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JP2011093113A - Device and method for manufacturing laminated substrate - Google Patents

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JP2011093113A
JP2011093113A JP2009246634A JP2009246634A JP2011093113A JP 2011093113 A JP2011093113 A JP 2011093113A JP 2009246634 A JP2009246634 A JP 2009246634A JP 2009246634 A JP2009246634 A JP 2009246634A JP 2011093113 A JP2011093113 A JP 2011093113A
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Japan
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substrate
resin layer
roller
laminated
laminated substrate
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JP2009246634A
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Hideaki Yamada
秀明 山田
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Fujifilm Corp
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Fujifilm Corp
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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To efficiently manufacture a high-quality laminated substrate by favorably smoothing a resin layer from which a support layer is exfoliated by a simple structure and a step. <P>SOLUTION: A device 20 for manufacturing includes an attachment mechanism 46 obtaining an attachment substrate 24a by sticking a photosensitive web 22 to a glass substrate 24, an exfoliation mechanism 114 obtaining the laminated substrate 112 by exfoliating a base film 26 from the attachment substrate 24a, and a pressing roller mechanism 120 pressed to a resin layer surface 124 from which the base film 26 is exfoliated, and smoothing a recessed/protruded shape of the resin layer surface 124 by moving relatively to the laminated substrate 112. <P>COPYRIGHT: (C)2011,JPO&INPIT

Description

本発明は、支持層と少なくとも1層の樹脂層とが積層された積層体を、前記樹脂層側が基板に向かうようにして前記基板に接着した後、前記支持層を前記樹脂層から剥離して積層基板を製造する積層基板の製造装置法及び製造方法に関する。   In the present invention, a laminate in which a support layer and at least one resin layer are laminated is bonded to the substrate such that the resin layer side faces the substrate, and then the support layer is peeled from the resin layer. The present invention relates to a multilayer substrate manufacturing apparatus method and a manufacturing method for manufacturing a multilayer substrate.

例えば、液晶パネル用基板、プリント配線用基板、PDPパネル用基板では、感光性樹脂(感光材料)層を有する感光性シート体(感光性ウエブ)を基板表面に貼り付けて構成されている。感光性シート体は、可撓性プラスチック支持体上に感光性樹脂層と保護フイルムとが、順次、積層されている。   For example, a liquid crystal panel substrate, a printed wiring substrate, and a PDP panel substrate are configured by attaching a photosensitive sheet (photosensitive web) having a photosensitive resin (photosensitive material) layer to the substrate surface. In the photosensitive sheet body, a photosensitive resin layer and a protective film are sequentially laminated on a flexible plastic support.

そこで、この種の感光性シート体の貼り付けに使用される貼付装置は、通常、ガラス基板や樹脂基板等の基板を所定の間隔ずつ離間させて搬送するとともに、前記感光性シート体から保護フイルムを剥離した後、前記基板に感光性樹脂層を貼り付ける方式が採用されている。   Therefore, a pasting apparatus used for pasting this type of photosensitive sheet body usually transports a substrate such as a glass substrate or a resin substrate spaced apart by a predetermined distance, and also protects the protective film from the photosensitive sheet body. After peeling off, a method of sticking a photosensitive resin layer to the substrate is employed.

例えば、特許文献1に開示されているドライレジストフイルムのラミネート方法では、図9に示すように、基板予熱部、ラミネート部、基板冷却部、基板上フイルム切断部及びフイルム除去部が、基板1の搬送方向に沿って、順次、配設されている。この基板1は、基板予熱部の予熱ヒータ2よって所定の温度に加熱された後、ラミネート部に送られている。   For example, in the dry resist film laminating method disclosed in Patent Document 1, as shown in FIG. 9, a substrate preheating unit, a laminating unit, a substrate cooling unit, a substrate film cutting unit, and a film removing unit are provided on the substrate 1. They are sequentially arranged along the transport direction. The substrate 1 is heated to a predetermined temperature by the preheating heater 2 of the substrate preheating portion, and then sent to the laminating portion.

ラミネート部には、一対のラミネートローラ3a、3bが配置されており、前記ラミネートローラ3a、3b間には、基板1とドライレジストフイルム4とが送られるため、前記ドライレジストフイルム4が前記基板1に熱圧着されている。なお、ドライレジストフイルム4は、予め、カバーフイルム5が剥離されており、図示しないレジスト層が基板1側に向かって熱圧着されている。   A pair of laminating rollers 3a and 3b are disposed in the laminating section, and since the substrate 1 and the dry resist film 4 are sent between the laminating rollers 3a and 3b, the dry resist film 4 is the substrate 1. It is thermocompression bonded to. The dry resist film 4 has a cover film 5 previously peeled off, and a resist layer (not shown) is thermocompression bonded toward the substrate 1 side.

さらに、ドライレジストフイルム4が熱圧着された基板1は、搬送ローラ6を介して基板冷却部に送られ、基板冷却手段7を介して冷却されている。基板冷却部によりドライレジストフイルム4が冷却されることにより、このドライレジストフイルム4のレジスト層が硬化するとともに、基板1との密着力が向上している。従って、次段の基板上フイルム切断部において、ドライレジストフイルム4を切断する際に、切断の応力でレジスト層の剥離が発生することを防止している。   Further, the substrate 1 to which the dry resist film 4 is thermocompression bonded is sent to the substrate cooling unit via the transport roller 6 and cooled via the substrate cooling means 7. When the dry resist film 4 is cooled by the substrate cooling unit, the resist layer of the dry resist film 4 is cured and the adhesion with the substrate 1 is improved. Therefore, when the dry resist film 4 is cut at the next stage on-substrate film cutting portion, the resist layer is prevented from being peeled off by the cutting stress.

次いで、基板1同士を連結しているドライレジストフイルム4は、基板上フイルム切断部でカッターを備えた基板上フイルム切断手段8により切断されるとともに、前記基板1は、フイルム除去部に送られている。このフイルム除去部では、基板1が加熱ロール9により再加熱された後、フイルム剥離手段10を介して前記基板1間を連結し且つ切断工程で形成された切断面間のドライレジストフイルム4が、前記基板1から除去されている。   Next, the dry resist film 4 connecting the substrates 1 is cut by the on-substrate film cutting means 8 provided with a cutter at the on-substrate film cutting section, and the substrate 1 is sent to the film removing section. Yes. In this film removing unit, after the substrate 1 is reheated by the heating roll 9, the dry resist film 4 between the cut surfaces formed by connecting the substrates 1 via the film peeling means 10 and formed in the cutting step is obtained. It has been removed from the substrate 1.

特開平8−183146号公報JP-A-8-183146

上記の従来技術では、基板1からドライレジストフイルム4が剥離される際、レジスト層に突起状物(毛羽立ち)が発生し易い。特に、ドライレジストフイルム4が剥離された基板1の貼り付けられるウェブ搬送方向の前後端には、突起状物の発生が顕著になっている。   In the above prior art, when the dry resist film 4 is peeled from the substrate 1, protrusions (fluff) are likely to occur in the resist layer. In particular, the occurrence of protrusions is prominent at the front and rear ends in the web conveyance direction to which the substrate 1 from which the dry resist film 4 has been peeled off is attached.

ところで、例えば、プロキシミティー露光方式では、マスクと被露光基板とに所定の距離(ギャップ)を空けた状態で、平行光を照射することにより、マスクパターンを直接投影してレジスト層に露光処理を行っている。この所定の距離は、通常、160μmに設定されている。   By the way, for example, in the proximity exposure method, a mask pattern is projected directly by irradiating parallel light with a predetermined distance (gap) between the mask and the substrate to be exposed, and an exposure process is performed on the resist layer. Is going. This predetermined distance is normally set to 160 μm.

しかしながら、レジスト層に160μm以上の突起状物が発生していると、この突起状物がマスクに付着し易く、前記突起状物が露光範囲内に入って露光不良が惹起されるという問題がある。   However, if protrusions of 160 μm or more are generated in the resist layer, the protrusions easily adhere to the mask, and there is a problem that the protrusions enter the exposure range and cause exposure failure. .

本発明はこの種の問題を解決するものであり、簡単な構成及び工程で、支持層が剥離された樹脂層を良好に平滑化することができ、高品質な積層基板を効率的に製造することが可能な積層基板の製造装置及び製造方法を提供することを目的とする。   The present invention solves this type of problem, and with a simple configuration and process, the resin layer from which the support layer has been peeled can be smoothly smoothed, and a high-quality multilayer substrate can be efficiently produced. It is an object of the present invention to provide a manufacturing apparatus and a manufacturing method for a laminated substrate.

本発明に係る積層基板の製造装置は、支持層と少なくとも1層の樹脂層とが積層された積層体を、前記樹脂層側が基板に向かうようにして前記基板に接着して貼り付け基板を得る貼り付け機構と、前記支持層を前記樹脂層から剥離して積層基板を得る剥離機構と、前記支持層が剥離された前記樹脂層に圧着され、前記積層基板と相対的に移動することにより前記樹脂層の凹凸形状を平坦化させる圧着ローラ機構とを備えている。   The apparatus for manufacturing a laminated substrate according to the present invention obtains a bonded substrate by adhering a laminated body in which a support layer and at least one resin layer are laminated to the substrate so that the resin layer side faces the substrate. An affixing mechanism, a peeling mechanism for peeling the support layer from the resin layer to obtain a laminated substrate, a pressure bonding to the resin layer from which the support layer has been peeled, and moving relative to the laminated substrate A pressure roller mechanism for flattening the uneven shape of the resin layer.

また、圧着ローラ機構は、積層基板の両面に配設される一対のローラ部材と、前記一対のローラ部材を互いに近接する方向に付勢し、該一対のローラ部材で樹脂層を加圧する弾性部材とを備えることが好ましい。   The pressure roller mechanism includes a pair of roller members disposed on both surfaces of the laminated substrate and an elastic member that urges the pair of roller members in a direction close to each other and pressurizes the resin layer with the pair of roller members. It is preferable to comprise.

さらに、一対のローラ部材は、非粘着ゴムローラであることが好ましい。   Further, the pair of roller members is preferably a non-adhesive rubber roller.

さらにまた、一対のローラ部材は、ゴム硬度50〜80のゴムローラであることが好ましい。   Furthermore, the pair of roller members is preferably a rubber roller having a rubber hardness of 50 to 80.

また、一対のローラ部材は、軸方向中央が山高なクラウン形状を有することが好ましい。   Moreover, it is preferable that a pair of roller member has a crown shape with a peak in the axial center.

さらに、一対のローラ部材と積層基板とは、相対的に26cm/sec以下の速度で移動することが好ましい。   Furthermore, it is preferable that the pair of roller members and the laminated substrate move relatively at a speed of 26 cm / sec or less.

さらにまた、一対のローラ部材は、0.4MPa以上の圧着力で積層基板を挟持することが好ましい。   Furthermore, it is preferable that the pair of roller members sandwich the laminated substrate with a pressing force of 0.4 MPa or more.

また、本発明に係る積層基板の製造方法は、支持層と少なくとも1層の樹脂層とが積層された積層体を、前記樹脂層側が基板に向かうようにして前記基板に接着して貼り付け基板を得る工程と、前記支持層を前記樹脂層から剥離して積層基板を得る工程と、前記支持層が剥離された前記樹脂層に圧着ローラ機構を圧着し、前記圧着ローラ機構と前記積層基板とを相対的に移動させることにより、前記樹脂層の凹凸形状を平坦化させる工程とを有している。   Also, in the method for manufacturing a laminated substrate according to the present invention, a laminated body in which a support layer and at least one resin layer are laminated is bonded to the substrate so that the resin layer side faces the substrate. A step of peeling the support layer from the resin layer to obtain a laminated substrate, a pressure roller mechanism is pressure-bonded to the resin layer from which the support layer has been peeled, and the pressure roller mechanism and the laminated substrate To relatively flatten the uneven shape of the resin layer.

本発明では、支持層が樹脂層から剥離された後、圧着ローラ機構が前記樹脂層に圧着された状態で、前記圧着ローラ機構と積層基板とが相対的に移動する。このため、樹脂層は、支持層の剥離により形成される凹凸形状が良好に平坦化され、簡単な構成及び工程で、高品質な積層基板を効率的に製造することが可能になる。従って、露光処理時に、樹脂層がマスクに付着することがなく、良好な露光処理が確実に遂行される。   In the present invention, after the support layer is peeled from the resin layer, the pressure roller mechanism and the laminated substrate are relatively moved in a state where the pressure roller mechanism is pressure-bonded to the resin layer. For this reason, the uneven shape formed by peeling of the support layer of the resin layer is satisfactorily flattened, and a high-quality laminated substrate can be efficiently manufactured with a simple configuration and process. Therefore, the resin layer does not adhere to the mask during the exposure process, and a good exposure process is reliably performed.

本発明の実施形態に係る製造装置の概略構成図である。It is a schematic block diagram of the manufacturing apparatus which concerns on embodiment of this invention. 前記製造装置に使用される長尺状感光性ウエブの断面図である。It is sectional drawing of the elongate photosensitive web used for the said manufacturing apparatus. 前記長尺状感光性ウエブに接着ラベルが接着された状態の説明図である。It is explanatory drawing of the state by which the adhesive label was adhere | attached on the said elongate photosensitive web. 前記製造装置を構成する圧着ローラ機構の概略斜視説明図である。It is a schematic perspective view of the pressure roller mechanism constituting the manufacturing apparatus. 前記圧着ローラ機構の概略正面説明図である。It is a schematic front explanatory view of the pressure roller mechanism. ばね強度とニップバンドとの関係説明図である。It is a relation explanatory drawing of spring strength and a nip band. 前記ばね強度と接圧との関係説明図である。It is a relation explanatory drawing of the above-mentioned spring strength and contact pressure. 圧着前後の高さ変動の説明図である。It is explanatory drawing of the height fluctuation | variation before and behind crimping | compression-bonding. 特許文献1のドライレジストフイルムのラミネート方法の説明図である。It is explanatory drawing of the lamination method of the dry resist film of patent document 1. FIG.

図1に示すように、本発明の第1の実施形態に係る積層基板の製造装置20は、プリント配線用基板、液晶、PDP又は有機EL用カラーフィルタ等の製作工程で、長尺状感光性ウエブ22の感光性樹脂層29(後述する)をガラス基板24に熱転写する作業を行う。   As shown in FIG. 1, the laminated substrate manufacturing apparatus 20 according to the first embodiment of the present invention is a long photosensitive in a manufacturing process of a printed wiring board, a liquid crystal, a PDP, an organic EL color filter, or the like. An operation of thermally transferring a photosensitive resin layer 29 (described later) of the web 22 to the glass substrate 24 is performed.

図2に示すように、製造装置20に使用される感光性ウエブ22は、可撓性ベースフイルム(支持層)26、クッション層(熱可塑性樹脂層)27、中間層(酸素遮断膜)28、感光性樹脂層29及び保護フイルム30を積層して構成される。なお、感光性ウエブ22は、ベースフイルム26、感光性樹脂層29及び保護フイルム30により構成されていてもよい。   As shown in FIG. 2, the photosensitive web 22 used in the manufacturing apparatus 20 includes a flexible base film (support layer) 26, a cushion layer (thermoplastic resin layer) 27, an intermediate layer (oxygen barrier film) 28, The photosensitive resin layer 29 and the protective film 30 are laminated. The photosensitive web 22 may be composed of a base film 26, a photosensitive resin layer 29, and a protective film 30.

ベースフイルム26は、ポリエチレンテレフタレート(PET)で形成され、クッション層27は、エチレンと酸化ビニル共重合体で形成され、中間層28は、ポリビニルアルコールで形成され、感光性樹脂層29は、アルカリ可溶性バインダとモノマーと光重合開始材と着色剤を含む着色感光性樹脂組成物で形成され、保護フイルム30は、ポリエチレンあるいはポリプロピレン等で形成される。   The base film 26 is formed of polyethylene terephthalate (PET), the cushion layer 27 is formed of ethylene and vinyl oxide copolymer, the intermediate layer 28 is formed of polyvinyl alcohol, and the photosensitive resin layer 29 is alkali-soluble. The protective film 30 is formed of polyethylene, polypropylene, or the like, and is formed of a colored photosensitive resin composition containing a binder, a monomer, a photopolymerization initiator, and a colorant.

図1に示すように、製造装置20は、感光性ウエブ22をロール状に巻回した感光性ウエブロール22aを収容し、この感光性ウエブロール22aから前記感光性ウエブ22を送り出すウエブ送り出し機構32と、送り出された前記感光性ウエブ22の保護フイルム30に、幅方向に切断可能なハーフカット部位34を形成するハーフカット機構36と、接着ラベル38(図3参照)を保護フイルム30に接着させるラベル接着機構40とを備える。   As shown in FIG. 1, the manufacturing apparatus 20 accommodates a photosensitive web roll 22a in which a photosensitive web 22 is wound in a roll shape, and a web feed mechanism 32 that feeds the photosensitive web 22 from the photosensitive web roll 22a. Then, a half-cut mechanism 36 for forming a half-cut portion 34 that can be cut in the width direction and an adhesive label 38 (see FIG. 3) are bonded to the protective film 30 on the fed-out protective film 30 of the photosensitive web 22. A label adhering mechanism 40.

ラベル接着機構40の下流には、感光性ウエブ22をタクト送りから略連続送りに変更するためのリザーバ機構42と、前記感光性ウエブ22から保護フイルム30を所定の長さ間隔で剥離させる保護フイルム剥離機構44と、ガラス基板24を所定の温度に加熱した状態で貼り付け位置に搬送する加熱機構45と、前記保護フイルム30の剥離により露出した感光性樹脂層29を前記ガラス基板24に貼り付ける貼り付け機構46とが配設される。なお、貼り付け機構46によりガラス基板24に感光性ウエブ22が貼り付けられた積層体を、以下、貼り付け基板24aという。   Downstream of the label adhering mechanism 40, a reservoir mechanism 42 for changing the photosensitive web 22 from tact feeding to substantially continuous feeding, and a protective film for peeling the protective film 30 from the photosensitive web 22 at a predetermined length interval. A peeling mechanism 44, a heating mechanism 45 that transports the glass substrate 24 to a pasting position in a state where the glass substrate 24 is heated to a predetermined temperature, and a photosensitive resin layer 29 exposed by the peeling of the protective film 30 are pasted to the glass substrate 24. An affixing mechanism 46 is provided. The laminated body in which the photosensitive web 22 is bonded to the glass substrate 24 by the bonding mechanism 46 is hereinafter referred to as a bonded substrate 24a.

貼り付け機構46の下流には、各ガラス基板24間の前記感光性ウエブ22を切断する基板間ウエブ切断機構48が配設される。この基板間ウエブ切断機構48の上流には、運転開始時及び運転終了時に使用されるウエブ切断機構48aが設けられる。   An inter-substrate web cutting mechanism 48 for cutting the photosensitive web 22 between the glass substrates 24 is disposed downstream of the attaching mechanism 46. Upstream of the inter-substrate web cutting mechanism 48, a web cutting mechanism 48a used at the start of operation and at the end of operation is provided.

ウエブ送り出し機構32の下流近傍には、略使用済みの感光性ウエブ22の後端と、新たに使用される感光性ウエブ22の先端とを接合させる接合台49が配設される。この接合台49の下流には、感光性ウエブロール22aの巻きずれによる幅方向のずれを制御するために、フイルム端位置検出器51が配設される。   In the vicinity of the downstream side of the web feed mechanism 32, a joining base 49 for joining the rear end of the photosensitive web 22 that has been substantially used and the tip of the photosensitive web 22 that is newly used is disposed. A film end position detector 51 is disposed downstream of the joining base 49 in order to control the deviation in the width direction due to the winding deviation of the photosensitive web roll 22a.

ハーフカット機構36は、ウエブ送り出し機構32に収容巻回されている感光性ウエブロール22aのロール径を算出するためのローラ対50の下流に配置される。ハーフカット機構36は、感光性ウエブ22の搬送方向(矢印A方向)に直交する方向に進退自在な回転丸刃(カッタ)54を備える。   The half-cut mechanism 36 is disposed downstream of the roller pair 50 for calculating the roll diameter of the photosensitive web roll 22a accommodated and wound in the web feed mechanism 32. The half-cut mechanism 36 includes a rotating round blade (cutter) 54 that is movable back and forth in a direction orthogonal to the conveyance direction (arrow A direction) of the photosensitive web 22.

図2に示すように、ハーフカット部位34は、少なくとも保護フイルム30を切断する必要があり、実際上、この保護フイルム30を確実に切断するために感光性樹脂層29乃至中間層28まで切り込むように、回転丸刃54の切り込み深さが設定される。   As shown in FIG. 2, the half-cut portion 34 needs to cut at least the protective film 30, and in practice, the photosensitive resin layer 29 to the intermediate layer 28 are cut to securely cut the protective film 30. In addition, the cutting depth of the rotating round blade 54 is set.

ラベル接着機構40は、ガラス基板24間に対応して保護フイルム30の残存部分30bを残すため、剥離側前方の剥離部分30aaと剥離側後方の剥離部分30abとを連結する接着ラベル38を供給する。図2に示すように、保護フイルム30は、残存部分30bを挟んで、先に剥離される部分を前方の剥離部分30aaとする一方、後に剥離される部分を後方の剥離部分30abとする。   The label bonding mechanism 40 supplies an adhesive label 38 that connects the peeling portion 30aa on the front side of the peeling side and the peeling portion 30ab on the back side of the peeling side in order to leave the remaining portion 30b of the protective film 30 correspondingly between the glass substrates 24. . As shown in FIG. 2, the protective film 30 has a remaining portion 30 b sandwiched between the first peeled portion 30 aa and the later peeled portion 30 ab.

図1に示すように、ラベル接着機構40は、最大7枚の接着ラベル38を所定間隔ずつ離間して貼り付け可能な吸着パッド58a〜58gを備えるとともに、前記吸着パッド58a〜58gによる前記接着ラベル38の貼り付け位置には、感光性ウエブ22を下方から保持するための受台59が昇降自在に配置される。   As shown in FIG. 1, the label adhering mechanism 40 includes adsorbing pads 58a to 58g to which a maximum of seven adhering labels 38 can be attached at predetermined intervals, and the adhering labels by the adsorbing pads 58a to 58g. At the attachment position 38, a pedestal 59 for holding the photosensitive web 22 from below is disposed so as to be movable up and down.

リザーバ機構42は、上流側の感光性ウエブ22のタクト搬送と、下流側の前記感光性ウエブ22の連続搬送との速度差を吸収するが、さらにテンション変動を防ぐために、揺動自在な2連のローラ60で構成されるダンサー61を備えることが好ましい。   The reservoir mechanism 42 absorbs the difference in speed between the tact conveyance of the upstream photosensitive web 22 and the continuous conveyance of the downstream photosensitive web 22, but in order to further prevent fluctuations in tension, the reservoir mechanism 42 is a oscillating duplex unit. It is preferable to provide a dancer 61 composed of the roller 60.

保護フイルム剥離機構44は、リザーバ機構42の下流に配置されるとともに、サクションドラム62と、感光性ウエブ22を挟んでこのサクションドラム62に接する剥離ローラ64とを備える。剥離ローラ64を介して感光性ウエブ22から鋭角の剥離角で剥離される保護フイルム30は、残存部分30bを除いて保護フイルム巻き取り軸66に巻き取られる。保護フイルム巻き取り軸66は、保護フイルム30に所定のテンションを付与するために、例えば、トルクモータ68に連結される。   The protective film peeling mechanism 44 is disposed downstream of the reservoir mechanism 42, and includes a suction drum 62 and a peeling roller 64 that contacts the suction drum 62 with the photosensitive web 22 interposed therebetween. The protective film 30 that is peeled off from the photosensitive web 22 at an acute peeling angle via the peeling roller 64 is wound around the protective film winding shaft 66 except for the remaining portion 30b. The protective film take-up shaft 66 is connected to, for example, a torque motor 68 in order to apply a predetermined tension to the protective film 30.

保護フイルム剥離機構44の下流側には、感光性ウエブ22にテンションを付与可能なテンション制御機構76が配設される。テンション制御機構76は、シリンダ78を備え、このシリンダ78の駆動作用下に、テンションピックアップローラ80が揺動変位することにより、このテンションピックアップローラ80が摺接する感光性ウエブ22のテンションが調整可能である。なお、テンション制御機構76は、必要に応じて使用すればよく、削除することもできる。   A tension control mechanism 76 that can apply tension to the photosensitive web 22 is disposed on the downstream side of the protective film peeling mechanism 44. The tension control mechanism 76 includes a cylinder 78, and the tension of the photosensitive web 22 with which the tension pickup roller 80 is slidably contacted can be adjusted by oscillating and displacing the tension pickup roller 80 under the driving action of the cylinder 78. is there. The tension control mechanism 76 may be used as necessary, and can be deleted.

加熱機構45は、ガラス基板24を矢印C方向に搬送するための搬送機構84と複数の加熱炉86とを備え、この搬送機構84は、矢印C方向に配列される複数の樹脂製円板状搬送ローラ88を有する。   The heating mechanism 45 includes a transport mechanism 84 for transporting the glass substrate 24 in the direction of arrow C and a plurality of heating furnaces 86, and the transport mechanism 84 has a plurality of resin disk shapes arranged in the direction of arrow C. A conveyance roller 88 is included.

貼り付け機構46は、上下に配設されるとともに、所定温度に加熱されるラミネート用ゴムローラ90a、90bを備える。ゴムローラ90a、90bには、バックアップローラ92a、92bが摺接するとともに、前記バックアップローラ92bは、ローラクランプ部94を介してゴムローラ90b側に押圧される。   The affixing mechanism 46 is provided with rubber rollers 90a and 90b for laminating that are arranged vertically and heated to a predetermined temperature. The backup rollers 92a and 92b are in sliding contact with the rubber rollers 90a and 90b, and the backup roller 92b is pressed toward the rubber roller 90b via the roller clamp portion 94.

ゴムローラ90aの近傍には、感光性ウエブ22が前記ゴムローラ90aに接触することを防止するための接触防止ローラ96が配設される。この接触防止ローラ96は、図示しないアクチュエータを介して移動可能である。   In the vicinity of the rubber roller 90a, a contact prevention roller 96 for preventing the photosensitive web 22 from contacting the rubber roller 90a is disposed. The contact prevention roller 96 is movable via an actuator (not shown).

貼り付け機構46と基板間ウエブ切断機構48との間には、フイルム搬送ローラ98aと基板搬送ローラ98bとが配設される。基板間ウエブ切断機構48の下流側には、複数のローラ110aが配列される搬送系110が設けられる。搬送系110の矢印C方向(下流側)の端部には、貼り付け基板24aからベースフイルム26を剥離して積層基板112を得る剥離機構114が配設される。   A film transport roller 98a and a substrate transport roller 98b are disposed between the attaching mechanism 46 and the inter-substrate web cutting mechanism 48. A transport system 110 in which a plurality of rollers 110 a are arranged is provided on the downstream side of the inter-substrate web cutting mechanism 48. At the end of the conveyance system 110 in the direction of arrow C (downstream), a peeling mechanism 114 that peels the base film 26 from the attachment substrate 24a to obtain the laminated substrate 112 is disposed.

剥離機構114は、アクチュエータ(図示せず)を介して移動可能な一対のチャック116a、116bを備える。チャック116a、116bは、貼り付け基板24aを構成するガラス基板24の搬送方向両端から外部に突出するベースフイルム26の両側部を把持自在な位置に位置調整可能である。チャック116a、116bの下方には、貼り付け基板24aのガラス基板24を吸着保持するために複数の吸着パッド118が配設される。   The peeling mechanism 114 includes a pair of chucks 116a and 116b that can move via an actuator (not shown). The chucks 116a and 116b can be adjusted to positions where both sides of the base film 26 projecting outward from both ends in the transport direction of the glass substrate 24 constituting the bonded substrate 24a can be gripped. Below the chucks 116a and 116b, a plurality of suction pads 118 are disposed to suck and hold the glass substrate 24 of the bonded substrate 24a.

剥離機構114の下流には、圧着ローラ機構120が配設される。図4及び図5に示すように、圧着ローラ機構120は、積層基板112の少なくとも一端部側両面に配設される一対のローラ部材122a、122bと、前記ローラ部材122a、122bを互いに近接する方向に付勢し、該ローラ部材122a、122bでベースフイルム26が剥離された樹脂層表面(クッション層27等)124を加圧する弾性部材、例えば、スプリング126とを備える。   A pressure roller mechanism 120 is disposed downstream of the peeling mechanism 114. As shown in FIGS. 4 and 5, the pressure roller mechanism 120 includes a pair of roller members 122 a and 122 b disposed on at least one end side of the laminated substrate 112 and a direction in which the roller members 122 a and 122 b are close to each other. And an elastic member, for example, a spring 126, that presses the resin layer surface (cushion layer 27, etc.) 124 from which the base film 26 has been peeled off by the roller members 122a and 122b.

ローラ部材122a、122bは、それぞれ壁部128に支持される軸部130a、130bを有する。軸部130a、130bには、ブラケット132a、132bが設けられるとともに、前記ブラケット132a、132b間には、スプリング126が介装されて該ブラケット132a、132b同士を互いに近接する方向に引張する。   The roller members 122a and 122b have shaft portions 130a and 130b supported by the wall portion 128, respectively. Brackets 132a and 132b are provided on the shaft portions 130a and 130b, and a spring 126 is interposed between the brackets 132a and 132b to pull the brackets 132a and 132b toward each other.

軸部130a、130bの先端部には、非粘着ゴムローラ134a、134bが回転自在に設けられる。非粘着ゴムローラ134a、134bは、例えば、シリコーンゴム製のローラで構成され、軸方向中央が山高なクラウン形状を有する。   Non-adhesive rubber rollers 134a and 134b are rotatably provided at the tip portions of the shaft portions 130a and 130b. The non-adhesive rubber rollers 134a and 134b are made of, for example, a silicone rubber roller, and have a crown shape with a peak in the axial center.

非粘着ゴムローラ134a、134bは、ゴム硬度30〜80、より好ましくは、ゴム硬度50〜80に設定されるとともに、スプリング126を介して、0.4MPa以上の圧着力で積層基板112を挟持する。非粘着ゴムローラ134a、134bと積層基板112とは、相対的に26cm/sec以下の速度で移動する。   The non-adhesive rubber rollers 134 a and 134 b are set to a rubber hardness of 30 to 80, more preferably a rubber hardness of 50 to 80, and sandwich the laminated substrate 112 through a spring 126 with a pressure of 0.4 MPa or more. The non-adhesive rubber rollers 134a and 134b and the laminated substrate 112 move relatively at a speed of 26 cm / sec or less.

図1に示すように、製造装置20内は、仕切り壁140を介して第1クリーンルーム142aと第2クリーンルーム142bとに仕切られる。第1クリーンルーム142aには、ウエブ送り出し機構32からテンション制御機構76までが収容されるとともに、第2クリーンルーム142bには、貼り付け機構46以降が収容される。第1クリーンルーム142aと第2クリーンルーム142bとは、貫通部144を介して連通する。   As shown in FIG. 1, the interior of the manufacturing apparatus 20 is partitioned into a first clean room 142 a and a second clean room 142 b through a partition wall 140. The first clean room 142a accommodates the web feed mechanism 32 to the tension control mechanism 76, and the second clean room 142b accommodates the pasting mechanism 46 and the subsequent parts. The first clean room 142a and the second clean room 142b communicate with each other through the penetrating portion 144.

このように構成される製造装置20の動作について、本発明に係る製造方法との関連で以下に説明する。   The operation of the manufacturing apparatus 20 configured as described above will be described below in relation to the manufacturing method according to the present invention.

先ず、図1に示すように、ウエブ送り出し機構32に取り付けられている感光性ウエブロール22aから感光性ウエブ22が繰り出され、この感光性ウエブ22は、ハーフカット機構36に送られる。   First, as shown in FIG. 1, the photosensitive web 22 is fed out from a photosensitive web roll 22 a attached to the web feed mechanism 32, and the photosensitive web 22 is sent to a half-cut mechanism 36.

ハーフカット機構36では、回転丸刃54を介して感光性ウエブ22にハーフカット部位34が形成される(図2参照)。そして、ハーフカット処理された感光性ウエブ22は、図1に示すように、保護フイルム30の残存部分30bの寸法に対応して矢印A方向に搬送された後、一旦停止されて回転丸刃54の走行作用下に次なるハーフカット部位34が形成される。このため、感光性ウエブ22には、残存部分30bを挟んで前方の剥離部分30aaと後方の剥離部分30abとが設けられる(図2参照)。   In the half-cut mechanism 36, a half-cut portion 34 is formed in the photosensitive web 22 via the rotating round blade 54 (see FIG. 2). Then, as shown in FIG. 1, the half-cut photosensitive web 22 is transported in the direction of arrow A corresponding to the dimension of the remaining portion 30b of the protective film 30, and then temporarily stopped and the rotating round blade 54 is removed. The next half-cut portion 34 is formed under the traveling action. For this reason, the photosensitive web 22 is provided with a front peeling portion 30aa and a rear peeling portion 30ab across the remaining portion 30b (see FIG. 2).

さらに、感光性ウエブ22は、ラベル接着機構40に搬送されて、保護フイルム30の所定の貼り付け部位が受台59上に配置される。ラベル接着機構40では、所定枚数の接着ラベル38が吸着パッド58a〜58gにより吸着保持され、各接着ラベル38が保護フイルム30の残存部分30bを跨いで、前方の剥離部分30aaと後方の剥離部分30abとに一体的に接着される(図3参照)。   Further, the photosensitive web 22 is conveyed to the label adhering mechanism 40, and a predetermined application portion of the protective film 30 is disposed on the receiving table 59. In the label adhering mechanism 40, a predetermined number of adhesive labels 38 are adsorbed and held by the adsorbing pads 58a to 58g, and each adhering label 38 straddles the remaining portion 30b of the protective film 30, and the front peeling portion 30aa and the rear peeling portion 30ab. Are integrally bonded to each other (see FIG. 3).

保護フイルム剥離機構44では、感光性ウエブ22がサクションドラム62と剥離ローラ64とに挟持されて、前記感光性ウエブ22のベースフイルム26が前記サクションドラム62に吸着保持されている。この状態で、サクションドラム62が回転されるとともに、保護フイルム30には、トルクモータ68を介して所定のトルクが付与されている。   In the protective film peeling mechanism 44, the photosensitive web 22 is sandwiched between the suction drum 62 and the peeling roller 64, and the base film 26 of the photosensitive web 22 is adsorbed and held on the suction drum 62. In this state, the suction drum 62 is rotated, and a predetermined torque is applied to the protective film 30 via the torque motor 68.

従って、保護フイルム30は、残存部分30bを残して感光性ウエブ22から剥離され、剥離ローラ64を介して保護フイルム巻き取り軸66に巻き取られる。なお、剥離部位には、除電エアを吹き付けることが好ましい。   Therefore, the protective film 30 is peeled off from the photosensitive web 22 leaving the remaining portion 30 b, and taken up on the protective film take-up shaft 66 via the peeling roller 64. In addition, it is preferable to spray static elimination air on a peeling site | part.

保護フイルム剥離機構44の作用下に、保護フイルム30が残存部分30bを残してベースフイルム26から剥離された後、感光性ウエブ22は、テンション制御機構76によってテンション調整が行われる。感光性ウエブ22は、運転開始時にはフイルム搬送ローラ98aの回転作用下に、その後は貼り付け基板24aを挟持する基板搬送ローラ98bの回転作用下に、貼り付け機構46に定量搬送される。その際、接触防止ローラ96が上方に待機するとともに、ゴムローラ90bが下方に配置されている。   Under the action of the protective film peeling mechanism 44, the protective film 30 is peeled off from the base film 26 leaving the remaining portion 30b, and then the tension of the photosensitive web 22 is adjusted by the tension control mechanism 76. The photosensitive web 22 is quantitatively transported to the pasting mechanism 46 under the rotating action of the film transporting roller 98a at the start of operation and thereafter under the rotating action of the substrate transporting roller 98b that sandwiches the pasting substrate 24a. At that time, the contact prevention roller 96 waits upward, and the rubber roller 90b is disposed below.

一方、加熱機構45では、貼り付け機構46におけるラミネート温度に対応して各加熱炉86内の加熱温度が設定されている。ガラス基板24は、搬送機構84を構成する搬送ローラ88の回転作用下に、各加熱炉86に、順次、タクト搬送される。このガラス基板24は、感光性ウエブ22の感光性樹脂層29の貼り付け部分に対応してゴムローラ90a、90b間に一旦配置される。   On the other hand, in the heating mechanism 45, the heating temperature in each heating furnace 86 is set corresponding to the lamination temperature in the attaching mechanism 46. The glass substrate 24 is tact-conveyed sequentially to each heating furnace 86 under the rotating action of the conveyance roller 88 constituting the conveyance mechanism 84. The glass substrate 24 is temporarily disposed between the rubber rollers 90 a and 90 b corresponding to the portion where the photosensitive resin layer 29 of the photosensitive web 22 is attached.

この状態で、ローラクランプ部94を介してバックアップローラ92b及びゴムローラ90bを上昇させることにより、ゴムローラ90a、90b間にガラス基板24が所定のプレス圧力で挟み込まれる。さらに、ゴムローラ90aの回転作用下に、このガラス基板24には、感光性樹脂層29が加熱溶融により転写(ラミネート)される。   In this state, by raising the backup roller 92b and the rubber roller 90b via the roller clamp portion 94, the glass substrate 24 is sandwiched between the rubber rollers 90a and 90b with a predetermined pressing pressure. Further, the photosensitive resin layer 29 is transferred (laminated) to the glass substrate 24 by heating and melting under the rotating action of the rubber roller 90a.

ここで、ラミネート条件としては、速度が1.0m/min〜10.0m/min、ゴムローラ90a、90bの温度が80℃〜150℃、前記ゴムローラ90a、90bのゴム硬度が40度〜90度、該ゴムローラ90a、90bのプレス圧(線圧)が50N/cm〜400N/cmである。   Here, as lamination conditions, the speed is 1.0 m / min to 10.0 m / min, the temperature of the rubber rollers 90a and 90b is 80 ° C. to 150 ° C., the rubber hardness of the rubber rollers 90a and 90b is 40 ° to 90 °, The pressing pressure (linear pressure) of the rubber rollers 90a and 90b is 50 N / cm to 400 N / cm.

ゴムローラ90a、90bを介してガラス基板24に感光性ウエブ22の1枚分のラミネートが終了すると、前記ゴムローラ90aの回転が停止される。一方、ガラス基板24に感光性ウエブ22がラミネートされた貼り付け基板24aは、基板搬送ローラ98bによりクランプされる。そして、ゴムローラ90bは、ゴムローラ90aから離間する方向に退避してクランプが解除される。   When the lamination of one photosensitive web 22 on the glass substrate 24 is completed via the rubber rollers 90a and 90b, the rotation of the rubber roller 90a is stopped. On the other hand, the affixed substrate 24a in which the photosensitive web 22 is laminated on the glass substrate 24 is clamped by the substrate transport roller 98b. Then, the rubber roller 90b is retracted in a direction away from the rubber roller 90a, and the clamp is released.

これにより、一枚分のラミネート処理が終了し、次なるラミネート処理が開始されるまでの時間の中で、加熱機構45を介して所定の温度に加熱されたガラス基板24が、ゴムローラ90a、90b間に搬送されて配置されるとともに、前記ゴムローラ90aに摺接する感光性ウエブ22の微動送りが行われる。   As a result, the glass substrate 24 heated to a predetermined temperature via the heating mechanism 45 in the time from the end of the laminating process for one sheet to the start of the next laminating process, the rubber rollers 90a and 90b. The photosensitive web 22 that is conveyed and disposed between and in sliding contact with the rubber roller 90a is finely fed.

ガラス基板24に感光性ウエブ22が貼り付けられた貼り付け基板24aは、矢印C方向に定量搬送される。そして、各ガラス基板24間の感光性ウエブ22が、基板間ウエブ切断機構48を介して切断された貼り付け基板24aは、搬送系110を介して剥離機構114に搬送される。   Affixed substrate 24a having photosensitive web 22 affixed to glass substrate 24 is quantitatively conveyed in the direction of arrow C. Then, the bonded substrate 24 a obtained by cutting the photosensitive web 22 between the glass substrates 24 via the inter-substrate web cutting mechanism 48 is conveyed to the peeling mechanism 114 via the conveyance system 110.

剥離機構114では、貼り付け基板24aのガラス基板24側が吸着パッド118の吸引作用下に保持される一方、各チャック116a、116bは、ガラス基板24の搬送方向両端から内方に突出するベースフイルム26の搬送方向両端部を把持する。さらに、チャック116a、116bは、所定の方向に駆動制御されることにより、前記チャック116a、116bに把持されるベースフイルム26は、クッション層27から分離されて貼り付け基板24aから剥離されることにより、積層基板112が得られる。   In the peeling mechanism 114, the glass substrate 24 side of the bonded substrate 24 a is held under the suction action of the suction pad 118, while the chucks 116 a and 116 b each protrude inward from both ends of the glass substrate 24 in the transport direction. Grasping both ends in the transport direction. Further, the chucks 116a and 116b are driven and controlled in a predetermined direction, whereby the base film 26 held by the chucks 116a and 116b is separated from the cushion layer 27 and peeled off from the attachment substrate 24a. Thus, the laminated substrate 112 is obtained.

積層基板112では、ベースフイルム26が剥離される際に、樹脂層表面124の貼り付けられるウェブ搬送方向の前後端には、突起状物(毛羽立ち)が発生し易い。これは、保護フイルム30の残存部分30bが収縮して、ラミネート時に不要な部分までガラス基板24にラミネートされた際に、ベースフイルム26の剥離に伴って前記残存部分30bと一体に前記不要な部分が伸びて毛羽立ち状態になるからである。   In the laminated substrate 112, when the base film 26 is peeled off, protrusions (fluff) are likely to occur at the front and rear ends in the web conveyance direction to which the resin layer surface 124 is attached. This is because when the remaining portion 30b of the protective film 30 contracts and an unnecessary portion is laminated on the glass substrate 24 at the time of lamination, the unnecessary portion is integrated with the remaining portion 30b as the base film 26 is peeled off. This is because it grows and becomes fuzzy.

このため、本実施形態では、ベースフイルム26が剥離された積層基板112は、樹脂層表面124の凹凸形状を平坦化させるために、搬送系110の作用下に圧着ローラ機構120に搬送される。   Therefore, in this embodiment, the laminated substrate 112 from which the base film 26 has been peeled is conveyed to the pressure roller mechanism 120 under the action of the conveying system 110 in order to flatten the uneven shape of the resin layer surface 124.

圧着ローラ機構120では、図4及び図5に示すように、一対のローラ部材122a、122bが、積層基板112の一端部側両面を所定の圧着力(4MPa以上)で挟持するとともに、前記積層基板112は、矢印C方向に26cm/sec以下の速度で移動する。   In the pressure roller mechanism 120, as shown in FIGS. 4 and 5, the pair of roller members 122a and 122b sandwich both surfaces of one end portion side of the multilayer substrate 112 with a predetermined pressure force (4 MPa or more). 112 moves in the direction of arrow C at a speed of 26 cm / sec or less.

このため、樹脂層表面124は、ベースフイルム26の剥離により形成された凹凸形状が良好に平坦化され、簡単な構成及び工程で、高品質な積層基板112を効率的に製造することが可能になる。従って、積層基板112の露光処理時に、樹脂層表面124の突起状物がマスク(図示せず)に付着することがなく、良好な露光処理が確実に遂行されるという効果が得られる。   Therefore, the unevenness formed by peeling the base film 26 is satisfactorily flattened on the resin layer surface 124, and it is possible to efficiently manufacture the high-quality multilayer substrate 112 with a simple configuration and process. Become. Therefore, during the exposure process of the multilayer substrate 112, the projections on the resin layer surface 124 do not adhere to the mask (not shown), and an effect that a good exposure process is performed reliably can be obtained.

この場合、ローラ部材122a、122bを構成する非粘着ゴムローラ134a、134bは、例えば、シリコーンゴム製のローラであり、軸方向中央が山高なクラウン形状を有している。従って、特にローラ部材122aに樹脂層表面124が付着することがなく、前記樹脂層表面124の平坦化処理が良好に遂行可能になる。   In this case, the non-adhesive rubber rollers 134a and 134b constituting the roller members 122a and 122b are, for example, silicone rubber rollers, and have a crown shape with a peak in the axial center. Therefore, the resin layer surface 124 does not particularly adhere to the roller member 122a, and the resin layer surface 124 can be satisfactorily planarized.

さらに、非粘着ゴムローラ134a、134bは、ゴム硬度30〜80、より好ましくは、ゴム硬度50〜80に設定されるとともに、スプリング126を介して、0.4MPa以上の圧着力で積層基板112を挟持している。   Further, the non-adhesive rubber rollers 134 a and 134 b are set to have a rubber hardness of 30 to 80, more preferably 50 to 80, and the laminated substrate 112 is sandwiched with a pressure of 0.4 MPa or more via the spring 126. is doing.

図6には、ゴム硬度50、70及び80の3種類のゴムローラにおいて、ばね強度(ゴムローラを積層基板112に押し当てる力)と各ゴムローラの潰れ幅(ニップバンド)との関係が示されている。これにより、ゴム硬度が高い程、ばね強度が弱い程、ゴムローラの潰れ幅が小さくなっている。   FIG. 6 shows the relationship between the spring strength (force to press the rubber roller against the laminated substrate 112) and the crushing width (nip band) of each rubber roller in three types of rubber rollers having rubber hardness 50, 70 and 80. . Thereby, the higher the rubber hardness and the weaker the spring strength, the smaller the crushing width of the rubber roller.

そして、図7には、ゴム硬度50、70及び80の3種類のゴムローラにおいて、ばね強度と各ゴムローラの圧着力(接圧)との関係が示されている。従って、ゴム硬度が低い程(ニップバンドが大きい程)、ゴムローラの接触面積が大きくなるため、前記ゴムローラの圧着力が低下している。一方、ばね強度が低い程、ゴムローラの圧着力が低下している。   FIG. 7 shows the relationship between the spring strength and the pressing force (contact pressure) of each rubber roller in three types of rubber rollers having rubber hardness 50, 70 and 80. Accordingly, the lower the rubber hardness (the larger the nip band), the larger the contact area of the rubber roller, so that the pressing force of the rubber roller is reduced. On the other hand, the lower the spring strength, the lower the pressing force of the rubber roller.

このため、本実施形態では、非粘着ゴムローラ134a、134bは、ゴム硬度30〜80、より好ましくは、ゴム硬度50〜80に設定されている。ゴム硬度30未満では、ローラが柔らかすぎて、樹脂層表面124の突起状物(凹凸形状)を平坦化させることができないからである。また、ゴム硬度80を超えると、ローラが硬すぎてニップバンドが狭くなり、圧着力が局部的に増大して突起状物の位置ばらつきに対応することができないからである。しかも、ガラス基板24が破損するおそれがあるからである。   For this reason, in this embodiment, the non-adhesive rubber rollers 134a and 134b are set to have a rubber hardness of 30 to 80, more preferably a rubber hardness of 50 to 80. This is because if the rubber hardness is less than 30, the roller is too soft and the protrusions (uneven shape) on the resin layer surface 124 cannot be flattened. On the other hand, if the rubber hardness exceeds 80, the roller is too hard, the nip band becomes narrow, the pressure-bonding force increases locally, and it is not possible to cope with the positional variation of the protrusions. In addition, the glass substrate 24 may be damaged.

さらに、本実施形態では、非粘着ゴムローラ134a、134bは、0.4MPa以上の圧着力で積層基板112を挟持している。圧着力が0.4MPa未満であると、樹脂層表面124の突起状物(凹凸形状)を所望の状態まで確実に平坦化させることができないからである。   Further, in the present embodiment, the non-adhesive rubber rollers 134a and 134b sandwich the laminated substrate 112 with a pressing force of 0.4 MPa or more. This is because if the pressure-bonding force is less than 0.4 MPa, the protrusions (uneven shape) on the resin layer surface 124 cannot be reliably flattened to a desired state.

例えば、図8には、ゴム硬度50で且つばね強度中(圧着力が0.4MPa未満)のゴムローラと、ゴム硬度50で且つばね強度強(圧着力が0.4MPa)のゴムローラとを用いて、圧着前後における樹脂層表面124の高さを検出した結果が示されている。なお、樹脂層表面124の良好な高さは、図示しないプロキシミティー露光機に使用されるマスクと積層基板112との距離である160.00μmを閾値としている。   For example, FIG. 8 uses a rubber roller having a rubber hardness of 50 and medium spring strength (compression force is less than 0.4 MPa) and a rubber roller having a rubber hardness of 50 and high spring strength (compression force is 0.4 MPa). The result of detecting the height of the resin layer surface 124 before and after the crimping is shown. The good height of the resin layer surface 124 has a threshold value of 160.00 μm, which is the distance between a mask used in a proximity exposure machine (not shown) and the laminated substrate 112.

これにより、圧着力が0.4MPa未満のゴムローラでは、圧着後の高さが200μm程度であって、樹脂層表面124の突起状物を良好に平坦化させることができなかった。一方、圧着力が0.4MPaのゴムローラでは、圧着後の高さが140μm程度であって、樹脂層表面124の突起状物を良好に平坦化させることができた。   As a result, with a rubber roller having a pressure bonding force of less than 0.4 MPa, the height after pressure bonding is about 200 μm, and the protrusions on the surface 124 of the resin layer could not be satisfactorily flattened. On the other hand, with a rubber roller having a pressure bonding force of 0.4 MPa, the height after pressure bonding was about 140 μm, and the protrusions on the resin layer surface 124 could be satisfactorily flattened.

さらにまた、本実施形態では、積層基板112は、非粘着ゴムローラ134a、134bに対して矢印C方向に26cm/sec以下の速度で移動している。積層基板112の移動速度が26cm/secを超えると、樹脂層表面124の突起状物を良好に平坦化させることができないからである。このため、本実施形態では、樹脂層表面124の平坦化が容易且つ確実に遂行可能になる。   Furthermore, in this embodiment, the laminated substrate 112 is moving at a speed of 26 cm / sec or less in the arrow C direction with respect to the non-adhesive rubber rollers 134a and 134b. This is because if the moving speed of the laminated substrate 112 exceeds 26 cm / sec, the protrusions on the resin layer surface 124 cannot be satisfactorily flattened. For this reason, in this embodiment, the planarization of the resin layer surface 124 can be easily and reliably performed.

また、非粘着ゴムローラ134a、134bは、軸方向中央が山高なクラウン形状を有している。従って、ニップバンドの大きさにより樹脂層表面124の突起状物を潰す範囲が変動するため、前記突起状物の位置に応じて潰す範囲を容易に調整することができる。   Further, the non-adhesive rubber rollers 134a and 134b have a crown shape with a peak in the center in the axial direction. Therefore, since the range in which the protrusions on the resin layer surface 124 are crushed varies depending on the size of the nip band, the range to be crushed can be easily adjusted according to the position of the protrusions.

なお、本実施形態では、剥離機構114が、各貼り付け基板24aから、予め切断されたベースフイルム26を剥離する接続剥離方式を用いているが、これに限定されるものではない。例えば、各貼り付け基板24aに一体に貼り付けられているベースフイルム26を、巻き取りローラ等により連続的に巻き取って剥離する連続剥離方式を採用してもよい。   In the present embodiment, the peeling mechanism 114 uses a connection peeling method in which the base film 26 that has been cut in advance is used from each of the pasted substrates 24a. However, the present invention is not limited to this. For example, you may employ | adopt the continuous peeling system which winds up and peels the base film 26 affixed integrally on each bonding board | substrate 24a continuously with a winding roller.

20…製造装置 22…感光性ウエブ
24a…貼り付け基板 26…ベースフイルム
29…感光性樹脂層 30…保護フイルム
32…ウエブ送り出し機構 36…ハーフカット機構
40…ラベル接着機構 42…リザーバ機構
44…保護フイルム剥離機構 45…加熱機構
46…貼り付け機構 48…基板間ウエブ切断機構
76…テンション制御機構 90a、90b…ゴムローラ
110…搬送系 110a…ローラ
112…積層基板 114…剥離機構
116a、116b…チャック 120…圧着ローラ機構
122a、122b…ローラ部材 124…樹脂層表面
126…スプリング 134a、134b…非粘着ゴムローラ
DESCRIPTION OF SYMBOLS 20 ... Manufacturing apparatus 22 ... Photosensitive web 24a ... Pasting board 26 ... Base film 29 ... Photosensitive resin layer 30 ... Protective film 32 ... Web delivery mechanism 36 ... Half cut mechanism 40 ... Label adhesion mechanism 42 ... Reservoir mechanism 44 ... Protection Film peeling mechanism 45 ... heating mechanism 46 ... pasting mechanism 48 ... inter-substrate web cutting mechanism 76 ... tension control mechanism 90a, 90b ... rubber roller 110 ... transport system 110a ... roller 112 ... laminated substrate 114 ... peeling mechanism 116a, 116b ... chuck 120 ... Pressure roller mechanism 122a, 122b ... Roller member 124 ... Resin layer surface 126 ... Spring 134a, 134b ... Non-adhesive rubber roller

Claims (8)

支持層と少なくとも1層の樹脂層とが積層された積層体を、前記樹脂層側が基板に向かうようにして前記基板に接着して貼り付け基板を得る貼り付け機構と、
前記支持層を前記樹脂層から剥離して積層基板を得る剥離機構と、
前記支持層が剥離された前記樹脂層に圧着され、前記積層基板と相対的に移動することにより前記樹脂層の凹凸形状を平坦化させる圧着ローラ機構と、
を備えることを特徴とする積層基板の製造装置。
An adhering mechanism to obtain an adhering substrate by adhering a laminated body in which a support layer and at least one resin layer are laminated to the substrate so that the resin layer side faces the substrate;
A peeling mechanism for peeling the support layer from the resin layer to obtain a laminated substrate;
A pressure-bonding roller mechanism that is pressure-bonded to the resin layer from which the support layer has been peeled off and flattened the uneven shape of the resin layer by moving relative to the laminated substrate;
An apparatus for manufacturing a laminated substrate, comprising:
請求項1記載の製造装置において、前記圧着ローラ機構は、前記積層基板の両面に配設される一対のローラ部材と、
前記一対のローラ部材を互いに近接する方向に付勢し、該一対のローラ部材で前記樹脂層を加圧する弾性部材と、
を備えることを特徴とする積層基板の製造装置。
The manufacturing apparatus according to claim 1, wherein the pressure roller mechanism includes a pair of roller members disposed on both surfaces of the multilayer substrate;
An elastic member that urges the pair of roller members in a direction approaching each other and pressurizes the resin layer with the pair of roller members;
An apparatus for manufacturing a laminated substrate, comprising:
請求項2記載の製造装置において、前記一対のローラ部材は、非粘着ゴムローラであることを特徴とする積層基板の製造装置。   The manufacturing apparatus according to claim 2, wherein the pair of roller members are non-adhesive rubber rollers. 請求項2又は3記載の製造装置において、前記一対のローラ部材は、ゴム硬度50〜80のゴムローラであることを特徴とする積層基板の製造装置。   4. The manufacturing apparatus according to claim 2, wherein the pair of roller members are rubber rollers having a rubber hardness of 50 to 80. 請求項2〜4のいずれか1項に記載の製造装置において、前記一対のローラ部材は、軸方向中央が山高なクラウン形状を有することを特徴とする積層基板の製造装置。   The manufacturing apparatus according to any one of claims 2 to 4, wherein the pair of roller members has a crown shape with a peak in the center in the axial direction. 請求項2〜5のいずれか1項に記載の製造装置において、前記一対のローラ部材と前記積層基板とは、相対的に26cm/sec以下の速度で移動することを特徴とする積層基板の製造装置。   6. The manufacturing apparatus according to claim 2, wherein the pair of roller members and the laminated substrate move relatively at a speed of 26 cm / sec or less. apparatus. 請求項2〜6のいずれか1項に記載の製造装置において、前記一対のローラ部材は、0.4MPa以上の圧着力で前記積層基板を挟持することを特徴とする積層基板の製造装置。   The manufacturing apparatus according to any one of claims 2 to 6, wherein the pair of roller members sandwich the laminated substrate with a pressure of 0.4 MPa or more. 支持層と少なくとも1層の樹脂層とが積層された積層体を、前記樹脂層側が基板に向かうようにして前記基板に接着して貼り付け基板を得る工程と、
前記支持層を前記樹脂層から剥離して積層基板を得る工程と、
前記支持層が剥離された前記樹脂層に圧着ローラ機構を圧着し、前記圧着ローラ機構と前記積層基板とを相対的に移動させることにより、前記樹脂層の凹凸形状を平坦化させる工程と、
を有することを特徴とする積層基板の製造方法。
Adhering a laminate in which a support layer and at least one resin layer are laminated to the substrate such that the resin layer side faces the substrate;
Peeling the support layer from the resin layer to obtain a laminated substrate;
Pressure bonding a pressure roller mechanism to the resin layer from which the support layer has been peeled, and relatively moving the pressure roller mechanism and the laminated substrate, thereby flattening the uneven shape of the resin layer;
A method for producing a laminated substrate, comprising:
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CN103765773A (en) * 2012-08-17 2014-04-30 日本碍子株式会社 Composite substrate, elastic surface wave device, and method for producing composite substrate

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