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JP2011228627A - Substrate transfer system and substrate processing system - Google Patents

Substrate transfer system and substrate processing system Download PDF

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JP2011228627A
JP2011228627A JP2010267136A JP2010267136A JP2011228627A JP 2011228627 A JP2011228627 A JP 2011228627A JP 2010267136 A JP2010267136 A JP 2010267136A JP 2010267136 A JP2010267136 A JP 2010267136A JP 2011228627 A JP2011228627 A JP 2011228627A
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Yoshiki Kimura
吉希 木村
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a substrate transfer system capable of attaining miniaturization by reducing a robot installation area.SOLUTION: The substrate transfer system 10 includes a substrate transfer robot structured so that a substrate 110 is transferred from the inside of a substrate storage apparatus 11 to the inside of a processing apparatus 20 through an opening 202 formed on the side of the processing apparatus 20 by rotating an arm part (a first arm part 123 and a second arm part 124) and a hand part 125 within a horizontal plane and so that an outer edge of a minimum turning area in such a state that the substrate 110 is supported by the hand part 125 protrudes into the processing apparatus 20 through the opening 202.

Description

本発明は、基板搬送システムおよび基板処理システムに関し、特に、基板を異なる位置に搬送する基板搬送ロボットを備えた基板搬送システムおよび基板処理システムに関する。   The present invention relates to a substrate transfer system and a substrate processing system, and more particularly to a substrate transfer system and a substrate processing system provided with a substrate transfer robot for transferring a substrate to different positions.

従来、基板を異なる位置に搬送する基板搬送ロボットを備えた基板搬送システムが知られている(たとえば、特許文献1参照)。   2. Description of the Related Art Conventionally, a substrate transfer system including a substrate transfer robot that transfers substrates to different positions is known (see, for example, Patent Document 1).

上記特許文献1には、ベース部材に対して水平面内で回動可能な下部アーム部材と、下部アーム部材に対して水平面内で回動可能な上部アーム部材と、上部アーム部材に対して水平面内で回動可能なハンド部材とを含むロボット(基板搬送ロボット)を備えた基板搬送システムが開示されている。この基板搬送システムのロボットは、基板を収納するカセット装置(第1装置)および基板に処理を施す処理装置(第2装置)に囲まれたロボット設置領域に配置されている。   Patent Document 1 discloses a lower arm member that can rotate in a horizontal plane with respect to a base member, an upper arm member that can rotate in a horizontal plane with respect to a lower arm member, And a substrate transport system including a robot (substrate transport robot) including a hand member that can be rotated by the robot. The robot of this substrate transfer system is arranged in a robot installation area surrounded by a cassette device (first device) for storing substrates and a processing device (second device) for processing a substrate.

特開2009−136981号公報JP 2009-136981 A

しかしながら、上記特許文献1に記載の基板搬送システムでは、基板搬送システムのロボット設置領域を小さくするために、ロボットとカセット装置との間の距離を単純に小さくすると、ロボットが旋回時にカセット装置に接触してしまうという不都合がある。このため、上記特許文献1に記載の基板搬送システムでは、ロボットとカセット装置との間の距離を単純に小さくすることによってロボット設置領域を小さくすることができないので、基板搬送システムの小型化を図ることが困難であるという問題点がある。   However, in the substrate transfer system described in Patent Document 1, if the distance between the robot and the cassette device is simply reduced in order to reduce the robot installation area of the substrate transfer system, the robot contacts the cassette device when turning. There is an inconvenience. For this reason, in the board | substrate conveyance system of the said patent document 1, since a robot installation area | region cannot be made small by simply making the distance between a robot and a cassette apparatus small, size reduction of a board | substrate conveyance system is achieved. There is a problem that it is difficult.

この発明は、上記のような課題を解決するためになされたものであり、この発明の1つの目的は、ロボット設置領域を小さくして小型化を図ることが可能な基板搬送システムおよび基板処理システムを提供することである。   The present invention has been made to solve the above-described problems, and one object of the present invention is to provide a substrate transfer system and a substrate processing system that can be reduced in size by reducing the robot installation area. Is to provide.

課題を解決するための手段および発明の効果Means for Solving the Problems and Effects of the Invention

上記目的を達成するために、この発明の第1の局面における基板搬送システムは、第1装置および第2装置に囲まれたロボット設置領域に設置され、基板を支持するハンド部と、ハンド部を移動させるためのアーム部とを含む基板搬送ロボットを備え、基板搬送ロボットは、アーム部およびハンド部を水平面内で回動させることによって、第2装置側に設けられた開口部を介して第1装置内の第1位置から第2装置内の第2位置に基板を搬送するとともに、ハンド部により基板を支持した状態の基板搬送ロボットの最小旋回領域の外縁が開口部を介して第2装置内に突出するように構成されている。   In order to achieve the above object, a substrate transfer system according to a first aspect of the present invention is installed in a robot installation area surrounded by a first device and a second device, and includes a hand unit that supports a substrate, and a hand unit. A substrate transfer robot including an arm unit for movement, and the substrate transfer robot rotates the arm unit and the hand unit in a horizontal plane, thereby opening the first through an opening provided on the second apparatus side. The substrate is transferred from the first position in the apparatus to the second position in the second apparatus, and the outer edge of the minimum turning area of the substrate transfer robot in a state in which the substrate is supported by the hand unit passes through the opening in the second apparatus. It is comprised so that it may protrude.

この発明の第1の局面による基板搬送システムでは、上記のように、第2装置側に設けられた開口部を介して第1装置内の第1位置から第2装置内の第2位置に基板を搬送するとともに、ハンド部により基板を支持した状態の基板搬送ロボットの最小旋回領域の外縁が開口部を介して第2装置内に突出するように基板搬送ロボットを構成することによって、第2装置内に基板を搬送するための開口部を利用して基板搬送ロボットを旋回させることができるので、基板搬送ロボットの最小旋回領域に重ならないように第2装置を配置する場合に比べて、基板搬送ロボットと第2装置との間の距離を小さくすることができ、その結果、ロボット設置領域を小さくして小型化を図ることができる。また、ロボット設置領域をFFU(ファンフィルタユニット)などによりクリーンな状態に保つ必要がある場合には、本発明によりロボット設置領域を小さくできることにより、FFUの小型化を図ることができるので、本発明がより有効である。   In the substrate transfer system according to the first aspect of the present invention, as described above, the substrate is moved from the first position in the first device to the second position in the second device through the opening provided on the second device side. And the substrate transfer robot is configured such that the outer edge of the minimum turning area of the substrate transfer robot in a state where the substrate is supported by the hand unit protrudes into the second device through the opening. Since the substrate transfer robot can be turned using the opening for transferring the substrate into the substrate, the substrate transfer can be performed as compared with the case where the second device is arranged so as not to overlap the minimum turning area of the substrate transfer robot. The distance between the robot and the second device can be reduced, and as a result, the robot installation area can be reduced and the size can be reduced. Further, when it is necessary to keep the robot installation area clean by using an FFU (fan filter unit) or the like, the robot installation area can be reduced by the present invention, so that the FFU can be downsized. Is more effective.

この発明の第2の局面における基板処理システムは、第1装置と、第2装置と、第1装置および第2装置に囲まれたロボット設置領域に配置され、基板を支持するハンド部と、ハンド部を移動させるためのアーム部とを含む基板搬送ロボットとを備え、基板搬送ロボットは、アーム部およびハンド部を水平面内で回動させることによって、第2装置側に設けられた開口部を介して第1装置内の第1位置から第2装置内の第2位置に基板を搬送するとともに、ハンド部により基板を支持した状態の基板搬送ロボットの最小旋回領域の外縁が開口部を介して第2装置内に突出するように構成されている。   A substrate processing system according to a second aspect of the present invention includes a first device, a second device, a hand unit that is disposed in a robot installation area surrounded by the first device and the second device, and supports the substrate, A substrate transfer robot including an arm unit for moving the unit, and the substrate transfer robot rotates the arm unit and the hand unit in a horizontal plane through an opening provided on the second apparatus side. The substrate is transferred from the first position in the first device to the second position in the second device, and the outer edge of the minimum turning area of the substrate transfer robot in a state where the substrate is supported by the hand portion is opened through the opening. 2 is configured to protrude into the device.

この発明の第2の局面による基板処理システムでは、上記のように、第2装置側に設けられた開口部を介して第1装置内の第1位置から第2装置内の第2位置に基板を搬送するとともに、ハンド部により基板を支持した状態の基板搬送ロボットの最小旋回領域の外縁が開口部を介して第2装置内に突出するように基板搬送ロボットを構成することによって、第2装置内に基板を搬送するための開口部を利用して基板搬送ロボットを旋回させることができるので、基板搬送ロボットの最小旋回領域に重ならないように第2装置を配置する場合に比べて、基板搬送ロボットと第2装置との間の距離を小さくすることができ、その結果、ロボット設置領域を小さくして小型化を図ることができる。また、ロボット設置領域をFFU(ファンフィルタユニット)などによりクリーンな状態に保つ必要がある場合には、本発明によりロボット設置領域を小さくできることにより、FFUの小型化を図ることができるので、本発明がより有効である。また、複数の装置を備える基板処理システムは、大型化し易いので、小型化を図ることが可能な本発明は有効である。   In the substrate processing system according to the second aspect of the present invention, as described above, the substrate is moved from the first position in the first apparatus to the second position in the second apparatus through the opening provided on the second apparatus side. And the substrate transfer robot is configured such that the outer edge of the minimum turning area of the substrate transfer robot in a state where the substrate is supported by the hand unit protrudes into the second device through the opening. Since the substrate transfer robot can be turned using the opening for transferring the substrate into the substrate, the substrate transfer can be performed as compared with the case where the second device is arranged so as not to overlap the minimum turning area of the substrate transfer robot. The distance between the robot and the second device can be reduced, and as a result, the robot installation area can be reduced and the size can be reduced. Further, when it is necessary to keep the robot installation area clean by using an FFU (fan filter unit) or the like, the robot installation area can be reduced by the present invention, so that the FFU can be downsized. Is more effective. In addition, since the substrate processing system including a plurality of apparatuses is easily increased in size, the present invention capable of reducing the size is effective.

本発明の第1実施形態による基板処理システムの全体構成を示した平面図である。1 is a plan view showing an overall configuration of a substrate processing system according to a first embodiment of the present invention. 本発明の第1実施形態による基板処理システムの全体構成を示した概略側面図である。1 is a schematic side view showing an overall configuration of a substrate processing system according to a first embodiment of the present invention. 本発明の第1実施形態による基板処理システムの基板搬送ロボットを示した斜視図である。1 is a perspective view showing a substrate transfer robot of a substrate processing system according to a first embodiment of the present invention. 本発明の第1実施形態による基板処理システムの基板搬送ロボットの最小旋回領域を説明するための平面図である。It is a top view for demonstrating the minimum turning area | region of the substrate transfer robot of the substrate processing system by 1st Embodiment of this invention. 本発明の第1実施形態による基板処理システムにより基板搬送ロボットから遠い基板を搬送する際の動作手順を説明するための図である。It is a figure for demonstrating the operation | movement procedure at the time of conveying a board | substrate far from a substrate conveyance robot by the substrate processing system by 1st Embodiment of this invention. 本発明の第1実施形態による基板処理システムにより基板搬送ロボットから近い基板を搬送する際の動作手順を説明するための図である。It is a figure for demonstrating the operation | movement procedure at the time of conveying the board | substrate near from a substrate transfer robot by the substrate processing system by 1st Embodiment of this invention. 本発明の第2実施形態による基板処理システムの全体構成を示した概略側面図である。It is the schematic side view which showed the whole structure of the substrate processing system by 2nd Embodiment of this invention. 本発明の第3実施形態による基板処理システムの全体構成を示した平面図である。It is the top view which showed the whole structure of the substrate processing system by 3rd Embodiment of this invention. 本発明の第4実施形態による基板処理システムの全体構成を示した平面図である。It is the top view which showed the whole structure of the substrate processing system by 4th Embodiment of this invention. 本発明の第1〜第4実施形態による基板処理システムの基板搬送ロボットの変形例を示した斜視図である。It is the perspective view which showed the modification of the substrate conveyance robot of the substrate processing system by 1st-4th embodiment of this invention.

以下、本発明の実施形態を図面に基づいて説明する。   Hereinafter, embodiments of the present invention will be described with reference to the drawings.

(第1実施形態)
まず、図1〜図6を参照して、本発明の第1実施形態による基板処理システム100の構成について説明する。
(First embodiment)
First, the configuration of the substrate processing system 100 according to the first embodiment of the present invention will be described with reference to FIGS.

基板処理システム100は、図1および図2に示すように、基板110を搬送する基板搬送システム10と、処理装置20とを備えている。また、基板処理システム100は、基板搬送システム10により処理装置20に基板110を搬送するとともに、処理装置20により搬送された基板110に対して半導体デバイスの製造プロセスにおける処理を行うように構成されている。   As shown in FIGS. 1 and 2, the substrate processing system 100 includes a substrate transport system 10 that transports a substrate 110 and a processing apparatus 20. The substrate processing system 100 is configured to transfer the substrate 110 to the processing apparatus 20 by the substrate transfer system 10 and to perform processing in the semiconductor device manufacturing process on the substrate 110 transferred by the processing apparatus 20. Yes.

基板搬送システム10は、基板110を収容する基板収納装置11と、基板収納装置11および処理装置20の間で基板110を搬送する基板搬送ロボット12とを備えている。また、基板搬送システム10は、平面的に見て(上方から見て)、基板収納装置11の設置領域と、基板搬送ロボット12が設置される後述のロボット設置領域13とを合わせた大きさの外形形状(図1の破線で示した外形形状)を有している。ロボット設置領域13は、基板収納装置11の後述の前面壁111および処理装置20の背面壁201に囲まれた領域である。また、基板搬送システム10は、図示しないFFU(ファンフィルタユニット)をさらに備え、ロボット設置領域13内の空気をクリーンな状態に維持するように構成されている。なお、基板収納装置11は、本発明の「第1装置」の一例であり、処理装置20は、本発明の「第2装置」の一例である。   The substrate transfer system 10 includes a substrate storage device 11 that stores a substrate 110, and a substrate transfer robot 12 that transfers the substrate 110 between the substrate storage device 11 and the processing device 20. Further, the substrate transfer system 10 has a size in which the installation area of the substrate storage device 11 and a robot installation area 13 (described later) in which the substrate transfer robot 12 is installed are combined when viewed in plan (viewed from above). It has an outer shape (outer shape shown by a broken line in FIG. 1). The robot installation area 13 is an area surrounded by a later-described front wall 111 of the substrate storage apparatus 11 and a rear wall 201 of the processing apparatus 20. The substrate transfer system 10 further includes an FFU (fan filter unit) (not shown), and is configured to maintain the air in the robot installation area 13 in a clean state. The substrate storage device 11 is an example of the “first device” in the present invention, and the processing device 20 is an example of the “second device” in the present invention.

基板収納装置11は、SEMI(Semiconductor Equipment and Materials International)規格のFOUP(Front Open Unified Pod)に対応している。また、基板収納装置11は、図1および図2に示すように、基板搬送ロボット12および処理装置20が配置される側(X1方向側)に前面壁111を有している。前面壁111は、垂直面内に形成されている。また、基板収納装置11は、平面的に見て異なる位置に配置された4つのカセット11a〜11dを含んでいる。4つのカセット11a〜11dは、Y方向に隣接するように配列されている。また、4つのカセット11a〜11dは、図2に示すように、カセット支持台112上に設置されている。また、4つのカセット11a〜11dは、異なる高さ位置に複数の基板110を載置可能に構成されている。具体的には、4つのカセット11a〜11dは、上下方向に25段の載置位置を有し、最大25枚の基板110を積層して収納することが可能である。なお、前面壁111は、本発明の「第1壁部」の一例であり、4つのカセット11a〜11d内の載置位置は、本発明の「第1位置」の一例である。   The substrate storage device 11 is compatible with FOUP (Front Open Unified Pod) of SEMI (Semiconductor Equipment and Materials International) standard. Further, as shown in FIGS. 1 and 2, the substrate storage device 11 has a front wall 111 on the side (X1 direction side) on which the substrate transfer robot 12 and the processing device 20 are arranged. The front wall 111 is formed in a vertical plane. Further, the substrate storage device 11 includes four cassettes 11a to 11d arranged at different positions when viewed in plan. The four cassettes 11a to 11d are arranged so as to be adjacent in the Y direction. Also, the four cassettes 11a to 11d are installed on a cassette support base 112 as shown in FIG. The four cassettes 11a to 11d are configured to be able to place a plurality of substrates 110 at different height positions. Specifically, the four cassettes 11a to 11d have 25 stages of mounting positions in the vertical direction, and a maximum of 25 substrates 110 can be stacked and stored. The front wall 111 is an example of the “first wall” in the present invention, and the placement positions in the four cassettes 11a to 11d are examples of the “first position” in the present invention.

基板搬送ロボット12は、図1〜図3に示すように、多関節ロボットである。具体的には、基板搬送ロボット12は、ベース部材121と、支持軸122と、第1アーム部123と、第2アーム部124と、ハンド部125と、基板搬送ロボット12の各部を制御する制御部126とを備えている。なお、第1アーム部123および第2アーム部124は、本発明の「アーム部」の一例である。   The substrate transport robot 12 is an articulated robot as shown in FIGS. Specifically, the substrate transport robot 12 controls the base member 121, the support shaft 122, the first arm unit 123, the second arm unit 124, the hand unit 125, and each unit of the substrate transport robot 12. Part 126. The first arm portion 123 and the second arm portion 124 are examples of the “arm portion” in the present invention.

支持軸122は、ベース部材121により支持されている。また、支持軸122は、ベース部材121の上面に対して垂直方向に延びるように形成されている。また、支持軸122の上端部には、第1アーム部123の一方端部が接続されている。第1アーム部123は、支持軸122を回動軸として水平面内で回動可能に構成されている。また、第1アーム部123の他方端部には、第2アーム部124の一方端部が接続されている。第2アーム部124は、第1アーム部123に接続された一方端部を回動中心として水平面内で回動可能に構成されている。また、第2アーム部124の他方端部には、ハンド部125が接続されている。ハンド部125は、第2アーム部124との接続部を回動中心として水平面内で回動可能に構成されている。また、ハンド部125は、基板110を下方から支持可能に構成されている。また、第1アーム部123および第2アーム部124は、リンク長が互いに略同じ大きさになるように形成されている。すなわち、図1に示すように、第1アーム部123の回動中心C1から第2アーム部124の回動中心C2までの第1アーム部123のリンク長R1と、第2アーム部124の回動中心C2からハンド部125の回動中心C3までの第2アーム部124のリンク長R2とは略等しい。これにより、第1アーム部123および第2アーム部124のリンク長が互いに異なる場合に比べて、基板110を搬送する際の各部の動作制御が複雑になるのが抑制される。   The support shaft 122 is supported by the base member 121. The support shaft 122 is formed so as to extend in a direction perpendicular to the upper surface of the base member 121. In addition, one end portion of the first arm portion 123 is connected to the upper end portion of the support shaft 122. The first arm portion 123 is configured to be rotatable in a horizontal plane with the support shaft 122 as a rotation axis. In addition, one end portion of the second arm portion 124 is connected to the other end portion of the first arm portion 123. The second arm portion 124 is configured to be rotatable in a horizontal plane with the one end connected to the first arm portion 123 as a rotation center. In addition, the hand portion 125 is connected to the other end portion of the second arm portion 124. The hand portion 125 is configured to be rotatable in a horizontal plane with a connection portion with the second arm portion 124 as a rotation center. The hand unit 125 is configured to be able to support the substrate 110 from below. The first arm part 123 and the second arm part 124 are formed so that the link lengths are substantially the same. That is, as shown in FIG. 1, the link length R1 of the first arm portion 123 from the rotation center C1 of the first arm portion 123 to the rotation center C2 of the second arm portion 124, and the rotation of the second arm portion 124. The link length R2 of the second arm portion 124 from the movement center C2 to the rotation center C3 of the hand portion 125 is substantially equal. Thereby, compared with the case where the link length of the 1st arm part 123 and the 2nd arm part 124 mutually differs, it is suppressed that the operation control of each part at the time of conveying the board | substrate 110 becomes complicated.

また、基板搬送ロボット12は、支持軸122を上下移動させることによって、第1アーム部123、第2アーム部124およびハンド部125を一体的に上下移動させることが可能に構成されている。これにより、基板搬送ロボット12は、カセット11a〜11d内の異なる高さ位置に配置された全ての載置位置に対して基板110の搬出入を行うことが可能である。   Further, the substrate transport robot 12 is configured to integrally move the first arm portion 123, the second arm portion 124, and the hand portion 125 up and down by moving the support shaft 122 up and down. Thereby, the substrate transport robot 12 can carry in and out the substrate 110 to and from all the placement positions arranged at different height positions in the cassettes 11a to 11d.

制御部126は、ハンド部125により基板110を搬送する際の各部の動作が予め教示されている。具体的には、制御部126は、4つのカセット11a〜11dのそれぞれに対する基板110の搬出入動作について、予め各部の動作が教示されている。これにより、基板搬送ロボット12は、後述の動作手順によって基板110の搬送動作を行う。   The control unit 126 is taught in advance the operation of each unit when the substrate 110 is transported by the hand unit 125. Specifically, the control unit 126 is previously taught about the operation of each unit for the loading / unloading operation of the substrate 110 with respect to each of the four cassettes 11a to 11d. Thereby, the substrate transfer robot 12 performs the transfer operation of the substrate 110 according to the operation procedure described later.

処理装置20は、図1および図2に示すように、基板搬送ロボット12および基板収納装置11が配置される側(X2方向側)に背面壁201を有している。背面壁201は、垂直面内に形成されている。また、背面壁201は、前面壁111に対向するように前面壁111に対して略平行に配置されている。また、背面壁201には、略矩形形状の開口部202が形成されている。開口部202は、図1に示すように、基板110を挿入可能な水平方向(Y方向)の開口幅Bを有している。また、開口部202は、図2に示すように、基板搬送ロボット12の第1アーム部123、第2アーム部124およびハンド部125の高さ方向の移動範囲よりも大きい高さ方向(Z方向)の開口長さH1を有している。具体的には、開口部202は、カセット11a〜11dの25段の載置位置のうち、最も低い載置位置にアクセスする際の基板搬送ロボット12の配置位置に対応する高さ位置から最も高い載置位置にアクセスする際の基板搬送ロボット12の配置位置に対応する高さ位置まで開放されている。なお、背面壁201は、本発明の「第2壁部」の一例である。   As shown in FIGS. 1 and 2, the processing apparatus 20 has a back wall 201 on the side (X2 direction side) on which the substrate transport robot 12 and the substrate storage apparatus 11 are arranged. The back wall 201 is formed in a vertical plane. Further, the back wall 201 is disposed substantially parallel to the front wall 111 so as to face the front wall 111. Further, a substantially rectangular opening 202 is formed in the back wall 201. As shown in FIG. 1, the opening 202 has an opening width B in the horizontal direction (Y direction) into which the substrate 110 can be inserted. Further, as shown in FIG. 2, the opening 202 has a height direction (Z direction) larger than the moving range in the height direction of the first arm portion 123, the second arm portion 124 and the hand portion 125 of the substrate transport robot 12. ) Opening length H1. Specifically, the opening 202 is the highest from the height position corresponding to the placement position of the substrate transport robot 12 when accessing the lowest placement position among the 25 placement positions of the cassettes 11a to 11d. It is opened to a height position corresponding to the arrangement position of the substrate transport robot 12 when accessing the placement position. The back wall 201 is an example of the “second wall” in the present invention.

ここで、第1実施形態では、基板搬送ロボット12は、基板収納装置11内の基板110を開口部202を介して処理装置20内の載置位置に搬送するとともに、処理装置20内の基板110を基板収納装置11内の所定の載置位置に搬送することが可能に構成されている。また、基板搬送ロボット12は、最小旋回領域の外縁が開口部202を介して処理装置20内に突出する位置に配置されている。すなわち、基板搬送ロボット12の最小旋回半径Rは、第1アーム部123の回動中心C1から処理装置20の背面壁201までの距離よりも大きい。また、基板搬送ロボット12の最小旋回領域は、図4に示すように、ハンド部125により基板110を支持した状態で、かつ、第1アーム部123、第2アーム部124およびハンド部125が互いに重なるように折り畳まれた基準姿勢において、第1アーム部123を水平面内で回動する場合に旋回に必要な領域である。なお、処理装置20内の載置位置は、本発明の「第2位置」の一例である。   Here, in the first embodiment, the substrate transport robot 12 transports the substrate 110 in the substrate storage apparatus 11 to the mounting position in the processing apparatus 20 through the opening 202 and also the substrate 110 in the processing apparatus 20. Can be transported to a predetermined placement position in the substrate storage device 11. In addition, the substrate transfer robot 12 is disposed at a position where the outer edge of the minimum turning area protrudes into the processing apparatus 20 through the opening 202. That is, the minimum turning radius R of the substrate transport robot 12 is larger than the distance from the rotation center C1 of the first arm portion 123 to the back wall 201 of the processing apparatus 20. Further, as shown in FIG. 4, the minimum turning region of the substrate transport robot 12 is a state in which the substrate 110 is supported by the hand unit 125, and the first arm unit 123, the second arm unit 124, and the hand unit 125 are mutually connected. This is a region necessary for turning when the first arm portion 123 is rotated in a horizontal plane in the reference posture folded so as to overlap. The placement position in the processing device 20 is an example of the “second position” in the present invention.

また、基板搬送ロボット12は、基準姿勢において、第1アーム部123の回動中心C1から第1アーム部123の最遠端までの第1距離と、第1アーム部123の回動中心C1から第2アーム部124の最遠端までの第2距離と、第1アーム部123の回動中心C1からハンド部125に支持された基板110の最遠端までの第3距離とが互いに略同じ大きさになるように構成されている。また、これらの第1〜第3距離は、基板搬送ロボット12の最小旋回半径Rと同じ大きさであり、かつ、第1アーム部123の回動中心C1から背面壁201までの距離よりも大きい。   In addition, the substrate transfer robot 12 has a first posture from the rotation center C1 of the first arm portion 123 to the farthest end of the first arm portion 123 and the rotation center C1 of the first arm portion 123 in the reference posture. The second distance to the farthest end of the second arm portion 124 and the third distance from the rotation center C1 of the first arm portion 123 to the farthest end of the substrate 110 supported by the hand portion 125 are substantially the same. It is comprised so that it may become a size. The first to third distances are the same as the minimum turning radius R of the substrate transport robot 12 and are larger than the distance from the rotation center C1 of the first arm portion 123 to the back wall 201. .

また、基板搬送ロボット12は、図4に示すように、第1アーム部123の回動中心C1が開口部202に面する位置に配置されるように構成されている。詳細には、第1アーム部123の回動中心C1は、平面的に見て、処理装置20内の載置位置に載置される基板110の中心から開口部202の略中心に向かって延びる直線L1上に配置されている。また、第1アーム部123の回動中心C1は、基板収納装置11の前面壁111に面する位置に配置されている。より詳細には、第1アーム部123の回動中心C1は、平面的に見て、基板収納装置11の4つのカセット11a〜11dのY方向における略中央部に面する位置に配置されている。また、第1アーム部123の回動中心C1は、処理装置20の背面壁201よりも基板収納装置11の前面壁111に近い位置に配置されている。また、基板搬送ロボット12および基板収納装置11は、カセット11a〜11dの扉部を開閉するための図示しないオープナ(開閉機構)により設定される所定の規制幅を隔てて配置されている。また、基板収納装置11および処理装置20の間の距離D(図1参照)は、ハンド部125の根元端部からハンド部125により支持する基板110の最遠端までの距離と、オープナの規制幅とを合わせた大きさよりも大きくなっている。   Further, as shown in FIG. 4, the substrate transfer robot 12 is configured such that the rotation center C <b> 1 of the first arm portion 123 is disposed at a position facing the opening 202. Specifically, the rotation center C <b> 1 of the first arm portion 123 extends from the center of the substrate 110 placed at the placement position in the processing apparatus 20 toward the substantial center of the opening 202 when viewed in plan. It arrange | positions on the straight line L1. Further, the rotation center C <b> 1 of the first arm portion 123 is disposed at a position facing the front wall 111 of the substrate storage device 11. More specifically, the rotation center C1 of the first arm portion 123 is disposed at a position facing the substantially central portion in the Y direction of the four cassettes 11a to 11d of the substrate storage device 11 in plan view. . Further, the rotation center C <b> 1 of the first arm portion 123 is disposed at a position closer to the front wall 111 of the substrate storage apparatus 11 than the back wall 201 of the processing apparatus 20. The substrate transfer robot 12 and the substrate storage device 11 are arranged with a predetermined regulation width set by an opener (opening / closing mechanism) (not shown) for opening and closing the doors of the cassettes 11a to 11d. Further, the distance D (see FIG. 1) between the substrate storage device 11 and the processing device 20 is the distance from the base end portion of the hand portion 125 to the farthest end of the substrate 110 supported by the hand portion 125 and the restriction of the opener. It is larger than the combined size.

次に、第1実施形態による基板搬送システム10が基板搬送する際の動作手順について説明する。   Next, an operation procedure when the substrate transfer system 10 according to the first embodiment transfers a substrate will be described.

まず、図5を参照して、基板搬送ロボット12から遠いカセット11aの基板110を処理装置20内の載置位置に搬送する動作について説明する。基板搬送ロボット12は、図5の右下に図示するように、カセット11aの基板110の下方にハンド部125を移動して基板110を支持する。そして、基板搬送ロボット12は、ハンド部125を処理装置20側(X1方向側)に直線移動させることによって基板110をカセット11aから引き出して待機姿勢をとる。その後、基板搬送ロボット12は、ハンド部125だけを回動させることによって基板110の中心110aが仮想線L2上に配置された第1中間姿勢をとる。仮想線L2は、平面的に見て、処理装置20の背面壁201に略平行な方向(Y方向)に延びる直線であり、前面壁111および背面壁201から略同じ距離に配置されている。また、基板搬送ロボット12は、第1中間姿勢においては、処理装置20側に突出されていない。   First, with reference to FIG. 5, an operation for transporting the substrate 110 of the cassette 11 a far from the substrate transport robot 12 to a placement position in the processing apparatus 20 will be described. The substrate transfer robot 12 supports the substrate 110 by moving the hand unit 125 below the substrate 110 of the cassette 11a, as shown in the lower right of FIG. Then, the substrate transfer robot 12 moves the hand unit 125 linearly to the processing apparatus 20 side (X1 direction side) to pull out the substrate 110 from the cassette 11a and take a standby posture. Thereafter, the substrate transport robot 12 takes the first intermediate posture in which the center 110a of the substrate 110 is disposed on the virtual line L2 by rotating only the hand portion 125. The virtual line L2 is a straight line extending in a direction (Y direction) substantially parallel to the back wall 201 of the processing device 20 when viewed in plan, and is disposed at substantially the same distance from the front wall 111 and the back wall 201. Further, the substrate transfer robot 12 is not projected to the processing apparatus 20 side in the first intermediate posture.

基板搬送ロボット12は、第1中間姿勢から、基板110の中心110aが仮想線L2上に沿って移動されるように基板110を搬送することによって、第1アーム部123および第2アーム部124が互いに折り畳まれた第2中間姿勢をとる。この際、基板搬送ロボット12は、第1アーム部123および第2アーム部124を互いに折り畳みながら、第1アーム部123および第2アーム部124の端部を開口部202を介して処理装置20内に突出させる。   The substrate transfer robot 12 transfers the substrate 110 from the first intermediate posture so that the center 110a of the substrate 110 is moved along the virtual line L2, whereby the first arm unit 123 and the second arm unit 124 are moved. The second intermediate posture is folded on each other. At this time, the substrate transfer robot 12 folds the first arm portion 123 and the second arm portion 124 to each other while connecting the end portions of the first arm portion 123 and the second arm portion 124 to the inside of the processing apparatus 20 through the opening 202. To protrude.

その後、基板搬送ロボット12は、第2中間姿勢から、ハンド部125を回動させることによって、第1アーム部123、第2アーム部124およびハンド部125が互いに折り畳まれた基準姿勢をとる。この際、第1アーム部123、第2アーム部124およびハンド部125は、長手方向が背面壁201に直交する方向(X方向)に沿って配置される。また、第1アーム部123および第2アーム部124の端部とハンド部125に支持された基板110の一部とは、開口部202を介して処理装置20内に突出されている。   Thereafter, the substrate transport robot 12 takes the reference posture in which the first arm portion 123, the second arm portion 124, and the hand portion 125 are folded together by rotating the hand portion 125 from the second intermediate posture. At this time, the first arm portion 123, the second arm portion 124, and the hand portion 125 are arranged along a direction (X direction) in which the longitudinal direction is orthogonal to the back wall 201. Further, the end portions of the first arm portion 123 and the second arm portion 124 and a part of the substrate 110 supported by the hand portion 125 protrude into the processing apparatus 20 through the opening 202.

そして、基板搬送ロボット12は、基準姿勢から、第1アーム部123および第2アーム部124を互いに折り畳まれた状態で回動させることによって、第1アーム部123および第2アーム部124を第1アーム部123の回動中心C1からY1方向側に延びるように配置した第3中間姿勢をとる。つまり、第1アーム部123および第2アーム部124は、第1アーム部123の回動中心C1から処理装置20内の載置位置に向かう方向(X方向)に対して直交する方向(Y方向)の一方側(Y1方向側)に配置される。また、第3中間姿勢において、ハンド部125により支持された基板110の一部は、開口部202内に侵入されている。その後、基板搬送ロボット12は、第3中間姿勢から、ハンド部125を処理装置20の載置位置の方向(X1方向)に向かって直線移動させることによって基板110を処理装置20の載置位置に搬送する。   Then, the substrate transfer robot 12 rotates the first arm unit 123 and the second arm unit 124 from the reference posture in a state in which the first arm unit 123 and the second arm unit 124 are folded with each other. A third intermediate posture is adopted in which the arm portion 123 is disposed so as to extend from the rotation center C1 to the Y1 direction side. That is, the first arm part 123 and the second arm part 124 are perpendicular to the direction (X direction) from the rotation center C1 of the first arm part 123 toward the placement position in the processing apparatus 20 (Y direction). ) On one side (Y1 direction side). Further, in the third intermediate posture, a part of the substrate 110 supported by the hand unit 125 has entered the opening 202. Thereafter, the substrate transfer robot 12 linearly moves the hand unit 125 from the third intermediate posture toward the mounting position of the processing apparatus 20 (X1 direction), thereby moving the substrate 110 to the mounting position of the processing apparatus 20. Transport.

上記のような動作により、基板搬送ロボット12を基板収納装置11および処理装置20に接触させることなく、基板110をカセット11aから処理装置20内の載置位置まで搬送することが可能である。また、処理装置20の載置位置からカセット11aに基板110を搬送する場合には、上記動作手順とは逆の手順により、基板搬送ロボット12を基板収納装置11および処理装置20に接触させることなく搬送可能である。また、Y方向において基板収納装置11の中心に対してカセット11aとは反対側に配置されたカセット11dの基板110を処理装置20の載置位置に搬送する場合には、上記カセット11aの場合と同様の動作手順で搬送可能である。なお、第1実施形態では、基板搬送ロボット12は、カセット11aおよび11dのいずれの場合でも、第3中間姿勢において、第1アーム部123および第2アーム部124を第1アーム部123の回動中心C1からY1方向側に延びるように配置する。   By the operation as described above, the substrate 110 can be transferred from the cassette 11a to the placement position in the processing apparatus 20 without bringing the substrate transfer robot 12 into contact with the substrate storage apparatus 11 and the processing apparatus 20. Further, when the substrate 110 is transferred from the mounting position of the processing apparatus 20 to the cassette 11a, the substrate transfer robot 12 is not brought into contact with the substrate storage apparatus 11 and the processing apparatus 20 by a procedure reverse to the above operation procedure. It can be transported. Further, when the substrate 110 of the cassette 11d arranged on the opposite side of the cassette 11a with respect to the center of the substrate storage device 11 in the Y direction is transported to the mounting position of the processing apparatus 20, the case of the cassette 11a It can be conveyed by the same operation procedure. In the first embodiment, the substrate transport robot 12 rotates the first arm unit 123 and the second arm unit 124 in the third intermediate posture in both cases of the cassettes 11a and 11d. It arrange | positions so that it may extend in the Y1 direction side from the center C1.

次に、図6を参照して、基板搬送ロボット12から近いカセット11bの基板110を処理装置20内の載置位置に搬送する動作について説明する。基板搬送ロボット12は、図6の右下に図示するように、カセット11aの基板110の下方にハンド部125を移動して基板110を支持する。そして、基板搬送ロボット12は、ハンド部125を処理装置20側(X1方向側)に直線移動させることによって基板110をカセット11bから引き出して待機姿勢をとる。この状態で、基板搬送ロボット12は、第1アーム部123および第2アーム部124の端部が開口部202を介して処理装置20側に突出している。その後、基板搬送ロボット12は、ハンド部125だけを回動させることによって搬送する基板110の中心110aが仮想線L2上に配置された第1中間姿勢をとる。   Next, with reference to FIG. 6, an operation of transporting the substrate 110 of the cassette 11 b close to the substrate transport robot 12 to the placement position in the processing apparatus 20 will be described. The substrate transfer robot 12 supports the substrate 110 by moving the hand portion 125 below the substrate 110 of the cassette 11a, as shown in the lower right of FIG. Then, the substrate transfer robot 12 moves the hand unit 125 linearly to the processing apparatus 20 side (X1 direction side) to pull out the substrate 110 from the cassette 11b and take a standby posture. In this state, in the substrate transfer robot 12, the end portions of the first arm unit 123 and the second arm unit 124 protrude toward the processing apparatus 20 through the opening 202. Thereafter, the substrate transfer robot 12 takes the first intermediate posture in which the center 110a of the substrate 110 to be transferred is disposed on the virtual line L2 by rotating only the hand unit 125.

基板搬送ロボット12は、第1中間姿勢から、基板110の中心110aが仮想線L2上に沿って移動されるように基板110を搬送することによって、第1アーム部123および第2アーム部124が互いに折り畳まれた第2中間姿勢をとる。この際、基板搬送ロボット12は、第1アーム部123および第2アーム部124を互いに折り畳みながら、第1アーム部123および第2アーム部124の端部を開口部202を介して処理装置20内に突出させる。すなわち、基板搬送ロボット12は、待機姿勢から第1中間姿勢を経て第2中間姿勢に至るまで、第1アーム部123および第2アーム部124の端部を処理装置20内に突出させている。   The substrate transfer robot 12 transfers the substrate 110 from the first intermediate posture so that the center 110a of the substrate 110 is moved along the virtual line L2, whereby the first arm unit 123 and the second arm unit 124 are moved. The second intermediate posture is folded on each other. At this time, the substrate transfer robot 12 folds the first arm portion 123 and the second arm portion 124 to each other while connecting the end portions of the first arm portion 123 and the second arm portion 124 to the inside of the processing apparatus 20 through the opening 202. To protrude. That is, the substrate transfer robot 12 projects the end portions of the first arm unit 123 and the second arm unit 124 into the processing apparatus 20 from the standby posture to the second intermediate posture through the first intermediate posture.

その後、基板搬送ロボット12は、第2中間姿勢から、ハンド部125を回動させることによって、第1アーム部123、第2アーム部124およびハンド部125が互いに折り畳まれた基準姿勢をとる。この際、第1アーム部123、第2アーム部124およびハンド部125は、長手方向が背面壁201に直交する方向(X方向)に沿って配置される。また、第1アーム部123および第2アーム部124の端部とハンド部125に支持された基板110の一部とは、開口部202を介して処理装置20内に突出されている。   Thereafter, the substrate transport robot 12 takes the reference posture in which the first arm portion 123, the second arm portion 124, and the hand portion 125 are folded together by rotating the hand portion 125 from the second intermediate posture. At this time, the first arm portion 123, the second arm portion 124, and the hand portion 125 are arranged along a direction (X direction) in which the longitudinal direction is orthogonal to the back wall 201. Further, the end portions of the first arm portion 123 and the second arm portion 124 and a part of the substrate 110 supported by the hand portion 125 protrude into the processing apparatus 20 through the opening 202.

そして、基板搬送ロボット12は、上記カセット11aの場合と同様に、第1アーム部123および第2アーム部124を第1アーム部123の回動中心C1からY1方向側に延びるように配置した第3中間姿勢をとる。その後、基板搬送ロボット12は、第3中間姿勢から、ハンド部125を処理装置20の載置位置の方向(X1方向)に向かって直線移動させることによって基板110を処理装置20の載置位置に搬送する。   Then, as in the case of the cassette 11a, the substrate transfer robot 12 has the first arm portion 123 and the second arm portion 124 arranged so as to extend from the rotation center C1 of the first arm portion 123 to the Y1 direction side. 3. Take an intermediate posture. Thereafter, the substrate transfer robot 12 linearly moves the hand unit 125 from the third intermediate posture toward the mounting position of the processing apparatus 20 (X1 direction), thereby moving the substrate 110 to the mounting position of the processing apparatus 20. Transport.

上記のような動作により、基板搬送ロボット12を基板収納装置11および処理装置20に接触させることなく、基板110をカセット11bから処理装置20内の載置位置まで搬送することが可能である。また、処理装置20の載置位置からカセット11bに基板110を搬送する場合には、上記動作手順とは逆の手順により、基板搬送ロボット12を基板収納装置11および処理装置20に接触させることなく搬送可能である。また、Y方向において基板収納装置11の中心に対してカセット11bとは反対側に配置されたカセット11cの基板110を処理装置20の載置位置に搬送する場合には、上記カセット11bの場合と同様の動作手順で搬送可能である。なお、第1実施形態では、基板搬送ロボット12は、カセット11bおよび11cのいずれの場合でも、第3中間姿勢において、第1アーム部123および第2アーム部124を第1アーム部123の回動中心C1からY1方向側に延びるように配置する。すなわち、基板搬送ロボット12は、カセット11a〜11dのいずれの場合でも、第3中間姿勢において、第1アーム部123および第2アーム部124を第1アーム部123の回動中心C1から見て同じ方向側(Y1方向側)に配置する。   By the operation as described above, the substrate 110 can be transported from the cassette 11 b to the placement position in the processing apparatus 20 without bringing the substrate transport robot 12 into contact with the substrate storage apparatus 11 and the processing apparatus 20. Further, when the substrate 110 is transferred from the mounting position of the processing apparatus 20 to the cassette 11b, the substrate transfer robot 12 is not brought into contact with the substrate storage apparatus 11 and the processing apparatus 20 by a procedure reverse to the above operation procedure. It can be transported. Further, when the substrate 110 of the cassette 11c disposed on the opposite side of the cassette 11b with respect to the center of the substrate storage device 11 in the Y direction is transported to the placement position of the processing device 20, the case of the cassette 11b is used. It can be conveyed by the same operation procedure. In the first embodiment, the substrate transfer robot 12 rotates the first arm unit 123 and the second arm unit 124 in the third intermediate posture in both cases of the cassettes 11b and 11c. It arrange | positions so that it may extend in the Y1 direction side from the center C1. That is, the substrate transfer robot 12 is the same when the first arm portion 123 and the second arm portion 124 are viewed from the rotation center C1 of the first arm portion 123 in the third intermediate posture in any of the cassettes 11a to 11d. It arranges on the direction side (Y1 direction side).

第1実施形態では、上記のように、処理装置20側に設けられた開口部202を介して基板収納装置11内の載置位置から処理装置20内の載置位置に基板110を搬送するとともに、ハンド部125により基板110を支持した状態の基板搬送ロボット12の最小旋回領域の外縁が開口部202を介して処理装置20内に突出するように基板搬送ロボット12を構成する。これによって、処理装置20内に基板110を搬送するための開口部202を利用して基板搬送ロボット12を旋回させることができるので、基板搬送ロボット12の最小旋回領域に重ならないように処理装置20を配置する場合に比べて、基板搬送ロボット12と処理装置20との間の距離を小さくすることができ、その結果、ロボット設置領域13を小さくして小型化を図ることができる。また、ロボット設置領域13をFFU(ファンフィルタユニット)によりクリーンな状態に保つ必要がある第1実施形態の場合には、本発明によりロボット設置領域13を小さくできることにより、FFUの小型化を図ることができるので、本発明がより有効である。また、複数の装置を備える第1実施形態の基板処理システム100は、大型化し易いので、小型化を図ることが可能な本発明は有効である。   In the first embodiment, as described above, the substrate 110 is transferred from the mounting position in the substrate storage apparatus 11 to the mounting position in the processing apparatus 20 through the opening 202 provided on the processing apparatus 20 side. The substrate transport robot 12 is configured such that the outer edge of the minimum turning region of the substrate transport robot 12 in a state where the substrate 110 is supported by the hand unit 125 protrudes into the processing apparatus 20 through the opening 202. As a result, the substrate transport robot 12 can be swung using the opening 202 for transporting the substrate 110 into the processing apparatus 20, so that the processing apparatus 20 does not overlap the minimum swivel region of the substrate transport robot 12. The distance between the substrate transfer robot 12 and the processing apparatus 20 can be reduced compared to the case where the robot is disposed, and as a result, the robot installation area 13 can be reduced and the size can be reduced. Further, in the case of the first embodiment where the robot installation area 13 needs to be kept clean by an FFU (fan filter unit), the robot installation area 13 can be reduced by the present invention, so that the FFU can be reduced in size. Therefore, the present invention is more effective. Further, since the substrate processing system 100 according to the first embodiment including a plurality of apparatuses is easily increased in size, the present invention capable of reducing the size is effective.

また、第1実施形態では、上記のように、平面的に見て、第1アーム部123の回動中心C1が開口部202に面する位置に位置するとともに、基板搬送ロボット12の最小旋回半径Rが第1アーム部123の回動中心C1から処理装置20までの距離よりも大きくなるように基板搬送ロボット12を構成する。このように構成すれば、基板搬送ロボット12の最小旋回領域の外縁を開口部202を介して容易に処理装置20内に突出させることができるので、容易に、ロボット設置領域13を小さくして小型化を図ることができる。   In the first embodiment, as described above, the rotation center C <b> 1 of the first arm portion 123 is located at a position facing the opening 202 as viewed in a plan view, and the minimum turning radius of the substrate transport robot 12 is set. The substrate transport robot 12 is configured so that R is larger than the distance from the rotation center C1 of the first arm portion 123 to the processing apparatus 20. With this configuration, the outer edge of the minimum turning area of the substrate transfer robot 12 can be easily protruded into the processing apparatus 20 through the opening 202. Therefore, the robot installation area 13 can be easily reduced in size and size. Can be achieved.

また、第1実施形態では、上記のように、平面的に見て、第1アーム部123の回動中心C1が背面壁201よりも前面壁111に近い位置に位置するとともに、基板搬送ロボット12の最小旋回半径Rが第1アーム部123の回動中心C1から背面壁201までの距離よりも大きくなるように基板搬送ロボット12を構成する。このように構成すれば、基板搬送ロボット12と背面壁201との距離を小さくしながら、基板搬送ロボット12と前面壁111との距離も小さくすることができるので、ロボット設置領域13をより小さくすることができ、その結果、より小型化を図ることができる。   In the first embodiment, as described above, the rotation center C1 of the first arm portion 123 is located closer to the front wall 111 than the rear wall 201 in plan view, and the substrate transport robot 12 The substrate transport robot 12 is configured such that the minimum turning radius R of the first arm portion 123 is larger than the distance from the rotation center C1 of the first arm portion 123 to the back wall 201. With this configuration, the distance between the substrate transfer robot 12 and the front wall 111 can be reduced while reducing the distance between the substrate transfer robot 12 and the back wall 201, so that the robot installation area 13 is further reduced. As a result, further downsizing can be achieved.

また、第1実施形態では、上記のように、ハンド部125により基板110を支持した状態で、かつ、平面的に見て、第1アーム部123、第2アーム部124およびハンド部125が互いに重なるように折り畳まれた基準姿勢において、第1アーム部123の一方端部を回動中心C1として第1アーム部123を水平面内で回動する場合に最小旋回領域内で旋回するように基板搬送ロボット12を構成する。このように構成すれば、基板搬送ロボット12に2つのアーム部(第1アーム部123および第2アーム部124)とハンド部125とを設けた場合でも、最小旋回領域が大きくなるのを抑制することができるので、ロボット設置領域13が大きくなるのを抑制することができる。   In the first embodiment, as described above, the first arm portion 123, the second arm portion 124, and the hand portion 125 are mutually connected in a state where the substrate 110 is supported by the hand portion 125 and in plan view. In the reference posture folded so as to overlap, the substrate is transported so as to turn in the minimum turning area when the first arm portion 123 is turned in the horizontal plane with the one end portion of the first arm portion 123 as the turning center C1. The robot 12 is configured. With this configuration, even when the substrate transport robot 12 is provided with two arm portions (the first arm portion 123 and the second arm portion 124) and the hand portion 125, it is possible to suppress an increase in the minimum turning area. Therefore, it is possible to prevent the robot installation area 13 from becoming large.

また、第1実施形態では、上記のように、基準姿勢において、第1アーム部123の回動中心C1から第1アーム部123の最遠端までの第1距離と、第1アーム部123の回動中心C1から第2アーム部124の最遠端までの第2距離と、第1アーム部123の回動中心C1からハンド部125に支持された基板110の最遠端までの第3距離とを互いに略同じ大きさになるように基板搬送ロボット12を構成する。このように構成すれば、基板搬送ロボット12の最小旋回領域が大きくなるのを抑制しながら、第1アーム部123、第2アーム部124およびハンド部125を伸ばした状態の最大長さを大きくすることができるので、ロボット設置領域13が大きくなるのを抑制しながら、より広範囲に基板110を搬送することができる。   In the first embodiment, as described above, in the reference posture, the first distance from the rotation center C1 of the first arm portion 123 to the farthest end of the first arm portion 123 and the first arm portion 123 A second distance from the rotation center C1 to the farthest end of the second arm portion 124 and a third distance from the rotation center C1 of the first arm portion 123 to the farthest end of the substrate 110 supported by the hand portion 125. The substrate transport robot 12 is configured to have substantially the same size. With this configuration, the maximum length in a state where the first arm unit 123, the second arm unit 124, and the hand unit 125 are extended is increased while suppressing an increase in the minimum turning area of the substrate transport robot 12. Therefore, the substrate 110 can be transported in a wider range while suppressing the robot installation area 13 from becoming large.

また、第1実施形態では、上記のように、基板収納装置11の載置位置から処理装置20の載置位置に基板110を搬送する際に、第1アーム部123および第2アーム部124を互いに折り畳みながら、アーム部(第1アーム部123および第2アーム部124)を開口部202を介して処理装置20内に突出させるように基板搬送ロボット12を構成する。このように構成すれば、折り畳む際にアーム部が処理装置側の領域に重なる場合にも、基板搬送ロボット12のアーム部を処理装置20に接触させることなく、容易に第1アーム部123および第2アーム部124を折り畳むことができる。   In the first embodiment, as described above, when the substrate 110 is transported from the placement position of the substrate storage device 11 to the placement position of the processing device 20, the first arm portion 123 and the second arm portion 124 are moved. The substrate transport robot 12 is configured so that the arm portions (the first arm portion 123 and the second arm portion 124) protrude into the processing apparatus 20 through the opening 202 while being folded together. With this configuration, even when the arm unit overlaps the region on the processing apparatus side when folded, the first arm unit 123 and the first arm unit 123 can be easily connected without bringing the arm unit of the substrate transport robot 12 into contact with the processing device 20. The two-arm part 124 can be folded.

また、第1実施形態では、上記のように、平面的に見て、搬送する基板110の中心が処理装置20の背面壁201に略平行な仮想線L2に沿って移動するように第1アーム部123および第2アーム部124を互いに折り畳みながら、アーム部(第1アーム部123および第2アーム部124)を開口部202を介して処理装置20内に突出させるように基板搬送ロボット12を構成する。このように構成すれば、処理装置20から一定距離を隔てた状態で基板110を移動することができるので、基板110を処理装置20に接触させることなく、容易に第1アーム部123および第2アーム部124を折り畳むことができる。   In the first embodiment, as described above, the first arm is arranged such that the center of the substrate 110 to be transferred moves along a virtual line L2 substantially parallel to the back wall 201 of the processing apparatus 20 as viewed in a plan view. The substrate transport robot 12 is configured to project the arm portions (first arm portion 123 and second arm portion 124) into the processing apparatus 20 through the opening 202 while folding the portion 123 and the second arm portion 124. To do. If comprised in this way, since the board | substrate 110 can be moved in the state spaced apart from the processing apparatus 20, the 1st arm part 123 and 2nd can be easily carried out, without making the board | substrate 110 contact the processing apparatus 20. FIG. The arm part 124 can be folded.

また、第1実施形態では、上記のように、ハンド部125を第2アーム部124に対して回動させることにより基板110の中心が仮想線L2上に配置された第1中間姿勢と、第1中間姿勢から基板110の中心が仮想線L2上に沿って移動されるとともに第1アーム部123および第2アーム部124が互いに折り畳まれた第2中間姿勢とを経て、処理装置20の載置位置に基板110を搬送するように基板搬送ロボット12を構成する。このように構成すれば、ハンド部125のみを回動させて基板110の中心を容易に仮想線L2上に配置させることができるとともに、基板110の中心を仮想線L2上に沿って移動させて容易に第1アーム部123および第2アーム部124を折り畳むことができる。   In the first embodiment, as described above, the first intermediate posture in which the center of the substrate 110 is arranged on the virtual line L2 by rotating the hand portion 125 with respect to the second arm portion 124, and the first The center of the substrate 110 is moved along the virtual line L2 from the first intermediate posture, and the first arm portion 123 and the second arm portion 124 are folded to each other, and then the processing apparatus 20 is placed. The substrate transfer robot 12 is configured to transfer the substrate 110 to the position. If comprised in this way, while only the hand part 125 can be rotated, the center of the board | substrate 110 can be easily arrange | positioned on the virtual line L2, and the center of the board | substrate 110 is moved along the virtual line L2. The first arm part 123 and the second arm part 124 can be easily folded.

また、第1実施形態では、上記のように、仮想線L2を、前面壁111および背面壁201から略同じ距離に配置する。このように構成すれば、前面壁111および背面壁201の両方から一定距離を隔てた状態で基板110を移動することができるので、基板110を前面壁111および背面壁201に接触させることなく、容易に第1アーム部123および第2アーム部124を折り畳むことができる。   In the first embodiment, as described above, the imaginary line L2 is disposed at substantially the same distance from the front wall 111 and the back wall 201. If comprised in this way, since the board | substrate 110 can be moved in the state spaced apart from both the front wall 111 and the back wall 201, without making the board | substrate 110 contact the front wall 111 and the back wall 201, it is. The first arm part 123 and the second arm part 124 can be easily folded.

また、第1実施形態では、上記のように、処理装置20の載置位置にいずれのカセット11a〜11dの基板110を搬送する場合でも、基板110の一部が開口部202内に侵入した状態において、第1アーム部123および第2アーム部124を、互いに折り畳まれた状態で、かつ、第1アーム部123の回動中心C1から処理装置20の載置位置に向かう方向(X方向)に対して略直交する方向の一方側(Y1方向側)に延びるように配置した第3中間姿勢をとる。このように構成すれば、いずれの基板110を搬送する場合でも、第1アーム部123および第2アーム部124を同じ方向側に配置することができるので、たとえば、第1アーム部123および第2アーム部124を歯車を用いて回動させる場合に、バックラッシュによる基板搬送精度のばらつきを抑制することができる。   In the first embodiment, as described above, even when the substrate 110 of any of the cassettes 11 a to 11 d is transferred to the placement position of the processing apparatus 20, a part of the substrate 110 has entered the opening 202. 1, the first arm portion 123 and the second arm portion 124 are folded together and in a direction (X direction) from the rotation center C1 of the first arm portion 123 toward the placement position of the processing device 20. On the other hand, the third intermediate posture is arranged so as to extend to one side (Y1 direction side) in a direction substantially orthogonal to the direction. With this configuration, the first arm portion 123 and the second arm portion 124 can be arranged on the same direction side regardless of which substrate 110 is transported. For example, the first arm portion 123 and the second arm portion 123 When the arm portion 124 is rotated using a gear, variation in substrate conveyance accuracy due to backlash can be suppressed.

また、第1実施形態では、上記のように、開口部202を、基板収納装置11のカセット11a〜11dの最も低い位置に載置された基板110にアクセスする際のハンド部125およびアーム部(第1アーム部123および第2アーム部124)の配置位置に対応する高さ位置から基板収納装置11のカセット11a〜11dの最も高い位置に載置された基板110にアクセスする際のハンド部125およびアーム部の配置位置に対応する高さ位置まで開放する。このように構成すれば、基板搬送ロボット12により、カセット11a〜11dのいずれの高さに載置された基板110を搬送する場合でも、開口部202を利用して容易に基板搬送ロボット12を旋回させることができるので、カセット11a〜11d内に基板110を積層して収納する場合でも、基板処理システム100の小型化を図りながら、基板搬送ロボット12を処理装置20に接触させることなく容易に基板110を搬送することができる。   Further, in the first embodiment, as described above, the hand portion 125 and the arm portion (when the opening portion 202 is accessed to the substrate 110 placed at the lowest position of the cassettes 11a to 11d of the substrate storage device 11). The hand portion 125 for accessing the substrate 110 placed at the highest position of the cassettes 11a to 11d of the substrate storage device 11 from the height position corresponding to the arrangement position of the first arm portion 123 and the second arm portion 124). And it opens to the height position corresponding to the arrangement position of the arm part. With this configuration, even when the substrate transfer robot 12 transfers the substrate 110 placed at any height of the cassettes 11a to 11d, the substrate transfer robot 12 can be easily turned using the opening 202. Therefore, even when the substrates 110 are stacked and stored in the cassettes 11a to 11d, the substrate processing robot 100 can be easily reduced without bringing the substrate transport robot 12 into contact with the processing apparatus 20 while reducing the size of the substrate processing system 100. 110 can be transported.

(第2実施形態)
次に、図7を参照して、第2実施形態について説明する。この第2実施形態では、上記第1実施形態とは異なり、上記第1実施形態の開口部202の開口長さH1よりも小さい高さ方向(Z方向)の開口長さH2を有する開口部202aを設ける場合について説明する。なお、第2実施形態では、上記第1実施形態と同じ構成については同じ符号を付してその説明を省略する。
(Second Embodiment)
Next, a second embodiment will be described with reference to FIG. In the second embodiment, unlike the first embodiment, an opening 202a having an opening length H2 in the height direction (Z direction) smaller than the opening length H1 of the opening 202 of the first embodiment. The case of providing the will be described. Note that in the second embodiment, the same components as those in the first embodiment are denoted by the same reference numerals, and description thereof is omitted.

本発明の第2実施形態の基板処理システム200では、処理装置220の開口部202aは、図7に示すように、基板搬送ロボット12の第1アーム部123、第2アーム部124およびハンド部125の高さ方向の移動範囲よりも小さい開口長さH2を有している。具体的には、開口部202aは、基板搬送ロボット12から近いカセット11b、11cの25段の載置位置のうち、最も低い載置位置にアクセスする際の基板搬送ロボット12の配置位置に対応する高さ範囲が開放されている。なお、処理装置220は、本発明の「第2装置」の一例である。   In the substrate processing system 200 according to the second embodiment of the present invention, the opening 202a of the processing apparatus 220 includes the first arm unit 123, the second arm unit 124, and the hand unit 125 of the substrate transfer robot 12, as shown in FIG. The opening length H2 is smaller than the moving range in the height direction. Specifically, the opening 202a corresponds to the placement position of the substrate transport robot 12 when accessing the lowest placement position among the 25 stages of placement positions of the cassettes 11b and 11c close to the substrate transport robot 12. The height range is open. The processing device 220 is an example of the “second device” in the present invention.

また、第2実施形態では、基板搬送ロボット12は、基板収納装置11の4つのカセット11a〜11dのうち、基板搬送ロボット12から遠いカセット11aおよび11dに対して、25段全ての載置位置に基板110を搬出入することが可能に構成されている。一方、基板搬送ロボット12は、基板収納装置11の4つのカセット11a〜11dのうち、基板搬送ロボット12に近いカセット11bおよび11cに対して、25段全ての載置位置のうち最も低い載置位置にのみ基板110を搬出入することが可能である。なお、カセット11bおよび11c内の載置位置は、本発明の「第1位置」の一例であり、カセット11aおよび11d内の載置位置は、本発明の「第3位置」の一例である。   Further, in the second embodiment, the substrate transport robot 12 is placed at all the 25-stage placement positions with respect to the cassettes 11 a and 11 d far from the substrate transport robot 12 among the four cassettes 11 a to 11 d of the substrate storage device 11. The substrate 110 can be carried in and out. On the other hand, the substrate transport robot 12 is the lowest mounting position among all the 25 mounting positions with respect to the cassettes 11b and 11c close to the substrate transport robot 12 among the four cassettes 11a to 11d of the substrate storage device 11. It is possible to carry the substrate 110 in and out only. The placement positions in the cassettes 11b and 11c are an example of the “first position” in the present invention, and the placement positions in the cassettes 11a and 11d are an example of the “third position” in the present invention.

次に、第2実施形態による基板搬送システム10が基板搬送する際の動作手順について説明する。   Next, an operation procedure when the substrate transfer system 10 according to the second embodiment transfers a substrate will be described.

まず、図5を参照して、基板搬送ロボット12から遠いカセット11aの基板110を処理装置220内の載置位置に搬送する動作について説明する。基板搬送ロボット12は、上記第1実施形態と同様に、カセット11aの基板110の下方にハンド部125を移動して基板110を支持する。そして、基板搬送ロボット12は、ハンド部125を処理装置220側(X1方向側)に直線移動させることによって基板110をカセット11aから引き出して待機姿勢をとる。この際、基板搬送ロボット12は、処理装置220側に突出されていない。   First, with reference to FIG. 5, an operation for transporting the substrate 110 of the cassette 11 a far from the substrate transport robot 12 to a placement position in the processing apparatus 220 will be described. As in the first embodiment, the substrate transport robot 12 supports the substrate 110 by moving the hand unit 125 below the substrate 110 of the cassette 11a. Then, the substrate transfer robot 12 moves the hand unit 125 linearly to the processing apparatus 220 side (X1 direction side) to pull out the substrate 110 from the cassette 11a and take a standby posture. At this time, the substrate transfer robot 12 is not projected to the processing apparatus 220 side.

ここで、第2実施形態では、基板搬送ロボット12は、待機姿勢の状態で、支持軸122を上下移動させることによって、第1アーム部123、第2アーム部124およびハンド部125を開口部202aに対応する高さ位置まで移動する。これにより、基板搬送ロボット12は、それ以降の動作において、第1アーム部123、第2アーム部124およびハンド部125を開口部202aを介して処理装置220内に突出させることが可能である。また、待機姿勢以降の動作については、上記第1実施形態と同様であるため、その説明を省略する。   Here, in the second embodiment, the substrate transport robot 12 moves the support shaft 122 up and down in the standby posture, thereby opening the first arm portion 123, the second arm portion 124, and the hand portion 125 in the opening 202a. Move to a height position corresponding to. Thereby, the substrate transfer robot 12 can project the first arm part 123, the second arm part 124, and the hand part 125 into the processing apparatus 220 through the opening 202a in the subsequent operations. Further, since the operation after the standby posture is the same as that in the first embodiment, the description thereof is omitted.

また、第2実施形態の基板搬送ロボット12により、基板搬送ロボット12から近いカセット11bおよび11cの最下段に載置された基板110を処理装置220内の載置位置に搬送する動作についても、上記第1実施形態と同様であるため、その説明を省略する。なお、第2実施形態の基板搬送ロボット12では、基板搬送ロボット12が処理装置220に接触してしまうため、基板搬送ロボット12から近いカセット11bおよび11cの最下段以外の載置位置の基板110を搬送することはできない。   The operation of transporting the substrate 110 placed on the lowest stage of the cassettes 11b and 11c close to the substrate transport robot 12 to the placement position in the processing apparatus 220 by the substrate transport robot 12 of the second embodiment is also described above. Since it is the same as that of 1st Embodiment, the description is abbreviate | omitted. In the substrate transfer robot 12 of the second embodiment, since the substrate transfer robot 12 comes into contact with the processing apparatus 220, the substrate 110 at a placement position other than the lowermost stage of the cassettes 11 b and 11 c close to the substrate transfer robot 12 is used. It cannot be transported.

なお、第2実施形態のその他の構成は、上記第1実施形態と同様である。   In addition, the other structure of 2nd Embodiment is the same as that of the said 1st Embodiment.

第2実施形態では、上記のように、開口部202aを、基板搬送ロボット12に近いカセット11b、11cに載置される基板110の高さ範囲に対応する高さ範囲で開放し、基板搬送ロボット12から遠いカセット11a、11dの載置位置にアクセスする際には、カセット11a、11dから基板110を引き出した後、ハンド部125およびアーム部(第1アーム部123および第2アーム部124)を高さ方向に移動してアーム部を開口部202aを介して処理装置220内に突出させるように基板搬送ロボット12を構成する。このように構成すれば、開口部202aの大きさが過度に大きくなるのを抑制しながら、ロボット設置領域13を小さくして小型化を図ることができる。また、開口部202aの大きさが過度に大きくなるのを抑制することによって、内部の空気がクリーンな状態に保たれるロボット設置領域13に開口部202aを介して異物が侵入するのを抑制することができる。   In the second embodiment, as described above, the opening 202a is opened in a height range corresponding to the height range of the substrate 110 placed on the cassettes 11b and 11c close to the substrate transfer robot 12, and the substrate transfer robot When accessing the mounting position of the cassettes 11a and 11d far from 12, after the substrate 110 is pulled out from the cassettes 11a and 11d, the hand portion 125 and the arm portion (the first arm portion 123 and the second arm portion 124) are moved. The substrate transport robot 12 is configured to move in the height direction so that the arm portion protrudes into the processing apparatus 220 through the opening 202a. If comprised in this way, the robot installation area | region 13 can be reduced and size reduction can be achieved, suppressing the magnitude | size of the opening part 202a becoming large too much. Further, by suppressing the size of the opening 202a from becoming excessively large, it is possible to prevent foreign matter from entering the robot installation area 13 where the internal air is kept clean through the opening 202a. be able to.

なお、第2実施形態のその他の効果は、上記第1実施形態と同様である。   The remaining effects of the second embodiment are similar to those of the aforementioned first embodiment.

(第3実施形態)
次に、図8を参照して、第3実施形態について説明する。この第3実施形態では、基板収納装置11および処理装置20に囲まれた領域がロボット設置領域13である上記第1実施形態とは異なり、2つの処理装置20および320に囲まれた領域がロボット設置領域313である構成について説明する。なお、第3実施形態では、上記第1実施形態と同じ構成については同じ符号を付してその説明を省略する。
(Third embodiment)
Next, a third embodiment will be described with reference to FIG. In the third embodiment, unlike the first embodiment in which the region surrounded by the substrate storage device 11 and the processing device 20 is the robot installation region 13, the region surrounded by the two processing devices 20 and 320 is a robot. A configuration that is the installation area 313 will be described. Note that in the third embodiment, the same components as those in the first embodiment are denoted by the same reference numerals, and description thereof is omitted.

本発明の第3実施形態の基板処理システム300では、図8に示すように、2つの処理装置20および320が互いにX方向に対向するように配置されている。また、処理装置320は、上記第1実施形態の処理装置20と同様の構成を有し、2つの処理装置20および320の間の中心線に対して対称に配置されている。具体的には、処理装置320は、処理装置20の背面壁201および開口部202のそれぞれに対応する前面壁301および開口部302を有している。なお、処理装置320は、本発明の「第1装置」の一例であり、前面壁301は、本発明の「第1壁部」の一例である。   In the substrate processing system 300 according to the third embodiment of the present invention, as shown in FIG. 8, the two processing apparatuses 20 and 320 are arranged so as to face each other in the X direction. The processing device 320 has the same configuration as the processing device 20 of the first embodiment, and is disposed symmetrically with respect to the center line between the two processing devices 20 and 320. Specifically, the processing device 320 has a front wall 301 and an opening 302 corresponding to the back wall 201 and the opening 202 of the processing device 20, respectively. The processing device 320 is an example of the “first device” in the present invention, and the front wall 301 is an example of the “first wall” in the present invention.

また、第3実施形態におけるロボット設置領域313は、処理装置20の背面壁201および処理装置320の前面壁301に囲まれた領域である。また、ロボット設置領域313には、基板搬送ロボット12が設置されている。また、基板搬送ロボット12は、2つの処理装置20および320の間で基板110を搬送することが可能に構成されている。また、基板搬送ロボット12は、最小旋回領域の外縁が処理装置20の開口部202を介して処理装置20内に突出する位置に配置されている。また、基板搬送ロボット12は、最小旋回領域の外縁が処理装置320の開口部302を介して処理装置320内に突出する位置に配置されている。すなわち、基板搬送ロボット12の最小旋回半径Rは、第1アーム部123の回動中心C1から処理装置20の背面壁201までの距離よりも大きく、かつ、第1アーム部123の回動中心C1から処理装置320の前面壁301までの距離よりも大きい。また、基板搬送ロボット12は、第1アーム部123、第2アーム部124およびハンド部125が互いに重なるように折り畳まれた基準姿勢において、360度旋回可能に構成されている。   The robot installation area 313 in the third embodiment is an area surrounded by the back wall 201 of the processing apparatus 20 and the front wall 301 of the processing apparatus 320. In addition, the substrate transfer robot 12 is installed in the robot installation area 313. The substrate transfer robot 12 is configured to transfer the substrate 110 between the two processing apparatuses 20 and 320. In addition, the substrate transfer robot 12 is disposed at a position where the outer edge of the minimum turning region protrudes into the processing apparatus 20 through the opening 202 of the processing apparatus 20. In addition, the substrate transfer robot 12 is disposed at a position where the outer edge of the minimum turning region protrudes into the processing apparatus 320 through the opening 302 of the processing apparatus 320. That is, the minimum turning radius R of the substrate transfer robot 12 is larger than the distance from the rotation center C1 of the first arm portion 123 to the back wall 201 of the processing apparatus 20, and the rotation center C1 of the first arm portion 123. To the front wall 301 of the processing device 320. The substrate transport robot 12 is configured to be able to turn 360 degrees in a reference posture in which the first arm unit 123, the second arm unit 124, and the hand unit 125 are folded so as to overlap each other.

また、基板搬送ロボット12は、第1アーム部123の回動中心C1が開口部202および302の両方に面する位置に配置されるように構成されている。詳細には、第1アーム部123の回動中心C1は、平面的に見て、処理装置20内の載置位置に載置される基板110の中心から開口部202の略中心に向かって延びる直線L1上に配置されている。また、第3実施形態では、2つの処理装置20および320と基板搬送ロボット12とは、直線L1が処理装置320内の載置位置の基板110の中心と処理装置320の開口部302の略中心とを通るように配置されている。また、第1アーム部123の回動中心C1は、2つの処理装置20および320から略同じ距離を隔てて配置されている。なお、処理装置320内の載置位置は、本発明の「第1位置」の一例である。   Further, the substrate transport robot 12 is configured so that the rotation center C1 of the first arm portion 123 is disposed at a position facing both the openings 202 and 302. Specifically, the rotation center C <b> 1 of the first arm portion 123 extends from the center of the substrate 110 placed at the placement position in the processing apparatus 20 toward the substantial center of the opening 202 when viewed in plan. It arrange | positions on the straight line L1. In the third embodiment, the two processing apparatuses 20 and 320 and the substrate transport robot 12 are such that the straight line L1 is substantially the center of the substrate 110 at the mounting position in the processing apparatus 320 and the opening 302 of the processing apparatus 320. It is arranged to pass through. Further, the rotation center C <b> 1 of the first arm portion 123 is disposed at substantially the same distance from the two processing devices 20 and 320. The placement position in the processing device 320 is an example of the “first position” in the present invention.

なお、第3実施形態のその他の構成は、上記第1実施形態と同様である。   The remaining configuration of the third embodiment is similar to that of the aforementioned first embodiment.

第3実施形態では、上記のように、互いに対向して配置された2つの処理装置20および320に囲まれたロボット設置領域313に基板搬送ロボット12を設置する構成において、基板搬送ロボット12の最小旋回領域の外縁が開口部202および302のそれぞれを介して処理装置20および320内に突出するように構成する。これによって、基板搬送ロボット12と一方の処理装置20との間の距離とともに、基板搬送ロボット12と他方の処理装置320との間の距離も小さくすることができるので、2つの処理装置20および320に囲まれたロボット設置領域313に基板搬送ロボット12を設置する場合でも、ロボット設置領域313を小さくして基板処理システム300の小型化を図ることができる。   In the third embodiment, as described above, in the configuration in which the substrate transfer robot 12 is installed in the robot installation region 313 surrounded by the two processing apparatuses 20 and 320 arranged to face each other, the minimum of the substrate transfer robot 12 is set. The outer edge of the swivel region is configured to protrude into the processing apparatuses 20 and 320 through the openings 202 and 302, respectively. Accordingly, the distance between the substrate transfer robot 12 and the other processing apparatus 320 can be reduced as well as the distance between the substrate transfer robot 12 and the one processing apparatus 20, so that the two processing apparatuses 20 and 320 can be reduced. Even when the substrate transfer robot 12 is installed in the robot installation area 313 surrounded by the robot processing area 300, the robot installation area 313 can be reduced to reduce the size of the substrate processing system 300.

なお、第3実施形態のその他の効果は、上記第1実施形態と同様である。   The remaining effects of the third embodiment are similar to those of the aforementioned first embodiment.

(第4実施形態)
次に、図9を参照して、第4実施形態について説明する。この第4実施形態では、上記第1実施形態とは異なり、第1アーム部123の回動中心C1から互いに略直交する方向に2つの載置位置を有する処理装置420を設ける構成について説明する。なお、第4実施形態では、上記第1実施形態と同じ構成については同じ符号を付してその説明を省略する。
(Fourth embodiment)
Next, a fourth embodiment will be described with reference to FIG. In the fourth embodiment, unlike the first embodiment, a configuration in which a processing apparatus 420 having two placement positions in directions substantially orthogonal to each other from the rotation center C1 of the first arm portion 123 will be described. Note that in the fourth embodiment, identical symbols are assigned to configurations identical to those in the first embodiment and descriptions thereof are omitted.

本発明の第4実施形態の基板処理システム400では、図9に示すように、処理装置420は、略L字形状の壁部401を有している。壁部401は、基板収納装置11の前面壁111に対して略平行に配置された背面壁401aと、前面壁111に対して略垂直に配置された側面壁401bとにより構成されている。また、背面壁401aには、略矩形形状の開口部402が形成されている。また、側面壁401bには、略矩形形状の開口部403が形成されている。なお、処理装置420は、本発明の「第2装置」の一例であり、背面壁401aは、本発明の「第2壁部」の一例である。   In the substrate processing system 400 according to the fourth embodiment of the present invention, as shown in FIG. 9, the processing apparatus 420 has a substantially L-shaped wall 401. The wall portion 401 includes a back wall 401 a disposed substantially parallel to the front wall 111 of the substrate storage apparatus 11 and a side wall 401 b disposed substantially perpendicular to the front wall 111. A substantially rectangular opening 402 is formed in the back wall 401a. In addition, a substantially rectangular opening 403 is formed in the side wall 401b. The processing device 420 is an example of the “second device” in the present invention, and the back wall 401a is an example of the “second wall” in the present invention.

また、第4実施形態におけるロボット設置領域413は、基板収納装置11の前面壁111および処理装置420の略L字形状の壁部401に囲まれた領域である。また、ロボット設置領域413には、基板搬送ロボット12が設置されている。また、基板搬送ロボット12は、基板収納装置11および処理装置420の2つの載置位置の間で基板110を搬送することが可能に構成されている。また、基板搬送ロボット12は、最小旋回領域の外縁が背面壁401aの開口部402および側面壁401bの開口部403を介して処理装置420内に突出する位置に配置されている。すなわち、基板搬送ロボット12の最小旋回半径Rは、第1アーム部123の回動中心C1から背面壁401aまでの距離よりも大きく、かつ、第1アーム部123の回動中心C1から側面壁401bまでの距離よりも大きい。なお、処理装置420の2つの載置位置は、本発明の「第2位置」の一例である。   The robot installation area 413 in the fourth embodiment is an area surrounded by the front wall 111 of the substrate storage apparatus 11 and the substantially L-shaped wall 401 of the processing apparatus 420. The substrate transfer robot 12 is installed in the robot installation area 413. The substrate transport robot 12 is configured to be able to transport the substrate 110 between two placement positions of the substrate storage device 11 and the processing device 420. In addition, the substrate transport robot 12 is disposed at a position where the outer edge of the minimum turning region protrudes into the processing apparatus 420 through the opening 402 of the back wall 401a and the opening 403 of the side wall 401b. That is, the minimum turning radius R of the substrate transfer robot 12 is larger than the distance from the rotation center C1 of the first arm portion 123 to the back wall 401a, and the side wall 401b from the rotation center C1 of the first arm portion 123. Greater than distance to. The two placement positions of the processing device 420 are an example of the “second position” in the present invention.

また、基板搬送ロボット12は、第1アーム部123の回動中心C1が開口部402および403の両方に面する位置に配置されるように構成されている。詳細には、第1アーム部123の回動中心C1は、平面的に見て、処理装置420内の一方の載置位置に載置される基板110の中心から背面壁401aの開口部402の略中心に向かって延びる直線L3上に配置されている。また、第1アーム部123の回動中心C1は、平面的に見て、処理装置420内の他方の載置位置に載置される基板110の中心から側面壁401bの開口部403の略中心に向かって延びる直線L4上に配置されている。また、直線L3および直線L4は互いに略直交する。また、基板搬送ロボット12は、第1アーム部123の回動中心C1から基板収納装置11の前面壁111までの距離が最小旋回半径Rよりも大きくなるように配置されている。また、基板搬送ロボット12は、第1アーム部123、第2アーム部124およびハンド部125が互いに重なるように折り畳まれた基準姿勢において、360度旋回可能に構成されている。   Further, the substrate transport robot 12 is configured so that the rotation center C1 of the first arm portion 123 is disposed at a position facing both the openings 402 and 403. Specifically, the rotation center C1 of the first arm portion 123 is, as viewed in a plan view, from the center of the substrate 110 placed at one placement position in the processing apparatus 420 to the opening 402 of the back wall 401a. It is arranged on a straight line L3 extending substantially toward the center. Further, the rotation center C1 of the first arm portion 123 is substantially the center of the opening 403 of the side wall 401b from the center of the substrate 110 placed at the other placement position in the processing apparatus 420 in plan view. It is arrange | positioned on the straight line L4 extended toward. Further, the straight line L3 and the straight line L4 are substantially orthogonal to each other. The substrate transport robot 12 is arranged such that the distance from the rotation center C1 of the first arm portion 123 to the front wall 111 of the substrate storage device 11 is larger than the minimum turning radius R. The substrate transport robot 12 is configured to be able to turn 360 degrees in a reference posture in which the first arm unit 123, the second arm unit 124, and the hand unit 125 are folded so as to overlap each other.

なお、第4実施形態のその他の構成は、上記第1実施形態と同様である。   In addition, the other structure of 4th Embodiment is the same as that of the said 1st Embodiment.

第4実施形態では、上記のように、第1アーム部123の回動中心C1から互いに略直交する方向に2つの載置位置を有する処理装置420を設ける構成において、基板搬送ロボット12の最小旋回領域の外縁が背面壁401aの開口部402および側面壁401bの開口部403を介して処理装置420内に突出するように構成する。これによって、基板搬送ロボット12と背面壁401aとの間の距離、および、基板搬送ロボット12と側面壁401bとの間の距離の両方を小さくすることができるので、基板収納装置11の前面壁111と背面壁401aと背面壁401aに略直交する側面壁401bとに囲まれたロボット設置領域413を略直交する2方向(X方向およびY方向)において小さくすることができる。   In the fourth embodiment, as described above, in the configuration in which the processing apparatus 420 having two placement positions in the direction substantially orthogonal to each other from the rotation center C1 of the first arm portion 123 is provided, the minimum rotation of the substrate transfer robot 12 is performed. The outer edge of the region is configured to protrude into the processing apparatus 420 through the opening 402 of the back wall 401a and the opening 403 of the side wall 401b. As a result, both the distance between the substrate transfer robot 12 and the back wall 401a and the distance between the substrate transfer robot 12 and the side wall 401b can be reduced, so that the front wall 111 of the substrate storage apparatus 11 can be reduced. The robot installation region 413 surrounded by the back wall 401a and the side wall 401b substantially orthogonal to the back wall 401a can be reduced in two directions (X direction and Y direction) substantially orthogonal.

なお、第4実施形態のその他の効果は、上記第1実施形態と同様である。   The remaining effects of the fourth embodiment are similar to those of the aforementioned first embodiment.

なお、今回開示された実施形態は、すべての点で例示であって制限的なものではないと考えられるべきである。本発明の範囲は、上記した実施形態の説明ではなく特許請求の範囲によって示され、さらに特許請求の範囲と均等の意味および範囲内でのすべての変更が含まれる。   The embodiment disclosed this time should be considered as illustrative in all points and not restrictive. The scope of the present invention is shown not by the above description of the embodiments but by the scope of claims for patent, and further includes all modifications within the meaning and scope equivalent to the scope of claims for patent.

たとえば、上記第1〜第4実施形態では、本発明の基板搬送ロボットの一例として、2つのアーム部(第1アーム部および第2アーム部)を備えた基板搬送ロボットを示したが、本発明はこれに限られない。本発明では、アーム部を1つのみ備えた基板搬送ロボットであってもよいし、3つ以上のアーム部を備えた基板搬送ロボットであってもよい。   For example, in the first to fourth embodiments, the substrate transfer robot including the two arm portions (the first arm portion and the second arm portion) is shown as an example of the substrate transfer robot of the present invention. Is not limited to this. In the present invention, a substrate transfer robot having only one arm unit may be used, or a substrate transfer robot having three or more arm units may be used.

また、上記第1〜第4実施形態では、本発明の基板搬送ロボットの一例として、1つのハンド部を備えた基板搬送ロボットを示したが、本発明はこれに限られない。本発明では、図10に示すように、2つのハンド部を備えた基板搬送ロボット512であってもよいし、3つ以上のハンド部を備えた基板搬送ロボットであってもよい。   Moreover, in the said 1st-4th embodiment, although the board | substrate conveyance robot provided with one hand part was shown as an example of the board | substrate conveyance robot of this invention, this invention is not limited to this. In the present invention, as shown in FIG. 10, it may be a substrate transfer robot 512 provided with two hand units, or a substrate transfer robot provided with three or more hand units.

また、上記第1実施形態では、本発明の仮想線を第1壁部および第2壁部から略同じ距離に配置する例を示したが、本発明はこれに限られない。本発明では、基板搬送ロボットを第1中間姿勢から第2中間姿勢に移行させる際に基板搬送ロボットが第1壁部および第2壁部に干渉しなければ、仮想線を第1壁部および第2壁部のいずれか一方に近い位置に配置してもよい。   Moreover, in the said 1st Embodiment, although the example which arrange | positions the virtual line of this invention at the substantially the same distance from a 1st wall part and a 2nd wall part was shown, this invention is not limited to this. In the present invention, when the substrate transfer robot does not interfere with the first wall portion and the second wall portion when the substrate transfer robot is shifted from the first intermediate posture to the second intermediate posture, the virtual line is displayed on the first wall portion and the second wall portion. You may arrange | position in the position near either one of 2 wall parts.

また、上記第1〜第4実施形態では、ロボット設置領域を互いに略平行に配置された前面壁(第1壁部)および背面壁(第2壁部)に囲まれた領域とする例を示したが、本発明はこれに限られない。本発明では、互いに交差するように配置された第1壁部および第2壁部に囲まれた領域をロボット設置領域としてもよい。   Moreover, in the said 1st-4th embodiment, the robot installation area | region is shown as the area | region enclosed by the front wall (1st wall part) and back wall (2nd wall part) arrange | positioned substantially parallel mutually. However, the present invention is not limited to this. In the present invention, an area surrounded by the first wall part and the second wall part arranged so as to cross each other may be set as the robot installation area.

また、上記第1〜第4実施形態では、本発明の第2装置の一例として、半導体デバイスの製造プロセスにおける処理装置を示したが、本発明はこれに限られない。本発明では、たとえば、次工程に基板を受け渡すための基板仮り置き装置など、半導体デバイスの製造プロセスにおける処理装置以外の第2装置であってもよい。   Moreover, in the said 1st-4th embodiment, although the processing apparatus in the manufacturing process of a semiconductor device was shown as an example of the 2nd apparatus of this invention, this invention is not limited to this. In the present invention, for example, a second apparatus other than the processing apparatus in the semiconductor device manufacturing process, such as a temporary substrate placement apparatus for delivering a substrate to the next process, may be used.

また、上記第1〜第4実施形態では、第1アーム部の回動中心を処理装置(第2装置)の載置位置に載置される基板の中心から開口部の略中心に向かって延びる直線上に配置する例を示したが、本発明はこれに限られない。本発明では、第1アーム部の回動中心は、開口部に面する位置に配置されていれば、第2装置に載置される基板の中心から開口部の略中心に向かって延びる直線上からずれた位置に配置されていてもよい。   In the first to fourth embodiments, the rotation center of the first arm portion extends from the center of the substrate placed at the placement position of the processing apparatus (second device) toward the approximate center of the opening. Although the example arrange | positioned on a straight line was shown, this invention is not limited to this. In the present invention, the rotation center of the first arm portion is a straight line extending from the center of the substrate placed on the second device toward the approximate center of the opening if it is disposed at a position facing the opening. You may arrange | position in the position shifted | deviated from.

また、上記第1〜第4実施形態では、第1アーム部の回動中心から、第1アーム部の最遠端までの第1距離、第2アーム部の最遠端までの第2距離、および、ハンド部に支持された基板の最遠端までの第3距離が互いに略同じ大きさであり、これらの第1〜第3距離が第1アーム部の回動中心から背面壁(第2壁部)までの距離よりも大きい例を示したが、本発明はこれに限られない。本発明では、第1〜第3距離の少なくともいずれか1つの距離が第1アーム部の回動中心から第2壁部までの距離よりも大きければよい。   In the first to fourth embodiments, the first distance from the rotation center of the first arm portion to the farthest end of the first arm portion, the second distance to the farthest end of the second arm portion, The third distances to the farthest end of the substrate supported by the hand part are substantially the same as each other, and these first to third distances are from the rotation center of the first arm part to the back wall (second Although the example larger than the distance to a wall part was shown, this invention is not limited to this. In the present invention, it is sufficient that at least one of the first to third distances is larger than the distance from the rotation center of the first arm portion to the second wall portion.

また、上記第1〜第4実施形態では、本発明の開口部を第2装置としての処理装置の背面壁(第2壁部)に設ける例を示したが、本発明はこれに限られない。本発明では、たとえば、第1壁部と開口部を有する第2壁部との両方を第1装置に設けてもよいし、第1装置および第2装置とは別個に第2壁部を設けて、この第2壁部に開口部を設けてもよい。   Moreover, although the said 1st-4th embodiment showed the example which provides the opening part of this invention in the back wall (2nd wall part) of the processing apparatus as a 2nd apparatus, this invention is not limited to this. . In the present invention, for example, both the first wall portion and the second wall portion having the opening may be provided in the first device, or the second wall portion is provided separately from the first device and the second device. Thus, an opening may be provided in the second wall portion.

また、上記第1および第2実施形態では、いずれのカセットから基板を搬送する場合でも、第3中間姿勢において、第1アーム部および第2アーム部を、第1アーム部の回動中心から一方側(Y1方向側)に配置する例を示したが、本発明はこれに限られない。本発明では、基板の搬送時間をより短縮するために、第3中間姿勢において、第1アーム部および第2アーム部の配置の方向をカセットの位置毎に適宜変更してもよい。   In the first and second embodiments, the first arm portion and the second arm portion are moved from the center of rotation of the first arm portion to the first intermediate portion in the third intermediate position, regardless of the substrate transported from any cassette. Although the example arrange | positioned to the side (Y1 direction side) was shown, this invention is not limited to this. In the present invention, in order to further shorten the substrate transport time, in the third intermediate posture, the arrangement direction of the first arm portion and the second arm portion may be appropriately changed for each position of the cassette.

また、上記第2実施形態では、基板搬送ロボットから近いカセット11b、11cには最も低い位置にのみ基板を収納し、開口部の開口長さH2を、基板搬送ロボットから近いカセット11b、11cの最も低い載置位置にアクセスする際の基板搬送ロボットの配置位置に対応する高さにする例を示したが、本発明はこれに限られない。本発明では、開口部が、基板搬送ロボットから近いカセット11b、11cに収納された基板にアクセスする際の基板搬送ロボットの配置位置に対応する高さを有していれば、基板搬送ロボットから近いカセット11b、11cに複数の基板を積層して収納してもよい。   In the second embodiment, the cassettes 11b and 11c close to the substrate transfer robot store the substrate only at the lowest position, and the opening length H2 of the opening is set to the longest of the cassettes 11b and 11c close to the substrate transfer robot. Although an example in which the height corresponding to the placement position of the substrate transfer robot when accessing a low placement position has been shown, the present invention is not limited to this. In the present invention, if the opening has a height corresponding to the arrangement position of the substrate transfer robot when accessing the substrates stored in the cassettes 11b and 11c close to the substrate transfer robot, the opening is close to the substrate transfer robot. A plurality of substrates may be stacked and stored in the cassettes 11b and 11c.

10 基板搬送システム
11 基板収納装置(第1装置)
12 基板搬送ロボット
13、313、413 ロボット設置領域
20、220、420 処理装置(第2装置)
100、200、300、400 基板処理システム
110 基板
111、301 前面壁(第1壁部)
123 第1アーム部(アーム部)
124 第2アーム部(アーム部)
125 ハンド部
201、401a 背面壁(第2壁部)
202、202a、402、403 開口部
320 処理装置(第1装置)
C1 回動中心
L2 仮想線
10 substrate transport system 11 substrate storage device (first device)
12 Substrate transfer robot 13, 313, 413 Robot installation area 20, 220, 420 Processing device (second device)
100, 200, 300, 400 Substrate processing system 110 Substrate 111, 301 Front wall (first wall)
123 First arm part (arm part)
124 Second arm part (arm part)
125 Hand part 201, 401a Rear wall (second wall part)
202, 202a, 402, 403 Opening 320 Processing device (first device)
C1 Center of rotation L2 Virtual line

Claims (14)

第1装置および第2装置に囲まれたロボット設置領域に設置され、基板を支持するハンド部と、前記ハンド部を移動させるためのアーム部とを含む基板搬送ロボットを備え、
前記基板搬送ロボットは、前記アーム部および前記ハンド部を水平面内で回動させることによって、前記第2装置側に設けられた開口部を介して前記第1装置内の第1位置から前記第2装置内の第2位置に基板を搬送するとともに、前記ハンド部により基板を支持した状態の前記基板搬送ロボットの最小旋回領域の外縁が前記開口部を介して前記第2装置内に突出するように構成されている、基板搬送システム。
A substrate transfer robot that is installed in a robot installation area surrounded by the first device and the second device and includes a hand unit that supports the substrate and an arm unit for moving the hand unit;
The substrate transfer robot rotates the arm part and the hand part in a horizontal plane, thereby opening the second part from a first position in the first apparatus through an opening provided on the second apparatus side. A substrate is transported to a second position in the apparatus, and an outer edge of a minimum turning area of the substrate transport robot in a state where the substrate is supported by the hand unit protrudes into the second apparatus through the opening. A substrate transfer system configured.
前記アーム部は、一方端部を回動中心として水平面内で回動可能に構成された第1アーム部を含み、
前記基板搬送ロボットは、平面的に見て、前記第1アーム部の回動中心が前記開口部に面する位置に位置するとともに、前記基板搬送ロボットの最小旋回半径が前記第1アーム部の回動中心から前記第2装置までの距離よりも大きくなるように構成されている、請求項1に記載の基板搬送システム。
The arm portion includes a first arm portion configured to be rotatable in a horizontal plane with the one end portion as a rotation center,
The substrate transfer robot is located in a position where the center of rotation of the first arm portion faces the opening when viewed in plan, and the minimum turning radius of the substrate transfer robot is the rotation of the first arm portion. The substrate transfer system according to claim 1, wherein the substrate transfer system is configured to be larger than a distance from a moving center to the second device.
前記ロボット設置領域は、前記第1装置側に設けられた第1壁部と前記第1壁部に対して略平行に配置された前記第2装置側に設けられた第2壁部とに囲まれた領域であり、
前記基板搬送ロボットは、平面的に見て、前記第1アーム部の回動中心が前記第2壁部よりも前記第1壁部に近い位置に位置するとともに、前記基板搬送ロボットの最小旋回半径が前記第1アーム部の回動中心から前記第2壁部までの距離よりも大きくなるように構成されている、請求項2に記載の基板搬送システム。
The robot installation area is surrounded by a first wall provided on the first device side and a second wall provided on the second device side arranged substantially parallel to the first wall portion. Area,
The substrate transfer robot has a rotation center of the first arm portion located closer to the first wall portion than the second wall portion in a plan view, and a minimum turning radius of the substrate transfer robot. The substrate transfer system according to claim 2, wherein the distance is larger than a distance from a rotation center of the first arm portion to the second wall portion.
前記アーム部は、一方端部が前記第1アーム部の他方端部に接続され、前記第1アーム部に対して水平面内で回動可能に構成された第2アーム部をさらに含み、
前記ハンド部は、前記第2アーム部の他方端部に接続され、前記第2アーム部に対して水平面内で回動可能に構成され、
前記基板搬送ロボットは、前記ハンド部により基板を支持した状態で、かつ、平面的に見て、前記第1アーム部、前記第2アーム部および前記ハンド部が互いに重なるように折り畳まれた基準姿勢において、前記第1アーム部の一方端部を回動中心として前記第1アーム部を水平面内で回動する場合に前記最小旋回領域内で旋回するとともに、前記基準姿勢において、平面的に見て、前記第1アーム部の回動中心から、前記第1アーム部の最遠端までの第1距離、前記第2アーム部の最遠端までの第2距離、および、前記ハンド部により支持された基板の最遠端までの第3距離の少なくともいずれかの距離が前記第1アーム部の回動中心から前記第2装置までの距離よりも大きくなるように構成されている、請求項2または3に記載の基板搬送システム。
The arm part further includes a second arm part having one end connected to the other end of the first arm part and configured to be rotatable in a horizontal plane with respect to the first arm part,
The hand part is connected to the other end of the second arm part, and is configured to be rotatable in a horizontal plane with respect to the second arm part,
The substrate transport robot is in a state in which the substrate is supported by the hand unit and is folded so that the first arm unit, the second arm unit, and the hand unit overlap each other in plan view. When the first arm portion is rotated in the horizontal plane with the one end portion of the first arm portion as a rotation center, the first arm portion is swung in the minimum swivel region and is viewed in plan in the reference posture. A first distance from the center of rotation of the first arm portion to the farthest end of the first arm portion, a second distance to the farthest end of the second arm portion, and the hand portion. The at least one third distance to the farthest end of the substrate is configured to be larger than the distance from the rotation center of the first arm portion to the second device. Substrate carrying of 3 System.
前記基板搬送ロボットは、前記第1距離、前記第2距離および前記第3距離が互いに略同じ大きさであるとともに、前記第1距離、前記第2距離および前記第3距離が前記第1アーム部の回動中心から前記第2装置までの距離よりも大きくなるように構成されている、請求項4に記載の基板搬送システム。   In the substrate transfer robot, the first distance, the second distance, and the third distance are substantially equal to each other, and the first distance, the second distance, and the third distance are the first arm unit. The substrate transfer system according to claim 4, wherein the substrate transfer system is configured to be larger than a distance from the rotation center to the second device. 前記基板搬送ロボットは、前記第1装置の第1位置から前記第2装置の第2位置に基板を搬送する際に、前記第1アーム部および前記第2アーム部を互いに折り畳みながら、前記アーム部を前記開口部を介して前記第2装置内に突出させるように構成されている、請求項4または5に記載の基板搬送システム。   The substrate transport robot folds the first arm portion and the second arm portion while mutually folding the arm portion when transporting a substrate from the first position of the first device to the second position of the second device. The substrate transfer system according to claim 4, wherein the substrate transfer system is configured to project into the second apparatus through the opening. 前記基板搬送ロボットは、平面的に見て、搬送する基板の中心が前記第2装置に略平行な仮想線に沿って移動するように前記第1アーム部および前記第2アーム部を互いに折り畳みながら、前記アーム部を前記開口部を介して前記第2装置内に突出させるように構成されている、請求項6に記載の基板搬送システム。   The substrate transfer robot folds the first arm portion and the second arm portion so that the center of the substrate to be transferred moves along a virtual line substantially parallel to the second device as viewed in a plan view. The substrate transfer system according to claim 6, wherein the arm unit is configured to project into the second apparatus through the opening. 前記基板搬送ロボットは、前記第1装置の第1位置から、前記ハンド部を前記第2アーム部に対して回動させることにより基板の中心が前記仮想線上に配置された第1中間姿勢と、前記第1中間姿勢から基板の中心が前記仮想線上に沿って移動されるとともに前記第1アーム部および前記第2アーム部が互いに折り畳まれた第2中間姿勢とを経て、前記第2装置の第2位置に基板を搬送するように構成されている、請求項7に記載の基板搬送システム。   The substrate transfer robot has a first intermediate posture in which the center of the substrate is disposed on the imaginary line by rotating the hand unit with respect to the second arm unit from the first position of the first device; The center of the substrate is moved along the imaginary line from the first intermediate posture, and the second arm posture of the second device is passed through the second intermediate posture in which the first arm portion and the second arm portion are folded together. The board | substrate conveyance system of Claim 7 comprised so that a board | substrate may be conveyed to two positions. 前記ロボット設置領域は、前記第1装置側に設けられた第1壁部と前記第1壁部に対して略平行に配置された前記第2装置側に設けられた第2壁部とに囲まれた領域であり、
前記仮想線は、前記第1壁部および前記第2壁部から略同じ距離に位置する、請求項7または8に記載の基板搬送システム。
The robot installation area is surrounded by a first wall provided on the first device side and a second wall provided on the second device side arranged substantially parallel to the first wall portion. Area,
9. The substrate transfer system according to claim 7, wherein the virtual lines are located at substantially the same distance from the first wall portion and the second wall portion.
前記第1装置は、平面的に見て異なる位置に複数の基板を載置可能であり、
前記基板搬送ロボットは、前記第2装置の第2位置に前記第1装置のいずれの基板を搬送する場合でも、基板の一部が前記開口部内に侵入した状態において、前記第1アーム部および前記第2アーム部が、互いに折り畳まれた状態で、かつ、前記第1アーム部の回動中心から前記第2装置の第2位置に向かう方向に対して略直交する方向の一方側に延びるように配置されている、請求項4〜9のいずれか1項に記載の基板搬送システム。
The first device can place a plurality of substrates at different positions in plan view,
When the substrate transfer robot transfers any substrate of the first device to the second position of the second device, the first arm unit and the substrate in a state where a part of the substrate has entered the opening. The second arm portions are folded together and extend to one side in a direction substantially orthogonal to the direction from the rotation center of the first arm portion toward the second position of the second device. The board | substrate conveyance system of any one of Claims 4-9 arrange | positioned.
前記基板搬送ロボットは、前記ハンド部および前記アーム部を高さ方向に移動可能に構成され、
前記第1装置には、異なる高さ位置に複数の基板が載置されており、
前記開口部は、前記第1装置の最も低い位置に載置された基板を支持する際の前記ハンド部および前記アーム部の配置位置に対応する高さ位置から前記第1装置の最も高い位置に載置された基板を支持する際の前記ハンド部および前記アーム部の配置位置に対応する高さ位置まで開放されている、請求項1〜10のいずれか1項に記載の基板搬送システム。
The substrate transfer robot is configured to be able to move the hand unit and the arm unit in a height direction,
In the first device, a plurality of substrates are placed at different height positions,
The opening is located at the highest position of the first device from the height position corresponding to the arrangement position of the hand unit and the arm unit when supporting the substrate placed at the lowest position of the first device. The board | substrate conveyance system of any one of Claims 1-10 open | released to the height position corresponding to the arrangement position of the said hand part and the said arm part at the time of supporting the mounted board | substrate.
前記第1装置は、前記第1位置に加えて、平面的に見て前記第1位置よりも前記基板搬送ロボットから遠い第3位置にも基板を載置可能であり、
前記第3位置には、所定の高さ範囲に複数の基板が載置され、
前記第1位置には、前記第3位置よりも小さい高さ範囲に基板が載置され、
前記開口部は、前記第1位置に載置される基板の高さ範囲に対応する高さ範囲で開放されており、
前記基板搬送ロボットは、前記ハンド部および前記アーム部を高さ方向に移動可能であるとともに、前記第3位置の基板を搬送する際には、前記第1装置から基板を引き出した後、前記ハンド部および前記アーム部を高さ方向に移動して前記アーム部を前記開口部を介して前記第2装置内に突出させるように構成されている、請求項1〜10のいずれか1項に記載の基板搬送システム。
In addition to the first position, the first device can place a substrate on a third position farther from the substrate transport robot than the first position in plan view.
A plurality of substrates are placed in a predetermined height range at the third position,
A substrate is placed at a height range smaller than the third position at the first position,
The opening is opened in a height range corresponding to a height range of a substrate placed in the first position;
The substrate transfer robot is capable of moving the hand portion and the arm portion in the height direction, and when transferring the substrate at the third position, after pulling out the substrate from the first device, 11. The device according to claim 1, wherein the arm portion is configured to move in a height direction so that the arm portion protrudes into the second device through the opening. Substrate transfer system.
第1装置と、
第2装置と、
前記第1装置および前記第2装置に囲まれたロボット設置領域に配置され、基板を支持するハンド部と、前記ハンド部を移動させるためのアーム部とを含む基板搬送ロボットとを備え、
前記基板搬送ロボットは、前記アーム部および前記ハンド部を水平面内で回動させることによって、前記第2装置側に設けられた開口部を介して前記第1装置内の第1位置から前記第2装置内の第2位置に基板を搬送するとともに、前記ハンド部により基板を支持した状態の前記基板搬送ロボットの最小旋回領域の外縁が前記開口部を介して前記第2装置内に突出するように構成されている、基板処理システム。
A first device;
A second device;
A substrate transfer robot that is disposed in a robot installation area surrounded by the first device and the second device and includes a hand unit that supports a substrate and an arm unit for moving the hand unit;
The substrate transfer robot rotates the arm part and the hand part in a horizontal plane, thereby opening the second part from a first position in the first apparatus through an opening provided on the second apparatus side. A substrate is transported to a second position in the apparatus, and an outer edge of a minimum turning area of the substrate transport robot in a state where the substrate is supported by the hand unit protrudes into the second apparatus through the opening. A substrate processing system configured.
前記基板搬送ロボットは、前記ハンド部および前記アーム部を高さ方向に移動可能に構成され、
前記第1装置には、異なる高さ位置に複数の基板が載置されており、
前記開口部は、前記第1装置の最も低い位置に載置された基板を支持する際の前記ハンド部および前記アーム部の配置位置に対応する高さ位置から前記第1装置の最も高い位置に載置された基板を支持する際の前記ハンド部および前記アーム部の配置位置に対応する高さ位置まで開放されている、請求項13に記載の基板処理システム。
The substrate transfer robot is configured to be able to move the hand unit and the arm unit in a height direction,
In the first device, a plurality of substrates are placed at different height positions,
The opening is located at the highest position of the first device from the height position corresponding to the arrangement position of the hand unit and the arm unit when supporting the substrate placed at the lowest position of the first device. The substrate processing system according to claim 13, wherein the substrate processing system is opened to a height position corresponding to an arrangement position of the hand unit and the arm unit when the placed substrate is supported.
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