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JP2008242374A - Electrooptical device and electronic equipment - Google Patents

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JP2008242374A
JP2008242374A JP2007086744A JP2007086744A JP2008242374A JP 2008242374 A JP2008242374 A JP 2008242374A JP 2007086744 A JP2007086744 A JP 2007086744A JP 2007086744 A JP2007086744 A JP 2007086744A JP 2008242374 A JP2008242374 A JP 2008242374A
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JP
Japan
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electrode
wiring
electro
common
sub
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Withdrawn
Application number
JP2007086744A
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Japanese (ja)
Inventor
Mutsumi Matsuo
睦 松尾
Katsuhiro Imai
克浩 今井
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Epson Imaging Devices Corp
Original Assignee
Epson Imaging Devices Corp
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Publication date
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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a transverse electric field type electrooptical device having a two-terminal type nonlinear element, capable of providing high display quality. <P>SOLUTION: The liquid crystal display device has an array substrate and a color filter (CF) substrate between which a liquid crystal is held. Corresponding to sub-pixel regions arrayed in a plurality of rows and a plurality of columns, the array substrate has TFD elements, pixel electrodes connected thereto, and a common electrode prod generating an electric field with pixel electrodes. Consequently, an FFS type liquid crystal device is constituted which has the TFD elements. Especially, the respective common electrodes are formed of ITO, and the common electrodes arrayed in respective row directions are connected directly to respective common wiring lines made of metal films provided on the array substrate. Consequently, connection structures of the respective common electrodes arrayed in the respective row directions and common wiring lines can be reduced in resistance value. Consequently, striped display unevenness etc., can be prevented from being generated by rows to obtain high display quality. <P>COPYRIGHT: (C)2009,JPO&INPIT

Description

本発明は、各種情報の表示に用いて好適な電気光学装置等に関する。   The present invention relates to an electro-optical device suitable for use in displaying various information.

現在、IPS(In−Plane Switching)方式やFFS(Fringe Field Switching)方式などに代表される横電界方式の液晶装置(電気光学装置)が携帯機器などの各種の表示装置として好適に用いられている。この方式は、液晶に印加する電界の方向を基板にほぼ平行な方向とする方式であり、TN(Twisted Nematic)方式などに比べて高透過率及び高視角特性を得ることができるという利点がある。   Currently, a horizontal electric field type liquid crystal device (electro-optical device) represented by an IPS (In-Plane Switching) method, an FFS (Fringe Field Switching) method, or the like is suitably used as various display devices such as portable devices. . This method is a method in which the direction of the electric field applied to the liquid crystal is substantially parallel to the substrate, and has an advantage that a high transmittance and a high viewing angle characteristic can be obtained as compared with a TN (Twisted Nematic) method or the like. .

なお、特許文献1には、TFD(Thin Film Diode)素子を用いた横電界方式の液晶装置が記載されている。   Note that Patent Document 1 describes a horizontal electric field type liquid crystal device using a TFD (Thin Film Diode) element.

特開2007−025521号公報JP 2007-025521 A

本発明は、高い表示品位を得ることが可能な二端子型非線形素子を備える横電界方式の電気光学装置及びそれを用いた電子機器を提供することを課題とする。   It is an object of the present invention to provide a transverse electric field type electro-optical device including a two-terminal nonlinear element capable of obtaining high display quality and an electronic apparatus using the same.

本発明の1つの観点では、電気光学装置は、アレイ基板と対向基板との間に電気光学層を挟持してなり、前記アレイ基板と前記対向基板との重なり合う領域には、複数行及び複数列に亘って配列されたサブ画素領域が設けられ、前記アレイ基板は、複数の二端子型非線形素子と、前記二端子型非線形素子の各々に電気的に接続された複数の第1の電極と、前記第1の電極の各々との間で電界を発生させる複数の第2の電極と、を有すると共に、前記二端子型非線形素子、前記第1の電極及び前記第2の電極の各々は、前記アレイ基板において、前記サブ画素領域の各々に対応して設けられ、前記第2の電極の各々は透明導電膜により形成されていると共に、各行方向に配列された前記第2の電極の各々は、前記アレイ基板に設けられた金属膜よりなる各共通配線に直接的に接続されている。   In one aspect of the present invention, an electro-optical device includes an electro-optical layer sandwiched between an array substrate and a counter substrate, and an overlapping region between the array substrate and the counter substrate includes a plurality of rows and a plurality of columns. A plurality of two-terminal nonlinear elements, and a plurality of first electrodes electrically connected to each of the two-terminal nonlinear elements; A plurality of second electrodes for generating an electric field with each of the first electrodes, and each of the two-terminal nonlinear element, the first electrode, and the second electrode, In the array substrate, provided corresponding to each of the sub-pixel regions, each of the second electrodes is formed of a transparent conductive film, and each of the second electrodes arranged in each row direction is Metal film provided on the array substrate Li Cheng are directly connected to each common wiring.

上記の電気光学装置は、アレイ基板と対向基板との間に電気光学層を挟持してなる。そして、アレイ基板と対向基板との重なり合う領域には、複数行及び複数列に亘って配列された表示の最小単位となるサブ画素領域が設けられている。また、アレイ基板は、複数の二端子型非線形素子(例えば、TFD素子)と、二端子型非線形素子の各々に電気的に接続された複数の第1の電極(例えば、画素電極)と、第1の電極の各々との間で電界を発生させる複数の第2の電極(例えば、共通電極)と、を有する。また、二端子型非線形素子、第1の電極及び第2の電極の各々は、アレイ基板において、サブ画素領域の各々に対応して設けられている。好適な例では、前記電界は、電気光学層の駆動時にアレイ基板の基板面に対し略平行な方向に強い電界成分を有するフリンジフィールドとすることができる。これにより、二端子型非線形素子を備えた、横電界方式の一例としてのFFS方式の電気光学装置を構成することができる。   The electro-optical device includes an electro-optical layer sandwiched between an array substrate and a counter substrate. In a region where the array substrate and the counter substrate overlap, a sub-pixel region serving as a minimum unit of display arranged in a plurality of rows and a plurality of columns is provided. The array substrate includes a plurality of two-terminal nonlinear elements (eg, TFD elements), a plurality of first electrodes (eg, pixel electrodes) electrically connected to each of the two-terminal nonlinear elements, A plurality of second electrodes (for example, common electrodes) that generate an electric field with each of the first electrodes. Each of the two-terminal nonlinear element, the first electrode, and the second electrode is provided corresponding to each sub-pixel region in the array substrate. In a preferred example, the electric field may be a fringe field having a strong electric field component in a direction substantially parallel to the substrate surface of the array substrate when the electro-optic layer is driven. As a result, an FFS type electro-optical device as an example of a lateral electric field type including a two-terminal nonlinear element can be configured.

特に、この電気光学装置では、前記第2の電極の各々は透明導電膜により形成されていると共に、各行方向に配列された前記第2の電極の各々は、前記アレイ基板に設けられた金属膜よりなる各共通配線に直接的に接続されている。好適な例では、前記第2の電極はITOにより形成されていることが好ましく、また、前記各共通配線は、Cr、Ag及びAlのうちいずれかの金属膜又はこれらのいずれかを含む金属膜により形成されていることが好ましい。   In particular, in this electro-optical device, each of the second electrodes is formed of a transparent conductive film, and each of the second electrodes arranged in each row direction is a metal film provided on the array substrate. Directly connected to each common wiring. In a preferred example, the second electrode is preferably formed of ITO, and each of the common wirings is a metal film of any one of Cr, Ag, and Al, or a metal film including any of these. It is preferable that it is formed by.

これにより、各行方向に配列された第2の電極の各々と、各共通配線との接続構造体がITOのみにより形成された比較例と比較して、各行方向に配列された第2の電極の各々と、各共通配線との接続構造体の抵抗値を下げることができる。これにより、透明導電膜よりなる第2の電極の厚さを薄くすることも可能となり、第2の電極を櫛歯形状とした場合には、当該櫛歯部分の外形付近において液晶分子の配向異常が起き難くなり、その外形付近にて光り漏れが生じるのを防止でき、コントラストを向上させることができる。また、これにより、電気信号(例えば、走査信号)の入力側に対して近い側に位置する第1の電極と、当該電気信号の入力側に対して遠い側に位置する第1の電極とで、V(電圧)−T(透過率)特性に差が生じるのを防止できると共に、1行毎に縞状の表示ムラが生じるのを防止でき、高い表示品位を得ることができる。   Thereby, each of the second electrodes arranged in each row direction is compared with the comparative example in which the connection structure of each of the second electrodes arranged in each row direction and each common wiring is formed of only ITO. The resistance value of the connection structure between each and each common wiring can be lowered. As a result, it is possible to reduce the thickness of the second electrode made of the transparent conductive film. When the second electrode has a comb-teeth shape, the liquid crystal molecules are abnormally aligned near the outer shape of the comb-teeth portion. Is less likely to occur, and light leakage near the outer shape can be prevented, and the contrast can be improved. In addition, by this, the first electrode located on the side closer to the input side of the electric signal (for example, the scanning signal) and the first electrode located on the side farther from the input side of the electric signal. , V (voltage) -T (transmittance) characteristics can be prevented from being different, and stripe-like display unevenness can be prevented from being generated for each row, so that high display quality can be obtained.

上記の電気光学装置の一つの態様では、前記各共通配線は、遮光性を有する金属膜により形成されていると共に、任意の前記サブ画素領域と、当該サブ画素領域に対して前記列方向に隣接する他の前記サブ画素領域との境界近傍に配置されている。これにより、当該各共通配線を遮光層として機能させつつ、開口率の向上を図ることができる。   In one aspect of the electro-optical device, each of the common wirings is formed of a light-shielding metal film, and is adjacent to the arbitrary sub-pixel region and the sub-pixel region in the column direction. It is arranged in the vicinity of the boundary with the other sub-pixel region. Thereby, it is possible to improve the aperture ratio while causing each common wiring to function as a light shielding layer.

上記の電気光学装置の他の態様では、前記各共通配線は、前記行方向に延在する直線状の形状を有すると共に、前記任意の前記サブ画素領域に対応して設けられた前記二端子型非線形素子と部分的且つ平面的に重なる位置に存在する前記第2の電極の端部と重なる位置に且つ直接的に接続される位置に配置されている。   In another aspect of the electro-optical device, each common wiring has a linear shape extending in the row direction, and the two-terminal type provided corresponding to the arbitrary sub-pixel region It is disposed at a position that overlaps with and directly connects to the end of the second electrode that exists at a position that partially and planarly overlaps the nonlinear element.

この態様によれば、各行方向に配列された第2の電極の各々は、当該第2の電極の各々の端部の位置において、直線状の1つの共通配線と直接的に接続される。よって、各行方向に配列された第2の電極の各々と、各共通配線との接続構造体の抵抗値を下げることができる。また、このように、各共通配線をサブ画素領域内における表示に寄与しない二端子型非線形素子と部分的且つ平面的に重なる位置に存在する第2の電極の端部と重なる位置に配置することで、当該各共通配線を遮光層として機能させつつ、開口率の向上を図ることができる。   According to this aspect, each of the second electrodes arranged in each row direction is directly connected to one linear common wiring at the position of the end of each of the second electrodes. Therefore, the resistance value of the connection structure between each of the second electrodes arranged in each row direction and each common wiring can be reduced. In addition, in this way, each common wiring is disposed at a position overlapping with the end portion of the second electrode existing at a position overlapping partially and planarly with the two-terminal nonlinear element that does not contribute to display in the sub-pixel region. Thus, it is possible to improve the aperture ratio while causing each common wiring to function as a light shielding layer.

上記の電気光学装置の他の態様では、前記各共通配線は、直線状の第1の配線と、前記第1の配線の延在方向と同一の方向に延在する直線状の第2の配線と、を有し、前記第1の配線は、前記任意の前記サブ画素領域に対応して設けられた前記二端子型非線形素子と部分的且つ平面的に重なる位置に存在する前記第2の電極の端部と重なる位置に且つ直接的に接続される位置に配置されており、前記第2の配線は、当該第2の電極の端部に対して反対側に位置すると共に、前記他の前記サブ画素領域に対応して設けられた他の前記二端子型非線形素子と部分的且つ平面的に重なる位置に存在する当該第2の電極の他の端部と重なる位置に且つ直接的に接続される位置に配置されている。   In another aspect of the electro-optical device, each of the common wirings includes a linear first wiring and a linear second wiring extending in the same direction as the extending direction of the first wiring. And the first wiring is present at a position that partially and planarly overlaps the two-terminal nonlinear element provided corresponding to the arbitrary sub-pixel region. The second wiring is located on the opposite side to the end of the second electrode, and overlaps with the end of the second electrode. It is directly connected to a position overlapping with the other end portion of the second electrode existing at a position partially and planarly overlapped with the other two-terminal nonlinear element provided corresponding to the sub-pixel region. It is arranged at the position.

この態様によれば、各行方向に配列された第2の電極の各々は、当該第2の電極の各々の端部又は他の端部の位置において、一対の第1の配線及び第2の配線と直接的に接続される。よって、各行方向に配列された第2の電極の各々を1つの金属配線と直接的に接続した接続構造体と比較して、各行方向に配列された第2の電極の各々と、各共通配線の第1及び第2の配線との接続構造体の抵抗値をより下げることができる。また、この態様の場合、万が一、一対の第1及び第2の配線のうち、どちらか一方が断線した場合でも、断線していない側の配線は、各行方向に配列された第2の電極の各々と電気的に接続されることになるため、共通配線の冗長性を高めることができる。また、このように、各共通配線の第1の配線及び第2の配線の各々を、サブ画素領域内における表示に寄与しない二端子型非線形素子と部分的且つ平面的に重なる位置に存在する第2の電極の端部又は他の端部と重なる位置に配置することで、当該各共通配線の第1の配線及び第2の配線の各々を遮光層として機能させつつ、開口率の向上を図ることができる。   According to this aspect, each of the second electrodes arranged in each row direction has a pair of first wiring and second wiring at the position of each end or other end of the second electrode. Connected directly. Therefore, each of the second electrodes arranged in each row direction and each common wiring are compared with the connection structure in which each of the second electrodes arranged in each row direction is directly connected to one metal wiring. The resistance value of the connection structure with the first and second wirings can be further reduced. Further, in the case of this aspect, even if one of the pair of first and second wirings is disconnected, the wiring on the side that is not disconnected is the second electrode arranged in each row direction. Since they are electrically connected to each other, the redundancy of the common wiring can be increased. In addition, in this way, the first wiring and the second wiring of each common wiring are present in positions that partially and planarly overlap the two-terminal nonlinear element that does not contribute to display in the subpixel region. By arranging it at a position overlapping with the end of the second electrode or the other end, the first wiring and the second wiring of each common wiring function as a light shielding layer, and the aperture ratio is improved. be able to.

上記の電気光学装置の他の態様では、前記第2の電極は、複数の櫛歯部分を含む櫛歯形状を有し、隣接する前記櫛歯部分の間には、前記第1の電極との間で前記電界を発生させるための間隙が形成されており、前記間隙の各々はU字状の平面形状を有する。   In another aspect of the electro-optical device, the second electrode has a comb-tooth shape including a plurality of comb-tooth portions, and between the adjacent comb-tooth portions, the second electrode is connected to the first electrode. Gaps for generating the electric field are formed therebetween, and each of the gaps has a U-shaped planar shape.

ここで、櫛歯部分の根元付近に位置する間隙の角部が直角状の形状に形成されている場合、その角部付近では、電気光学層を構成する分子(例えば、液晶分子)の配向制御がし難くなり、電気光学層を構成する分子の配向異常による光り抜けが生じ易くなる。   Here, when the corner of the gap located near the base of the comb-tooth portion is formed in a right-angled shape, the orientation control of the molecules (for example, liquid crystal molecules) constituting the electro-optic layer is made near the corner. It becomes difficult to cause light leakage due to an abnormal orientation of molecules constituting the electro-optic layer.

この点、この態様では、間隙の各々はU字状の平面形状を有するので、櫛歯部分の根元付近の間隙の角部は湾曲状の形状となる。これにより、間隙の角部付近では、電気光学層を構成する分子の配向異常が起き難くなり、光り抜けが生じるのを抑制することができる。   In this respect, in this aspect, each of the gaps has a U-shaped planar shape, so that the corners of the gaps near the roots of the comb teeth have a curved shape. Thereby, in the vicinity of the corners of the gap, the alignment abnormality of the molecules constituting the electro-optic layer hardly occurs, and the occurrence of light leakage can be suppressed.

上記の電気光学装置の他の態様では、前記第2の電極は、矩形状の平面形状を有すると共に、前記第1の電極との間で前記電界を発生させるための複数のスリットを有し、前記スリットの各々は、角丸四角状又は楕円状の平面形状を有する。   In another aspect of the electro-optical device, the second electrode has a rectangular planar shape and a plurality of slits for generating the electric field between the first electrode and the second electrode. Each of the slits has a rounded quadrangular or elliptical planar shape.

ここで、スリットの角部が直角状の形状に形成されている場合、その角部付近では、電気光学層を構成する分子(例えば、液晶分子)の配向制御がし難くなり、電気光学層を構成する分子の配向異常による光り抜けが生じ易くなる。   Here, when the corner of the slit is formed in a right-angled shape, it is difficult to control the orientation of molecules (for example, liquid crystal molecules) constituting the electro-optic layer near the corner, and the electro-optic layer is Light leakage due to an abnormal alignment of the constituent molecules tends to occur.

この点、この態様では、スリットの各々は角丸四角状又は楕円状の平面形状を有するので、スリットの角部は湾曲状の形状となる。これにより、スリットの角部付近では、電気光学層を構成する分子の配向異常が起き難くなり、光り抜けが生じるのを抑制することができる。   In this regard, in this aspect, each of the slits has a rounded quadrangular or elliptical planar shape, so that the corners of the slit have a curved shape. Thereby, in the vicinity of the corner portion of the slit, it is difficult for the alignment abnormality of the molecules constituting the electro-optic layer to occur, and the occurrence of light leakage can be suppressed.

本発明の他の観点では、上記の電気光学装置を表示部として備える電子機器を構成することができる。   In another aspect of the present invention, an electronic apparatus including the electro-optical device as a display unit can be configured.

以下、図面を参照しながら本発明の実施の形態について説明する。本発明の各種実施形態は、本発明を電気光学装置の一例としての液晶装置に適用したものである。   Hereinafter, embodiments of the present invention will be described with reference to the drawings. In various embodiments of the present invention, the present invention is applied to a liquid crystal device as an example of an electro-optical device.

[第1実施形態]
(液晶装置の構成)
まず、図1を参照して、本発明の第1実施形態に係る液晶装置の電極及び配線構成を中心とした平面構成について説明する。
[First embodiment]
(Configuration of liquid crystal device)
First, with reference to FIG. 1, the planar configuration centering on the electrode and wiring configuration of the liquid crystal device according to the first embodiment of the present invention will be described.

図1は、第1実施形態に係る液晶装置の電極及び配線構成を模式的に示す平面図である。図1では、紙面手前側(観察側)にカラーフィルタ基板92が、また、紙面奥側にアレイ基板91が夫々配置されている。但し、本発明では、カラーフィルタ基板92とアレイ基板91の配置関係は図1の構成と逆でも構わない。また、図1において、カラーフィルタ基板92側に設けられた矩形状の平面形状を有するR(赤)、G(緑)、B(青)の3色の着色層4の各々に対応する領域と、アレイ基板91側に設けられた各画素電極3との重なり合う領域は、表示の最小単位となる1つのサブ画素領域SGを示していると共に、1行3列に配置されたR、G、Bの各色のサブ画素領域SGを含む領域は1つの画素領域Gを示している。サブ画素領域SG又は画素領域Gが複数行(紙面横方向:以下同様)及び複数列(紙面縦方向:以下同様)に亘って配列された領域が、文字、数字、図形等の画像が表示される有効表示領域V(2点鎖線により囲まれる領域)である。有効表示領域Vの外側の領域は表示に寄与しない額縁領域38である。   FIG. 1 is a plan view schematically showing an electrode and wiring configuration of the liquid crystal device according to the first embodiment. In FIG. 1, a color filter substrate 92 is disposed on the front side (observation side) of the paper surface, and an array substrate 91 is disposed on the back side of the paper surface. However, in the present invention, the arrangement relationship between the color filter substrate 92 and the array substrate 91 may be opposite to the configuration of FIG. In FIG. 1, regions corresponding to each of the three colored layers 4 of R (red), G (green), and B (blue) having a rectangular planar shape provided on the color filter substrate 92 side. The area overlapping with each pixel electrode 3 provided on the array substrate 91 side shows one sub-pixel area SG as a minimum unit of display and R, G, B arranged in one row and three columns. A region including the sub-pixel regions SG of the respective colors indicates one pixel region G. A region in which the sub pixel region SG or the pixel region G is arranged in a plurality of rows (horizontal direction on the paper surface: the same applies below) and a plurality of columns (the vertical direction on the paper surface: the same applies below) displays images such as characters, numbers, and figures. This is an effective display area V (area surrounded by a two-dot chain line). The area outside the effective display area V is a frame area 38 that does not contribute to display.

第1実施形態の液晶装置100は、二端子型非線形素子の一例としてのTFD素子を用いたアクティブマトリクス駆動方式であって、且つ、電極が形成されたアレイ基板91側において、当該アレイ基板91の基板面に対して略平行な方向にフリンジフィールド(電界)Eを発生させて液晶分子の配向を制御する、横電界方式の一例としてのFFS(Fringe Field Switching)方式の液晶装置である。このため、高透過率及び高視角特性を得ることが可能となっている。また、第1実施形態の液晶装置100は、透過型の液晶装置でもある。   The liquid crystal device 100 of the first embodiment is an active matrix driving method using a TFD element as an example of a two-terminal nonlinear element, and on the side of the array substrate 91 on which electrodes are formed, This is a FFS (Fringe Field Switching) type liquid crystal device as an example of a transverse electric field type, which controls the alignment of liquid crystal molecules by generating a fringe field (electric field) E in a direction substantially parallel to the substrate surface. For this reason, it is possible to obtain high transmittance and high viewing angle characteristics. The liquid crystal device 100 of the first embodiment is also a transmissive liquid crystal device.

第1実施形態に係る液晶装置100は、アレイ基板91と、カラーフィルタ基板92とが枠状のシール材43にて貼り合わされ、そのシール材43で区画される領域に液晶層15が封入されてなる。   In the liquid crystal device 100 according to the first embodiment, an array substrate 91 and a color filter substrate 92 are bonded together by a frame-shaped sealing material 43, and the liquid crystal layer 15 is sealed in a region partitioned by the sealing material 43. Become.

まず、アレイ基板91の電極及び配線構成を中心とした平面構成について説明する。   First, a planar configuration centering on the electrode and wiring configuration of the array substrate 91 will be described.

アレイ基板91は、主として、複数のデータ線32、複数の引き回し配線17、複数の共通配線7、複数のTFD素子21、複数の画素電極3、複数の共通電極9、ドライバIC41、複数の外部接続用配線35、及びFPC42を有する。   The array substrate 91 mainly includes a plurality of data lines 32, a plurality of routing wirings 17, a plurality of common wirings 7, a plurality of TFD elements 21, a plurality of pixel electrodes 3, a plurality of common electrodes 9, a driver IC 41, and a plurality of external connections. Wiring 35 and FPC 42.

アレイ基板91は、カラーフィルタ基板92の一辺側から外側へ張り出してなる張り出し領域36を有しており、その張り出し領域36上には、液晶を駆動するためのドライバIC41が実装されている。ドライバIC41の入力側の各電極(図示略)は、各外部接続用配線35の一端側と電気的に接続されていると共に、各外部接続用配線35の他端側はFPC42の各電極(図示略)と電気的に接続されている。FPC42の一端側(図示略)は、後述する電子機器などと電気的に接続されている。   The array substrate 91 has a protruding region 36 that extends outward from one side of the color filter substrate 92, and a driver IC 41 for driving liquid crystal is mounted on the protruding region 36. Each electrode (not shown) on the input side of the driver IC 41 is electrically connected to one end side of each external connection wiring 35, and the other end side of each external connection wiring 35 is each electrode (not shown) of the FPC 42. Abbreviation) and electrically connected. One end side (not shown) of the FPC 42 is electrically connected to an electronic device described later.

各データ線32は、張り出し領域36から有効表示領域Vにかけて延在するように形成されている。各データ線32の一端側は、ドライバIC41の出力側の各電極(図示略)に電気的に接続されている。   Each data line 32 is formed to extend from the overhang area 36 to the effective display area V. One end of each data line 32 is electrically connected to each electrode (not shown) on the output side of the driver IC 41.

各引き回し配線17は、有効表示領域Vの両側に位置する各額縁領域38において張り出し領域36から当該張り出し領域36と反対側にかけて延在するように形成されている。好適な例では、各引き回し配線17は、Cr(クロム)、Ag(銀)及びAl(アルミニウム)のうちいずれかの金属膜又はこれらのいずれかを含む金属膜により形成されているのが好ましい。各引き回し配線17の一端側は、ドライバIC41の出力側の各電極(図示略)に電気的に接続されている。   Each lead-out wiring 17 is formed so as to extend from the overhang area 36 to the opposite side of the overhang area 36 in each frame area 38 located on both sides of the effective display area V. In a preferred example, each routing wiring 17 is preferably formed of any metal film of Cr (chromium), Ag (silver), and Al (aluminum) or a metal film including any of these. One end side of each routing wire 17 is electrically connected to each electrode (not shown) on the output side of the driver IC 41.

各共通配線7は、コの字状の平面形状を有し、データ線32の延在方向と直交する方向に延在する直線状の第1の配線7aと、第1の配線7aの延在方向と同一の方向に延在する直線状の第2の配線7bと、第1の配線7aの一端側と第2の配線7bの一端側とを電気的に繋ぐ直線状の第3の配線7cと、を備える。各共通配線7は、各行方向に配列されたサブ画素領域SG群毎に対応して設けられ、各第3の配線7cは、コンタクトホール5aを通じて各引き回し配線17の他端側と電気的に接続されている。また、アドレス番号G、G・・に対応する奇数行の共通配線7は、液晶装置100の紙面視左辺100L側からその紙面視右辺100R側に向かって延在するように引き回されていると共に、アドレス番号G、G・・に対応する偶数行の共通配線7は、液晶装置100の紙面視右辺100R側からその紙面視左辺100L側に向かって延在するように引き回されている。 Each common wiring 7 has a U-shaped planar shape, a linear first wiring 7a extending in a direction orthogonal to the extending direction of the data line 32, and the extending of the first wiring 7a. The linear second wiring 7b extending in the same direction as the direction, and the third linear wiring 7c that electrically connects one end side of the first wiring 7a and one end side of the second wiring 7b. And comprising. Each common wiring 7 is provided corresponding to each sub pixel region SG group arranged in each row direction, and each third wiring 7c is electrically connected to the other end side of each routing wiring 17 through the contact hole 5a. Has been. In addition, the odd-numbered common wirings 7 corresponding to the address numbers G 1 , G 3 ... In addition, the even-numbered common wiring 7 corresponding to the address numbers G 2 , G 4 ... Is routed so as to extend from the right side 100R side of the liquid crystal device 100 to the left side 100L. ing.

各TFD素子21は、サブ画素領域SGの各々に対応して設けられ、各データ線32と電気的に接続されている。   Each TFD element 21 is provided corresponding to each sub-pixel region SG and is electrically connected to each data line 32.

各画素電極3は、サブ画素領域SGの各々に対応して設けられ、対応する各TFD素子21と電気的に接続されている。   Each pixel electrode 3 is provided corresponding to each of the sub-pixel regions SG and is electrically connected to each corresponding TFD element 21.

各共通電極9は、サブ画素領域SGの各々に対応して設けられ、対応する画素電極3との間でフリンジフィールド(電界)Eを発生させる機能を有する。   Each common electrode 9 is provided corresponding to each of the sub-pixel regions SG and has a function of generating a fringe field (electric field) E with the corresponding pixel electrode 3.

次に、カラーフィルタ基板92の平面構成について説明する。   Next, the planar configuration of the color filter substrate 92 will be described.

カラーフィルタ基板92は、光を遮光する黒色樹脂又は金属膜などからなる遮光層(一般に「ブラックマトリクス」と呼ばれ、以下では、単に「BM」と略記する)、R、G、Bの3色の着色層4R、4G、4Bなどを備える。なお、以下の説明において、色を問わずに着色層を指す場合は単に「着色層4」と記し、色を区別して着色層を指す場合は「着色層4R」などと記す。   The color filter substrate 92 is a light-shielding layer (generally called “black matrix”, hereinafter simply abbreviated as “BM”) made of a black resin or a metal film that shields light, and three colors of R, G, and B Color layers 4R, 4G, 4B, and the like. In the following description, when referring to a colored layer regardless of color, it is simply referred to as “colored layer 4”, and when referring to a colored layer by distinguishing colors, it is referred to as “colored layer 4R” or the like.

BMは、各サブ画素領域SGを区画する位置や、各TFD素子21に対応する位置などに形成されている。R、G、Bの各色の着色層4は、サブ画素領域SGの各々に対応して設けられている。第1実施形態では、着色層4は、共通配線7の第1の配線7a及び第2の配線7bの各延在方向にR、G、Bの順に配列されているが、その配列順序に特に限定はない。   The BM is formed at a position that divides each sub-pixel region SG, a position corresponding to each TFD element 21, or the like. The colored layers 4 for each color of R, G, and B are provided corresponding to each of the sub-pixel regions SG. In the first embodiment, the colored layer 4 is arranged in the order of R, G, and B in the extending direction of the first wiring 7a and the second wiring 7b of the common wiring 7, but in particular in the arrangement order. There is no limitation.

以上の構成を有する液晶装置100では次のようにして動作が行われる。   The liquid crystal device 100 having the above configuration is operated as follows.

まず、スイッチング素子であるTFD素子21を一定期間だけそのスイッチを開けることにより、例えば、線順次方式により、データ線32から供給される、アドレス番号S、S、…、S(n:自然数)に対応する画像信号を所定のタイミングで書き込む。また、アドレス番号G、G、…、G(m:自然数)に対応する走査信号は、引き回し配線17及び当該引き回し配線17に電気的に接続された共通配線7に所定のタイミングでパルス的に、この順に線順次で印加される。これにより、液晶層15の液晶分子の配向状態が制御され、表示画像が観察者により視認される。 First, by opening the switch of the TFD element 21 that is a switching element for a certain period, for example, address numbers S 1 , S 2 ,..., S n (n: An image signal corresponding to (natural number) is written at a predetermined timing. The scanning signals corresponding to the address numbers G 1 , G 2 ,..., G m (m: natural number) are pulsed at a predetermined timing to the routing wiring 17 and the common wiring 7 electrically connected to the routing wiring 17. Therefore, the lines are sequentially applied in this order. Thereby, the alignment state of the liquid crystal molecules of the liquid crystal layer 15 is controlled, and the display image is visually recognized by an observer.

(画素構成)
次に、図2及び図3を参照して、第1実施形態に係る液晶装置100の画素構成について説明する。
(Pixel configuration)
Next, a pixel configuration of the liquid crystal device 100 according to the first embodiment will be described with reference to FIGS. 2 and 3.

まず、図2において、アレイ基板91における複数のサブ画素領域SGを含む画素構成は次の通りである。図2は、第1実施形態に係るアレイ基板91における複数のサブ画素領域SGを含む画素構成を示す平面図である。   First, in FIG. 2, the pixel configuration including a plurality of sub-pixel regions SG in the array substrate 91 is as follows. FIG. 2 is a plan view showing a pixel configuration including a plurality of sub-pixel regions SG in the array substrate 91 according to the first embodiment.

アレイ基板91において、各行方向に隣接するサブ画素領域SGの間には、画像信号が供給されるデータ線32が列方向に延在するように設けられている。また、アレイ基板91において、各サブ画素領域SGの隅の位置であって、且つ各列方向に隣接するサブ画素SGの境界付近には、対応するデータ線32の各々と電気的に接続されたTFD素子21が対応して設けられ、各TFD素子21は、サブ画素領域SGの各々に対応して設けられた矩形状の画素電極3に電気的に接続されている。また、アレイ基板91は、各サブ画素領域SGの各々に対応して設けられた共通電極9を有する。各共通電極9は、複数の櫛歯部分9cを含む櫛歯形状を有し、各画素電極3と平面的に重なり合っている。各櫛歯部分9cは、各データ線32及び各共通配線7の第1の配線7a及び第2の配線7bと交差する方向に延在していると共に、隣接する櫛歯部分9cの間には、画素電極3との間で、データ線32の延在方向に電界Eを発生させるための間隙9kが形成されている。   In the array substrate 91, between the sub-pixel regions SG adjacent to each other in the row direction, data lines 32 to which image signals are supplied are provided so as to extend in the column direction. Further, in the array substrate 91, each of the corresponding data lines 32 is electrically connected to the corner position of each sub-pixel region SG and in the vicinity of the boundary between the sub-pixels SG adjacent to each other in the column direction. TFD elements 21 are provided correspondingly, and each TFD element 21 is electrically connected to a rectangular pixel electrode 3 provided corresponding to each of the sub-pixel regions SG. The array substrate 91 has a common electrode 9 provided corresponding to each of the sub-pixel regions SG. Each common electrode 9 has a comb-tooth shape including a plurality of comb-tooth portions 9c, and overlaps each pixel electrode 3 in a planar manner. Each comb-tooth portion 9c extends in a direction intersecting the first wiring 7a and the second wiring 7b of each data line 32 and each common wiring 7, and between the adjacent comb-tooth portions 9c. A gap 9k for generating an electric field E in the extending direction of the data line 32 is formed between the pixel electrode 3 and the pixel electrode 3.

また、アレイ基板91は、走査信号が供給される共通配線7を有する。各共通配線7は、遮光性を有する金属膜にて形成されている。好適な例では、共通配線7は、各引き回し配線17と同様に、Cr、Ag及びAlのうちいずれかの金属膜又はこれらのいずれかを含む金属膜により形成されているのが好ましい。各共通配線7の第1の配線7a及び第2の配線7bは、任意のサブ画素領域SGと、当該任意のサブ画素領域SGに対して前記列方向に隣接する他のサブ画素領域SGとの境界近傍に配置されている。   The array substrate 91 has a common wiring 7 to which a scanning signal is supplied. Each common wiring 7 is formed of a light-shielding metal film. In a preferred example, the common wiring 7 is preferably formed of a metal film of Cr, Ag, or Al or a metal film including any one of them, as with each routing wiring 17. The first wiring 7a and the second wiring 7b of each common wiring 7 are formed between an arbitrary sub-pixel region SG and another sub-pixel region SG adjacent to the arbitrary sub-pixel region SG in the column direction. It is arranged near the boundary.

なお、本例では、アレイ基板91に対向配置されるカラーフィルタ基板92側に設けられる、R、G、Bの各色の着色層4R、4G、4Bは、各サブ画素SGに対応して配置され、且つデータ線32の延在方向と直交する方向に対してこの順に配置されている。また、カラーフィルタ基板92側において、前記行方向に隣接するサブ画素領域SGの間、及び、各共通配線7の第1の配線7aと、当該各第1の配線7aに対して前記列方向に隣接する各共通配線7の第2の配線7bとの間、及び、TFD素子21に対応する位置などには、それぞれ、BMが設けられている。   In this example, the colored layers 4R, 4G, and 4B of R, G, and B, which are provided on the color filter substrate 92 side facing the array substrate 91, are disposed corresponding to the sub-pixels SG. And in this order with respect to the direction orthogonal to the extending direction of the data lines 32. Further, on the color filter substrate 92 side, between the sub-pixel regions SG adjacent to each other in the row direction, and in the column direction with respect to the first wires 7a of the common wires 7 and the first wires 7a. BMs are provided between the adjacent common wires 7 and the second wires 7b, and at positions corresponding to the TFD elements 21, respectively.

次に、図3を参照して、サブ画素領域SGの断面構成について説明する。図3は、図2の切断線A−A´に沿ったサブ画素領域SGの断面構成を示す断面図である。   Next, a cross-sectional configuration of the sub-pixel region SG will be described with reference to FIG. FIG. 3 is a cross-sectional view showing a cross-sectional configuration of the sub-pixel region SG along the cutting line AA ′ of FIG.

液晶装置100は、観察側に配置されたアレイ基板91と、そのアレイ基板91に対向して配置されたカラーフィルタ基板92との間にホモジニアス配向を呈する液晶層15を挟持した構成を有する。   The liquid crystal device 100 has a configuration in which a liquid crystal layer 15 exhibiting homogeneous alignment is sandwiched between an array substrate 91 disposed on the observation side and a color filter substrate 92 disposed opposite to the array substrate 91.

まず、図3に対応するアレイ基板91の断面構成は次の通りである。   First, the cross-sectional configuration of the array substrate 91 corresponding to FIG. 3 is as follows.

アレイ基板91は、ガラスなどの透光性材料により形成された第1の基板1と、第1の基板1の液晶層15側に形成された複数の構成要素と、を備える。   The array substrate 91 includes a first substrate 1 made of a translucent material such as glass, and a plurality of components formed on the liquid crystal layer 15 side of the first substrate 1.

具体的には、第1の基板1の液晶層15側の内面上には、TFD素子21、及びTFD素子21に電気的に接続された画素電極3が夫々形成されている。   Specifically, the TFD element 21 and the pixel electrode 3 electrically connected to the TFD element 21 are formed on the inner surface of the first substrate 1 on the liquid crystal layer 15 side.

TFD素子21は、第1のTFD素子21a及び第2のTFD素子21bを含んで構成される。第1のTFD素子21a及び第2のTFD素子21bは、島状に形成され、タンタルを主成分とし、タングステンを添加物とする第1の導電膜322と、この第1の導電膜322の表面を陽極酸化することによって形成され、酸化タンタル等の陽極酸化膜たる絶縁膜323と、この表面に形成されて相互に離間した第2の導電膜316、336とを有する。このうち、第2の導電膜316、336は、クロム等の同一導電膜をパターニングしたものであり、前者の第2の導電膜316は、画素電極3と電気的に接続するために用いられると共に、後者の第2の導電膜336は、データ線32からT字状に分岐したものが用いられる。   The TFD element 21 includes a first TFD element 21a and a second TFD element 21b. The first TFD element 21a and the second TFD element 21b are formed in an island shape, a first conductive film 322 containing tantalum as a main component and tungsten as an additive, and a surface of the first conductive film 322 And an insulating film 323 which is an anodic oxide film such as tantalum oxide, and second conductive films 316 and 336 formed on the surface and spaced apart from each other. Among them, the second conductive films 316 and 336 are obtained by patterning the same conductive film such as chromium, and the former second conductive film 316 is used for electrical connection with the pixel electrode 3. The latter second conductive film 336 is branched from the data line 32 in a T shape.

ここで、TFD素子21のうち、第1のTFD素子21aは、データ線32の側からみると順番に、第2の導電膜336/絶縁膜323/第1の導電膜322となって、金属/絶縁体/金属の構造を採るため、その電流−電圧特性は正負双方向にわたって非線形となる。一方、第2のTFD素子21bは、データ線32の側からみると順番に、第1の導電膜322/絶縁膜323/第2の導電膜316となって、第1のTFD素子21aとは逆向きの構造を採る。このため、第2のTFD素子21bの電流−電圧特性は、第1のTFD素子21aの電流−電圧特性を、原点を中心に点対称化したものとなる。その結果、TFD素子21は、2つのTFD素子を互いに逆向きに直列接続した形態となるため、1つのTFD素子を用いる場合と比べると、電流−電圧の非線形特性が正負双方向にわたって対称化されることになる。   Here, among the TFD elements 21, the first TFD element 21 a becomes the second conductive film 336 / insulating film 323 / first conductive film 322 in order from the data line 32 side. Because of the / insulator / metal structure, the current-voltage characteristics are nonlinear in both positive and negative directions. On the other hand, when viewed from the data line 32 side, the second TFD element 21b becomes a first conductive film 322 / insulating film 323 / second conductive film 316 in order, and is different from the first TFD element 21a. The structure is reversed. For this reason, the current-voltage characteristics of the second TFD element 21b are obtained by making the current-voltage characteristics of the first TFD element 21a point-symmetric with respect to the origin. As a result, since the TFD element 21 has a configuration in which two TFD elements are connected in series in opposite directions, the current-voltage nonlinear characteristic is symmetric in both positive and negative directions compared to the case where one TFD element is used. Will be.

画素電極3は、ITO(Indium-Tin-Oxide)などの透明導電膜により形成されている。TFD素子21及び画素電極3等の内面上には、アクリル樹脂又は窒化シリコンなどの絶縁性を有する透明材料にて形成された絶縁膜5が形成されている。絶縁膜5の内面上には共通電極9及び共通配線7が形成されている。共通電極9は、ITOなどの透明導電膜により形成されている。共通電極9と画素電極3とは相互に平面的に重なり合っており、液晶層15に対する電圧印加時には、画素電極3と共通電極9との間で間隙9kを通じて電界Eが形成されるが、電界Eは絶縁膜5によりアーチ状に歪められて液晶層15中を通過し、液晶分子の配向が制御される。共通配線7の第1の配線7aは、図2又は図3の破線領域A1に示すように、サブ画素領域SGに対応して設けられたTFD素子21と部分的且つ平面的に重なる位置に存在する共通電極9の端部9aと重なる位置に且つ直接的に接続される位置に配置されていると共に、共通配線7の第2の配線7bは、図2又は図3の破線領域A2に示すように、当該共通電極9の端部9aに対して反対側に位置すると共に、当該他のサブ画素領域SGに対応して設けられた他のTFD素子21と部分的且つ平面的に重なる位置に存在する当該共通電極9の他の端部9bと重なる位置に且つ直接的に接続される位置に配置されている。共通配線7及び共通電極9の内面上には、ポリイミド樹脂などの有機材料により形成された配向膜11が形成されている。なお、アレイ基板91の液晶層15側に対して反対側の外面上には、偏光板13、及び照明装置としてのバックライト15がこの順に配置されている。バックライト15は、例えば、LED(Light Emitting Diode)等といった点状光源や、冷陰極蛍光管等といった線状光源と導光板を組み合わせたものなどが好適である。   The pixel electrode 3 is formed of a transparent conductive film such as ITO (Indium-Tin-Oxide). On the inner surfaces of the TFD element 21, the pixel electrode 3, and the like, an insulating film 5 made of an insulating transparent material such as acrylic resin or silicon nitride is formed. A common electrode 9 and a common wiring 7 are formed on the inner surface of the insulating film 5. The common electrode 9 is formed of a transparent conductive film such as ITO. The common electrode 9 and the pixel electrode 3 overlap each other in a plane, and when a voltage is applied to the liquid crystal layer 15, an electric field E is formed between the pixel electrode 3 and the common electrode 9 through the gap 9k. Is distorted in an arch shape by the insulating film 5 and passes through the liquid crystal layer 15 to control the alignment of liquid crystal molecules. The first wiring 7a of the common wiring 7 exists at a position that partially and planarly overlaps with the TFD element 21 provided corresponding to the sub-pixel region SG, as indicated by a broken line region A1 in FIG. 2 or FIG. The second wiring 7b of the common wiring 7 is disposed at a position that overlaps with and directly connects to the end 9a of the common electrode 9 as shown in a broken line area A2 in FIG. 2 or FIG. And located on the side opposite to the end 9a of the common electrode 9 and partially and planarly overlaps with another TFD element 21 provided corresponding to the other sub-pixel region SG. The common electrode 9 is disposed so as to overlap with the other end 9b and to be directly connected. On the inner surfaces of the common wiring 7 and the common electrode 9, an alignment film 11 made of an organic material such as polyimide resin is formed. A polarizing plate 13 and a backlight 15 as a lighting device are arranged in this order on the outer surface of the array substrate 91 opposite to the liquid crystal layer 15 side. The backlight 15 is preferably a point light source such as an LED (Light Emitting Diode) or a combination of a linear light source such as a cold cathode fluorescent tube and a light guide plate.

次に、図3に対応するカラーフィルタ基板92の断面構成は次の通りである。   Next, the cross-sectional configuration of the color filter substrate 92 corresponding to FIG. 3 is as follows.

カラーフィルタ基板92は、ガラスなどの透光性材料により形成された第2の基板2と、第2の基板2の液晶層15側に形成された複数の構成要素と、を備える。   The color filter substrate 92 includes a second substrate 2 formed of a light-transmitting material such as glass, and a plurality of components formed on the liquid crystal layer 15 side of the second substrate 2.

具体的には、第2の基板2の液晶層15側の内面上には、R、G、Bの各色の着色層4R、4G、4B(図3では着色層4R)、及び遮光性を有するBMが夫々形成されている。   Specifically, on the inner surface of the second substrate 2 on the liquid crystal layer 15 side, the colored layers 4R, 4G, and 4B (colored layer 4R in FIG. 3) of each color of R, G, and B, and light-shielding properties are provided. Each BM is formed.

各着色層4は、画素電極3及び共通電極9と平面的に重なる位置に対応して設けられており、BMは、TFD素子21に対応する位置などに設けられている。各着色層4及びBMの内面上には、アクリル樹脂などの絶縁性を有する透明材料にて形成されたオーバーコート層6が形成されている。このオーバーコート層6は、カラーフィルタ基板92の製造工程中に使用される薬剤等による腐食や汚染から着色層4を保護する機能を有する。オーバーコート層6の内面上には、ポリイミド樹脂などの有機材料により形成された配向膜8が形成されている。なお、カラーフィルタ基板92の液晶層15側に対して反対側の外面上には、偏光板12が配置されている。   Each colored layer 4 is provided in a position corresponding to the pixel electrode 3 and the common electrode 9 in a plane, and BM is provided in a position corresponding to the TFD element 21. On each colored layer 4 and the inner surface of the BM, an overcoat layer 6 made of an insulating transparent material such as an acrylic resin is formed. The overcoat layer 6 has a function of protecting the colored layer 4 from corrosion and contamination by chemicals used during the manufacturing process of the color filter substrate 92. An alignment film 8 made of an organic material such as polyimide resin is formed on the inner surface of the overcoat layer 6. A polarizing plate 12 is disposed on the outer surface of the color filter substrate 92 opposite to the liquid crystal layer 15 side.

以上の構成を有する液晶装置100では、その駆動時、画素電極3と共通電極9との間において生じるフリンジフィールド(電界)Eにより液晶分子の配向状態が制御され、これによりカラー透過表示が行われる。このとき、バックライト15から出射した照明光は、図3に示す経路Ltに沿って進行し、画素電極3、共通電極9、着色層4等を通過して観察者に至る。この場合、その照明光は、その着色層4等を透過することにより所定の色相及び明るさを呈する。こうして、所望のカラー表示画像が観察者により視認される。   In the liquid crystal device 100 having the above configuration, when it is driven, the alignment state of the liquid crystal molecules is controlled by a fringe field (electric field) E generated between the pixel electrode 3 and the common electrode 9, thereby performing color transmissive display. . At this time, the illumination light emitted from the backlight 15 travels along the path Lt shown in FIG. 3, passes through the pixel electrode 3, the common electrode 9, the colored layer 4, etc., and reaches the observer. In this case, the illumination light exhibits a predetermined hue and brightness by transmitting through the colored layer 4 and the like. Thus, a desired color display image is visually recognized by the observer.

次に、比較例と比較した、本発明の第1実施形態に係る液晶装置100の特有の作用効果について説明する。   Next, operations and effects unique to the liquid crystal device 100 according to the first embodiment of the present invention compared to the comparative example will be described.

まず、図4を参照して、比較例に係る液晶装置100xの電極及び配線構成を中心とした平面構成について説明する。図4は、図1に対応する、比較例に係る液晶装置100xの電極及び配線構成を中心とした平面構成を示す。   First, with reference to FIG. 4, the planar configuration centering on the electrode and wiring configuration of the liquid crystal device 100x according to the comparative example will be described. FIG. 4 shows a planar configuration centering on the electrode and wiring configuration of the liquid crystal device 100x according to the comparative example corresponding to FIG.

比較例と第1実施形態とを比較した場合、比較例では、共通配線7が設けられていない点と共通電極9の構成とが第1実施形態と異なり、それ以外は第1実施形態と同様である。よって、以下では、第1実施形態と同一の要素については同一の符号を付し、その説明は省略する。   When the comparative example and the first embodiment are compared, the comparative example is different from the first embodiment in that the common wiring 7 is not provided and the configuration of the common electrode 9, and other than that is the same as the first embodiment. It is. Therefore, below, the same code | symbol is attached | subjected about the element same as 1st Embodiment, and the description is abbreviate | omitted.

比較例に係る共通電極9xは、ITO等の透明導電膜により形成されており、各行方向に配列されたサブ画素領域SGの各々に対応して設けられ且つ共通電極9と同様の櫛歯形状を有する第1の共通電極9xaと、第1の共通電極9xaの各々を繋ぐ第2の共通電極9xbと、引き回し配線17に近い側の第2の共通電極9xbの一端側と、コンタクトホール5aを通じて当該引き回し配線17に電気的に接続された第3の共通電極9xcと、を有する。   The common electrode 9x according to the comparative example is formed of a transparent conductive film such as ITO, is provided corresponding to each of the sub-pixel regions SG arranged in each row direction, and has the same comb-teeth shape as the common electrode 9 The first common electrode 9xa, the second common electrode 9xb connecting each of the first common electrodes 9xa, the one end side of the second common electrode 9xb near the routing wiring 17, and the contact hole 5a. And a third common electrode 9xc electrically connected to the routing wiring 17.

各行方向に対応して設けられた各第2の共通電極9xbは、任意のサブ画素領域SGと、当該サブ画素領域SGに対して列方向に隣接する他のサブ画素領域SGとの境界近傍に対応して設けられている。また、液晶装置100xを平面的に見たときに、アドレス番号G、G・・に対応する奇数行の共通電極9xは、液晶装置100xの紙面視左辺100L側からその紙面視右辺100R側に向かって延在するように引き回されていると共に、アドレス番号G、G・・に対応する偶数行の共通電極9xは、液晶装置100xの紙面視右辺100R側からその紙面視左辺100L側に向かって延在するように引き回されている。 Each second common electrode 9xb provided corresponding to each row direction is in the vicinity of the boundary between an arbitrary subpixel region SG and another subpixel region SG adjacent to the subpixel region SG in the column direction. Correspondingly provided. Further, when the liquid crystal device 100x is viewed in a plan view, the odd-numbered common electrodes 9x corresponding to the address numbers G 1 , G 3, ... The common electrodes 9x in the even-numbered rows corresponding to the address numbers G 2 , G 4 ... Extend from the right side 100R side of the liquid crystal device 100x as viewed from the right side 100R. It is routed to extend toward the side.

以上の構成を有する比較例では次のような課題がある。   The comparative example having the above configuration has the following problems.

上記のように、比較例では、共通電極9xは高い抵抗値を有するITOなどの透明導電膜にて形成されているため、共通電極9xは、ドライバIC41の出力側の各電極(図示略)から遠ざかるに従って抵抗値が飛躍的に高くなってしまう。これにより、各行方向に配列された各画素電極3に対して同一階調のデータを書き込んだとしても、ドライバIC41の出力側の各電極(図示略)に対して近い側(走査信号の入力側に対して近い側)に位置する画素電極3と、ドライバIC41の出力側の各電極(図示略)に対して遠い側(走査信号の入力側に対して遠い側)に位置する画素電極3とで、V(電圧)−T(透過率)特性(以下、「V−T特性」と呼ぶ)に差が生じてしまうといった課題がある。これに加え、前記奇数行の共通電極9xは、液晶装置100xの紙面視左辺100L側からその紙面視右辺100R側に向かって延在するように引き回されていると共に、前記偶数行の共通電極9xは、液晶装置100xの紙面視右辺100R側からその紙面視左辺100L側に向かって延在するように引き回されているため、1行毎に表示状態が異なってしまい、1行毎に縞状の表示ムラが生じてしまうといった課題がある。   As described above, in the comparative example, since the common electrode 9x is formed of a transparent conductive film such as ITO having a high resistance value, the common electrode 9x is connected to each electrode (not shown) on the output side of the driver IC 41. The resistance value increases dramatically as the distance increases. As a result, even if data of the same gradation is written to each pixel electrode 3 arranged in each row direction, the side closer to each electrode (not shown) on the output side of the driver IC 41 (scan signal input side) A pixel electrode 3 positioned on the side closer to the output side of the driver IC 41 and a pixel electrode 3 positioned on the side farther from the electrodes (not shown) on the output side of the driver IC 41 (the side farther from the scanning signal input side) Thus, there is a problem that a difference occurs in the V (voltage) -T (transmittance) characteristics (hereinafter referred to as “VT characteristics”). In addition, the odd-row common electrodes 9x are routed so as to extend from the left side 100L side of the liquid crystal device 100x as viewed in the drawing to the right side 100R side of the drawing as well as the common electrodes of the even-numbered rows. 9x is routed so as to extend from the right side 100R side of the liquid crystal device 100x to the left side 100L of the paper surface, so that the display state is different for each row, and the stripes are streaked for each row. There is a problem that uneven display occurs.

このような課題に対して、共通電極9xの厚さを厚くすれば(例えば1000Å程度)、当該共通電極9xの抵抗値を下げることができるので、このような課題を改善することが可能である。しかしながら、この場合、櫛歯形状を有する第1の共通電極9xaの櫛歯部分の外形付近の形状は絶壁形状となってしまうため、その櫛歯部分の外形付近では液晶分子の配向が制御されずに光り抜けが生じてしまい、これを原因としてコントラストが低下してしまうといった新たな課題が生じる。この課題に対して、櫛歯部分の外形付近をテーパー状にすれば液晶分子の配向異常の発生を抑制することが可能となるが、相隣接する櫛歯部分の間隔は約5μm程度と極めて狭いため、櫛歯部分の外形をテーパー状に形成することは困難である。   In response to such a problem, if the thickness of the common electrode 9x is increased (for example, about 1000 mm), the resistance value of the common electrode 9x can be lowered, so that such a problem can be improved. . However, in this case, the shape near the outer shape of the comb tooth portion of the first common electrode 9xa having the comb tooth shape becomes a precipitous shape, so the alignment of the liquid crystal molecules is not controlled near the outer shape of the comb tooth portion. As a result, a new problem arises in that light is lost and the contrast is reduced due to this. To solve this problem, it is possible to suppress the occurrence of liquid crystal molecule alignment anomaly by making the vicinity of the outer shape of the comb teeth portion, but the interval between adjacent comb teeth portions is as narrow as about 5 μm. Therefore, it is difficult to form the outer shape of the comb tooth portion in a tapered shape.

そこで、これらの点を考慮して、本発明の第1実施形態では、各行方向に配列されたITO等の透明導電膜よりなる共通電極9の各々を、金属膜よりなる各共通配線7の第1の配線7a及び第2の配線7bと直接的に接続する。これにより、各行方向に配列された共通電極9の各々と、各共通配線7との接続構造体の抵抗値を下げることができる。これにより、ITO等の透明導電膜よりなる共通電極9の厚さを薄くすることも可能となり、共通電極9の櫛歯部分9cの外形付近において液晶分子の配向異常が起き難くなり、その外形付近にて光り漏れが生じるのを防止でき、コントラストを向上させることができる。また、これにより、走査信号の入力側に対して近い側に位置する画素電極3と、走査信号の入力側に対して遠い側に位置する画素電極3とで、V−T特性に差が生じるのを防止できると共に、1行毎に縞状の表示ムラが生じるのを防止でき、高い表示品位を得ることができる。   Therefore, in consideration of these points, in the first embodiment of the present invention, each of the common electrodes 9 made of a transparent conductive film such as ITO arranged in each row direction is replaced with each of the common wires 7 made of a metal film. The first wiring 7a and the second wiring 7b are directly connected. Thereby, the resistance value of the connection structure between each common electrode 9 arranged in each row direction and each common wiring 7 can be lowered. As a result, the thickness of the common electrode 9 made of a transparent conductive film such as ITO can be reduced, and liquid crystal molecule alignment anomalies are less likely to occur near the outer shape of the comb-tooth portion 9c of the common electrode 9, and the vicinity of the outer shape. Can prevent leakage of light and improve contrast. This also causes a difference in VT characteristics between the pixel electrode 3 located on the side closer to the scanning signal input side and the pixel electrode 3 located on the side farther from the scanning signal input side. In addition to preventing the occurrence of striped display unevenness for each line, high display quality can be obtained.

ここで、図5に、上記比較例に係る共通電極9xと、第1実施形態に係る、共通電極9と共通配線7の接続構造体との抵抗値の比較結果を図表として示す。   Here, FIG. 5 shows a comparison result of resistance values of the common electrode 9x according to the comparative example and the connection structure of the common electrode 9 and the common wiring 7 according to the first embodiment.

図5において、ITO共通配線は、比較例に係るITOよりなる共通電極9xに対応していると共に、ITO/Metal配線は、第1実施形態に係る、ITOよりなる共通電極9と金属膜(Metal膜)よりなる共通配線7の接続構造体に対応している。   In FIG. 5, the ITO common wiring corresponds to the common electrode 9x made of ITO according to the comparative example, and the ITO / Metal wiring corresponds to the common electrode 9 made of ITO and the metal film (Metal) according to the first embodiment. This corresponds to the connection structure of the common wiring 7 made of a film.

また、図5に示すITO共通配線の項目において、「ITO膜厚」は共通電極9xの厚さを、また、「ITOシート抵抗」は共通電極9xのシート抵抗値を、また、「横ドットピッチ」はサブ画素領域SGの横(行方向)周期の長さを、また、「縦ドットピッチ」はサブ画素領域SGの縦(列方向)周期の長さ(=横ドットピッチの3倍)を、また、「ITO配線抵抗」は1つの横サブ画素分の抵抗値で櫛歯形状の第1の共通電極9xaとそれを繋ぐ第2の共通電極9xbの抵抗値の和を、また、「横ドット数」は1行分に対応する共通電極9xの第1の共通電極9xaの数を夫々示す。   Further, in the item of ITO common wiring shown in FIG. 5, “ITO film thickness” is the thickness of the common electrode 9x, “ITO sheet resistance” is the sheet resistance value of the common electrode 9x, and “horizontal dot pitch” "Is the length of the horizontal (row direction) period of the sub-pixel area SG, and" vertical dot pitch "is the length of the vertical (column direction) period of the sub-pixel area SG (= 3 times the horizontal dot pitch). In addition, “ITO wiring resistance” is the resistance value of one horizontal sub-pixel, and is the sum of the resistance values of the comb-shaped first common electrode 9xa and the second common electrode 9xb connecting it. “Number of dots” indicates the number of first common electrodes 9xa of the common electrodes 9x corresponding to one row.

一方、図5に示すITO/Metal配線の項目において、「ITO膜厚」は共通電極9の厚さを、また、「Metal膜厚」は共通配線7の厚さを、また、「Metalシート抵抗」は共通配線7のシート抵抗値を、また、「横ドットピッチ」はサブ画素領域SGの横(行方向)周期の長さを、また、「縦ドットピッチ」はサブ画素領域SGの縦(列方向)周期の長さ(=横ドットピッチの3倍)を、また、「Metal配線幅」は前記接続構造体の積層部分に対応する列方向の長さを、また、「ライン抵抗(1ドット分)」は1つの横サブ画素領域SG内のMetal配線部の抵抗値を、また、「横ドット数」は1行分に対応する共通電極9の数を夫々示す。   On the other hand, in the item of ITO / Metal wiring shown in FIG. 5, “ITO film thickness” indicates the thickness of the common electrode 9, “Metal film thickness” indicates the thickness of the common wiring 7, and “Metal sheet resistance”. "Is the sheet resistance value of the common wiring 7," Horizontal dot pitch "is the length of the horizontal (row direction) period of the sub-pixel region SG, and" Vertical dot pitch "is the vertical ( (Column direction) period length (= 3 times the horizontal dot pitch), “Metal wiring width” is the column direction length corresponding to the laminated portion of the connection structure, and “line resistance (1 “Dot”) indicates the resistance value of the metal wiring portion in one horizontal sub-pixel region SG, and “number of horizontal dots” indicates the number of common electrodes 9 corresponding to one row.

以上の各項目より、比較例に係る1行分に対応する共通電極9xの総合横ライン抵抗は、14380[Ω]と算出され、一方、第1実施形態に係る1行分に対応する総合横ライン抵抗{ITO+Metal(2本分)}は、1行分に対応する共通配線7の横ライン抵抗(Metal:2本分)の抵抗値779[Ω]と、1行分に対応する共通電極9の横ライン抵抗(ITO)の抵抗値14380[Ω]とに基づき、739[Ω]と算出される。   From the above items, the total horizontal line resistance of the common electrode 9x corresponding to one row according to the comparative example is calculated as 14380 [Ω], while the total horizontal line resistance corresponding to one row according to the first embodiment is calculated. The line resistance {ITO + Metal (for two lines)} is the resistance 779 [Ω] of the horizontal line resistance (Metal: for two lines) of the common wiring 7 corresponding to one line and the common electrode 9 corresponding to one line. Is calculated as 739 [Ω] based on the resistance value 14380 [Ω] of the horizontal line resistance (ITO).

かかる算出結果より、第1実施形態に係る液晶装置100において、シート抵抗0.4[Ω]の金属膜よりなる共通配線7を用いれば、2インチ表示パネル(横ドットピッチ:59[μm]×縦ドットピッチ:177[μm]、ドット数:528×220)において、1行分に対応する総合横ライン抵抗{ITO+Metal(2本分)}の抵抗値は、比較例に係る1行分に対応する共通電極9xの総合横ライン抵抗値の約1/20倍にすることができる。よって、上記した第1実施形態に係る作用効果を得ることができる。   From this calculation result, in the liquid crystal device 100 according to the first embodiment, if the common wiring 7 made of a metal film having a sheet resistance of 0.4 [Ω] is used, a 2-inch display panel (horizontal dot pitch: 59 [μm] × In the vertical dot pitch: 177 [μm], the number of dots: 528 × 220), the total horizontal line resistance {ITO + Metal (for two lines)} corresponding to one row corresponds to one row according to the comparative example. The total horizontal line resistance value of the common electrode 9x can be about 1/20 times. Therefore, the operational effects according to the first embodiment described above can be obtained.

また、第1実施形態において、各共通配線7は、遮光性を有する金属膜により形成されていると共に、任意のサブ画素領域SGと、当該サブ画素領域SGに対して前記列方向に隣接する他のサブ画素領域SGとの境界近傍に配置されている。これにより、各共通配線7を遮光層として機能させつつ、開口率の向上を図ることができる。   In the first embodiment, each common wiring 7 is formed of a light-shielding metal film, and an arbitrary sub-pixel region SG and another adjacent to the sub-pixel region SG in the column direction. Is arranged in the vicinity of the boundary with the sub-pixel region SG. Thereby, it is possible to improve the aperture ratio while causing each common wiring 7 to function as a light shielding layer.

また、第1実施形態において、共通配線7の第1の配線7aは、図2又は図3の破線領域A1に示すように、サブ画素領域SGに対応して設けられたTFD素子21と部分的且つ平面的に重なる位置に存在する共通電極9の端部9aと重なる位置に且つ直接的に接続される位置に配置されていると共に、共通配線7の第2の配線7bは、図2又は図3の破線領域A2に示すように、当該共通電極9の端部9aに対して反対側に位置すると共に、当該他のサブ画素領域SGに対応して設けられた他のTFD素子21と部分的且つ平面的に重なる位置に存在する当該共通電極9の他の端部9bと重なる位置に且つ直接的に接続される位置に配置されている。   In the first embodiment, the first wiring 7a of the common wiring 7 is partially connected to the TFD element 21 provided corresponding to the sub-pixel region SG, as shown by a broken line region A1 in FIG. 2 or FIG. In addition, the second wiring 7b of the common wiring 7 is disposed at a position that overlaps with the end 9a of the common electrode 9 that exists in a planarly overlapping position and is directly connected to the end portion 9a. As shown by the broken line area A2 in FIG. 3, the TFD element 21 is located on the opposite side to the end 9a of the common electrode 9 and partially corresponds to the other TFD element 21 provided corresponding to the other subpixel area SG. In addition, it is disposed at a position that is directly connected to a position that overlaps with the other end portion 9b of the common electrode 9 that exists in a position overlapping in a plane.

これにより、各行方向に配列された共通電極9の各々は、当該共通電極9の各々の端部9a又は他の端部9bの位置において、一対の第1の配線7a及び第2の配線7bと直接的に接続される。よって、各行方向に配列された共通電極9の各々を1つの金属配線と直接的に接続した接続構造体と比較して、各行方向に配列された共通電極9の各々と、各共通配線7の第1の配線7a及び第2の配線7bとの接続構造体の抵抗値をより下げることができる。また、この場合、万が一、一対の第1の配線7a及び第2の配線7bのうち、どちらか一方が断線した場合でも、断線していない側の配線は、各行方向に配列された共通電極9の各々と電気的に接続されることになるため、共通配線7の冗長性を高めることができる。また、図2の領域A3に示すように、各共通配線7をサブ画素領域SG内における表示に寄与しないTFD素子21と部分的且つ平面的に重なる位置に存在する共通電極9の端部9a又は他の端部9bと重なる位置に配置することで、当該各共通配線7を遮光層として機能させつつ、開口率の向上を図ることができる。また、各共通配線7は遮光層として機能するので、カラーフィルタ基板92側において、列方向に相隣接するサブ画素領域SGの間に配置されるBMの幅を小さくすることができる。   Thereby, each of the common electrodes 9 arranged in each row direction has a pair of first wiring 7a and second wiring 7b at the position of each end 9a or other end 9b of the common electrode 9. Connected directly. Therefore, each of the common electrodes 9 arranged in each row direction is compared with each of the common electrodes 9 arranged in each row direction, as compared with a connection structure in which each of the common electrodes 9 arranged in each row direction is directly connected to one metal wiring. The resistance value of the connection structure with the first wiring 7a and the second wiring 7b can be further reduced. In this case, even if one of the pair of the first wiring 7a and the second wiring 7b is disconnected, the wiring on the unbroken side is the common electrode 9 arranged in each row direction. Therefore, the redundancy of the common wiring 7 can be increased. Further, as shown in a region A3 in FIG. 2, the end portions 9a of the common electrodes 9 existing at positions where the respective common wirings 7 partially and planarly overlap the TFD elements 21 that do not contribute to display in the sub-pixel region SG. By arranging at a position overlapping with the other end portion 9b, it is possible to improve the aperture ratio while causing each common wiring 7 to function as a light shielding layer. Further, since each common wiring 7 functions as a light shielding layer, the width of the BM disposed between the sub-pixel regions SG adjacent to each other in the column direction can be reduced on the color filter substrate 92 side.

また、第1実施形態に係る液晶装置100では、アレイ基板91側に各種の配線及び電極が形成され、カラーフィルタ基板92側には各種の配線及び電極が形成されない構造となるので、アレイ基板91側とカラーフィルタ基板92で上下導通をとる必要がなくなる。これにより、シール材43内に上下導通をとるための導通部材を混入する必要がなくなる。よって、その分だけ、工数削減を図ることができると共に、シール材43の幅を小さくすることができるため、額縁領域38の小さい液晶装置100を構成することができる。   In the liquid crystal device 100 according to the first embodiment, various wirings and electrodes are formed on the array substrate 91 side, and various wirings and electrodes are not formed on the color filter substrate 92 side. There is no need to establish vertical conduction between the side and the color filter substrate 92. This eliminates the need to mix a conductive member for vertical conduction in the sealing material 43. Therefore, the man-hour can be reduced by that amount, and the width of the sealing material 43 can be reduced, so that the liquid crystal device 100 having a small frame region 38 can be configured.

[第2実施形態]
次に、図6及び図7を参照して、本発明の第2実施形態に係る液晶装置200の構成について説明する。なお、以下では、第1実施形態と同一の要素については同一の符号を付し、その説明は省略する。
[Second Embodiment]
Next, the configuration of the liquid crystal device 200 according to the second embodiment of the present invention will be described with reference to FIGS. In the following, the same elements as those in the first embodiment are denoted by the same reference numerals, and the description thereof is omitted.

図6は、図1に対応する、本発明の第2実施形態に係る液晶装置200の電極及び配線構成を中心とした平面構成を示す。図7は、第2実施形態に係るアレイ基板93における複数のサブ画素領域SGを含む画素構成を示す平面図である。   FIG. 6 shows a planar configuration centering on the electrode and wiring configuration of the liquid crystal device 200 according to the second embodiment of the present invention, corresponding to FIG. FIG. 7 is a plan view showing a pixel configuration including a plurality of sub-pixel regions SG in the array substrate 93 according to the second embodiment.

第2実施形態と第1実施形態とを比較した場合、第2実施形態では、共通配線は、第2の配線7bを有しない点が第1実施形態と異なり、それ以外は第1実施形態と同様である。   When comparing the second embodiment with the first embodiment, the second embodiment is different from the first embodiment in that the common wiring does not have the second wiring 7b, and other than that in the first embodiment. It is the same.

即ち、第2実施形態に係る共通配線7xは、直線状の第1の配線7aと、第1の配線7aの一端側を電気的に繋ぐ直線状の第3の配線7cと、を備える。各共通配線7xは、各行方向に配置されたサブ画素領域SG群毎に対応して設けられ、各第3の配線7cは、コンタクトホール5aを通じて各引き回し配線17の他端側と電気的に接続されている。また、アドレス番号G、G・・に対応する奇数行の共通配線7xは、液晶装置200の紙面視左辺200L側からその紙面視右辺200R側に向かって延在するように引き回されていると共に、アドレス番号G、G・・に対応する偶数行の共通配線7xは、液晶装置200の紙面視右辺200R側からその紙面視左辺200L側に向かって延在するように引き回されている。また、各共通配線7xの第1の配線7aは、任意のサブ画素領域SGと、当該サブ画素領域SGに対して前記列方向に隣接する他のサブ画素領域SGとの境界近傍に対応して配置されている。具体的には、共通配線7xの第1の配線7aは、図6又は図7の領域A4に示すように、サブ画素領域SGに対応して設けられたTFD素子21と部分的且つ平面的に重なる位置に存在する共通電極9の端部9aと重なる位置に且つ直接的に接続される位置に配置されている。 That is, the common wiring 7x according to the second embodiment includes a linear first wiring 7a and a linear third wiring 7c that electrically connects one end side of the first wiring 7a. Each common wiring 7x is provided corresponding to each sub-pixel region SG group arranged in each row direction, and each third wiring 7c is electrically connected to the other end side of each routing wiring 17 through the contact hole 5a. Has been. Further, the odd-numbered common wiring 7x corresponding to the address numbers G 1 , G 3 ... Is routed so as to extend from the left side 200L side of the liquid crystal device 200 as viewed in the drawing to the right side 200R side of the drawing. In addition, the common lines 7x in the even-numbered rows corresponding to the address numbers G 2 , G 4 ... Are routed so as to extend from the right side 200R side of the liquid crystal device 200 as viewed in the drawing to the left side 200L side as viewed in the drawing. ing. The first wiring 7a of each common wiring 7x corresponds to the vicinity of the boundary between an arbitrary subpixel region SG and another subpixel region SG adjacent to the subpixel region SG in the column direction. Has been placed. Specifically, the first wiring 7a of the common wiring 7x is partially and planarly connected to the TFD element 21 provided corresponding to the sub-pixel region SG as shown in a region A4 of FIG. 6 or FIG. It is arranged at a position that is directly connected to a position that overlaps with the end portion 9a of the common electrode 9 that exists at the overlapping position.

以上、本発明の第2実施形態では、各行方向に配列されたITO等の透明導電膜よりなる共通電極9の各々が、金属膜よりなる各共通配線7xの第1の配線7aと直接的に接続されている。これにより、各行方向に配列された共通電極9の各々と、各共通配線7xとの接続構造体の抵抗値を下げることができる。これにより、ITO等の透明導電膜よりなる共通電極9の厚さを薄くすることも可能となり、共通電極9の櫛歯部分9cの外形付近において液晶分子の配向異常が起き難くなり、その外形付近にて光り漏れが生じるのを防止でき、コントラストを向上させることができる。また、これにより、走査信号の入力側に対して近い側に位置する画素電極3と、走査信号の入力側に対して遠い側に位置する画素電極3とで、V−T特性に差が生じるのを防止できると共に、1行毎に縞状の表示ムラが生じるのを防止でき、高い表示品位を得ることができる。   As described above, in the second embodiment of the present invention, each of the common electrodes 9 made of a transparent conductive film such as ITO arranged in each row direction is directly connected to the first wiring 7a of each common wiring 7x made of a metal film. It is connected. Thereby, the resistance value of the connection structure between each of the common electrodes 9 arranged in each row direction and each common wiring 7x can be lowered. As a result, the thickness of the common electrode 9 made of a transparent conductive film such as ITO can be reduced, and liquid crystal molecule alignment anomalies are less likely to occur near the outer shape of the comb-tooth portion 9c of the common electrode 9, and the vicinity of the outer shape. Can prevent leakage of light and improve contrast. This also causes a difference in VT characteristics between the pixel electrode 3 located on the side closer to the scanning signal input side and the pixel electrode 3 located on the side farther from the scanning signal input side. In addition to preventing the occurrence of striped display unevenness for each line, high display quality can be obtained.

この点について、第2実施形態に係る1行分に対応する総合横ライン抵抗{ITO+Metal(1本分)}は、図5の各項目より、1行分に対応する共通配線7xの横ライン抵抗(Metal:1本分)の抵抗値1558[Ω]と、1行分に対応する共通電極9の横ライン抵抗(ITO)の抵抗値14380[Ω]とに基づき、1405[Ω]と算出される。   In this regard, the total lateral line resistance {ITO + Metal (one line)} corresponding to one row according to the second embodiment is the lateral line resistance of the common wiring 7x corresponding to one row from each item of FIG. Based on the resistance value 1558 [Ω] of (Metal: one line) and the resistance value 14380 [Ω] of the horizontal line resistance (ITO) of the common electrode 9 corresponding to one row, it is calculated as 1405 [Ω]. The

かかる算出結果より、第2実施形態に係る液晶装置200において、シート抵抗0.4[Ω]の金属膜よりなる共通配線7を用いれば、2インチ表示パネル(横ドットピッチ:59[μm]×縦ドットピッチ:177[μm]、ドット数:528×220)において、1行分に対応する総合横ライン抵抗{ITO+Metal(1本分)}の抵抗値は、比較例に係る1行分に対応する共通電極9xの総合横ライン抵抗値の約1/10倍にすることができる。   From this calculation result, in the liquid crystal device 200 according to the second embodiment, if the common wiring 7 made of a metal film having a sheet resistance of 0.4 [Ω] is used, a 2-inch display panel (horizontal dot pitch: 59 [μm] × In the vertical dot pitch: 177 [μm], the number of dots: 528 × 220), the total horizontal line resistance {ITO + Metal (for one line)} corresponding to one row corresponds to one row according to the comparative example. The total horizontal line resistance value of the common electrode 9x can be about 1/10 times.

また、第2実施形態では、共通配線7xの第1の配線7aは、図6又は図7の領域A4に示すように、サブ画素領域SGに対応して設けられたTFD素子21と部分的且つ平面的に重なる位置に存在する共通電極9の端部9aと重なる位置に且つ直接的に接続される位置に配置されている。   In the second embodiment, the first wiring 7a of the common wiring 7x is partially and partially connected to the TFD element 21 provided corresponding to the sub-pixel region SG as shown in the region A4 of FIG. 6 or FIG. It is disposed at a position that overlaps with the end portion 9a of the common electrode 9 that exists at a position overlapping in a planar manner and at a position that is directly connected.

これにより、各行方向に配列された共通電極9の各々は、当該共通電極9の各々の端部9aの位置において、直線状の1つの共通配線7xの第1の配線7aと直接的に接続される。よって、各行方向に配列された共通電極9の各々と、各共通配線7xとの接続構造体の抵抗値を下げることができる。また、このように、各共通配線7xをサブ画素領域SG内における表示に寄与しないTFD素子21と部分的且つ平面的に重なる位置に存在する共通電極9の端部9aと重なる位置に配置することで、当該各共通配線7xを遮光層として機能させつつ、開口率の向上を図ることができる。   Thereby, each of the common electrodes 9 arranged in each row direction is directly connected to the first wiring 7a of the single linear common wiring 7x at the position of each end 9a of the common electrode 9. The Therefore, the resistance value of the connection structure between each of the common electrodes 9 arranged in each row direction and each common wiring 7x can be lowered. Further, in this way, each common wiring 7x is disposed at a position overlapping with the end portion 9a of the common electrode 9 existing at a position partially and planarly overlapping with the TFD element 21 that does not contribute to display in the sub-pixel region SG. Thus, the aperture ratio can be improved while the common wiring 7x functions as a light shielding layer.

[変形例]
上記の各種の実施形態では、共通配線7又は7xは、共通電極9上に積層するように形成したが、これとは逆に、本発明では、共通配線7又は7x上に共通電極9を積層するように形成しても構わない。
[Modification]
In the various embodiments described above, the common wiring 7 or 7x is formed so as to be stacked on the common electrode 9. On the contrary, in the present invention, the common electrode 9 is stacked on the common wiring 7 or 7x. You may form so that it may do.

また、本発明では、共通電極9の間隙9kはU字状の平面形状を有していることが好ましい。   In the present invention, the gap 9k of the common electrode 9 preferably has a U-shaped planar shape.

ここで、櫛歯部分9cの根元付近に位置する間隙9kの角部(破線領域A5の部分に相当)が直角状の形状に形成されている場合、その角部付近では、液晶分子の配向制御がし難くなり、液晶分子の配向異常による光り抜けが生じ易くなる。   Here, when the corner portion of the gap 9k (corresponding to the portion of the broken line area A5) located near the root of the comb-tooth portion 9c is formed in a right-angled shape, the alignment control of liquid crystal molecules is performed in the vicinity of the corner portion. It becomes difficult to cause light leakage due to abnormal alignment of liquid crystal molecules.

この点、この態様では、間隙9kはU字状の平面形状を有するので、櫛歯部分9cの根元付近の間隙9kの角部(破線領域A5の部分)は、図8(a)に示すように、湾曲状の形状となる。これにより、間隙9kの角部付近では、液晶分子の配向異常が起き難くなり、光り抜けが生じるのを抑制することができる。   In this respect, in this embodiment, since the gap 9k has a U-shaped planar shape, the corner of the gap 9k near the root of the comb tooth portion 9c (the portion of the broken line area A5) is as shown in FIG. Moreover, it becomes a curved shape. Thereby, in the vicinity of the corners of the gap 9k, it becomes difficult for the alignment abnormality of the liquid crystal molecules to occur, and the occurrence of light leakage can be suppressed.

または、本発明では、共通電極9は、図8(b)に示すように、矩形状の平面形状を有すると共に、画素電極3との間で電界Eを発生させるための複数のスリット9sを有し、各スリット9sは角丸四角状又は楕円状の平面形状を有していることが好ましい。   Alternatively, in the present invention, as shown in FIG. 8B, the common electrode 9 has a rectangular planar shape and a plurality of slits 9s for generating an electric field E between the pixel electrode 3 and the common electrode 9. Each slit 9s preferably has a rounded quadrangular or elliptical planar shape.

ここで、スリット9sの角部(破線領域A6及びA7の部分に相当)が直角状の形状に形成されている場合、その角部付近では、液晶分子の配向制御がし難くなり、液晶分子の配向異常による光り抜けが生じ易くなる。   Here, when the corners of the slit 9s (corresponding to the broken line regions A6 and A7) are formed in a right-angled shape, it is difficult to control the alignment of the liquid crystal molecules in the vicinity of the corners. Light leakage due to orientation abnormality is likely to occur.

この点、この態様では、スリット9sは角丸四角状又は楕円状の平面形状を有するので、スリット9sの角部(破線領域A6及びA7の部分)は、湾曲状の形状となる。これにより、スリット9sの角部付近では、液晶分子の配向異常が起き難くなり、光り抜けが生じるのを抑制することができる。   In this respect, in this aspect, the slit 9s has a rounded quadrangular or elliptical planar shape, so that the corners of the slit 9s (parts of the broken line areas A6 and A7) have a curved shape. Thereby, in the vicinity of the corner portion of the slit 9s, it is difficult for liquid crystal molecule alignment abnormality to occur, and it is possible to suppress the occurrence of light leakage.

また、上記の各種の実施形態では、透過型の液晶装置に本発明を適用することにしたが、これに限らず、反射型又は半透過反射型の液晶装置に本発明を適用しても構わない。   In the various embodiments described above, the present invention is applied to a transmissive liquid crystal device. However, the present invention is not limited to this, and the present invention may be applied to a reflective or transflective liquid crystal device. Absent.

その他、本発明では、その趣旨を逸脱しない範囲において種々の変形をすることができる。   In the present invention, various modifications can be made without departing from the spirit of the present invention.

[電子機器]
次に、本発明の液晶装置100又は200を適用可能な電子機器の具体例について図9を参照して説明する。
[Electronics]
Next, specific examples of electronic devices to which the liquid crystal device 100 or 200 of the present invention can be applied will be described with reference to FIG.

まず、本発明の液晶装置100又は200を、可搬型のパーソナルコンピュータ(いわゆるノート型パソコン)の表示部に適用した例について説明する。図9(a)は、このパーソナルコンピュータの構成を示す斜視図である。同図に示すように、パーソナルコンピュータ710は、キーボード711を備えた本体部712と、本発明の液晶装置100又は200をパネルとして適用した表示部713とを備えている。   First, an example in which the liquid crystal device 100 or 200 of the present invention is applied to a display unit of a portable personal computer (so-called notebook personal computer) will be described. FIG. 9A is a perspective view showing the configuration of this personal computer. As shown in the figure, the personal computer 710 includes a main body 712 having a keyboard 711 and a display 713 to which the liquid crystal device 100 or 200 of the present invention is applied as a panel.

続いて、本発明の液晶装置100又は200を、携帯電話機の表示部に適用した例について説明する。図9(b)は、この携帯電話機の構成を示す斜視図である。同図に示すように、携帯電話機720は、複数の操作ボタン721のほか、受話口722、送話口723とともに、本発明の液晶装置100等を適用した表示部724を備える。   Next, an example in which the liquid crystal device 100 or 200 of the present invention is applied to a display unit of a mobile phone will be described. FIG. 9B is a perspective view showing the configuration of this mobile phone. As shown in the figure, the mobile phone 720 includes a plurality of operation buttons 721, a receiving port 722, a transmitting port 723, and a display unit 724 to which the liquid crystal device 100 of the present invention is applied.

なお、本発明の実施形態に係る液晶装置100又は200を適用可能な電子機器としては、図9(a)に示したパーソナルコンピュータや図9(b)に示した携帯電話機の他にも、液晶テレビ、ビューファインダ型・モニタ直視型のビデオテープレコーダ、カーナビゲーション装置、ページャ、電子手帳、電卓、ワードプロセッサ、ワークステーション、テレビ電話、POS端末、ディジタルスチルカメラなどが挙げられる。   In addition, as an electronic device to which the liquid crystal device 100 or 200 according to the embodiment of the present invention can be applied, in addition to the personal computer shown in FIG. 9A and the mobile phone shown in FIG. TV, viewfinder type / monitor direct view type video tape recorder, car navigation device, pager, electronic notebook, calculator, word processor, workstation, videophone, POS terminal, digital still camera, etc.

本発明の第1実施形態に係る液晶装置の電極等を中心とした平面図。FIG. 2 is a plan view centering on electrodes and the like of the liquid crystal device according to the first embodiment of the present invention. 第1実施形態に係るアレイ基板の平面構成を示す平面図。FIG. 3 is a plan view showing a planar configuration of the array substrate according to the first embodiment. 第1実施形態に係る液晶装置のサブ画素領域の断面構成を示す断面図。FIG. 3 is a cross-sectional view illustrating a cross-sectional configuration of a sub-pixel region of the liquid crystal device according to the first embodiment. 比較例に係る液晶装置の電極等を中心とした平面図。The top view centering on the electrode etc. of the liquid crystal device which concerns on a comparative example. 比較例の共通電極の抵抗値と、本発明の実施例に係る共通電極と共通配線の接続構造体の抵抗値との関係等を示す図表。The table | surface which shows the relationship etc. of the resistance value of the common electrode of a comparative example, and the resistance value of the connection structure of the common electrode and common wiring which concern on the Example of this invention. 本発明の第2実施形態に係る液晶装置の電極等を中心とした平面図。The top view centering on the electrode etc. of the liquid crystal device which concerns on 2nd Embodiment of this invention. 第2実施形態に係るアレイ基板の平面構成を示す平面図。The top view which shows the plane structure of the array substrate which concerns on 2nd Embodiment. 本発明の各種変形例に係る共通電極の構成を示す平面図。The top view which shows the structure of the common electrode which concerns on the various modifications of this invention. 本発明の液晶装置を適用した電子機器の例を示す。Examples of electronic devices to which the liquid crystal device of the present invention is applied are shown.

符号の説明Explanation of symbols

3 画素電極、 7、7x 共通配線、 7a 第1の配線、 7b 第2の配線、 9 共通電極、 9a 端部、 9b 他の端部、 9c 櫛歯部分、 9k 間隙、 9s スリット、 15 液晶層、 21 TFD素子、 91、93 アレイ基板、 92 カラーフィルタ基板、 100、200 液晶装置   3 pixel electrode, 7 and 7x common wiring, 7a first wiring, 7b second wiring, 9 common electrode, 9a end, 9b other end, 9c comb tooth part, 9k gap, 9s slit, 15 liquid crystal layer , 21 TFD element, 91, 93 array substrate, 92 color filter substrate, 100, 200 liquid crystal device

Claims (8)

アレイ基板と対向基板との間に電気光学層を挟持してなり、
前記アレイ基板と前記対向基板との重なり合う領域には、複数行及び複数列に亘って配列されたサブ画素領域が設けられ、
前記アレイ基板は、複数の二端子型非線形素子と、前記二端子型非線形素子の各々に電気的に接続された複数の第1の電極と、前記第1の電極の各々との間で電界を発生させる複数の第2の電極と、を有すると共に、前記二端子型非線形素子、前記第1の電極及び前記第2の電極の各々は、前記アレイ基板において、前記サブ画素領域の各々に対応して設けられ、
前記第2の電極の各々は透明導電膜により形成されていると共に、各行方向に配列された前記第2の電極の各々は、前記アレイ基板に設けられた金属膜よりなる各共通配線に直接的に接続されていることを特徴とする電気光学装置。
An electro-optic layer is sandwiched between the array substrate and the counter substrate,
In the region where the array substrate and the counter substrate overlap, a sub-pixel region arranged in a plurality of rows and a plurality of columns is provided,
The array substrate generates an electric field between a plurality of two-terminal nonlinear elements, a plurality of first electrodes electrically connected to each of the two-terminal nonlinear elements, and each of the first electrodes. A plurality of second electrodes to be generated, and each of the two-terminal nonlinear element, the first electrode, and the second electrode corresponds to each of the sub-pixel regions in the array substrate. Provided,
Each of the second electrodes is formed of a transparent conductive film, and each of the second electrodes arranged in each row direction is directly connected to each common wiring made of a metal film provided on the array substrate. An electro-optical device connected to the electro-optical device.
前記各共通配線は、遮光性を有する金属膜により形成されていると共に、任意の前記サブ画素領域と、当該サブ画素領域に対して前記列方向に隣接する他の前記サブ画素領域との境界近傍に配置されていることを特徴とする請求項1に記載の電気光学装置。   Each of the common wirings is formed of a light-shielding metal film, and in the vicinity of a boundary between the arbitrary sub-pixel region and another sub-pixel region adjacent to the sub-pixel region in the column direction The electro-optical device according to claim 1, wherein the electro-optical device is disposed on the electro-optical device. 前記各共通配線は、前記行方向に延在する直線状の形状を有すると共に、前記任意の前記サブ画素領域に対応して設けられた前記二端子型非線形素子と部分的且つ平面的に重なる位置に存在する前記第2の電極の端部と重なる位置に且つ直接的に接続される位置に配置されていることを特徴とする請求項2に記載の電気光学装置。   Each of the common wirings has a linear shape extending in the row direction, and a position that partially and planarly overlaps the two-terminal nonlinear element provided corresponding to the arbitrary sub-pixel region 3. The electro-optical device according to claim 2, wherein the electro-optical device is disposed at a position that overlaps with an end of the second electrode that is present at a position directly connected to the second electrode. 前記各共通配線は、直線状の第1の配線と、前記第1の配線の延在方向と同一の方向に延在する直線状の第2の配線と、を有し、
前記第1の配線は、前記任意の前記サブ画素領域に対応して設けられた前記二端子型非線形素子と部分的且つ平面的に重なる位置に存在する前記第2の電極の端部と重なる位置に且つ直接的に接続される位置に配置されており、
前記第2の配線は、当該第2の電極の端部に対して反対側に位置すると共に、前記他の前記サブ画素領域に対応して設けられた他の前記二端子型非線形素子と部分的且つ平面的に重なる位置に存在する当該第2の電極の他の端部と重なる位置に且つ直接的に接続される位置に配置されていることを特徴とする請求項2に記載の電気光学装置。
Each of the common wirings includes a linear first wiring and a linear second wiring extending in the same direction as the extending direction of the first wiring.
The position where the first wiring overlaps with the end portion of the second electrode existing at a position partially and planarly overlapped with the two-terminal nonlinear element provided corresponding to the arbitrary sub-pixel region It is arranged at a position that is directly connected to
The second wiring is located on the opposite side to the end of the second electrode, and partially with the other two-terminal nonlinear element provided corresponding to the other sub-pixel region. 3. The electro-optical device according to claim 2, wherein the electro-optical device is disposed at a position that overlaps with and directly connects to the other end of the second electrode that exists in a position overlapping in a plane. .
前記第2の電極はITOにより形成されており、
前記各共通配線は、Cr、Ag及びAlのうちいずれかの金属膜又はこれらのいずれかを含む金属膜により形成されていることを特徴とする請求項1乃至4のいずれか一項に記載の電気光学装置。
The second electrode is made of ITO,
5. The common wiring according to claim 1, wherein each of the common wirings is formed of any one of Cr, Ag, and Al, or a metal film including any one of these. 5. Electro-optic device.
前記第2の電極は、複数の櫛歯部分を含む櫛歯形状を有し、
隣接する前記櫛歯部分の間には、前記第1の電極との間で前記電界を発生させるための間隙が形成されており、
前記間隙の各々はU字状の平面形状を有することを特徴とする請求項1に記載の電気光学装置。
The second electrode has a comb shape including a plurality of comb portions,
A gap for generating the electric field with the first electrode is formed between the adjacent comb tooth portions,
The electro-optical device according to claim 1, wherein each of the gaps has a U-shaped planar shape.
前記第2の電極は、矩形状の平面形状を有すると共に、前記第1の電極との間で前記電界を発生させるための複数のスリットを有し、
前記スリットの各々は、角丸四角状又は楕円状の平面形状を有することを特徴とする請求項1に記載の電気光学装置。
The second electrode has a rectangular planar shape and a plurality of slits for generating the electric field with the first electrode,
The electro-optical device according to claim 1, wherein each of the slits has a rounded quadrangular or elliptical planar shape.
請求項1乃至7のいずれか一項に記載の電気光学装置を表示部として備えることを特徴とする電子機器。   An electronic apparatus comprising the electro-optical device according to claim 1 as a display unit.
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