JP2009043302A - Data writing circuit and semiconductor memory device using the same - Google Patents
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Abstract
Description
本発明は、データ書き込み回路及びそれを用いた半導体記憶装置に係り、特に、リーク電流の削減を図ることができるデータ書き込み回路を用いた半導体記憶装置に関する。 The present invention relates to a data write circuit and a semiconductor memory device using the same, and more particularly to a semiconductor memory device using a data write circuit capable of reducing leakage current.
近年の半導体製造技術の進歩に伴い、半導体デバイスの微細化が進んでおり、半導体デバイスの高性能化が図られているが、このような半導体デバイスの微細化に伴って、リーク電流の増大が問題となってきている。 As semiconductor manufacturing technology has advanced in recent years, semiconductor devices have been miniaturized, and semiconductor devices have been improved in performance. However, with such miniaturization of semiconductor devices, leakage current has increased. It has become a problem.
このことは、SRAMなどの半導体記憶装置の分野においても同様であり、低速で動作する回路については高閾値(Vth)のトランジスタを用いることでリーク電流を削減することができるが、毎サイクル高速で動作する回路についてはその速度を下げることなくリーク電流を削減することは困難であった。 This is the same in the field of semiconductor memory devices such as SRAM. For a circuit that operates at a low speed, the leakage current can be reduced by using a transistor with a high threshold (Vth). It has been difficult to reduce leakage current without reducing the speed of an operating circuit.
とりわけ、メモリセルにデータを書き込むためのデータ書き込み回路において、複数のメモリセルが接続されるビット線(グローバルビット線)をドライブするライトバッファ回路は、内部のトランジスタの能力を大きくする必要があるため、W長(チャネル幅)サイズを大きくしなければならず、そこに流れるリーク電流が大きく低消費電力化への大きな課題となっていた。 In particular, in a data write circuit for writing data to a memory cell, a write buffer circuit that drives a bit line (global bit line) to which a plurality of memory cells are connected needs to increase the capacity of an internal transistor. Therefore, the W length (channel width) size has to be increased, and the leakage current flowing therethrough is large, which has been a major issue for reducing power consumption.
ここで、従来のデータ書き込み回路について、図4及び図5を参照して説明する。図4は従来のデータ書き込み回路の構成図、図5は従来のデータ書き込み回路の動作波形を示す図である。 Here, a conventional data write circuit will be described with reference to FIGS. FIG. 4 is a configuration diagram of a conventional data write circuit, and FIG. 5 is a diagram showing operation waveforms of the conventional data write circuit.
図4に示すように、従来のデータ書き込み回路100は、メモリセルMCへのデータの書き込みに先立ち、ビット線対(ビット線BL及び反転ビット線BLX)をプリチャージするプリチャージ回路101と、カラムセレクト信号CS[0:n]に基づいて、ビット線BLとローカルライトデータ線WLDとの間、反転ビット線BLXと反転ローカルライトデータ線WLDXとの間の接続を制御するカラムセレクト回路102と、ローカルライトデータ線WLD及び反転ローカルライトデータ線WLDXの電圧をHレベル(高位電圧レベル)又はLレベル(低位電圧レベル)にするライトバッファ回路103と、このライトバッファ回路103を制御するライト制御回路104とを有している。
As shown in FIG. 4, a conventional
このように構成されるデータ書き込み回路100において、ライトサイクル時の処理、すなわちメモリセルMCへのデータ書き込み処理は以下のように行われる。なお、ここでのデータ書き込み回路100はカラムセレクト信号CS[0]に対応するものとする。
In the
まず、図5に示すように、外部クロックCKが立ち上がる前に、時刻t11で外部入力データDataが入力される。その後、外部クロックCKの立ち上がりに同期して、時刻t12でカラムセレクト信号CS[n]が立ち下がり、カラムセレクト信号CS[0]が立ち上がる。このようにカラムセレクト信号CS[0]が立ち上がると、カラムセレクト回路102が動作状態となり、ビット線BLとローカルライトデータ線WLDとが接続状態となり、反転ビット線BLXと反転ローカルライトデータ線WLDXとが接続状態になる。
First, as shown in FIG. 5, external input data Data is input at time t11 before the external clock CK rises. Thereafter, in synchronization with the rising of the external clock CK, the column select signal CS [n] falls and the column select signal CS [0] rises at time t12. When the column select signal CS [0] rises in this way, the column
その後、時刻t13でプリチャージ信号PRが立ち上がり、それまで動作状態であったプリチャージ回路101が非動作状態となる。すなわち、プリチャージ回路101によるビット線BL及び反転ビット線BLXへのプリチャージが停止する。
Thereafter, at time t13, the precharge signal PR rises, and the
時刻t14でライトイネーブル信号WREが立ち上がると、ライトバッファ回路103が動作状態となり、ローカルライトデータ線WLD及び反転ローカルライトデータ線WLDXの電圧が外部入力データDataに応じて、Hレベル及びLレベル、又はLレベル及びHレベルとなる書き込み信号がライトバッファ回路103から出力される。ローカルライトデータ線WLD及び反転ローカルライトデータ線WLDXはビット線BL及び反転ビット線BLXにそれぞれ接続されていることから、ライトバッファ回路103から出力される書き込み信号によってメモリセルMCへのデータの書き込みが行われることになる。
When the write enable signal WRE rises at time t14, the
例えば、外部入力データDataがHレベルの電圧であるとき、ライト制御回路104のインバータ回路144からHレベルの電圧が、インバータ回路145からLレベルの電圧がそれぞれ出力される。インバータ回路144からHレベルの電圧が出力されるとライトバッファ回路103のPMOSトランジスタ131がオフ状態、NMOSトランジスタ132がオン状態となり、Lレベルの電圧がローカルライトデータ線WLDを介してビット線BLに出力される。また、インバータ回路145からLレベルの電圧が出力されるとライトバッファ回路103のPMOSトランジスタ133がオン状態、NMOSトランジスタ134がオフ状態となり、Hレベルの電圧が反転ローカルライトデータ線WLDXを介して反転ビット線BLXに出力される。このようにビット線BL及び反転ビット線BLXがそれぞれLレベル及びHレベルの電圧となる書き込み信号がライトバッファ回路から出力され、この書き込み信号によってメモリセルMCにデータが書き込まれる。
For example, when the external input data Data is an H level voltage, the
このようにメモリセルMCのデータの書き込み終了した後、時刻t15でライトイネーブル信号WREが立ち下がってライトバッファ回路103が非動作状態となり、次に、プリチャージ信号PRが立ち下がって、プリチャージ回路101が動作状態となる。
In this way, after the writing of data in the memory cell MC is completed, the write enable signal WRE falls at time t15, the
このとき、ライト制御回路104のインバータ回路144,145の出力は共にLレベルの電圧となり、ライトバッファ回路103のNMOSトランジスタ132,134はオフ状態、PMOSトランジスタ131,133はオン状態となる。そのため、PMOSトランジスタ131からNMOSトランジスタ132へ、またPMOSトランジスタ133からNMOSトランジスタ134へリーク電流が流れ続けてしまい、半導体記憶装置における低消費電力化の課題となっていた。
At this time, the outputs of the
このリーク電流の問題を回避するために、図6に示すように、電源とPMOSトランジスタ131,133との間にトランジスタのスイッチSW150を挿入し、このスイッチSW150を制御する技術が提案されている(特許文献1の「従来技術の欄」参照)。すなわち、半導体記憶装置を低リーク状態にしたいとき、Hレベルの電圧のスタンバイ制御信号STBpが入力され、スイッチSW150をオフ状態として、PMOSトランジスタ131からNMOSトランジスタ132へ、またPMOSトランジスタ133からNMOSトランジスタ134へリーク電流が流れるのを抑制している。
In order to avoid this problem of leakage current, a technique has been proposed in which a switch SW150 of a transistor is inserted between a power supply and
しかし、ライトバッファ回路103はデータの書き込み時に大きな電流を流す必要があることから、スイッチSW150として用いるトランジスタのサイズを大きくしなければならず、実装面積が増大し、更に電流削減効果も低減してしまう。一方で、スイッチSW150として用いるトランジスタのサイズを小さくすると、実装面積の増大は抑制することができるものの、電流駆動力が低下し、回路速度が低下してしまうことになる。
However, since the
そこで、本出願人は、ライト制御回路を、図7に示すように構成することにより、ライトバッファ回路のリーク電流を削減することができるデータ書き込み回路を提案している(特許文献1参照)。 Therefore, the applicant has proposed a data write circuit that can reduce the leakage current of the write buffer circuit by configuring the write control circuit as shown in FIG. 7 (see Patent Document 1).
このデータ書き込み回路のライト制御回路204は、AND回路241,242の出力をそれぞれNMOSトランジスタ132,134のゲートに入力するとともに、OR回路244,245の一方の端子に入力しており、さらに、OR回路244,245の出力をそれぞれPMOSトランジスタ131,133のゲートに入力している。そして、OR回路244,245の他方の入力にスタンバイ制御信号STBpを入力して、リーク電流の削減を図っている。
The
すなわち、ライトイネーブル信号WREの電圧がLレベルの状態のとき、ライト制御回路204における各AND回路241,242の出力はLレベルの電圧となり、NMOSトランジスタ132,134はオフ状態となる。また、スタンバイ制御信号STBpをHレベルの電圧とすることで、OR回路244,245の出力はHレベルの電圧となり、PMOSトランジスタ131,133はオフ状態となる。このように、半導体記憶装置を低リーク状態にしたいとき、スタンバイ制御信号STBpをHレベルの電圧とすることで、ライトバッファ回路103の全てのトランジスタをオフ状態としてリーク電流を削減している。
上述したように、本出願人が提案している回路は、実装面積の増大を抑え、回路の動作速度に影響を与えることなく大きなリーク電流の削減を行うことができる点で優れている。 As described above, the circuit proposed by the present applicant is excellent in that the increase in mounting area can be suppressed and a large leakage current can be reduced without affecting the operation speed of the circuit.
しかし、スタンバイ制御信号STBpによりライトバッファ回路を制御する場合、そのスタンバイ制御信号STBpを生成するための回路やその回路からライト制御回路への配線などが必要となる。しかも、ライトサイクル時において、スタンバイ制御信号STBpが出力されていないことから、ライトサイクルの一部の期間においてリーク電流が発生してしまう。 However, when the write buffer circuit is controlled by the standby control signal STBp, a circuit for generating the standby control signal STBp and wiring from the circuit to the write control circuit are required. In addition, since the standby control signal STBp is not output during the write cycle, a leakage current occurs during a part of the write cycle.
本発明はかかる事情に鑑みてなされたものであり、その目的は、更なるリーク電流の削減を行うことができるデータ書き込み回路及びそれを用いる半導体記憶装置を提供することにある。 The present invention has been made in view of such circumstances, and an object of the present invention is to provide a data write circuit capable of further reducing leakage current and a semiconductor memory device using the data write circuit.
上記目的を達成するために、請求項1に記載の発明は、メモリセルにデータの書き込みを行うデータ書き込み回路において、前記データ書き込み回路は、直列接続された第1出力トランジスタと第2出力トランジスタとを有し、前記メモリセルへのデータ書き込み時には、書き込むデータに応じて前記第1出力トランジスタ及び前記第2出力トランジスタの一方をオン状態に、他方をオフ状態に制御し、前記メモリセルへのデータ書き込みをしていない時には、前記第1出力トランジスタ及び前記第2出力トランジスタを共にオフ状態に制御する制御回路とを有することを特徴とする。 To achieve the above object, according to a first aspect of the present invention, there is provided a data write circuit for writing data to a memory cell, wherein the data write circuit includes a first output transistor and a second output transistor connected in series. And when writing data to the memory cell, one of the first output transistor and the second output transistor is controlled to be in an on state and the other is in an off state in accordance with the data to be written. And a control circuit for controlling both the first output transistor and the second output transistor to an off state when writing is not performed.
また、請求項2に記載の発明は、請求項1に記載の発明において、前記データ書き込み回路は、前記メモリセルと前記バッファ回路との間に設けられ、動作状態のときに前記メモリセルと前記バッファ回路とを接続状態とし、非動作状態のときに前記メモリセルと前記バッファ回路とを非接続状態とするセレクト回路を有し、前記メモリセルへのデータの書き込み時には前記セレクト回路を動作状態とし、前記メモリセルへデータを書き込まない時には前記セレクト回路を非動作状態とすることを特徴とする。 According to a second aspect of the present invention, in the first aspect of the present invention, the data write circuit is provided between the memory cell and the buffer circuit, and the memory cell and the buffer circuit are in an operating state. A select circuit for connecting the buffer circuit to the buffer circuit and disconnecting the memory cell and the buffer circuit when the buffer circuit is in the non-operating state; and setting the select circuit to the operating state when writing data to the memory cell. The select circuit is set in a non-operating state when data is not written to the memory cell.
また、請求項3に記載の発明は、前記第1出力トランジスタ及び前記第2出力トランジスタはそれぞれPMOSトランジスタ及びNMOSトランジスタであり、前記制御回路は、データ書き込み時に、書き込むデータに応じた信号とその反転信号とをそれぞれ生成し、一方の信号を第1出力トランジスタへ入力し、他方の信号を第2出力トランジスタへ出力することを特徴とする。 According to a third aspect of the present invention, the first output transistor and the second output transistor are a PMOS transistor and an NMOS transistor, respectively, and the control circuit performs a signal corresponding to data to be written and its inversion at the time of data writing. Each of the signals is generated, one signal is input to the first output transistor, and the other signal is output to the second output transistor.
また、請求項4に記載の発明は、2つのビット線からなる複数のビット線対と、前記ビット線対に接続された複数のメモリセルと、前記メモリセルに前記ビット線対を介してデータの書き込みを行う複数のデータ書き込み回路とを有する半導体記憶装置において、前記データ書き込み回路は、直列接続された第1出力トランジスタと第2出力トランジスタとを有するドライバ回路を1対有し、前記データを前記メモリセルに書き込むための書き込み信号を前記ビット線対に出力するバッファ回路と、前記メモリセルへのデータ書き込み時には、書き込むデータに応じて各前記ドライバ回路の第1出力トランジスタ及び前記第2出力トランジスタの一方をオン状態に、他方をオフ状態に制御し、前記メモリセルへのデータ書き込みをしていない時には、各前記ドライバ回路の第1出力トランジスタ及び前記第2出力トランジスタを共にオフ状態に制御する制御回路とを有することを特徴とする。 According to a fourth aspect of the present invention, a plurality of bit line pairs composed of two bit lines, a plurality of memory cells connected to the bit line pair, and data to the memory cells via the bit line pairs. In the semiconductor memory device having a plurality of data write circuits for writing the data, the data write circuit has a pair of driver circuits each having a first output transistor and a second output transistor connected in series, and the data is A buffer circuit for outputting a write signal for writing to the memory cell to the bit line pair, and at the time of data writing to the memory cell, the first output transistor and the second output transistor of each driver circuit according to the data to be written One of the memory cells is turned on and the other is controlled to be turned off, and data is not written to the memory cell. To is characterized in that a control circuit for controlling the both turned off the first output transistor and the second output transistor of each of said driver circuits.
請求項1,4に記載の発明によれば、ライトサイクル時において、データ書き込み時以外のときにはバッファ回路の全てのトランジスタをオフ状態とすることができるので、スタンバイ動作時やリードサイクル時だけでなく、ライトサイクル時においても書き込み動作時以外の期間のリーク電流を削減できる。 According to the first and fourth aspects of the invention, in the write cycle, all the transistors of the buffer circuit can be turned off at times other than the data write time. Even during the write cycle, the leakage current during periods other than the write operation can be reduced.
また、請求項2に記載の発明によれば、ライトサイクル時において、データ書き込み時以外のときには、メモリセルとバッファ回路とを切り離すことができるので、メモリセルへのプリチャージを行うプリチャージ回路からバッファ回路のトランジスタへリーク電流が流れることを抑制することができる。 According to the second aspect of the present invention, since the memory cell and the buffer circuit can be separated in the write cycle except when data is written, the precharge circuit for precharging the memory cell can be separated. It is possible to suppress leakage current from flowing to the transistor of the buffer circuit.
また、請求項3に記載の発明によれば、バッファ回路を、PMOSトランジスタとNMOSトランジスタとを直列接続したCMOS型とすることができる。 According to the third aspect of the present invention, the buffer circuit can be a CMOS type in which a PMOS transistor and an NMOS transistor are connected in series.
本発明における実施形態における半導体記憶装置は、メモリセルにデータの書き込みを行うデータ書き込み回路を有しており、このデータ書き込み回路は、直列接続された第1出力トランジスタと第2出力トランジスタとを有し、メモリセルにデータを書き込むための書き込み信号を出力するバッファ回路と、このバッファ回路を制御する制御回路とを有している。ここで、第1出力トランジスタは、PMOSトランジスタであり、第2出力トランジスタはNMOSトランジスタである。 The semiconductor memory device according to the embodiment of the present invention has a data write circuit for writing data to a memory cell, and the data write circuit has a first output transistor and a second output transistor connected in series. And a buffer circuit for outputting a write signal for writing data to the memory cell, and a control circuit for controlling the buffer circuit. Here, the first output transistor is a PMOS transistor, and the second output transistor is an NMOS transistor.
しかも、この制御回路は、メモリセルへのデータ書き込み時には、書き込むデータに応じて第1出力トランジスタ及び第2出力トランジスタの一方をオン状態に、他方をオフ状態に制御し、メモリセルへのデータ書き込みをしていない時には、第1出力トランジスタ及び第2出力トランジスタを共にオフ状態に制御するようにしている。 In addition, when writing data to the memory cell, the control circuit controls one of the first output transistor and the second output transistor to be in an on state and the other to be in an off state in accordance with the data to be written, thereby writing the data into the memory cell. When not being performed, both the first output transistor and the second output transistor are controlled to be in the OFF state.
したがって、ライトサイクル時において、データ書き込み時以外のときにはバッファ回路の全てのトランジスタをオフ状態とすることができるので、スタンバイ動作時やリードサイクル時だけでなく、ライトサイクル時においても書き込み動作時以外の期間のリーク電流を削減できる。 Therefore, in the write cycle, all the transistors in the buffer circuit can be turned off at times other than data write, so that not only during standby operation and read cycle, but also during write cycle other than during write operation. Leakage current during the period can be reduced.
しかも、上記従来のデータ書き込み回路と比較して回路素子数の増加がないことから実装面積の増加も抑制することができる。 In addition, since the number of circuit elements does not increase as compared with the conventional data writing circuit, an increase in mounting area can be suppressed.
また、このデータ書き込み回路は、メモリセルとバッファ回路との間に設けられ、動作状態のときにメモリセルとバッファ回路とを接続状態とし、非動作状態のときにメモリセルとバッファ回路とを非接続状態とするセレクト回路を有しており、メモリセルへのデータの書き込み時にはセレクト回路を動作状態とし、メモリセルへデータを書き込まない時にはセレクト回路を非動作状態とするようにしている。 The data write circuit is provided between the memory cell and the buffer circuit, and connects the memory cell and the buffer circuit in an operating state, and disconnects the memory cell and the buffer circuit in a non-operating state. A select circuit for connection is provided, and the select circuit is set to an operating state when data is written to the memory cell, and the select circuit is set to a non-operating state when data is not written to the memory cell.
したがって、ライトサイクル時において、データ書き込み時以外のときには、メモリセルとバッファ回路とを切り離すことができるので、メモリセルへのプリチャージを行うプリチャージ回路からバッファ回路のトランジスタへリーク電流が流れることを抑制することができる。 Therefore, the memory cell and the buffer circuit can be separated in a write cycle other than at the time of data writing, so that a leak current flows from the precharge circuit for precharging the memory cell to the transistor of the buffer circuit. Can be suppressed.
以下、本発明の実施形態について図面を参照しながら述べる。図1は本実施形態における半導体記憶装置の概略構成を示す図であり、SRAM(Static Random Access Memory)を1例に挙げて説明する。 Hereinafter, embodiments of the present invention will be described with reference to the drawings. FIG. 1 is a diagram showing a schematic configuration of a semiconductor memory device according to the present embodiment, and an SRAM (Static Random Access Memory) will be described as an example.
図1に示す半導体記憶装置1は、複数のワード線ドライバ(Word Driver)回路2、デコーダ(Decode)/コントロール(Control)回路3、複数のメモリセル部4、ライトバッファ(Write Buffer)/センスアンプ(Sense Amp)5などで構成されている。
A
ここでは説明の簡略化のため、ワード線ドライバ(NAND回路とインバータ回路で構成)とメモリブロックBKL1を各1つしか図示していないが、実際は所定数のワード線(WL0,WL1,・・・)を単位として配置されたメモリブロック(BKL1,・・・,BKLn)が所定数存在する。各ワード線に対してメモリセルMC(MC−01,MC−02,・・・)が接続される。 Here, for simplification of explanation, only one word line driver (consisting of a NAND circuit and an inverter circuit) and one memory block BKL 1 are shown, but in reality, a predetermined number of word lines (WL0, WL1,... There are a predetermined number of memory blocks (BKL 1 ,..., BKL n ) arranged in units of. Memory cells MC (MC-01, MC-02,...) Are connected to each word line.
デコーダ/コントロール回路3は、プリデコーダ、内部タイミング制御回路などで構成され、入力されるアドレスデータをデコードし、また外部クロックECKを基準に内部クロック信号、制御信号などを発生する。
The decoder /
デコーダにはローアドレスデコーダの他にカラムアドレスデコーダもあり、このカラムアドレスデコーダは入力されたアドレスデータに基づいてカラム(列方向)のアドレスを選択する。 In addition to the row address decoder, there is also a column address decoder. The column address decoder selects a column (column direction) address based on the input address data.
また、コントロール回路は、外部制御信号と外部クロックECKが供給されると、例えば、ライトイネーブル信号WREをデコードしてプリデコーダ及びワード線ドライバ回路2に供給してアドレス信号をデコードさせ、ワード線を活性化又は不活性化させる。また、クロックCKを発生し、ライトバッファ/センスアンプ5にライトイネーブル信号WREを出力し、書き込みタイミングを制御する。また、ビット線対BL,BLX(BLの反転)上のデータを増幅するセンスアンプ回路にセンスアンプイネーブル信号を出力する。さらに、カラムデコーダから出力するカラムアドレスを制御するタイミング信号を出力する。
Further, when the external control signal and the external clock ECK are supplied, the control circuit decodes the write enable signal WRE and supplies it to the predecoder and the word
ワード線ドライバ回路2はプリデコーダで1個選択され、この選択された特定のワード線ドライバ回路2に、デコーダ/コントロール回路3から出力されたCKとDATAが供給される。この選択されたワード線ドライバ回路2のブロックでは、例えばデコーダの単位が3ビットの場合、8本のワード線から1本のワード線にHレベルの電圧を供給してアクティブ(活性化)し、同時に他のワード線にはLレベルの電圧を供給し、非活性化する。
One word
メモリセル部4は、例えばSRAMセルやROMセルなどの複数のメモリセルMC−00〜MC−nmがマトリックス状に配列され、一般にMC−00〜MC−0mが同一のワード線に接続され、MC−00〜MC−n0が同一のビット線対BL,BLXに接続される。 In the memory cell unit 4, for example, a plurality of memory cells MC-00 to MC-nm such as SRAM cells and ROM cells are arranged in a matrix, and generally MC-00 to MC-0m are connected to the same word line. −00 to MC-n0 are connected to the same bit line pair BL, BLX.
ライトバッファ/センスアンプ5には、データ書き込み時において、ライトイネーブル信号WRE、カラムセレクト信号CS[0:n]、及び入力データDataなどが供給される。カラムセレクト信号CS[0:n]でビット線対BL,BLXが選択されると、ライトバッファ回路を介してメモリセルMCにデータが書き込まれる。また、ライトバッファ/センスアンプ5は、データ読み込み時、選択されたメモリセルMCからビット線対BL,BLX上に出力されているデータを増幅し、ライトバッファ/センスアンプ5の出力バッファを介してデータを出力する。
The write buffer /
次に、本実施形態における半導体記憶装置1のデータ書き込み回路について図面を参照して説明する。図2は本発明の実施形態における半導体記憶装置1のデータ書き込み回路の構成概要を示す図であり、図3は図2に示すデータ書き込み回路の各部位の波形を示す図である。なお、本実施形態における半導体記憶装置1のライトバッファ/センスアンプ5には、各ビット対BL,BLX毎にデータ書き込み回路を有している。
Next, the data write circuit of the
本実施形態における半導体記憶装置1のデータ書き込み回路WCは、図2に示すように、メモリセルMCへデータを書き込みために、メモリセルMCへのデータの書き込みに先立ち、ビット線BL及び反転ビット線BLXをプリチャージするプリチャージ回路10と、カラムセレクト信号CS[0:n]に基づいて、ビット線BLとローカルライトデータ線WLDとの間、反転ビット線BLXと反転ローカルライトデータ線WLDXとの間の接続を制御するカラムセレクト回路20(セレクト回路の一例に相当)と、ローカルライトデータ線WLD及び反転ローカルライトデータ線WLDXの電圧をHレベル又はLレベルにするライトバッファ回路30(バッファ回路の一例に相当)と、このライトバッファ回路30を制御するライト制御回路40(制御回路の一例に相当)とを有している。
As shown in FIG. 2, the data write circuit WC of the
プリチャージ回路10は、電源線にソースが接続され、ビット線BLにドレインが接続されたPMOSトランジスタ11と、電源線にソースが接続され、反転ビット線BLXにドレインが接続されたPMOSトランジスタ12と、ビット線BL及び反転ビット線BLXにそれぞれドレイン及びソースが接続されたPMOSトランジスタ13とを備え、各PMOSトランジスタ11〜13のゲートには、プリチャージ信号PRが入力され、オン/オフ状態が制御される。
The
すなわち、Lレベルの電圧のプリチャージ信号PRが各PMOSトランジスタ11〜13のゲートに入力されると、各PMOSトランジスタ11〜13がオン状態となり、ビット線BL及び反転ビット線BLXに電源線から電圧が供給されて、ビット線BL及び反転ビット線BLXが所定電圧にプリチャージされる。一方、Hレベルの電圧のプリチャージ信号PRが各PMOSトランジスタ11〜13のゲートに入力されると、各PMOSトランジスタ11〜13がオフ状態となり、ビット線BL及び反転ビット線BLXへのプリチャージは行われない。 That is, when the precharge signal PR of L level voltage is input to the gates of the PMOS transistors 11 to 13, the PMOS transistors 11 to 13 are turned on, and the voltage from the power supply line to the bit line BL and the inverted bit line BLX. Is supplied, and the bit line BL and the inverted bit line BLX are precharged to a predetermined voltage. On the other hand, when a precharge signal PR having an H level voltage is input to the gates of the PMOS transistors 11 to 13, the PMOS transistors 11 to 13 are turned off, and the precharge to the bit line BL and the inverted bit line BLX is performed. Not done.
カラムセレクト回路20は、ビット線BLとローカルライトデータ線WLDとの間に設けられたトランジスタ対21と、反転ビット線BLX及び反転ローカルライトデータ線WLDXとの間に設けられたトランジスタ対22とを有している。
The column
トランジスタ対21は、NMOSトランジスタ23とPMOSトランジスタ24とから構成されており、NMOSトランジスタ23のドレイン及びPMOSトランジスタ24のソースがそれぞれビット線BLに接続され、NMOSトランジスタ23のソース及びPMOSトランジスタ24のドレインがそれぞれローカルライトデータ線WLDに接続される。また、トランジスタ対22は、PMOSトランジスタ25とNMOSトランジスタ26とから構成されており、PMOSトランジスタ25のソース及びNMOSトランジスタ26のドレインがそれぞれ反転ビット線BLXに接続され、PMOSトランジスタ25のドレイン及びNMOSトランジスタ26のソースが、それぞれ反転ローカルライトデータ線WLDXに接続される。
The
そして、NMOSトランジスタ23,26のゲートにカラムセレクト信号CS[0:n]が入力され、PMOSトランジスタ24,25のゲートにインバータ回路27を介して、カラムセレクト信号CS[0:n]の反転信号が入力される。したがって、カラムセレクト信号CS[0:n]の電圧がLレベルのときには、各トランジスタ23〜26はオフ状態となり、ビット線BL及び反転ビット線BLXは、ローカルライトデータ線WLD及び反転ローカルライトデータ線WLDXから切り離された状態となる。一方、カラムセレクト信号CS[0:n]の電圧がHレベルのときには、各トランジスタ23〜26はオン状態となり、ビット線BLはローカルライトデータ線WLDと、反転ビット線BLXは反転ローカルライトデータ線WLDXとそれぞれ接続された状態となる。
The column select signal CS [0: n] is input to the gates of the
ライトバッファ回路30は、電源線と接地線との間に直列接続されたPMOSトランジスタ33(第1出力トランジスタに相当)とNMOSトランジスタ34(第2出力トランジスタに相当)とからなる第1ドライバ回路31と、同じく電源線と接地線との間に直列接続されたPMOSトランジスタ35(第1出力トランジスタに相当)とNMOSトランジスタ36(第2出力トランジスタに相当)とからなる第2ドライバ回路32とを備え、ライト制御回路40から出力される制御信号に基づいて、ローカルライトデータ線WLDと反転ローカルライトデータ線WLDXとに書き込み信号を出力する。
The
第1ドライバ回路31において、PMOSトランジスタ33のソースは電源線に接続され、NMOSトランジスタ34のソースは接地線に接続される。そして、PMOSトランジスタ33及びNMOSトランジスタ34のドレインがローカルライトデータ線WLDに接続される。また、第2ドライバ回路32においても同様に、PMOSトランジスタ35のソースは電源線に接続され、NMOSトランジスタ36のソースは接地線に接続される。そして、PMOSトランジスタ35及びNMOSトランジスタ36のドレインが反転ローカルライトデータ線WLDXに接続される。
In the
ライト制御回路40は、NAND回路41,42と、インバータ回路43〜45とを有しており、入力されるライトイネーブル信号WRE及び外部入力データDataに応じて、各インバータ回路44,45からライトバッファ回路30に対して制御信号を出力する。
The
特に、このライト制御回路40は、ライトサイクルにおけるデータ書き込み時にのみライトバッファ回路30の各ドライバ回路31,32のトランジスタの一方をオン状態に、他方のトランジスタをオフ状態に制御し、メモリセルMCへのデータの書き込みを可能とする一方、データ書き込み時以外は、ライトバッファ回路30の各トランジスタ33〜36をオフ状態として、NMOSトランジスタ34,36におけるリーク電流を抑制している。以下にこのライト制御回路40の構成について具体的に説明する。
In particular, the
ライトイネーブル信号WREは、NAND回路41,42の一方のデータ入力ノードに入力される。また、NAND回路41の他方のデータ入力ノードには外部入力データDataが入力され、NAND回路42の他方のデータ入力ノードにはインバータ回路43によって反転された外部入力データDataが入力される。したがって、ライトイネーブル信号WREが立ち上がったとき、外部入力データDataに応じた信号とその反転信号がNAND回路41,42から出力される。
The write enable signal WRE is input to one data input node of the NAND circuits 41 and 42. Further, external input data Data is input to the other data input node of the NAND circuit 41, and external input data Data inverted by the
NAND回路41,42のデータ出力ノードは、それぞれインバータ回路44,45の入力ノードに接続される。そして、インバータ回路44のデータ出力ノードがNMOSトランジスタ34のゲートに接続され、インバータ回路45のデータ出力ノードがNMOSトランジスタ36のゲートに接続される。また、NAND回路41のデータ出力ノードがPMOSトランジスタ35のゲートに接続され、NAND回路42のデータ出力ノードがPMOSトランジスタ33のゲートに接続される。
Data output nodes of NAND circuits 41 and 42 are connected to input nodes of
このように構成されるデータ書き込み回路WCにおいて、メモリセルMCへのデータ書き込み処理は以下のように行われる。なお、ここでのデータ書き込み回路WCはカラムセレクト信号CS[0]に対応するものとする。 In the data write circuit WC configured as described above, data write processing to the memory cell MC is performed as follows. Note that the data write circuit WC here corresponds to the column select signal CS [0].
まず、図3に示すように、クロックCKが立ち上がる前に、時刻t1で外部入力データDataが入力される。その後、時刻t2でプリチャージ信号PRが立ち上がり、それまでオン状態であったプリチャージ回路10がオフ状態となる。すなわち、プリチャージ回路10によるビット線BLや反転ビット線BLXへのプリチャージが停止する。
First, as shown in FIG. 3, before the clock CK rises, external input data Data is input at time t1. Thereafter, the precharge signal PR rises at time t2, and the
その後、時刻t3でカラムセレクト信号CS[0]とライトイネーブル信号WREが立ち上がる。カラムセレクト信号CS[0]が立ち上がると、カラムセレクト回路20が動作状態となり、ビット線BLとローカルライトデータ線WLDとが接続状態となり、反転ビット線BLXと反転ローカルライトデータ線WLDXとが接続状態になる。
Thereafter, the column select signal CS [0] and the write enable signal WRE rise at time t3. When the column select signal CS [0] rises, the column
また、ライトイネーブル信号WREが立ち上がると、ライトバッファ回路30が動作状態となり、ローカルライトデータ線WLD及び反転ローカルライトデータ線WLDXが外部入力データDataに応じて、Hレベル及びLレベルの電圧、又はLレベル及びHレベルの電圧となる書き込み信号がライトバッファ回路103から出力される。ローカルライトデータ線WLD及び反転ローカルライトデータ線WLDXは、ビット線BL及び反転ビット線BLXにそれぞれ接続されていることから、ライトバッファ回路30から出力される書き込み信号によってメモリセルMCへの書き込みが行われることになる。
Further, when the write enable signal WRE rises, the
例えば、外部入力データDataの電圧がHレベルであるとき、ライト制御回路40のNAND回路42及びインバータ回路44からそれぞれHレベルの電圧が、NAND回路41及びインバータ回路45からそれぞれLレベルの電圧がそれぞれ出力される。NAND回路42及びインバータ回路44からHレベルの電圧が出力されると、ライトバッファ回路30のPMOSトランジスタ33がオフ状態、NMOSトランジスタ34がオン状態となり、第1ドライバ回路31からLレベルの電圧がローカルライトデータ線WLDを介してビット線BLに出力される。一方、NAND回路41及びインバータ回路45からLレベルの電圧が出力されると、ライトバッファ回路30のPMOSトランジスタ35がオン状態、NMOSトランジスタ36がオフ状態となり、第2ドライバ回路32からHレベルの電圧が反転ローカルライトデータ線WLDXを介して反転ビット線BLXに出力される。このようにビット線BL及び反転ビット線BLXの電圧がそれぞれLレベル及びHレベルとなる書き込み信号がライトバッファ回路から出力され、この書き込み信号によってメモリセルMCにデータが書き込まれる。
For example, when the voltage of the external input data Data is H level, the H level voltage from the NAND circuit 42 and the
また、外部入力データDataの電圧がLレベルであるとき、ライト制御回路40のNAND回路42及びインバータ回路44からそれぞれLレベルの電圧が、NAND回路41及びインバータ回路45からそれぞれHレベルの電圧がそれぞれ出力される。NAND回路42及びインバータ回路44からLレベルの電圧が出力されると、ライトバッファ回路30のPMOSトランジスタ33がオン状態、NMOSトランジスタ34がオフ状態となり、第1ドライバ回路31からHレベルの電圧がローカルライトデータ線WLDを介してビット線BLに出力される。一方、NAND回路41及びインバータ回路45からHレベルの電圧が出力されると、ライトバッファ回路30のPMOSトランジスタ35がオフ状態、NMOSトランジスタ36がオン状態となり、第2ドライバ回路32からLレベルの電圧が反転ローカルライトデータ線WLDXを介して反転ビット線BLXに出力される。このようにビット線BL及び反転ビット線BLXの電圧がそれぞれHレベル及びLレベルとなる書き込み信号がライトバッファ回路から出力され、この書き込み信号によってメモリセルMCにデータが書き込まれる。
Further, when the voltage of the external input data Data is L level, the L level voltage from the NAND circuit 42 and the
このようにメモリセルMCのデータの書き込み終了した後、時刻t4でライトイネーブル信号WREが立ち下がってライトバッファ回路103が非動作状態となり、また、カラムセレクト信号CS[0]が立ち下がって、カラムセレクト回路20が非動作状態となる。カラムセレクト回路20が非動作状態となると、ビット線BLとローカルライトデータ線WLDとが非接続状態となり、反転ビット線BLXと反転ローカルライトデータ線WLDXとが非接続状態になる。次に、時刻t5でプリチャージ信号PRが立ち下がって、プリチャージ回路101が動作状態となる。
After the data writing of the memory cell MC is thus completed, the write enable signal WRE falls at time t4, the
ここで、ライトイネーブル信号WREの電圧が立ち下がってLレベルになると、NAND回路41,42の出力は共にHレベルの電圧となり、インバータ回路44,45の出力は共にLレベルの電圧となる。したがって、PMOSトランジスタ33、35のゲートの電圧は共にHレベルとなって、PMOSトランジスタ33、35がオフ状態となり、NMOSトランジスタ34、36のゲートの電圧は共にLレベルとなって、NMOSトランジスタ34、36がオフ状態となる。すなわち、ライトバッファ回路30の全てのトランジスタ33〜36がオフ状態となる。
Here, when the voltage of the write enable signal WRE falls and becomes L level, the outputs of the NAND circuits 41 and 42 are both H level voltages, and the outputs of the
したがって、ライトイネーブル信号WREの電圧が立ち下がってLレベルとなった後は、PMOSトランジスタ33からNMOSトランジスタ34へのリーク電流や、PMOSトランジスタ35からNMOSトランジスタ36へのリーク電流は流れない。
Therefore, after the voltage of the write enable signal WRE falls to the L level, the leakage current from the
このように本実施形態におけるデータ書き込み回路WCでは、ライトサイクルにおける書き込み動作時以外はライトバッファ回路30のトランジスタ33〜36がオフ状態としており、これによりリーク電流の発生を可及的に抑制することしている。
As described above, in the data write circuit WC in the present embodiment, the
また、上述のように、ライトイネーブル信号WREの立ち下がり時にカラムセレクト信号CS[0:n]も立ち下がるようにしており、これによりカラムセレクト回路20をオフ状態とし、ビット線BL及び反転ビット線BLXを、ローカルライトデータ線WLD及び反転ローカルライトデータ線WLDXから切り離した状態としている。
Further, as described above, the column select signal CS [0: n] also falls when the write enable signal WRE falls, thereby turning off the column
従来のデータ書き込み回路100(図4参照)では、カラムセレクト信号CS[0]の電圧がHレベルからLレベルに切り替えるときに、次のカラムセレクト信号CS[n]の電圧をLレベルからHレベルに切り替えるようにしていた(図5参照)。したがって、複数のカラムセレクト回路のうちいずれか1つのカラムセレクト回路は動作状態となっていた。そのため、時刻t15(図5参照)の後、プリチャージ信号PRが立ち下がり、プリチャージ回路は動作状態となるが、カラムセレクト回路が動作状態になっているため、プリチャージ回路からライトバッファ回路のNMOSトランジスタへのリーク電流が流れており、低消費電力化の妨げとなっていた。 In the conventional data write circuit 100 (see FIG. 4), when the voltage of the column select signal CS [0] is switched from H level to L level, the voltage of the next column select signal CS [n] is changed from L level to H level. (See FIG. 5). Therefore, any one of the plurality of column select circuits is in an operating state. Therefore, after time t15 (see FIG. 5), the precharge signal PR falls and the precharge circuit is in an operating state, but the column select circuit is in an operating state. Leakage current flows to the NMOS transistor, which hinders low power consumption.
しかし、本実施形態におけるデータ書き込み回路WCでは、上述のようにカラムセレクト信号CS[0:n]をパルス化し、ライトサイクルのデータ書き込み動作時毎に立ち下げてデータ書き込み動作が終了後、カラムセレクト回路20を非動作状態にしている。
However, in the data write circuit WC according to the present embodiment, the column select signal CS [0: n] is pulsed as described above, and is lowered at every data write operation of the write cycle. The
したがって、時刻t5でプリチャージ信号PRが立ち下がり、プリチャージ回路10は動作状態となるが、カラムセレクト回路20がプリチャージ回路10とライトバッファ回路30とを非接続の状態にするため、プリチャージ回路10からライトバッファ回路30のNMOSトランジスタへのリーク電流が流れ込まず、電力消費を低減することができる。
Therefore, at time t5, the precharge signal PR falls, and the
このように本実施形態におけるデータ書き込み回路WCでは、従来から問題となっていた、W長(チャネル幅)の非常に大きいNMOSトランジスタ34,36へ流れ込んでいたリーク電流の経路を全て切断しており、これによりリーク電流を削減している。しかも、スタンバイ時だけでなく、ライトサイクルにおいて書き込み動作時以外の動作時(図3の期間Ta)のリーク電流を削減することができるものである。なお、ビット線対BL,BLXはライトサイクル毎にプリチャージするので、ライト動作時やリード動作時のマージン低下(歩留り低下)と速度低下はなく、また、回路素子数も従来回路と同じであるため、実装面積の増加も生じない。
As described above, in the data write circuit WC in the present embodiment, all the paths of the leak current flowing into the
ここで、ライト制御回路40は、データ書き込み時に第1ドライバ回路31及び第2ドライバ回路32それぞれの一方のトランジスタをオン状態、他方のトランジスタをオフ状態とし、データを書き込まない時に各ドライバ回路31,32のいずれのトランジスタもオフ状態とするように制御するものであれば、図2に示す回路である必要はない。ただし、図2の回路構成は回路素子の増加を伴わないことから、最も好ましい回路構成の1つである。
Here, the
また、カラムセレクト回路20は、図2に示すように、PMOSトランジスタとNMOSトランジスタを直列に接続したCMOS型が好ましいが、2つのNMOSトランジスタを直列に接続したNMOS型に変えても本発明の効果を得ることは可能である。
As shown in FIG. 2, the column
また、上述のようにカラムセレクト信号CS[0:n]をパルス化してライトサイクル毎にカラムセレクト回路20を非動作状態にするのではなく、例えばチップイネーブル信号によりスタンバイ状態のときのみカラムセレクト信号CS[0:n]の電圧をLレベルにするようにしてもよい。この場合、リーク電流の削減効果は減少する(ライトサイクル時のリーク電流は削減できない)ものの、スタンバイ時のリーク電流は削減できる。
Further, as described above, the column select signal CS [0: n] is pulsed and the column
以上、本発明の実施の形態のいくつかを図面に基づいて詳細に説明したが、これらは例示であり、当業者の知識に基づいて種々の変形、改良を施した他の形態で本発明を実施することが可能である。 Although several embodiments of the present invention have been described in detail with reference to the drawings, these are merely examples, and the present invention can be implemented in other forms that are variously modified and improved based on the knowledge of those skilled in the art. It is possible to implement.
1 半導体記憶装置
2 ワード線ドライバ回路
3 デコーダ/コントロール回路
4 メモリセル部
5 ライトバッファ/センスアンプ
10 プリチャージ回路
20 ワード線ドライバ回路
30 ライトバッファ回路
31 第1ドライバ回路
32 第2ドライバ回路
33,35 PMOSトランジスタ
34,36 NMOSトランジスタ
40 ライト制御回路
MC メモリセル
WC ライトバッファ回路
DESCRIPTION OF
Claims (4)
前記データ書き込み回路は、
直列接続された第1出力トランジスタと第2出力トランジスタとを有し、前記メモリセルに前記データを書き込むための書き込み信号を出力するバッファ回路と、
前記メモリセルへのデータ書き込み時には、書き込むデータに応じて前記第1出力トランジスタ及び前記第2出力トランジスタの一方をオン状態に、他方をオフ状態に制御し、前記メモリセルへのデータ書き込みをしていない時には、前記第1出力トランジスタ及び前記第2出力トランジスタを共にオフ状態に制御する制御回路と、を有することを特徴とするデータ書き込み回路。 In a data writing circuit for writing data to a memory cell,
The data writing circuit includes:
A buffer circuit having a first output transistor and a second output transistor connected in series, and outputting a write signal for writing the data to the memory cell;
When writing data to the memory cell, one of the first output transistor and the second output transistor is controlled to be in an on state and the other is in an off state in accordance with the data to be written, so that the data is written to the memory cell. A data write circuit comprising: a control circuit that controls both the first output transistor and the second output transistor to be in an off state when there is not.
前記メモリセルと前記バッファ回路との間に設けられ、動作状態のときに前記メモリセルと前記バッファ回路とを接続状態とし、非動作状態のときに前記メモリセルと前記バッファ回路とを非接続状態とするセレクト回路を有し、
前記メモリセルへのデータの書き込み時には前記セレクト回路を動作状態とし、前記メモリセルへデータを書き込まない時には前記セレクト回路を非動作状態とすることを特徴とする請求項1に記載のデータ書き込み回路。 The data writing circuit includes:
Provided between the memory cell and the buffer circuit, the memory cell and the buffer circuit are connected in an operating state, and the memory cell and the buffer circuit are disconnected in a non-operating state And a select circuit
2. The data write circuit according to claim 1, wherein when the data is written to the memory cell, the select circuit is in an operating state, and when the data is not written into the memory cell, the select circuit is in an inoperative state.
前記制御回路は、
データ書き込み時に、書き込むデータに応じた信号とその反転信号とをそれぞれ生成し、一方の信号を第1出力トランジスタへ入力し、他方の信号を第2出力トランジスタへ出力することを特徴とする請求項1又は請求項2に記載のデータ書き込み回路。 The first output transistor and the second output transistor are a PMOS transistor and an NMOS transistor, respectively.
The control circuit includes:
A signal according to data to be written and an inverted signal thereof are respectively generated at the time of data writing, one signal is input to the first output transistor, and the other signal is output to the second output transistor. The data write circuit according to claim 1 or 2.
前記ビット線対に接続された複数のメモリセルと、
前記メモリセルに前記ビット線対を介してデータの書き込みを行う複数のデータ書き込み回路とを有する半導体記憶装置において、
前記データ書き込み回路は、
直列接続された第1出力トランジスタと第2出力トランジスタとを有するドライバ回路を1対有し、前記データを前記メモリセルに書き込むための書き込み信号を前記ビット線対に出力するバッファ回路と、
前記メモリセルへのデータ書き込み時には、書き込むデータに応じて各前記ドライバ回路の第1出力トランジスタ及び前記第2出力トランジスタの一方をオン状態に、他方をオフ状態に制御し、前記メモリセルへのデータ書き込みをしていない時には、各前記ドライバ回路の第1出力トランジスタ及び前記第2出力トランジスタを共にオフ状態に制御する制御回路と、を有することを特徴とする半導体記憶装置。
A plurality of bit line pairs consisting of two bit lines;
A plurality of memory cells connected to the bit line pair;
In a semiconductor memory device having a plurality of data write circuits for writing data to the memory cells via the bit line pairs,
The data writing circuit includes:
A buffer circuit having a pair of driver circuits each having a first output transistor and a second output transistor connected in series, and outputting a write signal for writing the data to the memory cell to the bit line pair;
When writing data to the memory cell, one of the first output transistor and the second output transistor of each driver circuit is controlled to be in an on state and the other is in an off state in accordance with the data to be written. And a control circuit for controlling both the first output transistor and the second output transistor of each of the driver circuits to an off state when writing is not being performed.
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