JP2011516920A5

JP2011516920A5 -

Info

Publication number: JP2011516920A5
Application number: JP2011503057A
Authority: JP
Filing date: 2009-03-27
Publication date: 2012-05-24

Claims

ブロック（ｘ）軸及び通過（ｙ）軸を有する反射型偏光子であって、
空気に露出され、それゆえブリュースター角反射極小を呈する第１及び第２の相対する主表面であって、前記主表面は、前記ｘ軸及びｙ軸にそれ自身垂直であるｚ軸に垂直に配置されている、第１及び第２の相対する主表面、及び
前記主表面の間に配置され、それぞれΔｎｘ、Δｎｙ及びΔｎｚの前記ｘ軸、ｙ軸、及びｚ軸に沿った屈折率差を呈する、隣接ミクロ層対に配列されているＮミクロ層の積層体であって、Δｎｘ＞Δｎｙ＞０＞Δｎｚである積層体、を含み、
前記数Ｎ及び前記組み合わせの屈折率差Δｎｘは、前記ｘ軸に沿って偏光した法線入射光に対して高い反射率Ｒｂｌｏｃｋｎｏｒｍａｌを有する偏光子を提供するのに充分に小さく、前記Ｒｂｌｏｃｋｎｏｒｍａｌは少なくとも８０％であり、
前記数Ｎ及び前記組み合わせの屈折率差Δｎｙは、前記ｙ軸に沿って偏光した法線入射光に対して低い反射率Ｒｐａｓｓｎｏｒｍａｌを有する偏光子を提供するのに充分に小さく、前記Ｒｐａｓｓｎｏｒｍａｌは２５％以下であり、
前記数Ｎ及び前記組み合わせの屈折率差Δｎｙは、前記反射型偏光子が前記第１の主表面の前記ブリュースター角度において前記ｙ−ｚ面中で入射するｐ偏光に対する前記Ｒｐａｓｓｎｏｒｍａｌよりも大きい反射率を呈するのに充分に大きく、
前記Δｎｙが前記Ｒｐａｓｓｎｏｒｍａｌの増分部分Ｒｐａｓｓｉｎｃの原因であり、前記Δｎｙに等しい前記Δｎｘの対応する部分が前記Ｒｂｌｏｃｋｎｏｒｍａｌの増分部分Ｒｂｌｏｃｋｉｎｃの原因であり、前記数Ｎが充分に小さく、前記Ｒｂｌｏｃｋｉｎｃは前記Ｒｐａｓｓｉｎｃに同等である、反射型偏光子。
ブロック（ｘ）軸及び通過（ｙ）軸を有する反射型偏光子であって、
空気に露出され、それゆえブリュースター角反射極小を呈する第１及び第２の相対する主表面であって、前記主表面は、前記ｘ軸及びｙ軸にそれ自身垂直であるｚ軸に垂直に配置されている、第１及び第２の相対する主表面、及び
前記主表面の間に配置され、それぞれΔｎｘ、Δｎｙ及びΔｎｚの前記ｘ軸、ｙ軸、及びｚ軸に沿った屈折率差を呈する、隣接ミクロ層対に配列されているＮミクロ層の積層体であって、Δｎｘ＞Δｎｙ＞０＞Δｎｚであり、前記ミクロ層は、それぞれが光学的な厚さを有する、光学繰り返し単位に配列され、前記光学繰り返し単位は実質的に単調な光学的な厚さプロファイルをもたらすように配列されている、Ｎミクロ層の積層体を含み、
前記反射型偏光子は、前記ｘ軸に沿って偏光した法線入射光に対して高い反射率Ｒｂｌｏｃｋｎｏｒｍａｌと、前記ｙ軸に沿って偏光した法線入射光に対して低い反射率Ｒｐａｓｓｎｏｒｍａｌとを有し、前記Ｒｂｌｏｃｋｎｏｒｍａｌは少なくとも８０％であり、前記Ｒｐａｓｓｎｏｒｍａｌは２５％未満であるが、前記主表面の組み合わされた法線入射反射率より少なくとも２％大きく、
前記反射型偏光子は、前記第１の主表面の前記ブリュースター角度において前記ｙ−ｚ面中で入射するｐ偏光に対する前記Ｒｐａｓｓｎｏｒｍａｌよりも大きい反射率を呈する、反射型偏光子。
ブロック（ｘ）軸及び通過（ｙ）軸を有する反射型偏光子の製造方法であって、
第１及び第２のポリマー材料を選択する工程と、
前記ポリマー材料を共押し出しして、空気に露出されている相対する主表面を有するポリマーフィルムを提供する工程であって、前記主表面は、前記ｘ軸及びｙ軸にそれ自身垂直であるｚ軸に垂直に配置され、前記ポリマーフィルムは前記主表面の間に配置されているＮ層の積層体を含み、前記Ｎ層は前記第２のポリマー材料の層により交互配置されている前記第１のポリマー材料の層を含む、工程と、
前記ポリマーフィルムを配向して、Δｎｘ＞Δｎｙ＞０＞Δｎｚのように、それぞれのΔｎｘ、Δｎｙ及びΔｎｚの前記ｘ軸、ｙ軸、及びｚ軸に沿った屈折率差を呈する、隣接ミクロ層対に配列されているＮミクロ層に前記Ｎ層を転換する工程と、
前記ｘ軸に沿って偏光した法線入射光に対して高い反射率Ｒｂｌｏｃｋｎｏｒｍａｌの偏光子を提供するのに充分に大きいように、前記数Ｎ及び前記組み合わせの屈折率差Δｎｘを選択する工程であって、前記Ｒｂｌｏｃｋｎｏｒｍａｌは少なくとも８０％である、工程と、
前記ｙ軸に沿って偏光した法線入射光に対して低い反射率Ｒｐａｓｓｎｏｒｍａｌの偏光子を提供するのに充分に小さいように、前記数Ｎ及び前記組み合わせの屈折率差Δｎｙを選択する工程であって、前記Ｒｐａｓｓｎｏｒｍａｌは２５％以下である、工程と、
前記反射型偏光子が前記第１の主表面の前記ブリュースター角度において前記ｙ−ｚ面中で入射するｐ偏光に対する前記Ｒｐａｓｓｎｏｒｍａｌよりも大きい反射率を呈するのに充分に大きいように、前記数Ｎ及び前記組み合わせの屈折率差Δｎｙを選択する工程と、
前記Ｒｂｌｏｃｋｎｏｒｍａｌの増分部分Ｒｂｌｏｃｋｉｎｃが前記Ｒｐａｓｓｎｏｒｍａｌの前記増分部分Ｒｐａｓｓｉｎｃに同等であるのに充分小さいように、前記数Ｎを選択する工程であって、前記Δｎｙが前記増分部分Ｒｐａｓｓｉｎｃの原因であり、前記Δｎｙに等しい前記Δｎｘの対応する部分が前記Ｒｂｌｏｃｋｎｏｒｍａｌの前記増分部分Ｒｂｌｏｃｋｉｎｃの原因である、ことを含む方法。