JP2009188154A - プリント配線板及びその製造方法 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】プリント配線板50において、基板1、基板端面に対して凹状に設けられた端面スルーホール40a,40b、及び基板の一面側に設けられて端面スルーホールの上記一面側を覆う絶縁層17を有する構成とする。また、プリント配線板の製造方法において、基板に貫通孔4aを穿設し、貫通孔内面が金属膜6a,6bで覆われたスルーホール7aを形成し、これに充填材15を充填し、基板の両面に充填材を覆う絶縁層17,18を形成し、絶縁層の一方18を部分的に除去して充填材を露出させた後これを除去し、スルーホールが分断されるように基板を切断することによって、端面スルーホール40aを有するプリント配線板50を得る手順とする。
【選択図】図9
Description
端面スルーホールを有するプリント配線板は、一般的に、所定の工程を経た樹脂基板等の基板にドリル加工等により貫通孔を穿設し、この貫通孔の内面を覆うように基板表面に金属膜を成膜し、この金属膜をパターン化した後、貫通孔が略半円筒状になるように基板をルータ加工等により分断することによって得られる。略半円筒状になされた貫通孔は端面スルーホールとなる。
特許文献2の記載によれば、基板の一面側から他面側の銅箔近傍までの領域にドリル加工を行ってザグリ穴を穿設した後、さらにこのザグリ穴の底部の残存樹脂を上記他面側の銅箔が露出するまでレーザ加工により除去することによって、この露出された銅箔を底面とする非貫通孔を形成する。これにより、基板を分断する際に、非貫通孔が分断されることによって形成される端面スルーホールのエッジ部にかかる物理的負荷を、非貫通孔の銅箔によって低減することができるので、上述した端面スルーホールの変形やエッジ部の金属膜の剥がれを抑制することができるとしている。
しかしながら、特許文献2に記載されているようなプリント配線板では、端面スルーホールとなる孔が非貫通孔であるため、上述のように基板を複数枚重ね合わせた状態でドリル加工を行うことができない。そのため、基板1枚毎にドリル加工及びレーザ加工をそれぞれ行わなければならないので、生産性が悪く、その改善が望まれる。
1)基板(1)と、前記基板の端面に対して凹状に設けられた端面スルーホール(40a,40b)と、前記基板の一面側に設けられて前記端面スルーホールの前記一面側を覆う絶縁層(17)と、を有するプリント配線板(50)である。
2)プリント配線板の製造方法において、基板(1)に貫通孔(4a,4b)を穿設する穿設工程と、前記穿設工程後に、前記基板に、前記貫通孔の内面を覆う金属膜(6a,6b)を形成して、前記貫通孔をその内面が前記金属膜で覆われたスルーホール(7a,7b)にする金属膜形成工程と、前記金属膜形成工程後に、前記スルーホールに充填材(15)を充填する充填工程と、前記充填工程後に、前記基板の両面に、前記充填材を覆う絶縁層(17,18)をそれぞれ形成する絶縁層形成工程と、前記絶縁層形成工程後に、前記絶縁層の一方を部分的に除去して、前記充填材を露出させる充填材露出工程と、前記充填材露出工程後に、前記露出された充填材を除去する充填材除去工程と、前記充填材除去工程後に、前記スルーホールが分断されるように前記基板を分断して、前記スルーホールが分断されてなる端面スルーホール(40a,40b)を有するプリント配線板(50)を得る分断工程と、を有するプリント配線板の製造方法である。
3)プリント配線板の製造方法において、基板(61)に貫通孔(64a,64b)を穿設する穿設工程と、前記穿設工程後に、前記基板に、前記貫通孔の内面を覆う金属膜(66a,66b)を形成して、前記貫通孔をその内面が前記金属膜で覆われたスルーホール(67a,67b)にする金属膜形成工程と、前記金属膜形成工程後に、前記基板の両面に、前記スルーホールを覆うテンティング膜(91a,91b)及び絶縁層(77,78)をそれぞれ形成するテンティング膜及び絶縁層形成工程と、前記テンティング膜及び絶縁層形成工程後に、前記基板の一側の前記テンティング膜及び前記絶縁層を部分的に除去して、前記スルーホールを開口するスルーホール開口工程と、前記スルーホール開口工程後に、前記スルーホールが分断されるように前記基板を分断して、前記スルーホールが分断されてなる端面スルーホール(93a,93b)を有するプリント配線板(100)を得る分断工程と、を有するプリント配線板の製造方法である。
本発明に係るプリント配線板及びその製造方法の第1実施例を、図1〜図9を用いて説明する。
図1〜図9は、本発明に係るプリント配線板及びその製造方法の第1実施例を説明するための模式的断面図である。
図9において、(b)は(a)における矢視S50から特に端面スルーホール40bを見たときの模式的斜視図である。
また、以下に説明するA1工程〜A9工程は、第1実施例のプリント配線板を製造する過程をそれぞれ示すものである。
コア材2及びこのコア材2の両面に設けられた銅箔3a,3bを有する両面銅張板1に、後述する端面スルーホール40a,40bとなる貫通孔4a,4bを、例えばドリル加工やレーザ加工により穿設する。
コア材2は、例えばエポキシ樹脂等の絶縁性樹脂を主成分とするものやガラスクロス等のシート状補強材に絶縁性樹脂を含浸させて硬化したものである。
第1実施例では、両面銅張板1を複数枚重ね合わせた状態でドリル加工を行い、貫通孔4a,4bをこれら複数の両面銅張板1に一度に形成した。
A1工程を経た両面銅張板1に銅めっきを行い、銅箔3a,3bの各表面及び貫通孔4a,4bの各内面を覆う第1銅めっき層6a,6bを形成する。
第1銅めっき層6a,6bは、例えば無電解銅めっきを行って無電解銅めっき層を形成し、この無電解銅めっき層をめっき導通層として電気銅めっきを行うことにより形成することができる。
ここで、内面が第1銅めっき層6a,6bで覆われた貫通孔4a,4bをスルーホール7a,7bと称す。
フォトリソグラフィ法を用いて、第1銅めっき層6a,6b及び銅箔3a,3bを部分的にエッチングすることにより、コア材2の一面側に第1銅めっき層6a及び銅箔3aからなるパターン化された第1配線層9を形成し、コア材2の他面側に第1銅めっき層6b及び銅箔3bからなるパターン化された第2配線層10を形成する。
第1配線層9と第2配線層10とは、スルーホール7a,7bを介して電気的に接続されている。
A3工程を経た両面銅張板1に、少なくともスルーホール7a,7bの内面を残して第1配線層9及び第2配線層10を覆う金めっきレジスト12a,12bを形成する。
金めっきレジスト12a,12bは、金めっき液に対して耐食性を有するレジストであり、液状タイプまたはドライフィルムタイプ等の市販のものを用いることができる。
図4では、金めっきレジスト12aを第1配線層9及びその近傍の領域のみに形成し、また、金めっきレジスト12bを第2配線層10及びその近傍の領域のみに形成しているが、これに限定されるものではなく、例えば、これら金めっきレジスト12a,12bを、少なくともスルーホール7a,7bの内面を残して両面銅張板1の両面全面を覆うように形成するようにしてもよい。
金めっき膜13は、他のプリント配線板やコネクタ等の電子部品と接続する際の電気抵抗を小さくするため、また、半田接続する際の半田の濡れ性の向上のため、また、後述する端面スルーホール40a,40bの表面の酸化を防止するために形成するものである。
金めっきレジスト12a,12bを除去した後、アルカリ液に可溶な液状またはインク状の充填材15を、例えばスクリーン印刷法を用いてスルーホール7a,7bに充填した後、硬化させる。
次に、スルーホール7a,7bから突出した余分な充填材15を、例えばバフ研磨により除去する。
A5工程を経た両面銅張板1の一面側に、充填材15の一側及び第1配線層9を覆う第1絶縁層17を形成し、他面側に、充填材15の他側及び第2配線層10を覆う第2絶縁層18を形成する。
第1絶縁層17及び第2絶縁層18は、液状またはインク状のエポキシ樹脂等の絶縁性樹脂を、ロールコート法,スクリーン印刷法,またはカーテンコート法等を用いて塗布した後、硬化することによって得られる。
また、第1絶縁層17及び第2絶縁層18を形成するための他の方法として、ガラスクロス等のシート状補強材に絶縁性樹脂が含浸された半硬化状態の、所謂、プリプレグを、ラミネート法や積層プレス法を用いて熱圧着する方法を用いることもできる。
第2銅めっき層21a,21bは、上述した第1銅めっき層6a,6bと同様の方法を用いて形成することができる。
ここで、内面が第2銅めっき層21aで覆われた非貫通孔19をビア22と称し、内面が第2銅めっき層21bで覆われた非貫通孔20をビア23と称す。
第3配線層24は、ビア22を介して第1配線層9に電気的に接続されている。
第4配線層25は、ビア23を介して第2配線層10に電気的に接続されている。
スルーホール7a,7bは充填材15で充填されているため、スルーホール7a,7bが形成されている領域上にも特に第1絶縁層17及び第3配線層24を形成することができる。
充填材15が充填されている領域における第2絶縁層18を、レーザ加工等により除去することによって、充填材15を露出させる。
A7工程により露出した充填材15をアルカリ液で溶解させて除去する。
A8工程を経た両面銅張板1に、所定の電子部品30,31を実装した後、この両面銅張板1を、スルーホール7a,7bが略半円筒状になるように、例えば金型を用いた打ち抜きやルータ加工等の外形加工により分断することにより、プリント配線板の一形態であるモジュール基板50を得る。
略半円筒状になされたスルーホール7a,7bは、端面スルーホール(キャスタレーションまたはサイド電極ともいう)40a,40bとなる。
電子部品30(ICチップ)は、第3配線層23に金ワイヤ32を介して電気的に接続されており、封止樹脂33によってモールドされている。
電子部品31は、第3配線層23に半田35を介して電気的に接続されている。
これら電子部品30,31はICチップやチップ部品に限定されるものではなく、また、これら電子部品の実装方法についても限定されるものではない。
次に、本発明に係るプリント配線板及びその製造方法の第2実施例を、図10〜図14を用いて説明する。
図10〜図14は、本発明に係るプリント配線板及びその製造方法の第2実施例を説明するための模式的断面図である。
図14において、(b)は(a)における矢視S100から特に端面スルーホール93bを見たときの模式的斜視図である。
また、以下に説明するB1工程〜B5工程は、第2実施例のプリント配線板を製造する過程をそれぞれ示すものである。
コア材62及びこのコア材62の両面に設けられた銅箔63a,63bを有する両面銅張板61について、第1実施例のA1工程〜A4工程と同様の工程を行って、コア材62の一面側に第1銅めっき層66a及び銅箔63aからなるパターン化された第1配線層69を形成し、他面側に第1銅めっき層66b及び銅箔63bからなるパターン化された第2配線層70を形成し、貫通孔64a,64bの内面が第1銅めっき層66a,66b及び金めっき膜73で覆われたスルーホール67a,67bを形成する。
第1配線層69と第2配線層70とは、スルーホール67a,67bを介して電気的に接続されている。
その後、金めっき膜73を形成する際に用いた金めっきレジスト(図示せず)を除去する。
貫通孔64a,64bは、例えばドリル加工やレーザ加工により穿設される。
第2実施例では、第1実施例と同様に、両面銅張板61を複数枚重ね合わせた状態でドリル加工を行うことにより、貫通孔64a,64bをこれら複数の両面銅張板61に一度に形成した。
第1銅めっき層66a,66bは、例えば無電解銅めっきを行って無電解銅めっき層を形成し、この無電解銅めっき層をめっき導通層として電気銅めっきを行うことにより形成することができる。
B1工程を経た両面銅張板61の両面に、感光性のドライフィルム90a,90bをそれぞれ貼り付ける(ラミネート)。
次に、ドライフィルム90a,90bを、フォトリソグラフィ法を用いて、スルーホール67a,67b及びその近傍の領域を残して除去することにより、スルーホール67a,67bの両側を覆うテンティング膜91a,91bを形成する。
第1実施例のA6工程と同様の工程を行って、B2工程を経た両面銅張板61の一面側に、第1絶縁層77,ビア82,及び第3配線層84を順次形成し、他面側に、第2絶縁層78,ビア83,及び第4配線層85を順次形成する。
第3配線層84は、ビア82を介して第1配線層69に電気的に接続されている。
第4配線層85は、ビア83を介して第2配線層70に電気的に接続されている。また、第4配線層85は、テンティング膜91bが形成されている領域における第2絶縁層78が露出するように形成されている。
スルーホール67a,67bは、特にテンティング膜91aで覆われているので、スルーホール67a,67bが形成されている領域上に、第1絶縁層77及び第3配線層84を形成することができる。
また、第1絶縁層77及び第2絶縁層78を形成するための他の方法として、ガラスクロス等のシート状補強材に絶縁性樹脂が含浸された半硬化状態の所謂プリプレグを、ラミネート法や積層プレス法を用いて熱圧着する方法を用いることもできる。
テンティング膜91b及びこのテンティング膜91bが形成されている領域における第2絶縁層78を、レーザ加工等により除去することによって、スルーホール67a,67bの一端側(図13における下側)を開口する。
B4工程を経た両面銅張板61に、所定の電子部品80,81を実装した後、この両面銅張板61を、スルーホール67a,67bが略半円筒状になるように、例えば金型を用いた打ち抜きやルータ加工等の外形加工により分断することによって、プリント配線板の一形態であるモジュール基板100を得る。
略半円筒状になされたスルーホール67a,67bは、端面スルーホール(キャスタレーションまたはサイド電極ともいう)93a,93bとなる。
電子部品80(ICチップ)は、第3配線層84に金ワイヤ94を介して電気的に接続されており、封止樹脂95によってモールドされている。
電子部品81は、第3配線層84に半田96を介して電気的に接続されている。
これら電子部品80,81はICチップやチップ部品に限定されるものではなく、また、これら電子部品の実装方法についても限定されるものではない。
Claims (3)
- 基板と、
前記基板の端面に対して凹状に設けられた端面スルーホールと、
前記基板の一面側に設けられて前記端面スルーホールの前記一面側を覆う絶縁層と、
を有するプリント配線板。 - プリント配線板の製造方法において、
基板に貫通孔を穿設する穿設工程と、
前記穿設工程後に、前記基板に、前記貫通孔の内面を覆う金属膜を形成して、前記貫通孔をその内面が前記金属膜で覆われたスルーホールにする金属膜形成工程と、
前記金属膜形成工程後に、前記スルーホールに充填材を充填する充填工程と、
前記充填工程後に、前記基板の両面に、前記充填材を覆う絶縁層をそれぞれ形成する絶縁層形成工程と、
前記絶縁層形成工程後に、前記絶縁層の一方を部分的に除去して、前記充填材を露出させる充填材露出工程と、
前記充填材露出工程後に、前記露出された充填材を除去する充填材除去工程と、
前記充填材除去工程後に、前記スルーホールが分断されるように前記基板を分断して、前記スルーホールが分断されてなる端面スルーホールを有するプリント配線板を得る分断工程と、
を有するプリント配線板の製造方法。 - プリント配線板の製造方法において、
基板に貫通孔を穿設する穿設工程と、
前記穿設工程後に、前記基板に、前記貫通孔の内面を覆う金属膜を形成して、前記貫通孔をその内面が前記金属膜で覆われたスルーホールにする金属膜形成工程と、
前記金属膜形成工程後に、前記基板の両面に、前記スルーホールを覆うテンティング膜及び絶縁層をそれぞれ形成するテンティング膜及び絶縁層形成工程と、
前記テンティング膜及び絶縁層形成工程後に、前記基板の一側の前記テンティング膜及び前記絶縁層を部分的に除去して、前記スルーホールを開口するスルーホール開口工程と、
前記スルーホール開口工程後に、前記スルーホールが分断されるように前記基板を分断して、前記スルーホールが分断されてなる端面スルーホールを有するプリント配線板を得る分断工程と、
を有するプリント配線板の製造方法。
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