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JP2011028116A - Electro-optical device, manufacturing method thereof, and electronic apparatus - Google Patents

Electro-optical device, manufacturing method thereof, and electronic apparatus Download PDF

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JP2011028116A
JP2011028116A JP2009175659A JP2009175659A JP2011028116A JP 2011028116 A JP2011028116 A JP 2011028116A JP 2009175659 A JP2009175659 A JP 2009175659A JP 2009175659 A JP2009175659 A JP 2009175659A JP 2011028116 A JP2011028116 A JP 2011028116A
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JP
Japan
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layer
electro
substrate
electrophoretic
resin
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JP2009175659A
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Keiyo Yamada
啓誉 山田
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Seiko Epson Corp
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Seiko Epson Corp
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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide an electro-optical device which has excellent moisture-proof performance by preventing a substrate from being cracked, and to provide a manufacturing method thereof. <P>SOLUTION: The electrophoretic display device 1 includes an electro-optical panel 10 holding an electrophoretic layer 31 between an element substrate 2 and a surface protection substrate 4, and also includes a first sealant 61 which is disposed between the pair of substrates 2 and 4 so as to surround the electrophoretic layer 31 and seals up the electrophoretic layer 31 between the substrates 2 and 4, and a second sealing layer 62 formed to cover at least a part of a side wall surface of the first sealant 61. <P>COPYRIGHT: (C)2011,JPO&INPIT

Description

本発明は、電気光学装置及びその製造方法、電子機器に関するものである。   The present invention relates to an electro-optical device, a manufacturing method thereof, and an electronic apparatus.

電気泳動表示装置は、TFT素子など電気回路を形成した基板(以下、素子基板)と、透明性導電膜(共通電極)を有する透明シート、複数のマイクロカプセルからなる電気泳動層および接着層を有する電気泳動シートと、を貼り合わせることで構成される電気泳動表示パネルを備えている(例えば、特許文献1)。   The electrophoretic display device includes a substrate (hereinafter referred to as an element substrate) on which an electric circuit such as a TFT element is formed, a transparent sheet having a transparent conductive film (common electrode), an electrophoretic layer composed of a plurality of microcapsules, and an adhesive layer. An electrophoretic display panel configured by pasting together an electrophoretic sheet is provided (for example, Patent Document 1).

このような電気泳動表示パネルは、その表面側に貼り合わされた表面保護基板と素子基板との間が樹脂封止されることによって、電気泳動層に対する防湿性を確保した構造となっている(例えば、特許文献2)。   Such an electrophoretic display panel has a structure in which moisture resistance with respect to the electrophoretic layer is ensured by sealing a resin between a surface protective substrate and an element substrate bonded to the surface side (for example, Patent Document 2).

特開2005−114822号公報JP 2005-114822 A 特表2005−529361号公報JP 2005-529361 A

しかしながら上記構造の場合、素子基板や表面保護基板にガラス基板を用いた場合、使用環境によっては、ガラスに割れが生じたり、シール材の剥離などが発生することがある。
樹脂材料からなる封止材を備えた電気光学表示装置に対する耐環境試験、衝撃試験において、積層された各部材の熱膨張あるいは熱収縮等により、素子基板または表面保護基板の端面からクラックが発生することがある。このようなクラックが素子基板や表面保護基板に存在すると、そこから水分が浸入し、表示の劣化を引き起こすという問題がある。さらにクラックが大きくなれば、素子基板の駆動層が破損して動作不良が生じるという問題もある。
However, in the case of the above structure, when a glass substrate is used as the element substrate or the surface protection substrate, the glass may be cracked or the sealing material may be peeled off depending on the use environment.
In an environmental resistance test and an impact test for an electro-optic display device having a sealing material made of a resin material, cracks are generated from the end face of the element substrate or the surface protection substrate due to thermal expansion or contraction of each laminated member. Sometimes. When such a crack exists in the element substrate or the surface protection substrate, there is a problem that moisture enters from there and causes display deterioration. In addition, if the crack becomes larger, there is a problem that the drive layer of the element substrate is damaged and malfunction occurs.

また、封止幅を広くすると応力が分散されるためクラックの発生を防止することも可能であるが、封止幅は最終製品の形状に影響するために安易に広くすることはできず、小型化を実現するためにはより狭い封止幅にすることが要求される。しかしながら、封止幅を狭くすると防湿性能の低下を招くことになる。また、クラックの発生を防止するために、低応力のアクリル樹脂からなる封止材を用いることも考えられるが、この場合も防湿性能に問題がある。   In addition, if the sealing width is widened, the stress is dispersed and cracking can be prevented. However, the sealing width cannot be easily widened because it affects the shape of the final product, and it is small. In order to realize this, a narrower sealing width is required. However, if the sealing width is narrowed, the moisture-proof performance is reduced. Moreover, in order to prevent generation | occurrence | production of a crack, although using the sealing material which consists of a low stress acrylic resin is also considered, there is also a problem in moisture-proof performance in this case.

本発明は、上記従来技術の問題点に鑑み成されたものであって、基板にクラックが発生するのを防止して、かつ優れた防湿性能を有する電気光学装置及びその製造方法、電子機器を提供することを目的の一つとしている。   The present invention has been made in view of the above-described problems of the prior art. An electro-optical device, a manufacturing method thereof, and an electronic apparatus that prevent cracks from occurring on the substrate and have excellent moisture-proof performance are provided. One of the purposes is to provide it.

本発明の電気光学装置は、上記課題を解決するために、一対の基板同士の間に電気光学層が挟持されてなる電気光学パネルを備える電気光学装置であって、前記電気光学層の周りを囲うようにして前記一対の基板間に配置されるとともにこれら基板同士の間で前記電気光学層を封止する樹脂層と、前記樹脂層の側壁面の少なくとも一部を覆うようにして形成されためっき層と、を備えたことを特徴とする。
本発明によれば、樹脂層の側壁面の少なくとも一部を覆うようにしてめっき層を形成したことにより、優れた防湿性能を有する電気光学装置とすることができる。防湿性能をめっき層により補強できるため、平面視での樹脂層の幅をその分だけ小さくすることが可能となる。これにより樹脂層の収縮時の応力に起因する基板の変形を抑制することができ、基板にクラックが発生するのを防止することが可能となる。
In order to solve the above problems, an electro-optical device of the present invention is an electro-optical device including an electro-optical panel in which an electro-optical layer is sandwiched between a pair of substrates, and around the electro-optical layer. The resin layer is disposed between the pair of substrates so as to surround the resin layer and seals the electro-optic layer between the substrates, and is formed so as to cover at least a part of the side wall surface of the resin layer. And a plating layer.
According to the present invention, since the plating layer is formed so as to cover at least a part of the side wall surface of the resin layer, an electro-optical device having excellent moisture-proof performance can be obtained. Since the moisture-proof performance can be reinforced by the plating layer, the width of the resin layer in plan view can be reduced by that amount. Thereby, it is possible to suppress the deformation of the substrate due to the stress at the time of contraction of the resin layer, and it is possible to prevent the substrate from cracking.

また、前記めっき層が、前記一対の基板上にそれぞれ形成された金属パターンに接続されていることが好ましい。
本発明によれば、めっき層が、一対の基板上にそれぞれ形成された金属パターンに接続されていることから、電気泳動層に対する高い封止性が得られる。
Moreover, it is preferable that the said plating layer is connected to the metal pattern each formed on the said pair of board | substrate.
According to the present invention, since the plating layer is connected to the metal patterns respectively formed on the pair of substrates, high sealing performance with respect to the electrophoretic layer can be obtained.

また、前記めっき層が、前記一対の基板上にそれぞれ形成された金属パターンを核として成長したものであることが好ましい。
本発明によれば、めっき層が一対の基板上にそれぞれ形成された金属パターンを核として成長したものであることから、めっき層と基板面との界面から水分が浸入するのを阻止でき、防湿性を高めることが可能である。
Moreover, it is preferable that the said plating layer grows by using as a nucleus the metal pattern each formed on the said pair of board | substrate.
According to the present invention, since the plating layer is grown with the metal patterns formed on the pair of substrates as nuclei, it is possible to prevent moisture from entering from the interface between the plating layer and the substrate surface, and to prevent moisture. It is possible to increase the sex.

また、前記樹脂層が、エポキシ樹脂より弾性率あるいは熱応力の小さい樹脂材料からなることが好ましい。
本発明によれば、エポキシ樹脂より弾性率あるいは熱応力の小さい樹脂材料からなる樹脂層により、封止部分の応力を良好に分散させることができる。これにより、耐環境試験、衝撃試験において封止部分に局所的に応力が掛かるのを防止することができ、基板にクラックが発生するのを効果的に防止し得る。
Moreover, it is preferable that the said resin layer consists of a resin material with a smaller elastic modulus or thermal stress than an epoxy resin.
According to the present invention, the stress of the sealing portion can be favorably dispersed by the resin layer made of the resin material having a smaller elastic modulus or thermal stress than the epoxy resin. Thereby, it can prevent that a stress is locally applied to a sealing part in an environmental resistance test and an impact test, and can prevent that a crack generate | occur | produces in a board | substrate effectively.

また、前記樹脂層の側壁面全体が前記めっき層によって覆われていることが好ましい。
本発明によれば、樹脂層の側壁面全体がめっき層によって覆われていることから高い防湿特性を確保することが可能となる。
Moreover, it is preferable that the whole side wall surface of the said resin layer is covered with the said plating layer.
According to the present invention, since the entire side wall surface of the resin layer is covered with the plating layer, it is possible to ensure high moisture resistance.

また、前記めっき層が形成されている部位の平面視での前記樹脂層の幅が、前記めっき層が形成されていない部位の平面視での前記樹脂層の幅より小さいことが好ましい。
本発明によれば、めっき層が形成されていない部位の樹脂層は、単体で防湿性を確保するため平面視での幅を大きく(広く)する必要があるが、本発明のめっき層は封止性が高いため、めっき層が形成されている部位の樹脂層の平面視での幅を小さく(狭く)しても十分な防湿性を確保することができる。したがって、めっき層が形成されている樹脂層の幅を小さくして装置が大型化するのを防止することができる。
Moreover, it is preferable that the width | variety of the said resin layer in planar view of the site | part in which the said plating layer is formed is smaller than the width of the said resin layer in planar view of the site | part in which the said plating layer is not formed.
According to the present invention, the resin layer in a region where the plating layer is not formed needs to have a large (wide) width in plan view in order to ensure moisture resistance alone, but the plating layer of the present invention is sealed. Since the sealing property is high, sufficient moisture resistance can be ensured even if the width of the resin layer where the plating layer is formed is reduced (narrow) in plan view. Therefore, it is possible to prevent the apparatus from being enlarged by reducing the width of the resin layer on which the plating layer is formed.

本発明の電気光学表示装置の製造方法は、前記電気光学層を介して一対の基板を貼り合わせる工程に先立って、前記一対の基板上にそれぞれ金属パターンをそれぞれ形成する工程を有し、前記めっき層を形成する工程において、前記金属パターンから前記めっき層を成長させることを備えたことを特徴とする。
本発明によれば、電気光学層の周りを囲う樹脂層の側壁面の少なくとも一部を覆うようにしてめっき層を形成することから、優れた防湿性能を有する電気光学装置を製造することができる。防湿性能をめっき層により補強できるため、平面視での樹脂層の幅をその分だけ小さくすることが可能となる。これにより樹脂層の収縮時の応力に起因する基板の変形を抑制することができ、基板にクラックが発生するのを防止することが可能となる。
The manufacturing method of the electro-optical display device of the present invention includes a step of forming a metal pattern on each of the pair of substrates prior to the step of bonding the pair of substrates via the electro-optical layer, and the plating In the step of forming a layer, the plating layer is grown from the metal pattern.
According to the present invention, since the plating layer is formed so as to cover at least a part of the side wall surface of the resin layer surrounding the electro-optical layer, an electro-optical device having excellent moisture-proof performance can be manufactured. . Since the moisture-proof performance can be reinforced by the plating layer, the width of the resin layer in plan view can be reduced by that amount. Thereby, it is possible to suppress the deformation of the substrate due to the stress at the time of contraction of the resin layer, and it is possible to prevent the substrate from cracking.

また、前記電気光学層を介して一対の基板を貼り合わせる工程に先立って、前記一対の基板上にそれぞれ金属パターンをそれぞれ形成する工程を有することが好ましい。
本発明によれば、一対の基板上にそれぞれ金属パターンをそれぞれ形成することとしたので、各基板面に対して密着性の高いめっき層を形成することができる。これにより、めっき層と基板面との界面から水分が浸入するのを阻止でき、防湿性を高めることが可能である。
Further, it is preferable to have a step of forming a metal pattern on each of the pair of substrates prior to the step of bonding the pair of substrates via the electro-optic layer.
According to the present invention, since the metal patterns are respectively formed on the pair of substrates, it is possible to form a plating layer having high adhesion to each substrate surface. Thereby, it is possible to prevent moisture from entering from the interface between the plating layer and the substrate surface, and to improve moisture resistance.

本発明の電気光学装置は、先に記載の電気光学装置を備えたことを特徴とする。
本発明によれば、優れた防湿性能を有する電気光学装置を備えたことにより、信頼性の高い電子機器が得られる。
An electro-optical device according to the present invention includes the electro-optical device described above.
According to the present invention, a highly reliable electronic apparatus can be obtained by including an electro-optical device having excellent moisture-proof performance.

第1実施形態の電気泳動表示装置の全体構成を示す平面図。1 is a plan view showing an overall configuration of an electrophoretic display device according to a first embodiment. 図1のA−A断面に沿った構成を示す断面図。Sectional drawing which shows the structure along the AA cross section of FIG. 第1実施形態の電気泳動表示装置の製造方法のフローチャート。5 is a flowchart of a method for manufacturing the electrophoretic display device of the first embodiment. 電気泳動表示装置の製造工程を示す断面図。Sectional drawing which shows the manufacturing process of an electrophoretic display device. 電気泳動表示装置の製造工程を示す断面図。Sectional drawing which shows the manufacturing process of an electrophoretic display device. 第2実施形態の電気泳動表示装置の全体構成を示す断面図。Sectional drawing which shows the whole structure of the electrophoretic display device of 2nd Embodiment. 電気泳動表示装置の他の実施例。Another embodiment of the electrophoretic display device. 電子機器の一例である時計を示す図。FIG. 11 illustrates a watch which is an example of an electronic device. 電子機器の一例である電子ペーパーを示す図。FIG. 11 illustrates electronic paper which is an example of an electronic device. 電子機器の一例である電子ノートを示す図。FIG. 11 illustrates an electronic notebook which is an example of an electronic device.

以下、本発明の実施形態につき、図面を参照して説明する。なお、以下の説明に用いる各図面では、各部材を認識可能な大きさとするため、各部材の縮尺を適宜変更している。   Embodiments of the present invention will be described below with reference to the drawings. In each drawing used for the following description, the scale of each member is appropriately changed to make each member a recognizable size.

(第1実施形態)
図1は、本発明の第1実施形態である電気泳動表示装置の全体構成を示す平面図である。図2は、第1実施形態の電気泳動表示装置におけるA−A断面に沿った構成を示す断面図である。
図1及び図2に示すように、電気泳動表示装置1は、電気泳動表示パネル10、表面保護基板4、接続基板5および封止部60を備えている。
電気泳動表示装置1は、素子基板2上に電気泳動シート3が貼り付けられた構成になっている。また、電気泳動シート3の透明シート30上には表面保護基板4が配置されており、素子基板2のうち電気泳動シート3と反対側には接続基板5が配置されている。そして、素子基板2および表面保護基板4の間に電気泳動層31の周りを囲むようにして封止部60が設けられている。
(First embodiment)
FIG. 1 is a plan view showing the overall configuration of the electrophoretic display device according to the first embodiment of the present invention. FIG. 2 is a cross-sectional view showing a configuration along the AA cross section in the electrophoretic display device of the first embodiment.
As shown in FIGS. 1 and 2, the electrophoretic display device 1 includes an electrophoretic display panel 10, a surface protection substrate 4, a connection substrate 5, and a sealing unit 60.
The electrophoretic display device 1 has a configuration in which an electrophoretic sheet 3 is attached to an element substrate 2. Further, the surface protection substrate 4 is disposed on the transparent sheet 30 of the electrophoresis sheet 3, and the connection substrate 5 is disposed on the element substrate 2 on the side opposite to the electrophoresis sheet 3. A sealing portion 60 is provided between the element substrate 2 and the surface protection substrate 4 so as to surround the electrophoretic layer 31.

電気泳動表示装置1は、平面視で画素電極25の配列された領域が表示領域7となっている。表示領域7では、平面視における各画素電極25の形成領域が画素領域となっており、画素領域毎に静止画や動画等の画像が表示されるようになっている。表示領域7の周囲は、画像が表示されない非表示領域8となっている。   In the electrophoretic display device 1, a region where the pixel electrodes 25 are arranged is a display region 7 in a plan view. In the display area 7, the formation area of each pixel electrode 25 in a plan view is a pixel area, and an image such as a still image or a moving image is displayed for each pixel area. The periphery of the display area 7 is a non-display area 8 where no image is displayed.

素子基板2は、基材20、駆動層21、駆動回路素子22,23及び端子27を有している。基材20は、例えば30μm〜100μm程度の厚さを有する板状部材である。基材20の構成材料としては、例えばガラス基板、石英基板、シリコン基板、ガリウム砒素基板などの無機基板や、ポリイミド、ポリエチレンテレフタレート(PET)、ポリエチレンナフタレート(PEN)、ポリメチルメタクリレート(PMMA)、ポリカーボネート(PC)、ポリエーテルスルホン(PES)、芳香族ポリエステル(液晶ポリマー)等で構成されるプラスチック基板(樹脂基板)などが挙げられる。   The element substrate 2 includes a base material 20, a drive layer 21, drive circuit elements 22 and 23, and terminals 27. The base material 20 is a plate-like member having a thickness of about 30 μm to 100 μm, for example. As a constituent material of the base material 20, for example, an inorganic substrate such as a glass substrate, a quartz substrate, a silicon substrate, a gallium arsenide substrate, polyimide, polyethylene terephthalate (PET), polyethylene naphthalate (PEN), polymethyl methacrylate (PMMA), Examples thereof include a plastic substrate (resin substrate) composed of polycarbonate (PC), polyethersulfone (PES), aromatic polyester (liquid crystal polymer), and the like.

駆動層21は、基材20の内面20aのうち平面視で電気泳動シート3と重なる領域に設けられた層である。平面的な駆動層21の形成領域は、表示領域7と略一致しており、駆動回路素子22及び23はこの駆動層21の周縁部(非表示領域8)に設けられている。これら駆動回路素子22及び23はデータ線や走査線に電気的に接続されており、駆動層21に信号を供給するようになっている。   The drive layer 21 is a layer provided in a region overlapping the electrophoretic sheet 3 in a plan view on the inner surface 20a of the substrate 20. A planar formation region of the drive layer 21 substantially coincides with the display region 7, and the drive circuit elements 22 and 23 are provided on the peripheral portion (non-display region 8) of the drive layer 21. These drive circuit elements 22 and 23 are electrically connected to data lines and scanning lines, and supply signals to the drive layer 21.

駆動層21は、絶縁層24、複数の画素電極25及び複数のスイッチング素子26を有している。画素電極25は、平面視で例えばマトリクス状に配列された電極である。スイッチング素子26は、画素電極25毎に設けられた素子である。スイッチング素子26には、不図示のデータ線及び走査線などが接続されている。絶縁層24は、これら各部を覆うように基材20上に形成されている。   The drive layer 21 includes an insulating layer 24, a plurality of pixel electrodes 25, and a plurality of switching elements 26. The pixel electrodes 25 are electrodes arranged in a matrix, for example, in plan view. The switching element 26 is an element provided for each pixel electrode 25. A data line, a scanning line, and the like (not shown) are connected to the switching element 26. The insulating layer 24 is formed on the base material 20 so as to cover these parts.

端子27は、基材20の内面20a上のうち平面視で電気泳動シート3から外れた領域に設けられている。端子27は、素子基板2の一辺に沿って複数配列されている。端子27には不図示の配線群が接続されている。当該配線群は、例えば上記走査線やデータ線などに接続されている。   The terminal 27 is provided in a region on the inner surface 20 a of the base material 20 that is separated from the electrophoretic sheet 3 in plan view. A plurality of terminals 27 are arranged along one side of the element substrate 2. A wiring group (not shown) is connected to the terminal 27. The wiring group is connected to, for example, the scanning line and the data line.

電気泳動シート3は、透明シート30、共通電極35、電気泳動層31及び接着層33を有している。
透明シート30は電気泳動層31を保持する、光透過性を有するシートであり、25μm〜200μm程度の厚さを有している。透明シート30の構成材料としては、例えばポリエチレンテレフタレート(PET)、ポリエーテルスルホン(PES)、ポリカーボネイト(PC)など光透過性の高い材料などが挙げられる。例えば透明シート30の表面30aには、不図示の防湿シートなどが配置されていても構わない。
The electrophoretic sheet 3 includes a transparent sheet 30, a common electrode 35, an electrophoretic layer 31, and an adhesive layer 33.
The transparent sheet 30 is a light-transmitting sheet that holds the electrophoretic layer 31 and has a thickness of about 25 μm to 200 μm. Examples of the constituent material of the transparent sheet 30 include materials having high light transmittance such as polyethylene terephthalate (PET), polyethersulfone (PES), and polycarbonate (PC). For example, a moistureproof sheet (not shown) or the like may be disposed on the surface 30a of the transparent sheet 30.

共通電極35は例えばITOなどの光透過性の高い導電材料で構成された電極である。
共通電極35は透明シート30の内面30bのほぼ全面に亘って形成されている。共通電極35には上下導通材9が接続されている。上下導通材9は素子基板2に電気的に接続されている。共通電極35は、上下導通材9を介して素子基板2に電気的に接続された状態になっている。
The common electrode 35 is an electrode made of a conductive material having high light transmittance such as ITO.
The common electrode 35 is formed over almost the entire inner surface 30 b of the transparent sheet 30. The vertical conductive material 9 is connected to the common electrode 35. The vertical conduction member 9 is electrically connected to the element substrate 2. The common electrode 35 is in a state of being electrically connected to the element substrate 2 through the vertical conductive member 9.

電気泳動層31は、複数のマイクロカプセル32を有している。
マイクロカプセル32は電気泳動分散液が封入された略球状のカプセルであり、各カプセルの直径はほぼ同一(30μm〜100μm)になっている。マイクロカプセル32のカプセル壁膜を構成する材料としては、アラビアガム・ゼラチンの複合膜、ウレタン樹脂、ウレア樹脂、尿素樹脂などの化合物が挙げられる。マイクロカプセル32に封入された電気泳動分散液は、複数の電気泳動粒子と、当該電気泳動粒子を分散させるための液相分散媒とからなる。
The electrophoretic layer 31 has a plurality of microcapsules 32.
The microcapsule 32 is a substantially spherical capsule in which an electrophoretic dispersion is enclosed, and the diameter of each capsule is substantially the same (30 μm to 100 μm). Examples of the material constituting the capsule wall film of the microcapsule 32 include compounds such as a gum arabic / gelatin composite film, a urethane resin, a urea resin, and a urea resin. The electrophoretic dispersion liquid enclosed in the microcapsule 32 includes a plurality of electrophoretic particles and a liquid phase dispersion medium for dispersing the electrophoretic particles.

液相分散媒としては、水やアルコール系溶媒、各種エステル類、ケトン類、脂肪族炭化水素、脂環式炭化水素、芳香族炭化水素、ハロゲン化炭化水素、カルボン酸塩又はその他の種々の油類等の単独、又はこれらの混合物に界面活性剤等を配合したものを用いることができる。   Examples of liquid dispersion media include water, alcohol solvents, various esters, ketones, aliphatic hydrocarbons, alicyclic hydrocarbons, aromatic hydrocarbons, halogenated hydrocarbons, carboxylates, and other various oils. It is possible to use a mixture of a surfactant or the like alone or a mixture thereof.

電気泳動粒子としては、液相分散媒中で電位差による電気泳動により移動する性質を有する有機あるいは無機の粒子(高分子あるいはコロイド)を用いることができる。具体的には、カーボンブラック、アニリンブラック等の黒色顔料、二酸化チタン等の白色顔料、モノアゾのアゾ系顔料、イソインドリノン等の黄色顔料、モノアゾのアゾ系顔料、キナクリドンレッド等の赤色顔料、フタロシアニンブルー等の青色顔料、フタロシアニングリーン等の緑色顔料等の1種又は2種以上を用いることができる。これらの顔料には、必要に応じ、電解質、界面活性剤、金属石鹸、樹脂、ゴム、油、ワニス、コンパウンド等の粒子からなる荷電制御剤、チタン系カップリング剤、アルミニウム系カップリング剤、シラン系カップリング剤等の分散剤、潤滑剤、安定化剤等を添加することができる。   As the electrophoretic particles, organic or inorganic particles (polymer or colloid) having a property of moving by electrophoresis due to a potential difference in a liquid phase dispersion medium can be used. Specifically, black pigments such as carbon black and aniline black, white pigments such as titanium dioxide, monoazo azo pigments, yellow pigments such as isoindolinone, monoazo azo pigments, red pigments such as quinacridone red, phthalocyanine One or more of blue pigments such as blue and green pigments such as phthalocyanine green can be used. These pigments include electrolytes, surfactants, metal soaps, resins, rubbers, oils, varnishes, charge control agents composed of particles such as compounds, titanium-based coupling agents, aluminum-based coupling agents, silanes as necessary. A dispersant such as a system coupling agent, a lubricant, a stabilizer, and the like can be added.

マイクロカプセル32には、例えば白色顔料である二酸化チタンと黒色顔料であるカーボンブラックとの二種類の電気泳動粒子が封入されており、一方が負に、他方が正に帯電されている。勿論他の電気泳動粒子を用いても構わないし、電気泳動粒子を一種類のみ用い、これを共通電極側、あるいは画素電極側に泳動させることで表示可能となるように構成しても構わない。   In the microcapsule 32, for example, two types of electrophoretic particles of titanium dioxide which is a white pigment and carbon black which is a black pigment are encapsulated, one of which is negatively charged and the other of which is positively charged. Of course, other electrophoretic particles may be used, or only one type of electrophoretic particle may be used, and the electrophoretic particles may be moved to the common electrode side or the pixel electrode side so that display can be performed.

接着層33は、バインダを兼ねた接着剤である。接着層33としては、例えばマイクロカプセル32のカプセル壁膜に対する親和性が良好で、画素電極25に対する接着性に優れた接着剤を用いることが好ましい。   The adhesive layer 33 is an adhesive that also serves as a binder. As the adhesive layer 33, for example, it is preferable to use an adhesive having good affinity for the capsule wall film of the microcapsule 32 and excellent adhesion to the pixel electrode 25.

表面保護基板4は、透明シート30の表面30a上に接着層36を介して配置された基板である。表面保護基板4の構成材料としては、光透過性が高く、平坦度が優れ、キズつきにくい材料、例えばアクリル樹脂などが挙げられる。アクリル樹脂の他には、例えばガラスなどが適している。具体的には、無機ガラスや、クリスタルガラス、サファイヤガラスや、アクリルガラスなどを用いることができる。表面保護基板4は、素子基板2及び透明シート30とともに電気泳動層31を覆う構成になっており、当該構成によって電気泳動層31に水分の浸入がより確実に防止されるようになっている。   The surface protection substrate 4 is a substrate that is disposed on the surface 30 a of the transparent sheet 30 via an adhesive layer 36. Examples of the constituent material of the surface protective substrate 4 include a material having high light transmittance, excellent flatness, and being hardly scratched, such as an acrylic resin. In addition to the acrylic resin, for example, glass is suitable. Specifically, inorganic glass, crystal glass, sapphire glass, acrylic glass, or the like can be used. The surface protection substrate 4 is configured to cover the electrophoretic layer 31 together with the element substrate 2 and the transparent sheet 30, and this configuration can more reliably prevent moisture from entering the electrophoretic layer 31.

接続基板5は、基材50及び端子51を有している。接続基板5は、素子基板2の基材20の外面20b上に配置された矩形状の板状部材であり、平面視で表面保護基板4に重なる位置に設けられている。図1および図2に示すように、接続基板5は、電気泳動表示パネル10の外周側に張り出すとともに、表面保護基板4の外周側に部分的に張り出す大きさで形成されている。端子51は、電気泳動表示パネル10の外側に部分的に張り出した領域に設けられており、電気泳動表示パネル10側の端子27とワイヤー111を介して電気的に接続されている。また、接続基板5は、電気泳動表示パネル10を支持する支持基板としての機能も有する。   The connection substrate 5 has a base material 50 and terminals 51. The connection substrate 5 is a rectangular plate-like member disposed on the outer surface 20b of the base material 20 of the element substrate 2, and is provided at a position overlapping the surface protection substrate 4 in plan view. As shown in FIGS. 1 and 2, the connection substrate 5 is formed to have a size that protrudes to the outer peripheral side of the electrophoretic display panel 10 and partially extends to the outer peripheral side of the surface protection substrate 4. The terminal 51 is provided in a region partially protruding outside the electrophoretic display panel 10, and is electrically connected to the terminal 27 on the electrophoretic display panel 10 side via a wire 111. The connection substrate 5 also has a function as a support substrate that supports the electrophoretic display panel 10.

封止部60は、電気泳動層31を封止する部分であって、電気泳動表示パネル10の素子基板2と表面保護基板4との周縁部同士の間に配置され、電気泳動層31の周方向を囲うようにして形成されている。封止部60は、樹脂層からなる第1封止材61と、金属めっき層からなる第2封止材62とから構成されるもので、このような封止部60によって2重の封止構造とされている。第1封止材61は、電気泳動層31の側壁面全体を覆い、第2封止材62は、第1封止材61の側壁面全体を覆っている。   The sealing portion 60 is a portion that seals the electrophoretic layer 31, and is disposed between the peripheral portions of the element substrate 2 and the surface protection substrate 4 of the electrophoretic display panel 10. It is formed so as to surround the direction. The sealing part 60 is composed of a first sealing material 61 made of a resin layer and a second sealing material 62 made of a metal plating layer, and double sealing is performed by such a sealing part 60. It is structured. The first sealing material 61 covers the entire side wall surface of the electrophoretic layer 31, and the second sealing material 62 covers the entire side wall surface of the first sealing material 61.

第1封止材61の材料としては、エポキシ樹脂よりも弾性率(熱応力)の小さい材料が好ましく、例えば、ABS、ポリプロピレン(PP)、ポリアセタール(POM)、ポリカーボネイド(PC)、ポリアミド(PA)6ナイロン、ポリエステルテレフタレート(PET)、ポリプチレンテレフタレート(PBT)、変性ポリフェニレンエーテル(MPPE)、変性ポリフェニレンオキサイド(PPO)、ポリサルホン(PSF)、ポリエーテルサルホン(PES)、ポリエーテルイミド(PEI)、ポリフェニレンサルファイド(PPS)、ポリエーテルエーテルケトン(PEEK)、ポリアリレート(液晶ポリマー)、ポリイミド(PI)等が挙げられる。   The material of the first sealing material 61 is preferably a material having a smaller elastic modulus (thermal stress) than the epoxy resin, for example, ABS, polypropylene (PP), polyacetal (POM), polycarbonate (PC), polyamide (PA). 6 Nylon, polyester terephthalate (PET), polybutylene terephthalate (PBT), modified polyphenylene ether (MPPE), modified polyphenylene oxide (PPO), polysulfone (PSF), polyethersulfone (PES), polyetherimide (PEI), Examples include polyphenylene sulfide (PPS), polyether ether ketone (PEEK), polyarylate (liquid crystal polymer), polyimide (PI) and the like.

第2封止材62の材料としては、ニッケル、クロム、パラジウム、錫、Au等が挙げられる。この第2封止材62を構成するめっき層62Bは、素子基板2及び表面保護基板4上に形成された金属パターン62A,62Aに接続されており、各金属パターン62A,62Aを核として成長したものである。本実施形態では、金属パターン62A,62Aが本発明のめっき層に含まれるものとする。   Examples of the material of the second sealing material 62 include nickel, chromium, palladium, tin, and Au. The plating layer 62B constituting the second sealing material 62 is connected to the metal patterns 62A and 62A formed on the element substrate 2 and the surface protection substrate 4, and is grown using the metal patterns 62A and 62A as nuclei. Is. In the present embodiment, it is assumed that the metal patterns 62A and 62A are included in the plating layer of the present invention.

(電気泳動表示装置の動作)
次に、上記のように構成された電気泳動表示装置1の動作を簡単に説明する。
画素電極25と共通電極35との間に共通電極35の電圧が相対的に高くなるように電圧を印加すると、正に帯電された黒色の電気泳動粒子はクーロン力によってマイクロカプセル32内のうち画素電極25側に引き寄せられる。一方、負に帯電された白色の電気泳動粒子はクーロン力によってマイクロカプセル32内の共通電極35側に引き寄せられる。この結果、マイクロカプセル32内の透明シート30側には白色の電気泳動粒子が集まることになり、電気泳動表示装置1の表示領域7にはこの白色の電気泳動粒子の色(白色)が表示されることとなる。
(Operation of electrophoretic display device)
Next, the operation of the electrophoretic display device 1 configured as described above will be briefly described.
When a voltage is applied between the pixel electrode 25 and the common electrode 35 so that the voltage of the common electrode 35 becomes relatively high, the positively charged black electrophoretic particles are out of the pixels in the microcapsule 32 by the Coulomb force. It is drawn toward the electrode 25 side. On the other hand, negatively charged white electrophoretic particles are attracted toward the common electrode 35 in the microcapsule 32 by Coulomb force. As a result, white electrophoretic particles are collected on the transparent sheet 30 side in the microcapsule 32, and the color (white) of the white electrophoretic particles is displayed in the display area 7 of the electrophoretic display device 1. The Rukoto.

逆に、画素電極25と共通電極35との間に画素電極25の電位が相対的に高くなるように電圧を印加すると、負に帯電された白色の電気泳動粒子はクーロン力によって画素電極25側に引き寄せられる。一方、正に帯電された黒色の電気泳動粒子はクーロン力によって共通電極35側に引き寄せられる。この結果、マイクロカプセル32内の透明シート30側には黒色の電気泳動粒子が集まることになり、電気泳動表示装置1の表示領域7には黒色の電気泳動粒子の色(黒色)が表示されることとなる。   On the contrary, when a voltage is applied between the pixel electrode 25 and the common electrode 35 so that the potential of the pixel electrode 25 becomes relatively high, the negatively charged white electrophoretic particles are moved to the pixel electrode 25 side by Coulomb force. Be drawn to. On the other hand, the positively charged black electrophoretic particles are attracted toward the common electrode 35 by the Coulomb force. As a result, the black electrophoretic particles gather on the transparent sheet 30 side in the microcapsule 32, and the color (black) of the black electrophoretic particles is displayed in the display area 7 of the electrophoretic display device 1. It will be.

本実施形態の電気泳動表示装置1によれば、樹脂材料からなる第1封止材61と、この第1封止材61の周方向にける側壁面全体を覆うようにして形成された金属めっき層からなる第2封止材62と、を備えた構成としたことにより、素子基板2,表面保護基板4にクラックが発生するのを防止して、優れた防湿性能を有した電気泳動表示装置1とすることができる。   According to the electrophoretic display device 1 of the present embodiment, the first sealing material 61 made of a resin material and the metal plating formed so as to cover the entire side wall surface in the circumferential direction of the first sealing material 61. The electrophoretic display device having excellent moisture proof performance by preventing the element substrate 2 and the surface protective substrate 4 from cracking by having the second sealing material 62 made of layers. 1 can be used.

すなわち、本実施形態の第1封止材61は、エポキシ樹脂よりも弾性率(熱応力)の小さい樹脂材料からなるため、封止部分の応力を効率よく分散させることができ、その結果、使用環境の温度変化や、電気泳動表示装置1に対する耐環境試験、衝撃試験などにおいて、積層された各部材の熱膨張あるいは熱収縮等により、この封止部分に局部的に応力が掛かるのを防止することが可能となる。これにより、基板2,4同士にクラックが発生するのを効果的に防止することができ、優れた防湿性が得られる。   That is, since the first sealing material 61 of the present embodiment is made of a resin material having a smaller elastic modulus (thermal stress) than the epoxy resin, the stress of the sealing portion can be efficiently dispersed, and as a result, the use In the environmental temperature change, environmental resistance test, impact test, etc. for the electrophoretic display device 1, it is possible to prevent local stress from being applied to the sealed portion due to thermal expansion or contraction of each of the laminated members. It becomes possible. Thereby, it can prevent effectively that a crack generate | occur | produces between board | substrates 2 and 4 and the outstanding moisture-proof property is obtained.

また、この樹脂自体の防湿性能がエポキシ樹脂に比べて若干低い場合であっても、本実施形態では第1封止材61の外側にめっき層からなる第2封止材62を設けたため、電気泳動層31に対する防湿性能は十分に確保された構成となっている。このように、第1封止材61及び第2封止材62の2重の封止構造によって電気泳動層31に対する高い防湿性が確保されたものとなる。   Even if the moisture-proof performance of the resin itself is slightly lower than that of the epoxy resin, the second sealing material 62 made of a plating layer is provided outside the first sealing material 61 in the present embodiment. The moisture-proof performance for the migration layer 31 is sufficiently ensured. As described above, the double sealing structure of the first sealing material 61 and the second sealing material 62 ensures a high moisture-proof property for the electrophoretic layer 31.

さらに、第2封止材62の封止性が高いことから、樹脂材料からなる第1封止材61の幅を狭くすることができる。これにより、封止幅を従来よりも広げることなく封止構造をとることができるので、装置が大型化するのを阻止することができ、小型化を実現し得る。   Furthermore, since the sealing performance of the second sealing material 62 is high, the width of the first sealing material 61 made of a resin material can be reduced. Thereby, since a sealing structure can be taken, without enlarging sealing width conventionally, it can prevent that an apparatus enlarges, and size reduction can be implement | achieved.

(製造方法)
次に、上記構成の電気泳動表示装置1の製造方法について述べる。
電気泳動表示装置1を製造する際には、大型の基板を用いてまず複数の電気泳動表示パネルの集合体を形成し、当該集合体を切断することによって複数の電気泳動表示装置1に個片化する、所謂多面取りと呼ばれる手法が用いられる。
(Production method)
Next, a manufacturing method of the electrophoretic display device 1 having the above configuration will be described.
When the electrophoretic display device 1 is manufactured, a plurality of electrophoretic display panel assemblies are first formed using a large substrate, and the plurality of electrophoretic display devices 1 are separated into pieces by cutting the aggregate. A so-called multi-chamfering technique is used.

図3は、電気泳動表示装置の製造工程について示すフローチャート、図4および図5は、電気泳動表示装置の製造工程について示す断面模式図である。なお、図4、図5においては、特定のパネル領域Pに着目しているが、その他のパネル領域Pにおいても同様のプロセスが同時に行われている。   FIG. 3 is a flowchart showing the manufacturing process of the electrophoretic display device, and FIGS. 4 and 5 are schematic cross-sectional views showing the manufacturing process of the electrophoretic display device. 4 and 5, attention is paid to a specific panel region P, but the same process is simultaneously performed in other panel regions P.

電気泳動表示装置1の集合体を形成する際、素子基板2の集合体であるマザーガラス基板110の各パネル領域Pに電気泳動シート3を貼り付けるようにする。電気泳動シート3を有した個々のパネル領域Pがそれぞれ電気泳動表示装置1となる。   When forming the aggregate of the electrophoretic display device 1, the electrophoretic sheet 3 is attached to each panel region P of the mother glass substrate 110 that is an aggregate of the element substrates 2. Each panel region P having the electrophoretic sheet 3 becomes the electrophoretic display device 1.

以下に本実施形態の電気泳動表示装置の製造方法について詳述する。
本実施形態の電気泳動表示装置の製造方法は、図4に示すように、駆動層形成工程S1と、接続基板接合工程S2と、電気泳動シート貼付工程S3と、表面保護基板接合工程S4と、封止部形成工程S5と、を備えている。なお、ここで示した製造工程順は一例であって適宜順番を変更しても構わない。
The manufacturing method of the electrophoretic display device of this embodiment will be described in detail below.
As shown in FIG. 4, the manufacturing method of the electrophoretic display device of the present embodiment includes a drive layer forming step S1, a connecting substrate bonding step S2, an electrophoretic sheet attaching step S3, a surface protective substrate bonding step S4, Sealing part formation process S5. Note that the manufacturing process order shown here is an example, and the order may be changed as appropriate.

駆動層形成工程S1では、図4(a)に示すように、まず、マザーガラス基板110の表面110aに複数のパネル領域Pを設定し、各パネル領域Pのうち表示領域7内に、スイッチング素子26などを形成し、非表示領域8には上記の駆動回路素子や端子27、これらに接続する配線などを形成するとともに、後述するめっき処理においてめっきの触媒核となる金属パターン62Aを形成する。このようにして各基板面上に核付け処理を行う。なお、必要に応じて各金属パターン62Aの活性化処理を行うことが好ましい。
その後、さらに絶縁層24、画素電極25、スイッチング素子26などを形成して駆動層21を得る。
In the driving layer forming step S1, as shown in FIG. 4A, first, a plurality of panel regions P are set on the surface 110a of the mother glass substrate 110, and switching elements are arranged in the display region 7 of each panel region P. 26 and the like, and the drive circuit elements and terminals 27, wirings connected to these, and the like are formed in the non-display area 8, and a metal pattern 62A serving as a catalyst core for plating in a plating process described later is formed. In this way, the nucleation process is performed on each substrate surface. In addition, it is preferable to perform the activation process of each metal pattern 62A as needed.
Thereafter, an insulating layer 24, a pixel electrode 25, a switching element 26, and the like are further formed to obtain the drive layer 21.

一方、マザー表面保護基板140においてもその表面140aに複数のパネル領域Pを設定し、各パネル領域Pのうち非表示領域8内に上記したマザーガラス基板110側の金属パターン62Aと対向する位置に、同様のパターン形状をなす金属パターン62Aを形成する。   On the other hand, in the mother surface protection substrate 140, a plurality of panel regions P are set on the surface 140a, and the non-display region 8 of each panel region P is located at a position facing the above-described metal pattern 62A on the mother glass substrate 110 side. Then, the metal pattern 62A having the same pattern shape is formed.

次に、接続基板接合工程S2では、図4(b)に示すように、不図示の粘着テープなどを介してマザー接続基板120をマザーガラス基板110の裏面110bに貼り付ける。マザー接続基板120の端子51がマザーガラス基板110の外側に露出するように位置合わせをして貼り付けるようにする。マザー接続基板120を貼り付けた後、しかるべき時に、マザーガラス基板110の端子27とマザー接続基板120の端子51との間をワイヤー111によって接続する。本実施形態では、後の工程において封止部60を形成した後にワイヤー接続を行う(図5(c))。   Next, in the connection substrate bonding step S2, as shown in FIG. 4B, the mother connection substrate 120 is attached to the back surface 110b of the mother glass substrate 110 via an unillustrated adhesive tape or the like. The terminals 51 of the mother connection substrate 120 are aligned and pasted so that the terminals 51 are exposed to the outside of the mother glass substrate 110. After the mother connection substrate 120 is pasted, the wire 27 connects the terminal 27 of the mother glass substrate 110 and the terminal 51 of the mother connection substrate 120 at an appropriate time. In the present embodiment, wire connection is performed after the sealing portion 60 is formed in a later step (FIG. 5C).

次に、電気泳動シート貼付工程S3では、図4(b)に示すように、マザーガラス基板110の各パネル領域P内の表示領域7に、予め用意しておいた電気泳動シート3をそれぞれ貼り付ける。   Next, in the electrophoresis sheet pasting step S3, as shown in FIG. 4B, the prepared electrophoresis sheets 3 are pasted on the display areas 7 in the panel areas P of the mother glass substrate 110, respectively. wear.

次に、表面保護基板接合工程S4では、図4(c)に示すように、電気泳動シート3上に接着層33を介してマザー表面保護基板140を貼り合わせる。このとき、マザーガラス基板110上に形成した金属パターン62Aと、マザー表面保護基板140上に形成した金属パターン62Aとを比較観察することで、基板110,140同士のアライメント調整を行っている。このようにして、各基板110,140上に形成された金属パターン62A、62A同士を対向させるようにして、マザー表面保護基板140を貼り合わせる。   Next, in the surface protective substrate bonding step S4, as shown in FIG. 4C, the mother surface protective substrate 140 is bonded onto the electrophoretic sheet 3 via the adhesive layer 33. At this time, alignment adjustment between the substrates 110 and 140 is performed by comparing and observing the metal pattern 62A formed on the mother glass substrate 110 and the metal pattern 62A formed on the mother surface protection substrate 140. In this way, the mother surface protection substrate 140 is bonded so that the metal patterns 62A and 62A formed on the substrates 110 and 140 face each other.

次に、封止部形成工程S5では、第1封止材61及び第2封止材62により電気泳動層31を2重封止する封止部60を形成する。
まず、図5(a)に示すように、マザーガラス基板110とマザー表面保護基板140との周縁部間に第1封止材61を形成する。ここでは、電気泳動層31の周囲を囲うようにして形成するとともに、金属パターン62A,62Aの表面を露出させるようにしてこれら金属パターン62A,62Aよりも内側に形成する。
ここでは、上述したエポキシ樹脂よりも弾性率の小さい樹脂材料を溶解させ、この溶解させた樹脂をマザーガラス基板110とマザー表面保護基板140との間の毛細管力によって行き渡らせることで樹脂を注入する。
Next, in the sealing part forming step S <b> 5, the sealing part 60 that double seals the electrophoretic layer 31 with the first sealing material 61 and the second sealing material 62 is formed.
First, as shown in FIG. 5A, the first sealing material 61 is formed between the peripheral portions of the mother glass substrate 110 and the mother surface protection substrate 140. Here, it forms so that the circumference | surroundings of the electrophoretic layer 31 may be enclosed, and it forms inside these metal patterns 62A and 62A so that the surface of metal patterns 62A and 62A may be exposed.
Here, a resin material having a smaller elastic modulus than the above-described epoxy resin is dissolved, and the dissolved resin is spread by the capillary force between the mother glass substrate 110 and the mother surface protective substrate 140, and the resin is injected. .

次に、溶解されている樹脂を乾燥させて固化させる。樹脂を固化することによって樹脂に接触しているマザーガラス基板110とマザー表面保護基板140とが貼り合わされた状態で固定されることになる。   Next, the dissolved resin is dried and solidified. By solidifying the resin, the mother glass substrate 110 in contact with the resin and the mother surface protection substrate 140 are fixed in a bonded state.

次に、図5(b)に示すように、第1封止材61の周囲を囲うようにして第2封止材62を形成する。ここでは、各パネル領域Pに金属パターン62A,62Aを形成した後、この構造体をめっき液に浸漬することによってめっき処理を施す。すると、各金属パターン62A,62Aの表面上に生成しためっき皮膜が成長することによって金属パターン62A,62A同士の間にめっき層62Bが形成される。このようにして、第1封止材61の外側に金属めっき層からなる第2封止材62を形成し、封止部60を得る。
なお、めっき処理を施す前に、予め端子27,51上にマスクを形成しておくことにより、これらがめっきされるのを防止することが望ましい。
Next, as shown in FIG. 5B, a second sealing material 62 is formed so as to surround the first sealing material 61. Here, after forming the metal patterns 62A and 62A in each panel region P, the structure is immersed in a plating solution to perform a plating process. Then, a plating layer 62B is formed between the metal patterns 62A and 62A by growing the plating film formed on the surfaces of the metal patterns 62A and 62A. Thus, the 2nd sealing material 62 which consists of a metal plating layer is formed in the outer side of the 1st sealing material 61, and the sealing part 60 is obtained.
In addition, it is desirable to prevent these from being plated by forming a mask on the terminals 27 and 51 in advance before performing the plating process.

次に、例えばダイシングブレード(不図示)などの切削部材によってマザー表面保護基板140、マザーガラス基板110、マザー接続基板120、封止部60を切断する。これらの切断後、図5(c)に示すような個々の電気泳動表示装置1を得る。   Next, the mother surface protection substrate 140, the mother glass substrate 110, the mother connection substrate 120, and the sealing portion 60 are cut by a cutting member such as a dicing blade (not shown). After these cuttings, individual electrophoretic display devices 1 as shown in FIG. 5C are obtained.

本実施形態の電気泳動表示装置1の製造方法によれば、予め、対向する基板120,140の対向面上に、めっき処理の触媒となる金属パターン62A,62Aをそれぞれ形成しておくことによって、ガラス基板間にめっき層62B(第2封止材62)を良好に形成することができる。すなわち、各基板に対して密着性の高い第2封止材62を形成することができるため、第2封止材62と基板面との界面から水分が浸入するのを阻止することができ、高い防湿性能を得ることができる。   According to the manufacturing method of the electrophoretic display device 1 of the present embodiment, by previously forming the metal patterns 62A and 62A serving as the catalyst for the plating process on the opposing surfaces of the opposing substrates 120 and 140, respectively. The plating layer 62B (second sealing material 62) can be formed favorably between the glass substrates. That is, since the second sealing material 62 having high adhesion to each substrate can be formed, it is possible to prevent moisture from entering from the interface between the second sealing material 62 and the substrate surface, High moisture proof performance can be obtained.

(第2実施形態)
図6に、第2実施形態の電気泳動表示装置の断面図を示す。
先に記載した電気泳動表示装置は、電気泳動表示パネル10の4辺全てが封止部60によって封止された構成となっているが、本実施形態の電気泳動表示装置は、複数の端子27,51が配置されている辺10aには封止部60が形成されていない点において異なる。この辺10aに限っては、エポキシ樹脂からなる樹脂封止層63が形成されている。なお、樹脂封止層63の平面視での封止幅W1は、他の辺10bにおける封止部60の封止幅W2よりも広くなっている。
(Second Embodiment)
FIG. 6 is a cross-sectional view of the electrophoretic display device of the second embodiment.
The electrophoretic display device described above has a configuration in which all four sides of the electrophoretic display panel 10 are sealed by the sealing portion 60, but the electrophoretic display device of this embodiment has a plurality of terminals 27. , 51 is different in that the sealing part 60 is not formed on the side 10a. A resin sealing layer 63 made of an epoxy resin is formed only on the side 10a. In addition, the sealing width W1 of the resin sealing layer 63 in plan view is wider than the sealing width W2 of the sealing portion 60 on the other side 10b.

このように、本実施形態の構成によれば、ワイヤー接続部分を樹脂で覆うことができるので当該部分を保護することができ、良好な接続を維持することが可能となる。エポキシ樹脂からなる樹脂封止層63は、電気泳動表示パネル10の一辺(辺10a)のみにしか形成しないため、使用環境等によって素子基板2、接続基板5、および表面保護基板4におけるクラックの発生を効果的に防止し得る。
また、樹脂封止層63の封止幅を広くしたことで、封止部60と同様に十分な防湿性を確保することができる。
Thus, according to the structure of this embodiment, since a wire connection part can be covered with resin, the said part can be protected and it becomes possible to maintain a favorable connection. Since the resin sealing layer 63 made of an epoxy resin is formed only on one side (side 10a) of the electrophoretic display panel 10, occurrence of cracks in the element substrate 2, the connection substrate 5, and the surface protection substrate 4 depending on the use environment or the like. Can be effectively prevented.
Further, since the sealing width of the resin sealing layer 63 is widened, sufficient moisture resistance can be ensured similarly to the sealing portion 60.

以上、添付図面を参照しながら本発明に係る好適な実施形態について説明したが、本発明は係る例に限定されないことは言うまでもない。当業者であれば、特許請求の範囲に記載された技術的思想の範疇内において、各種の変更例または修正例に想到し得ることは明らかであり、それらについても当然に本発明の技術的範囲に属するものと了解される。   As described above, the preferred embodiments according to the present invention have been described with reference to the accompanying drawings, but the present invention is not limited to the examples. It is obvious for those skilled in the art that various changes or modifications can be conceived within the scope of the technical idea described in the claims. It is understood that it belongs to.

例えば、図7に示すように、素子基板2および表面保護基板4の端縁部側まで封止部60を形成することで、防湿性を高めることが望ましい。   For example, as shown in FIG. 7, it is desirable to improve the moisture resistance by forming the sealing portion 60 to the edge side of the element substrate 2 and the surface protection substrate 4.

また、第2実施形態では、電気泳動表示パネル10において端子27,51が形成された辺に樹脂封止層63を形成し、他の3辺にはめっき層を備えた封止部60を形成したが、電気泳動表示パネル10の少なくとも1辺のみに封止部60を形成し、残りの辺に樹脂封止層63を形成した構成としてもよい。この構成であっても、従来に比べれば基板に対するクラックの発生防止をなし得る。   In the second embodiment, the resin sealing layer 63 is formed on the side where the terminals 27 and 51 are formed in the electrophoretic display panel 10, and the sealing part 60 including the plating layer is formed on the other three sides. However, a configuration in which the sealing portion 60 is formed only on at least one side of the electrophoretic display panel 10 and the resin sealing layer 63 is formed on the remaining side may be employed. Even with this configuration, it is possible to prevent the occurrence of cracks on the substrate as compared with the prior art.

なお、上記実施形態では、電気泳動表示装置1を備える電気光学装置を例に挙げて説明したが、電気光学層を備える電気光学装置であれば本発明を適用することが可能である。例えば、TN(Twisted Nematic)液晶ディスプレイ、STN(Super TN)液晶ディスプレイ、強誘電性液晶ディスプレイ、コレステリック液晶ディスプレイ、トナーディスプレイ、ツイストボールディスプレイ等の表示装置を備える電気光学装置にも本発明を適用することができる。   In the above embodiment, the electro-optical device including the electrophoretic display device 1 has been described as an example. However, the present invention can be applied to any electro-optical device including an electro-optical layer. For example, the present invention is also applied to an electro-optical device including a display device such as a TN (Twisted Nematic) liquid crystal display, an STN (Super TN) liquid crystal display, a ferroelectric liquid crystal display, a cholesteric liquid crystal display, a toner display, and a twist ball display. be able to.

更に、本発明の電気光学装置は、上記の電気泳動表示装置及び液晶装置に限られるものではなく、他の電気光学装置にも適用することができる。ここで、他の電気光学装置としては、例えば有機EL装置、無機EL装置、プラズマディスプレイ装置、フィールド・エミッション・ディスプレイ装置、LED等が挙げられる。   Furthermore, the electro-optical device of the present invention is not limited to the electrophoretic display device and the liquid crystal device described above, and can be applied to other electro-optical devices. Examples of other electro-optical devices include organic EL devices, inorganic EL devices, plasma display devices, field emission display devices, and LEDs.

[電子機器]
次に、上記実施形態の電気泳動表示装置1を、電子機器に適用した場合について説明する。
図8は、腕時計1000の正面図である。腕時計1000は、時計ケース1002と、時計ケース1002に連結された一対のバンド1003とを備えている。
時計ケース1002の正面には、上記実施形態の電気泳動表示装置1からなる表示部1005と、秒針1021と、分針1022と、時針1023とが設けられている。時計ケース1002の側面には、操作子としての竜頭1010と操作ボタン1011とが設けられている。竜頭1010は、ケース内部に設けられる巻真(図示は省略)に連結されており、巻真と一体となって多段階(例えば2段階)で押し引き自在、かつ、回転自在に設けられている。表示部1005では、背景となる画像、日付や時間などの文字列、あるいは秒針、分針、時針などを表示することができる。
[Electronics]
Next, the case where the electrophoretic display device 1 of the above embodiment is applied to an electronic device will be described.
FIG. 8 is a front view of the wrist watch 1000. The wrist watch 1000 includes a watch case 1002 and a pair of bands 1003 connected to the watch case 1002.
A display unit 1005 including the electrophoretic display device 1 of the above embodiment, a second hand 1021, a minute hand 1022, and an hour hand 1023 are provided on the front surface of the watch case 1002. On the side surface of the watch case 1002, a crown 1010 and an operation button 1011 are provided as operation elements. The crown 1010 is connected to a winding stem (not shown) provided inside the case, and is integrally provided with the winding stem so that it can be pushed and pulled in multiple stages (for example, two stages) and can be rotated. . The display unit 1005 can display a background image, a character string such as date and time, or a second hand, a minute hand, and an hour hand.

図9は電子ペーパー1100の構成を示す斜視図である。電子ペーパー1100は、上記実施形態の電気泳動表示装置1を表示領域1101に備えている。電子ペーパー1100は可撓性を有し、従来の紙と同様の質感及び柔軟性を有する書き換え可能なシートからなる本体1102を備えて構成されている。   FIG. 9 is a perspective view illustrating a configuration of the electronic paper 1100. An electronic paper 1100 includes the electrophoretic display device 1 of the above embodiment in a display area 1101. The electronic paper 1100 is flexible and includes a main body 1102 made of a rewritable sheet having the same texture and flexibility as conventional paper.

図10は、電子ノート1200の構成を示す斜視図である。電子ノート1200は、上記の電子ペーパー1100が複数枚束ねられ、カバー1201に挟まれているものである。カバー1201は、例えば外部の装置から送られる表示データを入力する図示は省略の表示データ入力手段を備える。これにより、その表示データに応じて、電子ペーパーが束ねられた状態のまま、表示内容の変更や更新を行うことができる。   FIG. 10 is a perspective view showing the configuration of the electronic notebook 1200. An electronic notebook 1200 is obtained by bundling a plurality of the electronic papers 1100 and sandwiching them between covers 1201. The cover 1201 includes display data input means (not shown) for inputting display data sent from an external device, for example. Thereby, according to the display data, the display content can be changed or updated while the electronic paper is bundled.

以上の腕時計1000、電子ペーパー1100、及び電子ノート1200によれば、装置内部へ封止幅を広げることなく、電気泳動表示装置の信頼性を高めることが可能な電気泳動表示装置1を搭載したので、優れた表示特性を有する電子機器1000、1100、1200を得ることができる。   According to the wristwatch 1000, the electronic paper 1100, and the electronic notebook 1200, the electrophoretic display device 1 that can increase the reliability of the electrophoretic display device without increasing the sealing width inside the device is mounted. Electronic devices 1000, 1100, and 1200 having excellent display characteristics can be obtained.

なお、上記の電子機器は、本発明に係る電子機器を例示するものであって、本発明の技術範囲を限定するものではない。例えば、携帯電話、携帯用オーディオ機器などの電子機器の表示部にも、本発明に係る電気泳動表示装置は好適に用いることができる。   In addition, said electronic device is an example of the electronic device which concerns on this invention, Comprising: The technical scope of this invention is not limited. For example, the electrophoretic display device according to the present invention can be suitably used for a display unit of an electronic device such as a mobile phone or a portable audio device.

1…電気泳動表示装置(電気光学装置)、2…素子基板、4…表面保護基板、31…電気泳動層(電気光学層)、10…電気泳動表示パネル(電気光学パネル)、61…第1封止層(樹脂層)、62…第2封止層(めっき層)、62A…金属パターン、1000…腕時計(電子機器)、1100…電子ペーパー(電子機器)、1200…電子ノート(電子機器) DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 ... Electrophoretic display device (electro-optical device), 2 ... Element substrate, 4 ... Surface protection substrate, 31 ... Electrophoretic layer (electro-optical layer), 10 ... Electrophoretic display panel (electro-optical panel), 61 ... 1st Sealing layer (resin layer), 62 ... second sealing layer (plating layer), 62A ... metal pattern, 1000 ... watch (electronic device), 1100 ... electronic paper (electronic device), 1200 ... electronic notebook (electronic device)

Claims (9)

一対の基板同士の間に電気光学層が挟持されてなる電気光学パネルを備える電気光学装置であって、
前記電気光学層の周りを囲うようにして前記一対の基板間に配置されるとともにこれら基板同士の間で前記電気光学層を封止する樹脂層と、
前記樹脂層の側壁面の少なくとも一部を覆うようにして形成されためっき層と、を備えたこと
を特徴とする電気光学装置。
An electro-optical device including an electro-optical panel in which an electro-optical layer is sandwiched between a pair of substrates,
A resin layer disposed between the pair of substrates so as to surround the electro-optic layer and sealing the electro-optic layer between the substrates;
An electro-optical device comprising: a plating layer formed so as to cover at least a part of the side wall surface of the resin layer.
前記めっき層が、前記一対の基板上にそれぞれ形成された金属パターンに接続されていることを特徴とする請求項1記載の電気光学装置。   The electro-optical device according to claim 1, wherein the plating layer is connected to a metal pattern formed on each of the pair of substrates. 前記めっき層が、前記金属パターンを核として成長したものであること
を特徴とする請求項1または2記載の電気光学装置。
3. The electro-optical device according to claim 1, wherein the plating layer is grown using the metal pattern as a nucleus.
前記樹脂層が、エポキシ樹脂より弾性率あるいは熱応力の小さい樹脂材料からなること
を特徴とする請求項1記載の電気光学装置。
The electro-optical device according to claim 1, wherein the resin layer is made of a resin material having a smaller elastic modulus or thermal stress than an epoxy resin.
前記樹脂層の側壁面全体が前記めっき層によって覆われていること
を特徴とする請求項1ないし4のいずれか一項に記載の電気光学装置。
The electro-optical device according to claim 1, wherein the entire side wall surface of the resin layer is covered with the plating layer.
前記めっき層が形成されている部位の平面視での前記樹脂層の幅が、前記めっき層が形成されていない部位の平面視での前記樹脂層の幅より小さいことを特徴とする請求項1ないし5のいずれか一項に記載の電気光学装置。   The width of the resin layer in a plan view of a portion where the plating layer is formed is smaller than a width of the resin layer in a plan view of a portion where the plating layer is not formed. 6. The electro-optical device according to any one of items 5 to 5. 電気光学層を介して一対の基板を貼り合わせる工程と、
前記電気光学層の周りを囲うようにして前記一対の基板間に樹脂層を形成する工程と、
前記樹脂層の側壁面の少なくとも一部を覆うようにしてめっき層を形成する工程と、を備えたこと
を特徴とする電気光学装置の製造方法。
Bonding a pair of substrates through an electro-optic layer;
Forming a resin layer between the pair of substrates so as to surround the electro-optic layer;
And a step of forming a plating layer so as to cover at least part of the side wall surface of the resin layer.
前記電気光学層を介して一対の基板を貼り合わせる工程に先立って、
前記一対の基板上にそれぞれ金属パターンをそれぞれ形成する工程を有し、
前記めっき層を形成する工程において、前記金属パターンから前記めっき層を成長させること
を特徴とする請求項7記載の電気光学装置の製造方法。
Prior to the step of bonding a pair of substrates through the electro-optic layer,
Forming a metal pattern on each of the pair of substrates,
8. The method of manufacturing an electro-optical device according to claim 7, wherein the plating layer is grown from the metal pattern in the step of forming the plating layer.
請求項1から6のいずれかに記載の電気光学装置を備えたこと
を特徴とする電子機器。
An electronic apparatus comprising the electro-optical device according to claim 1.
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