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JP2010122574A - Projection type image display device and projection optical system - Google Patents

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JP2010122574A
JP2010122574A JP2008297722A JP2008297722A JP2010122574A JP 2010122574 A JP2010122574 A JP 2010122574A JP 2008297722 A JP2008297722 A JP 2008297722A JP 2008297722 A JP2008297722 A JP 2008297722A JP 2010122574 A JP2010122574 A JP 2010122574A
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JP
Japan
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optical system
projection
projection optical
plane
rotation angle
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JP2008297722A
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Inventor
Jun Nishikawa
純 西川
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Sony Corp
Original Assignee
Sony Corp
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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To achieve miniaturization in a height direction of an entire projection type image display device by appropriately arranging a plane reflection surface in a projection optical system. <P>SOLUTION: The projection optical system which magnifies and projects image information on a primary image surface modulated by an image modulation element to a screen being a secondary image surface includes a first optical system L1 having positive refractive power and a second optical system L2 having a concave reflection surface. The first optical system L1 has an eleventh optical system L11 having positive refractive power on a side of the primary image surface, a twelfth optical system L12 having negative refractive power on a side nearer to the secondary image surface than the eleventh optical system L11, and a first plane reflection surface M1 arranged between them. A y-axis rotational angle β1 of the first plane reflection surface M1 is set to 30°<¾β1¾<65°, and an x-axis rotational angle α1 is set to 3°<α1<15°. <P>COPYRIGHT: (C)2010,JPO&INPIT

Description

本発明は、スクリーン上に投影画像を表示する投射型画像表示装置および当該投射型画像表示装置に用いられる投射光学系に関する。   The present invention relates to a projection type image display apparatus that displays a projection image on a screen and a projection optical system used in the projection type image display apparatus.

近年、スクリーン上に投影画像を表示する投射型画像表示装置として、液晶プロジェクタ装置が広く知られている。特に、最近では、投射空間を小さくしつつも大画面を表示できる超広角のフロント投射型液晶プロジェクタ装置の需要が高まってきている。超広角のフロント投射型液晶プロジェクタ装置を用いれば、スクリーンに対して斜めかつ広角に打ち込むことで、限定された空間において大画面を投射することが可能になるからである。   In recent years, a liquid crystal projector device has been widely known as a projection-type image display device that displays a projected image on a screen. In particular, recently, the demand for an ultra-wide-angle front projection type liquid crystal projector device capable of displaying a large screen while reducing the projection space is increasing. This is because if a super-wide-angle front projection type liquid crystal projector device is used, it is possible to project a large screen in a limited space by driving it obliquely and at a wide angle with respect to the screen.

投射型液晶プロジェクタ装置としては、例えば、変倍機能を持つリレー光学系と前記リレー光学系の結像画面を拡大投射する非球面反射ミラーとを備えて構成されたものが知られている(例えば、特許文献1参照。)。
ただし、このような大型の曲面反射面(非球面反射ミラー)を使用する構成では、画像変調素子を駆動させる基板および冷却機構を含めた装置全体を考えると、その高さ方向の寸法が大きくなりがちである。
その一方で、投射型液晶プロジェクタ装置については、投射光学系を構成する第1光学系と第2光学系との間に、2枚の平面ミラーを配置して、その奥行き方向の大きさを小さく抑えることが提案されている(例えば、特許文献2参照。)。
また、その他にも、投射光学系を構成する第1光学系内部に1枚の平面ミラーを配置するとともに、当該投射光学系を構成する第1光学系と第2光学系との間にも1枚の平面ミラーを配置することで、当該投射光学系の小型化を達成することが提案されている(例えば、特許文献3参照。)。
As a projection-type liquid crystal projector device, for example, an apparatus including a relay optical system having a zooming function and an aspheric reflection mirror that magnifies and projects an imaging screen of the relay optical system is known (for example, , See Patent Document 1).
However, in the configuration using such a large curved reflecting surface (aspheric reflecting mirror), the height direction dimension becomes large when considering the entire apparatus including the substrate for driving the image modulation element and the cooling mechanism. Tend to.
On the other hand, for the projection type liquid crystal projector device, two plane mirrors are arranged between the first optical system and the second optical system constituting the projection optical system, and the size in the depth direction is reduced. It has been proposed to suppress (see, for example, Patent Document 2).
In addition, a single plane mirror is arranged inside the first optical system constituting the projection optical system, and 1 is also provided between the first optical system and the second optical system constituting the projection optical system. It has been proposed to reduce the size of the projection optical system by arranging a single plane mirror (see, for example, Patent Document 3).

特開2007−11248号公報JP 2007-11248 A 国際公開第06−043666号パンフレットInternational Publication No. 06-043666 Pamphlet 特開2008−165202号公報JP 2008-165202 A

しかしながら、上述した従来技術には、以下に述べるような難点がある。
例えば、特許文献2に開示された構成では、薄型プロジェクションテレビのように、奥行き方向のみを小さくする光学系には向いているが、特に高さ方向を含めた光学系全体を小型化するためのミラーの配置にはなっていない。
また、特許文献3に開示された構成では、凹面反射面および画像変調素子の位置関係に問題がある。この構成の場合、照明光学系の配置方向は、光学系の奥行き方向に大きくなる。そのため、全体を小型化するミラーの配置にはなっていない。さらに、高さ方向に関しては、画像変調素子を駆動させる駆動基板、および、画像変調素子や光源等から発生する熱を冷却するシステムを考慮した場合に、高さ方向に大型化してしまうおそれがある。
つまり、上述した従来技術では、装置全体における高さ方向について、必ずしも小型化を実現し得るとは限らない。
However, the above-described prior art has the following drawbacks.
For example, the configuration disclosed in Patent Document 2 is suitable for an optical system that reduces only the depth direction, such as a thin projection television, but particularly for reducing the entire optical system including the height direction. There is no mirror arrangement.
In the configuration disclosed in Patent Document 3, there is a problem in the positional relationship between the concave reflecting surface and the image modulation element. In the case of this configuration, the arrangement direction of the illumination optical system increases in the depth direction of the optical system. For this reason, the arrangement of mirrors for reducing the overall size is not provided. Furthermore, with regard to the height direction, there is a risk of increasing the size in the height direction when considering a drive substrate that drives the image modulation element and a system that cools heat generated from the image modulation element, the light source, and the like. .
That is, in the above-described conventional technology, it is not always possible to achieve downsizing in the height direction of the entire apparatus.

そこで、本発明は、平面反射面の適切な配置により、装置全体における高さ方向について、その小型化を実現することを可能にする投射型画像表示装置および投射光学系を提供することを目的とする。   Accordingly, an object of the present invention is to provide a projection-type image display apparatus and a projection optical system that can realize downsizing in the height direction of the entire apparatus by appropriately arranging the plane reflecting surfaces. To do.

本発明は、上記目的を達成するために案出された投射型画像表示装置で、光源と、前記光源から発せられた光束を1次像面となる画像変調素子の面上に均一照射する照明光学系と、前記画像変調素子で変調された前記1次像面の画像情報を2次像面となるスクリーン上へ拡大投射する投射光学系とを備え、前記投射光学系は、正の屈折力を持つ第1光学系と、凹面反射面を持つ第2光学系とを有し、前記第1光学系は、前記1次像面の側で正の屈折力を持つ第11光学系と、前記第11光学系より前記2次像面の側で負の屈折力を持つ第12光学系と、前記第11光学系と前記第12光学系との間に配置された第1平面反射面とを有し、前記第1平面反射面のy軸回転角度β1が30°<|β1|<65°であり、前記第1平面反射面のx軸回転角度α1が3°<α1<15°である。   The present invention is a projection-type image display device devised to achieve the above object, and illumination that uniformly irradiates a light source and a light beam emitted from the light source onto a surface of an image modulation element serving as a primary image surface. An optical system, and a projection optical system that enlarges and projects the image information of the primary image plane modulated by the image modulation element onto a screen serving as a secondary image plane, and the projection optical system has a positive refractive power A first optical system having a concave reflecting surface, and the first optical system has an eleventh optical system having a positive refractive power on the primary image surface side, and A twelfth optical system having a negative refractive power on the side of the secondary image plane from the eleventh optical system, and a first planar reflecting surface disposed between the eleventh optical system and the twelfth optical system. And the y-axis rotation angle β1 of the first flat reflecting surface is 30 ° <| β1 | <65 °, Angle [alpha] 1 is 3 ° <α1 <15 °.

上記構成の投射型画像表示装置では、第11光学系と第12光学系との間に配置された第1平面反射面について、そのy軸回転角度β1が30°<|β1|<65°であり、そのx軸回転角度α1が3°<α1<15°となっている。
ここで、y軸回転角度とは、y軸回りの回転角度のことをいう。また、x軸回転角度とは、x軸回りの回転角度のことをいう。y軸およびx軸は、投射型画像表示装置の設置面をxy平面とした場合の当該平面における各基準軸である。
このように、第1平面反射面は、y軸およびx軸の両方について、それぞれに回転角度を有する。したがって、y軸およびx軸のいずれか一方のみに回転角度を有する場合に比べて、xy平面に垂直なz軸方向における大きさ、すなわち投射型画像表示装置の高さ方向における大きさを、小さく抑えられるようになる。
In the projection type image display apparatus having the above-described configuration, the y-axis rotation angle β1 of the first planar reflecting surface disposed between the eleventh optical system and the twelfth optical system is 30 ° <| β1 | <65 °. The x-axis rotation angle α1 is 3 ° <α1 <15 °.
Here, the y-axis rotation angle means a rotation angle around the y-axis. The x-axis rotation angle refers to a rotation angle around the x-axis. The y-axis and the x-axis are reference axes in the plane when the installation surface of the projection type image display apparatus is the xy plane.
Thus, the first planar reflecting surface has a rotation angle with respect to both the y-axis and the x-axis. Accordingly, the size in the z-axis direction perpendicular to the xy plane, that is, the size in the height direction of the projection-type image display device is smaller than when only one of the y-axis and the x-axis has a rotation angle. It will be suppressed.

本発明によれば、y軸およびx軸の両方に回転角度を有する第1平面反射面を含んで投射光学系を構成し、当該第1平面反射面での反射を経るようにすることで、投射型画像表示装置の高さ方向における大きさを小型化することが実現可能となる。つまり、第1平面反射面の適切な配置により、装置全体における高さ方向について、その小型化を実現することが可能になるのである。   According to the present invention, by configuring the projection optical system including the first planar reflection surface having the rotation angle in both the y-axis and the x-axis, and passing through the reflection on the first planar reflection surface, It is possible to reduce the size of the projection type image display device in the height direction. That is, it is possible to reduce the size of the entire apparatus in the height direction by appropriately arranging the first flat reflecting surface.

以下、図面に基づき本発明に係る投射型画像表示装置および投射光学系について説明する。   Hereinafter, a projection type image display apparatus and a projection optical system according to the present invention will be described with reference to the drawings.

[投射型画像表示装置の概要]
先ず、投射型画像表示装置の概要について、液晶プロジェクタ装置を例に挙げて、簡単に説明する。
液晶プロジェクタ装置は、高圧水銀ランプ等の光源から照射される光を、画像変調素子である液晶表示素子で変調して映像信号に応じた光学像を形成するとともに、その光学像を投射光学系で拡大投影してスクリーン上に表示するように構成されている。このような液晶プロジェクタ装置としては、R(赤)色、G(緑)色およびB(青)色のそれぞれに対応するパネル状の液晶表示素子を備えた、いわゆる三板式が広く知られている。なお、以下の説明では、パネル状の液晶表示素子を、単に「液晶パネル」ともいう。
ところで、ここで説明する液晶プロジェクタ装置では、投射光学系が、例えば半画角にして70°近辺という超広角に対応しているものとする。
[Outline of projection type image display device]
First, an outline of a projection type image display device will be briefly described by taking a liquid crystal projector device as an example.
The liquid crystal projector device modulates light emitted from a light source such as a high-pressure mercury lamp with a liquid crystal display element, which is an image modulation element, to form an optical image according to a video signal, and the optical image is projected with a projection optical system. It is configured to be enlarged and projected and displayed on the screen. As such a liquid crystal projector device, a so-called three-plate type having panel-like liquid crystal display elements corresponding to R (red), G (green) and B (blue) colors is widely known. . In the following description, the panel-like liquid crystal display element is also simply referred to as “liquid crystal panel”.
By the way, in the liquid crystal projector described here, it is assumed that the projection optical system corresponds to an ultra-wide angle of, for example, a half field angle of around 70 °.

超広角に対応することの利点としては、例えば以下に述べる事項が挙げられる。
図1〜5は、超広角対応の液晶プロジェクタ装置の利点についての説明図である。
超広角対応では、(1)液晶プロジェクタ装置からの光が、直接人間の目に入らないため安全である(例えば図1参照。)。(2)画面に影が映らないため効率的なプレゼンテーションができる(例えば図1参照。)。(3)設置空間が狭いため、天井の障害物を気にすることなく設置ができる(例えば図2参照。)。(4)壁につけて投射することが可能なため、メンテナンスが容易である。また、パーソナルコンピュータ(PC)と映像音響機器(AV機器)との距離が短くなるため、ケーブルの引き回しが容易となる(例えば図3参照。)。(5)打合せスペース、あるいは教室や会議室等の設置に対する自由度が増える(例えば、図4参照。)。(6)テーブル上での投射もできる(例えば、図5参照。)。
また、電子黒板(Interactive White Board)の普及も、超広角対応の液晶プロジェクタ装置の需要を高めている一要因であるが、学校、職場等にとどまらず、デジタルサイネージ(電子広告)の分野でも、このような液晶プロジェクタ装置が使われている。電子黒板は、LCD(Liquid Crystal Display)、PDP(Plasma Display Panel)でも製品としてあるものの、それらと比較して、1インチ程度の液晶パネルを拡大投射するシステムであるため、低価格で大画面を提供することができる。
For example, the following matters can be cited as advantages of dealing with the ultra-wide angle.
1 to 5 are explanatory diagrams illustrating advantages of a liquid crystal projector apparatus that supports ultra-wide angles.
The ultra-wide-angle support is safe because (1) light from the liquid crystal projector device does not directly enter the human eye (see, for example, FIG. 1). (2) Since no shadow appears on the screen, an efficient presentation can be performed (see, for example, FIG. 1). (3) Since the installation space is narrow, the installation can be performed without worrying about the obstacle on the ceiling (see, for example, FIG. 2). (4) Since it can be projected on a wall, maintenance is easy. Further, since the distance between the personal computer (PC) and the audiovisual equipment (AV equipment) is shortened, the cable can be easily routed (see, for example, FIG. 3). (5) The degree of freedom for setting up a meeting space or a classroom or conference room is increased (see, for example, FIG. 4). (6) Projection on a table can also be performed (for example, see FIG. 5).
The widespread use of interactive whiteboards is one factor that has increased the demand for ultra-wide-angle LCD projectors. Not only at schools and workplaces, but also in the field of digital signage (electronic advertising), Such a liquid crystal projector device is used. Electronic blackboards are also products in LCD (Liquid Crystal Display) and PDP (Plasma Display Panel), but in comparison with these, the blackboard is a system that enlarges and projects a liquid crystal panel of about 1 inch. Can be provided.

[投射型画像表示装置の概略構成例]
続いて、超広角対応の液晶プロジェクタ装置の概略構成について説明する。
図6は、液晶プロジェクタ装置の概略構成例を示す説明図である。
図例のように、液晶プロジェクタ装置は、その筐体内に、光源1と、照明光学系2と、投射光学系3と、を備えている。
[Schematic configuration example of a projection-type image display device]
Next, a schematic configuration of a super wide-angle compatible liquid crystal projector device will be described.
FIG. 6 is an explanatory diagram showing a schematic configuration example of the liquid crystal projector apparatus.
As illustrated, the liquid crystal projector device includes a light source 1, an illumination optical system 2, and a projection optical system 3 in the casing.

図7は、光源1および照明光学系2の概略構成例を示す説明図である。
光源1は、例えば高圧水銀ランプからなり、照明光学系2に対して光束を発するようになっている。
照明光学系2は、光源1から発せられた光束を、1次像面となる画像変調素子(液晶パネル)の面上に均一照射するようになっている。さらに具体的には、照明光学系2では、光源1からの光束が、第1および第2のフライアイレンズFL、偏光変換素子PSおよび集光レンズLを経る。そして、これらを経た後に、特定の波長帯域の光だけを反射するダイクロイック・ミラーDMによって、RGBの各色成分光に分離される。RGBの各色成分光は、全反射ミラーMやレンズL等を利用しつつ、RGBの各色に対応して設けられた液晶パネルPに入射される。そして、各液晶パネルPにて映像信号に応じた光変調が行われた後は、光変調された各色成分光がダイクロイック・プリズムPPによって合成されて、投射光学系3に向けて出射されるようになっている。
なお、ここでは、透過型液晶パネルを用いて構成された照明光学系2を例に挙げているが、反射型液晶パネルを用いても照明光学系2を構成することは可能である。また、画像変調素子としては、デジタルマイクロミラーデバイス(DMD)等を用いることもできる。さらには、ダイクロイック・プリズムPPに代わり、偏光ビームスプリッター(PBS)やRGB各色の映像信号を合成する色合成プリズム、TIR(Total Internal Reflection)プリズム等を用いることも考えられる。
FIG. 7 is an explanatory diagram illustrating a schematic configuration example of the light source 1 and the illumination optical system 2.
The light source 1 is composed of a high-pressure mercury lamp, for example, and emits a light beam to the illumination optical system 2.
The illumination optical system 2 uniformly irradiates the light beam emitted from the light source 1 onto the surface of the image modulation element (liquid crystal panel) serving as the primary image plane. More specifically, in the illumination optical system 2, the light beam from the light source 1 passes through the first and second fly-eye lenses FL, the polarization conversion element PS, and the condenser lens L. Then, after passing through these, each color component light of RGB is separated by a dichroic mirror DM that reflects only light in a specific wavelength band. Each color component light of RGB is incident on a liquid crystal panel P provided corresponding to each color of RGB while using a total reflection mirror M, a lens L, and the like. Then, after the light modulation according to the video signal is performed in each liquid crystal panel P, the light-modulated color component lights are combined by the dichroic prism PP and emitted toward the projection optical system 3. It has become.
Here, the illumination optical system 2 configured using a transmissive liquid crystal panel is taken as an example, but the illumination optical system 2 can also be configured using a reflective liquid crystal panel. In addition, a digital micromirror device (DMD) or the like can be used as the image modulation element. Furthermore, instead of the dichroic prism PP, a polarization beam splitter (PBS), a color synthesis prism that synthesizes RGB video signals, a TIR (Total Internal Reflection) prism, or the like may be used.

投射光学系3は、照明光学系2からの出射光を受け取ることで、照明光学系2の液晶パネルPで変調された1次像面の画像情報を、2次像面となるスクリーン上へ拡大投射する。   The projection optical system 3 receives the light emitted from the illumination optical system 2 to expand the image information of the primary image surface modulated by the liquid crystal panel P of the illumination optical system 2 onto the screen that becomes the secondary image surface. Project.

[投射光学系の構成例]
ここで説明する液晶プロジェクタ装置は、投射光学系3に特徴がある。
以下、投射光学系3の構成について、第1〜第6の実施の形態を例に挙げて順に説明する。
[Example of configuration of projection optical system]
The liquid crystal projector described here is characterized by the projection optical system 3.
Hereinafter, the configuration of the projection optical system 3 will be described in order by taking the first to sixth embodiments as examples.

<第1の実施の形態>
図8は、第1の実施の形態における投射光学系の概略構成例を示す光路図である。図例では、基準投射距離時の光路を示している。
図例のように、投射光学系3は、正の屈折力を持つ第1光学系L1と、凹面反射面を持つ第2光学系L2と、を有している。ここで、屈折力とは、レンズ等の(軸回りに回転対象な)光学系の屈折の度合いのことをいう。
第1光学系L1は、当該第1光学系L1を構成する全ての光学部品が回転対称面を持つ共通の光軸を有している。
また、第2光学系L2は、回転対称非球面で構成され、第1光学系L1と共通の前記光軸を持つ。
そして、このような第1光学系L1および第2光学系L2を有することで、投射光学系3は、縮小側の1次像面から拡大側の2次像面へ拡大投射するように構成されている。すなわち、照明光学系2の液晶パネルPで変調されダイクロイック・プリズムPPによって合成された1次像面の画像情報を、2次像面となるスクリーン上へ拡大投射するようになっている。
<First Embodiment>
FIG. 8 is an optical path diagram illustrating a schematic configuration example of the projection optical system according to the first embodiment. In the illustrated example, the optical path at the reference projection distance is shown.
As illustrated, the projection optical system 3 includes a first optical system L1 having a positive refractive power and a second optical system L2 having a concave reflecting surface. Here, the refractive power refers to the degree of refraction of an optical system (targeted to rotate about an axis) such as a lens.
The first optical system L1 has a common optical axis having a rotationally symmetric surface for all optical components constituting the first optical system L1.
The second optical system L2 is formed of a rotationally symmetric aspherical surface and has the same optical axis as that of the first optical system L1.
And by having such 1st optical system L1 and 2nd optical system L2, the projection optical system 3 is comprised so that expansion projection may be carried out from the primary image surface of a reduction side to the secondary image surface of an expansion side. ing. That is, the image information of the primary image plane modulated by the liquid crystal panel P of the illumination optical system 2 and synthesized by the dichroic prism PP is enlarged and projected onto the screen that becomes the secondary image plane.

このような構成の投射光学系3において、第1光学系L1は、1次像面の側から、正の屈折力を持つ第11光学系L11と、負の屈折力を持つ第12光学系L12と、が配されて構成されている。そして、当該第1光学系L1から出射された光束は、第2光学系L2との間に中間像IMを一旦結像させた後、当該第2光学系L2に入射するようになっている。
なお、図中に示すM1、M2、M3には、それぞれ第1平面反射面、第2平面反射面および第3平面反射面が配置されることとなるが、この図においては便宜上ダミー面としている。
In the projection optical system 3 having such a configuration, the first optical system L1 includes an eleventh optical system L11 having a positive refractive power and a twelfth optical system L12 having a negative refractive power from the primary image plane side. And are arranged. The light beam emitted from the first optical system L1 once forms an intermediate image IM with the second optical system L2, and then enters the second optical system L2.
In addition, in M1, M2, and M3 shown in the figure, a first plane reflection surface, a second plane reflection surface, and a third plane reflection surface are arranged, respectively, but in this figure, they are dummy surfaces for convenience. .

図9は、第1の実施の形態における投射光学系の要部構成例を示す説明図である。図例では、近距離投射時における第1光学系L1のレンズ断面を示している。
図例のように、第1光学系L1は、画面シフト機能SF、変倍機能MFおよびフローティング機能FFとしての機能を有している。なお、図中に示すSは、絞りを表している。
FIG. 9 is an explanatory diagram illustrating a configuration example of a main part of the projection optical system according to the first embodiment. In the illustrated example, a lens cross section of the first optical system L1 at the time of short-distance projection is shown.
As shown in the figure, the first optical system L1 has functions as a screen shift function SF, a magnification function MF, and a floating function FF. In addition, S shown in the figure represents an aperture stop.

画面シフト機能SFは、2次像面となるスクリーン上における結像位置を移動させる機能である。この画面シフト機能SFを実現するために、第1光学系L1では、当該第1光学系L1を構成する一部の光学部品が、当該第1光学系L1の光軸と略垂直方向へ移動するように構成されている。さらに詳しくは、第1光学系L1を構成する一部の光学部品に相当する第11光学系L11が、光軸と略垂直方向へ移動する。
第11光学系L11を移動させるための機構は、特に限定されるものではなく、公知技術を利用して実現したものであればよい。
The screen shift function SF is a function for moving the image formation position on the screen that becomes the secondary image plane. In order to realize the screen shift function SF, in the first optical system L1, some optical components constituting the first optical system L1 move in a direction substantially perpendicular to the optical axis of the first optical system L1. It is configured as follows. More specifically, the eleventh optical system L11 corresponding to some optical components constituting the first optical system L1 moves in a direction substantially perpendicular to the optical axis.
The mechanism for moving the eleventh optical system L11 is not particularly limited as long as it is realized using a known technique.

このように、第1光学系L1を構成する一部の光学部品(具体的には、第11光学系L11。)を光軸に対して略垂直に移動させることで、2次像面の結像位置を移動させる画面シフト機能SFを第1光学系L1に持たせることができる。
略垂直への移動に際しては、画面シフトが可能で、かつ、偏芯収差の発生が小さければ、いずれの光学部品を移動させてもよい。すなわち、必ずしも第11光学系L11を移動させる必要はなく、第12光学系L12を移動させたり、あるいはこれらを構成する1つの光学部品を移動させてもよく、所望の移動量やコスト面から最適な移動群を選択すればよい。
つまり、第1光学系L1を構成する光学部品の全てではなく、その一部のみの移動によって、画面シフト機能SFを実現するのである。したがって、第1光学系L1を構成する光学部品の全てを移動させる場合や画像変調素子Pを移動させる場合等に比べて、移動させる部品点数が少なく、また大きさも小さくて済むので、結果として簡素な構成で画面シフト機能SFを実現することが可能になる。
As described above, by moving some of the optical components constituting the first optical system L1 (specifically, the eleventh optical system L11) substantially perpendicularly to the optical axis, the secondary image plane is connected. The first optical system L1 can have a screen shift function SF for moving the image position.
When moving in a substantially vertical direction, any optical component may be moved as long as the screen can be shifted and the occurrence of decentration aberration is small. That is, it is not always necessary to move the eleventh optical system L11, and the twelfth optical system L12 may be moved, or one optical component constituting these may be moved, which is optimal from the viewpoint of the desired amount of movement and cost. A suitable moving group may be selected.
That is, the screen shift function SF is realized by moving not only all of the optical components constituting the first optical system L1 but also a part thereof. Accordingly, the number of parts to be moved is smaller and the size is smaller than when all the optical parts constituting the first optical system L1 are moved or when the image modulation element P is moved. The screen shift function SF can be realized with a simple configuration.

画面シフト機能SFを実現するために移動させる一部の光学部品(具体的には、第11光学系L11。)については、当該一部の光学部品の屈折力φsと、基準投射時における第1光学系L1の屈折力φ1とが、以下の条件式(1)を満たすことが望ましい。   For some optical components (specifically, the eleventh optical system L11) to be moved to realize the screen shift function SF, the refractive power φs of the some optical components and the first at the time of reference projection. It is desirable that the refractive power φ1 of the optical system L1 satisfies the following conditional expression (1).

0.2<|φs/φ1|<1.2・・・(1)   0.2 <| φs / φ1 | <1.2 (1)

上記の条件式(1)は、画面シフト機能SFを実現する移動群の屈折力を適切に規定したものである。すなわち、条件式(1)に規定する下限に満たない場合には、偏芯収差の発生は小さくなる一方で、同時に画面シフト量も小さくなる。また、条件式(1)に規定する上限を超えた場合には、移動による偏芯収差の発生が大きくなり、光学性能の劣化を招く。   The above conditional expression (1) appropriately defines the refractive power of the moving group that realizes the screen shift function SF. That is, when the lower limit specified in the conditional expression (1) is not reached, the occurrence of decentration aberration is reduced, and the screen shift amount is also reduced at the same time. In addition, when the upper limit specified in the conditional expression (1) is exceeded, the occurrence of decentration aberration due to movement increases, resulting in deterioration of optical performance.

変倍機能MFは、2次像面となるスクリーン上における画像を変倍させる機能である。この変倍機能MFを実現するために、第1光学系L1では、第11光学系L11が複数のレンズ群で構成されるとともに、正の屈折力を持つ少なくとも1つのレンズ群が、当該第1光学系L1の光軸に沿った方向へ移動するように構成されている。なお、図中においては、最も拡大側を「拡」、最も縮小側を「縮」としている。
正の屈折力を持つ少なくとも1つのレンズ群を移動させるための機構は、特に限定されるものではなく、公知技術を利用して実現したものであればよい。
The scaling function MF is a function that scales an image on a screen serving as a secondary image plane. In order to realize the zooming function MF, in the first optical system L1, the eleventh optical system L11 includes a plurality of lens groups, and at least one lens group having a positive refractive power is included in the first optical system L1. It is configured to move in a direction along the optical axis of the optical system L1. In the figure, the most enlarged side is “enlarged” and the most reduced side is “reduced”.
The mechanism for moving at least one lens group having a positive refractive power is not particularly limited as long as it is realized using a known technique.

このように、第11光学系L11における複数のレンズ群のうち、正の屈折力を持つ少なくとも1つのレンズ群を光軸に沿った方向へ移動させることで、2次像面の画像を変倍する変倍機能MFを第1光学系L1に持たせることができる。   As described above, by moving at least one lens group having a positive refractive power among the plurality of lens groups in the eleventh optical system L11 in the direction along the optical axis, the image on the secondary image plane is scaled. The first optical system L1 can be provided with a zooming function MF that performs this.

変倍機能MFを実現するために移動させるレンズ群については、最も移動量の大きいレンズ群の屈折力φmと、基準投射時における前記第1光学系の屈折力φ1とが、以下の条件式(1)を満たすことが望ましい。   For the lens group to be moved to realize the zoom function MF, the refractive power φm of the lens group having the largest moving amount and the refractive power φ1 of the first optical system at the time of reference projection are expressed by the following conditional expression ( It is desirable to satisfy 1).

0.2<|φm/φ1|<0.9・・・(2)   0.2 <| φm / φ1 | <0.9 (2)

上記の条件式(2)は、変倍機能MFを実現する移動群の屈折力を適切に規定したものである。すなわち、条件式(2)に規定する下限に満たない場合には、移動量が大きくなる。また、条件式(2)に規定する上限を超えた場合には、像面湾曲等の収差発生量が大きくなり、光学性能の劣化を招く。   The above conditional expression (2) appropriately defines the refractive power of the moving group that realizes the zooming function MF. That is, when the lower limit specified in the conditional expression (2) is not satisfied, the movement amount increases. Further, when the upper limit specified in the conditional expression (2) is exceeded, the amount of aberration such as curvature of field increases, resulting in deterioration of optical performance.

ところで、変倍機能MFをさらに大きい変倍比で構成したい場合は、以下に述べるようにすることが考えられる。すなわち、第11光学系L11を、1次像面の側から、正の屈折力を持つ第11a群、正の屈折力を持つ第11b群、負の屈折力を持つ第11c群、および、正の屈折力を持つ第11d群の4つのレンズ群で構成する。そして、少なくとも第11bおよび第11d群の2つの群を、1次像面側に移動させることで拡大倍率を大きくし、中間像側に移動させることで拡大倍率を小さくする。ここで、第11c群を移動群にすることも、変倍比を大きくする上で有効となる。ここでの変倍比は、最も縮小側の全系の焦点距離を最も拡大側の全系の焦点距離で割ったものとする。   By the way, when it is desired to configure the zooming function MF with a higher zooming ratio, the following may be considered. That is, the eleventh optical system L11 is arranged from the primary image plane side with the 11a group having positive refractive power, the 11b group having positive refractive power, the 11c group having negative refractive power, and the positive It consists of four lens groups of the 11d group having refracting power. Then, at least two of the 11b and 11d groups are moved to the primary image plane side to increase the enlargement magnification, and are moved to the intermediate image side to reduce the enlargement magnification. Here, making the 11c group a moving group is also effective in increasing the zoom ratio. Here, the zoom ratio is obtained by dividing the focal length of the entire system on the most reduction side by the focal length of the entire system on the most enlargement side.

フローティング機能FFは、近距離投射時から遠距離投射時の合焦時において、結像性能および画歪等の光学性能を補正するための機能である。このフローティング機能FFを実現するために、第1光学系L1では、第12光学系L12が、第12a群L12aと、第12b群L12bとを含んでいる。第12a群L12aは、1次像面に最も近い面が凸面で形成され全体で負の屈折力を持つ。一方、第12b群L12bは、中間像側に凸面を持つ正メニスカスレンズで構成される。そして、第12a群L12aおよび第12b群L12bを含む第12光学系L12は、近距離投射時から遠距離投射時への合焦の際に、第12b群L12bが中間像側から1次像面側に光軸上を移動するように構成されている。なお、図中において、「近」とあるのは近距離投射時の移動方向、「遠」とあるのは遠距離投射時の移動方向である。
第12b群L12bを移動させるための機構は、特に限定されるものではなく、公知技術を利用して実現したものであればよい。
The floating function FF is a function for correcting optical performance such as image formation performance and image distortion during focusing from short distance projection to long distance projection. In order to realize this floating function FF, in the first optical system L1, the twelfth optical system L12 includes a twelfth group L12a and a twelfth group L12b. The twelfth group L12a has a negative refracting power as a whole because the surface closest to the primary image surface is formed as a convex surface. On the other hand, the twelfth group L12b is composed of a positive meniscus lens having a convex surface on the intermediate image side. The twelfth optical system L12 including the twelfth lens group L12a and the twelfth lens group L12b is configured such that the twelfth lens group L12b is the primary image plane from the intermediate image side during focusing from short distance projection to long distance projection. It is configured to move on the optical axis to the side. In the figure, “near” is the moving direction during short-distance projection, and “far” is the moving direction during long-distance projection.
The mechanism for moving the 12th group L12b is not particularly limited as long as it is realized using a known technique.

第12光学系L12を透過する光束は、絞りS近辺と違い、1次像面上の任意の各光束を分離しやすい。したがって、その光束について、近距離投射時から遠距離投射時への合焦の際に、光線角度をわずかに変化させることで、像面湾曲と歪曲の光学性能の補正を行うフローティング機能FFが実現可能となるのである。
具体的には、上述したように、全体で負の屈折力を持つ第12光学系L12の内部に、第12a群L12aおよび第12b群L12bを含むようにする。そして、近距離投射時から遠距離投射時への合焦の際、正メニスカスレンズで構成される第12b群L12bを、1次像面側に配置される第12a群L12aに近づける。これにより、光学性能を劣化させることなく、第12光学系L12の中間像側の主点位置を第2光学系L2に近づけるこができるため、遠距離投射時の合焦が可能となるのである。
Unlike the vicinity of the stop S, the light beam transmitted through the twelfth optical system L12 can easily separate any light beam on the primary image plane. Therefore, a floating function FF that corrects the optical performance of field curvature and distortion is realized by slightly changing the light beam angle when focusing from short distance projection to long distance projection. It becomes possible.
Specifically, as described above, the twelfth optical system L12 having negative refractive power as a whole includes the twelfth group L12a and the twelfth group L12b. Then, at the time of focusing from the short distance projection to the long distance projection, the 12th group L12b composed of the positive meniscus lens is brought closer to the 12th group L12a arranged on the primary image plane side. As a result, the principal point position on the intermediate image side of the twelfth optical system L12 can be brought closer to the second optical system L2 without degrading the optical performance, and thus focusing during long distance projection becomes possible. .

フローティング機能FFを実現するための第12a群L12aおよび第12b群L12bについては、以下の条件式(3)および(4)を満たすことが望ましい。すなわち、第12a群L12aの屈折力φ12aと、第12b群L12bの屈折力φ12aと、基準投射時における第12光学系L12の屈折力φ12とが、以下の条件式(3)および(4)を満たすようにする。   Regarding the 12th group L12a and the 12th group L12b for realizing the floating function FF, it is desirable to satisfy the following conditional expressions (3) and (4). That is, the refractive power φ12a of the twelfth group L12a, the refractive power φ12a of the twelfth group L12b, and the refractive power φ12 of the twelfth optical system L12 at the time of standard projection satisfy the following conditional expressions (3) and (4). Try to meet.

0.2<|φ12b/φ12|<3.0・・・(3)
0.2<|φ12b/φ12a|<1.0・・・(4)
0.2 <| φ12b / φ12 | <3.0 (3)
0.2 <| φ12b / φ12a | <1.0 (4)

上記の条件式(3)および(4)は、フローティング機能FFを実現する第12a群L12aおよび第12b群L12bの屈折力を適切に規定したものである。
すなわち、条件式(3)に規定する下限に満たない場合には、フローティング時の移動量が大きくなり大型化を招く。一方、条件式(3)に規定する上限を超えた場合には、移動量が小さくなる反面、正メニスカスレンズの屈折力が大きくなるため、光線角度の変化が大きくなり、光学性能の劣化が急激に発生する。
また、条件式(4)に規定する下限に満たない場合には、長い投射距離範囲でフローティングができない。一方、条件式(4)に規定する上限を超えた場合には、第12a群L12aによる光線角度の変化が大きくなるため、光学性能が急激に劣化する。
The above conditional expressions (3) and (4) appropriately define the refractive powers of the 12a group L12a and the 12b group L12b that realize the floating function FF.
That is, when the lower limit specified in the conditional expression (3) is not satisfied, the amount of movement at the time of floating increases, resulting in an increase in size. On the other hand, when the upper limit specified in the conditional expression (3) is exceeded, the amount of movement decreases, but the refractive power of the positive meniscus lens increases, so that the change in the ray angle increases and the optical performance deteriorates rapidly. Occurs.
Further, when the lower limit specified in the conditional expression (4) is not satisfied, the floating cannot be performed in a long projection distance range. On the other hand, when the upper limit specified in the conditional expression (4) is exceeded, the change in the light beam angle by the 12th group L12a becomes large, and the optical performance deteriorates rapidly.

さらに、フローティング機能FFを実現するための第12a群L12aおよび第12b群L12bについては、以下の条件式(5)を満たすことが望ましい。すなわち、第12a群L12aのフローティング時の移動量M12aと、第12b群L12bのフローティング時の移動量M12bとが、以下の条件式(5)を満たすようにする。   Furthermore, it is desirable that the following conditional expression (5) is satisfied for the 12a group L12a and the 12b group L12b for realizing the floating function FF. That is, the movement amount M12a when the 12a group L12a is floating and the movement amount M12b when the 12b group L12b is floating satisfy the following conditional expression (5).

1.5<M12b/M12a<7.0・・・(5)   1.5 <M12b / M12a <7.0 (5)

上記の条件式(5)は、フローティング機能FFを実現する第12a群L12aおよび第12b群L12bの移動量比を適切に規定したものである。すなわち、条件式(5)に規定する下限に満たない場合には、長い投射距離範囲でフローティングができない。また、条件式(5)に規定する上限を超えた場合には、第12a群L12aによる光線角度の変化が大きくなるため、光学性能が急激に劣化する。換言すると、条件式(5)を満たせば、長い投射距離範囲で光学性能の補正をすることが可能になる。   The above conditional expression (5) appropriately defines the movement amount ratio of the 12a group L12a and the 12b group L12b for realizing the floating function FF. That is, when the lower limit specified in the conditional expression (5) is not satisfied, floating cannot be performed in a long projection distance range. Further, when the upper limit specified in the conditional expression (5) is exceeded, the change in the light beam angle by the 12th group L12a becomes large, and the optical performance deteriorates rapidly. In other words, if the conditional expression (5) is satisfied, the optical performance can be corrected in a long projection distance range.

以上のように構成された第1光学系L1に対して、当該第1光学系L1よりも2次像面側に配された第2光学系L2は、既に説明したように、回転対称非球面で構成され、第1光学系L1と共通の前記光軸を持つ。換言すると、第2光学系L2を構成する凹面反射面は、第1光学系L1と共通の光軸を持つ回転対称非球面の形状を持つ。したがって、このような第2光学系L2を配することで、面湾曲および歪曲を適切に補正することができる。   With respect to the first optical system L1 configured as described above, the second optical system L2 disposed on the secondary image plane side with respect to the first optical system L1 has a rotationally symmetric aspherical surface as described above. And has the same optical axis as that of the first optical system L1. In other words, the concave reflecting surface constituting the second optical system L2 has a rotationally symmetric aspherical shape having an optical axis common to the first optical system L1. Therefore, by arranging such a second optical system L2, it is possible to appropriately correct surface curvature and distortion.

また、以上のように構成された投射光学系3については、当該投射光学系3を構成する最も大きい曲面反射面の最大有効径DMと、1次像面の最大高さDyとが、以下の条件式(6)を満たしているものとする。   For the projection optical system 3 configured as described above, the maximum effective diameter DM of the largest curved reflecting surface constituting the projection optical system 3 and the maximum height Dy of the primary image plane are as follows. It is assumed that conditional expression (6) is satisfied.

3<DM/Dy<30・・・(6)   3 <DM / Dy <30 (6)

上記の条件式(6)は、投射光学系3における最大曲面反射面と1次像面との高さ方向の大きさ比を適切に規定したものである。すなわち、条件式(6)に規定する下限に満たない場合には、機構含めて光学系全体をシフトさせる画面シフト機能(例えば、図☆参照。)で十分対応可能なため、上述した構成の画面シフト機能SFの必要性が乏しい。また、条件式(6)に規定する上限を超えた場合には、投射光学系全体が大型化し、コストアップを招くおそれがある。
なお、ここでは、投射光学系3を構成する各光学系が凹面反射面を持ち共通の光軸を持つ場合を例に挙げているが、条件式(6)を満たす光学系であれば、どのような光学系にも応用が可能となる。すなわち、縮小側の1次像面から拡大側の2次像面へ拡大投射する投射光学系であれば、以下のような光学系に適用することも考えられる。具体的には、2次像面に最も近くかつ曲面で構成される光学部品が反射面で構成される光学系において、投射光学系を構成する1部の光学部品が1次像面に対し略平行に偏芯することで、2次像面を画面シフトさせる機能を持つようにする。さらには、投射光学系を構成する1部の光学部品が1次像面に対し略垂直に移動することで、2次像面の画像を変倍する変倍機能を持つようにする。このような構成の投射光学系であっても、条件式(6)を満たすものであれば、1部の光学部品のみの移動により、小型で安価な構成による画面シフト機能および変倍機能を実現し得るようになる。
The above conditional expression (6) appropriately defines the size ratio in the height direction between the maximum curved reflection surface and the primary image surface in the projection optical system 3. That is, when the lower limit specified in the conditional expression (6) is not satisfied, the screen shift function (for example, see the figure ☆) that shifts the entire optical system including the mechanism can sufficiently cope. There is little need for the shift function SF. Moreover, when the upper limit prescribed | regulated to conditional expression (6) is exceeded, there exists a possibility that the whole projection optical system may enlarge, and it may raise a cost.
Here, the case where each optical system constituting the projection optical system 3 has a concave reflecting surface and a common optical axis is taken as an example, but any optical system satisfying conditional expression (6) can be used. Such an optical system can be applied. That is, if it is a projection optical system that performs enlarged projection from the primary image surface on the reduction side to the secondary image surface on the enlargement side, it can be applied to the following optical system. Specifically, in an optical system in which an optical component that is closest to the secondary image plane and is configured by a curved surface is configured by a reflection surface, one part of the optical component that constitutes the projection optical system is approximately By decentering in parallel, the secondary image plane has a function of shifting the screen. Further, a part of the optical components constituting the projection optical system moves substantially perpendicularly to the primary image plane so as to have a scaling function for scaling the image on the secondary image plane. Even if the projection optical system has such a configuration, as long as conditional expression (6) is satisfied, only a single optical component can be moved to realize a screen shift function and a zoom function with a small and inexpensive configuration. You can get it.

ここで、以上のように構成された投射光学系3について、具体的な数値例を挙げて、以下にその簡単な説明を行う。   Here, the projection optical system 3 configured as described above will be briefly described below with specific numerical examples.

図10は、第1の実施の形態における投射光学系による横収差図である。図中において、一目盛りは1ドットサイズをスクリーン上に拡大投射した時の1ドットサイズとなる。実線は546.1nm、点線は620nm、1点鎖線は460nmとなる。なお、ここで示す横収差図は、y方向に移動させたときの横収差図であるが、もちろん移動方向はy方向に限らず、光軸に垂直であればどの方向でもよい。   FIG. 10 is a lateral aberration diagram by the projection optical system in the first embodiment. In the figure, one scale is one dot size when one dot size is enlarged and projected on the screen. The solid line is 546.1 nm, the dotted line is 620 nm, and the dashed line is 460 nm. The lateral aberration diagram shown here is a lateral aberration diagram when moved in the y direction. Of course, the moving direction is not limited to the y direction, and may be any direction as long as it is perpendicular to the optical axis.

図11は、第1の実施の形態における投射光学系のレンズデータの具体例の説明図である。図中において、*印は非球面を有する面であり、下記の(7)式に従う。また、○印は、ダミー面であるが、それぞれ第1,2平面反射面を配置する。rは曲率半径、dは間隔およびレンズの芯厚、ndは、d線(587.56nm)での屈折率、νdは同様にd線でのアッベ数である。また{印で纏められたレンズ群はフローティング機能FF、変倍機能MFおよび画面シフト機能SFに関係するレンズ群である。また、diはフローティング機能FFおよび変倍機能MFを実現する際に変動するレンズ間隔である。   FIG. 11 is an explanatory diagram of a specific example of lens data of the projection optical system according to the first embodiment. In the figure, * indicates a surface having an aspherical surface, and follows the following equation (7). In addition, the circles are dummy surfaces, and the first and second flat reflecting surfaces are arranged respectively. r is the radius of curvature, d is the distance and the core thickness of the lens, nd is the refractive index at the d line (587.56 nm), and νd is the Abbe number at the d line. Further, the lens group grouped by {is a lens group related to the floating function FF, the zoom function MF, and the screen shift function SF. Further, di is a lens interval that varies when the floating function FF and the magnification function MF are realized.

Figure 2010122574
Figure 2010122574

図12は、第1の実施の形態における投射光学系の1次像面側の開口数NA、基準投射距離時の最大半画角ω、最大の1次像面高さyの具体例を示す説明図である。   FIG. 12 shows a specific example of the numerical aperture NA on the primary image plane side, the maximum half angle of view ω at the reference projection distance, and the maximum primary image plane height y in the first embodiment. It is explanatory drawing.

図13(a)は、第1の実施の形態における投射光学系において、画面シフト機能SFを有するレンズ群と移動量の具体例を示す説明図である。
図13(b)および(c)は、第1の実施の形態における投射光学系において、フローティング機能FFと変倍機能MFに関するレンズ間隔の具体例を示す説明図である。図中における数値は図11におけるdiに対応する。ここで、flは、それぞれの焦点距離、βは拡大倍率である。
FIG. 13A is an explanatory diagram illustrating a specific example of a lens group having the screen shift function SF and a movement amount in the projection optical system according to the first embodiment.
FIGS. 13B and 13C are explanatory diagrams showing specific examples of lens intervals related to the floating function FF and the magnification function MF in the projection optical system according to the first embodiment. The numerical values in the figure correspond to di in FIG. Here, fl is the focal length, and β is the magnification.

図14は、第1の実施の形態における投射光学系に対応する非球面係数の具体例を説明図である。図例の非球面係数は、上記(7)式に対応したものである。   FIG. 14 is an explanatory diagram of a specific example of an aspheric coefficient corresponding to the projection optical system according to the first embodiment. The aspheric coefficient in the example corresponds to the above equation (7).

図15は、第1の実施の形態における画像変調素子の具体例を示す説明図である。上述した図10の横収差における1ドットサイズとは、ここに記すサイズを示したものである。   FIG. 15 is an explanatory diagram illustrating a specific example of the image modulation element according to the first embodiment. The one dot size in the lateral aberration of FIG. 10 described above indicates the size described here.

図16は、第1の実施の形態における投射光学系を用いて、図15に示した画像変調素子を2次像面上に拡大投射したときのTV歪曲の状態を示した説明図である。
図17は、第1の実施の形態における投射光学系を用いて、図15に示した画像変調素子を2次像面上に拡大投射した時の、対角サイズ、画歪等の変化量の具体例を示す説明図である。
図18は、図17に示した変化量等を求める際に基にした計算式の具体例を示す説明図である。
FIG. 16 is an explanatory diagram showing a TV distortion state when the image modulation element shown in FIG. 15 is enlarged and projected onto the secondary image plane using the projection optical system according to the first embodiment.
FIG. 17 shows the amount of change in diagonal size, image distortion, and the like when the image modulation element shown in FIG. 15 is enlarged and projected onto the secondary image plane using the projection optical system in the first embodiment. It is explanatory drawing which shows a specific example.
FIG. 18 is an explanatory diagram showing a specific example of a calculation formula based on obtaining the change amount and the like shown in FIG.

図19は、第1の実施の形態における投射光学系での条件式(1)〜(6)の具体的な数値の一例を示す説明図である。   FIG. 19 is an explanatory diagram illustrating an example of specific numerical values of the conditional expressions (1) to (6) in the projection optical system according to the first embodiment.

以上のような具体的な数値例によって特定される投射光学系3によれば、画面シフト機能SFとして、第1光学系L1の一部である第11光学系L11の全体を、光軸と±0.4mm垂直に移動させることで、約±5%程度の画面シフトを可能とする。また、変倍機能MFとして、第11光学系L11を構成する1つの群を光軸上に移動させることで、±0.35%程度の拡大倍率を変化させる。また、第12光学系L12を構成する第12a群L12aおよび第12b群L12bを、近距離投射時48.5″から遠距離投射時135″への合焦の際、中間像側から1次像面側に移動させるフローティング機能FFを持つ。   According to the projection optical system 3 specified by the specific numerical examples as described above, as the screen shift function SF, the entire eleventh optical system L11 which is a part of the first optical system L1 is replaced with the optical axis. Moving the screen vertically by 0.4 mm enables a screen shift of about ± 5%. Further, as the magnification changing function MF, by moving one group constituting the eleventh optical system L11 on the optical axis, an enlargement magnification of about ± 0.35% is changed. In addition, when the 12a group L12a and the 12b group L12b constituting the twelfth optical system L12 are focused from the short distance projection 48.5 "to the long distance projection 135", the primary image from the intermediate image side. Has a floating function FF that moves to the surface side.

<第2の実施の形態>
図20は、第2の実施の形態における投射光学系の概略構成例を示す説明図である。図例では、基準投射距離時の光路を示している。
また、図21は、第2の実施の形態における投射光学系の要部構成例を示す説明図である。図例では、近距離投射時における第1光学系L1のレンズ断面を示している。
図例のように、第2の実施の形態における投射光学系3は、画面シフト機能SFを実現するために移動させる光学部品が、上述した第1の実施の形態の場合とは異なる。すなわち、第11光学系L11の全体ではなく、当該第11光学系L11を構成する一部の光学部品を移動させることで、画面シフト機能SFを実現するようになっている。
また、第2の実施の形態における投射光学系3は、変倍機能MFを実現するために移動させる光学部品についても、上述した第1の実施の形態の場合とは異なる。
なお、それ以外の構成については、上述した第1の実施の形態の場合と同様であるため、ここではその説明を省略する。
<Second Embodiment>
FIG. 20 is an explanatory diagram illustrating a schematic configuration example of the projection optical system according to the second embodiment. In the illustrated example, the optical path at the reference projection distance is shown.
FIG. 21 is an explanatory diagram showing a configuration example of a main part of the projection optical system according to the second embodiment. In the illustrated example, a lens cross section of the first optical system L1 at the time of short-distance projection is shown.
As illustrated, the projection optical system 3 according to the second embodiment is different from the first embodiment described above in terms of the optical components that are moved to realize the screen shift function SF. In other words, the screen shift function SF is realized by moving some of the optical components constituting the eleventh optical system L11, not the entire eleventh optical system L11.
Further, the projection optical system 3 in the second embodiment is also different from that in the first embodiment described above with respect to the optical component that is moved to realize the zooming function MF.
Since the other configuration is the same as that of the first embodiment described above, the description thereof is omitted here.

ここで、第2の実施の形態における投射光学系3について、具体的な数値例を挙げて、以下にその簡単な説明を行う。   Here, the projection optical system 3 in the second embodiment will be briefly described below by giving specific numerical examples.

図22は、第2の実施の形態における投射光学系による横収差図である。図中において、一目盛りは1ドットサイズをスクリーン上に拡大投射した時の1ドットサイズとなる。実線は546.1nm、点線は620nm、1点鎖線は460nmとなる。なお、ここで示す横収差図は、y方向に移動させたときの横収差図であるが、もちろん移動方向はy方向に限らず、光軸に垂直であればどの方向でもよい。   FIG. 22 is a lateral aberration diagram of the projection optical system in the second embodiment. In the figure, one scale is one dot size when one dot size is enlarged and projected on the screen. The solid line is 546.1 nm, the dotted line is 620 nm, and the dashed line is 460 nm. The lateral aberration diagram shown here is a lateral aberration diagram when moved in the y direction. Of course, the moving direction is not limited to the y direction, and may be any direction as long as it is perpendicular to the optical axis.

図23は、第2の実施の形態における投射光学系のレンズデータの具体例の説明図である。図中において、*印は非球面を有する面であり、上記の(7)式に従う。また、○印は、ダミー面であるが、それぞれ第1,2平面反射面を配置する。rは曲率半径、dは間隔およびレンズの芯厚、ndは、d線(587.56nm)での屈折率、νdは同様にd線でのアッベ数である。また{印で纏められたレンズ群はフローティング機能FF、変倍機能MFおよび画面シフト機能SFに関係するレンズ群である。また、diはフローティング機能FFおよび変倍機能MFを実現する際に変動するレンズ間隔である。   FIG. 23 is an explanatory diagram of a specific example of lens data of the projection optical system according to the second embodiment. In the figure, * indicates a surface having an aspherical surface, and follows the above equation (7). In addition, the circles are dummy surfaces, and the first and second flat reflecting surfaces are arranged respectively. r is the radius of curvature, d is the distance and the core thickness of the lens, nd is the refractive index at the d line (587.56 nm), and νd is the Abbe number at the d line. Further, the lens group grouped by {is a lens group related to the floating function FF, the zoom function MF, and the screen shift function SF. Further, di is a lens interval that varies when the floating function FF and the magnification function MF are realized.

図24は、第2の実施の形態における投射光学系の1次像面側の開口数NA、基準投射距離時の最大半画角ω、最大の1次像面高さyの具体例を示す説明図である。   FIG. 24 shows a specific example of the numerical aperture NA on the primary image plane side, the maximum half angle of view ω at the reference projection distance, and the maximum primary image plane height y in the second embodiment. It is explanatory drawing.

図25(a)は、第2の実施の形態における投射光学系において、画面シフト機能SFを有するレンズ群と移動量の具体例を示す説明図である。
図25(b)および(c)は、第2の実施の形態における投射光学系において、フローティング機能FFと変倍機能MFに関するレンズ間隔の具体例を示す説明図である。図中における数値は図23におけるdiに対応する。ここで、flは、それぞれの焦点距離、βは拡大倍率である。
FIG. 25A is an explanatory diagram illustrating a specific example of a lens group having a screen shift function SF and a movement amount in the projection optical system according to the second embodiment.
FIGS. 25B and 25C are explanatory diagrams illustrating specific examples of lens intervals related to the floating function FF and the zoom function MF in the projection optical system according to the second embodiment. The numerical values in the figure correspond to di in FIG. Here, fl is the focal length, and β is the magnification.

図26は、第2の実施の形態における投射光学系に対応する非球面係数の具体例を説明図である。図例の非球面係数は、上記(7)式に対応したものである。   FIG. 26 is an explanatory diagram of a specific example of an aspheric coefficient corresponding to the projection optical system according to the second embodiment. The aspheric coefficient in the example corresponds to the above equation (7).

図27は、第2の実施の形態における画像変調素子の具体例を示す説明図である。上述した図22の横収差における1ドットサイズとは、ここに記すサイズを示したものである。   FIG. 27 is an explanatory diagram illustrating a specific example of an image modulation element according to the second embodiment. The one-dot size in the lateral aberration of FIG. 22 described above indicates the size described here.

図28は、第2の実施の形態における投射光学系を用いて、図27に示した画像変調素子を2次像面上に拡大投射したときのTV歪曲の状態を示した説明図である。
図29は、第2の実施の形態における投射光学系を用いて、図27に示した画像変調素子を2次像面上に拡大投射した時の、対角サイズ、画歪等の変化量の具体例を示す説明図である。なお、図例の変化量等を求める際には、図18に示した計算式を基にしている。
FIG. 28 is an explanatory diagram showing a TV distortion state when the image modulation element shown in FIG. 27 is enlarged and projected onto the secondary image plane using the projection optical system according to the second embodiment.
FIG. 29 shows the amount of change in diagonal size, image distortion, and the like when the image modulation element shown in FIG. 27 is enlarged and projected onto the secondary image plane using the projection optical system in the second embodiment. It is explanatory drawing which shows a specific example. Note that the amount of change in the example shown in FIG. 18 is based on the calculation formula shown in FIG.

図30は、第2の実施の形態における投射光学系での条件式(1)〜(6)の具体的な数値の一例を示す説明図である。   FIG. 30 is an explanatory diagram illustrating an example of specific numerical values of the conditional expressions (1) to (6) in the projection optical system according to the second embodiment.

以上のような具体的な数値例によって特定される投射光学系3によれば、画面シフト機能SFとして、第1光学系L1の一部である第11光学系L11の1つのレンズを、光軸と±0.1mm垂直に移動させることで、約±0.7%程度の画面シフトを可能とする。また、変倍機能MFとして、画面シフト機能SFの場合と同じレンズを光軸上に移動させることで、±0.4%程度の拡大倍率を変化させる。また、第12光学系L12を構成する第12b群L12bを、近距離投射時55″から遠距離投射時100″への合焦の際、中間像側から1次像面側に移動させるフローティング機能FFを持つ。   According to the projection optical system 3 specified by the specific numerical examples as described above, as the screen shift function SF, one lens of the eleventh optical system L11 that is a part of the first optical system L1 is connected to the optical axis. And ± 0.1 mm vertical movement enables a screen shift of about ± 0.7%. Also, as the magnification function MF, the same lens as in the case of the screen shift function SF is moved on the optical axis, thereby changing the enlargement magnification of about ± 0.4%. Further, the floating function of moving the 12th group L12b constituting the twelfth optical system L12 from the intermediate image side to the primary image plane side when focusing from 55 ″ during short distance projection to 100 ″ during long distance projection. Has FF.

<第3の実施の形態>
図31は、第3の実施の形態における投射光学系の概略構成例を示す説明図である。図例では、基準投射距離時の光路を示している。
また、図32は、第3の実施の形態における投射光学系の要部構成例を示す説明図である。図例では、近距離投射時における第1光学系L1のレンズ断面を示している。
図例のように、第3の実施の形態における投射光学系3は、上述した第1の実施の形態の場合と同様に、第11光学系L11の全体を移動させることで、画面シフト機能SFを実現する。
ただし、変倍機能MFについては、上述した第1の実施の形態の場合とは異なり、第11光学系L11を構成する2つの群を光軸上に移動させることで、実現するようになっている。
なお、それ以外の構成については、上述した第1の実施の形態の場合と同様であるため、ここではその説明を省略する。
<Third Embodiment>
FIG. 31 is an explanatory diagram illustrating a schematic configuration example of the projection optical system according to the third embodiment. In the illustrated example, the optical path at the reference projection distance is shown.
FIG. 32 is an explanatory diagram showing a configuration example of a main part of the projection optical system according to the third embodiment. In the illustrated example, a lens cross section of the first optical system L1 at the time of short-distance projection is shown.
As shown in the figure, the projection optical system 3 in the third embodiment moves the entire eleventh optical system L11 in the same manner as in the first embodiment described above, thereby moving the screen shift function SF. To realize.
However, unlike the case of the first embodiment described above, the zooming function MF is realized by moving the two groups constituting the eleventh optical system L11 on the optical axis. Yes.
Since the other configuration is the same as that of the first embodiment described above, the description thereof is omitted here.

ここで、第3の実施の形態における投射光学系3について、具体的な数値例を挙げて、以下にその簡単な説明を行う。   Here, the projection optical system 3 in the third embodiment will be briefly described below by giving specific numerical examples.

図33は、第3の実施の形態における投射光学系による横収差図である。図中において、一目盛りは1ドットサイズをスクリーン上に拡大投射した時の1ドットサイズとなる。実線は546.1nm、点線は620nm、1点鎖線は460nmとなる。なお、ここで示す横収差図は、y方向に移動させたときの横収差図であるが、もちろん移動方向はy方向に限らず、光軸に垂直であればどの方向でもよい。   FIG. 33 is a lateral aberration diagram of the projection optical system in the third embodiment. In the figure, one scale is one dot size when one dot size is enlarged and projected on the screen. The solid line is 546.1 nm, the dotted line is 620 nm, and the dashed line is 460 nm. The lateral aberration diagram shown here is a lateral aberration diagram when moved in the y direction. Of course, the moving direction is not limited to the y direction, and may be any direction as long as it is perpendicular to the optical axis.

図34は、第3の実施の形態における投射光学系のレンズデータの具体例の説明図である。図中において、*印は非球面を有する面であり、上記の(7)式に従う。rは曲率半径、dは間隔およびレンズの芯厚、ndは、d線(587.56nm)での屈折率、νdは同様にd線でのアッベ数である。また{印で纏められたレンズ群はフローティング機能FF、変倍機能MFおよび画面シフト機能SFに関係するレンズ群である。また、diはフローティング機能FFおよび変倍機能MFを実現する際に変動するレンズ間隔である。   FIG. 34 is an explanatory diagram of a specific example of lens data of the projection optical system according to the third embodiment. In the figure, * indicates a surface having an aspherical surface, and follows the above equation (7). r is the radius of curvature, d is the distance and the core thickness of the lens, nd is the refractive index at the d line (587.56 nm), and νd is the Abbe number at the d line. Further, the lens group grouped by {is a lens group related to the floating function FF, the zoom function MF, and the screen shift function SF. Further, di is a lens interval that varies when the floating function FF and the magnification function MF are realized.

図35は、第3の実施の形態における投射光学系の1次像面側の開口数NA、基準投射距離時の最大半画角ω、最大の1次像面高さyの具体例を示す説明図である。   FIG. 35 shows a specific example of the numerical aperture NA on the primary image plane side, the maximum half field angle ω at the reference projection distance, and the maximum primary image plane height y in the third embodiment. It is explanatory drawing.

図36(a)は、第3の実施の形態における投射光学系において、画面シフト機能SFを有するレンズ群と移動量の具体例を示す説明図である。
図36(b)および(c)は、第3の実施の形態における投射光学系において、フローティング機能FFと変倍機能MFに関するレンズ間隔の具体例を示す説明図である。図中における数値は図34におけるdiに対応する。ここで、flは、それぞれの焦点距離、βは拡大倍率である。
FIG. 36A is an explanatory diagram illustrating a specific example of a lens group having the screen shift function SF and a movement amount in the projection optical system according to the third embodiment.
FIGS. 36B and 36C are explanatory views showing specific examples of lens intervals related to the floating function FF and the variable magnification function MF in the projection optical system according to the third embodiment. The numerical value in the figure corresponds to di in FIG. Here, fl is the focal length, and β is the magnification.

図37は、第3の実施の形態における投射光学系に対応する非球面係数の具体例を説明図である。図例の非球面係数は、上記(7)式に対応したものである。   FIG. 37 is an explanatory diagram of a specific example of an aspheric coefficient corresponding to the projection optical system according to the third embodiment. The aspheric coefficient in the example corresponds to the above equation (7).

図38は、第3の実施の形態における画像変調素子の具体例を示す説明図である。上述した図33の横収差における1ドットサイズとは、ここに記すサイズを示したものである。   FIG. 38 is an explanatory diagram illustrating a specific example of an image modulation element according to the third embodiment. The one dot size in the lateral aberration of FIG. 33 described above indicates the size described here.

図39は、第3の実施の形態における投射光学系を用いて、図38に示した画像変調素子を2次像面上に拡大投射したときのTV歪曲の状態を示した説明図である。
図40は、第3の実施の形態における投射光学系を用いて、図38に示した画像変調素子を2次像面上に拡大投射した時の、対角サイズ、画歪等の変化量の具体例を示す説明図である。なお、図例の変化量等を求める際には、図18に示した計算式を基にしている。
FIG. 39 is an explanatory diagram showing a TV distortion state when the image modulation element shown in FIG. 38 is enlarged and projected onto the secondary image plane using the projection optical system according to the third embodiment.
FIG. 40 shows the amount of change in diagonal size, image distortion, and the like when the image modulation element shown in FIG. 38 is enlarged and projected onto the secondary image plane using the projection optical system in the third embodiment. It is explanatory drawing which shows a specific example. Note that the amount of change in the example shown in FIG. 18 is based on the calculation formula shown in FIG.

図41は、第3の実施の形態における投射光学系での条件式(1)〜(6)の具体的な数値の一例を示す説明図である。   FIG. 41 is an explanatory diagram showing an example of specific numerical values of the conditional expressions (1) to (6) in the projection optical system according to the third embodiment.

以上のような具体的な数値例によって特定される投射光学系3によれば、画面シフト機能SFとして、第1光学系L1の一部である第11光学系L11の全体を、光軸と±0.15mm垂直に移動させることで、約±2%程度の画面シフトを可能とする。また、変倍機能MFとして、第11光学系L11を構成する2つの群を光軸上に移動させることで、±0.7%程度の拡大倍率を変化させる。また、第12光学系L12を構成する第12a群L12aおよび第12b群L12bを、近距離投射時50″から遠距離投射時100″への合焦の際、中間像側から1次像面側に移動させるフローティング機能FFを持つ。   According to the projection optical system 3 specified by the specific numerical examples as described above, as the screen shift function SF, the entire eleventh optical system L11 which is a part of the first optical system L1 is replaced with the optical axis. By moving 0.15 mm vertically, it is possible to shift the screen by about ± 2%. Further, as the magnification changing function MF, the two groups constituting the eleventh optical system L11 are moved on the optical axis, thereby changing the enlargement magnification of about ± 0.7%. Further, the 12th group L12a and the 12b group L12b constituting the twelfth optical system L12 are moved from the intermediate image side to the primary image plane side when focusing from 50 ″ during short distance projection to 100 ″ during long distance projection. Has a floating function FF to move to.

<第4の実施の形態>
図42は、第4の実施の形態における投射光学系の概略構成例を示す説明図である。図例では、基準投射距離時の光路を示している。
また、図43は、第4の実施の形態における投射光学系の要部構成例を示す説明図である。図例では、近距離投射時における第1光学系L1のレンズ断面を示している。
図例のように、第4の実施の形態における投射光学系3は、画面シフト機能SF1と、画面シフト機能SF2とを有している。画面シフト機能SF1は、第1光学系L1の全体の移動によって実現される。一方、画面シフト機能SF2は、第1光学系L1の一部である第12光学系L12の全体を移動させることによって実現される。
変倍機能MFについては、上述した第3の実施の形態の場合と同様に、第11光学系L11を構成する2つの群を光軸上に移動させることで、実現するようになっている。
なお、それ以外の構成については、上述した第1の実施の形態の場合と同様であるため、ここではその説明を省略する。
<Fourth embodiment>
FIG. 42 is an explanatory diagram illustrating a schematic configuration example of the projection optical system according to the fourth embodiment. In the illustrated example, the optical path at the reference projection distance is shown.
FIG. 43 is an explanatory diagram showing a configuration example of a main part of the projection optical system according to the fourth embodiment. In the illustrated example, a lens cross section of the first optical system L1 at the time of short-distance projection is shown.
As shown in the figure, the projection optical system 3 in the fourth embodiment has a screen shift function SF1 and a screen shift function SF2. The screen shift function SF1 is realized by the entire movement of the first optical system L1. On the other hand, the screen shift function SF2 is realized by moving the entire twelfth optical system L12, which is a part of the first optical system L1.
The scaling function MF is realized by moving two groups constituting the eleventh optical system L11 on the optical axis, as in the case of the third embodiment described above.
Since the other configuration is the same as that of the first embodiment described above, the description thereof is omitted here.

ここで、第4の実施の形態における投射光学系3について、具体的な数値例を挙げて、以下にその簡単な説明を行う。   Here, the projection optical system 3 according to the fourth embodiment will be briefly described below with specific numerical examples.

図44は、第4の実施の形態における投射光学系による横収差図である。図中において、一目盛りは1ドットサイズをスクリーン上に拡大投射した時の1ドットサイズとなる。実線は546.1nm、点線は620nm、1点鎖線は460nmとなる。なお、ここで示す横収差図は、y方向に移動させたときの横収差図であるが、もちろん移動方向はy方向に限らず、光軸に垂直であればどの方向でもよい。   FIG. 44 is a lateral aberration diagram of the projection optical system in the fourth embodiment. In the figure, one scale is one dot size when one dot size is enlarged and projected on the screen. The solid line is 546.1 nm, the dotted line is 620 nm, and the dashed line is 460 nm. The lateral aberration diagram shown here is a lateral aberration diagram when moved in the y direction. Of course, the moving direction is not limited to the y direction, and may be any direction as long as it is perpendicular to the optical axis.

図45は、第4の実施の形態における投射光学系のレンズデータの具体例の説明図である。図中において、*印は非球面を有する面であり、上記の(7)式に従う。rは曲率半径、dは間隔およびレンズの芯厚、ndは、d線(587.56nm)での屈折率、νdは同様にd線でのアッベ数である。また{印で纏められたレンズ群はフローティング機能FF、変倍機能MFおよび画面シフト機能SFに関係するレンズ群である。また、diはフローティング機能FFおよび変倍機能MFを実現する際に変動するレンズ間隔である。   FIG. 45 is an explanatory diagram of a specific example of lens data of the projection optical system according to the fourth embodiment. In the figure, * indicates a surface having an aspherical surface, and follows the above equation (7). r is the radius of curvature, d is the distance and the core thickness of the lens, nd is the refractive index at the d line (587.56 nm), and νd is the Abbe number at the d line. Further, the lens group grouped by {is a lens group related to the floating function FF, the zoom function MF, and the screen shift function SF. Further, di is a lens interval that varies when the floating function FF and the magnification function MF are realized.

図46は、第4の実施の形態における投射光学系の1次像面側の開口数NA、基準投射距離時の最大半画角ω、最大の1次像面高さyの具体例を示す説明図である。   FIG. 46 shows a specific example of the numerical aperture NA on the primary image plane side, the maximum half field angle ω at the reference projection distance, and the maximum primary image plane height y in the fourth embodiment. It is explanatory drawing.

図47(a)は、第4の実施の形態における投射光学系において、画面シフト機能SF1を有するレンズ群および画面シフト機能SF2を有するレンズ群と移動量の具体例を示す説明図である。
図47(b)および(c)は、第4の実施の形態における投射光学系において、フローティング機能FFと変倍機能MFに関するレンズ間隔の具体例を示す説明図である。図中における数値は図45におけるdiに対応する。ここで、flは、それぞれの焦点距離、βは拡大倍率である。
FIG. 47A is an explanatory diagram illustrating a specific example of a lens group having the screen shift function SF1 and a lens group having the screen shift function SF2 and a movement amount in the projection optical system according to the fourth embodiment.
FIGS. 47B and 47C are explanatory diagrams showing specific examples of the lens interval related to the floating function FF and the variable magnification function MF in the projection optical system according to the fourth embodiment. The numerical values in the figure correspond to di in FIG. Here, fl is the focal length, and β is the magnification.

図48は、第4の実施の形態における投射光学系に対応する非球面係数の具体例を説明図である。図例の非球面係数は、上記(7)式に対応したものである。   FIG. 48 is an explanatory diagram of specific examples of aspheric coefficients corresponding to the projection optical system according to the fourth embodiment. The aspheric coefficient in the example corresponds to the above equation (7).

図49は、第4の実施の形態における画像変調素子の具体例を示す説明図である。上述した図44の横収差における1ドットサイズとは、ここに記すサイズを示したものである。   FIG. 49 is an explanatory diagram illustrating a specific example of an image modulation element according to the fourth embodiment. The one-dot size in the lateral aberration of FIG. 44 described above indicates the size described here.

図50は、第4の実施の形態における投射光学系を用いて、図49に示した画像変調素子を2次像面上に拡大投射したときのTV歪曲の状態を示した説明図である。
図51は、第4の実施の形態における投射光学系を用いて、図49に示した画像変調素子を2次像面上に拡大投射した時の、対角サイズ、画歪等の変化量の具体例を示す説明図である。なお、図例の変化量等を求める際には、図18に示した計算式を基にしている。
FIG. 50 is an explanatory diagram showing a TV distortion state when the image modulation element shown in FIG. 49 is enlarged and projected onto the secondary image plane using the projection optical system according to the fourth embodiment.
FIG. 51 shows the amount of change in diagonal size, image distortion, etc., when the image modulation element shown in FIG. 49 is enlarged and projected onto the secondary image plane using the projection optical system in the fourth embodiment. It is explanatory drawing which shows a specific example. Note that the amount of change in the example shown in FIG. 18 is based on the calculation formula shown in FIG.

図52は、第4の実施の形態における投射光学系での条件式(1)〜(6)の具体的な数値の一例を示す説明図である。   FIG. 52 is an explanatory diagram showing an example of specific numerical values of the conditional expressions (1) to (6) in the projection optical system according to the fourth embodiment.

以上のような具体的な数値例によって特定される投射光学系3によれば、画面シフト機能SF1として、第1光学系L1の全体を、光軸と±0.1mm垂直に移動させることで、約±3%程度の画面シフトを可能とする。また、画面シフト機能SF2として、第1光学系L1の一部である第12光学系L12の全体を、光軸と±0.1mm垂直に移動させることで、約±0.6%程度の画面シフトを可能とする。また、変倍機能MFとして、第11光学系L11を構成する2つの群を光軸上に移動させることで、±0.3%程度の拡大倍率を変化させる。また、第12光学系L12を構成する第12a群L12aおよび第12b群L12bを、近距離投射時20″から遠距離投射時100″への合焦の際、中間像側から1次像面側に移動させるフローティング機能FFを持つ。   According to the projection optical system 3 specified by the specific numerical examples as described above, as the screen shift function SF1, the entire first optical system L1 is moved vertically by ± 0.1 mm from the optical axis, A screen shift of about ± 3% is possible. Further, as the screen shift function SF2, by moving the entire twelfth optical system L12, which is a part of the first optical system L1, perpendicular to the optical axis by ± 0.1 mm, a screen of about ± 0.6% is obtained. Allows shift. Further, as the magnification function MF, the two groups constituting the eleventh optical system L11 are moved on the optical axis, thereby changing the magnification of about ± 0.3%. Further, the 12th lens group L12a and the 12th lens group L12b constituting the twelfth optical system L12 are focused from the intermediate image side to the primary image surface side when focusing from 20 ″ during short distance projection to 100 ″ during long distance projection. Has a floating function FF to move to.

なお、第4の実施の形態における構成では、画像変調素子が5.6mm×5.6mmの正方形で構成されており、用途によって縦長の画面あるいは横長の画面を投射できる。したがって、例えば図5に示したテーブル上に投射する利用形態の場合に用いて最適なものとなる。   In the configuration according to the fourth embodiment, the image modulation element is configured by a square of 5.6 mm × 5.6 mm, and a vertically long screen or a horizontally long screen can be projected depending on the application. Therefore, for example, it is optimal for use in the case of a usage pattern in which the image is projected onto the table shown in FIG.

<第5の実施の形態>
図53は、第5の実施の形態における投射光学系の概略構成例を示す説明図である。図例では、基準投射距離時の光路を示している。
また、図54は、第5の実施の形態における投射光学系の要部構成例を示す説明図である。図例では、近距離投射時における第1光学系L1のレンズ断面を示している。なお、図中においては、最も拡大側を「拡(Wide)」、最も縮小側を「縮(Tele)」としている。
図例のように、第5の実施の形態における投射光学系3は、上述した第1の実施の形態の場合と同様に、第11光学系L11の全体を移動させることで、画面シフト機能SFを実現する。
第11光学系L11は、1次像面の側から、正の屈折力を持つ第11a群L11a、正の屈折力を持つ第11b群L11b、負の屈折力を持つ第11c群L11c、および、正の屈折力を持つ第11d群L11dの4つのレンズ群で構成されている。このうち、第11b群L11bおよび第11d群L11dが光軸上を移動することで、変倍機能MFを実現するようになっている。
なお、それ以外の構成については、上述した第1の実施の形態の場合と同様であるため、ここではその説明を省略する。
<Fifth embodiment>
FIG. 53 is an explanatory diagram showing a schematic configuration example of the projection optical system according to the fifth embodiment. In the illustrated example, the optical path at the reference projection distance is shown.
FIG. 54 is an explanatory diagram showing a configuration example of a main part of the projection optical system according to the fifth embodiment. In the illustrated example, a lens cross section of the first optical system L1 at the time of short-distance projection is shown. In the figure, the most enlarged side is “wide”, and the most reduced side is “tele”.
As illustrated, the projection optical system 3 in the fifth embodiment moves the entire eleventh optical system L11 in the same manner as in the first embodiment described above, thereby moving the screen shift function SF. To realize.
The eleventh optical system L11 includes, from the primary image plane side, an eleventh group L11a having a positive refractive power, an eleventh group L11b having a positive refractive power, an eleventh group L11c having a negative refractive power, and The lens unit includes four lens units of the 11d group L11d having positive refractive power. Among these, the zoom function MF is realized by the eleventh group L11b and the eleventh group L11d moving on the optical axis.
Since the other configuration is the same as that of the first embodiment described above, the description thereof is omitted here.

ここで、第5の実施の形態における投射光学系3について、具体的な数値例を挙げて、以下にその簡単な説明を行う。   Here, the projection optical system 3 in the fifth embodiment will be briefly described below by giving specific numerical examples.

図55は、第5の実施の形態における投射光学系による横収差図である。図中において、一目盛りは1ドットサイズをスクリーン上に拡大投射した時の1ドットサイズとなる。実線は546.1nm、点線は620nm、1点鎖線は460nmとなる。なお、ここで示す横収差図は、y方向に移動させたときの横収差図であるが、もちろん移動方向はy方向に限らず、光軸に垂直であればどの方向でもよい。   FIG. 55 is a lateral aberration diagram of the projection optical system in the fifth embodiment. In the figure, one scale is one dot size when one dot size is enlarged and projected on the screen. The solid line is 546.1 nm, the dotted line is 620 nm, and the dashed line is 460 nm. The lateral aberration diagram shown here is a lateral aberration diagram when moved in the y direction. Of course, the moving direction is not limited to the y direction, and may be any direction as long as it is perpendicular to the optical axis.

図56は、第5の実施の形態における投射光学系のレンズデータの具体例の説明図である。図中において、*印は非球面を有する面であり、上記の(7)式に従う。rは曲率半径、dは間隔およびレンズの芯厚、ndは、d線(587.56nm)での屈折率、νdは同様にd線でのアッベ数である。また{印で纏められたレンズ群はフローティング機能FF、変倍機能MFおよび画面シフト機能SFに関係するレンズ群である。また、diはフローティング機能FFおよび変倍機能MFを実現する際に変動するレンズ間隔である。   FIG. 56 is an explanatory diagram of a specific example of lens data of the projection optical system according to the fifth embodiment. In the figure, * indicates a surface having an aspherical surface, and follows the above equation (7). r is the radius of curvature, d is the distance and the core thickness of the lens, nd is the refractive index at the d line (587.56 nm), and νd is the Abbe number at the d line. Further, the lens group grouped by {is a lens group related to the floating function FF, the zoom function MF, and the screen shift function SF. Further, di is a lens interval that varies when the floating function FF and the magnification function MF are realized.

図57は、第5の実施の形態における投射光学系の1次像面側の開口数NA、基準投射距離時の最大半画角ω、最大の1次像面高さyの具体例を示す説明図である。   FIG. 57 shows a specific example of the numerical aperture NA on the primary image plane side, the maximum half angle of view ω at the reference projection distance, and the maximum primary image plane height y in the fifth embodiment. It is explanatory drawing.

図58は、第5の実施の形態における投射光学系において、画面シフト機能SF1を有するレンズ群と移動量の具体例を示す説明図である。
図59は、第5の実施の形態における投射光学系において、フローティング機能FFと変倍機能MFに関するレンズ間隔の具体例を示す説明図である。図中における数値は図56におけるdiに対応する。ここで、flは、それぞれの焦点距離、βは拡大倍率である。
FIG. 58 is an explanatory diagram illustrating a specific example of the lens group having the screen shift function SF1 and the amount of movement in the projection optical system according to the fifth embodiment.
FIG. 59 is an explanatory diagram showing a specific example of the lens interval related to the floating function FF and the magnification function MF in the projection optical system according to the fifth embodiment. The numerical values in the figure correspond to di in FIG. Here, fl is the focal length, and β is the magnification.

図60は、第5の実施の形態における投射光学系に対応する非球面係数の具体例を説明図である。図例の非球面係数は、上記(7)式に対応したものである。   FIG. 60 is an explanatory diagram of a specific example of an aspheric coefficient corresponding to the projection optical system in the fifth embodiment. The aspheric coefficient in the example corresponds to the above equation (7).

図61は、第5の実施の形態における画像変調素子の具体例を示す説明図である。上述した図55の横収差における1ドットサイズとは、ここに記すサイズを示したものである。   FIG. 61 is an explanatory diagram illustrating a specific example of an image modulation element according to the fifth embodiment. The one-dot size in the lateral aberration of FIG. 55 described above indicates the size described here.

図62は、第5の実施の形態における投射光学系を用いて、図61に示した画像変調素子を2次像面上に拡大投射したときのTV歪曲の状態を示した説明図である。
図63は、第5の実施の形態における投射光学系を用いて、図61に示した画像変調素子を2次像面上に拡大投射した時の、対角サイズ、画歪等の変化量の具体例を示す説明図である。なお、図例の変化量等を求める際には、図18に示した計算式を基にしている。
FIG. 62 is an explanatory diagram showing a TV distortion state when the image modulation element shown in FIG. 61 is enlarged and projected onto the secondary image plane using the projection optical system according to the fifth embodiment.
FIG. 63 shows the amount of change in diagonal size, image distortion, and the like when the image modulation element shown in FIG. 61 is enlarged and projected onto the secondary image plane using the projection optical system in the fifth embodiment. It is explanatory drawing which shows a specific example. Note that the amount of change in the example shown in FIG. 18 is based on the calculation formula shown in FIG.

図64は、第5の実施の形態における投射光学系での条件式(1)〜(6)の具体的な数値の一例を示す説明図である。   FIG. 64 is an explanatory diagram illustrating an example of specific numerical values of the conditional expressions (1) to (6) in the projection optical system according to the fifth embodiment.

以上のような具体的な数値例によって特定される投射光学系3によれば、画面シフト機能SFとして、第11光学系L11の全体を、光軸と±0.1mm垂直に移動させることで、約±1.7%程度の画面シフトを可能とする。また、変倍機能MFとして、第11光学系L11における第11b群L11bおよび第11d群L11dを光軸上に移動させることで、±10%程度の拡大倍率を変化させる。また、第12光学系L12を構成する第12a群L12aおよび第12b群L12bを、例えばWide時に、近距離投射時60″から遠距離投射時100″への合焦の際、中間像側から1次像面側に移動させるフローティング機能FFを持つ。この機能は、縮小側(Tele)でも同様であり、その場合54.55″から90.91″までの変化となる。   According to the projection optical system 3 specified by the specific numerical example as described above, as the screen shift function SF, the entire eleventh optical system L11 is moved vertically by ± 0.1 mm from the optical axis, A screen shift of about ± 1.7% is possible. Further, as the magnification function MF, the magnification ratio of about ± 10% is changed by moving the 11b group L11b and the 11d group L11d in the 11th optical system L11 on the optical axis. Further, the 12a group L12a and the 12b group L12b constituting the twelfth optical system L12 are set to 1 from the intermediate image side at the time of focusing from 60 ″ at the short distance projection to 100 ″ at the long distance projection at the time of Wide, for example. It has a floating function FF that moves to the next image plane side. This function is the same on the reduction side (Tele), in which case the change is from 54.55 "to 90.91".

<第6の実施の形態>
図65は、第6の実施の形態における投射光学系の概略構成例を示す説明図である。図例では、基準投射距離時の光路を示している。
また、図66は、第6の実施の形態における投射光学系の要部構成例を示す説明図である。図例では、近距離投射時における第1光学系L1のレンズ断面を示している。なお、図中においては、最も拡大側を「拡(Wide)」、最も縮小側を「縮(Tele)」としている。
図例のように、第5の実施の形態における投射光学系3は、上述した第1の実施の形態の場合と同様に、第11光学系L11の全体を移動させることで、画面シフト機能SFを実現する。
第11光学系L11は、1次像面の側から、正の屈折力を持つ第11a群L11a、正の屈折力を持つ第11b群L11b、負の屈折力を持つ第11c群L11c、および、正の屈折力を持つ第11d群L11dの4つのレンズ群で構成されている。このうち、第11b群L11b、第11c群L11cおよび第11d群L11dが光軸上を移動することで、変倍機能MFを実現するようになっている。
なお、それ以外の構成については、上述した第1の実施の形態の場合と同様であるため、ここではその説明を省略する。
<Sixth Embodiment>
FIG. 65 is an explanatory diagram illustrating a schematic configuration example of the projection optical system according to the sixth embodiment. In the illustrated example, the optical path at the reference projection distance is shown.
FIG. 66 is an explanatory diagram showing a configuration example of a main part of the projection optical system according to the sixth embodiment. In the illustrated example, a lens cross section of the first optical system L1 at the time of short-distance projection is shown. In the figure, the most enlarged side is “wide”, and the most reduced side is “tele”.
As illustrated, the projection optical system 3 in the fifth embodiment moves the entire eleventh optical system L11 in the same manner as in the first embodiment described above, thereby moving the screen shift function SF. To realize.
The eleventh optical system L11 includes, from the primary image plane side, an eleventh group L11a having a positive refractive power, an eleventh group L11b having a positive refractive power, an eleventh group L11c having a negative refractive power, and The lens unit includes four lens units of the 11d group L11d having positive refractive power. Among these, the zoom function MF is realized by the eleventh group L11b, the eleventh group L11c, and the eleventh group L11d moving on the optical axis.
Since the other configuration is the same as that of the first embodiment described above, the description thereof is omitted here.

ここで、第6の実施の形態における投射光学系3について、具体的な数値例を挙げて、以下にその簡単な説明を行う。   Here, the projection optical system 3 according to the sixth embodiment will be briefly described below by giving specific numerical examples.

図67は、第6の実施の形態における投射光学系による横収差図である。図中において、一目盛りは1ドットサイズをスクリーン上に拡大投射した時の1ドットサイズとなる。実線は546.1nm、点線は620nm、1点鎖線は460nmとなる。なお、ここで示す横収差図は、y方向に移動させたときの横収差図であるが、もちろん移動方向はy方向に限らず、光軸に垂直であればどの方向でもよい。   FIG. 67 is a lateral aberration diagram of the projection optical system in the sixth embodiment. In the figure, one scale is one dot size when one dot size is enlarged and projected on the screen. The solid line is 546.1 nm, the dotted line is 620 nm, and the dashed line is 460 nm. The lateral aberration diagram shown here is a lateral aberration diagram when moved in the y direction. Of course, the moving direction is not limited to the y direction, and may be any direction as long as it is perpendicular to the optical axis.

図68は、第6の実施の形態における投射光学系のレンズデータの具体例の説明図である。図中において、*印は非球面を有する面であり、上記の(7)式に従う。rは曲率半径、dは間隔およびレンズの芯厚、ndは、d線(587.56nm)での屈折率、νdは同様にd線でのアッベ数である。また{印で纏められたレンズ群はフローティング機能FF、変倍機能MFおよび画面シフト機能SFに関係するレンズ群である。また、diはフローティング機能FFおよび変倍機能MFを実現する際に変動するレンズ間隔である。   FIG. 68 is an explanatory diagram of a specific example of lens data of the projection optical system according to the sixth embodiment. In the figure, * indicates a surface having an aspherical surface, and follows the above equation (7). r is the radius of curvature, d is the distance and the core thickness of the lens, nd is the refractive index at the d line (587.56 nm), and νd is the Abbe number at the d line. Further, the lens group grouped by {is a lens group related to the floating function FF, the zoom function MF, and the screen shift function SF. Further, di is a lens interval that varies when the floating function FF and the magnification function MF are realized.

図69は、第6の実施の形態における投射光学系の1次像面側の開口数NA、基準投射距離時の最大半画角ω、最大の1次像面高さyの具体例を示す説明図である。   FIG. 69 shows a specific example of the numerical aperture NA on the primary image plane side, the maximum half angle of view ω at the reference projection distance, and the maximum primary image plane height y in the sixth embodiment. It is explanatory drawing.

図70は、第6の実施の形態における投射光学系において、画面シフト機能SF1を有するレンズ群と移動量の具体例を示す説明図である。
図71は、第6の実施の形態における投射光学系において、フローティング機能FFと変倍機能MFに関するレンズ間隔の具体例を示す説明図である。図中における数値は図68におけるdiに対応する。ここで、flは、それぞれの焦点距離、βは拡大倍率である。
FIG. 70 is an explanatory diagram illustrating a specific example of a lens group having the screen shift function SF1 and a movement amount in the projection optical system according to the sixth embodiment.
FIG. 71 is an explanatory diagram showing a specific example of a lens interval related to the floating function FF and the zoom function MF in the projection optical system according to the sixth embodiment. The numerical values in the figure correspond to di in FIG. Here, fl is the focal length, and β is the magnification.

図72は、第6の実施の形態における投射光学系に対応する非球面係数の具体例を説明図である。図例の非球面係数は、上記(7)式に対応したものである。   FIG. 72 is an explanatory diagram of a specific example of an aspheric coefficient corresponding to the projection optical system in the sixth embodiment. The aspheric coefficient in the example corresponds to the above equation (7).

図73は、第6の実施の形態における画像変調素子の具体例を示す説明図である。上述した図67の横収差における1ドットサイズとは、ここに記すサイズを示したものである。   FIG. 73 is an explanatory diagram showing a specific example of an image modulation element according to the sixth embodiment. The one dot size in the lateral aberration of FIG. 67 described above indicates the size described here.

図74は、第6の実施の形態における投射光学系を用いて、図73に示した画像変調素子を2次像面上に拡大投射したときのTV歪曲の状態を示した説明図である。
図75は、第6の実施の形態における投射光学系を用いて、図73に示した画像変調素子を2次像面上に拡大投射した時の、対角サイズ、画歪等の変化量の具体例を示す説明図である。なお、図例の変化量等を求める際には、図18に示した計算式を基にしている。
FIG. 74 is an explanatory diagram showing a TV distortion state when the image modulation element shown in FIG. 73 is enlarged and projected onto the secondary image plane by using the projection optical system in the sixth embodiment.
FIG. 75 shows the amount of change in diagonal size, image distortion, etc., when the image modulation element shown in FIG. 73 is enlarged and projected onto the secondary image plane using the projection optical system in the sixth embodiment. It is explanatory drawing which shows a specific example. Note that the amount of change in the example shown in FIG. 18 is based on the calculation formula shown in FIG.

図76は、第6の実施の形態における投射光学系での条件式(1)〜(6)の具体的な数値の一例を示す説明図である。   FIG. 76 is an explanatory diagram illustrating an example of specific numerical values of conditional expressions (1) to (6) in the projection optical system according to the sixth embodiment.

以上のような具体的な数値例によって特定される投射光学系3によれば、画面シフト機能SFとして、第11光学系L11の全体を、光軸と±0.1mm垂直に移動させることで、約±1.7%程度の画面シフトを可能とする。また、変倍機能MFとして、第11光学系L11における第11b群L11b、第11c群L11cおよび第11d群L11dを光軸上に移動させることで、±20%程度の拡大倍率を変化させる。また、第12光学系L12を構成する第12a群L12aおよび第12b群L12bを、例えばWide時に、近距離投射時60″から遠距離投射時100″への合焦の際、中間像側から1次像面側に移動させるフローティング機能FFを持つ。この機能は、縮小側(Tele)でも同様であり、その場合49.59″から82.65″までの変化となる。   According to the projection optical system 3 specified by the specific numerical example as described above, as the screen shift function SF, the entire eleventh optical system L11 is moved vertically by ± 0.1 mm from the optical axis, A screen shift of about ± 1.7% is possible. Further, as the magnification function MF, the magnification ratio of about ± 20% is changed by moving the 11b group L11b, the 11c group L11c, and the 11d group L11d in the 11th optical system L11 on the optical axis. Further, the 12a group L12a and the 12b group L12b constituting the twelfth optical system L12 are set to 1 from the intermediate image side at the time of focusing from 60 ″ at the short distance projection to 100 ″ at the long distance projection at the time of Wide, for example. It has a floating function FF that moves to the next image plane side. This function is the same on the reduction side (Tele), and in this case, the change is from 49.59 ″ to 82.65 ″.

以上に説明した第1〜第6の実施の形態のいずれかの構成を備えることで、半画角70度、開口数0.3近辺の超広角、大口径でありながら、画面シフト機能SF、変倍機能MFおよびフローティング機能FFを投射光学系3に持たせること可能となる。しかも、これらの各機能を、小型で、かつ、安価に実現することが可能となる。   By including any one of the configurations of the first to sixth embodiments described above, the screen shift function SF, while having a half angle of view of 70 degrees, a super wide angle near numerical aperture of 0.3, and a large aperture, The projection optical system 3 can be provided with the zoom function MF and the floating function FF. In addition, each of these functions can be realized in a small size and at a low cost.

なお、超広角、大口径に対応した投射光学系3を用いる場合、当該投射光学系3を備えて構成された液晶プロジェクタ装置は、設置環境に非常に敏感となる。すなわち、超広角等に非対応の従来型の液晶プロジェクタ装置では気にならなかった振動に反応し、投射された画面が揺れることが生じるおそれがある。
このことから、投射光学系3を備えて構成された液晶プロジェクタ装置については、以下に述べる構成を採用することも考えられる。すなわち、画面の振幅を赤外線センサで感知するか、または装置自体に振動を検知させる構造にする。そして、その振幅または振動の情報を、第1光学系L1の一部の光学部品を光軸と略垂直に移動させる機構と同期させる。これにより、画面の振動を補正することを可能にする。その場合の赤外線センサ、検知構造、同期させる手段等については、公知技術を利用して実現すればよいため、ここではその具体的な説明を省略する。
In addition, when using the projection optical system 3 corresponding to a super wide angle and a large aperture, the liquid crystal projector device configured to include the projection optical system 3 becomes very sensitive to the installation environment. In other words, there is a possibility that the projected screen may shake in response to vibrations that were not noticed in a conventional liquid crystal projector device that does not support ultra-wide angle or the like.
For this reason, it is conceivable to adopt the configuration described below for the liquid crystal projector device configured to include the projection optical system 3. That is, the screen amplitude is detected by an infrared sensor, or the apparatus itself is configured to detect vibration. Then, the amplitude or vibration information is synchronized with a mechanism that moves some optical components of the first optical system L1 substantially perpendicular to the optical axis. This makes it possible to correct screen vibration. In this case, the infrared sensor, the detection structure, the means for synchronizing, and the like may be realized by using a known technique, and thus the specific description thereof is omitted here.

[投射光学系の他の構成例]
次に、投射光学系3の他の構成例を説明する。
大型の曲面反射面を使用する投射光学系3の場合、画像変調素子を駆動させる基板や冷却機構等を含めた液晶プロジェクタ装置の全体構成で考えると、その高さ方向の寸法が大きくなりがちである。このことから、当該液晶プロジェクタ装置に用いられる投射光学系3については、以下に述べるように構成することが考えられる。
以下、投射光学系3の構成について、第7〜第10の実施の形態を例に挙げて順に説明する。
[Other configuration examples of projection optical system]
Next, another configuration example of the projection optical system 3 will be described.
In the case of the projection optical system 3 that uses a large curved reflecting surface, the dimensions in the height direction tend to be large when considering the overall configuration of the liquid crystal projector apparatus including the substrate for driving the image modulation element and the cooling mechanism. is there. From this, it can be considered that the projection optical system 3 used in the liquid crystal projector apparatus is configured as described below.
Hereinafter, the configuration of the projection optical system 3 will be described in order by taking the seventh to tenth embodiments as examples.

<第7の実施の形態>
図77は、第7の実施の形態における投射光学系の概略構成例を示す説明図である。
図例のように、第7の実施の形態における投射光学系3は、上述した第1の実施の形態の場合と同様に、第1光学系L1と第2光学系L2とを有している。そして、第1光学系L1は、1次像面の側から第11光学系L11と第12光学系L12とが配されて構成されている。
ただし、第7の実施の形態における投射光学系3では、上述した第1の実施の形態の場合とは異なり、第11光学系L11と第12光学系L12との間に、第1平面反射面M1が配置されている。また、第1光学系L1と第2光学系L2との間に、第2平面反射面M2が配置されている。さらには、第2光学系L2と2次像面との間に、屈折率nで構成される透過性を持つ平行平板Tが配置されている。
なお、それ以外の構成については、上述した第1の実施の形態の場合と同様であるため、ここではその説明を省略する。第1平面反射面M1、第2平面反射面M2および平行平板Tの具体的な構成(形成材料等)についても、公知技術を利用して実現すればよいため、ここではその説明を省略する。
<Seventh embodiment>
FIG. 77 is an explanatory diagram showing a schematic configuration example of the projection optical system according to the seventh embodiment.
As shown in the drawing, the projection optical system 3 in the seventh embodiment has a first optical system L1 and a second optical system L2 as in the case of the first embodiment described above. . The first optical system L1 includes an eleventh optical system L11 and a twelfth optical system L12 arranged from the primary image plane side.
However, in the projection optical system 3 in the seventh embodiment, unlike the case of the first embodiment described above, the first planar reflecting surface is provided between the eleventh optical system L11 and the twelfth optical system L12. M1 is arranged. In addition, a second planar reflecting surface M2 is disposed between the first optical system L1 and the second optical system L2. Furthermore, a transparent parallel plate T having a refractive index n is disposed between the second optical system L2 and the secondary image plane.
Since the other configuration is the same as that of the first embodiment described above, the description thereof is omitted here. Since specific configurations (formation materials and the like) of the first planar reflection surface M1, the second planar reflection surface M2, and the parallel flat plate T may be realized using a known technique, the description thereof is omitted here.

第1平面反射面M1については、当該第1平面反射面M1のy軸回転角度β1と、当該第1平面反射面M1のx軸回転角度α1とが、以下の条件式(8)および条件式(9)を満たすように配置される。ここで、y軸回転角度とは、y軸回りの回転角度のことをいう。また、x軸回転角度とは、x軸回りの回転角度のことをいう。y軸およびx軸は、液晶プロジェクタ装置の設置面をxy平面とした場合の当該平面における各基準軸である。   For the first planar reflecting surface M1, the y-axis rotation angle β1 of the first planar reflecting surface M1 and the x-axis rotation angle α1 of the first planar reflecting surface M1 are the following conditional expressions (8) and conditional expressions: It arrange | positions so that (9) may be satisfy | filled. Here, the y-axis rotation angle means a rotation angle around the y-axis. The x-axis rotation angle refers to a rotation angle around the x-axis. The y-axis and the x-axis are reference axes on the plane when the installation surface of the liquid crystal projector device is the xy plane.

30°<|β1|<65°・・・(8)   30 ° <| β1 | <65 ° (8)

3°<α1<15°・・・(9)   3 ° <α1 <15 ° (9)

上記の条件式(8),(9)は、液晶プロジェクタ装置の高さ方向(xy平面に直交するz軸方向。)の寸法を小型化するためのものである。すなわち、条件式(8)の下限に満たない場合には、第11光学系L11と第12光学系L12が干渉してしまうおそれがある。また、上限を超える場合には、第1平面反射面M1と、第11光学系L11または第12光学系L12とが干渉するおそれがある。一方、条件式(9)の下限に満たない場合には、凹面反射面の高さ方向に対して光源が大きくはみ出してしまい、装置の高さ方向寸法が大型化してしまう。また、上限を超える場合には、画像変調素子を駆動させる基板、あるいは画像変調素子を冷却する部品類が、凹面反射面の高さ方向に対してはみ出してしまうため、装置の高さ方向寸法が大型化する。   The conditional expressions (8) and (9) are for reducing the size of the liquid crystal projector device in the height direction (z-axis direction orthogonal to the xy plane). That is, if the lower limit of conditional expression (8) is not satisfied, the eleventh optical system L11 and the twelfth optical system L12 may interfere with each other. If the upper limit is exceeded, the first planar reflecting surface M1 and the eleventh optical system L11 or the twelfth optical system L12 may interfere with each other. On the other hand, when the lower limit of the conditional expression (9) is not satisfied, the light source protrudes greatly with respect to the height direction of the concave reflecting surface, and the height direction dimension of the apparatus increases. In addition, when the upper limit is exceeded, the substrate for driving the image modulation element or the components for cooling the image modulation element protrudes in the height direction of the concave reflecting surface. Increase in size.

つまり、条件式(8),(9)で規定されるように、第1平面反射面M1は、y軸およびx軸の両方について、それぞれに回転角度を有する。したがって、y軸およびx軸のいずれか一方のみに回転角度を有する場合に比べて、xy平面に垂直なz軸方向における大きさ、すなわち液晶プロジェクタ装置の高さ方向における大きさを、小さく抑えられるのである。   That is, as defined by the conditional expressions (8) and (9), the first planar reflecting surface M1 has a rotation angle with respect to both the y-axis and the x-axis. Accordingly, the size in the z-axis direction perpendicular to the xy plane, that is, the size in the height direction of the liquid crystal projector device can be suppressed to be smaller than when only one of the y-axis and the x-axis has a rotation angle. It is.

この第1平面反射面M1については、全反射条件を満たすように構成することも考えられる。このように構成すれば、より明るい光学系を達成したい場合に有効となる。   The first planar reflection surface M1 may be configured to satisfy the total reflection condition. This configuration is effective when it is desired to achieve a brighter optical system.

第2平面反射面M2については、当該第2平面反射面M2のy軸回転角度β2と、当該第2平面反射面M2のx軸回転角度α2とが、以下の条件式(10)および条件式(11)を満たすように配置される。   For the second plane reflecting surface M2, the y-axis rotation angle β2 of the second plane reflecting surface M2 and the x-axis rotation angle α2 of the second plane reflecting surface M2 are the following conditional expressions (10) and conditional expressions: It arrange | positions so that (11) may be satisfy | filled.

20°<|β2|<45°・・・(10)   20 ° <| β2 | <45 ° (10)

3°<α2<15°・・・(11)   3 ° <α2 <15 ° (11)

上記の条件式(10),(11)は、液晶プロジェクタ装置の高さ方向(xy平面に直交するz軸方向。)の寸法を小型化するためのものである。すなわち、条件式(10)の下限に満たない場合には、第11光学系L11と第12光学系L12が干渉してしまうおそれがある。また、上限を超える場合には、第2光学系L2と画像変調素子との間が離れてしまうため、装置全体の大型化を招く。一方、条件式(11)の上限を超える場合には、凹面反射面の高さ方向に対して光源が大きくはみ出してしまい、装置の高さ方向寸法が大型化してしまう。また、下限に満たない場合には、画像変調素子を駆動させる基板、あるいは画像変調素子を冷却する部品類が、凹面反射面の高さ方向に対してはみ出してしまうため、装置の高さ方向寸法が大型化する。   The conditional expressions (10) and (11) are for reducing the size of the liquid crystal projector device in the height direction (z-axis direction orthogonal to the xy plane). That is, if the lower limit of conditional expression (10) is not satisfied, the eleventh optical system L11 and the twelfth optical system L12 may interfere with each other. When the upper limit is exceeded, the second optical system L2 and the image modulation element are separated from each other, resulting in an increase in the size of the entire apparatus. On the other hand, when the upper limit of conditional expression (11) is exceeded, the light source protrudes greatly with respect to the height direction of the concave reflecting surface, and the height direction dimension of the apparatus increases. If the lower limit is not reached, the substrate for driving the image modulation element or the components for cooling the image modulation element will protrude in the height direction of the concave reflecting surface. Increases in size.

また、第1平面反射面M1および第2平面反射面M2については、以下の条件式(12)および条件式(13)を満たすように配置することが望ましい。   In addition, it is desirable that the first planar reflection surface M1 and the second planar reflection surface M2 are arranged so as to satisfy the following conditional expressions (12) and (13).

−20°<α1+α2<20°・・・(12)   −20 ° <α1 + α2 <20 ° (12)

70°<β1+β2<110°・・・(13)   70 ° <β1 + β2 <110 ° (13)

上記の条件式(12),(13)は、特に光源として水銀ランプを使用する場合に有効となる。すなわち、条件式(12),(13)は、光源のアーク部分を略水平に置くための条件であり、その上下限を超える場合には光源の寿命が急激に悪化することが考えられる。
なお、条件式(12)に規定される条件は、壁や電子黒板等といった地面と垂直な面が投射面となる場合(例えば、図1参照。)に有効となる。また、条件式(13)に規定される条件は、テーブル上への投射を行う場合(例えば、図5参照。)に有効となる。
条件式(12)および条件式(13)のいずれについても満たす場合には、全ての投射形態に対応可能な構成となる。すなわち、その場合、凹面反射面の裏面側に光源が配置されることになる。
The conditional expressions (12) and (13) are effective particularly when a mercury lamp is used as the light source. That is, the conditional expressions (12) and (13) are conditions for placing the arc portion of the light source substantially horizontally, and when the upper and lower limits are exceeded, it is conceivable that the life of the light source deteriorates rapidly.
The condition defined in the conditional expression (12) is effective when a plane perpendicular to the ground, such as a wall or an electronic blackboard, becomes the projection surface (see, for example, FIG. 1). Further, the condition defined in the conditional expression (13) is effective when projection on the table is performed (for example, see FIG. 5).
When both the conditional expression (12) and the conditional expression (13) are satisfied, the configuration is compatible with all projection forms. That is, in that case, the light source is disposed on the back surface side of the concave reflecting surface.

平行平板Tについては、当該平行平板Tのx軸回転角度αtが、以下の条件式(14)を満たすように配置される。   About the parallel plate T, it arrange | positions so that the x-axis rotation angle (alpha) t of the said parallel plate T may satisfy the following conditional expressions (14).

60°<αt<87°・・・(14)   60 ° <αt <87 ° (14)

防塵効果もあるため、第2光学系L2と2次像面との間に平行平板Tを挿入することは有効である。ところが、例えば平行平板Tを光軸と略平行に配置すると、2次像面に入射する光束の1部が当該平行平板Tに非常に浅い角度で入射することとなる。そのため、透過率を高めるための反射防止膜上で光束の反射率が高くなり、結果的に明るさの劣化やゴースト発生等を招く原因となり得る。
したがって、平行平板Tについては、上記の条件式(14)に規定される範囲で、傾きを与えることが有効となる。すなわち、条件式(14)の下限を超える角度で平行平板Tを配置すれば、反射率を小さくすることができる。一方、上限を超える場合には、平行平板Tおよび2次光学系L2含めた装置全体の高さが大きくなってしまう。
Since there is also a dustproof effect, it is effective to insert a parallel plate T between the second optical system L2 and the secondary image plane. However, for example, when the parallel plate T is arranged substantially parallel to the optical axis, a part of the light beam incident on the secondary image plane enters the parallel plate T at a very shallow angle. For this reason, the reflectance of the light flux is increased on the antireflection film for increasing the transmittance, and as a result, it may cause deterioration of brightness, generation of ghost, and the like.
Therefore, with respect to the parallel plate T, it is effective to give an inclination within the range defined by the conditional expression (14). That is, if the parallel plate T is disposed at an angle exceeding the lower limit of the conditional expression (14), the reflectance can be reduced. On the other hand, when the upper limit is exceeded, the height of the entire apparatus including the parallel plate T and the secondary optical system L2 becomes large.

また、平行平板Tの出射直後の位置、すなわち平行平板Tより2次像面側の位置には、画像変調素子からの画像情報を完全に遮光できる遮光板を配置するとともに、その遮光板を開閉自在の構造とすることも考えられる。このような構造にしておくことで、電源を切ることなく、使用状況によって、画像情報のON/OFFを切り換えることが可能となる。   In addition, a light shielding plate capable of completely shielding the image information from the image modulation element is disposed at a position immediately after emission of the parallel plate T, that is, a position on the secondary image plane side from the parallel plate T, and the light shielding plate is opened and closed. A flexible structure is also conceivable. By adopting such a structure, it is possible to switch ON / OFF of image information depending on the usage state without turning off the power.

ここで、第7の実施の形態における投射光学系3について、具体的な数値例を挙げる。
図78は、第7の実施の形態における投射光学系での条件式(8)〜(14)の具体的な数値の一例を示す説明図である。
Here, specific numerical examples of the projection optical system 3 in the seventh embodiment will be given.
FIG. 78 is an explanatory diagram showing an example of specific numerical values of conditional expressions (8) to (14) in the projection optical system according to the seventh embodiment.

以上のような具体的な数値例によって特定される投射光学系3によれば、α1およびα2に角度を持たせることで、液晶プロジェクタ装置を構成した場合の高さ方向寸法を、例えば130mm程度に抑えられるようになる(例えば、図77(b)参照。)。   According to the projection optical system 3 specified by the specific numerical examples as described above, the height direction dimension when the liquid crystal projector apparatus is configured is set to, for example, about 130 mm by providing the angles α1 and α2. (See, for example, FIG. 77 (b)).

<第8の実施の形態>
図79は、第8の実施の形態における投射光学系の概略構成例を示す説明図である。
図例のように、第8の実施の形態における投射光学系3は、上述した第7の実施の形態の場合と同様に、第1平面反射面M1、第2平面反射面M2および平行平板Tを備えて構成されている。
<Eighth Embodiment>
FIG. 79 is an explanatory diagram illustrating a schematic configuration example of the projection optical system according to the eighth embodiment.
As shown in the figure, the projection optical system 3 in the eighth embodiment is similar to the above-described seventh embodiment in that the first flat reflection surface M1, the second flat reflection surface M2, and the parallel flat plate T. It is configured with.

ここで、第8の実施の形態における投射光学系3について、具体的な数値例を挙げる。
図80は、第8の実施の形態における投射光学系での条件式(8)〜(14)の具体的な数値の一例を示す説明図である。
Here, specific numerical examples of the projection optical system 3 in the eighth embodiment will be given.
FIG. 80 is an explanatory diagram illustrating an example of specific numerical values of conditional expressions (8) to (14) in the projection optical system according to the eighth embodiment.

以上のような具体的な数値例によって特定される投射光学系3によれば、平行平板Tの傾きを85°に設定することで、液晶プロジェクタ装置を構成した場合の高さ方向寸法を、例えば120mm程度に抑えられるようになる(例えば、図79(b)参照。)。
図81は、そのときの2次像面を含めた光路図の具体例を示す説明図である。なお、図例は、基準投射距離時での光路図であり、80″を投射したときのものである。
According to the projection optical system 3 specified by the specific numerical examples as described above, by setting the inclination of the parallel plate T to 85 °, the dimension in the height direction when the liquid crystal projector apparatus is configured, for example, It can be suppressed to about 120 mm (for example, see FIG. 79B).
FIG. 81 is an explanatory diagram showing a specific example of an optical path diagram including the secondary image plane at that time. The illustrated example is an optical path diagram at a reference projection distance and is projected when 80 ″ is projected.

<第9の実施の形態>
図82は、第9の実施の形態における投射光学系の概略構成例を示す説明図である。
図例のように、第9の実施の形態における投射光学系3は、上述した第8の実施の形態の場合の構成に加えて、第2光学系L2から2次像面に至る光路上に、1つの反射面を持つ第3平面反射面M3が着脱可能に配置されている。
なお、第3平面反射面M3の具体的な構成(形成材料等)については、公知技術を利用して実現すればよいため、ここではその説明を省略する。また、第3平面反射面M3を着脱可能にする機構についても、特に限定されるものではなく、公知技術を利用して実現すればよい。
<Ninth embodiment>
FIG. 82 is an explanatory diagram illustrating a schematic configuration example of the projection optical system according to the ninth embodiment.
As shown in the figure, the projection optical system 3 in the ninth embodiment is arranged on the optical path from the second optical system L2 to the secondary image plane in addition to the configuration in the eighth embodiment. A third flat reflecting surface M3 having one reflecting surface is detachably disposed.
Note that the specific configuration (formation material and the like) of the third planar reflecting surface M3 may be realized by using a known technique, and thus the description thereof is omitted here. Further, the mechanism that allows the third flat reflecting surface M3 to be attached and detached is not particularly limited, and may be realized using a known technique.

第3平面反射面M3については、当該第3平面反射面M3のx軸回転角度α3が、以下の条件式(15)を満たすように配置される。   About the 3rd plane reflective surface M3, it arrange | positions so that the x-axis rotation angle (alpha) 3 of the said 3rd plane reflective surface M3 may satisfy the following conditional expressions (15).

−15°<α3<0°・・・(15)   −15 ° <α3 <0 ° (15)

上記の条件式(15)は、液晶プロジェクタ装置による投射空間を小さくするためのものである。すなわち、条件式(15)が規定する範囲に収まるように、第3平面反射面M3を配置することで、当該第3平面反射面M3を大きくすることなく、投射空間を小さくすることが可能となる。具体的には、条件式(15)の下限に満たない場合、第3平面反射面M3から2次像面に向かう光束が、投射光学系3と干渉することになる。一方、上限を超える場合には、第3平面反射面M3の大型化を招く。   The conditional expression (15) is for reducing the projection space by the liquid crystal projector device. That is, by disposing the third planar reflecting surface M3 so as to fall within the range defined by the conditional expression (15), it is possible to reduce the projection space without increasing the third planar reflecting surface M3. Become. Specifically, when the lower limit of conditional expression (15) is not satisfied, the light beam traveling from the third planar reflecting surface M3 to the secondary image surface interferes with the projection optical system 3. On the other hand, when the upper limit is exceeded, the third planar reflecting surface M3 is increased in size.

また、第3平面反射面M3については、取り外し可能な機構を持たせることで、用途に合わせて投射空間を変えることが可能となる。さらには、第3平面反射面M3の裏面で光束を反射させることによって、使用者が直接蒸着膜に触れることがなくなるため、取り扱いが容易になる。   Moreover, about 3rd plane reflective surface M3, it becomes possible to change projection space according to a use by giving a detachable mechanism. Furthermore, since the user does not directly touch the vapor deposition film by reflecting the light beam on the back surface of the third flat reflecting surface M3, the handling becomes easy.

ここで、第9の実施の形態における投射光学系3について、具体的な数値例を挙げる。
図83は、第9の実施の形態における投射光学系での条件式(8)〜(15)の具体的な数値の一例を示す説明図である。
このように、第9の実施の形態における投射光学系3によれば、条件式(8)〜(15)の全てを満たすことで、小型で投射空間も狭い液晶プロジェクタ装置を提供することができる。
Here, specific numerical examples of the projection optical system 3 in the ninth embodiment will be given.
FIG. 83 is an explanatory diagram illustrating an example of specific numerical values of conditional expressions (8) to (15) in the projection optical system according to the ninth embodiment.
Thus, according to the projection optical system 3 in the ninth embodiment, by satisfying all of the conditional expressions (8) to (15), it is possible to provide a liquid crystal projector device that is small and has a narrow projection space. .

図84は、第9の実施の形態における投射光学系を用いて液晶プロジェクタ装置を構成した場合の2次像面を含めた光路図の具体例を示す説明図である。図例は、基準投射距離時での光路図であり、80″を投射したときのものである。
図例のように、第3平面反射面M3を設置することで、液晶プロジェクタ装置を構成した場合の投射空間を、上述した第8の実施の形態の場合(図81参照。)の800mmから590mmへと大幅に小さくすることが可能になる。
FIG. 84 is an explanatory diagram illustrating a specific example of an optical path diagram including a secondary image plane when a liquid crystal projector device is configured using the projection optical system according to the ninth embodiment. The illustrated example is an optical path diagram at the reference projection distance when 80 ″ is projected.
As shown in the figure, the projection space when the liquid crystal projector device is configured by installing the third plane reflecting surface M3 is set to 800 mm to 590 mm in the case of the above-described eighth embodiment (see FIG. 81). It becomes possible to make it significantly smaller.

なお、第3平面反射面M3を設置する場合については、当該第3平面反射面M3を平行平板で構成するとともに、第2光学系L2から2次像面に至る光路間に2回の透過と1回の反射を繰り返すように構成することが考えられる。   In the case where the third plane reflecting surface M3 is installed, the third plane reflecting surface M3 is formed of a parallel plate, and transmission between the optical path from the second optical system L2 to the secondary image plane is performed twice. It may be configured to repeat one reflection.

<第10の実施の形態>
図85は、第10の実施の形態における投射光学系の概略構成例を示す説明図である。
図例のように、第10の実施の形態における投射光学系3は、上述した第7の実施の形態の場合と略同様に構成されているが、第1平面反射面M1として全反射プリズムTIRを使用している点が異なる。それ以外の構成については、上述した第7の実施の形態の場合と同様であるため、ここではその説明を省略する。また、全反射プリズムTIRについても、公知技術を利用して実現すればよいため、ここではその説明を省略する。
<Tenth Embodiment>
FIG. 85 is an explanatory diagram illustrating a schematic configuration example of the projection optical system according to the tenth embodiment.
As illustrated, the projection optical system 3 in the tenth embodiment is configured in substantially the same manner as in the seventh embodiment described above, but the total reflection prism TIR is used as the first planar reflection surface M1. The point that is using is different. Other configurations are the same as those in the case of the seventh embodiment described above, and thus the description thereof is omitted here. Further, the total reflection prism TIR may be realized by using a known technique, and thus the description thereof is omitted here.

ここで、第10の実施の形態における投射光学系3について、具体的な数値例を挙げる。
図86は、第10の実施の形態における投射光学系での条件式(8)〜(14)の具体的な数値の一例を示す説明図である。
Here, specific numerical examples of the projection optical system 3 in the tenth embodiment will be given.
FIG. 86 is an explanatory diagram showing an example of specific numerical values of conditional expressions (8) to (14) in the projection optical system according to the tenth embodiment.

以上のような具体的な数値例によって特定される投射光学系3によれば、α1およびα2に角度を持たせることで、液晶プロジェクタ装置を構成した場合の高さ方向寸法を、例えば130mm程度に抑えられるようになる(例えば、図85(b)参照。)。   According to the projection optical system 3 specified by the specific numerical examples as described above, the height direction dimension when the liquid crystal projector apparatus is configured is set to, for example, about 130 mm by providing the angles α1 and α2. (For example, refer to FIG. 85B.)

なお、上述した各実施の形態では、本発明の好適な実施具体例を説明したが、本発明はその内容に限定されることはない。
特に、第1〜第10の実施の形態で例示した各部の具体的形状および数値は、本発明を実施するに際して行う具体化のほんの一例を示したものに過ぎず、これらによって本発明の技術的範囲が限定的に解釈されることがあってはならないものである。
また、例えば、上述した各実施の形態では、投射型画像表示装置として液晶プロジェクタ装置を例に挙げて説明したが、他の投射型画像表示装置、すなわち画像変調素子として液晶パネル以外を用いたものであっても、全く同様に本発明を適用することが可能である。
さらに、例えば、上述した各実施の形態では、投射型画像表示装置の光学系として好適な投射光学系について説明したが、撮像装置(例えば、デジタルカメラ、監視用カメラ、書画カメラ。)用の光学系としても勿論使用可能である。
このように、本発明は、本実施形態で説明した内容に限定されることはなく、その要旨を逸脱しない範囲で、適宜変更することが可能である。
In each of the above-described embodiments, preferred specific examples of the present invention have been described. However, the present invention is not limited to the contents.
In particular, the specific shapes and numerical values of the respective parts exemplified in the first to tenth embodiments are merely examples of the implementation performed in carrying out the present invention, and these are the technical aspects of the present invention. The range should not be interpreted in a limited way.
Further, for example, in each of the above-described embodiments, the liquid crystal projector apparatus has been described as an example of the projection type image display apparatus. However, other projection type image display apparatuses, that is, the image modulation elements other than the liquid crystal panel are used. Even so, the present invention can be applied in exactly the same manner.
Furthermore, for example, in each of the above-described embodiments, the projection optical system suitable as the optical system of the projection-type image display apparatus has been described. Of course, it can also be used as a system.
Thus, the present invention is not limited to the contents described in the present embodiment, and can be appropriately changed without departing from the gist thereof.

超広角対応の液晶プロジェクタ装置の利点についての説明図(その1)である。It is explanatory drawing (the 1) about the advantage of the liquid crystal projector apparatus corresponding to an ultra-wide angle. 超広角対応の液晶プロジェクタ装置の利点についての説明図(その2)である。It is explanatory drawing (the 2) about the advantage of the liquid crystal projector apparatus corresponding to a super-wide angle. 超広角対応の液晶プロジェクタ装置の利点についての説明図(その3)である。It is explanatory drawing (the 3) about the advantage of the liquid crystal projector apparatus corresponding to an ultra-wide angle. 超広角対応の液晶プロジェクタ装置の利点についての説明図(その4)である。It is explanatory drawing (the 4) about the advantage of the liquid crystal projector apparatus corresponding to an ultra-wide angle. 超広角対応の液晶プロジェクタ装置の利点についての説明図(その5)である。It is explanatory drawing (the 5) about the advantage of the liquid crystal projector apparatus corresponding to a super-wide angle. 液晶プロジェクタ装置の概略構成例を示す説明図である。It is explanatory drawing which shows the schematic structural example of a liquid crystal projector device. 液晶プロジェクタ装置における光源および照明光学系の概略構成例を示す説明図である。It is explanatory drawing which shows the schematic structural example of the light source and illumination optical system in a liquid crystal projector device. 第1の実施の形態における投射光学系の概略構成例を示す光路図である。It is an optical path figure which shows the schematic structural example of the projection optical system in 1st Embodiment. 第1の実施の形態における投射光学系の要部構成例を示す説明図である。It is explanatory drawing which shows the principal part structural example of the projection optical system in 1st Embodiment. 第1の実施の形態における投射光学系による横収差図である。It is a lateral aberration diagram by the projection optical system in the first embodiment. 第1の実施の形態における投射光学系のレンズデータの具体例の説明図である。It is explanatory drawing of the specific example of the lens data of the projection optical system in 1st Embodiment. 第1の実施の形態における投射光学系の1次像面側の開口数NA、基準投射距離時の最大半画角ω、最大の1次像面高さyの具体例を示す説明図である。It is explanatory drawing which shows the specific example of numerical aperture NA by the side of the primary image plane of the projection optical system in 1st Embodiment, the largest half field angle (omega) at the time of a reference | standard projection distance, and the largest primary image surface height y. . 第1の実施の形態における投射光学系において、画面シフト機能を有するレンズ群と移動量の具体例と、フローティング機能と変倍機能に関するレンズ間隔の具体例を示す説明図である。In the projection optical system in 1st Embodiment, it is explanatory drawing which shows the lens group which has a screen shift function, the specific example of a movement amount, and the specific example of the lens space | interval regarding a floating function and a magnification function. 第1の実施の形態における投射光学系に対応する非球面係数の具体例を説明図である。It is explanatory drawing of the specific example of the aspherical coefficient corresponding to the projection optical system in 1st Embodiment. 第1の実施の形態における画像変調素子の具体例を示す説明図である。It is explanatory drawing which shows the specific example of the image modulation element in 1st Embodiment. 第1の実施の形態における投射光学系を用いて、図15に示した画像変調素子を2次像面上に拡大投射したときのTV歪曲の状態を示した説明図である。It is explanatory drawing which showed the state of TV distortion when the image modulation element shown in FIG. 15 was enlarged and projected on the secondary image surface using the projection optical system in 1st Embodiment. 第1の実施の形態における投射光学系を用いて、図15に示した画像変調素子を2次像面上に拡大投射した時の、対角サイズ、画歪等の変化量の具体例を示す説明図である。A specific example of the amount of change in diagonal size, image distortion, and the like when the image modulation element shown in FIG. 15 is enlarged and projected onto the secondary image plane using the projection optical system according to the first embodiment is shown. It is explanatory drawing. 2次像面上における対角サイズ、画歪等の変化量等を求める際に基にした計算式の具体例を示す説明図である。It is explanatory drawing which shows the specific example of the calculation formula based on calculating | requiring the variation | change_quantity etc. of diagonal size on a secondary image surface, image distortion, etc. FIG. 第1の実施の形態における投射光学系での条件式(1)〜(6)の具体的な数値の一例を示す説明図である。It is explanatory drawing which shows an example of the specific numerical value of conditional expression (1)-(6) in the projection optical system in 1st Embodiment. 第2の実施の形態における投射光学系の概略構成例を示す説明図である。It is explanatory drawing which shows the schematic structural example of the projection optical system in 2nd Embodiment. 第2の実施の形態における投射光学系の要部構成例を示す説明図である。It is explanatory drawing which shows the principal part structural example of the projection optical system in 2nd Embodiment. 第2の実施の形態における投射光学系による横収差図である。It is a lateral aberration diagram by the projection optical system in the second embodiment. 第2の実施の形態における投射光学系のレンズデータの具体例の説明図である。It is explanatory drawing of the specific example of the lens data of the projection optical system in 2nd Embodiment. 第2の実施の形態における投射光学系の1次像面側の開口数NA、基準投射距離時の最大半画角ω、最大の1次像面高さyの具体例を示す説明図である。It is explanatory drawing which shows the specific example of numerical aperture NA by the side of the primary image plane of the projection optical system in 2nd Embodiment, the maximum half field angle (omega) at the time of a reference | standard projection distance, and the maximum primary image plane height y. . 第2の実施の形態における投射光学系において、画面シフト機能を有するレンズ群と移動量の具体例と、フローティング機能と変倍機能に関するレンズ間隔の具体例を示す説明図である。In the projection optical system in 2nd Embodiment, it is explanatory drawing which shows the lens group which has a screen shift function, the specific example of a moving amount, and the specific example of the lens space | interval regarding a floating function and a magnification function. 第2の実施の形態における投射光学系に対応する非球面係数の具体例を説明図である。It is explanatory drawing of the specific example of the aspherical coefficient corresponding to the projection optical system in 2nd Embodiment. 第2の実施の形態における画像変調素子の具体例を示す説明図である。It is explanatory drawing which shows the specific example of the image modulation element in 2nd Embodiment. 第2の実施の形態における投射光学系を用いて、図27に示した画像変調素子を2次像面上に拡大投射したときのTV歪曲の状態を示した説明図である。It is explanatory drawing which showed the state of TV distortion when the image modulation element shown in FIG. 27 was enlarged and projected on the secondary image surface using the projection optical system in 2nd Embodiment. 第2の実施の形態における投射光学系を用いて、図27に示した画像変調素子を2次像面上に拡大投射した時の、対角サイズ、画歪等の変化量の具体例を示す説明図である。27 shows a specific example of the amount of change in diagonal size, image distortion, etc. when the image modulation element shown in FIG. 27 is enlarged and projected onto the secondary image plane using the projection optical system in the second embodiment. It is explanatory drawing. 第2の実施の形態における投射光学系での条件式(1)〜(6)の具体的な数値の一例を示す説明図である。It is explanatory drawing which shows an example of the specific numerical value of conditional expression (1)-(6) in the projection optical system in 2nd Embodiment. 第3の実施の形態における投射光学系の概略構成例を示す説明図である。It is explanatory drawing which shows the schematic structural example of the projection optical system in 3rd Embodiment. 第3の実施の形態における投射光学系の要部構成例を示す説明図である。It is explanatory drawing which shows the principal part structural example of the projection optical system in 3rd Embodiment. 第3の実施の形態における投射光学系による横収差図である。It is a lateral aberration diagram by the projection optical system in the third embodiment. 第3の実施の形態における投射光学系のレンズデータの具体例の説明図である。It is explanatory drawing of the specific example of the lens data of the projection optical system in 3rd Embodiment. 第3の実施の形態における投射光学系の1次像面側の開口数NA、基準投射距離時の最大半画角ω、最大の1次像面高さyの具体例を示す説明図である。It is explanatory drawing which shows the specific example of numerical aperture NA by the side of the primary image plane of the projection optical system in 3rd Embodiment, the maximum half field angle (omega) at the time of a reference | standard projection distance, and the maximum primary image plane height y. . 第3の実施の形態における投射光学系において、画面シフト機能を有するレンズ群と移動量の具体例と、フローティング機能と変倍機能に関するレンズ間隔の具体例を示す説明図である。In the projection optical system in 3rd Embodiment, it is explanatory drawing which shows the lens group which has a screen shift function, the specific example of a moving amount, and the specific example of the lens space | interval regarding a floating function and a magnification function. 第3の実施の形態における投射光学系に対応する非球面係数の具体例を説明図である。It is explanatory drawing of the specific example of the aspherical coefficient corresponding to the projection optical system in 3rd Embodiment. 第3の実施の形態における画像変調素子の具体例を示す説明図である。It is explanatory drawing which shows the specific example of the image modulation element in 3rd Embodiment. 第3の実施の形態における投射光学系を用いて、図38に示した画像変調素子を2次像面上に拡大投射したときのTV歪曲の状態を示した説明図である。It is explanatory drawing which showed the state of TV distortion when the image modulation element shown in FIG. 38 was enlarged and projected on the secondary image surface using the projection optical system in 3rd Embodiment. 第3の実施の形態における投射光学系を用いて、図38に示した画像変調素子を2次像面上に拡大投射した時の、対角サイズ、画歪等の変化量の具体例を示す説明図である。A specific example of the amount of change in diagonal size, image distortion, and the like when the image modulation element shown in FIG. 38 is enlarged and projected onto the secondary image plane using the projection optical system according to the third embodiment. It is explanatory drawing. 第3の実施の形態における投射光学系での条件式(1)〜(6)の具体的な数値の一例を示す説明図である。It is explanatory drawing which shows an example of the specific numerical value of conditional expression (1)-(6) in the projection optical system in 3rd Embodiment. 第4の実施の形態における投射光学系の概略構成例を示す説明図である。It is explanatory drawing which shows the schematic structural example of the projection optical system in 4th Embodiment. 第4の実施の形態における投射光学系の要部構成例を示す説明図である。It is explanatory drawing which shows the principal part structural example of the projection optical system in 4th Embodiment. 第4の実施の形態における投射光学系による横収差図である。It is a transverse aberration figure by the projection optical system in a 4th embodiment. 第4の実施の形態における投射光学系のレンズデータの具体例の説明図である。It is explanatory drawing of the specific example of the lens data of the projection optical system in 4th Embodiment. 第4の実施の形態における投射光学系の1次像面側の開口数NA、基準投射距離時の最大半画角ω、最大の1次像面高さyの具体例を示す説明図である。It is explanatory drawing which shows the specific example of numerical aperture NA by the side of the primary image plane of the projection optical system in 4th Embodiment, the maximum half field angle (omega) at the time of a reference | standard projection distance, and the maximum primary image plane height y. . 第4の実施の形態における投射光学系において、画面シフト機能を有するレンズ群と移動量の具体例と、フローティング機能と変倍機能に関するレンズ間隔の具体例を示す説明図である。In the projection optical system in 4th Embodiment, it is explanatory drawing which shows the lens group which has a screen shift function, the specific example of a moving amount, and the specific example of the lens space | interval regarding a floating function and a magnification function. 第4の実施の形態における投射光学系に対応する非球面係数の具体例を説明図である。It is explanatory drawing of the specific example of the aspherical coefficient corresponding to the projection optical system in 4th Embodiment. 第4の実施の形態における画像変調素子の具体例を示す説明図である。It is explanatory drawing which shows the specific example of the image modulation element in 4th Embodiment. 第4の実施の形態における投射光学系を用いて、図49に示した画像変調素子を2次像面上に拡大投射したときのTV歪曲の状態を示した説明図である。It is explanatory drawing which showed the state of TV distortion when the image modulation element shown in FIG. 49 was enlarged and projected on the secondary image surface using the projection optical system in 4th Embodiment. 第4の実施の形態における投射光学系を用いて、図49に示した画像変調素子を2次像面上に拡大投射した時の、対角サイズ、画歪等の変化量の具体例を示す説明図である。49 shows a specific example of the amount of change in diagonal size, image distortion, etc. when the image modulation element shown in FIG. 49 is enlarged and projected onto the secondary image plane using the projection optical system in the fourth embodiment. It is explanatory drawing. 第4の実施の形態における投射光学系での条件式(1)〜(6)の具体的な数値の一例を示す説明図である。It is explanatory drawing which shows an example of the specific numerical value of conditional expression (1)-(6) in the projection optical system in 4th Embodiment. 第5の実施の形態における投射光学系の概略構成例を示す説明図である。It is explanatory drawing which shows the schematic structural example of the projection optical system in 5th Embodiment. 第5の実施の形態における投射光学系の要部構成例を示す説明図である。It is explanatory drawing which shows the principal part structural example of the projection optical system in 5th Embodiment. 第5の実施の形態における投射光学系による横収差図である。It is a transverse aberration figure by the projection optical system in a 5th embodiment. 第5の実施の形態における投射光学系のレンズデータの具体例の説明図である。It is explanatory drawing of the specific example of the lens data of the projection optical system in 5th Embodiment. 第5の実施の形態における投射光学系の1次像面側の開口数NA、基準投射距離時の最大半画角ω、最大の1次像面高さyの具体例を示す説明図である。It is explanatory drawing which shows the specific example of numerical aperture NA by the side of the primary image plane of the projection optical system in 5th Embodiment, the largest half field angle (omega) at the time of a reference | standard projection distance, and the largest primary image surface height y. . 第5の実施の形態における投射光学系において、画面シフト機能を有するレンズ群と移動量の具体例を示す説明図である。In the projection optical system in 5th Embodiment, it is explanatory drawing which shows the specific example of the lens group which has a screen shift function, and a moving amount | distance. 第5の実施の形態における投射光学系において、フローティング機能と変倍機能に関するレンズ間隔の具体例を示す説明図である。In the projection optical system in 5th Embodiment, it is explanatory drawing which shows the specific example of the lens space | interval regarding a floating function and a magnification function. 第5の実施の形態における投射光学系に対応する非球面係数の具体例を説明図である。It is explanatory drawing of the specific example of the aspherical coefficient corresponding to the projection optical system in 5th Embodiment. 第5の実施の形態における画像変調素子の具体例を示す説明図である。It is explanatory drawing which shows the specific example of the image modulation element in 5th Embodiment. 第5の実施の形態における投射光学系を用いて、図61に示した画像変調素子を2次像面上に拡大投射したときのTV歪曲の状態を示した説明図である。FIG. 66 is an explanatory diagram showing a TV distortion state when the image modulation element shown in FIG. 61 is enlarged and projected onto the secondary image plane using the projection optical system according to the fifth embodiment. 第5の実施の形態における投射光学系を用いて、図61に示した画像変調素子を2次像面上に拡大投射した時の、対角サイズ、画歪等の変化量の具体例を示す説明図である。61 shows a specific example of the amount of change in diagonal size, image distortion, etc. when the image modulation element shown in FIG. 61 is enlarged and projected onto the secondary image plane using the projection optical system in the fifth embodiment. It is explanatory drawing. 第5の実施の形態における投射光学系での条件式(1)〜(6)の具体的な数値の一例を示す説明図である。It is explanatory drawing which shows an example of the concrete numerical value of conditional expression (1)-(6) in the projection optical system in 5th Embodiment. 第6の実施の形態における投射光学系の概略構成例を示す説明図である。It is explanatory drawing which shows the schematic structural example of the projection optical system in 6th Embodiment. 第6の実施の形態における投射光学系の要部構成例を示す説明図である。It is explanatory drawing which shows the principal part structural example of the projection optical system in 6th Embodiment. 第6の実施の形態における投射光学系による横収差図である。It is a transverse aberration figure by the projection optical system in a 6th embodiment. 第6の実施の形態における投射光学系のレンズデータの具体例の説明図である。It is explanatory drawing of the specific example of the lens data of the projection optical system in 6th Embodiment. 第6の実施の形態における投射光学系の1次像面側の開口数NA、基準投射距離時の最大半画角ω、最大の1次像面高さyの具体例を示す説明図である。It is explanatory drawing which shows the specific example of numerical aperture NA by the side of the primary image plane of the projection optical system in 6th Embodiment, the maximum half field angle (omega) at the time of a reference | standard projection distance, and the maximum primary image plane height y. . 第6の実施の形態における投射光学系において、画面シフト機能を有するレンズ群と移動量の具体例を示す説明図である。In the projection optical system in 6th Embodiment, it is explanatory drawing which shows the specific example of the lens group which has a screen shift function, and a moving amount | distance. 第6の実施の形態における投射光学系において、フローティング機能と変倍機能に関するレンズ間隔の具体例を示す説明図である。It is explanatory drawing which shows the specific example of the lens space | interval regarding a floating function and a magnification function in the projection optical system in 6th Embodiment. 第6の実施の形態における投射光学系に対応する非球面係数の具体例を説明図である。It is explanatory drawing of the specific example of the aspherical coefficient corresponding to the projection optical system in 6th Embodiment. 第6の実施の形態における画像変調素子の具体例を示す説明図である。It is explanatory drawing which shows the specific example of the image modulation element in 6th Embodiment. 第6の実施の形態における投射光学系を用いて、図73に示した画像変調素子を2次像面上に拡大投射したときのTV歪曲の状態を示した説明図である。FIG. 74 is an explanatory diagram showing a TV distortion state when the image modulation element shown in FIG. 73 is enlarged and projected onto the secondary image plane using the projection optical system according to the sixth embodiment. 第6の実施の形態における投射光学系を用いて、図73に示した画像変調素子を2次像面上に拡大投射した時の、対角サイズ、画歪等の変化量の具体例を示す説明図である。73 shows a specific example of the amount of change in diagonal size, image distortion, etc. when the image modulation element shown in FIG. 73 is enlarged and projected onto the secondary image plane using the projection optical system in the sixth embodiment. It is explanatory drawing. 第6の実施の形態における投射光学系での条件式(1)〜(6)の具体的な数値の一例を示す説明図である。It is explanatory drawing which shows an example of the specific numerical value of conditional expression (1)-(6) in the projection optical system in 6th Embodiment. 第7の実施の形態における投射光学系の概略構成例を示す説明図である。It is explanatory drawing which shows the schematic structural example of the projection optical system in 7th Embodiment. 第7の実施の形態における投射光学系での条件式(8)〜(14)の具体的な数値の一例を示す説明図である。It is explanatory drawing which shows an example of the specific numerical value of conditional expression (8)-(14) in the projection optical system in 7th Embodiment. 第8の実施の形態における投射光学系の概略構成例を示す説明図である。It is explanatory drawing which shows the schematic structural example of the projection optical system in 8th Embodiment. 第8の実施の形態における投射光学系での条件式(8)〜(14)の具体的な数値の一例を示す説明図である。It is explanatory drawing which shows an example of the specific numerical value of conditional expression (8)-(14) in the projection optical system in 8th Embodiment. 第8の実施の形態における投射光学系を用いて液晶プロジェクタ装置を構成した場合の2次像面を含めた光路図の具体例を示す説明図である。It is explanatory drawing which shows the specific example of the optical path figure including the secondary image surface at the time of comprising a liquid crystal projector apparatus using the projection optical system in 8th Embodiment. 第9の実施の形態における投射光学系の概略構成例を示す説明図である。It is explanatory drawing which shows the schematic structural example of the projection optical system in 9th Embodiment. 第9の実施の形態における投射光学系での条件式(8)〜(15)の具体的な数値の一例を示す説明図である。It is explanatory drawing which shows an example of the specific numerical value of conditional expression (8)-(15) in the projection optical system in 9th Embodiment. 第9の実施の形態における投射光学系を用いて液晶プロジェクタ装置を構成した場合の2次像面を含めた光路図の具体例を示す説明図である。It is explanatory drawing which shows the specific example of the optical path figure including the secondary image surface at the time of comprising a liquid crystal projector apparatus using the projection optical system in 9th Embodiment. 第10の実施の形態における投射光学系の概略構成例を示す説明図である。It is explanatory drawing which shows the schematic structural example of the projection optical system in 10th Embodiment. 第10の実施の形態における投射光学系での条件式(8)〜(14)の具体的な数値の一例を示す説明図である。It is explanatory drawing which shows an example of the specific numerical value of conditional expression (8)-(14) in the projection optical system in 10th Embodiment. スクリーンに対する入射角θの説明図である。It is explanatory drawing of incident angle (theta) with respect to a screen. 従来型の液晶プロジェクタ装置で使用される画面シフト機能の一具体例の説明図である。It is explanatory drawing of a specific example of the screen shift function used with the conventional liquid crystal projector apparatus.

符号の説明Explanation of symbols

1…光源、2…照明光学系、3…投射光学系、P…画像変調素子(液晶パネル)、L1…第1光学系、L2…第2光学系、L11…第11光学系、L12…第12光学系、L11a…第11a群、L11b…第11b群、L11c…第11c群、L11d…第11d群、L12a…第12a群、L12b…第12b群、SF…画面シフト機能、MF…変倍機能、FF…フローティング機能、M1…第1平面反射面、M2…第2平面反射面、M3…第3平面反射面、T…平行平板   DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 ... Light source, 2 ... Illumination optical system, 3 ... Projection optical system, P ... Image modulation element (liquid crystal panel), L1 ... 1st optical system, L2 ... 2nd optical system, L11 ... 11th optical system, L12 ... 1st 12 optical systems, L11a ... 11a group, L11b ... 11b group, L11c ... 11c group, L11d ... 11d group, L12a ... 12a group, L12b ... 12b group, SF ... screen shift function, MF ... magnification Function, FF ... Floating function, M1 ... First plane reflecting surface, M2 ... Second plane reflecting surface, M3 ... Third plane reflecting surface, T ... Parallel plate

Claims (12)

光源と、
前記光源から発せられた光束を1次像面となる画像変調素子の面上に均一照射する照明光学系と、
前記画像変調素子で変調された前記1次像面の画像情報を2次像面となるスクリーン上へ拡大投射する投射光学系とを備え、
前記投射光学系は、
正の屈折力を持つ第1光学系と、
凹面反射面を持つ第2光学系とを有し、
前記第1光学系は、
前記1次像面の側で正の屈折力を持つ第11光学系と、
前記第11光学系より前記2次像面の側で負の屈折力を持つ第12光学系と、
前記第11光学系と前記第12光学系との間に配置された第1平面反射面とを有し、
前記第1平面反射面のy軸回転角度β1が30°<|β1|<65°であり、前記第1平面反射面のx軸回転角度α1が3°<α1<15°である
投射型画像表示装置。
A light source;
An illumination optical system for uniformly irradiating the light beam emitted from the light source onto the surface of the image modulation element serving as a primary image plane;
A projection optical system for enlarging and projecting image information of the primary image plane modulated by the image modulation element onto a screen serving as a secondary image plane;
The projection optical system is
A first optical system having a positive refractive power;
A second optical system having a concave reflecting surface;
The first optical system includes:
An eleventh optical system having a positive refractive power on the primary image plane side;
A twelfth optical system having a negative refractive power on the side of the secondary image plane from the eleventh optical system;
A first planar reflecting surface disposed between the eleventh optical system and the twelfth optical system;
The y-axis rotation angle β1 of the first plane reflection surface is 30 ° <| β1 | <65 °, and the x-axis rotation angle α1 of the first plane reflection surface is 3 ° <α1 <15 °. Display device.
前記第1平面反射面が全反射条件を満たす
請求項1記載の投射型画像表示装置。
The projection type image display apparatus according to claim 1, wherein the first planar reflection surface satisfies a total reflection condition.
前記第1光学系と前記第2光学系との間に配置された第2平面反射面とを有し、
前記第2平面反射面のy軸回転角度β2が20°<|β2|<45°であり、前記第2平面反射面のx軸回転角度α2が−15°<α2<−3°である
請求項1または2記載の投射型画像表示装置。
A second planar reflecting surface disposed between the first optical system and the second optical system;
The y-axis rotation angle β2 of the second plane reflection surface is 20 ° <| β2 | <45 °, and the x-axis rotation angle α2 of the second plane reflection surface is −15 ° <α2 <−3 °. Item 3. The projection type image display device according to Item 1 or 2.
前記第1平面反射面のx軸回転角度α1および前記第2平面反射面のx軸回転角度α2が、−20°<α1+α2<20°の関係を満たす
請求項3記載の投射型画像表示装置。
The projection type image display apparatus according to claim 3, wherein an x-axis rotation angle α1 of the first plane reflection surface and an x-axis rotation angle α2 of the second plane reflection surface satisfy a relationship of −20 ° <α1 + α2 <20 °.
前記第1平面反射面のy軸回転角度β1および前記第2平面反射面のy軸回転角度β2が、70°<β1+β2<110°の関係を満たす
請求項3記載の投射型画像表示装置。
The projection type image display apparatus according to claim 3, wherein the y-axis rotation angle β1 of the first plane reflection surface and the y-axis rotation angle β2 of the second plane reflection surface satisfy a relationship of 70 ° <β1 + β2 <110 °.
前記第2光学系が持つ前記凹面反射面の裏面側に前記光源が配置され、
前記第1平面反射面のx軸回転角度α1および前記第2平面反射面のx軸回転角度α2が、−20°<α1+α2<20°の関係を満たし、
前記第1平面反射面のy軸回転角度β1および前記第2平面反射面のy軸回転角度β2が、70°<β1+β2<110°の関係を満たす
請求項3記載の投射型画像表示装置。
The light source is disposed on the back side of the concave reflecting surface of the second optical system,
The x-axis rotation angle α1 of the first plane reflection surface and the x-axis rotation angle α2 of the second plane reflection surface satisfy a relationship of −20 ° <α1 + α2 <20 °,
The projection type image display apparatus according to claim 3, wherein the y-axis rotation angle β1 of the first plane reflection surface and the y-axis rotation angle β2 of the second plane reflection surface satisfy a relationship of 70 ° <β1 + β2 <110 °.
前記第2光学系から前記2次像面に至る光路上に、1つの反射面を持つ第3平面反射面が着脱可能に配置されるとともに、
当該第3平面反射面のx軸回転角度α3が−15°<α3<0°である
請求項1から6のいずれか1項に記載の投射型画像表示装置。
A third planar reflecting surface having one reflecting surface is detachably disposed on the optical path from the second optical system to the secondary image surface, and
7. The projection type image display device according to claim 1, wherein an x-axis rotation angle α <b> 3 of the third plane reflecting surface is −15 ° <α <3><0 °.
前記第3平面反射面が平行平板で構成され、前記第2光学系から前記2次像面に至る光路間に2回の透過と1回の反射を繰り返す
請求項7記載の投射型画像表示装置。
The projection-type image display device according to claim 7, wherein the third planar reflection surface is formed of a parallel plate, and repeats two transmissions and one reflection between optical paths from the second optical system to the secondary image surface. .
前記第2光学系と前記2次像面との間に、屈折率nで構成される透過性を持つ平行平板が配置されるとともに、
当該平行平板のx軸回転角度αtが60°<αt<87°である
請求項1から8のいずれか1項に記載の投射型画像表示装置。
Between the second optical system and the secondary image plane, a parallel parallel plate having a refractive index n is disposed,
9. The projection type image display device according to claim 1, wherein an x-axis rotation angle αt of the parallel plate is 60 ° <αt <87 °.
前記平行平板の前記2次像面側に、前記画像変調素子からの画像情報を遮光する開閉式の遮光板が配置されている
請求項9記載の投射型画像表示装置。
The projection-type image display apparatus according to claim 9, wherein an openable / closable light shielding plate that shields image information from the image modulation element is disposed on the secondary image plane side of the parallel plate.
前記第1光学系は、
当該第1光学系を構成する全ての光学部品が回転対称面を持つ共通の光軸と、
当該第1光学系を構成する一部の光学部品の前記光軸と略垂直方向への移動によって前記2次像面を移動させる画面シフト機能と
を持つ請求項1から10のいずれか1項に記載の投射型画像表示装置。
The first optical system includes:
A common optical axis in which all optical components constituting the first optical system have a rotationally symmetric surface;
11. The screen shift function according to claim 1, further comprising: a screen shift function for moving the secondary image plane by movement of a part of the optical components constituting the first optical system in a direction substantially perpendicular to the optical axis. The projection-type image display device described.
正の屈折力を持つ第1光学系と、凹面反射面を持つ第2光学系とを有して、縮小側の1次像面から拡大側の2次像面へ拡大投射するように構成され、
前記第1光学系は、
前記1次像面の側で正の屈折力を持つ第11光学系と、
前記第11光学系より前記2次像面の側で負の屈折力を持つ第12光学系と、
前記第11光学系と前記第12光学系との間に配置された第1平面反射面とを有し、
前記第1平面反射面のy軸回転角度β1が30°<|β1|<65°であり、前記第1平面反射面のx軸回転角度α1が3°<α1<15°である
投射光学系。
It has a first optical system having a positive refractive power and a second optical system having a concave reflecting surface, and is configured to enlarge and project from the primary image surface on the reduction side to the secondary image surface on the enlargement side. ,
The first optical system includes:
An eleventh optical system having a positive refractive power on the primary image plane side;
A twelfth optical system having a negative refractive power on the side of the secondary image plane from the eleventh optical system;
A first planar reflecting surface disposed between the eleventh optical system and the twelfth optical system;
Projection optical system in which the y-axis rotation angle β1 of the first plane reflection surface is 30 ° <| β1 | <65 °, and the x-axis rotation angle α1 of the first plane reflection surface is 3 ° <α1 <15 °. .
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