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JP2010245498A - Anti-static treated work stage - Google Patents

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JP2010245498A
JP2010245498A JP2009179139A JP2009179139A JP2010245498A JP 2010245498 A JP2010245498 A JP 2010245498A JP 2009179139 A JP2009179139 A JP 2009179139A JP 2009179139 A JP2009179139 A JP 2009179139A JP 2010245498 A JP2010245498 A JP 2010245498A
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antistatic
carbon nanotube
coating film
coated
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JP2009179139A
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Won Nam Kim
原南 金
Sang Keun Oh
尚根 呉
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TOP NANOSYS Inc
Top Engineering Co Ltd
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TOP NANOSYS Inc
Top Engineering Co Ltd
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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide an anti-static treated work stage, and more particularly, a work stage on which a flat work such as a substrate is mounted, in which the work stage can protect the work from static electricity and can be anti-static treated. <P>SOLUTION: In the anti-static treated work stage, a carbon nanotube coating film is coated on a surface to which the substrate of the work stage is mounted. The surface resistance of the carbon nanotube coating film is 105 Ω/sq to 109 Ω/sq. <P>COPYRIGHT: (C)2011,JPO&INPIT

Description

本発明は、帯電防止処理された作業ステージに係り、より詳細には、基板などの扁平な作業物が載置される作業ステージであって、前記作業物を静電気から保護することができる帯電防止処理された作業ステージに関する。   The present invention relates to a work stage that has been subjected to antistatic treatment, and more particularly, a work stage on which a flat work such as a substrate is placed, and the work can be protected from static electricity. It relates to the processed work stage.

半導体製造装置で使われる作業ステージは、ウエーハ基板が載置されるものであって、通常金属材質からなる。前記作業ステージを使う半導体製造装置で、ハンドラーがウエーハ基板を固定して、前記作業ステージに移動させた後、前記ウエーハ基板を作業ステージに載せる時、前記作業ステージとウエーハ基板との間において摩擦による静電気が発生する。   A work stage used in a semiconductor manufacturing apparatus is a substrate on which a wafer substrate is placed, and is usually made of a metal material. In the semiconductor manufacturing apparatus using the work stage, after the handler fixes the wafer substrate and moves it to the work stage, the wafer substrate is put on the work stage by friction between the work stage and the wafer substrate. Static electricity is generated.

また、FPD(Flat Panel Display)用ディスペンサに使われる作業ステージは、通常真空方式によってディスプレイ基板を吸着する。この場合の作業ステージも通常金属材料からなり、前記ディスプレイ基板が、作業ステージ上に吸着される時、又は前記吸着固定されたディスプレイ基板が作業ステージから剥離される時、前記作業ステージには帯電が発生して、ディスプレイ基板に帯電される。近年、ディスプレイ基板の大型化に伴って、帯電量が増加しているので、静電気による帯電の問題が大きくなっている。   In addition, a work stage used in an FPD (Flat Panel Display) dispenser normally sucks a display substrate by a vacuum method. The work stage in this case is also usually made of a metal material, and the work stage is charged when the display substrate is sucked onto the work stage or when the suction-fixed display substrate is peeled off from the work stage. Generated and charged on the display substrate. In recent years, the amount of charge has increased with the increase in the size of the display substrate, so that the problem of charging due to static electricity has increased.

前記ウエーハ基板及びディスプレイ基板には、半導体素子などの複数の電子部品が配されている。したがって、静電気が発生すれば、その静電気が前記電子部品に印加されて、その内部回路に伝達される。このことが、結果的に電子部品の信頼性に致命的な損傷を与えることとなる。また、静電気が帯電することによって、前記基板にパーティクルが付着されるか、又は基板をリフトアップ(lift up)時に基板が壊れるという問題がある。   A plurality of electronic components such as semiconductor elements are arranged on the wafer substrate and the display substrate. Therefore, if static electricity is generated, the static electricity is applied to the electronic component and transmitted to the internal circuit. This results in fatal damage to the reliability of the electronic component. In addition, there is a problem that particles are attached to the substrate due to static electricity, or the substrate is broken when the substrate is lifted up.

従来、前記静電気の帯電を防止するために、作業ステージにイオナイザを設けて帯電電位を中和させていた。しかし、この場合には、基板のリフトアップが不可能な場合には、イオナイザのイオン風が到逹せず、リフトアップが可能な場合であっても、中和が必要な箇所にイオン風が到逹する前に放電などのトラブルが発生する等の、作業ステージと基板との間で発生した静電気が瞬間的に起こす剥離帯電の問題を解決することができない。   Conventionally, in order to prevent the static electricity from being charged, an ionizer is provided on the work stage to neutralize the charging potential. However, in this case, if the substrate cannot be lifted up, the ionizer does not reach the ion wind, and even if the lift up is possible, the ion wind does not reach the location where neutralization is required. It is impossible to solve the problem of peeling electrification caused by the static electricity generated between the work stage and the substrate, such as the occurrence of troubles such as electric discharge before arrival.

このような問題点を解決するために、前記作業ステージの静電気防止のために、フッ素樹脂で作業ステージをコーティングすることができる(例えばテフロン(登録商標)コーティング)。フッ素樹脂は、他の物質との吸着エネルギーが小さく、非粘着性に優れ、摩擦係数が小さいために、ガラス基板との相関関係が小さくなって、剥離による静電気の発生量が小さくなる。   In order to solve such a problem, the work stage can be coated with a fluororesin (for example, Teflon (registered trademark) coating) in order to prevent static electricity of the work stage. Since the fluororesin has low adsorption energy with other substances, excellent non-adhesiveness, and a small coefficient of friction, the correlation with the glass substrate is small, and the amount of static electricity generated by peeling is small.

この場合、通常のフッ素成分は絶縁性を有するので、テフロンコーティングにおいては、前記フッ素成分に帯電物質を含有させている。すなわち、作業ステージをアノダイジング(anodizing)した後にテフロンコーティングを行うことによって、前記作業ステージの静電気発生を防止していた。   In this case, since a normal fluorine component has an insulating property, in the Teflon coating, the fluorine component contains a charged substance. That is, the Teflon coating is performed after anodizing the work stage, thereby preventing the work stage from generating static electricity.

しかし、前記テフロンコーティング方法は、相対的に高い製造コストを要する。特にディスペンサの場合、ディスプレイ基板の大型化に伴って、前記作業ステージのサイズも大型化するので、高い製造コストを避けることができない。   However, the Teflon coating method requires a relatively high manufacturing cost. In particular, in the case of a dispenser, the size of the work stage is increased with an increase in the size of the display substrate, so that high manufacturing costs cannot be avoided.

また、フッ素自体の硬度が低いので、必然的に前記フッ素からなるコーティング膜の硬度が低くなり、容易にスクラッチが発生する。そのため、スクラッチが発生した部分の平坦度を維持することが困難であり、パーティクルが発生する要因となる。   Further, since the hardness of fluorine itself is low, the hardness of the coating film made of fluorine inevitably decreases, and scratches are easily generated. For this reason, it is difficult to maintain the flatness of the portion where the scratch has occurred, which becomes a factor in generating particles.

また、フッ素は、絶縁性を有しているので、カーボンブラックや導電性ポリマーなどのフィラーを追加して帯電防止用の面抵抗を有するようにするが、カーボンブラックの場合には、球型であって粉塵を発生させるという問題点があり、導電性ポリマーの場合には、耐溶剤性が弱く、過量のバインダーを使わなければならず、薄膜形成が難しいという問題点がある。   In addition, since fluorine has an insulating property, a filler such as carbon black or a conductive polymer is added so as to have an antistatic surface resistance. However, in the case of carbon black, it has a spherical shape. Therefore, there is a problem that dust is generated. In the case of a conductive polymer, there is a problem that solvent resistance is weak, an excessive amount of binder must be used, and thin film formation is difficult.

本発明は、ステージの基板と合う面において静電気発生を最小化させると共に、その製造コストが低減され、適切に面抵抗を調節可能であり、摩擦係数が低く耐磨耗性が向上した作業ステージを提供することを目的とする。   The present invention minimizes the generation of static electricity on the surface of the stage that meets the substrate, reduces the manufacturing cost, can adjust the surface resistance appropriately, has a low friction coefficient, and has improved wear resistance. The purpose is to provide.

上述の課題を果たすための本発明の望ましい実施形態による帯電防止処理された作業ステージは、ステージ本体と、カーボンナノチューブコーティング膜とを備えている。ここで、カーボンナノチューブコーティング膜の面抵抗が、105〜109Ω/sqである。   A work stage subjected to antistatic treatment according to a preferred embodiment of the present invention for accomplishing the above-described problems includes a stage body and a carbon nanotube coating film. Here, the surface resistance of the carbon nanotube coating film is 105 to 109 Ω / sq.

本発明によれば、導電性物質であるカーボンナノチューブを主材料にした塗布膜を作業ステージ本体にコーティングすることによって、前記塗布膜の面抵抗が低くなるので、優れた静電気防止効果を発揮し、基板の信頼性が向上する。   According to the present invention, the surface resistance of the coating film is reduced by coating the work stage body with a coating film made of carbon nanotubes, which are conductive materials, as a main material, thereby exhibiting an excellent antistatic effect, The reliability of the substrate is improved.

また、フッ素ではなく、カーボンナノチューブが含有された塗布膜を使ってコーティングするので、コストが低減される。   In addition, since coating is performed using a coating film containing carbon nanotubes instead of fluorine, the cost is reduced.

また、カーボンナノチューブコーティング膜は、カーボンナノチューブ自体の物理的性質に起因して、摩擦係数が低く且つ耐磨耗性が高く、スクラッチが発生しないか、又は微小であるので、パーティクルの発生量が少ない。   In addition, the carbon nanotube coating film has a low friction coefficient and high wear resistance due to the physical properties of the carbon nanotubes themselves, and scratches do not occur or are minute, so that the amount of particles generated is small. .

本発明の望ましい実施形態による帯電防止処理された作業ステージを備えたペーストディスペンサの一例を示した斜視図である。1 is a perspective view illustrating an example of a paste dispenser including an antistatic-treated work stage according to a preferred embodiment of the present invention. 図1で作業ステージの上側の断面を示した断面図である。It is sectional drawing which showed the cross section of the upper side of a work stage in FIG. 図2のA部を拡大して示した断面図である。It is sectional drawing which expanded and showed the A section of FIG. 図3の変形例である。It is a modification of FIG. 図2の他の変形例を示した断面図である。It is sectional drawing which showed the other modification of FIG.

以下、添付した図面を参照して、好ましい実施形態による本発明を詳しく説明する。   Hereinafter, the present invention will be described in detail with reference to the accompanying drawings.

図1は、本発明の帯電防止処理された作業ステージが適用される一例としてペーストディスペンサの一例を示した斜視図である。   FIG. 1 is a perspective view showing an example of a paste dispenser as an example to which the work stage subjected to the antistatic treatment of the present invention is applied.

図1に示されたように、ペーストディスペンサ1は、フレーム10と、帯電防止処理された作業ステージ20と、ヘッド支持台30と、ヘッドユニット40とを備えている。帯電防止処理された作業ステージ20は、フレーム10の上側に配置されている。ステージ20は、フレーム10の一側から供給される基板Sを載置させることができるように形成されている。   As shown in FIG. 1, the paste dispenser 1 includes a frame 10, an antistatic work stage 20, a head support 30, and a head unit 40. The work stage 20 subjected to the antistatic treatment is arranged on the upper side of the frame 10. The stage 20 is formed so that the substrate S supplied from one side of the frame 10 can be placed thereon.

帯電防止処理された作業ステージ20は、フレーム10に固定されるか、又はアクチュエータによってX軸及び/又はY軸方向に摺動可能とされる。   The work stage 20 subjected to the antistatic treatment is fixed to the frame 10 or is slidable in the X-axis and / or Y-axis direction by an actuator.

ヘッド支持台30は、ステージ20の上側に配置されている。ヘッド支持台30はX軸方向に延設され、その両端がフレーム10に支持されている。ヘッド支持台30は、これを駆動するアクチュエータによってY軸方向に摺動可能とされる。   The head support 30 is disposed on the upper side of the stage 20. The head support base 30 extends in the X-axis direction, and both ends thereof are supported by the frame 10. The head support 30 can be slid in the Y-axis direction by an actuator that drives the head support 30.

ヘッドユニット40は、X軸方向に沿って移動可能にヘッド支持台30に支持されている。ヘッドユニット40は、ペーストが吐出されるノズル44が装着された少なくとも一つの塗布ヘッド42を備えている。ノズル44は、ペーストが充填されたシリンジ(syringe)と連結されている。   The head unit 40 is supported by the head support 30 so as to be movable along the X-axis direction. The head unit 40 includes at least one coating head 42 to which a nozzle 44 for discharging paste is attached. The nozzle 44 is connected to a syringe filled with paste.

図2は、図1のII−II部で切断した断面図である。図2に示されたように、作業ステージ20の一面には、カーボンナノチューブコーティング膜25がコーティングされている。   2 is a cross-sectional view taken along a line II-II in FIG. As shown in FIG. 2, a carbon nanotube coating film 25 is coated on one surface of the work stage 20.

前記作業ステージ20は、通常アルミニウムなどの金属素材からなる。この場合、前記作業ステージ20の上面は、アノダイジング処理されている。   The work stage 20 is usually made of a metal material such as aluminum. In this case, the upper surface of the work stage 20 is anodized.

アノダイジングは、電気−化学反応を用いて表面処理されていないアルミニウムの表面に人為的な酸化物塗装を行うものである。前記アノダイジング処理によって、表面摩耗が防止され、腐食防止の効果がある。   Anodizing is an artificial oxide coating on the surface of aluminum that has not been surface-treated using an electro-chemical reaction. By the anodizing treatment, surface wear is prevented and there is an effect of preventing corrosion.

カーボンナノチューブコーティング膜25は、前記作業ステージ20の前記基板が載置される面に形成されており、カーボンナノチューブを含んでいる。   The carbon nanotube coating film 25 is formed on the surface on which the substrate of the work stage 20 is placed, and includes carbon nanotubes.

カーボンナノチューブ(Carbon Nanotube:CNT)は、一つの炭素が他の炭素原子と六角形の蜂の巣状に結合されたチューブ形態をなしており、チューブの直径がnmレベルで極めて小さく、特有の電気化学的特性を有している。   Carbon nanotubes (CNTs) are in the form of tubes in which one carbon is bonded to another carbon atom in the shape of a hexagonal honeycomb, and the diameter of the tube is extremely small at the nanometer level. It has characteristics.

カーボンナノチューブは、優れた機械的特性、電気的選択性、及び優れた電界放出特性を有している。このようなカーボンナノチューブをステージに薄い導電膜として形成すると、高い導電性が得られるので、静電気防止効果が発揮される。   Carbon nanotubes have excellent mechanical properties, electrical selectivity, and excellent field emission properties. When such a carbon nanotube is formed as a thin conductive film on the stage, high conductivity can be obtained, so that an antistatic effect is exhibited.

また、前記カーボンナノチューブは、球状ではなく、チューブ状であって、互いにネットワークを構成しているので、粉塵の可能性が少なく、耐湿性に優れている。   Further, since the carbon nanotubes are not spherical but tube-shaped and form a network with each other, there is little possibility of dust and the moisture resistance is excellent.

前記カーボンナノチューブとしては、単層カーボンナノチューブ、二層カーボンナノチューブ、多層カーボンナノチューブ及び束型カーボンナノチューブ及びこれらの組み合わせから選択可能である。   The carbon nanotubes can be selected from single-walled carbon nanotubes, double-walled carbon nanotubes, multi-walled carbon nanotubes, bundled carbon nanotubes, and combinations thereof.

また、酸処理などによって、表面改質されたカーボンナノチューブや、金属性及び半導体性など異なる属性が分離されたカーボンナノチューブが選択可能である。   Further, it is possible to select a carbon nanotube whose surface is modified by acid treatment or the like, or a carbon nanotube from which different attributes such as metallicity and semiconductivity are separated.

前記カーボンナノチューブを含むコーティング液は、適切な分散剤を含んでいる場合がある。前記分散剤の具体的な例としては、ドデシル硫酸ナトリウム(SDS)、トリトン X(TritonX)(シグマ社)、Tween20(Polyoxyethyelene Sorbitan Monooleate)、CTAB(Cetyl Trimethyl Ammonium Bromide)が挙げられる。   The coating liquid containing carbon nanotubes may contain an appropriate dispersant. Specific examples of the dispersant include sodium dodecyl sulfate (SDS), Triton X (Triton X) (Sigma), Tween 20 (Polyoxyethylene Sorbitan Monooleate), and CTAB (Cetyl Trimethyl Ammonium).

前記カーボンナノチューブコーティング膜25は、その面抵抗を105Ω/sq〜109Ω/sqになるように調節することができる。前記面抵抗は、ステージにおける静電気の発生を防止するための適切な大きさである。その面抵抗が109Ω/sq以上であれば、優れた電気伝導度を発揮できず、前記ステージ上の静電気を外部に放出する効果が小さい。また、その面抵抗が105Ω/sq以下であれば、それ自体の電気導電性が過剰に高くなるので、隣接する電子部品に影響を及ぼす場合がある。   The carbon nanotube coating film 25 can be adjusted to have a sheet resistance of 105Ω / sq to 109Ω / sq. The sheet resistance is an appropriate size for preventing the generation of static electricity on the stage. If the sheet resistance is 109 Ω / sq or more, excellent electrical conductivity cannot be exhibited, and the effect of discharging static electricity on the stage to the outside is small. If the sheet resistance is 105 Ω / sq or less, the electric conductivity of the sheet itself becomes excessively high, which may affect adjacent electronic components.

カーボンナノチューブコーティング膜25は、バインダー(binder)を含んでいる場合がある。前記バインダーは、アクリル系、ウレタン系、ポリエステル系、エポキシ系、ポリイミド系、メラミン系、導電性高分子系、又は有機・無機ハイブリッド系バインダーであり得る。前記バインダーは、熱硬化型樹脂又は光硬化型樹脂であり得る。   The carbon nanotube coating film 25 may contain a binder. The binder may be an acrylic, urethane, polyester, epoxy, polyimide, melamine, conductive polymer, or organic / inorganic hybrid binder. The binder may be a thermosetting resin or a photocurable resin.

この場合、カーボンナノチューブコーティング膜25に含まれたカーボンナノチューブは、単層、二層、又は多層カーボンナノチューブであり得る。   In this case, the carbon nanotubes included in the carbon nanotube coating film 25 may be single-walled, double-walled, or multi-walled carbon nanotubes.

前記カーボンナノチューブコーティング膜25の厚さは、0.1μmないし100μmであり得る。   The carbon nanotube coating layer 25 may have a thickness of 0.1 μm to 100 μm.

一方、カーボンナノチューブコーティング膜25と作業ステージ20との間には、接着促進層23が形成されている。接着促進層23は、カーボンナノチューブコーティング膜25と作業ステージ20との間における接着力を向上させるように機能する。この場合には、接着促進層23は、酸化アルミニウム表面と化学吸着可能なカルボン酸基(carboxylicacid group)、無水物基(anhydride group)又はホスホン酸基(phosphonic acid group)を有する単分子、オリゴマー、ポリマー素材からなり得る。接着促進層23の厚さは、1nmないし1μmであり得る。   On the other hand, an adhesion promoting layer 23 is formed between the carbon nanotube coating film 25 and the work stage 20. The adhesion promoting layer 23 functions to improve the adhesion between the carbon nanotube coating film 25 and the work stage 20. In this case, the adhesion promoting layer 23 is a single molecule, oligomer, carboxylic acid group, anhydride group or phosphonic acid group that can chemisorb to the aluminum oxide surface. It can be made of a polymer material. The thickness of the adhesion promoting layer 23 may be 1 nm to 1 μm.

この場合、カーボンナノチューブコーティング膜25に含まれたバインダーは、接着促進層23と接合力を有する単分子又は高分子であり得る。   In this case, the binder contained in the carbon nanotube coating film 25 may be a single molecule or a polymer having a bonding force with the adhesion promoting layer 23.

したがって、図3に示されたように、作業ステージ20の上面がアノダイジング処理22aされた後に、接着促進層23と、バインダーが混合されたカーボンナノチューブコーティング膜25層とが順番どおりに積層されることができる。   Therefore, as shown in FIG. 3, after the upper surface of the work stage 20 is anodized 22a, the adhesion promoting layer 23 and the carbon nanotube coating film 25 layer mixed with the binder are laminated in order. Can do.

カーボンナノチューブコーティング膜25の外側面には、保護層26が形成される。保護層26は、静電気防止性能を保持しながらも、カーボンナノチューブコーティング膜25の表面を外部から保護し、かつ、カーボンナノチューブコーティング膜25の耐久性と耐磨耗性とをさらに向上させる。この場合、保護層26は、無機物、有機単分子、及び高分子化合物、あるいは有機・無機ハイブリッド材料を使うことができ、その厚さは、0.1μmないし100μmであり得る。   A protective layer 26 is formed on the outer surface of the carbon nanotube coating film 25. The protective layer 26 protects the surface of the carbon nanotube coating film 25 from the outside while maintaining the antistatic performance, and further improves the durability and wear resistance of the carbon nanotube coating film 25. In this case, the protective layer 26 may be made of an inorganic material, an organic monomolecule, a polymer compound, or an organic / inorganic hybrid material, and may have a thickness of 0.1 μm to 100 μm.

従来のフッ素素材の帯電防止用コーティングの場合には、フッ素の硬度が低いために、前記保護層の厚さを厚くせざるを得ない。前記厚さによって帯電防止効果が低下する。しかし、本発明の場合には、カーボンナノチューブコーティング膜の耐磨耗性に優れ、保護層との結合力に優れているので、その厚さを最小限に薄くすることができる。   In the case of a conventional antistatic coating of a fluorine material, the thickness of the protective layer must be increased because the hardness of fluorine is low. The antistatic effect is lowered by the thickness. However, in the case of the present invention, the carbon nanotube coating film is excellent in abrasion resistance and excellent in bonding strength with the protective layer, so that the thickness can be reduced to the minimum.

この場合、前記保護層はセラミック系からなり得る。これは、前記セラミック系の保護層が高い耐化学性を有し、アセトン、アルコール類などに強い耐久性を有しているためである。   In this case, the protective layer may be made of a ceramic system. This is because the ceramic-based protective layer has high chemical resistance and strong durability against acetone, alcohols and the like.

一方、図4に示されたように、カーボンナノチューブコーティング膜25と作業ステージ20との間に内側バインダー層24が介在されている場合がある。すなわち、アノダイジング処理22aされた作業ステージ20の上面に、まず内側バインダー層24をコーティングさせた後に、カーボンナノチューブコーティング膜25を内側バインダー層24の上面にコーティングさせる。この場合、内側バインダー層24と作業ステージ20との間には、接着促進層23が介在されている場合がある。   On the other hand, as shown in FIG. 4, an inner binder layer 24 may be interposed between the carbon nanotube coating film 25 and the work stage 20. That is, after the inner binder layer 24 is first coated on the upper surface of the working stage 20 that has been anodized, the carbon nanotube coating film 25 is coated on the upper surface of the inner binder layer 24. In this case, an adhesion promoting layer 23 may be interposed between the inner binder layer 24 and the work stage 20.

内側バインダー層24を作業ステージ20上に、バーコーティング、スリットダイコーティング、ディップコーティング、スピンコーティング、スプレーコーティング、スクリーンコーティング、インクジェットコーティング法などを使って塗布することができる。また、カーボンナノチューブコーティング膜25を内側バインダー層24上に、バーコーティング、スリットダイコーティング、ディップコーティング、スピンコーティング、スプレーコーティング、スクリーンコーティング、インクジェットコーティング法などを使って塗布することができる。   The inner binder layer 24 can be applied onto the work stage 20 using bar coating, slit die coating, dip coating, spin coating, spray coating, screen coating, inkjet coating methods, and the like. Further, the carbon nanotube coating film 25 can be applied on the inner binder layer 24 by using bar coating, slit die coating, dip coating, spin coating, spray coating, screen coating, ink jet coating, or the like.

また、接着促進層23を作業ステージ20上に、バーコーティング、スリットダイコーティング、ディップコーティング、スピンコーティング、スプレーコーティング、スクリーンコーティング、インクジェットコーティング法などを使って塗布することができる。   Also, the adhesion promoting layer 23 can be applied on the work stage 20 using bar coating, slit die coating, dip coating, spin coating, spray coating, screen coating, ink jet coating, or the like.

この場合、内側バインダー層24の主素材は、アクリル系、ウレタン系、ポリエステル系、エポキシ系、ポリイミド系、メラミン系、導電性高分子系、有機・無機ハイブリッド系バインダーからなることが望ましい。一例として、ウレタン系の主素材は、前記作業ステージに高接着力でコーティングされると同時に、カーボンナノチューブコーティング膜25を高接着力でコーティングさせる。したがって、主素材は、作業ステージとカーボンナノチューブコーティング膜との間の接着力を大きく向上させる。   In this case, the main material of the inner binder layer 24 is preferably made of an acrylic, urethane, polyester, epoxy, polyimide, melamine, conductive polymer, or organic / inorganic hybrid binder. As an example, the urethane-based main material is coated on the work stage with high adhesive force, and at the same time, the carbon nanotube coating film 25 is coated with high adhesive force. Therefore, the main material greatly improves the adhesive force between the work stage and the carbon nanotube coating film.

図4の場合にも、カーボンナノチューブコーティング膜の外側面に保護層26が形成されている。   Also in the case of FIG. 4, the protective layer 26 is formed on the outer surface of the carbon nanotube coating film.

静電気発生を防止するために、前記カーボンナノチューブコーティング膜は、グラウンド(ground)に接地されている場合がある。これにより、作業ステージに発生した電気がカーボンナノチューブコーティング膜25に留まらず、グラウンドに迅速に移動して外部に放出される。一例として、図2に示されたように、作業ステージ20は、ステージベース21と、ステージベース21に結合された複数の載置ブロック22とを含んでいる。この場合には、載置ブロック22それぞれが、中空の四角柱状であり、ステージベース21の上面に結合され、これにより載置ブロック22の下面は、ステージベース21に接し、載置ブロックの側面及び上面は、ステージベース21に接しなくなる。   In order to prevent the generation of static electricity, the carbon nanotube coating layer may be grounded. As a result, electricity generated in the work stage does not stay in the carbon nanotube coating film 25, but quickly moves to the ground and is released to the outside. As an example, as illustrated in FIG. 2, the work stage 20 includes a stage base 21 and a plurality of mounting blocks 22 coupled to the stage base 21. In this case, each mounting block 22 has a hollow quadrangular prism shape and is coupled to the upper surface of the stage base 21, whereby the lower surface of the mounting block 22 is in contact with the stage base 21, and the side surface of the mounting block and The upper surface does not contact the stage base 21.

この場合、カーボンナノチューブコーティング膜25を載置ブロック22の上面だけではなく、その側面に沿って下面まで形成させることによって、カーボンナノチューブコーティング膜25をステージベース21に接触させることができる。これにより、載置ブロック22から発生する電気が、カーボンナノチューブコーティング膜25に沿ってステージベース21まで伝達され、グラウンドに接地されることができる。   In this case, the carbon nanotube coating film 25 can be brought into contact with the stage base 21 by forming not only the upper surface of the mounting block 22 but also the lower surface along the side surface thereof. Thereby, the electricity generated from the mounting block 22 can be transmitted to the stage base 21 along the carbon nanotube coating film 25 and grounded.

グラウンドに接地させる他の方法としては、図5に示されたように、カーボンナノチューブコーティング膜25を載置ブロック22の上面及び側面にかけて形成させると同時に、載置ブロック22が占めていないステージベース21の上面にも形成させることができる。   As another method for grounding to the ground, as shown in FIG. 5, the carbon nanotube coating film 25 is formed on the upper surface and the side surface of the mounting block 22, and at the same time, the stage base 21 not occupied by the mounting block 22 is used. It can also be formed on the upper surface of.

一方、図示しないが、カーボンナノチューブコーティング膜25の端部から接地線を延長して、ステージベース21に接触させることによって、グラウンドに接地させることができる。   On the other hand, although not shown, the ground wire can be extended from the end of the carbon nanotube coating film 25 and brought into contact with the stage base 21 to be grounded.

本発明の実施形態における作業ステージ上に、カーボンナノチューブコーティング膜をコーティングする一つの方法は次の通りである。この場合、前記コーティング方法について図4を参照して説明する。   One method for coating the carbon nanotube coating film on the working stage in the embodiment of the present invention is as follows. In this case, the coating method will be described with reference to FIG.

まず、作業ステージ20のステージコーティング面をアノダイジング処理する。これにより作業ステージの上面にAl層22aがコーティングされる。 First, the stage coating surface of the work stage 20 is anodized. As a result, the Al 2 O 3 layer 22a is coated on the upper surface of the work stage.

その後に、前記Al層22aの上面に接着剤を塗布して接着促進層23を形成させ、その接着促進層23の外面に内側バインダー層24をコーティングする。この場合、内側バインダー層24はウレタン系のバインダーであり得る。 Thereafter, an adhesive is applied to the upper surface of the Al 2 O 3 layer 22 a to form an adhesion promoting layer 23, and an inner binder layer 24 is coated on the outer surface of the adhesion promoting layer 23. In this case, the inner binder layer 24 may be a urethane-based binder.

その後に、内側バインダー層24の外面にカーボンナノチューブコーティング膜25をコーティングする。   Thereafter, a carbon nanotube coating film 25 is coated on the outer surface of the inner binder layer 24.

カーボンナノチューブコーティング膜25を製造する方法の一例としては、まず、カーボンナノチューブ、分散剤及び溶媒を混合して、前記カーボンナノチューブを分散させたコーティング溶液を製造する。前記カーボンナノチューブとしては、単層カーボンナノチューブ、二層カーボンナノチューブ、多層カーボンナノチューブ及び束型カーボンナノチューブ、及びこれらの組み合わせから選択可能であるが、必ずしもこれらに限定される訳ではない。   As an example of a method for producing the carbon nanotube coating film 25, first, a carbon nanotube, a dispersant and a solvent are mixed to produce a coating solution in which the carbon nanotubes are dispersed. The carbon nanotubes can be selected from single-walled carbon nanotubes, double-walled carbon nanotubes, multi-walled carbon nanotubes, bundled carbon nanotubes, and combinations thereof, but are not necessarily limited thereto.

前記分散剤としては、カーボンナノチューブを溶媒で分散させることができるものであれば、すべて使用可能である。前記溶媒としては、水、エタノール、メタノール、イソプロパノール、1,2−ジクロロベンゼン(1,2−Dichlorobenzene)、クロロホルム、ジメチルホルムアミド、アセトン及びその混合物などを使う。   Any dispersant can be used as long as it can disperse carbon nanotubes with a solvent. Examples of the solvent include water, ethanol, methanol, isopropanol, 1,2-dichlorobenzene, chloroform, dimethylformamide, acetone and a mixture thereof.

その後、前記コーティング溶液を前記内側バインダー層にコーティングし、これを乾燥させれば、カーボンナノチューブコーティング膜がコーティングされる。   Thereafter, the coating solution is coated on the inner binder layer and dried to coat the carbon nanotube coating film.

前記コーティング方法は、多様且つ公知の方法を利用可能であり、その一例としては、スプレーコーティングが挙げられる。本発明で使うスプレーコーティングは、一般的なスプレーコーティング装備と超音波噴霧器などを使うことが可能である。そして、スプレーコーティングに使われるノズルの形態は、一流体、二流体、これらの混合ノズルなどの多様な種類を使うことができる。   A variety of known methods can be used as the coating method, and an example thereof is spray coating. The spray coating used in the present invention can use general spray coating equipment and an ultrasonic sprayer. Various types of nozzles used for spray coating can be used, such as one-fluid, two-fluid, and mixing nozzles.

本発明のスプレー工程で、溶媒を蒸発させるための装置を含み得る。このために、発熱板を使うことができ、コーティング溶液の蒸発のためにコーティング面の下面、上面、横面などで温度を加熱することができる。   An apparatus for evaporating the solvent may be included in the spray process of the present invention. For this, a heating plate can be used, and the temperature can be heated on the lower surface, upper surface, lateral surface, etc. of the coating surface for evaporation of the coating solution.

カーボンナノチューブコーティング膜25の外面には、保護層26が形成されている。保護層26は、高分子ハードコーティング又はセラミックコーティングであり得る。   A protective layer 26 is formed on the outer surface of the carbon nanotube coating film 25. The protective layer 26 can be a polymeric hard coating or a ceramic coating.

本発明の実施形態による作業ステージ上にカーボンナノチューブコーティング膜をコーティングする他の一つの方法は、次の通りである。この場合、図3の場合を例として説明する。   Another method of coating the carbon nanotube coating film on the work stage according to the embodiment of the present invention is as follows. In this case, the case of FIG. 3 will be described as an example.

まず、作業ステージ20のステージコーティング面をアノダイジング処理する。これにより、前記作業ステージの上面にAl層22aがコーティングされる。 First, the stage coating surface of the work stage 20 is anodized. Thereby, the Al 2 O 3 layer 22a is coated on the upper surface of the work stage.

その後に、前記Al層22aに接着剤を塗布して接着促進層23を形成させ、その接着促進層23の外面にカーボンナノチューブコーティング膜25をコーティングする。この場合、カーボンナノチューブコーティング膜25はバインダーを含み、バインダーはアクリル系のバインダーであり得る。 Thereafter, an adhesive is applied to the Al 2 O 3 layer 22 a to form an adhesion promoting layer 23, and a carbon nanotube coating film 25 is coated on the outer surface of the adhesion promoting layer 23. In this case, the carbon nanotube coating film 25 includes a binder, and the binder may be an acrylic binder.

カーボンナノチューブコーティング膜25の外面には、保護層26がコーティングされ得る。この場合、前記保護層の主素材は、ハードコーティング用高分子及びセラミック系であり得る。   A protective layer 26 may be coated on the outer surface of the carbon nanotube coating film 25. In this case, the main material of the protective layer may be a hard coating polymer and a ceramic system.

本発明によれば、前記スプレーコーティングによってステージエッジ部分を含んで全体的にステージ全面のコーティング膜が一定になってステージ平坦度の保持が可能である。   According to the present invention, the coating film on the entire stage surface including the stage edge portion is made constant by the spray coating, and the stage flatness can be maintained.

また、バインダーによって接着力が向上してパーティクルの発生要因を除去することができる。   Further, the adhesive force is improved by the binder, and the generation factor of particles can be removed.

本発明は、帯電防止処理された作業ステージ関連の技術分野に適用可能である。   The present invention is applicable to a technical field related to an antistatic-treated work stage.

1 ペーストディスペンサ
10 フレーム
20 作業ステージ
21 ステージベース
22 載置ブロック
22a Al
23 接着促進層
24 内側バインダー層
25 カーボンナノチューブコーティング膜
26 保護層
30 ヘッド支持台
40 ヘッドユニット
42 塗布ヘッド
44 ノズル
1 paste dispenser 10 frame 20 work stage 21 stage base 22 mount block 22a Al 2 O 3 layer 23 adhesion promoter layer 24 inside the binder layer 25 of carbon nanotubes coated film 26 protective layer 30 head supporting base 40 head unit 42 applying head 44 nozzles

Claims (7)

ウエーハ基板又はディスプレイ基板が載置され、少なくとも前記基板が載置される面が導電性物質からなる作業ステージと、
前記作業ステージの少なくとも前記基板が載置される一面に、前記基板と前記作業ステージとの帯電を防止するようにコーティングされたものであって、カーボンナノチューブを含むカーボンナノチューブコーティング膜と、
を含むことを特徴とする帯電防止物質がコーティングされた帯電防止処理された作業ステージ。
A work stage on which a wafer substrate or a display substrate is mounted, and at least a surface on which the substrate is mounted is made of a conductive material;
At least one surface of the work stage on which the substrate is placed is coated so as to prevent charging of the substrate and the work stage, and a carbon nanotube coating film containing carbon nanotubes;
An antistatic treated work stage coated with an antistatic material characterized by comprising:
前記カーボンナノチューブコーティング膜の面抵抗は、
105Ω/sq〜109Ω/sqであることを特徴とする請求項1に記載の帯電防止物質がコーティングされた帯電防止処理された作業ステージ。
The surface resistance of the carbon nanotube coating film is
The work stage subjected to antistatic treatment and coated with the antistatic substance according to claim 1, wherein the work stage is 105 Ω / sq to 109 Ω / sq.
前記カーボンナノチューブコーティング膜は、
アクリル系、ウレタン系、ポリエステル系、エポキシ系、ポリイミド系、メラミン系、導電性高分子系又は有機・無機ハイブリッド系バインダーをさらに含むことを特徴とする請求項1に記載の帯電防止物質がコーティングされた帯電防止処理された作業ステージ。
The carbon nanotube coating film is
The antistatic material according to claim 1, further comprising an acrylic, urethane, polyester, epoxy, polyimide, melamine, conductive polymer, or organic / inorganic hybrid binder. Work stage with antistatic treatment.
前記作業ステージとカーボンナノチューブコーティング膜との間には、接着促進層が介在され、
前記接着促進層は、カルボン酸基、無水物基、及びホスホン酸基のうち少なくとも一つを有する単分子、オリゴマー、又はポリマー素材からなることを特徴とする請求項1に記載の帯電防止物質がコーティングされた帯電防止処理された作業ステージ。
An adhesion promoting layer is interposed between the work stage and the carbon nanotube coating film,
The antistatic material according to claim 1, wherein the adhesion promoting layer is made of a monomolecular, oligomer, or polymer material having at least one of a carboxylic acid group, an anhydride group, and a phosphonic acid group. A coated antistatic work stage.
前記カーボンナノチューブコーティング膜の外側面には、保護層が形成され、
前記保護層は、無機物、有機単分子及び高分子化合物、あるいは有機・無機ハイブリッド材料からなることを特徴とする請求項1に記載の帯電防止物質がコーティングされた帯電防止処理された作業ステージ。
A protective layer is formed on the outer surface of the carbon nanotube coating film,
2. The antistatic work stage coated with an antistatic substance according to claim 1, wherein the protective layer is made of an inorganic substance, an organic monomolecule and a polymer compound, or an organic / inorganic hybrid material.
前記作業ステージは、
ディスぺンシングのための基板が載置されるディスペンサ装置用作業ステージであることを特徴とする請求項1ないし請求項5のうち何れか一項に記載の帯電防止物質がコーティングされた帯電防止処理された作業ステージ。
The work stage is
6. An antistatic treatment coated with an antistatic substance according to claim 1, wherein the antistatic treatment is a work stage for a dispenser device on which a substrate for dispensing is placed. Work stage.
前記カーボンナノチューブコーティング膜は、
作業ステージにグラウンド接地されることを特徴とする請求項6に記載の帯電防止物質がコーティングされた帯電防止処理された作業ステージ。
The carbon nanotube coating film is
The work stage subjected to antistatic treatment and coated with an antistatic substance according to claim 6, wherein the work stage is grounded.
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