JP2008081406A - ベンゾイルピラゾール系化合物及びそれらを含有する除草剤 - Google Patents
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Abstract
Description
本発明は、除草剤の有効成分として有用な新規ベンゾイルピラゾール系化合物に関する。
特許文献1〜2には、各々ベンゾイルピラゾール系化合物が開示されている。しかしながら、それらは下記式(I)で表されるベンゾイルピラゾール系化合物とは化学構造が異なる。
従来から、雑草を防除する作業の省力化や農園芸用作物の生産性向上を図る為、雑草に対して優れた除草性能を有し、且つ栽培作物に対する安全性を有する除草剤が所望されている。しかし、そのような目的に適した新規化合物の探索は試行錯誤に頼っている。
本願発明者等は、より優れた除草剤を見出すべくベンゾイルピラゾール系化合物につき、種々検討した結果、本発明を完成した。即ち本発明は、式(I);
[式中、R1はアルキル又はシクロアルキルであり、R2は水素原子又はアルキルであり、R3−a及びR3−bはそれぞれ独立にアルキル;ハロアルキル;アルコキシアルキル;シクロアルキル;アルケニル;ハロアルケニル;アルキニル;又はR8で置換されてもよいアリールアルキルであるか、R3−a及びR3−bは互いに結合して-R9-となり環構造を形成してもよく、R4はアルキル、ハロアルキル、アルコキシ、ハロゲン、ニトロ、シアノ、アルキルチオ、アルキルスルフィニル又はアルキルスルホニルであり、R5はアルキル;ハロアルキル;アルコキシアルキル;ハロアルコキシアルキル;アルコキシ;ハロアルコキシ;アルコキシアルコキシ;ハロアルコキシアルコキシ;シクロアルキルオキシ;ヘテロシクリルオキシ;ヘテロシクリルアルコキシ;ヘテロシクリルアルコキシアルキル;-OC(O)SR7;-OC(O)OR7;-C(O)OR7;-C(O)SR7;又はR10で置換されてもよい4,5-ジヒドロイソキサゾール-3-イルであり、R6はハロアルキル、ハロゲン、ニトロ、シアノ、アルキルチオ、アルキルスルフィニル又はアルキルスルホニルであり、R5及びR6は互いに結合して-R11-となり環構造を形成してもよく、R7はハロゲン、アルキル又はアルコキシであり、R8はハロゲン、アルキル又はアルコキシであり、-R9-は窒素原子、酸素原子又は硫黄原子から任意に選ばれる1又は2以上の原子を含んでもよいアルキレン鎖であり、R10はハロゲン、アルキル又はアルコキシであり、-R11-は、R6が結合していた部位との結合が酸素原子、硫黄原子、-SO-又は-SO2-から任意に選ばれる原子又は官能基によって架橋されているアルキレン鎖であり、-R11-はハロゲン、アルキル又はアルコキシで置換されてもよい]で表されるベンゾイルピラゾール系化合物又はその塩、それらの製造方法、それらを有効成分として含有する除草剤、それらの除草有効量を、望ましくない植物又はそれが生育する場所に施用し、望ましくない植物を防除又はその生育を抑制する方法に関する。
式(I)で表される化合物は、優れた除草効果を発揮する。
式(I)で表される化合物において、アルキル又はアルキル部分は、直鎖又は分枝状のいずれでもよく、その具体例としては、メチル、エチル、n-プロピル、iso-プロピル、n-ブチル、iso-ブチル、sec-ブチル、tert-ブチル、n-ペンチル、n-ヘキシルのようなC1−6のものが挙げられる。
シクロアルキル又はシクロアルキル部分としては、例えば、シクロプロピル、シクロブチル、シクロペンチル、シクロヘキシルのようなC3−6のものが挙げられる。
アルケニル又はアルケニル部分は、直鎖又は分枝状のいずれでもよく、その具体例としては、ビニル、1-プロペニル、2-プロペニル、アリル、1-ブテニル、2-ブテニル、3-ブテニル、1,3-ブタジエニルのようなC2−6のものが挙げられる。
シクロアルキル又はシクロアルキル部分としては、例えば、シクロプロピル、シクロブチル、シクロペンチル、シクロヘキシルのようなC3−6のものが挙げられる。
アルケニル又はアルケニル部分は、直鎖又は分枝状のいずれでもよく、その具体例としては、ビニル、1-プロペニル、2-プロペニル、アリル、1-ブテニル、2-ブテニル、3-ブテニル、1,3-ブタジエニルのようなC2−6のものが挙げられる。
アルキニルは、直鎖又は分枝状のいずれでもよく、その具体例としては、プロパルギル、1-プロピニルのようなC2−6のものが挙げられる。
ハロゲンとしては、フッ素、塩素、臭素又はヨウ素の各原子が挙げられる。
アリール部分としては、フェニル、ナフチルなどが挙げられる。アリール部分の置換数は、1又は2以上であってよく、2以上の場合、それらは同一でも相異なってもよい。又、アリール部分の置換位置はいずれの位置でもよい。
ハロゲンとしては、フッ素、塩素、臭素又はヨウ素の各原子が挙げられる。
アリール部分としては、フェニル、ナフチルなどが挙げられる。アリール部分の置換数は、1又は2以上であってよく、2以上の場合、それらは同一でも相異なってもよい。又、アリール部分の置換位置はいずれの位置でもよい。
ヘテロシクリル部分としては、例えば、窒素原子、酸素原子又は硫黄原子から任意に選ばれる1種又は2種以上のヘテロ原子を1〜4個含む5員環又は6員環のものであって、飽和のものでも不飽和のものでもよい。それらの具体例としては、オキソラン、1,3-ジオキソランなどが挙げられる。また、ヘテロシクリル部分の置換数は、1又は2以上であってよく、2以上の場合、それらは同一でも相異なってもよい。ヘテロシクリル部分の置換位置はいずれの位置でもよい。
R9に含まれる窒素原子、酸素原子又は硫黄原子から任意に選ばれる1又は2以上の原子を含むアルキレン鎖とは、アルキレン鎖中の1又は2以上の炭素部分が、窒素原子、酸素原子又は硫黄原子から任意に選ばれる1又は2以上の原子で置き換えられたものである。
ハロアルキル、ハロアルケニルなどのハロゲンの置換数は、1又は2以上であってよく、2以上の場合、それらは同一でも相異なってもよい。又、ハロゲンの置換位置はいずれの位置でもよい。
ハロアルキル、ハロアルケニルなどのハロゲンの置換数は、1又は2以上であってよく、2以上の場合、それらは同一でも相異なってもよい。又、ハロゲンの置換位置はいずれの位置でもよい。
アルコキシアルキル、ハロアルコキシアルキルなどのアルコキシ部分の置換数は、1又は2以上であってよく、2以上の場合、それらは同一でも相異なってもよい。又、アルコキシ部分の置換位置はいずれの位置でもよい。
R8又はR10の置換数は各々1又は2以上であってよく、2以上の場合、それらは同一でも相異なってもよい。又、各置換基の置換位置はいずれの位置でもよい。
R11の置換基としてのハロゲン、アルキル又はアルコキシの置換数は1又は2以上であってよく、2以上の場合、それらは同一でも相異なってもよい。又、各置換基の置換位置はいずれの位置でもよい。
R11の置換基としてのハロゲン、アルキル又はアルコキシの置換数は1又は2以上であってよく、2以上の場合、それらは同一でも相異なってもよい。又、各置換基の置換位置はいずれの位置でもよい。
アルコキシアルコキシは、アルコキシ基に対して同一又は異なるアルコキシ部分が結合していることを意味する。アルコキシ基を置換するアルコキシ部分の置換位置はいずれの位置でもよい。このことはハロアルコキシアルコキシなどについても同様である。
上記式(I)で表されるベンゾイルピラゾール系化合物の塩としては、農業上許容されるものであればあらゆるものが含まれるが、例えば、ナトリウム塩、カリウム塩のようなアルカリ金属塩;マグネシウム塩、カルシウム塩のようなアルカリ土類金属塩;ジメチルアミン塩、トリエチルアミン塩のようなアンモニウム塩;塩酸塩、過塩素酸塩、硫酸塩、硝酸塩のような無機酸塩;酢酸塩、メタンスルホン酸塩のような有機酸塩などが挙げられる。
上記式(I)で表されるベンゾイルピラゾール系化合物又はその塩(以下、本発明化合物と略す)は、以下の反応[A]から[P]及び通常の塩の製造方法に従って製造することができる。
上記式(I)で表される本発明化合物は、下記反応[A]に従って製造することができる。
上記式(I)で表される本発明化合物は、下記反応[A]に従って製造することができる。
(式中、R1、R2、R3−a、R3−b、R4、R5及びR6は前述の通りであり、Zはハロゲンなどの脱離基である。)
即ち、上記式(I)で表される本発明化合物は、式(II)で表される化合物と式(III)で表される化合物とを反応させることにより製造することができる。
上記反応は溶媒中で行なうことができる。溶媒としては、反応に不活性な溶媒であればいずれのものでもよく、例えば、塩化メチレン、クロロホルム、ジクロロエタン、トリクロロエタンのようなハロゲン化炭化水素類;ベンゼン、トルエン、キシレンのような芳香族炭化水素類;酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸プロピルのようなエステル類;アセトニトリル、N,N'-ジメチルホルムアミド、ジメチルスルホキシド、スルホラン、ジメトキシエタンのような非プロトン性極性溶媒;ジエチルエーテル、ジオキサン、テトラヒドロフランのようなエーテル類などが挙げられる。溶媒としては、これらの1種又は2種以上を適宜選択することができる。
即ち、上記式(I)で表される本発明化合物は、式(II)で表される化合物と式(III)で表される化合物とを反応させることにより製造することができる。
上記反応は溶媒中で行なうことができる。溶媒としては、反応に不活性な溶媒であればいずれのものでもよく、例えば、塩化メチレン、クロロホルム、ジクロロエタン、トリクロロエタンのようなハロゲン化炭化水素類;ベンゼン、トルエン、キシレンのような芳香族炭化水素類;酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸プロピルのようなエステル類;アセトニトリル、N,N'-ジメチルホルムアミド、ジメチルスルホキシド、スルホラン、ジメトキシエタンのような非プロトン性極性溶媒;ジエチルエーテル、ジオキサン、テトラヒドロフランのようなエーテル類などが挙げられる。溶媒としては、これらの1種又は2種以上を適宜選択することができる。
上記反応は、必要に応じて塩基の存在下に行うことができる。塩基としては無機塩基又は有機塩基のいずれでもよい。無機塩基としては、例えば、水素化ナトリウム、水素化カリウムのようなアルカリ金属水素化物、水酸化ナトリウム、水酸化カリウムのようなアルカリ金属水酸化物;炭酸ナトリウム、炭酸カリウムのようなアルカリ金属炭酸塩;炭酸水素ナトリウム、炭酸水素カリウムのようなアルカリ金属炭酸水素塩;水酸化カルシウムのようなアルカリ土類金属水酸化物;炭酸カルシウムのようなアルカリ土類金属炭酸塩などが挙げられる。有機塩基としては、例えば、トリエチルアミン、ジイソプロピルエチルアミンのような第三級アミン類;ピリジン、4-(ジメチルアミノ)ピリジン、2,6-ルチジンなどが挙げられる。塩基としては、これらの1種又は2種以上を適宜選択、混合して使用することができる。
上記反応の反応温度は、通常0 ℃〜150 ℃、反応時間は、通常1分〜48時間で行なうことができる。
上記反応は、第4級アンモニウム塩などの相関移動触媒の存在下、水と上記溶媒中で水に不溶の溶媒との二相系で反応させることもできる。
その他、上記式(I)で表される本発明化合物は、下記反応[B]に従って製造することができる。
上記反応は、第4級アンモニウム塩などの相関移動触媒の存在下、水と上記溶媒中で水に不溶の溶媒との二相系で反応させることもできる。
その他、上記式(I)で表される本発明化合物は、下記反応[B]に従って製造することができる。
(式中、R1、R2、R3−a、R3−b、R4、R5及びR6は前述の通りである)
即ち、式(I)で表される本発明化合物は、式(IV)若しくは式(V)で表される化合物又はそれらの混合物と、式(VI)で表される化合物とを反応させることにより製造することができる。
上記反応は必要に応じて溶媒の存在下に行なうことができる。溶媒としては例えば、塩化メチレン、クロロホルム、ジクロロエタン、トリクロロエタンのようなハロゲン化炭化水素類;ベンゼン、トルエン、キシレンのような芳香族炭化水素類;酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸プロピルのようなエステル類;アセトニトリル、N,N'-ジメチルホルムアミド、ジメチルスルホキシド、スルホラン、ジメトキシエタンのような非プロトン性極性溶媒;ジエチルエーテル、ジオキサン、テトラヒドロフランのようなエーテル類などが挙げられる。溶媒としては、これらの1種又は2種以上を適宜選択することができる。
即ち、式(I)で表される本発明化合物は、式(IV)若しくは式(V)で表される化合物又はそれらの混合物と、式(VI)で表される化合物とを反応させることにより製造することができる。
上記反応は必要に応じて溶媒の存在下に行なうことができる。溶媒としては例えば、塩化メチレン、クロロホルム、ジクロロエタン、トリクロロエタンのようなハロゲン化炭化水素類;ベンゼン、トルエン、キシレンのような芳香族炭化水素類;酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸プロピルのようなエステル類;アセトニトリル、N,N'-ジメチルホルムアミド、ジメチルスルホキシド、スルホラン、ジメトキシエタンのような非プロトン性極性溶媒;ジエチルエーテル、ジオキサン、テトラヒドロフランのようなエーテル類などが挙げられる。溶媒としては、これらの1種又は2種以上を適宜選択することができる。
上記反応は塩基の存在下で行うことが出来る。塩基としては無機塩基又は有機塩基のいずれでもよい。無機塩基としては、例えば、水素化ナトリウム、水素化カリウムのようなアルカリ金属水素化物、水酸化ナトリウム、水酸化カリウムのようなアルカリ金属水酸化物;炭酸ナトリウム、炭酸カリウムのようなアルカリ金属炭酸塩;炭酸水素ナトリウム、炭酸水素カリウムのようなアルカリ金属炭酸水素塩;水酸化カルシウムのようなアルカリ土類金属水酸化物;炭酸カルシウムのようなアルカリ土類金属炭酸塩などが挙げられる。有機塩基としては、例えば、トリエチルアミン、ジイソプロピルエチルアミンのような第三級アミン類;ピリジン、4-(ジメチルアミノ)ピリジン、2,6-ルチジンなどが挙げられる。塩基としては、これらの1種又は2種以上を適宜選択、混合して使用することができる。
上記反応の反応温度は、通常0 ℃〜150 ℃、反応時間は、通常1分〜48時間で行なうことができる。
上記式(IV)若しくは式(V)で表される化合物、又はそれらの混合物は、下記反応[C]に従って製造することができる。
上記反応の反応温度は、通常0 ℃〜150 ℃、反応時間は、通常1分〜48時間で行なうことができる。
上記式(IV)若しくは式(V)で表される化合物、又はそれらの混合物は、下記反応[C]に従って製造することができる。
(式中、R1、R2、R4、R5及びR6は前述の通りである。)
即ち、式(IV)若しくは式(V)で表される化合物、又はそれらの混合物は、式(II)で表される化合物と塩化チオカルボニル(CSCl2)とを反応させることにより製造することができる。
即ち、式(IV)若しくは式(V)で表される化合物、又はそれらの混合物は、式(II)で表される化合物と塩化チオカルボニル(CSCl2)とを反応させることにより製造することができる。
上記反応は、必要に応じて溶媒の存在下に行なうことができる。溶媒としては、反応に不活性な溶媒であればいずれのものでもよく、例えば、塩化メチレン、クロロホルム、ジクロロエタン、トリクロロエタンのようなハロゲン化炭化水素類;ベンゼン、トルエン、キシレンのような芳香族炭化水素類;酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸プロピルのようなエステル類;アセトニトリル、N,N-ジメチルホルムアミド、ジメチルスルホキシド、スルホラン、ジメトキシエタンのような非プロトン性極性溶媒;ジエチルエーテル、ジオキサン、テトラヒドロフランのようなエーテル類などが挙げられる。溶媒としては、これらの1種又は2種以上を適宜選択することができる。
上記反応は、必要に応じて塩基の存在下で行なうことができる。塩基としては、無機塩基又は有機塩基のいずれでもよい。無機塩基としては、例えば、水素化ナトリウム、水素化カリウムのようなアルカリ金属水素化物;水酸化ナトリウム、水酸化カリウムのようなアルカリ金属水酸化物;炭酸ナトリウム、炭酸カリウムのようなアルカリ金属炭酸塩;炭酸水素ナトリウム、炭酸水素カリウムのようなアルカリ金属炭酸水素塩;水酸化カルシウムのようなアルカリ土類金属水酸化物;炭酸カルシウムのようなアルカリ土類金属炭酸塩などが挙げられる。有機塩基としては、例えば、トリエチルアミン、ジイソプロピルエチルアミンのような第三級アミン類;ピリジン、4-(ジメチルアミノ)ピリジン、2,6-ルチジンなどが挙げられる。塩基としては、これらの1種又は2種以上を適宜選択、混合して使用することができる。
上記反応の反応温度は、通常 -10 ℃〜150 ℃、反応時間は、通常1分〜48時間で行なうことができる。
上記式(II)で表される化合物は下記反応[D]に従って製造することができる。
上記反応の反応温度は、通常 -10 ℃〜150 ℃、反応時間は、通常1分〜48時間で行なうことができる。
上記式(II)で表される化合物は下記反応[D]に従って製造することができる。
(式中、R1、R2、R4、R5及びR6は前述の通りである。)
即ち、式(II)で表される化合物は、式(VII)で表される化合物を転位反応させることにより製造することができる。
上記反応は、必要に応じて溶媒の存在下に行なうことができる。溶媒としては反応に不活性な溶媒であればいずれのものでもよく、例えば、塩化メチレン、クロロホルム、ジクロロエタン、トリクロロエタンのようなハロゲン化炭化水素類;ベンゼン、トルエン、キシレンのような芳香族炭化水素類;酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸プロピルのようなエステル類;アセトニトリル、N,N-ジメチルホルムアミド、ジメチルスルホキシド、スルホラン、ジメトキシエタンのような非プロトン性極性溶媒;ジエチルエーテル、ジオキサン、テトラヒドロフランのようなエーテル類などが挙げられる。溶媒としては、これらの1種又は2種以上を適宜選択することができる。
即ち、式(II)で表される化合物は、式(VII)で表される化合物を転位反応させることにより製造することができる。
上記反応は、必要に応じて溶媒の存在下に行なうことができる。溶媒としては反応に不活性な溶媒であればいずれのものでもよく、例えば、塩化メチレン、クロロホルム、ジクロロエタン、トリクロロエタンのようなハロゲン化炭化水素類;ベンゼン、トルエン、キシレンのような芳香族炭化水素類;酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸プロピルのようなエステル類;アセトニトリル、N,N-ジメチルホルムアミド、ジメチルスルホキシド、スルホラン、ジメトキシエタンのような非プロトン性極性溶媒;ジエチルエーテル、ジオキサン、テトラヒドロフランのようなエーテル類などが挙げられる。溶媒としては、これらの1種又は2種以上を適宜選択することができる。
上記反応は、必要に応じて塩基の存在下に行なうことができる。塩基としては、有機塩基でも無機塩基でもいずれでもよい。有機塩基としては、例えば、トリエチルアミン、ジイソプロピルエチルアミンのような第三級アミン類;ピリジン、4-(ジメチルアミノ)ピリジン、2,6-ルチジンなどが挙げられる。無機塩基としては、例えば、炭酸ナトリウム、炭酸カリウムのようなアルカリ金属炭酸塩;水酸化ナトリウム、水酸化カリウムのようなアルカリ金属水酸化物;シアン化ナトリウム、シアン化カリウムなどのアルカリ金属シアン化物などが挙げられる。これら塩基類は、式(VII)の化合物のモル数に対して0.01〜100モル当量にて、これらの1種又は2種以上を適宜選択、混合して使用することができる。
また上記反応では、必要に応じて触媒を添加することができる。触媒としては、アセトンシアノヒドリンを、式(VII)の化合物のモル数に対して0.01〜10モル当量用いることが出来る。
上記反応の反応温度は、通常0 ℃〜150 ℃、反応時間は、通常1分〜48時間で行なうことができる。
上記式(VII)で表される化合物は下記反応[E]に従って製造することができる。
上記反応の反応温度は、通常0 ℃〜150 ℃、反応時間は、通常1分〜48時間で行なうことができる。
上記式(VII)で表される化合物は下記反応[E]に従って製造することができる。
(式中、R1、R2、R4、R5及びR6は前述の通りである。)
即ち、式(VII)で表される化合物は、式(VIII)で表される化合物又はその塩、例えば塩酸塩、硫酸塩、硝酸塩などと、式(IX)で表される化合物とを反応させることにより製造することができる。
即ち、式(VII)で表される化合物は、式(VIII)で表される化合物又はその塩、例えば塩酸塩、硫酸塩、硝酸塩などと、式(IX)で表される化合物とを反応させることにより製造することができる。
上記反応は、必要に応じて、溶媒の存在下に行なうことができる。溶媒としては反応に不活性な溶媒であればいずれのものでもよく、例えば、塩化メチレン、クロロホルム、ジクロロエタン、トリクロロエタンのようなハロゲン化炭化水素類;ベンゼン、トルエン、キシレンのような芳香族炭化水素類;酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸プロピルのようなエステル類;アセトニトリル、N,N-ジメチルホルムアミド、ジメチルスルホキシド、スルホラン、ジメトキシエタンのような非プロトン性極性溶媒;ジエチルエーテル、ジオキサン、テトラヒドロフランのようなエーテル類などが挙げられる。溶媒としては、これらの1種又は2種以上を適宜選択することができる。
上記反応は、必要に応じて、塩基の存在下に行なうことができる。塩基としては、塩基としては無機塩基又は有機塩基のいずれでもよい。有機塩基としては、トリエチルアミン、ジイソプロピルエチルアミンのような第三級アミン類;ピリジン、4-(ジメチルアミノ)ピリジン、2,6-ルチジンなどが挙げられる。無機塩基としては、例えば、炭酸ナトリウム、炭酸カリウムのようなアルカリ金属炭酸塩;炭酸カルシウム、炭酸マグネシウムのようなアルカリ土類金属炭酸塩;炭酸水素ナトリウム、炭酸水素カリウムなどのアルカリ金属炭酸水素塩;水酸化ナトリウム、水酸化カリウムなどのアルカリ金属水酸化物などが挙げられる。これら塩基類は、式(IX)の化合物のモル数に対して1〜100モル当量にて、これらの1種又は2種以上を適宜選択、混合して使用することができる。
上記反応の反応温度は、通常0 ℃〜150 ℃、反応時間は、通常1分〜48時間で行なうことができる。
上記式(IX)で表される化合物は下記反応[F]に従って製造することができる。
上記式(IX)で表される化合物は下記反応[F]に従って製造することができる。
(式中、R4、R5及びR6は前述の通りである。)
即ち、式(IX)で表される化合物は、式(X)で表される化合物とハロゲン化剤を反応させることにより製造することができる。
上記反応においては、ハロゲン化剤、例えばチオニルクロライド或いはオキザリルクロライド等を、式(X)で表される化合物のモル数に対して1〜100モル当量反応させることが出来る。
即ち、式(IX)で表される化合物は、式(X)で表される化合物とハロゲン化剤を反応させることにより製造することができる。
上記反応においては、ハロゲン化剤、例えばチオニルクロライド或いはオキザリルクロライド等を、式(X)で表される化合物のモル数に対して1〜100モル当量反応させることが出来る。
上記反応は、必要に応じて溶媒の存在下に行なうことができる。溶媒としては、反応に不活性な溶媒であればいずれのものでもよく、例えば、塩化メチレン、クロロホルム、ジクロロエタン、トリクロロエタンのようなハロゲン化炭化水素類;ベンゼン、トルエン、キシレンのような芳香族炭化水素類;酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸プロピルのようなエステル類;アセトニトリル、N,N-ジメチルホルムアミド、ジメチルスルホキシド、スルホラン、ジメトキシエタンのような非プロトン性極性溶媒;ジエチルエーテル、ジオキサン、テトラヒドロフランのようなエーテル類などが挙げられる。溶媒としては、これらの1種又は2種以上を適宜選択することができる。
上記反応は、必要に応じて触媒を用いることができる。触媒としてはDMFなどが挙げられる。
上記反応の反応温度は、通常0 ℃〜150 ℃、反応時間は、通常1分〜48時間で行なうことができる。
上記方法の他、式(VII)で表される化合物は、下記反応[G]に従って製造することができる。
上記反応の反応温度は、通常0 ℃〜150 ℃、反応時間は、通常1分〜48時間で行なうことができる。
上記方法の他、式(VII)で表される化合物は、下記反応[G]に従って製造することができる。
(式中、R1、R2、R4、R5及びR6は前述の通りである。)
即ち、式(VII)で表される化合物は、式(VIII)で表される化合物又はその塩、例えば塩酸塩、硫酸塩、硝酸塩などと、式(X)で表される化合物とを、脱水剤を用い反応させることにより製造することができる。
上記反応で用いる脱水剤としては、例えば、DCC(ジシクロヘキシルカルボジイミド)や1-エチル3-(3-ジメチルアミノプロピル)-カルボジイミド塩酸塩などが挙げられる。
即ち、式(VII)で表される化合物は、式(VIII)で表される化合物又はその塩、例えば塩酸塩、硫酸塩、硝酸塩などと、式(X)で表される化合物とを、脱水剤を用い反応させることにより製造することができる。
上記反応で用いる脱水剤としては、例えば、DCC(ジシクロヘキシルカルボジイミド)や1-エチル3-(3-ジメチルアミノプロピル)-カルボジイミド塩酸塩などが挙げられる。
上記反応は、必要に応じて溶媒の存在下に行なうことができる。溶媒としては、反応に不活性な溶媒であればいずれのものでもよく、例えば、塩化メチレン、クロロホルム、ジクロロエタン、トリクロロエタンのようなハロゲン化炭化水素類;ベンゼン、トルエン、キシレンのような芳香族炭化水素類;酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸プロピルのようなエステル類;アセトニトリル、N,N-ジメチルホルムアミド、ジメチルスルホキシド、スルホラン、ジメトキシエタンのような非プロトン性極性溶媒;ジエチルエーテル、ジオキサン、テトラヒドロフランのようなエーテル類などが挙げられる。溶媒としては、これらの1種又は2種以上を適宜選択することができる。
上記反応は、必要に応じて塩基の存在下に行なうことができる。塩基としては、トリエチルアミン、ジイソプロピルエチルアミンのような第三級アミン類;ピリジン、4-(ジメチルアミノ)ピリジン、2,6-ルチジンなどが挙げられる。これら塩基類は、式(X)で表される化合物のモル数に対して1〜100モル当量にて、これらの1種又は2種以上を適宜選択、混合して使用することができる。
上記反応の反応温度は、通常0 ℃〜150 ℃、反応時間は、通常1分〜48時間で行なうことができる。
上記式(X)で表される化合物は、下記反応[H]に従って製造することができる。
上記反応の反応温度は、通常0 ℃〜150 ℃、反応時間は、通常1分〜48時間で行なうことができる。
上記式(X)で表される化合物は、下記反応[H]に従って製造することができる。
(式中、R4、R5及びR6は前述の通りであり、Lはアルキルなどの保護基である。)
式(X)で表される化合物は、式(XI)で表される化合物を加水分解反応させることにより製造することができる。
上記反応は必要に応じて溶媒の存在下に行うことができる。例えば、ベンゼン、トルエン、キシレンのような芳香族炭化水素類;アセトニトリル、N,N-ジメチルホルムアミド、ジメチルスルホキシド、スルホラン、ジメトキシエタンのような非プロトン性極性溶媒;ジエチルエーテル、ジオキサン、テトラヒドロフランのようなエーテル類;メタノールやエタノールなどのアルコール類;水などが挙げられる。溶媒としては、これらの1種又は2種以上を適宜選択することができる。
式(X)で表される化合物は、式(XI)で表される化合物を加水分解反応させることにより製造することができる。
上記反応は必要に応じて溶媒の存在下に行うことができる。例えば、ベンゼン、トルエン、キシレンのような芳香族炭化水素類;アセトニトリル、N,N-ジメチルホルムアミド、ジメチルスルホキシド、スルホラン、ジメトキシエタンのような非プロトン性極性溶媒;ジエチルエーテル、ジオキサン、テトラヒドロフランのようなエーテル類;メタノールやエタノールなどのアルコール類;水などが挙げられる。溶媒としては、これらの1種又は2種以上を適宜選択することができる。
上記反応は、必要に応じて塩基または酸の存在下で行うことができる。塩基としては、無機塩基又は有機塩基のいずれでもよい。無機塩基としては、水酸化リチウム、水酸化ナトリウムのようなアルカリ金属水酸化物;炭酸カリウム、炭酸ナトリウムのようなアルカリ金属炭酸塩;炭酸カルシウム、炭酸バリウムのようなアルカリ土類金属炭酸塩などが挙げられる。有機塩基としては、例えば、トリエチルアミン、ジイソプロピルエチルアミンのような第三級アミン類などが挙げられる。酸としては、例えば、塩酸、硫酸、過塩素酸などが挙げられる。これら塩基類又は酸類は、式(XI)で表される化合物のモル数に対して1〜100モル当量にて、これらの1種又は2種以上を適宜選択、混合して使用することができる。
上記反応の反応温度は、通常0 ℃〜150 ℃、反応時間は、通常1分〜48時間で行なうことができる。
上記式(XI)で表される化合物のうち、R5がR5−a−1である式(XI−a−1)で表される化合物は、下記反応[I]に従って製造することができる。
上記式(XI)で表される化合物のうち、R5がR5−a−1である式(XI−a−1)で表される化合物は、下記反応[I]に従って製造することができる。
(式中、R4、R6及びLは前述の通りであり、R5−a−1はアルコキシ、ハロアルコキシ、アルコキシアルコキシ、ハロアルコキシアルコキシ、ヘテロシクリルオキシ、ヘテロシクリルアルコキシ、-OC(O)SR7又は-OC(O)OR7であり、Rαはアルキル、ハロアルキル、アルコキシアルキル、ハロアルコキシアルキル、ヘテリシクリル、ヘテロシクリルアルキル、−C(O)SR7又は−C(O)OR7である。)
即ち、式(XI−a−1)で表される化合物は、式(XII)で表される化合物と式(XIII)で表される化合物を脱水剤を用いて反応させることにより製造することができる。
即ち、式(XI−a−1)で表される化合物は、式(XII)で表される化合物と式(XIII)で表される化合物を脱水剤を用いて反応させることにより製造することができる。
上記反応で用いる脱水剤としては、例えば、DCC(ジシクロヘキシルカルボジイミド)や1-エチル3-(3-ジメチルアミノプロピル)-カルボジイミド塩酸塩、ジエチルアゾジカルボキシレートなどが挙げられる。
上記反応は、必要に応じて溶媒の存在下に行なうことができる。溶媒としては、反応に不活性な溶媒であればいずれのものでもよく、例えば、塩化メチレン、クロロホルム、ジクロロエタン、トリクロロエタンのようなハロゲン化炭化水素類;ベンゼン、トルエン、キシレンのような芳香族炭化水素類;酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸プロピルのようなエステル類;アセトニトリル、N,N-ジメチルホルムアミド、ジメチルスルホキシド、スルホラン、ジメトキシエタンのような非プロトン性極性溶媒;ジエチルエーテル、ジオキサン、テトラヒドロフランのようなエーテル類などが挙げられる。溶媒としては、これらの1種又は2種以上を適宜選択することができる。
上記反応は、必要に応じて溶媒の存在下に行なうことができる。溶媒としては、反応に不活性な溶媒であればいずれのものでもよく、例えば、塩化メチレン、クロロホルム、ジクロロエタン、トリクロロエタンのようなハロゲン化炭化水素類;ベンゼン、トルエン、キシレンのような芳香族炭化水素類;酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸プロピルのようなエステル類;アセトニトリル、N,N-ジメチルホルムアミド、ジメチルスルホキシド、スルホラン、ジメトキシエタンのような非プロトン性極性溶媒;ジエチルエーテル、ジオキサン、テトラヒドロフランのようなエーテル類などが挙げられる。溶媒としては、これらの1種又は2種以上を適宜選択することができる。
上記反応は、必要に応じて塩基の存在下に行なうことができる。塩基としては、例えば、トリエチルアミン、ジイソプロピルエチルアミンのような第三級アミン類;ピリジン、4-(ジメチルアミノ)ピリジン、2,6-ルチジンなどが挙げられる。これら塩基類は、式(XII)で表される化合物のモル数に対して1〜100モル当量にて、これらの1種又は2種以上を適宜選択、混合して使用することができる。
上記反応の反応温度は、通常0 ℃〜150 ℃、反応時間は、通常1分〜48時間で行なうことができる。
上記方法の他、式(XI−a−1)で表される化合物は、下記反応[J]に従って製造することもできる。
上記反応の反応温度は、通常0 ℃〜150 ℃、反応時間は、通常1分〜48時間で行なうことができる。
上記方法の他、式(XI−a−1)で表される化合物は、下記反応[J]に従って製造することもできる。
(式中、R4、R5−a−1、R6、Rα及びLは前述の通りである。Xはハロゲン又はメタンスルホニルオキシ基などの脱離基を表す。)
即ち、式(XI−a−1)で表される化合物は、式(XII)で表される化合物と式(XIV)で表される化合物とを塩基の存在下反応させることにより製造することができる。
即ち、式(XI−a−1)で表される化合物は、式(XII)で表される化合物と式(XIV)で表される化合物とを塩基の存在下反応させることにより製造することができる。
上記反応は、必要に応じて、溶媒の存在下に行なうことができる。溶媒としては反応に不活性な溶媒であればいずれのものでもよく、例えば、塩化メチレン、クロロホルム、ジクロロエタン、トリクロロエタンのようなハロゲン化炭化水素類;ベンゼン、トルエン、キシレンのような芳香族炭化水素類;酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸プロピルのようなエステル類;アセトニトリル、N,N-ジメチルホルムアミド、ジメチルスルホキシド、スルホラン、ジメトキシエタンのような非プロトン性極性溶媒;ジエチルエーテル、ジオキサン、テトラヒドロフランのようなエーテル類などが挙げられる。溶媒としては、これらの1種又は2種以上を適宜選択することができる。
上記反応は、必要に応じて、塩基の存在下に行なうことができる。塩基としては、無機塩基又は有機塩基のいずれでもよい。有機塩基としては、例えば、トリエチルアミン、ジイソプロピルエチルアミン、ピリジン、4-(ジメチルアミノ)ピリジン、2,6-ルチジンなどが挙げられる。無機塩基としては、例えば、炭酸ナトリウム、炭酸カリウムのようなアルカリ金属炭酸塩;水酸化ナトリウム、水酸化カリウムのようなアルカリ金属水酸化物;水素化ナトリウム、水素化カリウムなどのアルカリ金属水素化物などが挙げられる。これら塩基類は、式(XII)の化合物のモル数に対して0.5〜100モル当量にて、これらの1種又は2種以上を適宜選択、混合して使用することができる。
上記反応は、必要に応じて、触媒の存在下に行なうことができる。触媒としては、例えば、ヨウ化カリウム、ヨウ化テトラノルマルブチルアンモニウムなどが挙げられる。
上記反応の反応温度は、通常0 ℃〜150 ℃、反応時間は、通常1分〜48時間で行なうことができる。
上記式(XII)で表される化合物は、下記反応[K]に従って製造することができる。
上記反応の反応温度は、通常0 ℃〜150 ℃、反応時間は、通常1分〜48時間で行なうことができる。
上記式(XII)で表される化合物は、下記反応[K]に従って製造することができる。
(式中、R4、R6及びLは前述の通りである。)
即ち、式(XII)で表される化合物は、式(XV)で表される化合物とBBr3のようなルイス酸とを反応させることにより製造することができる。
即ち、式(XII)で表される化合物は、式(XV)で表される化合物とBBr3のようなルイス酸とを反応させることにより製造することができる。
上記反応は、必要に応じて、溶媒の存在下に行なうことができる。溶媒としては反応に不活性な溶媒であればいずれのものでもよく、例えば、塩化メチレン、クロロホルム、ジクロロエタン、トリクロロエタンのようなハロゲン化炭化水素類;ベンゼン、トルエン、キシレン;酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸プロピルのようなエステル類のような芳香族炭化水素類などが挙げられる。溶媒としては、これらの1種又は2種以上を適宜選択することができる。
上記反応の反応温度は、通常0 ℃〜150 ℃、反応時間は、通常1分〜48時間で行なうことができる。
上記式(XV)で表される化合物は、下記反応[L]に従って製造することができる。
上記式(XV)で表される化合物は、下記反応[L]に従って製造することができる。
(式中、R4、R6及びLは前述の通りである。)
即ち、式(XV)で表される化合物は、式(XVI)で表される化合物に保護基Lを導入する反応により製造することができる。
上記反応は必要に応じて溶媒の存在下に行うことができる。例えば、溶媒としては、メタノールやエタノールなどのアルコール類;ベンゼン、トルエン、キシレンのような芳香族炭化水素類;酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸プロピルのようなエステル類;塩化メチレン、クロロホルム、ジクロロエタン、トリクロロエタンのようなハロゲン化炭化水素類;アセトニトリル、N,N-ジメチルホルムアミド、ジメチルスルホキシド、スルホラン、ジメトキシエタンのような非プロトン性極性溶媒などが挙げられる。溶媒としては、これらの1種又は2種以上を適宜選択することができる。
即ち、式(XV)で表される化合物は、式(XVI)で表される化合物に保護基Lを導入する反応により製造することができる。
上記反応は必要に応じて溶媒の存在下に行うことができる。例えば、溶媒としては、メタノールやエタノールなどのアルコール類;ベンゼン、トルエン、キシレンのような芳香族炭化水素類;酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸プロピルのようなエステル類;塩化メチレン、クロロホルム、ジクロロエタン、トリクロロエタンのようなハロゲン化炭化水素類;アセトニトリル、N,N-ジメチルホルムアミド、ジメチルスルホキシド、スルホラン、ジメトキシエタンのような非プロトン性極性溶媒などが挙げられる。溶媒としては、これらの1種又は2種以上を適宜選択することができる。
上記反応は、必要に応じて、酸の存在下に反応させることができる。上記反応に使用できる酸としては、塩酸、硫酸などが挙げられる。
上記反応の反応温度は、通常0 ℃〜150 ℃、反応時間は、通常1分〜48時間で行なうことができる。
上記式(XI)で表される化合物のうち、R5がR5−a−2である化合物は以下の反応[M]に従って製造することができる。
上記反応の反応温度は、通常0 ℃〜150 ℃、反応時間は、通常1分〜48時間で行なうことができる。
上記式(XI)で表される化合物のうち、R5がR5−a−2である化合物は以下の反応[M]に従って製造することができる。
(式中、R4、R6及びLは前述の通りであり、R5−a−2はアルキルチオカルボニルである。)
即ち、式(XI−a−2)で表される化合物は、式(XVIII)で表される化合物とアルキルチオールとを反応させることにより製造することができる。
上記反応は必要に応じて溶媒の存在下に行うことができる。溶媒としては、反応に不活性な溶媒であればいずれのものでもよく、例えば、ジエチルエーテル、ジオキサン、テトラヒドロフランのようなエーテル類;ベンゼン、トルエン、キシレンのような芳香族炭化水素類;酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸プロピルのようなエステル類;塩化メチレン、クロロホルム、ジクロロエタン、トリクロロエタンのようなハロゲン化炭化水素類などが挙げられる。溶媒としては、これらの1種又は2種以上を適宜選択することができる。
即ち、式(XI−a−2)で表される化合物は、式(XVIII)で表される化合物とアルキルチオールとを反応させることにより製造することができる。
上記反応は必要に応じて溶媒の存在下に行うことができる。溶媒としては、反応に不活性な溶媒であればいずれのものでもよく、例えば、ジエチルエーテル、ジオキサン、テトラヒドロフランのようなエーテル類;ベンゼン、トルエン、キシレンのような芳香族炭化水素類;酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸プロピルのようなエステル類;塩化メチレン、クロロホルム、ジクロロエタン、トリクロロエタンのようなハロゲン化炭化水素類などが挙げられる。溶媒としては、これらの1種又は2種以上を適宜選択することができる。
上記反応においては、必要に応じて塩基の存在下に反応させることができる。塩基としては、無機塩基又は有機塩基のいずれでもよい。有機塩基としては、例えば、トリエチルアミン、ジイソプロピルエチルアミン、ピリジン、4-(ジメチルアミノ)ピリジン、2,6-ルチジンなどが挙げられる。無機塩基としては、例えば、炭酸カリウム、炭酸ナトリウムなどのアルカリ金属炭酸塩;水酸化ナトリウム、水酸化カリウムなどのアルカリ金属水酸化物;水素化ナトリウム、水素化カリウムなどのアルカリ金属水素化物などが挙げられる。塩基としては、これらの1種又は2種以上を適宜選択、混合して使用することができる。
上記反応の反応温度は、通常0 ℃〜150 ℃、反応時間は、通常1分〜48時間で行なうことができる。
上記式(XVIII)で表される化合物は、下記反応[N]に従って製造することができる。
上記式(XVIII)で表される化合物は、下記反応[N]に従って製造することができる。
(式中、R4、R6及びLは前述の通りである。)
即ち、式(XVIII)で表される化合物は、式(XIX)で表される化合物とハロゲン化剤を反応させて製造することができる。この反応は、前述の反応[F]と同様に行うことができる。
上記式(XIX)で表される化合物は、下記反応[O]に従って製造することができる。
即ち、式(XVIII)で表される化合物は、式(XIX)で表される化合物とハロゲン化剤を反応させて製造することができる。この反応は、前述の反応[F]と同様に行うことができる。
上記式(XIX)で表される化合物は、下記反応[O]に従って製造することができる。
(式中、R4、R6及びLは前述の通りである。)
即ち、式(XIX)で表される化合物は、式(XX)で表される化合物を酸化することにより製造することができる。
上記反応における酸化剤としては、例えば、過マンガン酸カリウム、三酸化クロムなどが挙げられる。
即ち、式(XIX)で表される化合物は、式(XX)で表される化合物を酸化することにより製造することができる。
上記反応における酸化剤としては、例えば、過マンガン酸カリウム、三酸化クロムなどが挙げられる。
上記反応は、必要に応じて溶媒の存在下に行なうことができる。溶媒としては、反応に不活性な溶媒であればいずれのものでもよく、例えば、アセトンやメチルエチルケトンなどのケトン類;酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸プロピルのようなエステル類;ジエチルエーテル、ジオキサン、テトラヒドロフランのようなエーテル類などが挙げられる。溶媒としては、これらの1種又は2種以上を適宜選択することができる。
上記反応の反応温度は、通常0 ℃〜150 ℃、反応時間は、通常1分〜48時間で行なうことができる。
上記式(XX)で表される化合物は、下記反応[P]に従って製造することができる。
上記反応の反応温度は、通常0 ℃〜150 ℃、反応時間は、通常1分〜48時間で行なうことができる。
上記式(XX)で表される化合物は、下記反応[P]に従って製造することができる。
(式中、R4、R6及びLは前述の通りである。)
即ち、式(XX)で表される化合物は、式(XXI)で表される化合物と酸化剤とを溶媒の存在下、反応させることにより製造することができる。
上記反応で用いる酸化剤としては、例えば、N-メチルモルフォリンオキシドなどが挙げられる。
即ち、式(XX)で表される化合物は、式(XXI)で表される化合物と酸化剤とを溶媒の存在下、反応させることにより製造することができる。
上記反応で用いる酸化剤としては、例えば、N-メチルモルフォリンオキシドなどが挙げられる。
上記反応で用いる溶媒としては、反応に不活性な溶媒であればいずれのものでもよく、例えば、アセトニトリル、N,N-ジメチルホルムアミド、ジメチルスルホキシド、スルホラン、ジメトキシエタンのような非プロトン性極性溶媒;ジエチルエーテル、ジオキサン、テトラヒドロフランのようなエーテル類などが挙げられる。溶媒としては、これらの1種又は2種以上を適宜選択することができる。
上記反応の反応温度は、通常0 ℃〜150 ℃、反応時間は、通常1分〜48時間で行なうことができる。
上記反応の反応温度は、通常0 ℃〜150 ℃、反応時間は、通常1分〜48時間で行なうことができる。
本発明化合物は、除草剤の有効成分として使用した場合に優れた除草効果を示す。その適用範囲は、水田、畑地、果樹園、桑園などの農耕地、山林、農道、グランド、工場敷地などの非農耕地と多岐にわたり、適用方法も土壌処理、茎葉処理、湛水処理等を適宜選択できる。
本発明化合物は、例えばイヌビエ、メヒシバ、エノコログサ、アキノエノコログサ、オヒシバ、カラスムギ、セイバンモロコシ、シバムギ、ビロードキビ、パラグラス、アゼガヤ、イトアゼガヤ、スズメノカタビラ、スズメノテッポウなどのイネ科雑草、コゴメガヤツリ、ハマスゲ、キハマスゲ、ホタルイ、ミズガヤツリ、タマガヤツリ、マツバイ、クログワイなどのカヤツリグサ科雑草、ウリカワ、オモダカ、ヘラオモダカなどのオモダカ科雑草、コナギ、ミズアオイなどのミズアオイ科雑草、アゼナ、アブノメなどのゴマノハグサ科雑草、キカシグサ、ヒメミソハギなどのミソハギ科雑草の他、イチビ、マルバアサガオ、シロザ、アメリカキンゴジカ、スベリヒユ、アオビユ、アオゲイトウ、エビスグサ、イヌホウズキ、サナエタデ、ハコベ、オナモミ、タネツケバナ、ホトケノザ、ブタクサ、ヤエムグラ、セイヨウヒルガオ、シロバナチョウセンアサガオ、エゾノキツネアザミ、エノキグサなどの広葉雑草など、有害雑草を防除することができる為、有用作物、例えばトウモロコシ、ダイズ、ワタ、コムギ、イネ、オオムギ、エンバク、ソルガム、アブラナ、ヒマワリ、テンサイ、サトウキビ、芝、ピーナッツ、アマ、タバコ、コーヒーなどの栽培において選択的に有害雑草を防除する場合或は非選択的に有害雑草を防除する場合において有効に使用される。特に本発明化合物は、トウモロコシ、ダイズ、ワタ、コムギ、イネ、アブラナ、ヒマワリ、テンサイ、サトウキビ、芝、ピーナッツ、アマ、タバコ、コーヒーなどの栽培、その中でもトウモロコシ、ダイズ、コムギ、イネなどの栽培において選択的に有害雑草を防除する場合において有効に使用される。
本発明化合物は通常各種農業上の補助剤と混合して粉剤、粒剤、顆粒水和剤、水和剤、水性懸濁剤、油性懸濁剤、水溶剤、乳剤、錠剤、カプセル剤などの形態に製剤し、除草剤として使用されるが、本発明の目的に適合するかぎり、通常の当該分野で用いられているあらゆる製剤形態にすることができる。製剤に使用する補助剤としては、珪藻土、消石灰、炭酸カルシウム、タルク、ホワイトカーボン、カオリン、ベントナイト、カオリナイト及びセリサイトの混合物、クレー、炭酸ナトリウム、重曹、芒硝、ゼオライト、澱粉などの固型担体;水、トルエン、キシレン、ソルベントナフサ、ジオキサン、アセトン、イソホロン、メチルイソブチルケトン、クロロベンゼン、シクロヘキサン、ジメチルスルホキシド、ジメチルホルムアミド、N−メチル−2−ピロリドン、アルコールなどの溶剤;脂肪酸塩、安息香酸塩、アルキルスルホコハク酸塩、ジアルキルスルホコハク酸塩、ポリカルボン酸塩、アルキル硫酸エステル塩、アルキル硫酸塩、アルキルアリール硫酸塩、アルキルジグリコールエーテル硫酸塩、アルコール硫酸エステル塩、アルキルスルホン酸塩、アルキルアリールスルホン酸塩、アリールスルホン酸塩、リグニンスルホン酸塩、アルキルジフェニルエーテルジスルホン酸塩、ポリスチレンスルホン酸塩、アルキルリン酸エステル塩、アルキルアリールリン酸塩、スチリルアリールリン酸塩、ポリオキシエチレンアルキルエーテル硫酸エステル塩、ポリオキシエチレンアルキルアリールエーテル硫酸塩、ポリオキシエチレンアルキルアリールエーテル硫酸エステル塩、ポリオキシエチレンアルキルエーテルリン酸塩、ポリオキシエチレンアルキルアリールリン酸エステル塩、ナフタレンスルホン酸ホルマリン縮合物の塩のような陰イオン系の界面活性剤や展着剤;ソルビタン脂肪酸エステル、グリセリン脂肪酸エステル、脂肪酸ポリグリセライド、脂肪酸アルコールポリグリコールエーテル、アセチレングリコール、アセチレンアルコール、オキシアルキレンブロックポリマー、ポリオキシエチレンアルキルエーテル、ポリオキシエチレンアルキルアリールエーテル、ポリオキシエチレンスチリルアリールエーテル、ポリオキシエチレングリコールアルキルエーテル、ポリオキシエチレン脂肪酸エステル、ポリオキシエチレンソルビタン脂肪酸エステル、ポリオキシエチレングリセリン脂肪酸エステル、ポリオキシエチレン硬化ヒマシ油、ポリオキシプロピレン脂肪酸エステルのような非イオン系の界面活性剤や展着剤;オリーブ油、カポック油、ひまし油、シュロ油、椿油、ヤシ油、ごま油、トウモロコシ油、米ぬか油、落花生油、綿実油、大豆油、菜種油、亜麻仁油、きり油、液状パラフィンなどの植物油や鉱物油などが挙げられる。これら補助剤は本発明の目的から逸脱しないかぎり、当該分野で知られたものの中から選んで用いることができる。また、増量剤、増粘剤、沈降防止剤、凍結防止剤、分散安定剤、薬害軽減剤、防黴剤など通常使用される各種補助剤も使用することができる。本発明化合物と各種補助剤との配合割合は0.1:99.9〜95:5、望ましくは0.2:99.8〜85:15である。
本発明化合物を含有する除草剤の施用量は、気象条件、土壌条件、製剤形態、対象雑草の種類、施用時期などの相違により一概に規定できないが、一般に1ヘクタール当り本発明化合物が0.5〜5,000g、望ましくは1〜1,000g、更に望ましくは10〜500gとなるように施用する。本発明には、このような除草剤の施用による有害雑草の防除方法も含まれる。
また、本発明化合物を含有する除草剤は、他の農薬、肥料、薬害軽減剤などと混用或は併用することができ、この場合に一層優れた効果、作用性を示すことがある。他の農薬としては、除草剤、殺菌剤、抗生物質、植物ホルモン、殺虫剤などが挙げられる。特に、本発明化合物と他の除草剤の有効成分化合物の1種又は2種以上とを混用或は併用した混合除草性組成物は、適用草種の範囲、薬剤処理の時期、除草活性等を好ましい方向へ改良することが可能である。尚、本発明化合物と他の除草剤の有効成分化合物は各々別々に製剤したものを散布時に混合して使用しても、両者を一緒に製剤して使用してもよい。本発明には、前記した混合除草性組成物も含まれる。
本発明化合物と他の除草剤の有効成分との混合比は、気象条件、土壌条件、薬剤の製剤形態、施用時期、施用方法などの相違により一概に規定できないが、本発明化合物1重量部に対し、他の除草剤は有効成分を1種あたり0.001〜10,000重量部、望ましくは0.01〜1,000重量部配合する。また、施用適量は1ヘクタール当りの総有効成分化合物量として0.1〜10,000g、望ましくは0.2〜5,000g、更に望ましくは10〜3,000gである。本発明には、このような混合除草組成物の施用による有害雑草の防除方法も含まれる。
他の除草剤の有効成分としては、下記するもの(一般名;一部ISO申請中を含む)が例示できるが、特に記載がない場合であってもこれら化合物に塩、アルキルエステル等が存在する場合は、当然それらも含まれる。
(1)2,4−D、2,4−DB、2,4-DP、MCPA、MCPB、MCPP、ナプロアニリド(naproanilide)、クロメプロップ(clomeprop)のようなフェノキシ系、2,3,6−TBA、ジカンバ(dicamba)、ジクロベニル(dichlobenil)、ピクロラム(picloram)、トリクロピル(triclopyr)、クロピラリド(clopyralid)、アミノピラリド(aminopyralid)のような芳香族カルボン酸系、その他ナプタラム(naptalam)、ベナゾリン(benazolin)、キンクロラック(quinclorac)、キンメラック(quinmerac)、ダイフルフェンゾピル(diflufenzopyr)、チアゾピル(thiazopyr)などのように植物のホルモン作用を攪乱することで除草効力を示すとされているもの。
(1)2,4−D、2,4−DB、2,4-DP、MCPA、MCPB、MCPP、ナプロアニリド(naproanilide)、クロメプロップ(clomeprop)のようなフェノキシ系、2,3,6−TBA、ジカンバ(dicamba)、ジクロベニル(dichlobenil)、ピクロラム(picloram)、トリクロピル(triclopyr)、クロピラリド(clopyralid)、アミノピラリド(aminopyralid)のような芳香族カルボン酸系、その他ナプタラム(naptalam)、ベナゾリン(benazolin)、キンクロラック(quinclorac)、キンメラック(quinmerac)、ダイフルフェンゾピル(diflufenzopyr)、チアゾピル(thiazopyr)などのように植物のホルモン作用を攪乱することで除草効力を示すとされているもの。
(2)クロロトルロン(chlorotoluron)、ジウロン(diuron)、フルオメツロン(fluometuron)、リニュロン(linuron)、イソプロチュロン(isoproturon)、メトベンズロン(metobenzuron)、テブチウロン(tebuthiuron)のような尿素系、シマジン(simazine)、アトラジン(atrazine)、アトラトン(atratone)、シメトリン(simetryn)、プロメトリン(prometryn)、ジメタメトリン(dimethametryn)、ヘキサジノン(hexazinone)、メトリブジン(metribuzin)、テルブチラジン(terbuthylazine)、シアナジン(cyanazine)、アメトリン(ametryn)、シブトリン(cybutryne)、トリアジフラム(triaziflam)、プロパジン(propazine)のようなトリアジン系、ブロマシル(bromacil)、レナシル(lenacil)、ターバシル(terbacil)、のようなウラシル系、プロパニル(propanil)、シプロミッド(cypromid)のようなアニリド系、スエップ(swep)、デスメディファム(desmedipham)、フェンメディファム(phenmedipham)のようなカーバメート系、ブロモキシニル(bromoxynil)、ブロモキシニル・オクタノエート(bromoxynil-octanoate)、アイオキシニル(ioxynil)のようなヒドロキシベンゾニトリル系、その他ピリデート(pyridate)、ベンタゾン(bentazone)、アミカルバゾン(amicarbazone)、メタゾール(methazole)などのように植物の光合成を阻害することで除草効力を示すとされているもの。
(3)それ自身が植物体中でフリーラジカルとなり、活性酸素を生成させて速効的な除草効力を示すとされているパラコート(paraquat)、ジクワット(diquat)のような4級アンモニウム塩系。
(4)ニトロフェン(nitrofen)、クロメトキシフェン(chlomethoxyfen)、ビフェノックス(bifenox)、アシフルオルフェンナトリウム塩(acifluorfen-sodium)、ホメサフェン(fomesafen)、オキシフルオルフェン(oxyfluorfen)、ラクトフェン(lactofen)、エトキシフェンエチル(ethoxyfen-ethyl)のようなジフェニルエーテル系、クロルフタリム(chlorphthalim)、フルミオキサジン(flumioxazin)、フルミクロラックペンチル(flumiclorac-pentyl)、フルチアセットメチル(fluthiacet-methyl)のような環状イミド系、その他オキサジアルギル(oxadiargyl)、オキサジアゾン(oxadiazon)、スルフェントラゾン(sulfentrazone)、カルフェントラゾンエチル(carfentrazone-ethyl)、チジアジミン(thidiazimin)、ペントキサゾン(pentoxazone)、アザフェニジン(azafenidin)、イソプロパゾール(isopropazole)、ピラフルフェンエチル(pyraflufen-ethyl)、ベンズフェンジゾン(benzfendizone)、ブタフェナシル(butafenacil)、メトベンズロン(metobenzuron)、シニドンエチル(cinidon-ethyl)、フルポキサム(flupoxam)、フルアゾレート(fluazolate)、プロフルアゾール(profluazol)、ピラクロニル(pyrachlonil)、フルフェンピルエチル(flufenpyr-ethyl)などのように植物のクロロフィル生合成を阻害し、光増感過酸化物質を植物体中に異常蓄積させることで除草効力を示すとされているもの。
(5)ノルフルラゾン(norflurazon)、クロリダゾン(chloridazon)、メトフルラゾン(metflurazon)のようなピリダジノン系、ピラゾレート(pyrazolate)、ピラゾキシフェン(pyrazoxyfen)、ベンゾフェナップ(benzofenap)、トプラメゾン(topramezone, BAS−670H)、ピラスルフォトール(pyrasulfotole)のようなピラゾール系、その他アミトロール(amitrol)、フルリドン(fluridone)、フルルタモン(flurtamone)、ジフルフェニカン(diflufenican)、メトキシフェノン(methoxyphenone)、クロマゾン(clomazone)、スルコトリオン(sulcotrione)、メソトリオン(mesotrione)、テフリルトリオン(Tefuryltrione, AVH−301)、イソキサフルトール(isoxaflutole)、ジフェンゾコート(difenzoquat)、イソキサクロロトール(isoxachlortole)、ベンゾビシクロン(benzobicyclon)、ピコリナフェン(picolinafen)、ビフルブタミド(beflubutamid)などのようにカロチノイドなどの植物の色素生合成を阻害し、白化作用を特徴とする除草効力を示すとされているもの。
(6)ジクロホップメチル(diclofop-methyl)、フラムプロップエムメチル(flamprop-M-methyl)、ピリフェノップナトリウム塩(pyriphenop-sodium)、フルアジホップブチル(fluazifop-butyl)、ハロキシホップメチル(haloxyfop-methyl)、キザロホップエチル(quizalofop-ethyl)、シハロホップブチル(cyhalofop-butyl)、フェノキサプロップエチル(fenoxaprop-ethyl)、メタミホッププロピル(metamifop-propyl)のようなアリールオキシフェノキシプロピオン酸系、アロキシジムナトリウム塩(alloxydim-sodium)、クレソジム(clethodim)、セトキシジム(sethoxydim)、トラルコキシジム(tralkoxydim)、ブトロキシジム(butroxydim)、テプラロキシジム(tepraloxydim)、カロキシジム(caloxydim)、クレフォキシジム(clefoxydim)、プロホキシジム(profoxydim)のようなシクロヘキサンジオン系などのようにイネ科植物に特異的に除草効力が強く認められるもの。
(7)クロリムロンエチル(chlorimuron-ethyl)、スルホメツロンメチル(sulfometuron-methyl)、プリミスルフロンメチル(primisulfuron-methyl)、ベンスルフロンメチル(bensulfuron-methyl)、クロルスルフロン(chlorsulfuron)、メトスルフロンメチル(metsulfuron-methyl)、シノスルフロン(cinosulfuron)、ピラゾスルフロンエチル(pyrazosulfuron-ethyl)、アジムスルフロン(azimsulfuron)、フラザスルフロン(flazasulfuron)、リムスルフロン(rimsulfuron)、ニコスルフロン(nicosulfuron)、イマゾスルフロン(imazosulfuron)、シクロスルファムロン(cyclosulfamuron)、プロスルフロン(prosulfuron)、フルピルスルフロン(flupyrsulfuron)、トリスルフロンメチル(trisulfuron-methyl)、ハロスルフロンメチル(halosulfuron-methyl)、チフェンスルフロンメチル(thifensulfuron-methyl)、エトキシスルフロン(ethoxysulfuron)、オキサスルフロン(oxasulfuron)、エタメトスルフロン(ethametsulfuron)、フルピルスルフロン(flupyrsulfuron)、イオドスルフロン(iodosulfuron)、スルフォスルフロン(sulfosulfuron)、トリアスルフロン(triasulfuron)、トリベヌロンメチル(tribenuron-methyl)、トリトスルフロン(tritosulfuron)、フォーラムスルフロン(foramsulfuron)、トリフルオキシスルフロン(trifloxysulfuron)、イソスルフロンメチル(isosulfuron-methyl)、フルセトスルフロン(flucetosulfuron)、メソスルフロンメチル(mesosulfuron-methyl)のようなスルホニルウレア系、フルメツラム(flumetsulam)、メトスラム(metosulam)、ジクロスラム(diclosulam)、クロランスラムメチル(cloransulam-methyl)、フロラスラム(florasulam)、メトスルファム(metosulfam)、ペノクススラム(penoxsulam)のようなトリアゾロピリミジンスルホンアミド系、イマザピル(imazapyr)、イマゼタピル(imazethapyr)、イマザキン(imazaquin)、イマザモックス(imazamox)、イマザメス(imazameth)、イマザメタベンズ(imazamethabenz)、イマザピック(imazapic)のようなイミダゾリノン系、ピリチオバックナトリウム塩(pyrithiobac-sodium)、ビスピリバックナトリウム塩(bispyribac-sodium)、ピリミノバックメチル(pyriminobac-methyl)、ピリベンゾキシム(pyribenzoxim)、ピリフタリド(pyriftalid)、KUH−021のようなピリミジニルサリチル酸系、フルカーバゾン(flucarbazone)、プロカーバゾンソディウム(procarbazone-sodium)のようなスルホニルアミノカルボニルトリアゾリノン系、その他グリホサート(glyphosate)、グリホサートアンモニウム塩(glyphosate-ammonium)、グリホサートイソプロピルアミン塩(glyphosate-isopropylamine)、スルホサート(sulfosate)、グルホシネート(glufosinate)、グルホシネートアンモニウム塩(glufosinate-ammonium)、ビラナホス(bilanafos)などのように植物のアミノ酸生合成を阻害することで除草効力を示すとされているもの。
(8)トリフルラリン(trifluralin)、オリザリン(oryzalin)、ニトラリン(nitralin)、ペンディメタリン(pendimethalin)、エタルフルラリン(ethalfluralin)、ベンフルラリン(benfluralin)、プロジアミン(prodiamine)のようなジニトロアニリン系、ベンスリド(bensulide)、ナプロナミド(napronamide)、プロナミド(pronamide)のようなアミド系、アミプロホスメチル(amiprofos-methyl)、ブタミホス(butamifos)、アニロホス(anilofos)、ピペロホス(piperophos)のような有機リン系、プロファム(propham)、クロルプロファム(chlorpropham)、バーバン(barban)のようなフェニルカーバメート系、ダイムロン(daimuron)、クミルロン(cumyluron)、ブロモブチド(bromobutide)のようなクミルアミン系、その他アシュラム(asulam)、ジチオピル(dithiopyr)、チアゾピル(thiazopyr)などのように植物の細胞有糸分裂を阻害することで除草効力を示すとされているもの。
(9)アラクロール(alachlor)、ブタクロール(butachlor)、プレチラクロール(pretilachlor)、メトラクロール(metolachlor)、S−メトラクロール(S-metolachlor)、テニルクロール(thenylchlor)、ペトキサマイド(pethoxamid)、アセトクロール(acetochlor)、プロパクロール(propachlor)、プロピソクロール(propisochlor)のようなクロロアセトアミド系、その他エトベンザニド(etobenzanid)、メフェナセット(mefenacet)、フルフェナセット(flufenacet)、トリディファン(tridiphane)、カフェンストロール(cafenstrole)、フェントラザミド(fentrazamide)、オキサジクロメフォン(oxaziclomefone)、インダノファン(indanofan)、ジメテナミド(dimethenamid)などのように植物のタンパク質生合成あるいは脂質生合成を阻害することで除草効力を示すとされているもの。
(10)EPTC、ブチレート(butylate)、ベルノレート(vernolate)、モリネート(molinate)、ペブレート(pebulate)、シクロエート(cycloate)、ジメピペレート(dimepiperate)、プロスルホカルブ(prosulfocarb)、エスプロカルブ(esprocarb)、チオベンカルブ(thiobencarb)、ピリブチカルブ(pyributicarb)、ジアレート(diallate)、トリアレート(triallate)のようなチオカーバメート系、その他MSMA、DSMA、エンドタール(endothall)、エトフメセート(ethofumesate)、ソディウムクロレート(sodium chlorate)、ペラルゴン酸(pelargonic acid)、ホスアミン(fosamine)、ピノキサデン(pinoxaden)、HOK−201など。
(11)Xanthomonas campestris、Epicoccosurus nematosurus、Exserohilum monoseras、Drechsrela monocerasなどのように植物に寄生することで除草効力を示すとされているもの。
次に本発明の実施例を記載するが、本発明はこれらに限定されるものではない。以下、本発明化合物の合成例を記載する。
合成例 1
5-(モルホリノ-4-イルチオカルボニルオキシ)-1-エチルピラゾール-4-イル 3-(メトキシカルボニル)-2-メチル-4-(メチルスルホニル)フェニル ケトン(後記化合物No.15)の合成
5-ヒドロキシ-1-エチルピラゾール-4-イル 3-(メトキシカルボニル)-2-メチル-4-(メチルスルホニル)フェニル ケトン(300 mg、0.82 mmol)、塩化モルホリノ-4-イルチオカルボニル(271 mg、1.64 mmol)及び乾燥ジオキサン(30 mL)を混合し、4時間加熱環流した。反応液を氷水へ投入し、酢酸エチルで抽出した。抽出液を炭酸水素ナトリウム水溶液で洗浄後、無水硫酸ナトリウムで乾燥して溶媒を減圧留去した。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(n-ヘキサン:酢酸エチル=2:8)に付し、結晶の目的物(177 mg、0.36 mmol)(収率43.6 %)を得た。
5-(モルホリノ-4-イルチオカルボニルオキシ)-1-エチルピラゾール-4-イル 3-(メトキシカルボニル)-2-メチル-4-(メチルスルホニル)フェニル ケトン(後記化合物No.15)の合成
5-ヒドロキシ-1-エチルピラゾール-4-イル 3-(メトキシカルボニル)-2-メチル-4-(メチルスルホニル)フェニル ケトン(300 mg、0.82 mmol)、塩化モルホリノ-4-イルチオカルボニル(271 mg、1.64 mmol)及び乾燥ジオキサン(30 mL)を混合し、4時間加熱環流した。反応液を氷水へ投入し、酢酸エチルで抽出した。抽出液を炭酸水素ナトリウム水溶液で洗浄後、無水硫酸ナトリウムで乾燥して溶媒を減圧留去した。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(n-ヘキサン:酢酸エチル=2:8)に付し、結晶の目的物(177 mg、0.36 mmol)(収率43.6 %)を得た。
合成例 2
5-(N, N-ジエチルチオカルバモイルオキシ)-1-メチルピラゾール-4-イル 3-(2-メトキシエトキシ)-2-メチル-4-(メチルスルホニル)フェニル ケトン(後記化合物No.18)の合成
5-ヒドロキシ-1-メチルピラゾール-4-イル 3-(2-メトキシエトキシ)-2-メチル-4-(メチルスルホニル)フェニル ケトン(516 mg、1.40 mmol)、塩化N, N-ジエチルチオカルバモイル(純度95%、246 mg、1.54 mmol)及び乾燥テトラヒドロフラン(15 mL)を混合し、そこへ氷水冷却下にトリエチルアミン(283 mg、2.80 mmol)を加えた。反応温度を徐々に室温まで上げながら16時間攪拌した。反応液を氷水へ投入し、酢酸エチルで抽出した。抽出液を無水硫酸ナトリウムで乾燥して溶媒を減圧留去した。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(n-ヘキサン:酢酸エチル=4:6)に付し、オイル状の目的物(560 mg、1.16 mmol)(収率82.6 %)を得た。
5-(N, N-ジエチルチオカルバモイルオキシ)-1-メチルピラゾール-4-イル 3-(2-メトキシエトキシ)-2-メチル-4-(メチルスルホニル)フェニル ケトン(後記化合物No.18)の合成
5-ヒドロキシ-1-メチルピラゾール-4-イル 3-(2-メトキシエトキシ)-2-メチル-4-(メチルスルホニル)フェニル ケトン(516 mg、1.40 mmol)、塩化N, N-ジエチルチオカルバモイル(純度95%、246 mg、1.54 mmol)及び乾燥テトラヒドロフラン(15 mL)を混合し、そこへ氷水冷却下にトリエチルアミン(283 mg、2.80 mmol)を加えた。反応温度を徐々に室温まで上げながら16時間攪拌した。反応液を氷水へ投入し、酢酸エチルで抽出した。抽出液を無水硫酸ナトリウムで乾燥して溶媒を減圧留去した。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(n-ヘキサン:酢酸エチル=4:6)に付し、オイル状の目的物(560 mg、1.16 mmol)(収率82.6 %)を得た。
次に、前記式(I)で表される本発明化合物の代表例を第1表に挙げ、それらの1H-NMRスペクトルデータを第2表に挙げる。これらの化合物は、前記合成例或いは前記した本発明化合物の種々の製造方法に基づいて合成することができる。尚、第1表及び第2表中、No.は化合物番号を示す。Meはメチル基を、Etはエチル基を、n-Prはノルマルプロピル基を、i-Prはイソプロピル基を、c-Prはシクロプロピル基を、t-Buは第三級ブチル基を各々示す。R5とR6とが結合して環構造を形成している場合、表中の鎖状基左端はもともとR5が結合していた位置に結合し、右端はもともとR6が結合していた部位に結合することを表す。例えば「-CH2CH2CH2SO2-」とある場合には、-CH2側はR5の位置に結合し、SO2-側はR6の位置に結合していることを表す。
次に試験例を記載する。
試験例1
1/170,000ヘクタールポットに畑作土壌をつめ、各種植物の種子を播種した。その後、植物が一定の葉令((1)ノビエ;1.0〜2.5葉期、(2)メヒシバ;1.0〜3.0葉期、(3)エノコログサ;1.5〜2.7葉期、(4)アオゲイトウ;0.3〜2.0葉期、(5)アメリカキンゴジカ;0.1〜0.5葉期、(6)イチビ;0.3〜1.5葉期、(7)イネ;1.4〜2.5葉期、(8)コムギ;2.0〜3.0葉期、(9)トウモロコシ;2.5〜3.5葉期、(10)ダイズ;子葉期〜0.3葉期)に達したとき、本発明化合物を通常の製剤方法に準じて調製した水和剤又は乳剤を所定有効成分量となるように秤量し、1ヘクタール当り500リットル相当の水に希釈した。更にその希釈液に対して農業用展着剤を0.1容量%加え、小型スプレーで茎葉処理した。
薬剤処理後17〜22日目に各種植物の生育状態を肉眼観察し、0(無処理区と同等)〜100(完全枯殺)の抑草率(%)で除草効果を評価し、第3表の結果を得た。
試験例1
1/170,000ヘクタールポットに畑作土壌をつめ、各種植物の種子を播種した。その後、植物が一定の葉令((1)ノビエ;1.0〜2.5葉期、(2)メヒシバ;1.0〜3.0葉期、(3)エノコログサ;1.5〜2.7葉期、(4)アオゲイトウ;0.3〜2.0葉期、(5)アメリカキンゴジカ;0.1〜0.5葉期、(6)イチビ;0.3〜1.5葉期、(7)イネ;1.4〜2.5葉期、(8)コムギ;2.0〜3.0葉期、(9)トウモロコシ;2.5〜3.5葉期、(10)ダイズ;子葉期〜0.3葉期)に達したとき、本発明化合物を通常の製剤方法に準じて調製した水和剤又は乳剤を所定有効成分量となるように秤量し、1ヘクタール当り500リットル相当の水に希釈した。更にその希釈液に対して農業用展着剤を0.1容量%加え、小型スプレーで茎葉処理した。
薬剤処理後17〜22日目に各種植物の生育状態を肉眼観察し、0(無処理区と同等)〜100(完全枯殺)の抑草率(%)で除草効果を評価し、第3表の結果を得た。
試験例2
1/170,000ヘクタールポットに畑作土壌をつめ、各種植物の種子(ノビエ、メヒシバ、エノコログサ、アオゲイトウ、アメリカキンゴジカ、イチビ、イネ、コムギ、トウモロコシ及びダイズ)を播種した。播種翌日、本発明化合物を通常の製剤方法に準じて調製した水和剤又は乳剤を所定有効成分量となるように秤量し、1ヘクタール当り500リットル相当の水に希釈し、小型スプレーで土壌処理した。
薬剤処理後19〜20日目に各種植物の生育状態を肉眼観察し、0(無処理区と同等)〜100(完全枯殺)の抑草率(%)で除草効果を評価し、第4表の結果を得た。
1/170,000ヘクタールポットに畑作土壌をつめ、各種植物の種子(ノビエ、メヒシバ、エノコログサ、アオゲイトウ、アメリカキンゴジカ、イチビ、イネ、コムギ、トウモロコシ及びダイズ)を播種した。播種翌日、本発明化合物を通常の製剤方法に準じて調製した水和剤又は乳剤を所定有効成分量となるように秤量し、1ヘクタール当り500リットル相当の水に希釈し、小型スプレーで土壌処理した。
薬剤処理後19〜20日目に各種植物の生育状態を肉眼観察し、0(無処理区と同等)〜100(完全枯殺)の抑草率(%)で除草効果を評価し、第4表の結果を得た。
試験例3
1 / 1,000,000ヘクタールポットに水田土壌を詰め、ノビエ及びホタルイの種子を播種し、その上に軽く覆土した。その後湛水深0.5〜1cmの状態で温室内に静置し、翌日又は2日後にウリカワの塊茎を植え込んだ。その後湛水深を3〜4cmに保ち、ノビエ及びホタルイが0.5葉期、ウリカワが初生葉期に達した時点で、本発明化合物を通常の製剤方法に準じて調製した水和剤又は乳剤の水希釈液を、所定有効成分量になるようにピペットで均一に滴下処理した。また、1 / 1,000,000ヘクタールポットに水田土壌を詰め、代かきを行い、湛水深を3〜4cmとし、翌日に2葉期のイネ(品種:日本晴)を移植深3cmに移植した。移植後4日目に本発明化合物を前述と同様に処理した。
薬剤処理後13から15日目にノビエ、ホタルイ及びウリカワの生育状態を、薬剤処理後21から23日目にイネの生育状態を各々肉眼観察し、0(無処理区と同等)〜100(完全枯殺)の抑草率(%)で評価し、第5表及び第6表の結果を得た。
1 / 1,000,000ヘクタールポットに水田土壌を詰め、ノビエ及びホタルイの種子を播種し、その上に軽く覆土した。その後湛水深0.5〜1cmの状態で温室内に静置し、翌日又は2日後にウリカワの塊茎を植え込んだ。その後湛水深を3〜4cmに保ち、ノビエ及びホタルイが0.5葉期、ウリカワが初生葉期に達した時点で、本発明化合物を通常の製剤方法に準じて調製した水和剤又は乳剤の水希釈液を、所定有効成分量になるようにピペットで均一に滴下処理した。また、1 / 1,000,000ヘクタールポットに水田土壌を詰め、代かきを行い、湛水深を3〜4cmとし、翌日に2葉期のイネ(品種:日本晴)を移植深3cmに移植した。移植後4日目に本発明化合物を前述と同様に処理した。
薬剤処理後13から15日目にノビエ、ホタルイ及びウリカワの生育状態を、薬剤処理後21から23日目にイネの生育状態を各々肉眼観察し、0(無処理区と同等)〜100(完全枯殺)の抑草率(%)で評価し、第5表及び第6表の結果を得た。
次に、本発明の製剤例を記載する。
製剤例1
(1)本発明化合物 75 重量部
(2)ゲロポンT−77(商品名;ローヌ・プーラン社製) 14.5 重量部
(3)NaCl 10 重量部
(4)デキストリン 0.5 重量部
以上の各成分を高速混合細粒機に入れ、さらにそこへ20%の水を加え造粒、乾燥して顆粒水和剤が得られる。
製剤例1
(1)本発明化合物 75 重量部
(2)ゲロポンT−77(商品名;ローヌ・プーラン社製) 14.5 重量部
(3)NaCl 10 重量部
(4)デキストリン 0.5 重量部
以上の各成分を高速混合細粒機に入れ、さらにそこへ20%の水を加え造粒、乾燥して顆粒水和剤が得られる。
製剤例2
(1)カオリン 78 重量部
(2)ラベリンFAN(商品名;第一工業製薬(株)製) 2 重量部
(3)ソルポール5039(商品名;東邦化学工業(株)製) 5 重量部
(4)カープレックス(商品名;塩野義製薬(株)製) 15 重量部
以上、(1)〜(4)の成分の混合物と本発明化合物とを9:1の重量割合で混合して水和剤が得られる。
(1)カオリン 78 重量部
(2)ラベリンFAN(商品名;第一工業製薬(株)製) 2 重量部
(3)ソルポール5039(商品名;東邦化学工業(株)製) 5 重量部
(4)カープレックス(商品名;塩野義製薬(株)製) 15 重量部
以上、(1)〜(4)の成分の混合物と本発明化合物とを9:1の重量割合で混合して水和剤が得られる。
製剤例3
(1)ハイフィラーNo.10(商品名;松村産業(株)製) 33 重量部
(2)ソルポール5050(商品名;東邦化学工業(株)製) 3 重量部
(3)ソルポール5073(商品名;東邦化学工業(株)製) 4 重量部
(4)本発明化合物 60 重量部
以上の(1)〜(4)の各成分を混合して水和剤が得られる。
(1)ハイフィラーNo.10(商品名;松村産業(株)製) 33 重量部
(2)ソルポール5050(商品名;東邦化学工業(株)製) 3 重量部
(3)ソルポール5073(商品名;東邦化学工業(株)製) 4 重量部
(4)本発明化合物 60 重量部
以上の(1)〜(4)の各成分を混合して水和剤が得られる。
製剤例4
(1)本発明化合物 4 重量部
(2)ベントナイト 30 重量部
(3)炭酸カルシウム 61.5重量部
(4)トキサノンGR−31A(商品名;三洋化成工業(株)製) 3 重量部
(5)リグニンスルホン酸カルシウム塩 1.5 重量部
予め粉砕した(1)と、(2)及び(3)とを混合し、そこへ(4)、(5)及び水を加えて混合し、押出し造粒する。その後、乾燥、整粒して粒剤が得られる。
(1)本発明化合物 4 重量部
(2)ベントナイト 30 重量部
(3)炭酸カルシウム 61.5重量部
(4)トキサノンGR−31A(商品名;三洋化成工業(株)製) 3 重量部
(5)リグニンスルホン酸カルシウム塩 1.5 重量部
予め粉砕した(1)と、(2)及び(3)とを混合し、そこへ(4)、(5)及び水を加えて混合し、押出し造粒する。その後、乾燥、整粒して粒剤が得られる。
製剤例5
(1)本発明化合物 30 重量部
(2)ジークライト(商品名;ジークライト(株)製) 60 重量部
(3)ニューカルゲン WG−1(商品名;竹本油脂(株)製) 5 重量部
(4)ニューカルゲン FS−7(商品名;竹本油脂(株)製) 5 重量部
(1)、(2)及び(3)を混合し、粉砕機を通した後、(4)を加えて混練後、押出し造粒する。その後、乾燥、整粒して顆粒水和剤が得られる。
(1)本発明化合物 30 重量部
(2)ジークライト(商品名;ジークライト(株)製) 60 重量部
(3)ニューカルゲン WG−1(商品名;竹本油脂(株)製) 5 重量部
(4)ニューカルゲン FS−7(商品名;竹本油脂(株)製) 5 重量部
(1)、(2)及び(3)を混合し、粉砕機を通した後、(4)を加えて混練後、押出し造粒する。その後、乾燥、整粒して顆粒水和剤が得られる。
製剤例6
(1)本発明化合物 28 重量部
(2)ソプロポールFL(商品名;ローヌ・プーラン社製) 2 重量部
(3)ソルポール355 (商品名;東邦化学工業(株)製) 1 重量部
(4)IPソルベント1620(商品名;出光石油化学(株)製) 32 重量部
(5)エチレングリコール 6 重量部
(6)水 31 重量部
以上の(1)〜(6)の成分を混合し、湿式粉砕機(ダイノ−ミル)を用いて粉砕して水性懸濁剤が得られる。
(1)本発明化合物 28 重量部
(2)ソプロポールFL(商品名;ローヌ・プーラン社製) 2 重量部
(3)ソルポール355 (商品名;東邦化学工業(株)製) 1 重量部
(4)IPソルベント1620(商品名;出光石油化学(株)製) 32 重量部
(5)エチレングリコール 6 重量部
(6)水 31 重量部
以上の(1)〜(6)の成分を混合し、湿式粉砕機(ダイノ−ミル)を用いて粉砕して水性懸濁剤が得られる。
Claims (3)
- 式(I);
- 前記請求項1のベンゾイルピラゾール系化合物又はその塩を有効成分として含有する除草剤。
- 前記請求項1のベンゾイルピラゾール系化合物又はその塩の除草有効量を、望ましくない植物又はそれが生育する場所に施用し、望ましくない植物を防除又はその生育を抑制する方法。
Priority Applications (1)
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---|---|---|---|
JP2006259999A JP2008081406A (ja) | 2006-09-26 | 2006-09-26 | ベンゾイルピラゾール系化合物及びそれらを含有する除草剤 |
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JP2006259999A JP2008081406A (ja) | 2006-09-26 | 2006-09-26 | ベンゾイルピラゾール系化合物及びそれらを含有する除草剤 |
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Country | Link |
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Cited By (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2009145202A1 (ja) * | 2008-05-27 | 2009-12-03 | 石原産業株式会社 | ベンゾイルピラゾール系化合物、それらの製造方法及びそれらを含有する除草剤 |
JP2010180198A (ja) * | 2008-05-20 | 2010-08-19 | Ishihara Sangyo Kaisha Ltd | ピラゾール系化合物、それらの製造方法及びそれらを含有する除草剤 |
US10556888B2 (en) | 2015-12-31 | 2020-02-11 | Qingdao Kingagroot Chemical Compounds Co., Ltd. | Pyrazole compounds or salts thereof, preparation methods therefor, herbicidal compositions and use thereof |
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-
2006
- 2006-09-26 JP JP2006259999A patent/JP2008081406A/ja active Pending
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