JP2011093113A - Device and method for manufacturing laminated substrate - Google Patents
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Abstract
Description
本発明は、支持層と少なくとも1層の樹脂層とが積層された積層体を、前記樹脂層側が基板に向かうようにして前記基板に接着した後、前記支持層を前記樹脂層から剥離して積層基板を製造する積層基板の製造装置法及び製造方法に関する。 In the present invention, a laminate in which a support layer and at least one resin layer are laminated is bonded to the substrate such that the resin layer side faces the substrate, and then the support layer is peeled from the resin layer. The present invention relates to a multilayer substrate manufacturing apparatus method and a manufacturing method for manufacturing a multilayer substrate.
例えば、液晶パネル用基板、プリント配線用基板、PDPパネル用基板では、感光性樹脂(感光材料)層を有する感光性シート体(感光性ウエブ)を基板表面に貼り付けて構成されている。感光性シート体は、可撓性プラスチック支持体上に感光性樹脂層と保護フイルムとが、順次、積層されている。 For example, a liquid crystal panel substrate, a printed wiring substrate, and a PDP panel substrate are configured by attaching a photosensitive sheet (photosensitive web) having a photosensitive resin (photosensitive material) layer to the substrate surface. In the photosensitive sheet body, a photosensitive resin layer and a protective film are sequentially laminated on a flexible plastic support.
そこで、この種の感光性シート体の貼り付けに使用される貼付装置は、通常、ガラス基板や樹脂基板等の基板を所定の間隔ずつ離間させて搬送するとともに、前記感光性シート体から保護フイルムを剥離した後、前記基板に感光性樹脂層を貼り付ける方式が採用されている。 Therefore, a pasting apparatus used for pasting this type of photosensitive sheet body usually transports a substrate such as a glass substrate or a resin substrate spaced apart by a predetermined distance, and also protects the protective film from the photosensitive sheet body. After peeling off, a method of sticking a photosensitive resin layer to the substrate is employed.
例えば、特許文献1に開示されているドライレジストフイルムのラミネート方法では、図9に示すように、基板予熱部、ラミネート部、基板冷却部、基板上フイルム切断部及びフイルム除去部が、基板1の搬送方向に沿って、順次、配設されている。この基板1は、基板予熱部の予熱ヒータ2よって所定の温度に加熱された後、ラミネート部に送られている。
For example, in the dry resist film laminating method disclosed in
ラミネート部には、一対のラミネートローラ3a、3bが配置されており、前記ラミネートローラ3a、3b間には、基板1とドライレジストフイルム4とが送られるため、前記ドライレジストフイルム4が前記基板1に熱圧着されている。なお、ドライレジストフイルム4は、予め、カバーフイルム5が剥離されており、図示しないレジスト層が基板1側に向かって熱圧着されている。
A pair of
さらに、ドライレジストフイルム4が熱圧着された基板1は、搬送ローラ6を介して基板冷却部に送られ、基板冷却手段7を介して冷却されている。基板冷却部によりドライレジストフイルム4が冷却されることにより、このドライレジストフイルム4のレジスト層が硬化するとともに、基板1との密着力が向上している。従って、次段の基板上フイルム切断部において、ドライレジストフイルム4を切断する際に、切断の応力でレジスト層の剥離が発生することを防止している。
Further, the
次いで、基板1同士を連結しているドライレジストフイルム4は、基板上フイルム切断部でカッターを備えた基板上フイルム切断手段8により切断されるとともに、前記基板1は、フイルム除去部に送られている。このフイルム除去部では、基板1が加熱ロール9により再加熱された後、フイルム剥離手段10を介して前記基板1間を連結し且つ切断工程で形成された切断面間のドライレジストフイルム4が、前記基板1から除去されている。
Next, the
上記の従来技術では、基板1からドライレジストフイルム4が剥離される際、レジスト層に突起状物(毛羽立ち)が発生し易い。特に、ドライレジストフイルム4が剥離された基板1の貼り付けられるウェブ搬送方向の前後端には、突起状物の発生が顕著になっている。
In the above prior art, when the
ところで、例えば、プロキシミティー露光方式では、マスクと被露光基板とに所定の距離(ギャップ)を空けた状態で、平行光を照射することにより、マスクパターンを直接投影してレジスト層に露光処理を行っている。この所定の距離は、通常、160μmに設定されている。 By the way, for example, in the proximity exposure method, a mask pattern is projected directly by irradiating parallel light with a predetermined distance (gap) between the mask and the substrate to be exposed, and an exposure process is performed on the resist layer. Is going. This predetermined distance is normally set to 160 μm.
しかしながら、レジスト層に160μm以上の突起状物が発生していると、この突起状物がマスクに付着し易く、前記突起状物が露光範囲内に入って露光不良が惹起されるという問題がある。 However, if protrusions of 160 μm or more are generated in the resist layer, the protrusions easily adhere to the mask, and there is a problem that the protrusions enter the exposure range and cause exposure failure. .
本発明はこの種の問題を解決するものであり、簡単な構成及び工程で、支持層が剥離された樹脂層を良好に平滑化することができ、高品質な積層基板を効率的に製造することが可能な積層基板の製造装置及び製造方法を提供することを目的とする。 The present invention solves this type of problem, and with a simple configuration and process, the resin layer from which the support layer has been peeled can be smoothly smoothed, and a high-quality multilayer substrate can be efficiently produced. It is an object of the present invention to provide a manufacturing apparatus and a manufacturing method for a laminated substrate.
本発明に係る積層基板の製造装置は、支持層と少なくとも1層の樹脂層とが積層された積層体を、前記樹脂層側が基板に向かうようにして前記基板に接着して貼り付け基板を得る貼り付け機構と、前記支持層を前記樹脂層から剥離して積層基板を得る剥離機構と、前記支持層が剥離された前記樹脂層に圧着され、前記積層基板と相対的に移動することにより前記樹脂層の凹凸形状を平坦化させる圧着ローラ機構とを備えている。 The apparatus for manufacturing a laminated substrate according to the present invention obtains a bonded substrate by adhering a laminated body in which a support layer and at least one resin layer are laminated to the substrate so that the resin layer side faces the substrate. An affixing mechanism, a peeling mechanism for peeling the support layer from the resin layer to obtain a laminated substrate, a pressure bonding to the resin layer from which the support layer has been peeled, and moving relative to the laminated substrate A pressure roller mechanism for flattening the uneven shape of the resin layer.
また、圧着ローラ機構は、積層基板の両面に配設される一対のローラ部材と、前記一対のローラ部材を互いに近接する方向に付勢し、該一対のローラ部材で樹脂層を加圧する弾性部材とを備えることが好ましい。 The pressure roller mechanism includes a pair of roller members disposed on both surfaces of the laminated substrate and an elastic member that urges the pair of roller members in a direction close to each other and pressurizes the resin layer with the pair of roller members. It is preferable to comprise.
さらに、一対のローラ部材は、非粘着ゴムローラであることが好ましい。 Further, the pair of roller members is preferably a non-adhesive rubber roller.
さらにまた、一対のローラ部材は、ゴム硬度50〜80のゴムローラであることが好ましい。 Furthermore, the pair of roller members is preferably a rubber roller having a rubber hardness of 50 to 80.
また、一対のローラ部材は、軸方向中央が山高なクラウン形状を有することが好ましい。 Moreover, it is preferable that a pair of roller member has a crown shape with a peak in the axial center.
さらに、一対のローラ部材と積層基板とは、相対的に26cm/sec以下の速度で移動することが好ましい。 Furthermore, it is preferable that the pair of roller members and the laminated substrate move relatively at a speed of 26 cm / sec or less.
さらにまた、一対のローラ部材は、0.4MPa以上の圧着力で積層基板を挟持することが好ましい。 Furthermore, it is preferable that the pair of roller members sandwich the laminated substrate with a pressing force of 0.4 MPa or more.
また、本発明に係る積層基板の製造方法は、支持層と少なくとも1層の樹脂層とが積層された積層体を、前記樹脂層側が基板に向かうようにして前記基板に接着して貼り付け基板を得る工程と、前記支持層を前記樹脂層から剥離して積層基板を得る工程と、前記支持層が剥離された前記樹脂層に圧着ローラ機構を圧着し、前記圧着ローラ機構と前記積層基板とを相対的に移動させることにより、前記樹脂層の凹凸形状を平坦化させる工程とを有している。 Also, in the method for manufacturing a laminated substrate according to the present invention, a laminated body in which a support layer and at least one resin layer are laminated is bonded to the substrate so that the resin layer side faces the substrate. A step of peeling the support layer from the resin layer to obtain a laminated substrate, a pressure roller mechanism is pressure-bonded to the resin layer from which the support layer has been peeled, and the pressure roller mechanism and the laminated substrate To relatively flatten the uneven shape of the resin layer.
本発明では、支持層が樹脂層から剥離された後、圧着ローラ機構が前記樹脂層に圧着された状態で、前記圧着ローラ機構と積層基板とが相対的に移動する。このため、樹脂層は、支持層の剥離により形成される凹凸形状が良好に平坦化され、簡単な構成及び工程で、高品質な積層基板を効率的に製造することが可能になる。従って、露光処理時に、樹脂層がマスクに付着することがなく、良好な露光処理が確実に遂行される。 In the present invention, after the support layer is peeled from the resin layer, the pressure roller mechanism and the laminated substrate are relatively moved in a state where the pressure roller mechanism is pressure-bonded to the resin layer. For this reason, the uneven shape formed by peeling of the support layer of the resin layer is satisfactorily flattened, and a high-quality laminated substrate can be efficiently manufactured with a simple configuration and process. Therefore, the resin layer does not adhere to the mask during the exposure process, and a good exposure process is reliably performed.
図1に示すように、本発明の第1の実施形態に係る積層基板の製造装置20は、プリント配線用基板、液晶、PDP又は有機EL用カラーフィルタ等の製作工程で、長尺状感光性ウエブ22の感光性樹脂層29(後述する)をガラス基板24に熱転写する作業を行う。
As shown in FIG. 1, the laminated
図2に示すように、製造装置20に使用される感光性ウエブ22は、可撓性ベースフイルム(支持層)26、クッション層(熱可塑性樹脂層)27、中間層(酸素遮断膜)28、感光性樹脂層29及び保護フイルム30を積層して構成される。なお、感光性ウエブ22は、ベースフイルム26、感光性樹脂層29及び保護フイルム30により構成されていてもよい。
As shown in FIG. 2, the
ベースフイルム26は、ポリエチレンテレフタレート(PET)で形成され、クッション層27は、エチレンと酸化ビニル共重合体で形成され、中間層28は、ポリビニルアルコールで形成され、感光性樹脂層29は、アルカリ可溶性バインダとモノマーと光重合開始材と着色剤を含む着色感光性樹脂組成物で形成され、保護フイルム30は、ポリエチレンあるいはポリプロピレン等で形成される。
The
図1に示すように、製造装置20は、感光性ウエブ22をロール状に巻回した感光性ウエブロール22aを収容し、この感光性ウエブロール22aから前記感光性ウエブ22を送り出すウエブ送り出し機構32と、送り出された前記感光性ウエブ22の保護フイルム30に、幅方向に切断可能なハーフカット部位34を形成するハーフカット機構36と、接着ラベル38(図3参照)を保護フイルム30に接着させるラベル接着機構40とを備える。
As shown in FIG. 1, the
ラベル接着機構40の下流には、感光性ウエブ22をタクト送りから略連続送りに変更するためのリザーバ機構42と、前記感光性ウエブ22から保護フイルム30を所定の長さ間隔で剥離させる保護フイルム剥離機構44と、ガラス基板24を所定の温度に加熱した状態で貼り付け位置に搬送する加熱機構45と、前記保護フイルム30の剥離により露出した感光性樹脂層29を前記ガラス基板24に貼り付ける貼り付け機構46とが配設される。なお、貼り付け機構46によりガラス基板24に感光性ウエブ22が貼り付けられた積層体を、以下、貼り付け基板24aという。
Downstream of the
貼り付け機構46の下流には、各ガラス基板24間の前記感光性ウエブ22を切断する基板間ウエブ切断機構48が配設される。この基板間ウエブ切断機構48の上流には、運転開始時及び運転終了時に使用されるウエブ切断機構48aが設けられる。
An inter-substrate
ウエブ送り出し機構32の下流近傍には、略使用済みの感光性ウエブ22の後端と、新たに使用される感光性ウエブ22の先端とを接合させる接合台49が配設される。この接合台49の下流には、感光性ウエブロール22aの巻きずれによる幅方向のずれを制御するために、フイルム端位置検出器51が配設される。
In the vicinity of the downstream side of the
ハーフカット機構36は、ウエブ送り出し機構32に収容巻回されている感光性ウエブロール22aのロール径を算出するためのローラ対50の下流に配置される。ハーフカット機構36は、感光性ウエブ22の搬送方向(矢印A方向)に直交する方向に進退自在な回転丸刃(カッタ)54を備える。
The half-
図2に示すように、ハーフカット部位34は、少なくとも保護フイルム30を切断する必要があり、実際上、この保護フイルム30を確実に切断するために感光性樹脂層29乃至中間層28まで切り込むように、回転丸刃54の切り込み深さが設定される。
As shown in FIG. 2, the half-
ラベル接着機構40は、ガラス基板24間に対応して保護フイルム30の残存部分30bを残すため、剥離側前方の剥離部分30aaと剥離側後方の剥離部分30abとを連結する接着ラベル38を供給する。図2に示すように、保護フイルム30は、残存部分30bを挟んで、先に剥離される部分を前方の剥離部分30aaとする一方、後に剥離される部分を後方の剥離部分30abとする。
The
図1に示すように、ラベル接着機構40は、最大7枚の接着ラベル38を所定間隔ずつ離間して貼り付け可能な吸着パッド58a〜58gを備えるとともに、前記吸着パッド58a〜58gによる前記接着ラベル38の貼り付け位置には、感光性ウエブ22を下方から保持するための受台59が昇降自在に配置される。
As shown in FIG. 1, the
リザーバ機構42は、上流側の感光性ウエブ22のタクト搬送と、下流側の前記感光性ウエブ22の連続搬送との速度差を吸収するが、さらにテンション変動を防ぐために、揺動自在な2連のローラ60で構成されるダンサー61を備えることが好ましい。
The
保護フイルム剥離機構44は、リザーバ機構42の下流に配置されるとともに、サクションドラム62と、感光性ウエブ22を挟んでこのサクションドラム62に接する剥離ローラ64とを備える。剥離ローラ64を介して感光性ウエブ22から鋭角の剥離角で剥離される保護フイルム30は、残存部分30bを除いて保護フイルム巻き取り軸66に巻き取られる。保護フイルム巻き取り軸66は、保護フイルム30に所定のテンションを付与するために、例えば、トルクモータ68に連結される。
The protective
保護フイルム剥離機構44の下流側には、感光性ウエブ22にテンションを付与可能なテンション制御機構76が配設される。テンション制御機構76は、シリンダ78を備え、このシリンダ78の駆動作用下に、テンションピックアップローラ80が揺動変位することにより、このテンションピックアップローラ80が摺接する感光性ウエブ22のテンションが調整可能である。なお、テンション制御機構76は、必要に応じて使用すればよく、削除することもできる。
A
加熱機構45は、ガラス基板24を矢印C方向に搬送するための搬送機構84と複数の加熱炉86とを備え、この搬送機構84は、矢印C方向に配列される複数の樹脂製円板状搬送ローラ88を有する。
The
貼り付け機構46は、上下に配設されるとともに、所定温度に加熱されるラミネート用ゴムローラ90a、90bを備える。ゴムローラ90a、90bには、バックアップローラ92a、92bが摺接するとともに、前記バックアップローラ92bは、ローラクランプ部94を介してゴムローラ90b側に押圧される。
The
ゴムローラ90aの近傍には、感光性ウエブ22が前記ゴムローラ90aに接触することを防止するための接触防止ローラ96が配設される。この接触防止ローラ96は、図示しないアクチュエータを介して移動可能である。
In the vicinity of the
貼り付け機構46と基板間ウエブ切断機構48との間には、フイルム搬送ローラ98aと基板搬送ローラ98bとが配設される。基板間ウエブ切断機構48の下流側には、複数のローラ110aが配列される搬送系110が設けられる。搬送系110の矢印C方向(下流側)の端部には、貼り付け基板24aからベースフイルム26を剥離して積層基板112を得る剥離機構114が配設される。
A
剥離機構114は、アクチュエータ(図示せず)を介して移動可能な一対のチャック116a、116bを備える。チャック116a、116bは、貼り付け基板24aを構成するガラス基板24の搬送方向両端から外部に突出するベースフイルム26の両側部を把持自在な位置に位置調整可能である。チャック116a、116bの下方には、貼り付け基板24aのガラス基板24を吸着保持するために複数の吸着パッド118が配設される。
The
剥離機構114の下流には、圧着ローラ機構120が配設される。図4及び図5に示すように、圧着ローラ機構120は、積層基板112の少なくとも一端部側両面に配設される一対のローラ部材122a、122bと、前記ローラ部材122a、122bを互いに近接する方向に付勢し、該ローラ部材122a、122bでベースフイルム26が剥離された樹脂層表面(クッション層27等)124を加圧する弾性部材、例えば、スプリング126とを備える。
A
ローラ部材122a、122bは、それぞれ壁部128に支持される軸部130a、130bを有する。軸部130a、130bには、ブラケット132a、132bが設けられるとともに、前記ブラケット132a、132b間には、スプリング126が介装されて該ブラケット132a、132b同士を互いに近接する方向に引張する。
The
軸部130a、130bの先端部には、非粘着ゴムローラ134a、134bが回転自在に設けられる。非粘着ゴムローラ134a、134bは、例えば、シリコーンゴム製のローラで構成され、軸方向中央が山高なクラウン形状を有する。
非粘着ゴムローラ134a、134bは、ゴム硬度30〜80、より好ましくは、ゴム硬度50〜80に設定されるとともに、スプリング126を介して、0.4MPa以上の圧着力で積層基板112を挟持する。非粘着ゴムローラ134a、134bと積層基板112とは、相対的に26cm/sec以下の速度で移動する。
The
図1に示すように、製造装置20内は、仕切り壁140を介して第1クリーンルーム142aと第2クリーンルーム142bとに仕切られる。第1クリーンルーム142aには、ウエブ送り出し機構32からテンション制御機構76までが収容されるとともに、第2クリーンルーム142bには、貼り付け機構46以降が収容される。第1クリーンルーム142aと第2クリーンルーム142bとは、貫通部144を介して連通する。
As shown in FIG. 1, the interior of the
このように構成される製造装置20の動作について、本発明に係る製造方法との関連で以下に説明する。
The operation of the
先ず、図1に示すように、ウエブ送り出し機構32に取り付けられている感光性ウエブロール22aから感光性ウエブ22が繰り出され、この感光性ウエブ22は、ハーフカット機構36に送られる。
First, as shown in FIG. 1, the
ハーフカット機構36では、回転丸刃54を介して感光性ウエブ22にハーフカット部位34が形成される(図2参照)。そして、ハーフカット処理された感光性ウエブ22は、図1に示すように、保護フイルム30の残存部分30bの寸法に対応して矢印A方向に搬送された後、一旦停止されて回転丸刃54の走行作用下に次なるハーフカット部位34が形成される。このため、感光性ウエブ22には、残存部分30bを挟んで前方の剥離部分30aaと後方の剥離部分30abとが設けられる(図2参照)。
In the half-
さらに、感光性ウエブ22は、ラベル接着機構40に搬送されて、保護フイルム30の所定の貼り付け部位が受台59上に配置される。ラベル接着機構40では、所定枚数の接着ラベル38が吸着パッド58a〜58gにより吸着保持され、各接着ラベル38が保護フイルム30の残存部分30bを跨いで、前方の剥離部分30aaと後方の剥離部分30abとに一体的に接着される(図3参照)。
Further, the
保護フイルム剥離機構44では、感光性ウエブ22がサクションドラム62と剥離ローラ64とに挟持されて、前記感光性ウエブ22のベースフイルム26が前記サクションドラム62に吸着保持されている。この状態で、サクションドラム62が回転されるとともに、保護フイルム30には、トルクモータ68を介して所定のトルクが付与されている。
In the protective
従って、保護フイルム30は、残存部分30bを残して感光性ウエブ22から剥離され、剥離ローラ64を介して保護フイルム巻き取り軸66に巻き取られる。なお、剥離部位には、除電エアを吹き付けることが好ましい。
Therefore, the
保護フイルム剥離機構44の作用下に、保護フイルム30が残存部分30bを残してベースフイルム26から剥離された後、感光性ウエブ22は、テンション制御機構76によってテンション調整が行われる。感光性ウエブ22は、運転開始時にはフイルム搬送ローラ98aの回転作用下に、その後は貼り付け基板24aを挟持する基板搬送ローラ98bの回転作用下に、貼り付け機構46に定量搬送される。その際、接触防止ローラ96が上方に待機するとともに、ゴムローラ90bが下方に配置されている。
Under the action of the protective
一方、加熱機構45では、貼り付け機構46におけるラミネート温度に対応して各加熱炉86内の加熱温度が設定されている。ガラス基板24は、搬送機構84を構成する搬送ローラ88の回転作用下に、各加熱炉86に、順次、タクト搬送される。このガラス基板24は、感光性ウエブ22の感光性樹脂層29の貼り付け部分に対応してゴムローラ90a、90b間に一旦配置される。
On the other hand, in the
この状態で、ローラクランプ部94を介してバックアップローラ92b及びゴムローラ90bを上昇させることにより、ゴムローラ90a、90b間にガラス基板24が所定のプレス圧力で挟み込まれる。さらに、ゴムローラ90aの回転作用下に、このガラス基板24には、感光性樹脂層29が加熱溶融により転写(ラミネート)される。
In this state, by raising the
ここで、ラミネート条件としては、速度が1.0m/min〜10.0m/min、ゴムローラ90a、90bの温度が80℃〜150℃、前記ゴムローラ90a、90bのゴム硬度が40度〜90度、該ゴムローラ90a、90bのプレス圧(線圧)が50N/cm〜400N/cmである。
Here, as lamination conditions, the speed is 1.0 m / min to 10.0 m / min, the temperature of the
ゴムローラ90a、90bを介してガラス基板24に感光性ウエブ22の1枚分のラミネートが終了すると、前記ゴムローラ90aの回転が停止される。一方、ガラス基板24に感光性ウエブ22がラミネートされた貼り付け基板24aは、基板搬送ローラ98bによりクランプされる。そして、ゴムローラ90bは、ゴムローラ90aから離間する方向に退避してクランプが解除される。
When the lamination of one
これにより、一枚分のラミネート処理が終了し、次なるラミネート処理が開始されるまでの時間の中で、加熱機構45を介して所定の温度に加熱されたガラス基板24が、ゴムローラ90a、90b間に搬送されて配置されるとともに、前記ゴムローラ90aに摺接する感光性ウエブ22の微動送りが行われる。
As a result, the
ガラス基板24に感光性ウエブ22が貼り付けられた貼り付け基板24aは、矢印C方向に定量搬送される。そして、各ガラス基板24間の感光性ウエブ22が、基板間ウエブ切断機構48を介して切断された貼り付け基板24aは、搬送系110を介して剥離機構114に搬送される。
Affixed substrate 24a having
剥離機構114では、貼り付け基板24aのガラス基板24側が吸着パッド118の吸引作用下に保持される一方、各チャック116a、116bは、ガラス基板24の搬送方向両端から内方に突出するベースフイルム26の搬送方向両端部を把持する。さらに、チャック116a、116bは、所定の方向に駆動制御されることにより、前記チャック116a、116bに把持されるベースフイルム26は、クッション層27から分離されて貼り付け基板24aから剥離されることにより、積層基板112が得られる。
In the
積層基板112では、ベースフイルム26が剥離される際に、樹脂層表面124の貼り付けられるウェブ搬送方向の前後端には、突起状物(毛羽立ち)が発生し易い。これは、保護フイルム30の残存部分30bが収縮して、ラミネート時に不要な部分までガラス基板24にラミネートされた際に、ベースフイルム26の剥離に伴って前記残存部分30bと一体に前記不要な部分が伸びて毛羽立ち状態になるからである。
In the
このため、本実施形態では、ベースフイルム26が剥離された積層基板112は、樹脂層表面124の凹凸形状を平坦化させるために、搬送系110の作用下に圧着ローラ機構120に搬送される。
Therefore, in this embodiment, the
圧着ローラ機構120では、図4及び図5に示すように、一対のローラ部材122a、122bが、積層基板112の一端部側両面を所定の圧着力(4MPa以上)で挟持するとともに、前記積層基板112は、矢印C方向に26cm/sec以下の速度で移動する。
In the
このため、樹脂層表面124は、ベースフイルム26の剥離により形成された凹凸形状が良好に平坦化され、簡単な構成及び工程で、高品質な積層基板112を効率的に製造することが可能になる。従って、積層基板112の露光処理時に、樹脂層表面124の突起状物がマスク(図示せず)に付着することがなく、良好な露光処理が確実に遂行されるという効果が得られる。
Therefore, the unevenness formed by peeling the
この場合、ローラ部材122a、122bを構成する非粘着ゴムローラ134a、134bは、例えば、シリコーンゴム製のローラであり、軸方向中央が山高なクラウン形状を有している。従って、特にローラ部材122aに樹脂層表面124が付着することがなく、前記樹脂層表面124の平坦化処理が良好に遂行可能になる。
In this case, the
さらに、非粘着ゴムローラ134a、134bは、ゴム硬度30〜80、より好ましくは、ゴム硬度50〜80に設定されるとともに、スプリング126を介して、0.4MPa以上の圧着力で積層基板112を挟持している。
Further, the
図6には、ゴム硬度50、70及び80の3種類のゴムローラにおいて、ばね強度(ゴムローラを積層基板112に押し当てる力)と各ゴムローラの潰れ幅(ニップバンド)との関係が示されている。これにより、ゴム硬度が高い程、ばね強度が弱い程、ゴムローラの潰れ幅が小さくなっている。
FIG. 6 shows the relationship between the spring strength (force to press the rubber roller against the laminated substrate 112) and the crushing width (nip band) of each rubber roller in three types of rubber rollers having
そして、図7には、ゴム硬度50、70及び80の3種類のゴムローラにおいて、ばね強度と各ゴムローラの圧着力(接圧)との関係が示されている。従って、ゴム硬度が低い程(ニップバンドが大きい程)、ゴムローラの接触面積が大きくなるため、前記ゴムローラの圧着力が低下している。一方、ばね強度が低い程、ゴムローラの圧着力が低下している。
FIG. 7 shows the relationship between the spring strength and the pressing force (contact pressure) of each rubber roller in three types of rubber rollers having
このため、本実施形態では、非粘着ゴムローラ134a、134bは、ゴム硬度30〜80、より好ましくは、ゴム硬度50〜80に設定されている。ゴム硬度30未満では、ローラが柔らかすぎて、樹脂層表面124の突起状物(凹凸形状)を平坦化させることができないからである。また、ゴム硬度80を超えると、ローラが硬すぎてニップバンドが狭くなり、圧着力が局部的に増大して突起状物の位置ばらつきに対応することができないからである。しかも、ガラス基板24が破損するおそれがあるからである。
For this reason, in this embodiment, the
さらに、本実施形態では、非粘着ゴムローラ134a、134bは、0.4MPa以上の圧着力で積層基板112を挟持している。圧着力が0.4MPa未満であると、樹脂層表面124の突起状物(凹凸形状)を所望の状態まで確実に平坦化させることができないからである。
Further, in the present embodiment, the
例えば、図8には、ゴム硬度50で且つばね強度中(圧着力が0.4MPa未満)のゴムローラと、ゴム硬度50で且つばね強度強(圧着力が0.4MPa)のゴムローラとを用いて、圧着前後における樹脂層表面124の高さを検出した結果が示されている。なお、樹脂層表面124の良好な高さは、図示しないプロキシミティー露光機に使用されるマスクと積層基板112との距離である160.00μmを閾値としている。
For example, FIG. 8 uses a rubber roller having a rubber hardness of 50 and medium spring strength (compression force is less than 0.4 MPa) and a rubber roller having a rubber hardness of 50 and high spring strength (compression force is 0.4 MPa). The result of detecting the height of the
これにより、圧着力が0.4MPa未満のゴムローラでは、圧着後の高さが200μm程度であって、樹脂層表面124の突起状物を良好に平坦化させることができなかった。一方、圧着力が0.4MPaのゴムローラでは、圧着後の高さが140μm程度であって、樹脂層表面124の突起状物を良好に平坦化させることができた。
As a result, with a rubber roller having a pressure bonding force of less than 0.4 MPa, the height after pressure bonding is about 200 μm, and the protrusions on the
さらにまた、本実施形態では、積層基板112は、非粘着ゴムローラ134a、134bに対して矢印C方向に26cm/sec以下の速度で移動している。積層基板112の移動速度が26cm/secを超えると、樹脂層表面124の突起状物を良好に平坦化させることができないからである。このため、本実施形態では、樹脂層表面124の平坦化が容易且つ確実に遂行可能になる。
Furthermore, in this embodiment, the
また、非粘着ゴムローラ134a、134bは、軸方向中央が山高なクラウン形状を有している。従って、ニップバンドの大きさにより樹脂層表面124の突起状物を潰す範囲が変動するため、前記突起状物の位置に応じて潰す範囲を容易に調整することができる。
Further, the
なお、本実施形態では、剥離機構114が、各貼り付け基板24aから、予め切断されたベースフイルム26を剥離する接続剥離方式を用いているが、これに限定されるものではない。例えば、各貼り付け基板24aに一体に貼り付けられているベースフイルム26を、巻き取りローラ等により連続的に巻き取って剥離する連続剥離方式を採用してもよい。
In the present embodiment, the
20…製造装置 22…感光性ウエブ
24a…貼り付け基板 26…ベースフイルム
29…感光性樹脂層 30…保護フイルム
32…ウエブ送り出し機構 36…ハーフカット機構
40…ラベル接着機構 42…リザーバ機構
44…保護フイルム剥離機構 45…加熱機構
46…貼り付け機構 48…基板間ウエブ切断機構
76…テンション制御機構 90a、90b…ゴムローラ
110…搬送系 110a…ローラ
112…積層基板 114…剥離機構
116a、116b…チャック 120…圧着ローラ機構
122a、122b…ローラ部材 124…樹脂層表面
126…スプリング 134a、134b…非粘着ゴムローラ
DESCRIPTION OF
Claims (8)
前記支持層を前記樹脂層から剥離して積層基板を得る剥離機構と、
前記支持層が剥離された前記樹脂層に圧着され、前記積層基板と相対的に移動することにより前記樹脂層の凹凸形状を平坦化させる圧着ローラ機構と、
を備えることを特徴とする積層基板の製造装置。 An adhering mechanism to obtain an adhering substrate by adhering a laminated body in which a support layer and at least one resin layer are laminated to the substrate so that the resin layer side faces the substrate;
A peeling mechanism for peeling the support layer from the resin layer to obtain a laminated substrate;
A pressure-bonding roller mechanism that is pressure-bonded to the resin layer from which the support layer has been peeled off and flattened the uneven shape of the resin layer by moving relative to the laminated substrate;
An apparatus for manufacturing a laminated substrate, comprising:
前記一対のローラ部材を互いに近接する方向に付勢し、該一対のローラ部材で前記樹脂層を加圧する弾性部材と、
を備えることを特徴とする積層基板の製造装置。 The manufacturing apparatus according to claim 1, wherein the pressure roller mechanism includes a pair of roller members disposed on both surfaces of the multilayer substrate;
An elastic member that urges the pair of roller members in a direction approaching each other and pressurizes the resin layer with the pair of roller members;
An apparatus for manufacturing a laminated substrate, comprising:
前記支持層を前記樹脂層から剥離して積層基板を得る工程と、
前記支持層が剥離された前記樹脂層に圧着ローラ機構を圧着し、前記圧着ローラ機構と前記積層基板とを相対的に移動させることにより、前記樹脂層の凹凸形状を平坦化させる工程と、
を有することを特徴とする積層基板の製造方法。 Adhering a laminate in which a support layer and at least one resin layer are laminated to the substrate such that the resin layer side faces the substrate;
Peeling the support layer from the resin layer to obtain a laminated substrate;
Pressure bonding a pressure roller mechanism to the resin layer from which the support layer has been peeled, and relatively moving the pressure roller mechanism and the laminated substrate, thereby flattening the uneven shape of the resin layer;
A method for producing a laminated substrate, comprising:
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