 mass% with respect to radical polymerization monomer whole quantity, It is more preferable that it is 0.5 mass%-25 mass%, 1 mass%-20 mass% % Is more preferable. In the range of the addition amount, the temporal stability of the composition for the fine particle layer becomes highly polymerizable without any problem.
次に、光重合開始剤として用いることができる光酸発生剤について詳述する。
前記光酸発生剤としては、光カチオン重合の光開始剤、色素類の光消色剤、光変色剤、又はマイクロレジスト等に使用されている公知の光酸発生剤等、公知の化合物及びそれらの混合物等が挙げられる。また、前記光酸発生剤としては、例えば、有機ハロゲン化化合物、ジスルホン化合物、オニウム化合物などが挙げられる。これらの中でも、有機ハロゲン化化合物、ジスルホン化合物が特に好ましい。前記有機ハロゲン化合物、ジスルホン化合物の具体例は、前記ラジカルを発生する化合物の記載と同様のものが挙げられる。
Next, a photoacid generator that can be used as a photopolymerization initiator will be described in detail.
Examples of the photoacid generator include known compounds such as photoinitiators for photocationic polymerization, photodecolorants for dyes, photochromic agents, or known photoacid generators used in microresists, and the like. And the like. Examples of the photoacid generator include organic halogenated compounds, disulfone compounds, onium compounds, and the like. Among these, organic halogenated compounds and disulfone compounds are particularly preferable. Specific examples of the organic halogen compound and the disulfone compound are the same as those described for the compound generating the radical.
前記オニウム化合物としては、例えばジアゾニウム塩、アンモニウム塩、イミニウム塩、ホスホニウム塩、ヨードニウム塩、スルホニウム塩、アルソニウム塩、セレノニウム塩等が挙げられ、例えば特開2002−29162号公報の段落番号〔0058〕〜〔0059〕に記載の化合物、などが挙げられる。 Examples of the onium compounds include diazonium salts, ammonium salts, iminium salts, phosphonium salts, iodonium salts, sulfonium salts, arsonium salts, selenonium salts, and the like, for example, paragraph numbers [0058] to JP-A-2002-29162. And the compounds described in [0059].
前記酸発生剤としては、オニウム塩が特に好適に用いられ、中でも、ジアゾニウム塩、ヨードニウム塩、スルホニウム塩、イミニウム塩が、光重合開始の光感度、化合物の素材安定性等の点から好ましい。 As the acid generator, an onium salt is particularly preferably used, and among them, a diazonium salt, an iodonium salt, a sulfonium salt, and an iminium salt are preferable from the viewpoint of photosensitivity at the start of photopolymerization, material stability of the compound and the like.
前記オニウム塩の具体例としては、例えば、特開平9−268205号公報の段落番号〔0035〕に記載のアミル化されたスルホニウム塩、特開2000−71366号公報の段落番号〔0010〕〜〔0011〕に記載のジアリールヨードニウム塩又はトリアリールスルホニウム塩、特開2001−288205号公報の段落番号〔0017〕に記載のチオ安息香酸S−フェニルエステルのスルホニウム塩、特開2001−133696号公報の段落番号〔0030〕〜〔0033〕に記載のオニウム塩等が挙げられる。 Specific examples of the onium salt include, for example, an amylated sulfonium salt described in paragraph [0035] of JP-A-9-268205, and paragraphs [0010] to [0011] of JP-A-2000-71366. A diaryl iodonium salt or a triarylsulfonium salt described in JP-A-2001-288205, a sulfonium salt of thiobenzoic acid S-phenyl ester described in JP-A-2001-288205, a paragraph number in JP-A-2001-133696 Examples include the onium salts described in [0030] to [0033].
前記光酸発生剤の他の例としては、特開2002−29162号公報の段落番号〔0059〕〜〔0062〕に記載の有機金属/有機ハロゲン化物、o−ニトロベンジル型保護基を有する光酸発生剤、光分解してスルホン酸を発生する化合物(イミノスルフォネート等)等の化合物が挙げられる。 Other examples of the photoacid generator include organic metal / organic halides described in JP-A-2002-29162, paragraphs [0059] to [0062], and photoacids having an o-nitrobenzyl type protecting group. Examples thereof include compounds such as a generator and a compound that generates photosulfonic acid to generate sulfonic acid (such as iminosulfonate).
これらの酸発生剤は、1種のみをそれぞれ単独で用いてもよいし、2種以上を併用してもよい。前記酸発生剤の添加量は、全カチオン重合性モノマーの全質量に対し0.1質量%〜20質量%が好ましく、0.5質量%〜15質量%がより好ましく、1質量%〜10質量%が更に好ましい。前記添加量が、前記範囲において、微粒子層用組成物の安定性、重合反応性等から好ましい。 These acid generators may be used alone or in combination of two or more. The addition amount of the acid generator is preferably 0.1% by mass to 20% by mass, more preferably 0.5% by mass to 15% by mass, and more preferably 1% by mass to 10% by mass with respect to the total mass of the total cationic polymerizable monomer. % Is more preferable. The addition amount is preferable in the above range from the viewpoint of stability of the composition for fine particle layer, polymerization reactivity, and the like.
前記微粒子層用組成物は、ラジカル重合性化合物又はカチオン重合性化合物の合計質量に対して、ラジカル重合開始剤を0.5質量%〜10質量%又はカチオン重合開始剤を1質量%〜10質量%の割合で含有していることが好ましく、ラジカル重合開始剤を1質量%〜5質量%、又はカチオン重合開始剤を2質量%〜6質量%の割合で含有することがより好ましい。 In the fine particle layer composition, the radical polymerization initiator is 0.5% by mass to 10% by mass or the cationic polymerization initiator is 1% by mass to 10% by mass with respect to the total mass of the radical polymerizable compound or the cationic polymerizable compound. %, Preferably 1% to 5% by weight of radical polymerization initiator, or more preferably 2% to 6% by weight of cationic polymerization initiator.
前記微粒子層用組成物には、紫外線照射により重合反応を行う場合、従来公知の紫外線分光増感剤、化学増感剤を併用してもよい。これらの増感剤としては、例えばミヒラーズケトン、アミノ酸(グリシン等)、有機アミン(ブチルアミン、ジブチルアミン等)などが挙げられる。 When the polymerization reaction is carried out by ultraviolet irradiation, a conventionally known ultraviolet spectral sensitizer or chemical sensitizer may be used in combination with the fine particle layer composition. Examples of these sensitizers include Michler's ketone, amino acids (such as glycine), and organic amines (such as butylamine and dibutylamine).
また、近赤外線照射により重合反応を行う場合には、近赤外線分光増感剤を併用することが好ましい。併用する近赤外線分光増感剤は、700nm以上の波長域の少なくとも一部に吸収帯を有する光吸収物質であればよく、分子吸光係数が10,000以上の値を有する化合物が好ましい。更には、750nm〜1,400nmの領域に吸収を有し、かつ分子吸光係数が20,000以上の値が好ましい。また、420nm〜700nmの可視光波長域に吸収の谷があり、光学的に透明であることがより好ましい。 Moreover, when performing a polymerization reaction by near infrared irradiation, it is preferable to use a near infrared spectral sensitizer together. The near-infrared spectral sensitizer used in combination may be a light-absorbing substance having an absorption band in at least a part of the wavelength region of 700 nm or more, and a compound having a molecular extinction coefficient of 10,000 or more is preferable. Furthermore, a value having absorption in the region of 750 nm to 1,400 nm and a molecular extinction coefficient of 20,000 or more is preferable. Moreover, it is more preferable that there is a trough of absorption in the visible light wavelength region of 420 nm to 700 nm, and it is optically transparent.
前記近赤外線分光増感剤は、近赤外線吸収顔料及び近赤外線吸収染料として知られる種々の顔料及び染料を用いることができる。その中でも、従来公知の近赤外線吸収剤を用いることが好ましい。市販の染料並びに、文献{例えば、「化学工業」1986年5月号45〜51頁の「近赤外吸収色素」、「90年代機能性色素の開発と市場動向」第2章2.3項(1990年)シーエムシー、「特殊機能色素」[池森・柱谷編集、1986年、株式会社シーエムシー発行]、J.FABIAN,"Chem.Rev.",92巻1197〜1226頁(1992年)}、日本感光色素研究所が1995年に発行したカタログ、並びにExciton Inc.が1989年に発行したレーザー色素カタログ及び特許に記載されている公知の染料が利用できる。 As the near infrared spectral sensitizer, various pigments and dyes known as near infrared absorbing pigments and near infrared absorbing dyes can be used. Among these, it is preferable to use a conventionally known near-infrared absorber. Commercially available dyes and literature {for example, “Chemical Industry”, May 1986, pages 45-51, “Near-Infrared Absorbing Dye”, “Development and Market Trends of Functional Dyes in the 1990s”, Chapter 2.3. (1990) CMC, “Special Function Dye” [edited by Ikemori and Pilatani, 1986, issued by CMC Co., Ltd.], J. Am. FABIAN, “Chem. Rev.”, Vol. 92, pp. 1197-1226 (1992)}, a catalog published in 1995 by Nippon Sensitive Dye Research Institute, and Exciton Inc. Can be used as well as known dyes described in laser dye catalogs and patents issued in 1989.
(B)加水分解性官能基を含有する有機金属化合物及びこの有機金属化合物の部分縮合物
前記マトッリクスとして、加水分解可能な官能基を含有する有機金属化合物を用いて、ゾル/ゲル反応により塗布膜形成後に硬化された膜を形成することも好ましい。
(B) An organometallic compound containing a hydrolyzable functional group and a partial condensate of this organometallic compound A coating film by a sol / gel reaction using an organometallic compound containing a hydrolyzable functional group as the matrix It is also preferable to form a cured film after formation.
前記有機金属化合物としては、例えばSi、Ti、Zr、Al等からなる化合物が挙げられる。
前記加水分解可能な官能基な基としては、例えばアルコキシ基、アルコキシカルボニル基、ハロゲン原子、水酸基などが挙げられる。これらの中でも、メトキシ基、エトキシ基、プロポキシ基、ブトキシ基等のアルコキシ基が特に好ましい。好ましい有機金属化合物は、下記一般式(2)で表される有機ケイ素化合物及びその部分加水分解物(部分縮合物)である。なお、一般式(2)で表される有機ケイ素化合物は、容易に加水分解し、引き続いて脱水縮合反応が生じることはよく知られた事実である。
Examples of the organometallic compound include compounds composed of Si, Ti, Zr, Al, and the like.
Examples of the hydrolyzable functional group include an alkoxy group, an alkoxycarbonyl group, a halogen atom, and a hydroxyl group. Among these, alkoxy groups such as a methoxy group, an ethoxy group, a propoxy group, and a butoxy group are particularly preferable. A preferred organometallic compound is an organosilicon compound represented by the following general formula (2) and a partial hydrolyzate (partial condensate) thereof. In addition, it is a well-known fact that the organosilicon compound represented by the general formula (2) is easily hydrolyzed and subsequently undergoes a dehydration condensation reaction.
一般式(2):(R21)β−Si(Y21)4−β
ただし、前記一般式(2)中、R21は、置換もしくは無置換の炭素数1〜30脂肪族基又は炭素数6〜14のアリール基を表す。Y21は、ハロゲン原子(塩素原子、臭素原子等)、OH基、OR22基、OCOR22基を表す。ここで、R22は置換もしくは無置換のアルキル基を表す。βは0〜3の整数を表し、好ましくは0、1又は2、特に好ましくは1である。ただし、βが0の場合は、Y21はOR22基又はOCOR22基を表す。
Formula (2): (R 21 ) β- Si (Y 21 ) 4-β
However, In the general formula (2), R 21 represents a substituted or unsubstituted C 1-30 aliphatic group or an aryl group having 6 to 14 carbon atoms. Y 21 represents a halogen atom (a chlorine atom, a bromine atom, etc.), an OH group, an OR 22 group, or an OCOR 22 group. Here, R 22 represents a substituted or unsubstituted alkyl group. β represents an integer of 0 to 3, preferably 0, 1 or 2, particularly preferably 1. However, when β is 0, Y 21 represents an OR 22 group or an OCOR 22 group.
前記一般式(2)において、R21の脂肪族基としては、好ましくは炭素数1〜18(例えば、メチル、エチル、プロピル、ブチル、ペンチル、ヘキシル、オクチル、デシル、ドデシル、ヘキサデシル、オクタデシル、ベンジル基、フェネチル基、シクロヘキシル基、シクロヘキシルメチル、ヘキセニル基、デセニル基、ドデセニル基等)が挙げられる。より好ましくは炭素数1〜12、特に好ましくは1〜8のものである。R21のアリール基としては、フェニル、ナフチル、アントラニル等が挙げられ、好ましくはフェニル基である。 In the general formula (2), the aliphatic group represented by R 21 preferably has 1 to 18 carbon atoms (for example, methyl, ethyl, propyl, butyl, pentyl, hexyl, octyl, decyl, dodecyl, hexadecyl, octadecyl, benzyl). Group, phenethyl group, cyclohexyl group, cyclohexylmethyl, hexenyl group, decenyl group, dodecenyl group, etc.). More preferably, it has 1 to 12 carbon atoms, particularly preferably 1 to 8 carbon atoms. Examples of the aryl group for R 21 include phenyl, naphthyl, anthranyl and the like, and a phenyl group is preferable.
置換基としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができるが、例えば、ハロゲン(フッ素、塩素、臭素等)、水酸基、メルカプト基、カルボキシル基、エポキシ基、アルキル基(メチル、エチル、i−プロピル、プロピル、t−ブチル等)、アリール基(フェニル、ナフチル等)、芳香族ヘテロ環基(フリル、ピラゾリル、ピリジル等)、アルコキシ基(メトキシ、エトキシ、i−プロポキシ、ヘキシルオキシ等)、アリールオキシ(フェノキシ等)、アルキルチオ基(メチルチオ、エチルチオ等)、アリールチオ基(フェニルチオ等)、アルケニル基(ビニル、1−プロペニル等)、アルコキシシリル基(トリメトキシシリル、トリエトキシシリル等)、アシルオキシ基{アセトキシ、(メタ)アクリロイル等}、アルコキシカルボニル基(メトキシカルボニル、エトキシカルボニル等)、アリールオキシカルボニル基(フェノキシカルボニル等)、カルバモイル基(カルバモイル、N−メチルカルバモイル、N,N−ジメチルカルバモイル、N−メチル−N−オクチルカルバモイル等)、アシルアミノ基(アセチルアミノ、ベンゾイルアミノ、アクリルアミノ、メタクリルアミノ等)などが好ましい。 The substituent is not particularly limited and may be appropriately selected depending on the intended purpose. For example, halogen (fluorine, chlorine, bromine, etc.), hydroxyl group, mercapto group, carboxyl group, epoxy group, alkyl group (methyl, Ethyl, i-propyl, propyl, t-butyl, etc.), aryl groups (phenyl, naphthyl, etc.), aromatic heterocyclic groups (furyl, pyrazolyl, pyridyl, etc.), alkoxy groups (methoxy, ethoxy, i-propoxy, hexyloxy) Etc.), aryloxy (phenoxy etc.), alkylthio group (methylthio, ethylthio etc.), arylthio group (phenylthio etc.), alkenyl group (vinyl, 1-propenyl etc.), alkoxysilyl group (trimethoxysilyl, triethoxysilyl etc.) , Acyloxy groups {acetoxy, (meth) acryloyl etc.}, alcohol Sicarbonyl group (methoxycarbonyl, ethoxycarbonyl etc.), aryloxycarbonyl group (phenoxycarbonyl etc.), carbamoyl group (carbamoyl, N-methylcarbamoyl, N, N-dimethylcarbamoyl, N-methyl-N-octylcarbamoyl etc.), Acylamino groups (acetylamino, benzoylamino, acrylamino, methacrylamino, etc.) are preferred.
これらの置換基のうちで、更に好ましくは水酸基、メルカプト基、カルボキシル基、エポキシ基、アルキル基、アルコキシシリル基、アシルオキシ基、アシルアミノ基であり、特に好ましくはエポキシ基、重合性のアシルオキシ基{(メタ)アクリロイル}、重合性のアシルアミノ基(アクリルアミノ、メタクリルアミノ)である。またこれら置換基は更に置換されていてもよい。 Of these substituents, more preferred are a hydroxyl group, a mercapto group, a carboxyl group, an epoxy group, an alkyl group, an alkoxysilyl group, an acyloxy group, and an acylamino group, and particularly preferred are an epoxy group and a polymerizable acyloxy group {( (Meth) acryloyl}, a polymerizable acylamino group (acrylamino, methacrylamino). These substituents may be further substituted.
前記のようにR22は置換もしくは無置換のアルキル基を表し、アルキル基は特に限定はないが、例えばR21の脂肪族基と同じものが挙げられ、アルキル基中の置換基の説明はR21と同じである。 As described above, R 22 represents a substituted or unsubstituted alkyl group, and the alkyl group is not particularly limited, and examples thereof include the same as the aliphatic group of R 21 , and the explanation of the substituent in the alkyl group is R 21 .
前記一般式(2)の化合物の含有量は、前記微粒子層用組成物の全固形分の10質量%〜80質量%が好ましく、20質量%〜70質量%であることがより好ましく、30質量%〜50質量%であることが更に好ましい。 The content of the compound of the general formula (2) is preferably 10% by mass to 80% by mass, more preferably 20% by mass to 70% by mass, and more preferably 30% by mass, based on the total solid content of the composition for fine particle layer. It is still more preferable that it is% -50 mass%.
前記一般式(2)の化合物としては、例えば特開2001−166104号公報の段落番号〔0054〕〜〔0056〕に記載の化合物が挙げられる。 Examples of the compound of the general formula (2) include compounds described in paragraph numbers [0054] to [0056] of JP-A No. 2001-166104.
前記微粒子層用組成物において、前記有機バインダーは、シラノール基を有するものであることが好ましい。バインダーがシラノール基を有することで、微粒子層の物理強度、耐薬品性、耐候性が更に改良され、好ましい。前記シラノール基は、例えば、微粒子層用組成物を構成するバインダー形成成分として、バインダー前駆体(硬化性の多官能モノマーや多官能オリゴマーなど)や重合開始剤、微粒子の分散液に含有される分散剤と共に、架橋又は重合性官能基を有する一般式(2)で表される有機ケイ素化合物を該微粒子層用組成物に配合し、この微粒子層用組成物を透明支持体上に塗布して、前記の分散剤、多官能モノマーや多官能オリゴマー、一般式(2)で表される有機ケイ素化合物を架橋反応又は重合反応させることによりバインダーに導入することができる。 In the fine particle layer composition, the organic binder preferably has a silanol group. It is preferable that the binder has a silanol group because the physical strength, chemical resistance, and weather resistance of the fine particle layer are further improved. The silanol group, for example, as a binder forming component constituting the fine particle layer composition, a binder precursor (such as a curable polyfunctional monomer or polyfunctional oligomer), a polymerization initiator, or a dispersion contained in a fine particle dispersion An organic silicon compound represented by the general formula (2) having a crosslinking or polymerizable functional group is blended with the fine particle layer composition together with the agent, and the fine particle layer composition is applied onto the transparent support. The dispersant, the polyfunctional monomer, the polyfunctional oligomer, and the organosilicon compound represented by the general formula (2) can be introduced into the binder by a crosslinking reaction or a polymerization reaction.
前記の有機金属化合物を硬化させるための加水分解・縮合反応は、触媒存在下で行われることが好ましい。前記触媒としては、例えば塩酸、硫酸、硝酸等の無機酸類;シュウ酸、酢酸、ギ酸、トリフルオロ酢酸、メタンスルホン酸、トルエンスルホン酸等の有機酸類;水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、アンモニア等の無機塩基類;トリエチルアミン、ピリジン等の有機塩基類;トリイソプロポキシアルミニウム、テトラブトキシジルコニウム、テトラブトキシチタネート等の金属アルコキシド類;β−ジケトン類又はβ−ケトエステル類の金属キレート化合物類などが挙げられる。具体的には、例えば特開2000−275403号公報中の段落番号〔0071〕〜〔0083〕に記載の化合物等が挙げられる。 The hydrolysis / condensation reaction for curing the organometallic compound is preferably performed in the presence of a catalyst. Examples of the catalyst include inorganic acids such as hydrochloric acid, sulfuric acid, and nitric acid; organic acids such as oxalic acid, acetic acid, formic acid, trifluoroacetic acid, methanesulfonic acid, and toluenesulfonic acid; sodium hydroxide, potassium hydroxide, ammonia, and the like. Inorganic bases; organic bases such as triethylamine and pyridine; metal alkoxides such as triisopropoxyaluminum, tetrabutoxyzirconium and tetrabutoxytitanate; metal chelate compounds of β-diketones and β-ketoesters. Specific examples include compounds described in paragraph numbers [0071] to [0083] in JP-A No. 2000-275403.
これらの触媒化合物の組成物中での割合は、有機金属化合物に対し、0.01質量%〜50質量%が好ましく、0.1質量%〜50質量%がより好ましく、0.5質量%〜10質量%が更に好ましい。なお、反応条件は有機金属化合物の反応性により適宜調節されることが好ましい。 The proportion of these catalyst compounds in the composition is preferably 0.01% by mass to 50% by mass, more preferably 0.1% by mass to 50% by mass, and 0.5% by mass to the organometallic compound. 10 mass% is still more preferable. In addition, it is preferable that reaction conditions are suitably adjusted with the reactivity of an organometallic compound.
前記微粒子層用組成物において、マトリックスは特定の極性基を有することも好ましい。前記特定の極性基としては、例えばアニオン性基、アミノ基、及び四級アンモニウム基が挙げられる。前記アニオン性基、アミノ基及び四級アンモニウム基の具体例としては、前記分散剤について述べたものと同様のものが挙げられる。 In the fine particle layer composition, the matrix preferably has a specific polar group. Examples of the specific polar group include an anionic group, an amino group, and a quaternary ammonium group. Specific examples of the anionic group, amino group, and quaternary ammonium group include the same as those described for the dispersant.
−溶媒−
前記溶媒としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えばアルコール類、ケトン類、エステル類、アミド類、エーテル類、エーテルエステル類、脂肪族炭化水素類、ハロゲン化炭化水素類等が挙げられる。具体的には、アルコール(例えばメタノール、エタノール、プロパノール、ブタノール、ベンジルアルコール、エチレングリコール、プロピレングリコール、エチレングリコールモノアセテート等)、ケトン(例えばメチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノン、メチルシクロヘキサノン等)、エステル(例えば酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸プロピル、酢酸ブチル、蟻酸エチル、蟻酸プロピル、蟻酸ブチル、乳酸エチル等)、脂肪族炭化水素(例えばヘキサン、シクロヘキサン)、ハロゲン化炭化水素(例えばメチルクロロホルム等)、芳香族炭化水素(例えばベンゼン、トルエン、キシレン等)、アミド(例えばジメチルホルムアミド、ジメチルアセトアミド、n−メチルピロリドン等)、エーテル(例えばジオキサン、テトラハイドロフラン、エチレングリコールジメチルエーテル、プロピレングリコールジメチルエーテル等)、エーテルアルコール(例えば1−メトキシ−2−プロパノール、エチルセルソルブ、メチルカルビノール等)が挙げられる。これらは、1種単独で使用してもよいし、2種以上を併用してもよい。これらの中でも、トルエン、キシレン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノン、ブタノールが特に好ましい。また、ケトン溶媒(例えばメチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノン等)を主にした塗布溶媒系も好ましく用いられる。
前記ケトン系溶媒の含有量は、前記微粒子層用組成物に含まれる全溶媒の10質量%以上であることが好ましく、30質量%以上がより好ましく、60質量%以上が更に好ましい。
-Solvent-
The solvent is not particularly limited and may be appropriately selected depending on the intended purpose. Examples thereof include alcohols, ketones, esters, amides, ethers, ether esters, aliphatic hydrocarbons, halogenated carbons. Hydrogen etc. are mentioned. Specifically, alcohol (for example, methanol, ethanol, propanol, butanol, benzyl alcohol, ethylene glycol, propylene glycol, ethylene glycol monoacetate, etc.), ketone (for example, methyl ethyl ketone, methyl isobutyl ketone, cyclohexanone, methylcyclohexanone, etc.), ester ( For example, methyl acetate, ethyl acetate, propyl acetate, butyl acetate, ethyl formate, propyl formate, butyl formate, ethyl lactate, etc.), aliphatic hydrocarbons (eg, hexane, cyclohexane), halogenated hydrocarbons (eg, methyl chloroform), aromatic Group hydrocarbons (eg, benzene, toluene, xylene, etc.), amides (eg, dimethylformamide, dimethylacetamide, n-methylpyrrolidone, etc.), ethers (eg, dioxane) Emissions, tetrahydrofuran, ethylene glycol dimethyl ether, propylene glycol dimethyl ether, etc.), ether alcohols (such as 1-methoxy-2-propanol, ethyl cellosolve, methyl carbinol and the like). These may be used individually by 1 type and may use 2 or more types together. Among these, toluene, xylene, methyl ethyl ketone, methyl isobutyl ketone, cyclohexanone, and butanol are particularly preferable. A coating solvent system mainly comprising a ketone solvent (for example, methyl ethyl ketone, methyl isobutyl ketone, cyclohexanone, etc.) is also preferably used.
The content of the ketone solvent is preferably 10% by mass or more, more preferably 30% by mass or more, and still more preferably 60% by mass or more of the total solvent contained in the fine particle layer composition.
特定の極性基を有するマトリックスは、例えば、微粒子層用組成物に、硬化膜形成成分として、特定の極性基を有するバインダー前駆体(特定の極性基を有する硬化性の多官能モノマーや多官能オリゴマーなど)と重合開始剤の組み合わせ及び、特定の極性基を有し、かつ架橋又は重合性官能基を有する一般式(2)で表される有機ケイ素化合物の少なくともいずれかを配合し、更に所望により、特定の極性基及び、架橋又は重合性の官能基を有する単官能性モノマーを配合し、該塗布組成物を透明支持体上に塗布して前記の分散剤、単官能性モノマー、多官能モノマーや多官能オリゴマー及び/又は一般式(2)で表される有機ケイ素化合物を架橋又は重合反応させることにより得られる。 The matrix having a specific polar group is, for example, a binder precursor having a specific polar group (a curable polyfunctional monomer or polyfunctional oligomer having a specific polar group) as a cured film forming component in the fine particle layer composition. Etc.) and a polymerization initiator, and at least one of the organosilicon compounds represented by the general formula (2) having a specific polar group and having a crosslinkable or polymerizable functional group, and, if desired, A monofunctional monomer having a specific polar group and a crosslinkable or polymerizable functional group is blended, and the coating composition is applied on a transparent support, and the dispersant, monofunctional monomer, or polyfunctional monomer is applied. Or a polyfunctional oligomer and / or an organosilicon compound represented by the general formula (2) is obtained by crosslinking or polymerization reaction.
前記特定の極性基を有する単官能性モノマーは、微粒子層用組成物の中で微粒子の分散助剤として機能することができ、好ましい。更に、塗布後、分散剤、多官能モノマーや多官能オリオリゴマーと架橋反応、又は、重合反応させてバインダーとすることで微粒子層における微粒子の良好な均一な分散性を維持し、物理強度、耐薬品性、耐候性に優れた微粒子層を作製することができる。 The monofunctional monomer having the specific polar group is preferable because it can function as a fine particle dispersion aid in the fine particle layer composition. Furthermore, after coating, a dispersing agent, a polyfunctional monomer or a polyfunctional oligomer and a crosslinking reaction or a polymerization reaction to form a binder to maintain good and uniform dispersibility of the fine particles in the fine particle layer, thereby improving the physical strength and resistance. A fine particle layer excellent in chemical properties and weather resistance can be produced.
前記微粒子層用組成物を、前記透明基板上に、例えばディップコート法、エアーナイフコート法、カーテンコート法、ローラーコート法、ワイヤーバーコート法、グラビアコート法、マイクログラビアコート法、エクストルージョンコート法等の公知の薄膜形成方法で塗布し、乾燥、光及び/又は熱照射することにより作製することができる。好ましくは、光照射による硬化が、迅速硬化から有利である。更には、光硬化処理の後半で加熱処理することも好ましい。 The fine particle layer composition is formed on the transparent substrate by, for example, a dip coating method, an air knife coating method, a curtain coating method, a roller coating method, a wire bar coating method, a gravure coating method, a micro gravure coating method, and an extrusion coating method. It can be produced by applying a known thin film forming method such as, and drying, irradiating with light and / or heat. Preferably, curing by light irradiation is advantageous from rapid curing. Furthermore, it is also preferable to perform heat treatment in the latter half of the photocuring treatment.
光照射の光源は、紫外線光域又は近赤外線光のものであればいずれでもよく、紫外線光の光源として、超高圧、高圧、中圧、低圧の各水銀灯、ケミカルランプ、カーボンアーク灯、メタルハライド灯、キセノン灯、太陽光等が挙げられる。波長350nm〜420nmの入手可能な各種レーザー光源をマルチビーム化して照射してもよい。また、近赤外光光源としてはハロゲンランプ、キセノンランプ、高圧ナトリウムランプが挙げられ、波長750nm〜1,400nmの入手可能な各種レーザー光源をマルチビーム化して照射してもよい。 The light source for light irradiation may be any ultraviolet light region or near-infrared light source, and ultra-high pressure, high pressure, medium pressure, low pressure mercury lamps, chemical lamps, carbon arc lamps, metal halide lamps may be used as ultraviolet light sources. Xenon lamps, sunlight, etc. Various available laser light sources having a wavelength of 350 nm to 420 nm may be irradiated as a multi-beam. Further, examples of the near-infrared light source include a halogen lamp, a xenon lamp, and a high-pressure sodium lamp. Various available laser light sources having a wavelength of 750 nm to 1,400 nm may be irradiated in a multi-beam form.
光照射による光ラジカル重合の場合は、空気又は不活性気体中で行うことができるが、ラジカル重合性モノマーの重合の誘導期を短くするか、又は重合率を十分に高める等のために、できるだけ酸素濃度を少なくした雰囲気とすることが好ましい。照射する紫外線の照射強度は、0.1mW/cm2〜100mW/cm2程度が好ましく、塗布膜表面上での光照射量は、100mJ/cm2〜1,000mJ/cm2が好ましい。また、光照射工程での塗布膜の温度分布は、均一なほど好ましく、±3℃以内が好ましく、更には±1.5℃以内に制御されることが好ましい。この範囲において、塗布膜の面内及び層内深さ方向での重合反応が均一に進行するので好ましい。 In the case of radical photopolymerization by light irradiation, it can be carried out in air or in an inert gas, but in order to shorten the polymerization induction period of the radically polymerizable monomer or sufficiently increase the polymerization rate, etc. It is preferable that the atmosphere has a reduced oxygen concentration. Irradiation intensity of ultraviolet irradiation is preferably from 0.1mW / cm 2 ~100mW / cm 2 or so, an amount of light irradiation on the coating film surface, 100mJ / cm 2 ~1,000mJ / cm 2 is preferred. Further, the temperature distribution of the coating film in the light irradiation step is preferably as uniform as possible, preferably within ± 3 ° C., and more preferably controlled within ± 1.5 ° C. In this range, the polymerization reaction in the in-plane and in-layer depth directions of the coating film proceeds uniformly, which is preferable.
前記微粒子層の平均厚みは、5μm〜200μmであることが好ましく、5μm〜50μmであることがより好ましい。前記平均厚みが、5μm未満であると、微粒子層による十分な光角度変換がなく、十分な光取出し効率が得られないことがあり、200μmを超えると、光が散乱されすぎて、後方散乱の光が増え、有機電界発光層内部に戻る光が多くなり、光取出し効率が低下する、また、前記微粒子層が厚いことは高コストに繋がり、前記微粒子層の厚みのバラツキが大きくなり、発光面内の散乱効果にバラツキが生じるおそれがある。
前記平均厚みは、例えば微粒子層の一部を切り取り、走査型電子顕微鏡(S−3400N、日立ハイテク株式会社製)で測定し、微粒子層の平均厚みを求めることができる。
The average thickness of the fine particle layer is preferably 5 μm to 200 μm, and more preferably 5 μm to 50 μm. When the average thickness is less than 5 μm, there is no sufficient light angle conversion by the fine particle layer, and sufficient light extraction efficiency may not be obtained. When the average thickness exceeds 200 μm, light is scattered too much, and backscattering Light increases, more light returns to the inside of the organic electroluminescent layer, light extraction efficiency decreases, and the thick fine particle layer leads to high cost, and the variation in the thickness of the fine particle layer increases, and the light emitting surface There is a risk that the scattering effect will vary.
The average thickness can be determined, for example, by cutting a part of the fine particle layer and measuring with a scanning electron microscope (S-3400N, manufactured by Hitachi High-Tech Co., Ltd.) to determine the average thickness of the fine particle layer.
前記微粒子層の屈折率は、1.7〜2.2であることが好ましい。
前記微粒子層の屈折率は、隣接する基材の屈折率と同等乃至高いことが好ましく、前記バリア層(又は平坦化層)の屈折率と同等乃至低いことが好ましい。
The refractive index of the fine particle layer is preferably 1.7 to 2.2.
The refractive index of the fine particle layer is preferably equal to or higher than the refractive index of the adjacent substrate, and is preferably equal to or lower than the refractive index of the barrier layer (or planarization layer).
前記微粒子層の光出射面が平坦であるか、又は前記微粒子層の光出射面に平坦化層を有すること好ましい。これにより、微粒子の密度を増加させても後方散乱の増加を抑制できる。また、平坦化することで異物付着が防止される。更に、平坦化により、バリア層のバリア性能の低下を抑制できる利点がある。平坦化していない面にバリア層を積層した場合、バリア層に段差による隙間やピンホールができ、バリア性能が著しく低下することがある。 It is preferable that the light emitting surface of the fine particle layer is flat or has a flattening layer on the light emitting surface of the fine particle layer. Thereby, an increase in backscattering can be suppressed even if the density of the fine particles is increased. Moreover, foreign matter adhesion is prevented by flattening. Furthermore, there is an advantage that a reduction in barrier performance of the barrier layer can be suppressed by planarization. When a barrier layer is laminated on a non-planar surface, gaps or pinholes due to steps are formed in the barrier layer, and the barrier performance may be significantly reduced.
前記微粒子層の光出射面を平坦にする方法としては、例えば前記微粒子層の形成に使用した材料から前記散乱用微粒子を取り除いたものを硬化後した前記微粒子層上に積層する方法などが挙げられる。 Examples of the method for flattening the light emitting surface of the fine particle layer include a method of laminating a material obtained by removing the scattering fine particles from the material used for forming the fine particle layer, and laminating the cured fine particle layer on the fine particle layer. .
−平坦化層−
前記平坦化層としては、前記微粒子層において前記散乱用微粒子を含まない組成、又は前記バリア層のうち有機層と同じ組成であることが好ましく、前記微粒子層又は前記バリア層の有機層と同様にして形成することができる。
前記平坦化層の厚みは、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができるが、2μm〜50μmであることが好ましい。前記平坦化層の厚みが、2μm未満であると、突出した元の微粒子層の表面を平坦化できず、50μmを超えると、前記平坦化層の光の吸収により光取り出し能が低下してしまうことがある。
前記平坦化層の屈折率は、1.7〜2.2であることが好ましい。
前記平坦化層の屈折率は、前記微粒子層の屈折率と同等乃至高いこと、前記バリア層の屈折率と同等乃至低いことが好ましい。
-Flattening layer-
The planarizing layer preferably has a composition that does not include the scattering fine particles in the fine particle layer, or the same composition as the organic layer of the barrier layer, and is similar to the fine particle layer or the organic layer of the barrier layer. Can be formed.
There is no restriction | limiting in particular in the thickness of the said planarization layer, Although it can select suitably according to the objective, It is preferable that they are 2 micrometers-50 micrometers. When the thickness of the flattening layer is less than 2 μm, the surface of the protruding original fine particle layer cannot be flattened, and when it exceeds 50 μm, the light extraction ability is reduced due to light absorption of the flattening layer. Sometimes.
The refractive index of the planarizing layer is preferably 1.7 to 2.2.
The planarization layer preferably has a refractive index equal to or higher than that of the fine particle layer, and preferably equal to or lower than that of the barrier layer.
−基材−
前記基材としては、その形状、構造、大きさ、材料等については、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、前記形状としては、例えば平板状などが挙げられ、前記構造としては、単層構造であってもよいし、積層構造であってもよく、前記大きさとしては、前記光取り出しシートの大きさ等に応じて適宜選択することができる。
-Base material-
The shape, structure, size, material and the like of the substrate are not particularly limited and can be appropriately selected depending on the purpose. Examples of the shape include a flat plate shape and the structure. As for, a single layer structure may be sufficient and a laminated structure may be sufficient, and the said magnitude | size can be suitably selected according to the magnitude | size etc. of the said light extraction sheet | seat.
前記基材の材料としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、ポリエチレンテレフタレート(PET)、ポリエチレンナフタレート(PEN)等のポリエステル樹脂、ポリカーボネート、ポリイミド樹脂(PI)、ポリエチレン、ポリ塩化ビニル、ポリ塩化ビニリデン、ポリスチレン、スチレン−アクリロニトリル共重合体などが挙げられる。これらは、1種単独で使用してもよいし、2種以上を併用してもよい。これらの中でも、ポリエステル樹脂が好ましく、ロールでの塗布適性の観点からポリエチレンテレフタレート(PET)、ポリエチレンナフタレート(PEN)が特に好ましい。
前記基材の表面には、その上に設けるバリア層及び微粒子層との密着性を向上させるため、表面活性化処理を行うことが好ましい。前記表面活性化処理としては、例えばグロー放電処理、コロナ放電処理などが挙げられる。
The material for the base material is not particularly limited and may be appropriately selected depending on the intended purpose. Examples thereof include polyester resins such as polyethylene terephthalate (PET) and polyethylene naphthalate (PEN), polycarbonate, and polyimide resin (PI). , Polyethylene, polyvinyl chloride, polyvinylidene chloride, polystyrene, styrene-acrylonitrile copolymer, and the like. These may be used individually by 1 type and may use 2 or more types together. Among these, a polyester resin is preferable, and polyethylene terephthalate (PET) and polyethylene naphthalate (PEN) are particularly preferable from the viewpoint of applicability with a roll.
The surface of the substrate is preferably subjected to a surface activation treatment in order to improve the adhesion between the barrier layer and the fine particle layer provided thereon. Examples of the surface activation treatment include glow discharge treatment and corona discharge treatment.
前記基材は、適宜合成したものであってもよいし、市販品を使用してもよい。
前記基材の厚みとしては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、10μm以上が好ましく、50μm以上がより好ましい。
前記基材の屈折率は、1.5〜1.7であることが好ましい。
前記基材の屈折率は、前記接着層の屈折率と同等乃至高いこと、前記微粒子層の屈折率と同等乃至低いことが好ましい。
The base material may be appropriately synthesized or a commercially available product may be used.
There is no restriction | limiting in particular as thickness of the said base material, According to the objective, it can select suitably, 10 micrometers or more are preferable and 50 micrometers or more are more preferable.
The refractive index of the substrate is preferably 1.5 to 1.7.
The refractive index of the substrate is preferably equal to or higher than the refractive index of the adhesive layer, and preferably equal to or lower than the refractive index of the fine particle layer.
−接着層−
前記接着層の材料としては、例えばポリメチルメタクリレート(PMMA)、ポリエチレン、ポリイソブテン、ポリブタジエン、ポリイソプレン、ポリアクロレイン、ポリビニルブチラール、ポリビニルアセタール、ポリビニルアルコール、UV硬化エポキシ樹脂、熱硬化エポキシ樹脂、UV硬化アクリル樹脂、ポリカーボネート樹脂、ポリエステル樹脂、ポリスチレン樹脂、ポリイミド樹脂、エチルヘキシルアクリレート、ブチルアクリレート、スチレンなどが挙げられる。
前記接着層を形成する方法としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、ナイフコーティング、ロールコーティング、カーテンコーティング、スピンコーティング、バーコーティング、ディップコーティング、スプレーコーティング等のいずれかの塗布方法によって塗布する方法が挙げられる。なお、熱硬化性又は熱可塑性の接着シートを用いることもできる。
前記接着層の平均厚みとしては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、10μm〜200μmが好ましい。
前記接着層の屈折率は、1.4〜1.7であることが好ましい。
前記接着層の屈折率は、前記基板の屈折率と同等乃至高いことが好ましく、前記基材の屈折率と同等乃至低いことが好ましい。
-Adhesive layer-
Examples of the material for the adhesive layer include polymethyl methacrylate (PMMA), polyethylene, polyisobutene, polybutadiene, polyisoprene, polyacrolein, polyvinyl butyral, polyvinyl acetal, polyvinyl alcohol, UV curable epoxy resin, thermosetting epoxy resin, and UV curable acrylic. Examples thereof include resins, polycarbonate resins, polyester resins, polystyrene resins, polyimide resins, ethylhexyl acrylate, butyl acrylate, and styrene.
The method for forming the adhesive layer is not particularly limited and may be appropriately selected depending on the purpose. Examples thereof include knife coating, roll coating, curtain coating, spin coating, bar coating, dip coating, and spray coating. The method of apply | coating by either application | coating method is mentioned. A thermosetting or thermoplastic adhesive sheet can also be used.
There is no restriction | limiting in particular as average thickness of the said contact bonding layer, According to the objective, it can select suitably, 10 micrometers-200 micrometers are preferable.
The refractive index of the adhesive layer is preferably 1.4 to 1.7.
The refractive index of the adhesive layer is preferably equal to or higher than the refractive index of the substrate, and preferably equal to or lower than the refractive index of the base material.
本発明の光取り出しシートにおけるバリア層は、微粒子層及び平坦化層より発生する水蒸気やガスの残留成分を遮蔽することを目的としているため、有機電界発光装置の外部からの水分、ガス侵入をカバーするためのバリア性能は必要ない。
前記光取り出しシートの水蒸気透過率は、1×10−3g/m2/day以下であることが好ましく、1×10−4g/m2/day以下であることが更に好ましい。
前記水分透過度は、例えばG.NISATO、P.C.P.BOUTEN、P.J.SLIKKERVEERらSID Conference Record of the International Display ResearchConference 1435-1438頁に記載の方法(カルシウムを用いた測定法)を用いることにより測定することができる。
前記光取り出しシートの酸素透過率は、10cc/m2/day以下であることが好ましく、1cc/m2/day以下であることがより好ましい。
前記酸素透過率は、例えば酸素透過率測定装置(MOCON社製、MOCON酸素透過率測定装置、OX−TRAN 1/50A)により測定することができる。
The barrier layer in the light extraction sheet of the present invention is intended to shield the residual components of water vapor and gas generated from the fine particle layer and the flattening layer, thus covering moisture and gas intrusion from the outside of the organic electroluminescent device. The barrier performance is not necessary.
The water vapor transmission rate of the light extraction sheet is preferably 1 × 10 −3 g / m 2 / day or less, and more preferably 1 × 10 −4 g / m 2 / day or less.
The moisture permeability can be measured, for example, by using the method described in G. NISATO, PCPBOUTEN, PJSLIKKERVEER et al. SID Conference Record of the International Display Research Conference, pages 1435-1438 (measurement method using calcium).
The oxygen permeability of the light extraction sheet is preferably 10 cc / m 2 / day or less, and more preferably 1 cc / m 2 / day or less.
The oxygen permeability can be measured by, for example, an oxygen permeability measuring device (manufactured by MOCON, MOCON oxygen permeability measuring device, OX-TRAN 1 / 50A).
図1は、本発明の光取り出しシートの一例を示す概略図である。この図1の光取り出しシート20は、接着層2と、基材3と、微粒子層4と、平坦化層5と、バリア層6とをこの順に有している。
微粒子層4、平坦化層5、及びバリア層6は、図2に示すように、微粒子層4及び平坦化層5上に、無機バリア層21を形成した態様、図3に示すように、微粒子層4及び平坦化層5上に、無機バリア層21と、有機バリア層22と、無機バリア層21とを形成した態様、図4に示すように、微粒子層4上に、有機バリア層22と、無機バリア層21と、有機バリア層22と、無機バリア層21とを形成した態様、などが挙げられる。
FIG. 1 is a schematic view showing an example of the light extraction sheet of the present invention. The light extraction sheet 20 in FIG. 1 has an adhesive layer 2, a base material 3, a fine particle layer 4, a planarization layer 5, and a barrier layer 6 in this order.
As shown in FIG. 2, the fine particle layer 4, the planarization layer 5, and the barrier layer 6 are formed by forming an inorganic barrier layer 21 on the fine particle layer 4 and the flattening layer 5, as shown in FIG. A mode in which the inorganic barrier layer 21, the organic barrier layer 22, and the inorganic barrier layer 21 are formed on the layer 4 and the planarizing layer 5, as shown in FIG. And an embodiment in which the inorganic barrier layer 21, the organic barrier layer 22, and the inorganic barrier layer 21 are formed.
本発明の光取り出しシートは、接着層、基材、微粒子層、及びバリア層を少なくともこの順に有し、各層間の屈折率段差を軽減させて光取り出し効率を高めることができるので、各種有機電界発光装置などに用いることができるが、以下の本発明の有機電界発光装置に用いることが特に好ましい。 The light extraction sheet of the present invention has at least an adhesive layer, a base material, a fine particle layer, and a barrier layer in this order, and can reduce the refractive index step between each layer and increase the light extraction efficiency. Although it can be used for a light emitting device or the like, it is particularly preferably used for the following organic electroluminescent device of the present invention.
(有機電界発光装置)
本発明の有機電界発光装置は、基板と、該基板上に、陽極と、陰極と、該陽極と前記陰極の間に有機電界発光層とを備え、
前記陽極及び陰極の少なくともいずれかが透明電極であり、
前記基板と前記透明電極の間に、本発明の前記記載の光取り出しシートを有している。 前記基板の有機電界発光層側の面と光取り出しシートにおける接着層とが接することが好ましい。
本発明においては、基板、接着層、基材、微粒子層、バリア層、及び有機電界発光層をこの順に有し、前記基板から前記有機電界発光層に向かって各層の屈折率が同等乃至増加し、かつ隣接する層間の最大屈折率差が0.2以下である。これにより、各層間の屈折率段差を軽減させて光取り出し効率を高めることができる。
(Organic electroluminescent device)
The organic electroluminescent device of the present invention comprises a substrate, an anode, a cathode, and an organic electroluminescent layer between the anode and the cathode on the substrate,
At least one of the anode and the cathode is a transparent electrode,
The light extraction sheet according to the present invention is provided between the substrate and the transparent electrode. It is preferable that the surface on the organic electroluminescent layer side of the substrate is in contact with the adhesive layer in the light extraction sheet.
In the present invention, a substrate, an adhesive layer, a base material, a fine particle layer, a barrier layer, and an organic electroluminescent layer are provided in this order, and the refractive index of each layer increases or decreases from the substrate toward the organic electroluminescent layer. And the maximum refractive index difference between adjacent layers is 0.2 or less. Thereby, the refractive index level difference between the respective layers can be reduced and the light extraction efficiency can be increased.
−基板−
前記基板の材料、形状、構造、大きさ等については、特に制限はなく、発光素子の用途、目的等に応じて適宜選択することができる。一般的には、基板の形状としては、板状であることが好ましい。基板の構造としては、単層構造であってもよいし、積層構造であってもよく、また、単一部材で形成されていてもよいし、2以上の部材で形成されていてもよい。基板は透明でも不透明でもよく、透明な場合は無色透明でも有色透明でもよい。
-Board-
There is no restriction | limiting in particular about the material of the said board | substrate, a structure, a structure, a magnitude | size, According to the use of a light emitting element, the objective, etc., it can select suitably. In general, the shape of the substrate is preferably a plate shape. The structure of the substrate may be a single layer structure, a laminated structure, may be formed of a single member, or may be formed of two or more members. The substrate may be transparent or opaque, and if transparent, it may be colorless and transparent or colored and transparent.
前記基板の材料としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、イットリア安定化ジルコニア(YSZ)、ガラス(無アルカリガラス、ソーダライムガラス等)等の無機材料;ポリエチレンテレフタレート、ポリブチレンフタレート、ポリエチレンナフタレート等のポリエステル;ポリスチレン、ポリカーボネート、ポリエーテルスルホン、ポリアリレート、ポリイミド、ポリシクロオレフィン、ノルボルネン樹脂、ポリ(クロロトリフルオロエチレン)等の有機材料、などが挙げられる。 There is no restriction | limiting in particular as a material of the said board | substrate, According to the objective, it can select suitably, For example, inorganic materials, such as a yttria stabilized zirconia (YSZ) and glass (an alkali free glass, soda-lime glass, etc.); Polyethylene Examples thereof include polyesters such as terephthalate, polybutylene phthalate, and polyethylene naphthalate; organic materials such as polystyrene, polycarbonate, polyethersulfone, polyarylate, polyimide, polycycloolefin, norbornene resin, and poly (chlorotrifluoroethylene).
前記基板の屈折率は、用いる材質に応じて異なり一概には規定できないが、例えばガラスの場合には、1.5〜1.6であることが好ましい。 The refractive index of the substrate varies depending on the material used and cannot be defined unconditionally. For example, in the case of glass, it is preferably 1.5 to 1.6.
−有機電界発光層−
前記有機電界発光層としては、少なくとも発光層を有する。前記発光層以外の機能層としては、正孔輸送層、電子輸送層、正孔ブロック層、電子ブロック層、正孔注入層、電子注入層等の各層が挙げられる。
-Organic electroluminescent layer-
The organic electroluminescent layer has at least a light emitting layer. Examples of the functional layer other than the light emitting layer include a hole transport layer, an electron transport layer, a hole block layer, an electron block layer, a hole injection layer, and an electron injection layer.
前記有機電界発光層は、陽極と発光層との間に正孔輸送層を有することが好ましく、陰極と発光層との間に電子輸送層を有することが好ましい。更に、正孔輸送層と陽極との間に正孔注入層を設けてもよく、電子輸送層と陰極との間に電子注入層を設けてもよい。
また、前記発光層と正孔輸送層との間に正孔輸送性中間層(電子ブロック層)を設けてもよく、発光層と電子輸送層との間に電子輸送性中間層(正孔ブロック層)を設けてもよい。各機能層は複数の二次層に分かれていてもよい。
The organic electroluminescent layer preferably has a hole transport layer between the anode and the light emitting layer, and preferably has an electron transport layer between the cathode and the light emitting layer. Furthermore, a hole injection layer may be provided between the hole transport layer and the anode, or an electron injection layer may be provided between the electron transport layer and the cathode.
In addition, a hole transporting intermediate layer (electron blocking layer) may be provided between the light emitting layer and the hole transporting layer, and an electron transporting intermediate layer (hole blocking layer) is provided between the light emitting layer and the electron transporting layer. Layer) may be provided. Each functional layer may be divided into a plurality of secondary layers.
前記発光層を含むこれらの機能層は、蒸着法やスパッタ法等の乾式製膜法、湿式塗布方式、転写法、印刷法、インクジェット方式等のいずれによっても好適に形成することができる。 These functional layers including the light emitting layer can be suitably formed by any of dry film forming methods such as vapor deposition and sputtering, wet coating methods, transfer methods, printing methods, and ink jet methods.
−−発光層−−
前記発光層は、電界印加時に、陽極、正孔注入層、又は正孔輸送層から正孔を受け取り、陰極、電子注入層、又は電子輸送層から電子を受け取り、正孔と電子の再結合の場を提供して発光させる機能を有する層である。
前記発光層は、発光材料を含む。前記発光層は発光材料のみで構成されていてもよいし、ホスト材料と発光材料の混合層でもよい(後者の場合、発光材料を「発光性ドーパント」もしくは「ドーパント」と称する場合がある)。前記発光材料は蛍光発光材料でも燐光発光材料であってもよく、2種以上が混合されていてもよい。ホスト材料は電荷輸送材料であることが好ましい。ホスト材料は1種であっても2種以上であってもよい。更に、発光層中に電荷輸送性を有さず、発光しない材料を含んでいてもよい。
--- Light emitting layer--
The light-emitting layer receives holes from an anode, a hole injection layer, or a hole transport layer when an electric field is applied, receives electrons from a cathode, an electron injection layer, or an electron transport layer, and recombines holes and electrons. It is a layer having a function of providing a field to emit light.
The light emitting layer includes a light emitting material. The light emitting layer may be composed of only a light emitting material, or may be a mixed layer of a host material and a light emitting material (in the latter case, the light emitting material may be referred to as a “light emitting dopant” or “dopant”). The light emitting material may be a fluorescent light emitting material or a phosphorescent light emitting material, and two or more kinds may be mixed. The host material is preferably a charge transport material. The host material may be one type or two or more types. Furthermore, the light emitting layer may contain a material that does not have charge transporting properties and does not emit light.
前記発光層の厚みは、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができるが、2nm〜500nmであるのが好ましく、外部量子効率の観点で、3nm〜200nmであるのがより好ましく、5nm〜100nmであるのが更に好ましい。また、前記発光層は1層であっても2層以上であってもよく、それぞれの層が異なる発光色で発光してもよい。 The thickness of the light emitting layer is not particularly limited and may be appropriately selected depending on the purpose, but is preferably 2 nm to 500 nm, and more preferably 3 nm to 200 nm from the viewpoint of external quantum efficiency, More preferably, the thickness is 5 nm to 100 nm. Moreover, the said light emitting layer may be 1 layer, or may be two or more layers, and each layer may light-emit with a different luminescent color.
−−−発光材料−−−
前記発光材料は、燐光発光材料、蛍光発光材料等のいずれも好適に用いることができる。
前記発光材料は、ホスト化合物との間で、イオン化ポテンシャルの差(ΔIp)と電子親和力の差(ΔEa)が、1.2eV>△Ip>0.2eV、及び/又は1.2eV>△Ea>0.2eVの関係を満たすドーパントであることが、駆動耐久性の観点で好ましい。
前記発光層中の発光材料は、前記発光層中に一般的に発光層を形成する全化合物質量に対して、0.1質量%〜50質量%含有されるが、耐久性、外部量子効率の観点から1質量%〜50質量%含有されることが好ましく、2質量%〜50質量%含有されることがより好ましい。
--- Luminescent material ---
As the light emitting material, any of a phosphorescent light emitting material, a fluorescent light emitting material and the like can be suitably used.
The light emitting material has an ionization potential difference (ΔIp) and an electron affinity difference (ΔEa) of 1.2 eV>ΔIp> 0.2 eV and / or 1.2 eV>ΔEa> with the host compound. A dopant satisfying the relationship of 0.2 eV is preferable from the viewpoint of driving durability.
The light emitting material in the light emitting layer is contained in an amount of 0.1% by mass to 50% by mass with respect to the total compound mass generally forming the light emitting layer in the light emitting layer. From the viewpoint, the content is preferably 1% by mass to 50% by mass, and more preferably 2% by mass to 50% by mass.
<燐光発光材料>
前記燐光発光材料としては、一般に、遷移金属原子又はランタノイド原子を含む錯体を挙げることができる。
前記遷移金属原子としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えばルテニウム、ロジウム、パラジウム、タングステン、レニウム、オスミウム、イリジウム、金、銀、銅、及び白金が挙げられ、より好ましくは、レニウム、イリジウム、及び白金であり、更に好ましくはイリジウム、白金である。
<Phosphorescent material>
In general, examples of the phosphorescent material include complexes containing a transition metal atom or a lanthanoid atom.
The transition metal atom is not particularly limited and may be appropriately selected depending on the purpose. Examples thereof include ruthenium, rhodium, palladium, tungsten, rhenium, osmium, iridium, gold, silver, copper, and platinum. Rhenium, iridium, and platinum are more preferable, and iridium and platinum are more preferable.
前記錯体の配位子としては、例えば、G.Wilkinson等著,Comprehensive Coordination Chemistry, Pergamon Press社1987年発行、H.Yersin著,「Photochemistry and Photophysics of Coordination Compounds」 Springer−Verlag社1987年発行、山本明夫著「有機金属化学−基礎と応用−」裳華房社1982年発行等に記載の配位子などが挙げられる。 Examples of the ligand of the complex include G.I. Wilkinson et al., Comprehensive Coordination Chemistry, Pergamon Press, 1987, H.C. Examples include ligands described in Yersin's "Photochemistry and Photophysics of Coordination Compounds" published by Springer-Verlag 1987, Akio Yamamoto "Organic Metal Chemistry-Fundamentals and Applications-" .
前記錯体は、化合物中に遷移金属原子を一つ有してもよいし、また、2つ以上有するいわゆる複核錯体であってもよい。異種の金属原子を同時に含有していてもよい。 The complex may have one transition metal atom in the compound, or may be a so-called binuclear complex having two or more. Different metal atoms may be contained at the same time.
これらの中でも、燐光発光材料としては、例えば、US6303238B1、US6097147、WO00/57676、WO00/70655、WO01/08230、WO01/39234A2、WO01/41512A1、WO02/02714A2、WO02/15645A1、WO02/44189A1、WO05/19373A2、WO2004/108857A1、WO2005/042444A2、WO2005/042550A1、特開2001−247859、特開2002−302671、特開2002−117978、特開2003−133074、特開2002−235076、特開2003−123982、特開2002−170684、EP1211257、特開2002−226495、特開2002−234894、特開2001−247859、特開2001−298470、特開2002−173674、特開2002−203678、特開2002−203679、特開2004−357791、特開2006−93542、特開2006−261623、特開2006−256999、特開2007−19462、特開2007−84635、特開2007−96259等の各公報に記載の燐光発光化合物などが挙げられる。これらの中でも、Ir錯体、Pt錯体、Cu錯体、Re錯体、W錯体、Rh錯体、Ru錯体、Pd錯体、Os錯体、Eu錯体、Tb錯体、Gd錯体、Dy錯体、Ce錯体が好ましく、Ir錯体、Pt錯体、又はRe錯体がより好ましく、金属−炭素結合、金属−窒素結合、金属−酸素結合、金属−硫黄結合の少なくとも一つの配位様式を含むIr錯体、Pt錯体、又はRe錯体が更に好ましく、発光効率、駆動耐久性、色度等の観点で、3座以上の多座配位子を含むIr錯体、Pt錯体、又はRe錯体が特に好ましい。 Among these, as phosphorescent materials, for example, US6303238B1, US6097147, WO00 / 57676, WO00 / 70655, WO01 / 08230, WO01 / 39234A2, WO01 / 41512A1, WO02 / 02714A2, WO02 / 15645A1, WO02 / 44189A1, WO05 / 19373A2, WO2004 / 108857A1, WO2005 / 042444A2, WO2005 / 042550A1, JP2001-247859, JP2002-302671, JP2002-117978, JP2003-133074, JP2002-1235076, JP2003-123982, JP2002-170684, EP121257, JP2002-226495, JP2002-2002 34894, JP 2001-247659, JP 2001-298470, JP 2002-173675, JP 2002-203678, JP 2002-203679, JP 2004-357791, JP 2006-93542, JP 2006-261623, Examples thereof include phosphorescent compounds described in JP-A-2006-256999, JP-A-2007-19462, JP-A-2007-84635, JP-A-2007-96259, and the like. Among these, Ir complex, Pt complex, Cu complex, Re complex, W complex, Rh complex, Ru complex, Pd complex, Os complex, Eu complex, Tb complex, Gd complex, Dy complex, and Ce complex are preferable, and Ir complex , A Pt complex, or a Re complex is more preferable, and an Ir complex, a Pt complex, or a Re complex including at least one coordination mode of a metal-carbon bond, a metal-nitrogen bond, a metal-oxygen bond, and a metal-sulfur bond is further included. In view of luminous efficiency, driving durability, chromaticity, etc., an Ir complex, a Pt complex, or an Re complex containing a tridentate or higher polydentate ligand is particularly preferable.
前記燐光発光材料の具体例として、以下の化合物を挙げることができるが、これらに限定されるものではない。 Specific examples of the phosphorescent material include the following compounds, but are not limited thereto.
<蛍光発光材料>
前記蛍光発光材料としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えばベンゾオキサゾール、ベンゾイミダゾール、ベンゾチアゾール、スチリルベンゼン、ポリフェニル、ジフェニルブタジエン、テトラフェニルブタジエン、ナフタルイミド、クマリン、ピラン、ペリノン、オキサジアゾール、アルダジン、ピリジン、シクロペンタジエン、ビススチリルアントラセン、キナクリドン、ピロロピリジン、チアジアゾロピリジン、シクロペンタジエン、スチリルアミン、芳香族ジメチリディン化合物、縮合多環芳香族化合物(アントラセン、フェナントロリン、ピレン、ペリレン、ルブレン、又はペンタセンなど)、8−キノリノールの金属錯体、ピロメテン錯体や希土類錯体に代表される各種金属錯体、ポリチオフェン、ポリフェニレン、ポリフェニレンビニレン等のポリマー化合物、有機シラン、又はこれらの誘導体などを挙げることができる。
<Fluorescent material>
The fluorescent light emitting material is not particularly limited and may be appropriately selected depending on the purpose. For example, benzoxazole, benzimidazole, benzothiazole, styrylbenzene, polyphenyl, diphenylbutadiene, tetraphenylbutadiene, naphthalimide, coumarin , Pyran, perinone, oxadiazole, aldazine, pyridine, cyclopentadiene, bisstyrylanthracene, quinacridone, pyrrolopyridine, thiadiazolopyridine, cyclopentadiene, styrylamine, aromatic dimethylidin compound, condensed polycyclic aromatic compound (anthracene, Phenanthroline, pyrene, perylene, rubrene, or pentacene), metal complexes of 8-quinolinol, various metal complexes represented by pyromethene complexes and rare earth complexes, polythiophene Polyphenylene polymer compounds such as polyphenylene vinylene, organic silane, or their derivatives can be mentioned.
−−−ホスト材料−−−
前記ホスト材料としては、正孔輸送性に優れる正孔輸送性ホスト材料(正孔輸送性ホストと記載する場合がある)及び電子輸送性に優れる電子輸送性ホスト化合物(電子輸送性ホストと記載する場合がある)を用いることができる。
---- Host material ---
As the host material, a hole-transporting host material having excellent hole-transporting property (may be described as a hole-transporting host) and an electron-transporting host compound having excellent electron-transporting property (described as an electron-transporting host) May be used).
<正孔輸送性ホスト材料>
前記正孔輸送性ホスト材料としては、例えば、以下の材料を挙げることができる。即ち、ピロール、インドール、カルバゾール、アザインドール、アザカルバゾール、トリアゾール、オキサゾール、オキサジアゾール、ピラゾール、イミダゾール、チオフェン、ポリアリールアルカン、ピラゾリン、ピラゾロン、フェニレンジアミン、アリールアミン、アミノ置換カルコン、スチリルアントラセン、フルオレノン、ヒドラゾン、スチルベン、シラザン、芳香族第三級アミン化合物、スチリルアミン化合物、芳香族ジメチリディン系化合物、ポルフィリン系化合物、ポリシラン系化合物、ポリ(N−ビニルカルバゾール)、アニリン系共重合体、チオフェンオリゴマー、ポリチオフェン等の導電性高分子オリゴマー、有機シラン、カーボン膜、又はそれらの誘導体などが挙げられる。
これらの中でも、インドール誘導体、カルバゾール誘導体、芳香族第三級アミン化合物、チオフェン誘導体、分子内にカルバゾール基を有するものが好ましく、t−ブチル置換カルバゾール基を有する化合物がより好ましい。
<Hole-transporting host material>
Examples of the hole transporting host material include the following materials. Pyrrole, indole, carbazole, azaindole, azacarbazole, triazole, oxazole, oxadiazole, pyrazole, imidazole, thiophene, polyarylalkane, pyrazoline, pyrazolone, phenylenediamine, arylamine, amino-substituted chalcone, styrylanthracene, fluorenone Hydrazone, stilbene, silazane, aromatic tertiary amine compound, styrylamine compound, aromatic dimethylidin compound, porphyrin compound, polysilane compound, poly (N-vinylcarbazole), aniline copolymer, thiophene oligomer, Examples thereof include conductive polymer oligomers such as polythiophene, organic silanes, carbon films, or derivatives thereof.
Among these, indole derivatives, carbazole derivatives, aromatic tertiary amine compounds, thiophene derivatives, and those having a carbazole group in the molecule are preferred, and compounds having a t-butyl substituted carbazole group are more preferred.
<電子輸送性ホスト材料>
前記電子輸送性ホスト材料としては、例えば、ピリジン、ピリミジン、トリアジン、イミダゾール、ピラゾール、トリアゾール、オキサゾール、オキサジアゾール、フルオレノン、アントラキノジメタン、アントロン、ジフェニルキノン、チオピランジオキシド、カルボジイミド、フルオレニリデンメタン、ジスチリルピラジン、フッ素置換芳香族化合物、ナフタレンペリレン等の複素環テトラカルボン酸無水物、フタロシアニン、又はそれらの誘導体(他の環と縮合環を形成してもよい)、8−キノリノール誘導体の金属錯体やメタルフタロシアニン、ベンゾオキサゾールやベンゾチアゾールを配位子とする金属錯体に代表される各種金属錯体等を挙げることができる。これらの中でも、耐久性の点から金属錯体化合物が好ましく、金属に配位する少なくとも1つの窒素原子又は酸素原子又は硫黄原子を有する配位子をもつ金属錯体がより好ましい。前記金属錯体電子輸送性ホストとしては、例えば特開2002−235076号公報、特開2004−214179号公報、特開2004−221062号公報、特開2004−221065号公報、特開2004−221068号公報、特開2004−327313号公報等に記載の化合物が挙げられる。
<Electron transporting host material>
Examples of the electron transporting host material include pyridine, pyrimidine, triazine, imidazole, pyrazole, triazole, oxazole, oxadiazole, fluorenone, anthraquinodimethane, anthrone, diphenylquinone, thiopyran dioxide, carbodiimide, fluoreni Heterocyclic tetracarboxylic anhydrides such as redenemethane, distyrylpyrazine, fluorine-substituted aromatic compounds, naphthaleneperylene, phthalocyanines, or derivatives thereof (may form condensed rings with other rings), 8-quinolinol derivatives And various metal complexes represented by metal complexes having metal phthalocyanine, benzoxazole or benzothiazole as a ligand. Among these, a metal complex compound is preferable from the viewpoint of durability, and a metal complex having a ligand having at least one nitrogen atom, oxygen atom, or sulfur atom coordinated to a metal is more preferable. Examples of the metal complex electron transporting host include Japanese Patent Application Laid-Open No. 2002-235076, Japanese Patent Application Laid-Open No. 2004-214179, Japanese Patent Application Laid-Open No. 2004-221106, Japanese Patent Application Laid-Open No. 2004-221665, and Japanese Patent Application Laid-Open No. 2004-221068. And compounds described in JP-A No. 2004-327313.
前記正孔輸送性ホスト材料、電子輸送性ホスト材料の具体例として、以下の化合物を挙げることができるが、これらに限定されるものではない。 Specific examples of the hole transporting host material and the electron transporting host material include the following compounds, but are not limited thereto.
−−正孔注入層、正孔輸送層−−
前記正孔注入層、又は前記正孔輸送層は、陽極又は陽極側の層から正孔を受け取り陰極側に輸送する機能を有する層である。これらの層に用いられる正孔注入材料、正孔輸送材料は、低分子化合物であっても高分子化合物であってもよい。具体的には、ピロール誘導体、カルバゾール誘導体、トリアゾール誘導体、オキサゾール誘導体、オキサジアゾール誘導体、イミダゾール誘導体、ポリアリールアルカン誘導体、ピラゾリン誘導体、ピラゾロン誘導体、フェニレンジアミン誘導体、アリールアミン誘導体、アミノ置換カルコン誘導体、スチリルアントラセン誘導体、フルオレノン誘導体、ヒドラゾン誘導体、スチルベン誘導体、シラザン誘導体、芳香族第三級アミン化合物、スチリルアミン化合物、芳香族ジメチリディン系化合物、フタロシアニン系化合物、ポルフィリン系化合物、チオフェン誘導体、有機シラン誘導体、カーボン、等を含有する層であることが好ましい。
--- Hole injection layer, hole transport layer-
The hole injection layer or the hole transport layer is a layer having a function of receiving holes from the anode or the layer on the anode side and transporting them to the cathode side. The hole injecting material and hole transporting material used for these layers may be a low molecular compound or a high molecular compound. Specifically, pyrrole derivatives, carbazole derivatives, triazole derivatives, oxazole derivatives, oxadiazole derivatives, imidazole derivatives, polyarylalkane derivatives, pyrazoline derivatives, pyrazolone derivatives, phenylenediamine derivatives, arylamine derivatives, amino-substituted chalcone derivatives, styryl Anthracene derivatives, fluorenone derivatives, hydrazone derivatives, stilbene derivatives, silazane derivatives, aromatic tertiary amine compounds, styrylamine compounds, aromatic dimethylidin compounds, phthalocyanine compounds, porphyrin compounds, thiophene derivatives, organosilane derivatives, carbon, And the like.
前記正孔注入層、又は前記正孔輸送層には、電子受容性ドーパントを含有させることができる。前記正孔注入層、又は正孔輸送層に導入する電子受容性ドーパントとしては、電子受容性で有機化合物を酸化する性質を有すれば、無機化合物でも有機化合物でも使用できる。
具体的には、無機化合物は塩化第二鉄や塩化アルミニウム、塩化ガリウム、塩化インジウム、五塩化アンチモンなどのハロゲン化金属、五酸化バナジウム、及び三酸化モリブデンなどの金属酸化物などが挙げられる。有機化合物の場合は、置換基としてニトロ基、ハロゲン、シアノ基、トリフルオロメチル基などを有する化合物、キノン系化合物、酸無水物系化合物、フラーレンなどを好適に用いることができる。
これらの電子受容性ドーパントは、単独で用いてもよいし、2種以上を用いてもよい。電子受容性ドーパントの使用量は、材料の種類によって異なるが、正孔輸送層材料に対して0.01質量%〜50質量%であることが好ましく、0.05質量%〜20質量%であることが更に好ましく、0.1質量%〜10質量%であることが特に好ましい。
The hole injection layer or the hole transport layer may contain an electron accepting dopant. As the electron-accepting dopant introduced into the hole injection layer or the hole transport layer, an inorganic compound or an organic compound can be used as long as it has an electron accepting property and oxidizes an organic compound.
Specifically, examples of the inorganic compound include metal halides such as ferric chloride, aluminum chloride, gallium chloride, indium chloride, and antimony pentachloride, and metal oxides such as vanadium pentoxide and molybdenum trioxide. In the case of an organic compound, a compound having a nitro group, halogen, cyano group, trifluoromethyl group or the like as a substituent, a quinone compound, an acid anhydride compound, fullerene, or the like can be preferably used.
These electron-accepting dopants may be used alone or in combination of two or more. Although the usage-amount of an electron-accepting dopant changes with kinds of material, it is preferable that it is 0.01 mass%-50 mass% with respect to hole transport layer material, and it is 0.05 mass%-20 mass%. It is further more preferable and it is especially preferable that it is 0.1 mass%-10 mass%.
前記正孔注入層、又は正孔輸送層は、上述した材料の1種又は2種以上からなる単層構造であってもよいし、同一組成又は異種組成の複数層からなる多層構造であってもよい。 The hole injection layer or the hole transport layer may have a single layer structure composed of one or more of the materials described above, or a multilayer structure composed of a plurality of layers having the same composition or different compositions. Also good.
−−電子注入層、電子輸送層−−
前記電子注入層、又は前記電子輸送層は、陰極又は陰極側の層から電子を受け取り陽極側に輸送する機能を有する層である。これらの層に用いる電子注入材料、電子輸送材料は低分子化合物であっても高分子化合物であってもよい。
具体的には、ピリジン誘導体、キノリン誘導体、ピリミジン誘導体、ピラジン誘導体、フタラジン誘導体、フェナントロリン誘導体、トリアジン誘導体、トリアゾール誘導体、オキサゾール誘導体、オキサジアゾール誘導体、イミダゾール誘導体、フルオレノン誘導体、アントラキノジメタン誘導体、アントロン誘導体、ジフェニルキノン誘導体、チオピランジオキシド誘導体、カルボジイミド誘導体、フルオレニリデンメタン誘導体、ジスチリルピラジン誘導体、ナフタレン、ペリレン等の芳香環テトラカルボン酸無水物、フタロシアニン誘導体、8−キノリノール誘導体の金属錯体やメタルフタロシアニン、ベンゾオキサゾールやベンゾチアゾールを配位子とする金属錯体に代表される各種金属錯体、シロールに代表される有機シラン誘導体、等を含有する層であることが好ましい。
--Electron injection layer, electron transport layer--
The electron injection layer or the electron transport layer is a layer having a function of receiving electrons from the cathode or a layer on the cathode side and transporting them to the anode side. The electron injection material and the electron transport material used for these layers may be a low molecular compound or a high molecular compound.
Specifically, pyridine derivatives, quinoline derivatives, pyrimidine derivatives, pyrazine derivatives, phthalazine derivatives, phenanthroline derivatives, triazine derivatives, triazole derivatives, oxazole derivatives, oxadiazole derivatives, imidazole derivatives, fluorenone derivatives, anthraquinodimethane derivatives, anthrone Derivatives, diphenylquinone derivatives, thiopyran dioxide derivatives, carbodiimide derivatives, fluorenylidenemethane derivatives, distyrylpyrazine derivatives, naphthalene, perylene and other aromatic ring tetracarboxylic acid anhydrides, phthalocyanine derivatives, 8-quinolinol derivative metal complexes, Metal phthalocyanines, various metal complexes represented by metal complexes with benzoxazole and benzothiazole as ligands, organosilane derivatives represented by siloles Body, or the like is preferably a layer containing.
前記電子注入層、又は電子輸送層には、電子供与性ドーパントを含有させることができる。前記電子注入層、又は電子輸送層に導入される電子供与性ドーパントとしては、電子供与性で有機化合物を還元する性質を有していればよく、Liなどのアルカリ金属、Mgなどのアルカリ土類金属、希土類金属を含む遷移金属や還元性有機化合物などが好適に用いられる。金属としては、特に仕事関数が4.2eV以下の金属が好適に使用でき、具体的には、Li、Na、K、Be、Mg、Ca、Sr、Ba、Y、Cs、La、Sm、Gd、及びYbなどが挙げられる。また、還元性有機化合物としては、例えば、含窒素化合物、含硫黄化合物、含リン化合物などが挙げられる。
これらの電子供与性ドーパントは、単独で用いてもよいし、2種以上を用いてもよい。電子供与性ドーパントの使用量は、材料の種類によって異なるが、電子輸送層材料に対して0.1質量%〜99質量%であることが好ましく、1.0質量%〜80質量%であることが更に好ましく、2.0質量%〜70質量%であることが特に好ましい。
The electron injection layer or the electron transport layer may contain an electron donating dopant. The electron-donating dopant introduced into the electron-injecting layer or the electron-transporting layer is not limited as long as it has an electron-donating property and has a property of reducing an organic compound. Alkali metals such as Li and alkaline earths such as Mg Metals, transition metals including rare earth metals, reducing organic compounds, and the like are preferably used. As the metal, a metal having a work function of 4.2 eV or less can be preferably used. Specifically, Li, Na, K, Be, Mg, Ca, Sr, Ba, Y, Cs, La, Sm, Gd , And Yb. Examples of the reducing organic compound include nitrogen-containing compounds, sulfur-containing compounds, and phosphorus-containing compounds.
These electron donating dopants may be used alone or in combination of two or more. The amount of the electron donating dopant varies depending on the type of material, but is preferably 0.1% by mass to 99% by mass, and 1.0% by mass to 80% by mass with respect to the electron transport layer material. Is more preferable, and 2.0 mass% to 70 mass% is particularly preferable.
前記電子注入層、又は前記電子輸送層は、上述した材料の1種又は2種以上からなる単層構造であってもよいし、同一組成又は異種組成の複数層からなる多層構造であってもよい。 The electron injection layer or the electron transport layer may have a single layer structure composed of one or more of the above-described materials, or a multilayer structure composed of a plurality of layers having the same composition or different compositions. Good.
−−正孔ブロック層、電子ブロック層−−
前記正孔ブロック層は、陽極側から発光層に輸送された正孔が陰極側に通り抜けることを防止する機能を有する層であり、通常、発光層と陰極側で隣接する有機化合物層として設けられる。
一方、前記電子ブロック層は、陰極側から発光層に輸送された電子が陽極側に通り抜けることを防止する機能を有する層であり、通常、発光層と陽極側で隣接する有機化合物層として設けられる。
前記正孔ブロック層を構成する化合物の例としては、BAlq等のアルミニウム錯体、トリアゾール誘導体、BCP等のフェナントロリン誘導体、等が挙げられる。電子ブロック層を構成する化合物の例としては、例えば前述の正孔輸送材料として挙げたものが利用できる。
前記正孔ブロック層及び電子ブロック層の厚みは、1nm〜500nmであるのが好ましく、5nm〜200nmであるのがより好ましく、10nm〜100nmであるのが更に好ましい。また、前記正孔ブロック層及び電子ブロック層は、上述した材料の1種又は2種以上からなる単層構造であってもよいし、同一組成又は異種組成の複数層からなる多層構造であってもよい。
--Hole blocking layer, electron blocking layer--
The hole blocking layer is a layer having a function of preventing holes transported from the anode side to the light emitting layer from passing through to the cathode side, and is usually provided as an organic compound layer adjacent to the light emitting layer on the cathode side. .
On the other hand, the electron blocking layer is a layer having a function of preventing electrons transported from the cathode side to the light emitting layer from passing to the anode side, and is usually provided as an organic compound layer adjacent to the light emitting layer on the anode side. .
Examples of the compound constituting the hole blocking layer include aluminum complexes such as BAlq, triazole derivatives, phenanthroline derivatives such as BCP, and the like. As an example of the compound constituting the electron blocking layer, for example, those mentioned as the hole transport material described above can be used.
The thickness of the hole blocking layer and the electron blocking layer is preferably 1 nm to 500 nm, more preferably 5 nm to 200 nm, and still more preferably 10 nm to 100 nm. The hole blocking layer and the electron blocking layer may have a single-layer structure made of one or more of the materials described above, or a multilayer structure made up of a plurality of layers having the same composition or different compositions. Also good.
−−電極−−
前記有機電界発光素子は、一対の電極、即ち陽極と陰極とを含む。発光素子の性質上、陽極及び陰極のうち少なくとも一方の電極は透明であることが好ましい。
通常、陽極は有機化合物層に正孔を供給する電極としての機能を有していればよく、陰極は有機化合物層に電子を注入する電極としての機能を有していればよい。その形状、構造、大きさ等については特に制限はなく、発光素子の用途、目的に応じて、公知の電極材料の中から適宜選択することができる。電極を構成する材料としては、例えば、金属、合金、金属酸化物、導電性化合物、又はこれらの混合物等が好適に挙げられる。
--- Electrode--
The organic electroluminescent element includes a pair of electrodes, that is, an anode and a cathode. In view of the properties of the light emitting element, at least one of the anode and the cathode is preferably transparent.
Usually, the anode only needs to have a function as an electrode for supplying holes to the organic compound layer, and the cathode only needs to have a function as an electrode for injecting electrons into the organic compound layer. The shape, structure, size, and the like are not particularly limited, and can be appropriately selected from known electrode materials according to the use and purpose of the light-emitting element. As a material which comprises an electrode, a metal, an alloy, a metal oxide, an electroconductive compound, or a mixture thereof etc. are mentioned suitably, for example.
前記電極としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができるが、その陽極、陰極において、前記反射金属、前記半透明部材としての半透明金属を構成することが好ましい。 There is no restriction | limiting in particular as said electrode, Although it can select suitably according to the objective, It is preferable to comprise the said reflecting metal and the translucent metal as said translucent member in the anode and cathode.
前記陽極を構成する材料の具体例としては、例えば、アンチモンやフッ素等をドープした酸化錫(ATO、FTO)、酸化錫、酸化亜鉛、酸化インジウム、酸化インジウム錫(ITO)、酸化亜鉛インジウム(IZO)等の導電性金属酸化物、金、銀、クロム、ニッケル等の金属、更にこれらの金属と導電性金属酸化物との混合物又は積層物、ヨウ化銅、硫化銅などの無機導電性物質、ポリアニリン、ポリチオフェン、ポリピロールなどの有機導電性材料、及びこれらとITOとの積層物などが挙げられる。この中で好ましいのは、導電性金属酸化物であり、特に、生産性、高導電性、透明性等の点からはITOが好ましい。 Specific examples of the material constituting the anode include, for example, tin oxide (ATO, FTO) doped with antimony or fluorine, tin oxide, zinc oxide, indium oxide, indium tin oxide (ITO), indium zinc oxide (IZO). ) Conductive metal oxides, metals such as gold, silver, chromium, nickel, and mixtures or laminates of these metals and conductive metal oxides, inorganic conductive materials such as copper iodide and copper sulfide, Examples thereof include organic conductive materials such as polyaniline, polythiophene, and polypyrrole, and laminates of these with ITO. Among these, conductive metal oxides are preferable, and ITO is particularly preferable from the viewpoints of productivity, high conductivity, transparency, and the like.
前記陰極を構成する材料としては、例えば、アルカリ金属(例えば、Li、Na、K、Cs等)、アルカリ土類金属(例えば、Mg、Ca等)、金、銀、鉛、アルミニウム、ナトリウム−カリウム合金、リチウム−アルミニウム合金、マグネシウム−銀合金、インジウム、及びイッテルビウム等の希土類金属などが挙げられる。これらは、1種単独で使用してもよいが、安定性と電子注入性とを両立させる観点からは、2種以上を好適に併用することができる。これらの中でも、電子注入性の点で、アルカリ金属やアルカリ土類金属が好ましく、保存安定性に優れる点で、アルミニウムを主体とする材料が好ましい。アルミニウムを主体とする材料とは、アルミニウム単独、アルミニウムと0.01質量%〜10質量%のアルカリ金属又はアルカリ土類金属との合金若しくはこれらの混合物(例えば、リチウム−アルミニウム合金、マグネシウム−アルミニウム合金など)をいう。 Examples of the material constituting the cathode include alkali metals (eg, Li, Na, K, Cs, etc.), alkaline earth metals (eg, Mg, Ca, etc.), gold, silver, lead, aluminum, sodium-potassium. Examples include alloys, lithium-aluminum alloys, magnesium-silver alloys, indium, and rare earth metals such as ytterbium. These may be used alone, but two or more can be suitably used in combination from the viewpoint of achieving both stability and electron injection. Among these, alkali metals and alkaline earth metals are preferable from the viewpoint of electron injection properties, and materials mainly composed of aluminum are preferable from the viewpoint of excellent storage stability. The material mainly composed of aluminum is aluminum alone, an alloy of aluminum and 0.01% by mass to 10% by mass of alkali metal or alkaline earth metal, or a mixture thereof (for example, lithium-aluminum alloy, magnesium-aluminum alloy). Etc.).
前記電極の形成方法については、特に制限はなく、公知の方法に従って行うことができる。例えば、印刷方式、コーティング方式等の湿式方式、真空蒸着法、スパッタリング法、イオンプレーティング法等の物理的方式、CVD、プラズマCVD法等の化学的方式などの中から、前記電極を構成する材料との適性を考慮し、適宜選択した方法に従って前記基板上に形成することができる。例えば、陽極の材料としてITOを選択する場合には、直流又は高周波スパッタ法、真空蒸着法、イオンプレーティング法等に従って形成することができる。陰極の材料として金属等を選択する場合には、その1種又は2種以上を同時又は順次にスパッタ法等に従って形成することができる。 There is no restriction | limiting in particular about the formation method of the said electrode, According to a well-known method, it can carry out. For example, a material constituting the electrode from a wet method such as a printing method, a coating method, a physical method such as a vacuum deposition method, a sputtering method, or an ion plating method, or a chemical method such as CVD or plasma CVD method. In consideration of the suitability, the film can be formed on the substrate according to an appropriately selected method. For example, when ITO is selected as the anode material, it can be formed according to a direct current or high frequency sputtering method, a vacuum deposition method, an ion plating method, or the like. When a metal or the like is selected as the cathode material, one or more of them can be formed simultaneously or sequentially according to a sputtering method or the like.
なお、前記電極を形成する際にパターニングを行う場合は、フォトリソグラフィーなどによる化学的エッチングによって行ってもよいし、レーザーなどによる物理的エッチングによって行ってもよく、また、マスクを重ねて真空蒸着やスパッタ等をして行ってもよいし、リフトオフ法や印刷法によって行ってもよい。 In addition, when patterning is performed when forming the electrode, it may be performed by chemical etching such as photolithography, or may be performed by physical etching using a laser or the like. It may be performed by sputtering or the like, or may be performed by a lift-off method or a printing method.
ここで、図5は、本発明の有機電界発光装置の一例を示す概略図である。この図5の有機電界発光装置は、接着層2と、基材3と、微粒子層4と、平坦化層5と、バリア層6とからなる光取り出しシート20を、基板1と、透明電極(ITO)7との間に有するものである。
したがって、基板1上に、光取り出しシート20と、透明電極7と、有機電界発光層8と、反射電極9とを有し、これらが封止缶10で封止されたものである。
Here, FIG. 5 is a schematic view showing an example of the organic electroluminescent device of the present invention. The organic electroluminescent device of FIG. 5 includes a light extraction sheet 20 composed of an adhesive layer 2, a base material 3, a fine particle layer 4, a planarizing layer 5, and a barrier layer 6, a substrate 1, a transparent electrode ( ITO) 7.
Therefore, the light extraction sheet 20, the transparent electrode 7, the organic electroluminescent layer 8, and the reflective electrode 9 are provided on the substrate 1, and these are sealed with the sealing can 10.
前記有機電界発光装置は、フルカラーで表示し得る装置として構成することができる。
前記有機電界発光装置をフルカラータイプのものとする方法としては、例えば「月刊ディスプレイ」、2000年9月号、33〜37ページに記載されているように、色の3原色(青色(B)、緑色(G)、赤色(R))に対応する光をそれぞれ発光する層構造を基板上に配置する3色発光法、白色発光用の層構造による白色発光をカラーフィルタ層を通して3原色に分ける白色法、青色発光用の層構造による青色発光を蛍光色素層を通して赤色(R)及び緑色(G)に変換する色変換法、などが知られている。
この場合は、青色(B)、緑色(G)、赤色(R)の画素ごとにレーザーパワー、厚みを適宜調整することが好ましい。
また、上記方法により得られる異なる発光色の層構造を複数組み合わせて用いることにより、所望の発光色の平面型光源を得ることができる。例えば、青色及び黄色の発光素子を組み合わせた白色発光光源、青色(B)、緑色(G)、及び赤色(R)の有機電界発光素子を組み合わせた白色発光光源、等である。
The organic electroluminescent device can be configured as a device capable of displaying in full color.
As a method for making the organic electroluminescent device of a full color type, for example, as described in “Monthly Display”, September 2000, pages 33 to 37, the three primary colors (blue (B), A three-color light emission method in which a layer structure that emits light corresponding to green (G) and red (R) is arranged on a substrate, a white light that divides white light emission by a layer structure for white light emission into three primary colors through a color filter layer And a color conversion method in which blue light emission by a layer structure for blue light emission is converted into red (R) and green (G) through a fluorescent dye layer are known.
In this case, it is preferable to appropriately adjust the laser power and thickness for each pixel of blue (B), green (G), and red (R).
In addition, by using a combination of a plurality of layer structures of different emission colors obtained by the above method, a planar light source having a desired emission color can be obtained. For example, a white light-emitting light source combining blue and yellow light-emitting elements, a white light-emitting light source combining blue (B), green (G), and red (R) organic electroluminescent elements.
前記有機電界発光装置は、例えば、照明機器、コンピュータ、車載用表示器、野外表示器、家庭用機器、業務用機器、家電用機器、交通関係表示器、時計表示器、カレンダ表示器、ルミネッセントスクリーン、音響機器等をはじめとする各種分野において好適に使用することができる。 The organic electroluminescent device is, for example, a lighting device, a computer, an on-vehicle display, an outdoor display, a home device, a business device, a home appliance, a traffic display, a clock display, a calendar display, a luminescence. It can be suitably used in various fields including cent screens, audio equipment and the like.
以下、本発明の実施例を説明するが、本発明は、これらの実施例に何ら限定されるものではない。 Examples of the present invention will be described below, but the present invention is not limited to these examples.
(製造例1)
−平坦化層材料1の作製−
トルエンに分散した酸化チタン(平均粒径15nm、材料名:酸化チタン分散トルエン、商品名:高透明性酸化チタンスラリー760T、テイカ社製)44質量部と、トルエンを溶媒とした樹脂材料(材料名:フルオレン誘導体、商品名:オグソールEA−0200、大阪ガスケミカル株式会社製)55質量部と、重合開始剤(材料名:アゾ系熱重合開始剤、商品名:V−65、和光純薬工業株式会社製)の溶液1質量部とを攪拌し、十分に混合させて、平坦化層材料1を作製した。
(Production Example 1)
-Production of planarization layer material 1-
Titanium oxide dispersed in toluene (average particle size 15 nm, material name: titanium oxide-dispersed toluene, product name: highly transparent titanium oxide slurry 760T, manufactured by Teica) 44 parts by mass, and resin material (material name) using toluene as a solvent : Fluorene derivative, trade name: Ogsol EA-0200, Osaka Gas Chemical Co., Ltd.) 55 parts by mass, polymerization initiator (material name: azo-based thermal polymerization initiator, trade name: V-65, Wako Pure Chemical Industries, Ltd.) The flattened layer material 1 was prepared by stirring and thoroughly mixing with 1 part by mass of a solution (made by company).
(製造例2)
−微粒子層材料1の作製−
製造例1の平坦化層材料1に対し、ポリスチレン系微粒子(材料名:メラミン樹脂粒子、商品名:オプトビーズ2000M、日産化学工業株式会社製)を60質量%添加し、更に撹拌を続け、十分に分散させて、微粒子層材料1を作製した。
(Production Example 2)
-Production of fine particle layer material 1-
60% by mass of polystyrene-based fine particles (material name: melamine resin particles, trade name: Optobead 2000M, manufactured by Nissan Chemical Industries, Ltd.) is added to the planarization layer material 1 of Production Example 1, and stirring is continued. The fine particle layer material 1 was prepared by dispersing in the above.
(製造例3)
−平坦化層材料2の作製−
製造例1の平坦化層材料1において、「高透明性酸化チタンスラリー760T」を使用しなかった以外は、製造例1と同様にして、平坦化層材料2を作製した。
(Production Example 3)
-Production of planarization layer material 2-
A planarization layer material 2 was produced in the same manner as in Production Example 1 except that the “highly transparent titanium oxide slurry 760T” was not used in the planarization layer material 1 of Production Example 1.
(製造例4)
−微粒子層材料2の作製−
製造例3の平坦化層材料2に対し、ポリスチレン系微粒子(材料名:メラミン樹脂粒子、商品名:オプトビーズ2000M、日産化学工業株式会社製)を60質量%添加し、更に撹拌を続け、十分に分散させて、微粒子層材料2を作製した。
(Production Example 4)
-Production of fine particle layer material 2-
60% by mass of polystyrene fine particles (material name: melamine resin particles, trade name: Optobead 2000M, manufactured by Nissan Chemical Industries, Ltd.) is added to the planarizing layer material 2 of Production Example 3, and the stirring is continued. To prepare a fine particle layer material 2.
(比較例1)
−光取り出しシート1の作製−
十分に洗浄したポリエチレンナフタレート(PEN)フィルム(厚み100μm、屈折率=1.67)上に、製造例2の微粒子層材料1を塗布し、加熱して十分に硬化させて、平均厚み25μmの微粒子層を形成した。この微粒子層上に、製造例1の平坦化層材料1を塗布し、硬化させて、平均厚み10μmの平坦化層を形成した。
次に、微粒子層及び平坦化層を形成したPENフィルムの面とは反対面に光学用両面テープ(厚み25μm、材料名:透明粘着シート、商品名:LUCIACS CS9621T、日東電工株式会社製)を貼り付けた。光学用両面テープは、アクリル系の接着層(屈折率=1.51)を有している。
以上により、比較例1の光取り出しシート1を作製した。
(Comparative Example 1)
-Production of light extraction sheet 1-
On a sufficiently washed polyethylene naphthalate (PEN) film (thickness: 100 μm, refractive index = 1.67), the fine particle layer material 1 of Production Example 2 was applied, heated and sufficiently cured, and an average thickness of 25 μm. A fine particle layer was formed. On this fine particle layer, the planarizing layer material 1 of Production Example 1 was applied and cured to form a planarizing layer having an average thickness of 10 μm.
Next, a double-sided optical tape (thickness 25 μm, material name: transparent adhesive sheet, product name: LUCIACS CS9621T, manufactured by Nitto Denko Corporation) is attached to the surface opposite to the surface of the PEN film on which the fine particle layer and the flattening layer are formed. I attached. The optical double-sided tape has an acrylic adhesive layer (refractive index = 1.51).
The light extraction sheet 1 of Comparative Example 1 was produced as described above.
(比較例2)
−光取り出しシート2の作製−
比較例1において、微粒子層上に平坦化層を形成しなかった以外は、比較例1と同様にして、比較例2の光取り出しシート2を作製した。
(Comparative Example 2)
-Production of light extraction sheet 2-
In Comparative Example 1, a light extraction sheet 2 of Comparative Example 2 was produced in the same manner as Comparative Example 1 except that the planarizing layer was not formed on the fine particle layer.
(実施例1)
−光取り出しシート3の作製−
比較例1において、平坦化層表面にCVD装置(samco社製、CCP−CVD)により、平均厚みが300nmの無機バリア層(SiN、屈折率1.80)を形成した以外は、比較例1と同様にして、実施例1のバリア層(1)を有する光取り出しシート3を作製した。
Example 1
-Production of light extraction sheet 3-
Comparative Example 1 is the same as Comparative Example 1 except that an inorganic barrier layer (SiN, refractive index 1.80) having an average thickness of 300 nm is formed on the surface of the planarization layer by a CVD apparatus (manufactured by samco, CCP-CVD). Similarly, a light extraction sheet 3 having the barrier layer (1) of Example 1 was produced.
(実施例2)
−光取り出しシート4の作製−
比較例1において、平坦化層表面にCVD装置(samco社製、CCP−CVD)により平均厚みが100nmの無機バリア層(SiN、屈折率1.80)を形成し、次に、前記無機バリア層上に、以下のようにして、平均厚みが1,000nmの有機バリア層を形成し、次に、前記CVD装置により平均厚みが100nmの無機バリア層(SiN、屈折率1.80)を形成した以外は、比較例1と同様にして、実施例2のバリア層(2)を有する光取り出しシート4を作製した。
(Example 2)
-Production of light extraction sheet 4-
In Comparative Example 1, an inorganic barrier layer (SiN, refractive index 1.80) having an average thickness of 100 nm was formed on the planarizing layer surface by a CVD apparatus (manufactured by samco, CCP-CVD), and then the inorganic barrier layer On top of this, an organic barrier layer having an average thickness of 1,000 nm was formed as follows, and then an inorganic barrier layer (SiN, refractive index 1.80) having an average thickness of 100 nm was formed by the CVD apparatus. Except for this, a light extraction sheet 4 having the barrier layer (2) of Example 2 was produced in the same manner as in Comparative Example 1.
−有機バリア層組成物及び有機バリア層の形成−
下記表1に示した重合性化合物(合計20質量部)と、重合開始剤(ランベルティ社製、エザキュアKTO46)と、酸化チタン微粒子(テイカ社製、MT−100HD)とからなる組成物を、平均厚みが1,000nmとなるようにメチルエチルケトンで調製して製膜し、酸素100ppm雰囲気下で紫外線照射量1.2J/cm2で照射して硬化させ、微粒子含有の有機バリア層を作製した。
-Formation of organic barrier layer composition and organic barrier layer-
A composition comprising a polymerizable compound (total 20 parts by mass) shown in Table 1 below, a polymerization initiator (Lamberti, Ezacure KTO46), and titanium oxide fine particles (Taika, MT-100HD), A film was prepared with methyl ethyl ketone so as to have an average thickness of 1,000 nm, and cured by irradiation with an ultraviolet ray irradiation amount of 1.2 J / cm 2 in an atmosphere of oxygen of 100 ppm to produce an organic barrier layer containing fine particles.
<重合性化合物F−1>
(実施例3)
−光取り出しシート5の作製−
比較例2において、微粒子層上に、実施例2と同様にして、平均厚みが1,000nmである有機バリア層(平坦化層を兼ねる)を形成し、次に、実施例2と同様にして、平均厚みが100nmの無機バリア層、平均厚みが1,000nmの有機バリア層、及び平均厚みが100nmの無機バリア層を順に形成した以外は、比較例2と同様にして、実施例3のバリア層(3)を有する光取り出しシート5を作製した。
(Example 3)
-Production of light extraction sheet 5-
In Comparative Example 2, an organic barrier layer having an average thickness of 1,000 nm (also serving as a planarizing layer) was formed on the fine particle layer in the same manner as in Example 2. Next, in the same manner as in Example 2. The barrier of Example 3 was the same as Comparative Example 2 except that an inorganic barrier layer having an average thickness of 100 nm, an organic barrier layer having an average thickness of 1,000 nm, and an inorganic barrier layer having an average thickness of 100 nm were sequentially formed. A light extraction sheet 5 having a layer (3) was produced.
(比較例3)
−光取り出しシート6の作製−
実施例3において、ポリエチレンナフタレート(PEN)フィルム(厚み100μm、屈折率=1.67)を、アクリルフィルム(厚み100μm、屈折率=1.49)に代えた以外は、実施例3と同様にして、比較例3のバリア層(3)を有する光取り出しシート6を作製した。
(Comparative Example 3)
-Production of light extraction sheet 6-
In Example 3, a polyethylene naphthalate (PEN) film (thickness 100 μm, refractive index = 1.67) was replaced with an acrylic film (thickness 100 μm, refractive index = 1.49) in the same manner as in Example 3. Thus, a light extraction sheet 6 having the barrier layer (3) of Comparative Example 3 was produced.
(比較例4)
−光取り出しシート7の作製−
比較例1において、微粒子層材料1を製造例4の微粒子層材料2へ、平坦化層材料1を製造例3の平坦化層材料2に変更し、平坦化層表面にイオンプレーティング装置を用い、平均厚みが300nmの無機バリア層(SiO2、屈折率1.45)を形成した以外は、比較例1と同様にして、比較例4のバリア層(4)を有する光取り出しシート7を作製した。
(Comparative Example 4)
-Production of light extraction sheet 7-
In Comparative Example 1, the fine particle layer material 1 is changed to the fine particle layer material 2 of Production Example 4, and the flattening layer material 1 is changed to the flattening layer material 2 of Production Example 3, and an ion plating apparatus is used on the flattening layer surface. A light extraction sheet 7 having the barrier layer (4) of Comparative Example 4 was prepared in the same manner as Comparative Example 1 except that an inorganic barrier layer (SiO 2 , refractive index 1.45) having an average thickness of 300 nm was formed. did.
作製した実施例1〜3及び比較例1〜4の各光取り出しシートの層構成などについて表2にまとめて示す。
各光取り出しシートについて、以下のようにして、水蒸気透過率を測定した。結果を表2に示す。また、各光取り出しシートを構成する各層の屈折率を以下のようにして測定した。結果を表2中に( )で示す。
Table 2 summarizes the layer configuration of each of the light extraction sheets of Examples 1 to 3 and Comparative Examples 1 to 4 produced.
About each light extraction sheet | seat, the water-vapor-permeation rate was measured as follows. The results are shown in Table 2. Moreover, the refractive index of each layer which comprises each light extraction sheet | seat was measured as follows. The results are shown in Table 2 with ().
<水蒸気透過率の測定>
各光取り出しシートの水蒸気透過率は、G.NISATO、P.C.P.BOUTEN、P.J.SLIKKERVEERら、SID Conference Record of the International Display Research Conference1435-1438頁に記載の方法(カルシウムを用いた測定法)を用い、図7に示すように、光取り出しシート20をセットして、温度は60℃、相対湿度は90%中で測定した。結果を表2に示す。
<Measurement of water vapor transmission rate>
The water vapor transmission rate of each light extraction sheet is shown in FIG. 7 using the method described in G. NISATO, PCPBOUTEN, PJSLIKKERVEER et al., SID Conference Record of the International Display Research Conference, pages 1435-1438 (measurement method using calcium). Thus, the light extraction sheet 20 was set, and the temperature was measured at 60 ° C. and the relative humidity was 90%. The results are shown in Table 2.
<各層の屈折率の測定>
光取り出しシートを構成する各層の屈折率は、エリプソメーター(ジェー・エー・ウーラム・ジャパン社製)を用いて測定した。
<Measurement of refractive index of each layer>
The refractive index of each layer constituting the light extraction sheet was measured using an ellipsometer (manufactured by JA Woollam Japan).
*表2−2中の( )内の値は屈折率を示す。
* The value in () in Table 2-2 indicates the refractive index.
表2の結果から、実施例1〜3及び比較例3の光取り出しシートは、十分なバリア性能が得られることが分かった。
これに対し、比較例1及び2では、水蒸気透過率が好ましい範囲でなく、バリア性能が劣ることが分かった。
From the results of Table 2, it was found that the light extraction sheets of Examples 1 to 3 and Comparative Example 3 can obtain sufficient barrier performance.
On the other hand, in Comparative Examples 1 and 2, it was found that the water vapor transmission rate was not in a preferable range and the barrier performance was inferior.
(実施例4)
−有機電界発光装置の作製−
実施例1で作製した光取り出しシート3〔接着層/PENフィルム/微粒子層/平坦化層/バリア層(1)〕を用い、以下のようにして、実施例4の有機電界発光装置を作製した。
Example 4
-Fabrication of organic electroluminescence device-
Using the light extraction sheet 3 [adhesion layer / PEN film / fine particle layer / flattening layer / barrier layer (1)] prepared in Example 1, the organic electroluminescence device of Example 4 was prepared as follows. .
まず、ガラス基板(コーニング社製、Eagle XG、屈折率1.51)を洗浄容器に入れ、中性洗剤中で超音波洗浄した後、純水中で超音波洗浄し、120℃で120分間加熱乾燥を行った。
次に、光取り出しシート3を前記基板の一方の面に接着層側から貼り付けた。
次に、前記ガラス基板に貼り付けた前記光取り出しシートのバリア層上に、スパッタ法によりITO(Indium Tin Oxide)を厚みが100nmとなるように成膜した。
次に、前記ITO上に、下記構造式で表される4,4’,4”−トリス(N,N−(2−ナフチル)−フェニルアミノ)トリフェニルアミン(2−TNATA)に、下記構造式で表されるF4−TCNQを0.3質量%ドープした正孔注入層を厚みが150nmになるように共蒸着した。
Next, the light extraction sheet 3 was attached to one surface of the substrate from the adhesive layer side.
Next, an ITO (Indium Tin Oxide) film was formed to a thickness of 100 nm on the barrier layer of the light extraction sheet attached to the glass substrate by sputtering.
Next, on the ITO, 4,4 ′, 4 ″ -tris (N, N- (2-naphthyl) -phenylamino) triphenylamine (2-TNATA) represented by the following structural formula has the following structure. A hole injection layer doped with 0.3% by mass of F4-TCNQ represented by the formula was co-evaporated so as to have a thickness of 150 nm.
次に、前記正孔注入層上に、正孔輸送層としてα−NPD(Bis[N−(1−naphthyl)−N−phenyl]benzidine)を厚みが7nmとなるように真空蒸着法にて形成した。
次に、前記正孔輸送層上に、下記構造式で表される有機材料Aを真空蒸着して、厚み3nmの第2の正孔輸送層を形成した。
Next, an organic material A represented by the following structural formula was vacuum-deposited on the hole transport layer to form a second hole transport layer having a thickness of 3 nm.
次に、第2の正孔輸送層上に、ホスト材料として下記構造式で表される有機材料Bと、該有機材料Bに対して40質量%の燐光発光材料である下記構造式で表される発光材料Aをドープした発光層を30nmの厚みに真空蒸着した。
次に、白色発光層上に電子輸送層として下記構造式で表されるBAlq(Bis−(2−methyl−8−quinolinolato)−4−(phenyl−phenolate)−aluminium(III))を厚みが39nmとなるように真空蒸着した。
次に、電子輸送層上に、下記構造式で表されるBCP(2,9−ジメチル−4,7−ジフェニル−1,10−フェナントロリン)を電子注入層として、厚みが1nmとなるように蒸着した。
作製した積層体を、真空から窒素雰囲気下の部屋に移し、封止缶にて封止した。なお、封止缶の内側には予め吸湿材を貼っておいた。以上により、実施例4の有機電界発光装置を作製した。
Next, on the electron transport layer, BCP (2,9-dimethyl-4,7-diphenyl-1,10-phenanthroline) represented by the following structural formula is used as an electron injection layer so that the thickness is 1 nm. did.
The produced laminate was moved from vacuum to a room under a nitrogen atmosphere and sealed with a sealing can. A hygroscopic material was previously pasted inside the sealing can. Thus, an organic electroluminescent device of Example 4 was produced.
(実施例5)
−有機電界発光装置の作製−
実施例4において、光取り出しシート3を、実施例2で作製した光取り出しシート4〔接着層/PENフィルム/微粒子層/平坦化層/バリア層(2)〕に代えた以外は、実施例4と同様にして、実施例5の有機電界発光装置を作製した。
(Example 5)
-Fabrication of organic electroluminescence device-
Example 4 except that the light extraction sheet 3 in Example 4 was replaced with the light extraction sheet 4 [adhesive layer / PEN film / fine particle layer / flattening layer / barrier layer (2)] prepared in Example 2. In the same manner, an organic electroluminescent device of Example 5 was produced.
(実施例6)
−有機電界発光装置の作製−
実施例4において、光取り出しシート3を、実施例3で作製した光取り出しシート5〔接着層/PENフィルム/微粒子層/平坦化層/バリア層(3)〕に代えた以外は、実施例4と同様にして、実施例6の有機電界発光装置を作製した。
(Example 6)
-Fabrication of organic electroluminescence device-
Example 4 except that the light extraction sheet 3 in Example 4 was replaced with the light extraction sheet 5 [adhesive layer / PEN film / fine particle layer / flattening layer / barrier layer (3)] prepared in Example 3. In the same manner, an organic electroluminescent device of Example 6 was produced.
(比較例5)
−有機電界発光装置の作製−
実施例4において、光取り出しシート3を用いない以外は、実施例4と同様にして、比較例5の有機電界発光装置を作製した。
(Comparative Example 5)
-Fabrication of organic electroluminescence device-
In Example 4, an organic electroluminescent device of Comparative Example 5 was produced in the same manner as Example 4 except that the light extraction sheet 3 was not used.
(比較例6)
−有機電界発光装置の作製−
実施例4において、光取り出しシート3を用いず、基板上に製造例2の微粒子層材料1を塗布し、加熱し十分に硬化させて、平均厚み25μmの微粒子層を形成した。この微粒子層上に、製造例1の平坦化層材料1を塗布し、硬化させて、平均厚み10μmの平坦化層を形成した以外は、実施例4と同様にして、比較例6の有機電界発光装置を作製した。
(Comparative Example 6)
-Fabrication of organic electroluminescence device-
In Example 4, the light extraction sheet 3 was not used, but the fine particle layer material 1 of Production Example 2 was applied on the substrate, and heated and sufficiently cured to form a fine particle layer having an average thickness of 25 μm. The organic electric field of Comparative Example 6 was the same as Example 4 except that the planarizing layer material 1 of Production Example 1 was applied on this fine particle layer and cured to form a planarizing layer having an average thickness of 10 μm. A light emitting device was manufactured.
(比較例7)
−有機電界発光装置の作製−
実施例4において、光取り出しシート3を用いず、基板上に製造例2の微粒子層材料1を塗布し、加熱し十分に硬化させて、平均厚み25μmの微粒子層を形成し、次に、この微粒子層上に、製造例1の平坦化層材料1を塗布し、硬化させて、平均厚み10μmの平坦化層を形成し、次に、この平坦化層上に、実施例2と同様にして、平均厚みが100nmの無機バリア層(SiN)を形成し、次に、前記無機バリア層上に平均厚みが1,000nmの有機バリア層を形成し、次に、平均厚みが100nmの無機バリア層(SiN)を形成した以外は、実施例4と同様にして、比較例7の有機電界発光装置を作製した。
(Comparative Example 7)
-Fabrication of organic electroluminescence device-
In Example 4, without using the light extraction sheet 3, the fine particle layer material 1 of Production Example 2 was applied on the substrate, heated and sufficiently cured to form a fine particle layer having an average thickness of 25 μm. On the fine particle layer, the flattening layer material 1 of Production Example 1 is applied and cured to form a flattening layer having an average thickness of 10 μm. Next, on this flattening layer, in the same manner as in Example 2. An inorganic barrier layer (SiN) having an average thickness of 100 nm is formed, an organic barrier layer having an average thickness of 1,000 nm is then formed on the inorganic barrier layer, and an inorganic barrier layer having an average thickness of 100 nm is then formed. An organic electroluminescent device of Comparative Example 7 was produced in the same manner as Example 4 except that (SiN) was formed.
(比較例8)
−有機電界発光装置の作製−
実施例4において、光取り出しシート3を比較例1の光取り出しシート1に代えた以外は、実施例4と同様にして、比較例8の有機電界発光装置を作製した。
(Comparative Example 8)
-Fabrication of organic electroluminescence device-
An organic electroluminescent device of Comparative Example 8 was produced in the same manner as in Example 4 except that the light extraction sheet 3 in Example 4 was replaced with the light extraction sheet 1 of Comparative Example 1.
(比較例9)
−有機電界発光装置の作製−
実施例4において、光取り出しシート3を比較例2の光取り出しシート2に代えた以外は、実施例4と同様にして、比較例9の有機電界発光装置を作製した。
(Comparative Example 9)
-Fabrication of organic electroluminescence device-
An organic electroluminescent device of Comparative Example 9 was produced in the same manner as in Example 4 except that the light extraction sheet 3 was replaced with the light extraction sheet 2 of Comparative Example 2 in Example 4.
(比較例10)
−有機電界発光装置の作製−
実施例4において、光取り出しシート3を、比較例3で作製した光取り出しシート6〔接着層/アクリルフィルム/微粒子層/平坦化層/バリア層(3)〕に代えた以外は、実施例4と同様にして、比較例10の有機電界発光装置を作製した。
(Comparative Example 10)
-Fabrication of organic electroluminescence device-
Example 4 except that the light extraction sheet 3 was replaced with the light extraction sheet 6 [adhesive layer / acrylic film / fine particle layer / flattening layer / barrier layer (3)] prepared in Comparative Example 3 in Example 4. In the same manner, an organic electroluminescent device of Comparative Example 10 was produced.
(比較例11)
−有機電界発光装置の作製−
実施例4において、光取り出しシート3を比較例4で作製した光取り出しシート7〔接着層/PENフィルム/微粒子層/平坦化層/バリア層(4)〕に代えた以外は、実施例4と同様にして、比較例11の有機電界発光装置を作製した。
(Comparative Example 11)
-Fabrication of organic electroluminescence device-
Example 4 is the same as Example 4 except that the light extraction sheet 3 is replaced with the light extraction sheet 7 [adhesive layer / PEN film / fine particle layer / flattening layer / barrier layer (4)] prepared in Comparative Example 4. Similarly, an organic electroluminescent device of Comparative Example 11 was produced.
(比較例12)
−有機電界発光装置の作製−
実施例4において、光取り出しシート3を比較例5で作製した有機電界発光装置の基板の有機電界発光層側とは反対面に貼り付けた以外は、実施例4と同様にして、比較例12の有機電界発光装置を作製した(図6参照)。
(Comparative Example 12)
-Fabrication of organic electroluminescence device-
In Example 4, Comparative Example 12 was performed in the same manner as in Example 4 except that the light extraction sheet 3 was attached to the surface opposite to the organic electroluminescent layer side of the substrate of the organic electroluminescent device produced in Comparative Example 5. An organic electroluminescent device was prepared (see FIG. 6).
次に、実施例4〜6及び比較例5〜12の各有機電界発光装置について、以下のようにして、光取り出し効率、及び耐久性を測定した。結果を表3に示す。 Next, for each of the organic electroluminescent devices of Examples 4 to 6 and Comparative Examples 5 to 12, light extraction efficiency and durability were measured as follows. The results are shown in Table 3.
<輝度の測定及び光取り出し効率の算出>
輝度の測定は、東陽テクニカ株式会社製ソースメジャーユニット2400型を用いて、直流定電圧を各有機電界発光装置に印加して発光させた。輝度は、10mA/cm2の電流値で分光輝度計(トプコン社製、SR−3)を用いて測定した。
光取り出し効率は、下式で定義する。
(各実施例及び比較例の輝度/比較例5の輝度)×100=光取り出し効率
<Measurement of luminance and calculation of light extraction efficiency>
The luminance was measured by applying a DC constant voltage to each organic electroluminescent device using a source measure unit 2400 type manufactured by Toyo Technica Corporation. The luminance was measured using a spectral luminance meter (SR-3 manufactured by Topcon Corporation) at a current value of 10 mA / cm 2 .
The light extraction efficiency is defined by the following equation.
(Luminance of each example and comparative example / luminance of comparative example 5) × 100 = light extraction efficiency
<耐久性の評価方法>
実施例及び比較例の製造方法にて有機電界発光装置を製作直後、一定量の電流を流し、点灯させ、表面の状態を観察した(デジタルカメラに撮影)。温度60℃中にて7日間保存した。7日間の保存後、再度、有機電界発光装置を一定量の電流を流し、点灯させ、表面の状態を観察した(デジタルカメラに撮影)。図8の左図に初日の発光面、図8の右図に7日後の発光面を示す。
デジタルカメラに撮影した画像データを、画像解析処理を行い発光面積を計測した。
画像解析処理を行う理由として、発光面は微粒子層で覆われているため、発光面、ダークスポットの輪郭が見えにくく、計測しにくいため、これらを解消するためである。
シュリンク面積を含むダークスポット面積割合の計算方法として下式を用いる
(1−(7日後の発光面積/撮影初日の発光面積))×100(%)=ダークスポット面積割合(%)
ダークスポット面積の値が小さいほど有機電界発光素子へのダメージが小さいこととなる。基準としてダークスポット面積割合が2%以下を合格ラインとした。
<Durability evaluation method>
Immediately after the production of the organic electroluminescent devices by the production methods of Examples and Comparative Examples, a certain amount of current was applied and turned on, and the surface condition was observed (photographed with a digital camera). It was stored at a temperature of 60 ° C. for 7 days. After storage for 7 days, the organic electroluminescence device was turned on again by passing a certain amount of current, and the state of the surface was observed (photographed with a digital camera). The left side of FIG. 8 shows the light emitting surface on the first day, and the right side of FIG. 8 shows the light emitting surface after 7 days.
The image data taken by the digital camera was subjected to image analysis processing and the light emission area was measured.
The reason for performing the image analysis processing is that the light emitting surface is covered with a fine particle layer, so that the contours of the light emitting surface and the dark spot are difficult to see and difficult to measure.
The following formula is used as a method for calculating the dark spot area ratio including the shrink area: (1- (light emission area after 7 days / light emission area on the first day of photographing)) × 100 (%) = dark spot area ratio (%)
The smaller the value of the dark spot area, the smaller the damage to the organic electroluminescent element. As a reference, a dark spot area ratio of 2% or less was regarded as an acceptable line.
<有機電界発光装置の製造効率>
有機電界発光装置の製造効率とは基板から封止に至る有機電界発光装置の製造を1つのラインにて作製するにあたり、以下の基準に対してタクトタイムが長くなるか、短くなるかを示したものである。比較例5の光取り出しシート等の光取り出し構造を持たない有機電界発光装置の製造にかかるタクトタイムを基準とする。
〔評価基準〕
○:タクトタイムが比較例5と同等であった場合
×:タクトタイムが比較例5より長くなった場合
The production efficiency of the organic electroluminescent device indicates whether the tact time is increased or decreased with respect to the following criteria when manufacturing the organic electroluminescent device from the substrate to the sealing in one line. Is. The tact time for manufacturing an organic electroluminescent device having no light extraction structure such as the light extraction sheet of Comparative Example 5 is used as a reference.
〔Evaluation criteria〕
○: When the tact time is equal to that of Comparative Example 5 ×: When the tact time is longer than that of Comparative Example 5
**表3−3中の比較例12は、表中の表記順では最大屈折率差は0.16であるが、実際は有機電界発光層と基板が隣接(ITOを介して)しているので、比較例5と同じ構成となり、最大屈折率差は0.31となる。
** In Comparative Example 12 in Table 3-3, the maximum refractive index difference is 0.16 in the notation order in the table, but the organic electroluminescent layer and the substrate are actually adjacent (via ITO). The configuration is the same as that of Comparative Example 5, and the maximum refractive index difference is 0.31.
本発明の光取り出しシート及び該光取り出しシートを用いた有機電界発光装置は、例えば、各種照明、コンピュータ、車載用表示器、野外表示器、家庭用機器、業務用機器、家電用機器、交通関係表示器、時計表示器、カレンダ表示器、ルミネッセントスクリーン、音響機器等をはじめとする各種分野において好適に使用することができる。 The light extraction sheet of the present invention and the organic electroluminescence device using the light extraction sheet are, for example, various types of lighting, a computer, an on-vehicle display, an outdoor display, a household device, a commercial device, a household appliance, and a traffic relationship. It can be suitably used in various fields including a display device, a clock display device, a calendar display device, a luminescent screen, and an acoustic device.
1 基板
2 接着層
3 基材
4 微粒子層
5 平坦化層
6 バリア層
7 透明電極
8 有機電界発光層
9 反射電極
10 封止缶
11 封止材料
12 Ca
20 光取り出しシート
21 無機バリア層
22 有機バリア層
DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 Substrate 2 Adhesive layer 3 Base material 4 Fine particle layer 5 Flattening layer 6 Barrier layer 7 Transparent electrode 8 Organic electroluminescent layer 9 Reflective electrode 10 Sealing can 11 Sealing material 12 Ca
20 light extraction sheet 21 inorganic barrier layer 22 organic barrier layer
Claims (11)
前記接着層から前記バリア層に向かって各層の屈折率が同等乃至増加し、かつ隣接する層間の最大屈折率差が0.2以下であることを特徴とする光取り出しシート。 It has at least an adhesive layer, a substrate, a fine particle layer, and a barrier layer in this order,
A light extraction sheet, wherein the refractive index of each layer is equal to or increases from the adhesive layer toward the barrier layer, and the maximum refractive index difference between adjacent layers is 0.2 or less.
前記陽極及び陰極の少なくともいずれかが透明電極であり、
前記基板と前記透明電極の間に、請求項1から8のいずれかに記載の光取り出しシートを有することを特徴とする有機電界発光装置。 An organic electroluminescent device comprising a substrate, an anode, a cathode, and an organic electroluminescent layer between the anode and the cathode on the substrate,
At least one of the anode and the cathode is a transparent electrode,
An organic electroluminescent device comprising the light extraction sheet according to any one of claims 1 to 8 between the substrate and the transparent electrode.
前記基板の有機電界発光層側の面に、請求項1から8のいずれかに記載の光取り出しシートにおける接着層を貼り付けることを特徴とする有機電界発光装置の製造方法。 A method of manufacturing an organic electroluminescent device comprising an anode, a cathode, and an organic electroluminescent layer between the anode and the cathode on a substrate,
A method for producing an organic electroluminescent device, comprising: bonding an adhesive layer of the light extraction sheet according to claim 1 to a surface of the substrate on the organic electroluminescent layer side.
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