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JP2009086752A - 照光式タッチパネル及び照光式タッチパネルの製造方法 - Google Patents

照光式タッチパネル及び照光式タッチパネルの製造方法 Download PDF

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JP2009086752A JP2007252402A JP2007252402A JP2009086752A JP 2009086752 A JP2009086752 A JP 2009086752A JP 2007252402 A JP2007252402 A JP 2007252402A JP 2007252402 A JP2007252402 A JP 2007252402A JP 2009086752 A JP2009086752 A JP 2009086752A
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淳 斎藤
Kohei Shimizu
晃平 清水
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Abstract

【課題】製造コストを抑え、また薄型化された画面表示が美しい照光式タッチパネル及び照光式タッチパネルの製造方法を提供することを目的とする。
【解決手段】被操作面として機能する一主面を備え可撓性と光透過性とを有する第1の基板に、第1の基板を介して発光光を放射するエレクトロルミネッセンス層と、第1の抵抗膜とを印刷形成した第1の積層体と、第2の基板上に第2の抵抗膜を印刷形成した第2の積層体とを形成し、前記第1の抵抗膜と前記第2の抵抗膜とが所定の距離離間して対向するように、前記積層体と前記第2の基板とを配置して一体化させる。
【選択図】図2

Description

本発明は、各種情報処理機器の入力装置等として使用される照光式タッチパネル及びタッチパネルの製造方法に関する。
特許文献1及び特許文献2には、タッチパネル、液晶表示パネル、バックライトの順に重ねて構成されたタッチパネル型表示装置が記載されている。この構成によると、タッチパネルとバックライトとが別のモジュールとなるため、組立作業に時間を要し、また、さらなる薄型化を求める要望に応えられていなかった。さらに、ユーザが接触する被操作面からみて、液晶表示パネルがタッチパネルの背面(以下、被操作面からみて手前側を前面、奥側を背面と記す)にあるため、バックライトから光を受けた液晶表示は、タッチパネルを透過しなければ被操作面に達しないため、画面表示の視認性に問題があった。
特開平10−161116号公報 特開2003−157148号公報
本発明は、このような問題点を解決するためになされたものであり、製造コストを抑え、また薄型化された、視認性に優れた照光式タッチパネル及び照光式タッチパネルの製造方法を提供することを目的とする。
上記目的を達成するため、本発明に係る照光式タッチパネルは、被操作面として機能する一主面を備え、可撓性と光透過性とを有する第1の基板と、前記第1の基板の他方の主面に形成され、前記第1の基板を介して発光光を放射するエレクトロルミネッセンス層と、
前記エレクトロルミネッセンス層に積層して配置され、前記第1の基板の前記被操作面への押圧により、前記第1の基板及び前記エレクトロルミネッセンス層が撓むことにより押圧され、押圧された位置を検出するための信号を出力するタッチパネルと、前記タッチパネルに積層された第2の基板と、を備えることを特徴とする。
前記エレクトロルミネッセンス層は、光放出面である一主面が前記第1の基板の他方の主面側に配置され、前記タッチパネルは、前記エレクトロルミネッセンス層の他方の主面に形成された第1の抵抗膜と、前記第2の基板に支持され、前記第1の抵抗膜に離間して対向して配置された第2の抵抗膜と、を備えるように構成してもよい。
また、前記第2の基板は、可撓性材料からなるように構成してもよい。
また、上記目的を達成するため、本発明に係る照光式タッチパネルの製造方法は、可撓性を有する第1の基板とエレクトロルミネッセンス層との積層体を用意する工程と、前記エレクトロルミネッセンス層上に、抵抗膜型タッチパネルを構成するための第1の抵抗膜を形成する工程と、第2の基板上に、前記抵抗膜型タッチパネルを構成するための第2の抵抗膜を形成する工程と、前記第1の抵抗膜と前記第2の抵抗膜とが所定の距離離間して対向するように、前記積層体と前記第2の基板とを配置して一体化する工程と、を備えることを特徴とする。
また、上記目的を達成するため、本発明に係る照光式タッチパネルの製造方法は、可撓性を有する第1の基板の一主面上に、複数の膜を印刷により積層することにより、エレクトロルミネッセンス層を形成する工程と、前記積層体のエレクトロルミネッセンス層に、抵抗膜型のタッチパネルを構成するための第1の抵抗膜を印刷により形成する工程と、第2の基板上に、前記抵抗膜型のタッチパネルを構成するための第2の抵抗膜を印刷により形成する工程と、前記第1の抵抗膜と前記第2の抵抗膜とが所定の距離離間して対向するように、前記積層体と前記第2の基板とを配置して一体化する工程と、を備えることを特徴とする。
以下、本発明に係る照光式タッチパネルを実施するための最良の形態について図面を参照して説明する。
図1に示すように、本実施形態に係る照光式タッチパネル100は、被操作面30を備えた第1の基板50と、エレクトロルミネッセンス(以下、ELと記す)層10と、タッチパネル20と、第2の基板60とが順次積層された積層体から構成される。照光式タッチパネル100には、交流電源70と、タッチパネルコントローラ80と、制御部90とが接続されている。
以下、照光式タッチパネル100の構成および動作について説明する。
図2に示すように、第1の基板50は、その一主面に所望の操作を実行するために押圧される被操作面30を備えている。第1の基板50は、指やタッチペン等で被操作面30が直接押圧されることにより容易に撓ませることができる程度の可撓性をもち、背面に配されたEL層10から発せられる光を透過可能な材料から構成されている。例えば第1の基板50は、PET(ポリエチレンテレフタラート)やPC(ポリカーボネート)、または透明プラスチックフィルム等から形成されている。第1の基板50の厚さは20〜300μmとすればよい。
第1の基板50の背面に積層されるEL層10は、透明電極12、発光層13、誘電体層14、背面電極15、第1の絶縁層16、シールド層17、第2の絶縁層18から構成されている。
透明電極12は、発光層13から発せられる光を透過可能な導電膜から構成されている。透明電極12は、例えば、PEDOT(ポリエチレンジオキシチオフェン)等の有機導電膜を印刷して形成されている。透明電極12は、ITO(インジウム・チン・オキサイド、スズをドープした酸化インジウム)の蒸着またはスパッタ膜等により形成された導電膜であってもよい。
発光層13は、ZnS(硫化亜鉛)等の無機蛍光体とフッ素樹脂バインダ等のバインダとの混合インクを印刷して形成されている。
誘電体層14は、透明電極12と背面電極15との間を絶縁する。誘電体層14は、チタン酸バリウムをフッソ樹脂バインダに添加した混合インクを印刷することにより形成されている。
背面電極15はカーボンインク、またはPEDOT等の有機導電膜を印刷して形成されている。背面電極15は、光透過性である必要はない。
第1の絶縁層16は、背面電極15とシールド層17とを絶縁する。第1の絶縁層16はポリエステルを印刷して形成されている。
シールド層17は、EL層10とタッチパネル20との電磁波遮断層として機能する。このような機能を持たせるため、シールド層17は導電率の高い材料、例えば、PEDOT等から形成されている。
第2の絶縁層18はシールド層17と第1の抵抗膜21との間を絶縁する。第2の絶縁層18はポリエステルを印刷して形成されている。
タッチパネル20は、抵抗膜型のものであり、第1の抵抗膜21と、第2の抵抗膜26と、第1の抵抗膜21に配された一対の第1の電極22a,22b(以下、22aと22bとを特に区別しない場合は22と記す)と、第2の抵抗膜26に配された一対の第2の電極25a,25b(以下、25aと25bとを特に区別しない場合は25と記す)と、第1の抵抗膜21と第2の抵抗膜26とを所定距離離間させるリブ23と、第1の抵抗膜21と第2の抵抗膜26との誤接触を防止するドットスペーサ24と、から構成されている。
第1の抵抗膜21と第2の抵抗膜26とは、それぞれ、可撓性を有する導電膜(PEDOT等)から構成され、リブ23により所定の距離を隔てて対向して配置されている。
リブ23は、粘着インク等の絶縁性樹脂から構成され、第1の抵抗膜21と第2の抵抗膜26とを所定距離離間して保持するように、第1の抵抗膜21と第2の抵抗膜26との周縁部に配置されている。
一対の第1の電極22と一対の第2の電極25とは、銀ペースト等の導電性インクにより構成されている。図3に示すように、一対の第1の電極22は、図中のX軸に沿って第1の抵抗膜21の縁近傍に平行に設置されている。また、一対の第2の電極25は、Y軸に沿って第2の抵抗膜26の縁近傍に平行に設置されている。
ドットスペーサ24は、第2の抵抗膜26の一面に所定ピッチでマトリクス状に配置されている。各ドットスペーサ24は、第1の抵抗膜21と第2の抵抗膜26とが誤って接触することを防止する。ドットスペーサ24は、例えば、直径0.02〜0.4mm、高さが0.01〜0.03mmであり、ピッチを2〜10mm程度として設けられたものである。
第2の基板60は、タッチパネル20の最背面に配置されており、照光式タッチパネル100全体を支持する。第2の基板60は、ガラス、或いは、可撓性の樹脂等から構成されている。
次に、上記構成の照光式タッチパネル100の製造方法について説明する。
まず、第1の基板50を用意する。
次に、第1の基板50上に、PEDOT等の有機導電材料を所定の厚さにスクリーン印刷し、これを乾燥することにより、透明電極12を形成する。透明電極12は、ITOの蒸着またはスパッタ膜等により形成してもよい。
続いて、透明電極12上に、ZnS(硫化亜鉛)等の蛍光体をフッソ樹脂バインダ等のバインダに添加して構成した混合インクをスクリーン印刷し、混合インクを固化することにより、発光層13を形成する。
次に、発光層13上にチタン酸バリウムとフッソ樹脂バインダとの混合インクをスクリーン印刷し、混合インクを固化することにより、誘電体層14を形成する。
続いて、誘電体層14上に、PEDOT等の有機導電材料をスクリーン印刷し、これを乾燥することにより、背面電極15を形成する。
次に、背面電極15上にポリエステルをスクリーン印刷し、第1の絶縁層16を形成する。
続いて、絶縁層16上に、PEDOT等の有機導電材料をスクリーン印刷し、これを乾燥することにより、シールド層17を形成する。
次に、シールド層17上にポリエステルをスクリーン印刷し、第2の絶縁層18を形成する。
続いて、絶縁層18上に、PEDOT等の有機導電膜材料を薄くスクリーン印刷し、これを固化することより、第1の抵抗膜21を形成する。
さらに、第1の抵抗膜21の所定位置に、銀ペーストなどの導電性インクをスクリーン印刷し、これを固化することにより、第1の電極22を形成する。
このようにして、複数の層を順次印刷することにより、図4(a)に示すように、第1の基板50上にEL層10が形成され、さらに、EL層10の上に第1の抵抗膜21と第1の電極22が形成された積層体101が得られる。
一方、第2の基板60が用意され、第2の基板60上にPEDOT等の有機導電材料を所定の厚さにスクリーン印刷し、これを乾燥することにより、第2の抵抗膜26を形成する。第2の基板60はPETやPCなどのプラスチック、或いは、ガラス、セラミック等から形成されたもので、透光性の有無は問わない。
次に、第2の抵抗膜26上の所定位置に、銀ペーストなどの導電性インクをスクリーン印刷し、これを固化することにより、第2の電極25を形成する。
続いて、第2の抵抗膜26上に、ポリエステルからなる直径0.02〜0.4mmで、高さが0.01〜0.03mm程度の円柱体を、ピッチを2〜10mmとしてマトリクス状に印刷する。これを加熱することにより、ポリエステルの表面張力により円柱体は半球状に変形し、さらにこれを冷却することにより、ドットスペーサ24を形成する。
このようにして、複数の層を順次印刷することにより、図4(b)に示すように、第2の基板60上にタッチパネル20の一部が形成された積層体102が得られる。
次に、第1の抵抗膜21又は第2の抵抗膜26の周縁部に硬化性の粘着剤インクを印刷し、図4(a)に示す積層体101と図4(b)に示す積層体102を向き合わせて接合し、粘着剤インクを硬化して、リブ23を形成することにより照光式タッチパネル100が得られる。粘着剤インクではなく両面粘着テープを用いて接合してもよい。
次に、上記構成を有する照光式タッチパネル100の動作を説明する。
まず、電源がオンされると、制御部90は、交流電源70とタッチパネルコントローラ80を起動する。
交流電源70は、透明電極12と背面電極15との間に、例えば、100V、400Hzの交流電圧を印加する。電圧の印加により、発光層13内で加速された電子が、蛍光体原子に衝突してこれを励起し、この励起状態が基底状態に戻るときに光が発せられる。
一方、タッチパネルコントローラ80は、一対の第1の電極22の間に電圧V2、一対の第2の電極25の間に電圧V1を交互に印加する動作を繰り返す。また、タッチパネルコントローラ80は、電圧を印加しない第1の電極22又は第2の電極25の電圧をモニタする。
このような状態において、図5に示すように被操作面30がユーザの指やタッチペンにより押下力Fを受けると、可撓性を有した第1の基板50とEL層10が撓むことにより、第1の抵抗膜21が押されて、接触点Pにて第2の抵抗膜26と接触する。
図6(a)に示すように、一対の第2の電極25の間に印加された電圧V1と、接触点PのX座標とは線形関係にある。同様に、図6(b)に示すように、一対の第1の電極22の間に印加された電圧V2と、接触点PのY座標とは線形関係にある。
第2の電極25間に電圧V1が印加されているタイミングで、第1の電極22に現れた電圧VXを検出することにより、接触点PのX軸方向の位置PXを判別できる。同様に、第1の電極22間に電圧V2が印加されているタイミングで、第2の電極25に現れた電圧VYを検出することにより、接触点PのY軸方向の位置PYを判別できる。
このようにしてタッチパネルコントローラ80は、第1の電極22、第2の電極25の電圧をモニタすることにより、押圧された位置を判別する。
上述した実施の形態によれば、可撓性と光透過性とを有する第1の基板50と、第1の基板50を介して発光光を放射するEL層10と、被操作面30への押圧により、第1の基板50及びEL層10を介して押圧され、その押圧位置を検出するための電圧信号を第1の電極22、第2の電極25からタッチパネルコントローラ80に出力するタッチパネル20と、第2の基板60と、が積層された照光式タッチパネル100が得られる。
また、図4を参照して説明したように、印刷により積層体101と102とを形成し、これらを貼り合わせることにより照光式タッチパネル100を製造可能としたので、組み立て作業が容易であり、コストも抑えることが可能となる。
また、EL層10と第1の基板50とが隣接して配されているため、EL層10で発光した光は、タッチパネル20を透過することなく被操作面30まで達し、放射される。そのため、従来のタッチパネル型表示装置と比べ、くすみのない画面表示を実現することができる。
また、可撓性のある第1の基板50と第2の基板60との間に積層膜を形成することにより照光式タッチパネル100を、薄く、屈曲が可能に構成できる。
なお、この発明は、上記実施の形態に限定されず、種々の変形及び応用が可能である。
例えば、上述した照光式タッチパネル100に加飾層を配して、加飾層40の装飾を被操作面30に表示させることができる。図7は、加飾層40を照光式タッチパネル100の最前面に配した場合、図8は、加飾層40を第1の基板50の背面に配した場合、図9は、加飾層40を透明電極12の背面に配した場合を示している。
また、上述の実施の形態では、図2に示すように、第1の絶縁層16とシールド層17と第2の絶縁層18との積層構造について説明したが、EL層10とタッチパネル20との電磁波ノイズが、実用上問題のない程度に少ない場合には、シールド層17を省略することができる。この場合、第1の絶縁層16とシールド層17と第2の絶縁層18とからなる構成を、1つの絶縁層に置き換えることができる。
本発明の実施形態に係る照光式タッチパネルの概要を示した断面図。 本発明の実施形態に係る照光式タッチパネルの構成を示した断面図。 本発明の実施形態に係る照光式タッチパネルを分離して示した斜視図。 本発明の実施形態に係る照光式タッチパネルを分離して示した断面図であり、(a)は第1の基板に形成された積層体の断面図、(b)は第2の基板に形成された積層体の断面図。 照光式タッチパネルの被操作面が押圧された状態を示した断面図。 タッチパネルに印加した電圧と電極間距離との関係を示したグラフ。(a)はX軸方向距離と電圧とのグラフ、(b)はY軸方向距離と電圧とのグラフ。 照光式タッチパネルの他の実施形態を示した断面図。 照光式タッチパネルの他の実施形態を示した断面図。 照光式タッチパネルの他の実施形態を示した断面図。
符号の説明
10 EL層
12 透明電極
13 発光層
14 誘電体層
15 背面電極
16 第1の絶縁層
17 シールド層
18 第2の絶縁層
20 タッチパネル
21 第1の抵抗膜
22 第1の電極
23 リブ
24 ドットスペーサ
25 第2の電極
26 第2の抵抗膜
30 被操作面
40 加飾層
50 第1の基板
60 第2の基板

Claims (5)

  1. 被操作面として機能する一主面を備え、可撓性と光透過性とを有する第1の基板と、
    前記第1の基板の他方の主面に形成され、前記第1の基板を介して発光光を放射するエレクトロルミネッセンス層と、
    前記エレクトロルミネッセンス層に積層して配置され、前記第1の基板の前記被操作面への押圧により、前記第1の基板及び前記エレクトロルミネッセンス層が撓むことにより押圧され、押圧された位置を検出するための信号を出力するタッチパネルと、
    前記タッチパネルに積層された第2の基板と、
    を備える照光式タッチパネル。
  2. 前記エレクトロルミネッセンス層は、光放出面である一主面が前記第1の基板の他方の主面側に配置され、
    前記タッチパネルは、前記エレクトロルミネッセンス層の他方の主面に形成された第1の抵抗膜と、前記第2の基板に支持され、前記第1の抵抗膜に離間して対向して配置された第2の抵抗膜と、を備える、
    ことを特徴とする請求項1に記載の照光式タッチパネル。
  3. 前記第2の基板は、可撓性材料からなることを特徴とする請求項1または請求項2に記載の照光式タッチパネル。
  4. 可撓性を有する第1の基板とエレクトロルミネッセンス層との積層体を用意する工程と、
    前記エレクトロルミネッセンス層上に、抵抗膜型タッチパネルを構成するための第1の抵抗膜を形成する工程と、
    第2の基板上に、前記抵抗膜型タッチパネルを構成するための第2の抵抗膜を形成する工程と、
    前記第1の抵抗膜と前記第2の抵抗膜とが所定の距離離間して対向するように、前記積層体と前記第2の基板とを配置して一体化する工程と、
    を備える照光式タッチパネルの製造方法。
  5. 可撓性を有する第1の基板の一主面上に、複数の膜を印刷により積層することにより、エレクトロルミネッセンス層を形成する工程と、
    前記積層体のエレクトロルミネッセンス層に、抵抗膜型のタッチパネルを構成するための第1の抵抗膜を印刷により形成する工程と、
    第2の基板上に、前記抵抗膜型のタッチパネルを構成するための第2の抵抗膜を印刷により形成する工程と、
    前記第1の抵抗膜と前記第2の抵抗膜とが所定の距離離間して対向するように、前記積層体と前記第2の基板とを配置して一体化する工程と、
    を備える照光式タッチパネルの製造方法。
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