JP2008260266A - Displaying material substrate, its production method, and displaying material - Google Patents
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Abstract
Description
本発明は有機ELディスプレイや液晶ディスプレイなど表示材料に適した基板に関する。 The present invention relates to a substrate suitable for a display material such as an organic EL display and a liquid crystal display.
有機ELディスプレイや液晶ディスプレイなど表示材料の基板としてはガラスが広く用いられている。ガラスは光線透過率やガスバリア性に優れる一方、薄膜化には限界がある。薄膜ガラスとしては0.3mm厚程度がガラス単独でハンドリング可能な事実上の下限であり、これ以下の厚みはハンドリング性悪化や割れの問題がある。このため、さらなる薄膜化の要求に対しては例えば0.3mm厚程度のガラスを用いて有機ELディスプレイや液晶ディスプレイなど表示材料を作成し、その後に研磨やエッチングなどによって、ガラスを薄膜化する方法が用いられている。この方法では他の部材で補強されるため0.1mm厚程度のガラス基板が達成されているが、研磨やエッチングなどのプロセスコストが大きくなる問題がある。 Glass is widely used as a substrate for display materials such as organic EL displays and liquid crystal displays. While glass is excellent in light transmittance and gas barrier properties, there is a limit to reducing the film thickness. As thin film glass, about 0.3 mm thickness is a practical lower limit that can be handled by glass alone, and thickness below this has problems of deterioration in handling properties and cracking. Therefore, in response to the demand for further thinning, for example, a display material such as an organic EL display or a liquid crystal display is made using glass having a thickness of about 0.3 mm, and then the glass is thinned by polishing or etching. Is used. In this method, a glass substrate having a thickness of about 0.1 mm is achieved because it is reinforced by other members, but there is a problem that process costs such as polishing and etching increase.
一方、軽量、薄膜で割れない表示材料基板として各種のプラスチック基板が提案されている。しかしながらプラスチックは水蒸気透過率が大きいため、有機EL色素や、液晶材料が劣化する問題がある。例えば特許文献1にはプラスチック基板上にSiO2等のガスバリア層を形成した技術が開示されているが、SiO2等無機のガスバリア膜は割れなどの欠陥を生じる問題がある。このため、特許文献2には無機のガスバリア膜および有機膜を組み合わせた方法などが提案されているが、10−3g/m2/day程度が下限であるばかりでなく、高コストとなる問題がある。 On the other hand, various plastic substrates have been proposed as display material substrates that are lightweight and do not break with thin films. However, since plastic has a high water vapor transmission rate, there is a problem that the organic EL pigment and the liquid crystal material deteriorate. For example, Patent Document 1 discloses a technique in which a gas barrier layer such as SiO 2 is formed on a plastic substrate. However, an inorganic gas barrier film such as SiO 2 has a problem of causing defects such as cracks. For this reason, Patent Document 2 proposes a method in which an inorganic gas barrier film and an organic film are combined. However, not only the lower limit is about 10 −3 g / m 2 / day, but the problem is high cost. There is.
特許文献3にはガラス+保護フィルムという組合せの開示がある。ガスバリア性に優れるガラスの割れ易さを保護フィルムで保護する試みであるが、接着剤付きポリエチレンテレフタレートを用いているためにガラス転移温度が低く、250℃程度が要求されるITOのスパッタ温度などに耐えることができない。低温でのITO製膜も不可能ではないが、この場合、得られるITO膜の抵抗値が大きくなる問題がある。 Patent Document 3 discloses a combination of glass and protective film. Although it is an attempt to protect the fragility of glass with excellent gas barrier properties with a protective film, the glass transition temperature is low due to the use of polyethylene terephthalate with adhesive, and it is suitable for the sputtering temperature of ITO, which requires about 250 ° C. I can't stand it. Although ITO film formation at a low temperature is not impossible, in this case, there is a problem that the resistance value of the obtained ITO film becomes large.
特許文献4には2枚のガラス板で樹脂を挟持する、いわゆる「合わせガラス」の開示があるが、少なくとも2枚のガラス板が必要となるため全体の厚さが厚くなり、好ましくない。 Patent Document 4 discloses a so-called “laminated glass” in which a resin is sandwiched between two glass plates. However, since at least two glass plates are required, the entire thickness is increased, which is not preferable.
特許文献5にはガラス−プラスチック複合体の開示があるが、プラスチックに芳香族ポリアミドを用いるという開示も示唆もなく、一般的なプラスチックを用いているために耐熱性が低く、ITOなどの透明電極形成や、半田などの工程に耐えることができず、高耐熱のガラス−プラスチック複合体が求められていた。
本発明は、上述した従来技術における問題点の解決を課題として検討した結果達成されたものである。すなわち本発明の目的は、低い水蒸気透過率と薄膜化を両立した低コストの表示材料基板を提供することにある。 The present invention has been achieved as a result of studying the solution of the problems in the prior art described above as an issue. That is, an object of the present invention is to provide a low-cost display material substrate that achieves both a low water vapor transmission rate and a thin film.
上記した目的を達成するための本発明は、以下を特徴とする。 The present invention for achieving the above object is characterized by the following.
すなわち、芳香族ポリアミド層とガラス層とを含み、全光線透過率が80%以上である表示材料用基板である。 That is, the display material substrate includes an aromatic polyamide layer and a glass layer, and has a total light transmittance of 80% or more.
低い水蒸気透過率、薄膜化と高い全光線透過率を両立した低コストの表示材料基板を提供することができる。 It is possible to provide a low-cost display material substrate that achieves both a low water vapor transmission rate, a thin film, and a high total light transmittance.
本発明の表示材料用基板は、芳香族ポリアミド層とガラス層とを含んでいる。 The display material substrate of the present invention includes an aromatic polyamide layer and a glass layer.
本発明の表示材料用基板は、ディスプレイやテレビなどの表示材料に用いられるため全光線透過率が80%以上であることが好ましく、本発明では薄膜ガラスと特殊な芳香族ポリアミドとの積層により、これを達成する。全光線透過率は好ましくは85%以上、より好ましくは90%以上である。理想的には100%であるが、空気層と芳香族ポリアミド層の界面反射、および芳香族ポリアミド層とガラス層との界面反射により光線が反射されるため、現実的には90%程度が上限となる。さらに特定の波長の光を吸収すると、表示材料に用いた場合、着色が見えることがある。一般の芳香族ポリアミドは400nm付近の吸収が大きく、黄色く着色しているが、本発明の表示材料用基板は400nmの光線透過率が70%以上であることも好ましい。より好ましくは80%以上である。なお、ここでいう400nmの光線透過率とは以下により測定し、400nmの値を採用したものである。 Since the substrate for display material of the present invention is used for display materials such as displays and televisions, the total light transmittance is preferably 80% or more. In the present invention, by laminating thin film glass and a special aromatic polyamide, Achieve this. The total light transmittance is preferably 85% or more, more preferably 90% or more. Ideally, it is 100%, but light rays are reflected by the interface reflection between the air layer and the aromatic polyamide layer and the interface reflection between the aromatic polyamide layer and the glass layer. It becomes. Further, when light of a specific wavelength is absorbed, coloring may be seen when used as a display material. A general aromatic polyamide has a large absorption around 400 nm and is colored yellow, but the substrate for display material of the present invention preferably has a light transmittance at 400 nm of 70% or more. More preferably, it is 80% or more. In addition, the light transmittance of 400 nm here is measured by the following and adopts a value of 400 nm.
透過率(%)=(T1/T0)×100
ただしT1は試料を通過した光の強度、T0は試料を通過しない以外は同一の距離の空気中を通過した光の強度である。
Transmittance (%) = (T1 / T0) × 100
However, T1 is the intensity | strength of the light which passed the sample, and T0 is the intensity | strength of the light which passed the air of the same distance except not passing a sample.
波長範囲:300nm〜800nm
測定速度:120nm/分
測定モード:透過
ガラスは市販のものや公知の方法で製造されたもの、あるいは新規に製造したもののいずれでも構わない。好ましくは表示材料基板用の高表面平滑、無アルカリガラスや石英ガラスである。厚みは0.5mm以下であることが好ましく、より好ましくは0.3mm以下、さらに好ましくは0.2mm以下、より好ましくは0.1mm以下、より好ましくは0.05mm以下、より好ましくは0.03mm以下、最も好ましくは0.01mm以下である。厚みが0.5mmを超えるとガラス自体で十分なハンドリング性を有するため、芳香族ポリアミド層をさらに積層することによりハンドリング性向上や、割れ防止という効果が発現しにくくなると共に、曲げに対する割れを生じやすくなる。
Wavelength range: 300 nm to 800 nm
Measurement speed: 120 nm / min Measurement mode: Transmission glass Any of a commercially available glass, a glass manufactured by a known method, or a newly manufactured glass may be used. High surface smoothness, non-alkali glass and quartz glass for display material substrates are preferred. The thickness is preferably 0.5 mm or less, more preferably 0.3 mm or less, further preferably 0.2 mm or less, more preferably 0.1 mm or less, more preferably 0.05 mm or less, more preferably 0.03 mm. Hereinafter, it is most preferably 0.01 mm or less. If the thickness exceeds 0.5 mm, the glass itself has sufficient handling properties, so further laminating an aromatic polyamide layer makes it difficult to improve handling and prevent cracking, and causes cracking against bending. It becomes easy.
一方、ガラスの厚みが薄いほど芳香族ポリアミド層と積層することによる効果が顕著になる。また、ガラスの種類にもよるがおおよそ0.1mm以下の厚みの場合、曲率半径=100cmでの折り曲げに対し、割れを生じないため好ましい。ガラスの厚みに下限は無いが、0.001mm程度が芳香族ポリアミド層製膜時の乾燥収縮に耐えることができる下限と考えられる。さらに好ましくは0.005mm以上である。 On the other hand, the effect of laminating with the aromatic polyamide layer becomes more remarkable as the glass is thinner. Further, although it depends on the kind of glass, a thickness of about 0.1 mm or less is preferable because it does not cause cracking when bent at a curvature radius of 100 cm. Although there is no lower limit to the thickness of the glass, it is considered that about 0.001 mm is a lower limit that can withstand the drying shrinkage during the formation of the aromatic polyamide layer. More preferably, it is 0.005 mm or more.
ガラスはシート状で供給されるものであっても、連続して供給されるものであってもよいが、連続して供給されるものを用いると連続した表示材料用基板を得ることができ好ましい。 Glass may be supplied in the form of a sheet or may be supplied continuously, but a continuous display material substrate can be obtained by using a continuous supply. .
また、芳香族ポリアミド層の厚さには限定はないが、50μm以下が好ましい。50μmを超えると溶媒の抽出や乾燥に長時間が必要となる傾向にある。芳香族ポリアミド層の厚さは好ましくは30μm以下、より好ましくは20μm以下、さらに好ましくは10μm以下、最も好ましくは5μm以下である。芳香族ポリアミドの厚みに下限は無いが、0.01μm程度が均一に製膜できる下限と考えられる。さらに好ましくは0.05μm以上である。 The thickness of the aromatic polyamide layer is not limited, but is preferably 50 μm or less. When it exceeds 50 μm, a long time is required for extraction and drying of the solvent. The thickness of the aromatic polyamide layer is preferably 30 μm or less, more preferably 20 μm or less, still more preferably 10 μm or less, and most preferably 5 μm or less. There is no lower limit to the thickness of the aromatic polyamide, but about 0.01 μm is considered to be the lower limit at which a uniform film can be formed. More preferably, it is 0.05 μm or more.
また、ガラス層、芳香族ポリアミド層ともに層の数に上限はなく、芳香族ポリアミド層を複数層設けたり、ガラス層を複数設けたり、それぞれの層を複数層組み合わせたり、目的用途に応じて適宜構成すればよい。中でも、コスト等の観点から、最も好ましくはガラス1層と芳香族ポリアミド1層の組合せであり、この時、ガスバリア性、ハンドリング性が十分かつ、薄膜化、生産性において最も優れる。 In addition, there is no upper limit to the number of layers for both the glass layer and the aromatic polyamide layer, and a plurality of aromatic polyamide layers, a plurality of glass layers, a combination of a plurality of layers, or as appropriate according to the intended use What is necessary is just to comprise. Among them, from the viewpoint of cost and the like, the combination of one glass layer and one aromatic polyamide layer is most preferable. At this time, the gas barrier property and handling property are sufficient, and the thinning and productivity are most excellent.
ここで「芳香族ポリアミド1層」とは、共押出製膜によって得る積層構造も含む。すなわち本発明に用いる芳香族ポリアミド層はその層が単一の芳香族ポリアミドから成る単層でも、その層が2種類以上の芳香族ポリアミドから成る積層であってもよい。積層とすることによって、反射防止機能を付与したり、たとえば「ガラス側にはガラスとの易接着、表層には透明導電膜との易接着」など異なる機能を付与することが出来る。積層とする場合はフィードブロック、ピノール等の合流装置を用いて製膜原液を積層して単層口金から吐出する方法や、多層口金を用いて製膜原液を積層して製膜する方法が例示できる。複数回コートすることによっても積層製膜は可能であるが、生産性が劣ることがある。 Here, the “aromatic polyamide 1 layer” includes a laminated structure obtained by coextrusion film formation. That is, the aromatic polyamide layer used in the present invention may be a single layer composed of a single aromatic polyamide or a laminate composed of two or more types of aromatic polyamide. By being laminated, an antireflection function can be imparted, or different functions such as “easy adhesion with glass on the glass side and easy adhesion with a transparent conductive film on the surface layer” can be imparted. In the case of stacking, examples include a method of laminating a film forming stock solution using a confluence apparatus such as a feed block and pinol and discharging from a single layer die, and a method of laminating a film forming stock solution using a multilayer die. it can. Laminate film formation is possible by coating multiple times, but productivity may be inferior.
本発明に用いる芳香族ポリアミドはガラス転移点温度が200℃以上またはガラス転移点温度を有さないことが好ましい。より好ましくは250℃以上、さらに好ましくは300℃以上、最も好ましくは350℃以上またはガラス転移点温度を有さないことである。高いガラス転移温度を有することにより、ITO(酸化インジウム・スズ)等の金属のスパッタや蒸着温度に耐えることができ、ガラス単体にスパッタするのと同様にITO等の金属をスパッタすることが可能となる。また、スパッタ後の熱処理を高温で行うことも可能となる。一般的に知られているPPTA(ポリパラフェニレンテレフタルアミド)など芳香族ポリアミドはガラス転移点温度が200℃以上であるが、黄色に着色しており、また濃硫酸など特殊な溶媒にしか溶解しないため本発明には適用できない。表示材料用基板とした時の全光線透過率を80%以上とするためには芳香族ポリアミドが25℃で有機溶媒に少なくとも5質量%溶解可能であり、また加熱乾燥時に白濁したり表面が粗になることがないことが好ましい。 The aromatic polyamide used in the present invention preferably has a glass transition temperature of 200 ° C. or higher or does not have a glass transition temperature. More preferably, it is 250 ° C. or higher, more preferably 300 ° C. or higher, most preferably 350 ° C. or higher, or no glass transition temperature. By having a high glass transition temperature, it can withstand sputtering and vapor deposition temperatures of metals such as ITO (indium tin oxide), and it is possible to sputter metals such as ITO in the same way as sputtering on a single glass. Become. In addition, the heat treatment after sputtering can be performed at a high temperature. A generally known aromatic polyamide such as PPTA (polyparaphenylene terephthalamide) has a glass transition temperature of 200 ° C. or higher, but is colored yellow and is soluble only in a special solvent such as concentrated sulfuric acid. Therefore, it cannot be applied to the present invention. In order to achieve a total light transmittance of 80% or more when used as a display material substrate, the aromatic polyamide can be dissolved in an organic solvent at 25 ° C. at least 5% by mass. It is preferable not to become.
この特性はいずれも芳香族ポリアミドの溶解性に起因する。溶解性が不十分な場合、乾燥時に、芳香族ポリアミド濃度が大きくなると有機溶媒に溶けきれなくなって析出したり、ゲル状物を生成する。これが光線の散乱、白濁や表面の粗面化の原因となる。 All of these characteristics are attributed to the solubility of the aromatic polyamide. When the solubility is insufficient, when the aromatic polyamide concentration becomes high at the time of drying, it cannot be dissolved in the organic solvent and precipitates, or a gel-like material is generated. This causes light scattering, white turbidity, and surface roughening.
芳香族ポリアミドの溶解性を向上するためには、剛直なパラ結合や、ナフタレン、アントラセンなどの多環芳香族の割合を少なくし、柔軟なメタ構造、エーテル、−SO2−あるいはメチレン構造の割合を多くすることや、フルオレン、tert-ブチル、ハロゲン、ハロゲン化アルキルなどの嵩高い置換基を導入することが好ましい。 In order to improve the solubility of aromatic polyamides, the proportion of rigid para bonds, polycyclic aromatics such as naphthalene and anthracene is reduced, and the proportion of flexible meta structure, ether, -SO 2 -or methylene structure It is preferable to introduce a bulky substituent such as fluorene, tert-butyl, halogen, and alkyl halide.
ガラス転移点温度が200℃以上かつ、ガラスとの接着力が大きくするためには、芳香族ポリアミドとしては化学式(I)で示される構造単位を含むことがより好ましい。 In order for the glass transition temperature to be 200 ° C. or higher and to increase the adhesive strength with glass, it is more preferable that the aromatic polyamide contains a structural unit represented by the chemical formula (I).
R1:任意の基
R2:任意の基
R3:直結されているか、または、フェニル基を必須成分とする炭素数6から12の芳香族基。
R 1 : Arbitrary group R 2 : Arbitrary group R 3 : An aromatic group having 6 to 12 carbon atoms which is directly connected or has a phenyl group as an essential component.
R4:直結されているか、または、−フェニル基を必須成分とする炭素数6から12の芳香族基
R5:芳香族基
化学式(I)において、R1やR2に特に制限はなく、任意の基であればよい。好ましくは、−H、炭素数1〜5の脂肪族基、−CF3、−CCl3、−OH、−F、−Cl、−Br、−OCH3、シリル基、または、芳香族基である。R1およびR2は、側鎖の置換基であるため、主鎖の置換基と比較して、ポリアミドの物性に与える影響は相対的に小さいが、光学特性や濡れ性、溶媒可溶性などを改良するために、適宜導入することが好ましい。例えば、濡れ性やガラスとの接着性向上を目的に−OH、シリル基や−COOHを導入することができる。
R 4 : directly connected or an aromatic group having 6 to 12 carbon atoms having a -phenyl group as an essential component R 5 : aromatic group In the chemical formula (I), R 1 and R 2 are not particularly limited, Any group may be used. Preferably, -H, an aliphatic group having 1 to 5 carbon atoms, -CF 3, -CCl 3, -OH , -F, -Cl, -Br, -OCH 3, silyl group, or an aromatic group . Since R 1 and R 2 are side chain substituents, they have a relatively small effect on the physical properties of the polyamide compared to the main chain substituents, but improve optical properties, wettability, solvent solubility, etc. Therefore, it is preferable to introduce appropriately. For example, —OH, silyl group, or —COOH can be introduced for the purpose of improving wettability and adhesion to glass.
さらに、化学式(I)においては、R3およびR4の位置に他の基を導入することができる。もちろん、そのまま直結されていてもよいが、例えば、−Ph−、−O−Ph−、−C(CF3)2−Ph−などを導入してもよい。ただし、最も好ましいのは直結されている構造である。 Furthermore, in the chemical formula (I), other groups can be introduced at the positions of R 3 and R 4 . Of course, it may be directly connected as, for example, -Ph -, - O-Ph -, - C (CF 3) 2 -Ph- , etc. may be introduced. However, the most preferable structure is a directly connected structure.
化学式(I)においてR5は芳香族基であれば特に制限はない。好ましくはフェニル基、クロロフェニル基である。化学式(I)においてR5は、耐熱性や剛性を付与する目的においては、例えばパラフェニレン、2−置換パラフェニレン、ビフェニルのような剛直な芳香族基であることが好ましい。一方、ターフェニルやアントラセンなどの多環式芳香族基は剛直ではあるが、多くのπ電子を有し、ポリアミドが着色する原因になることがある。また、近紫外領域や紫外領域における透明性を高める場合には、R5は、メタフェニル基や1,3−ヘキサフルオロプロピル−2,2−ビフェニル基であることが好ましい。これらの基は、屈曲性を有するため、剛性が低下することはあるが、より短波長の光に対する透明性が向上する。 In the chemical formula (I), R 5 is not particularly limited as long as it is an aromatic group. A phenyl group and a chlorophenyl group are preferable. In the chemical formula (I), R 5 is preferably a rigid aromatic group such as paraphenylene, 2-substituted paraphenylene, or biphenyl for the purpose of imparting heat resistance and rigidity. On the other hand, polycyclic aromatic groups such as terphenyl and anthracene are rigid but have many π electrons, which may cause the polyamide to be colored. Moreover, when improving transparency in the near ultraviolet region or the ultraviolet region, R 5 is preferably a metaphenyl group or a 1,3-hexafluoropropyl-2,2-biphenyl group. Since these groups have flexibility, rigidity may be reduced, but transparency to light having a shorter wavelength is improved.
本発明に用いる芳香族ポリアミドに対する化学式(I)の構造単位のモル分率は50%以上であることが好ましい。さらに好ましくは70%以上であり、より好ましくは90%以上、もっと好ましくは95%以上であり、最も好ましくは100%である。化学式(I)の構造単位のモル分率が50%より少ない場合はガラスとの接着性が不足することがある。この場合、シランカップリング剤を添加することにより接着強度を向上せしめることが好ましい。 The molar fraction of the structural unit of the chemical formula (I) with respect to the aromatic polyamide used in the present invention is preferably 50% or more. More preferably, it is 70% or more, more preferably 90% or more, more preferably 95% or more, and most preferably 100%. When the molar fraction of the structural unit of the chemical formula (I) is less than 50%, the adhesion to glass may be insufficient. In this case, it is preferable to improve the adhesive strength by adding a silane coupling agent.
本発明に用いる芳香族ポリアミドの他の成分としては化学式(II)および(III)で示される構造単位を含有することが有機溶媒への可溶性、光線透過率の点から好ましい。また、低複屈折低減および位相差の波長分散性を小さくするためには化学式(III)の構造単位が好ましい。ここで波長分散性とは波長400nmでの位相差を波長550nmの位相差で除した値である。 As other components of the aromatic polyamide used in the present invention, the structural units represented by the chemical formulas (II) and (III) are preferably contained from the viewpoint of solubility in an organic solvent and light transmittance. In order to reduce the low birefringence and reduce the wavelength dispersion of the retardation, the structural unit represented by the chemical formula (III) is preferable. Here, the wavelength dispersibility is a value obtained by dividing the phase difference at a wavelength of 400 nm by the phase difference at a wavelength of 550 nm.
位相差について、例えば液晶ディスプレイ基板等に用いる場合、本発明の芳香族ポリアミドフィルムは550nmの波長の光の位相差が10nm未満であることが好ましい。このような位相差は、たとえば芳香族ポリアミド溶液をガラスに展開後乾燥する手法により実現可能である。上記した用途に用いる場合、この位相差は、より好ましくは5nm以下、さらに好ましくは2nm以下、最も好ましくは0nmである。550nmの波長の光の位相差が10nm未満と非常に小さいことにより、表示材料以外にも例えば光ディスク用保護フィルムとしても好適に使用できる。 Regarding the retardation, for example, when used for a liquid crystal display substrate, the aromatic polyamide film of the present invention preferably has a retardation of light having a wavelength of 550 nm of less than 10 nm. Such a phase difference can be realized by, for example, a technique in which an aromatic polyamide solution is spread on glass and then dried. When used in the above-described applications, this phase difference is more preferably 5 nm or less, further preferably 2 nm or less, and most preferably 0 nm. Since the phase difference of light having a wavelength of 550 nm is as small as less than 10 nm, it can be suitably used, for example, as a protective film for optical discs in addition to display materials.
一方で、たとえば表示材料基板に位相差フィルムの機能を付加した位相差付き基板のように積極的に位相差を付与することが好ましい用途もある。この場合、波長550nmの光の位相差が、10〜2,000nmであることが好ましい。位相差がこの範囲であると、光学用の位相差フィルム、特に、広域1/4波長位相差板として使用される場合に、優れた色調再現性を発現することが可能となる。このような位相差は、たとえば芳香族ポリアミド溶液をガラスに展開後乾燥する本発明の手法において、用いる芳香族ポリアミドに化学式(II)で示すビフェニル構造など液晶性の構造を多く含めることや、芳香族ポリアミド溶液をガラスに展開するときに芳香族ポリアミド溶液の吐出量に対し、ガラス板の移動速度を相対的に高めて、芳香族ポリアミド溶液を引き延ばす方法、あるいは位相差発現のための添加剤を芳香族ポリアミド溶液に添加する方法などが挙げられる。上記した用途に用いる場合、この位相差は、好ましくは100〜550nmであり、より好ましくは130〜380nmである。 On the other hand, there are also applications in which it is preferable to positively impart a phase difference, such as a phase difference substrate in which a function of a phase difference film is added to a display material substrate. In this case, the phase difference of light having a wavelength of 550 nm is preferably 10 to 2,000 nm. When the retardation is within this range, excellent color tone reproducibility can be exhibited when used as an optical retardation film, particularly a wide-range quarter-wave retardation plate. For example, in the method of the present invention in which an aromatic polyamide solution is spread on glass and then dried, such a phase difference may include a liquid crystal structure such as a biphenyl structure represented by the chemical formula (II) in the aromatic polyamide used, When the aromatic polyamide solution is spread on glass, a method of extending the aromatic polyamide solution by increasing the moving speed of the glass plate relative to the discharge amount of the aromatic polyamide solution, or an additive for developing the phase difference Examples thereof include a method of adding to an aromatic polyamide solution. When used in the above-described applications, the phase difference is preferably 100 to 550 nm, and more preferably 130 to 380 nm.
添加剤としては紫外線硬化液晶、熱硬化液晶などの液晶性分子やポリカーボネート、スチレンなどの芳香族高分子またはオリゴマーが例示できる。 Examples of the additive include liquid crystalline molecules such as ultraviolet curable liquid crystal and thermosetting liquid crystal, and aromatic polymers or oligomers such as polycarbonate and styrene.
本発明の表示材料用基板は、波長590nmの光線に対する表示材料用基板面内の直交軸方向の屈折率をそれぞれnx、ny(ただしnx≧ny)とし、波長590nmの光線に対する表示材料用基板の厚み方向の屈折率をnz、表示材料用基板の厚みをd(nm)とした時に、下式で定義される厚み方向の位相差Rthが10nm以下であることが好ましく、より好ましくは8nm以下、さらに好ましくは5nm以下、最も好ましくは2nm以下である。表示材料用基板の厚み方向の位相差Rthが10nm以下であると、表示材料用基板面内の光学等方性のみならず厚み方向の光学等方性にも優れた表示材料用基板となるため、一層好適に用いることができる。厚み方向の光学等方性が要求される用途において、厚み方向の位相差Rthは小さい方が好ましいが、現実的に下限は0.01nm程度と考えられる。このような厚み方向の位相差Rthが小さいフィルムを得るためには、厚み方向の位相差を発現させる添加剤や共重合成分を導入しないようにすることなどが有効である。 In the display material substrate of the present invention, the refractive index in the orthogonal axis direction in the plane of the display material substrate with respect to a light beam having a wavelength of 590 nm is nx and ny (where nx ≧ ny), and the display material substrate with respect to a light beam with a wavelength of 590 nm is used. When the refractive index in the thickness direction is nz and the thickness of the substrate for display material is d (nm), the thickness direction retardation Rth defined by the following formula is preferably 10 nm or less, more preferably 8 nm or less, More preferably, it is 5 nm or less, and most preferably 2 nm or less. When the retardation Rth in the thickness direction of the display material substrate is 10 nm or less, the display material substrate is excellent not only in the optical isotropy in the surface of the display material substrate but also in the thickness direction. Can be more suitably used. In applications that require optical isotropy in the thickness direction, it is preferable that the thickness direction retardation Rth is small, but the lower limit is considered to be about 0.01 nm in practice. In order to obtain such a film having a small thickness direction retardation Rth, it is effective not to introduce an additive or a copolymerization component that develops a thickness direction retardation.
厚み方向の位相差Rth(nm)=d×{(nx+ny)/2−nz} Thickness direction retardation Rth (nm) = d × {(nx + ny) / 2−nz}
R6:芳香族基 R 6 : aromatic group
R7:任意の基
R8:任意の基
R9:芳香族基
化学式(II)および化学式(III)においてR6およびR9は芳香族基であれば特に制限はない。好ましくはフェニル基、クロロフェニル基である。耐熱性や剛性を付与する目的においては、例えばパラフェニレン、2−置換パラフェニレン、ビフェニルのような剛直な芳香族基であることが好ましい。一方、ターフェニルやアントラセンなどの多環式芳香族基は剛直ではあるが、多くのπ電子を有し、ポリアミドが着色する原因になることがある。また、近紫外領域や紫外領域における透明性を高める場合には、R6およびR9は、メタフェニル基や1,3−ヘキサフルオロプロピル−2,2−ビフェニル基であることが好ましい。これらの基は、屈曲性を有するため、剛性が低下することはあるが、より短波長の光に対する透明性が向上する。また、溶解性を付与するためには化学式(II)および化学式(III)においてR6およびR9はメタフェル基など屈曲性の構造を含むことが好ましい。
R 7 : Arbitrary group R 8 : Arbitrary group R 9 : Aromatic group In the chemical formulas (II) and (III), R 6 and R 9 are not particularly limited as long as R 6 and R 9 are aromatic groups. A phenyl group and a chlorophenyl group are preferable. For the purpose of imparting heat resistance and rigidity, a rigid aromatic group such as paraphenylene, 2-substituted paraphenylene, and biphenyl is preferable. On the other hand, polycyclic aromatic groups such as terphenyl and anthracene are rigid but have many π electrons, which may cause the polyamide to be colored. Moreover, when improving transparency in the near-ultraviolet region or the ultraviolet region, R 6 and R 9 are preferably a metaphenyl group or a 1,3-hexafluoropropyl-2,2-biphenyl group. Since these groups have flexibility, rigidity may be reduced, but transparency to light having a shorter wavelength is improved. In order to impart solubility, in chemical formula (II) and chemical formula (III), R 6 and R 9 preferably contain a flexible structure such as a metafel group.
化学式(III)において、R7やR8に特に制限はなく、任意の基であればよい。好ましくは、−H、炭素数1〜5の脂肪族基、−CF3、−CCl3、−OH、−F、−Cl、−Br、−OCH3、シリル基、または、芳香族基である。R7およびR8は、側鎖の置換基であるため、主鎖の置換基と比較して、ポリアミドの物性に与える影響は相対的に小さいが、光学特性や濡れ性、溶媒可溶性などを改良するために、適宜導入することが好ましい。例えば、吸湿率低減の目的で−Fを導入したり、濡れ性やガラスとの接着性向上を目的に−OH、シリル基や−COOHを導入することができる。 In the chemical formula (III), R 7 and R 8 are not particularly limited and may be any group. Preferably, -H, an aliphatic group having 1 to 5 carbon atoms, -CF 3, -CCl 3, -OH , -F, -Cl, -Br, -OCH 3, silyl group, or an aromatic group . Since R 7 and R 8 are side chain substituents, they have a relatively small effect on the physical properties of the polyamide compared to the main chain substituents, but improve optical properties, wettability, solvent solubility, etc. Therefore, it is preferable to introduce appropriately. For example, —F can be introduced for the purpose of reducing the moisture absorption rate, or —OH, silyl group, and —COOH can be introduced for the purpose of improving wettability and adhesion to glass.
また、本発明の表示材料用基板は水蒸気透過率が10−5g/m2/day以下であることが好ましい様態である。従来のガスバリア層付きプラスチック基板では10−3g/m2/day以下の水蒸気透過率は達成困難だったが、本発明の表示材料用基板は少なくとも1層のガラス層を有することで、水蒸気透過率はガラスの水蒸気透過率、即ち0g/m2/dayを達成することができる。なお水蒸気透過率の値は小さければ小さい程良く、下限はない。より好ましくは10−6g/m2/day以下、さらに好ましくは10−7g/m2/day以下、最も好ましくは10−10g/m2/day以下である。また、現在の測定装置では10−5g/m2/day程度が測定下限である。 In addition, the display material substrate of the present invention preferably has a water vapor transmission rate of 10 −5 g / m 2 / day or less. Although it was difficult to achieve a water vapor transmission rate of 10 −3 g / m 2 / day or less with a conventional plastic substrate with a gas barrier layer, the display material substrate of the present invention has at least one glass layer. The rate can achieve the water vapor transmission rate of the glass, ie 0 g / m 2 / day. The smaller the value of water vapor transmission rate, the better. There is no lower limit. More preferably, it is 10 < -6 > g / m < 2 > / day or less, More preferably, it is 10 < -7 > g / m < 2 > / day or less, Most preferably, it is 10 < -10 > g / m < 2 > / day or less. In the current measuring apparatus, about 10 −5 g / m 2 / day is the lower limit of measurement.
また、本発明の表示材料用基板は曲率半径=100cmでの折り曲げに対し、割れを生じないことが好ましい様態である。このためにはガラスを薄膜化、高靱性化することが好ましい。割れを生じない曲率半径は好ましくは50cm、さらに好ましくは15cm、より好ましくは10cm、最も好ましくは1cmである。より小さな曲率半径で割れを生じないことで表示材料の連続製造やフレキシブルディスプレイを実現できる。また、曲率半径が15cm以下であれば、半径6インチの巻き芯に巻き取ってロール形状のまま保管、輸送可能となる。 In addition, it is preferable that the display material substrate of the present invention is free from cracking when bent at a radius of curvature of 100 cm. For this purpose, it is preferable to make the glass thinner and tougher. The radius of curvature that does not cause cracking is preferably 50 cm, more preferably 15 cm, more preferably 10 cm, and most preferably 1 cm. Continuous production of display materials and flexible displays can be realized by preventing cracks with a smaller radius of curvature. Further, if the radius of curvature is 15 cm or less, it can be wound around a core having a radius of 6 inches and stored and transported in the form of a roll.
以下に本発明における芳香族ポリアミドの製造方法を説明するが、もちろん本発明はこれに限定されるものではない。 Although the manufacturing method of the aromatic polyamide in this invention is demonstrated below, of course, this invention is not limited to this.
ポリアミド溶液、すなわち製膜原液を得る方法は種々の方法が利用可能であり、例えば、低温溶液重合法、界面重合法、溶融重合法、固相重合法などを用いることができる。また、溶媒を用いない重合方法、例えば蒸着重合法でも構わない。低温溶液重合法つまりカルボン酸ジクロライドとジアミンから得る場合には、非プロトン性有機極性溶媒中で合成される。 Various methods can be used as a method for obtaining a polyamide solution, that is, a film forming stock solution. For example, a low temperature solution polymerization method, an interfacial polymerization method, a melt polymerization method, a solid phase polymerization method, and the like can be used. Further, a polymerization method without using a solvent, for example, a vapor deposition polymerization method may be used. When it is obtained from a low temperature solution polymerization method, that is, from carboxylic acid dichloride and diamine, it is synthesized in an aprotic organic polar solvent.
カルボン酸ジクロライドとしてはテレフタル酸ジクロライド、2クロロ−テレフタル酸ジクロライド、イソフタル酸ジクロライド、ナフタレンジカルボニルクロライド、ビフェニルジカルボニルクロライド、4,4’−ビフェニルジカルボニルクロライド、ターフェニルジカルボニルクロライド、2フロロ−テレフタル酸ジクロライド、1,4−シクロヘキサンカルボン酸ジクロライドなどが挙げられるが、最も好ましくはテレフタル酸ジクロライド、2クロロ−テレフタル酸ジクロライド、4,4’−ビフェニルジカルボニルクロライド、イソフタル酸ジクロライドが用いられる。 Carboxylic acid dichlorides include terephthalic acid dichloride, 2 chloro-terephthalic acid dichloride, isophthalic acid dichloride, naphthalene dicarbonyl chloride, biphenyl dicarbonyl chloride, 4,4′-biphenyl dicarbonyl chloride, terphenyl dicarbonyl chloride, 2 fluoro-terephthale Acid dichloride, 1,4-cyclohexanecarboxylic acid dichloride and the like can be mentioned, and most preferred are terephthalic acid dichloride, 2chloro-terephthalic acid dichloride, 4,4′-biphenyldicarbonyl chloride, and isophthalic acid dichloride.
ジアミンとしては例えば4,4’−ジアミノジフェニルスルホン、3,3’−ジアミノジフェニルスルホン、3,4’−ジアミノジフェニルスルホン、ビス[4−(4−アミノフェノキシ)フェニル]スルホン、ビス[4−(3−アミノフェノキシ)フェニル]スルホン、2,2’−ジトリフルオロメチル−4,4’−ジアミノビフェニル、9,9−ビス(4−アミノフェニル)フルオレン、9,9−ビス(4−アミノ−3−メチルフェニル)フルオレン、9,9−ビス(4−アミノ−3−フロロフェニル)フルオレン、9,9−ビス(4−アミノ−3−クロロフェニル)フルオレン、2,2−ビス[4−(4−アミノフェノキシ)フェニル]プロパン、2,2−ビス(4−アミノフェニル)ヘキサフルオロプロパンなどが挙げられるが、好ましくは4,4’−ジアミノジフェニルスルホン、3,3’−ジアミノジフェニルスルホン、3,4’−ジアミノジフェニルスルホン、2,2’−ジトリフルオロメチル−4,4’−ジアミノビフェニル、9,9−ビス(4−アミノフェニル)フルオレン、9,9−ビス(4−アミノ−3−フロロフェニル)フルオレンが挙げられる。 Examples of the diamine include 4,4′-diaminodiphenylsulfone, 3,3′-diaminodiphenylsulfone, 3,4′-diaminodiphenylsulfone, bis [4- (4-aminophenoxy) phenyl] sulfone, and bis [4- ( 3-aminophenoxy) phenyl] sulfone, 2,2′-ditrifluoromethyl-4,4′-diaminobiphenyl, 9,9-bis (4-aminophenyl) fluorene, 9,9-bis (4-amino-3) -Methylphenyl) fluorene, 9,9-bis (4-amino-3-fluorophenyl) fluorene, 9,9-bis (4-amino-3-chlorophenyl) fluorene, 2,2-bis [4- (4- Aminophenoxy) phenyl] propane, 2,2-bis (4-aminophenyl) hexafluoropropane, and the like. 4,4′-diaminodiphenylsulfone, 3,3′-diaminodiphenylsulfone, 3,4′-diaminodiphenylsulfone, 2,2′-ditrifluoromethyl-4,4′-diaminobiphenyl, 9,9- Bis (4-aminophenyl) fluorene and 9,9-bis (4-amino-3-fluorophenyl) fluorene are mentioned.
さらに、基板との接着性を向上させるために、Si元素を含有することが好ましい。具体的には、ジアミン成分として、ビス(3−アミノプロピル)テトラメチルジシロキサン、ビス(p−アミノ−フェニル)オクタメチルペンタシロキサンなどを1〜10モル%共重合したものなどがあげられる。 Furthermore, it is preferable to contain Si element in order to improve the adhesiveness with the substrate. Specifically, examples of the diamine component include those obtained by copolymerizing 1 to 10 mol% of bis (3-aminopropyl) tetramethyldisiloxane, bis (p-amino-phenyl) octamethylpentasiloxane, and the like.
2種類以上のジアミンを用いて重合を行う場合、ジアミンは1種類ずつ添加し、該ジアミンに対し10〜99モル%の酸ジクロライドを添加して反応させ、この後に他のジアミンを添加して、さらに酸ジクロライドを添加して反応させる段階的な反応方法、およびすべてのジアミンを混合して添加し、この後に酸ジクロライドを添加して反応させる方法などが利用可能である。また、2種類以上の酸ジクロライドを利用する場合も同様に段階的な方法、同時に添加する方法などが利用できる。いずれの場合においても全ジアミンと全酸ジクロライドのモル比は95〜105:105〜95が好ましく、この値を外れた場合、成形に適したポリマー溶液を得ることが困難となる。 When performing polymerization using two or more kinds of diamines, diamines are added one by one, 10 to 99 mol% of acid dichloride is added to the diamine and reacted, and then another diamine is added, Further, a stepwise reaction method in which acid dichloride is added and reacted, a method in which all diamines are mixed and added, and then acid dichloride is added and reacted can be used. Similarly, when two or more kinds of acid dichlorides are used, a stepwise method, a method of simultaneously adding them, and the like can be used. In any case, the molar ratio of the total diamine to the total acid dichloride is preferably 95 to 105: 105 to 95, and if it is outside this value, it is difficult to obtain a polymer solution suitable for molding.
ポリアミドの製造において、使用する非プロトン性極性溶媒としては、例えば、ジメチルスルホキシド、ジエチルスルホキシドなどのスルホキシド系溶媒、N,N−ジメチルホルムアミド、N,N−ジエチルホルムアミドなどのホルムアミド系溶媒、N,N−ジメチルアセトアミド、N,N−ジエチルアセトアミドなどのアセトアミド系溶媒、N−メチル−2−ピロリドン、N−ビニル−2−ピロリドンなどのピロリドン系溶媒、フェノール、o−、m−またはp−クレゾール、キシレノール、ハロゲン化フェノール、カテコールなどのフェノール系溶媒、あるいはヘキサメチルホスホルアミド、γ−ブチロラクトンなどを挙げることができ、これらを単独又は混合物として用いるのが望ましいが、更にはキシレン、トルエンのような芳香族炭化水素の使用も可能である。さらにはポリマーの溶解を促進する目的で溶媒には50重量%以下のアルカリ金属、またはアルカリ土類金属の塩を添加することができる。 Examples of the aprotic polar solvent used in the production of polyamide include sulfoxide solvents such as dimethyl sulfoxide and diethyl sulfoxide, formamide solvents such as N, N-dimethylformamide and N, N-diethylformamide, and N, N. -Acetamide solvents such as dimethylacetamide, N, N-diethylacetamide, pyrrolidone solvents such as N-methyl-2-pyrrolidone, N-vinyl-2-pyrrolidone, phenol, o-, m- or p-cresol, xylenol , Phenolic solvents such as halogenated phenols and catechols, hexamethylphosphoramide, γ-butyrolactone, etc., and these are preferably used alone or as a mixture. Charcoal The use of hydrogen is also possible. Further, for the purpose of promoting the dissolution of the polymer, 50 wt% or less of an alkali metal or alkaline earth metal salt can be added to the solvent.
ポリアミドには、表面形成、加工性改善などを目的として10重量%以下の無機質または有機質の添加物を含有させてもよい。表面形成を目的とした添加剤としては例えば、無機粒子ではSiO2、TiO2、その他の金属微粉末等が挙げられる。 The polyamide may contain 10% by weight or less of an inorganic or organic additive for the purpose of surface formation and processability improvement. Examples of the additive for the purpose of surface formation include inorganic particles such as SiO 2 , TiO 2 , and other metal fine powders.
また、必要に応じて芳香族ポリアミドとガラスとの界面の濡れ性を向上させる目的で界面活性剤、乳酸エチルやプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテートなどのエステル類、エタノールなどのアルコール類、シクロヘキサノン、メチルイソブチルケトンなどのケトン類、テトラヒドロフラン、ジオキサンなどのエーテル類を混合してもよい。 In addition, surfactants, esters such as ethyl lactate and propylene glycol monomethyl ether acetate, alcohols such as ethanol, cyclohexanone and methyl isobutyl ketone are used for the purpose of improving the wettability of the interface between the aromatic polyamide and the glass as necessary. Ketones such as, and ethers such as tetrahydrofuran and dioxane may be mixed.
さらにガラスとの接着性を高めるために、シランカップリング剤などを芳香族ポリアミド溶液に0.5から10重量%添加したり、ガラスをこのような薬液で前処理したりすることもできる。 Further, in order to enhance the adhesion to glass, 0.5 to 10% by weight of a silane coupling agent or the like can be added to the aromatic polyamide solution, or the glass can be pretreated with such a chemical solution.
芳香族ポリアミド溶液に添加する場合、メチルメタクリロキシジメトキシシラン、3−アミノプロピルトリメトキシシラン、などのシランカップリング剤、アルミキレート剤をワニス中のポリマーに対して0.5から10重量%添加するとよい。 When added to an aromatic polyamide solution, 0.5 to 10% by weight of a silane coupling agent such as methylmethacryloxydimethoxysilane or 3-aminopropyltrimethoxysilane or an aluminum chelating agent is added to the polymer in the varnish. Good.
ガラスを処理する場合、上記で述べたカップリング剤をイソプロパノール、エタノール、メタノール、水、テトラヒドロフラン、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノメチルエーテル、乳酸エチル、アジピン酸ジエチルなどの溶媒に0.5から20重量%溶解させた溶液をスピンコート、浸漬、スプレー塗布、蒸気処理などで表面処理をする。場合によっては、その後50℃から300℃までの温度をかけることで、基板と上記カップリング剤との反応を進行させる。 When processing glass, the coupling agent described above is added to a solvent such as isopropanol, ethanol, methanol, water, tetrahydrofuran, propylene glycol monomethyl ether acetate, propylene glycol monomethyl ether, ethyl lactate, diethyl adipate and the like in an amount of 0.5 to 20. Surface treatment is performed by spin coating, dipping, spray coating, steam treatment, etc. on the solution in which the weight% is dissolved. In some cases, the reaction between the substrate and the coupling agent is allowed to proceed by applying a temperature from 50 ° C. to 300 ° C.
また、上記した本発明のポリアミドに熱硬化性を付与した熱硬化性ポリアミドも好ましい。熱硬化性を付与する手法としては、たとえば、本発明のポリアミド主鎖末端を、ノルボルネン、アセチレン、マレイミドなど反応活性な基に置換し、さらに熱硬化剤を添加する方法などがある。 Moreover, the thermosetting polyamide which provided the thermosetting property to the above-mentioned polyamide of this invention is also preferable. As a method for imparting thermosetting property, for example, there is a method in which the polyamide main chain terminal of the present invention is substituted with a reactive group such as norbornene, acetylene, maleimide, and a thermosetting agent is added.
ポリアミド溶液は、単量体として酸ジクロライドとジアミンを使用すると塩化水素が副生するが、これを中和する場合には水酸化カルシウム、炭酸カルシウム、炭酸リチウムなどの無機の中和剤、またエチレンオキサイド、プロピレンオキサイド、アンモニア、トリエチルアミン、トリエタノールアミン、ジエタノールアミンなどの有機の中和剤が使用される。また、イソシアネートとカルボン酸との反応は、非プロトン性有機極性溶媒中、触媒の存在下で行なわれる。 Polyamide solution uses acid dichloride and diamine as monomers to produce hydrogen chloride as a by-product. When neutralizing this, inorganic neutralizers such as calcium hydroxide, calcium carbonate, lithium carbonate, and ethylene Organic neutralizers such as oxide, propylene oxide, ammonia, triethylamine, triethanolamine, diethanolamine are used. The reaction between isocyanate and carboxylic acid is carried out in an aprotic organic polar solvent in the presence of a catalyst.
このようにして得られた芳香族ポリアミド溶液は酸ジクロライドから発生した塩化水素と、中和剤との中和反応によって塩が形成される。この割合は5〜20重量%になり、この製膜原液をそのまま乾燥させると、塩が析出する。このため膜形成の前、もしくは膜の形成過程に於いて塩を除去することが好ましい。塩の除去方法としては、特に限定されないが、例えばポリマー原液に水を加え、カッターを備えた攪拌機で撹拌してポリマーを再沈、洗浄する。得られたポリマーを乾燥し、任意の濃度で溶媒に溶解して製膜原液を得ることができる。 In the aromatic polyamide solution thus obtained, a salt is formed by a neutralization reaction between hydrogen chloride generated from acid dichloride and a neutralizing agent. This ratio becomes 5 to 20% by weight, and when this film-forming stock solution is dried as it is, a salt is deposited. Therefore, it is preferable to remove the salt before the film formation or in the film formation process. The method for removing the salt is not particularly limited. For example, water is added to the polymer stock solution, and the polymer is reprecipitated and washed by stirring with a stirrer equipped with a cutter. The obtained polymer can be dried and dissolved in a solvent at an arbitrary concentration to obtain a film-forming stock solution.
次に表示材料用基板化について説明する。上記のように調製された製膜原液は、ガラス上にキャストする溶液製膜法により薄膜化が行なわれる。溶液製膜法には乾湿式法、乾式法、湿式法などがありいずれの方法で製膜されても差し支えないが、ここでは乾式法を例にとって説明する。 Next, the display material substrate formation will be described. The film-forming stock solution prepared as described above is thinned by a solution film-casting method cast on glass. The solution casting method includes a dry-wet method, a dry method, a wet method, etc., and any method may be used, but here, the dry method will be described as an example.
乾式法で製膜する場合は該原液を口金からガラス上に押し出し、またはガラス上にスピンコート、バーコート、コンマコート、印刷などの方法で展開し、次いでかかる薄膜層から溶媒を飛散させるなどして除去し薄膜が自己保持性をもつまで乾燥する。ここで用いるガラスは洗浄や易接着処理などがなされたものでもよい。洗浄としては水、超音波水など機能水、有機溶媒などが挙げられる。また易接着処理としてはプラズマ処理、コロナ処理、エッチング処理などが挙げられる。ガラスをロールで供給する場合には口金からの押し出しや、バーコート、コンマコート、印刷などの方法が好ましい。また、ガラスが枚葉で供給される場合にはスリットダイを用いた間欠コートや、スピンコートなどが好ましい。供給するガラスは保護フィルムを貼ったものでも構わない。ガラスに貼られた保護フィルムは芳香族ポリアミド溶液の乾燥収縮やハンドリング時の張力に耐えるために有用である。なお、ここでいう「保護フィルム」は表示材料用基板の製造工程終了後または表示材料の製造工程終了後に剥がされるフィルムを指す。 When forming a film by a dry method, the stock solution is extruded onto a glass from a die, or developed on a glass by a method such as spin coating, bar coating, comma coating, printing, and then the solvent is scattered from the thin film layer. Remove and dry until the film is self-retaining. The glass used here may be one that has been subjected to cleaning or easy adhesion treatment. Examples of cleaning include functional water such as water and ultrasonic water, and organic solvents. Examples of the easy adhesion treatment include plasma treatment, corona treatment, and etching treatment. When the glass is supplied by a roll, methods such as extrusion from a die, bar coating, comma coating, and printing are preferable. Further, when glass is supplied as a single sheet, intermittent coating using a slit die, spin coating, or the like is preferable. The glass to be supplied may be a glass with a protective film. The protective film affixed to the glass is useful for withstanding the drying shrinkage of the aromatic polyamide solution and the tension during handling. Here, the “protective film” refers to a film that is peeled off after completion of the manufacturing process of the display material substrate or after the manufacturing process of the display material.
乾燥条件は例えば、室温〜220℃、60分以内の範囲で行うことができる。乾燥時間、昇温速度は芳香族ポリアミドの組成および膜厚によって制御されるが、片側にガラスが密着した状態で他方の片側からのみの乾燥となるため、溶媒の沸点+10℃までの穏和な乾燥や、段階的な昇温が好ましい。急激に加熱すると発泡したりすることがある。 Drying conditions can be performed in the range of room temperature to 220 ° C. and within 60 minutes, for example. Although the drying time and the heating rate are controlled by the composition and film thickness of the aromatic polyamide, since the drying is performed only from the other side with the glass in close contact with one side, the solvent is gently dried up to the boiling point + 10 ° C. In addition, stepwise temperature rise is preferable. If heated rapidly, it may foam.
次に200℃〜500℃、好ましくは250℃〜400℃の温度で数秒から数分間の熱処理を行い、表示材料用基板を得る。さらに、熱処理後に徐冷することは有効であり、50℃/秒以下の速度で冷却することが有効である。 Next, heat treatment is performed at a temperature of 200 ° C. to 500 ° C., preferably 250 ° C. to 400 ° C. for several seconds to several minutes, to obtain a display material substrate. Furthermore, it is effective to cool slowly after the heat treatment, and it is effective to cool at a rate of 50 ° C./second or less.
上記のようにして得られた、有機溶媒が除去されたガラス基板は、円筒コアに連続的に巻き取ることが好ましい。この場合、ガラスは溶融炉からガラス製膜工程を経て連続して供給されるか、またはロールで供給されるとともに、その搬送方向に少なくとも5mの長さを有していることが好ましい。また、巻き取りに用いる円筒コアは、半径が100cm以下であることが好ましい。円筒コアは好ましくは半径50cm以下、より好ましくは半径30cm以下、さらに好ましくは半径15cm以下である。半径15cm以下であると一般的に用いられる直径6インチの円筒コアに巻き取って保管、搬送が可能となり、一枚一枚を個別に包装して搬送する従来の方法に比べて経済的に極めて有利となる。また、ガラス工場から包装することなく、ガラス単体をロボットアーム、コンベアを用いてディスプレイ製造工場に搬送する方法も提案されているが、この方法ではガラス工場とディスプレイ製造工場を隣接して建築するという大きな制約があるが、円筒コアに連続的に巻き取る本発明の方法では、このような制約は無い。ガラス基板の搬送時や円筒コアへの巻き取り時の搬送張力によるガラスの割れなどを防止する目的で弱粘着あるいは非粘着の保護フィルムをガラス基板と積層しても構わない。弱粘着の保護フィルムとしてはポリプロピレン、PETなどを構成成分としたフィルムが例示できる。非粘着の保護フィルムとしてはPETなどを構成成分としたフィルムが例示できる。 The glass substrate obtained by removing the organic solvent as described above is preferably continuously wound around a cylindrical core. In this case, it is preferable that the glass is continuously supplied from the melting furnace through a glass film forming process or is supplied by a roll and has a length of at least 5 m in the transport direction. Moreover, it is preferable that the radius of the cylindrical core used for winding is 100 cm or less. The cylindrical core preferably has a radius of 50 cm or less, more preferably a radius of 30 cm or less, and even more preferably a radius of 15 cm or less. When the radius is 15 cm or less, it can be wound and stored and transported on a generally used 6-inch diameter cylindrical core, which is extremely economical compared to the conventional method of individually packaging and transporting each sheet individually. It will be advantageous. In addition, a method of transporting a single glass to a display manufacturing factory using a robot arm and conveyor without packaging from the glass factory has been proposed, but in this method, the glass factory and the display manufacturing factory are constructed adjacent to each other. Although there is a great limitation, the method of the present invention for continuously winding around a cylindrical core does not have such a limitation. A weakly adhesive or non-adhesive protective film may be laminated on the glass substrate for the purpose of preventing breakage of the glass due to the conveyance tension during conveyance of the glass substrate or winding around the cylindrical core. Examples of the weakly adhesive protective film include films containing polypropylene, PET, and the like as constituent components. Examples of the non-adhesive protective film include films having PET as a constituent component.
本発明の表示材料用基板は、有機ELディスプレイや液晶ディスプレイなどの表示材料用基板として好適に利用できる。 The substrate for display material of the present invention can be suitably used as a substrate for display material such as an organic EL display and a liquid crystal display.
以下に実施例を挙げて、本発明をさらに具体的に説明する。 The present invention will be described more specifically with reference to the following examples.
なお、物性の測定方法、効果の評価方法は次の方法に従って行った。 In addition, the measuring method of a physical property and the evaluation method of an effect were performed in accordance with the following method.
(1)全光線透過率
下記測定器を用いて測定した。
(1) Total light transmittance It measured using the following measuring device.
装置:直読ヘーズメーターHGM−2DP(C光源用) (スガ試験機社製)
光源:ハロゲンランプ12V、50W
受光特性:395〜745nm
光学条件:JIS−K7105−1981に準拠
(2)400nmでの光線透過率
400nmの光線透過率とは以下により測定し、400nmの値を採用したものである。
Apparatus: Direct reading haze meter HGM-2DP (for C light source) (manufactured by Suga Test Instruments Co., Ltd.)
Light source: halogen lamp 12V, 50W
Light receiving characteristics: 395 to 745 nm
Optical conditions: Conforms to JIS-K7105-1981 (2) Light transmittance at 400 nm The light transmittance at 400 nm is measured as follows, and a value of 400 nm is adopted.
透過率(%)=(T1/T0)×100
ただしT1は試料を通過した光の強度、T0は試料を通過しない以外は同一の距離の空気中を通過した光の強度である。
Transmittance (%) = (T1 / T0) × 100
However, T1 is the intensity | strength of the light which passed the sample, and T0 is the intensity | strength of the light which passed the air of the same distance except not passing a sample.
装置:UV測定器U−3410(日立計測社製)
波長範囲:300nm〜800nm
測定速度:120nm/分
測定モード:透過
(3)水蒸気透過率
装置:透湿度測定装置PERMATRAN−W3/30(モコン社製)
測定下限:0.01g/m2/day
測定温度:40℃
測定湿度:90%RH
測定面積:5cm2(アルミマスクホイル(MC025−493(日立計測器サービス(株))使用)
(4)ガラス転移温度(Tg) DMA測定
装置:粘弾性測定装置EXSTAR6000 DMS(セイコーインスツルメンツ社製)
測定周波数:1Hz
昇温速度:2℃/分
ガラス転移温度(Tg):ASTM E1640−94に準拠し、E’の変曲点をTgとした。
Apparatus: UV measuring instrument U-3410 (manufactured by Hitachi Instruments)
Wavelength range: 300 nm to 800 nm
Measurement speed: 120 nm / min Measurement mode: Transmission (3) Water vapor transmission rate
Device: Permeability measuring device PERMATRAN-W3 / 30 (manufactured by Mocon)
Measurement lower limit: 0.01 g / m 2 / day
Measurement temperature: 40 ° C
Measurement humidity: 90% RH
Measurement area: 5 cm 2 (using aluminum mask foil (MC025-493 (Hitachi Instrument Service Co., Ltd.))
(4) Glass transition temperature (Tg) DMA measurement device: Viscoelasticity measuring device EXSTAR6000 DMS (manufactured by Seiko Instruments Inc.)
Measurement frequency: 1Hz
Temperature rising rate: 2 ° C./min Glass transition temperature (Tg): In accordance with ASTM E1640-94, the inflection point of E ′ was Tg.
(5)波長550nmでの位相差
王子計測(株)社製の自動複屈折計(KOBRA−21ADH)を用い、波長分散測定モードにおいて、波長480.4nmの光線に対する位相差、波長548.3nmの光線に対する位相差、波長628.2nmの光線に対する位相差、波長752.7nmの光線に対する位相差を測定し、各波長における位相差(R)および測定波長(λ)からコーシーの波長分散式(R(λ)=a+b/λ2+c/λ4+d/λ6)の各a〜dの係数を求め、このコーシーの波長分散式に波長550nm(λ=550)を代入して求めた。測定は1回行った。
(5) Phase difference at a wavelength of 550 nm Using an automatic birefringence meter (KOBRA-21ADH) manufactured by Oji Scientific Co., Ltd., in a chromatic dispersion measurement mode, a phase difference with respect to a light beam having a wavelength of 480.4 nm, a wavelength of 548.3 nm The phase difference with respect to the light beam, the phase difference with respect to the light beam with a wavelength of 628.2 nm, and the phase difference with respect to the light beam with a wavelength of 752.7 nm are measured, and the Cauchy wavelength dispersion formula (R (Λ) = a + b / λ 2 + c / λ 4 + d / λ 6 ) coefficients a to d were obtained, and obtained by substituting the wavelength of 550 nm (λ = 550) into the Cauchy wavelength dispersion formula. The measurement was performed once.
(6)溶解性
N−メチル−2−ピロリドンにポリマーを5質量%溶解し、25℃で2週間放置後も流動性を保つものを溶解性「○」と評価した。なお、「流動性を保つ」とは、25℃において100mlのビーカーにポリマー溶液を100ml入れて90°傾けたとき、1時間以内に50ml以上が流れ出る状態をいう。
(6) Solubility 5 mass% of the polymer was dissolved in N-methyl-2-pyrrolidone, and the one that maintained fluidity after being allowed to stand at 25 ° C. for 2 weeks was evaluated as solubility “◯”. “Maintaining fluidity” means a state in which 50 ml or more flows out within one hour when 100 ml of a polymer solution is placed in a 100 ml beaker at 25 ° C. and tilted 90 °.
(実施例1)
攪拌機を備えた200ml4つ口フラスコ中に4,4’−ジアミノジフェニルスルホン2.483g、3,3’−ジアミノジフェニルスルホン2.483g、N−メチル−2−ピロリドン63.1mlを入れ窒素雰囲気下、氷冷下攪拌した。10分から30分後にかけてテレフタル酸ジクロライド4.060gを5回に分けて添加した。さらに1時間攪拌した後、反応で発生した塩化水素を炭酸リチウム1.426gで中和して透明なポリマー溶液を得た。得たポリマー溶液をミキサーを用いて水中で粉砕し、濾取、乾燥してポリマーを単離した。単離したポリマーを固形分濃度が20重量%になるようにN,N−ジメチルアセトアミドに溶解してポリマー溶液を得た。得たポリマー溶液を塗布厚50μmになるように厚み0.15mmのガラスにバーコーターで塗布、120℃で20分、280℃で3分乾燥し、膜厚10μmの芳香族ポリアミド膜を得た。全体の厚みは0.16mmだった。
Example 1
In a 200 ml four-necked flask equipped with a stirrer, 2.483 g of 4,4′-diaminodiphenylsulfone, 2.483 g of 3,3′-diaminodiphenylsulfone and 63.1 ml of N-methyl-2-pyrrolidone were placed under a nitrogen atmosphere. The mixture was stirred under ice cooling. After 10 to 30 minutes, 4.060 g of terephthalic acid dichloride was added in 5 portions. After further stirring for 1 hour, hydrogen chloride generated by the reaction was neutralized with 1.426 g of lithium carbonate to obtain a transparent polymer solution. The obtained polymer solution was ground in water using a mixer, filtered and dried to isolate the polymer. The isolated polymer was dissolved in N, N-dimethylacetamide so that the solid content concentration was 20% by weight to obtain a polymer solution. The obtained polymer solution was applied to a glass having a thickness of 0.15 mm with a bar coater so as to have a coating thickness of 50 μm, and dried at 120 ° C. for 20 minutes and 280 ° C. for 3 minutes to obtain an aromatic polyamide film having a thickness of 10 μm. The overall thickness was 0.16 mm.
(実施例2)
使用するガラスを厚み0.03mmとする以外は実施例1と同様にして表示材料用基板を得た。物性を表2に示す。
(Example 2)
A display material substrate was obtained in the same manner as in Example 1 except that the glass used was 0.03 mm in thickness. The physical properties are shown in Table 2.
(実施例3〜10)
使用するジアミン、酸ジクロライドおよびガラスを表1に示したものに変更する以外は、実施例1と同様にして表示材料用基板を得た。物性を表2に示す。
(Examples 3 to 10)
A display material substrate was obtained in the same manner as in Example 1 except that the diamine, acid dichloride and glass used were changed to those shown in Table 1. The physical properties are shown in Table 2.
(実施例11)
攪拌機を備えた200ml4つ口フラスコ中に4,4’−ジアミノジフェニルスルホン3.725g、3,3’−ジアミノジフェニルスルホン3.352g、ビス(3−アミノプロピル)テトラメチルジシロキサン0.373g、N−メチル−2−ピロリドン94mlを入れ窒素雰囲気下、氷冷下攪拌した。10分から30分後にかけてテレフタル酸ジクロライド6.091gを5回に分けて添加した。さらに1時間攪拌した後、反応で発生した塩化水素を炭酸リチウム2.246gで中和して透明なポリマー溶液を得た。得たポリマー溶液をミキサーを用いて水中で粉砕し、濾取、乾燥してポリマーを単離した。単離したポリマーを固形分濃度が5質量%になるようにN,N−ジメチルアセトアミドに溶解してポリマー溶液を得たことから溶解性を「○」と判断した。単離した別のポリマーを固形分濃度が15質量%になるようにN,N−ジメチルアセトアミドに溶解してポリマー溶液を得た。得たポリマー溶液を塗布厚100μmになるように厚み0.03mmのガラス(ショット社製D263T)にバーコーターで塗布、120℃で10分、280℃で3分乾燥し、膜厚10μmの芳香族ポリアミド膜を得た。得た表示材料用基板全体の厚みは0.04mmだった。
(Example 11)
In a 200 ml four-necked flask equipped with a stirrer, 3.725 g of 4,4′-diaminodiphenylsulfone, 3.352 g of 3,3′-diaminodiphenylsulfone, 0.373 g of bis (3-aminopropyl) tetramethyldisiloxane, N -94 ml of methyl-2-pyrrolidone was added and stirred under ice-cooling in a nitrogen atmosphere. After 10 to 30 minutes, 6.091 g of terephthalic acid dichloride was added in five portions. After further stirring for 1 hour, hydrogen chloride generated by the reaction was neutralized with 2.246 g of lithium carbonate to obtain a transparent polymer solution. The obtained polymer solution was ground in water using a mixer, filtered and dried to isolate the polymer. The polymer was obtained by dissolving the isolated polymer in N, N-dimethylacetamide so that the solid content concentration was 5% by mass, so that the solubility was judged as “◯”. Another polymer isolated was dissolved in N, N-dimethylacetamide so that the solid content concentration was 15% by mass to obtain a polymer solution. The obtained polymer solution was coated on a 0.03 mm thick glass (D263T manufactured by Shot Corp.) with a bar coater so as to have a coating thickness of 100 μm, dried at 120 ° C. for 10 minutes and 280 ° C. for 3 minutes, and an aromatic having a thickness of 10 μm A polyamide film was obtained. The total thickness of the obtained display material substrate was 0.04 mm.
得た表示材料用基板の波長550nmでの位相差は0.4nmだった。また、曲率半径30cmでの曲げに対して割れを生じなかった。JIS D0202−1988 4.15の方法で1mmの碁盤目100個をつくり、セロテープ(登録商標)剥離テストを行った結果、100個のマス目全て剥離は無かった。 The retardation of the obtained display material substrate at a wavelength of 550 nm was 0.4 nm. Further, no cracks were produced when bending at a curvature radius of 30 cm. As a result of making 100 1 mm grids by the method of JIS D0202-1988 4.15 and conducting a cello tape (registered trademark) peel test, all 100 squares were not peeled off.
(実施例12)
使用するジアミン、酸ジクロライドおよびガラスを表1に示したものに変更する以外は、実施例11と同様にして表示材料用基板を得た。物性を表2に示す。
(Example 12)
A display material substrate was obtained in the same manner as in Example 11 except that the diamine, acid dichloride and glass used were changed to those shown in Table 1. The physical properties are shown in Table 2.
(比較例1)
攪拌機を備えた200ml4つ口フラスコ中に4,4’−ジアミノジフェニルスルホン2.483g、3,3’−ジアミノジフェニルスルホン2.483g、N−メチル−2−ピロリドン63.1mlを入れ窒素雰囲気下、氷冷下攪拌した。10分から30分後にかけてテレフタル酸ジクロライド4.060gを5回に分けて添加した。さらに1時間攪拌した後、反応で発生した塩化水素を炭酸リチウム1.426gで中和して透明なポリマー溶液を得た。
(Comparative Example 1)
In a 200 ml four-necked flask equipped with a stirrer, 2.483 g of 4,4′-diaminodiphenylsulfone, 2.483 g of 3,3′-diaminodiphenylsulfone and 63.1 ml of N-methyl-2-pyrrolidone were placed under a nitrogen atmosphere. The mixture was stirred under ice cooling. After 10 to 30 minutes, 4.060 g of terephthalic acid dichloride was added in 5 portions. After further stirring for 1 hour, hydrogen chloride generated by the reaction was neutralized with 1.426 g of lithium carbonate to obtain a transparent polymer solution.
得られたポリマー溶液の一部をガラス板上に取り、バーコーターを用いて均一な膜を形成せしめた。これを120℃で7分間加熱し、自己保持性のフィルムを得た。得られたフィルムをガラス板から剥がして金枠に固定して、流水中10分間水洗し、さらに280℃1分で熱処理を行い厚み14μmの芳香族ポリアミドフィルムを得た。水蒸気透過率は231g/m2/dayだった。 A part of the obtained polymer solution was taken on a glass plate, and a uniform film was formed using a bar coater. This was heated at 120 ° C. for 7 minutes to obtain a self-holding film. The obtained film was peeled off from the glass plate and fixed to a metal frame, washed with running water for 10 minutes, and further heat treated at 280 ° C. for 1 minute to obtain an aromatic polyamide film having a thickness of 14 μm. The water vapor transmission rate was 231 g / m 2 / day.
ジアミン1: 4,4’−ジアミノジフェニルスルホン(和歌山精化社製)、
ジアミン2: 3,3’−ジアミノジフェニルスルホン(三井化学ファイン社製)、
ジアミン3: ビス[4−(4−アミノフェノキシ)フェニル]スルホン(和歌山精化社製)、
ジアミン4: 9,9−ビス(4−アミノフェニル)フルオレン(和歌山精化社製)、
ジアミン5: 2,2’−ジトリフルオロメチル−4,4’−ジアミノビフェニル(和歌山精化社製)、
ジアミン6: ビス[4−(3−アミノフェノキシ)フェニル]スルホン(和歌山精化社製)、
ジアミン7: ビス(3−アミノプロピル)テトラメチルジシロキサン
酸ジクロライド1(酸1): テレフタル酸ジクロライド(東京化成工業社製)
酸ジクロライド2(酸2): 2クロロ−テレフタル酸ジクロライド
酸ジクロライド3(酸3): イソフタル酸ジクロライド(東京化成工業社製)
酸ジクロライド4(酸4): 4,4'-ビフェニルジカルボニルクロライド(東京化成工業社製)
Diamine 1: 4,4′-diaminodiphenyl sulfone (manufactured by Wakayama Seika Co., Ltd.),
Diamine 2: 3,3′-diaminodiphenyl sulfone (manufactured by Mitsui Chemicals Fine),
Diamine 3: bis [4- (4-aminophenoxy) phenyl] sulfone (manufactured by Wakayama Seika Co., Ltd.),
Diamine 4: 9,9-bis (4-aminophenyl) fluorene (manufactured by Wakayama Seika Co., Ltd.),
Diamine 5: 2,2′-ditrifluoromethyl-4,4′-diaminobiphenyl (manufactured by Wakayama Seika Co., Ltd.),
Diamine 6: Bis [4- (3-aminophenoxy) phenyl] sulfone (manufactured by Wakayama Seika Co., Ltd.)
Diamine 7: Bis (3-aminopropyl) tetramethyldisiloxane acid dichloride 1 (acid 1): Terephthalic acid dichloride (manufactured by Tokyo Chemical Industry Co., Ltd.)
Acid dichloride 2 (acid 2): 2 chloro-terephthalic acid dichloride acid dichloride 3 (acid 3): Isophthalic acid dichloride (manufactured by Tokyo Chemical Industry Co., Ltd.)
Acid dichloride 4 (acid 4): 4,4'-biphenyldicarbonyl chloride (manufactured by Tokyo Chemical Industry Co., Ltd.)
Claims (13)
R2:任意の基
R3:直結されているか、または、フェニル基を必須成分とする炭素数6から12の芳香族基。
R4:直結されているか、または、フェニル基を必須成分とする炭素数6から12の芳香族基
R5:芳香族基 The display material substrate according to claim 1, wherein the aromatic polyamide includes a structural unit represented by the chemical formula (I).
R 4 : directly connected or an aromatic group having 6 to 12 carbon atoms having a phenyl group as an essential component R 5 : aromatic group
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