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JP2011091175A - Radiation image photographing device - Google Patents

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JP2011091175A
JP2011091175A JP2009242915A JP2009242915A JP2011091175A JP 2011091175 A JP2011091175 A JP 2011091175A JP 2009242915 A JP2009242915 A JP 2009242915A JP 2009242915 A JP2009242915 A JP 2009242915A JP 2011091175 A JP2011091175 A JP 2011091175A
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JP
Japan
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radiation detection
bias
connection
detection element
radiation
Prior art date
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Pending
Application number
JP2009242915A
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Japanese (ja)
Inventor
Tetsuo Nishi
哲夫 西
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Konica Minolta Medical and Graphic Inc
Original Assignee
Konica Minolta Medical and Graphic Inc
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Publication date
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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a radiation image photographing device for reducing an effect of change of a bias voltage to be applied to respective radiation detection elements. <P>SOLUTION: The radiation image photographing device 1 includes: a substrate 4 having a plurality of radiation detection elements 7, which are two-dimensionally arrayed in respective areas r divided by mutually intersected scanning lines 5 and signal lines 6, and a plurality of bias wires 9, which are connected to the respective radiation detection elements 7, apply the bias voltage to the respective radiation detection elements 7 from a bias power supply 14, and are arranged one by one in each string of the radiation detection elements 7 among a plurality of two-dimensionally arrayed radiation detection elements 7; and wire connection 10 for bonding a plurality of bias wires 9. The bias wires 9 are connected to the respective wires Fa of a flexible printed circuit board F, respectively. The ends of the respective wires Fa on the opposite side of the ends connected to the bias wires 9 are bonded on a substrate 33 different from the substrate 4 to the wire connection 10 where a resistance value per unit length is smaller than that in each bias wire 9. <P>COPYRIGHT: (C)2011,JPO&INPIT

Description

本発明は、放射線画像撮影装置に係り、特に、各放射線検出素子にバイアス電圧を印加する複数のバイアス線およびそれらの結線を備える放射線画像撮影装置に関する。   The present invention relates to a radiographic imaging apparatus, and more particularly, to a radiographic imaging apparatus including a plurality of bias lines for applying a bias voltage to each radiation detection element and their connections.

照射されたX線等の放射線の線量に応じて検出素子で電荷を発生させて電気信号に変換するいわゆる直接型の放射線画像撮影装置や、照射された放射線をシンチレータ等で可視光等の他の波長の電磁波に変換した後、変換され照射された電磁波のエネルギに応じてフォトダイオード等の光電変換素子で電荷を発生させて電気信号に変換するいわゆる間接型の放射線画像撮影装置が種々開発されている。なお、本発明では、直接型の放射線画像撮影装置における検出素子や、間接型の放射線画像撮影装置における光電変換素子を、あわせて放射線検出素子という。   A so-called direct type radiographic imaging device that generates electric charges by a detection element in accordance with the dose of irradiated radiation such as X-rays and converts it into an electrical signal, or other radiation such as visible light with a scintillator or the like. Various so-called indirect radiographic imaging devices have been developed that convert charges to electromagnetic waves after being converted into electrical signals by generating electric charges with photoelectric conversion elements such as photodiodes in accordance with the energy of the converted and irradiated electromagnetic waves. Yes. In the present invention, the detection element in the direct type radiographic imaging apparatus and the photoelectric conversion element in the indirect type radiographic imaging apparatus are collectively referred to as a radiation detection element.

このタイプの放射線画像撮影装置はFPD(Flat Panel Detector)として知られており、従来は支持台(或いはブッキー装置)と一体的に形成されていたが(例えば特許文献1参照)、近年、放射線検出素子等をハウジングに収納した可搬型の放射線画像撮影装置が開発され、実用化されている(例えば特許文献2、3参照)。   This type of radiographic imaging apparatus is known as an FPD (Flat Panel Detector), and conventionally formed integrally with a support base (or a bucky apparatus) (see, for example, Patent Document 1). A portable radiographic imaging device in which an element or the like is housed in a housing has been developed and put into practical use (see, for example, Patent Documents 2 and 3).

ところで、放射線検出素子には通常2つの電極が設けられ、一方の電極には薄膜トランジスタ(Thin Film Transistor。以下、TFTという。)等のスイッチ素子が設けられて放射線検出素子内に蓄積された電荷の読み出しが行われ、他方の電極には放射線検出素子にバイアス電圧(いわゆる逆バイアス電圧を含む。)を印加するバイアス線が接続されることが多い(例えば特許文献4、5参照)。   By the way, the radiation detection element is usually provided with two electrodes, and one electrode is provided with a switch element such as a thin film transistor (hereinafter referred to as TFT), so that the charge accumulated in the radiation detection element is reduced. Reading is often performed, and a bias line for applying a bias voltage (including a so-called reverse bias voltage) to the radiation detection element is often connected to the other electrode (see, for example, Patent Documents 4 and 5).

そして、バイアス電源から各放射線検出素子に対して一定値のバイアス電圧を印加するために、例えば特許文献5の各図に示されているように、二次元状(マトリクス状)に配列された放射線検出素子のうち放射線検出素子の各列ごとに1本ずつバイアス線を配線し、さらに各バイアス線を1本の結線(特許文献5ではVs接続配線と表現されている。)に結束してバイアス電源に接続するように構成されていることが多い。   Then, in order to apply a constant bias voltage to each radiation detection element from the bias power source, for example, as shown in each drawing of Patent Document 5, radiation arranged in a two-dimensional form (matrix form) Among the detection elements, one bias line is wired for each column of radiation detection elements, and each bias line is further tied to one connection (represented as Vs connection wiring in Patent Document 5) and biased. Often configured to connect to a power source.

特開平9−73144号公報JP-A-9-73144 特開2006−058124号公報JP 2006-058124 A 特開平6−342099号公報JP-A-6-342099 特開2003−332541号公報JP 2003-325441 A 特開2008−4920号公報Japanese Patent Laid-Open No. 2008-4920

ところで、被写体を介して放射線画像撮影装置に放射線が照射されて放射線画像撮影が行われ、各放射線検出素子に蓄積された電荷を読み出す際、通常、走査線(ゲート線ともいう。)にオン電圧が印加されて走査線にゲート電極が接続されたTFTをオン状態とすることで各放射線検出素子から蓄積された電荷(例えば電子)が信号線に放出される。その際、同時に、バイアス線側にも電荷(例えば正孔)が放出される。   By the way, when a radiation image is captured by irradiating a radiation image capturing apparatus through a subject, and the charge accumulated in each radiation detection element is read, normally, an on-voltage is applied to a scanning line (also referred to as a gate line). Is applied to turn on the TFT whose gate electrode is connected to the scanning line, whereby charges (for example, electrons) accumulated from each radiation detection element are emitted to the signal line. At the same time, charges (for example, holes) are also emitted to the bias line side.

そして、このバイアス線側に放出された電荷は結線に集中して、比較的大きな電流が結線中を流れる。結線は抵抗値を有するため、結線中を比較的大きな電荷が流れることにより電圧の変動が生じる。そのため、放射線検出素子からの電荷の読み出し処理では、各放射線検出素子に蓄積された電荷を正確に読み出すために、各放射線検出素子に一定値のバイアス電圧が印加されていることが望ましいにもかかわらず、バイアス電圧に変動が生じる。   The electric charge released to the bias line side concentrates on the connection, and a relatively large current flows through the connection. Since the connection has a resistance value, a voltage fluctuation occurs when a relatively large charge flows through the connection. For this reason, in the process of reading charges from the radiation detection elements, it is desirable that a constant bias voltage is applied to each radiation detection element in order to accurately read out the charges accumulated in each radiation detection element. Instead, the bias voltage varies.

また、例えば特許文献5に各図に示されているように、バイアス線は走査線と交差するように構成されることも多く、その場合、バイアス線と走査線との間にいわゆる寄生容量が発生する。そして、放射線検出素子からの電荷の読み出し処理の際には、各走査線に印加される電圧がオン電圧とオフ電圧との間で切り替えられるため、それと交差するバイアス線や結線側にも、走査線に印加される電圧が切り替えられるたびに電圧変動が生じる。   Further, for example, as shown in each drawing of Patent Document 5, the bias line is often configured to intersect the scanning line, and in that case, a so-called parasitic capacitance is formed between the bias line and the scanning line. appear. In the process of reading out charges from the radiation detection element, the voltage applied to each scanning line is switched between the on-voltage and the off-voltage, so that the scanning is also performed on the bias line and the connection side that intersect with it. Voltage fluctuations occur each time the voltage applied to the line is switched.

さらに、後述するように、各TFTをオン状態とした状態で放射線が照射されると、各放射線検出素子内で電荷が発生し、バイアス線や結線に流出する電流値の変動を捉えることで放射線画像撮影装置自体が放射線の照射の開始を検出することができる。しかし、この場合には、各放射線検出素子から流出する電流が各バイアス線を介して結線に集中するため、結線中を大きな電流が流れる。そのため、この場合もやはり結線の抵抗値に起因するバイアス電圧の変動が生じる。   Further, as will be described later, when radiation is irradiated with each TFT turned on, electric charges are generated in each radiation detection element, and the radiation is detected by capturing fluctuations in the current value flowing out to the bias line and the connection. The image capturing device itself can detect the start of radiation irradiation. However, in this case, since the current flowing out from each radiation detection element concentrates on the connection via each bias line, a large current flows through the connection. Therefore, also in this case, the bias voltage varies due to the resistance value of the connection.

上記のように結線中を流れる電流を検出して放射線画像撮影装置自体で放射線の照射開始を検出する場合、放射線の照射の開始を検出すると、各放射線検出素子に電荷を蓄積させるために各TFTがオフ状態とされるが、その際、各放射線検出素子に印加されるバイアス電圧に変動を生じていると、その後、各放射線検出素子内で蓄積され読み出される電荷の値が正確な値ではなくなる虞れがある。   When the radiation imaging apparatus itself detects the start of radiation irradiation by detecting the current flowing through the connection as described above, each TFT detects the start of radiation irradiation and accumulates charges in each radiation detection element. In this case, if the bias voltage applied to each radiation detection element is fluctuated, the value of the electric charge accumulated and read out in each radiation detection element is not accurate. There is a fear.

上記のように放射線画像撮影装置がそれ自体で放射線の照射の開始を検出することができるように構成されていない場合も多く、放射線の照射開始時すなわち各放射線検出素子での電荷の蓄積開始時には上記のようなバイアス電圧の変動が生じない場合もある。しかし、少なくとも上記のように各放射線検出素子からの電荷の読み出し時に各放射線検出素子に印加されるバイアス電圧に変動が生じると、各放射線検出素子から蓄積された電荷すなわち画像データを読み出す際に、その値に変動が生じ、最終的に得られる画像データからなる撮影画像の画質が低下するといった問題を生じる。   As described above, the radiographic imaging device is often not configured to detect the start of radiation irradiation by itself, and at the start of radiation irradiation, that is, at the start of charge accumulation in each radiation detection element. In some cases, the bias voltage does not vary as described above. However, when fluctuations occur in the bias voltage applied to each radiation detection element at the time of reading charges from each radiation detection element as described above, at the time of reading the charge accumulated from each radiation detection element, that is, image data, The value fluctuates, and there arises a problem that the image quality of the captured image composed of the finally obtained image data is deteriorated.

本発明は、上記の点を鑑みてなされたものであり、各放射線検出素子に印加するバイアス電圧の変動の影響を低減することが可能な放射線画像撮影装置を提供することを目的とする。   The present invention has been made in view of the above points, and an object thereof is to provide a radiographic imaging apparatus capable of reducing the influence of fluctuations in bias voltage applied to each radiation detection element.

前記の問題を解決するために、本発明の放射線画像撮影装置は、
互いに交差するように配設された複数の走査線および複数の信号線と、
前記複数の走査線および複数の信号線により区画された各領域に二次元状に配列された複数の放射線検出素子と、
前記各放射線検出素子に接続され、バイアス電源から前記各放射線検出素子にバイアス電圧を印加し、かつ、前記二次元状に配列された複数の放射線検出素子のうち前記放射線検出素子の各列ごとに1本ずつ配線された複数のバイアス線と、
を備える基板と、
前記複数のバイアス線を結束する結線と、
を備え、
前記複数のバイアス線は、フレキシブルプリント基板の各配線にそれぞれ接続され、前記各配線の前記バイアス線に接続された端部とは反対側の端部が、前記基板とは異なる別の基板上で、単位長さあたりの抵抗値が前記各バイアス線の単位長さあたりの抵抗値よりも小さい前記結線に結束されていることを特徴とする。
In order to solve the above-described problem, the radiographic imaging device of the present invention includes:
A plurality of scanning lines and a plurality of signal lines arranged to cross each other;
A plurality of radiation detection elements arranged two-dimensionally in each region partitioned by the plurality of scanning lines and a plurality of signal lines;
A bias voltage is applied to each radiation detection element from a bias power source connected to each radiation detection element, and among each of the plurality of radiation detection elements arranged in a two-dimensional manner, for each column of the radiation detection elements A plurality of bias lines wired one by one;
A substrate comprising:
A connection for binding the plurality of bias lines;
With
The plurality of bias lines are respectively connected to the respective wirings of the flexible printed circuit board, and the end of each wiring opposite to the end connected to the bias line is on a different substrate different from the substrate. The resistance value per unit length is bundled with the connection smaller than the resistance value per unit length of each bias line.

また、本発明の放射線画像撮影装置は、
互いに交差するように配設された複数の走査線および複数の信号線と、
前記複数の走査線および複数の信号線により区画された各領域に二次元状に配列された複数の放射線検出素子と、
前記各放射線検出素子に接続され、バイアス電源から前記各放射線検出素子にバイアス電圧を印加し、かつ、前記二次元状に配列された複数の放射線検出素子のうち前記放射線検出素子の各列ごとに1本ずつ配線された複数のバイアス線と、
を備える基板と、
前記複数のバイアス線を結束する結線と、
を備え、
前記複数のバイアス線は、フレキシブルプリント基板の各配線にそれぞれ接続され、前記各配線が、前記フレキシブルプリント基板中で、単位長さあたりの抵抗値が前記各バイアス線の単位長さあたりの抵抗値よりも小さい前記結線に結束されていることを特徴とする。
Moreover, the radiographic imaging device of the present invention is
A plurality of scanning lines and a plurality of signal lines arranged to cross each other;
A plurality of radiation detection elements arranged two-dimensionally in each region partitioned by the plurality of scanning lines and a plurality of signal lines;
A bias voltage is applied to each radiation detection element from a bias power source connected to each radiation detection element, and among each of the plurality of radiation detection elements arranged in a two-dimensional manner, for each column of the radiation detection elements A plurality of bias lines wired one by one;
A substrate comprising:
A connection for binding the plurality of bias lines;
With
The plurality of bias lines are respectively connected to each wiring of a flexible printed circuit board, and each wiring is a resistance value per unit length of each bias line in the flexible printed circuit board. It is characterized by being bound to the smaller wire connection.

本発明のような方式の放射線画像撮影装置によれば、結線の単位長さあたりの抵抗値が各バイアス線の単位長さあたりの抵抗値よりも小さくなるように形成されているため、結線中で生じる電圧の変動に基づくバイアス電圧の変動をより小さいものとすることが可能となり、また、バイアス電圧に変動が生じても速やかに元の一定値に回復させることが可能となる。そのため、結線を介して各放射線検出素子に印加するバイアス電圧に変動が生じたとしても、その変動の影響を低減することが可能となり、最終的に得られる画像データからなる撮影画像の画質の低下を防止することが可能となる。   According to the radiographic imaging apparatus of the system as in the present invention, the resistance value per unit length of the connection is formed so as to be smaller than the resistance value per unit length of each bias line. Thus, it is possible to make the fluctuation of the bias voltage based on the fluctuation of the voltage generated in (1) smaller, and even if the bias voltage fluctuates, it can be promptly restored to the original constant value. Therefore, even if fluctuations occur in the bias voltage applied to each radiation detection element via the connection, the influence of the fluctuations can be reduced, and the image quality of the captured image consisting of the finally obtained image data is reduced. Can be prevented.

本実施形態に係る放射線画像撮影装置を示す斜視図である。It is a perspective view which shows the radiographic imaging apparatus which concerns on this embodiment. 図1におけるA−A線に沿う断面図である。It is sectional drawing which follows the AA line in FIG. 放射線画像撮影装置の基板の構成を示す平面図である。It is a top view which shows the structure of the board | substrate of a radiographic imaging apparatus. 図3の基板上の小領域に形成された放射線検出素子とTFT等の構成を示す拡大図である。It is an enlarged view which shows the structure of the radiation detection element, TFT, etc. which were formed in the small area | region on the board | substrate of FIG. 図4におけるX−X線に沿う断面図である。It is sectional drawing which follows the XX line in FIG. COFやPCB基板等が取り付けられた基板を説明する側面図である。It is a side view explaining the board | substrate with which COF, a PCB board | substrate, etc. were attached. 各バイアス線に各配線が接続されたフレキシブルプリント基板およびPCB基板上で各配線の反対側の端部を結束する結線を表す図である。It is a figure showing the connection which binds the edge part on the opposite side of each wiring on the flexible printed circuit board and PCB board | substrate with which each wiring was connected to each bias line. 各バイアス線に各配線が接続されたフレキシブルプリント基板およびフレキシブルプリント基板中で各配線を結束する結線を表す図である。It is a figure showing the wiring which binds each wiring in the flexible printed circuit board and each flexible printed circuit board with which each wiring was connected to each bias line. バイアス線を基板の検出部の外側の位置で結線に結束した場合の構成を示す平面図である。It is a top view which shows the structure at the time of binding a bias line to a connection in the outer position of the detection part of a board | substrate. 放射線画像撮影装置の等価回路を表すブロック図である。It is a block diagram showing the equivalent circuit of a radiographic imaging apparatus. 放射線画像撮影装置に放射線が照射された際に電流検出手段から出力される電流値の推移を示すグラフである。It is a graph which shows transition of the electric current value output from an electric current detection means, when radiation is irradiated to the radiographic imaging apparatus. バイアス線を走査線の上方に設けた場合の構成例を示す平面図である。It is a top view which shows the structural example at the time of providing a bias line above a scanning line.

以下、本発明に係る放射線画像撮影装置の実施の形態について、図面を参照して説明する。   Embodiments of a radiographic image capturing apparatus according to the present invention will be described below with reference to the drawings.

なお、以下では、放射線画像撮影装置が、シンチレータ等を備え、照射された放射線を可視光等の他の波長の電磁波に変換して電気信号を得るいわゆる間接型の放射線画像撮影装置である場合について説明するが、本発明は、直接型の放射線画像撮影装置に対しても適用することが可能である。また、放射線画像撮影装置が可搬型である場合について説明するが、支持台等と一体的に形成された放射線画像撮影装置に対しても適用される。   In the following description, the radiographic imaging device is a so-called indirect radiographic imaging device that includes a scintillator or the like and converts the irradiated radiation into electromagnetic waves of other wavelengths such as visible light to obtain an electrical signal. As will be described, the present invention can also be applied to a direct radiographic imaging apparatus. Although the case where the radiographic image capturing apparatus is portable will be described, the present invention is also applicable to a radiographic image capturing apparatus formed integrally with a support base or the like.

図1は、本実施形態に係る放射線画像撮影装置の外観斜視図であり、図2は、図1のA−A線に沿う断面図である。本実施形態に係る放射線画像撮影装置1は、図1や図2に示すように、筐体2内にシンチレータ3や基板4等が収納されて構成されている。   FIG. 1 is an external perspective view of the radiographic image capturing apparatus according to the present embodiment, and FIG. 2 is a cross-sectional view taken along line AA in FIG. As shown in FIGS. 1 and 2, the radiation image capturing apparatus 1 according to the present embodiment is configured by housing a scintillator 3, a substrate 4, and the like in a housing 2.

筐体2は、少なくとも放射線入射面Rが放射線を透過するカーボン板やプラスチック等の材料で形成されている。なお、図1や図2では、筐体2がフレーム板2Aとバック板2Bとで形成された、いわゆる弁当箱型である場合が示されているが、筐体2を一体的に角筒状に形成した、いわゆるモノコック型とすることも可能である。   The housing 2 is formed of a material such as a carbon plate or plastic that at least the radiation incident surface R transmits radiation. 1 and 2 show a case in which the housing 2 is a so-called lunch box type formed by the frame plate 2A and the back plate 2B. However, the housing 2 is integrally formed in a rectangular tube shape. It is also possible to use a so-called monocoque type.

また、図1に示すように、筐体2の側面部分には、電源スイッチ36や、LED等で構成されたインジケータ37、図示しないバッテリ41(後述する図10参照)の交換等のために開閉可能とされた蓋部材38等が配置されている。また、本実施形態では、蓋部材38の側面部には、画像データ等を外部装置に無線で転送するための転送手段であるアンテナ装置39が埋め込まれている。   As shown in FIG. 1, the side surface of the housing 2 is opened and closed for replacement of a power switch 36, an indicator 37 made up of LEDs, etc., and a battery 41 (not shown) (see FIG. 10 described later). A possible lid member 38 and the like are arranged. In the present embodiment, an antenna device 39 that is a transfer unit for transferring image data and the like wirelessly to an external device is embedded in the side surface of the lid member 38.

なお、画像データ等を外部装置に有線方式で転送するように構成することも可能であり、その場合は、例えば、転送手段として、ケーブル等を差し込むなどして接続するための接続端子等が放射線画像撮影装置1の側面部等に設けられる。また、アンテナ装置39の位置は蓋部材38の部分に限定されず、放射線画像撮影装置1の側面等の適宜の位置に設けられる。   It is also possible to transfer the image data or the like to an external device in a wired manner. In this case, for example, as a transfer means, a connection terminal or the like for connecting by inserting a cable or the like is used as radiation. It is provided on the side surface of the image capturing apparatus 1 or the like. The position of the antenna device 39 is not limited to the portion of the lid member 38, and is provided at an appropriate position such as a side surface of the radiographic image capturing device 1.

また、図2に示すように、筐体2の内部には、基板4の下方側に図示しない鉛の薄板等を介して基台31が配置され、基台31には、電子部品32等が配設されたPCB基板33や緩衝部材34等が取り付けられている。なお、本実施形態では、基板4やシンチレータ3の放射線入射面Rには、それらを保護するためのガラス基板35が配設されている。   As shown in FIG. 2, a base 31 is disposed inside the housing 2 via a thin lead plate or the like (not shown) on the lower side of the substrate 4. The disposed PCB substrate 33, the buffer member 34, and the like are attached. In the present embodiment, a glass substrate 35 for protecting the substrate 4 and the radiation incident surface R of the scintillator 3 is disposed.

シンチレータ3は、基板4の後述する検出部Pに貼り合わされるようになっている。シンチレータ3は、例えば、蛍光体を主成分とし、放射線の入射を受けると300〜800nmの波長の電磁波、すなわち可視光を中心とした電磁波に変換して出力するものが用いられる。   The scintillator 3 is attached to a detection unit P, which will be described later, of the substrate 4. As the scintillator 3, for example, a scintillator 3 that has a phosphor as a main component and converts it into an electromagnetic wave having a wavelength of 300 to 800 nm, that is, an electromagnetic wave centered on visible light when it receives incident radiation, is used.

基板4は、本実施形態では、ガラス基板で構成されており、図3に示すように、基板4のシンチレータ3に対向する側の面4a上には、複数の走査線5と複数の信号線6とが互いに交差するように配設されている。基板4の面4a上の複数の走査線5と複数の信号線6により区画された各小領域rには、放射線検出素子7がそれぞれ設けられている。   In the present embodiment, the substrate 4 is formed of a glass substrate. As shown in FIG. 3, a plurality of scanning lines 5 and a plurality of signal lines are provided on a surface 4 a of the substrate 4 facing the scintillator 3. 6 are arranged so as to cross each other. In each small region r defined by the plurality of scanning lines 5 and the plurality of signal lines 6 on the surface 4 a of the substrate 4, radiation detection elements 7 are respectively provided.

このように、走査線5と信号線6で区画された各小領域rに二次元状に配列された複数の放射線検出素子7が設けられた領域r全体、すなわち図3に一点鎖線で示される領域が検出部Pとされている。   Thus, the entire region r in which a plurality of radiation detection elements 7 arranged in a two-dimensional manner are provided in each small region r partitioned by the scanning line 5 and the signal line 6, that is, shown by a one-dot chain line in FIG. The region is a detection unit P.

本実施形態では、放射線検出素子7としてフォトダイオードが用いられているが、この他にも例えばフォトトランジスタ等を用いることも可能である。各放射線検出素子7は、図3や図4の拡大図に示すように、スイッチ手段であるTFT8のソース電極8sに接続されている。また、TFT8のドレイン電極8dは信号線6に接続されている。   In the present embodiment, a photodiode is used as the radiation detection element 7, but other than this, for example, a phototransistor or the like can also be used. Each radiation detection element 7 is connected to the source electrode 8s of the TFT 8 serving as a switch means, as shown in the enlarged views of FIGS. The drain electrode 8 d of the TFT 8 is connected to the signal line 6.

そして、TFT8は、後述する走査駆動手段15により、接続された走査線5にオン電圧が印加され、ゲート電極8gにオン電圧が印加されるとオン状態となり、放射線検出素子7内で発生し蓄積されている電荷を信号線6に放出させるようになっている。また、TFT8は、接続された走査線5にオフ電圧が印加され、ゲート電極8gにオフ電圧が印加されるとオフ状態となり、放射線検出素子7から信号線6への電荷の放出を停止して、放射線検出素子7内で発生した電荷を放射線検出素子7内に保持して蓄積させるようになっている。   The TFT 8 is turned on when a turn-on voltage is applied to the connected scanning line 5 by the scanning drive means 15 described later and applied to the gate electrode 8g, and is generated and accumulated in the radiation detection element 7. The charged electric charge is discharged to the signal line 6. Further, the TFT 8 is turned off when the off voltage is applied to the connected scanning line 5 and the off voltage is applied to the gate electrode 8g, and the emission of the charge from the radiation detecting element 7 to the signal line 6 is stopped. The charges generated in the radiation detection element 7 are held and accumulated in the radiation detection element 7.

ここで、本実施形態における放射線検出素子7やTFT8の構造について、図5に示す断面図を用いて簡単に説明する。図5は、図4におけるX−X線に沿う断面図である。   Here, the structure of the radiation detection element 7 and the TFT 8 in this embodiment will be briefly described with reference to the cross-sectional view shown in FIG. FIG. 5 is a sectional view taken along line XX in FIG.

基板4の面4a上に、AlやCr等からなるTFT8のゲート電極8gが走査線5と一体的に積層されて形成されており、ゲート電極8g上および面4a上に積層された窒化シリコン(SiN)等からなるゲート絶縁層81上のゲート電極8gの上方部分に、水素化アモルファスシリコン(a−Si)等からなる半導体層82を介して、放射線検出素子7の第1電極74と接続されたソース電極8sと、信号線6と一体的に形成されるドレイン電極8dとが積層されて形成されている。 A gate electrode 8g of a TFT 8 made of Al, Cr or the like is formed on the surface 4a of the substrate 4 so as to be integrally laminated with the scanning line 5, and silicon nitride (laminated on the gate electrode 8g and the surface 4a). The first electrode 74 of the radiation detecting element 7 is connected to the upper portion of the gate electrode 8g on the gate insulating layer 81 made of SiN x ) or the like via the semiconductor layer 82 made of hydrogenated amorphous silicon (a-Si) or the like. The formed source electrode 8s and the drain electrode 8d formed integrally with the signal line 6 are laminated.

ソース電極8sとドレイン電極8dとは、窒化シリコン(SiN)等からなる第1パッシベーション層83によって分割されており、さらに第1パッシベーション層83は両電極8s、8dを上側から被覆している。また、半導体層82とソース電極8sやドレイン電極8dとの間には、水素化アモルファスシリコンにVI族元素をドープしてn型に形成されたオーミックコンタクト層84a、84bがそれぞれ積層されている。以上のようにしてTFT8が形成されている。 The source electrode 8s and the drain electrode 8d are divided by a first passivation layer 83 made of silicon nitride (SiN x ) or the like, and the first passivation layer 83 covers both electrodes 8s and 8d from above. In addition, ohmic contact layers 84a and 84b formed in an n-type by doping hydrogenated amorphous silicon with a group VI element are stacked between the semiconductor layer 82 and the source electrode 8s and the drain electrode 8d, respectively. The TFT 8 is formed as described above.

また、放射線検出素子7の部分では、基板4の面4a上に前記ゲート絶縁層81と一体的に形成される絶縁層71の上にAlやCr等が積層されて補助電極72が形成されており、補助電極72上に前記第1パッシベーション層83と一体的に形成される絶縁層73を挟んでAlやCr、Mo等からなる第1電極74が積層されている。第1電極74は、第1パッシベーション層83に形成されたホールHを介してTFT8のソース電極8sに接続されている。   In the radiation detecting element 7, an auxiliary electrode 72 is formed by laminating Al, Cr, or the like on the insulating layer 71 formed integrally with the gate insulating layer 81 on the surface 4 a of the substrate 4. A first electrode 74 made of Al, Cr, Mo or the like is laminated on the auxiliary electrode 72 with an insulating layer 73 formed integrally with the first passivation layer 83 interposed therebetween. The first electrode 74 is connected to the source electrode 8 s of the TFT 8 through the hole H formed in the first passivation layer 83.

第1電極74の上には、水素化アモルファスシリコンにVI族元素をドープしてn型に形成されたn層75、水素化アモルファスシリコンで形成された変換層であるi層76、水素化アモルファスシリコンにIII族元素をドープしてp型に形成されたp層77が下方から順に積層されて形成されている。   On the first electrode 74, an n layer 75 formed in an n-type by doping a hydrogenated amorphous silicon with a group VI element, an i layer 76 which is a conversion layer formed of hydrogenated amorphous silicon, and a hydrogenated amorphous A p layer 77 formed by doping a group III element into silicon and forming a p-type layer is formed by laminating sequentially from below.

放射線画像撮影装置1の筐体2の放射線入射面Rから放射線が入射し、シンチレータ3で可視光等の電磁波に変換され、変換された電磁波が図中上方から照射されると、電磁波は放射線検出素子7のi層76に到達して、i層76内で電子正孔対が発生する。放射線検出素子7は、このようにして、シンチレータ3から照射された電磁波を電荷に変換するようになっている。   When radiation enters from the radiation incident surface R of the housing 2 of the radiographic imaging apparatus 1 and is converted into an electromagnetic wave such as visible light by the scintillator 3, and the converted electromagnetic wave is irradiated from above in the figure, the electromagnetic wave is detected by radiation. The electron hole pair is generated in the i layer 76 by reaching the i layer 76 of the element 7. In this way, the radiation detection element 7 converts the electromagnetic waves irradiated from the scintillator 3 into electric charges.

また、p層77の上には、ITO等の透明電極とされた第2電極78が積層されて形成されており、照射された電磁波がi層76等に到達するように構成されている。本実施形態では、以上のようにして放射線検出素子7が形成されている。なお、p層77、i層76、n層75の積層の順番は上下逆であってもよい。また、本実施形態では、放射線検出素子7として、上記のようにp層77、i層76、n層75の順に積層されて形成されたいわゆるpin型の放射線検出素子を用いる場合が説明されているが、これに限定されない。   On the p layer 77, a second electrode 78 made of a transparent electrode such as ITO is laminated and formed so that the irradiated electromagnetic wave reaches the i layer 76 and the like. In the present embodiment, the radiation detection element 7 is formed as described above. The order of stacking the p layer 77, the i layer 76, and the n layer 75 may be reversed. Further, in the present embodiment, a case where a so-called pin-type radiation detection element formed by sequentially stacking the p layer 77, the i layer 76, and the n layer 75 as described above is used as the radiation detection element 7. However, it is not limited to this.

放射線検出素子7の第2電極78の上面には、第2電極78を介して放射線検出素子7にバイアス電圧を印加するアルミニウム等からなるバイアス線9が接続されている。なお、放射線検出素子7の第2電極78やバイアス線9、TFT8側に延出された第1電極74、TFT8の第1パッシベーション層83等、すなわち放射線検出素子7とTFT8の上面部分は、その上方側から窒化シリコン(SiN)等からなる第2パッシベーション層79で被覆されている。 A bias line 9 made of aluminum or the like for applying a bias voltage to the radiation detection element 7 is connected to the upper surface of the second electrode 78 of the radiation detection element 7 via the second electrode 78. The second electrode 78 and the bias line 9 of the radiation detection element 7, the first electrode 74 extended to the TFT 8 side, the first passivation layer 83 of the TFT 8, that is, the upper surfaces of the radiation detection element 7 and the TFT 8 are A second passivation layer 79 made of silicon nitride (SiN x ) or the like is covered from above.

図3や図4に示すように、本実施形態では、それぞれ列状に配置された複数の放射線検出素子7に1本のバイアス線9が接続されており、各バイアス線9はそれぞれ信号線6に平行に配設されている。   As shown in FIGS. 3 and 4, in this embodiment, one bias line 9 is connected to a plurality of radiation detection elements 7 arranged in rows, and each bias line 9 is connected to a signal line 6. Are arranged in parallel with each other.

本実施形態では、図3に示すように、各走査線5や各信号線6、各バイアス線9は、それぞれ基板4の端縁部付近に設けられた入出力端子(パッドともいう)11に接続されている。各走査線5や各信号線6の各入出力端子11には、図6に示すように、IC12a等のチップが組み込まれたCOF(Chip On Film)12が異方性導電接着フィルム(Anisotropic Conductive Film)や異方性導電ペースト(Anisotropic Conductive Paste)等の異方性導電性接着材料13を介して接続されている。   In the present embodiment, as shown in FIG. 3, each scanning line 5, each signal line 6, and each bias line 9 are respectively connected to input / output terminals (also referred to as pads) 11 provided near the edge of the substrate 4. It is connected. As shown in FIG. 6, a COF (Chip On Film) 12 in which a chip such as an IC 12a is incorporated in each input / output terminal 11 of each scanning line 5 and each signal line 6 is an anisotropic conductive adhesive film (Anisotropic Conductive Film). It is connected via an anisotropic conductive adhesive material 13 such as a film or anisotropic conductive paste.

そして、COF12は、基板4の裏面4b側に引き回され、裏面4b側で前述したPCB基板33に接続されるようになっている。このようにして、放射線画像撮影装置1の基板4部分が形成されている。なお、図6では、電子部品32等の図示が省略されている。   The COF 12 is routed to the back surface 4b side of the substrate 4 and is connected to the PCB substrate 33 described above on the back surface 4b side. Thus, the board | substrate 4 part of the radiographic imaging apparatus 1 is formed. In FIG. 6, illustration of the electronic component 32 and the like is omitted.

また、本実施形態では、図7に示すように、各バイアス線9の各入出力端子11には、フレキシブルプリント基板(Flexible printed circuits。フレキシブル基板やフレキ等とも言われる。)Fの銅線等からなる各配線Faが、図6の場合と同様に、図7では図示しない異方性導電性接着材料等を介して接続されている。   In the present embodiment, as shown in FIG. 7, each input / output terminal 11 of each bias line 9 has a flexible printed circuit board (flexible printed circuit; also referred to as a flexible circuit board or a flexible board) F copper wire or the like. As in the case of FIG. 6, each wiring Fa made of is connected via an anisotropic conductive adhesive material or the like not shown in FIG. 7.

フレキシブルプリント基板Fは、図6に示したCOF12と同様に基板4の裏面4b側に引き回され、裏面4b側で前述したPCB基板33に接続されるようになっている。また、本実施形態では、図7に示すように、各バイアス線9に接続されたフレキシブルプリント基板Fの各配線Faの、バイアス線9が接続された端部とは反対側の端部が、PCB基板33上で、単位長さあたりの抵抗値が各バイアス線9の単位長さあたりの抵抗値よりも小さい銅線等からなる結線10に結束されている。   The flexible printed circuit board F is routed to the back surface 4b side of the substrate 4 in the same manner as the COF 12 shown in FIG. 6, and is connected to the above-described PCB substrate 33 on the back surface 4b side. In the present embodiment, as shown in FIG. 7, the end of each wiring Fa of the flexible printed circuit board F connected to each bias line 9 is opposite to the end to which the bias line 9 is connected. On the PCB substrate 33, the resistance value per unit length is bound to a connection 10 made of a copper wire or the like, which is smaller than the resistance value per unit length of each bias line 9.

その際、結線10の幅を広げたり厚さを分厚く形成する等して、結線10の単位長さあたりの抵抗値をさらに低下させるように構成することも可能である。また、図8に示すように、フレキシブルプリント基板F中で、各配線Faが銅線等からなる結線10に結束されるように構成することも可能である。   At that time, it is possible to further reduce the resistance value per unit length of the connection 10 by increasing the width of the connection 10 or forming the thickness to be thicker. Moreover, as shown in FIG. 8, it is also possible to constitute the flexible printed circuit board F so that each wiring Fa is bound to a connection 10 made of a copper wire or the like.

なお、図7や図8では、全てのバイアス線9を1枚のフレキシブルプリント基板Fの各配線Faに接続する場合を示したが、各バイアス線9を複数枚のフレキシブルプリント基板Fに分けて各配線Faと接続するように構成することも可能である。   7 and FIG. 8, the case where all the bias lines 9 are connected to each wiring Fa of one flexible printed board F is shown. However, each bias line 9 is divided into a plurality of flexible printed boards F. It is also possible to configure so as to be connected to each wiring Fa.

また、図9に示すように、バイアス線9を基板4の検出部Pの外側の位置で結線10に結束するように構成し、例えば基板上4の結線10の幅を広げることで結線10の単位長さあたりの抵抗値を各バイアス線9の単位長さあたりの抵抗値よりも小さくするように形成することが考えられる。   Further, as shown in FIG. 9, the bias line 9 is configured to be bound to the connection 10 at a position outside the detection portion P of the substrate 4. For example, the width of the connection 10 on the substrate 4 is increased to increase the width of the connection 10. It can be considered that the resistance value per unit length is made smaller than the resistance value per unit length of each bias line 9.

しかし、このように構成する場合、本実施形態の後述する効果と同様の効果を実現するためには結線10の幅を相当程度広げなければならなくなるが、基板4やそれを収納する筐体2のサイズには実際上の制限があり、結線10の幅を広げることで単位長さあたりの抵抗値を小さくする手法は事実上採用できない。   However, in the case of such a configuration, in order to realize the same effect as that described later of the present embodiment, the width of the connection 10 must be considerably increased. There is a practical limit to the size of the wire, and a method of reducing the resistance value per unit length by increasing the width of the connection 10 cannot be practically adopted.

また、例えば基板4上の結線10の厚さを分厚く形成することで結線10の単位長さあたりの抵抗値を各バイアス線9の単位長さあたりの抵抗値よりも小さくするように形成することも考えられるが、この場合も、本実施形態の後述する効果と同様の効果を実現するためには結線10の厚さを相当程度分厚く形成しなければならない。   Further, for example, by forming the connection 10 on the substrate 4 to be thick, the resistance value per unit length of the connection 10 is made smaller than the resistance value per unit length of each bias line 9. However, in this case as well, in order to achieve the same effect as that described later of the present embodiment, the thickness of the connection 10 must be made considerably thick.

しかし、そのように構成すると、図2に示した基板4とガラス基板35の間の所定の間隔より結線10の厚さの方が大きくなり、シンチレータ3と放射線検出素子7との間隔が、結線10に近い側では大きくなり、結線10から遠い側では小さくなってしまう。従って、結線10の厚さを分厚く形成することで単位長さあたりの抵抗値を小さくする手法も事実上採用できない。   However, with such a configuration, the thickness of the connection 10 is larger than the predetermined distance between the substrate 4 and the glass substrate 35 shown in FIG. 2, and the distance between the scintillator 3 and the radiation detection element 7 is It becomes larger on the side closer to 10 and smaller on the side farther from the connection 10. Therefore, the method of reducing the resistance value per unit length by forming the connection wire 10 thickly cannot be employed.

なお、上記のように、PCB基板33上(図6参照)やフレキシブルプリント基板F中(図7参照)で結線10の幅を広げたり厚さを分厚く形成することに対しては特段の制限がないため、それらの変形は適宜行うことができる。   As described above, there are special restrictions on increasing the width of the connection 10 or increasing the thickness on the PCB substrate 33 (see FIG. 6) or in the flexible printed circuit board F (see FIG. 7). Therefore, those modifications can be made as appropriate.

ここで、本実施形態に係る放射線画像撮影装置1の回路構成について説明する。図10は本実施形態に係る放射線画像撮影装置1の等価回路を表すブロック図である。   Here, the circuit configuration of the radiographic image capturing apparatus 1 according to the present embodiment will be described. FIG. 10 is a block diagram showing an equivalent circuit of the radiation image capturing apparatus 1 according to this embodiment.

前述したように、基板4の検出部Pの各放射線検出素子7は、その第2電極78にそれぞれバイアス線9が接続されており、各バイアス線9はフレキシブルプリント基板Fの銅線等からなる各配線Faに接続され、本実施形態では、PCB基板33上で銅線等からなる結線10に結束されている。結線10はバイアス電源14に接続されている。   As described above, each radiation detection element 7 of the detection unit P of the substrate 4 has the bias electrode 9 connected to the second electrode 78, and each bias line 9 is made of a copper wire or the like of the flexible printed circuit board F. Connected to each wiring Fa, in the present embodiment, it is bound to a connection 10 made of a copper wire or the like on the PCB substrate 33. The connection 10 is connected to a bias power supply 14.

バイアス電源14は、結線10および各バイアス線9を介して各放射線検出素子7の第2電極78にそれぞれバイアス電圧を印加するようになっている。また、バイアス電源14は、後述する制御手段22に接続されており、制御手段22は、バイアス電源14から各放射線検出素子7に印加するバイアス電圧を制御するようになっている。   The bias power supply 14 applies a bias voltage to the second electrode 78 of each radiation detection element 7 via the connection 10 and each bias line 9. The bias power source 14 is connected to a control unit 22 described later, and the control unit 22 controls a bias voltage applied to each radiation detection element 7 from the bias power source 14.

また、本実施形態では、バイアス線9の結線10に、結線10中を流れる電流の電流量を検出する電流検出手段43が設けられている。   In the present embodiment, the current detection means 43 that detects the amount of current flowing through the connection 10 is provided in the connection 10 of the bias line 9.

前述したように、放射線画像撮影の際、放射線画像撮影装置1に放射線が照射されると、各放射線検出素子7のi層76(図5参照)内で電子正孔対が発生する。その際、例えばTFT8をオン状態としておくと、各放射線検出素子7内で発生した電子正孔対のうち、一方の電荷(本実施形態では電子)がTFT8を介して信号線6に流出し、他方の電荷(本実施形態では正孔)がバイアス線9に流れ出して結線10に電流が流れる。   As described above, when the radiation image capturing apparatus 1 is irradiated with radiation at the time of capturing a radiation image, electron-hole pairs are generated in the i layer 76 (see FIG. 5) of each radiation detection element 7. At that time, for example, if the TFT 8 is turned on, one charge (electrons in the present embodiment) out of the electron-hole pairs generated in each radiation detection element 7 flows out to the signal line 6 through the TFT 8, The other charge (holes in this embodiment) flows out to the bias line 9 and a current flows through the connection 10.

後述する制御手段22は、電流検出手段43で検出された結線10中を流れる電流の値を監視するようになっており、図11に示すように、放射線の照射開始により結線10中を流れる電流Iが増加するが、その電流値Iが所定値Ithになった時刻T1を放射線の照射が開始された時刻として検出するようになっている。なお、この他にも、例えば電流値Iの時間微分値が所定の閾値になった時刻を放射線の照射開始時刻として検出するように構成することも可能である。   The control means 22, which will be described later, monitors the value of the current flowing through the connection 10 detected by the current detection means 43. As shown in FIG. 11, the current flowing through the connection 10 when radiation irradiation starts. Although I increases, the time T1 when the current value I reaches the predetermined value Ith is detected as the time when the irradiation of radiation is started. In addition to this, for example, it is possible to detect the time when the time differential value of the current value I becomes a predetermined threshold as the radiation irradiation start time.

なお、このままTFT8をオン状態としておくと、放射線の照射によって発生した電荷(画像データ)が各放射線検出素子7から流出してしまう。そのため、制御手段22は、放射線の照射開始を検出すると、すぐに各TFT8をオフ状態として各放射線検出素子7に電荷を蓄積させるようになっている。そのため、図11に示すように、各バイアス線9を介して結線10に流れる電流値は次第に減少して結線10中をほとんど流れなくなる。なお、本発明においては、電流検出手段43は必ずしも設けられなくてもよい。   If the TFT 8 is kept in the ON state as it is, the charge (image data) generated by radiation irradiation flows out from each radiation detection element 7. Therefore, as soon as the start of radiation irradiation is detected, the control means 22 turns off each TFT 8 and accumulates charges in each radiation detection element 7. Therefore, as shown in FIG. 11, the value of the current flowing through the connection 10 via each bias line 9 gradually decreases and hardly flows through the connection 10. In the present invention, the current detection means 43 is not necessarily provided.

図10に示すように、本実施形態では、バイアス線9が放射線検出素子7の第2電極78側すなわちp層77側(図5参照)に接続されている。このことからも分かるように、放射線検出素子7の第2電極78には、バイアス電源14から、第1電極74側にかかる電圧以下のバイアス電圧(すなわちいわゆる逆バイアス電圧)がバイアス線9を介して印加されるようになっている。   As shown in FIG. 10, in the present embodiment, the bias line 9 is connected to the second electrode 78 side of the radiation detection element 7, that is, the p layer 77 side (see FIG. 5). As can be seen from this, a bias voltage lower than the voltage applied to the first electrode 74 side from the bias power supply 14 (that is, a so-called reverse bias voltage) is applied to the second electrode 78 of the radiation detection element 7 via the bias line 9. Applied.

各放射線検出素子7の第1電極74はTFT8のソース電極8s(図10中ではSと表記されている。)に接続されており、各TFT8のゲート電極8g(図10中ではGと表記されている。)は、後述する走査駆動手段15のゲートドライバ15bから延びる走査線5の各ラインL1〜Lxにそれぞれ接続されている。また、各TFT8のドレイン電極8d(図10中ではDと表記されている。)は各信号線6にそれぞれ接続されている。   The first electrode 74 of each radiation detection element 7 is connected to the source electrode 8s (denoted as S in FIG. 10) of the TFT 8, and the gate electrode 8g of each TFT 8 (denoted as G in FIG. 10). Are connected to the lines L1 to Lx of the scanning line 5 extending from the gate driver 15b of the scanning driving means 15 to be described later. Further, the drain electrode 8d (denoted as D in FIG. 10) of each TFT 8 is connected to each signal line 6.

走査駆動手段15は、本実施形態では、ゲートドライバ15bにオン電圧とオフ電圧を供給する電源回路15aと、走査線5の各ラインL1〜Lxに印加する電圧をオン電圧とオフ電圧の間で切り替えて各TFT8のオン状態とオフ状態とを切り替えるゲートドライバ15bとを備えている。   In the present embodiment, the scanning drive unit 15 includes a power supply circuit 15a that supplies an on voltage and an off voltage to the gate driver 15b, and a voltage applied to each of the lines L1 to Lx of the scanning line 5 between the on voltage and the off voltage. A gate driver 15b that switches between the on state and the off state of each TFT 8 is provided.

また、各信号線6は、読み出しIC16内に形成された各読み出し回路17にそれぞれ接続されている。読み出し回路17は、増幅回路18と、相関二重サンプリング(Correlated Double Sampling。図中ではCDSと表記されている。)回路19と、アナログマルチプレクサ21と、A/D変換器20とで構成されている。   Each signal line 6 is connected to each readout circuit 17 formed in the readout IC 16. The readout circuit 17 includes an amplification circuit 18, a correlated double sampling (Correlated Double Sampling, expressed as CDS in the drawing) circuit 19, an analog multiplexer 21, and an A / D converter 20. Yes.

そして、例えば、放射線画像撮影で被写体を介して放射線画像撮影装置1に放射線が照射され、シンチレータ3で放射線が他の波長の電磁波に変換されて、その直下の放射線検出素子7に照射される。そして、放射線検出素子7で照射された放射線の線量(電磁波の光量)に応じて電荷(電気信号)が発生する。   For example, in radiographic imaging, radiation is applied to the radiographic imaging device 1 through the subject, and the scintillator 3 converts the radiation into electromagnetic waves of other wavelengths and irradiates the radiation detection element 7 directly below the radiation. Then, electric charges (electric signals) are generated according to the dose of radiation (the amount of electromagnetic waves) irradiated by the radiation detection element 7.

各放射線検出素子7からの電荷の読み出し処理においては、走査駆動手段15のゲートドライバ15bからオン電圧が印加される走査線5の各ラインL1〜Lxが順次切り替えられながら、各走査線5を介してゲート電極8gにオン電圧が印加されたTFT8がオン状態となると、放射線検出素子7から信号線6に電荷が放出される。   In the process of reading charges from each radiation detection element 7, the lines L 1 to Lx of the scanning line 5 to which the on-voltage is applied from the gate driver 15 b of the scanning driving unit 15 are sequentially switched, and the scanning line 5 passes through each scanning line 5. Then, when the TFT 8 to which the ON voltage is applied to the gate electrode 8g is turned on, electric charges are discharged from the radiation detection element 7 to the signal line 6.

そして、放射線検出素子7から放出された電荷量に応じて増幅回路18から電圧値が出力され、それを相関二重サンプリング回路19で相関二重サンプリングしてアナログ値の画像データがマルチプレクサ21に出力される。マルチプレクサ21から順次出力された画像データは、A/D変換器20で順次デジタル値の画像データに変換され、記憶手段40に出力されて順次保存されるようになっている。   Then, a voltage value is output from the amplifier circuit 18 in accordance with the amount of charge emitted from the radiation detection element 7, and is correlated double-sampled by the correlated double sampling circuit 19, and analog value image data is output to the multiplexer 21. Is done. The image data sequentially output from the multiplexer 21 is sequentially converted into digital value image data by the A / D converter 20, output to the storage means 40, and sequentially stored.

制御手段22は、CPU(Central Processing Unit)やROM(Read Only Memory)、RAM(Random Access Memory)、入出力インターフェース等がバスに接続されたコンピュータや、FPGA(Field Programmable Gate Array)等により構成されている。専用の制御回路で構成されていてもよい。   The control means 22 includes a CPU (Central Processing Unit), ROM (Read Only Memory), RAM (Random Access Memory), a computer having an input / output interface connected to the bus, an FPGA (Field Programmable Gate Array), and the like. ing. It may be configured by a dedicated control circuit.

制御手段22は、放射線画像撮影装置1の走査駆動手段15や読み出し回路17等の各機能部を制御して、各放射線検出素子7のリセット処理や各放射線検出素子7内での電荷の蓄積、それらからの電荷の読み出し等の種々の処理を実行するようになっている。   The control unit 22 controls each functional unit such as the scanning drive unit 15 and the readout circuit 17 of the radiographic imaging apparatus 1 to reset each radiation detection element 7 and accumulate charges in each radiation detection element 7. Various processes such as reading of charges from them are performed.

また、制御手段22には、DRAM(Dynamic RAM)等で構成される記憶手段40や、放射線画像撮影装置1の各機能部に電力を供給するバッテリ41が接続されている。また、バッテリ41には、クレードル等の図示しない充電装置からバッテリ41に電力を供給してバッテリ41を充電する際の接続端子42が取り付けられている。さらに、制御手段22には、前述したアンテナ装置39が接続されており、外部装置との間で画像データや各種信号等の種々の情報を送受信できるようになっている。   The control means 22 is connected to a storage means 40 constituted by a DRAM (Dynamic RAM) or the like, and a battery 41 that supplies power to each functional unit of the radiographic image capturing apparatus 1. The battery 41 is provided with a connection terminal 42 for charging the battery 41 by supplying power to the battery 41 from a charging device (not shown) such as a cradle. Furthermore, the above-described antenna device 39 is connected to the control means 22 so that various information such as image data and various signals can be transmitted to and received from an external device.

次に、本実施形態に係る放射線画像撮影装置1の作用について説明する。   Next, the operation of the radiation image capturing apparatus 1 according to this embodiment will be described.

従来の放射線画像撮影装置では、前述した特許文献5に記載された放射線画像撮影装置のように、バイアス線9と結線(特許文献5ではVs接続配線)10を例えばアルミニウム等の同じ材料で同一の製膜プロセスで基板4上に形成していた。また、その際、結線10の単位長さあたりの抵抗値を小さくするために、結線10の幅が広げられたり、厚さが分厚くなるように形成されることもあった。   In the conventional radiographic image capturing apparatus, as in the radiographic image capturing apparatus described in Patent Document 5 described above, the bias line 9 and the connection (Vs connection wiring in Patent Document 5) 10 are made of the same material such as aluminum, for example. It was formed on the substrate 4 by a film forming process. At that time, in order to reduce the resistance value per unit length of the connection 10, the connection 10 may be formed to have a wide width or a thick thickness.

しかし、前述したように、結線10の幅を広げたり、厚さを分厚くすると、基板4等のサイズが大きくなったり基板4とガラス基板35との間隔が不均一になったりする弊害があり、結線10の幅や厚さの拡大には限界があった。そのため、結線10の幅や厚さを拡大させて結線10の単位長さあたりの抵抗値を小さくするとしても、抵抗値を多少小さくすることができる程度であった。   However, as described above, when the width of the connection 10 is increased or the thickness is increased, the size of the substrate 4 or the like is increased, or the distance between the substrate 4 and the glass substrate 35 is not uniform, There was a limit to the expansion of the width and thickness of the connection wire 10. Therefore, even if the width and thickness of the connection 10 are increased to reduce the resistance value per unit length of the connection 10, the resistance value can be reduced somewhat.

そのため、従来の放射線画像撮影装置に、例えば本実施形態のような電流検出手段43を設けた場合、図11に示したように、放射線の照射開始時には、各放射線検出素子7から流出した電荷(正孔)が各バイアス線9を介して結線10に集中して流れ、結線10中を大きな電流が流れる。   Therefore, when the current radiation imaging apparatus is provided with the current detection means 43 as in the present embodiment, for example, as shown in FIG. Holes) concentrate on the connection 10 via the respective bias lines 9, and a large current flows in the connection 10.

そして、このように結線10中を大きな電流が流れると、結線10がある大きさの単位長さあたりの抵抗値を有するため、前述したように、結線10で電圧の変動が生じ、各放射線検出素子7に一定値が印加されるべきバイアス電圧の値に変動が生じてしまう。上記のように、電流検出手段43が検出した電流値が上昇するとすぐに各TFT8がオフ状態とされて各放射線検出素子7内での電荷の蓄積が開始されるが、バイアス電圧が変動している最中に各TFT8がオフ状態とされるため、その後、各放射線検出素子7内に蓄積され読み出される電荷の値が正確な値ではなくなる虞れがあった。   When a large current flows in the connection 10 in this way, the connection 10 has a resistance value per unit length of a certain size. Therefore, as described above, voltage fluctuation occurs in the connection 10 and each radiation detection is performed. Variations occur in the value of the bias voltage to which a constant value is to be applied to the element 7. As described above, as soon as the current value detected by the current detection means 43 increases, each TFT 8 is turned off and charge accumulation in each radiation detection element 7 starts, but the bias voltage varies. Since the TFTs 8 are turned off during the operation, there is a possibility that the charge values stored and read in the radiation detection elements 7 are not accurate values.

このように、電流検出手段43による放射線の照射開始の検出時には、バイアス電圧が変動している最中に各TFT8がオフ状態とされるため、オフ状態とされる時点での結線10での電圧の変動の大きさが、各放射線検出素子7内に蓄積される電荷の値に影響を与える。   Thus, when the start of radiation irradiation is detected by the current detection means 43, each TFT 8 is turned off while the bias voltage is changing. Therefore, the voltage at the connection 10 at the time when the current is turned off. The magnitude of the fluctuation affects the value of charge accumulated in each radiation detection element 7.

また、放射線画像撮影後の各放射線検出素子7からの電荷の読み出し処理においては、各放射線検出素子7内に蓄積された電荷(画像データ)は、走査駆動手段15のゲートドライバ15bからオン電圧が印加される走査線5の各ラインL1〜Lxが順次切り替えられながら、走査線5の各ラインL1〜Lxにゲート電極8gが接続されたTFT8が順次オン状態となり、各放射線検出素子7から電荷が読み出される。   Further, in the process of reading charges from each radiation detection element 7 after radiographic imaging, the charge (image data) accumulated in each radiation detection element 7 is subjected to an on-voltage from the gate driver 15b of the scanning drive means 15. While the lines L1 to Lx of the applied scanning line 5 are sequentially switched, the TFTs 8 in which the gate electrodes 8g are connected to the lines L1 to Lx of the scanning line 5 are sequentially turned on. Read out.

その際、オン電圧が印加された走査線5にTFT8を介して接続されている各放射線検出素子7は数千個に及び、各放射線検出素子7から各信号線6に電荷(電子)が読み出されると同時に、各バイアス線9に他方の電荷(正孔)が流出する。そして、それらの電荷(正孔)が結線10に集中して流れるため、この場合にも結線10中を比較的大きな電流が流れる。   At that time, the radiation detection elements 7 connected to the scanning lines 5 to which the ON voltage is applied via the TFTs 8 are several thousand, and charges (electrons) are read from the radiation detection elements 7 to the signal lines 6. At the same time, the other charge (hole) flows out to each bias line 9. Since these charges (holes) flow in the connection 10 in a concentrated manner, a relatively large current flows in the connection 10 in this case as well.

そして、結線10中を比較的大きな電流が流れると、上記と同様に結線10で電圧の変動が生じ、各放射線検出素子7からの電荷(電子)の読み出し中にバイアス電圧の値が変動する。そのため、各放射線検出素子7から読み出される画像データの値が本来の値ではなくなってしまう虞れがあった。   When a relatively large current flows through the connection 10, the voltage changes in the connection 10 in the same manner as described above, and the value of the bias voltage changes during the reading of charges (electrons) from each radiation detection element 7. Therefore, there is a possibility that the value of the image data read from each radiation detection element 7 is not the original value.

各放射線検出素子7からの電荷の読み出しの際には、前述したように、読み出し開始時に増幅回路18から出力される電圧値と、各放射線検出素子7から電荷が読み出された時点で増幅回路18から出力される電圧値とが相関二重サンプリング回路19でサンプリングされ、その差分が画像データとして出力される。   When reading out charges from each radiation detection element 7, as described above, the voltage value output from the amplification circuit 18 at the start of reading, and the amplification circuit when the charge is read out from each radiation detection element 7. The voltage value output from 18 is sampled by the correlated double sampling circuit 19 and the difference is output as image data.

そのため、各放射線検出素子7からの電荷の読み出し時においては、読み出し時に結線10中を電流が流れることによる電圧の変動の大きさ自体よりも、結線10中を電流が流れることにより変動したバイアス電圧が相関二重サンプリング回路19における2回目のサンプリング時点で元のバイアス電圧に戻っているか否かが、各放射線検出素子7から読み出される電荷の値に影響を与える。   Therefore, at the time of reading out charges from each radiation detection element 7, the bias voltage that has changed due to the current flowing through the connection 10 is larger than the magnitude of the voltage fluctuation itself due to the current flowing through the connection 10 at the time of reading. Whether or not has returned to the original bias voltage at the second sampling time in the correlated double sampling circuit 19 affects the value of the charge read from each radiation detection element 7.

そして、従来の放射線画像撮影装置では、結線10の単位長さあたりの抵抗値が大きいため、結線10中を流れる電流値が大きくなり、バイアス電圧の値が大きく変動するため、バイアス電圧が、相関二重サンプリング回路19における2回目のサンプリング時点で元のバイアス電圧に戻らない場合が多かった。そのため、各放射線検出素子7から読み出される電荷の値に影響を与えていた。   In the conventional radiographic imaging apparatus, since the resistance value per unit length of the connection 10 is large, the value of the current flowing through the connection 10 increases, and the value of the bias voltage fluctuates greatly. In many cases, the original bias voltage was not restored at the second sampling time in the double sampling circuit 19. Therefore, the charge value read from each radiation detection element 7 is affected.

それに対し、本実施形態に係る放射線画像撮影装置1では、各バイアス線9をフレキシブルプリント基板Fの各配線Faにそれぞれ接続し、各配線Faの反対側の端部をPCB基板33上やフレキシブルプリント基板F中で銅線等からなる結線10に結束されている。そして、結線10は銅線等で形成されており、その単位長さあたりの抵抗値が、アルミニウムで形成された各バイアス線9の単位長さあたりの抵抗値よりも小さくなるように形成されている。   On the other hand, in the radiographic image capturing apparatus 1 according to the present embodiment, each bias line 9 is connected to each wiring Fa of the flexible printed circuit board F, and the opposite end of each wiring Fa is on the PCB substrate 33 or the flexible printed circuit. The substrate F is bound to a connection 10 made of a copper wire or the like. The connection 10 is formed of a copper wire or the like, and the resistance value per unit length is formed so as to be smaller than the resistance value per unit length of each bias line 9 formed of aluminum. Yes.

また、前述したように、結線10を、PCB基板33上(図6参照)やフレキシブルプリント基板F中(図7参照)で幅を広げたり厚さを分厚く形成して、単位長さあたりの抵抗値をさらに小さくすることもできる。   Further, as described above, the connection 10 is formed on the PCB substrate 33 (see FIG. 6) or in the flexible printed circuit board F (see FIG. 7) so that the width is increased or the thickness is increased. The value can be further reduced.

そのため、放射線画像撮影の際の放射線の照射開始時や各放射線検出素子7からの電荷(画像データ)の読み出し時等に、上記のように結線10中を大きな電流が流れても、結線10の単位長さあたりの抵抗値が小さいため、結線10で生じる電圧の変動を微小なものとなる。また、このように結線10で生じる電圧の変動が微小であるため、結線10で生じる電圧の変動に基づいてバイアス電圧の変動が生じても、バイアス電圧が速やかに元の所定の一定値に回復する。   For this reason, even when a large current flows through the connection 10 as described above at the start of radiation irradiation at the time of radiographic imaging or at the time of reading charges (image data) from each radiation detection element 7, Since the resistance value per unit length is small, the voltage fluctuation generated in the connection 10 becomes minute. In addition, since the voltage fluctuation generated in the connection 10 is very small as described above, even if the bias voltage fluctuates based on the voltage fluctuation generated in the connection 10, the bias voltage quickly recovers to the original predetermined constant value. To do.

そのため、上記のように放射線の照射開始時や画像データの読み出し時等に各放射線検出素子7に蓄積されたり各放射線検出素子7から読み出される電荷に及ぼされる影響が低減される。   For this reason, as described above, the influence exerted on the charge accumulated in each radiation detection element 7 or read out from each radiation detection element 7 at the start of radiation irradiation or reading of image data is reduced.

以上のように、本実施形態に係る放射線画像撮影装置1によれば、結線10の単位長さあたりの抵抗値が、各バイアス線9の単位長さあたりの抵抗値よりも小さくなるように形成されているため、結線10中で生じる電圧の変動に基づくバイアス電圧の変動をより小さいものとすることが可能となり、また、バイアス電圧に変動が生じても速やかに元の一定値に回復させることが可能となる。   As described above, according to the radiographic imaging apparatus 1 according to the present embodiment, the resistance value per unit length of the connection 10 is formed to be smaller than the resistance value per unit length of each bias line 9. Therefore, it becomes possible to make the fluctuation of the bias voltage based on the fluctuation of the voltage generated in the connection 10 smaller, and even if the fluctuation of the bias voltage occurs, it can be quickly restored to the original constant value. Is possible.

そのため、本実施形態に係る放射線画像撮影装置1では、結線10を介して各放射線検出素子7に印加するバイアス電圧に変動が生じたとしても、その変動の影響を低減することが可能となり、最終的に得られる画像データからなる撮影画像の画質の低下を防止することが可能となる。   Therefore, in the radiographic image capturing apparatus 1 according to the present embodiment, even if a variation occurs in the bias voltage applied to each radiation detection element 7 via the connection 10, it is possible to reduce the influence of the variation. Therefore, it is possible to prevent the deterioration of the image quality of the photographed image made up of the image data that is obtained automatically.

また、その際、前述したように、PCB基板33上やフレキシブルプリント基板F中で結線10の幅を広げたり厚さを分厚く形成する等して結線10の単位長さあたりの抵抗値をより低下させるように構成すれば、結線10中で生じる電圧の変動に基づくバイアス電圧の変動をさらに小さいものとすることが可能となり、また、バイアス電圧に変動が生じても速やかに元の一定値に回復するように構成することが可能となる。   At that time, as described above, the resistance value per unit length of the connection 10 is further reduced by increasing the width of the connection 10 or by increasing the thickness of the connection 10 on the PCB substrate 33 or the flexible printed circuit board F. With this configuration, it is possible to further reduce the bias voltage fluctuation based on the voltage fluctuation generated in the connection 10, and to quickly recover the original constant value even if the bias voltage fluctuates. It becomes possible to comprise.

そのため、結線10を介して各放射線検出素子7に印加するバイアス電圧の変動の影響を格段に低減することが可能となり、最終的に得られる画像データからなる撮影画像の画質の低下をより有効に防止することが可能となる。   Therefore, it is possible to significantly reduce the influence of fluctuations in the bias voltage applied to each radiation detection element 7 via the connection 10, and more effectively reduce the image quality of the captured image composed of the finally obtained image data. It becomes possible to prevent.

なお、本実施形態に係る放射線画像撮影装置1や特許文献4、5に記載の放射線画像撮影装置では、図4等に示したように、バイアス線9が放射線検出素子7の第2電極78の上方を横切るように配線されているが、上記のようにバイアス線9がアルミニウム等の不透明な材料で形成されるため、上記のように配線されると、バイアス線9の分だけ放射線検出素子7の開口率が低下する。   In the radiographic image capturing apparatus 1 according to the present embodiment and the radiographic image capturing apparatuses described in Patent Documents 4 and 5, the bias line 9 is connected to the second electrode 78 of the radiation detecting element 7 as shown in FIG. Although wired so as to cross over, the bias line 9 is formed of an opaque material such as aluminum as described above. Therefore, when the wiring is performed as described above, the radiation detecting element 7 is equivalent to the bias line 9. The aperture ratio is reduced.

そして、放射線検出素子7の開口率が低下すると、シンチレータ3から放射線検出素子7に同じ光量の電磁波が照射されても放射線検出素子で得られる画像データの値が小さくなり、S/N比が悪化する場合がある。   And if the aperture ratio of the radiation detection element 7 falls, even if the scintillator 3 irradiates the radiation detection element 7 with the same amount of electromagnetic waves, the value of the image data obtained by the radiation detection element becomes small, and the S / N ratio deteriorates. There is a case.

そこで、例えば図12に示すように、バイアス線9を絶縁層を介して走査線5や信号線6の上方(すなわちシンチレータ3側)にそれらと平行に設けるように構成することが可能である。   Therefore, for example, as shown in FIG. 12, the bias line 9 can be provided above the scanning line 5 and the signal line 6 (that is, on the scintillator 3 side) in parallel with them via an insulating layer.

このように構成すれば、バイアス線9が少なくとも放射線検出素子7の上方を横切らないようにすることができるため、放射線検出素子7の開口率を向上させ、放射線画像のS/N比を向上させることが可能となる。   With this configuration, it is possible to prevent the bias line 9 from crossing at least above the radiation detection element 7, thereby improving the aperture ratio of the radiation detection element 7 and improving the S / N ratio of the radiation image. It becomes possible.

なお、この場合、バイアス線9を信号線6の上方に設けると、バイアス線9に印加されるバイアス電圧の変動やゆらぎが絶縁層を介して信号線6に伝わり、信号線6を介して読み出される画像データに悪影響を及ぼすことが考えられるため、図12に示したように、バイアス線9は走査線5の上方に設けることが好ましい。   In this case, if the bias line 9 is provided above the signal line 6, fluctuations and fluctuations in the bias voltage applied to the bias line 9 are transmitted to the signal line 6 through the insulating layer and read out via the signal line 6. The bias line 9 is preferably provided above the scanning line 5 as shown in FIG.

なお、その他、本発明が本実施の形態に限定されず、適宜変更可能であることはいうまでもない。   In addition, it goes without saying that the present invention is not limited to this embodiment and can be changed as appropriate.

1 放射線画像撮影装置
4 基板
5 走査線
6 信号線
7 放射線検出素子
9 バイアス線
10 結線
14 バイアス電源
33 PCB基板(別の基板)
F フレキシブルプリント基板
Fa 配線
r 領域
DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 Radiographic imaging apparatus 4 Board | substrate 5 Scan line 6 Signal line 7 Radiation detection element 9 Bias line 10 Connection 14 Bias power supply 33 PCB board (another board)
F Flexible printed circuit board Fa Wiring r area

Claims (4)

互いに交差するように配設された複数の走査線および複数の信号線と、
前記複数の走査線および複数の信号線により区画された各領域に二次元状に配列された複数の放射線検出素子と、
前記各放射線検出素子に接続され、バイアス電源から前記各放射線検出素子にバイアス電圧を印加し、かつ、前記二次元状に配列された複数の放射線検出素子のうち前記放射線検出素子の各列ごとに1本ずつ配線された複数のバイアス線と、
を備える基板と、
前記複数のバイアス線を結束する結線と、
を備え、
前記複数のバイアス線は、フレキシブルプリント基板の各配線にそれぞれ接続され、前記各配線の前記バイアス線に接続された端部とは反対側の端部が、前記基板とは異なる別の基板上で、単位長さあたりの抵抗値が前記各バイアス線の単位長さあたりの抵抗値よりも小さい前記結線に結束されていることを特徴とする放射線画像撮影装置。
A plurality of scanning lines and a plurality of signal lines arranged to cross each other;
A plurality of radiation detection elements arranged two-dimensionally in each region partitioned by the plurality of scanning lines and a plurality of signal lines;
A bias voltage is applied to each radiation detection element from a bias power source connected to each radiation detection element, and among each of the plurality of radiation detection elements arranged in a two-dimensional manner, for each column of the radiation detection elements A plurality of bias lines wired one by one;
A substrate comprising:
A connection for binding the plurality of bias lines;
With
The plurality of bias lines are respectively connected to the respective wirings of the flexible printed circuit board, and the end of each wiring opposite to the end connected to the bias line is on a different substrate different from the substrate. The radiation image capturing apparatus, wherein a resistance value per unit length is bound to the connection smaller than a resistance value per unit length of each bias line.
互いに交差するように配設された複数の走査線および複数の信号線と、
前記複数の走査線および複数の信号線により区画された各領域に二次元状に配列された複数の放射線検出素子と、
前記各放射線検出素子に接続され、バイアス電源から前記各放射線検出素子にバイアス電圧を印加し、かつ、前記二次元状に配列された複数の放射線検出素子のうち前記放射線検出素子の各列ごとに1本ずつ配線された複数のバイアス線と、
を備える基板と、
前記複数のバイアス線を結束する結線と、
を備え、
前記複数のバイアス線は、フレキシブルプリント基板の各配線にそれぞれ接続され、前記各配線が、前記フレキシブルプリント基板中で、単位長さあたりの抵抗値が前記各バイアス線の単位長さあたりの抵抗値よりも小さい前記結線に結束されていることを特徴とする放射線画像撮影装置。
A plurality of scanning lines and a plurality of signal lines arranged to cross each other;
A plurality of radiation detection elements arranged two-dimensionally in each region partitioned by the plurality of scanning lines and a plurality of signal lines;
A bias voltage is applied to each radiation detection element from a bias power source connected to each radiation detection element, and among each of the plurality of radiation detection elements arranged in a two-dimensional manner, for each column of the radiation detection elements A plurality of bias lines wired one by one;
A substrate comprising:
A connection for binding the plurality of bias lines;
With
The plurality of bias lines are respectively connected to each wiring of a flexible printed circuit board, and each wiring is a resistance value per unit length of each bias line in the flexible printed circuit board. A radiographic image capturing apparatus, wherein the radiographic image capturing apparatus is bound to the smaller wire connection.
前記結線は、銅線で形成されていることを特徴とする請求項1または請求項2に記載の放射線画像撮影装置。   The radiographic imaging apparatus according to claim 1, wherein the connection is made of a copper wire. 前記フレキシブルプリント基板の各配線は、銅線で形成されていることを特徴とする請求項1から請求項3のいずれか一項に記載の放射線画像撮影装置。   4. The radiographic imaging apparatus according to claim 1, wherein each wiring of the flexible printed board is formed of a copper wire. 5.
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