JP2008166348A - Substrate transfer apparatus - Google Patents
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Abstract
Description
本発明は、基板搬送装置に関する。例えば、半導体ウエハ、フラットパネルディスプレイ(以下、FPDと略称する)ガラス基板などの薄板状の基板を、移載して搬送する基板搬送装置に関する。 The present invention relates to a substrate transfer apparatus. For example, the present invention relates to a substrate transport apparatus that transfers and transports a thin plate-like substrate such as a semiconductor wafer or a flat panel display (hereinafter abbreviated as FPD) glass substrate.
従来、例えば、半導体や液晶ディスプレイなどの製造ラインにおいて、薄板状の基板を各種製造装置や検査装置に搬送する際に基板搬送装置が用いられている。
特に高い精度が要求される露光装置や検査装置などに基板を搬送する場合、クリーンルーム内のダウンフローや装置内のモータ等の駆動部からの基板の振動の影響を抑制し、基板の平面度(水平度)を高精度に保って搬送する必要がある。一方で、近年では、液晶ディスプレイを製造するマスターガラス基板のサイズが0.7mmの板厚に比して2000mmと著しく大型化しており、このような大型基板をたわみや振動なく水平に安定して搬送することが求められている。
また、このような大型基板は、面積が非常に大きく静電気がたまりやすくなるため、この静電気による基板の放電を防止するために基板を非接触で搬送することが望まれる。
そのため、多数の小孔からエアを吐出する浮上用プレート上に、基板を浮上させて平面度を保つとともに、基板の一部を保持して、基板を搬送面から浮上させた非接触状態で搬送する基板搬送装置が用いられている。
例えば、特許文献1には、このような基板搬送装置として、基板の搬送方向に沿って、待機搬入工程部分、基板冷却工程部分、および基板搬出部分が設けられ、待機搬入工程部分と基板搬出部分との間に所定のピッチに配置された噴出口からエアを噴出して、基板を浮上させて冷却する気流浮上冷却テーブルが設けられた冷却装置が記載されている。基板冷却工程部分の上流側と下流側に配置されるローラ搬送機構は、動力伝達機構によりローラ軸を駆動して基板を搬送するものとなっている。
When transporting a substrate to an exposure device or inspection device that requires particularly high accuracy, the substrate flatness (( It is necessary to carry the sheet with high accuracy. On the other hand, in recent years, the size of a master glass substrate for manufacturing a liquid crystal display has been remarkably increased to 2000 mm as compared with a thickness of 0.7 mm, and such a large substrate can be stabilized horizontally without bending or vibration. It is required to be transported.
In addition, since such a large substrate has a very large area and tends to accumulate static electricity, it is desired to transport the substrate in a non-contact manner in order to prevent the discharge of the substrate due to the static electricity.
Therefore, the substrate is floated on the floating plate that discharges air from a large number of small holes to maintain flatness, and a part of the substrate is held and transported in a non-contact state where the substrate is lifted from the transport surface. A substrate transfer device is used.
For example,
しかしながら、上記のような従来の基板搬送装置には以下のような問題があった。
特許文献1に記載の技術では、平面度や非接触保持が必要となる工程部分に気流浮上機構を用いるので、平面度や非接触保持の要件を満足することができるものの、ローラ搬送から浮上搬送へ切り替える部分で、搬送が不安定になりやすいという問題がある。
すなわち、上流側のローラ搬送機構ではローラが基板に接触して搬送するが、この基板が気流浮上テーブルに納入されると、浮上した基板と浮上搬送面との間の接触抵抗が小さいために、浮上した基板を固定することができない。そのため、ローラ搬送機構や気流浮上ステージに移行された瞬間に慣性モーメントにより基板が暴走するとともに、基板が回転してガードレールに接触し基板が損傷するおそれがある。
浮上搬送に移行した直後に、基板を拘束するストッパを設けることも考えられるが、基板の慣性があるため、ストッパに激突して基板が損傷するおそれがある。
また、製造ラインの構成によって、例えば除振台を備えた基板装置の場合には、除振台を備えていないローラ搬送部と浮上搬送部とを一体に形成することができない。この場合には、除振台により浮上搬送高さが変動するため、ローラ搬送部の搬送高さと浮上搬送の搬送高さを厳密に一致させることができないため、ローラ搬送から浮上搬送に円滑に移動できないという問題もある。
However, the conventional substrate transfer apparatus as described above has the following problems.
In the technique described in
That is, in the roller transport mechanism on the upstream side, the roller contacts and conveys the substrate, but when this substrate is delivered to the airflow levitation table, the contact resistance between the floating substrate and the levitation conveyance surface is small, The floating substrate cannot be fixed. For this reason, the substrate may run away due to the moment of inertia at the moment of transition to the roller transport mechanism or the airflow levitation stage, and the substrate may rotate and contact the guard rail, causing damage to the substrate.
Although it is conceivable to provide a stopper for restraining the substrate immediately after the transfer to the levitation conveyance, there is a possibility that the substrate may collide with the stopper and be damaged due to the inertia of the substrate.
Also, depending on the configuration of the production line, for example, in the case of a substrate apparatus provided with a vibration isolation table, the roller conveyance unit and the floating conveyance unit that do not include the vibration isolation table cannot be formed integrally. In this case, since the height of the floating conveyance varies depending on the vibration isolation table, the conveyance height of the roller conveyance section and the conveyance height of the floating conveyance cannot be exactly matched. There is also a problem that it cannot be done.
本発明は、上記のような問題に鑑みてなされたものであり、浮上搬送と異なる搬送機構から浮上搬送に円滑かつ確実に移行することができる基板搬送装置を提供することを目的とする。 The present invention has been made in view of the above-described problems, and an object of the present invention is to provide a substrate transfer apparatus that can smoothly and surely shift from a transfer mechanism different from floating transfer to floating transfer.
上記の課題を解決するために、本発明の基板搬送装置は、板状の被搬送体を浮上させる浮上機構と、前記被搬送体を保持して浮上搬送路上を移動せしめる保持搬送機構とを有する基板搬送装置であって、前記浮上搬送路の一端側で、前記浮上機構の浮上面に対してローラを設け、上昇時に前記被搬送体を搬送方向に移動可能に支持し、下降時に前記浮上機構の浮上面の下方に退避するローラ搬送機構を備えることを特徴とする。 In order to solve the above-described problems, a substrate transport apparatus according to the present invention includes a levitation mechanism that floats a plate-shaped transported body, and a holding transport mechanism that holds the transported body and moves it on the levitation transport path. A substrate transport apparatus, wherein a roller is provided on one end side of the levitation transport path with respect to a floating surface of the levitation mechanism, and supports the transported body so as to be movable in the transport direction when ascending, and the levitation mechanism when descending A roller transport mechanism that retracts below the air bearing surface is provided.
本発明の基板搬送装置によれば、搬送路の一端側に保持搬送機構の保持面に対して昇降可能に設けられた中間搬送機構を備え、中間搬送機構によって保持搬送機構の保持面の上方に被搬送体を移動し、移動停止してから保持搬送機構に保持し、浮上機構の浮上面まで下降させることができるので、浮上搬送と異なる搬送機構から浮上搬送に円滑かつ確実に移行することができるという効果を奏する。 According to the substrate transfer apparatus of the present invention, the intermediate transfer mechanism is provided on one end side of the transfer path so as to be movable up and down with respect to the holding surface of the holding transfer mechanism, and above the holding surface of the holding transfer mechanism by the intermediate transfer mechanism. Since the transferred object can be moved, stopped moving, held by the holding and conveying mechanism, and lowered to the floating surface of the levitation mechanism, the transfer mechanism different from the levitation conveyance can be smoothly and reliably transferred to the levitation conveyance. There is an effect that can be done.
以下では、本発明の実施の形態について添付図面を参照して説明する。すべての図面において、実施形態が異なる場合であっても、同一または相当する部材には同一の符号を付し、共通する説明は省略する。 Hereinafter, embodiments of the present invention will be described with reference to the accompanying drawings. In all the drawings, even if the embodiments are different, the same or corresponding members are denoted by the same reference numerals, and common description is omitted.
本発明の実施形態に係る基板搬送装置について説明する。
図1(a)、(b)は、本発明の実施形態に係る基板搬送装置の概略構成を示す平面図および正面図である。図2(a)、(b)は、本発明の実施形態に係る基板搬送装置の中間搬送機構の上昇時、下降時の図1のA−A断面図である。
A substrate transfer apparatus according to an embodiment of the present invention will be described.
1A and 1B are a plan view and a front view showing a schematic configuration of a substrate transfer apparatus according to an embodiment of the present invention. 2A and 2B are cross-sectional views taken along line AA of FIG. 1 when the intermediate transfer mechanism of the substrate transfer apparatus according to the embodiment of the present invention is raised and lowered.
本実施形態の浮上式基板搬送装置3は、例えば、半導体ウエハやFPDガラス基板などからなる薄板状の基板1として、製造ラインに設置されるフォトリソ工程で製造されたマスターガラス基板を検査する検査装置の搬送ステージとして用いられる。図1(a)、(b)に示すように、この基板搬送装置は、少なくとも搬送路の一方の端部に位置する基板入出部3Aと、基板入出部3Aと搬送方向に隣接する浮上搬送部3Bとを備える。
なお、基板1の形状は、例えば、円板状など適宜の形状を採用することができるが、本実施の形態では、液晶ディスプレイを多面取り製造するマスターガラス基板の例で説明する。
The floating
In addition, although the shape of the board |
基板入出部3Aは、他の搬送装置から供給される基板1を本発明の装置本体に搬入または搬出する部分である。以下、本実施形態では、他の装置として、基板1を水平方向に支持し、搬送面の高さがH1で、図1(a)の左から右に向けてローラ搬送するローラ搬送装置2を採用し、基板搬送装置3でも同方向を搬送方向とする場合の例で説明する。
そのため、基板入出部3Aは、搬入部となっているが、各動作を逆転すれば、同様の構成で搬送方向を逆方向に設定し、基板1を搬出する搬出部として用いることができる。
なお、高さH1は、例えば、装置本体の設置面など下方に設定された適宜の基準面から上方に向けて計る高さとする。以下、断りなき高さは、高さH1と同一の基準面から計るものとする。
The substrate loading /
For this reason, the substrate loading /
The height H 1 is, for example, a height measuring upward from a suitable reference surface set downward such installation surface of the apparatus main body. Hereinafter, otherwise the height otherwise shall measure from the height H 1 identical to the reference plane.
基板搬送装置3には、基板入出部3A、および浮上搬送部3Bに共通する機構として、基板1の少なくとも搬送方向と平行な一辺を保持して浮上した基板1を強制的に搬送する基板保持搬送機構が設けられている。この基板保持搬送機構として、ベース部4上に基板搬送方向に沿って延設された一対のガイドレール5と、リニアモータなどの駆動手段によってガイドレール5に沿って移動するスライド部6とスライド部6上に昇降可能に設けられた矩形箱状の支持部7aと、この支持部7aの上面に複数配列された基板固定部7bとが設けられている。
基板固定部7bとしては、真空吸引および負圧開放可能な手段が備えられ、真空吸着することにより基板1の裏面を吸着し、負圧開放に切り換えることにより基板1に対する吸着を解除する真空吸着機構などを採用することができる。
各支持部7aは、基板1の搬送方向に対する左右両辺を吸着保持して搬送することができる基板1の搬送方向幅と同等とされる。2つの支持部7a、7aは、搬送方向と直交する方向に対向するとともに、それぞれに跨って搬送姿勢の基板1を配置したときに、搬送方向と直交する方向の基板1の幅のやや内側に位置するように離間して配置される。そして、2つのスライド部6は、各支持部7a、7a上の基板固定部7bにより、基板1の2辺を吸着保持した状態で2つのスライド部6、6を同期して移動することにより、浮上した基板を搬送方向に移動できるようになっている。
基板固定部7bの上面の高さは、基板1を吸着保持したときに基板1の浮上高さH2(ただし、H2<H1)に設定される。
また支持部7aは、基板入出部3Aに基板1が搬入、搬出される際に基板固定部7bが基板1の裏面に接触しないように下降して待機し、基板1を搬送する際に基板固定部7bが基板1の裏面に接する位置まで上昇する。
The
The
Each
The height of the upper surface of the
Further, the
基板入出部3Aは、この他に、浮上用プレート8A(浮上機構)、ローラ搬送機構9、基準ピン10、12および押付けピン11とからなるアライメント機構とを備える。
浮上用プレート8Aは、基板1を浮上高さH2に非接触保持するための浮上機構である。本実施形態では、浮上用プレート8Aを浮上高さH2より基板1の浮上量(例えば0,2mm)だけ低い高さH3に設置された平滑な基盤面(搬送路面)上に、上方にエアを吐出する多数のエア吹出孔8aを設けた長方形状のエア浮上ブロックに形成し、このエア浮上ブロックを搬送方向と直交する方向に隙間8bをもってスノコ状に4個配置している。
ここで、エア吹出孔8aからのエアの吐出圧は、基板固定部7bに両端支持された基板1と浮上用プレート8Aの基盤面との間の隙間寸法(基板浮上量)を(H2−H3)に保つように調整されている。そのため、基板1が基板固定部7bに載置されたとき、基板1の平面度が最も良好に保持されるようになっている。
In addition to this, the substrate entrance /
Floating
Here, the discharge pressure of the air from the air blowing
ローラ搬送機構9は、ローラ外周面の上側の頂部が基板1に下面側から接触し、そのローラ9aの回転力を基板1に伝達することで、基板1を搬送するためのものである。各ローラ9aの平面視の回転方向が、搬送方向に一致するように、搬送方向に沿う直線上に搬送方向に適宜間隔をあけて複数配置されている。それぞれのローラ9aの回転軸は、ローラ保持部16によって回転可能に保持されている。本実施形態では、ローラ搬送機構9を浮上用プレート8Aの全領域をカバーするように配置したが、他の搬送装置2との接続側の一端に少なくとも一列に配置することも可能である。
そして、このようなローラ9aが、各浮上用プレート8A間の隙間8bにそれぞれ設置されている。
各ローラ搬送機構9は、図2(a)、(b)に示すように、伝達機構14と接続されており、モータなどからなる駆動部13によって駆動力が伝達され、適宜の制御信号に応じてそれぞれ同期して、回転または停止させることができるようになっている。
伝達機構14は、駆動部13からの駆動力が伝達できれば、どのような構成を用いてもよい。例えば、ベルト、チェーン、ギヤ、磁性体による吸引機構などの機構を採用することができる。
また、各ローラ保持部16および伝達機構14は、昇降機構15によってそれぞれ昇降可能に支持されている。そのため、各ローラ9aは、浮上用プレート8A間の隙間8bから搬送路上に進退できるものである。すなわち、隙間8bは、ローラ9aが昇降する昇降口をなしている。
各ローラ9aの上側の頂部の昇降範囲は、ローラ搬送装置2の基板1の搬送高さH1から浮上用プレート8Aの基盤面の高さH3より若干低い待機高さH4(ただし、H4<H3)に設定される。
なお、図示では、昇降機構15が、各ローラ保持部16、伝達機構14を一体に支持するように描いているが、伝達機構14が各ローラ保持部16に設けられ、それに応じて、昇降機構15も、昇降高さ、タイミングが同期された複数の機構で構成するようにしてもよい。
The
And such a
As shown in FIGS. 2A and 2B, each
The
Further, each
The up-and-down range of the upper top of each
In the drawing, the elevating
基準ピン10、12及び押付けピン11は、基板入出部3Aに搬送された基板1を各浮上用プレート8A上に浮上させた状態で基準位置に位置合わせするアライメント機構である。基準ピン10は、基板1の搬送方向に向かって右側の一辺を位置決めする位置、高さに立設された2本の円筒ピン状部材からなる。基準ピン12は、基板入出部3Aに搬送された基板1の先端を基準位置に規制する位置決め部材であり、基板入出部3Aと浮上搬送部3Bとの境界部分に上下方向に進退可能に設けられている。
押付けピン11は、浮上した基板1の端部を各基準ピン11に向けて押圧して、基板1を位置調整するためのもので、搬送方向に向かって左側一辺に、例えば、円筒ピン状のガイド部が先端に設けられ、バネなど緩衝用の弾性部材を介して、搬送方向に直交する方向に移動する機構に接続されたものなどを採用することができる。
また、搬送方向に向かって右側の基板固定部7bの近傍と、基板入出部3Aと浮上搬送部3Bの境界には、搬送された基板1の端部の位置検出を行う位置検出センサ17がそれぞれ配置されている。位置検出センサ17は、基板1の端部の位置検出を行うことができれば、特に限定されない、例えば、反射型または透過型の光学センサや接触式の機械的センサなどを用いることができる。
The reference pins 10 and 12 and the
The
In addition, a
浮上搬送部3Bは、基板入出部3Aに移載された基板1を下流側に配置された検査領域に浮上搬送するためのものである。浮上搬送部3Bに、基板1の観察を行う検査ヘッドとこの検査ヘッドを搬送方向と直交する方向に移動可能に支持する門柱型アームを浮上搬送部3Bを跨いでベース部4に固定することで基板検査装置に構成することができる。また、検査領域となる浮上搬送部3Bの上流側と下流側に基板入出部3Aと同様のローラ搬送機構を設けて、基板1を上流側から下流側に向けて搬送するインラインの基板製造工程に配置させてもよい。
The
浮上搬送部3Bは、浮上用プレート8Bを備える。
浮上用プレート8Bは、浮上用プレート8Aを同様の構成を有し、各浮上用プレート8Aの端部に隣接して、それらと同高さに配置され、同様の搬送方向に向けて延設されたエアー浮上ブロックである。
各浮上用プレート8Bは、浮上用プレート8Aの場合とは異なり、それぞれの間にローラ9aを備える必要がないので、一体であってもよいが、本実施形態では、浮上用プレート8Aの隙間8aよりも狭い隙間8cを形成するスノコ状に配列されている。
この場合、浮上プレート8Bの隙間8cは、各エア吸出孔8a吐出されたエアーを排気させる程度の隙間であればよい。浮上搬送部3Bは、基板1を高精度で検査するために、基板1の浮上高さを精密に制御することが要求される。このため、浮上搬送部3Bには、エア吸出孔8aの他にエアーを吸引するエア吸引孔を設けた精密浮上ブロックを採用することが好ましい。
The
The
Unlike the case of the
In this case, the gap 8c of the floating
次に、基板搬送装置3の動作について説明する。
基板1は、ローラ搬送装置2の各ローラ2aによって、図1(a)の図示左側から基板検査装置側の基板入出部3Aに向けて基板1Aのように搬送される。このローラ搬送装置2では、多数のローラ2aが基板1の裏面に接触しそれらが同方向に回転することにより行われるので、ローラ2aに対する摩擦力により搬送方向に直交する方向の位置が規制されている。そのため、基板1は、基板入出部3Aに向かって高さH1で搬送される。
Next, the operation of the
The
一方、基板入出部3Aでは、昇降機構15を上昇させ、ローラ搬送機構9のローラ9aをローラ搬送装置2のローラ2aと同じ高さH1に設定する(図2(a)参照)とともに、駆動部13の回転速度を調整して、ローラ搬送装置2と搬送速度が同一となるようにローラ9aの回転速度を設定しておく。
基板1が基板入出部3Aに到達すると、先端側から同一高さに位置するローラ9a上に移動し、ローラ9a、2aの両方から搬送力を受けて直進する。
このとき、スライド部6は、ガイドレール5に沿って基板入出部3Aに移動して待機する。また、支持部7aは、基板固定部7bの保持面が浮上用プレート8Aの基盤面の高さH3よりも低い位置になるように下降し、基板固定部7bを基板1と非接触の状態にさせる。
また、ローラ9aの高さH1が基板1の浮上高さH2よりも高い位置に設定されるため、エア吹出孔8aから吐出されるエアは、基板1を浮上させるまでの圧力に達しない。そのため、基板1は、ローラ9aからさらに上方に浮き上がることがなく、ローラ9aとの接触状態が維持される。
これらの結果、基板1は、ローラ2aからローラ9a上に円滑に移行される。そして、ローラ9a上では、ローラ2aと同様に接触部での摩擦力が働き、搬送方向に直交する方向の移動が規制される状態にある。そのため搬送方向に直交する方向に向かってぶれたり、振動したりすることもない。
On the other hand, the substrate entrance and exit
When the
At this time, the
Further, since the height H 1 of the
As a result, the
このようにして、基板1は、ローラ2a、9aの回転につれて、基板入出部3A上に移載される(図1(b)参照)。
基板1が、図1(a)の基板1Bに示す位置に到達し、浮上搬送部3Bとの境界部に設けられた位置検出センサ17が基板1の先端の到達を検知すると、駆動部13は停止され、各ローラ9aの回転が停止する。このとき、基板1が境界部の位置検出センサ17より先に移動して停止した場合、駆動部13を逆転させて基板1をアライメント領域内に入るように戻す。
そして、昇降機構15を作動させ、各ローラ9aの頂部位置が浮上用プレート8Aの基盤面の高さH3よりも低くなる高さH4となる位置まで下方に退避させる(図2(b)参照)。
このとき、基板1も同様に下降していくが、エア吹出孔8aから吐出されるエアにより浮上高さH2に浮上保持される。
その際、基板1は水平方向に拘束されていないが、すでに基板1の搬送が停止されているので、基板1は、ローラ9aから離間しても水平方向には慣性により静止状態にあり水平方向には動き出すおそれがない。
In this way, the
When the
Then, by operating the elevating
In this case, the
At that time, the
基板1が浮上した状態で、押付けピン11、11を動作させ、基板1を基準ピン10、10に押し付けて基準位置に位置合わせを行う。このとき、基板1が搬送方向に移動しないように、基準ピン12を搬送路上に進出させておく。
このように、基準ピン10、12、押付けピン11は、本実施形態の位置決め機構(アライメント領域)を構成している。
In a state where the
As described above, the reference pins 10 and 12 and the
基板1の位置決めが終了すると、支持部7aを上昇させ各基板固定部7bにより基板1を吸着固定する。基板1が基板保持搬送機構に吸着保持されたことを確認した後、各押付けピン11を基板1から離間し、基準ピン12を下降させて基板1の水平方向の拘束を解除する。
そして、各スライド部6を搬送方向に駆動して基板1を搬送する。このとき、基板1は、浮上用プレート8Aの基盤面に対して非接触とされ、スライド部6はガイドレール5上を移動するので、エア吹出孔8aからのエアの吐出圧により浮上高さH2上で良好な平面度を保って搬送される。
基板1が、浮上搬送部3Bに到達すると、浮上用プレート8Bからもエアの吐出を受け、浮上用プレート8Aと同様な浮上状態を保って搬送されつづける。そして、基板保持搬送機構は、浮上搬送部3B上に浮上した基板1を所定位置まで搬送させ、検査ヘッドにより基板1を検査する。
When the positioning of the
And each board |
When the
このように、本実施形態の基板搬送装置3によれば、基板1を浮上搬送する浮上プレート8Aにローラ搬送機構を昇降可能に設けてローラ9aを浮上搬送面に出没させることにより、基板1の搬入時に浮上プレート8Aよりローラ9aを突出させて基板1を浮上プレート8A上に引き込むことが可能になり、他のローラ搬送装置2から搬入される基板1が暴走することなく、浮上搬送に円滑かつ確実に移行することができる。
また、各ローラ9a上に基板1を移行させた状態で、各ローラ9aを下降させることにより、基板1を浮上プレート8A上に対して非接触に載置して、位置決めすることができるので、高精度な位置決めが容易となる。
As described above, according to the
In addition, by lowering each
なお、上記の説明では、浮上機構として、スノコ状に配置された浮上用プレート8A、8Bを用いる例で説明したが、これらの形状は適宜変形することができる。
例えば、浮上機構は、基板入出部3A、浮上搬送部3Bにわたって、共通の機構としてもよい。
また、隙間8b、8cは、各ローラ9が浮上機構の基盤面上に進退できればどのような形状でもよい。例えば、図3に示すように、浮上用プレート8A(8B)上に、複数のローラ昇降孔8d(昇降口)を設け、各ローラ昇降孔8dからローラ9aが進退する構成としてもよい。この場合、ローラ9aの間の搬送方向にも浮上機構を配置することができるので、より安定した浮上搬送を行うことができる。
また、浮上機構を基板入出部3A、浮上搬送部3Bにわたって一体の機構として構成してもよい。
また、搬送方向に離間した複数の浮上機構を採用することもできる。この場合、浮上力をより安定させるためには、搬送方向に離間させる間隔を基板1の搬送方向幅に比して狭い間隔としたり、複数の浮上機構を平面視千鳥状などに配置して搬送方向に沿っていずれかの浮上機構が並列配置される構成をとったりすることで、搬送方向にわたって平均的な浮上力を安定させることが好ましい。
また、これらのすべての浮上機構において、ローラ搬送機構9の回りに隙間が設けられ、エアを逃す流路が形成されることが好ましい。その場合、安定したエア流路を形成することができ、基板1の保持面高さを安定させることができるという利点がある。
In the above description, the example of using the
For example, the levitation mechanism may be a common mechanism over the substrate entrance /
The
Further, the levitation mechanism may be configured as an integrated mechanism over the substrate entrance /
A plurality of floating mechanisms separated in the transport direction can also be employed. In this case, in order to further stabilize the levitation force, the interval in the conveyance direction is made narrower than the width of the
Moreover, in all these floating mechanisms, it is preferable that a clearance is provided around the
また、上記の説明では、浮上機構として、エアを吐出するエア浮上機構の例で説明したが、例えば、窒素や不活性ガスなど他のガスを吐出するガス浮上機構を用いてもよい。
また、浮上機構は、このようなガス浮上機構に限定されるものではなく、例えば、静電浮上機構、超音波浮上機構などの、他の方式による浮上機構でもよい。
In the above description, the example of the air levitation mechanism that discharges air has been described as the levitation mechanism. However, for example, a gas levitation mechanism that discharges another gas such as nitrogen or an inert gas may be used.
Further, the levitation mechanism is not limited to such a gas levitation mechanism, and may be a levitation mechanism according to another method such as an electrostatic levitation mechanism or an ultrasonic levitation mechanism.
上記の説明では、一定方向に搬送するローラ搬送機構を用いる場合の例で説明したが、搬送方向も可変したり、2軸方向に搬送したりすることができる。例えば、回転方向を自在に可変できる球状のコロを用いた機構などを採用してもよい。 In the above description, an example in which a roller transport mechanism that transports in a fixed direction is used has been described. However, the transport direction can also be changed or transported in a biaxial direction. For example, a mechanism using a spherical roller whose rotation direction can be freely changed may be employed.
また、上記の説明では、浮上機構に移載してから位置合わせ機構により位置合わせを行う場合の例で説明したが、搬送路の他の場所に位置合わせ装置、整列装置などが設けられている場合には、位置合わせ機構を省略した構成としてもよい。 Further, in the above description, the example in which the alignment is performed by the alignment mechanism after being transferred to the floating mechanism has been described. However, an alignment device, an alignment device, and the like are provided in another place on the conveyance path. In some cases, the alignment mechanism may be omitted.
また、上記の説明では、保持搬送機構が、被搬送体の搬送方向に向かって両端側で保持する場合の例で説明したが、被搬送体の搬送を行うことができれば、片側のみを保持したり、他の位置、例えば中心部などで保持したりしてもよい。 In the above description, the holding and transport mechanism is described as an example in which the holding body is held at both ends in the transport direction of the transported body. However, if the transported body can be transported, only one side is held. Or may be held at another position, for example, at the center.
また、上記の説明では、搬送方向が水平の場合の例で説明したが、搬送方向は、水平方向には限定されない。 In the above description, an example in which the conveyance direction is horizontal has been described. However, the conveyance direction is not limited to the horizontal direction.
1、1A、1B 基板(被搬送体)
3 基板搬送装置
3A 基板入出部
3B 浮上搬送部
5 案内
6 スライド部
7 基板固定部
8A、8B 浮上用プレート(浮上機構)
8a エア吹出孔
8b 隙間(昇降口)
8c 隙間
8d ローラ昇降孔(昇降口)
9 ローラ(中間搬送機構)
10、12 基準ピン(位置合わせ機構)
11 押付けピン(位置合わせ機構)
15 昇降機構
17 位置検出センサ
1, 1A, 1B substrate (conveyed body)
3
8a
9 Roller (intermediate transport mechanism)
10, 12 Reference pin (positioning mechanism)
11 Pressing pin (positioning mechanism)
15
Claims (2)
前記浮上搬送路の一端側で、前記浮上機構の浮上面に対してローラを設け、上昇時に前記被搬送体を搬送方向に移動可能に支持し、下降時に前記浮上機構の浮上面の下方に退避するローラ搬送機構を備えることを特徴とする基盤搬送装置。 A substrate transport apparatus having a floating mechanism for levitating a plate-shaped transported body and a holding transport mechanism for holding the transported body and moving it on a floating transport path,
At one end of the levitation conveyance path, a roller is provided on the air bearing surface of the levitation mechanism to support the object to be conveyed so as to move in the conveyance direction when ascending, and retract below the air bearing surface of the levitation mechanism when descending. A substrate transport device comprising a roller transport mechanism for performing the above operation.
前記ローラ搬送機構が、前記基盤面に設けられた昇降口を通してローラを昇降することを特徴とする請求項1に記載の基盤搬送装置。 The levitation mechanism comprises a gas levitation mechanism for discharging gas,
The substrate conveyance device according to claim 1, wherein the roller conveyance mechanism raises and lowers the roller through an elevating port provided on the substrate surface.
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