JP2009103955A - 電気光学装置の製造方法及び電気光学装置 - Google Patents

Abstract

【課題】従来の表示装置では、適視範囲のバラツキを低減することが困難である。
【解決手段】表示面と、第１の画像を形成する第１の画素及び第２の画像を形成する第２の画素を少なくとも含み、前記表示面側に向けて光を射出する複数の画素と、前記第１の画素から前記表示面を介して第１の範囲に及ぶ前記光を通すとともに、前記第２の画素から前記表示面を介して第２の範囲に及ぶ前記光を通すフィルタ部１７９と、前記複数の画素及びフィルタ部１７９の間に介在する基板６５と、を有する電気光学装置の製造方法であって、基板６５とフィルタ部１７９との間を基板６５の厚みｔに応じて設定された距離ｋに保った状態で、基板６５にフィルタ部１７９を設ける工程を有することを特徴とする電気光学装置の製造方法。
【選択図】図１５

Description

本発明は、電気光学装置の製造方法及び電気光学装置に関する。

従来、電気光学装置の１つとして、複数の方向から見たときに、それぞれの視方向ごとに異なる画像を表示（以下、指向性表示と呼ぶ）することができる表示装置が知られている。このような表示装置としては、開口部と遮光部とを有するバリアを介して複数の視点のそれぞれに、互いに異なる画像を表示することができるものがある（例えば、特許文献１参照）。

特開２００７−１０８５０１号公報（第４頁〜第５頁、図１８）

ここで、画像を形成する表示パネルと上記のバリアとを有する表示装置で、２つの方向に指向性表示を行う仕組みについて、断面図を用いて説明する。表示パネル６００は、図２８（ａ）に示すように、第１の画像を表示する第１の画素６０１と、第２の画像を表示する第２の画素６０３とを有している。バリア６０５の遮光部６０７は、第１の画素６０１の一部６０１ａと、第２の画素６０３の一部６０３ａとに重なっている。つまり、遮光部６０７同士間に位置する開口部６０９は、第１の画素６０１の他部６０１ｂと、第２の画素６０３の他部６０３ｂとに重なる領域に設けられている。

そして、開口部６０９を介して第１の画素６０１を視認できる第１の範囲６１１に第１の画像が表示される。また、開口部６０９を介して第２の画素６０３を視認できる第２の範囲６１３に第２の画像が表示される。つまり、第１の範囲６１１内に視点がある場合、その視点から第１の画像が視認され得る。また、第２の範囲６１３内に視点がある場合、その視点から第２の画像が視認され得る。なお、第１の範囲６１１及び第２の範囲６１３は、互いに重なる範囲６１５を有している。範囲６１５内にある視点からは、第１の画像と第２の画像とが重畳した状態で視認される。

第１の範囲６１１から範囲６１５を除いた範囲６１９ａ内にある視点からは、第１の画像だけが視認され得る。同様に、第２の範囲６１３から範囲６１５を除いた範囲６１９ｂ内にある視点からは、第２の画像だけが視認され得る。範囲６１９ａ及び範囲６１９ｂは、それぞれ、適視範囲６１９ａ及び適視範囲６１９ｂと呼ばれる。これらの適視範囲６１９ａ及び適視範囲６１９ｂは、図２８（ｂ）に示すように、表示パネル６００とバリア６０５との間の距離Ｌを短縮することによって拡大され得る。

ところで、バリアが重ね合わされる表示パネルは、多くの場合、一対のガラス基板間に表示素子が介在した構成を有している。このような構成で適視範囲を拡大するには、バリアが重ね合わされる側のガラス基板を薄くしなければならない。この場合、ガラス基板に研磨加工などを施すことによってガラス基板を薄くすることが考えられる。

しかしながら、ガラス基板に研磨加工などを施すと、研磨加工における加工バラツキによってガラス基板の厚みにバラツキが発生する。このことは、複数の表示装置間で適視範囲にバラツキが発生することを意味する。
つまり、従来の表示装置では、適視範囲のバラツキを低減することが困難であるという未解決の課題がある。

本発明は、上述の課題の少なくとも一部を解決するためになされたものであり、以下の形態又は適用例として実現され得る。

［適用例１］表示面と、第１の画像を形成する第１の画素及び第２の画像を形成する第２の画素を少なくとも含み、前記表示面側に向けて光を射出する複数の画素と、前記光のうちで、前記第１の画素から前記表示面を介して第１の範囲に及ぶ光を通すとともに、前記第２の画素から前記表示面を介して第２の範囲に及ぶ光を通すフィルタと、前記複数の画素及び前記フィルタの間に介在する基板と、を有する電気光学装置の製造方法であって、前記基板と前記フィルタとの間を前記基板の厚みに応じて設定された距離に保った状態で、前記基板に前記フィルタを設ける工程を有することを特徴とする電気光学装置の製造方法。

適用例１の製造方法にかかる電気光学装置は、表示面と、複数の画素と、フィルタと、基板とを有している。基板は、複数の画素とフィルタとの間に介在している。複数の画素には、少なくとも、第１の画素と第２の画素とが含まれる。フィルタは、第１の画素から表示面を介して第１の範囲に及ぶ光を通すとともに、第２の画素から表示面を介して第２の範囲に及ぶ光を通す。つまり、第１の画素から表示面側に向けて射出された光は、フィルタによって第１の範囲に及ぶ。また、第２の画素から表示面側に向けて射出された光は、フィルタによって第２の範囲に及ぶ。これにより、第１の範囲からは、第１の画素によって形成される第１の画像が視認され、第２の範囲からは、第２の画素によって形成される第２の画像が視認され得る。つまり、適用例１の製造方法にかかる電気光学装置では、少なくとも２つの方向に指向性表示を行うことができる。

適用例１の電気光学装置の製造方法は、基板とフィルタとの間を基板の厚みに応じて設定された距離に保った状態で、基板にフィルタを設ける工程を有している。この製造方法では、基板とフィルタとの間を基板の厚みに応じて設定された距離に保つことができる。従って、複数の電気光学装置間で基板の厚みが異なっていても、複数の画素とフィルタとの間の距離をそろえやすくすることができる。これにより、複数の電気光学装置間での適視範囲のバラツキを低減しやすくすることができる。

［適用例２］上記の電気光学装置の製造方法であって、前記基板に前記フィルタを設ける前記工程では、前記基板と前記フィルタとを、接着剤を介して接合することを特徴とする電気光学装置の製造方法。

適用例２では、基板にフィルタを設ける工程で、基板とフィルタとを、接着剤を介して接合するので、例えば基板とフィルタとを溶着などで接合する場合に比較して、基板にフィルタを設ける際に基板にかかる負荷を軽減することができる。

［適用例３］上記の電気光学装置の製造方法であって、前記基板に前記フィルタを設ける前記工程の前に、前記基板及び前記フィルタの少なくとも一方に、前記距離を調整するスペーサ層を設ける工程を有することを特徴とする電気光学装置の製造方法。

適用例３では、基板にフィルタを設ける工程の前に、基板及びフィルタの少なくとも一方にスペーサ層を設けるので、基板とフィルタとの間を基板の厚みに応じて設定された距離に保ちやすくすることができる。

［適用例４］上記の電気光学装置の製造方法であって、前記スペーサ層を設ける前記工程では、前記基板に前記スペーサ層を設けることを特徴とする電気光学装置の製造方法。

適用例４では、スペーサ層を設ける工程で、基板にスペーサ層を設けるので、スペーサ層で基板の補強を図ることができる。

［適用例５］上記の電気光学装置の製造方法であって、前記スペーサ層を設ける前記工程では、前記フィルタに前記スペーサ層を設けることを特徴とする電気光学装置の製造方法。

適用例５では、スペーサ層を設ける工程で、フィルタにスペーサ層を設けるので、スペーサ層でフィルタの保護を図ることができる。

［適用例６］上記の電気光学装置の製造方法であって、前記基板に前記フィルタを設ける前記工程の前に、前記基板を薄くする工程を有することを特徴とする電気光学装置の製造方法。

適用例６では、基板にフィルタを設ける工程の前に、基板を薄くするので、複数の画素とフィルタとの間の距離を低減することができる。これにより、適視範囲の拡大が図られる。

［適用例７］上記の電気光学装置の製造方法であって、前記複数の画素は、前記基板と、前記基板に対向した状態で前記基板に接合された第２基板との間に介在しており、前記基板を薄くする前記工程では、前記基板に前記第２基板が接合された状態で前記基板を薄くすることを特徴とする電気光学装置の製造方法。

適用例７では、基板に第２基板が接合された状態で基板を薄くするので、薄くした基板の取り扱いが容易になる。

［適用例８］上記の電気光学装置の製造方法であって、前記基板に前記フィルタを設ける前記工程の前に、前記基板の厚みを測定する工程を有することを特徴とする電気光学装置の製造方法。

適用例８では、基板にフィルタを設ける工程の前に、基板の厚みを測定するので、厚みを測定した結果に基づいて基板とフィルタとの間の距離を設定することができる。

［適用例９］上記の電気光学装置の製造方法であって、前記基板に前記フィルタを設ける前記工程では、前記接着剤の量で前記基板と前記フィルタとの間を前記距離に保つことを特徴とする電気光学装置の製造方法。

適用例９では、基板にフィルタを設ける工程において、接着剤の量で基板とフィルタとの間を基板の厚みに応じて設定された距離に保つので、基板とフィルタとを、基板とフィルタとの間を基板の厚みに応じて設定された距離に保ちつつ接合することができる。

［適用例１０］表示面と、第１の画像を形成する第１の画素及び第２の画像を形成する第２の画素を少なくとも含み、前記表示面側に向けて光を射出する複数の画素と、前記光のうちで、前記第１の画素から前記表示面を介して第１の範囲に及ぶ光を通すとともに、前記第２の画素から前記表示面を介して第２の範囲に及ぶ光を通すフィルタと、前記複数の画素及び前記フィルタの間に介在する基板と、前記基板及び前記フィルタの間に設けられ、前記基板及び前記フィルタの間の距離を調整するスペーサ層と、を有することを特徴とする電気光学装置。

適用例１０の電気光学装置は、表示面と、複数の画素と、フィルタと、基板とを有している。基板は、複数の画素とフィルタとの間に介在している。複数の画素には、少なくとも、第１の画素と第２の画素とが含まれる。フィルタは、第１の画素から表示面を介して第１の範囲に及ぶ光を通すとともに、第２の画素から表示面を介して第２の範囲に及ぶ光を通す。つまり、第１の画素から表示面側に向けて射出された光は、フィルタによって第１の範囲に及ぶ。また、第２の画素から表示面側に向けて射出された光は、フィルタによって第２の範囲に及ぶ。これにより、第１の範囲からは、第１の画素によって形成される第１の画像が視認され、第２の範囲からは、第２の画素によって形成される第２の画像が視認され得る。つまり、適用例１０の電気光学装置では、少なくとも２つの方向に指向性表示を行うことができる。
ここで、適用例１０の電気光学装置では、基板とフィルタとの間に、基板とフィルタとの間の距離を調整するスペーサ層が設けられている。従って、複数の電気光学装置間で基板の厚みが異なっていても、複数の画素とフィルタとの間の距離をそろえやすくすることができる。これにより、複数の電気光学装置間での適視範囲のバラツキの低減が図られる。

［適用例１１］表示面と、第１の画像を形成する第１の画素及び第２の画像を形成する第２の画素を少なくとも含み、前記表示面側に向けて光を射出する複数の画素と、前記光のうちで、前記第１の画素から前記表示面を介して第１の範囲に及ぶ光を通すとともに、前記第２の画素から前記表示面を介して第２の範囲に及ぶ光を通す光学手段と、前記複数の画素及び前記光学手段の間に介在する基板と、を有する電気光学装置の製造方法であって、前記基板と前記光学手段との間を前記基板の厚みに応じて設定された距離に保った状態で、前記基板に前記光学手段を設ける工程を有することを特徴とする電気光学装置の製造方法。

［適用例１２］表示面と、第１の画像を形成する第１の画素及び第２の画像を形成する第２の画素を少なくとも含み、前記表示面側に向けて光を射出する複数の画素と、前記光のうちで、前記第１の画素から前記表示面を介して第１の範囲に及ぶ光を通すとともに、前記第２の画素から前記表示面を介して第２の範囲に及ぶ光を通す光学手段と、前記複数の画素及び前記光学手段の間に介在する基板と、前記基板及び前記光学手段の間に設けられ、前記基板及び前記光学手段の間の距離を調整するスペーサ層と、を有することを特徴とする電気光学装置。

実施形態について、電気光学装置の１つである表示装置を例に、図面を参照しながら説明する。
実施形態における表示装置１は、図１に示すように、表示パネル３と、照明装置５とを有している。

ここで、表示パネル３には、複数の画素７が設定されている。複数の画素７は、表示領域８内で、図中のＸ方向及びＹ方向に配列しており、Ｘ方向を行方向とし、Ｙ方向を列方向とするマトリクスＭを構成している。表示装置１は、照明装置５から表示パネル３に入射された光を、表示パネル３に設定されている複数の画素７から選択的に表示面９を介して表示パネル３の外に射出することで、表示面９に画像を表示することができる。なお、表示領域８とは、画像が表示され得る領域である。図１では、構成をわかりやすく示すため、画素７が誇張され、且つ画素７の個数が減じられている。

表示パネル３は、図１中のＡ−Ａ線における断面図である図２に示すように、液晶パネル１１と、偏光板１３ａ及び１３ｂと、フィルタ基板１４とを有している。
液晶パネル１１は、駆動素子基板１５と、対向基板１７と、液晶１９とを有している。
駆動素子基板１５には、表示面９側すなわち液晶１９側に、複数の画素７のそれぞれに対応して、後述するスイッチング素子などが設けられている。

対向基板１７は、駆動素子基板１５よりも表示面９側で駆動素子基板１５に対向し、且つ駆動素子基板１５との間に隙間を有した状態で設けられている。対向基板１７には、表示パネル３における表示面９の裏面に相当する面である底面２３側すなわち液晶１９側に、後述する対向電極などが設けられている。

液晶１９は、駆動素子基板１５及び対向基板１７の間に介在しており、表示パネル３の周縁よりも内側で表示領域８を囲むシール材２５によって、駆動素子基板１５及び対向基板１７の間に封止されている。なお、本実施形態では、液晶１９として、ＴＮ（Twisted Nematic）型が採用されている。

フィルタ基板１４は、対向基板１７よりも表示面９側で対向基板１７に対向した状態で設けられている。
偏光板１３ａは、駆動素子基板１５よりも底面２３側に設けられている。偏光板１３ｂは、フィルタ基板１４よりも表示面９側に設けられている。表示装置１では、偏光板１３ａ及び１３ｂは、偏光板１３ａにおける光の透過軸の方向と、偏光板１３ｂにおける光の透過軸の方向とが、互いに直交する方向に設定されている。偏光板１３ａ及び１３ｂは、それぞれ、透過軸の方向に偏光軸を有する光を透過させることができる。

照明装置５は、表示パネル３の底面２３側に設けられており、導光板３１と、光源３３とを有している。導光板３１は、図２で見て表示パネル３の下側に設けられており、表示パネル３の底面２３に対向する光射出面３５ｂを有している。
光源３３は、例えば、ＬＥＤ（Light Emitting Diode）や冷陰極管などが採用され、図２で見て導光板３１の側面３５ａの右方に設けられている。

光源３３からの光は、導光板３１の側面３５ａに入射される。導光板３１に入射された光は、導光板３１の中で反射を繰り返しながら光射出面３５ｂから射出される。光射出面３５ｂから射出された光は、表示パネル３の底面２３から、偏光板１３ａを介して表示パネル３に入射される。なお、導光板３１には、必要に応じて、光射出面３５ｂに拡散板が設けられ、底面３５ｃに反射板が設けられる。

表示パネル３に設定されている複数の画素７は、それぞれ、表示面９から射出する光の色が、図３に示すように、赤系（Ｒ）、緑系（Ｇ）及び青系（Ｂ）のうちの１つに設定されている。つまり、マトリクスＭを構成する複数の画素７は、Ｒの光を射出する画素７ｒと、Ｇの光を射出する画素７ｇと、Ｂの光を射出する画素７ｂとを含んでいる。

ここで、Ｒの色は、純粋な赤の色相に限定されず、橙等を含む。Ｇの色は、純粋な緑の色相に限定されず、青緑や黄緑を含む。Ｂの色は、純粋な青の色相に限定されず、青紫や青緑等を含む。他の観点から、Ｒの色を呈する光は、光の波長のピークが、可視光領域で５７０ｎｍ以上の範囲にある光であると定義され得る。また、Ｇの色を呈する光は、光の波長のピークが５００ｎｍ〜５６５ｎｍの範囲にある光であると定義され得る。Ｂの色を呈する光は、光の波長のピークが４１５ｎｍ〜４９５ｎｍの範囲にある光であると定義され得る。

マトリクスＭでは、Ｙ方向に沿って並ぶ複数の画素７が、１つの画素列４１を構成している。１つの画素列４１内の各画素７は、光の色がＲ、Ｇ及びＢのうちの１つに設定されている。つまり、マトリクスＭは、複数の画素７ｒがＹ方向に配列した画素列４１ｒと、複数の画素７ｇがＹ方向に配列した画素列４１ｇと、複数の画素７ｂがＹ方向に配列した画素列４１ｂとを有している。そして、マトリクスＭでは、画素列４１ｒ、画素列４１ｇ及び画素列４１ｂが、この順でＸ方向に沿って反復して並んでいる。

また、表示装置１では、マトリクスＭを構成する複数の画素７は、図４に示すように、複数の第１の画素７₁と、複数の第２の画素７₂とにわけられている。表示装置１は、照明装置５から表示パネル３に入射された光を、複数の第１の画素７₁から選択的に表示面９を介して表示パネル３の外に射出することで、表示面９に第１の画像を表示することができる。また、表示装置１は、照明装置５から表示パネル３に入射された光を、複数の第２の画素７₂から選択的に表示面９を介して表示パネル３の外に射出することで、表示面９に第２の画像を表示することができる。

なお、第１の画像と第２の画像とは、互いに異なる画像であることと、互いに同じ画像であることとが問われない。また、以下においては、画素７という表記と、画素７ｒ、７ｇ及び７ｂという表記と、第１の画素７₁及び第２の画素７₂という表記とが、適宜、使いわけられる。また、第１の画素７₁及び第２の画素７₂のそれぞれに対してＲ、Ｇ及びＢが識別される場合、第１の画素７ｒ₁、７ｇ₁及び７ｂ₁、並びに、第２の画素７ｒ₂、７ｇ₂及び７ｂ₂という表記が用いられる。

表示装置１では、第１の画素７₁と第２の画素７₂とが、Ｘ方向に交互に並んでいる。１つの画素列４１は、複数の第１の画素７₁又は複数の第２の画素７₂によって構成されている。つまり、マトリクスＭは、複数の第１の画素７₁がＹ方向に沿って配列した画素列４１₁と、複数の第２の画素７₂がＹ方向に沿って配列した画素列４１₂とを有している。なお、以下においては、画素列４１という表記と、画素列４１ｒ、画素列４１ｇ及び画素列４１ｂという表記と、画素列４１₁及び画素列４１₂という表記とが、適宜、使いわけられる。また、画素列４１₁及び画素列４１₂のそれぞれに対してＲ、Ｇ及びＢが識別される場合、画素列４１ｒ₁、４１ｇ₁及び４１ｂ₁、並びに、画素列４１ｒ₂、４１ｇ₂及び４１ｂ₂という表記が用いられる。

表示装置１では、マトリクスＭを構成する複数の画素７は、Ｘ方向に隣り合う第１の画素７₁及び第２の画素７₂の２つの画素７ごとに、これらの２つの画素７を１組とする複数組の画素群４３にわけられている。各画素群４３での第１の画素７₁及び第２の画素７₂の並び順は、複数組の画素群４３間で統一している。本実施形態では、第１の画素７₁と第２の画素７₂とが、図４で見て、Ｘ方向に左側から右側に向かってこの順で並んでいる。なお、第１の画素７₁及び第２の画素７₂の並び順は、複数組の画素群４３間で統一していれば、いずれが左側でも右側でもよい。
マトリクスＭにおいて、複数組の画素群４３は、図５に示すように、Ｘ方向及びＹ方向のそれぞれの方向に沿って並んでいる。つまり、複数組の画素群４３は、マトリクス状に配列している。

ここで、液晶パネル１１の駆動素子基板１５及び対向基板１７、並びにフィルタ基板１４のそれぞれの構成について、詳細を説明する。
駆動素子基板１５は、図４中のＣ−Ｃ線における断面図である図６に示すように、第１基板５１を有している。第１基板５１は、例えばガラスなどの光透過性を有する材料で構成されており、表示面９側に向けられた第１面５３ａと、底面２３側に向けられた第２面５３ｂとを有している。

第１基板５１の第１面５３ａには、ゲート絶縁層５５が設けられている。ゲート絶縁層５５の表示面９側には、絶縁層５７が設けられている。絶縁層５７の表示面９側には、配向膜５９が設けられている。
また、駆動素子基板１５には、各画素７に対応して、スイッチング素子の１つであるＴＦＴ（Thin Film Transistor）素子６１と、画素電極６３とが、第１基板５１の第１面５３ａ側に設けられている。
ＴＦＴ素子６１は、ゲート電極１６５と、半導体層１６７と、ソース電極１６９と、ドレイン電極１７１とを有している。

ゲート電極１６５は、第１基板５１の第１面５３ａに設けられており、ゲート絶縁層５５によって表示面９側から覆われている。なお、ゲート絶縁層５５の材料としては、例えば、ＳｉＯやＳｉＮなどの光透過性を有する材料が採用され得る。
半導体層１６７は、例えばアモルファスシリコンで構成されており、ゲート絶縁層５５を挟んでゲート電極１６５に対向する位置に設けられている。半導体層１６７には、図示しないソース領域と、ドレイン領域とが設けられている。

ソース電極１６９は、ゲート絶縁層５５の表示面９側に設けられており、一部が半導体層１６７のソース領域に重なっている。
ドレイン電極１７１は、ゲート絶縁層５５の表示面９側に設けられており、一部が半導体層１６７のドレイン領域に重なっている。
ＴＦＴ素子６１は、絶縁層５７によって表示面９側から覆われている。なお、絶縁層５７の材料としては、例えば、ＳｉＯ、ＳｉＮ、アクリル系の樹脂などの光透過性を有する材料が採用され得る。

画素電極６３は、例えばＩＴＯ（Indium Tin Oxide）等の酸化導電膜や、Ｍｇ及びＡｇ等の金属が光透過性を有するように薄膜化したものなどの光透過性を有する材料で構成され、絶縁層５７の表示面９側に設けられている。画素電極６３は、絶縁層５７に設けられたコンタクトホール１７３を介してドレイン電極１７１につながっている。
配向膜５９は、例えばポリイミドなどの光透過性を有する材料で構成されており、絶縁層５７及び画素電極６３を表示面９側から覆っている。なお、配向膜５９には、配向処理が施されている。また、第１基板５１に設けられたゲート絶縁層５５、絶縁層５７及び配向膜５９並びにＴＦＴ素子６１及び画素電極６３は、駆動素子部１７５と呼ばれる。

対向基板１７は、第２基板６５を有している。第２基板６５は、例えばガラスなどの光透過性を有する材料で構成されており、表示面９側に向けられた外向面６６ａと、底面２３側に向けられた対向面６６ｂとを有している。
第２基板６５の対向面６６ｂには、各画素７を区画する光吸収層７１が領域７２にわたって設けられている。表示装置１では、各画素７は、光吸収層７１によって囲まれた領域であると定義され得る。光吸収層７１は、光吸収性を有する材料で構成されており、平面視で格子状に設けられている。

また、第２基板６５の対向面６６ｂには、光吸収層７１によって囲まれた各領域、すなわち各画素７の領域を底面２３側から覆うカラーフィルタ７３が設けられている。
ここで、カラーフィルタ７３は、入射された光のうち所定の波長域の光を透過させることができる。カラーフィルタ７３は、画素７ｒ、画素７ｇ及び画素７ｂごとに異なる色に着色された樹脂などで構成されている。画素７ｒに対応するカラーフィルタ７３は、Ｒの光を透過させることができる。画素７ｇに対応するカラーフィルタ７３はＧの光を透過させ、画素７ｂに対応するカラーフィルタ７３はＢの光を透過させることができる。なお、以下において、各カラーフィルタ７３に対してＲ、Ｇ及びＢが識別される場合に、カラーフィルタ７３ｒ、７３ｇ及び７３ｂという表記が用いられる。

光吸収層７１及びカラーフィルタ７３の底面２３側には、オーバーコート層７５が設けられている。オーバーコート層７５は、光透過性を有する樹脂などで構成されており、光吸収層７１及びカラーフィルタ７３を底面２３側から覆っている。
オーバーコート層７５の底面２３側には、対向電極７７が設けられている。対向電極７７は、例えばＩＴＯ等の酸化導電膜や、Ｍｇ及びＡｇ等の金属が光透過性を有するように薄膜化したものなどの光透過性を有する材料で構成されている。対向電極７７は、マトリクスＭを構成する複数の画素７に、平面視で重なる領域に設けられている。なお、対向電極７７は、図示しない共通線につながっている。
対向電極７７の底面２３側には、配向膜７９が設けられている。配向膜７９は、例えばポリイミドなどの光透過性を有する材料で構成されており、対向電極７７を底面２３側から覆っている。配向膜７９には、配向処理が施されている。また、第２基板６５に設けられた光吸収層７１、カラーフィルタ７３及びオーバーコート層７５、並びに対向電極７７及び配向膜７９は、対向素子部１７７と呼ばれる。

なお、前述したＴＦＴ素子６１は、図６で見て左側の領域７２内に設けられており、ドレイン電極１７１が領域７２内から画素７の領域内に延長されている。Ｘ方向に隣り合う画素７間において、ゲート電極１６５同士は、図示しないゲート線によって接続されている。また、Ｙ方向に隣り合う画素７間において、ソース電極１６９同士は、図示しないデータ線によって接続されている。

駆動素子基板１５及び対向基板１７の間に介在する液晶１９は、配向膜５９と配向膜７９との間に介在している。表示装置１では、図２に示すシール材２５は、図６に示す第１基板５１の第１面５３ａと、第２基板６５の対向面６６ｂとによって挟持されている。つまり、表示装置１では、液晶１９は、第１基板５１及び第２基板６５によって保持されている。なお、シール材２５は、配向膜５９及び配向膜７９の間に設けられていてもよい。この場合、液晶１９は、駆動素子基板１５及び対向基板１７に保持されているとみなされ得る。

フィルタ基板１４は、第３基板８１を有している。第３基板８１は、例えばガラスなどの光透過性を有する材料で構成されており、表示面９側に向けられた外向面８２ａと、底面２３側に向けられた対向面８２ｂとを有している。
第３基板８１の対向面８２ｂには、遮光膜８５が設けられている。遮光膜８５は、例えば、カーボンブラックなどを含有する樹脂や、クロムなどの光吸収性が高い材料で構成され得る。遮光膜８５は、Ｙ方向に並ぶ複数の画素７間にわたって設けられている。

遮光膜８５の底面２３側には、オーバーコート層８７が設けられている。オーバーコート層８７は、例えばアクリル樹脂などの光透過性を有する材料で構成されており、遮光膜８５を底面２３側から覆っている。
上記の構成を有するフィルタ基板１４は、対向面８２ｂが第２基板６５の外向面６６ａに向けられた状態で、オーバーコート層８７が外向面６６ａに、光透過性を有する接着剤８９を介して貼り付けられている。

ここで、遮光膜８５は、図６中のＤ−Ｄ線における断面図である図７に示すように、画素群４３ごとに設けられている。つまり、フィルタ基板１４は、複数の遮光膜８５を有している。各遮光膜８５は、画素群４３を構成する第１の画素７₁及び第２の画素７₂間にまたがる領域に設けられている。
また、各遮光膜８５は、遮光膜８５と画素群４３とを示す平面図である図８に示すように、Ｙ方向に並ぶ複数組の画素群４３間にわたって設けられている。つまり、１つの遮光膜８５は、Ｙ方向に配列する複数組の画素群４３に対応している。なお、図８では、構成をわかりやすく示すため、各遮光膜８５にハッチングが施されている。

そして、Ｘ方向に隣り合う遮光膜８５同士間には、開口部９１が設けられている。換言すれば、複数の遮光膜８５は、マトリクスＭを構成する複数の画素７間にわたって一連した遮光膜に、Ｘ方向に隣り合う画素群４３間に開口部９１を設けた構成を有していると表現され得る。
開口部９１と、開口部９１を挟んでＸ方向に隣り合う２つの遮光膜８５とは、フィルタ９２を構成している。

なお、開口部９１内には、図７に示すように、オーバーコート層８７が及んでいる。つまり、オーバーコート層８７は、複数の遮光膜８５及び第３基板８１の対向面８２ｂを、底面２３側から覆っている。また、第３基板８１に設けられた複数の遮光膜８５及びオーバーコート層８７は、フィルタ部１７９と呼ばれる。
対向電極７７は、図７に示すように、複数の画素７間にわたって一連した状態で設けられており、複数の画素７間にわたって共通して機能する。各画素電極６３は、平面視で周縁部が領域７２内に及んでいる。

上記の構成を有する表示装置１では、照明装置５から表示パネル３に光を照射した状態で液晶１９の配向状態を画素７ごとに変化させることにより、表示が制御される。液晶１９の配向状態は、ＴＦＴ素子６１のＯＦＦ状態及びＯＮ状態を切り替えることによって変化し得る。

図９（ａ）は、ＴＦＴ素子６１がＯＦＦ状態のときの偏光状態を示す図であり、図９（ｂ）は、ＴＦＴ素子６１がＯＮ状態のときの偏光状態を示す図である。
表示装置１では、偏光板１３ａの透過軸の方向９３は、図９（ａ）及び図９（ｂ）に示すように、偏光板１３ｂの透過軸の方向９５に直交している。配向膜５９の配向方向９７は、透過軸の方向９５に直交している。配向膜７９の配向方向９９は、透過軸の方向９５に沿っている。
なお、図９（ａ）及び図９（ｂ）において、Ｘ'方向及びＹ'方向は、Ｘ'方向が平面視で偏光板１３ｂの透過軸の方向９５に沿った方向を示し、Ｙ'方向がＸＹ平面内でＸ'方向に直交する方向を示している。Ｘ'方向及びＹ'方向は、ＸＹ平面内で互いに直交する任意の２方向である。

照明装置５から偏光板１３ａに入射された入射光は、偏光板１３ａの透過軸の方向９３すなわちＹ'方向に沿った偏光軸を有する直線偏光１０３として液晶１９に入射される。
液晶１９に入射された直線偏光１０３は、ＴＦＴ素子６１がＯＦＦ状態のときに、図９（ａ）に示すように、液晶１９の旋光性によってＸ'方向に沿った偏光軸を有する直線偏光１０５として偏光板１３ｂに向けて射出される。偏光板１３ｂに向けて射出された直線偏光１０５は、偏光軸の方向が偏光板１３ｂの透過軸の方向９５に沿っているため、偏光板１３ｂを透過する。

他方で、ＴＦＴ素子６１がＯＮ状態のときに、直線偏光１０３は、図９（ｂ）に示すように、偏光状態が維持されたまま直線偏光１０３として偏光板１３ｂに向けて射出される。偏光板１３ｂに向けて射出された直線偏光１０３は、偏光軸の方向が偏光板１３ｂの透過軸の方向９５に対して直交しているため、偏光板１３ｂによって吸収される。

表示装置１では、ＴＦＴ素子６１がＯＦＦ状態のときに表示面９から光が射出され、ＴＦＴ素子６１がＯＮ状態のときに表示面９からの光の射出が遮断される所謂ノーマリホワイトの表示モードが採用されている。しかしながら、表示モードは、ノーマリホワイトに限定されず、ノーマリブラックも採用され得る。

ここで、表示装置１は、前述したように、複数の遮光膜８５を有している。Ｘ方向に隣り合う遮光膜８５同士間には、開口部９１が設けられている。照明装置５から各画素７に入射された光は、開口部９１を介して表示面９に向けて射出される。
このとき、第１の画素７ｒ₁、７ｇ₁及び７ｂ₁のそれぞれから表示面９側に向けて射出された光１０７ａは、複数組の画素群４３及び複数の遮光膜８５を模式的に示す断面図である図１０に示すように、各開口部９１を介して第１の範囲１０９に及ぶ。
また、第２の画素７ｒ₂、７ｇ₂及び７ｂ₂のそれぞれから表示面９側に向けて射出された光１０７ｂは、各開口部９１を介して第２の範囲１１１に及ぶ。なお、図１０に示す断面は、図８中のＥ−Ｅ線における断面に相当している。

第１の範囲１０９からは、開口部９１を介して第１の画素７₁からの光１０７ａが視認され得る。第２の範囲１１１からは、開口部９１を介して第２の画素７₂からの光１０７ｂが視認され得る。第１の範囲１０９内に視点があれば、複数の第１の画素７₁からの光１０７ａによって形成される第１の画像が視認され得る。第２の範囲１１１内に視点があれば、複数の第２の画素７₂からの光１０７ｂによって形成される第２の画像が視認され得る。つまり、表示装置１では、図８に示すフィルタ９２は、第１の画素７₁から第１の範囲１０９に及ぶ光１０７ａを通すとともに、第２の画素７₂から第２の範囲１１１に及ぶ光１０７ｂを通す機能を有している。これにより、第１の画像を第１の範囲１０９に表示し、第２の画像を、第１の範囲１０９とは異なる第２の範囲１１１に表示する所謂指向性表示を行うことができる。

第１の範囲１０９及び第２の範囲１１１は、互いに重複する範囲１１３を有している。この範囲１１３からは、第１の画像と第２の画像とが重畳した状態で視認される。第１の範囲１０９から範囲１１３を除いた範囲１１５ａ（以下、適視範囲１１５ａと呼ぶ）からは、第１の画像だけが視認され得る。また、第２の範囲１１１から範囲１１３を除いた範囲１１５ｂ（以下、適視範囲１１５ｂと呼ぶ）からは、第２の画像だけが視認され得る。

表示装置１は、複数の第１の画素７₁から射出された光１０７ａが第１の範囲１０９の両端のそれぞれにおいて交差し、複数の第２の画素７₂から射出された光１０７ｂが第２の範囲１１１の両端のそれぞれにおいて交差するように構成されている。これは、Ｘ方向に隣り合う遮光膜８５同士間の間隔Ｐａを、Ｘ方向に隣り合う画素群４３同士間の間隔Ｐｂよりも短く設定することによって実現され得る。
これにより、適視範囲１１５ａ内にある任意の視点から視認される光の量を、複数の第１の画素７₁間で同等にすることができる。同様に、適視範囲１１５ｂ内にある任意の視点から視認される光の量を、複数の第２の画素７₂間で同等にすることができる。

ここで、表示装置１の製造方法について説明する。
表示装置１の製造方法は、基板の製造工程と、液晶パネル１１の製造工程と、表示パネル３の製造工程と、表示装置１の製造工程とに大別される。
まず、基板の製造工程について説明する。
基板の製造工程は、駆動素子基板１５の製造工程と、対向基板１７の製造工程と、フィルタ基板１４の製造工程とにわけられる。

駆動素子基板１５の製造工程では、図１１（ａ）に示すように、１枚のマザー基板５１ｍに、液晶パネル１１の複数個分に相当する複数の駆動素子部１７５を形成する。複数の駆動素子部１７５は、１つの液晶パネル１１に相当する部位１２１ごとに設けられる。
対向基板１７の製造工程では、図１１（ｂ）に示すように、１枚のマザー基板６５ｍに、液晶パネル１１の複数個分に相当する複数の対向素子部１７７を形成する。複数の対向素子部１７７は、１つの液晶パネル１１に相当する部位１２１ごとに設けられる。

フィルタ基板１４の製造工程では、まず、図１２（ａ）に示すように、１枚のマザー基板８１ｍに、液晶パネル１１の複数個分に相当する領域にわたって遮光膜１８１が形成される。
次いで、この遮光膜１８１をパターニングすることによって、１つの液晶パネル１１に相当する部位１２１ごとに、図７に示す複数の遮光膜８５が形成される。
次いで、各部位１２１に形成された複数の遮光膜８５は、オーバーコート層８７によって覆われる。これにより、各部位１２１には、図１２（ｂ）に示すように、フィルタ部１７９が形成される。
次いで、複数のフィルタ部１７９が形成されたマザー基板８１ｍを、図１２（ｃ）に示すように、部位１２１ごとに切断することによって、複数のフィルタ基板１４が製造される。

液晶パネル１１の製造工程では、まず、複数の駆動素子部１７５が形成されたマザー基板５１ｍと、複数の対向素子部１７７が形成されたマザー基板６５ｍとを、図１３（ａ）に示すように、部位１２１ごとに環状に設けられたシール材２５を介して接合する。このとき、部位１２１ごとに設けられるシール材２５は、平面視で環状の輪郭の一部を欠いた状態で設けられる。シール材２５の環状の輪郭の一部を欠いた部分は、液晶１９の注入口となる。

次いで、マザー基板６５ｍの面１７８ａにエッチング処理やＣＭＰ（Chemical Mechanical Polishing）処理などを施して、図１３（ｂ）に示すように、マザー基板６５ｍを薄くする。このとき、マザー基板６５ｍには、面１７８ａにエッチング処理やＣＭＰ処理などが施されることにより、外向面６６ａが形成される。
次いで、部位１２１ごとに液晶１９を注入口から注入してから、注入口を塞いで液晶１９を封入する。
次いで、各部位１２１を切断することにより、図１４に示す液晶パネル１１が製造され得る。

表示パネル３の製造工程では、まず、図１４に示すように、液晶パネル１１の第２基板６５の厚みｔを、例えばレーザー変位計１２３などで測定する。
次いで、図１５に示すように、フィルタ基板１４と対向基板１７とを、接着剤８９を介して接合する。このとき、フィルタ部１７９と第２基板６５との間は、第２基板６５の厚みｔに応じた距離ｋに保たれる。

距離ｋは、対向素子部１７７とフィルタ部１７９との間の距離ｋ₀が許容範囲内となるように、厚みｔの基準値からの差に応じて設定される。厚みｔが基準値と同等である場合、距離ｋは、基準距離ｋ₁に設定される。そして、例えば、厚みｔが基準値よりもｔ₀だけ薄かった場合、距離ｋは、基準距離ｋ₁に厚みｔの基準値からの差ｔ₀を加算した値に設定される。

表示装置１では、フィルタ部１７９と第２基板６５との間は、接着剤８９の量によって距離ｋが保たれる。これは、例えば、接着剤８９をディスペンサで塗布し、接着剤８９の吐出圧力を調整することによって実現され得る。吐出圧力を基準圧力よりも高くすれば、接着剤８９の塗布量を基準量よりも多くすることができる。

そして、液晶パネル１１にフィルタ基板１４を設けてから、偏光板１３ａを第１基板５１に設け、偏光板１３ｂを第３基板８１に設けることによって、図７に示す表示パネル３が製造され得る。
表示装置１の製造工程では、表示パネル３と照明装置５とを組み合わせることにより、表示装置１が製造され得る。

表示装置１において、フィルタ９２が光学手段としてのフィルタに対応し、第２基板６５が基板に対応し、駆動素子基板１５が第２基板に対応している。
表示装置１の製造方法は、第２基板６５とフィルタ部１７９との間を、第２基板６５の厚みｔに応じて設定された距離ｋに保った状態で、第２基板６５にフィルタ基板１４を設ける工程を有している。この製造方法では、第２基板６５とフィルタ部１７９との間を、第２基板６５の厚みｔに応じて設定された距離ｋに保つことができる。従って、複数の表示装置１間で第２基板６５の厚みが異なっていても、複数の画素７とフィルタ９２との間の距離をそろえやすくすることができる。これにより、複数の表示装置１間で、適視範囲１１５ａや適視範囲１１５ｂのバラツキを低減しやすくすることができる。

また、表示装置１の製造方法は、第２基板６５にフィルタ基板１４を設ける工程の前に、第２基板６５をマザー基板６５ｍの状態で薄くする工程を有している。第２基板６５を薄くすることによって、複数の画素７とフィルタ９２との間の距離を低減することができる。これにより、表示装置１の適視範囲１１５ａや適視範囲１１５ｂの拡大が図られる。

また、表示装置１では、第２基板６５をマザー基板６５ｍの状態で薄くする工程において、マザー基板６５ｍとマザー基板５１ｍとを接合した状態でマザー基板６５ｍが薄くされる。一般的に、基板を薄くすると強度が低下するため、薄くした基板の取り扱いが困難になる。表示装置１では、マザー基板６５ｍとマザー基板５１ｍとを接合した状態でマザー基板６５ｍが薄くされるので、マザー基板５１ｍによってマザー基板６５ｍが補強される。従って、薄くしたマザー基板６５ｍの取り扱いが容易になる。

また、表示装置１の製造方法は、第２基板６５にフィルタ基板１４を設ける工程の前に、第２基板６５の厚みｔを測定する工程を有している。従って、厚みｔを測定した結果に基づいて第２基板６５とフィルタ９２との間の距離ｋを設定することができる。

また、表示装置１では、第２基板６５にフィルタ基板１４を設ける工程において、接着剤８９の量で距離ｋが保たれるので、距離ｋを保ちつつ、第２基板６５とフィルタ基板１４とを接合することができる。

なお、表示装置１の製造方法では、接着剤８９の量で距離ｋを調整する場合を例に説明したが、距離ｋを調整する方法はこれに限定されず、第２基板６５とフィルタ９２との間に介在させたスペーサ層で距離ｋを調整してもよい。
この場合、スペーサ層１２５は、図１６に示すように、フィルタ部１７９と接着剤８９との間に設けられ得る。

スペーサ層１２５は、例えば、ＳｉＯやＳｉＮなどの光透過性を有する無機材料や、アクリルやエポキシなどの光透過性を有する有機材料などで構成され得る。
ＳｉＯやＳｉＮなどの無機材料では、スペーサ層１２５は、蒸着などにより形成され得る。アクリルやエポキシなどの有機材料では、液状の有機材料をスピンコートなどにより塗布してから固化させることでスペーサ層１２５が形成され得る。また、有機材料で構成されたシート材を貼り付けることによってもスペーサ層１２５が形成され得る。

スペーサ層１２５が適用される表示パネル１０では、フィルタ部１７９と第２基板６５との間が、第２基板６５の厚みｔに応じた距離ｋに保たれる。スペーサ層１２５の厚みが、第２基板６５の厚みｔと基準値との差ｔ₀に設定されれば、複数の表示パネル１０間で接着剤８９の量を変化させることなく距離ｋを保つことができる。
つまり、表示パネル１０では、スペーサ層１２５によって距離ｋが調整されるので、第２基板６５とフィルタ部１７９との間の距離ｋを保ちやすくすることができる。

また、複数の表示パネル１０間で接着剤８９の量を変化させることなく距離ｋを保つことができるので、ディスペンサなどの接着剤８９の塗布にかかる装置の調整を省略することができる。これにより、装置の調整にともなう接着剤８９の量のバラツキが抑えられ、複数の表示装置１間で、適視範囲１１５ａや適視範囲１１５ｂのバラツキを一層低減しやすくすることができる。また、接着剤８９の塗布にかかる装置の調整が省略されるので、製造工程の効率化が図られる。

また、表示パネル１０では、フィルタ部１７９がスペーサ層１２５によって覆われるので、フィルタ部１７９をスペーサ層１２５で保護することができ、フィルタ基板１４の扱いを容易にすることができる。これにより、製造工程の一層の効率化が図られる。

なお、スペーサ層１２５が適用される表示パネル１０では、第２基板６５の厚みｔを測定した結果に基づいて、複数の液晶パネル１１を複数の区分に層別することが好ましい。それは、層別ごとにスペーサ層１２５の厚みを統一することができるからである。例えば、第２基板６５の厚みｔと基準値との差ｔ₀（負の値）を第１区分から第３区分までの３つの区分に層別する場合を考える。第１区分は、差ｔ₀が、ｔ₁を超え０未満の区分とされる。第２区分は、差ｔ₀が、ｔ₂を超えｔ₁以下の区分とされる。第３区分は、差ｔ₀が、ｔ₃を超えｔ₂以下の区分とされる。ｔ₁、ｔ₂及びｔ₃は、下記（１）式の関係を満足している。
ｔ₃＜ｔ₂＜ｔ₁＜０…（１）

そして、第１区分に層別された液晶パネル１１には、例えば下記（２）式で算出される厚みｔｓ₁を有するスペーサ層１２５が適用される。
ｔｓ₁＝（０−ｔ₁）／２…（２）

同様に、第２区分に層別された液晶パネル１１には、下記（３）式で算出される厚みｔｓ₂を有するスペーサ層１２５が適用され、第３区分に層別された液晶パネル１１には、下記（４）式で算出される厚みｔｓ₃を有するスペーサ層１２５が適用される。
ｔｓ₂＝（ｔ₁−ｔ₂）／２…（３）
ｔｓ₃＝（ｔ₂−ｔ₃）／２…（４）
なお、差ｔ₀が０である場合には、スペーサ層１２５は適用されない。

液晶パネル１１が複数の区分に層別され、区分ごとに厚みが設定されたスペーサ層１２５が適用される表示パネル１０では、複数のフィルタ基板１４が液晶パネル１１の区分数に対応するグループにわけられる。そして、グループごとに厚みが設定されたスペーサ層１２５が、複数のフィルタ基板１４に設けられる。これにより、１つのグループ内で複数のフィルタ基板１４に適用されるスペーサ層１２５の厚みが統一される。その結果、スペーサ層１２５の標準化が図られ、表示パネル１０の製造の一層の効率化が図られる。

表示パネル１０では、スペーサ層１２５がフィルタ基板１４に設けられる場合を例に説明したが、スペーサ層１２５はこれに限定されず、液晶パネル１１に設けられてもよい。
この場合、スペーサ層１２５は、図１７に示すように、対向基板１７の第２基板６５に設けられ得る。

スペーサ層１２５が第２基板６５に設けられた表示パネル２０では、このスペーサ層１２５によって第２基板６５が補強される。従って、第２基板６５がマザー基板６５ｍの状態のときに、マザー基板６５ｍにスペーサ層１２５を設ければ、薄くされたマザー基板６５ｍの取り扱いが容易になる。

また、複数の液晶パネル１１を第２基板６５の厚みｔごとに層別した後に、各第２基板６５にスペーサ層１２５を設ければ、厚みｔの区分ごとに同等の厚みのスペーサ層１２５を設けることができる。これにより、表示パネル２０では、１枚のマザー基板６５ｍ内で、複数の第２基板６５間の厚みｔがばらついても、第２基板６５ごとに適正な厚みのスペーサ層１２５を設けることができる。また、表示パネル２０では、第２基板６５の厚みｔの区分ごとに、複数の第２基板６５にまとめてスペーサ層１２５を設けることができ、製造工程の効率化が図られる。

なお、フィルタ基板１４若しくはマザー基板６５ｍ又は第２基板６５に、有機材料で構成されたシート材を貼り付けることによってスペーサ層１２５を形成する場合に、シート材の貼付け方法として、以下のような方法が考えられる。
本実施形態でのシート材の貼付けには、図１８（ａ）に示す貼付け装置１３１が適用され得る。

貼付け装置１３１は、容器部１３３と、蓋部１３５とを有している。容器部１３３内には、載置部１３７が設けられている。載置部１３７は、例えばゴムやエラストマなどの弾力性を有する材料で構成されており、周縁部が固定部１３９によって固定されている。
蓋部１３５は、蝶番を介して容器部１３３に回動自在に設けられている。蓋部１３５には、容器部１３３側の面１４１に爪部１４３が、面１４１との間に隙間をあけた状態で設けられている。

シート材１４５の貼付けでは、まず、図１８（ｂ）に示すように、シート材１４５を爪部１４３と面１４１（図１８（ａ）参照）との間に挿入する。これにより、シート材１４５は、蓋部１３５に装着される。
次いで、フィルタ基板１４並びにマザー基板６５ｍ及び第２基板６５のうちで、シート材１４５を貼り付ける対象となる対象基板１４７を、載置部１３７に載置する。
次いで、蓋部１３５を回動させて、容器部１３３内を蓋部１３５で封じる。
ここで、容器部１３３には、容器部１３３の内側と外側との間を貫通する図示しない排気孔が設けられている。また、容器部１３３の内側の底と外側の底部との間を貫通する図示しない吸気孔が設けられている。吸気孔は、載置部１３７によって容器部１３３の内側から遮断されている。

次いで、図示しない排気孔から容器部１３３内の気体を排出させることで容器部１３３内を減圧する。このとき、載置部１３７は、図１８（ｃ）に示すように、容器部１３３の外側の圧力によって爪部１４３に当接する。載置部１３７が爪部１４３に当接するときに、対象基板１４７は、シート材１４５に押し付けられる。

貼付け装置１３１を用いてシート材１４５を対象基板１４７に貼り付ければ、対象基板１４７の略全域にわたって均一な圧力でシート材１４５を対象基板１４７に貼り付けることができる。これにより、対象基板１４７がマザー基板６５ｍ又は第２基板６５である場合に、薄くされたマザー基板６５ｍ又は第２基板６５に局部的に強い力がかかることによって発生する表示むらを防止しやすくすることができる。

なお、表示パネル３、表示パネル１０及び表示パネル２０では、複数の遮光膜８５が複数の画素７よりも表示面９側に設けられているが、複数の遮光膜８５の位置はこれに限定されず、複数の画素７よりも底面２３側であってもよい。
複数の遮光膜８５が複数の画素７よりも底面２３側に設けられた表示パネル３０は、表示パネル３０を図６中のＤ−Ｄ線に相当する位置で切断したときの断面図である図１９に示すように、フィルタ基板１４が液晶パネル１１よりも底面２３側に設けられる。

なお、表示パネル３０は、フィルタ基板１４が液晶パネル１１よりも底面２３側に設けられていること、及び各画素群４３に対する各遮光膜８５の位置が異なることを除いて、表示パネル３、１０及び２０と同様の構成を有している。従って、以下において、表示パネル３０の各構成のうちで表示パネル３、１０又は２０と同様の構成については、同一の符号を付して詳細な説明を省略する。

表示パネル３０では、フィルタ基板１４の第３基板８１は、図１９に示すように、外向面８２ａが底面２３側に向けられ、対向面８２ｂが表示面９側に向けられている。そして、フィルタ基板１４は、対向面８２ｂが駆動素子基板１５に向けられた状態で、オーバーコート層８７が駆動素子基板１５における第１基板５１の第２面５３ｂに接着剤８９を介して貼り付けられている。
また、偏光板１３ａは、第３基板８１の外向面８２ａに設けられ、偏光板１３ｂは、第２基板６５の外向面６６ａに設けられている。

また、表示パネル３０では、各遮光膜８５は、遮光膜８５と画素群４３とを示す平面図である図２０に示すように、Ｘ方向に隣り合う画素群４３同士間に設けられている。そして、画素群４３を構成する第１の画素７₁及び第２の画素７₂間にまたがる領域に、開口部９１が設けられている。なお、図２０では、構成をわかりやすく示すため、各遮光膜８５にハッチングが施されている。

表示パネル３０では、照明装置５からの光は、遮光膜８５同士間の開口部９１を経て各画素７に入射される。
このとき、各開口部９１を経て第１の画素７ｒ₁、７ｇ₁及び７ｂ₁のそれぞれに入射された光１０７ａは、複数組の画素群４３及び複数の遮光膜８５を模式的に示す断面図である図２１に示すように、第１の範囲１０９に及ぶ。
また、各開口部９１を経て第２の画素７ｒ₂、７ｇ₂及び７ｂ₂のそれぞれに入射された光１０７ｂは、第２の範囲１１１に及ぶ。なお、図２１に示す断面は、図２０中のＪ−Ｊ線における断面に相当している。

表示パネル３０では、複数の遮光膜８５は、第１の画素７₁から第１の範囲１０９に及ぶ光１０７ａを通すとともに、第２の画素７₂から第２の範囲１１１に及ぶ光１０７ｂを通す機能を有している。これにより、第１の画像を第１の範囲１０９に表示し、第２の画像を、第１の範囲１０９とは異なる第２の範囲１１１に表示する指向性表示を行うことができる。
なお、表示パネル３０では、Ｘ方向に隣り合う遮光膜８５同士間の間隔Ｐａは、Ｘ方向に隣り合う画素群４３同士間の間隔Ｐｂよりも長く設定されている。

表示パネル３０では、第１基板５１が基板に対応し、対向基板１７が第２基板に対応している。
表示パネル３０は、表示パネル３、表示パネル１０及び表示パネル２０のそれぞれと同様の効果を奏する。

なお、表示パネル３、１０及び２０では、各遮光膜８５が、図８に示すように、Ｙ方向に沿って配列する複数組の画素群４３間にわたって一連して延びる場合を例に説明したが、各遮光膜８５はこれに限定されない。各遮光膜８５は、図２２に示すように、画素群４３ごとに独立した構成も採用され得る。
また、表示パネル３０では、Ｘ方向に隣り合う画素群４３同士間に位置する各遮光膜８５が、図２０に示すように、Ｙ方向に沿って配列する複数組の画素群４３間にわたって一連して延びる場合を例に説明したが、各遮光膜８５はこれに限定されない。Ｘ方向に隣り合う画素群４３同士間に位置する各遮光膜８５は、図２３に示すように、Ｙ方向に沿って並ぶ複数の画素群４３間で、画素群４３ごとに独立した構成も採用され得る。

また、表示パネル３、１０、２０及び３０では、ＴＮ型の液晶１９を例に説明したが、液晶１９はこれに限定されず、ＦＦＳ（Fringe Field Switching）型、ＩＰＳ（In Plane Switching）型、ＶＡ（Vertical Alignment）型等の種々の型が採用され得る。

また、表示パネル３、１０、２０及び３０では、複数組の画素群４３が、図５に示すように、Ｘ方向及びＹ方向のそれぞれの方向に沿ってマトリクス状に配列した場合を例に説明したが、複数組の画素群４３の配列はこれに限定されない。複数組の画素群４３の配列は、例えば、図２４に示すように、Ｙ方向にシグザグに並んだ配列も採用され得る。図２４に示す配列の場合、図４に示す第１の画素７₁と第２の画素７₂とは、Ｘ方向に交互に並んでいるとともに、Ｙ方向にも交互に並んでいる。この場合、表示パネル３、１０及び２０では、各遮光膜８５は、図２５に示すように、画素群４３ごとに設けられる。
また、表示パネル３０では、各遮光膜８５は、図２６に示すように、Ｘ方向に隣り合う画素群４３同士間ごとに設けられる。

また、表示パネル３、１０、２０及び３０では、光学手段としてフィルタ９２が採用がされ、フィルタ９２によって指向性表示を実現する場合を例に説明したが、指向性表示を実現する光学手段はこれに限定されない。指向性表示を実現する光学手段としては、レンチキュラレンズも採用され得る。また、光学手段としてのフィルタは、フィルタ９２に限定されず、カラーフィルタ７３とは異なる新たなカラーフィルタも採用され得る。指向性表示は、フィルタ９２に替えて、新たなカラーフィルタを追加することによっても実現され得る。

上述した表示パネル１０、２０及び３０は、それぞれ、表示装置１に適用され得る。そして、表示パネル３、１０、２０又は３０が適用された表示装置１は、例えば、図２７に示す電子機器５００の表示部５１０に適用され得る。この電子機器５００は、カーナビゲーションシステム用の表示機器である。電子機器５００では、表示装置１が適用された表示部５１０によって、例えば、運転席側から第１の画像として地図などの画像が視認され、助手席側から第２の画像として映画などの画像が視認され得る。

さらに、電子機器５００では、第１の画像と第２の画像とが重畳する範囲１１３の軽減が図られ、広い適視範囲１１５ａから第１の画像が視認され、広い適視範囲１１５ｂから第２の画像が視認され得る。
なお、電子機器５００としては、カーナビゲーションシステム用の表示機器に限られず、携帯電話機、モバイルコンピュータ、デジタルスチルカメラ、デジタルビデオカメラ、車載機器、オーディオ機器等の種々の電子機器が挙げられる。

本発明の実施形態における表示装置の主要構成を示す分解斜視図。 図１中のＡ−Ａ線における断面図。 本実施形態における複数の画素の一部を示す平面図。 本実施形態における複数の画素の一部を示す平面図。 本実施形態における複数組の画素群の配列を説明する平面図。 図４中のＣ−Ｃ線における断面図。 図６中のＤ−Ｄ線における断面図。 本実施形態における遮光膜と画素群とを示す平面図。 本実施形態における表示装置の偏光状態を説明する図。 本実施形態における複数組の画素群及び複数の遮光膜を模式的に示す断面図。 本実施形態における駆動素子基板及び対向基板の製造工程を説明する図。 本実施形態におけるフィルタ基板の製造工程を説明する図。 本実施形態における液晶パネルの製造工程を説明する図。 本実施形態における表示パネルの製造工程を説明する図。 本実施形態における表示パネルの製造工程を説明する図。 本実施形態における表示パネルの製造工程の他の例を説明する図。 本実施形態における表示パネルの製造工程の別の例を説明する図。 本実施形態における表示装置に適用され得るシート材の貼付け方法を説明する図。 本実施形態における表示パネルの他の例を図６中のＤ−Ｄ線に相当する位置で切断したときの断面図。 本実施形態における表示パネルの他の例における遮光膜と画素群とを示す平面図。 本実施形態における表示パネルの他の例における複数組の画素群及び複数の遮光膜を模式的に示す断面図。 本実施形態における遮光膜の他の例を示す平面図。 本実施形態における表示パネルの他の例における遮光膜の他の例を示す平面図。 本実施形態における複数組の画素群の配列の他の例を示す平面図。 本実施形態における遮光膜の他の例を示す平面図。 本実施形態における表示パネルの他の例における遮光膜の別の例を示す平面図。 本実施形態における表示装置を適用した電子機器の斜視図。 従来技術の課題を説明する断面図。

符号の説明

１…表示装置、３，１０，２０，３０…表示パネル、７…画素、７₁…第１の画素、７₂…第２の画素、８…表示領域、９…表示面、１１…液晶パネル、１４…フィルタ基板、１５…駆動素子基板、１７…対向基板、１９…液晶、２３…底面、４３…画素群、５１…第１基板、５３ａ…第１面、５３ｂ…第２面、６５…第２基板、６６ａ…外向面、６６ｂ…対向面、８１…第３基板、８２ａ…外向面、８２ｂ…対向面、８５…遮光膜、８９…接着剤、９１…開口部、９２…フィルタ、１０９…第１の範囲、１１１…第２の範囲、１１３…範囲、１１５ａ，１１５ｂ…適視範囲、１２３…レーザー変位計、１２５…スペーサ層、１３１…貼付け装置、１７５…駆動素子部、１７７…対向素子部、１７９…フィルタ部、５００…電子機器、５１０…表示部。

Claims (10)

1. 表示面と、
   第１の画像を形成する第１の画素及び第２の画像を形成する第２の画素を少なくとも含み、前記表示面側に向けて光を射出する複数の画素と、
   前記光のうちで、前記第１の画素から前記表示面を介して第１の範囲に及ぶ光を通すとともに、前記第２の画素から前記表示面を介して第２の範囲に及ぶ光を通すフィルタと、
   前記複数の画素及び前記フィルタの間に介在する基板と、を有する電気光学装置の製造方法であって、
   前記基板と前記フィルタとの間を前記基板の厚みに応じて設定された距離に保った状態で、前記基板に前記フィルタを設ける工程を有することを特徴とする電気光学装置の製造方法。
2. 前記基板に前記フィルタを設ける前記工程では、前記基板と前記フィルタとを、接着剤を介して接合することを特徴とする請求項１に記載の電気光学装置の製造方法。
3. 前記基板に前記フィルタを設ける前記工程の前に、前記基板及び前記フィルタの少なくとも一方に、前記距離を調整するスペーサ層を設ける工程を有することを特徴とする請求項１又は２に記載の電気光学装置の製造方法。
4. 前記スペーサ層を設ける前記工程では、前記基板に前記スペーサ層を設けることを特徴とする請求項３に記載の電気光学装置の製造方法。
5. 前記スペーサ層を設ける前記工程では、前記フィルタに前記スペーサ層を設けることを特徴とする請求項３に記載の電気光学装置の製造方法。
6. 前記基板に前記フィルタを設ける前記工程の前に、前記基板を薄くする工程を有することを特徴とする請求項１乃至５のいずれか一項に記載の電気光学装置の製造方法。
7. 前記複数の画素は、前記基板と、前記基板に対向した状態で前記基板に接合された第２基板との間に介在しており、
   前記基板を薄くする前記工程では、前記基板に前記第２基板が接合された状態で前記基板を薄くすることを特徴とする請求項６に記載の電気光学装置の製造方法。
8. 前記基板に前記フィルタを設ける前記工程の前に、前記基板の厚みを測定する工程を有することを特徴とする請求項１乃至７のいずれか一項に記載の電気光学装置の製造方法。
9. 前記基板に前記フィルタを設ける前記工程では、前記接着剤の量で前記基板と前記フィルタとの間を前記距離に保つことを特徴とする請求項２に記載の電気光学装置の製造方法。
10. 表示面と、
    第１の画像を形成する第１の画素及び第２の画像を形成する第２の画素を少なくとも含み、前記表示面側に向けて光を射出する複数の画素と、
    前記光のうちで、前記第１の画素から前記表示面を介して第１の範囲に及ぶ光を通すとともに、前記第２の画素から前記表示面を介して第２の範囲に及ぶ光を通すフィルタと、
    前記複数の画素及び前記フィルタの間に介在する基板と、
    前記基板及び前記フィルタの間に設けられ、前記基板及び前記フィルタの間の距離を調整するスペーサ層と、を有することを特徴とする電気光学装置。

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