JP2010518623A - ホットキャリアクーリングが低減された光電池 - Google Patents
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- 238000001816 cooling Methods 0.000 title claims description 11
- 239000000463 material Substances 0.000 claims abstract description 132
- 239000002105 nanoparticle Substances 0.000 claims abstract description 103
- 239000010409 thin film Substances 0.000 claims abstract description 15
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims description 35
- 239000002073 nanorod Substances 0.000 claims description 31
- 239000002800 charge carrier Substances 0.000 claims description 30
- 238000000034 method Methods 0.000 claims description 26
- 230000005855 radiation Effects 0.000 claims description 26
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 claims description 25
- OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N Carbon Chemical compound [C] OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 11
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 claims description 10
- 239000002184 metal Substances 0.000 claims description 10
- 239000002041 carbon nanotube Substances 0.000 claims description 9
- 229910021393 carbon nanotube Inorganic materials 0.000 claims description 9
- 239000002245 particle Substances 0.000 claims description 8
- 239000003054 catalyst Substances 0.000 claims description 7
- 239000002070 nanowire Substances 0.000 claims description 7
- 230000004044 response Effects 0.000 claims description 5
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 claims description 5
- 239000010703 silicon Substances 0.000 claims description 5
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 claims description 4
- 239000000203 mixture Substances 0.000 claims description 3
- 230000001902 propagating effect Effects 0.000 claims description 3
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 claims description 2
- 230000005641 tunneling Effects 0.000 claims description 2
- 150000002290 germanium Chemical class 0.000 claims 1
- 238000004804 winding Methods 0.000 claims 1
- 239000010410 layer Substances 0.000 description 77
- 239000010408 film Substances 0.000 description 18
- 239000002096 quantum dot Substances 0.000 description 6
- PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N Nickel Chemical compound [Ni] PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 229920000642 polymer Polymers 0.000 description 5
- 238000007789 sealing Methods 0.000 description 5
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 229910052732 germanium Inorganic materials 0.000 description 4
- GNPVGFCGXDBREM-UHFFFAOYSA-N germanium atom Chemical compound [Ge] GNPVGFCGXDBREM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 229910004613 CdTe Inorganic materials 0.000 description 3
- XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N Silicon Chemical compound [Si] XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 description 3
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 229910021417 amorphous silicon Inorganic materials 0.000 description 3
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 description 3
- 229910052802 copper Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000010949 copper Substances 0.000 description 3
- 238000000151 deposition Methods 0.000 description 3
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 3
- 239000002121 nanofiber Substances 0.000 description 3
- 229910052759 nickel Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000002861 polymer material Substances 0.000 description 3
- 229910052814 silicon oxide Inorganic materials 0.000 description 3
- 238000004544 sputter deposition Methods 0.000 description 3
- RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N Copper Chemical compound [Cu] RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N Iron Chemical compound [Fe] XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- KDLHZDBZIXYQEI-UHFFFAOYSA-N Palladium Chemical compound [Pd] KDLHZDBZIXYQEI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910000831 Steel Inorganic materials 0.000 description 2
- -1 amorphous silicon) Chemical compound 0.000 description 2
- 230000005540 biological transmission Effects 0.000 description 2
- 229920001940 conductive polymer Polymers 0.000 description 2
- 239000004020 conductor Substances 0.000 description 2
- 230000008021 deposition Effects 0.000 description 2
- JAONJTDQXUSBGG-UHFFFAOYSA-N dialuminum;dizinc;oxygen(2-) Chemical compound [O-2].[O-2].[O-2].[O-2].[O-2].[Al+3].[Al+3].[Zn+2].[Zn+2] JAONJTDQXUSBGG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- PCHJSUWPFVWCPO-UHFFFAOYSA-N gold Chemical compound [Au] PCHJSUWPFVWCPO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052737 gold Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000010931 gold Substances 0.000 description 2
- AMGQUBHHOARCQH-UHFFFAOYSA-N indium;oxotin Chemical compound [In].[Sn]=O AMGQUBHHOARCQH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 230000003993 interaction Effects 0.000 description 2
- 229910044991 metal oxide Inorganic materials 0.000 description 2
- 150000004706 metal oxides Chemical class 0.000 description 2
- 239000002159 nanocrystal Substances 0.000 description 2
- 239000002071 nanotube Substances 0.000 description 2
- 239000011368 organic material Substances 0.000 description 2
- 238000000623 plasma-assisted chemical vapour deposition Methods 0.000 description 2
- 239000004033 plastic Substances 0.000 description 2
- 239000002356 single layer Substances 0.000 description 2
- 239000010959 steel Substances 0.000 description 2
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 2
- 238000007740 vapor deposition Methods 0.000 description 2
- YVTHLONGBIQYBO-UHFFFAOYSA-N zinc indium(3+) oxygen(2-) Chemical compound [O--].[Zn++].[In+3] YVTHLONGBIQYBO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- YBNMDCCMCLUHBL-UHFFFAOYSA-N (2,5-dioxopyrrolidin-1-yl) 4-pyren-1-ylbutanoate Chemical compound C=1C=C(C2=C34)C=CC3=CC=CC4=CC=C2C=1CCCC(=O)ON1C(=O)CCC1=O YBNMDCCMCLUHBL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YKBGVTZYEHREMT-KVQBGUIXSA-N 2'-deoxyguanosine Chemical compound C1=NC=2C(=O)NC(N)=NC=2N1[C@H]1C[C@H](O)[C@@H](CO)O1 YKBGVTZYEHREMT-KVQBGUIXSA-N 0.000 description 1
- JBRZTFJDHDCESZ-UHFFFAOYSA-N AsGa Chemical compound [As]#[Ga] JBRZTFJDHDCESZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XMWRBQBLMFGWIX-UHFFFAOYSA-N C60 fullerene Chemical compound C12=C3C(C4=C56)=C7C8=C5C5=C9C%10=C6C6=C4C1=C1C4=C6C6=C%10C%10=C9C9=C%11C5=C8C5=C8C7=C3C3=C7C2=C1C1=C2C4=C6C4=C%10C6=C9C9=C%11C5=C5C8=C3C3=C7C1=C1C2=C4C6=C2C9=C5C3=C12 XMWRBQBLMFGWIX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920000049 Carbon (fiber) Polymers 0.000 description 1
- 229910001218 Gallium arsenide Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910000673 Indium arsenide Inorganic materials 0.000 description 1
- ZOKXTWBITQBERF-UHFFFAOYSA-N Molybdenum Chemical compound [Mo] ZOKXTWBITQBERF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910002665 PbTe Inorganic materials 0.000 description 1
- 241000220317 Rosa Species 0.000 description 1
- 229910000577 Silicon-germanium Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910005642 SnTe Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000003917 TEM image Methods 0.000 description 1
- 238000005411 Van der Waals force Methods 0.000 description 1
- 229910045601 alloy Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000000956 alloy Substances 0.000 description 1
- 229910002065 alloy metal Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000000137 annealing Methods 0.000 description 1
- QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N atomic oxygen Chemical compound [O] QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000008901 benefit Effects 0.000 description 1
- 239000012620 biological material Substances 0.000 description 1
- UHYPYGJEEGLRJD-UHFFFAOYSA-N cadmium(2+);selenium(2-) Chemical compound [Se-2].[Cd+2] UHYPYGJEEGLRJD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052799 carbon Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000004917 carbon fiber Substances 0.000 description 1
- 230000003197 catalytic effect Effects 0.000 description 1
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 1
- 229910017052 cobalt Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010941 cobalt Substances 0.000 description 1
- GUTLYIVDDKVIGB-UHFFFAOYSA-N cobalt atom Chemical compound [Co] GUTLYIVDDKVIGB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000013078 crystal Substances 0.000 description 1
- 239000002019 doping agent Substances 0.000 description 1
- 239000000975 dye Substances 0.000 description 1
- 239000012777 electrically insulating material Substances 0.000 description 1
- 230000005518 electrochemistry Effects 0.000 description 1
- 238000007772 electroless plating Methods 0.000 description 1
- 238000009713 electroplating Methods 0.000 description 1
- 230000008020 evaporation Effects 0.000 description 1
- 238000001704 evaporation Methods 0.000 description 1
- 229910003472 fullerene Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910002804 graphite Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010439 graphite Substances 0.000 description 1
- 230000020169 heat generation Effects 0.000 description 1
- RBTKNAXYKSUFRK-UHFFFAOYSA-N heliogen blue Chemical compound [Cu].[N-]1C2=C(C=CC=C3)C3=C1N=C([N-]1)C3=CC=CC=C3C1=NC([N-]1)=C(C=CC=C3)C3=C1N=C([N-]1)C3=CC=CC=C3C1=N2 RBTKNAXYKSUFRK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000002784 hot electron Substances 0.000 description 1
- WPYVAWXEWQSOGY-UHFFFAOYSA-N indium antimonide Chemical compound [Sb]#[In] WPYVAWXEWQSOGY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RPQDHPTXJYYUPQ-UHFFFAOYSA-N indium arsenide Chemical compound [In]#[As] RPQDHPTXJYYUPQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000011810 insulating material Substances 0.000 description 1
- 229910052742 iron Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000004518 low pressure chemical vapour deposition Methods 0.000 description 1
- 239000012528 membrane Substances 0.000 description 1
- 229910001092 metal group alloy Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000002082 metal nanoparticle Substances 0.000 description 1
- 238000002488 metal-organic chemical vapour deposition Methods 0.000 description 1
- VNWKTOKETHGBQD-UHFFFAOYSA-N methane Chemical compound C VNWKTOKETHGBQD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 1
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 1
- 229910052750 molybdenum Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011733 molybdenum Substances 0.000 description 1
- 238000000465 moulding Methods 0.000 description 1
- 239000002048 multi walled nanotube Substances 0.000 description 1
- 239000005543 nano-size silicon particle Substances 0.000 description 1
- 239000002116 nanohorn Substances 0.000 description 1
- 239000012860 organic pigment Substances 0.000 description 1
- 230000003647 oxidation Effects 0.000 description 1
- 238000007254 oxidation reaction Methods 0.000 description 1
- TWNQGVIAIRXVLR-UHFFFAOYSA-N oxo(oxoalumanyloxy)alumane Chemical compound O=[Al]O[Al]=O TWNQGVIAIRXVLR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000001301 oxygen Substances 0.000 description 1
- 229910052763 palladium Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000035515 penetration Effects 0.000 description 1
- 238000005240 physical vapour deposition Methods 0.000 description 1
- 238000007747 plating Methods 0.000 description 1
- 238000005498 polishing Methods 0.000 description 1
- 229920000553 poly(phenylenevinylene) Polymers 0.000 description 1
- 229910021420 polycrystalline silicon Inorganic materials 0.000 description 1
- 229920000307 polymer substrate Polymers 0.000 description 1
- 229920005591 polysilicon Polymers 0.000 description 1
- 102000004169 proteins and genes Human genes 0.000 description 1
- 108090000623 proteins and genes Proteins 0.000 description 1
- 229910052611 pyroxene Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010453 quartz Substances 0.000 description 1
- 230000006798 recombination Effects 0.000 description 1
- 238000005215 recombination Methods 0.000 description 1
- 239000004054 semiconductor nanocrystal Substances 0.000 description 1
- 239000000725 suspension Substances 0.000 description 1
- OCGWQDWYSQAFTO-UHFFFAOYSA-N tellanylidenelead Chemical compound [Pb]=[Te] OCGWQDWYSQAFTO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000012780 transparent material Substances 0.000 description 1
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- H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H10F—INORGANIC SEMICONDUCTOR DEVICES SENSITIVE TO INFRARED RADIATION, LIGHT, ELECTROMAGNETIC RADIATION OF SHORTER WAVELENGTH OR CORPUSCULAR RADIATION
- H10F10/00—Individual photovoltaic cells, e.g. solar cells
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- H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H10F—INORGANIC SEMICONDUCTOR DEVICES SENSITIVE TO INFRARED RADIATION, LIGHT, ELECTROMAGNETIC RADIATION OF SHORTER WAVELENGTH OR CORPUSCULAR RADIATION
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- H10F77/10—Semiconductor bodies
- H10F77/14—Shape of semiconductor bodies; Shapes, relative sizes or dispositions of semiconductor regions within semiconductor bodies
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-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
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- H10F10/00—Individual photovoltaic cells, e.g. solar cells
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- H10F77/10—Semiconductor bodies
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- H10K30/00—Organic devices sensitive to infrared radiation, light, electromagnetic radiation of shorter wavelength or corpuscular radiation
- H10K30/30—Organic devices sensitive to infrared radiation, light, electromagnetic radiation of shorter wavelength or corpuscular radiation comprising bulk heterojunctions, e.g. interpenetrating networks of donor and acceptor material domains
- H10K30/35—Organic devices sensitive to infrared radiation, light, electromagnetic radiation of shorter wavelength or corpuscular radiation comprising bulk heterojunctions, e.g. interpenetrating networks of donor and acceptor material domains comprising inorganic nanostructures, e.g. CdSe nanoparticles
- H10K30/352—Organic devices sensitive to infrared radiation, light, electromagnetic radiation of shorter wavelength or corpuscular radiation comprising bulk heterojunctions, e.g. interpenetrating networks of donor and acceptor material domains comprising inorganic nanostructures, e.g. CdSe nanoparticles the inorganic nanostructures being nanotubes or nanowires, e.g. CdTe nanotubes in P3HT polymer
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- H10K—ORGANIC ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES
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- H10K85/225—Carbon nanotubes comprising substituents
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- H10K30/35—Organic devices sensitive to infrared radiation, light, electromagnetic radiation of shorter wavelength or corpuscular radiation comprising bulk heterojunctions, e.g. interpenetrating networks of donor and acceptor material domains comprising inorganic nanostructures, e.g. CdSe nanoparticles
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- Y02E10/50—Photovoltaic [PV] energy
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Abstract
光電池は、第1の電極と、第1の電極に接触して位置する第1のナノ粒子層と、第2の電極と、第2の電極に接触して位置する第2のナノ粒子層と、第1のナノ粒子層と第2のナノ粒子層との間で、第1のナノ粒子層および第2のナノ粒子層に接触して位置する薄膜光起電材料と、を備える。
Description
本発明は、一般的には、光電池または太陽電池の分野に関し、より詳細には、ナノ粒子層および/またはナノ結晶光起電材料膜を含む光電池に関する。
関連特許出願に対する相互参照
本願は、本願明細書において参照により援用されている2007年2月12日に出願された米国仮特許出願第60/900,709号(特許文献1)の利益を主張するものである。
本願は、本願明細書において参照により援用されている2007年2月12日に出願された米国仮特許出願第60/900,709号(特許文献1)の利益を主張するものである。
先行技術のホットキャリア光(PV)電池(ホットキャリア太陽電池としても知られている)において、電極とPV材料との界面における電子−電子相互作用が、PV電池中での高温電子の望ましくないクーリングおよびPV電池のエネルギー変換効率の対応する損失を引き起こす。
Appl.Phys.Lett.78,3541(2001)
本発明の実施形態は、第1の電極と、第1の電極に接触して位置する第1のナノ粒子層と、第2の電極と、第2の電極に接触して位置する第2のナノ粒子層と、第1のナノ粒子層と第2のナノ粒子層との間で、第1のナノ粒子層および第2のナノ粒子層に接触して位置する光起電材料と、を備える光電池を提供する。
図1Aおよび図1Bは、本発明の第1の実施形態および第2の実施形態のそれぞれによる光電池1Aおよび1Bを示す。両電池1A、1Bは、第1の電極すなわち内部電極3と、第2の電極すなわち外部電極5と、第1の電極と第2の電極との間に位置する光起電(PV)材料7と、を備える。図1Bに示す電池1Bでは、PV材料7はまた、電極3、5に電気的に接触している。第1の電極3から第2の電極5の方向(つまり、図1A、1Bの左右)における光起電材料7の幅9は、約200nm未満、例えば100nm以下、好ましくは10〜20nmである。光起電材料の幅に実質的に垂直な方向(つまり、図1A、1Bの垂直方向)における光起電材料の高さ11は、少なくとも1ミクロンであり、例えば2〜30ミクロンであり、例えば10ミクロンである。用語「実質的に垂直」は、上端より広い、またはより狭い基部を有する中空円錐状のPV材料については1〜45度垂直から外れる方向だけでなく、中空シリンダ状のPV材料7については正確に垂直な方向も含む。他の適切なPV材料の寸法が使用されてもよい。
PV材料7の幅9は、PV電池1A、1Bに入射する入射太陽放射線に実質的に垂直な方向に延在することが好ましい。図1Aおよび図1Bでは、入射太陽放射線(つまり、太陽光)は、水平幅9の方向に対して約70〜110度、例えば85〜95度の角度でPV材料7に当たるように意図されている。幅9は、電極に対する、光起電材料中の光生成された電荷キャリア飛行時間の間のフォノン生成を実質的に防ぐのに十分に薄いことが好ましい。言い換えれば、PV材料7の幅9は、多数のフォノンが生成される前に、電極3および/または電極5に十分な電荷キャリアを輸送することができるほど十分に薄くなければならない。したがって、入射太陽放射線の入射光子が、PV材料に吸収され、電荷キャリア(電子、ホールおよび/または励起子)に変換される場合、多量のフォノン(光生成された電流をもたらす電荷キャリアの代わりに、入射放射線を熱に変換する)が生成される前に、電荷キャリアは、それぞれの電極3、5に達する。例えば、入射光子の少なくとも40%、例えば40〜80%、例えば40〜100%が、それぞれの電極に達し、フォノン(つまり、熱)を生成する代わりに、光生成された電流を引き起こす光生成された電荷キャリアに変換されることが好ましい。図1Aおよび図1Bに示す実施例についての約10nm〜約20nmの幅9は、多数のフォノンの発生を防ぐのに十分に小さいと推定される。幅9は、キャリア再接合および/または散乱によるキャリア(例えば、電子および/またはホール)エネルギー損を実質的に防ぐのに十分に小さいことが好ましい。例えば、アモルファスシリコンについて、この幅は、約200nm未満である。幅は、他の材料では異なっていてもよい。
光起電材料7の高さ11は、入射太陽放射線中の入射光子の少なくとも90%、例えば90〜95%、例えば90〜100%を、電荷キャリアに変換するのに十分に厚いことが好ましい。したがって、PV材料7の高さ11は、太陽放射線の大部分を集める(つまり、光生成された電荷キャリアに光子の大部分を変換する)のに十分に厚く、入射太陽放射線の10%以下、例えば、0〜5%が、PV電池の底部に達するまたは底部から出る(つまり、PV電池より下の基材に達する)ことを可能にすることが好ましい。高さ11は、50nm〜2,000nmの波長範囲、好ましくは400nm〜1,000nmの波長範囲内で、光子の少なくとも90%、例えば90〜100%を光電吸収するのに十分に大きいことが好ましい。高さ11は、半導体材料における最長光子侵入深さより大きいことが好ましい。そのような高さは、アモルファスシリコンでは約1ミクロン以上である。高さは、他の材料では異なっていてもよい。高さ11は、幅9の少なくとも10倍の大きさ、例えば少なくとも100倍の大きさ、例えば1,000〜10,000倍の大きさであることが好ましい。
第1の電極3は、導電性ナノロッド、例えばナノファイバ、ナノチューブまたはナノワイヤを含むことが好ましい。例えば、第1の電極3は、金属多層カーボンナノチューブなどの導電性カーボンナノチューブ、モリブデン、銅、ニッケル、金またはパラジウムナノワイヤなどの元素金属または合金金属ナノワイヤ、または、黒鉛部分を有するカーボン繊維材料のナノスケールロープを含むナノファイバを含んでいてもよい。ナノロッドは、2〜200nm、例えば30〜150nm、例えば50nmの直径、1〜100ミクロン、例えば10〜30ミクロンの高さの円筒形状を有していてもよい。必要に応じて、第1の電極3もまた導電性高分子材料から形成されていてもよい。または、ナノロッドは、電気絶縁材料、例えば高分子材料を含んでいてもよく、導電性外郭構造によって覆われて電極3を形成する。例えば、導電性層は、ナノロッドのまわりに導電性外郭構造を形成して電極3を形成するように基材を覆って形成されていてもよい。ポリマーナノロッド、例えば、プラスチックナノロッドは、モールド内でポリマー基材を成形して基材の一方の表面上にナノロッドを形成することによって、または基材の一方の表面をスタンプしてナノロッドを形成することによって形成されてもよい。
光起電材料7は、図1Aおよび図1Bに示すように、ナノロッド電極3の少なくとも下部を囲む。PV材料7は、太陽光での照射に応じて電圧を生成することができる任意の適切な薄膜半導体材料を含んでいてもよい。例えば、PV材料は、アモルファス、単結晶または多結晶無機半導体材料、例えば、シリコン(アモルファスシリコンを含む)、ゲルマニウム、または化合物半導体、例えば、Ge、SiGe、PbSe、PbTe、SnTe、SnSe、Bi2 Te3 、Sb2 Te3 、PbS、Bi2 Se3 、GaAs、InAs、InSb、CdTe、CdSまたはCdSeの他に、それらの3成分および4成分の組み合わせのバルク薄膜を含んでいてもよい。また、半導体ナノ粒子、例えば量子ドットの層とすることもできる。PV材料膜7は、同一または異なる半導体材料の1つ以上の層を含んでいてもよい。例えば、PV材料膜7は、pn接合を形成するために、逆導電型(つまり、pおよびn)ドーパントでドープされた2つの異なる導電型層を含んでいてもよい。これは、pn接合型PV電池を形成する。必要に応じて、真性半導体領域が、p型領域とn型領域との間に位置してp−i−n型PV電池を形成してもよい。または、PV材料膜7は、同一または異なる導電型を有する異なる半導体材料の2つの層を含んでヘテロ接合を形成してもよい。または、PV材料膜7は、材料の単一層を含んで、ショットキー接合型PV電池(つまり、必ずしもp−n接合を利用せずに、PV材料が電極とショットキー接合を形成するPV電池)を形成していてもよい。
有機半導体材料が、PV材料7に使用されてもよい。有機材料の例として、光活性ポリマー(半導体ポリマーを含む)、有機光活性分子材料、例えば、色素、または生体光活性材料、例えば、生体半導体材料が挙げられる。光活性は、太陽放射線による照射に応じて電荷キャリア(つまり、電流)を生成する能力を意味する。有機材料および高分子材料として、ポリフェニレンビニレン、銅フタロシアニン(青または緑の有機顔料)、または炭素フラーレンが挙げられる。生体材料として、タンパク質、ばら輝石、またはDNA(例えば、本願明細書において参照により援用されているAppl.Phys.Lett.78,3541(2001)(非特許文献1)に開示されたデオキシグアノシン)が挙げられる。
第2の電極5は、光起電材料7を囲んで、いわゆるナノコアックスを形成する。電極5は、任意の適切な導電性材料、例えば導電性高分子、または元素金属または金属合金、例えば銅、ニッケル、アルミニウムまたはそれらの合金を含んでいてもよい。または、電極5は、透光性導電性材料、例えば透明導電性酸化物(TCO)、例えばインジウムスズ酸化物、アルミニウム亜鉛酸化物またはインジウム亜鉛酸化物を含んでいてもよい。
PV電池1A、1Bは、電極3が内部シリンダまたはコアシリンダを含み、PV材料7は、電極3のまわりに中央中空シリンダを含み、電極5は、PV材料7のまわりに外部中空シリンダを含む同心シリンダを含むいわゆるナノコアックスとして成形されている。前に述べたように、半導体薄膜PV材料の幅9は、約10〜20nmであることが好ましく、それぞれの伝導帯および価電子帯に強く励起された電荷キャリア(つまり、電子およびホール)が、電極に到着する前にバンド端に収まらないことを確実にする。ナノコアックスは、10〜20nmの幅を有するPV材料で作動することができる、周波数カットオフを有さないサブ波長伝送路を含む。
ナノロッド3の上部は、光起電材料7の上端を超えて延在し、光電池1A、1B用の光学アンテナ3Aを形成することが好ましいが、必ずしもそうでなくてもよい。用語「上端」は、PV電池が形成された基材から遠位のPV材料7側を意味する。したがって、ナノロッド電極3の高さは、PV材料7の高さ11より大きいことが好ましい。アンテナ3Aの高さは、ナノロッド3の直径の3倍より大きいことが好ましい。アンテナ3Aの高さは、入射太陽放射線に適合されてもよく、入射太陽放射線のピーク波長の1/2の整数倍を含んでいてもよい(つまり、アンテナ高さ=(n/2)×530nm、ここで、nは整数である)。アンテナ3Aは、太陽放射線の収集に役立つ。入射太陽放射線の90%より多く、例えば、90〜100%が、アンテナ3Aによって集められることが好ましい。
別の実施形態では、アンテナ3Aは、ナノホーン光コレクタで補完、または置き換えられる。この実施形態では、外部電極5は、PV材料7の高さ11を超えて延在し、太陽放射線を集めるための上下逆の円錐として概略的に形成されている。
さらに他の実施形態では、PV電池1Aは、ナノコアックス以外の形状を有する。例えば、PV材料7および/または外部電極5は、内部電極3のまわりの空間の一部のみに延在してもよい。さらに、電極3および5は、板状電極を含んでいてもよく、PV材料7は、電極3、5間に薄く長い板状材料を含んでいてもよい。さらに、PV電池1Aは、前述したものと異なる幅9および/または高さ11を有していてもよい。
さらに他の実施形態では、PV電池1Aは、ナノコアックス以外の形状を有する。例えば、PV材料7および/または外部電極5は、内部電極3のまわりの空間の一部のみに延在してもよい。さらに、電極3および5は、板状電極を含んでいてもよく、PV材料7は、電極3、5間に薄く長い板状材料を含んでいてもよい。さらに、PV電池1Aは、前述したものと異なる幅9および/または高さ11を有していてもよい。
図2は、各電池1のアンテナ3Aが入射太陽放射線を集める、ナノコアックスPV電池1のアレイを示し、入射太陽放射線は、ライン13として概略的に示されている。ナノロッド内部電極3は、図2、図3B、図3Dおよび図3Gに示すように、導電性基材15上、例えば鋼基材やアルミニウム基材上に直接形成されてもよい。この場合、基材は、電極3とPV電池1とを直列に接続する電気接点の1つとしての機能を果たす。導電性基材15について、図3Eに示すように、任意の電気絶縁層17、例えば酸化シリコンまたは酸化アルミニウムが、基材15と各外部電極5との間に位置して、基材15から電極5を電気的に絶縁してもよい。また、絶縁層17は、図2に示すように、隣接するPV電池1の隣接する電極5間のスペースを満たしてもよい。あるいは、PV材料7が、図3Fに示すように、基材15の表面を覆うならば、絶縁層17は、省略されてもよい。別の構成において、図3Gに示すように、PV電池間の側部のスペース全体が、電極5のすべてを直列に接続することが望ましいならば、電極5の材料で満たされていてもよい。この構成では、電極5の材料は、PV電池間のスペース内で基材を覆って位置するPV材料7上に位置していてもよい。絶縁層17は、必要に応じて完全に省略されてもよく、または、図3Gに示すように、PV材料の下に位置する薄い層を含んでいてもよい。1つの電気接触(明確化のために図示せず)が、外部電極5になされる一方で、個別の電気接点が、基材15を介して内部電極に接続されている。あるいは、絶縁性基材15が、導電性基材の代わりに使用されてもよく、個別の電気接点は、PV電池の下に各内部電極3にもたらされる。図3Gに示される絶縁層17は、この構成では、導電性層と置き換えられてもよい。導電性層17は、内部電極3の基部と接触してもよく、または、各内部電極3全体を覆ってもよい(特に、内部ナノロッドが絶縁材料からなる場合)。基材15が、光学的透明材料、例えばガラス、石英またはプラスチックを含むならば、ナノワイヤまたはナノチューブアンテナは、PV電池から基材の対向面上に形成されてもよい。透明基材の構成では、PV電池は、基材15を介して太陽放射線を照射されてもよい。導電性および光学的に透明な層17、例えば、インジウムスズ酸化物、アルミニウム亜鉛酸化物、インジウム亜鉛酸化物、または他の透明な導電性金属酸化物は、透明な絶縁性基材の表面上に形成されて、内部電極3に対するボトム接点として機能してもよい。そのような導電性透明層17は、内部電極3の基部と接触してもよく、または、内部電極3全体を覆ってもよい。したがって、基材15は、柔軟性があるかまたは剛体であってもよく、導電性または絶縁性であってもよく、可視光線に対して透明または不透明であってもよい。
1つ以上の絶縁性で、光学的に透明で、封止および/または反射防止層19が、PV電池を覆って形成されていることが好ましい。アンテナ3Aは、1つ以上の封止層19内に封止されてもよい。封止層19は、透明ポリマー層、例えば、PV装置において封止層として一般的に使用されるEVAまたは他のポリマー、および/または無機層、例えば酸化シリコン、または他のガラス層を含んでいてもよい。
本発明の第1の実施形態では、PV電池は、電極と薄膜半導体PV材料7との間に少なくとも1つのナノ粒子層を含む。個別のナノ粒子層は、PV材料膜7と各電極3、5との間に位置することが好ましい。図1Aに示すように、内部ナノ粒子層4は、内部電極3に接触して位置し、外部ナノ粒子層6は、外部電極5に接触して位置する。薄膜光起電材料7は、内部ナノ粒子層4と外部ナノ粒子層6との間で、内部ナノ粒子層4および外部ナノ粒子層6に接触して位置する。具体的には、内部ナノ粒子層4は、ナノロッド電極3の少なくとも下部を囲み、光起電材料膜7は、内部ナノ粒子層4を囲み、外部ナノ粒子層6は、光起電材料膜7を囲み、外部電極5は、外部ナノ粒子層6を囲んでナノコアックスを形成する。したがって、ナノ粒子層4、6は、PV材料膜7とそれぞれの電極3、5の界面に位置する。
層4および6中のナノ粒子は、2〜100nm、例えば10〜20nmの平均直径を有していてもよい。ナノ粒子は、半導体ナノ結晶または量子ドット、例えば、シリコン、ゲルマニウムまたは他の化合物半導体量子ドットを含むことが好ましい。しかし、他の材料のナノ粒子が代わりに使用されてもよい。ナノ粒子層4、6は、200nm未満、例えば、5〜20nmなどの2〜30nmの幅を有する。例えば、層4、6は、ナノ粒子の3未満の単分子層、たとえばナノ粒子の1〜2の単分子層の幅を有して、共振電荷キャリアが光起電材料膜7からそれぞれの電極3、5にナノ粒子層をトンネルすることを可能にしてもよい。ナノ粒子層4、6は、電極近傍のホットキャリアクーリングを防止または低減する。言い換えれば、ナノ粒子層4、6は、電極とPV材料との界面を超える電子−電子相互作用を防止または低減する。クーリングの防止または低減は、熱生成を低減するとともに、PV電池効率を増大させる。
本発明の他の実施形態では、各ナノ粒子層4、6は、異なる平均直径および異なる組成のうちの少なくとも1つを有するナノ粒子の少なくとも2セットを含む。例えば、ナノ粒子層4は、より大きな直径のナノ粒子の第1のセットおよびより小さな直径のナノ粒子の第2のセットを含んでいてもよい。または、第1のセットは、シリコンナノ粒子を含んでいてもよく、第2のセットは、ゲルマニウムナノ粒子を含んでいてもよい。ナノ粒子の各セットは、調整されて、電極近傍のホットキャリアクーリングを防止または低減する。ナノ粒子の2つより多いセット、たとえば3〜10セットがあってもよい。ナノ粒子のセットは、ナノ粒子層4および6中で互いに混合されてもよい。または、ナノ粒子の各セットは、それぞれのナノ粒子層4、6中に薄い(つまり1〜2の単分子層の厚さ)個別のサブ層を含んでいてもよい。
図1Bに示す本発明の他の実施形態では、光起電材料7は、ナノ結晶薄膜半導体光起電材料を含む。言い換えれば、PV材料7は、バルク半導体材料、例えばシリコン、ゲルマニウムまたは化合物半導体材料の薄膜を含み、それは、ナノ結晶粒状組織を有する。したがって、膜は、300nm以下、例えば100nm以下、例えば5〜20nmの平均粒径を有する。この実施形態では、PV材料膜7が内部電極3と外部電極5との間で、内部電極3および外部電極5と電気的に接触して位置するように、ナノ粒子層4、6は、省略されてもよい。ナノ結晶薄膜は、アモルファス膜を蒸着するために使用される温度よりわずかに高い温度であるが大粒子多結晶膜、例えばポリシリコン膜を蒸着するために使用される温度より低い温度で、化学蒸着法、例えばLPCVDまたはPECVDによって蒸着されてもよい。また、ナノ結晶粒状組織は、電極近傍のホットキャリアクーリングを低減すると考えられ、電極で共振電荷キャリアトンネルを可能にする。
図3Aは、PV電池を作製するためのマルチチャンバー装置100を示し、図3Bから図3Gは、本発明の他の実施形態によるPV電池1A、1Bを作製する方法におけるステップを示す。図3Aおよび図3Bに示すように、PV電池は、移動する導電性基材15上、例えば、1つのスプールまたはリールからスプールされ(つまり、広げられ)、巻き取りスプールまたはリールに巻き取られる連続アルミニウムまたは鋼ウェブまたは帯鋼上に形成されてもよい。基材15は、マルチチャンバー蒸着装置中のいくつかの蒸着ステーションまたはチャンバーを通る。または、固定不連続基材(つまり、連続ウェブまたは帯鋼ではない矩形基材)が使用されてもよい。
まず、図3Cに示すように、ナノロッド触媒粒子21、例えば、鉄、コバルト、金、または他の金属ナノ粒子が、チャンバーまたはステーション101内で基材上に蒸着される。触媒粒子は、湿式電気化学、または任意の他の公知の金属触媒粒子蒸着方法によって蒸着されてもよい。触媒金属および粒子サイズは、形成されるナノロッド電極3(つまり、カーボンナノチューブ、ナノワイヤなど)の種類に基づいて選択される。
図3Dに示す第2のステップでは、ナノロッド電極3は、触媒粒子およびナノロッドの種類に依存して、先端成長または基部成長によって、ナノ粒子触媒サイトでチャンバーまたはステーション103内で選択的に成長させられる。例えば、カーボンナノチューブナノロッドは、低真空中でPECVDによって成長させられてもよい一方で、金属ナノワイヤは、MOCVDによって成長させられてもよい。ナノロッド電極3は、基材15の表面に対して垂直に形成されている。または、ナノロッドは、前述したように、成形またはスタンピングによって形成されてもよい。
図3Eに示す第3のステップでは、任意の絶縁層17が、チャンバーまたはステーション105内でナノロッド電極3のまわりで基材15の露出表面上に形成される。絶縁層17は、空気雰囲気または酸素雰囲気中で、露出金属基材の表面の低温熱酸化によって、またはCVD、スパッタリング、スピンオンガラス蒸着などによる絶縁層、例えば酸化シリコンの蒸着によって形成されてもよい。または、任意の層17は、スパッタリング、めっきなどによって形成された導電性層、例えば、金属または導電性金属酸化物層を含んでいてもよい。
図3Fに示す第4のステップでは、ナノ粒子層4、PV材料7およびナノ粒子層6は、チャンバーまたはステーション107内で、ナノロッド電極3上を覆うとともにその電極のまわりに、絶縁層17を覆って形成される。図5は、CdTeナノ粒子でコンフォーマルに被覆されたカーボンナノチューブ(CNT)の例となるTEM像を示す。
ナノ粒子層4、6を形成する1つの方法は、工業用半導体ナノ粒子または量子ドットを別々に形成または得るステップを含む。半導体ナノ粒子は、次いで、ナノロッド状の内部電極3の少なくとも下部に取り付けられて、内部ナノ粒子層4を形成する。例えば、ナノ粒子は、絶縁層17を覆うとともに電極3を覆って溶液または懸濁液から準備されてもよい。必要に応じて、ナノロッド電極3、例えば、カーボンナノチューブは、ファンデルワールス力または共有結合を使用してナノ結晶に結合する部分、例えば、反応基と化学的に官能化されてもよい。光起電材料膜7は、任意の適切な方法、例えばCVDによって蒸着される。第2のナノ粒子層6は、次いで、層4と同様の方法で膜7のまわりで形成される。
あるいは、図1Bのナノ結晶PV材料膜7が使用されるならば、膜は、アモルファス成長温度と多結晶成長温度と間の温度領域でCVDによって形成されてもよい。
あるいは、図1Bのナノ結晶PV材料膜7が使用されるならば、膜は、アモルファス成長温度と多結晶成長温度と間の温度領域でCVDによって形成されてもよい。
図3Gに示す第5のステップでは、外部電極5は、チャンバーまたはステーション109内で、光起電材料7(または外部ナノ粒子層6が存在するならば、外部ナノ粒子層6)のまわりに形成される。外部電極5は、湿式化学法、例えばNiまたCu無電解めっき、または電気めっきおよびそれに続く焼きなましステップによって形成されてもよい。あるいは、電極5は、PVD、例えばスパッタリングまたは蒸着によって形成されてもよい。外部電極5およびPV材料7は、化学機械研磨によって研磨されてもよく、および/または選択的にエッチバックされてPV電池の上面を平坦化し、ナノロッド3の上部をさらしてアンテナ3Aを形成する。必要に応じて、さらなる絶縁層が、PV電池間に形成されてもよい。次いで、封止層19は、アンテナ3Aを覆って形成されて、PV電池アレイを完成する。
図4Aは、基材15を覆って形成されたPV電池の多層アレイを説明する。このアレイにおいて、下レベルにおける各PV電池1Aは、上レベルにおけるPV電池1Bが重なった状態で内部ナノロッド状電極3を共有している。言い換えれば、電極3は、少なくとも2つのPV電池1A、1Bを介して垂直(つまり、基材表面に対して垂直)に延在する。しかし、アレイの下レベルおよび上レベルの電池は、個別のPV材料7A、7B、個別の外部電極5A、5B、および個別の電気出力U1およびU2を含む。異なる種類のPV材料(つまり、異なるナノ結晶サイズ、バンドギャップおよび/または組成)は、上アレイレベルの電池1Aでよりも下アレイレベルの電池1Aに設けられてもよい。絶縁層21は、上PV電池レベルと下PV電池レベルとの間に位置する。内部電極3は、この層21を通って延在する。2つのレベルが示されている一方で、3つ以上の素子のレベルが形成されていてもよい。さらに、内部電極3は、上PV電池1Bを超えて延在して、アンテナを形成してもよい。図4Bは、図4Aのアレイの回路概略図を示す。
PV電池1A,1Bを操作する方法は、図2に示すように、第1の方向に伝搬する入射太陽放射線13に電池をさらすステップと、さらすステップに応じてPV電池から電流を生成するステップと、を含む。前に検討したように、放射線13の方向に実質的に垂直な方向における、内部電極3と外部電極5との間のPV材料7の幅9は、電極の少なくとも1つに対する、光起電材料中の光生成された電荷キャリア飛行時間の間フォノン生成を実質的に防ぐ、および/または電荷キャリア再接合および散乱による電荷キャリアエネルギー損を実質的に防ぐのに十分に薄い。放射線13方向に実質的に平行な方向におけるPV材料7の高さ11は、入射太陽放射線中の入射光子の少なくとも90%、例えば、90〜95%、例えば90〜100%を電荷キャリア、例えば電子およびホール(励起子を含む)に変換、および/または50〜2,000nm、好ましくは、400nm〜1,000nmの波長範囲において、光子の少なくとも90%、例えば、90〜100%を光電吸収するのに十分に厚い。図1Aのナノ粒子層4、6が、存在するならば、共振電荷キャリアトンネルが、ナノ粒子層4、6を通って光起電材料7からそれぞれの電極3、5に好ましくは発生する一方で、ナノ粒子層は、電極近傍のホットキャリアクーリングを防止または低減する。
図1Bのナノ結晶PV材料7が存在するならば、ナノ結晶光起電材料は、電極近傍のホットキャリアクーリングを防止または低減する。
図1Bのナノ結晶PV材料7が存在するならば、ナノ結晶光起電材料は、電極近傍のホットキャリアクーリングを防止または低減する。
本発明の前述した説明は、実例および説明の目的のために示されたものである。前述した説明は網羅的であることは意図されず、また開示された正確な形態に発明を限定することも意図されず、修正例および変形例は、前述した教示を考慮して可能であり、または本発明の実行から得られてもよい。説明は、本発明の原理およびその実用化について説明するために選択されたものである。本発明の範囲は、本願明細書に添付された特許請求の範囲とそれらの均等物によって定めることを意図されている。
Claims (23)
- 光電池であって、
第1の電極と、
第1の電極に接触して位置する第1のナノ粒子層と、
第2の電極と、
第2の電極に接触して位置する第2のナノ粒子層と、
第1のナノ粒子層と第2のナノ粒子層との間で、第1のナノ粒子層および第2のナノ粒子層に接触して位置する光起電材料と、
を備える光電池。 - 請求項1記載の光電池において、
光起電材料は、薄膜またはナノ粒子材料を含み、
第1の電極から第2の電極への方向における光起電材料の幅は、約200nm未満であり、
光起電材料の幅に実質的に垂直な方向における光起電材料の高さは、少なくとも1ミクロンである光電池。 - 請求項2記載の光電池において、
光起電材料の幅は、10〜20nmであり、光起電材料の高さは、少なくとも2〜30ミクロンである光電池。 - 請求項1記載の光電池において、
入射太陽放射線の対象とする方向に実質的に垂直な方向における光起電材料の幅は、第1の電極および第2の電極のうちの少なくとも1つに対する、光起電材料中の光生成された電荷キャリア飛行時間の間のフォノン生成を実質的に防ぐこと、および電荷キャリア再接合および散乱による電荷キャリアエネルギー損を実質的に防ぐことのうちの少なくとも1つを行うのに十分に薄く、
入射太陽放射線の対象とする方向に実質的に平行な方向における光起電材料の高さは、入射太陽放射線中の入射光子の少なくとも90%を電荷キャリアに変換すること、および50〜2,000nmの波長範囲内で光子の少なくとも90%を光電吸収することのうちの少なくとも1つを行うのに十分に厚い光電池。 - 請求項1記載の光電池において、
第1の電極は、ナノロッドを含み、
第1のナノ粒子層は、ナノロッドの少なくとも下部を囲み、
光起電材料は、第1のナノ粒子層を囲み、
第2のナノ粒子層は、光起電材料を囲み、
第2の電極は、第2のナノ粒子層を囲んでナノコアックスを形成する光電池。 - 請求項5記載の光電池において、
ナノロッドは、カーボンナノチューブまたは導電性ナノワイヤを含む光電池。 - 請求項6記載の光電池において、
ナノロッドの上部は、光起電材料を超えて延在し、光電池用の光学アンテナを形成する光電池。 - 請求項1記載の光電池において、
光起電材料は、半導体薄膜を含み、
第1のナノ粒子層は、3未満の単分子層の幅を有する半導体ナノ粒子層を含んで、共振電荷キャリアが光起電材料から第1の電極に第1のナノ粒子層をトンネルすることを可能にする光電池。 - 請求項1記載の光電池において、
第1のナノ粒子層は、異なる平均直径および異なる組成のうちの少なくとも1つを有するナノ粒子の少なくとも2セットを含む光電池。 - 請求項1記載の光電池において、
光起電材料は、シリコンを含み、
第1のナノ粒子層中のナノ粒子は、シリコンまたはゲルマニウムの量子ドットを含む光電池。 - 請求項1記載の光電池において、
第1のナノ粒子層は、電極近傍のホットキャリアクーリングを防止または低減する光電池。 - 光電池であって、
第1の電極と、
第2の電極と、
第1の電極と第2の電極との間で、第1の電極および第2の電極に電気的に接触して位置するナノ結晶薄膜半導体光起電材料と、を備え、
第1の電極から第2の電極への方向における光起電材料の幅は、約200nm未満であり、
光起電材料の幅に実質的に垂直な方向における光起電材料の高さは、少なくとも1ミクロンである光電池。 - 光電池を作製する方法であって、
第1の電極を形成するステップと、
第1の電極に接触して第1のナノ粒子層を形成するステップと、
第1のナノ粒子層に接触して半導体光起電材料を形成するステップと、
光起電材料に接触して第2のナノ粒子層を形成するステップと、
第2のナノ粒子層に接触して第2の電極を形成するステップと、
を含む方法。 - 請求項13記載の方法において、
基材に垂直な第1の電極を形成するステップと、
第1の電極の少なくとも下部のまわりに第1のナノ粒子層を形成するステップと、
第1のナノ粒子層のまわりに光起電材料を形成するステップと、
光起電材料のまわりに第2のナノ粒子層を形成するステップと、
第2のナノ粒子層のまわりに第2の電極を形成するステップと、
をさらに含む方法。 - 請求項14記載の方法において、
前記第1のナノ粒子層を形成するステップは、半導体ナノ粒子を準備し、その後、準備された半導体ナノ粒子をナノロッド状の第1の電極の少なくとも下部に取り付けるステップを含み、
光起電材料は、薄膜またはナノ粒子材料を含む方法。 - 請求項14記載の方法において、
第1の電極、第2の電極および光起電材料は、移動する導電性基材上に蒸着される方法。 - 請求項16記載の方法において、
基材上に光電池のアレイを形成するステップをさらに含む方法。 - 請求項17記載の方法において、
ウェブ状の導電性基材を第1のリールから第2のリールに巻くステップと、
導電性基材上に複数の金属触媒粒子を形成するステップと、
金属触媒粒子から複数のナノロッド状の第1の電極を成長するステップと、
第1の電極間に基材を覆って絶縁層を形成するステップと、
をさらに含む方法。 - 請求項14記載の方法において、
第1の電極から第2の電極への方向における光起電材料の幅は、約200nm未満であり、
光起電材料の幅に実質的に垂直な方向における光起電材料の高さは、少なくとも1ミクロンである方法。 - 第1の電極と、第1の電極に接触して位置する第1のナノ粒子層と、第2の電極と、第2の電極に接触して位置する第2のナノ粒子層と、第1のナノ粒子層と第2のナノ粒子層との間で、第1のナノ粒子層および第2のナノ粒子層に接触して位置する光起電材料と、を備える光電池を操作する方法であって、
光電池を、第1の方向に伝搬する入射太陽放射線にさらすステップと、
第1のナノ粒子層が、電極近傍のホットキャリアクーリングを防止または低減しながら、共振電荷キャリアトンネルが、光起電材料から第1の電極に第1のナノ粒子層を通って発生するように、前記さらすステップに応じて光電池から電流を生成するステップと、
を含む方法。 - 請求項20記載の方法において、
光起電材料は、薄膜またはナノ粒子材料を含み、
第1の方向に実質的に垂直な第2の方向における第1の電極と第2の電極との間の光起電材料の幅は、第1の電極および第2の電極のうちの少なくとも1つに対する、光起電材料中の光生成された電荷キャリア飛行時間の間のフォノン生成を実質的に防ぐこと、および電荷キャリア再接合および散乱による電荷キャリアエネルギー損を実質的に防ぐことのうちの少なくとも1つを行うのに十分に薄く、
第1の方向に実質的に平行な方向における光起電材料の高さは、入射太陽放射線中の入射光子の少なくとも90%を電荷キャリアに変換すること、および50〜2,000nmの波長範囲内で光子の少なくとも90%を光電吸収することのうちの少なくとも1つを行うのに十分に厚い方法。 - 第1の電極と、第2の電極と、第1の電極と第2の電極との間で、第1の電極層および第2の電極層に接触して位置する薄膜ナノ結晶半導体光起電材料と、を備える光電池を操作する方法であって、
光電池を、第1の方向に伝搬する入射太陽放射線にさらすステップと、
ナノ結晶光起電材料が、電極近傍のホットキャリアクーリングを防止または低減するように、さらすステップに応じて光電池から電流を生成するステップと、
を含む方法。 - 請求項22記載の方法において、
第1の方向に実質的に垂直な第2の方向における第1の電極と第2の電極との間の光起電材料の幅は、第1の電極および第2の電極のうちの少なくとも1つに対する、光起電材料中の光生成された電荷キャリア飛行時間の間のフォノン生成を実質的に防ぐこと、および電荷キャリア再接合および散乱による電荷キャリアエネルギー損を実質的に防ぐことのうちの少なくとも1つを行うのに十分に薄く、
第1の方向に実質的に平行な方向における光起電材料の高さは、入射太陽放射線中の入射光子の少なくとも90%を電荷キャリアに変換すること、および50〜2,000nmの波長範囲内で光子の少なくとも90%を光電吸収することのうちの少なくとも1つを行うのに十分に厚い方法。
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
US90070907P | 2007-02-12 | 2007-02-12 | |
PCT/US2008/001769 WO2008143721A2 (en) | 2007-02-12 | 2008-02-11 | Photovoltaic cell with reduced hot-carrier cooling |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
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JP2010518623A true JP2010518623A (ja) | 2010-05-27 |
Family
ID=39714509
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2009549134A Pending JP2010518623A (ja) | 2007-02-12 | 2008-02-11 | ホットキャリアクーリングが低減された光電池 |
Country Status (7)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US20080202581A1 (ja) |
EP (1) | EP2115784A2 (ja) |
JP (1) | JP2010518623A (ja) |
KR (1) | KR20090120474A (ja) |
CN (1) | CN101663764A (ja) |
TW (1) | TW200849613A (ja) |
WO (1) | WO2008143721A2 (ja) |
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- 2008-02-11 JP JP2009549134A patent/JP2010518623A/ja active Pending
- 2008-02-11 US US12/068,745 patent/US20080202581A1/en not_active Abandoned
- 2008-02-11 EP EP08794287A patent/EP2115784A2/en active Pending
- 2008-02-11 CN CN200880004753A patent/CN101663764A/zh active Pending
- 2008-02-11 KR KR1020097018435A patent/KR20090120474A/ko not_active Application Discontinuation
- 2008-02-11 WO PCT/US2008/001769 patent/WO2008143721A2/en active Application Filing
- 2008-02-12 TW TW097104891A patent/TW200849613A/zh unknown
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---|---|---|---|---|
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Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
US20080202581A1 (en) | 2008-08-28 |
TW200849613A (en) | 2008-12-16 |
CN101663764A (zh) | 2010-03-03 |
EP2115784A2 (en) | 2009-11-11 |
WO2008143721A2 (en) | 2008-11-27 |
KR20090120474A (ko) | 2009-11-24 |
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