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JP2011501209A - 色共焦点センサ - Google Patents

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JP2011501209A JP2010528958A JP2010528958A JP2011501209A JP 2011501209 A JP2011501209 A JP 2011501209A JP 2010528958 A JP2010528958 A JP 2010528958A JP 2010528958 A JP2010528958 A JP 2010528958A JP 2011501209 A JP2011501209 A JP 2011501209A
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Abstract

多光子硬化型光反応性組成物をその上に有する基材と、複数の波長を含む光ビームを上記基材上の上記組成物の少なくとも1つの領域の上に放射する光源と、上記基材に関する位置信号を得るために上記組成物から反射される光の一部を検出する検出器であって、上記位置信号が上記反射光の波長に少なくとも基づく検出器と、を備えるシステム。
【選択図】図5

Description

本開示は、共焦点顕微鏡システム内で焦点面を検出するための方法及び装置に関する。
共焦点センサは、三次元画像を点ごとにマッピングするか、又は、二次元画像平面上において、高い弁別性の表面位置情報を提供するために、顕微鏡システムで用いられている。後者の用途では、高弁別性の焦点を作り出すために、レーザーのような好適な照明源が一般に用いられている。
図1に示されているように、狭帯域照明20が光源12から放射され、光学システム10を通過する。狭帯域照明20は、ビームスプリッタ22と対物レンズ14を通過する。対物レンズ14は、狭帯域照明20をレンズ14を越えた距離26において集束させる。集束の焦点に表面があるとき、狭帯域照明12は、光学システム10を通りビームスプリッタ12まで逆反射される。逆反射した照明が全面的に又は部分的に光学システム10を通って戻るほど、表面16の勾配が十分に小さいときに、狭帯域照明が、ビームスプリッタで反射されて集束する。このとき、この光はピンホール24を通り、その強度が検出器18によって検出される。
ピンホール24は、焦点から外れたあらゆる光がピンホール24を通って検出されるのを防ぐ空間フィルタとして働く。更には、顕微鏡対物レンズとピンホールの焦点は、光学システムの共役点なので、顕微鏡対物レンズの単一の軸上焦点のみが、ピンホールを通って検出器18の上に至ることになる。ピンホール24の小さな寸法、典型的には1マイクロメートル程の寸法のおかげで、他の全ての光が退けられる。
図1に示されている共焦点結像システムであって、検出器18での強度情報のみを用いるシステムでは、表面16上で正確には集束しないときに、焦点が表面16の側部16aにあるのか又は側部16bにあるのかをユーザーが判断しにくい。焦点が側部16a又は16b上にあるとき、検出器18の出力信号は、固有の方向情報を提供しないので、検出器18によって生成される信号も同様に弱くなる。
方向情報の欠如に加えて、図1の共焦点結像システムは、表面が焦点にあるときには強いが、表面が焦点にないときには急激に低下するシャープな信号を作り出す。
したがって、強度信号のより早い検出を可能にする、すなわち、より効率的な集束を可能にする共焦点結像システムが望まれる。
本発明は広くは、共焦点顕微鏡に関する。
1つの態様では、本開示は、多光子硬化型光反応性組成物をその上に有する基材と、複数の波長を含む光ビームを、上記基材上の前記組成物の少なくとも1つの領域の上に放射する光源と、上記基材に関する位置信号を得るために、組成物から反射される光の一部を検出する検出器であって、この位置信号が、少なくとも反射光の波長に基づく検出器と、を備えるシステムを対象とする。
いくつかの実施形態では、このシステムは、第2の光源から放射される第2の光ビームを含み、この第2の光ビームは、多光子硬化型光反応性組成物の領域を少なくとも部分的に硬化させる。
特定の実施形態では、このシステムは、反射光を検出器に誘導する光ファイバーケーブルを備える。
いくつかの好ましい実施形態では、このシステムは、反射光を検出器に誘導することのある少なくとも2本の光ファイバーケーブルを備え、この光ファイバーケーブルの少なくとも1本は、光ファイバーケーブルの少なくとも別の1本の直径と異なる直径を備える。
別の態様では、本開示は、多光子硬化型光反応性組成物をその上に有する基材を提供する工程と、複数の波長を含む少なくとも1本の光ビームを、物質の少なくとも1つの領域に適用する工程であって、この波長の少なくとも1つが、多光子硬化型光反応性組成物を少なくとも部分的に硬化させるのに十分な強度を備える、適用工程と、上記基材に関する位置信号を得るために、上記物質から反射される光の一部を処理する工程であって、この位置信号が反射光の波長を含む処理工程と、を含む方法を対象とする。
いくつかの実施形態では、上記少なくとも1本の光ビームは、第1の光ビームと第2の光ビームとを含む。特定の好ましい実施形態では、第1の光ビームは、多光子硬化型光反応性組成物を少なくとも部分的に硬化させるのに十分な強度を備える少なくとも1つの波長を含み、第2の光ビームは、上記物質に関する位置信号を得るために、上記物質から反射される光ビームの一部を含む。
別の実施形態では、単一の光ビームが、多光子硬化型光反応性組成物を少なくとも部分的に硬化させるのに十分な強度を備える少なくとも1つの波長と、上記物質に関する位置信号を得るために、上記物質から反射される光ビームの一部とを含む。
特定の実施形態では、少なくとも1本の光ビームを適用する上記工程が、前記少なくとも1本の光ビームに色収差を導入することを含む。
本発明の1つ以上の実施形態の詳細を、添付図及び以下の説明で明らかにする。本発明の他の特長、目的、及び利点は、説明及び図面、並びに特許請求の範囲から明らかとなるであろう。
共焦点センサを示す概略図。 縦色収差の例を示す図。 色共焦点センサの概略図。 共焦点センサから生じる反射点焦点よりも上の波長に対する強度のプロット図。 共焦点センサから生じる反射点焦点に一致する波長に対する強度のプロット図。 共焦点センサから生じる反射点焦点よりも下の波長に対する強度のプロット図。 多光子硬化型光反応性組成物を処理するのに適した、色共焦点センサを備える装置の概略図。 色共焦点センサを用いる、多光子硬化型光反応性組成物を処理するのに適した装置の概略図。 図6の装置を制御するのに有用である代表的なロジックを示すブロック図。 位置を調節するための工程を示すフローチャート。
図2は、レンズ32を通る光30を示している。レンズ32が単一の材料で作製されている場合、縦色収差が生じることがある。代替として、縦色収差を引き起こすか、又は、さらに縦色収差を大きくするために、レンズ32を2つ以上の材料から構築してもよい。縦色収差は、レンズ32から異なる距離の焦点面で集束する、異なる波長の光34、36、38をもたらす。具体的には、波長の長い方の光38は、レンズ32を通ったとき、他の光よりも屈折が小さく、その結果、波長の短い方の光36に比べて、レンズ32から離れた場所で集束することになる。
図3は、色共焦点センサを含む実例的システム40を目的としている。複数の波長を有する光50が、光源42によって放射されている。図示されている実施形態では、光50は、レンズ44に突き当たるとコリメートされる。別の実施形態では、光50は、レンズ44に突き当たるときコリメートされなくてもよい。検出器48での波長間の弁別(discrimination)を可能にするために、十分な数の波長を有する光50を放射するいずれの光源42、又は複数の光源を用いてもよい。1つの好適な光源42は、例えば、ファイバーカップル広帯域スーパールミネセントLEDである。続いて、光50は、ビームスプリッタ58と対物レンズ44を通過する。対物レンズ44は、縦色収差を引き起こすように設計されており、この縦色収差は、対物レンズ44から異なる距離で集束する、異なる波長52、54、56の光をもたらす。別の実施形態では、対物レンズ44は縦色収差を引き起こさなくてもよいが、他のレンズ、コリメーション素子、偏光子等のような、他の任意の光学システムコンポーネントが、縦色収差を導入してもよい。図2で簡単に上述したように、最も長い波長56の光50は、レンズ44から最も遠い焦点面で集束することになる。反対に、最も短い波長52の光は、レンズ44に最も近い焦点面で集束することになる。中間の波長54の光は、最も長い波長56を有する光の焦点面と、最も短い波長52を有する光の焦点面との間の中間の焦点面で集束することになる。
複数の波長52、54、56の少なくとも1つは、物質62の表面46で集束し、この表面は、フィルタ60と共役している。この例では、物質62の表面46は、波長54において、フィルタと共役している。別の実施形態では、図5を参照しながら後述するように、表面46は、2つの物質の境界面であってもよい。いくつかのケースでは、表面46は、物質62の内面であってもよい。他の波長52及び56は、正のz方向で表面46よりも上で、又は、負のz方向で表面46を越えて集束してもよい。物質62に入射する光50の少なくとも一部は、表面46から逆反射され、対物レンズ44を通って戻り、対物レンズ44でコリメートされる。続いて、逆反射光51は、ビームスプリッタ58から反射され、近接フィルタ60で集束する。表面46で集束する光54の波長のみが、フィルタ60を通って検出器48に至ることができる。
図3に示されている実施形態のようないくつかの実施形態では、レンズ44は、正及び負のz方向に調節されるように構築してもよい。別の実施形態では、光学システム全体(レンズ44、及びレンズ44から上流の光学素子全てを含む)は、動くように構築されてもよい。更に別の実施形態では、物質62は、動作可能なように、可動式ステージに連結されてもよい。これによって、レンズ44から表面46までの相対距離を変更できるようになり、この変更は、光50及び表面46の相対位置を変更する。レンズ44から表面46までの距離は、どの波長の光が表面46で集束することになるかに影響を及ぼす。レンズ44を表面46の更に近くに動かすと、短い方の波長の光52が表面46で集束することになる。反対に、レンズ44を表面46から遠くに動かすと、長い方の波長の光56が表面46で集束することになる。表面46で集束する光の波長が変わると、検出器すなわち検出器48によって検出される光の波長も変わることになる。つまり、検出器48によって検出される光の波長は、どの波長の光が表面46で集束するかを示す。
また、対物レンズ44も、所望の用途に応じて、更に程度の大きい又は小さい縦色収差をもたらすように設計されてもよい。例えば、縦色収差が大きくなるように設計されている場合、個々の波長は、z方向の比較的長い距離にわたる焦点面で集束できると共に、境界面の所望の焦点よりも上又は下の比較的長い距離で、信号を検出できる。あるいは、縦色収差が小さくなるように設計されている場合、境界面に対して焦点面をより正確に配置することを実現できる。
対物レンズ44は、1つの材料、又は複数の材料で構築されてもよい。加えて、対物レンズ44は、1つ以上のレンズを含んでもよい。また、屈折面、反射面、及び回析面を組み合わせて、レンズ44の縦色収差を拡大してもよい。縦色収差の大きさを、これらの代表的な素子のうちの1つ以上を用いることによって調整してもよい。
対物レンズ44の構造に加えて、光源42から放射される波長の範囲を選択することによって、システム40を特有の用途に合わせて調整してもよい。例えば、光源42が、比較的狭い範囲の波長を放射する場合には、光源42が比較的広い範囲の波長を放射する場合よりも、システム40は、狭いz方向範囲を有することがある。
また、フィルタ60の構造は、所望の用途に応じて様々に変えてもよい。フィルタ60は、レンズ44及び光源42と協働して、有効な測定範囲及び測定分解能をもたらしてもよい。1つの実施形態では、材料シートの開口(ピンホールとしても知られている)が空間フィルタリングをもたらす。ピンホールは典型的に、数十マイクロメートル程度の直径を有し、ピンホールの寸法によって、フィルタ60の弁別性が決まる。換言すれば、ピンホールの直径が小さいほど、フィルタリングの弁別性が向上する。
1つの実施形態では、光ファイバーケーブルをフィルタ60として、単独で、又はピンホールと組み合わせて用いることができる。所望の弁別の量に応じて、マルチモード光ファイバーケーブル、又はシングルモード光ファイバーケーブルのいずれかを用いてもよい。空間フィルタと同様に、光ファイバーケーブルは、所望の弁別性をもたらすように選択してもよい。例えば、一般的には、シングルモード光ファイバーケーブルは、マルチモードケーブルよりも弁別性が高い。加えて、弁別性のレベルを更に調整するために、マルチモード光ケーブルの直径を選択してもよい。十分に小さい直径のシングルモード光ファイバーケーブルを選択する場合、システムは、小さいサブセットの狭帯域波長光を検出する共焦点センサのような働きをするように作製されてもよい。
別の実施形態では、ビームスプリッタと協働させて、少なくとも2本の光ファイバーケーブルを同時に用いて、逆反射光51の一部を、少なくとも2つの検出器48のうちの対応する1つに誘導してもよい。例として、ビームスプリッタは、逆反射光51を2本のビームに分割してもよく、1本のビームをマルチモード光ファイバーケーブルに誘導してもよく、このケーブルは、この光を1つの検出器に伝達する。この信号は、比較的広帯域の波長を含み、境界面で集束することが所望される波長よりもかなり長いか又は短い波長のものである逆反射光51の検出を可能にしてもよい。ビームスプリッタによって作られる第2のビームを、シングルモード光ファイバーケーブルに誘導してもよく、このケーブルは、逆反射光51のこの部分を第2の検出器に誘導する。比較的狭帯域の波長を受信する第2の検出器は、表面46で集束する特定の波長の光を精密に集束させるために用いてもよい。
更に別の実施形態では、逆反射光51を異なる形で弁別する2本の光ファイバーケーブル(すなわち、一方のファイバーは他方よりも弁別性が高い)を順次に用いてもよい。例えば、まず弁別性の低い方の光ファイバーケーブルを用いて、境界面46で集束した波長光の大まかな位置決めを行ってもよく、続いて、弁別性の高い方の光ファイバーケーブルを使用状態に切り替え、境界面46で集束した波長光のより正確な位置決めを行ってもよい。
検出器又は検出器48は、光の強度、パワー、ビームサイズ、光の波長等を検出してもよい。いずれかの好適な検出器を用いてもよく、人間の目、CCD又は同等の検出器、スペクトロメータ等が挙げられるが、これらに限定されない。1つの実施形態では、スペクトロメータを用いて、光の強度と波長の両方を検出する。フィルタ60を通過して、検出器48によって検出される光の波長は、どの波長の光が表面46で集束するか示す。
1つの実施形態では、特定の波長を境界面46で集束させるのが望ましい。この実施形態では、フィルタ60によって弁別される光の波長を検出する検出器48を用いて、表面46に対する、所望の波長の光の焦点面の相対位置を割り出すことができる。例えば、所望の集束光よりも長い波長の光が検出器48によって検出される場合、所望の波長の光は、境界面よりも上で集束する。あるいは、所望の波長の光よりも短い波長の光が検出器48によって検出される場合、所望の波長の光は、境界面よりも下で集束する。
表面46の位置を割り出すために、波長と併せて、光の強度も用いてもよい。例えば、少数の波長の光のみを検出器48まで通すように、弁別性の高いフィルタ60を用いる場合、測定した強度のスパイクは、表面46に位置する、光の焦点面を示すことができる。また、弁別性の低いフィルタ60を用いる場合も、光の強度は、有用な情報を提供することができる。例えば、1つの実施形態では、波長の関数である強度(すなわち、強度は、放射される波長範囲にわたって均一であるのではない)を有する光バンド50を放射する光源42を用いる。また、様々な放射波長の相対強度が既知である場合、検出器によって検出される相対強度を用いて、所望のz位置で所望の波長を集束させるのを補助してもよい。
図4A〜4Cは、上述のような色共焦点センサの使用法のいくつかの非限定例を提供する。図4A〜4Cでは、表面に入射する光は、750nm〜850nmの範囲の波長を含む。この例では、800nmの波長の光が表面46で集束するときに、光学システムは所望の焦点位置にある。そして、図4Aは、焦点光が所望の焦点よりも長い波長、すなわち850nmの波長を有するケースを示している。これは、800nmの光を表面46で集束させるために必要な距離よりも、表面46がレンズから遠いことを示している。あるいは、図4Cは、800nmの波長の光を表面46で集束させるために必要な距離よりも、表面46が対物レンズに近いケースを示している。このケースでは、色共焦点センサによって検出される光は、780nmの波長、すなわち所望の波長よりも短い波長を有する。続いて、図4Bは、800nmの波長の光が、所望どおりに、表面46で集束するケースを示している。
また、図4Bは、所望の波長の光の強度が、図4A及び4Cに示されている波長の光の強度よりも大きいことも示している。上述のように、放射光の強度は、ある波長バンド内の波長の関数であってもなくてもよい。図4A〜4Cに示されている例では、放射光の強度は、780nm又は820nmのいずれの場合よりも、800nmの場合の方が大きい。したがって、800nmの波長が表面46で集束するときの逆反射光の強度は、780nmの波長又は820nmの波長のいずれが表面46で集束するときの逆反射光の強度よりも大きい。
別の実施形態では、図3の物質62の上に、第2の物質の層を設けてもよい。第2の物質は、十分な強度のいずれかの光源を用いて処理できるいずれかの物質であってもよい。好ましい実施形態では、フェムト秒又はピコ秒レーザーのような超高速レーザーを用いて、第2の物質を処理してもよい。この実施形態では、2本の光ビームを用いてもよい。第1のビームである呼びかけビーム(interrogating beam)は、色共焦点センサを用いて、上記のような物質の中又は上の位置を割り出すために用いる。続いて、第2の光ビーム、例えば、超高速レーザーは、呼びかけビーム及び色共焦点センサによって割り出した位置に基づき、物質を処理するために用いる。あるいは、単一の光ビームが、呼びかけビームと処理ビームの双方の働きをしてもよい。
別の実施形態では、第2の物質の層は、多光子硬化型光反応性組成物であってもよい。多光子硬化型光反応性組成物を硬化させるのに有用であると共に、色共焦点センサを用いる装置の例については、図5を参照しながら後述する。
図3の基材62は、いずれかの好適な物質であってもよい。1つの実施形態では、基材62としてケイ素が用いられている。
2つ以上の光ビーム及び/又は色共焦点センサを同時に用いてもよいことは想定される。1つの例では、多数の光ビーム及び/又は色共焦点センサを用いて、高スループット結像システムを設計してもよい。このシステムは、各センサの出力を用いて1つのマスタ合成画像を形成することによって、より短い時間で、三次元画像を生成することができる。あるいは、多数の光ビームとセンサを用いて、層と表面との間の境界面の位置に関するより正確な情報をもたらしてもよい。1つの例では、3つ以上の光ビームと色共焦点センサを用いて、基材の3つ以上の領域で、境界面の位置を同時に割り出してもよい。続いて、この情報を用いて、所望の位置に、光学システム又は基材を配置して、その後の処理を容易にしてもよい。
図5を参照すると、多光子硬化型光反応性組成物を硬化させるシステムの一部として、色共焦点センサが用いられている実施形態が示されている。このプロセスでは、層の領域内で光反応性組成物の化学又は物理的特性の変化を引き起こす多光子吸収が起きるような条件下で、光反応性組成物を光に暴露することができる。このような変化の例としては、重合、架橋、及び/又は、暴露前の光反応性組成物と比較した場合の溶解度特性の変化(例えば、特定の溶媒中での溶解度の低下又は向上)が挙げられる。このような暴露は、十分な光の強度を実現できるいずれかの既知の手段によって行うことができるが、典型的には、超高速レーザーによる集光源を用いる。好ましくは、フェムト秒レーザーを用いて、硬化光(curing light)を提供してもよい。
この実施形態によるシステムの動作では、呼びかけ光124が呼びかけ照明源100から放射され、呼びかけ照明源100は、コリメーションパッケージ102に動作可能なように接続されている。上述のように、呼びかけ光源は、フィルタ/検出器で弁別されるほど十分に広い波長バンドを放射するいずれの光源であってもよい。好適な呼びかけ照明源100としては、ファイバーカップル広帯域スーパールミネセントLEDが挙げられる。呼びかけ照明源100とコリメーションパッケージ102との間の接続は、例えば、光ファイバーケーブルを用いて実現させてもよい。コリメーションパッケージ102は、呼びかけ光124をコリメート、すなわち平行にする。コリメーションパッケージ102の素子は、少なくとも多少の色収差を導入しても、しなくてもよい。
続いて、呼びかけ光124は、直線偏光子128を通り、この偏光子で、呼びかけ光が偏光される。すなわち、1つの平面内又は方向の波振動を有する光のみが通る。次に、呼びかけ光124は、偏光ビームスプリッタ104aから反射される。続いて、呼びかけ光124は、回転子106を通り、この回転子で、0(ゼロ)度の正味偏光回転を経る。続いて、呼びかけ光124は、2つのフォールドミラー108a、108bから反射され、第2の偏光ビームスプリッタ104bから反射される。平行線134によって示されているように、図5の図は、素子108aと108bとの間で(ページの中又は外へ)90度回転する。
この時点で、第2の光源136から放射される硬化光126を、呼びかけ光124に軸方向に加えてもよい。硬化光126は、光反応性組成物の領域を少なくとも部分的に硬化させて硬化物を形成するのに十分な光の強度を提供できるいずれかの光であってもよい。好ましい実施形態では、超高速レーザー光源を用いて、多光子硬化型光反応性組成物の領域を少なくとも部分的に硬化させてもよい。この複合ビーム132は、更なる縦色収差を導入することができる対物レンズ130を通るように誘導される。
呼びかけ光124は多数の波長を含み、硬化光126の波長を含んでもよい。あるいは、光学システムが、十分明確に特徴付けられている場合、呼びかけ光124は、硬化光の波長を含まなくてもよい。好ましい実施形態では、呼びかけ光124は、硬化光126の波長を含む。これによって、硬化光126の境界面122又はその近くでの集束が容易になる。多数の波長の少なくとも1つは、基材116と層112との境界面122で集束する。呼びかけ光124と硬化光126は、交差偏光成分を有するので、境界面122から逆反射された後、戻る際には別々の行路を取ることになる。逆反射硬化光126は、偏光ビームスプリッタ104bで反射されずに、偏光ビームスプリッタ104bを通過することになる。逆反射呼びかけ光124は、偏光ビームスプリッタ104bによって反射されて、光学システムを通って戻ることになる。この逆反射光は、回転子106で、90度の正味偏光回転を受ける。これによって、光は、偏光ビームスプリッタ104aを通り、ボックス110内の集束レンズによって、光ファイバーケーブル111上で集束できるようになる。ボックス110内の集束レンズは、上記のように、レンズの設計及び構造に応じて、更なる色収差を導入しても、しなくてもよい。光ファイバーケーブル111は、上記のように、光を弁別する。続いて、光はスペクトロメータ114に入る。スペクトロメータ114は、逆反射光の波長と強度を検出し、収集した情報をユーザーに表示するか、又は、その情報をコントローラ(図5には示されていない)に送信してもよい。
上述のように、呼びかけ光124の波長バンドは、硬化光126の波長を含んでもよい。したがって、呼びかけ光124と硬化光126は、同じ対物レンズ130によって集束されるので、スペクトロメータ114によって検出されたピーク波長が、硬化光126のピーク波長と一致するとき、硬化光126は、境界面122で集束する。加えて、スペクトロメータ114によって検出された光のピーク波長が、硬化光126のピーク波長よりも短い場合、硬化光126は、境界面122を越えて集束する。あるいは、スペクトロメータ114によって検出された光のピーク波長が、硬化光126のピーク波長よりも長い場合、硬化光126は、境界面122よりも上で集束する。この方法では、スペクトロメータ114によって検出された光の波長を用いて、硬化ビーム126を所望の位置で集束させてもよい。
呼びかけ光124と硬化光126は、境界面122の上に、同時かつ同じ位置で入射するので、硬化光126の焦点面に対する境界面122の位置について非常に正確な情報を得ることができる。層112内の多光子硬化型光反応性組成物の硬化を、境界面122の位置選定と同時に行ってもよく、あるいは、境界面122の位置を選定するまで硬化光126を加えない場合には、境界面122の位置選定後に行ってもよい。
図6に示されている代替的な実施形態では、第2の光源136から放射される光140は、呼びかけ光124と硬化光126の両方の働きをする。光140は、偏光ビームスプリッタ104bと、4分の1波長板138のような好適な4分の1波長位相差素子とを通り、この4分の1波長板が円偏光を作り出す。続いて、光40は、対物レンズ130を通り、層112と基材116との間の境界面122の近くで集束する。境界面122で集束すると共に、吸収されない光140の一部は、境界面122から逆反射して、対物レンズ130を通って戻っていく。逆反射光150は、光140に対して90°回転した直線偏光を作り出す4分の1波長板138を通って、偏光ビームスプリッタ104bまで戻り、この偏光ビームスプリッタで、逆反射光150が反射され、ボックス110内のレンズに誘導される。ボックス110内のレンズは、逆反射光150を光ファイバーケーブル111上に集束させ、この光ファイバーケーブルが、逆反射光150を検出器114に誘導する。
別の実施形態では、4分の1波長板138は必要ない。例えば、十分に多いレンズ開口数を有するレンズを通る光140は、いくらかの偏光回転を受けることができ、この偏光回転は、検出器114によって検出されるのに十分な強度の逆反射光150をもたらすことができる。
図7を参照すると、多光子硬化型光反応性物質を含む層204の領域202を硬化させるために用いてもよい装置200が示されている。層204は、基材206に貼り付けられており、基材206は、調節可能なプラットフォーム又はステージ205の上に載っている。ステージ205のz方向に沿った高さは、層204のx−y平面での傾斜のプラスマイナスと共に、手動又はデジタルコンピュータ270によって、制御線274を介して調節可能である。呼びかけ光と硬化光の双方を含む光ビーム216は、光源210から放射され、まず、ビームスプリッタ212と集束正レンズ214を含む第1の光学システムを通る。集束正レンズ214のz方向に沿った高さも、手動又はデジタルコンピュータ270によって、制御線272を介して調節可能である。光ビーム216は、正レンズ214を出た後、層204に入り、任意により、層204の領域202内の多光子硬化型光反応性物質を硬化させるか、又はその硬化を開始させ、ビームの一部は、境界面218で基材206から反射される。続いて、光ビーム216は、正レンズ214と色共焦点センサ220を含む第2の光学システムに入る。
続いて、色共焦点センサ220の出力が、導線271に沿ってデジタルコンピュータ270に供給される。図8を参照すると、工程300での初期設定後、コンピュータ270は、工程302で、正レンズ214と調節可能なステージ205から位置データを、色共焦点センサ220から光の波長を含む位置信号を含むデータを受信する。工程304では、コンピュータ270は、色共焦点センサ220からの信号を、境界面218に対する正レンズ214のz方向に沿った高さと、ステージ205の傾斜とを相関させる。工程306では、位置データと検出データがコンピュータ270に入力され、工程308では、コンピュータが検出データを評価して、色共焦点センサ220によって検出された波長が所望の波長であるかを割り出す。「はい」である場合、正レンズ214のz方向に沿った位置は変わらない。「いいえ」である場合、工程310で、色共焦点センサ220によって検出される波長が所望の波長になるまで、コンピュータが、正レンズ214のz方向に沿った高さを調節する。
この連続的フィードバックシステムを用いて、上記の方法及び装置を用いて、境界面218を数多くの方法で正確に見つけることができる。例えば、静的な方法では、検出器220を光学プローブとして用いて、基材206の表面上のいくつかの異なる地点、典型的には少なくとも3つの地点で、層204/基材206の境界面をサンプリングする。基材上206の全てのサンプリング位置において、境界面218の位置に対する所望の波長の光の焦点面のz軸に沿った位置が約±0.5μm以内でない場合、コンピュータ270は、必要な計算を実行して、正レンズ214及び/又はステージ205のいずれかを調節する。基材206が、正レンズ214の下のx軸に沿った運動面と十分に平行になったら、光ビーム216を用いて、層204の領域202を硬化させることができる。この方法は、基材の、x−y平面に対する傾斜しか修正できないので、十分に平らな基材の上でしか用いることができない。
1つの実施形態では、例えば、正レンズ214が移動し、層204内の多光子硬化型光反応性物質が硬化して物体を形成するときに、境界面218の位置に関する連続的フィードバックを供給するために、動的な方法も用いてもよい。例えば、層204と基材206との間の境界面218の位置は、層が少なくとも部分的に硬化されるときに断続的に割り出してもよい。硬化が層204の第1の領域から第2の領域等へ進むにつれて、z軸に沿った、境界面218に対する正レンズ214の位置が、ほぼ連続的に修正されるので、この方法は、基材206の表面におけるいずれの非平坦性も修正することができる。また、この連続的な動的フィードバックは、球体及び非球体のような名目上非平坦な表面の上に構造体を構築するのを可能にする。
本明細書に記載のプロセスで有用である代表的な多光子硬化型光反応性物質は、「抽出構造体を備えた光導体の製造方法及びその方法で製造された光導体(Process for Making Light Guides with Extraction Structures and Light Guides Produces Thereby)」という名称が付された3M代理人整理番号62162US002の同時継続出願と、「高機能性多光子硬化型反応種(Highly Functional Multiphoton Curable Reactive Species)」という名称が付された3M代理人整理番号63221US002の同時係属出願で詳しく論じられており、この出願の双方とも、参照によりその全体が本明細書に組み込まれる。
貼り付けられた層内の多光子硬化型光反応性組成物は、酸又はラジカル開始化学反応を経ることができる少なくとも1つの反応種、及び多光子開始剤系を含む。適切な波長及び十分な強度の光による層の画像的露光は、多光子開始剤系内で二光子吸収を引き起こし、反応種において、光に暴露される層領域での酸又はラジカル開始化学反応を誘導する。この化学反応は、光に暴露される層領域において、化学的又は物理的特性に検出可能な変化を引き起こす。検出可能な変化の例としては、例えば、暴露領域での架橋、重合、又は溶解度特性の変化が挙げられる。これらの検出可能な変化のいずれかが発生することは、本明細書では硬化と称され、この硬化は、硬化物が形成されるまで継続する。硬化工程は、層が貼り付けられている基材との境界面と隣接する区域を含め、多光子光反応性組成物を含む層内のいずれかの区域で行ってもよい。硬化工程に続いて、任意により、層の未硬化部分を除去して硬化物を得ることによって、又は、層から硬化物自体を除去することによって、層を現像してもよい。
多光子硬化型反応性組成物に関する様々な実施形態について記載してきたが、光学システムに対する2つの物質間の境界面又は物質表面の位置の認識を必要とするいずれのプロセスでも、本開示に記載されている色共焦点センサを用いてもよいことは理解されるであろう。好適なシステムの他の例は、溶液からの金属イオンの多光子還元等を含む。
本発明の様々な実施形態について説明してきた。これら及び他の実施形態は、下記の特許請求の範囲の範疇にある。

Claims (25)

  1. 多光子硬化可能光反応性組成物をその上に有する基材と、
    複数の波長を含む光ビームを、前記基材上の前記組成物の少なくとも1つの領域の上に放射する光源と、
    前記基材に関する位置信号を得るために、前記組成物から反射される光の一部を検出する検出器であって、前記位置信号が、少なくとも前記反射光の波長に基づく検出器と、
    を備えるシステム。
  2. 前記位置信号が、前記基材から反射される光の強度を更に含む、請求項1に記載のシステム。
  3. 前記位置信号が、前記基材から反射される光の寸法を更に含む、請求項1に記載のシステム。
  4. 前記検出器がカメラを含む、請求項1に記載のシステム。
  5. 前記検出器がスペクトロメータを含む、請求項1に記載のシステム。
  6. 前記基材が可動式ステージ上にある、請求項1に記載のシステム。
  7. 前記光源が可動式である、請求項1に記載のシステム。
  8. 前記光ビームが、前記多光子硬化可能光反応性組成物の領域を少なくとも部分的に硬化させる、請求項1に記載のシステム。
  9. 第2の光源から放射される第2の光ビームを更に含み、前記第2の光ビームが、前記多光子硬化可能光反応性組成物の領域を少なくとも部分的に硬化させる、請求項1に記載のシステム。
  10. 前記反射光を前記検出器に誘導する光ファイバーケーブルを更に備える、請求項1に記載のシステム。
  11. 前記反射光を前記検出器に誘導することのできる少なくとも2本の光ファイバーケーブルを更に備え、前記光ファイバーケーブルの少なくとも1本が、前記光ファイバーケーブルの少なくとも別の1本の直径と異なる直径を備える、請求項1に記載のシステム。
  12. 前記光源が超高速レーザーを含む、請求項1に記載のシステム。
  13. 多光子硬化可能光反応性組成物をその上に有する基材を提供する工程と、
    複数の波長を含む少なくとも1本の光ビームを、物質の少なくとも1つの領域に適用する工程であって、前記波長の少なくとも1つが、前記多光子硬化可能光反応性組成物を多光子吸収によって少なくとも部分的に硬化させるのに十分な強度を備える、適用工程と、
    前記基材に関する位置信号を得るために、前記物質から反射される光の一部を処理する工程であって、前記位置信号が前記反射光の波長を含む、処理工程と、
    を含む方法。
  14. 前記少なくとも1本の光ビームが、第1の光ビームと第2の光ビームを含む、請求項13に記載の方法。
  15. 前記第1の光ビームが、前記多光子硬化可能光反応性組成物を少なくとも部分的に硬化させるのに十分な強度を備える前記波長の少なくとも1つを含み、前記第2の光ビームが、前記物質に関する位置信号を得るために、前記物質から反射される光ビームの一部を含む、請求項14に記載の方法。
  16. 前記処理工程の前、後、又は同時に、硬化物を形成させるために、前記第1の光ビームが、前記多光子硬化可能光反応性組成物の領域を少なくとも部分的に硬化させる、請求項14に記載の方法。
  17. 単一の光ビームが、前記多光子硬化可能光反応性組成物を少なくとも部分的に硬化させるのに十分な強度を備える前記波長の少なくとも1つと、前記物質に関する位置信号を得るために、前記物質から反射される光ビームの一部とを含む、請求項13に記載の方法。
  18. 前記位置信号が、前記基材から反射される光の強度を更に含む、請求項13に記載の方法。
  19. 前記位置信号が、前記基材から反射される光の形状を更に含む、請求項13に記載の方法。
  20. 前記位置信号が、光ファイバーケーブルを含む光学装置から得られる、請求項13に記載の方法。
  21. 前記光学装置が、少なくとも2本の光ファイバーケーブルと、少なくとも2つの検出器を更に備え、各光ファイバーケーブルが、前記少なくとも2つの検出器のうちの対応する1つに光を誘導する、請求項13に記載の方法。
  22. 前記少なくとも1本の光ビームを適用する工程が、前記少なくとも1本の光ビームに色収差を導入することを含む、請求項13に記載の方法。
  23. 前記基材から未硬化物質の少なくとも一部を除去する工程を更に含む、請求項13に記載の方法。
  24. 前記位置信号に対応して、前記基材と前記少なくとも1つの光ビームとの相対位置を調節する工程を更に含む、請求項13に記載の方法。
  25. 多光子硬化可能光反応性組成物と、
    前記組成物の少なくとも1つの領域に入射する複数の波長を含む光ビームを放射する光源であって、前記光ビームの少なくとも一部が、前記組成物によって反射される光源と、
    前記反射ビームを検出して、前記反射ビームの波長に基づき、位置信号を生成する検出器と、を備えるシステム。
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Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2015502566A (ja) * 2011-10-25 2015-01-22 サンフォード−バーナム メディカル リサーチ インスティテュート 自動化された顕微鏡使用のための多関数型自動焦点システムおよび方法
WO2019116802A1 (ja) * 2017-12-15 2019-06-20 株式会社堀場製作所 粒子分析装置

Families Citing this family (23)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR20100080785A (ko) 2007-09-06 2010-07-12 쓰리엠 이노베이티브 프로퍼티즈 컴파니 광 출력의 영역 제어를 제공하는 광 추출 구조물을 갖는 도광체
WO2009033029A1 (en) 2007-09-06 2009-03-12 3M Innovative Properties Company Methods of forming molds and methods of forming articles using said molds
EP2232531B1 (en) 2007-12-12 2018-09-19 3M Innovative Properties Company Method for making structures with improved edge definition
CN101960385B (zh) * 2008-02-26 2012-11-07 3M创新有限公司 多光子曝光系统
KR101819006B1 (ko) * 2010-10-27 2018-01-17 삼성전자주식회사 광학 측정 장치
GB2497792A (en) * 2011-12-21 2013-06-26 Taylor Hobson Ltd Metrological apparatus comprising a confocal sensor
GB201205491D0 (en) * 2012-03-28 2012-05-09 Ucl Business Plc Measuring surface curvature
US8654352B1 (en) 2012-08-08 2014-02-18 Asm Technology Singapore Pte Ltd Chromatic confocal scanning apparatus
DE102013008582B4 (de) 2013-05-08 2015-04-30 Technische Universität Ilmenau Verfahren und Vorrichtung zur chromatisch-konfokalen Mehrpunktmessung sowie deren Verwendung
CN105204151A (zh) * 2014-06-17 2015-12-30 谢赟燕 一种照明装置和方法
KR102299921B1 (ko) 2014-10-07 2021-09-09 삼성전자주식회사 광학 장치
US10627614B2 (en) * 2016-04-11 2020-04-21 Verily Life Sciences Llc Systems and methods for simultaneous acquisition of multiple planes with one or more chromatic lenses
US10260941B2 (en) * 2016-10-04 2019-04-16 Precitec Optronik Gmbh Chromatic confocal distance sensor
DE102016221630A1 (de) * 2016-11-04 2018-05-09 Carl Zeiss Industrielle Messtechnik Gmbh Konfokal chromatischer Sensor zur Bestimmung von Koordinaten eines Messobjekts
TWI674089B (zh) * 2017-10-31 2019-10-11 銳準醫光股份有限公司 整合米洛(Mirau)光學干涉顯微術之光學切層裝置
CN109752354A (zh) * 2017-11-06 2019-05-14 锐准医光股份有限公司 整合米洛光学干涉显微术与荧光显微术的光学切层装置
SG11202006860UA (en) * 2018-01-24 2020-08-28 Cyberoptics Corp Structured light projection for specular surfaces
US10866092B2 (en) * 2018-07-24 2020-12-15 Kla-Tencor Corporation Chromatic confocal area sensor
EP3613561B1 (en) * 2018-08-22 2023-07-26 Concept Laser GmbH Apparatus for additively manufacturing three-dimensional objects
US10900775B2 (en) * 2018-08-24 2021-01-26 Tdk Taiwan Corp. Modeling system
JP2022527563A (ja) * 2019-04-11 2022-06-02 コーニンクレッカ フィリップス エヌ ヴェ 例えば汚染マスクで使用するための粒子感知システム
CN111596464B (zh) * 2020-05-28 2021-10-15 华中科技大学 一种调控聚焦光斑三维方向强度的装置和方法
CN113358030B (zh) * 2021-07-15 2022-09-30 中国科学院长春光学精密机械与物理研究所 色散共焦测量系统及其误差修正方法

Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2006198634A (ja) * 2005-01-18 2006-08-03 National Institute Of Information & Communication Technology レーザー加工装置、この装置を用いて製造した光デバイス

Family Cites Families (110)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US3018262A (en) * 1957-05-01 1962-01-23 Shell Oil Co Curing polyepoxides with certain metal salts of inorganic acids
US3729131A (en) * 1970-07-13 1973-04-24 United Gas Industries Ltd Thermostatically controlled gas valve
US3808006A (en) * 1971-12-06 1974-04-30 Minnesota Mining & Mfg Photosensitive material containing a diaryliodium compound, a sensitizer and a color former
US3729313A (en) 1971-12-06 1973-04-24 Minnesota Mining & Mfg Novel photosensitive systems comprising diaryliodonium compounds and their use
US3779778A (en) 1972-02-09 1973-12-18 Minnesota Mining & Mfg Photosolubilizable compositions and elements
US3741769A (en) * 1972-10-24 1973-06-26 Minnesota Mining & Mfg Novel photosensitive polymerizable systems and their use
AU497960B2 (en) * 1974-04-11 1979-01-25 Minnesota Mining And Manufacturing Company Photopolymerizable compositions
US4250053A (en) 1979-05-21 1981-02-10 Minnesota Mining And Manufacturing Company Sensitized aromatic iodonium or aromatic sulfonium salt photoinitiator systems
US4249011A (en) * 1979-06-25 1981-02-03 Minnesota Mining And Manufacturing Company Poly(ethylenically unsaturated alkoxy) heterocyclic compounds
US4262072A (en) * 1979-06-25 1981-04-14 Minnesota Mining And Manufacturing Company Poly(ethylenically unsaturated alkoxy) heterocyclic protective coatings
US4279717A (en) 1979-08-03 1981-07-21 General Electric Company Ultraviolet curable epoxy silicone coating compositions
US4491628A (en) * 1982-08-23 1985-01-01 International Business Machines Corporation Positive- and negative-working resist compositions with acid generating photoinitiator and polymer with acid labile groups pendant from polymer backbone
US4668601A (en) * 1985-01-18 1987-05-26 Minnesota Mining And Manufacturing Company Protective coating for phototools
US4642126A (en) 1985-02-11 1987-02-10 Norton Company Coated abrasives with rapidly curable adhesives and controllable curvature
US4652274A (en) 1985-08-07 1987-03-24 Minnesota Mining And Manufacturing Company Coated abrasive product having radiation curable binder
CA1323949C (en) 1987-04-02 1993-11-02 Michael C. Palazzotto Ternary photoinitiator system for addition polymerization
JPH01188816A (ja) * 1988-01-25 1989-07-28 Hitachi Ltd 分光型走査顕微鏡
US4859572A (en) * 1988-05-02 1989-08-22 Eastman Kodak Company Dye sensitized photographic imaging system
AU6294690A (en) * 1989-08-21 1991-04-03 Carl R. Amos Methods of and apparatus for manipulating electromagnetic phenomenon
JP2724232B2 (ja) * 1990-05-02 1998-03-09 株式会社日立製作所 自動焦点手段およびその自動焦点手段を用いた光ディスク装置
US5235015A (en) 1991-02-21 1993-08-10 Minnesota Mining And Manufacturing Company High speed aqueous solvent developable photopolymer compositions
GB9121789D0 (en) * 1991-10-14 1991-11-27 Minnesota Mining & Mfg Positive-acting photothermographic materials
DE69217177T2 (de) * 1991-11-28 1997-05-15 Enplas Corp Flächenartige Lichtquelle
TW268969B (ja) * 1992-10-02 1996-01-21 Minnesota Mining & Mfg
US5298741A (en) * 1993-01-13 1994-03-29 Trustees Of Tufts College Thin film fiber optic sensor array and apparatus for concurrent viewing and chemical sensing of a sample
US5512219A (en) 1994-06-03 1996-04-30 Reflexite Corporation Method of casting a microstructure sheet having an array of prism elements using a reusable polycarbonate mold
US5856373A (en) 1994-10-31 1999-01-05 Minnesota Mining And Manufacturing Company Dental visible light curable epoxy system with enhanced depth of cure
US5858624A (en) 1996-09-20 1999-01-12 Minnesota Mining And Manufacturing Company Method for assembling planarization and indium-tin-oxide layer on a liquid crystal display color filter with a transfer process
US5922238A (en) * 1997-02-14 1999-07-13 Physical Optics Corporation Method of making replicas and compositions for use therewith
DE19713362A1 (de) * 1997-03-29 1998-10-01 Zeiss Carl Jena Gmbh Konfokale mikroskopische Anordnung
US5998495A (en) * 1997-04-11 1999-12-07 3M Innovative Properties Company Ternary photoinitiator system for curing of epoxy/polyol resin compositions
US6025406A (en) * 1997-04-11 2000-02-15 3M Innovative Properties Company Ternary photoinitiator system for curing of epoxy resins
US6001297A (en) * 1997-04-28 1999-12-14 3D Systems, Inc. Method for controlling exposure of a solidfiable medium using a pulsed radiation source in building a three-dimensional object using stereolithography
US5859251A (en) 1997-09-18 1999-01-12 The United States Of America As Represented By The Secretary Of The Air Force Symmetrical dyes with large two-photon absorption cross-sections
US5770737A (en) 1997-09-18 1998-06-23 The United States Of America As Represented By The Secretary Of The Air Force Asymmetrical dyes with large two-photon absorption cross-sections
US6316153B1 (en) 1998-04-21 2001-11-13 The University Of Connecticut Free-form fabricaton using multi-photon excitation
US6100405A (en) * 1999-06-15 2000-08-08 The United States Of America As Represented By The Secretary Of The Air Force Benzothiazole-containing two-photon chromophores exhibiting strong frequency upconversion
US7046905B1 (en) 1999-10-08 2006-05-16 3M Innovative Properties Company Blacklight with structured surfaces
JP2001150451A (ja) 1999-11-22 2001-06-05 Canon Inc 成形型およびその製造方法
US6288842B1 (en) 2000-02-22 2001-09-11 3M Innovative Properties Sheeting with composite image that floats
US6696157B1 (en) * 2000-03-05 2004-02-24 3M Innovative Properties Company Diamond-like glass thin films
US6560248B1 (en) 2000-06-08 2003-05-06 Mania Barco Nv System, method and article of manufacture for improved laser direct imaging a printed circuit board utilizing a mode locked laser and scophony operation
US6852766B1 (en) 2000-06-15 2005-02-08 3M Innovative Properties Company Multiphoton photosensitization system
US7381516B2 (en) 2002-10-02 2008-06-03 3M Innovative Properties Company Multiphoton photosensitization system
WO2001096952A2 (en) * 2000-06-15 2001-12-20 3M Innovative Properties Company Multicolor imaging using multiphoton photochemical processes
AU2001266918A1 (en) * 2000-06-15 2001-12-24 3M Innovative Properties Company Multidirectional photoreactive absorption method
US6855478B2 (en) 2000-06-15 2005-02-15 3M Innovative Properties Company Microfabrication of organic optical elements
US7265161B2 (en) * 2002-10-02 2007-09-04 3M Innovative Properties Company Multi-photon reactive compositions with inorganic particles and method for fabricating structures
DE10034737C2 (de) 2000-07-17 2002-07-11 Fraunhofer Ges Forschung Verfahren zur Herstellung einer permanenten Entformungsschicht durch Plasmapolymerisation auf der Oberfläche eines Formteilwerkzeugs, ein nach dem Verfahren herstellbares Formteilwerkzeug und dessen Verwendung
EP1245372B1 (en) 2001-03-26 2011-09-28 Novartis AG Mould and method for the production of ophthalmic lenses
US20020192569A1 (en) * 2001-05-15 2002-12-19 The Chromaline Corporation Devices and methods for exposure of photoreactive compositions with light emitting diodes
KR100788827B1 (ko) 2001-05-22 2007-12-27 니치아 카가쿠 고교 가부시키가이샤 면발광 장치의 도광판
US20030006535A1 (en) * 2001-06-26 2003-01-09 Michael Hennessey Method and apparatus for forming microstructures on polymeric substrates
DE10131156A1 (de) 2001-06-29 2003-01-16 Fraunhofer Ges Forschung Arikel mit plasmapolymerer Beschichtung und Verfahren zu dessen Herstellung
US6804062B2 (en) 2001-10-09 2004-10-12 California Institute Of Technology Nonimaging concentrator lens arrays and microfabrication of the same
US6713718B1 (en) * 2001-11-27 2004-03-30 Vi Engineering, Inc. Scoring process and apparatus with confocal optical measurement
US6948448B2 (en) * 2001-11-27 2005-09-27 General Electric Company Apparatus and method for depositing large area coatings on planar surfaces
US7887889B2 (en) 2001-12-14 2011-02-15 3M Innovative Properties Company Plasma fluorination treatment of porous materials
US6750266B2 (en) * 2001-12-28 2004-06-15 3M Innovative Properties Company Multiphoton photosensitization system
US20030155667A1 (en) 2002-12-12 2003-08-21 Devoe Robert J Method for making or adding structures to an article
US7478942B2 (en) 2003-01-23 2009-01-20 Samsung Electronics Co., Ltd. Light guide plate with light reflection pattern
CN101441292A (zh) 2003-02-28 2009-05-27 夏普株式会社 面辐射变换元件及其制造方法和液晶显示装置
JP4269745B2 (ja) * 2003-03-31 2009-05-27 株式会社日立製作所 スタンパ及び転写装置
US20040202865A1 (en) * 2003-04-08 2004-10-14 Andrew Homola Release coating for stamper
US7070406B2 (en) 2003-04-29 2006-07-04 Hewlett-Packard Development Company, L.P. Apparatus for embossing a flexible substrate with a pattern carried by an optically transparent compliant media
EP1538482B1 (en) * 2003-12-05 2016-02-17 Obducat AB Device and method for large area lithography
US9040090B2 (en) * 2003-12-19 2015-05-26 The University Of North Carolina At Chapel Hill Isolated and fixed micro and nano structures and methods thereof
US7632087B2 (en) * 2003-12-19 2009-12-15 Wd Media, Inc. Composite stamper for imprint lithography
US20050273146A1 (en) 2003-12-24 2005-12-08 Synecor, Llc Liquid perfluoropolymers and medical applications incorporating same
US20050271794A1 (en) 2003-12-24 2005-12-08 Synecor, Llc Liquid perfluoropolymers and medical and cosmetic applications incorporating same
US7282324B2 (en) 2004-01-05 2007-10-16 Microchem Corp. Photoresist compositions, hardened forms thereof, hardened patterns thereof and metal patterns formed using them
US9039401B2 (en) * 2006-02-27 2015-05-26 Microcontinuum, Inc. Formation of pattern replicating tools
US7407893B2 (en) * 2004-03-05 2008-08-05 Applied Materials, Inc. Liquid precursors for the CVD deposition of amorphous carbon films
US20050254035A1 (en) * 2004-05-11 2005-11-17 Chromaplex, Inc. Multi-photon lithography
US20050272599A1 (en) * 2004-06-04 2005-12-08 Kenneth Kramer Mold release layer
JP4389791B2 (ja) 2004-08-25 2009-12-24 セイコーエプソン株式会社 微細構造体の製造方法および露光装置
JP2006165371A (ja) * 2004-12-09 2006-06-22 Canon Inc 転写装置およびデバイス製造方法
US9370881B2 (en) 2005-03-02 2016-06-21 The Trustees Of Boston College Structures and methods of replicating the same
KR100688866B1 (ko) * 2005-04-07 2007-03-02 삼성전기주식회사 임프린트 장치, 시스템 및 방법
US7478791B2 (en) 2005-04-15 2009-01-20 3M Innovative Properties Company Flexible mold comprising cured polymerizable resin composition
KR100692742B1 (ko) 2005-05-13 2007-03-09 삼성전자주식회사 도광층을 갖는 키 패드 및 키 패드 어셈블리
DE602005012068D1 (de) 2005-06-10 2009-02-12 Obducat Ab Kopieren eines Musters mit Hilfe eines Zwischenstempels
US7326948B2 (en) 2005-08-15 2008-02-05 Asml Netherlands B.V. Beam modifying device, lithographic projection apparatus, method of treating a beam, and device manufacturing method
KR100610336B1 (ko) 2005-09-12 2006-08-09 김형준 키패드 백라이트용 도광판 및 그 제조 방법
US7878791B2 (en) * 2005-11-04 2011-02-01 Asml Netherlands B.V. Imprint lithography
JP4880701B2 (ja) * 2005-12-21 2012-02-22 スリーエム イノベイティブ プロパティズ カンパニー 多光子硬化反応性組成物を処理するための方法及び装置
EP1962942A1 (en) 2005-12-21 2008-09-03 3M Innovative Properties Company Microneedle devices
US7583444B1 (en) 2005-12-21 2009-09-01 3M Innovative Properties Company Process for making microlens arrays and masterforms
US7545569B2 (en) 2006-01-13 2009-06-09 Avery Dennison Corporation Optical apparatus with flipped compound prism structures
TWM298289U (en) 2006-03-17 2006-09-21 Hon Hai Prec Ind Co Ltd Light guide plates and electronic products using the same
US20070216049A1 (en) * 2006-03-20 2007-09-20 Heptagon Oy Method and tool for manufacturing optical elements
US8858807B2 (en) 2006-03-24 2014-10-14 3M Innovative Properties Company Process for making microneedles, microneedle arrays, masters, and replication tools
US7941013B2 (en) 2006-05-18 2011-05-10 3M Innovative Properties Company Process for making light guides with extraction structures and light guides produced thereby
TWI322927B (en) * 2006-05-24 2010-04-01 Ind Tech Res Inst Roller module for microstructure thin film imprint
TW200745490A (en) * 2006-06-07 2007-12-16 Jeng Shiang Prec Ind Co Ltd Light guide plate
US20080007964A1 (en) * 2006-07-05 2008-01-10 Tai-Yen Lin Light guiding structure
US20080083886A1 (en) 2006-09-14 2008-04-10 3M Innovative Properties Company Optical system suitable for processing multiphoton curable photoreactive compositions
US7551359B2 (en) 2006-09-14 2009-06-23 3M Innovative Properties Company Beam splitter apparatus and system
US8241713B2 (en) 2007-02-21 2012-08-14 3M Innovative Properties Company Moisture barrier coatings for organic light emitting diode devices
US7891636B2 (en) 2007-08-27 2011-02-22 3M Innovative Properties Company Silicone mold and use thereof
WO2009033029A1 (en) 2007-09-06 2009-03-12 3M Innovative Properties Company Methods of forming molds and methods of forming articles using said molds
US20100308497A1 (en) 2007-09-06 2010-12-09 David Moses M Tool for making microstructured articles
KR20100080785A (ko) 2007-09-06 2010-07-12 쓰리엠 이노베이티브 프로퍼티즈 컴파니 광 출력의 영역 제어를 제공하는 광 추출 구조물을 갖는 도광체
WO2009048705A1 (en) 2007-10-11 2009-04-16 3M Innovative Properties Company Highly functional multiphoton curable reactive species
CN101878438B (zh) 2007-11-27 2013-09-25 3M创新有限公司 形成具有悬浮合成图像的片材以及母模具的方法
EP2232531B1 (en) 2007-12-12 2018-09-19 3M Innovative Properties Company Method for making structures with improved edge definition
US8080073B2 (en) 2007-12-20 2011-12-20 3M Innovative Properties Company Abrasive article having a plurality of precisely-shaped abrasive composites
CN101960385B (zh) 2008-02-26 2012-11-07 3M创新有限公司 多光子曝光系统
US8570270B2 (en) * 2009-10-19 2013-10-29 Apple Inc. Backlight unit color compensation techniques
TWM385715U (en) * 2009-12-14 2010-08-01 Chunghwa Picture Tubes Ltd Backlight module

Patent Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2006198634A (ja) * 2005-01-18 2006-08-03 National Institute Of Information & Communication Technology レーザー加工装置、この装置を用いて製造した光デバイス

Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2015502566A (ja) * 2011-10-25 2015-01-22 サンフォード−バーナム メディカル リサーチ インスティテュート 自動化された顕微鏡使用のための多関数型自動焦点システムおよび方法
WO2019116802A1 (ja) * 2017-12-15 2019-06-20 株式会社堀場製作所 粒子分析装置
JPWO2019116802A1 (ja) * 2017-12-15 2020-12-24 株式会社堀場製作所 粒子分析装置

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